JP2023058527A - カートリッジアセンブリ - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2016年12月14日に出願された米国仮特許出願第62/408,631
号及び2016年12月8日に出願されたオランダ国特許出願第2017959号の優先
権を主張するものであり、この仮出願は参照により全体が本明細書に組み入れられる。
。それらの反応は、例えば適切な流体機器、光学機器及び電子機器を有する自動システム
によって所定のプロトコルに従って実行することができる。これらのシステムは、例えば
その後の使用のための生物学的又は化学的製品を生成するために又は試料を解析して試料
のいくつかの性質/特性を検出するために使用することができる。いくつかの場合におい
て試料を解析するとき、識別可能な標識(例えば、蛍光標識)を含む化学モイエティを試
料が置かれているチャンバに送り、試料の別の化学モイエティに選択的に結合させること
ができる。これらの化学反応は、標識を放射線で励起し、標識からの光放射を検出するこ
とによって観察又は確認することができる。このような光放射は化学発光などの他の手段
によって得ることもできる。
ーセルの1つ以上の内面で規定されたフローチャネル(例えば、内部チャンバ)を含む。
反応は内面に沿って行われ得る。フローセルは典型的には、フローチャネル内の試料を画
像化する装置を含む光学アセンブリに隣接して配置される。光学アセンブリは対物レンズ
及び/又は個体撮像装置(例えば、CCD又はCMOS)を含んでよい。いくつかの実施
形態では、対物レンズは使用されず、個体撮像装置がフローチャネルを撮像するためにフ
ローセルに直接隣接して配置される。
よるシークエンシング(SBS)技術では、フローチャネルの1つ以上の表面は架橋PC
Rにより形成される核酸集団(例えば、クローナルアンプリコン)のアレイを有する。核
酸集団の生成後に、核酸は単鎖DNA(sstDNA)を得るために「線状化」される。
シークエンシングのサイクルを完了するために、多数の反応成分が所定のスケジュールに
従ってフローチャネルに流入する。例えば、各シークエンシングサイクルはsstDNA
を単一塩基で延長するために1つ以上のヌクレオチド(例えば、A,T,G,C)をフロ
ーチャネルに流入することを含む。ヌクレオチドに付着した可逆ターミネータは、1つの
ヌクレオチドのみが1サイクルごとにsstDNAにより組み込まれることを保証する。
各ヌクレオチドは励起されたとき色(例えば、赤、緑、青等)を発する一意の蛍光標識を
有する。新たに組み込まれたヌクレオチドによって、ヌクレオチド集団の画像が4つのチ
ャネル(各蛍光標識につき1つ)において得られる。撮像後に、別の反応成分がフローチ
ャネルに流入し、sstDNAから蛍光標識と可逆ターミネータを化学的に開裂する。こ
のときsstDNAは別のサイクルに対して準備ができた状態である。従って、多数の異
なる反応成分が各サイクルに対してフローチャネルに供給される。単一のシークエンシン
グセッションは例えば100、300又はそれ以上の多数のサイクルを含み得る。
持され、異なる流体が異なる貯蔵部に保持される。多数の反応成分及び多数のサイクルの
ために1つのセッション中に使用される流体の総量は極めて大量になり得る。実際には、
いくつかの用途に対して、反応成分の全量を単一のカートリッジに供給することは実行不
可能である。このような用途に対しては、大きなシステム又は多数のシステムを使用する
、又は単一のシステムで多数のセッションを実行する必要がある。これらの解決方法は一
部の環境において費用がかかり、不便であり、また不合理であり得る。
本願で引用する全ての文献及び同様の資料、例えば限定されないが、特許、特許出願、
論文、書籍、専門書、及びウェブページ等、はそれらの形式にかかわらず、参照によりそ
れらの全体が明示的に本明細書に組み入れられる。組み込まれる文献及び同様の資料の1
つ以上が本願と相違又は矛盾するという場合には、
