JP2023108420A - Sheet for workpiece processing - Google Patents

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JP2023108420A JP2022009542A JP2022009542A JP2023108420A JP 2023108420 A JP2023108420 A JP 2023108420A JP 2022009542 A JP2022009542 A JP 2022009542A JP 2022009542 A JP2022009542 A JP 2022009542A JP 2023108420 A JP2023108420 A JP 2023108420A
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征太郎 山口
Seitaro Yamaguchi
周平 渡辺
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Abstract

To provide a sheet for workpiece processing capable of preferably executing pickup, and suppressing flying of the chip.SOLUTION: There is provided a sheet for workpiece processing comprising: a substrate; and an adhesive layer laminated on one surface side on the substrate. The adhesive layer is formed of an adhesive composition containing: an acrylic polymer in which an active energy ray-curable group is introduced to a side chain; and an alkylene glycol component which is at least one kind out of polyethylene glycol and polytetramethylene ether glycol and whose number average molecular weight is 200 or greater and 3000 or smaller.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、半導体ウエハ等のワークの加工に使用されるワーク加工用シートに関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a work processing sheet used for processing a work such as a semiconductor wafer.

シリコン、ガリウムヒ素などの半導体ウエハや各種パッケージ類は、大径の状態で製造され、チップに切断(ダイシング)され、剥離(ピックアップ)された後に、次の工程であるマウント工程に移される。この際、半導体ウエハ等のワークは、基材および粘着剤層を備える粘着シート(以下、「ワーク加工用シート」という場合がある。)上に積層された状態で、バックグラインド、ダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンディング、ピックアップ、マウンティング等の加工が行われる。 Semiconductor wafers made of silicon, gallium arsenide, etc. and various types of packages are manufactured in a state of large diameter, cut into chips (diced), separated (picked up), and then transferred to the next process, the mounting process. At this time, the workpiece such as a semiconductor wafer is subjected to back grinding, dicing, cleaning, and the like while being laminated on an adhesive sheet having a base material and an adhesive layer (hereinafter sometimes referred to as a "workpiece processing sheet"). Processing such as drying, expanding, picking up, and mounting is performed.

上記ワーク加工用シートの例として、特許文献1には、所定の成分を含有した粘着剤層を備えるワーク加工用シートが開示されている。特に、特許文献1には、所定のポリオキシプロピレン-グリセリルエーテル(特許文献1の段落0041等)、ポリオキシプロピレン-ジグリセリルエーテル(特許文献1の0044等)またはポリオキシプロピレン-ソルビット(特許文献1の0045等)を含有する粘着剤層を備えるワーク加工用シートが開示されている。 As an example of the work processing sheet, Patent Document 1 discloses a work processing sheet provided with an adhesive layer containing a predetermined component. In particular, Patent Document 1 describes certain polyoxypropylene-glyceryl ether (paragraph 0041 of Patent Document 1, etc.), polyoxypropylene-diglyceryl ether (0044, etc. of Patent Document 1) or polyoxypropylene-sorbit (Patent Document 1). No. 1, 0045, etc.) is disclosed.

特許第5764519号Patent No. 5764519

上述したピックアップを行う工程では、一般的に、チップの裏面側からワーク加工用シート越しにチップを突き上げると同時に、真空コレットで吸引しながらチップを取り上げることが行われる。この際、効率性の観点やチップの破損を抑制する観点から、過度な突き上げや過度な吸引を要せず、チップの取り上げが可能であることが好ましい。特に、近年では、ワークの薄膜化やチップサイズの縮小が進んでいるため、より優れたピックアップ性が求められるようになってきている。しかしながら、特許文献1に開示されるような従来のワーク加工用シートでは、このようなピックアップに関する要求を十分に満たすことができない。 In the pick-up process described above, generally, the chip is pushed up over the work processing sheet from the back side of the chip, and at the same time, the chip is picked up while being sucked by a vacuum collet. At this time, from the viewpoint of efficiency and prevention of damage to the tip, it is preferable that the tip can be picked up without requiring excessive pushing up or excessive suction. In particular, in recent years, as workpieces have become thinner and chip sizes have been reduced, there has been a demand for better pick-up performance. However, the conventional work processing sheet as disclosed in Patent Document 1 cannot sufficiently meet such a demand for pickup.

また、上述したダイシングを行う工程では、形成されたチップが、ダイシングによる衝撃等によってワーク加工用シートから剥がれて飛散する現象(以下、「チップ飛び」という場合がある。)が生じないことが求められる。 In addition, in the above-described dicing process, it is required that the formed chips do not fall off from the work processing sheet and scatter due to the impact of dicing (hereinafter sometimes referred to as "chip flying"). be done.

本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、ピックアップを良好に行うことが可能であるとともに、チップ飛びが生じ難いワーク加工用シートを提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a work processing sheet that enables excellent pick-up and prevents chips from flying.

上記目的を達成するために、第1に本発明は、基材と、前記基材における片面側に積層された粘着剤層とを備えるワーク加工用シートであって、前記粘着剤層が、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体と、ポリエチレングリコールおよびポリテトラメチレンエーテルグリコールの少なくとも1種である、数平均分子量が200以上、3000以下のアルキレングリコール系成分とを含有する粘着剤組成物から形成されたものであることを特徴とするワーク加工用シートを提供する(発明1)。 In order to achieve the above objects, firstly, the present invention provides a work processing sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate, wherein the adhesive layer An acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into the chain, and an alkylene glycol-based component having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less, which is at least one of polyethylene glycol and polytetramethylene ether glycol. Provided is a work processing sheet formed from a pressure-sensitive adhesive composition (Invention 1).

上記発明(発明1)に係るワーク加工用シートは、粘着剤層が、上述したアルキレングリコール系成分を含有する粘着剤組成物から形成されたものであることにより、チップのピックアップの際に、チップに対するワーク加工用シートの密着性が適度に低下するものとなる。さらに、上記粘着剤組成物が側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体を含有することにより、活性エネルギー線の照射によってワーク加工用シートのチップに対する粘着力を低下させることもできる。これらにより、上記ワーク加工用シートでは、過度な突き上げや真空コレットによる過度な吸引を要せず、チップを容易にピックアップすることが可能となる。その一方で、粘着剤層によるチップに対する密着性が過度に低下し過ぎることがないため、ダイシングの際には、ダイシングによる衝撃等が生じた場合であってもチップ飛びが良好に抑制される。 In the work processing sheet according to the invention (invention 1), the adhesive layer is formed from the adhesive composition containing the alkylene glycol-based component described above, so that when the chips are picked up, the chips The adhesion of the work processing sheet to the surface is moderately lowered. Further, the adhesive composition contains an acrylic polymer in which an active energy ray-curable group is introduced into the side chain, so that the adhesive force of the work processing sheet to the chip is reduced by the irradiation of the active energy ray. can also As a result, the workpiece processing sheet does not require excessive pushing up or excessive suction by a vacuum collet, and the chips can be easily picked up. On the other hand, since the adhesion of the adhesive layer to the chips is not excessively lowered, chip flying is well suppressed during dicing even when impact or the like is caused by dicing.

上記発明(発明1)において、前記粘着剤組成物は、前記アルキレングリコール系成分として前記ポリエチレングリコールを含有し、前記ポリエチレングリコールの前記粘着剤組成物中における含有量は、前記側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体100質量部に対して、0.001質量部以上、2質量部以下であることが好ましい(発明2)。 In the above invention (Invention 1), the pressure-sensitive adhesive composition contains the polyethylene glycol as the alkylene glycol-based component, and the content of the polyethylene glycol in the pressure-sensitive adhesive composition is such that the side chain has an active energy ray It is preferably 0.001 parts by mass or more and 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer into which the curable group is introduced (Invention 2).

上記発明(発明1,2)において、前記粘着剤組成物は、前記アルキレングリコール系成分として前記ポリテトラメチレンエーテルグリコールを含有し、前記ポリテトラメチレンエーテルグリコールの前記粘着剤組成物中における含有量は、前記側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体100質量部に対して、0.001質量部以上、10質量部以下であることが好ましい(発明3)。 In the above inventions (inventions 1 and 2), the pressure-sensitive adhesive composition contains the polytetramethylene ether glycol as the alkylene glycol-based component, and the content of the polytetramethylene ether glycol in the pressure-sensitive adhesive composition is It is preferably 0.001 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer having active energy ray-curable groups introduced into the side chains (Invention 3).

上記発明(発明4)に係るワーク加工用シートは、粘着剤層が、上述したポリプロピレングリコールを所定量含有する粘着剤組成物から形成されたものであることにより、チップのピックアップの際に、チップに対するワーク加工用シートの密着性が適度に低下するものとなる。さらに、上記粘着剤組成物が側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体を含有することにより、活性エネルギー線の照射によってワーク加工用シートのチップに対する粘着力を低下させることもできる。これらにより、上記ワーク加工用シートでは、過度な突き上げや真空コレットによる過度な吸引を要せず、チップを容易にピックアップすることが可能となる。その一方で、粘着剤層によるチップに対する密着性が過度に低下し過ぎることがないため、ダイシングの際には、ダイシングによる衝撃等が生じた場合であってもチップ飛びが良好に抑制される。 In the work processing sheet according to the above invention (invention 4), the adhesive layer is formed from the adhesive composition containing a predetermined amount of the polypropylene glycol described above, so that when picking up the chip, the chip The adhesion of the work processing sheet to the surface is moderately lowered. Further, the adhesive composition contains an acrylic polymer in which an active energy ray-curable group is introduced into the side chain, so that the adhesive force of the work processing sheet to the chip is reduced by the irradiation of the active energy ray. can also As a result, the workpiece processing sheet does not require excessive pushing up or excessive suction by a vacuum collet, and the chips can be easily picked up. On the other hand, since the adhesion of the adhesive layer to the chips is not excessively lowered, chip flying is well suppressed during dicing even when impact or the like is caused by dicing.

第2に本発明は、基材と、前記基材における片面側に積層された粘着剤層とを備えるワーク加工用シートであって、前記粘着剤層が、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体と、ポリプロピレングリコールである、数平均分子量が200以上、3000以下のアルキレングリコール系成分とを含有する粘着剤組成物から形成されたものであり、前記アルキレングリコール系成分の前記粘着剤組成物中における含有量は、前記側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体100質量部に対して、0.001質量部以上、2質量部以下であることを特徴とするワーク加工用シートを提供する(発明4)。 The second aspect of the present invention is a work processing sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate, wherein the adhesive layer has an active energy ray-curable group on a side chain. and an acrylic polymer into which is introduced and a pressure-sensitive adhesive composition containing an alkylene glycol-based component having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less, which is polypropylene glycol, and the alkylene glycol-based component The content in the pressure-sensitive adhesive composition is 0.001 parts by mass or more and 2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into the side chain. (Invention 4).

