JP2023083195A - 光学素子、光学素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】部分的に金属層が設けられた光学素子、光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】光学素子１は、単位光学形状１２１が複数並べて配置された光透過性を有する第１光学形状層１２を備え、シート状に形成された光学素子であって、単位光学形状１２１は、シート面に直交する方向に延在する直交面１２１ｂと、直交面１２１ｂに交差する斜面１２１ａと、を有しており、単位光学形状１２１には、特定の波長領域の光照射によって特性が変化するフォトクロミック層３０が単位光学形状１２１に沿って積層されており、斜面１２１ａに積層されたフォトクロミック層３０の少なくとも一部には、金属層４０が設けられている。【選択図】図２

Description

本開示は、光学素子、光学素子の製造方法に関するものである。

パターン状に蒸着層を形成する方法として、マスク露光等により、マスキング層を形成したのち、全面を蒸着し、マスキング層を剥離する等の方法が取られてきた。例えば、特許文献１には、電離放射線の露光により、蒸着されるか、蒸着されないかが変化する層を形成したのち、蒸着することにより、パターン状に蒸着層を形成する方法が示されている。

特開２００７-１８８５４号公報

しかし、凹凸を有する形状の場合には、マスク露光等により、部分的に露光することは困難であった。
また、パターン状に無電解メッキ層を形成する方法においても、同様に凹凸を有する形状の場合には、パターンを形成することが難しい。

本開示の課題は、部分的に金属層が設けられた光学素子、光学素子の製造方法を提供することである。

本開示は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本開示の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。

第１の発明は、単位光学形状（１２１）が複数並べて配置された光透過性を有する第１光学形状層（１２）を備え、シート状に形成された光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）であって、前記単位光学形状（１２１）は、シート面に直交する方向に延在する直交面（１２１ｂ）と、前記直交面（１２１ｂ）に交差する斜面（１２１ａ）と、を有しており、前記単位光学形状（１２１）には、特定の波長領域の光照射によって特性が変化するフォトクロミック層（３０）が前記単位光学形状（１２１）に沿って積層されており、前記斜面（１２１ａ）に積層された前記フォトクロミック層（３０）の少なくとも一部には、金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ）が設けられている光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）である。

第２の発明は、第１の発明に記載の光学素子（１、１Ｄ、１Ｅ、１Ｈ）において、前記金属層（４０）は、遮光層であること、を特徴とする光学素子（１、１Ｄ、１Ｅ、１Ｈ）である。

第３の発明は、第１の発明に記載の光学素子（１Ｂ、１Ｃ、１Ｆ、１Ｇ）において、前記金属層（４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ）は、反射層であること、を特徴とする光学素子（１Ｂ、１Ｃ、１Ｆ、１Ｇ）である。

第４の発明は、第３の発明に記載の光学素子（１Ｂ、１Ｆ）において、前記斜面（１２１ａ）は、粗面であり、前記斜面（１２１ａ）上の前記フォトクロミック層（３０）及び前記金属層（４０Ｂ）は、前記斜面（１２１ａ）の粗面に沿った粗面であること、を特徴とする光学素子（１Ｂ、１Ｆ）である。

第５の発明は、第３の発明に記載の光学素子（１Ｃ、１Ｇ）において、前記斜面（１２１ａ）は、平滑面であり、前記斜面（１２１ａ）上の前記フォトクロミック層（３０）及び前記金属層（４０Ｃ）は、前記斜面（１２１ａ）の平滑面に沿った平滑面であり、光を拡散する拡散層（１１Ｃ）を有すること、を特徴とする光学素子（１Ｃ、１Ｇ）である。

第６の発明は、第１の発明から第５の発明までのいずれかに記載の光学素子（１Ｄ、１Ｈ）において、前記フォトクロミック層（３０）と前記金属層（４０Ｄ）との間に、無電解メッキ触媒層（５０）が設けられていること、を特徴とする光学素子（１Ｄ、１Ｈ）である。

第７の発明は、シート面に直交する方向に延在する直交面（１２１ｂ）と、前記直交面（１２１ｂ）に交差する斜面（１２１ａ）と、を有する単位光学形状（１２１）が複数並べて配置された第１光学形状層（１２）を形成する第１光学形状層形成工程と、前記第１光学形状層（１２）の前記単位光学形状（１２１）を有する面に、特定の波長領域の光照射によって特性が変化するフォトクロミック層（３０）を形成するフォトクロミック層形成工程と、前記第１光学形状層（１２）の前記単位光学形状（１２１）とは反対側の面から光を前記直交面（１２１ｂ）に到達しない又は到達しにくい角度で前記単位光学形状（１２１）の内部へ照射し、前記斜面（１２１ａ）に到達させて、前記斜面（１２１ａ）上の前記フォトクロミック層（３０）の特性を変化させる光照射工程と、前記斜面（１２１ａ）に金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ）を形成する金属層形成工程と、を備える光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第８の発明は、請求項７に記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ）の製造方法において、前記フォトクロミック層（３０）は、特定の波長領域の光照射により金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態に変化する材料により形成されており、前記光照射工程によって前記直交面（１２１ｂ）は金属蒸着不可能な状態を維持し、かつ、前記斜面（１２１ａ）を金属蒸着不可能な状態に変化させ、前記金属層形成工程では、前記金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ）となる金属を前記斜面（１２１ａ）に蒸着処理を行い前記斜面（１２１ａ）に前記金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ）を形成すること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ）の製造方法である。

第９の発明は、第７の発明に記載の光学素子（１Ｄ）の製造方法において、前記フォトクロミック層（３０）は、特定の波長領域の光照射により特性が疎水性から親水性に変化する材料により形成されており、前記光照射工程によって前記直交面（１２１ｂ）は疎水性を維持し、かつ、前記斜面（１２１ａ）を親水性に変化させ、前記光照射工程と前記金属層形成工程との間において、前記フォトクロミック層（３０）に無電解メッキの触媒材料を塗布し、親水性に変化した前記フォトクロミック層（３０）の上に無電解メッキ触媒層（５０）を形成する無電解メッキ触媒層形成工程を備え、前記金属層形成工程では、前記無電解メッキ触媒層（５０）の上に無電解メッキ処理を行い無電解メッキ層を前記金属層（４０Ｄ）として形成すること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１０の発明は、第７の発明から第９の発明までのいずれかに記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記特定の波長領域の光照射とは異なる波長領域の光を前記フォトクロミック層（３０）の全体に照射する初期照射工程を備えること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１１の発明は、第７の発明から第１０の発明までのいずれかに記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸の谷部を充填するように前記フォトクロミック層（３０）よりも屈折率の低い液体（４１）を充填する液体充填工程を備えること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１２の発明は、第１１の発明に記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法において、前記液体充填工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸形状の逆形状又は逆形状に近い形状を有する補助部材（４３）を前記単位光学形状（１２１）の凹凸形状から隙間を空けて配置し、前記液体充填工程では、前記隙間に前記液体（４１）を充填すること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１３の発明は、第１１の発明又は第１２の発明に記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法において、前記液体（４４）は、未硬化の樹脂であり、前記光照射工程の後に前記液体（４４）を硬化させて除去すること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１４の発明は、第７の発明から第１０の発明までのいずれかに記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸形状の谷部を充填するように硬化後に前記フォトクロミック層よりも屈折率が低くなる未硬化の樹脂である液体（４５）を充填する液体充填工程と、前記液体充填工程の後に前記液体（４５）を硬化させる硬化工程と、を備え、前記光照射工程の後に前記液体（４５）が硬化した樹脂を除去すること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１５の発明は、第７の発明から第１０の発明までのいずれかに記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸形状の逆形状を有し、前記フォトクロミック層よりも屈折率の低い密着部材（４６）を前記単位光学形状（１２１）の凹凸形状に光学密着させる光学密着工程を備えること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１６の発明は、第７の発明から第１５の発明までのいずれかに記載の光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法において、前記金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸の谷部を充填するように第２光学形状層（２２）を形成する第２光学形状層形成工程を備えること、を特徴とする光学素子（１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ）の製造方法である。

第１７の開示は、シート面に直交する方向に延在する直交面（１２１ｂ）と、前記直交面（１２１ｂ）に交差する斜面（１２１ａ）と、を有する単位光学形状（１２１）が複数並べて配置された第１光学形状層（１２）を形成する第１光学形状層形成工程と、前記第１光学形状層（１２）の前記単位光学形状（１２１）を有する面に、特定の波長領域の光照射によって特性が変化するフォトクロミック層（３０）を形成するフォトクロミック層形成工程と、前記直交面（１２１ｂ）に光が到達しないように部分的に遮光する遮光パターン（２０１）を有するマスクを介して、前記第１光学形状層（１２）の前記単位光学形状（１２１）とは反対側の面から光を前記単位光学形状（１２１）の内部へ照射し、前記斜面（１２１ａ）に到達させて、前記斜面（１２１ａ）上の前記フォトクロミック層（３０）の特性を変化させる光照射工程と、前記斜面（１２１ａ）に金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ）を形成する金属層形成工程と、を備える光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