検出に使用される様々なシステム、方法、アセンブリ、及び装置を含む。いくつかの実施
形態では、所望の反応は光学アセンブリにより検出される光学信号を提供する。光学シス
テムは標識からの光放出又は試料により反射又は屈折された伝達光であってよい。例えば
、いくつかの実施形態は、sstDNAをフローセル内でシークエンシングするシークエ
ンシングプロトコルを実行する又はその実行を促進するために使用し得る。特定の実施形
態では、本明細書に記載する実施形態はシークエンシング用の関心試料を生成するために
増幅プロトコルを実行することもできる。
つに又は刺激に応答する物質の特性に変化を生じる所望の反応を起こすことができる。例
えば、所望の反応は化学転換、化学変化、又は化学的相互作用であってよい。特定の実施
形態では、所望の反応はイメージングシステムにより検出される。イメージングシステム
は光学信号をセンサ(CCD又はCMOS)に導く光学アセンブリを含んでよい。しかし
ながら、他の実施形態では、イメージングシステムは光学信号を直接検出してもよい。例
えば、フローセルはCMOSセンサに装着してよい。しかしながら、所望の反応は電気的
特性の変化であってもよい。例えば、所望の反応は溶液内のイオン濃度の変化であっても
よい。
、アミド化、エーテル化、又は置換;第1の化学物質が第2の化学物質に結合する結合相
互作用;2つ以上の化学物質が互いに分離する解離反応;発光;化学発光;など及び生物
学的反応、例えば、核酸複製、核酸増幅、核酸ハイブリダイゼーション、核酸ライゲーシ
ョン、リン酸化、酵素的触媒、受容体結合又はリガンド結合等、を含む。所望の反応は、
例えば周囲溶液又は環境のpHの変化として検出可能なプロトンの添加又は除去であって
もよい。
分」又は「反応物質」は所望の反応を得るために使用し得る任意の物質を含む。例えば、
反応成分は、試薬、酵素、試料、他の生体分子、及び緩衝溶液を含む。反応成分は典型的
には反応サイト(例えば溶液内の又反応サイト内に固定化された、試料が位置するエリア
)に送られる。反応成分は関心物質と直接又は間接的に相互作用してよい。
センブリは、互いに連携して光学信号をイメージング装置(例えば、CCD,CMOS又
は光電子増倍管)へと導く光学要素の光学列を含んでよい。しかし、代替実施形態では、
試料領域を活性検出器に直接隣接して位置させ、該検出器が光学列を使用せずに所望の反
応を検出するようにしてもよい。活性検出器は所定の容積又は面積内の所定の事象、特性
、性質又は特徴を検出可能にしてよい。例えば、活性検出器は所定の容積又は面積の画像
を取得可能にしてよい。活性検出器は所定の容積の溶液内のイオン濃度又は所定の面積に
沿うイオン濃度を検出可能にしてよい。代表的な活性検出器は、電荷結合デバイス(CC
D)(例えば、CCDカメラ);光電子増倍管(PMT)分子特性デバイス又は検出器、
例えばナノポアを用いたもの;マイクロ回路構成、例えば参照により全体が本明細書に組
み入れられる米国特許第7,595,883号明細書に開示されているもの;及び化学的
にセンシティブな電界効果トランジスタ(chemFET)、イオンセンシティブ電界効
果トランジスタ(ISFET)、及び/又はメタルオキサイドセミコンダクタ電界効果ト
ランジスタ(MOFET)などの電界効果トランジスタ(FET)を有するCMOS製セ
ンサ、を含む。
響を与える様々な要素を含む。例えば、光学コンポーネントは光学信号の方向変換、フィ
ルタ処理、成形、拡大又は集中のうちの少なくとも1つを行うモジュールのとし得る。影
響される光学信号は試料の上流の光学信号及び試料の下流の光学信号を含む。蛍光検出シ
ステムでは、上流のコンポーネントは励起放射を試料に向けるコンポーネントを含み、下
流のコンポーネントは試料からの放出放射を導くコンポーネントを含む。光学コンポーネ
ントは、例えば、リフレクタ、ダイクロイック、ビームスプリッタ、コリメータ、レンズ
、フィルタ、プリズム、ミラー、検出器、等であってよい。光学コンポーネントは、バン