上記発明(発明1~4)において、前記ワーク加工用シートは、ダイシングシートおよびピックアップシートの少なくとも一方として使用されるものであることが好ましい(発明5)。 In the above inventions (inventions 1 to 4), it is preferable that the work processing sheet is used as at least one of a dicing sheet and a pickup sheet (invention 5).

本発明に係るワーク加工用シートによれば、ピックアップを良好に行うことが可能であるとともに、チップ飛びが生じ難い。 According to the work processing sheet of the present invention, it is possible to pick up the workpiece satisfactorily, and chip flying is less likely to occur.

以下、本発明の実施形態について説明する。
本実施形態に係るワーク加工用シートは、基材と、当該基材における片面側に積層された粘着剤層とを備える。
Embodiments of the present invention will be described below.
A work processing sheet according to this embodiment includes a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate.

1.ワーク加工用シートの構成部材
(1)基材
本実施形態における基材としては、ワーク加工用シートの使用の際に所望の機能を発揮するものである限り、特に限定されない。特に、基材は、樹脂系の材料を主材とする樹脂フィルムであることが好ましい。その具体例としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、エチレン-ノルボルネン共重合体フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等のポリオレフィン系フィルム;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム;エチレン-酢酸ビニル共重合体フィルム;エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン-(メタ)アクリル酸メチル共重合体フィルム、その他のエチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム等のエチレン系共重合フィルム;ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルム;(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム;ポリウレタンフィルム;ポリイミドフィルム;ポリスチレンフィルム;ポリカーボネートフィルム;フッ素樹脂フィルムなどが挙げられる。また、これらの架橋フィルム、アイオノマーフィルムといった変性フィルムも用いられる。また、基材は、上述したフィルムが複数積層されてなる積層フィルムであってもよい。この積層フィルムにおいて、各層を構成する材料は同種であってもよく、異種であってもよい。
1. Structural Members of Work Processing Sheet (1) Base Material The base material in the present embodiment is not particularly limited as long as it exhibits the desired functions when the work processing sheet is used. In particular, the base material is preferably a resin film containing a resin-based material as a main material. Specific examples thereof include polyolefin films such as polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, ethylene-norbornene copolymer film, norbornene resin film; polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyethylene Polyester film such as naphthalate; ethylene-vinyl acetate copolymer film; ethylene-(meth)acrylic acid copolymer film, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer film, other ethylene-(meth)acrylic Ethylene copolymer films such as acid ester copolymer films; polyvinyl chloride films such as polyvinyl chloride films and vinyl chloride copolymer films; (meth)acrylic acid ester copolymer films; polyurethane films; polyimide films; polystyrene film; polycarbonate film; fluorine resin film; Modified films such as these crosslinked films and ionomer films are also used. Further, the base material may be a laminated film formed by laminating a plurality of films described above. In this laminated film, the materials constituting each layer may be of the same type or of different types.

上記の中でも、ポリオレフィン系フィルムおよびエチレン系共重合フィルムの少なくとも一種を使用することが好ましく、特にエチレン-(メタ)アクリル酸共重合体フィルムを使用することが好ましい。なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語についても同様である。また、本明細書における「重合体」は「共重合体」の概念も含むものとする。 Among the above, it is preferable to use at least one of polyolefin film and ethylene copolymer film, and it is particularly preferable to use ethylene-(meth)acrylic acid copolymer film. In addition, "(meth)acrylic acid" in this specification means both acrylic acid and methacrylic acid. The same is true for other similar terms. In addition, the term "polymer" used herein also includes the concept of "copolymer".

基材は、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、酸化防止剤、着色剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、イオン捕捉剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤の含有量としては、特に限定されないものの、基材が所望の機能を発揮する範囲とすることが好ましい。 The substrate may contain various additives such as flame retardants, plasticizers, antistatic agents, lubricants, antioxidants, colorants, infrared absorbers, ultraviolet absorbers, and ion scavengers. Although the content of these additives is not particularly limited, it is preferably within a range in which the base material exhibits the desired functions.

基材の粘着剤層が積層される面には、粘着剤層との密着性を高めるために、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理が施されてもよい。 The surface of the base material on which the pressure-sensitive adhesive layer is to be laminated may be subjected to surface treatment such as primer treatment, corona treatment, plasma treatment, etc., in order to enhance adhesion with the pressure-sensitive adhesive layer.

基材の厚さは、ワーク加工用シートが使用される方法に応じて適宜設定できるものの、例えば、200μm以下であることが好ましく、特に150μm以下であることが好ましい。また、基材の厚さは、10μm以上であることが好ましく、特に25μm以上であることが好ましい。 The thickness of the base material can be appropriately set according to the method in which the work processing sheet is used, but is preferably, for example, 200 μm or less, and particularly preferably 150 μm or less. Moreover, the thickness of the substrate is preferably 10 μm or more, and particularly preferably 25 μm or more.

(2)粘着剤層
本実施形態における粘着剤層は、一つの態様として、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体と、ポリエチレングリコールおよびポリテトラメチレンエーテルグリコールの少なくとも1種である、数平均分子量が200以上、3000以下のアルキレングリコール系成分とを含有する粘着剤組成物から形成されたものである。
(2) Adhesive layer The adhesive layer in the present embodiment is, as one aspect, an acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into a side chain, and at least one of polyethylene glycol and polytetramethylene ether glycol. It is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing a seed, an alkylene glycol component having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less.

また、本実施形態における粘着剤層は、別の態様として、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体と、ポリプロピレングリコールである、数平均分子量が200以上、3000以下のアルキレングリコール系成分とを含有する粘着剤組成物から形成されたものであり、且つ、当該アルキレングリコール系成分の粘着剤組成物中における含有量は、上記アクリル系重合体100質量部に対して、0.001質量部以上、2質量部以下となっている。 In another aspect, the pressure-sensitive adhesive layer in the present embodiment is composed of an acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into a side chain and polypropylene glycol having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less. The content of the alkylene glycol-based component in the adhesive composition is, with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer, It is 0.001 parts by mass or more and 2 parts by mass or less.

本実施形態に係るワーク加工用シートは、粘着剤層が上述した粘着剤組成物から形成されていることにより、良好にピックアップを行うことが可能となる。特に、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体が使用されていることにより、粘着剤層が活性エネルギー線硬化性を示すものとなる。そのため、粘着剤層に対して活性エネルギー線を照射して、ワークに対する粘着力を良好に低下させることができる。さらに、上述したアルキレングリコール系成分が使用されていることによっても粘着剤層とワークとの密着性が適度に低下する。これらの結果、本実施形態に係るワーク加工用シートでは、ワークのピックアップが容易となり、ピックアップ不良によるワークの破損や、生産効率の低下を抑制することができる。 Since the adhesive layer of the work processing sheet according to the present embodiment is formed from the above-described adhesive composition, it is possible to perform good pickup. In particular, by using an acrylic polymer having active energy ray-curable groups introduced into side chains, the pressure-sensitive adhesive layer exhibits active energy ray-curable properties. Therefore, by irradiating the adhesive layer with an active energy ray, it is possible to favorably reduce the adhesive force to the work. Furthermore, the adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer and the workpiece moderately decreases due to the use of the above-mentioned alkylene glycol-based component. As a result, with the work processing sheet according to the present embodiment, it is possible to easily pick up the work, and it is possible to suppress damage to the work and decrease in production efficiency due to pick-up failure.

特に、本実施形態におけるアルキレングリコール系成分は、上述の通り、ポリエチレングリコールおよびポリテトラメチレンエーテルグリコールの少なくとも1種であるか、または数平均分子量が200以上、3000以下のポリプロピレングリコールである。このようなアルキレングリコール系成分を使用することにより、粘着剤層とワークとの密着性を適度に低下させ易くなり、良好なピックアップが可能となる。なお、ポリプロピレングリコールには酸化劣化し易いものもあり、そのようなポリプロピレングリコールを使用したワーク加工用シートは、長期保存性に劣り、本来の性能が低下して、所望のピックアップ性が得られないという問題がある。しかしながら、本実施形態で使用されるポリエチレングリコールおよびポリテトラメチレンエーテルグリコール、および数平均分子量が200以上、3000以下のポリプロピレングリコールは、そのような問題を回避することができる。 In particular, the alkylene glycol-based component in the present embodiment is, as described above, at least one of polyethylene glycol and polytetramethylene ether glycol, or polypropylene glycol having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less. By using such an alkylene glycol-based component, the adhesiveness between the pressure-sensitive adhesive layer and the workpiece can be moderately lowered, and good pick-up can be achieved. Some polypropylene glycols are prone to oxidative deterioration, and work processing sheets using such polypropylene glycols are inferior in long-term storage stability, their inherent performance is lowered, and desired pick-up properties cannot be obtained. There is a problem. However, polyethylene glycol and polytetramethylene ether glycol used in the present embodiment, and polypropylene glycol having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less can avoid such problems.

さらに、上述した粘着剤組成物から形成された粘着剤層は、チップに対する粘着剤層の密着性が過度に低下したものとはならないため、形成されたチップの意図しない脱離を良好に抑制することができる。特に、ダイシングの際に、ダイシングブレードがウエハやワーク加工用シートと接触して衝撃が生じる場合であっても、チップのワーク加工用シートからの脱離、すなわちチップ飛びを良好に抑制することができる。 Furthermore, since the adhesive layer formed from the above-described adhesive composition does not excessively deteriorate the adhesiveness of the adhesive layer to the chip, it is possible to effectively suppress unintended detachment of the formed chip. be able to. In particular, even when the dicing blade comes into contact with the wafer or the work processing sheet during dicing and impact is generated, the detachment of the chip from the work processing sheet, that is, the chip flying can be suppressed satisfactorily. can.

また、本実施形態におけるアルキレングリコール系成分は、上述の通り、数平均分子量が200以上、3000以下である。特に、数平均分子量が3000以下であるアルキレングリコール系成分は、溶媒に良好に溶解し、それにより、所望の粘着剤組成物の塗布液を得ることができる。そして、当該塗布液を使用することで、所望の厚さおよび平滑性を有する粘着剤層の形成が可能となる。なお、上述した数平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 Further, the alkylene glycol-based component in the present embodiment has a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less as described above. In particular, an alkylene glycol-based component having a number average molecular weight of 3,000 or less dissolves well in a solvent, thereby making it possible to obtain a desired adhesive composition coating liquid. By using the coating liquid, it is possible to form a pressure-sensitive adhesive layer having a desired thickness and smoothness. In addition, the number average molecular weight (Mw) mentioned above is the value of standard polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography method (GPC method).

