JP2023110548A - Optical laminate and mirror member - Google Patents

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孝洋 中井
Takahiro Nakai
紗也加 山下
Sayaka Yamashita
徹 梅本
Toru Umemoto
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Nitto Denko Corp
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Abstract

To provide an optical laminate with visible light reflecting and heat insulating properties, and a mirror member.SOLUTION: An optical laminate is provided, comprising a metal reflection layer, an optical adjustment layer, and a function layer arranged in the described order on a base material, where the optical adjustment layer comprises at least one high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or greater, and the optical laminate has a solar reflectance of 82% or less. A mirror member with such an optical laminate is also provided.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、光学積層体及びこれを用いたミラー部材に関する。 The present invention relates to an optical layered body and a mirror member using the same.

車両の運転者は、フロントガラスを通して前方を注視すると共に、インストルメントパネル上の計器類を目視しながら運転を実施する。すなわち、視線が前方と下方の計器類とへ移動する。前方を見たままで、計器類を見ることができれば、視線の移動がなく、運転性(最終的に安全性)の向上が期待できる。この知見からヘッドアップディスプレイ(HUD)装置が開発され、実用に供されるようになってきている。 A driver of a vehicle gazes ahead through the windshield and drives the vehicle while visually observing the gauges on the instrument panel. That is, the line of sight moves forward and downward to the instruments. If you can see the instruments while looking ahead, you can expect to improve drivability (and ultimately safety) without moving your line of sight. Based on this knowledge, a head-up display (HUD) device has been developed and put into practical use.

ヘッドアップディスプレイ装置においては、ダッシュボード装置内において、光源からの映像をフロントガラスに虚像として像を結ぶことで、運転者に映像として視認されている。光源からの映像情報の輝度を低下させることなく、投影させるためには、高い可視光反射率を有した鏡面体が必要となる。
運転の安全性を高める観点より、視点の移動が少なくて済むヘッドアップディスプレイは、日に日に注目を高めており、その反射鏡として利用される鏡面体の需要も高まっている。また車両の衝突等の事故により破損するリスクが低いこと、質量が軽いことなどの理由から、鏡面体を構成する支持基板としては、プラスチック基板、特に耐熱性の高さよりポリカーボネート基板等が用いられている。
In the head-up display device, an image from the light source is formed as a virtual image on the windshield in the dashboard device, so that the image is visually recognized by the driver. In order to project the image information from the light source without lowering the luminance, a specular body with a high visible light reflectance is required.
From the viewpoint of improving driving safety, head-up displays, which require less movement of the viewpoint, are attracting more and more attention day by day, and the demand for mirror-surface bodies used as reflecting mirrors for such displays is also increasing. In addition, plastic substrates, especially polycarbonate substrates, etc., are used because of their high heat resistance, as the support substrates that make up the mirror-like bodies, because they have a low risk of being damaged in an accident such as a vehicle collision and are light in weight. there is

従来の鏡面体の製法ではバッチ式の蒸着・スパッタ装置を用いて、ポリカーボネート基板等の支持基板に金属薄膜を形成する手法が一般的であった。しかし、バッチ式製法は生産の効率が低く、日々鏡面体の需要が高まる傾向に対し、供給不足となるという課題があり、生産性良く製造し得る鏡面体が望まれている。また、鏡面体には、高い反射率と反射光の歪みを抑えることが要求される。 In the conventional method for producing a mirror-like body, it was common to form a metal thin film on a support substrate such as a polycarbonate substrate using a batch-type vapor deposition/sputtering device. However, the production efficiency of the batch production method is low, and the demand for mirror bodies tends to increase day by day. Further, the specular body is required to have a high reflectance and suppress distortion of reflected light.

そして、支持体に貼付し得るフィルムミラーが検討されている。例えば、特許文献1においては、少なくとも光反射層、樹脂基材、および粘着層を有し、前記粘着層がアクリル系粘着剤により形成されたフィルムミラーが開示され、太陽熱発電用反射装置に用いられている。 Film mirrors that can be attached to a support are also being studied. For example, Patent Document 1 discloses a film mirror having at least a light reflecting layer, a resin base material, and an adhesive layer, wherein the adhesive layer is formed of an acrylic adhesive, and is used in a solar power generation reflector. ing.

一方、光を反射し、支持体に貼付し得る光学積層体が検討されている。例えば、特許文献2においては、アルミニウム表面上に、第一低屈折率層、高屈折率層および第二低屈折率層をこの順で積層したアルミニウム表面反射鏡、及びこれを基板上に設置した反射測定用標準試料が開示されている。 On the other hand, an optical layered body that reflects light and can be attached to a support has been studied. For example, in Patent Document 2, an aluminum surface reflector in which a first low refractive index layer, a high refractive index layer and a second low refractive index layer are laminated in this order on an aluminum surface, and this is installed on a substrate Standards for reflectometry are disclosed.

特開2015-210335号公報JP 2015-210335 A 特開平5-173005号公報JP-A-5-173005

近年、HUD装置によって映し出される投影像の大型化に伴い、HUD装置における投影開口部についても大型化されている。この開口部からの太陽光入射や、PGU(Picture Generation Unit、HUD装置内部の画像生成ユニット)の高輝度化により、HUD装置内の液晶ディスプレイや光源といった投影源への熱ダメージが大きくなっていることが問題となっている。 In recent years, as the projected image projected by the HUD device has become larger, the projection aperture of the HUD device has also become larger. Due to the incidence of sunlight through this opening and the increased brightness of the PGU (Picture Generation Unit, an image generation unit inside the HUD device), the heat damage to the projection source such as the liquid crystal display and the light source inside the HUD device is increasing. is the problem.

そこで、発明者らは、遮熱性を有する鏡面体について検討し、投影開口部から入射する太陽光が鏡面体にて反射しHUD装置内の投影源に到達することによる熱ダメージを低減することを検討した。そして、鏡面体表面へ赤外線吸収剤を含む従来のフィルムを用いたところ、遮熱性が得られる一方で十分な可視光反射率が得られず、ヘッドアップディスプレイ装置における鏡面体として用いるには可視光反射性能が十分でないことが判った。 Therefore, the inventors studied a mirror body having a heat-shielding property, and aimed to reduce the thermal damage caused by the sunlight incident from the projection opening being reflected by the mirror body and reaching the projection source in the HUD device. investigated. When a conventional film containing an infrared absorber is used on the surface of the mirror surface, although heat shielding properties are obtained, sufficient visible light reflectance cannot be obtained. It was found that the reflection performance was not sufficient.

本発明は、上記に鑑みて完成されたものであり、その課題は、可視光反射性能を保持しつつ、遮熱性を備えた光学積層体及びミラー部材を提供することにある。 The present invention has been completed in view of the above, and an object of the present invention is to provide an optical layered body and a mirror member having heat shielding properties while maintaining visible light reflection performance.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、基材上に、金属反射層、光学調整層、及び機能層をこの順に備えた積層体において、光学調整層が含む高屈折率層の屈折率を特定の範囲とし、且つ、積層体の日射反射率を所定値以上とすることにより、上記課題を解決できることを見出した。 As a result of intensive research, the present inventors have found that in a laminate comprising a metal reflective layer, an optical adjustment layer, and a functional layer in this order on a base material, the refractive index of the high refractive index layer included in the optical adjustment layer is is within a specific range, and the solar reflectance of the laminate is set to a predetermined value or higher to solve the above problems.

すなわち、本発明は以下の通りである。
〔1〕
基材上に、金属反射層と、光学調整層と、機能層とをこの順に備え、
前記光学調整層は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を少なくとも1層含み、
日射反射率が82%以下である、光学積層体。
〔2〕
前記機能層が赤外線吸収剤を含む、〔1〕に記載の光学積層体。
〔3〕
前記機能層が前記赤外線吸収剤を1~10質量%含む、〔2〕に記載の光学積層体。
〔4〕
前記赤外線吸収剤はセシウムドープ酸化タングステンを含む、〔2〕または〔3〕に記載の光学積層体。
〔5〕
反射率Yが85%以上である、〔1〕~〔4〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔6〕
前記金属反射層はアルミニウムまたはアルミニウム合金を含有する、〔1〕~〔5〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔7〕
フィルム状である、〔1〕~〔6〕のいずれか一項に記載の光学積層体。
〔8〕
〔1〕~〔7〕のいずれか一項に記載の光学積層体を有する、ミラー部材。
That is, the present invention is as follows.
[1]
a metal reflective layer, an optical adjustment layer, and a functional layer provided in this order on a substrate;
The optical adjustment layer includes at least one high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more,
An optical laminate having a solar reflectance of 82% or less.
[2]
The optical laminate according to [1], wherein the functional layer contains an infrared absorber.
[3]
The optical laminate according to [2], wherein the functional layer contains 1 to 10% by mass of the infrared absorbing agent.
[4]
The optical laminate according to [2] or [3], wherein the infrared absorber contains cesium-doped tungsten oxide.
[5]
The optical laminate according to any one of [1] to [4], which has a reflectance Y of 85% or more.
[6]
The optical laminate according to any one of [1] to [5], wherein the metal reflective layer contains aluminum or an aluminum alloy.
[7]
The optical laminate according to any one of [1] to [6], which is in the form of a film.
[8]
A mirror member comprising the optical laminate according to any one of [1] to [7].

本発明は、可視光反射性能、及び遮熱性を備えた光学積層体及びミラー部材を提供し得る。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide an optical laminate and a mirror member that have visible light reflection performance and heat shielding properties.

図1は、本発明の一実施形態による光学積層体の概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical layered body according to one embodiment of the present invention. 図2は、本発明の一実施形態による光学積層体の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the invention. 図3は、本発明の一実施形態によるミラー部材の概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a mirror member according to one embodiment of the invention.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments for carrying out the present invention will be described in detail below. In addition, this invention is not limited to embodiment described below.

[光学積層体]
図1に、本発明の一実施形態による光学積層体1の概略断面図を示す。
本発明の実施形態に係る光学積層体1は、基材10上に、金属反射層11と、光学調整層13と、機能層14とをこの順に備え、
前記光学調整層13は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を少なくとも1層含み、
日射反射率が82%以下である。
[Optical laminate]
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of an optical laminate 1 according to one embodiment of the present invention.
The optical laminate 1 according to the embodiment of the present invention includes a metal reflective layer 11, an optical adjustment layer 13, and a functional layer 14 in this order on a substrate 10,
The optical adjustment layer 13 includes at least one high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more,
Solar reflectance is 82% or less.

