JP2023093332A - 磁気ピボット・テンプ輪を備えた機械式時計ムーブメント - Google Patents

磁気ピボット・テンプ輪を備えた機械式時計ムーブメント Download PDF

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Abstract

【課題】磁気ピボット・テンプ輪を備えた機械式時計ムーブメントを提供すること。【解決手段】回転要素22と、この回転要素の中心軸26が所与の回転軸28に対して半径方向に移動すると、回転要素に半径方向の磁気バイアス力を加えるようになされた、回転中にこの回転要素を案内するための磁気デバイスとを備える機構である。磁気デバイスは一対の環状磁石を備えており、そのうちの第1の環状磁石32は回転要素によって支えられ、また、第2の環状磁石34は機構の構造によって支えられている。第2の環状磁石は、回転要素の中心軸が回転軸と一致すると第1の環状磁石と平行になり、また、第1の環状磁石と軸方向に重畳し、第1の環状磁石および第2の環状磁石は、第1の軸方向の磁気力を互いに付与し、また、回転要素の中心軸が回転軸から半径方向に逸脱すると、第1の半径方向の磁気力を実質的に直ちに付与するよう、磁気吸引で配置されている。【選択図】図3

Description

本発明は、超小型機械の応用、詳細には腕時計製造分野におけるピボット回転要素の分野に関する。詳細には、本発明は、そのテンプ輪が磁気的にピボットされる、すなわちそのテンプ輪が本質的に磁気デバイスによる回転中に案内される機械式共振子を備えた機械式時計ムーブメントに関する。
時計コンポーネント、詳細にはテンプ輪を枢動可能に案内するための方法、およびこのような時計コンポーネントを枢動可能に案内するためのデバイスは、文書国際公開第2012/062524号で知られている。この文書は、一対の磁気ピボットによって形成された磁気ピボット案内デバイスを使用して、所与の回転軸に従ってテンプ輪を導くことを提案している。図1には、ばね3と結合したテンプ輪4によって形成された機械式共振子2が示されており、このテンプ輪は、慣性質量4aと、回転中のテンプ輪を案内するための2つの磁気ピボット6a、6bを備えたシャフト6とによって形成されており、これらの2つの磁気ピボットは、それぞれ2つの永久磁石10および12によって形成された2つの磁気軸受によって回転中に案内されている。例えばこれらの磁石は、希土類材料の合金、詳細にはSmCoまたはNdFeBによって形成されている。詳細には、これらの磁石は、参照VAC677_HRの下で知られている材料でできている。テンプ輪のシャフト6は、高い透磁率を有する材料、例えば鋼でできている。有利には、参照20_APの下で知られている炭素鋼を使用することができる。2つの磁石のうちの一方は、シャフト6の2つのピボット6a、6bのうちの一方が最も強力な磁石10と接触し(または中間受石、例えば合成ルビーなどの研磨された硬い材料でできた円板と接触し)、もう一方のピボットが最も非力な磁石12から(またはこの磁石の中間保護円板、詳細には共通の受石から)短い距離を維持し、したがって通常は対応する磁気軸受と接触していない状態を維持するよう、もう一方の磁石より強力でなければならない。回転中のテンプ輪-ばねを磁気的に案内するためのこのような構成は、とりわけ2つの共通の機械式軸受と比較して摩擦を小さくすることによって大きな利点を有している。
図2は、図1に示されているタイプの磁気案内デバイスに対する、このテンプ輪の回転軸8からのテンプ輪4の半径方向の移動Xの関数としての磁気バイアス力FMの理論的曲線を示したものである。テンプ輪の回転軸は、2つの磁石10および12の中央を通っている幾何学軸によって画定されている。関数F(X)は、小さい移動に対して実質的に線形であることが分かる。したがってこのような構成の場合、磁気バイアス力は、その回転軸からのテンプ輪の所与の半径方向の移動に比例して大きくなる。その定義済み回転軸からのテンプ輪の小さい移動に対してはバイアス力が小さいため、これはテンプ輪2の心出しの問題をもたらしている。さらに、共通の磁石はミリメートル・スケールでは異質性を有することがしばしばであり、そのためにテンプ輪のこの心出しの問題はさらに悪化する。その上、磁石10、12の直径は1ミリメートルの範囲である。この心出しの問題は、このテンプ輪と結合した脱進機とのテンプ輪の相互作用に対する問題をもたらしている。