(2-1)側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体
本実施形態における側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体(以下「活性エネルギー線硬化性重合体(A)」という場合がある。)としては、特に限定されず、例えば、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(a1)と、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物(a2)とを反応させて得られるものであることが好ましい。
(2-1) Acrylic polymer having active energy ray-curable groups introduced into side chains Acrylic polymers having active energy ray-curable groups introduced into side chains in the present embodiment (hereinafter “active energy ray-curable is not particularly limited, and for example, an acrylic copolymer (a1) having a functional group-containing monomer unit and a functional group that binds to the functional group It is preferably obtained by reacting with the unsaturated group-containing compound (a2).

上記アクリル系共重合体(a1)は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、(メタ)アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とを含むことが好ましい。 The acrylic copolymer (a1) preferably contains a structural unit derived from a functional group-containing monomer and a structural unit derived from a (meth)acrylic acid ester monomer or a derivative thereof.

アクリル系共重合体(a1)の構成単位としての官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーであることが好ましい。 The functional group-containing monomer as a structural unit of the acrylic copolymer (a1) has a polymerizable double bond and a functional group such as a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, a substituted amino group, an epoxy group, etc. in the molecule. is preferably a monomer having

ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらは単独でまたは2種以上を組み合わせて用いられる。 Examples of hydroxy group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl ( meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Carboxy group-containing monomers include, for example, ethylenically unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, and citraconic acid. These may be used alone or in combination of two or more.

アミノ基含有モノマーまたは置換アミノ基含有モノマーとしては、例えば、アミノエチル(メタ)アクリレート、n-ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of amino group-containing monomers or substituted amino group-containing monomers include aminoethyl (meth)acrylate and n-butylaminoethyl (meth)acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系共重合体(a1)が上記官能基含有モノマーを含む場合、アクリル系共重合体(a1)中における上記官能基含有モノマー由来の構造部分の質量の割合は、5質量%以上であることが好ましく、特に10質量%以上であることが好ましく、さらには15質量%以上であることが好ましい。また上記割合は、45質量%以下であることが好ましく、特に40質量%以下であることが好ましく、さらには35質量%以下であることが好ましい。官能基含有モノマー由来の構造部分の割合が上記範囲であることにより、不飽和基含有化合物(a2)の導入量を好適な範囲に調整し易くなる。 When the acrylic copolymer (a1) contains the functional group-containing monomer, the mass ratio of the structural portion derived from the functional group-containing monomer in the acrylic copolymer (a1) is 5% by mass or more. is preferred, particularly preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more. The above proportion is preferably 45% by mass or less, particularly preferably 40% by mass or less, and further preferably 35% by mass or less. When the ratio of the structural portion derived from the functional group-containing monomer is within the above range, it becomes easier to adjust the introduction amount of the unsaturated group-containing compound (a2) to a suitable range.

アクリル系共重合体(a1)を構成する(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、アルキル基の炭素数が1~20であるアルキル(メタ)アクリレート等が好ましく用いられる。 As the (meth)acrylic acid ester monomer constituting the acrylic copolymer (a1), an alkyl (meth)acrylate having an alkyl group with 1 to 20 carbon atoms is preferably used.

アルキル(メタ)アクリレートとしては、特にアルキル基の炭素数が1~18であるアルキル(メタ)アクリレート、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等が好ましく用いられる。これらは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of alkyl (meth)acrylates include alkyl (meth)acrylates in which the alkyl group has 1 to 18 carbon atoms, such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, n-butyl ( Meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate and the like are preferably used. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

アクリル系共重合体(a1)が上記(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含む場合、アクリル系共重合体(a1)中における上記(メタ)アクリル酸エステルモノマー由来の構造部分の質量の割合は、55質量%以上であることが好ましく、特に60質量%以上であることが好ましく、さらには65質量%以上であることが好ましい。また上記割合は、95質量%以下であることが好ましく、特に90質量%以下であることが好ましく、さらには85質量%以下であることが好ましい。(メタ)アクリル酸エステルモノマー由来の構造部分の割合が上記範囲であることにより、所望の粘着力を発揮し易いものとなる。 When the acrylic copolymer (a1) contains the (meth)acrylic acid ester monomer, the mass ratio of the structural portion derived from the (meth)acrylic acid ester monomer in the acrylic copolymer (a1) is 55. It is preferably at least 60% by mass, more preferably at least 65% by mass. The above proportion is preferably 95% by mass or less, particularly preferably 90% by mass or less, and further preferably 85% by mass or less. When the ratio of the structural portion derived from the (meth)acrylic acid ester monomer is within the above range, the desired adhesive strength can be easily exhibited.

上記アクリル系共重合体(a1)は、以上説明したモノマー以外の成分を構成モノマーとして含んでいてもよく、例えば、ジメチルアクリルアミド、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン、脂環式構造を有するモノマー等を含んでいてもよい。 The acrylic copolymer (a1) may contain components other than the monomers described above as constituent monomers, such as dimethylacrylamide, vinyl formate, vinyl acetate, styrene, and monomers having an alicyclic structure. may contain.

上記官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体(a1)を、その官能基に結合する官能基を有する不飽和基含有化合物(a2)と反応させることにより、活性エネルギー線硬化性重合体(A)が得られる。 An active energy ray-curable polymer ( A) is obtained.

不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基は、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基がヒドロキシ基、アミノ基または置換アミノ基の場合、不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基としてはイソシアネート基またはエポキシ基が好ましく、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基がエポキシ基の場合、不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基としてはアミノ基、カルボキシ基またはアジリジニル基が好ましい。 The functional group of the unsaturated group-containing compound (a2) can be appropriately selected according to the type of functional group of the functional group-containing monomer unit of the acrylic copolymer (a1). For example, when the functional group possessed by the acrylic copolymer (a1) is a hydroxy group, an amino group or a substituted amino group, the functional group possessed by the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably an isocyanate group or an epoxy group. When the functional group possessed by the system copolymer (a1) is an epoxy group, the functional group possessed by the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably an amino group, a carboxyl group or an aziridinyl group.

また、上記不飽和基含有化合物(a2)には、エネルギー線重合性の炭素-炭素二重結合が、1分子中に少なくとも1個、好ましくは1~6個、さらに好ましくは1~4個含まれている。このような不飽和基含有化合物(a2)の具体例としては、例えば、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ-イソプロペニル-α,α-ジメチルベンジルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、1,1-(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物;ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸、2-(1-アジリジニル)エチル(メタ)アクリレート、2-ビニル-2-オキサゾリン、2-イソプロペニル-2-オキサゾリン等が挙げられる。 In addition, the unsaturated group-containing compound (a2) contains at least 1, preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4 energy ray-polymerizable carbon-carbon double bonds per molecule. is Specific examples of such unsaturated group-containing compounds (a2) include, for example, 2-(meth)acryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate, (meth)acryloyl isocyanate, and allyl isocyanate. , 1,1-(bisacryloyloxymethyl)ethyl isocyanate; a diisocyanate compound or polyisocyanate compound, an acryloyl monoisocyanate compound obtained by reacting hydroxyethyl (meth)acrylate; a diisocyanate compound or polyisocyanate compound, and a polyol compound , acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction with hydroxyethyl (meth) acrylate; glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, 2-(1-aziridinyl) ethyl (meth) acrylate, 2-vinyl-2-oxazoline , 2-isopropenyl-2-oxazoline and the like.

上記不飽和基含有化合物(a2)の量は、上記アクリル系共重合体(a1)が有する官能基の量にして、40モル%以上であることが好ましく、特に50モル%以上であることが好ましい。また、上記不飽和基含有化合物(a2)の量は、上記アクリル系共重合体(a1)が有する官能基の量にして、99モル%以下であることが好ましく、特に95%以下であることが好ましく、さらには90モル%以下であることが好ましい。 The amount of the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably 40 mol% or more, particularly 50 mol% or more, based on the amount of functional groups possessed by the acrylic copolymer (a1). preferable. In addition, the amount of the unsaturated group-containing compound (a2) is preferably 99 mol% or less, particularly 95% or less, based on the amount of functional groups possessed by the acrylic copolymer (a1). is preferred, and more preferably 90 mol % or less.

アクリル系共重合体(a1)と不飽和基含有化合物(a2)との反応においては、アクリル系共重合体(a1)が有する官能基と不飽和基含有化合物(a2)が有する官能基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体(a1)中に存在する官能基と、不飽和基含有化合物(a2)中の官能基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体(a1)中の側鎖に導入され、エネルギー線硬化型重合体(A)が得られる。 In the reaction between the acrylic copolymer (a1) and the unsaturated group-containing compound (a2), the functional group of the acrylic copolymer (a1) and the functional group of the unsaturated group-containing compound (a2) Depending on the combination, reaction temperature, pressure, solvent, time, the presence or absence of a catalyst, and the type of catalyst can be appropriately selected. As a result, the functional groups present in the acrylic copolymer (a1) react with the functional groups in the unsaturated group-containing compound (a2), and the unsaturated groups in the acrylic copolymer (a1) It is introduced into the side chain to obtain the energy ray-curable polymer (A).

特に、アクリル系共重合体(a1)と不飽和基含有化合物(a2)との反応に使用される触媒としては、有機錫化合物、ジルコニウム錯体、亜鉛錯体およびジルコニウム含有金属石鹸から選択される少なくとも1種の有機金属触媒の存在下で行うことが好ましい。このような有機金属触媒が使用されることにより、粘着剤層と基材とが優れた密着性を示し易いものとなり、使用時等における基材と粘着剤層との分離を抑制し易くなる。 In particular, the catalyst used for the reaction between the acrylic copolymer (a1) and the unsaturated group-containing compound (a2) is at least one selected from organic tin compounds, zirconium complexes, zinc complexes and zirconium-containing metal soaps. It is preferably carried out in the presence of an organometallic catalyst of some kind. By using such an organometallic catalyst, the pressure-sensitive adhesive layer and the base material can easily exhibit excellent adhesion, and the separation of the base material and the pressure-sensitive adhesive layer during use can be easily suppressed.

上記有機錫化合物の例としては、ジブチル錫ジラウレート(DBTDL)、ジオクチル錫ジラウレート(DOTDL)、ジブチル錫ジアセテート(DBTDA)、ジオクチル錫ジアセテート(DOTDA)、ジオクチル錫マレート(DOTM)、ジブチル錫マレート(DBTM)等が挙げられる。これらの中でも、ジブチル錫ジラウレート(DBTDL)を使用することが好ましい。 Examples of the above organotin compounds include dibutyltin dilaurate (DBTDL), dioctyltin dilaurate (DOTDL), dibutyltin diacetate (DBTDA), dioctyltin diacetate (DOTDA), dioctyltin maleate (DOTTM), dibutyltin maleate ( DBTM) and the like. Among these, it is preferable to use dibutyltin dilaurate (DBTDL).