ドパスフィルタ、光学くさび、及び本明細書に記載するコンポーネントに類似の光学装置
も含む。
。この語は標識化された生物学的又は化学的物質からの光放射を含むとともに、光学物質
により屈折又は反射された透過光も含む。試料に入射する励起放射及び試料により提供さ
れる光放射を含む光学又は光信号は1つ以上のスペクトルパターンを有し得る。例えば、
画像化セッションにおいて1つ以上のタイプの標識を励起することができる。このような
場合には、異なるタイプの標識を共通の励起光源で又は異なる励起光源で異なる時点に又
は同時に励起することができる。各タイプの標識は他の標識のスペクトルパターンと異な
るスペクトルパターンを有する光学信号を放出し得る。例えば、これらのスペクトルパタ
ーンは異なる放射スペクトルを有し得る。光学信号を他の発光スペクトルから個別に検出
するために光放射をフィルタ処理してよい。
た選択的に移動可能にしてもよい。本明細書において、「移動」と関連して「選択的に」
という語が使用されるとき、そのフレーズは光学コンポーネントの位置は望ましい方法で
変化させてもよいことを意味する。光学コンポーネントの位置及び向きの少なくとも1つ
は変更可能である。例えば、特定の実施形態では、光学撮像システムのフォーカシングを
容易にするために回転ミラーが選択的に移動される。
期間を含む。1つの試料は複数の画像化セッションを受け得る又はさらされ得る。例えば
、1つの試料は2つの異なる画像化セッションを受けることができ、各画像化セッション
は1つ以上の異なる標識からの光学信号を検出しようと試みる。特定の実施形態として、
核酸試料の少なくとも一部分に沿う第1のスキャンが核酸A及びCと関連する標識を検出
し、該試料の少なくとも1部分に沿う第2のスキャンが核酸G及びTを検出することがで
きる。シークエンシングの実施形態では、別々のセッションがシークエンシングプロトコ
ルの別々のサイクルで起こる。各サイクルは1つ以上の画像化セッションを含んでよい。
他の実施形態では、異なる画像化セッションにおける光学信号の検出は異なる試料のスキ
ャンを含んでよい。異なる試料は同じタイプ(例えば2つのマイクロアレイチップ)又は
異なるタイプ(例えば、フローセル及びマイクロアレイチップ)としてよい。
本明細書に記載の実施形態とともに使用することができる。例えば、本明細書に記載の実
施形態は試料エリアの複数の領域を個別に画像化する「ステップ・アンド・シュート」プ
ロシージャを使用してよい。これらの実施形態は落射蛍光画像化及び全内部反射蛍光(T
IRF)画像化の少なくとも1つを実行するように構成してもよい。他の実施形態では、
試料イメージャはスキャン時間遅延積分(TDI)システムである。更に、画像化セッシ
ョンは光の線状集点領域が試料を横切ってスキャンするように1つ以上の試料のラインス
キャンを含んでよい。ラインスキャンのいくつかの方法は、例えば、米国特許第17,3
29,860号明細書及び米国特許公開第2009/0272914号に記載されており
、これらの各文献は参照により全体が本明細書に組み入れられる。画像化セッションは光
の点状収束領域を試料を横切ってラスタパターンに移動させることを含んでもよい。代替
実施形態では、画像化セッションは、照明なしに、完全に試料内の標識の発光特性(例え
ば、試料内の放射性又は化学発光成分)に基づいて発生される光放射を検出することを含
んでもよい。代替実施形態では、フローセルは所望の反応を検出するイメージャ(例えば
CCD又はCMOS)上に装着されるようにしてよい。
観測する画像化セッションを受ける様々な材料又は物質を含む。特定の実施形態において
、試料は関心のある生物学的又は化学的物質を含んでよく、必要に応じ、生物学的又は化
学的物質を指示する光学的基板又は支持構造を含んでよい。従って、試料は光学的基板又
は支持構造を含んでも含まなくてもよい。本明細書で使用される用語「生物学的又は化学
的物質」は、本明細書に記載の光学系で画像化又は検査されるのに適した様々な生物学的
