JP2023070546A - 投光装置、測距装置、及びレーザ光の投光制御方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】小型化が可能で、かつレーザ安全規格に準拠しつつレーザ光の届く距離を長くすることができる。【解決手段】投光装置は、光信号の出射方向及び出射タイミングを切替可能な複数の投光部と、複数の投光部のうち、対応する投光部から出射される光信号の出射方向及び出射タイミングを制御する複数の第1制御部と、を備える。【選択図】図1
Description
本発明の一実施形態は、投光装置、測距装置、及びレーザ光の投光制御方法に関する。
自動運転技術では、車両の周囲に存在する物体を非接触で高速かつ高精度に検出する技術が必要となる。車両から出射されたレーザ光が物体で反射されて受光されるまでの時間により、物体までの距離を検出するToF(Time of Flight)方式を採用するのが一般的である。車両の周囲にいる物体を検出するには、比較的広い範囲にレーザ光を照射する必要があり、レーザ光を二次元方向に周期的に走査させるスキャン機構が設けられることが多い。しかしながら、スキャン機構は小型化するのが容易ではない。
また、レーザ光は、他の照明光に比べて単位面積当たりの光強度が極端に高いため、人間の目に直接入ると、目を痛めるおそれがある。このため、レーザ安全規格に準拠した光強度にする必要がある。しかしながら、光強度を弱くすると、遠方の物体までレーザ光が届かなくなり、距離を計測できる範囲が制限されてしまう。さらに、レーザ光源は発光能力には限界があり、長距離を計測できる範囲をさらに伸ばすアプリケーションには複数のレーザ光源を利用する必要がある。しかしながら、複数のレーザ光源を利用する場合には、複数のレーザ光源を1つのレーザビームにまとめる光学系などが煩雑になり、設計コスト増加と投光系の大型化につながる。
そこで、本発明の一実施形態では、小型化が可能で、レーザ光の届く距離を長くすることができる投光装置、測距装置、及びレーザ光の投光制御方法を提供するものである。特に提供する投光装置はレーザ安全規格に準拠させることも可能である。
上記の課題を解決するために、本発明の一実施形態によれば、光信号の出射方向及び出射タイミングを切替可能な複数の投光部と、
前記複数の投光部のうち、対応する投光部から出射される光信号の出射方向及び出射タイミングを制御する複数の第1制御部と、を備える、投光装置が提供される。
前記複数の投光部のうち、対応する投光部から出射される光信号の出射方向及び出射タイミングを制御する複数の第1制御部と、を備える、投光装置が提供される。
以下、図面を参照して、投光装置、測距装置、及びレーザ光の投光制御方法の実施形態について説明する。以下では、投光装置及び測距装置の主要な構成部分を中心に説明するが、投光装置及び測距装置には、図示又は説明されていない構成部分や機能が存在しうる。以下の説明は、図示又は説明されていない構成部分や機能を除外するものではない。
(第1の実施形態)
図1は第1の実施形態による投光装置1の概略構成を示すブロック図である。図1の投光装置1は、複数の光信号を出射する機能を備えており、後述するように、例えば測距装置に内蔵することができる。なお、図1の投光装置1は、測距装置以外の種々の目的にも使用可能である。
図1は第1の実施形態による投光装置1の概略構成を示すブロック図である。図1の投光装置1は、複数の光信号を出射する機能を備えており、後述するように、例えば測距装置に内蔵することができる。なお、図1の投光装置1は、測距装置以外の種々の目的にも使用可能である。
図1の投光装置1は、複数の投光部2と、複数の第1制御部3とを備えている。複数の投光部2のそれぞれは、光信号の出射方向及び出射タイミングを切り替えることができる。複数の第1制御部3のそれぞれは、いずれかの投光部2に対応づけて設けられている。複数の第1制御部3のそれぞれは、対応する投光部2から出射される光信号の出射方向及び出射タイミングを制御する。より具体的には、複数の第1制御部3のそれぞれは、対応する投光部2に対して制御信号を供給する。各投光部2は、対応する第1制御部3からの制御信号に応じた出射方向及び出射タイミングの光信号を出射する。
各投光部2から出射される光信号は、いわゆるレーザ光パルスである。レーザ光は波長及び位相が揃ったコヒーレント光であり、例えば900nmの単波長を有する。なお、各投光部2から出射される光信号の波長は任意である。
各投光部2から出射される光信号の光強度は、一般的にはレーザ(アイセーフ)安全規格に準拠する値である必要がある。光強度、パルス時間、パルスの繰り返し頻度などがレーザ安全規格に準拠した光信号を各投光部2から出射することにより、光信号が人間の目に入っても、人間の目を痛めるおそれがなくなる。しかし、アイセーフ安全規格に準拠しなくても良い特殊環境では各投光部2はレーザパルスの電力や時間などを増やしてLiDAR (Light Detection And Ranging)装置の測距距離の範囲を伸ばす事もあり得る。