上記有機金属触媒として有機錫化合物を使用する場合、粘着性組成物中における有機錫化合物の含有量は、アクリル系共重合体(a1)を構成するモノマーの総量100質量部に対して、0.001質量部以上であることが好ましく、特に0.01質量部以上であることが好ましく、さらには0.02質量部以上であることが好ましい。また、当該含有量は、0.13質量部未満であることが好ましく、特に0.1質量部以下であることが好ましく、さらには0.07質量部以下であることが好ましい。 When an organic tin compound is used as the organometallic catalyst, the content of the organic tin compound in the adhesive composition is 0.00 parts per 100 parts by mass of the total amount of monomers constituting the acrylic copolymer (a1). 001 parts by mass or more, particularly preferably 0.01 parts by mass or more, and more preferably 0.02 parts by mass or more. Also, the content is preferably less than 0.13 parts by mass, particularly preferably 0.1 parts by mass or less, and more preferably 0.07 parts by mass or less.

このようにして得られる活性エネルギー線硬化性重合体(A)の重量平均分子量(Mw)は、10万以上であることが好ましく、特に20万以上であることが好ましく、さらには30万以上であることが好ましい。また、当該重量平均分子量(Mw)は、120万以下であることが好ましく、特に100万以下であることが好ましく、さらには80万以下であることが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 The weight average molecular weight (Mw) of the active energy ray-curable polymer (A) thus obtained is preferably 100,000 or more, particularly preferably 200,000 or more, further preferably 300,000 or more. Preferably. Also, the weight average molecular weight (Mw) is preferably 1,200,000 or less, particularly preferably 1,000,000 or less, and further preferably 800,000 or less. In addition, the weight average molecular weight (Mw) in this specification is the value of standard polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography method (GPC method).

(2-2)アルキレングリコール系成分
本実施形態におけるアルキレングリコール系成分は、前述の通り、ポリエチレングリコールおよびポリテトラメチレンエーテルグリコールの少なくとも1種であるか、またはポリプロピレングリコールである。なお、本実施形態におけるアルキレングリコール系成分が有する官能基(末端に存在するヒドロキシ基)の数は、2個となる。
(2-2) Alkylene Glycol-Based Component As described above, the alkylene glycol-based component in the present embodiment is at least one of polyethylene glycol and polytetramethylene ether glycol, or polypropylene glycol. The number of functional groups (hydroxy groups present at the terminals) of the alkylene glycol-based component in the present embodiment is two.

また、本実施形態におけるアルキレングリコール系成分は、前述の通り、数平均分子量が200以上、3000以下である。当該数平均分子量は、特に250以上であることが好ましく、さらには300以上であることが好ましい。また、上記数平均分子量は、2200以下であることがより好ましく、特に2000以下であることが好ましく、さらには1000以下であることが好ましい。 Further, the alkylene glycol-based component in the present embodiment has a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less as described above. The number average molecular weight is preferably 250 or more, more preferably 300 or more. Further, the number average molecular weight is more preferably 2,200 or less, particularly preferably 2,000 or less, further preferably 1,000 or less.

本実施形態における粘着剤組成物が、アルキレングリコール系成分としてポリエチレングリコールを含有する場合、当該ポリエチレングリコールの粘着剤組成物中における含有量は、活性エネルギー線硬化性重合体(A)100質量部に対して、0.001質量部以上であることが好ましく、特に0.005質量部以上であることが好ましく、さらには0.01質量部以上であることが好ましい。また、当該含有量は、2質量部以下であることが好ましく、特に1質量部以下であることが好ましく、さらには0.5質量部以下であることが好ましい。ポリエチレングリコールの含有量が上記範囲であることで、活性エネルギー線照射前においてはチップ飛びを良好に抑制しながらも、活性エネルギー線照射後において粘着力を十分低下させ易くなり、その結果、より良好なピックアップを行い易くなる。 When the pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment contains polyethylene glycol as an alkylene glycol-based component, the content of the polyethylene glycol in the pressure-sensitive adhesive composition is 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A). On the other hand, it is preferably 0.001 parts by mass or more, particularly preferably 0.005 parts by mass or more, further preferably 0.01 parts by mass or more. Also, the content is preferably 2 parts by mass or less, particularly preferably 1 part by mass or less, and further preferably 0.5 parts by mass or less. When the content of polyethylene glycol is within the above range, it is possible to satisfactorily suppress chip flying before irradiation with active energy rays, while the adhesive force is easily reduced sufficiently after irradiation with active energy rays, resulting in a better result. It becomes easier to perform a good pickup.

また、本実施形態における粘着剤組成物が、アルキレングリコール系成分としてポリテトラメチレンエーテルグリコールを含有する場合、当該ポリテトラメチレンエーテルグリコールの粘着剤組成物中における含有量は、活性エネルギー線硬化性重合体(A)100質量部に対して、0.001質量部以上であることが好ましく、特に0.05質量部以上であることが好ましく、さらには0.1質量部以上であることが好ましい。また、当該含有量は、10質量部以下であることが好ましく、特に8質量部以下であることが好ましく、さらには6質量部以下であることが好ましい。ポリテトラメチレンエーテルグリコールの含有量が上記範囲であることで、活性エネルギー線照射前においてはチップ飛びを良好に抑制しながらも、活性エネルギー線照射後において粘着力を十分低下させ易くなり、その結果、より良好なピックアップを行い易くなる。 Further, when the pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment contains polytetramethylene ether glycol as an alkylene glycol-based component, the content of the polytetramethylene ether glycol in the pressure-sensitive adhesive composition is It is preferably 0.001 parts by mass or more, particularly preferably 0.05 parts by mass or more, and further preferably 0.1 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of coalescence (A). Moreover, the content is preferably 10 parts by mass or less, particularly preferably 8 parts by mass or less, and further preferably 6 parts by mass or less. When the content of the polytetramethylene ether glycol is within the above range, it is possible to satisfactorily suppress chip flying before irradiation with active energy rays, and at the same time, it becomes easy to sufficiently reduce adhesive strength after irradiation with active energy rays. , which facilitates better pickup.

本実施形態における粘着剤組成物が、ポリプロピレングリコールを含有する場合、当該ポリプロピレングリコールの粘着剤組成物中における含有量は、活性エネルギー線硬化性重合体(A)100質量部に対して、0.001質量部以上、2質量部以下である。チップ飛びおよびピックアップ性をより高い次元で両立し易くなる観点からは、上記含有量は、0.005質量部以上であることが好ましく、特に0.01質量部以上であることが好ましい。また、同様の観点から、当該含有量は、1質量部以下であることが好ましく、特に0.5質量部以下であることが好ましい。 When the pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment contains polypropylene glycol, the content of the polypropylene glycol in the pressure-sensitive adhesive composition is 0.00 per 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A). 001 parts by mass or more and 2 parts by mass or less. From the viewpoint of facilitating compatibility between chip flying and pick-up performance at a higher level, the content is preferably 0.005 parts by mass or more, and particularly preferably 0.01 parts by mass or more. Also, from the same viewpoint, the content is preferably 1 part by mass or less, and particularly preferably 0.5 parts by mass or less.

(2-3)架橋剤
本実施形態における粘着剤組成物は、架橋剤を含有することが好ましい。粘着剤組成物が架橋剤を含有することにより、粘着剤層において、活性エネルギー線硬化性重合体(A)が架橋し、良好な三次元網目構造を形成することが可能となる。これにより、得られる粘着剤の凝集力がより向上し、活性エネルギー線の照射後にワーク加工用シートから分離されたワークにおいて、糊残りの発生を効果的に抑制することができる。なお、粘着剤組成物が架橋剤を含有する場合には、アクリル系共重合体(a1)は、重合体を構成するモノマー単位として、上述した官能基含有モノマーを含有することが好ましく、特に、使用する架橋剤との反応性の高い官能基を有する官能基含有モノマーを含有することが好ましい。
(2-3) Crosslinking agent The pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment preferably contains a crosslinking agent. When the pressure-sensitive adhesive composition contains a cross-linking agent, the active energy ray-curable polymer (A) can be cross-linked in the pressure-sensitive adhesive layer to form a good three-dimensional network structure. As a result, the cohesive force of the resulting pressure-sensitive adhesive is further improved, and it is possible to effectively suppress the occurrence of adhesive residue on the workpiece separated from the workpiece processing sheet after irradiation with the active energy ray. In addition, when the pressure-sensitive adhesive composition contains a cross-linking agent, the acrylic copolymer (a1) preferably contains the functional group-containing monomer described above as a monomer unit constituting the polymer. It is preferable to contain a functional group-containing monomer having a highly reactive functional group with the cross-linking agent used.

上記架橋剤の例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アミン系架橋剤、メラミン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、ヒドラジン系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、アンモニウム塩系架橋剤等が挙げられる。これらの架橋剤は、アクリル系共重合体が有する、官能基含有モノマー由来の官能基に応じて選択することができる。なお、これらの架橋剤は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。 Examples of the above-mentioned cross-linking agents include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, amine-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, hydrazine-based cross-linking agents, aldehyde-based cross-linking agents, oxazoline-based cross-linking agents, and metal alkoxides. cross-linking agents, metal chelate-based cross-linking agents, metal salt-based cross-linking agents, ammonium salt-based cross-linking agents, and the like. These cross-linking agents can be selected according to the functional group derived from the functional group-containing monomer that the acrylic copolymer has. In addition, these crosslinking agents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

イソシアネート系架橋剤は、少なくともポリイソシアネート化合物を含むものである。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ポリイソシアネートなど、及びそれらのビウレット体、イソシアヌレート体、さらにはエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパン変性の芳香族ポリイソシアネート、特にトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネートが好ましい。 The isocyanate-based cross-linking agent contains at least a polyisocyanate compound. Examples of polyisocyanate compounds include aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate; and alicyclic polyisocyanates such as isophorone diisocyanate and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate. , and their biuret, isocyanurate, and adducts which are reaction products with low-molecular-weight active hydrogen-containing compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, and castor oil. Among these, trimethylolpropane-modified aromatic polyisocyanate, particularly trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate is preferable.

本実施形態における粘着剤組成物が架橋剤を含有する場合、粘着剤組成物中における架橋剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性重合体(A)100質量部に対して、0.1質量部以上であることが好ましく、特に0.5質量部以上であることが好ましく、さらには1質量部以上であることが好ましい。また、当該含有量は、20質量部以下であることが好ましく、特に5質量部以下であることが好ましい。架橋剤の含有量が0.1質量部以上であることで、活性エネルギー線の照射後における粘着剤層の凝集力を向上させ易くなり、それによって、糊残りを効果的に抑制することが可能となる。また、架橋剤の含有量が20質量部以下であることで、架橋の程度が適度なものとなり、粘着剤層が所望の粘着力を発揮し易くなる。 When the pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment contains a cross-linking agent, the content of the cross-linking agent in the pressure-sensitive adhesive composition is 0.1 mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A). It is preferably at least 1 part by mass, particularly preferably at least 0.5 part by mass, further preferably at least 1 part by mass. Moreover, the content is preferably 20 parts by mass or less, and particularly preferably 5 parts by mass or less. When the content of the cross-linking agent is 0.1 parts by mass or more, it becomes easier to improve the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer after irradiation with active energy rays, thereby effectively suppressing adhesive residue. becomes. In addition, when the content of the cross-linking agent is 20 parts by mass or less, the degree of cross-linking becomes appropriate, and the pressure-sensitive adhesive layer easily exhibits desired adhesive strength.

