JP2023071118A - 酸素ラジカル活性化水溶液生成装置および殺菌方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】酸素プラズマの照射により生成した酸素ラジカル活性化水溶液の殺菌効果を維持すること。【解決手段】酸素ラジカル活性化水溶液の生成装置は、チャンバー110と、保持部120と、ガス供給部130と、ガス排出部140と、プラスチックカバー150と、ラジカル照射部200と、冷却器300と、を有している。保持部120は、プラズマを照射する水溶液を保持するための容器であり、プラズマ照射後に生成する酸素ラジカル活性化水溶液を保持する容器である。ラジカル照射部200は、酸素ラジカルを照射するためのものである。冷却器300は、保持部120を冷却するものである。【選択図】図1
Description
本開示は、酸素ラジカル活性化水溶液生成装置および殺菌方法に関するものである。
プラズマ技術は、電気、化学、材料の各分野に応用されている。プラズマの内部では、電子やイオン等の荷電粒子の他に、原子や分子等の中性粒子や紫外線が発生する。これらプラズマの内部で発生する生成物のうち、不対電子を有する粒子(原子、分子、イオンを含む)のことをラジカルという。このような紫外線やラジカルには、殺菌効果があることが知られている。
特許文献1には、ベンゼン環とピロール環とピリジン環のうち少なくとも1つ以上を有する環式有機化合物を含有する水溶液に酸素プラズマを照射することで、大腸菌などを殺菌可能な殺菌水溶液に使用できる酸素ラジカル活性化水溶液を生成できることが記載されている。
特許文献2には、水道水などの水、純水、生理食塩水、水溶液、その他の種々の液体にプラズマを照射して生成し、pHが4.8以下に調整されたプラズマ処理殺菌液を、10℃以下に保持する殺菌処理方法が記載されている。
しかし、発明者らの検討によると、特許文献1の方法で作成した酸素ラジカル活性化水溶液は、短時間で殺菌効果が低減してしまうことがわかった。したがって、酸素プラズマの照射後一定時間保持してから使用する場合には殺菌効果を期待できないことがわかった。
また、さまざまな物の殺菌に用いるためには、pHが中性に近い方が望ましいこともわかった。
発明者らは、特許文献1の方法で作成した酸素ラジカル活性化水溶液が、短時間で殺菌効果が低減してしまう原因について鋭意研究を重ねたところ、酸素ラジカル活性化水溶液の温度と殺菌効果に関係があることを突き止めた。本開示はこの知見を利用するものであり、ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液に酸素プラズマを照射して酸素ラジカル活性化水溶液を生成する場合に、殺菌効果を維持することを目的とする。
本開示は、ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液を15℃以下の液体状態に保持する保持部と、保持部に保持された前記水溶液に酸素ラジカルを照射し、酸素ラジカル活性化水溶液を生成する酸素ラジカル照射装置と、を有することを特徴とする酸素ラジカル活性化水溶液生成装置である。
また本開示は、ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液を15℃以下の液体状態に保持し、水溶液に酸素ラジカルを照射して酸素ラジカル活性化水溶液を生成し、酸素ラジカル活性化水溶液を15℃以下に保持したままで、対象物を殺菌し、酸素ラジカル活性化水溶液を20℃以上に加熱することで、対象物の殺菌を終了する、ことを特徴する殺菌方法である。
本開示によれば、酸素ラジカル活性化水溶液の殺菌効果を高め、かつその殺菌効果を長時間保持することができる。
以下、本開示の具体的な実施形態について図を参照に説明する。
(第1実施形態)
第1実施形態は、対象物の殺菌が可能な殺菌水溶液として使用可能な酸素ラジカル活性化水溶液の生成装置である。酸素ラジカル活性化水溶液は、ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液に酸素ラジカルを照射することで生成する。そして、酸素ラジカル照射時から殺菌対象に使用するまでの間、酸素ラジカル活性化水溶液の温度を15℃以下に保持する。