国際公開第2012/062524号
本発明の目的は、詳細には腕時計製造産業における回転中の小さいサイズの回転要素を案内する磁気軸受の心出しの問題を解決することであり、より詳細には、機械式時計ムーブメントに組み込まれた機械式共振子のテンプ輪の回転/枢動可能磁気案内に対する心出しの問題を解決することである。
この目的のために、本発明は、回転要素と、回転中のこの回転要素を案内するための磁気デバイスとを備える機構に関し、この磁気デバイスは、この回転要素の中心軸が機構中の回転要素に対して予め定義されている回転軸に対して半径方向に移動すると、回転要素に半径方向の磁気バイアス力を加えるようになされている。本発明によれば、磁気デバイスは一対の環状磁石を備えており、そのうちの第1の環状磁石は、その中心が前記中心軸と一致した状態を維持するように回転要素によって支えられ、また、第2の環状磁石は、その中心が前記回転軸と一致した状態を維持するように機構の構造によって支えられている。第2の環状磁石は、回転要素の中心軸が回転軸と一致すると第1の環状磁石と平行になり、また、第1の環状磁石と少なくとも部分的に軸方向に重畳し、これらの第1の環状磁石および第2の環状磁石は、第1の軸方向の磁気力を互いに付与し、また、回転要素の中心軸が回転軸から半径方向に逸脱すると、第1の半径方向の磁気力を実質的に直ちに付与するよう、磁気吸引で配置されている。
本発明の特徴のおかげで、磁気案内デバイスにより、回転要素を効果的な方法で半径方向に心出しすることができ、それにより正規の動作で、回転軸に対する回転要素の中心軸のあらゆる半径方向の移動を制限することができる。実際、磁気吸引で重畳し、かつ、配置された2つの環状磁石により、この回転要素のための機構の中に提供された回転軸に対する回転要素の小さい半径方向の移動から、既に比較的高い半径方向のバイアス力を得ることができる。
有利な実施形態によれば、磁気デバイスは、回転要素のシャフトの第1の端部とは反対側の軸方向に配置されている少なくとも1つの第1の端部磁石をさらに備えており、このシャフトは、少なくとも部分的に軟強磁性体または磁性体によって形成されており、したがって第1の端部磁石は、磁気吸引力である第2の軸方向の磁気力をシャフトに加え、また、回転要素の中心軸が回転軸から半径方向に離れている場合、同じく第2の半径方向の磁気力をこのシャフトに加え、第2の軸方向の磁気力は第1の軸方向の磁気力と同じ方向を有している。
好ましい実施形態によれば、第1の環状磁石は、第2の環状磁石の側に、極性が交番する第1の複数の環状領域を有しており、また、第2の環状磁石は、第1の環状磁石の側に、極性が交番する第2の複数の環状領域を有しており、第1の複数の環状領域のうちの少なくとも2つの環状領域は、回転要素の中心軸が回転軸と一致すると、実質的に全体が第2の複数の環状領域のうちの2つのそれぞれの環状領域と軸方向に重畳し、また、磁気吸引で、これらの2つのそれぞれの環状領域と実質的に全体が軸方向に重畳する。
以下、本発明について、非制限の例として提供されている添付の図面によってより詳細に説明する。