(2-4)光重合開始剤
本実施形態における粘着剤組成物は、光重合開始剤を含有することが好ましい。粘着剤組成物が光重合開始剤を含有することにより、活性エネルギー線を照射して粘着剤層を硬化させる際の重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。
(2-4) Photopolymerization Initiator The adhesive composition in the present embodiment preferably contains a photopolymerization initiator. By including a photopolymerization initiator in the pressure-sensitive adhesive composition, it is possible to reduce the polymerization curing time and the amount of light irradiation when the pressure-sensitive adhesive layer is cured by irradiation with active energy rays.

光重合開始剤の例としては、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、2,4-ジエチルチオキサンソン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β-クロールアンスラキノン、(2,4,6-トリメチルベンジルジフェニル)フォスフィンオキサイド、2-ベンゾチアゾール-N,N-ジエチルジチオカルバメート、オリゴ{2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-プロペニル)フェニル]プロパノン}、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オンなどが挙げられる。これらの中でも、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オンを使用することが好ましい。上述した光重合開始剤は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of photoinitiators include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin methyl benzoate, benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethylthio xanthone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, benzyldiphenylsulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone, (2,4,6-trimethylbenzyldiphenyl) phosphine oxide, 2-benzothiazole-N,N-diethyldithiocarbamate, oligo{2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-propenyl)phenyl]propanone}, 2,2-dimethoxy-1, 2-diphenylethan-1-one, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one and the like be done. Among these, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one is preferably used. The photopolymerization initiators described above may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

本実施形態における粘着剤組成物が光重合開始剤を含有する場合、粘着剤組成物中における光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性重合体(A)100質量部に対して、0.1質量部以上であることが好ましく、特に1質量部以上であることが好ましい。また、当該含有量は、10質量部以下であることが好ましく、特に5質量部以下であることが好ましい。光重合開始剤の含有量が上記範囲であることで、活性エネルギー線の照射によって、粘着剤層を効率良く硬化させることができ、それにより、被着体に対するワーク加工用シートの粘着力を良好に低下させ易くなる。 When the pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment contains a photopolymerization initiator, the content of the photopolymerization initiator in the pressure-sensitive adhesive composition is, relative to 100 parts by mass of the active energy ray-curable polymer (A), It is preferably 0.1 parts by mass or more, particularly preferably 1 part by mass or more. Also, the content is preferably 10 parts by mass or less, particularly preferably 5 parts by mass or less. When the content of the photopolymerization initiator is within the above range, the adhesive layer can be efficiently cured by irradiation with active energy rays, thereby improving the adhesive strength of the work processing sheet to the adherend. It becomes easy to lower to

(2-5)その他の成分
本実施形態における粘着剤組成物は、本実施形態に係るワーク加工用シートによる前述した効果を損なわない限り、所望の添加剤、例えばシランカップリング剤、帯電防止剤、粘着付与剤、酸化防止剤、光安定剤、軟化剤、充填剤、屈折率調整剤などを添加することができる。
(2-5) Other components The pressure-sensitive adhesive composition in the present embodiment contains desired additives, such as silane coupling agents and antistatic agents, as long as they do not impair the above-described effects of the work processing sheet according to the present embodiment. , tackifiers, antioxidants, light stabilizers, softeners, fillers, refractive index modifiers and the like can be added.

(2-6)粘着剤組成物の調製方法
本実施形態における粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化性重合体(A)を製造し、得られた当該活性エネルギー線硬化性重合体(A)と、アルキレングリコール系成分と、所望により、架橋剤と、光重合開始剤と、添加剤とを混合することで製造することができる。このとき、所望により希釈溶剤を添加して、粘着性組成物の塗布液を得てもよい。
(2-6) Method for preparing an adhesive composition The adhesive composition in the present embodiment is obtained by producing an active energy ray-curable polymer (A) and obtaining the active energy ray-curable polymer (A). , an alkylene glycol-based component, and, if desired, a cross-linking agent, a photopolymerization initiator, and an additive. At this time, if desired, a diluent solvent may be added to obtain a coating liquid of the adhesive composition.

上記希釈溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、1-メトキシ-2-プロパノール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2-ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤などが用いられる。 Examples of the diluting solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride; Alcohols such as 1-methoxy-2-propanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, isophorone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and cellosolve solvents such as ethyl cellosolve are used.

このようにして調製された塗布液の濃度・粘度としては、コーティング可能な範囲であれば特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。例えば、粘着性組成物の濃度が10質量%以上、60質量%以下となるように希釈する。なお、塗布液を得るに際して、希釈溶剤等の添加は必要条件ではなく、粘着性組成物がコーティング可能な粘度等であれば、希釈溶剤を添加しなくてもよい。この場合、粘着性組成物は、アクリル系共重合体(a1)の重合溶媒をそのまま希釈溶剤とする塗布液となる。 The concentration and viscosity of the coating liquid prepared in this manner are not particularly limited as long as they are within a range that allows coating, and can be appropriately selected according to the situation. For example, it is diluted so that the concentration of the adhesive composition is 10% by mass or more and 60% by mass or less. When obtaining the coating liquid, the addition of a diluent solvent or the like is not a necessary condition, and the diluent solvent may not be added as long as the viscosity of the adhesive composition allows coating. In this case, the adhesive composition becomes a coating liquid in which the polymerization solvent for the acrylic copolymer (a1) is used as the diluting solvent.

(2-7)粘着剤層の厚さ
本実施形態における粘着剤層の厚さは、1μm以上であることが好ましく、特に3μm以上であることが好ましく、さらには5μm以上であることが好ましい。粘着剤層の厚さが1μm以上であることで、ワーク加工用シートが良好な粘着力を発揮し易くなり、チップ飛びをより抑制し易くなる。また、当該厚さは、50μm以下であることが好ましく、特に30μm以下であることが好ましく、さらには20μm以下であることが好ましい。粘着剤層の厚さが30μm以下であることで、ワークのピックアップをより良好に行い易くなる。
(2-7) Thickness of Adhesive Layer The thickness of the adhesive layer in the present embodiment is preferably 1 μm or more, particularly preferably 3 μm or more, further preferably 5 μm or more. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 μm or more, the work processing sheet can easily exhibit good adhesive strength, and chip flying can be more easily suppressed. Moreover, the thickness is preferably 50 μm or less, particularly preferably 30 μm or less, further preferably 20 μm or less. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 30 μm or less, it becomes easier to pick up the workpiece.

(3)剥離シート
本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における基材とは反対側の面(以下、「粘着面」という場合がある。)をワークに貼付するまでの間、当該面を保護する目的で、当該面に剥離シートが積層されていてもよい。
(3) Release sheet In the work processing sheet according to the present embodiment, until the surface of the adhesive layer opposite to the base material (hereinafter sometimes referred to as "adhesive surface") is attached to the work, A release sheet may be laminated on the surface for the purpose of protecting the surface.

上記剥離シートの構成は任意であり、プラスチックフィルムを剥離剤等により剥離処理したものが例示される。当該プラスチックフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。上記剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル、ゴム系等を用いることができ、これらの中でも、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。 The configuration of the release sheet is arbitrary, and an example thereof is a plastic film subjected to release treatment with a release agent or the like. Specific examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. As the release agent, a silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl, rubber-based, or the like can be used.

上記剥離シートの厚さについては特に制限はなく、例えば、16μm以上、250μm以下であってよい。 The thickness of the release sheet is not particularly limited, and may be, for example, 16 μm or more and 250 μm or less.

(4)その他
本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における基材とは反対側の面に接着剤層が積層されていてもよい。この場合、本実施形態に係るワーク加工用シートは、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。当該シートでは、接着剤層における粘着剤層とは反対側の面にワークを貼付し、当該ワークとともに接着剤層をダイシングすることで、個片化された接着剤層が積層されたチップを得ることができる。当該チップは、この個片化された接着剤層によって、当該チップが搭載される対象に対して容易に固定することが可能となる。上述した接着剤層を構成する材料としては、熱可塑性樹脂と低分子量の熱硬化性接着成分とを含有するものや、Bステージ(半硬化状)の熱硬化型接着成分を含有するもの等を用いることが好ましい。
(4) Others In the work processing sheet according to the present embodiment, an adhesive layer may be laminated on the surface of the adhesive layer opposite to the base material. In this case, the work processing sheet according to this embodiment can be used as a dicing/die bonding sheet. In the sheet, a work is attached to the surface of the adhesive layer opposite to the adhesive layer, and the adhesive layer is diced together with the work to obtain a chip laminated with the individualized adhesive layer. be able to. The chip can be easily fixed to a target on which the chip is mounted by means of the individualized adhesive layer. Examples of the material constituting the adhesive layer include those containing a thermoplastic resin and a low-molecular-weight thermosetting adhesive component, those containing a B-stage (semi-cured) thermosetting adhesive component, and the like. It is preferable to use

また、本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層における粘着面に保護膜形成層が積層されていてもよい。この場合、本実施形態に係るワーク加工用シートは、保護膜形成兼ダイシング用シートとして使用することができる。このようなシートでは、保護膜形成層における粘着剤層とは反対側の面にワークを貼付し、当該ワークとともに保護膜形成層をダイシングすることで、個片化された保護膜形成層が積層されたチップを得ることができる。当該ワークとしては、片面に回路が形成されたものが使用されることが好ましく、この場合、通常、当該回路が形成された面とは反対側の面に保護膜形成層が積層される。個片化された保護膜形成層は、所定のタイミングで硬化させることで、十分な耐久性を有する保護膜をチップに形成することができる。保護膜形成層は、未硬化の硬化性接着剤からなることが好ましい。 In addition, in the work processing sheet according to the present embodiment, a protective film-forming layer may be laminated on the adhesive surface of the adhesive layer. In this case, the work processing sheet according to this embodiment can be used as a protective film-forming and dicing sheet. In such a sheet, a work is attached to the surface of the protective film-forming layer opposite to the adhesive layer, and the protective film-forming layer is diced together with the work, so that the individualized protective film-forming layer is laminated. you can get the chips As the work, one having a circuit formed on one side is preferably used. In this case, a protective film-forming layer is usually laminated on the side opposite to the side on which the circuit is formed. By curing the individualized protective film-forming layer at a predetermined timing, a protective film having sufficient durability can be formed on the chip. The protective film-forming layer is preferably made of an uncured curable adhesive.