第1実施形態は、対象物の殺菌が可能な殺菌水溶液として使用可能な酸素ラジカル活性化水溶液の生成装置である。酸素ラジカル活性化水溶液は、ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液に酸素ラジカルを照射することで生成する。そして、酸素ラジカル照射時から殺菌対象に使用するまでの間、酸素ラジカル活性化水溶液の温度を15℃以下に保持する。
ピロール環を有する環状有機化合物は、たとえば、トリプトファン、インドール、ピロール、などである。水溶液は2種類以上の環状有機化合物を含有していてもよい。
酸素ラジカルは、不対電子を備える中性粒子である。厳密には、三重項酸素原子は不対電子を有しないが、本明細書においては、酸素ラジカルは三重項酸素原子と一重項酸素原子とを含むものとする。
酸素ラジカル活性化水溶液のpHは、たとえば5~8であり、6~8とすることもできる。つまり、中性または弱酸性である。そのため、農作物の殺菌に特に有効である。たとえば、水耕栽培中の農作物に対して第1実施形態の酸素ラジカル活性化水溶液を用いれば、水のpHを変化させることがないので、農作物の育成等に影響を与えることなく農作物の殺菌を行うことができる。また、トリプトファンは必須アミノ酸の一つであり、安全面でも安心である。
ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液に酸素ラジカルを照射することで殺菌作用を有する酸素ラジカル活性化水溶液が生成するメカニズムは不明であるが、酸素ラジカルが何らかの化学反応を誘起して殺菌が可能な活性物質が生成されていると考えられる。
酸素ラジカル照射時から殺菌対象に使用するまでの間、酸素ラジカル活性化水溶液の温度を15℃以下に保持する理由は、酸素ラジカル活性化水溶液が15℃よりも高いと殺菌効果が低減してしまうためである。これは、酸素ラジカルの照射により生成された活性物質が分解してしまうためと考えられる。15℃以下であれば殺菌効果を保持することができるので、酸素ラジカル活性化水溶液を作成後保管して置くことが可能になる。
また、酸素ラジカルの照射時は、15℃以下の液体状態であればよいが、より低温であることが望ましい。酸素ラジカルの照射後は、酸素ラジカル活性化水溶液を凝固点以下の温度に冷却して凍らせてもよく、これにより酸素ラジカル活性化水溶液の保管期間を長くすることができる。この場合、殺菌に使用する際は、酸素ラジカル活性化水溶液を解凍すればよい。
酸素ラジカルの照射により水溶液の温度は上昇する。そのため、酸素ラジカルの照射中は水溶液の温度を測定して水溶液の温度が15℃を越えないようにフィードバック制御することが好ましい。
酸素ラジカル活性化水溶液の温度は、10℃以下に保持することがより好ましい。殺菌作用の低減をより抑制することができる。温度の下限は水溶液の凝固点より高ければ任意である。
酸素ラジカル活性化水溶液の殺菌効果は、その温度を20℃以上とすると消失する。そこで、殺菌を終了する場合、酸素ラジカル活性化水溶液の温度を20℃以上することで終了してもよい。温度制御によって精度よく殺菌の終了時間を制御することができる。
水溶液における環式有機化合物の濃度は、10mM(M=mol/L)以上とすることが好ましい。殺菌効果をより向上させることができる。
以上、第1実施形態の殺菌方法では、酸素ラジカル活性化水溶液の殺菌効果を保持することができる。そのため、酸素ラジカルの照射によって生成した酸素ラジカル活性化水溶液を生成した直後に殺菌に使用する必要はなく、一旦生成した酸素ラジカル活性化水溶液を保管しておき、必要に応じて取り出して殺菌に使用することができる。
次に、第1実施形態の酸素ラジカル活性化水溶液の生成装置の構成を説明する。
図1は、酸素ラジカル活性化水溶液の生成装置の構成を示した図である。図1のように、殺菌装置は、チャンバー110と、保持部120と、ガス供給部130と、ガス排出部140と、プラスチックカバー150と、ラジカル照射部200と、冷却器300と、を有している。さらに、酸素ラジカル活性化水溶液を殺菌対象に照射する噴射器を有していてもよい。
チャンバー110は、ラジカル照射部200を収容するとともに、大気から遮断したガスを収容するためのものである。