本発明の実施形態に係る光学積層体1は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を少なくとも1層含む光学調整層13を備えることにより反射スペクトルを調整し、可視光領域における反射率を上げることができる。 The optical layered body 1 according to the embodiment of the present invention is provided with the optical adjustment layer 13 including at least one high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more to adjust the reflection spectrum, and the reflectance in the visible light region is can be raised.

(日射反射率)
本発明の実施形態に係る光学積層体は、日射反射率が82%以下である。日射反射率が82%を超えると、遮熱性が不十分となり、当該光学積層体をHUD装置の鏡面体に適用した際、投影源への熱負荷を軽減することができない。
日射反射率は、遮熱性向上の観点から、80%以下であることが好ましく、70下であることがさらに好ましい。
(solar reflectance)
The optical layered body according to the embodiment of the present invention has a solar reflectance of 82% or less. If the solar reflectance exceeds 82%, the heat shielding property becomes insufficient, and when the optical layered body is applied to the mirror body of the HUD device, the heat load on the projection source cannot be reduced.
The solar reflectance is preferably 80% or less, more preferably 70% or less, from the viewpoint of improving heat shielding properties.

ここで、本発明の実施形態に係る光学積層体の日射反射率は、波長300~2500nmの光線を前記機能層側から照射して測定したものである。
本明細書において日射反射率は、標準光源としてD65を使用して、(株)日立ハイテクサイエンス製の日立分光光度計 U-4100測定機器により測定した反射率より、JIS K 5602 「塗膜の日射反射率の求め方」に準じて導出する。具体的には、実施例に記載の方法により測定することができる。
Here, the solar reflectance of the optical layered body according to the embodiment of the present invention is measured by irradiating light with a wavelength of 300 to 2500 nm from the functional layer side.
In the present specification, the solar reflectance is measured using D65 as a standard light source with a Hitachi spectrophotometer U-4100 measuring instrument manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., and is calculated according to JIS K 5602 "Solar radiation of the coating film. Derived according to "How to determine reflectance". Specifically, it can be measured by the method described in Examples.

(反射率Y)
本発明の実施形態に係る光学積層体は、反射率Yが80%以上であることが、ヘッドアップディスプレイ装置における鏡面体としての反射性能を確保する観点から好ましい。
反射率Yは視感を表し、ディスプレイ映像の反射の観点から85%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。
(Reflectance Y)
The optical layered body according to the embodiment of the present invention preferably has a reflectance Y of 80% or more from the viewpoint of ensuring reflection performance as a specular body in a head-up display device.
The reflectance Y represents visual sensation, and is more preferably 85% or more, more preferably 90% or more, from the viewpoint of reflection of displayed images.

本実施形態に係る光学積層体及びミラー部材における反射率Yは、可視光領域における反射率であり、波長380nm~780nmの範囲の可視光線を機能層側から照射した際の反射光の反射率である。
反射率Yは、標準光源としてD65を使用して、(株)日立ハイテクサイエンス製の日立分光光度計 U-4100測定機器により測定することができる。反射率Yは、具体的には、実施例に記載の方法により測定することができる。
The reflectance Y of the optical layered body and the mirror member according to the present embodiment is the reflectance in the visible light region, and is the reflectance of the reflected light when visible light in the wavelength range of 380 nm to 780 nm is irradiated from the functional layer side. be.
The reflectance Y can be measured with a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. using D65 as a standard light source. Specifically, the reflectance Y can be measured by the method described in Examples.

反射率Yは、例えば、光学調整層13における積層構造や、機能層14に含まれる赤外線吸収剤の濃度等により調整することができる。 The reflectance Y can be adjusted by, for example, the laminated structure of the optical adjustment layer 13, the concentration of the infrared absorbing agent contained in the functional layer 14, and the like.

(赤外線吸収率)
本発明の実施形態に係る光学積層体における機能層は、赤外線吸収率が5%以上であることが日射反射率低下の観点から好ましく、10%以上がより好ましい。また、反射率Yへの影響を低減する観点から、30%以下が好ましく、25%以下がより好ましい。
本発明の実施形態に係る光学積層体においては、機能層側の表面に波長1000nmの光を入射した際の反射率および透過率を測定し、100%から反射率および透過率を控除した値を機能層の赤外線吸収率とする。
(Infrared absorption rate)
The functional layer in the optical layered body according to the embodiment of the present invention preferably has an infrared absorption rate of 5% or more, more preferably 10% or more, from the viewpoint of lowering the solar reflectance. Moreover, from the viewpoint of reducing the influence on the reflectance Y, it is preferably 30% or less, more preferably 25% or less.
In the optical layered body according to the embodiment of the present invention, the reflectance and transmittance were measured when light with a wavelength of 1000 nm was incident on the surface on the functional layer side, and the values obtained by subtracting the reflectance and transmittance from 100% were obtained. Infrared absorption rate of the functional layer.

赤外線吸収率は、(株)日立ハイテクサイエンス製の日立分光光度計 U-4100測定機器により測定することができる。具体的には、実施例に記載の方法により測定することができる。 The infrared absorptance can be measured with a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. Specifically, it can be measured by the method described in Examples.

赤外線吸収率は、例えば、機能層14に含まれる赤外吸収剤の種類や濃度、機能層14の膜厚を後述の好ましい範囲とすることにより調整することができる。 The infrared absorptance can be adjusted, for example, by setting the type and concentration of the infrared absorbent contained in the functional layer 14 and the film thickness of the functional layer 14 within the preferred ranges described later.

以下、各層について詳細に説明する。 Each layer will be described in detail below.

<基材>
基材10の材料は、特に限定はされず、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート(PC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリスチレン、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル(PMMA)、ABSなどの単独重合体や共重合体からなる部材を用いることができる。これらの部材によれば、透明で光学吸収は少なく、視覚効果に影響を与えることもない。但し、後に基材10上に種々の層を形成するため、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ABS、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。基材10は、単層でもよいし積層体でもよい。
<Base material>
The material of the base material 10 is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate (PC), cycloolefin polymer (COP), polystyrene. , polypropylene (PP), polyethylene, polycycloolefin, polyurethane, acrylic (PMMA), ABS, and other homopolymers and copolymers. These members are transparent, have little optical absorption, and do not affect visual effects. However, since various layers will be formed on the base material 10 later, it is preferable that the material can withstand high temperatures such as vapor deposition and sputtering. Polycarbonate, cycloolefin polymer, ABS, polypropylene, polyurethane are preferred. Among them, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, polycarbonate, and acrylic are preferable because they have a good balance between heat resistance and cost. The substrate 10 may be a single layer or a laminate.

基材10の形状には特に制限がない。基材10の形状としては、例えば、平面を有する板状、曲面を有する板状、シート状、フィルム状などが挙げられる。
基材10の厚さには特に制限が無い。光学積層体1をフィルム状にする場合には、加工のし易さ等から、基材10の厚さは、例えば、6μm~250μmが好ましい。より好ましくは20μm以上であり、更に好ましくは40μm以上である。また、より好ましくは100μm以下、更に好ましくは75μm以下である。また、基材上に形成される層との付着力を強くするために、プラズマ処理やコロナ処理、さらには易接着処理などが施されてもよい。
The shape of the substrate 10 is not particularly limited. Examples of the shape of the substrate 10 include a flat plate-like shape, a curved plate-like shape, a sheet-like shape, and a film-like shape.
The thickness of the base material 10 is not particularly limited. When the optical layered body 1 is formed into a film, the thickness of the substrate 10 is preferably 6 μm to 250 μm, for example, from the viewpoint of ease of processing. It is more preferably 20 μm or more, and still more preferably 40 μm or more. Also, it is more preferably 100 μm or less, and still more preferably 75 μm or less. In addition, in order to strengthen the adhesive force with the layer formed on the base material, plasma treatment, corona treatment, and adhesion-enhancing treatment may be applied.

基材10には、必要に応じて平滑性、或いは防眩性ハードコート層等のハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層が設けられることにより、耐傷性を向上させることができる。 A hard coat layer such as a smooth or antiglare hard coat layer may be formed on the substrate 10 as necessary. By providing the hard coat layer, the scratch resistance can be improved.

ハードコート層は、ハードコート組成物から形成することができる。より具体的には、硬化性樹脂を含有する溶液をハードコート組成物として基材10に塗布することにより形成できる。
ハードコート組成物が含有する硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、一種又は二種以上を、適宜選択して使用できる。これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。
The hard coat layer can be formed from a hard coat composition. More specifically, it can be formed by applying a solution containing a curable resin to the substrate 10 as a hard coat composition.
The curable resin contained in the hard coat composition includes thermosetting resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and the like. Types of curable resins include polyester, acrylic, urethane, acrylic urethane, amide, silicone, silicate, epoxy, melamine, oxetane, and acrylic urethane resins. One or more of these curable resins can be appropriately selected and used. Among these resins, acrylic resins, acrylic urethane resins, and epoxy resins are preferable because they have high hardness, can be cured with ultraviolet rays, and are excellent in productivity.

ハードコート層の厚みには特に制限が無い。基材がフィルム状である場合のハードコート層の厚みは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、また、好ましくは10μm以下、より好ましくは7.0μm以下、更に好ましくは5.0μm以下である。ハードコート層の厚みは、例えば、膜厚計(デジタルダイアルゲージ)を用いて測定することができる。 There is no particular limitation on the thickness of the hard coat layer. When the substrate is a film, the thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 µm or more, more preferably 1.0 µm or more, and is preferably 10 µm or less, more preferably 7.0 µm or less, and even more preferably. is 5.0 μm or less. The thickness of the hard coat layer can be measured using, for example, a film thickness meter (digital dial gauge).

ハードコート層の厚みは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、また、好ましくは10μm以下、より好ましくは7.0μm以下、更に好ましくは5.0μm以下である。ハードコート層の厚みは、例えば、膜厚計(デジタルダイアルゲージ)や光学干渉式膜厚計を用いて測定することができる。 The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, and is preferably 10 μm or less, more preferably 7.0 μm or less, and still more preferably 5.0 μm or less. The thickness of the hard coat layer can be measured using, for example, a film thickness meter (digital dial gauge) or an optical interference film thickness meter.

<金属反射層>
本実施形態における金属反射層11は、基材10の上に形成される。金属反射層11は、金属光沢を有する層であることが好ましい。金属反射層11を形成する材料に特に限定はなく、金属及び樹脂を含んでいてもよい。金属反射層11は金属層であってもよい。
金属反射層11が金属層である場合について説明する。
<Metal reflective layer>
The metal reflective layer 11 in this embodiment is formed on the substrate 10 . The metallic reflective layer 11 is preferably a layer having metallic luster. The material forming the metal reflective layer 11 is not particularly limited, and may contain metal and resin. The metal reflective layer 11 may be a metal layer.
A case where the metal reflective layer 11 is a metal layer will be described.