既に説明した、従来技術による、テンプ輪-ばねを案内するための磁気デバイスを示す側面図である。 既に説明した、図1の磁気デバイスによってテンプ輪に加えられる、テンプ輪の半径方向の移動の関数としての半径方向の磁気バイアス力のグラフである。 本発明による機構の第1の実施形態の部分斜視図である。 図3の機構を部分的に断面で示す側面図である。 本発明による機構の第2の好ましい実施形態の部分斜視図である。 第2の実施形態の第1の変形態様における、回転中のテンプ輪-ばねを案内するための磁気デバイスを形成している一対の環状磁石の第1の磁石および第2の磁石の平面図である。 第1の実施形態および第2の実施形態の各々における、一対の環状磁石によってテンプ輪に加えられる、テンプ輪の半径方向の移動、および第1の環状磁石と第2の環状磁石の間の分離距離の関数としての第1の半径方向の磁気バイアス力を示すグラフである。 第1の実施形態および第2の実施形態の各々における、一対の環状磁石によってテンプ輪に加えられる、テンプ輪の半径方向の移動、および第1の環状磁石と第2の環状磁石の間の異なる分離距離の関数としての第1の半径方向の磁気バイアス力を示すグラフである。 第2の実施形態の第2の有利な変形態様における、回転中のテンプ輪-ばねを案内するための磁気デバイスを形成している一対の環状磁石の第1の磁石および第2の磁石の平面図である。 第2の実施形態の第3の有利な変形態様における、回転中のテンプ輪-ばねを案内するための磁気デバイスを形成している一対の環状磁石の第1の磁石および第2の磁石の平面図である。
とりわけ本発明による時計ムーブメントの第1の実施形態が示されている図3および図4を参照して説明する。
時計ムーブメント20は、テンプ輪22であって、テンプ輪の中心軸26を画定しているシャフト24を有するテンプ輪22と、テンプ輪を回転可能/枢動可能に案内するための磁気デバイスとによって形成された機械式共振子を備え、磁気デバイスは、シャフト24によって支えられたサポート30の上に配置された第1の環状磁石32、およびサポート36の上に配置された、別の方法で時計ムーブメントのプレート40の開口に篏合または締め付けられた円筒管38の上に結合される軟強磁性体または非磁性体でできた第2の環状磁石34からなる一対の環状磁石を備えている。テンプ輪の慣性質量および機械式共振子のばねは、図3および図4には示されていないことに留意されたい(これらの要素については図1を参照されたい)。テンプ輪の慣性質量を支持しているフランジとサポート30の間に自由な空間が残されており、これは、テンプ輪を脱進機と結合するためのデバイス72の構成、詳細には従来の方法で脱進機のパレット(図示せず)と相互作用することが意図されたピン76を支えているプレート74のためにそのようになされていることに留意されたい。
一般に、第1の環状磁石32は、その中心が中心軸26との一致を維持するようにテンプ輪22によって支えられており、また、第2の環状磁石34は、その中心が時計ムーブメント中のテンプ輪に対して予め定義されている回転軸28との一致を維持するように時計ムーブメントの構造によって支えられている。示されている変形態様では、サポート30は、透磁率が小さい材料、詳細には常磁性体または反磁性体でできた環状サポートであり、シャフト24の上に固定して取り付けられている。一変形態様では、サポート30は、第1の環状磁石32の真下に配置された軟強磁性体でできた薄い環状プレートを備えている。図4では、シャフト24、サポート30および第1の環状磁石32は、切欠図ではなく、側面図で示されており、一方、他の要素は、回転軸28を含む断面平面に従って断面で示されていることに留意されたい。テンプ輪22は、正規の動作に必要な中心位置で示されており、したがってシャフト24の中心軸26は回転軸28と一致している。
回転中のテンプ輪を案内するための磁気デバイスは、テンプ輪の中心軸26が回転軸28に対して半径方向に移動するXと、このテンプ輪に半径方向の磁気バイアス力F(X)を加えるようになされている。第1の実施形態では、第2の環状磁石34は、回転要素の中心軸26が回転軸28と一致すると第1の環状磁石32と平行になり、また、第1の環状磁石32と実質的に全体にわたって軸方向に重畳する。これらの第1の環状磁石および第2の環状磁石は、第1の軸方向の磁気力を互いに付与し、また、テンプ輪特徴の中心軸26が回転軸28に対して半径方向に逸脱すると、第1の半径方向の磁気力F(X)を実質的に直ちに付与するよう、磁気吸引で配置されている。そのために、第1の環状磁石および第2の環状磁石の内径および外径は実質的に全く同じであり、全く同じであることが好ましい。例として、これらの2つの環状磁石の内径は0.8mmと1.1mmの間であり、また、それらの外径は1.5mmと2.2mmの間である。