第１８の開示は、第１７の開示に記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ）の製造方法において、前記フォトクロミック層（３０）は、特定の波長領域の光照射により金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態に変化する材料により形成されており、前記光照射工程によって前記直交面（１２１ｂ）は金属蒸着不可能な状態を維持し、かつ、前記斜面（１２１ａ）を金属蒸着不可能な状態に変化させ、前記金属層形成工程では、前記金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ）となる金属を前記斜面（１２１ａ）に蒸着処理を行い前記斜面（１２１ａ）に前記金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ）を形成すること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ）の製造方法である。

第１９の開示は、第１７の開示に記載の光学素子（１Ｈ）の製造方法において、前記フォトクロミック層（３０）は、特定の波長領域の光照射により特性が疎水性から親水性に変化する材料により形成されており、前記光照射工程によって前記直交面（１２１ｂ）は疎水性を維持し、かつ、前記斜面（１２１ａ）を親水性に変化させ、前記光照射工程と前記金属層形成工程との間において、前記フォトクロミック層（３０）に無電解メッキの触媒材料を塗布し、親水性に変化した前記フォトクロミック層（３０）の上に無電解メッキ触媒層（５０）を形成する無電解メッキ触媒層形成工程を備え、前記金属層形成工程では、前記無電解メッキ触媒層（５０）の上に無電解メッキ処理を行い無電解メッキ層を前記金属層（４０Ｄ）として形成すること、を特徴とする光学素子（１Ｈ）の製造方法である。

第２０の開示は、第１７の開示から第１９の開示までのいずれかに記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記特定の波長領域の光照射とは異なる波長領域の光を前記フォトクロミック層（３０）の全体に照射する初期照射工程を備えること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

第２１の開示は、第１７の開示から第２０の開示までのいずれかに記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸形状の谷部を充填するように前記フォトクロミック層（３０）との屈折率差が０．０１以下である液体（４７）を充填する液体充填工程を備えること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

第２２の開示は、第２１の開示に記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法において、前記液体充填工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸形状の逆形状又は逆形状に近い形状を有する補助部材（４３）を前記フォトクロミック層（３０）から隙間を空けて配置し、前記液体充填工程では、前記隙間に前記液体（４７）を充填すること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

第２３の開示は、第２１の開示又は第２２の開示に記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法において、前記液体（４８）は、未硬化の樹脂であり、前記光照射工程の後に前記液体を硬化させて除去すること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

第２４の開示は、第１７の開示から第２０の開示までのいずれかに記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸形状の谷部を充填するように硬化後に前記フォトクロミック層（３０）と屈折率が同じになる未硬化の樹脂である液体（４９）を充填する液体充填工程と、前記液体充填工程の後に前記液体（４９）を硬化させる硬化工程と、を備え、前記光照射工程の後に前記液体が硬化した樹脂を除去すること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

第２５の開示は、第１７の開示から第２０の開示までのいずれかに記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法において、前記光照射工程の前に、前記単位光学形状（１２１）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸形状の逆形状を有し、前記フォトクロミック層（３０）と屈折率が同じ密着部材（５１）を前記フォトクロミック層（３０）に光学密着させる光学密着工程を備えること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

第２６の開示は、第１７の開示から第２５の開示までのいずれかに記載の光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法において、前記金属層（４０、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ）が設けられている側に、前記単位光学形状（１２１）による凹凸の谷部を充填するように第２光学形状層（２２）を形成する第２光学形状層形成工程を備えること、を特徴とする光学素子（１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ）の製造方法である。

本開示によれば、部分的に金属層が設けられた光学素子、光学素子の製造方法を提供することができる。

第１実施形態の光学素子１の正面図である。 図１中の矢印Ａ－Ａの位置で光学素子１を切断した断面の一部を示す図である。 第１光学形状層形成工程によって第１光学形状層１２を作製した状態を示す図である。 フォトクロミック層形成工程によってフォトクロミック層３０を形成した状態を示す図である。 液体充填工程によって低屈折率液体４１が充填された状態を示す図である。 光照射工程を説明する図である。 第１実施形態の金属層形成工程によって金属層４０が形成された状態を示す図である。 第２実施形態の光学素子１Ｂの正面図である。 図８中の矢印Ｂ－Ｂの位置で光学素子１Ｂを切断した断面の一部を示す図である。 図９中の範囲Ｅを拡大した図である。 第２実施形態の図９と同様な位置で第３実施形態の光学素子１Ｃを切断した断面の一部を示す図である。 第２実施形態の図９と同様な位置で第４実施形態の光学素子１Ｄを切断した断面の一部を示す図である。 無電解メッキ触媒層形成工程によって無電解メッキ触媒層５０が形成された状態を示す図である。 金属層形成工程によって金属層４０Ｄが形成された状態を示す図である。 第１光学形状層形成工程によって第１光学形状層１２を作製し、かつ、マスクシート２００を用意した状態を示す図である。 マスクシート２００を第１基材層１１に密着させた状態を示す図である。 フォトクロミック層形成工程によってフォトクロミック層３０を形成した状態を示す図である。 液体充填工程によって同一屈折率液体４７が充填された状態を示す図である。 光照射工程を説明する図である。 第５実施形態の金属層形成工程によって金属層４０が形成された状態を示す図である。 第５実施形態の光学素子１Ｅを示す断面図である。 第６実施形態の光学素子１Ｆを第２実施形態の図９と同様な位置で切断した断面図である。 第６実施形態の図２２と同様な位置で第７実施形態の光学素子１Ｇを切断した断面の一部を示す図である。 第５実施形態の図２１と同様な位置で第８実施形態の光学素子１Ｈを切断した断面の一部を示す図である。 無電解メッキ触媒層形成工程によって無電解メッキ触媒層５０が形成された状態を示す図である。 金属層形成工程によって金属層４０Ｄが形成された状態を示す図である。 補助部材４３を用いて、充填する低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７を減らす形態を示す図である。 液体充填工程において未硬化の樹脂である低屈折率液体４４又は同一屈折率液体４８を用いる形態を示す図である。 硬化後に前記フォトクロミック層よりも屈折率が低くなる未硬化の樹脂である液体、又は、硬化後に前記フォトクロミック層と屈折率が同じになる未硬化の樹脂である液体を充填する形態を示す図である。 光学密着工程を行う形態を示す図である。

以下、本開示を実施するための最良の形態について図面等を参照して説明する。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態の光学素子１の正面図である。
図２は、図１中の矢印Ａ－Ａの位置で光学素子１を切断した断面の一部を示す図である。
なお、図１を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張したり、省略したりして示している。
また、以下の説明では、具体的な数値、形状、材料等を示して説明を行うが、これらは、適宜変更することができる。
本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば、平行や直交等の用語については、厳密に意味するところに加え、同様の光学的機能を奏し、平行や直交と見なせる程度の誤差を有する状態も含むものとする。
本明細書において、板、シート、フィルム等の言葉を使用しているが、これらは、一般的な使い方として、厚さの厚い順に、板、シート、フィルムの順で使用されており、本明細書中でもそれに倣って使用している。しかし、このような使い分けには、技術的な意味は無いので、これらの文言は、適宜置き換えることができるものとする。
本明細書中において、シート面とは、各シートにおいて、そのシート全体として見たときにおける、シートの平面方向となる面を示すものであるとする。なお、板面、フィルム面に関しても同様であるとする。
また、本開示において透明とは、少なくとも利用する波長の光を透過するものをいう。例えば、仮に可視光を透過しないものであっても、赤外線を透過するものであれば、赤外線用途に用いる場合においては、透明として取り扱うものとする。
なお、本明細書及び特許請求の範囲において規定する具体的な数値には、一般的な誤差範囲は含むものとして扱うべきものである。すなわち、±１０％程度の差異は、実質的には違いがないものであって、本件の数値範囲をわずかに超えた範囲に数値が設定されているものは、実質的には、本件発明の範囲内のものと解釈すべきである。
また、図中には、説明の便宜のためＸ、Ｙ、Ｚの直交座標を設け、以下の説明ではこの座標を用いて各部の向き等の説明を行う。

光学素子１は、特定範囲の方向から入射する光を透過し、他の範囲の方向から入射する光を遮蔽する機能を備えたシート状の素子である。
光学素子１は、図２に示すように、厚み方向（Ｚ方向）において、－Ｚ側から順に、第１基材層１１と、第１光学形状層１２と、フォトクロミック層３０と、金属層４０と、第２光学形状層２２と、第２基材層２１とを備えている。

第１基材層１１は、光透過性を有するシート状の部材であり、その一方の面側（＋Ｚ側）に、第１光学形状層１２が一体に形成されている。この第１基材層１１は、第１光学形状層１２を形成する基材（ベース）となる層である。なお、第１基材層１１は、板状の部材であってもよいし、フィルム状の部材であってもよい。
第１基材層１１は、例えば、高い光透過性を有するＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、アクリル・スチレン樹脂、ＰＣ（ポリカーボネート）樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）樹脂等により形成される。

第１光学形状層１２は、第１基材層１１の＋Ｚ側に形成された光透過性を有する層である。第１光学形状層１２の＋Ｚ側の面には、単位光学形状１２１が複数並べて設けられている。
単位光学形状１２１は、図２に示す断面形状を維持したまま図１に示すように、Ｘ方向に直線状に延在している。