2.ワーク加工用シートの物性
本実施形態に係るワーク加工用シートでは、活性エネルギー線照射前におけるシリコンウエハ(鏡面加工してなるシリコンウエハの当該鏡面,以下同じ)に対する粘着力が、1000mN/25mm以上であることが好ましく、特に1500mN/25mm以上であることが好ましく、さらには2000mN/25mm以上であることが好ましい。活性エネルギー線照射前におけるシリコンウエハに対する粘着力が1000mN/25mm以上であることで、ワークをワーク加工用シート上に良好に固定し易くなり、意図しないワーク(特に個片化後のワーク)の脱落(特にチップ飛び)を良好に防止し易くなる。なお、上記粘着力の上限値については特に限定されないものの、例えば、20000mN/25mm以下であることが好ましく、特に10000mN/25mm以下であることが好ましく、さらには7000mN/25mm以下であることが好ましい。また、上記粘着力の測定方法の詳細は、後述する試験例に記載する通りである。
2. Physical properties of the work processing sheet According to the present embodiment, the work processing sheet has an adhesive force of 1000 mN/25 mm or more to a silicon wafer (mirror surface of a mirror-finished silicon wafer, the same shall apply hereinafter) before irradiation with an active energy ray. It is preferably 1500 mN/25 mm or more, and more preferably 2000 mN/25 mm or more. Since the adhesive force to the silicon wafer before irradiation with active energy rays is 1000 mN / 25 mm or more, it becomes easy to fix the workpiece well on the workpiece processing sheet, and unintended workpieces (especially workpieces after singulation) fall off. (Particularly, chip flying) can be easily prevented satisfactorily. Although the upper limit of the adhesive strength is not particularly limited, for example, it is preferably 20000 mN/25 mm or less, particularly preferably 10000 mN/25 mm or less, and further preferably 7000 mN/25 mm or less. Further, the details of the method for measuring the adhesive strength are as described in the test examples described later.

また、本実施形態に係るワーク加工用シートでは、活性エネルギー線照射後におけるシリコンウエハに対する粘着力が、90mN/25mm以下であることが好ましく、特に80mN/25mm以下であることが好ましく、さらには70mN/25mm以下であることが好ましい。本実施形態に係るワーク加工用シートでは、粘着剤層が、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体および前述したアルキレングリコール系成分を含有する粘着剤組成物から形成されていることにより、活性エネルギー線照射後において上述のような粘着力を達成し易いものとなる。そして、活性エネルギー線照射後におけるワークに対する粘着力が90mN/25mm以下であることで、ワークをワーク加工用シートから剥離し易くなる。また、活性エネルギー線照射後におけるシリコンウエハに対する粘着力は、10mN/25mm以上であることが好ましく、特に15mN/25mm以上であることが好ましく、さらには20mN/25mm以上であることが好ましい。これにより、活性エネルギー線照射後における意図しない段階でのワークの分離・脱落を抑制し易いものとなる。なお、上記粘着力の測定方法の詳細は、後述する試験例に記載する通りである。 In addition, in the work processing sheet according to the present embodiment, the adhesive force to the silicon wafer after irradiation with active energy rays is preferably 90 mN/25 mm or less, particularly preferably 80 mN/25 mm or less, and further preferably 70 mN. /25 mm or less. In the work processing sheet according to the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into the side chain and the above-described alkylene glycol-based component. As a result, it becomes easy to achieve the adhesive strength as described above after irradiation with active energy rays. When the adhesive force to the work after irradiation with the active energy ray is 90 mN/25 mm or less, the work can be easily separated from the work processing sheet. Further, the adhesive strength to the silicon wafer after irradiation with active energy rays is preferably 10 mN/25 mm or more, particularly preferably 15 mN/25 mm or more, and further preferably 20 mN/25 mm or more. This makes it easier to suppress separation/dropping of the workpiece at an unintended stage after irradiation with the active energy ray. In addition, the details of the method for measuring the adhesive strength are as described in the test examples described later.

3.ワーク加工用シートの製造方法
本実施形態に係るワーク加工用シートの製造方法は特に限定されず、好ましくは、基材の片面側に粘着剤層を積層することにより製造される。
3. Method for Manufacturing Work Processing Sheet The method for manufacturing the work processing sheet according to the present embodiment is not particularly limited, and is preferably manufactured by laminating an adhesive layer on one side of a substrate.

基材の片面側への粘着剤層の積層は、公知の方法により行うことができる。例えば、剥離シート上において形成した粘着剤層を、基材の片面側に転写することが好ましい。この場合、粘着剤層を構成する粘着剤組成物、および所望によりさらに溶媒または分散媒を含有する塗工液を調製し、剥離シートの剥離処理された面(以下「剥離面」という場合がある。)上に、ダイコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、スリットコーター、ナイフコーター、アプリケータ等によりその塗工液を塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥させることにより、粘着剤層を形成することができる。塗工液は、塗布を行うことが可能であればその性状は特に限定されず、粘着剤層を形成するための成分を溶質として含有する場合もあれば、分散質として含有する場合もある。この積層体における剥離シートは工程材料として剥離してもよいし、ワーク加工用シートを被着体に貼付するまでの間、粘着剤層の粘着面を保護するために用いてもよい。 Lamination of the pressure-sensitive adhesive layer on one side of the substrate can be performed by a known method. For example, it is preferable to transfer the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release sheet to one side of the substrate. In this case, the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer and, if desired, a coating solution containing a solvent or a dispersion medium is prepared, and the release-treated surface of the release sheet (hereinafter sometimes referred to as "release surface") ) on the adhesive layer by applying the coating liquid with a die coater, curtain coater, spray coater, slit coater, knife coater, applicator or the like to form a coating film and drying the coating film. can be formed. The properties of the coating liquid are not particularly limited as long as the coating liquid can be applied. The release sheet in this laminate may be released as a process material, or may be used to protect the adhesive surface of the adhesive layer until the work processing sheet is attached to the adherend.

粘着剤層を形成するための塗工液が架橋剤を含有する場合には、上記の乾燥の条件(温度、時間など)を変えることにより、または加熱処理を別途設けることにより、塗膜内のアクリル系共重合体と架橋剤との架橋反応を進行させ、粘着剤層内に所望の存在密度で架橋構造を形成させればよい。この架橋反応を十分に進行させるために、上記の方法などによって基材に粘着剤層を積層させた後、得られたワーク加工用シートを、例えば23℃、相対湿度50%の環境に数日間静置するといった養生を行ってもよい。 When the coating liquid for forming the pressure-sensitive adhesive layer contains a cross-linking agent, by changing the above drying conditions (temperature, time, etc.) or by separately providing heat treatment, the inside of the coating film A crosslinking reaction between the acrylic copolymer and the crosslinking agent is allowed to proceed to form a crosslinked structure with a desired existence density in the pressure-sensitive adhesive layer. In order to allow the cross-linking reaction to proceed sufficiently, after laminating the pressure-sensitive adhesive layer on the base material by the method described above, the obtained work processing sheet is placed in an environment of, for example, 23° C. and a relative humidity of 50% for several days. Curing such as leaving still may be performed.

上述のように剥離シート上で形成した粘着剤層を基材の片面側に転写する代わりに、基材上で直接粘着剤層を形成してもよい。この場合、前述した粘着剤層を形成するための塗工液を基材の片面側に塗布して塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥させることにより、粘着剤層を形成する。 Instead of transferring the pressure-sensitive adhesive layer formed on the release sheet to one side of the substrate as described above, the pressure-sensitive adhesive layer may be formed directly on the substrate. In this case, the adhesive layer is formed by applying the coating liquid for forming the adhesive layer described above to one side of the substrate to form a coating film, and drying the coating film.

4.ワーク加工用シートの使用方法
本実施形態に係るワーク加工用シートは、半導体ウエハ等のワークの加工のために使用することができる。すなわち、本実施形態に係るワーク加工用シートの粘着面をワークに貼付した後、ワーク加工用シート上にてワークの加工を行うことができる。当該加工に応じて、本実施形態に係るワーク加工用シートは、バックグラインドシート、ダイシングシート、エキスパンドシート、ピックアップシート等として使用されることとなる。ここで、ワークの例としては、半導体ウエハ、半導体パッケージ等の半導体部材、ガラス板等のガラス部材が挙げられる。
4. Method of Using Work Processing Sheet The work processing sheet according to the present embodiment can be used for processing a work such as a semiconductor wafer. That is, after the adhesive surface of the work processing sheet according to the present embodiment is attached to the work, the work can be processed on the work processing sheet. Depending on the processing, the work processing sheet according to the present embodiment is used as a back grinding sheet, a dicing sheet, an expanding sheet, a pick-up sheet, or the like. Examples of the workpiece include semiconductor members such as semiconductor wafers and semiconductor packages, and glass members such as glass plates.

本実施形態に係るワーク加工用シートは、前述した通り、半導体ウエハ等のワークを個片化してなるチップのチップ飛びを良好に抑制できるとともに、ピックアップを良好に行うことができる。当該チップは、別のシート上にてダイシングすることで得られたものを本実施形態に係るワーク加工用シート上に転写したものであってもよいし、本実施形態に係るワーク加工用シート上でダイシングすることにより得られたものであってもよい。そのため、本実施形態に係るワーク加工用シートは、特にダイシングシートおよびピックアップシートの少なくとも一方として使用することが好適である。 As described above, the work processing sheet according to the present embodiment can satisfactorily suppress chip flying of chips obtained by singulating a work such as a semiconductor wafer, and can satisfactorily pick up the chips. The chips may be obtained by dicing on another sheet and transferred onto the work processing sheet according to the present embodiment, or may be obtained by transferring the chips onto the work processing sheet according to the present embodiment. It may be obtained by dicing with. Therefore, the work processing sheet according to the present embodiment is particularly suitable for use as at least one of a dicing sheet and a pick-up sheet.

なお、本実施形態に係るワーク加工用シートが前述した接着剤層を備える場合には、当該ワーク加工用シートは、ダイシング・ダイボンディングシートとして使用することができる。さらに、本実施形態に係るワーク加工用シートが前述した保護膜形成層を備える場合には、当該ワーク加工用シートは、保護膜形成兼ダイシング用シートとして使用することができる。 When the work processing sheet according to the present embodiment includes the above-described adhesive layer, the work processing sheet can be used as a dicing/die bonding sheet. Furthermore, when the work processing sheet according to the present embodiment includes the protective film forming layer described above, the work processing sheet can be used as a protective film forming and dicing sheet.