第1の実施形態では、第1の環状磁石および第2の環状磁石の各々は2極磁石であり、これらの2つの環状2極磁石は、互いに引き付けるために同じ極性(同じ方向の軸方向の磁気分極)を有している。これらの2つの2極磁石は、比較的薄くしなければならず、例えば50ミクロンと150ミクロンの間にしなければならない。しかしながら他の特定の実施形態では、それらをもっと分厚くして磁気パワーを大きくすることも可能である。詳細には、これらの磁石は、レーザで切断して、プレートの一般平面に対して直角に磁化されたプレートにすることができ、あるいは薄い層に堆積させることができる。第1の軸方向の力および第1の半径方向の力は、とりわけこれらの2つの環状磁石の間の間隔/距離Gで決まる。次に、第1の実施形態および第2の実施形態、ならびに2つの異なる間隔に対する、テンプ輪22のシャフト24の磁気心出しの役割を果す第1の半径方向の力F(X)を比較したグラフを参照する。
その後に、背景技術で説明した従来技術の実施形態と同様の方法で、磁気デバイスは、それぞれテンプ輪22のシャフト24の第1の端部(第1のピボット)および第2の端部(第2のピボット)の反対側に軸方向に配置されている第1の端部磁石42および第2の端部磁石44をさらに備えている。第1の端部磁石42は、第2の環状磁石34(第1の端部磁石および第2の端部磁石を支えている構造に対して固定された環状磁石)を支えている円筒管38の内側に配置されている。円筒管38の内側には、衝撃の際にこのシャフトの半径方向の移動、より詳細にはこのシャフトの第1の端部の半径方向の移動を制限するために、シャフト24のための第1の半径方向の安全停止を形成している突き通された石54が同じく配置されている。第1の端部磁石は、その第1の端部磁石を保護し、また、摩擦がより小さく、かつ、摩耗が比較的少ないピボットを可能にする、一種の受石である硬い材料でできたプレート46で覆われていることに留意されたい。第2の端部磁石44も、同じく、別の方法でブリッジ52、詳細にはテンプ輪・ブリッジの開口に篏合され、あるいは締め付けられている円筒管50の内側に配置されている。円筒管50の内側には、衝撃の際にこのシャフトの半径方向の移動、より詳細にはこのシャフトの第2の端部の半径方向の移動を制限するために、シャフト24のための第2の半径方向の安全停止を形成している突き通された石56が同じく配置されている。第2の端部磁石も硬い材料でできたプレート48で同じく覆われている。例として、これらの2つの端部磁石の直径は0.8mmと1.0mmの間であり、また、それらの高さは0.4mmと0.6mmの間である。
シャフト24は軟強磁性体によって形成されており、したがって第1の端部磁石42は、磁気吸引力であり、第1の軸方向の磁気力と同じ方向である第2の軸方向の磁気力をシャフトに加え、また、テンプ輪の中心軸26が回転軸28から半径方向に離れている場合、同じく第2の半径方向の磁気力をこのシャフトに加える。第2の端部磁石44は、磁気吸引力であり、第2の軸方向の磁気力の方向とは逆方向である第3の軸方向の磁気力をシャフトに加え、また、テンプ輪の中心軸26が回転軸28から半径方向に離れている場合、同じく第3の半径方向の磁気力をこのシャフトに加える。提供される第3の軸方向の磁気力の大きさは、第1の軸方向の磁気力の全体の大きさ、および第2の軸方向の磁気力の全体の大きさより小さい。第2の半径方向の力の全体の大きさ、および第3の半径方向の磁気力の全体の大きさは、図2の曲線によって示されているように、中心軸26と回転軸28の間の距離との実質的に線形依存性を特徴としている。端部磁石42および44は、それぞれ整列し、かつ、テンプ輪22のための回転軸28を画定している中心軸を有しており、したがってこの回転軸は、時計ムーブメント20中で予め定義されている。回転軸は、テンプ輪22のキャリア構造、すなわちプレート40およびブリッジ52に対して、所与の固定位置を維持している。