単位光学形状１２１は、図２に示すように、シート面に直交する方向（Ｚ方向）に平行であって、単位光学形状１２１の配列方向に平行な断面において、略三角形形状（楔状）の断面形状となっている。
単位光学形状１２１は、＋Ｚ側に凸であり、斜面１２１ａと、これに交差し、シート面に直交する方向に延在する直交面１２１ｂとを有している。
直交面１２１ｂと斜面１２１ａとがなす角θ１は、所望の光学特性に合わせて適宜設定可能であるが、後述する露光工程において斜面１２１ａに適切に光を照射するために、θ１は、１０°以上、３０°以下であることが望ましい。本実施形態では、θ１＝１５°とした。
直交面１２１ｂは、シート面に直交するので、シート面となす角θ２＝９０°である。
本実施形態の斜面１２１ａ及び直交面１２１ｂは、平滑面として構成したが、微細な凹凸形状を有する粗面としてもよい。

第１光学形状層１２は、光透過性の高いウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリチオール系、ブタジエンアクリレート系等の紫外線硬化型樹脂により形成されている。
なお、本実施形態では、第１光学形状層１２を構成する樹脂として、紫外線硬化型樹脂を例に挙げて説明するが、これに限らず、例えば、電子線硬化型樹脂等の他の電離放射線硬化型樹脂により形成してもよい。

第１基材層１１の屈折率ｎ１１と第１光学形状層１２の屈折率ｎ１２とは、同じであるか、両者の屈折率差が０．０１以下であることが望ましい。本実施形態では、第１基材層１１の屈折率ｎ１１＝１．５７、第１光学形状層１２の屈折率ｎ１２＝１．５７とした。

フォトクロミック層３０は、単位光学形状１２１に沿って薄膜状に積層されており、特定の波長領域の光照射によって特性が変化する層である。より具体的には、本実施形態のフォトクロミック層３０は、１、２－ジアリールエテンを塗布して乾燥させたものである。また、本実施形態のフォトクロミック層３０は、１、２－ジアリールエテンに波長が３００～４００ｎｍの光を照射すると、蒸着する金属が付着可能な状態（金属蒸着可能な状態）となり、波長が５００～６００ｎｍの光を照射すると、蒸着する金属が付着しない状態（金属蒸着不可能な状態）となる特性を利用する。
フォトクロミック層３０の層厚は、０．１μｍ以上、１０μｍ以下とすることが望ましい。
また、フォトクロミック層３０の屈折率ｎ３０と第１光学形状層１２の屈折率ｎ１２とは、同じであるか、両者の屈折率差が０．０１以下であることが望ましい。本実施形態では、フォトクロミック層３０の屈折率ｎ３０＝１．５７であり、第１光学形状層１２の屈折率ｎ１２と同じである。

なお、本明細書中では、「フォトクロミック」との文言は、光照射によって何らかの特性が変化することを表すものとし、光照射によって色変化（透過スペクトルの変化）が生じることを要するものではない。また、上述したフォトクロミック層３０の例では、可逆性のフォトクロミック特性を有しているが、不可逆性のフォトクロミック特性であってもよい。光照射により特性が変化する技術が記載されているものとして、高分子学会編集、“フォトクロミズム”共立出版、ｐ．２８ （２０１２）がある。

金属層４０は、斜面１２１ａに積層されたフォトクロミック層３０上の＋Ｚ側の先端付近を除く略全面に薄膜状に形成されている。また、金属層４０は、直交面１２１ｂに積層されたフォトクロミック層３０上には、設けられていない。
本実施形態の金属層４０は、黒化処理されて黒色になったマグネシウムにより形成されており、光を遮光する遮光層として機能する。なお、金属層４０としては、マグネシウムに限らず、銅、亜鉛等を用いてもよい。

第２光学形状層２２は、第１光学形状層１２の＋Ｚ側に設けられた光透過性を有する層である。
第２光学形状層２２は、単位光学形状１２１間の谷部を埋めるように充填され、第１光学形状層１２の＋Ｚ側の面を平坦化している。この第２光学形状層２２の－Ｚ側の面は、第１光学形状層１２の単位光学形状１２１の略逆型の形状が複数配列されて形成されている。
このような第２光学形状層２２を設けることにより、金属層４０を保護することができる。また、このような第２光学形状層２２を設けることにより、光学素子１の＋Ｚ側に、第２基材層２１等の他の層を積層しやすくなる。

第２光学形状層２２の屈折率ｎ２２とフォトクロミック層３０の屈折率ｎ３０とは、同じであるか、両者の屈折率差が０．０１以下であることが望ましい。本実施形態では、第２光学形状層２２の屈折率ｎ２２＝１．５７であり、フォトクロミック層３０の屈折率ｎ３０＝１．５７と同じである。
第２光学形状層２２は、前述の第１光学形状層１２と同じ樹脂を用いて形成してもよいし、異なる樹脂を用いて形成してもよい。
本実施形態の第２光学形状層２２は、第１光学形状層１２と同じ紫外線硬化型樹脂により形成されている。

第２基材層２１は、第２光学形状層２２の＋Ｚ側に形成された光透過性を有する層であり、この光学素子１の＋Ｚ側を保護する機能を有している。
第２基材層２１は、光透過性の高い樹脂製のシート状の部材が用いられる。第２基材層２１は、例えば、前述の第１基材層１１と同様の材料を用いて形成されたシート状の部材を用いてもよい。なお、第２基材層２１は、省略してもよい。

次に、本実施形態の光学素子１の製造方法について説明する。
先ず、第１光学形状層１２を作製する（第１光学形状層形成工程）。
図３は、第１光学形状層形成工程によって第１光学形状層１２を作製した状態を示す図である。
第１光学形状層１２は、第１基材層１１の一方の面上に、未硬化の紫外線硬化型樹脂を塗布して別途用意した成形型に第１基材層１１とともに押圧した状態で紫外線を照射して硬化させることにより形成される。

第１光学形状層１２を作製したら、次に、第１光学形状層１２の上に、フォトクロミック層３０を形成する（フォトクロミック層形成工程）。
図４は、フォトクロミック層形成工程によってフォトクロミック層３０を形成した状態を示す図である。
フォトクロミック層３０は、例えば、蒸着法、スピンコート法、スリットコート法等により形成することができる。

なお、フォトクロミック層３０は、乾燥直後は、金属蒸着不可能な状態であるが、波長が３００～４００ｎｍの光が当たっていることが否定できない場合も想定される。そのような場合には、光照射工程の直前に、波長が５００～６００ｎｍの光をフォトクロミック層３０に十分に照射し（初期照射工程）、金属蒸着不可能な状態を確実にしておくとよい。

次に、単位光学形状１２１が設けられている側に、単位光学形状１２１による凹凸の谷部を充填するようにフォトクロミック層３０よりも屈折率の低い液体を充填する（液体充填工程）。
図５は、液体充填工程によって低屈折率液体４１が充填された状態を示す図である。
本実施形態では、低屈折率液体４１の上に低屈折率液体４１が漏れるのを防ぐために蓋層４２を配置する。
低屈折率液体４１としては、フォトクロミック層３０よりも僅かに屈折率が低く、フォトクロミック層３０の屈折率ｎ３０と低屈折率液体４１の屈折率ｎ４１との差が１．０以下である液体が望ましい。低屈折率液体４１としては、例えば、イマージョンオイル、ウレタンアクリレート樹脂等を用いることができ、本実施形態では、屈折率ｎ４１＝１．５２のイマージョンオイルを用いている。
また、蓋層４２としては、例えば、ガラス、アクリル樹脂等を用いることができ、本実施形態では、アクリル樹脂を用いている。

次に、単位光学形状１２１の斜面１２１ａのみに特定波長の光を照射する（光照射工程）。
図６は、光照射工程を説明する図である。
光照射工程では、第１光学形状層１２の単位光学形状１２１とは反対側の面から光を直交面１２１ｂに到達しない又は到達しにくい角度で単位光学形状１２１の内部へ照射する。そして、照射した光を斜面１２１ａに到達させて、光が到達した斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０の特性を変化させる。本実施形態の光照射工程では、波長が３００～４００ｎｍの光を照射して、斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０を金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態へと変化させる。
また、低屈折率液体４１を充填しない状態で光を照射すると、照射した光が斜面１２１ａにおいて全反射して直交面１２１ｂに到達するが、低屈折率液体４１を充填することにより照射した光が斜面１２１ａにおいて全反射することを防いでいる。

本実施形態では、図６に示すように３°の入射角で進む波長が３００～４００ｎｍの平行光を照射して、図６中に示すような光路によって４°の出射角で出射する。そして、図６に示すように入射した光は、斜面１２１ａ上に設けられたフォトクロミック層３０を通過するが、直交面１２１ｂ上に設けられたフォトクロミック層３０には到達しない。よって、斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０のみが金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態へと変化し、直交面１２１ｂの上に設けられたフォトクロミック層３０は、金属蒸着不可能な状態を維持する。