保持部120は、プラズマを照射する水溶液を保持するための容器であり、プラズマ照射後に生成する酸素ラジカル活性化水溶液を保持する容器である。水溶液は、ピロール環を有する環式有機化合物を含有するものである。また、保持部120は、プラズマの照射方向に対して垂直な方向にスライドできるようになっている。そのため、プラズマ生成物を水溶液に照射する際に、水溶液に均等にプラズマ生成物を照射することができる。
ガス供給部130は、チャンバー110の内部にアルゴンなどの不活性ガスを供給するためのものである。ガス排出部140は、チャンバー110の内部からガスを排出するためのものである。プラスチックカバー150は、ラジカルを照射している間に、プラスチックカバー150の内部にチャンバー110の雰囲気が入るのを防止するためのものである。保持部120は、プラスチックカバー150内に配置されている。そのため、外部の大気の影響を排除した状態で、ラジカルを好適に水溶液に照射できる。
ラジカル照射部200は、プラズマ発生領域に発生するプラズマ生成物のうちラジカルを照射するためのものである。ここで、プラズマ生成物とは、プラズマ発生領域に発生する化学種等のことをいうものとする。つまり、プラズマ生成物として、イオン、電子、ラジカル、光等が挙げられる。ラジカル照射部200は、これらのプラズマ生成物のうち酸素ラジカルを照射する。具体的には、ラジカル照射部200は、三重項酸素原子と一重項酸素分子とを照射する。また、ラジカル照射部200は、オゾンを照射することもある。なお、後述するように、ラジカル照射部200は、紫外線等の光を照射することはない。また、ラジカル照射部200は、電子やイオンを照射することもない。
図1に示すように、ラジカル照射部200は、照射口210と、プラズマガス供給部220と、電力供給部230と、ロボットアーム240と、を有している。照射口210は、ラジカルを水溶液に照射するためのものである。プラズマガス供給部220は、ラジカル照射部200にプラズマガスを供給するためのものである。プラズマガスは、酸素と不活性ガス(たとえばアルゴン)の混合ガスである。電力供給部230は、ラジカル照射部200の各部に電力を供給するためのものである。ロボットアーム240は、ラジカル照射部200を移動させるためのものである。
図2は、照射口210を示す斜視図である。照射口210は、2つのスリット211を有している。スリット211は、長さ16mm、幅0.5mmで開口している開口部である。スリット211から、ラジカルが照射される。照射口210は、スリット211の幅方向に移動することができるようになっている。水溶液にまんべんなくラジカルを照射するためである。
次に、ラジカル照射部200の内部構造について図3を参照に説明する。ラジカル照射部200は、放電部250と、中間構造部260と、ノズル部270と、をさらに有している。
放電部250は、その内部にプラズマ発生領域を有している。そのため放電部250は、対向する電極対を有している。そして、その電極対の間の空間でプラズマが発生する。そのプラズマは、イオン、電子、ラジカル、紫外線等を含んでいる。
中間構造部260は、上記のプラズマから、イオンと、電子と、紫外線と、を除去する構造体である。そのため、プラズマから発生したもののうち、ラジカルを含む中性粒子がノズル部270に供給される。
ノズル部270は、ラジカルを含む中性粒子を照射口210のスリット211に送出するためのものである。つまり、本実施形態のラジカル照射部200は、水溶液に、プラズマ生成物のうち中性粒子を吹き付けるものである。この中性粒子には、ラジカルとアルゴン原子とが含まれている。
冷却器300は、保持部120を冷却するものである。保持部120を冷却できるのであれば、冷却器300はチャンバー110内に配置されていても外部に配置されていてもよい。保持部120に保持された水溶液は、冷却器300によって15℃以下の液体の状態で保持される。水溶液に酸素プラズマを照射して酸素ラジカル活性化水溶液が生成された後は、15℃以下の状態であれば液体の状態でもよいし、凍らせて固体としてもよい。
図4のように、冷却器300に加えて、保持部120を加熱する加熱器500を設けてもよい。加熱器500によって保持部120に保持された酸素ラジカル活性化水溶液を20℃以上とすることで、殺菌効果を消失させることができる。