このように、本実施形態では、個々の投光部2から出射される光信号の光強度をレーザ安全規格に準拠した値にする。光信号の光強度が高いほど、より遠方まで光信号を届かせることができるが、アイセーフの観点では好ましくない。そこで、本実施形態では、レーザ安全規格に準拠する光強度の光信号を各投光部2から出射させることを念頭に置いている。レーザ光は、直進性が高いものの、光路長が長くなるほど、ビーム径が広がるとともに、単位面積当たりの光強度が小さくなる。本実施形態では、複数の投光部2から出射された複数の光信号のビーム範囲の少なくとも一部が遠方では互いに重なり合うようにする。複数の光信号のビーム範囲同士が重なり合った領域では光強度が高くなる。このように、各投光部2から出射される光信号の光強度がそれほど高くなくても、遠方では複数の光信号のビーム範囲が重なり合うことで、光強度を高く維持でき、光信号を遠方まで届かせることができる。
図2は複数の投光部2の斜視図である。図示のように、複数の投光部2は水平方向X及び垂直方向Yに複数個ずつ配置されている。図2は水平方向Xに3個、垂直方向Yに4個の投光部2を有する例を示しているが、投光部2の数に制限はない。また、複数の投光部2は一次元方向(水平方向X又は垂直方向Y)に配置されていてもよい。
図3は各投光部2の内部構成の一例を示すブロック図である。図3に示すように、各投光部2は、光源4と、光学系5と、走査部6とを有する。
光源4は、上述したようにレーザ光を出射するレーザ光源4である。レーザ光源4は、例えば半導体レーザである。あるいは、レーザ光源4は、HeNeレーザなどの半導体レーザ以外でもよい。光源4からはパルス状の光信号が出射される。光源4は、対応する第1制御部3からの制御信号に基づいて、光信号の出射タイミングを切り替えることができる。
光学系5は、光源4から出射された光信号を整形する。ここで、整形とは、光信号のビーム形状や進行方向、ビームの広がり角度などを調整することを意味する。光学系5の一例は、コリメートレンズである。コリメートレンズは、入射された拡散光信号を平行化することができる。
走査部6は、光学系5で整形された光信号を所定の光出射範囲内で走査させる。走査部6は、対応する第1制御部3からの制御信号に基づいて、光出射範囲を制御できる。光出射範囲は、二次元方向又は一次元方向に広がる任意のサイズの範囲である。また、走査部6は、対応する第1制御部3からの制御信号に基づいて、光出射範囲内で光信号を走査させる際の走査速度を調整できる。
より具体的には、走査部6は、例えばMEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)ミラーを有する。MEMSミラーの角度は、電気的に可変させることができる。MEMSミラーの角度を変えると、MEMSミラーに照射された光信号の反射方向を変更することができる。よって、対応する第1制御部3からの制御信号に基づいてMEMSミラーの角度を変えることで、各投光部2から出射される光信号の出射方向を少しずつ変化させることができ、所定の光出射範囲内で光信号を走査させることができる。
MEMSミラーには、一軸周りに回転するものと、二軸周りに回転するものがある。二軸周りに回転するMEMSミラーを用いて、MEMSミラーの角度を二軸方向に少しずつ変化させることで、光信号を二次元方向に広がる光出射範囲内で走査させることができる。
このように、各投光部2は、対応する第1制御部3からの制御信号に基づいて、光信号の出射方向と出射タイミングを個別に調整できる。よって、複数の投光部2から出射された複数の光信号を略同一方向に出射させることもできるし、個々の投光部2ごとに、任意の方向に光信号を出射させることができる。また、すべての投光部2が略同タイミングで複数の光信号を出射させることもできるし、個々の投光部2が任意のタイミングで光信号を出射させることもできる。
複数の第1制御部3は、第2制御部7によって制御されるようにしてもよい。図4は図1の構成に第2制御部7を追加した投光装置1aのブロック図である。第2制御部7は、複数の第1制御部3のそれぞれに対して、光信号の出射方向に関する角度指令信号を供給する。角度指令信号は、複数の第1投光部2のそれぞれから出射される光信号の出射方向を指令する信号である。すなわち、図4の投光装置1aでは、各投光部2から出射される光信号の出射方向を第2制御部7が制御する。第2制御部7を設けることで、複数の投光部2からどの方向に光信号を出射させるかを一括で制御でき、複数の投光部2の制御が容易になる。また、第2制御部7は、各投光部2から出射される光信号の出射方向だけでなく、出射タイミングを制御してもよい。
図5は第2制御部7の内部構成の一例を示すブロック図である。図5の第2制御部7は、基準指令生成部8と、角度補正テーブル9と、複数の加算器10と、更新制御部11とを有する。