金属反射層11は、十分な光輝性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低い金属により形成したものであることが望ましい。金属反射層11は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。このような理由から、金属反射層11としては、融点が約1000℃以下の金属が適しており、例えば、アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、鉛(Pb)、銅(Cu)、銀(Ag)から選択された少なくとも一種の金属、および該金属を主成分とする合金のいずれかを含むことが好ましい。
特に、物質の光輝性や安定性、価格等の理由から金属反射層11は、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含むことが好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を50質量%以上とすることが好ましい。
The metal reflective layer 11 is desirably formed of a metal having a relatively low melting point, as well as being capable of exhibiting sufficient luster. This is because the metal reflective layer 11 is preferably formed by thin film growth using sputtering. For this reason, metals having a melting point of about 1000° C. or less are suitable for the metal reflective layer 11, and examples thereof include aluminum (Al), zinc (Zn), lead (Pb), copper (Cu), silver ( It preferably contains at least one metal selected from Ag) and an alloy containing the metal as a main component.
In particular, the metal reflective layer 11 preferably contains aluminum or an aluminum alloy for reasons such as brightness, stability, and price of the material. Moreover, when using an aluminum alloy, it is preferable to make aluminum content into 50 mass % or more.

金属反射層11の厚さは、十分な光輝性を発揮するように、通常20nm以上が好ましく、一方、生産性の観点から、通常100nm以下が好ましい。例えば、20nm~100nmが好ましく、30nm~70nmがより好ましい。この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、光学積層体1を支持基材に貼付して作製したミラー部材を鏡面体として用いた場合の見栄えも良い。 The thickness of the metal reflective layer 11 is usually preferably 20 nm or more so as to exhibit sufficient brightness, while it is usually preferably 100 nm or less from the viewpoint of productivity. For example, it is preferably 20 nm to 100 nm, more preferably 30 nm to 70 nm. This thickness is also suitable for forming a uniform film with good productivity, and the appearance is also good when a mirror member produced by attaching the optical laminate 1 to a supporting substrate is used as a mirror body. .

<光学調整層>
本発明の実施形態に係る光学積層体1は、金属反射層11の基材10とは反対側の面上に光学調整層13を有する。本発明の実施形態に係る光学調整層13は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を少なくとも1層含む。
光学調整層として上記高屈折率層を含むことにより、反射スペクトルを調整し、可視光領域内の反射率を上げることができる。
本明細書において、「屈折率」は、特に言及しない限り、温度25℃で波長λ=550nmの光を用いて、JIS K0062:1992の規定に準拠して測定された値を意味する。
<Optical adjustment layer>
The optical laminate 1 according to the embodiment of the present invention has an optical adjustment layer 13 on the surface of the metal reflective layer 11 opposite to the substrate 10 . The optical adjustment layer 13 according to the embodiment of the invention includes at least one high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or higher.
By including the high refractive index layer as the optical adjustment layer, it is possible to adjust the reflection spectrum and increase the reflectance in the visible light region.
As used herein, "refractive index" means a value measured in accordance with JIS K0062:1992 using light of wavelength λ=550 nm at a temperature of 25° C., unless otherwise specified.

(高屈折率層)
本発明の実施形態に係る光学調整層において必須となる高屈折率層は、屈折率が1.75以上の層であり、好ましくは1.75~3.2であり、より好ましくは1.80~2.40の範囲である。高屈折率層を複数備える場合は、高屈折率層の屈折率は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
(High refractive index layer)
The high refractive index layer essential in the optical adjustment layer according to the embodiment of the present invention is a layer having a refractive index of 1.75 or more, preferably 1.75 to 3.2, more preferably 1.80. ~2.40. When a plurality of high refractive index layers are provided, the refractive indexes of the high refractive index layers may be the same or different.

高屈折率層は、金属酸化物及び/又は金属窒化物からなる層であることが好ましい。なお、ここでいう金属酸化物、金属窒化物に含有される金属元素には、Si等の半金属元素が包含される。また、金属酸化物及び/又は金属窒化物には、金属酸窒化物が包含される。また、金属酸化物は、単独の金属元素の酸化物(単独酸化物)であってもよく、複数の金属元素の酸化物(複合酸化物)であってもよい。同様に、金属窒化物は、単独の金属元素の窒化物(単独窒化物)であってもよく、複数の金属元素の窒化物(複合窒化物)であってもよい。
金属元素としては、例えば、Ce、Nb、Si、Sb、Ti、Ta、Zr、Znなどが挙げられる。
The high refractive index layer is preferably a layer made of metal oxide and/or metal nitride. The metal elements contained in the metal oxides and metal nitrides referred to here include semimetal elements such as Si. Metal oxides and/or metal nitrides also include metal oxynitrides. Moreover, the metal oxide may be an oxide of a single metal element (single oxide) or an oxide of a plurality of metal elements (composite oxide). Similarly, the metal nitride may be a nitride of a single metal element (single nitride) or a nitride of a plurality of metal elements (composite nitride).
Examples of metal elements include Ce, Nb, Si, Sb, Ti, Ta, Zr, and Zn.

高屈折率層の材料として、より具体的には、例えば、CeO(2.30)、NbO(2.33)、Nb(2.15)、Nb(2.32)、SiN(2.03)、Sb(2.10)、TiO(2.35)、Ta(2.10)、ZrO(2.05)、ZnO(2.10)、ZnS(2.30)、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)等などが挙げられる(上記各材料の括弧内の数値は屈折率である)。
特に、高屈折率層は、Nb、Si、Tiより選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、例えばNbO、SiN、TiOより選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、NbO(酸化ニオブ)を含むことがより好ましい。
Specific examples of materials for the high refractive index layer include CeO 2 (2.30), NbO (2.33), Nb 2 O 3 (2.15), and Nb 2 O 5 (2.32). , SiN (2.03), Sb2O3 ( 2.10 ), TiO2 (2.35), Ta2O5 ( 2.10 ), ZrO2 (2.05), ZnO (2.10) , ZnS (2.30), tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and the like (the numerical value in parentheses of each of the above materials is the refractive index).
In particular, the high refractive index layer preferably contains at least one selected from Nb , Si and Ti . niobium).

高屈折率層の厚みは、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましく、30nm以上であることがさらに好ましい。また、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から100nm以下であることが好ましく、80nm以下であることがより好ましく、70nm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the high refractive index layer is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, and even more preferably 30 nm or more from the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range. From the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range, the thickness is preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, and even more preferably 70 nm or less.

光学調整層は屈折率の異なる層の積層体であってもよく、高屈折率層の他に低屈折率層を備えていてもよい。
図2に示すように、本発明の実施形態に係る光学積層体1は、光学調整層13として、金属反射層11側から、第一の低屈折率層13a、上記高屈折率層13b、及び第二の低屈折率層13cをこの順に有することが好ましい。
The optical adjustment layer may be a laminate of layers having different refractive indices, and may include a low refractive index layer in addition to the high refractive index layer.
As shown in FIG. 2, the optical layered body 1 according to the embodiment of the present invention includes, as the optical adjustment layer 13, from the metal reflective layer 11 side, the first low refractive index layer 13a, the high refractive index layer 13b, and It is preferable to have the second low refractive index layer 13c in this order.

(低屈折率層)
低屈折率層は、高屈折率層よりも低い屈折率を有する層であり、その屈折率は、例えば1.35~1.55であり、好ましくは1.40~1.50である。低屈折率層は1つまたは複数設けられていてよく、複数設けられている場合の低屈折率層の屈折率は、それぞれ同じであってもよく、異なっていてもよい。例えば、光学調整層は、第一の低屈折率層及び第二の低屈折率層の二層の低屈折率層を含んでいてもよく、第一の低屈折率層の屈折率は、第二の低屈折率層と同じであってもよく、異なっていてもよい。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is a layer having a lower refractive index than the high refractive index layer, and its refractive index is, for example, 1.35 to 1.55, preferably 1.40 to 1.50. One or a plurality of low refractive index layers may be provided, and when a plurality of low refractive index layers are provided, the refractive indices of the low refractive index layers may be the same or different. For example, the optical adjustment layer may include two low refractive index layers, a first low refractive index layer and a second low refractive index layer, wherein the refractive index of the first low refractive index layer is It may be the same as or different from the two low refractive index layers.

低屈折率層の材料としては、例えば、金属酸化物及び金属フッ化物が挙げられる。
なお、ここでいう金属酸化物、金属フッ化物に含有される金属元素には、Si等の半金属元素が包含される。また、金属酸化物及び/又は金属フッ化物には、金属酸フッ化物が包含される。また、金属酸化物は、単独の金属元素の酸化物(単独酸化物)であってもよく、複数の金属元素の酸化物(複合酸化物)であってもよい。同様に、金属フッ化物は、単独の金属元素のフッ化物(単独フッ化物)であってもよく、複数の金属元素のフッ化物(複合フッ化物)であってもよい。
金属元素としては、例えば、Si、Mgなどが挙げられる。
Examples of materials for the low refractive index layer include metal oxides and metal fluorides.
The metal elements contained in the metal oxides and metal fluorides referred to here include metalloid elements such as Si. Metal oxides and/or metal fluorides also include metal acid fluorides. Moreover, the metal oxide may be an oxide of a single metal element (single oxide) or an oxide of a plurality of metal elements (composite oxide). Similarly, the metal fluoride may be a fluoride of a single metal element (single fluoride) or a fluoride of a plurality of metal elements (composite fluoride).
Examples of metal elements include Si and Mg.

金属酸化物の具体例としては、酸化珪素(SiO:屈折率1.46)が挙げられる。金属フッ化物の具体例としては、フッ化マグネシウム、フッ化珪素酸が挙げられる。第一の低屈折率層及び第二の低屈折率層の材料は、屈折率の観点からフッ化マグネシウム及びフッ化珪素酸が好ましく、製造容易性、機械的強度、耐湿性などの観点から酸化珪素、が好ましく、各種特性を総合的に考慮すると酸化珪素が好ましい。低屈折率層を複数備える場合は、低屈折率層の材料は、同じであってもよく、異なっていてもよいが、低屈折率層のいずれもが酸化珪素を含有することが好ましい。 A specific example of the metal oxide is silicon oxide (SiO 2 : refractive index 1.46). Specific examples of metal fluorides include magnesium fluoride and fluorosilicic acid. The materials of the first low refractive index layer and the second low refractive index layer are preferably magnesium fluoride and fluorosilicic acid from the viewpoint of refractive index, and oxidation from the viewpoint of ease of manufacture, mechanical strength, moisture resistance, etc. Silicon is preferable, and silicon oxide is preferable when various characteristics are comprehensively considered. When a plurality of low refractive index layers are provided, the materials of the low refractive index layers may be the same or different, but all of the low refractive index layers preferably contain silicon oxide.