次に、低屈折率液体４１及び蓋層４２を除去し、洗浄、及び、乾燥を行った後に、金属蒸着処理を行い金属層４０の形成を行う（金属層形成工程）。
図７は、第１実施形態の金属層形成工程によって金属層４０が形成された状態を示す図である。
先の光照射工程によって、斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０のみが金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態へと変化し、直交面１２１ｂの上に設けられたフォトクロミック層３０は、金属蒸着不可能な状態を維持している。したがって、金属蒸着可能な状態へと変化した斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０にのみ金属層４０が形成される。
先に説明したように、本実施形態では、金属層４０は、マグネシウムを用いており、金属層形成工程では、マグネシウムを蒸着させる。また、蒸着後のマグネシウムは、黒化処理を行い、黒色に変色させる。

次に、単位光学形状１２１間の谷部を埋めるように第２光学形状層２２となる紫外線硬化型樹脂を充填し、第２基材層２１をさらに設ける。そして、紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させて第２光学形状層を形成する（第２光学形状層形成工程）ことにより、図１及び図２に示した光学素子１が完成する。

以上説明したように、第１実施形態によれば、従来は作製が困難であった斜面１２１ａのみに金属層４０を有する光学素子１を、簡単に作製することができる。
また、完成した光学素子１は、内部にシート面に対して傾斜した金属層４０が間隔を空けて配列されている。そして、金属層４０は黒化処理されていることから光を遮る効果を有する。よって、特定の方向からの光のみを透過して、他の方向からの光の大部分を遮光するブラインドのような効果を得られる。また、この光学素子１は、ブラインドのように破損したり、塵埃等が堆積したりすることを防止することができ、使い勝手がよい。

（第２実施形態）
図８は、第２実施形態の光学素子１Ｂの正面図である。
図９は、図８中の矢印Ｂ－Ｂの位置で光学素子１Ｂを切断した断面の一部を示す図である。
第２実施形態の光学素子１Ｂは、図９に示すように映像源ＬＳによって斜め下方から照射される映像光を反射して観察者Ｏ１が観察可能に出射する透過型スクリーンである点で、第１実施形態の光学素子１と異なっている。また、第２実施形態の光学素子１Ｂは、図９に示す断面形状は、第１実施形態の光学素子１と略同様であるが、正面からみた形態において単位光学形状１２１及び金属層４０Ｂの配列形態が第１実施形態の光学素子１と異なっている。また、第２実施形態の光学素子１Ｂは、斜面１２１ａ及び金属層４０Ｂの形態が第１実施形態の光学素子１と異なっているが、上記以外の部分については、第１実施形態の光学素子１と略同様である。よって、前述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。

第２実施形態の単位光学形状１２１及び金属層４０Ｂは、図８に示すように、真円の一部形状（円弧状）であり、光学素子１Ｂの範囲外に位置する点Ｃを中心として、同心円状に複数配列されている。
本実施形態では、図８に示すように、第１光学形状層１２を正面側（＋Ｚ側）から見たときに、点Ｃは、光学素子１Ｂの左右方向（Ｘ方向）の中央であって光学素子１Ｂの範囲外の下方（－Ｙ側）に位置しており、点Ｃと点Ｄとは、Ｙ方向に平行な同一直線上に位置している。なお、点Ｄは、光学素子１Ｂの上下左右方向の中心位置（対角線の交点）である。

第２実施形態の第１光学形状層１２は、正面から見た形状が第１実施形態と異なる点に加えて、斜面１２１ａの粗さが異なっている。
図１０は、図９中の範囲Ｅを拡大した図である。
第２実施形態では、斜面１２１ａは、微細かつ不規則な凹凸形状が形成されて粗面（マット面）として形成されている。この微細な凹凸形状は、凸形状と凹形状とが２次元方向（斜面１２１ａの面内方向）に不規則に配列されて形成されており、凸形状及び凹形状は、その大きさや形状、高さ等が不規則である。

また、斜面１２１ａに微細な凹凸形状が形成されていることから、フォトクロミック層３０及び金属層４０Ｂについても、この微細な凹凸形状に追従して形成される。そして、単位光学形状１２１側とは反対側の面にも、この微細かつ不規則な凹凸形状が維持された状態でフォトクロミック層３０及び金属層４０Ｂは、成膜されている。

第２実施形態の金属層４０Ｂは、第１実施形態とは異なり、映像光を反射する反射層として設けられている。そのため、金属層４０Ｂは、光反射性の高い金属、例えば、アルミニウム、銀、ニッケル等により形成され、その厚さは、数１０Å程度である。
金属層４０Ｂの反射率及び透過率は、所望する光学性能に合わせて適宜に設定できるが、映像光を良好に反射させるとともに、映像光以外の光（例えば、太陽光等の外界からの光）を良好に透過させる観点から、例えば、透過率が３０～８０％程度、反射率が５～６０％程度の範囲とすることができる。なお、上記透過率を含めて、以下に示す各層の透過率に関する数値は、空気界面における反射については考慮していない値を示している。
本実施形態で金属を用いて構成した金属層４０Ｂは、アルミニウムを蒸着することにより形成されており、金属層４０Ｂのみでの透過率が約７０％、反射率が約５％、吸収率が約２５％のハーフミラー状である。

第２実施形態の光学素子１Ｂの製造方法は、第１光学形状層形成工程において斜面１２１ａに微細な凹凸形状を形成する点で、第１実施形態の光学素子１の製造方法と異なる。微細な凹凸形状は、成形型において予め形状を設けてもよいし、成形後に表面を荒らしてもよい。
また、第２実施形態の光学素子１Ｂの製造方法は、金属層形成工程において金属層４０Ｂに用いる金属の種類が異なる点で、第１実施形態の光学素子１の製造方法と異なる。第２実施形態の金属層形成工程では、当然であるが、アルミニウムを斜面１２１ａに蒸着する。
第２実施形態の光学素子１Ｂの製造方法は、上記の相違点の他は、第１実施形態の光学素子１と略同様な製造工程によって作製することができる。

第２実施形態によれば、透過型スクリーンとして用いることができる光学素子１Ｂを簡単に製造することができる。製造された光学素子１Ｂは、金属層４０Ｂがハーフミラー状であることから、観察側（－Ｚ側）、映像源側（＋Ｚ側）のどちらから見ても、光学素子１Ｂを透過してその奥側（例えば、－Ｚ側から見たときは＋Ｚ側の景色等）を観察することができる。
また、映像光を映像源側（＋Ｚ側）から映像源ＬＳによって投影すると、映像光は金属層４０Ｂの凹凸形状によって適度に拡散反射されて観察者Ｏ１に届き、観察者Ｏ１は、映像を観察可能である。

（第３実施形態）
図１１は、第２実施形態の図９と同様な位置で第３実施形態の光学素子１Ｃを切断した断面の一部を示す図である。
第３実施形態の光学素子１Ｃは、第１基材層１１Ｃの形態と、斜面１２１ａ及び金属層４０Ｃの形態が第２実施形態の光学素子１Ｂと異なっているが、その他の部分については、第２実施形態の光学素子１Ｂと略同様である。よって、前述した第２実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。

第３実施形態の第１基材層１１Ｃは、第１実施形態と同様な樹脂素材に、光拡散剤を含んでおり、拡散層として構成されている。
また、第３実施形態では、斜面１２１ａは平滑面（鏡面）として構成される。よって、フォトクロミック層３０及び金属層４０Ｃも斜面１２１ａに倣って平滑面として構成される。

第３実施形態によれば、斜面に凹凸形状を設ける必要がないので、さらに製造を容易にすることができる。
また、映像光を映像源側（＋Ｚ側）から映像源ＬＳによって投影すると、映像光は金属層４０Ｃで鏡面反射された後、第１基材層１１Ｃによって適度に拡散反射されて観察者Ｏ１に届き、観察者Ｏ１は、映像を観察可能である。

（第４実施形態）
図１２は、第１実施形態の図２と同様な位置で第４実施形態の光学素子１Ｄを切断した断面の一部を示す図である。
第４実施形態の光学素子１Ｄは、無電解メッキ触媒層５０を備える点で、第１実施形態の光学素子１と異なっている。また、第４実施形態のフォトクロミック層３０は、第１実施形態と同様に、１、２－ジアリールエテンを塗布して乾燥させたものであるが、利用する特性が第１実施形態と異なっている。よって、前述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。

第４実施形態の光学素子１Ｄは、フォトクロミック層３０と金属層４０Ｄとの間に、無電解メッキ触媒層５０を備えている。無電解メッキ触媒層５０は、斜面１２１ａに積層されたフォトクロミック層３０上の＋Ｚ側の先端付近を除く略全面に薄膜状に形成されておれている。また、無電解メッキ触媒層５０は、直交面１２１ｂに積層されたフォトクロミック層３０上には、設けられていない。
無電解メッキ触媒層５０としては、例えば、塩化パラジウム触媒、パラジウム/スズコロイド触媒、銀ナノ粒子触媒等を用いることができる。

金属層４０Ｄは、斜面１２１ａに積層された無電解メッキ触媒層５０上に薄膜状に形成されている。また、金属層４０Ｄは、直交面１２１ｂに積層されたフォトクロミック層３０上には、設けられていない。
第４実施形態の金属層４０Ｄは、例えば、銅、ニッケル等を用いて形成することができるが、その形成方法が第１実施形態の金属層４０と異なる。