基準指令生成部8は、すべての投光部2に共通に与えられる基準指令信号を生成する。基準指令信号は、必ずしも一種類である必要はない。基準指令生成部8は、複数種類の基準指令信号のいずれかを生成してもよい。基準指令生成部8が生成した基準指令信号は、複数の加算器10に入力される。
角度補正テーブル9は、複数の投光部2のそれぞれごとに、基準指令信号を補正するための角度補正信号を記憶する。基準指令生成部8が複数種類の基準指令信号のいずれかを生成する場合、角度補正テーブル9は、基準指令信号ごとに、複数の投光部2のそれぞれに対応する角度補正信号を記憶する。この角度補正信号はそれぞれの投光部2に意図した角度のオフセットや設置、製造などによるそれぞれの投光部2の角度誤差を含む。角度誤差のデータ作成について、あらかじめそれぞれの投光部2からレーザを出射させ、図5では不図示の受光装置や感光紙などでその角度を測定しても良い。
このように、角度補正テーブル9は、基準指令信号と複数の角度補正信号との対応関係を複数組記憶し、組ごとに複数の角度補正信号が相違するようにしてもよい。この場合、第2制御部7は、角度補正テーブル9に記憶された複数組から一つの組を選択し、選択された組の対応関係に基づいて、複数の投光部2のそれぞれごとに、角度補正テーブル9から対応する角度補正信号を読み出して基準指令信号を負荷することにより、角度指令信号を生成する。
以下、基準指令生成部8が生成する複数種類の基準指令信号と角度補正テーブル9の具体例を二つ説明する。図6Aは複数種類の基準指令信号の第1具体例を説明する図である。第1具体例における基準指令信号は、図6Aに示すように、所定の周期ごとに時間に応じて出射方向を連続的又は段階的に変化させることを指令する信号である。基準指令信号は、アナログ値又はデジタル値であり、電圧信号でも電流信号でもよい。角度補正テーブル9は、複数の投光部2のそれぞれごとに、例えば出射方向を平行にするための角度補正信号を記憶する。例えば、隣接して配置された2つの投光部2のうち一方の出射方向がデフォルトの状態で他方の投光部よりもプラス1度ずれている場合、角度補正テーブル9は、2つの投光部2のうち一方の出射方向の角度補正信号を0度とし、他方の出射方向の角度補正信号を-1度とする。これにより、2つの投光部2から出射される光信号の出射方向を平行にすることができる。
図6Bは複数種類の基準指令信号の第2具体例を説明する図である。第2具体例における基準指令信号は、所定の時間間隔で複数回出射され、図6Bのようなパルス列信号となる。各回の基準指令信号は、光信号が出射された回数に応じた角度だけ出射方向が変更される。例えば、基準指令信号が出射されるたびに、光信号の出射方向がm度変化するようにすると、n回目の基準指令信号は、1回目の基準指令信号と比べて、m×n度だけ出射方向が変更される。出射方向は、図6Bに示すように、0~360度の範囲で、周期的に変更される。
第2具体例における角度補正テーブル9は、第1具体例における角度補正テーブル9と同様に、例えば、複数の投光部2から出射される光信号の出射方向が平行になるように角度補正信号を記憶する。
なお、複数種類の基準指令信号と角度補正テーブル9に記憶される角度補正信号は、必ずしも上述した第1具体例と第2具体例に限定されない。
複数の加算器10は、複数の第1制御部3に対応づけて設けられる。複数の加算器10のそれぞれは、基準指令信号と、角度補正テーブル9から読み出された対応する角度補正信号とを加算して、対応する第1制御部3用の角度指令信号を生成する。
角度補正テーブル9に記憶された角度補正信号は、必要に応じて更新できるようにしてもよい。角度補正テーブル9に記憶された角度補正信号の更新は、例えば、第2制御部7内の更新制御部11が行う。更新制御部11にて角度補正テーブル9に記憶された角度補正信号を更新することで、複数の投光部2から出射される光信号の出射方向を必要に応じて切り替えることができ、再構成可能な投光装置1aを実現できる。なお、更新制御部11と基準指令生成部8を一体化してもよい。
第2制御部7は、必ずしも図5のように構成されている必要はない。例えば、基準指令信号を設けずに、複数の第1制御部3用の角度指令信号を直接、第2制御部7にて生成して、対応する第1制御部3に供給してもよい。
図1~図5の投光装置1、1aでは、複数の投光部2のそれぞれから出射される光信号の出射方向を個別に制御可能な構成を説明したが、複数の投光部2を一体として、複数の投光部2から出射される複数の光信号を一次元方向又は二次元方向に一括して走査させてもよい。
図7は図4の構成に走査制御部12を追加した投光装置1bの概略構成を示すブロック図、図8は図7の投光装置1bの斜視図である。走査制御部12は、複数の投光部2から出射された光信号を一体的に一次元方向又は二次元方向に周期的に走査させる。例えば、走査制御部12は、図8に示すように、投光装置1bをその筐体ごと、水平方向X及び垂直方向Yの少なくとも一方に周期的に走査させてもよい。