第一の低屈折率層の厚みは、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から50nm以上であることが好ましく、66nm以上であることがより好ましく、68nm以上であることがさらに好ましい。また、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から100nm以下であることが好ましく、78nm以下であることがより好ましく、75nm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the first low refractive index layer is preferably 50 nm or more, more preferably 66 nm or more, and even more preferably 68 nm or more from the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range. From the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range, the thickness is preferably 100 nm or less, more preferably 78 nm or less, and even more preferably 75 nm or less.

第二の低屈折率層の厚みは、可視光反射スペクトルを所望の範囲に調整する観点から、上限値は50nm以下であることが好ましく、45nm以下であることがより好ましい。 From the viewpoint of adjusting the visible light reflection spectrum to a desired range, the upper limit of the thickness of the second low refractive index layer is preferably 50 nm or less, more preferably 45 nm or less.

また、光学調整層13の積層構成としては、屈折率が1.75以上の高屈折率層を少なくとも1層含んでいる限り、特に制限は無い。 Moreover, the laminated structure of the optical adjustment layer 13 is not particularly limited as long as it includes at least one high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more.

光学積層体1は、屈折率1.50~1.85程度の中屈折率層として、例えば、酸化チタンや、上記低屈折率材料と高屈折率材料の混合物(酸化チタンと酸化珪素との混合物等)からなる層をさらに備えていてもよい。
光学調整層は、例えば、金属反射層11側から、第一の低屈折率層と、高屈折率層と、第二の低屈折率層との上述の3層構成;高屈折率層と、第一の低屈折率層と、高屈折率層と、第二の低屈折率層との4層構成;第一の低屈折率層と、高屈折率層と、低屈折率層と、高屈折率層と、第二の低屈折率層との5層構成等が挙げられる。
また、光学調整層は、6層以上の薄膜の積層体でもよい。
The optical layered body 1 includes, as a medium refractive index layer having a refractive index of about 1.50 to 1.85, for example, titanium oxide or a mixture of the above low refractive index material and high refractive index material (a mixture of titanium oxide and silicon oxide). etc.).
The optical adjustment layer has, for example, the above-described three-layer structure of the first low refractive index layer, the high refractive index layer, and the second low refractive index layer from the metal reflective layer 11 side; the high refractive index layer; Four-layer structure of a first low refractive index layer, a high refractive index layer, and a second low refractive index layer; A five-layer structure including a refractive index layer and a second low refractive index layer may be used.
Also, the optical adjustment layer may be a laminate of six or more thin films.

<機能層>
本発明の実施形態に係る光学積層体1は、光学調整層13の金属反射層11とは反対側の面上に、機能層14を有する。
従来の技術においては、光学積層体を支持基材に貼付したミラー部材は、ヘッドアップディスプレイ装置の光源からの像を反射するのみでなく、太陽光を光源へ反射するため、これにより光源への熱負荷が生じる問題があった。本発明者らは、光学積層体が太陽光の中でも特に赤外光を反射することが、光源への熱負荷の問題を引き起こすと考えた。そして、本発明者らの検討の結果、本発明の実施形態に係る光学積層体1が機能層14を備えることで、可視光域における高い反射率を維持しつつ、日射反射率を低減させ、赤外光の反射の少ない光学積層体が得られることを見出した。
機能層14は主に近赤外領域の光を吸収することを目的として設けられる層であり、機能層14を設けることによって、可視光領域の反射率を高水準に保持したまま日射反射率を低減させることができる。
<Function layer>
The optical laminate 1 according to the embodiment of the present invention has a functional layer 14 on the surface of the optical adjustment layer 13 opposite to the metal reflective layer 11 .
In the prior art, a mirror member in which an optical laminate is attached to a supporting base material not only reflects an image from the light source of the head-up display device, but also reflects sunlight to the light source. There was a problem of heat load. The present inventors considered that the fact that the optical layered body reflects sunlight, especially infrared light, causes the problem of the heat load on the light source. As a result of studies by the present inventors, the optical layered body 1 according to the embodiment of the present invention is provided with the functional layer 14, thereby maintaining a high reflectance in the visible light range and reducing the solar reflectance, The present inventors have found that an optical layered body with little reflection of infrared light can be obtained.
The functional layer 14 is a layer provided mainly for the purpose of absorbing light in the near-infrared region. can be reduced.

(赤外線吸収剤)
機能層は赤外線吸収剤を含むことが好ましい。
赤外線吸収剤は、主に近赤外領域の波長の光を選択的に吸収する材料である。
(Infrared absorber)
The functional layer preferably contains an infrared absorber.
An infrared absorbing agent is a material that selectively absorbs light mainly having wavelengths in the near-infrared region.

赤外線吸収剤としては、無機系赤外線吸収剤及び有機顔料系赤外線吸収剤が挙げられる。
無機系赤外線吸収剤としては、金属酸化物である、ITO、ATO、LaB6(六ホウ化ランタン)、CsWO(セシウム酸化タングステン)等が挙げられる。
有機顔料系赤外線吸収剤としては、フェニレンジアミン系色素、シアニン色素,フタロシアニン色素,ナフタロシアニン化合物,ニッケルジチオレン錯体,スクアリウム色素,キノン系化合物,ジインモニウム化合物,アゾ化合物等の化合物等が挙げられる。
赤外線吸収剤は、耐久性の観点から金属酸化物であることが好ましく、セシウム酸化タングステン(セシウムドープ酸化タングステン)がより好ましい。すなわち、赤外線吸収剤はセシウムドープ酸化タングステンを含むことが好ましい。
Infrared absorbents include inorganic infrared absorbents and organic pigment infrared absorbents.
Examples of inorganic infrared absorbers include metal oxides such as ITO, ATO, LaB6 (lanthanum hexaboride), and CsWO (cesium tungsten oxide).
Organic pigment-based infrared absorbers include compounds such as phenylenediamine dyes, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine compounds, nickel dithiolene complexes, squalium dyes, quinone compounds, diimmonium compounds, and azo compounds.
From the viewpoint of durability, the infrared absorber is preferably a metal oxide, and more preferably cesium tungsten oxide (cesium-doped tungsten oxide). That is, the infrared absorber preferably contains cesium-doped tungsten oxide.

赤外線吸収剤は市販品を用いてもよく、無機系赤外線吸収剤としては、例えば、CWO(登録商標)(住友金属鉱山(株)製、セシウムドープ酸化タングステン)等を用いることができる。また、有機顔料系赤外線吸収剤としては、例えば、CIR(日本カーリット(株)製、フェニレンジアミン系)等を用いることができる。 A commercially available infrared absorbing agent may be used, and as an inorganic infrared absorbing agent, for example, CWO (registered trademark) (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., cesium-doped tungsten oxide) can be used. Further, as the organic pigment-based infrared absorbing agent, for example, CIR (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd., phenylenediamine type) or the like can be used.

赤外線吸収剤は、赤外線吸収機能発現の観点から、機能層中に1質量%以上含むことが好ましく、2質量%以上がより好ましく、3質量%以上がさらに好ましい。また、赤外線吸収剤は主に近赤外領域の波長の光を選択的に吸収するものの、可視光領域の波長の光についても吸収し得るため、可視光反射率低下抑制の観点から、上限としては10質量%以下であることが好ましく、7質量%以下がより好ましく、5質量%以下がさらに好ましい。
すなわち、機能層中の赤外線吸収剤の含有量としては、1~10質量%が好ましく、2~7質量%がより好ましい。
From the viewpoint of exhibiting the infrared absorbing function, the infrared absorbing agent is preferably contained in the functional layer in an amount of 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and even more preferably 3% by mass or more. In addition, although the infrared absorbing agent mainly selectively absorbs light with wavelengths in the near-infrared region, it can also absorb light with wavelengths in the visible light region. is preferably 10% by mass or less, more preferably 7% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less.
That is, the content of the infrared absorbing agent in the functional layer is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 7% by mass.

機能層は、赤外線吸収剤以外に、硬化性樹脂を含有することが好ましい。硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。
硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、一種又は二種以上を、適宜選択して使用できる。これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。
The functional layer preferably contains a curable resin in addition to the infrared absorber. Examples of the curable resin include thermosetting resin, ultraviolet curable resin, electron beam curable resin, and the like.
Types of curable resins include polyester, acrylic, urethane, acrylic urethane, amide, silicone, silicate, epoxy, melamine, oxetane, and acrylic urethane resins. One or more of these curable resins can be appropriately selected and used. Among these resins, acrylic resins, acrylic urethane resins, and epoxy resins are preferable because they have high hardness, can be cured with ultraviolet rays, and are excellent in productivity.

機能層は、機能層形成用組成物から形成することができる。より具体的には、赤外線吸収剤及び硬化性樹脂を含有する溶液を機能層形成用組成物として光学調整層に塗布することにより形成できる。 The functional layer can be formed from the composition for forming a functional layer. More specifically, it can be formed by applying a solution containing an infrared absorber and a curable resin as a composition for forming a functional layer to the optical adjustment layer.

機能層の厚みは、赤外線吸収機能発現の観点から、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、また屈曲性の観点から、好ましくは10μm以下、より好ましくは7.0μm以下である。機能層の厚みは、例えば、膜厚計(デジタルダイアルゲージ)や光学干渉式膜厚計を用いて測定することができる。 The thickness of the functional layer is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more from the viewpoint of exhibiting the infrared absorption function, and preferably 10 μm or less, more preferably 7.0 μm or less from the viewpoint of flexibility. is. The thickness of the functional layer can be measured using, for example, a film thickness meter (digital dial gauge) or an optical interference film thickness meter.