以上、第1実施形態の酸素ラジカル活性化水溶液の生成装置では、酸素ラジカル活性化水溶液を生成した直後に殺菌に使用する必要はなく、任意のタイミングで殺菌に使用することができる。
(実験1)
減菌シャーレにトリプトファンを混合した水溶液(3mL)を入れ、さらにその減菌シャーレを銅シャーレに保持した。そして、銅シャーレをペルチェ素子上に配置した。また、熱電対温度センサを水溶液とペルチェ素子に接触させた。ペルチェ素子と熱電対温度センサは温度コントローラーに接続されており、温度コントローラーによって水溶液の温度が所定の温度となるように制御した。
減菌シャーレにトリプトファンを混合した水溶液(3mL)を入れ、さらにその減菌シャーレを銅シャーレに保持した。そして、銅シャーレをペルチェ素子上に配置した。また、熱電対温度センサを水溶液とペルチェ素子に接触させた。ペルチェ素子と熱電対温度センサは温度コントローラーに接続されており、温度コントローラーによって水溶液の温度が所定の温度となるように制御した。
次に、第1実施形態のプラズマ照射部200を用いて水溶液に酸素プラズマを1分間照射した。総ガス流量は5slm、Arガス流量は4.97slm、酸素の体積割合は0.6%、三重項酸素原子の密度は2×1015/cm3、照射距離は10mmとした。
次に、減菌シャーレから水溶液を0.3mL取り出し、大腸菌懸濁液(溶媒はリン酸緩衝液)に加えた。大腸菌懸濁液の大腸菌の密度は1×108/mLである。水溶液のトリプトファンの濃度は1mMとなるようにした。その後、大腸菌懸濁液から0.3mL取り出して減菌シャーレに戻し、1分間静置した。
次に、減菌シャーレから水溶液を取り出し、培地シャーレに100μL滴下した。そして、37℃、24時間培養した後、コロニーを測定した。
図5は、水溶液の温度(プラズマ照射前の温度)とコロニー数の関係を示したグラフである。水溶液の温度は-5~20℃まで5℃刻みとした。比較のため、酸素プラズマを照射せず、水溶液の温度を-5℃とした場合も同様にしてコロニー数を測定した。なお、凝固点降下によって水溶液は-5℃においても液体の状態である。
図5のように、温度が-5~10℃では、コロニー数は検出限界以下であった。このことから、水溶液の温度を-5~10℃に保持することで、強い殺菌効果を保持できることがわかった。一方、酸素プラズマを照射しない場合はコロニー数がおよそ1×107CFU/mLであった。酸素プラズマを照射しないと殺菌成分が生じないことが確認できた。また、15℃ではコロニー数がおよそ1×105CFU/mLであり、殺菌効果が低減していることがわかった。また、20℃ではコロニー数がおよそ4×106CFU/mLであり、酸素プラズマを照射しない場合とそれほど変わらなかった。つまり、20℃では殺菌効果がほぼ消滅していた。以上の結果、殺菌効果を保持するためには水溶液の温度を15℃以下とする必要があり、殺菌効果を十分とするために10℃以下であることが好ましいとわかった。
(実験2)
水溶液の温度を0℃として、水溶液のトリプトファンの濃度を変化させて実験1と同様にしてコロニー数を測定した。
水溶液の温度を0℃として、水溶液のトリプトファンの濃度を変化させて実験1と同様にしてコロニー数を測定した。
図6は、トリプトファンの濃度とコロニー数の関係を示したグラフである。図6のように、トリプトファンの濃度が2.5mMを超えるとコロニー数は大きく減少し、10mM以上ではコロニー数は検出限界以下であった。このことから、殺菌効果を保持するためにはトリプトファン濃度を5mM以上、より好ましくは10mM以上とするのがよいとわかった。
(実験3)
トリプトファンを混合した水溶液に酸素プラズマを3分間照射した。トリプトファンの濃度は50mM、酸素プラズマ照射前の水溶液の温度は0℃とした。その後、水溶液を容器に回収して液体窒素にて凍結させ、-80℃で所定時間保存した。その後、容器に大腸菌懸濁液を加え、容器を15℃の水に浸けて水溶液を解凍しつつ大腸菌と反応させた。そして、実験1と同様にコロニー数を測定した。
トリプトファンを混合した水溶液に酸素プラズマを3分間照射した。トリプトファンの濃度は50mM、酸素プラズマ照射前の水溶液の温度は0℃とした。その後、水溶液を容器に回収して液体窒素にて凍結させ、-80℃で所定時間保存した。その後、容器に大腸菌懸濁液を加え、容器を15℃の水に浸けて水溶液を解凍しつつ大腸菌と反応させた。そして、実験1と同様にコロニー数を測定した。