次に、第４実施形態の光学素子１Ｄの製造方法について説明する。
第４実施形態の光学素子１Ｄの製造工程は、低屈折率液体４１を充填するまでの、第１光学形状層形成工程、フォトクロミック層形成工程、液体充填工程は、第２実施形態と同様である（図３、図４、図５参照）。

次に、単位光学形状１２１の斜面１２１ａのみに特定波長の光を照射する（光照射工程）。
この光照射工程も、第１実施形態と略同様に行われるが、照射する光の波長が第１実施形態と異なっている。
第４実施形態のフォトクロミック層３０は、他の実施形態と同様に、１、２－ジアリールエテンを塗布して乾燥させたものであるが、乾燥直後は、親水性である。本実施形態のフォトクロミック層３０は、紫外光（波長：１００～４００ｎｍ）を照射すると疎水性になり、可視光（波長：４００～７５０ｎｍ）を照射すると親水性になる性質を有している。
そこで、光照射工程を行う前に、フォトクロミック層３０の全体に紫外光（波長：１００～４００ｎｍ）を照射して、フォトクロミック層３０の全体を疎水性としておく（初期照射工程）。

次に、第１光学形状層１２の単位光学形状１２１とは反対側の面から光を直交面１２１ｂに到達しない又は到達しにくい角度で単位光学形状１２１の内部へ照射する（図６参照）。そして、照射した光を斜面１２１ａに到達させて、斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０の特性を変化させる。本実施形態の光照射工程では、波長が４００～７５０ｎｍの可視光を照射して、斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０を疎水性から親水性に変化させる。

次に、低屈折率液体４１及び蓋層４２を除去し、洗浄、及び、乾燥を行った後に、無電解メッキ触媒層５０の形成を行う（無電解メッキ触媒層形成工程）。
図１３は、無電解メッキ触媒層形成工程によって無電解メッキ触媒層５０が形成された状態を示す図である。
先の光照射工程によって、斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０のみが疎水性の状態から親水性の状態へと変化し、直交面１２１ｂの上に設けられたフォトクロミック層３０は、疎水性の状態を維持している。したがって、疎水性の状態の直交面１２１ｂでは、無電解メッキの触媒材料を塗布しても、はじかれて無電解メッキの触媒材料が付着しない。よって、図１３に示すように斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０上にのみ無電解メッキ触媒層５０が形成される。
無電解メッキ触媒層形成工程では、例えば、フォトクロミック層３０を無電解メッキの触媒材料に浸漬してもよいし、スリットコート、スピンコート等により無電解メッキの触媒材料をフォトクロミック層３０上に塗布してもよい。

次に、無電解メッキ触媒層５０上に金属層４０Ｄを形成する（金属層形成工程）。具体的には、ニッケルの無電解メッキ処理が行われる。なお、ニッケルの他に、銅も金属層４０Ｄとして用いることができる。
図１４は、金属層形成工程によって金属層４０Ｄが形成された状態を示す図である。
金属層形成工程では、無電解メッキ触媒層５０が形成された第１光学形状層１２が無電解銅メッキ液に浸漬させられる。図１４に示すように、無電解メッキ触媒層５０が形成されている表面にのみニッケルの無電解メッキ層が金属層４０Ｄとして形成される。

次に、単位光学形状１２１間の谷部を埋めるように第２光学形状層２２となる紫外線硬化型樹脂を充填し、第２基材層２１をさらに設ける。そして、紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させて第２光学形状層を形成する（第２光学形状層形成工程）ことにより、図１２に示した光学素子１Ｄが完成する。

以上説明したように、第４実施形態によれば、無電解メッキを利用して、従来は作製が困難であった斜面１２１ａのみに金属層４０Ｄを有する光学素子１Ｄを、簡単に作製することができる。製造された光学素子１Ｄは、例えば、第１実施形態と同様にブラインドとして用いることができる。

（第５実施形態）
第５実施形態の光学素子１Ｅは、製造方法が異なる他は、第１実施形態の光学素子１と同様な形態をしている。したがって、ここでは、第５実施形態の光学素子１Ｅの製造方法について説明する。
先ず、第１光学形状層１２を作製する（第１光学形状層形成工程）とともに、マスクシート２００を用意する。
図１５は、第１光学形状層形成工程によって第１光学形状層１２を作製し、かつ、マスクシート２００を用意した状態を示す図である。
第５実施形態の第１光学形状層１２は、第１実施形態の第１光学形状層１２と同様である。
マスクシート２００は、第１基材層１１の法線方向から見たときに第１光学形状層１２の直交面１２１ｂと重なる位置を遮光する遮光パターン２０１を備えている。マスクシート２００は、例えば、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の透明なシートに遮光パターンを印刷やフォトリソグラフィー等によって形成することにより作製できる。

第１光学形状層１２を作製し、マスクシート２００を用意したら、マスクシート２００を第１基材層１１の第１光学形状層１２とは反対側に密着させる（マスクシート密着工程）。
図１６は、マスクシート２００を第１基材層１１に密着させた状態を示す図である。
この工程では、第１基材層１１の法線方向から見たときに第１光学形状層１２の直交面１２１ｂと重なる位置に遮光パターン２０１が配置されるようにして、マスクシート２００を第１基材層１１に密着させる。
本実施形態では、マスクシート２００は後の工程で除去するので、マスクシート２００を第１基材層１１へ密着させるためには、弱粘着性の粘着剤を用いるとよい。
なお、本実施形態では、第１光学形状層１２の作製後にマスクシート２００を密着させることとしたが、第１光学形状層１２の作製前にマスクシート２００を密着させてもよい。

次に、第１光学形状層１２の上に、フォトクロミック層３０を形成する（フォトクロミック層形成工程）。
図１７は、フォトクロミック層形成工程によってフォトクロミック層３０を形成した状態を示す図である。
第５実施形態のフォトクロミック層３０についても、第１実施形態のフォトクロミック層３０と同様である。

次に、単位光学形状１２１が設けられている側に、単位光学形状１２１による凹凸の谷部を充填するようにフォトクロミック層３０と屈折率が同じ液体（同一屈折率液体４７）を充填する（液体充填工程）。ここで、屈折率が同じとは、両者の屈折率差が０．０１以下であることをいうものとする。
図１８は、液体充填工程によって同一屈折率液体４７が充填された状態を示す図である。
本実施形態では、同一屈折率液体４７の上に同一屈折率液体４７が漏れるのを防ぐために蓋層４２を配置する。
同一屈折率液体４７の屈折率ｎ４７とフォトクロミック層３０の屈折率ｎ３０とは、同じであるか、両者の屈折率差が０．０１以下であることが望ましい。本実施形態では、同一屈折率液体４７の屈折率ｎ４７＝１．５７であり、フォトクロミック層３０の屈折率ｎ３０＝１．５７と同じである。
同一屈折率液体４７としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシアクリレート樹脂等を用いることができ、本実施形態では、屈折率ｎ４７＝１．５７のエポキシアクリレート樹脂を用いている。
また、蓋層４２は、第１実施形態と同様である。

次に、単位光学形状１２１の斜面１２１ａのみに特定波長の光を照射する（光照射工程）。
図１９は、光照射工程を説明する図である。
光照射工程では、直交面１２１ｂに光が到達しないように部分的に遮光する遮光パターン２０１を有するマスクシート２００を介して、第１光学形状層１２の単位光学形状１２１とは反対側の面から光を単位光学形状１２１の内部へ照射する。そして、斜面１２１ａに到達させて、斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０を金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態へと変化させる。本実施形態の光照射工程では、波長が３００～４００ｎｍの光を照射して、斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０を金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態へと変化させる。
また、同一屈折率液体４７を充填しない状態で光を照射すると、照射した光が斜面１２１ａにおいて全反射して直交面１２１ｂに到達するが、同一屈折率液体４７を充填することにより照射した光が斜面１２１ａにおいて全反射することを防いでいる。

本実施形態では、図１９に示すように第１基材層１１の法線方向から入射（入射角０°）する波長が３００～４００ｎｍの平行光を照射する。そして、図１９に示すように入射した光は、斜面１２１ａ上に設けられたフォトクロミック層３０を通過するが、直交面１２１ｂ上に設けられたフォトクロミック層３０には到達しない。よって、斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０のみが金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態へと変化し、直交面１２１ｂの上に設けられたフォトクロミック層３０は、金属蒸着不可能な状態を維持する。

次に、同一屈折率液体４７及び蓋層４２を除去し、洗浄、及び、乾燥を行った後に、金属蒸着処理を行い金属層４０の形成を行う（金属層形成工程）。
図２０は、第５実施形態の金属層形成工程によって金属層４０が形成された状態を示す図である。
先の光照射工程によって、斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０のみが金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態へと変化し、直交面１２１ｂの上に設けられたフォトクロミック層３０は、金属蒸着不可能な状態を維持している。したがって、金属蒸着可能な状態へと変化した斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０にのみ金属層４０が形成される。
また、第５実施形態では、直交面１２１ｂに近い位置の斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０にも光照射工程において光が照射されないので、その部分には金属層４０が形成されていない点で、第１実施形態と異なる。
先に説明したように、本実施形態では、金属層４０は、マグネシウムを用いており、金属層形成工程では、マグネシウムを蒸着させる。また、蒸着後のマグネシウムは、黒化処理を行い、黒色に変色させる。