<その他の層>
本発明の実施形態に係る光学積層体1は、基材10、金属反射層11、光学調整層13、及び機能層14の他に、用途に応じてその他の層を備えていてもよい。
その他の層としては、例えば、粘着剤層、保護層、ハードコート層、バリア層、易接着層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。
例えば、酸化物によっては、酸化ニオブのように、粘着剤と積層された状態で紫外光を受けると還元される物質もあり、還元作用を防ぐために、更に保護層として酸化珪素からなる層を積層していてもよい。
<Other layers>
The optical layered body 1 according to the embodiment of the present invention may include other layers in addition to the substrate 10, the metal reflective layer 11, the optical adjustment layer 13, and the functional layer 14 depending on the application.
Other layers include, for example, an adhesive layer, a protective layer, a hard coat layer, a barrier layer, an easily adhesive layer, an antireflection layer, a light extraction layer, an antiglare layer, and the like.
For example, some oxides, such as niobium oxide, are reduced when exposed to ultraviolet light while laminated with an adhesive. In order to prevent the reduction action, a layer made of silicon oxide is further laminated as a protective layer. You may have

<粘着剤層>
粘着剤層は、粘着剤から形成することができる。
本発明の実施形態に係る光学積層体1は、図3に示すように、例えば、粘着剤層12を介して支持基材21に貼付し、ミラー部材100として用いることができる。
粘着剤層12を形成する粘着剤は透明粘着剤であることが好ましく、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、及びポリエーテル系粘着剤のいずれかを単独で、或いは、2種類以上を組み合わせて使用することができる。透明性、加工性及び耐久性などの観点から、アクリル系粘着剤を用いることが好ましい。
<Adhesive layer>
The adhesive layer can be formed from an adhesive.
As shown in FIG. 3, the optical layered body 1 according to the embodiment of the present invention can be used as a mirror member 100, for example, by being attached to a support substrate 21 with an adhesive layer 12 interposed therebetween.
The adhesive that forms the adhesive layer 12 is preferably a transparent adhesive, such as an acrylic adhesive, a rubber adhesive, a silicone adhesive, a polyester adhesive, a urethane adhesive, an epoxy adhesive, and polyether-based pressure-sensitive adhesives can be used alone, or two or more of them can be used in combination. From the viewpoint of transparency, workability, durability, etc., it is preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive.

粘着剤層12は、被着部材に貼付される際まではく離ライナーにより保護されていることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer 12 is preferably protected by a release liner until it is attached to an adherend.

粘着剤層12を形成する粘着剤は、ベースポリマーを含有する粘着剤組成物(以下、単に「粘着剤組成物」と称する場合がある)により形成されることが好ましい。ベースポリマーとしては、粘着剤に用いられる公知のポリマーを用いることが可能である。ここで、ベースポリマーとは、粘着剤組成物に含まれるポリマーの主成分をいう。また、この明細書において「主成分」とは、特記しない場合、50質量%を超えて含まれる成分を指す。 The adhesive that forms the adhesive layer 12 is preferably formed from an adhesive composition containing a base polymer (hereinafter sometimes simply referred to as "adhesive composition"). As the base polymer, it is possible to use a known polymer used for pressure-sensitive adhesives. Here, the base polymer means the main component of the polymer contained in the pressure-sensitive adhesive composition. In this specification, the term "main component" refers to a component contained in an amount exceeding 50% by mass, unless otherwise specified.

(粘着剤組成物)
粘着剤組成物は、ベースポリマーとして(メタ)アクリル系ポリマーを含むことが好ましい。なお、(メタ)アクリレートはアクリレート及び/又はメタクリレートをいう。(メタ)アクリル系ポリマーを構成する一部のモノマーは粘着剤組成物中に未反応モノマーとして含まれていてもよい。
(Adhesive composition)
The adhesive composition preferably contains a (meth)acrylic polymer as a base polymer. (Meth)acrylate refers to acrylate and/or methacrylate. A part of the monomers constituting the (meth)acrylic polymer may be contained as unreacted monomers in the pressure-sensitive adhesive composition.

本発明の実施形態における(メタ)アクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキル及び水酸基含有モノマーをモノマー単位として含有する水酸基含有(メタ)アクリル系ポリマーであることが好ましい。水酸基を導入する手法は特に制限されないが、例えば、水酸基含有モノマーを共重合する手法が容易に行うことができる。 The (meth)acrylic polymer in the embodiment of the present invention is preferably a hydroxyl group-containing (meth)acrylic polymer containing alkyl (meth)acrylate and a hydroxyl group-containing monomer as monomer units. The method of introducing hydroxyl groups is not particularly limited, but for example, a method of copolymerizing hydroxyl group-containing monomers can be easily carried out.

なお、本発明の実施形態における(メタ)アクリル系ポリマーとは、アクリル系ポリマー及び/又はメタクリル系ポリマーをいい、また(メタ)アクリレートはアクリレート及び/又はメタクリレートをいい、また(メタ)アクリル酸アルキルはアクリル酸アルキル及び/又はメタクリル酸アルキルをいう。 Incidentally, (meth)acrylic polymer in the embodiment of the present invention refers to acrylic polymer and/or methacrylic polymer, (meth)acrylate refers to acrylate and/or methacrylate, and alkyl (meth)acrylate refers to alkyl acrylate and/or alkyl methacrylate.

(メタ)アクリル酸アルキルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルなどが挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。 Examples of alkyl (meth)acrylates include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. be done. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記水酸基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、10-ヒドロキシデシル(メタ)アクリレート、12-ヒドロキシラウリル(メタ)アクリレート、(4-ヒドロキシメチルシクロへキシル)メチルアクリレート、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテルなどが挙げられる。これらのモノマーは単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。 Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl ( meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl)methyl acrylate, N-methylol (meth)acrylamide, N-hydroxy (meth)acrylamide, vinyl alcohol, allyl alcohol, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

前記水酸基含有モノマーは、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は(メタ)アクリル系ポリマー100質量部に対して、1~40質量部であることが好ましく、2~30質量部であることがより好ましい。水酸基含有モノマーを共重合することにより、架橋などによる反応点が付与された水酸基含有(メタ)アクリル系ポリマーとすることとなる。 The hydroxyl group-containing monomer may be used alone or in combination of two or more. It is preferably 40 parts by mass, more preferably 2 to 30 parts by mass. By copolymerizing a hydroxyl group-containing monomer, a hydroxyl group-containing (meth)acrylic polymer to which reaction points are imparted by cross-linking or the like is obtained.

本発明の実施形態に用いられる(メタ)アクリル系ポリマーは、重量平均分子量が30万~250万程度であることが望ましい。重量平均分子量が30万より小さい場合は、粘着剤組成物の凝集力が小さくなることにより糊残りを生じる傾向がある。重量平均分子量はGPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)により測定して得られたものをいう。 The (meth)acrylic polymer used in the embodiment of the present invention preferably has a weight average molecular weight of about 300,000 to 2,500,000. When the weight-average molecular weight is less than 300,000, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition tends to be low, resulting in adhesive residue. The weight average molecular weight refers to the one obtained by measuring by GPC (gel permeation chromatography).

また、粘着性能のバランスが取りやすい理由から、前記(メタ)アクリル系ポリマーのガラス転移温度(Tg)が0℃以下(通常-100℃以上)、好ましくは-10℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が0℃より高い場合、ポリマーが流動しにくくなる。なお、(メタ)アクリル系ポリマーのガラス転移温度(Tg)は、用いるモノマー成分や組成比を適宜変えることにより前記範囲内に調整することができる。 In addition, the (meth)acrylic polymer preferably has a glass transition temperature (Tg) of 0° C. or lower (usually −100° C. or higher), preferably −10° C. or lower, because it is easy to balance adhesive properties. When the glass transition temperature is higher than 0°C, the polymer becomes difficult to flow. The glass transition temperature (Tg) of the (meth)acrylic polymer can be adjusted within the above range by appropriately changing the monomer components and composition ratio used.

また、前記モノマー以外にも、その他の重合性モノマーとして、(メタ)アクリル系ポリマーのガラス転移点や剥離性を調整するための重合性モノマーなどを、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。 In addition to the above monomers, other polymerizable monomers, such as polymerizable monomers for adjusting the glass transition point and peelability of the (meth)acrylic polymer, are used within a range that does not impair the effects of the present invention. be able to.

(メタ)アクリル系ポリマーにおいて用いられるその他の重合性モノマーとしては、例えば、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ビニルエステルモノマー、芳香族ビニルモノマーなどの凝集力・耐熱性向上成分や、酸無水物基含有モノマー、アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、N-アクリロイルモルホリン、ビニルエーテルモノマーなどの接着力向上や架橋化基点として働く官能基を有す成分を適宜用いることができる。これらのモノマー化合物は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。 Other polymerizable monomers used in (meth)acrylic polymers include, for example, sulfonic acid group-containing monomers, phosphoric acid group-containing monomers, cyano group-containing monomers, vinyl ester monomers, aromatic vinyl monomers, etc. Functionality improving components, acid anhydride group-containing monomers, amide group-containing monomers, amino group-containing monomers, epoxy group-containing monomers, N-acryloylmorpholine, vinyl ether monomers, etc. Ingredients can be used as appropriate. These monomer compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記シアノ基含有モノマーとしては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。 Examples of the cyano group-containing monomer include acrylonitrile and methacrylonitrile.

前記ビニルエステルモノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ラウリン酸ビニルなどが挙げられる。 Examples of the vinyl ester monomer include vinyl acetate, vinyl propionate, and vinyl laurate.

前記芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α-メチルスチレンなどが挙げられる。 Examples of the aromatic vinyl monomers include styrene, chlorostyrene, chloromethylstyrene and α-methylstyrene.

前記アミド基含有モノマーとしては、例えば、アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、N-ビニル-2-ピロリドンなどが挙げられる。 Examples of the amide group-containing monomer include acrylamide, diethylacrylamide, N-vinyl-2-pyrrolidone and the like.

前記アミノ基含有モノマーとしては、例えば、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N-(メタ)アクリロイルモルホリン、(メタ)アクリル酸アルキルアミノアルキルエステルなどが挙げられる。 Examples of the amino group-containing monomers include N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate, N-(meth)acryloylmorpholine, and alkylaminoalkyl (meth)acrylates. and esters.

前記エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテルなどが挙げられる。 Examples of the epoxy group-containing monomer include glycidyl (meth)acrylate and allyl glycidyl ether.

前記ビニルエーテルモノマーとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテルなどが挙げられる。 Examples of the vinyl ether monomer include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether and the like.

本発明の実施形態において、その他の重合性モノマーは、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は(メタ)アクリル系ポリマー100質量部に対して、0~40質量部であることが好ましく、0~30質量部であることがより好ましい。 In the embodiment of the present invention, the other polymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more, but the total content is 100 (meth) acrylic polymer It is preferably from 0 to 40 parts by mass, more preferably from 0 to 30 parts by mass.

なお、(メタ)アクリル系ポリマーの重合法は特に制限されず、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、UV重合などの公知の重合法を採用できる。また、得られる共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体など何れでもよい。 The polymerization method of the (meth)acrylic polymer is not particularly limited, and known polymerization methods such as solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization and UV polymerization can be employed. Further, the obtained copolymer may be any of random copolymer, block copolymer, graft copolymer and the like.