図7の投光装置1bによれば、複数の投光部2から出射される複数の光信号の出射方向は、対応する第1制御部3にて個別に制御できるとともに、走査制御部12にて一体的に複数の光信号の出射方向を制御することもできる。
このように、第1の実施形態による投光装置1、1a、1bは、複数の投光部2と複数の第1制御部3を備え、複数の投光部2のそれぞれから出射される光信号の出射方向と出射タイミングを、対応する第1制御部3にて制御する。これにより、複数の投光部2のそれぞれから出射される光信号の出射方向と出射タイミングを個別かつ任意に調整でき、複数の投光部2から出射される複数の光信号を種々の用途に使用することができる。
また、複数の第1制御部3を制御する第2制御部7を設けて、第2制御部7から複数の第1制御部3に角度指令信号を供給するようにしたため、角度指令信号を必要に応じて更新することで、複数の投光部2からの光信号の出射方向及び出射タイミングを変更した再構成可能な投光装置1、1a、1bを実現できる。
(第2の実施形態)
第2の実施形態による投光装置1a、1bは、図4~図7と同様のブロック構成を備えている。第2の実施形態による投光装置1a、1bでは、複数の投光部2から略平行に進行する光信号が出射されるように第2制御部7が複数の投光部2を制御するものである。
第2の実施形態による投光装置1a、1bは、図4~図7と同様のブロック構成を備えている。第2の実施形態による投光装置1a、1bでは、複数の投光部2から略平行に進行する光信号が出射されるように第2制御部7が複数の投光部2を制御するものである。
図9は複数の投光部2から出射される光信号のビーム形状を模式的に示す図である。図9に示すように、複数の投光部2から出射される複数の光信号は略平行な方向に進行する。複数の投光部2のそれぞれから出射される光信号の出射方向は、対応する第1制御部3にて制御される。複数の投光部2に対応する複数の第1制御部3のそれぞれには、図4に示すように、第2制御部7から角度指令信号が供給される。複数の第1制御部3のそれぞれは、対応する角度指令信号に基づいて、対応する投光部2から出射される光信号の出射方向を制御する。本実施形態の場合、第2制御部7からの角度指令信号にて、対応する第1制御部3が対応する投光部2から出射される光信号の出射方向を制御し、複数の投光部2から出射される複数の光信号が略平行になるようにする。
各投光部2から出射される光信号は、遠方にいくほどビーム幅が広がるが、水平方向と垂直方向でビーム幅の広がる度合が異なる。図10A及び図10Bは各投光部2から出射される光信号のビーム幅を模式的に示す図であり、図10Aは水平方向のビーム幅の変化を示し、図10Bは垂直方向のビーム幅の変化を示している。
各投光部2から出射される光信号は、図10Aに示すように、距離が変化しても水平方向のビーム幅はほとんど変化しないのに対し、図10Bに示すように、垂直方向のビーム幅は距離に応じて大きく変化する。より具体的には、垂直方向のビーム幅は距離が大きくなるに従って広くなる。
複数の投光部2を垂直方向に配置することで、投光装置1a、1bから遠方の場所では、複数の投光部2から出射された光信号同士が垂直方向に重なりあう領域が生じる。この領域では、単体の光信号よりも、光強度が高くなる。
このように、第2の実施形態では、複数の投光部2から略平行な方向に複数の光信号を出射し、複数の投光部2から出射された複数の光信号の一部が垂直方向に重なり合うようにすることで、遠方における光強度を高めることができる。図10Bに示すように、垂直方向に配置される複数の投光部2の間隔が変わると、遠方において複数の光信号同士が垂直方向に重なり合う範囲が変化する。各々のレーザビームがあまり広がらず、レーザ強度が強い近距離で重なり合うと、重なり合う部分がアイセーフを準拠できなくなる可能性がある。よって、重なり合う範囲がアイセーフ基準を準拠できるように垂直方向に配置される複数の投光部2の間隔を調整するのが望ましい。
また、第2の実施形態による投光装置1a、1bにおいて、複数の投光部2が略同一の出射タイミングで光信号を出射するようにしてもよい。例えば、本実施形態による投光装置1a、1bの適用例である測距装置では、所定の時間間隔で繰り返し光信号を出射して、物体からの反射光信号を繰り返し受光して、受光結果に基づいて物体までの距離を計測する。このように、本実施形態による投光装置1a、1bを測距装置で使用する場合には、複数の投光部2から略同一のタイミングで光信号を出射する動作を、所定の時間間隔で繰り返し行い、物体からの反射光信号を繰り返し受光して、物体までの距離を計測する。
(第3の実施形態)
第3の実施形態による投光装置1a、1bは、複数の投光部2を複数の投光群に分類するものである。第2の実施形態では、複数の投光部2から略同一の出射方向に複数の光信号を出射する例を説明したが、第3の実施形態では、複数の投光部2を2以上の複数の投光群に分類して、投光群ごとに光信号の出射方向を個別に制御する。