本発明による一対の環状磁石を供給することにより、第1の端部磁石および第2の端部磁石の寸法を著しく短くすることができ、とりわけ従来技術における第2の端部磁石より大きいサイズを有していなければならない第1の端部磁石の寸法を著しく短くすることができる(第1の端部磁石によって上部シャフトに加えられる軸方向の磁気力は、第2の端部磁石によって従来技術におけるこのシャフトに加えられる軸方向の磁気力より大きくしなければならない)ことに留意されたい。実際、一対の環状磁石によって生成される、第2の軸方向の磁気力と同じ方向に加えられる第1の軸方向の磁気力が存在する場合、第2の軸方向の磁気力は、もはや、第3の軸方向の磁気力の大きさより大きい大きさを有している必要はない。さらに、後でもう一度説明されるように、本発明による一対の環状磁石を配置することにより、同じく、主として第2の半径方向の磁気力を小さくすることができ、また、第2の端部磁石44が一対の環状磁石から離れている場合、好ましくはより小さい範囲で、機械式共振子(テンプ輪-ばね)のより良好な磁気心出しを有しつつ、第3の半径方向の磁気力を同じく小さくすることができる。
以上の説明により、図には示されていない2つの特定の実施形態を同じく考察することができる。第1の特定の実施形態では、一対の環状磁石32および34以外に、1つだけ端部磁石が提供される。第1の変形態様では、一対の環状磁石と同じ慣性質量の側に位置し、かつ、この一対の環状磁石と同じ方向の軸方向の磁気力をもたらす端部磁石はこの端部磁石のみである。第2の変形態様では、一対の環状磁石が位置する側とは反対の慣性質量の側に位置し、かつ、一対の環状磁石によって生成される軸方向の磁気力の方向とは逆方向の軸方向の磁気力をもたらす端部磁石はこの端部磁石のみである。この第2の変形態様では、一対の環状磁石の軸方向の磁気力は、第1の変形態様の軸方向の磁気力より大きくしなければならない。第2の特定の実施形態では、機械式ムーブメントに組み込まれた機械式共振子を回転中に案内するための磁気デバイスは、一対の環状磁石32および34のみからなっている。この第2の特定の実施形態の変形態様は、以下で説明される第2の実施形態による一対の環状磁石を備えていることが有利である。第2の特定の実施形態では、正規の動作ではテンプ輪のシャフトのピボットが寄りかかっている受石は、このピボットを実質的に中心位置に保持するため、すなわちテンプ輪のために提供された回転軸上に実質的に保持するための、朝顔形に広がった小さいドームを有している。朝顔形に広がったこのような小さいドームは、本発明のすべての実施形態に有利に提供することができることに留意されたい。
以下、本発明による機構60の第2の実施形態について、図5、図6、図8および図9を参照して説明する。上で既に説明した参照については、重複して詳細には説明されない。図5および図6に示されている第1の変形態様では、第2の実施形態は、主として、第1の環状磁石62が、第2の環状磁石64の側に、極性が交番する(N、S、N)第1の複数の環状磁化領域62a、62bおよび62cを有し、また、第2の環状磁石64が、第1の環状磁石62の側に、極性が交番する(S、N、S)第2の複数の環状磁化領域64a、64bおよび64cを有している点で第1の実施形態とは異なっている。通常、テンプ輪22Aの中心軸26が回転軸28と一致すると、第1の複数の環状磁化領域のうちの少なくとも2つの環状磁化領域が、実質的に全体にわたって第2の複数の環状磁化領域のうちの2つのそれぞれの環状磁化領域と軸方向に重畳し、また、磁気吸引で、これらのそれぞれの2つの環状領域と実質的に全体にわたって軸方向に重畳する。第1の変形態様では、第1の複数の環状磁化領域は3つの環状磁化領域を備えており、これらはそれぞれ全体にわたって第2の複数の環状磁化領域の3つの環状磁化領域と重畳している。図5の部分斜視図では、示されている第2の環状磁石64にはそのサポートがなく、したがってこの磁石の外面が見える。一方、図6では、個別に示されているのは、2つの環状磁石62と64の間の中間空間から見たこれらの2つの環状磁石62および64のみである。第2の実施形態は、2つの端部磁石42および44における相違をさらに特徴としている。第1の実施形態では、これらの2つの端部磁石は、実質的に同じ寸法および同じ磁気パワーを備えているが、第2の実施形態では、第1の端部磁石42は、この一対の環状磁石の比較的近くに位置する第1の端部磁石よりも、一対の端部磁石からはるかに離れている第2の端部磁石44の寸法より小さい、より小さい寸法を備えている。