次に、単位光学形状１２１間の谷部を埋めるように第２光学形状層２２となる紫外線硬化型樹脂を充填し、第２基材層２１をさらに設ける。そして、紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させて第２光学形状層を形成する（第２光学形状層形成工程）。さらに、マスクシート２００を第１基材層１１から剥がして除去することにより、図２１に示した光学素子１が完成する。
図２１は、第５実施形態の光学素子１Ｅを示す断面図である。
なお、本実施形態では、マスクシート２００を除去する例を例示したが、マスクシート２００を残してもよい。また、マスクシート２００を用いずに、第１基材層１１上に直接、遮光パターンを形成してもよい。この場合において、遮光パターンは除去してもよいし、残してもよい。以下に示す各実施形態においても同様である。

以上説明したように、第５実施形態によれば、従来は作製が困難であった斜面１２１ａのみに金属層４０を有する光学素子１Ｅを、第１実施形態とは異なる方法によって、簡単に作製することができる。
また、完成した光学素子１は、内部にシート面に対して傾斜した金属層４０が間隔を空けて配列されている。そして、金属層４０は黒化処理されていることから光を遮る効果を有する。よって、特定の方向からの光のみを透過して、他の方向からの光の大部分を遮光するブラインドのような効果を得られる。また、この光学素子１Ｅは、ブラインドのように破損したり、塵埃等が堆積したりすることを防止することができ、使い勝手がよい。

（第６実施形態）
図２２は、第６実施形態の光学素子１Ｆを第２実施形態の図９と同様な位置で切断した断面図である。
第６実施形態の光学素子１Ｆは、製造方法が異なる他は、第２実施形態の光学素子１Ｂと同様な構成をしている。よって、前述した第２実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。

第６実施形態の光学素子１Ｆは、第５実施形態の光学素子１Ｅと同様な製造方法によって作製される。すなわち、マスクシート２００を利用して光照射工程を行うことにより、斜面１２１ａ上にのみ金属層４０Ｂを形成可能とする。なお、マスクシート２００の遮光パターンは、同心円状のパターンとなる点が、第５実施形態の場合と異なる。
第６実施形態の金属層４０Ｂは、第５実施形態とは異なり、映像光を反射する反射層として設けられている。そのため、金属層４０Ｂは、光反射性の高い金属、例えば、アルミニウム、銀、ニッケル等により形成され、その厚さは、数１０Å程度である。
金属層４０Ｂの反射率及び透過率は、所望する光学性能に合わせて適宜に設定できるが、映像光を良好に反射させるとともに、映像光以外の光（例えば、太陽光等の外界からの光）を良好に透過させる観点から、例えば、透過率が３０～８０％程度、反射率が５～６０％程度の範囲とすることができる。なお、上記透過率を含めて、以下に示す各層の透過率に関する数値は、空気界面における反射については考慮していない値を示している。
本実施形態で金属を用いて構成した金属層４０Ｂは、アルミニウムを蒸着することにより形成されており、金属層４０Ｂのみでの透過率が約７０％、反射率が約５％、吸収率が約２５％のハーフミラー状である。

第６実施形態の光学素子１Ｆの製造方法は、第１光学形状層形成工程において斜面１２１ａに微細な凹凸形状を形成する点で、第５実施形態の光学素子１Ｅの製造方法と異なる。図２２中の範囲Ｅの拡大図は、第２実施形態の図１０と同様な構成となっている。微細な凹凸形状は、成形型において予め形状を設けてもよいし、成形後に表面を荒らしてもよい。
また、第６実施形態の光学素子１Ｆの製造方法は、金属層形成工程において金属層４０Ｂに用いる金属の種類が異なる点で、第５実施形態の光学素子１Ｅの製造方法と異なる。第６実施形態の金属層形成工程では、当然であるが、アルミニウムを斜面１２１ａに蒸着する。
第２実施形態の光学素子１Ｂの製造方法は、上記の相違点の他は、第５実施形態の光学素子１Ｅと略同様な製造工程によって作製することができる。

第６実施形態によれば、透過型スクリーンとして用いることができる光学素子１Ｆを第２実施形態とは異なる方法によって簡単に製造することができる。製造された光学素子１Ｂは、金属層４０Ｂがハーフミラー状であることから、観察側（－Ｚ側）、映像源側（＋Ｚ側）のどちらから見ても、光学素子１Ｂを透過してその奥側（例えば、－Ｚ側から見たときは＋Ｚ側の景色等）を観察することができる。
また、映像光を映像源側（＋Ｚ側）から映像源ＬＳによって投影すると、映像光は金属層４０Ｂの凹凸形状によって適度に拡散反射されて観察者Ｏ１に届き、観察者Ｏ１は、映像を観察可能である。

（第７実施形態）
図２３は、第６実施形態の図２２と同様な位置で第７実施形態の光学素子１Ｇを切断した断面の一部を示す図である。
第７実施形態の光学素子１Ｇは、第１基材層１１Ｃの形態と、斜面１２１ａ及び金属層４０Ｃの形態が第６実施形態の光学素子１Ｆと異なっているが、その他の部分については、第６実施形態の光学素子１Ｆと略同様であり、第６実施形態の光学素子１Ｆと同様な方法で製造される。すなわち、マスクシート２００を利用して光照射工程を行うことにより、斜面１２１ａ上にのみ金属層４０Ｃを形成可能とする。
また、第７実施形態の光学素子１Ｇは、製造方法が異なる他は、第３実施形態の光学素子１Ｃと略同様である。
よって、前述した第３実施形態及び第５実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。

第７実施形態の第１基材層１１Ｃは、第３実施形態の第１基材層１１Ｃと同様に、光拡散剤を含んでおり、拡散層として構成されている。
また、第７実施形態では、第３実施形態の光学素子１Ｃと同様に、斜面１２１ａは平滑面（鏡面）として構成される。よって、フォトクロミック層３０及び金属層４０Ｃも斜面１２１ａに倣って平滑面として構成される。

第７実施形態によれば、斜面に凹凸形状を設ける必要がないので、さらに製造を容易にすることができる。
また、映像光を映像源側（＋Ｚ側）から映像源ＬＳによって投影すると、映像光は金属層４０Ｃで鏡面反射された後、第１基材層１１Ｃによって適度に拡散反射されて観察者Ｏ１に届き、観察者Ｏ１は、映像を観察可能である。

（第８実施形態）
図２４は、第５実施形態の図２１と同様な位置で第８実施形態の光学素子１Ｈを切断した断面の一部を示す図である。
第８実施形態の光学素子１Ｈは、無電解メッキ触媒層５０を備える点で、第５実施形態の光学素子１Ｅと異なっている。また、第８実施形態のフォトクロミック層３０は、第５実施形態と同様に、１、２－ジアリールエテンを塗布して乾燥させたものであるが、利用する特性が第５実施形態と異なっている。その他の部分については、第８実施形態の光学素子１Ｈは、第５実施形態の光学素子１Ｅと同様である。
また、第８実施形態の光学素子１Ｈは、製造方法が異なる他は、第４実施形態の光学素子１Ｄと同様な構成をしている。すなわち、マスクシート２００を利用して光照射工程を行うことにより、斜面１２１ａ上にのみ金属層４０Ｄを形成可能とする。
よって、前述した第４実施形態及び第５実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。

第８実施形態の光学素子１Ｈは、フォトクロミック層３０と金属層４０Ｄとの間に、無電解メッキ触媒層５０を備えている。無電解メッキ触媒層５０は、斜面１２１ａに積層されたフォトクロミック層３０上の＋Ｚ側の先端付近を除く略全面に薄膜状に形成されておれている。また、無電解メッキ触媒層５０は、直交面１２１ｂに積層されたフォトクロミック層３０上には、設けられていない。
無電解メッキ触媒層５０としては、例えば、塩化パラジウム触媒、パラジウム/スズコロイド触媒、銀ナノ粒子触媒等を用いることができる。

金属層４０Ｄは、斜面１２１ａに積層された無電解メッキ触媒層５０上に薄膜状に形成されている。また、金属層４０Ｄは、直交面１２１ｂに積層されたフォトクロミック層３０上には、設けられていない。
第４実施形態の金属層４０Ｄは、例えば、銅、ニッケル等を用いて形成することができるが、その形成方法が第５実施形態の金属層４０と異なる。

次に、第８実施形態の光学素子１Ｈの製造方法について説明する。
第８実施形態の光学素子１Ｈの製造工程は、同一屈折率液体４７を充填するまでの、第１光学形状層形成工程、フォトクロミック層形成工程、液体充填工程は、第５実施形態と同様である（図１５、図１６、図１７参照）。

次に、単位光学形状１２１の斜面１２１ａのみに特定波長の光を照射する（光照射工程）。
この光照射工程も、第５実施形態と略同様に行われるが、照射する光の波長が第５実施形態と異なっている。
第８実施形態のフォトクロミック層３０は、他の実施形態と同様に、１、２－ジアリールエテンを塗布して乾燥させたものであるが、乾燥直後は、親水性である。本実施形態のフォトクロミック層３０は、紫外光（波長：１００～４００ｎｍ）を照射すると疎水性になり、可視光（波長：４００～７５０ｎｍ）を照射すると親水性になる性質を有している。
そこで、光照射工程を行う前に、フォトクロミック層３０の全体に紫外光（波長：１００～４００ｎｍ）を照射して、フォトクロミック層３０の全体を疎水性としておく（初期照射工程）。