第3の実施形態による投光装置1a、1bは、複数の投光部2を複数の投光群に分類するものである。第2の実施形態では、複数の投光部2から略同一の出射方向に複数の光信号を出射する例を説明したが、第3の実施形態では、複数の投光部2を2以上の複数の投光群に分類して、投光群ごとに光信号の出射方向を個別に制御する。
より具体的には、第3の実施形態では、N個(Nは2以上の整数)の投光部2をM個の(2<M≦N)の投光群に分類し、同一の投光群に属する投光部2は、同じ出射方向に光信号を出射する。また、互いに異なる投光群に属する投光部2の光出射範囲同士は、重ならないか、又は一部しか重ならないようにする。
これにより、複数の投光部2を備えた投光装置1a、1bの光出射範囲を、単一の投光部2の光出射範囲よりも広げることができる。例えば、投光部2の走査部6にMEMSミラーを使う場合、MEMSミラーは駆動範囲が狭いため、投光部2の光出射範囲が狭くなる。よって、MEMSミラーを複数設けることで、全体としての光出射範囲を広げることができる。
図11は第3の実施形態による投光装置1a、1bの特徴部分を模式的に説明する図である。図11は、複数の(例えば4個の)投光部2を3つの投光群(以下、第1~第3投光群)2-1、2-2、2-3に分類し、投光群ごとに光信号の出射方向を個別に制御する例を示している。
第1投光群2-1に属する投光部2は、第1光出射範囲OR1内で光信号を走査させる。第2投光群2-2に属する投光部2は、第2光出射範囲OR2内で光信号を走査させる。第3投光群2-3に属する投光部2は、第3光出射範囲OR3内で光信号を走査させる。図11は、第1光出射範囲OR1、第2光出射範囲OR2、及び第3光出射範囲OR3が重ならない例を示しているが、一部が重なり合ってもよい。すなわち、第1投光群2-1に属する投光部2から出射される光信号の出射方向と、第2投光群2-2に属する投光部2から出射される光信号の出射方向と、第3投光群2-3に属する投光部2から出射される光信号の出射方向とは、まったく異なっていてもよいし、一部が重複していてもよい。
図11からわかるように、第1~第3投光群2-1~2-3のそれぞれは、少なくとも一部の光出射範囲が異なるため、投光装置1a、1b全体での光出射範囲を、一つの投光群の光出射範囲よりも広げることができる。
複数の投光部2を複数の投光群に分類する仕方は、予め定めてもよい。この場合、各投光部2に対応する第1制御部3が光信号の出射方向と出射タイミングを把握しておければよい。
あるいは、複数の投光部2をどのような投光群に分類するかを、任意に調整できるようにしてもよい。この場合、第2制御部7が複数の投光部2を複数の投光群に分類する制御を行う。第2制御部7は、複数の第1制御部3に対して、対応する投光部2がどの投光群に属するかに関する情報を送信する。第2制御部7から複数の第1制御部3に送信される情報の中には、各投光群の光出射範囲を示す情報も含まれる。
第2制御部7が複数の投光部2をどのような投光群に分類するかを必要に応じて変更できるようにすることで、再構成可能な投光装置1a、1bを実現できる。また、第2制御部7は、複数の投光群が光信号を出射するタイミングを制御してもよい。例えば、図11の場合、第1~第3投光群2-1~2-3に属する各投光部2は、略同一のタイミングで光信号を出射してもよいし、それぞれ異なるタイミングで光信号を出射してもよい。
このように、第3の実施形態では、複数の投光部2を複数の投光群に分類し、投光群ごとに光出射方向を制御するため、複数の投光部2の光出射範囲を揃える場合と比べて、光出射範囲を広げることができる。よって、本実施形態による投光装置1a、1bを測距装置に適用した場合には、より広い範囲に存在する物体の距離を計測でき、実用性が高くなる。また、どの投光部2をどの投光群に分類するかを必要に応じて変更できるようにすることで、再構成可能な投光装置1a、1bを実現できる。
(第4の実施形態)
上述したように、第1~第3の実施形態による投光装置1、1a、1bは、測距装置に適用することができる。
上述したように、第1~第3の実施形態による投光装置1、1a、1bは、測距装置に適用することができる。
図12は第1~第3の実施形態のいずれかによる投光装置1、1a、1bを内蔵する測距装置21の概略構成を示すブロック図である。図12の測距装置21は、第1~第3の実施形態のいずれかによる投光装置1、1a、1bと、受光装置22と、距離計測部23とを備えている。
受光装置22は、投光装置1、1a、1bから出射された複数の光信号が物体で反射された反射光信号を受光する。受光装置22は、複数の受光素子が二次元状に配置された受光モジュールを有していてもよい。受光素子は、SPAD(Single Photo Avalanche Diode)であってもよい。SPADは、1つの光子を検出できるため、遠方の物体からの微弱な反射光信号を検出可能となる。