2つの環状磁石62および64は、真空エンクロージャ中での希土類材料の合金の気相堆積プロセス、詳細にはスパッタによって製造されることが有利である。例えばこれらの2つの多極環状磁石の厚さは、10ミクロン~50ミクロンの範囲、詳細には15ミクロンと30ミクロンの間にすることができる。サポートの上に堆積した個々の希土類材料合金層の永久磁化は、堆積した層を直角に横切る強烈な磁界を生成することができるようになされた工場で実施することができ、この磁界のベクトルは、極性が交番する磁化環状領域を得るために、主として一方向であり、あるいは堆積した層の様々な面積に応じて逆方向である。したがって軸方向の磁化を有する2極環状磁化領域が得られる。
図7Aおよび図7Bから分かるように、第2の実施形態により、2つの環状磁石によって付与される磁気心出し力を著しく大きくすることができる。図7Aは、0.2mm(200ミクロン)に等しい環状磁石間の距離Gを有する一対の環状磁石によって生成される、回転軸28に対するテンプ輪の中心軸26の半径方向の移動Xの関数としての半径方向の磁気バイアス力F(X)を示すグラフであり、曲線80は、第2の実施形態に対するこの関数を示しており、一方、曲線82は、第1の実施形態に対するこの関数を示している(環状磁石の寸法は全く同じである)。力F(X)は、2つの端部磁石によって生成される半径方向の磁気バイアス力である力F(X)を大きくすることに留意されたい(図2参照。しかしながら線形関数の勾配は端部磁石の磁気パワー、詳細には端部磁石の寸法に依存することに留意されたい)。
本発明による一対の環状磁石は、比較的大きいバイアス力F(X)を回転軸に向かって速やかに加え、曲線80および82の初期勾配は、線形関数F(X)とは対照的に、最初の50ミクロンまで比較的急峻であることが分かる。さらに、この勾配は、第2の実施形態の方が第1の実施形態よりもはるかに急峻であり(2倍を超える)、これは、有効で、かつ、正確な磁気心出しを得るためには極めて有利であることが分かる。
図7Bは、図7Aのグラフと同様のグラフであるが、2つの環状磁石の間の距離Gは0.1mm(100ミクロン)に等しい。曲線84は第2の実施形態に関し、一方、曲線86は第1の実施形態に関している。最初に、距離G=0.1mmの場合、半径方向の磁気バイアス力F(X)は、距離G=0.2mmの場合よりもはるかに大きい最大値(X=100ミクロン近辺)を有していることが分かる(ほぼ6倍)。したがって勾配は、最初の50ミクロンまで、それぞれ曲線84および86の方が曲線80および82よりも急峻であり、この勾配は曲線84の方が曲線86よりもはるかに急峻である(ほぼ5倍)。これは、中心軸26が回転軸28に対して平行になると、互いに平行に配置される2つの環状磁石の間の距離がより短い第2の実施形態がとりわけ有効で、かつ、有利であることを示している。
図6と同様の図8および図9には、第2の実施形態の2つの他の変形態様が示されている。図8の第2の変形態様では、通常、第1の環状磁石62はN個の環状磁化領域(62a、62b、62c)を備えており、Nは1より大きく、また、第2の環状磁石66はN+1個の環状磁化領域(64a、64b、64c、64d)を備えており、第1の環状磁石62のN個の環状磁化領域は、テンプ輪の中心軸26が回転軸28と一致すると、それぞれ第2の環状磁石64の内部領域(64a)を含むN個の環状磁化領域と軸方向に重畳し、第2の複数の環状磁化領域は、第1の環状磁石62を越えて半径方向に展開している外部領域(64d)を備えている。図8に示されている特定の例では、自然数Nは3に等しく、すなわちN=3である。この第2の変形態様により、回転で移動することができる要素上に埋め込まれた、すなわちテンプ輪22A上に埋め込まれた同じ第1の環状磁石62のための第1の変形態様と比較して、半径方向の磁気バイアス力F(X)を大きくすることができる。