次に、直交面１２１ｂに光が到達しないように部分的に遮光する遮光パターン２０１を有するマスクシート２００を介して、第１光学形状層１２の単位光学形状１２１とは反対側の面から光を単位光学形状１２１の内部へ照射する。（図１９参照）。そして、照射した光を斜面１２１ａに到達させて、斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０の特性を変化させる。本実施形態の光照射工程では、波長が４００～７５０ｎｍの可視光を照射して、斜面１２１ａ上のフォトクロミック層３０を疎水性から親水性に変化させる。

次に、同一屈折率液体４７及び蓋層４２を除去し、洗浄、及び、乾燥を行った後に、無電解メッキ触媒層５０の形成を行う（無電解メッキ触媒層形成工程）。
図２５は、無電解メッキ触媒層形成工程によって無電解メッキ触媒層５０が形成された状態を示す図である。
先の光照射工程によって、斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０のみが疎水性の状態から親水性の状態へと変化し、直交面１２１ｂの上に設けられたフォトクロミック層３０は、疎水性の状態を維持している。したがって、疎水性の状態の直交面１２１ｂでは、無電解メッキの触媒材料を塗布しても、はじかれて無電解メッキの触媒材料が付着しない。よって、図１３に示すように斜面１２１ａの上に設けられたフォトクロミック層３０上にのみ無電解メッキ触媒層５０が形成される。
無電解メッキ触媒層形成工程では、例えば、フォトクロミック層３０を無電解メッキの触媒材料に浸漬してもよいし、スリットコート、スピンコート等により無電解メッキの触媒材料をフォトクロミック層３０上に塗布してもよい。

次に、無電解メッキ触媒層５０上に金属層４０Ｄを形成する（金属層形成工程）。具体的には、ニッケルの無電解メッキ処理が行われる。なお、ニッケルの他に、銅も金属層４０Ｄとして用いることができる。
図２６は、金属層形成工程によって金属層４０Ｄが形成された状態を示す図である。
金属層形成工程では、無電解メッキ触媒層５０が形成された第１光学形状層１２が無電解銅メッキ液に浸漬させられる。図２６に示すように、無電解メッキ触媒層５０が形成されている表面にのみニッケルの無電解メッキ層が金属層４０Ｄとして形成される。

次に、単位光学形状１２１間の谷部を埋めるように第２光学形状層２２となる紫外線硬化型樹脂を充填し、第２基材層２１をさらに設ける。そして、紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させて第２光学形状層を形成する（第２光学形状層形成工程）。さらに、マスクシート２００を第１基材層１１から剥がして除去することにより、図２４に示した光学素子１Ｈが完成する。

以上説明したように、第８実施形態によれば、無電解メッキを利用して、従来は作製が困難であった斜面１２１ａのみに金属層４０Ｄを有する光学素子１Ｄを、第４実施形態とは異なる方法によって簡単に作製することができる。製造された光学素子１Ｈは、例えば、第１実施形態や第４実施形態と同様にブラインドとして用いることができる。

（変形形態）
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本開示の範囲内である。

（１）各実施形態において、液体充填工程では、フォトクロミック層３０と蓋層４２との間の全ての空間に低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７を満たす例を挙げて説明した。これに限らず、補助部材４３を用いて、充填する低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７を減らしてもよい。
図２７は、補助部材４３を用いて、充填する低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７を減らす形態を示す図である。
図２７に示すように、蓋層４２には、補助部材４３が取り付けられている。この補助部材４３は、単位光学形状１２１による凹凸形状の逆形状又は逆形状に近い形状を有している。補助部材４３をフォトクロミック層３０との間に僅かな隙間を設けて配置し、液体充填工程では、この隙間に低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７を満たす。このような構成とすることにより、充填する低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７を減らすことができる。補助部材４３の屈折率は、低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７と同じであることが望ましい。光照射工程において照射される光が予期せぬ方向へ進んでしまうことを防ぐためである。なお、図２７では、蓋層４２と補助部材４３とを別部材として構成した例を示しているが、これらは１部材で構成してもよい。

（２）各実施形態、及び、上記変形形態（１）において、低屈折率液体４１又は同一屈折率液体４７を未硬化の樹脂（低屈折率液体４４又は同一屈折率液体４８）としてもよい。
図２８は、液体充填工程において未硬化の樹脂である低屈折率液体４４又は同一屈折率液体４８を用いる形態を示す図である。
低屈折率液体４４又は同一屈折率液体４８は、光、又は、熱で硬化する未硬化の樹脂である。
低屈折率液体４４は、未硬化の状態における屈折率が、例えば、１．５２の材料を用いることができる。
また、同一屈折率液体４８は、未硬化の状態における屈折率が、例えば、１．５７の材料を用いることができる。
この低屈折率液体４４又は同一屈折率液体４８を液体充填工程において充填した後、第１実施形態と同様に光照射工程を行う。光照射工程の後に低屈折率液体４４又は同一屈折率液体４８を光、又は、熱で硬化させて除去する。このようにすることにより、低屈折率液体の除去、洗浄の工程を省略することができる。
なお、硬化した樹脂はフォトクロミック層３０から剥離する性質のものを用いる。また、低屈折率液体４４又は同一屈折率液体４８を光で硬化する場合は、フォトクロミック層３０の金属密着性には影響しない波長の光で硬化させる。

（３）各実施形態において、光照射工程の前の液体充填工程において、フォトクロミック層よりも屈折率の低い液体又は屈折率が同じ液体を充填せずに、硬化後に前記フォトクロミック層よりも屈折率が低くなる未硬化の樹脂である液体、又は、硬化後に前記フォトクロミック層と屈折率が同じになる未硬化の樹脂である液体を充填するようにしてもよい。
図２９は、硬化後に前記フォトクロミック層よりも屈折率が低くなる未硬化の樹脂である液体、又は、硬化後に前記フォトクロミック層と屈折率が同じになる未硬化の樹脂である液体を充填する形態を示す図である。
図２９の例では、光照射工程の前に、単位光学形状１２１が設けられている側に、単位光学形状１２１による凹凸形状の谷部を充填するように、光、又は、熱で硬化後にフォトクロミック層３０よりも屈折率が低くなる未硬化の樹脂である液体４５を充填する液体充填工程を行う。又は、光、又は、熱で硬化後にフォトクロミック層３０と屈折率が同じになる未硬化の樹脂である液体４９を充填する液体充填工程を行う。この液体充填工程の後に液体４５又は液体４９を、光、又は、熱で硬化させる硬化工程を行う。液体４５を硬化した樹脂の屈折率は、例えば、１．５２とすることができる。液体４９を硬化した樹脂の屈折率は、例えば、１．５７とすることができる。上記硬化工程の後、光照射工程を行い、光照射工程の後に液体４５又は液体４９が硬化した樹脂を除去する。このようにすることにより、低屈折率液体又は同一屈折率液体の除去、洗浄の工程を省略することができる。
なお、硬化した樹脂はフォトクロミック層３０から剥離する性質のものを用いる。また、液体４５又は液体４９を光で硬化する場合は、フォトクロミック層３０の金属密着性には影響しない波長の光で硬化させる。

（４）各実施形態において、液体充填工程に代えて、フォトクロミック層よりも屈折率の低い、又は、フォトクロミック層と屈折率が同じ密着部材を設ける光学密着工程を行ってもよい。
図３０は、光学密着工程を行う形態を示す図である。
図３０の例では、光照射工程の前に、液体充填工程に代えて、単位光学形状１２１が設けられている側に、単位光学形状１２１による凹凸形状の逆形状を有し、フォトクロミック層３０よりも屈折率の低い、例えば、屈折率が１．５２の密着部材４６をフォトクロミック層３０に光学密着させる（光学密着工程）。
又は、光照射工程の前に、液体充填工程に代えて、単位光学形状１２１が設けられている側に、単位光学形状１２１による凹凸形状の逆形状を有し、フォトクロミック層３０と屈折率が同じ、例えば、屈折率が１．５７の密着部材５１をフォトクロミック層３０に光学密着させる（光学密着工程）。
ここで、光学密着とは、物体と物体が夾雑物なく接した状態と同じ光学特性を持つ状態をいい、おおむね、物体間の間隙が光の波長以下である状態である。このようにすることにより、低屈折率液体の除去、洗浄の工程を省略することができる。
なお、光学密着を行う場合には、フォトクロミック層３０の表面は鏡面であることが望ましい。

（５）第３実施形態及び第７実施形態において、第１基材層１１Ｃに光拡散剤を含めた例を示して説明した。これに限らず、例えば、拡散層を別途設けたりしてもよいし、第１基材層１１Ｃの－Ｚ側の面に微細な凹凸形状を設けたりしてもよい。また、第２基材層２１に光拡散機能を持たせてもよいし、第１光学形状層１２、第２光学形状層２２等に光拡散機能を持たせてもよい。