測距装置21は、例えばdToF(direct Time of Flight)方式にて距離を計測する。dToF方式では、投光装置1、1a、1bが光信号を出射したタイミングと、受光装置22が反射光信号を受光したタイミングとの時間差に基づいて物体の距離を計測する。
図12の測距装置21内の第2制御部7は、複数の投光部2が略同一の出射方向に光信号を出射するように角度指令信号を複数の第1制御部3に供給してもよいし、複数の投光部2を複数の投光群に分類した投光群ごとに、角度指令信号を対応する第1制御部3に供給してもよい。
上述したように、測距装置21内の各投光部2は、所定の光出射範囲内で光信号を二次元方向に走査させながら繰り返し光信号を出射し、受光装置22は継続的に反射光信号を受光し、距離計測部23は受光結果に基づいて物体の距離を計測する。各投光部2が光出射範囲内で光信号を走査させる周期は、必ずしも同一でなくてもよい。
各投光部2が予め定めた時間間隔(例えばアイセーフ基準が定める時間間隔)で光信号を出射するものとすると、各投光部2が光出射範囲内で光信号を走査する時間が長いほど、光出射範囲を走査する間に各投光部2から出射される光信号の数が増え、光出射範囲内の物体の有無と物体の形状をより精度よく検出できる。
図13は図12の構成に物体検出部24と走査速度調整部25とを追加した測距装置21aのブロック図である。
物体検出部24は、複数の投光部2が光出射範囲内で光信号を走査させる間に、光出射範囲内に存在する物体を検出する。走査速度調整部25は、光出射範囲を光信号が走査する周期の長さを調整する。より具体的には、走査速度調整部25は、物体検出部で検出された物体が存在する範囲内で光信号を走査させる際の走査速度を、範囲外で光信号を走査させる際の走査速度よりも遅くする。なお、各投光部2は、一定の時間間隔で光信号を出射するものとする。
図13の測距装置21aでは、走査速度調整部25が光出射範囲を光信号が走査する周期の長さを第1走査周期に設定した上で、測距動作を開始する。物体検出部24は、投光装置1、1a、1bが光出射範囲を第1走査周期で光信号の走査を行っている間に、受光装置22が物体からの反射光信号を受光したか否かを検出する。
物体検出部24は、受光装置22の受光信号の信号レベルが所定の閾値レベル以上であれば、反射光信号を受光したと判断する。物体検出部24は、光出射範囲内の全域に存在する物体をすべて検出する。
例えば、光出射範囲内に1個の物体が検出された場合、走査速度調整部25は、光出射範囲内の物体の検出位置付近を走査する際に、光信号の走査速度を低くする。これにより、光出射範囲内の物体の検出位置付近により多くの光信号を出射でき、物体の奥行き形状をより精度よく検出できる。
図14は、光出射範囲内の右下領域に1個の物体(図14の例では車両)26が存在する例を示している。図14の光出射範囲内の各マス目は、光信号の出射タイミングを示している。物体26の検出位置付近では、マス目のサイズが小さくなっており、物体26の検出位置付近により多くの光信号を照射して、物体26の奥行き形状をより細かく検出することを示している。
図14の下側には、光出射範囲を2回走査する場合のタイミング図が図示されている。以下では、1回目の走査周期を第1走査周期、2回目の走査周期を第2走査周期と呼ぶ。
図14の右下のタイミング図の横軸は時間、縦軸は光出射範囲内の走査位置である。なお、縦軸は走査角度でもよい。図14の時刻t1~t4は第1走査周期、時刻t4~t9は第2走査周期である。第1走査周期では、各投光部2は一定の走査速度で光信号を走査させるため、走査位置が時間に対して線形に変化する。第1走査期間内の時刻t2~t3は、光出射範囲内の車両が存在する領域を走査する期間である。この期間内に受光装置22が受光する受光信号の信号レベルは高くなるため、物体検出部24は物体26を検出する。
第2走査周期では、当初は第1走査周期と同様の走査速度で光信号を走査させる。光信号の走査位置が物体26の位置付近になると、走査速度調整部25は、光信号の走査速度を低くする。上述したように、各投光部2は一定の時間間隔で光信号を出射するため、光信号の走査速度が低下すると、物体26の位置付近を走査する間に、より多くの光信号を出射することができる。よって、物体26の奥行き形状をより精度よく検出可能となる。
図14では、時刻t4~t5は、時刻t1~t4と同様の傾きで走査位置が変化するのに対して、物体26の位置付近である時刻t5~t8は、単位時間当たりの走査位置の変化がより小さくなる。時刻t6~t7の期間内に物体26が検出される。第2走査周期内に物体26が検出される期間t6~t7は、第1走査周期内に物体26が検出される期間t2~t3よりも長い。よって、時刻t6~t7の期間内には、時刻t2~t3の期間内よりも、より多くの光信号を物体26に照射できる。
図15は光出射範囲内に複数の(図15の例では2つの)物体26が検出された例を示す図である。この場合、複数の投光部2を、検出された物体26の数に合わせて、複数の投光群に分類する。図15の場合は、光出射範囲内に2つの物体26が検出されたため、2つの投光群に分類する。各投光群に属する投光部2の数は任意である。