図9の第3の変形態様では、通常、第1の環状磁石68はN個の環状磁化領域(62b、62c)を備えており、Nは1より大きく、また、第2の環状磁石66はN+2個の環状磁化領域(64a、64b、64c、64d)を備えており、第1の環状磁石68のN個の環状磁化領域は、回転要素(詳細にはテンプ輪)の中心軸26が回転軸28と一致すると、それぞれこの第2の環状磁石の第2の複数の環状磁化領域のうちの外部領域(64d)と内部領域(64a)の間に位置する、第2の環状磁石66のN個の内部環状磁化領域(64b、64c)と軸方向に重畳し、これらの内部領域および外部領域は、それぞれ第1の環状磁石68の両側から半径方向に展開している。図9に示されている特定の例では、自然数Nは2に等しく、すなわちN=2である。この第2の変形態様により、テンプ輪上に埋め込まれた、より小さい寸法を有し、したがってより軽い重量を有する第1の環状磁石に対して、この第1の環状磁石のサポートが同じくより小さい寸法を有している場合、比較的大きい半径方向の磁気バイアス力F(X)を得ることができる。したがって極めて有効な磁気心出しが得られ、その一方で、回転要素、詳細にはテンプ輪の慣性が大きくなることはほとんどない。
2 共振子
3 ばね
4 テンプ輪
4a 慣性質量
6a、6b 磁気ピボット
6 シャフト
8 テンプ輪4の回転軸
10、12 永久磁石
20 時計ムーブメント(機構)
22 テンプ輪(回転要素)
22A テンプ輪(回転要素)
24 シャフト
26 テンプ輪22の中心軸
28 テンプ輪22(22A)の回転軸
30 サポート
32、62、68 第1の環状磁石
34 第2の環状磁石
36 サポート
38 円筒管
40 時計ムーブメント20のプレート(機構の構造)
42 第1の端部磁石
44 第2の端部磁石
46、48、74 プレート
50 円筒管
52 ブリッジ
54、56 石
60 機構
62a、62b、62c 環状磁化領域
64、66 第2の環状磁石
64a、64b、64c、64d 環状磁化領域
72 テンプ輪を脱進機と結合するためのデバイス72
76 ピン
80 第2の実施形態に対する関数F(X)を示す曲線
82 第1の実施形態に対する関数F(X)を示す曲線
X 回転軸28に対するテンプ輪の中心軸26の半径方向の移動
G 2つの環状磁石の間の間隔/距離

Claims (8)

  1. 回転要素(22;22A)と、回転中のこの回転要素を案内するための磁気デバイスとを備える機構(20;60)であって、この磁気デバイスは、この回転要素の中心軸(26)が前記機構中の前記回転要素に対して予め定義されている回転軸(28)に対して半径方向に移動する(X)と、前記回転要素に半径方向の磁気バイアス力(F)を加えるようになされている、機構(20;60)において、前記磁気デバイスは一対の環状磁石を備えており、そのうちの第1の環状磁石(32;62;62;68)は、その中心が前記中心軸との一致を維持するように前記回転要素によって支えられ、また、第2の環状磁石(34;64;66;66)は、その中心が前記回転軸との一致を維持するように前記機構の構造(40)によって支えられることを特徴とし、また、前記第2の環状磁石は、前記回転要素の前記中心軸が前記回転軸と一致すると前記第1の環状磁石と平行になり、また、前記第1の環状磁石と少なくとも部分的に軸方向に重畳し、前記第1の環状磁石および第2の環状磁石は、第1の軸方向の磁気力を互いに付与し、また、前記回転要素の前記中心軸が前記回転軸から半径方向に逸脱すると、第1の半径方向の磁気力(F(X))を実質的に直ちに付与するよう、磁気吸引で配置されていることを特徴とする機構(20;60)。