また、本実施形態に係るワーク加工用シートにおける粘着剤層は、活性エネルギー線硬化性を示すものであるため、使用の際に、次のような活性エネルギー線の照射を行うことも好ましい。すなわち、加工後のワークをワーク加工用シートから分離する前において、粘着剤層に対して活性エネルギー線を照射することが好ましい。これにより、粘着剤層が硬化して、加工後のワークに対する粘着シートの粘着力が良好に低下し、加工後のワークの分離が容易となる。 Further, since the adhesive layer in the work processing sheet according to the present embodiment exhibits active energy ray curability, it is also preferable to irradiate the following active energy ray during use. That is, it is preferable to irradiate the adhesive layer with an active energy ray before separating the processed work from the work processing sheet. As a result, the adhesive layer is cured, the adhesive strength of the adhesive sheet to the work after processing is favorably reduced, and the work after processing can be easily separated.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiments described above are described to facilitate understanding of the present invention, and are not described to limit the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is meant to include all design changes and equivalents that fall within the technical scope of the present invention.

例えば、基材と粘着剤層との間、または基材における粘着剤層とは反対側の面には、その他の層が設けられてもよい。 For example, another layer may be provided between the substrate and the adhesive layer, or on the surface of the substrate opposite to the adhesive layer.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples and the like, but the scope of the present invention is not limited to these Examples and the like.

〔実施例1〕
(1)基材の作製
エチレン・メタクリル酸共重合体(EMAA)(三井・デュポンポリケミカル社製,製品名「ニュクレルN0903HC」)を、小型Tダイ押出機(東洋精機製作所社製,製品名「ラボプラストミル」)によって押出成形することで、厚さ80μmのEMAAフィルムを得た。当該EMAAフィルムを基材として使用した。
[Example 1]
(1) Production of base material Ethylene-methacrylic acid copolymer (EMAA) (manufactured by Mitsui DuPont Polychemicals, product name “Nucrel N0903HC”) is used with a small T-die extruder (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, product name “ An EMAA film with a thickness of 80 μm was obtained by extrusion molding with a Labo Plastomill”). The EMAA film was used as a substrate.

(2)粘着性組成物の調製
アクリル酸n-ブチル62質量部と、メタクリル酸メチル10質量部と、アクリル酸2-ヒドロキシエチル28質量部とを溶液重合法により重合させて、アクリル系共重合体を得た。当該アクリル系共重合体の重量平均分子量を後述する方法で測定したところ、50万であった。
(2) Preparation of Adhesive Composition 62 parts by mass of n-butyl acrylate, 10 parts by mass of methyl methacrylate, and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate are polymerized by a solution polymerization method to obtain an acrylic copolymer. got a union. When the weight average molecular weight of the acrylic copolymer was measured by the method described later, it was 500,000.

続いて、得られた上記溶液にメチルエチルケトンを加え、固形分濃度を35質量%とした。そして、当該溶液に対し、上記アクリル系共重合体を構成するアクリル酸2-ヒドロキシエチルに対して80モル%に相当する量の2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)を添加するとともに、スズ含有触媒としてのジブチル錫ジラウレート(DBTDL)を上述したモノマー総量100質量部に対し0.15質量部添加した。その後、50℃で24時間反応させることで、側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入された(メタ)アクリル酸エステル重合体(活性エネルギー線硬化性重合体)を得た。当該活性エネルギー線硬化型重合体の重量平均分子量を後述の方法によって測定したところ、50万であった。 Subsequently, methyl ethyl ketone was added to the resulting solution to adjust the solid content concentration to 35% by mass. Then, to the solution, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) is added in an amount corresponding to 80 mol% of 2-hydroxyethyl acrylate constituting the acrylic copolymer, and a tin-containing catalyst is added. 0.15 parts by mass of dibutyltin dilaurate (DBTDL) was added to 100 parts by mass of the total amount of the above monomers. After that, a reaction was carried out at 50° C. for 24 hours to obtain a (meth)acrylic acid ester polymer (active energy ray-curable polymer) having active energy ray-curable groups introduced into side chains. When the weight average molecular weight of the active energy ray-curable polymer was measured by the method described later, it was 500,000.

得られた活性エネルギー線硬化型重合体100質量部(固形分換算,以下同じ)と、架橋剤としてのトリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネート(東ソー社製,製品名「コロネートL」)1.07質量部と、光重合開始剤としての2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン(IGM Resins社製,製品名「オムニラッド127」)2質量部と、アルキレングリコール系成分としての数平均分子量300のポリエチレングリコール(東邦化学工業社製,製品名「PEG300」)0.14質量部とを溶媒中で混合し、粘着剤組成物の塗布液(固形分濃度25質量%)を得た。 100 parts by mass of the obtained active energy ray-curable polymer (in terms of solid content, the same shall apply hereinafter) and 1.07 mass of trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, product name "Coronate L") as a cross-linking agent. and 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-propan-1-one (IGM Resins company, product name "Omnilad 127") and 0.14 parts by mass of polyethylene glycol with a number average molecular weight of 300 as an alkylene glycol component (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd., product name "PEG300") in a solvent. to obtain a coating liquid (solid concentration: 25% by mass) of the pressure-sensitive adhesive composition.

(3)粘着剤層の形成
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる剥離シート(リンテック社製,製品名「SP-PET381031」)の剥離面に対して、上記工程(2)で得られた粘着性組成物の塗布液を塗布し、加熱により乾燥させることで、剥離シート上に、厚さ5μmの粘着剤層が形成されてなる積層体を得た。
(3) Formation of adhesive layer On the release surface of a release sheet (manufactured by Lintec, product name "SP-PET381031") consisting of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 38 μm and a silicone-based release agent layer formed on one side , The coating liquid of the adhesive composition obtained in the above step (2) was applied and dried by heating to obtain a laminate in which an adhesive layer having a thickness of 5 μm was formed on the release sheet. .

(4)粘着シートの作製
上記工程(1)で得られた基材の片面に対しコロナ処理を施した後、当該コロナ処理面と、上記工程(3)で得られた積層体における粘着剤層側の面とを貼り合わせることで、ワーク加工用シートを得た。
(4) Preparation of adhesive sheet After subjecting one side of the substrate obtained in step (1) above to corona treatment, the corona-treated surface and the adhesive layer in the laminate obtained in step (3) above are treated. A work processing sheet was obtained by laminating the side surfaces.

(5)(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量(Mw)の測定
(メタ)アクリル酸エステル共重合体の上述した重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて以下の条件で測定(GPC測定)したポリスチレン換算の重量平均分子量である。
<測定条件>
・GPC測定装置:東ソー社製,HLC-8320
・GPCカラム(以下の順に通過):東ソー社製
TSK gel superH-H
TSK gel superHM-H
TSK gel superH2000
・測定溶媒:テトラヒドロフラン
・測定温度:40℃
(5) Measurement of the weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic acid ester copolymer The above-mentioned weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic acid ester copolymer is determined by gel permeation chromatography (GPC). It is a polystyrene-equivalent weight-average molecular weight measured (GPC measurement) under the following conditions.
<Measurement conditions>
・ GPC measurement device: HLC-8320 manufactured by Tosoh Corporation
・ GPC column (passed in the following order): TSK gel superH-H manufactured by Tosoh Corporation
TSK gel super HM-H
TSK gel super H2000
・Measurement solvent: tetrahydrofuran ・Measurement temperature: 40°C

〔実施例2~14および比較例2〕
アルキレングリコール系成分の種類および含有量を、表1に示されるように変更する以外、実施例1と同様にしてワーク加工用シートを製造した。
[Examples 2 to 14 and Comparative Example 2]
A work processing sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that the type and content of the alkylene glycol-based component were changed as shown in Table 1.

〔比較例1〕
アルキレングリコール系成分を使用しなかったこと以外、実施例1と同様にしてワーク加工用シートを製造した。
[Comparative Example 1]
A work processing sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that no alkylene glycol-based component was used.

なお、表1に記載の略号等の詳細は以下の通りである。
PEG300:ポリエチレングリコール(東邦化学工業社製,製品名「PEG300」,数平均分子量:300)
PEG1000:ポリエチレングリコール(東邦化学工業社製,製品名「PEG1000」,数平均分子量:1000)
PTMG250:ポリテトラメチレンエーテルグリコール(三菱ケミカル社製,製品名「PTMG250」,数平均分子量:250)
PTMG1000:ポリテトラメチレンエーテルグリコール(三菱ケミカル社製,製品名「PTMG1000」,数平均分子量:1000)
PTMG3000:ポリテトラメチレンエーテルグリコール(三菱ケミカル社製,製品名「PTMG3000」,数平均分子量:3000)
PP-200:ポリオキシプロピレングリコール(三洋化成工業社製、製品名「サンニックス PP-200」、数平均分子量:200)
PP-1000:ポリオキシプロピレングリコール(三洋化成工業社製、製品名「サンニックス PP-1000」、数平均分子量:1000)
PP-2000:ポリオキシプロピレングリコール(三洋化成工業社製、製品名「サンニックス PP-2000」、数平均分子量:2000)
PP-4000:ポリオキシプロピレングリコール(三洋化成工業社製、製品名「サンニックス PP-4000」、数平均分子量:4160)
Details of abbreviations and the like in Table 1 are as follows.
PEG300: Polyethylene glycol (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd., product name “PEG300”, number average molecular weight: 300)
PEG1000: Polyethylene glycol (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd., product name “PEG1000”, number average molecular weight: 1000)
PTMG250: Polytetramethylene ether glycol (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "PTMG250", number average molecular weight: 250)
PTMG1000: polytetramethylene ether glycol (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "PTMG1000", number average molecular weight: 1000)
PTMG3000: polytetramethylene ether glycol (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name "PTMG3000", number average molecular weight: 3000)
PP-200: Polyoxypropylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., product name "Sannix PP-200", number average molecular weight: 200)
PP-1000: Polyoxypropylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., product name "Sannix PP-1000", number average molecular weight: 1000)
PP-2000: Polyoxypropylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., product name "Sannix PP-2000", number average molecular weight: 2000)
PP-4000: Polyoxypropylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., product name "Sannix PP-4000", number average molecular weight: 4160)

〔試験例1〕(粘着力の測定)
実施例および比較例にて製造したワーク加工用シートを、25mm幅の短冊状に裁断した。得られた短冊状のワーク加工用シートから剥離シートを剥離し、露出した粘着剤層の粘着面を、鏡面加工してなるシリコンウエハの当該鏡面に対して、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、2kgゴムローラーを用いて貼付し、20分静置し、測定用サンプルとした。なお、上記シリコンウエハにおける上記鏡面は、研削してから1か月以上経過し、活性が消失した面(通常面)であった。
[Test Example 1] (Measurement of adhesive strength)
The work processing sheets produced in Examples and Comparative Examples were cut into strips having a width of 25 mm. The release sheet is peeled off from the obtained strip-shaped work processing sheet, and the adhesive surface of the exposed adhesive layer is exposed to the mirror surface of the mirror-finished silicon wafer at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%. It was applied using a 2 kg rubber roller under the environment and allowed to stand for 20 minutes to obtain a sample for measurement. The mirror surface of the silicon wafer was a surface (normal surface) that had lost its activity after one month or more of grinding.