（６）第４実施形態及び第８実施形態において、第１実施形態と同様な光学素子１Ｄ、１Ｈを無電解メッキによって金属層を作製する例を挙げて説明した。これに限らず、例えば、他の実施形態においても、第４実施形態及び第８実施形態のように無電解メッキを利用して金属層を作製してもよい。

なお、各実施形態及び変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。また、本開示は以上説明した各実施形態によって限定されることはない。

１、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ、１Ｈ 光学素子
１１、１１Ｃ 第１基材層
１２ 第１光学形状層
２１ 第２基材層
２２ 第２光学形状層
３０ フォトクロミック層
４０、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ 金属層
４１ 低屈折率液体
４２ 蓋層
５０ 無電解メッキ触媒層
１２１ 単位光学形状
１２１ａ 斜面
１２１ｂ 直交面
２００ マスクシート
２０１ 遮光パターン

Claims (26)

1. 単位光学形状が複数並べて配置された光透過性を有する第１光学形状層を備え、シート状に形成された光学素子であって、
   前記単位光学形状は、
   シート面に直交する方向に延在する直交面と、
   前記直交面に交差する斜面と、
   を有しており、
   前記単位光学形状には、特定の波長領域の光照射によって特性が変化するフォトクロミック層が前記単位光学形状に沿って積層されており、
   前記斜面に積層された前記フォトクロミック層の少なくとも一部には、金属層が設けられている光学素子。
2. 請求項１に記載の光学素子において、
   前記金属層は、遮光層であること、
   を特徴とする光学素子。
3. 請求項１に記載の光学素子において、
   前記金属層は、反射層であること、
   を特徴とする光学素子。
4. 請求項３に記載の光学素子において、
   前記斜面は、粗面であり、前記斜面上の前記フォトクロミック層及び前記金属層は、前記斜面の粗面に沿った粗面であること、
   を特徴とする光学素子。
5. 請求項３に記載の光学素子において、
   前記斜面は、平滑面であり、前記フォトクロミック層及び前記金属層は、前記斜面の平滑面に沿った平滑面であり、
   光を拡散する拡散層を有すること、
   を特徴とする光学素子。
6. 請求項１から請求項５までのいずれかに記載の光学素子において、
   前記フォトクロミック層と前記金属層との間に、無電解メッキ触媒層が設けられていること、
   を特徴とする光学素子。
7. シート面に直交する方向に延在する直交面と、前記直交面に交差する斜面と、を有する単位光学形状が複数並べて配置された第１光学形状層を形成する第１光学形状層形成工程と、
   前記第１光学形状層の前記単位光学形状を有する面に、特定の波長領域の光照射によって特性が変化するフォトクロミック層を形成するフォトクロミック層形成工程と、
   前記第１光学形状層の前記単位光学形状とは反対側の面から光を前記直交面に到達しない又は到達しにくい角度で前記単位光学形状の内部へ照射し、前記斜面に到達させて、前記斜面上の前記フォトクロミック層の特性を変化させる光照射工程と、
   前記斜面に金属層を形成する金属層形成工程と、
   を備える光学素子の製造方法。
8. 請求項７に記載の光学素子の製造方法において、
   前記フォトクロミック層は、特定の波長領域の光照射により金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態に変化する材料により形成されており、
   前記光照射工程によって前記直交面は金属蒸着不可能な状態を維持し、かつ、前記斜面を金属蒸着不可能な状態に変化させ、
   前記金属層形成工程では、前記金属層となる金属を前記斜面に蒸着処理を行い前記斜面に前記金属層を形成すること、
   を特徴とする光学素子の製造方法。
9. 請求項７に記載の光学素子の製造方法において、
   前記フォトクロミック層は、特定の波長領域の光照射により特性が疎水性から親水性に変化する材料により形成されており、
   前記光照射工程によって前記直交面は疎水性を維持し、かつ、前記斜面を親水性に変化させ、
   前記光照射工程と前記金属層形成工程との間において、前記フォトクロミック層に無電解メッキの触媒材料を塗布し、親水性に変化した前記フォトクロミック層の上に無電解メッキ触媒層を形成する無電解メッキ触媒層形成工程を備え、
   前記金属層形成工程では、前記無電解メッキ触媒層の上に無電解メッキ処理を行い無電解メッキ層を前記金属層として形成すること、
   を特徴とする光学素子の製造方法。
10. 請求項７から請求項９までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記特定の波長領域の光照射とは異なる波長領域の光を前記フォトクロミック層の全体に照射する初期照射工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
11. 請求項７から請求項１０までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の谷部を充填するように前記フォトクロミック層よりも屈折率の低い液体を充填する液体充填工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
12. 請求項１１に記載の光学素子の製造方法において、
    前記液体充填工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の逆形状又は逆形状に近い形状を有する補助部材を前記フォトクロミック層から隙間を空けて配置し、
    前記液体充填工程では、前記隙間に前記液体を充填すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
13. 請求項１１又は請求項１２に記載の光学素子の製造方法において、
    前記液体は、未硬化の樹脂であり、前記光照射工程の後に前記液体を硬化させて除去すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
14. 請求項７から請求項１０までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の谷部を充填するように硬化後に前記フォトクロミック層よりも屈折率が低くなる未硬化の樹脂である液体を充填する液体充填工程と、
    前記液体充填工程の後に前記液体を硬化させる硬化工程と、
    を備え、
    前記光照射工程の後に前記液体が硬化した樹脂を除去すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
15. 請求項７から請求項１０までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の逆形状を有し、前記フォトクロミック層よりも屈折率の低い密着部材を前記フォトクロミック層に光学密着させる光学密着工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
16. 請求項７から請求項１５までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記金属層が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸の谷部を充填するように第２光学形状層を形成する第２光学形状層形成工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
17. シート面に直交する方向に延在する直交面と、前記直交面に交差する斜面と、を有する単位光学形状が複数並べて配置された第１光学形状層を形成する第１光学形状層形成工程と、
    前記第１光学形状層の前記単位光学形状を有する面に、特定の波長領域の光照射によって特性が変化するフォトクロミック層を形成するフォトクロミック層形成工程と、
    前記直交面に光が到達しないように部分的に遮光する遮光パターンを有するマスクを介して、前記第１光学形状層の前記単位光学形状とは反対側の面から光を前記単位光学形状の内部へ照射し、前記斜面に到達させて、前記斜面上の前記フォトクロミック層の特性を変化させる光照射工程と、
    前記斜面に金属層を形成する金属層形成工程と、
    を備える光学素子の製造方法。
18. 請求項１７に記載の光学素子の製造方法において、
    前記フォトクロミック層は、特定の波長領域の光照射により金属蒸着不可能な状態から金属蒸着可能な状態に変化する材料により形成されており、
    前記光照射工程によって前記直交面は金属蒸着不可能な状態を維持し、かつ、前記斜面を金属蒸着不可能な状態に変化させ、
    前記金属層形成工程では、前記金属層となる金属を前記斜面に蒸着処理を行い前記斜面に前記金属層を形成すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
19. 請求項１７に記載の光学素子の製造方法において、
    前記フォトクロミック層は、特定の波長領域の光照射により特性が疎水性から親水性に変化する材料により形成されており、
    前記光照射工程によって前記直交面は疎水性を維持し、かつ、前記斜面を親水性に変化させ、
    前記光照射工程と前記金属層形成工程との間において、前記フォトクロミック層に無電解メッキの触媒材料を塗布し、親水性に変化した前記フォトクロミック層の上に無電解メッキ触媒層を形成する無電解メッキ触媒層形成工程を備え、
    前記金属層形成工程では、前記無電解メッキ触媒層の上に無電解メッキ処理を行い無電解メッキ層を前記金属層として形成すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
20. 請求項１７から請求項１９までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記特定の波長領域の光照射とは異なる波長領域の光を前記フォトクロミック層の全体に照射する初期照射工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
21. 請求項１７から請求項２０までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の谷部を充填するように前記フォトクロミック層との屈折率差が０．０１以下である液体を充填する液体充填工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
22. 請求項２１に記載の光学素子の製造方法において、
    前記液体充填工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の逆形状又は逆形状に近い形状を有する補助部材を前記フォトクロミック層から隙間を空けて配置し、
    前記液体充填工程では、前記隙間に前記液体を充填すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
23. 請求項２１又は請求項２２に記載の光学素子の製造方法において、
    前記液体は、未硬化の樹脂であり、前記光照射工程の後に前記液体を硬化させて除去すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
24. 請求項１７から請求項２０までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の谷部を充填するように硬化後に前記フォトクロミック層と屈折率が同じになる未硬化の樹脂である液体を充填する液体充填工程と、
    前記液体充填工程の後に前記液体を硬化させる硬化工程と、
    を備え、
    前記光照射工程の後に前記液体が硬化した樹脂を除去すること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
25. 請求項１７から請求項２０までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記光照射工程の前に、前記単位光学形状が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸形状の逆形状を有し、前記フォトクロミック層と屈折率が同じ密着部材を前記フォトクロミック層に光学密着させる光学密着工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。
26. 請求項１７から請求項２５までのいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
    前記金属層が設けられている側に、前記単位光学形状による凹凸の谷部を充填するように第２光学形状層を形成する第２光学形状層形成工程を備えること、
    を特徴とする光学素子の製造方法。

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