本発明の実施形態において、粘着剤組成物は上記ベースポリマー以外のポリマー成分を含んでいてもよい。 In an embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition may contain polymer components other than the base polymer.

本発明の実施形態において、粘着剤組成物は架橋剤を含むことが好ましく、架橋剤としてはイソシアネート系架橋剤を用いることが好ましい。イソシアネート系架橋剤は密着性及び凝集性を付与するため用いられる。 In an embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a cross-linking agent, and an isocyanate-based cross-linking agent is preferably used as the cross-linking agent. An isocyanate-based cross-linking agent is used to impart adhesion and cohesiveness.

イソシアネート系架橋剤としては、多官能イソシアネート化合物が用いられ、分子中に2個以上のイソシアネート基を有する種々の化合物が含まれる。 Polyfunctional isocyanate compounds are used as isocyanate cross-linking agents, and include various compounds having two or more isocyanate groups in the molecule.

イソシアネート化合物としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどの低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの脂環族イソシアネート類、2,4-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどの芳香族イソシアネート類、トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(商品名コロネートL、日本ポリウレタン工業社製)、トリメチロールプロパン/へキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(商品名コロネートHL、日本ポリウレタン工業社製)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(商品名コロネートHX、日本ポリウレタン工業社製)などのイソシアネート付加物などが挙げられる。なかでも、イソシアヌレート環を有するものが特に好ましく、例えば、長鎖アルキレンジオール変性のイソシアヌレート環を有するポリイソシアネート(大日本インキ化学工業社製、バーノックDN-995)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(商品名コロネートHX、日本ポリウレタン工業社製)などが挙げられる。これらの化合物は単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。 Examples of isocyanate compounds include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate; Aromatic isocyanates such as 4,4′-diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate, trimethylolpropane/tolylene diisocyanate trimer adduct (trade name: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), trimethylolpropane/hexamethylene Isocyanate adducts such as diisocyanate trimer adduct (trade name Coronate HL, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and isocyanurate of hexamethylene diisocyanate (trade name Coronate HX, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.). Among them, those having an isocyanurate ring are particularly preferable, for example, polyisocyanate having a long-chain alkylenediol-modified isocyanurate ring (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Barnock DN-995), isocyanurate of hexamethylene diisocyanate. (trade name: Coronate HX, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.). These compounds may be used alone or in combination.

本発明の実施形態に用いられる架橋剤の含有量は、粘着特性に影響を及ぼさない程度で配合すればよいが、通常(メタ)アクリル系ポリマー100質量部に対し、0.2~10質量部含有され、0.5~8質量部含有されていることが好ましく、1~6質量部含有されていることがより好ましい。 The content of the cross-linking agent used in the embodiment of the present invention may be blended to the extent that it does not affect the adhesive properties, but usually 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth)acrylic polymer. It is preferably contained in an amount of 0.5 to 8 parts by mass, more preferably 1 to 6 parts by mass.

また、本発明の実施形態において、粘着剤組成物は架橋成分として、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート等の多官能(メタ)アクリル系モノマーを含むことも好ましい。なお、本発明の実施形態における(メタ)アクリル系モノマーとは、アクリル系モノマー及び/又はメタクリル系モノマーをいう。
多官能(メタ)アクリル系モノマーは、通常(メタ)アクリル系ポリマー100質量部に対し、0.2~10質量部含有され、0.5~8質量部含有されていることが好ましく、1~6質量部含有されていることがより好ましい。
In an embodiment of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition also preferably contains a polyfunctional (meth)acrylic monomer such as 1,6-hexanedioldiacrylate as a cross-linking component. In addition, the (meth)acrylic monomer in the embodiment of the present invention refers to an acrylic monomer and/or a methacrylic monomer.
The polyfunctional (meth) acrylic monomer is usually contained in an amount of 0.2 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 8 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. It is more preferable to contain 6 parts by mass.

なお、アクリル系粘着剤には、前記例示した以外の架橋剤(ポリアミン化合物、メラミン樹脂、アジリジン誘導体、尿素樹脂)、重合開始剤、粘着付与剤、可塑剤、シランカップリング剤、着色剤、顔料などの粉体、染料、界面活性剤、表面潤滑剤、レベリング剤、軟化剤、酸化防止剤、帯電防止剤、老化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、無機又は有機の充填剤、金属粉、粒子状、箔状物など等を適宜に使用することもできる。これらの成分は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。 The acrylic pressure-sensitive adhesive may include cross-linking agents (polyamine compounds, melamine resins, aziridine derivatives, urea resins) other than those exemplified above, polymerization initiators, tackifiers, plasticizers, silane coupling agents, colorants, and pigments. Powders such as dyes, surfactants, surface lubricants, leveling agents, softeners, antioxidants, antistatic agents, antiaging agents, light stabilizers, UV absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillings Agents, metal powders, particles, foils and the like can also be used as appropriate. These components may be used alone or in combination of two or more.

(粘着剤層の形成方法)
粘着剤層は、例えば、前記粘着剤組成物を基材上に塗布し、溶剤等を乾燥除去することにより形成することもできる。粘着剤組成物の塗布にあたっては、適宜に一種以上の溶剤を加えてもよい。
また、粘着剤層は、例えば、前記粘着剤組成物によりはく離ライナー上に形成した粘着剤層とはく離ライナーとの積層体の粘着剤層側の面と、基材を貼り合せることにより形成することもできる。
(Method for Forming Adhesive Layer)
The pressure-sensitive adhesive layer can also be formed, for example, by coating the pressure-sensitive adhesive composition on a substrate and removing the solvent and the like by drying. In applying the pressure-sensitive adhesive composition, one or more solvents may be added as appropriate.
Alternatively, the pressure-sensitive adhesive layer may be formed, for example, by laminating the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the laminate of the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release liner with the pressure-sensitive adhesive composition and the release liner to the substrate. can also

粘着剤層の厚みは、光学積層体と支持基材との貼り合わせ時の外観の観点から5μm以上であることが好ましく、10μm以上であることがより好ましく、25μm以上であることがさらに好ましい。また、高温加熱により発生する発泡を抑制する観点から100μm以下であることが好ましく、75μm以下であることがより好ましく、50μm以下であることがさらに好ましい。
粘着剤層の厚さは、ダイヤルゲージにより測定することができる。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 5 µm or more, more preferably 10 µm or more, and even more preferably 25 µm or more, from the viewpoint of the appearance when the optical layered body and the supporting substrate are bonded together. In addition, from the viewpoint of suppressing foaming generated by high-temperature heating, the thickness is preferably 100 μm or less, more preferably 75 μm or less, and even more preferably 50 μm or less.
The thickness of the adhesive layer can be measured with a dial gauge.

粘着剤組成物の塗布方法としては、各種方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコート法等の方法が挙げられる。 Various methods are used as a method for applying the pressure-sensitive adhesive composition. Specifically, for example, roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, die coater, etc. A method such as an extrusion coating method can be used.

前記加熱乾燥温度は、30℃~200℃が好ましく、40℃~180℃がより好ましく、80℃~160℃がさらに好ましい。加熱温度を上記の範囲とすることによって、優れた粘着特性を有する粘着剤層を得ることができる。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、5秒~20分が好ましく、30秒~10分がより好ましく、1分~8分がさらに好ましい。 The heat drying temperature is preferably 30°C to 200°C, more preferably 40°C to 180°C, and even more preferably 80°C to 160°C. By setting the heating temperature within the above range, a pressure-sensitive adhesive layer having excellent adhesive properties can be obtained. An appropriate drying time can be adopted as appropriate. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 30 seconds to 10 minutes, even more preferably 1 minute to 8 minutes.

前記粘着剤組成物が、活性エネルギー線硬化型粘着剤の場合には、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより粘着剤層を形成することができる。紫外線照射には、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルライトランプ等を用いることができる。 When the pressure-sensitive adhesive composition is an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive layer can be formed by irradiation with an active energy ray such as ultraviolet rays. A high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a chemical light lamp, or the like can be used for ultraviolet irradiation.

光学積層体における粘着剤層は、はく離ライナー(セパレータ)により保護することができる。
例えば、光学積層体の出荷時には粘着剤層をはく離ライナーにより保護した状態であり、その後、はく離ライナーを剥離し支持基材に貼り合わせてミラー部材を製造することができる。
The adhesive layer in the optical laminate can be protected with a release liner (separator).
For example, when the optical layered body is shipped, the pressure-sensitive adhesive layer is protected by a release liner, and then the release liner is peeled off and bonded to the supporting substrate to manufacture the mirror member.

はく離ライナーとしては、粘着剤層を保護することができるものであれば特に制限はなく、例えば、プラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。 The release liner is not particularly limited as long as it can protect the pressure-sensitive adhesive layer. Appropriate thin sheets such as laminates can be used, but plastic films are preferably used because of their excellent surface smoothness.

前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフイルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。 Examples of the plastic film include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, and ethylene. - Vinyl acetate copolymer film and the like.

前記はく離ライナーの厚みは、通常5~200μm、好ましくは5~100μmである。前記はく離ライナーには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記はく離ライナーの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。 The thickness of the release liner is usually 5-200 μm, preferably 5-100 μm. For the release liner, if necessary, a silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based or fatty acid amide-based release agent, release and antifouling treatment with silica powder, etc., coating type, kneading type, vapor deposition An antistatic treatment can also be applied to the mold or the like. In particular, by subjecting the surface of the release liner to a release treatment such as silicone treatment, long-chain alkyl treatment, fluorine treatment, etc., the releasability from the pressure-sensitive adhesive layer can be further enhanced.

本発明の実施形態に係る光学積層体1は、フィルム状であることが好ましい。具体的には、基材10が上記基材フィルムであり、光学積層体の厚みが6μm~250μmであることが好ましく、20μm~100μmであることがより好ましい。
光学積層体をフィルム状とすると、支持基材に貼付し得るため、複雑な曲面形状の部材であっても生産性良くミラー部材を製造することができる。
The optical layered body 1 according to the embodiment of the present invention is preferably in the form of a film. Specifically, the substrate 10 is the substrate film described above, and the thickness of the optical laminate is preferably 6 μm to 250 μm, more preferably 20 μm to 100 μm.
When the optical layered body is in the form of a film, it can be attached to a support base material, so that a mirror member can be manufactured with high productivity even if the member has a complicated curved surface shape.