図15の時刻t1~t6は第1走査周期、時刻t6~t15は第2走査周期である。第1走査周期では、光出射範囲内の全域を一定の走査速度で走査させる。第1走査周期で光出射範囲内を走査している間に、物体検出部24は、光出射範囲内に2つの物体26を検出する。上述したように、物体検出部24は、受光装置22の受光信号の信号レベルが所定の閾値を超えたときに物体26を検出する。
物体検出部24は、第1走査周期内の時刻t2~t3と時刻t4~t5で2つの物体26を検出する。
第1制御部3は、物体検出部24にて2つの物体(第1物体と第2物体)26a、26bが検出されたことから、複数の投光部2を例えば2つの投光群(第1投光群2-1と第2投光群2-2)に分類し、第1投光群2-1に属する2つの投光部2が第1物体26aの位置付近を走査する際に走査速度を低下させて、第1物体26aの奥行き形状をより精度よく検出する。また、第2投光群2-2に属する2つの投光部2が第2物体26bの位置付近を走査する際に走査速度を低下させて、第2物体26bの奥行き形状をより精度よく検出する。図15の例では、第1投光群2-1は、第2走査周期内では、時刻t6~t7とt10~t15の期間内に第1走査周期と同様の周期で光信号を走査させる。時刻t7~t10の期間内は、物体26の位置付近であるため、光信号の走査速度を低下させる。時刻t8~t9の期間内に物体26が検出される。一方、第2投光群2-2は、第2走査周期内では、時刻t6~t11とt14~t15の期間内に第1走査周期と同様の周期で光信号を走査させる。時刻t11~t14の期間内は、物体26の位置付近であるため、光信号の走査速度を低下させる。時刻t12~t13の期間内に物体26が検出される。
図15のように、光出射範囲内に検出された物体26ごとに別個の投光群で走査速度を遅くして物体26の奥行き形状を検出するようにすれば、第2走査周期を第1走査周期に比べて、あまり長くすることなく、各物体26の奥行き形状を精度よく検出できる。
このように、第4の実施形態では、第1~第3の実施形態による投光装置1、1a、1bを測距装置21、21aに適用するため、広範な範囲内の物体26を精度よく検出できる。
また、図13の測距装置21aでは、光出射範囲内に物体26が検出されると、検出された物体26の位置付近を光信号で走査させる際に、走査速度を遅くする。これにより、物体26の奥行き形状をより精度よく検出できる。
さらに、光出射範囲内に複数の物体26が検出された場合、検出された物体26の数に合わせて、複数の投光部2を複数の投光群に分類し、各投光群にて対応する物体26を走査速度を遅くして検出できるため、光出射範囲内の複数の物体26の奥行き形状を精度よく検出できる。
本開示の態様は、上述した個々の実施形態に限定されるものではなく、当業者が想到しうる種々の変形も含むものであり、本開示の効果も上述した内容に限定されない。すなわち、特許請求の範囲に規定された内容およびその均等物から導き出される本開示の概念的な思想と趣旨を逸脱しない範囲で種々の追加、変更および部分的削除が可能である。
1 投光装置、1a 投光装置、1b 投光装置、2 投光部、2-1 第1投光群、2-2 第2投光群、2-3 第3投光群、3 第1制御部、4 光源、5 光学系、6 走査部、7 第2制御部、8 基準指令生成部、9 角度補正テーブル、10 加算器、11 更新制御部、12 走査制御部、21 測距装置、21a 測距装置、22 受光装置、23 距離計測部、24 物体検出部、25 走査速度調整部、26 物体、26a 第1物体、26b 第2物体
Claims (18)
- 光信号の出射方向及び出射タイミングを切替可能な複数の投光部と、
前記複数の投光部のうち、対応する投光部から出射される光信号の出射方向及び出射タイミングを制御する複数の第1制御部と、を備える、投光装置。 - 前記複数の第1制御部のそれぞれに対して、光信号の出射方向に関する角度指令信号を供給する第2制御部をさらに備え、
前記第2制御部は、前記複数の投光部で共通に用いられる基準指令信号に対して、前記複数の投光部のそれぞれに応じた角度補正信号を付加することにより、前記角度指令信号を生成する、請求項1に記載の投光装置。 - 前記基準指令信号と、前記複数の投光部のそれぞれに応じた複数の前記角度補正信号との対応関係を記憶する記憶部をさらに備え、
前記第2制御部は、前記複数の投光部のそれぞれごとに、前記記憶部から対応する前記角度補正信号を読み出して前記基準指令信号に付加することにより、前記角度指令信号を生成する、請求項2に記載の投光装置。 - 前記記憶部は、前記基準指令信号と前記複数の角度補正信号との対応関係を複数組記憶し、組ごとに前記複数の角度補正信号が相違しており、