  2. 前記磁気デバイスは、前記回転要素(22;22A)のシャフト(24)の第1の端部とは反対側の軸方向に配置されている少なくとも1つの第1の端部磁石(42)をさらに備え、このシャフトは、少なくとも部分的に軟強磁性体または磁性体によって形成されており、したがって前記第1の端部磁石は、磁気吸引力であるべきであり、また、前記第1の軸方向の磁気力と同じ方向を有する第2の軸方向の磁気力を加え、また、前記回転要素の前記中心軸が前記回転軸から半径方向に離れている場合、同じく第2の半径方向の磁気力をこのシャフトに加えることを特徴とする請求項1に記載の機構。
  3. 前記磁気デバイスは、前記シャフト(24)の第2の端部とは反対側に配置された第2の端部磁石(44)を備え、前記シャフトは軟強磁性体によって形成され、前記第2の端部磁石は、磁気吸引力であり、また、前記第2の軸方向の磁気力の方向とは逆方向である第3の軸方向の磁気力を前記シャフトに加え、また、前記回転要素の前記中心軸が前記回転軸から半径方向に離れている場合、同じく第3の半径方向の磁気力をこのシャフトに加え、前記第3の軸方向の磁気力の大きさは、前記第1の軸方向の磁気力の全体の大きさ、および前記第2の軸方向の磁気力の全体の大きさより小さいことを特徴とする請求項2に記載の機構。
  4. 前記第1の環状磁石(32;62;68)は、透磁率が小さい材料、詳細には常磁性体または反磁性体でできた環状サポート(30)の上方に配置され、前記環状サポート(30)は前記シャフト(24)の上に固定して取り付けられることを特徴とする請求項2または3に記載の機構。
  5. 前記第1の環状磁石(62;62;68)は、前記第2の環状磁石(64;66;66)の側に、極性が交番する第1の複数の環状磁化領域(62a、62b、62c;62b、62c)を有し、また、前記第2の環状磁石は、前記第1の環状磁石の側に、極性が交番する第2の複数の環状磁化領域(64a、64b、64c;62a、62b、62c、62d)を有し、前記第1の複数の環状磁化領域(62b、62c)のうちの少なくとも2つの環状磁化領域は、前記回転要素(22;22A)の前記中心軸(26)が前記回転軸(28)と一致すると、実質的に全体が前記第2の複数の環状磁化領域のうちの2つのそれぞれの環状磁化領域(64b、64c)と軸方向に重畳し、また、磁気吸引で、これらの2つのそれぞれの環状領域と実質的に全体が軸方向に重畳することを特徴とする請求項2または3に記載の機構。
  6. 前記第1の複数の環状磁化領域および前記第2の複数の環状磁化領域の各々が3つの環状磁化領域(62a、62b、62c;64a、64b、64c)を備えることを特徴とする請求項5に記載の機構。
  7. 前記第1の環状磁石(62)はN個の環状磁化領域(62a、62b、62c)を備え、Nは1より大きく、また、前記第2の環状磁石(66)はN+1個の環状磁化領域(64a、64b、64c、64d)を備え、前記第1の環状磁石の前記N個の環状磁化領域は、前記回転要素の中心軸(26)が前記回転軸(28)と一致すると、それぞれ前記第2の環状磁石の内部領域を含むN個の環状磁化領域と軸方向に重畳し、前記第2の複数の環状磁化領域は、前記第1の環状磁石を越えて半径方向に展開している外部領域(64d)を備えることを特徴とする請求項5に記載の機構。
  8. 前記第1の環状磁石(68)はN個の環状磁化領域(62b、62c)を備え、Nは1より大きく、また、前記第2の環状磁石(66)はN+2個の環状磁化領域(64a、64b、64c、64d)を備え、前記第1の環状磁石の前記N個の環状磁化領域は、前記回転要素の前記中心軸(26)が前記回転軸(28)と一致すると、それぞれ前記第2の複数の環状磁化領域のうちの外部領域(64d)と内部領域(64a)の間に位置する、前記第2の環状磁石のN個の内部環状磁化領域(64b、64c)と軸方向に重畳し、これらの内部領域および外部領域は、それぞれ前記第1の環状磁石の両側から半径方向に展開することを特徴とする請求項5に記載の機構。
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