[光学積層体の製造]
本発明の実施形態に係る光学積層体の製造方法は特に限定されない。例えば、基材10として基材フィルムを用い、図2に示す光学積層体1を製造する場合、基材フィルムの一方の面に金属反射層11を形成し、金属反射層11上に第一の低屈折率層13a、高屈折率層13b、及び第二の低屈折率層13cをこの順に形成し、第二の低屈折率層13c上に機能層14を形成することができる。
光学積層体は更に粘着剤層を備えていてもよく、粘着剤層12は、基材フィルムの他方の面に、粘着剤層12を形成し得る組成物を塗布等により直接形成してもよく、別途形成した粘着剤層12を貼り合せることにより形成してもよい。
[Manufacture of optical laminate]
The method for manufacturing the optical layered body according to the embodiment of the present invention is not particularly limited. For example, when a substrate film is used as the substrate 10 to produce the optical laminate 1 shown in FIG. The low refractive index layer 13a, the high refractive index layer 13b, and the second low refractive index layer 13c can be formed in this order, and the functional layer 14 can be formed on the second low refractive index layer 13c.
The optical laminate may further comprise an adhesive layer, and the adhesive layer 12 may be directly formed by coating a composition capable of forming the adhesive layer 12 on the other surface of the base film. Alternatively, the adhesive layer 12 formed separately may be laminated.

金属反射層11、第一の低屈折率層13a、高屈折率層13b、及び第二の低屈折率層13cを形成する場合の形成方法は特に限定されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリング法が好ましい。 The method of forming the metal reflective layer 11, the first low refractive index layer 13a, the high refractive index layer 13b, and the second low refractive index layer 13c is not particularly limited, but examples include a vacuum deposition method and a sputtering method. , an ion plating method, and the like. The sputtering method is preferable because the thickness can be strictly controlled even in a large area.

機能層の形成方法は特に限定されないが、例えば、赤外線吸収剤及び硬化性樹脂を含有する溶液を機能層形成用組成物として、第二の低屈折率層13c上に塗布することにより形成できる。 The method of forming the functional layer is not particularly limited, but for example, it can be formed by applying a solution containing an infrared absorber and a curable resin as a composition for forming the functional layer onto the second low refractive index layer 13c.

本発明の実施形態に係る光学積層体は、ミラー部材に用いることができる。
また、本発明の実施形態に係る光学積層体は、部材の加飾に用いることもできる。例えば、被着部材に貼付して用いてもよく、被着部材としては、例えば、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することができるが、これに限定されるものではない。
The optical layered body according to the embodiment of the present invention can be used as a mirror member.
Further, the optical layered body according to the embodiment of the present invention can also be used for decorating members. For example, it may be used by being attached to an adherend member, and as the adherend member, for example, a member made of glass or plastic can be used, but it is not limited to this.

[ミラー部材]
本発明の実施形態に係るミラー部材は、上記光学積層体を有する。
本発明の実施形態に係るミラー部材は、フィルム状の上記光学積層体と支持基材とを備え、前記光学積層体が、粘着剤層を介して前記支持基材に貼付されていることが好ましい。
図3は、本発明の一実施形態によるミラー部材の概略断面図である。図3に示すミラー部材100は、基材(基材フィルム)10、金属反射層11、光学調整層13(第一の低屈折率層13a、高屈折率層13b、及び第二の低屈折率層13c)及び機能層14をこの順に有する光学積層体が、粘着剤層12を介して支持基材21に貼付されている。
本発明の実施形態に係るミラー部材は、フィルム状の光学積層体を用いた場合、支持基材に貼付することにより作製できるため、複雑な曲面形状の部材であっても生産性良く製造することができる。
本発明の実施形態に係るミラー部材の製造方法は、前記支持基材の表面の少なくとも一部をコロナ処理する工程、及び該支持基材のコロナ処理面に、前記光学積層体を粘着剤層を介して前記支持基材に貼付する工程を含んでいてもよい。
[Mirror member]
A mirror member according to an embodiment of the present invention has the above optical layered body.
It is preferable that the mirror member according to the embodiment of the present invention includes the film-like optical layered body and a supporting substrate, and the optical layered body is attached to the supporting substrate via an adhesive layer. .
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a mirror member according to one embodiment of the invention. A mirror member 100 shown in FIG. An optical layered body having a layer 13c) and a functional layer 14 in this order is attached to a support substrate 21 with an adhesive layer 12 interposed therebetween.
Since the mirror member according to the embodiment of the present invention can be produced by attaching it to a supporting substrate when using a film-like optical laminate, even a member having a complicated curved surface shape can be produced with high productivity. can be done.
A method for manufacturing a mirror member according to an embodiment of the present invention comprises the steps of: corona-treating at least a part of the surface of the supporting substrate; It may include a step of attaching to the supporting base material via.

<支持基材>
支持基材の材料としては、特に限定はなく、樹脂、ガラス、金属等が挙げられ、樹脂を用いることが好ましい。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂(アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂)、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー(例えば、ノルボルネン系、シクロペンタジエン系)などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの材料は、単独使用または2種以上併用することができる。中でも、黒色にすることが可能であり遮光性の観点からポリカーボネート樹脂が好ましい。
<Support base material>
The material of the supporting substrate is not particularly limited, and examples thereof include resin, glass, metal, etc., and it is preferable to use resin. Examples of resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; (meth)acrylic resins (acrylic resins and/or methacrylic resins) such as polymethacrylate; , olefin resins such as cycloolefin polymers (e.g., norbornene-based, cyclopentadiene-based), e.g., polycarbonate resins, polyethersulfone resins, polyarylate resins, melamine resins, polyamide resins, polyimide resins, cellulose resins, polystyrene resins, etc. be done. These materials can be used singly or in combination of two or more. Among them, a polycarbonate resin is preferable from the viewpoint of light-shielding properties because it can be made black.

[光学積層体及びミラー部材の用途]
本発明の実施形態に係る光学積層体及びミラー部材の用途としては例えば、車両用構造部品、ヘッドアップディスプレイ等の車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ECUボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。電子機器及び家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型PC、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。
上記の中でも、特にヘッドアップディスプレイ用のミラー部材として好適に用い得る。
[Uses of Optical Laminate and Mirror Member]
Applications of the optical laminate and the mirror member according to the embodiments of the present invention include, for example, structural parts for vehicles, vehicle-mounted goods such as head-up displays, housings for electronic devices, housings for home appliances, structural parts, and machinery. parts, parts for various automobiles, parts for electronic equipment, household goods such as furniture and kitchen utensils, medical equipment, parts for building materials, other structural parts and exterior parts. More specifically, for vehicles, instrument panels, console boxes, door knobs, door trims, shift levers, pedals, glove boxes, bumpers, bonnets, fenders, trunks, doors, roofs, pillars, seats, steering wheels , ECU boxes, electrical components, engine peripheral parts, drive system/gear peripheral parts, intake/exhaust system parts, cooling system parts, and the like. More specifically, electronic devices and home appliances include home appliances such as refrigerators, washing machines, vacuum cleaners, microwave ovens, air conditioners, lighting equipment, electric water heaters, televisions, clocks, ventilation fans, projectors, speakers, personal computers, and mobile phones. , smart phones, digital cameras, tablet PCs, portable music players, portable game machines, battery chargers, electronic information devices such as batteries, and the like.
Among the above, it can be preferably used as a mirror member for a head-up display.

以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described below based on Examples, but the present invention is not limited to these.

〔実施例1〕
[基材フィルム]
基材フィルムとして、東レ株式会社製PETフィルム50-U483(厚さ50μm))に厚み1.5μmの紫外線硬化樹脂層(ハードコート層)を形成し、ハードコート層付きPETフィルムを得た。
[Example 1]
[Base film]
As a base film, a PET film 50-U483 (thickness: 50 μm) manufactured by Toray Industries, Inc. was coated with an ultraviolet curable resin layer (hard coat layer) having a thickness of 1.5 μm to obtain a PET film with a hard coat layer.

[金属反射層の作製]
Alターゲット、及び基材フィルムを、ラボ用のマグネトロンスパッタリング装置にセットし、基材フィルムのハードコート層側の面に、金属反射層として、厚み44nmのアルミニウム層(Al層)を形成した。
[Preparation of metal reflective layer]
The Al target and the base film were set in a laboratory magnetron sputtering apparatus, and an aluminum layer (Al layer) having a thickness of 44 nm was formed as a metal reflective layer on the surface of the base film on the hard coat layer side.

[光学調整層の作製]
ラボ用のマグネトロンスパッタリング装置を用いてAl層を形成した基材フィルムを、マグネトロンスパッタリング装置にセットし、Al層の上に、第一の低屈折率層として酸化珪素67nm(屈折率1.46)、高屈折率層として酸化ニオブ(Nb)53nm(屈折率2.32)、第二の低屈折率等として酸化珪素(SiO)40nm(屈折率1.46)の順で、透明酸化物の薄膜を形成し光学調整層とした。酸化珪素と酸化ニオブの薄膜の形成にあたっては、ターゲットとしては純珪素ターゲット、純ニオブターゲットを用い、アルゴンガスに加え、酸素ガスを導入し、反応性スパッタリングを実施することで、それぞれ透明酸化物の薄膜を得た。
[Preparation of optical adjustment layer]
A substrate film on which an Al layer is formed using a laboratory magnetron sputtering device is set in the magnetron sputtering device, and silicon oxide 67 nm (refractive index 1.46) is formed on the Al layer as a first low refractive index layer. , niobium oxide (Nb 2 O 5 ) 53 nm (refractive index 2.32) as a high refractive index layer, silicon oxide (SiO 2 ) 40 nm (refractive index 1.46) as a second low refractive index layer, etc., in this order. An oxide thin film was formed as an optical adjustment layer. In the formation of thin films of silicon oxide and niobium oxide, a pure silicon target and a pure niobium target were used as targets, oxygen gas was introduced in addition to argon gas, and reactive sputtering was carried out to form transparent oxides. A thin film was obtained.

[機能層の作製]
紫外線硬化型アクリル樹脂(DIC株式会社製V6850)に、光硬化剤としてイルガキュア184を固形分濃度3質量%、赤外線吸収剤として住友金属鉱山株式会社製セシウムドープ酸化タングステンYMF-02Aを固形分濃度1質量%になるように配合し、光学調整層の上に塗布、乾燥、紫外線照射することで膜厚5μmの機能層を形成した。
[Production of functional layer]
UV curable acrylic resin (V6850 manufactured by DIC Corporation), Irgacure 184 as a photocuring agent at a solid concentration of 3% by mass, and cesium-doped tungsten oxide YMF-02A manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. as an infrared absorber at a solid concentration of 1. A functional layer having a film thickness of 5 μm was formed by blending so as to make the mass %, coating on the optical adjustment layer, drying, and irradiating with ultraviolet rays.