得られた測定用サンプルについて、万能引張試験機(オリエンテック社製,製品名「テンシロンUTM-4-100」)を用い、シリコンウエハから、剥離速度300mm/min、剥離角度180°にてワーク加工用シートを剥離し、JIS Z0237:2009に準じた180°引き剥がし法により、シリコンウエハに対する粘着力(mN/25mm)を測定した。これにより得られた粘着力を、UV照射前における粘着力とし、表1に示す。 For the obtained measurement sample, using a universal tensile tester (manufactured by Orientec, product name “Tensilon UTM-4-100”), the workpiece was processed from the silicon wafer at a peeling speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 °. The sheet was peeled off, and the adhesive strength (mN/25 mm) to the silicon wafer was measured by a 180° peeling method according to JIS Z0237:2009. The adhesive strength thus obtained is shown in Table 1 as the adhesive strength before UV irradiation.

また、上記と同様に得た測定用サンプルについて、シリコンウエハへの貼付20分後において、温度23℃、相対湿度50%の環境下で、紫外線照射装置(リンテック社製,製品名「RAD-2000m/12」)を用いて紫外線(UV)照射(照度:230mW/cm、光量:190mJ/cm)を行った。当該紫外線照射後における測定用サンプルについて、上記と同様に、ワーク加工用シートをシリコンウエハから引き離す測定を行い、シリコンウエハに対する粘着力(mN/25mm)を測定した。これにより得られた粘着力を、UV照射後における粘着力とし、表1に示す。 In addition, for the measurement sample obtained in the same manner as above, 20 minutes after attaching to the silicon wafer, in an environment with a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, an ultraviolet irradiation device (manufactured by Lintec, product name "RAD-2000m /12") was used to perform ultraviolet (UV) irradiation (illuminance: 230 mW/cm 2 , light amount: 190 mJ/cm 2 ). For the measurement sample after the ultraviolet irradiation, the work processing sheet was separated from the silicon wafer in the same manner as described above, and the adhesive force (mN/25 mm) to the silicon wafer was measured. The adhesive strength thus obtained is shown in Table 1 as the adhesive strength after UV irradiation.

〔試験例2〕(ダイシングの評価)
実施例および比較例にて製造したワーク加工用シートから剥離シートを剥離し、粘着剤層を露出させた。そして、予めグラインダー(ディスコ社製,製品名「DFG8540」)を用いて片面を研削しておいた6インチシリコンウエハ(厚さ150μm)の研削面に対し、ラミネーターを用いて、上記ワーク加工用シートにおける粘着剤層の露出面を貼付した。
[Test Example 2] (Evaluation of dicing)
The release sheets were peeled off from the work processing sheets produced in Examples and Comparative Examples to expose the pressure-sensitive adhesive layer. Then, one side of a 6-inch silicon wafer (thickness: 150 μm) was previously ground using a grinder (manufactured by Disco, product name “DFG8540”). The exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer in was attached.

貼付から1時間後、ダイシング装置(ディスコ社製,製品名「DFD6362」)を用いて、以下のダイシング条件でワーク加工用シート上にてダイシングを行うことで、シリコンウエハをチップに個片化した。
ダイシング条件
チップサイズ:10mm×10mm
カッティング高さ:60μm
ブレード:製品名「ZH05-SD2000-Z1-90 CC」
ブレード回転数:35000rpm
切削スピード:30mm/sec
切削水量:1.0L/min
切削水温度:20℃
One hour after the application, using a dicing machine (manufactured by Disco, product name "DFD6362"), the silicon wafer was singulated into chips by performing dicing on the work processing sheet under the following dicing conditions. .
Dicing conditions Chip size: 10 mm x 10 mm
Cutting height: 60 μm
Blade: Product name "ZH05-SD2000-Z1-90 CC"
Blade rotation speed: 35000rpm
Cutting speed: 30mm/sec
Cutting water volume: 1.0 L/min
Cutting water temperature: 20°C

そして、上記ダイシングの過程において生じたチップ飛びの個数をカウントした。その個数を表1に示す。なお、一般的に、ダイシング時に生じるチップ飛びの個数は、40個以下となることが求められ、特に5個以下となることが好ましい。 Then, the number of chips that occurred during the dicing process was counted. The number is shown in Table 1. In general, the number of chip jumps occurring during dicing is required to be 40 or less, preferably 5 or less.

〔試験例3〕(ピックアップの評価)
上記試験例2のダイシング後、得られたチップをワーク加工用シート上に載置した状態で、7日間保管した。その後、ワーク加工用シートにおける基材側の面に対し、紫外線照射装置(リンテック社製,製品名「RAD-2000m/12」)を用いて、紫外線(UV)を照射(照度:230mW/cm,光量:190mJ/cm)し、粘着剤層を硬化させた。
[Test Example 3] (Evaluation of pickup)
After the dicing in Test Example 2, the chips obtained were placed on a work processing sheet and stored for 7 days. After that, the surface of the work processing sheet on the substrate side is irradiated with ultraviolet rays (UV) using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Lintec, product name “RAD-2000m/12”) (illuminance: 230 mW / cm 2 , light amount: 190 mJ/cm 2 ) to cure the adhesive layer.

次いで、ワーク加工用シートを平面視したときの中心付近に位置する1つのチップについて、ピックアップ装置を用いて、常温下で、突き上げ速度を5mm/sec、保持時間を0.1msecとし、突き上げ量を所定の値に設定して、ニードルを用いて、チップの突き上げを行った。当該突き上げと同時に、8mm×8mmのサイズの真空コレットでワーク加工用シートからのチップの引き離しを試みた。これらチップの突き上げとコレットによる引き離しとを、突き上げ量を段階的に変えながら繰り返し、3回連続して異常を伴うことなくピックアップできた場合の突き上げ量(μm)の最小値を求めた。当該最小値を、最低突き上げ量(μm)として表1に示す。 Next, for one chip located near the center of the work processing sheet in plan view, using a pick-up device, at room temperature, the thrust speed was set to 5 mm / sec, the holding time was set to 0.1 msec, and the thrust amount was adjusted. A needle was used to push up the chip by setting it to a predetermined value. Simultaneously with the push-up, an attempt was made to separate the chip from the work processing sheet using a vacuum collet of 8 mm×8 mm. These pushing-up of the tip and separation by the collet were repeated while changing the pushing-up amount stepwise, and the minimum value of the pushing-up amount (μm) when the chip could be picked up three times in succession without causing an abnormality was determined. The minimum value is shown in Table 1 as the minimum push-up amount (μm).

Figure 2023108420000001
Figure 2023108420000001

表1から分かるように、実施例で得られたワーク加工用シートでは、ピックアップ評価における最低突き上げ量が150μm以下となり、過度な突き上げを要せず、良好にピックアップ可能であることがわかった。 As can be seen from Table 1, the workpiece processing sheets obtained in Examples had a minimum thrust amount of 150 μm or less in the pick-up evaluation, and were found to be able to be picked up satisfactorily without requiring excessive thrust.

本発明のワーク加工用シートは、半導体ウエハ等のワークの加工に好適に使用することができる。 The work processing sheet of the present invention can be suitably used for processing a work such as a semiconductor wafer.

Claims (5)

基材と、前記基材における片面側に積層された粘着剤層とを備えるワーク加工用シートであって、
前記粘着剤層が、
側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体と、
ポリエチレングリコールおよびポリテトラメチレンエーテルグリコールの少なくとも1種である、数平均分子量が200以上、3000以下のアルキレングリコール系成分と
を含有する粘着剤組成物から形成されたものである
ことを特徴とするワーク加工用シート。
A work processing sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate,
The pressure-sensitive adhesive layer is
an acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into its side chain;
A work characterized by being formed from an adhesive composition containing an alkylene glycol-based component having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less, which is at least one of polyethylene glycol and polytetramethylene ether glycol. processing sheet.
前記粘着剤組成物は、前記アルキレングリコール系成分として前記ポリエチレングリコールを含有し、
前記ポリエチレングリコールの前記粘着剤組成物中における含有量は、前記側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体100質量部に対して、0.001質量部以上、2質量部以下である
ことを特徴とする請求項1に記載のワーク加工用シート。
The pressure-sensitive adhesive composition contains the polyethylene glycol as the alkylene glycol-based component,
The content of the polyethylene glycol in the adhesive composition is 0.001 parts by mass or more and 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into the side chain. The work processing sheet according to claim 1, characterized by:
前記粘着剤組成物は、前記アルキレングリコール系成分として前記ポリテトラメチレンエーテルグリコールを含有し、
前記ポリテトラメチレンエーテルグリコールの前記粘着剤組成物中における含有量は、前記側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体100質量部に対して、0.001質量部以上、10質量部以下である
ことを特徴とする請求項1または2に記載のワーク加工用シート。
The pressure-sensitive adhesive composition contains the polytetramethylene ether glycol as the alkylene glycol-based component,
The content of the polytetramethylene ether glycol in the pressure-sensitive adhesive composition is 0.001 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into the side chain, 3. The work processing sheet according to claim 1, wherein the content is 10 parts by mass or less.
基材と、前記基材における片面側に積層された粘着剤層とを備えるワーク加工用シートであって、
前記粘着剤層が、
側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体と、
ポリプロピレングリコールである、数平均分子量が200以上、3000以下のアルキレングリコール系成分と
を含有する粘着剤組成物から形成されたものであり、
前記アルキレングリコール系成分の前記粘着剤組成物中における含有量は、前記側鎖に活性エネルギー線硬化性基が導入されたアクリル系重合体100質量部に対して、0.001質量部以上、2質量部以下である
ことを特徴とするワーク加工用シート。
A work processing sheet comprising a substrate and an adhesive layer laminated on one side of the substrate,
The pressure-sensitive adhesive layer is
an acrylic polymer having an active energy ray-curable group introduced into its side chain;
It is formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing polypropylene glycol and an alkylene glycol-based component having a number average molecular weight of 200 or more and 3000 or less,
The content of the alkylene glycol-based component in the pressure-sensitive adhesive composition is 0.001 parts by mass or more, 2 A work processing sheet characterized by having a mass part or less.
前記ワーク加工用シートは、ダイシングシートおよびピックアップシートの少なくとも一方として使用されるものであることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載のワーク加工用シート。 The work processing sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the work processing sheet is used as at least one of a dicing sheet and a pick-up sheet.
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