前記第2制御部は、前記記憶部に記憶された前記複数組から一つの組を選択し、選択された組の前記対応関係に基づいて、前記複数の投光部のそれぞれごとに、前記記憶部から対応する前記角度補正信号を読み出して前記基準指令信号に付加することにより、前記角度指令信号を生成する、請求項3に記載の投光装置。 - 前記複数の投光部から出射される複数の光信号を一括して一次元方向又は二次元方向に走査させる走査制御部を備える、請求項2乃至4のいずれか一項に記載の投光装置。
- 前記第2制御部は、前記複数の投光部から出射される複数の光信号が略平行に進行するように複数の前記角度指令信号のそれぞれを対応する前記投光部に供給する、請求項2乃至5のいずれか一項に記載の投光装置。
- 前記複数の第1制御部は、略同一のタイミングで前記光信号を出射する、請求項6に記載の投光装置。
- 前記複数の投光部は、それぞれが異なる出射方向に光信号を出射する複数の投光群を有し、
前記複数の投光群のそれぞれに属する1以上の前記投光部は、対応する出射方向に光信号を出射する、請求項2乃至5のいずれか一項に記載の投光装置。 - 前記第2制御部は、前記複数の投光部のそれぞれを前記複数の投光群のいずれか一つに分類して、前記複数の投光群のそれぞれごとに出射方向を制御する、請求項8に記載の投光装置。
- 前記複数の投光部のそれぞれは、
前記第1制御部の制御に従って光信号を出射する光源と、
前記光源から出射された光信号を整形する光学系と、
前記第1制御部の制御に従って前記光学系で整形された光信号の出射方向を切り替える走査部と、を有する、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の投光装置。 - 前記光源は、一定周期で光信号を繰り返し出射し、
前記走査部は、光信号の走査範囲内の一部領域内で光信号の走査速度を変更可能である、請求項10に記載の投光装置。 - 前記複数の投光部は、レーザ安全規格に準拠した光信号を出射するとともに、前記複数の投光部から所定距離以上離れた範囲で光信号の少なくとも一部が重なり合い、重なり合った状態でレーザ安全規格に準拠するよう光信号の光強度を設定する、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の投光装置。
- 前記複数の投光部が出射する光信号は、第1方向よりも第2方向において、光路長に対するビーム幅の変化が大きく、
前記複数の投光部のうち、少なくとも2以上の投光部は、前記第2方向に間隔を隔てて配置される、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の投光装置。 - 投光装置と、
前記投光装置から出射された光信号が物体で反射された反射光信号を受光する受光装置と、
前記投光装置から出射された光信号と、前記受光装置で受光された反射光信号とに基づいて、前記物体までの距離を計測する距離計測部と、を備え、
前記投光装置は、
光信号の出射方向及び出射タイミングを個別に制御可能な複数の投光部と、
前記複数の投光部のうち、対応する投光部から出射される光信号の出射方向及び出射タイミングを制御する複数の第1制御部と、を有する、測距装置。 - 前記複数の投光部のそれぞれは、
前記第1制御部の制御に従って光信号を出射する光源と、
前記光源から出射された光信号を整形する光学系と、
前記光学系で整形された光信号を一次元方向又は二次元方向に走査させる走査部と、を有する、請求項14に記載の測距装置。 - 前記受光装置で受光された前記反射光信号に基づいて、前記物体の位置を検出する物体検出部と、
前記物体検出部で検出された前記物体が存在する範囲内で光信号を走査させる際の走査速度を、前記範囲外で光信号を走査させる際の走査速度よりも遅くする走査速度調整部と、を備える、請求項15に記載の測距装置。 - 前記投光装置は、前記複数の第1制御部のそれぞれに対して、光信号の出射方向に関する角度指令信号を供給する第2制御部を有し、
前記第2制御部は、前記物体検出部が複数の前記物体の位置を検出した場合には、検出された前記物体の数に合わせて、前記複数の投光部を複数の投光群に分けて、各投光群にいずれかの物体を対応づけ、
前記複数の投光群のそれぞれに属する前記投光部は、前記走査速度調整部による制御に基づいて、対応する物体が存在する範囲内で光信号を走査させる際の走査速度を、前記範囲外で光信号を走査させる際の走査速度よりも遅くする、請求項16に記載の測距装置。 - 複数の投光部は、レーザ光の出射位置から所定距離以上離れた範囲で少なくとも一部のレーザ光が重なり合うようにレーザ光を照射し、
レーザ光の出射時の光強度と、前記重なり合ったレーザ光の光強度とがレーザ安全規格に準拠するように、前記複数の投光部が出射するレーザ光の光強度と前記複数の投光部の間隔が設定され、
前記複数の投光部のそれぞれは、レーザ光の出射方向及び出射タイミングを制御可能である、レーザ光の投光制御方法。
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