図7は、保存時間とコロニー数の関係を示したグラフである。図7のように、保存時間が15分ではコロニー数がおよそ1×105CFU/mL、2週間ではおよそ1×104CFU/mLであった。これは、酸素プラズマを照射しない場合のコロニー数1×107CFU/mLよりも低い数であった。この結果、酸素プラズマ照射後に水溶液を冷凍保存することで殺菌効果を長時間維持できることがわかった。
(実験4)
トリプトファンに替えて、ベンゼン、ピロール、またはインドールを混合した水溶液を用意し、大腸菌懸濁液を加えた。そして、水溶液に酸素プラズマを5分間照射した。そして、実験1と同様にしてコロニー数を測定した。また、比較のため酸素プラズマを照射しない場合のコロニー数も測定した。
トリプトファンに替えて、ベンゼン、ピロール、またはインドールを混合した水溶液を用意し、大腸菌懸濁液を加えた。そして、水溶液に酸素プラズマを5分間照射した。そして、実験1と同様にしてコロニー数を測定した。また、比較のため酸素プラズマを照射しない場合のコロニー数も測定した。
図8のように、ベンゼンでは酸素プラズマを照射しても殺菌効果はなかった。一方、ピロールやインドールでは酸素プラズマ照射によってコロニー数が検出限界以下まで低下しており、殺菌効果を有していることがわかった。この結果、ピロール環が殺菌効果に大きく関わっていることがわかった。
本開示は、各種の殺菌に用いることができる。
110:チャンバー
120:保持部
130:ガス供給部
140:ガス排出部
200:ラジカル照射部
210:照射口
211:スリット
250:放電部
260:中間構造部
270:ノズル部
300:冷却器
500:加熱器
120:保持部
130:ガス供給部
140:ガス排出部
200:ラジカル照射部
210:照射口
211:スリット
250:放電部
260:中間構造部
270:ノズル部
300:冷却器
500:加熱器
Claims (5)
- ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液を15℃以下の液体状態に保持する保持部と、
前記保持部に保持された前記水溶液に酸素ラジカルを照射し、酸素ラジカル活性化水溶液を生成する酸素ラジカル照射装置と、
を有することを特徴とする酸素ラジカル活性化水溶液生成装置。 - 前記環式有機化合物は、トリプトファン、ピロールまたはインドールである、ことを特徴とする請求項1に記載の酸素ラジカル活性化水溶液生成装置。
- 前記酸素ラジカル活性化水溶液は、pHが5以上8以下である、ことを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の酸素ラジカル活性化水溶液生成装置。
- 前記水溶液における前記環式有機化合物の濃度は、10mM以上である、ことを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の酸素ラジカル活性化水溶液生成装置。
- ピロール環を有する環式有機化合物を含有する水溶液を15℃以下の液体状態に保持し、前記水溶液に酸素ラジカルを照射して酸素ラジカル活性化水溶液を生成し、
前記酸素ラジカル活性化水溶液を15℃以下に保持したままで、対象物を殺菌し、
前記酸素ラジカル活性化水溶液を20℃以上に加熱することで、対象物の殺菌を終了する、
ことを特徴する殺菌方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN118239561A (zh) * | 2024-04-23 | 2024-06-25 | 江苏海洋大学 | 一种色氨酸溶液协同等离子体气流对养殖水微生物进行杀菌的方法 |
WO2024171625A1 (ja) * | 2023-02-13 | 2024-08-22 | 国立大学法人東海国立大学機構 | トリプトファン分解物の製造方法、フォルミルキヌレニンの製造方法、キヌレニンの製造方法、トリプトファンラジカル含有水溶液の製造方法、および、殺菌用水溶液 |
-
2021
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