以上により、51.5μmのハードコート層付きPET基材(基材フィルム)の片面上に、酸化珪素5nm、アルミニウム44nm、酸化珪素67nm、酸化ニオブ53nm、酸化珪素40nm、機能層5μmの順で薄層が形成されたフィルム状の光学積層体1を作製した。 As described above, on one side of a 51.5 μm hard coat layer-attached PET substrate (substrate film), silicon oxide 5 nm, aluminum 44 nm, silicon oxide 67 nm, niobium oxide 53 nm, silicon oxide 40 nm, and a functional layer 5 μm thin in this order. A film-like optical layered body 1 having layers formed thereon was produced.

[ミラー部材の作製]
粘着シートCS9861UAS(日東電工(株)製)の軽はく離ライナーを剥離し、光学積層体1の基材フィルムのスパッタ成膜のされていない面に貼り合わせ積層体を得た。
得られた積層体の粘着剤層側の重はく離ライナーを剥離し、支持基材としての3.0mm厚みのポリカーボネート基材(旭硝子株式会社製カーボグラス 黒色)に貼り合わせをし、ミラー部材を作製した。得られたミラー部材のサイズは50mm×150mmである。
[Production of mirror member]
A light release liner of an adhesive sheet CS9861UAS (manufactured by Nitto Denko Corporation) was peeled off, and a laminate was obtained by laminating the surface of the base film of the optical laminate 1 on which no sputter film was formed.
The heavy release liner on the pressure-sensitive adhesive layer side of the resulting laminate was peeled off, and the laminate was laminated to a 3.0 mm-thick polycarbonate substrate (Carboglass, black, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) as a supporting substrate to prepare a mirror member. bottom. The size of the obtained mirror member is 50 mm×150 mm.

〔実施例2〕
赤外線吸収剤の濃度を5質量%、機能層膜厚を1.5μmに変更した以外は実施例1と同様にして光学積層体及びミラー部材を作製した。
[Example 2]
An optical laminate and a mirror member were produced in the same manner as in Example 1, except that the concentration of the infrared absorbing agent was changed to 5% by mass and the film thickness of the functional layer was changed to 1.5 μm.

〔実施例3〕
赤外線吸収剤をFS-133(日本カーリット(株)製CIR、フェニレンジアミン系)に変更し、濃度を3質量%、機能層膜厚を1.5μmに変更した以外は実施例1と同様にして光学積層体及びミラー部材を作製した。
[Example 3]
In the same manner as in Example 1, except that the infrared absorbing agent was changed to FS-133 (CIR, phenylenediamine type manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.), the concentration was changed to 3% by mass, and the functional layer thickness was changed to 1.5 μm. An optical laminate and a mirror member were produced.

〔実施例4〕
赤外線吸収剤の濃度を7質量%、機能層膜厚を3.5μmに変更した以外は実施例1と同様にして光学積層体及びミラー部材を作製した。
[Example 4]
An optical laminate and a mirror member were produced in the same manner as in Example 1, except that the concentration of the infrared absorbing agent was changed to 7% by mass and the film thickness of the functional layer was changed to 3.5 μm.

〔比較例1〕
機能層を積層しなかったこと以外は実施例1と同様にして光学積層体及びミラー部材を作製した。
[Comparative Example 1]
An optical laminate and a mirror member were produced in the same manner as in Example 1, except that no functional layer was laminated.

〔比較例2〕
赤外線吸収剤の濃度を1質量%、機能層膜厚を1.5μmに変更した以外は実施例1と同様にして光学積層体及びミラー部材を作製した。
[Comparative Example 2]
An optical laminate and a mirror member were produced in the same manner as in Example 1, except that the concentration of the infrared absorber was changed to 1% by mass and the film thickness of the functional layer was changed to 1.5 μm.

〔比較例3〕
赤外線吸収剤を添加しなかったこと以外は実施例1と同様にして光学積層体及びミラー部材を作製した。
[Comparative Example 3]
An optical laminate and a mirror member were produced in the same manner as in Example 1, except that no infrared absorber was added.

<赤外線吸収率>
東レ株式会社製PETフィルム50-U483上に、実施例、比較例と同様の条件で機能層を塗布し、透明な機能層付PETフィルムを得た。その透明な機能層付PETフィルムの機能層側表面に赤外線を入射し、(株)日立ハイテクサイエンス製の日立分光光度計 U-4100測定機器を用いて、波長1000nmで反射率および透過率を測定し、100%から反射率および透過率を控除した値を赤外線吸収率と定義した。
<Infrared absorption rate>
A functional layer was coated on PET film 50-U483 manufactured by Toray Industries, Inc. under the same conditions as in Examples and Comparative Examples to obtain a transparent PET film with a functional layer. Infrared rays are incident on the functional layer side surface of the transparent PET film with a functional layer, and reflectance and transmittance are measured at a wavelength of 1000 nm using a Hitachi spectrophotometer U-4100 measurement device manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. A value obtained by subtracting the reflectance and the transmittance from 100% was defined as the infrared absorption rate.

<反射率>
作製した各実施例及び比較例の光学積層体について、標準光源としてD65を使用して、(株)日立ハイテクサイエンス製の日立分光光度計 U-4100測定機器を用いて、波長380nm~780nmの範囲の可視光線について反射率Y(%)を測定した。
なお、測定する際は、得られた光学積層体の機能層側表面に上記可視光線を30°の入射角にて入射させるようにした。
380nm~780nmの波長で反射率Yが85%以上の場合を〇(良)、80%以上85%未満の場合を△(可)、80%未満の場合を×(不良)と評価した。
<Reflectance>
For the optical laminates of each of the prepared examples and comparative examples, D65 was used as a standard light source, and a Hitachi spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. was used to measure the wavelength in the range of 380 nm to 780 nm. The reflectance Y (%) was measured for visible light.
In the measurement, the visible light was made incident on the functional layer side surface of the obtained optical layered body at an incident angle of 30°.
When the reflectance Y at a wavelength of 380 nm to 780 nm was 85% or more, it was evaluated as ◯ (good), when it was 80% or more and less than 85%, it was evaluated as Δ (acceptable), and when it was less than 80%, it was evaluated as x (poor).

<日射反射率>
作製した各実施例及び比較例の光学積層体について、上記反射率測定と同様の測定を300nm~2500nmの波長範囲において行った結果を用い、JIS K 5602 「塗膜の日射反射率の求め方」に準じて導出した。
日射反射率が82%以下の場合を〇(良)、82%を超える場合を×(不良)として評価した。
<Solar reflectance>
For the optical layered bodies of each of the manufactured examples and comparative examples, the same measurement as the above reflectance measurement was performed in the wavelength range of 300 nm to 2500 nm. It was derived according to
The case where the solar reflectance was 82% or less was evaluated as ◯ (good), and the case where the solar reflectance exceeded 82% was evaluated as x (bad).

<総合評価>
総合的な評価として、日射反射率が82%以下であり、且つ反射率Yが85%以上である場合を〇(良)、日射反射率が82%以下であり、且つ反射率Yが80%以上85%未満である場合を△(可)、日射反射率が82%以下であり、且つ反射率Yが80%未満である場合、及び日射反射率が82%を超える場合を×(不良)とした。
<Comprehensive evaluation>
As a comprehensive evaluation, ◯ (good) when the solar reflectance is 82% or less and the reflectance Y is 85% or more, and the solar reflectance is 82% or less and the reflectance Y is 80%. △ (acceptable) when it is 85% or more, × (poor) when the solar reflectance is 82% or less and the reflectance Y is less than 80%, and when the solar reflectance exceeds 82% and

結果を下記表1に示す。なお、表1において、「赤外線吸収剤含有量」は、赤外線吸収剤の濃度と機能層の膜厚の積により算出される数値を表す。 The results are shown in Table 1 below. In Table 1, "infrared absorbing agent content" represents a numerical value calculated from the product of the concentration of the infrared absorbing agent and the film thickness of the functional layer.

Figure 2023110548000002
Figure 2023110548000002

上記のとおり、本実施例の光学積層体は可視光反射性能及び遮熱性に優れ、ミラー部材に好ましく適用することができる。 As described above, the optical layered body of this example is excellent in visible light reflection performance and heat shielding property, and can be preferably applied to a mirror member.

本発明は前述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be modified in various ways within the scope of the claims, and can be obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. is also included in the technical scope of the present invention.

1 光学積層体
10 基材
11 金属反射層
12 粘着剤層
13 光学調整層
13a 第一の低屈折率層
13b 高屈折率層
13c 第二の低屈折率層
14 機能層
21 支持基材
100 ミラー部材
REFERENCE SIGNS LIST 1 optical laminate 10 substrate 11 metal reflective layer 12 adhesive layer 13 optical adjustment layer 13a first low refractive index layer 13b high refractive index layer 13c second low refractive index layer 14 functional layer 21 supporting substrate 100 mirror member

Claims (8)

基材上に、金属反射層と、光学調整層と、機能層とをこの順に備え、
前記光学調整層は、屈折率が1.75以上の高屈折率層を少なくとも1層含み、
日射反射率が82%以下である、光学積層体。
a metal reflective layer, an optical adjustment layer, and a functional layer provided in this order on a substrate;
The optical adjustment layer includes at least one high refractive index layer having a refractive index of 1.75 or more,
An optical laminate having a solar reflectance of 82% or less.
前記機能層が赤外線吸収剤を含む、請求項1に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the functional layer contains an infrared absorber. 前記機能層が前記赤外線吸収剤を1~10質量%含む、請求項2に記載の光学積層体。 3. The optical laminate according to claim 2, wherein the functional layer contains 1 to 10% by mass of the infrared absorbing agent. 前記赤外線吸収剤はセシウムドープ酸化タングステンを含む、請求項2または3に記載の光学積層体。 4. The optical layered product according to claim 2, wherein the infrared absorber contains cesium-doped tungsten oxide. 反射率Yが85%以上である、請求項1~4のいずれか一項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 4, which has a reflectance Y of 85% or more. 前記金属反射層はアルミニウムまたはアルミニウム合金を含有する、請求項1~5のいずれか一項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal reflective layer contains aluminum or an aluminum alloy. フィルム状である、請求項1~6のいずれか一項に記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 6, which is in the form of a film. 請求項1~7のいずれか一項に記載の光学積層体を有する、ミラー部材。 A mirror member comprising the optical laminate according to any one of claims 1 to 7.
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