又は化学的物質を含んでよい。例えば、生物学的又は化学的物質としては、ヌクレオチド
、核酸、ポリヌクレオチド、オリゴヌクレオチド、タンパク質、酵素、ポリペプチド、抗
体、抗原、リガンド、受容体、多糖類、炭水化物、ポリリン酸塩、ナノポア、オルガネラ
、脂質層、細胞、組織、有機体、及び上述の種における類似体又は模倣体のような生物学
的に活性の化合物がある。他の化学物質としては、同定に使用することができる標識、例
えば、蛍光標識及び以下に詳細に説明する他の標識がある。
んでよい。特定の実施形態では、検出すべき試料は基板又は支持構造の1つ以上の表面に
付着し得る。例えば、フローセルは1つ以上のフローチャネルを含み得る。フローセル内
において、フローチャネルはフローセルの最上層と最下層とにより周囲環境から分離し得
る。従って、検出すべき光学信号は支持構造内から投影され、異なる屈折率を有する材料
の複数の層を透過し得る。例えば、フローチャネルの内部底面からの光学信号を検出する
とき及びフローチャネルの上方からの光学信号を検出するとき、検出したい光学信号は屈
折率を有する流体、異なる屈折率を有するフローセルの1つ以上の及び異なる屈折率を有
する周囲環境中を伝播し得る。
子の存在を検出するために使用することができる。これは、例えば標識化した標的検体を
マイクロアレイの特定のプローブに結合してプローブ位置に標識を取り込み、除去し、又
は改質することに基づいて決定することができる。例えば米国特許出願公開第12003
/0108867号、同第2003/0108900、同2003/0170684号、
同2003/0207295号、又は同2005/0181394号に記載されているよ
うに、マイクロアレイを用いていくつかのアッセイの何れか1つで標的を同定又は特性化
することができ、これらの各文献は参照により本明細書に組み入れられる。
evices for Sequence by Synthesis」と題するPCT出願PCT/US/07991に記
載されている様々なコンポーネント及びアセンブリ及び/又は200年9月26日に出願
された「Fluorescence Excitation and Detection System and Method」と題する国際公
開国際公開第2009/042862号に記載されている様々なコンポーネント及びアセ
ンブリを含むように構成してよく、これらの両文献は参照によりそれらの全要旨が本明細
書に組み入れられる。特定の実施形態では、光学系は2009年、12月15日に出願さ
れた米国特許第7,329,860号明細書及び国際公開第2009/137435号に
記載されている様々なコンポーネント及びアセンブリを含んでもよく、この文献は参照に
よりその全要旨が本明細書に組み入れられる。光学系は米国特許出願第12/638,7
70号に記載されている様々なコンポーネント及びアセンブリを含んでもよく、この文献
は参照によりその全要旨が本明細書に組み入れられる。
することができる。例えば、シークエンシング・バイ・シンセシス(SBS)プロトコル
が適用可能である。SBSでは、複数の蛍光標識された修飾ヌクレオチドが光学的基板の
表面(例えば、フローセル内のチャネルを少なくとも部分的に規定する表面)に存在する
増幅されたDNAの複数のクラスタ(場合により数百万のクラスタ)をシークエンシング
するために使用される。フローセルはシークエンシング用核酸試料を含み、フローセルは
適切なフローセルホルダ内に置かれる。シークエンシング用試料は個別に分解するように
互いに分離された単一核酸分子、クラスタの形の核酸分子の増幅集団、又は核酸の1つ以
上の分子に付着したビーズの形にしてよい。従って、シークエンシングは本明細書に上述
したようなアレイ上で実行することができる。核酸は未知の標的シークエンスに隣接する
オリゴヌクレオチドプライマーを含むように調製してよい。第1のSBSシークエンシン
グサイクルを開始するには、1つ以上の異なって標識化されたヌクレオチド及びDNAポ
リメラーゼ等を流体フローサブシステム(図示せず)によりフローセルに流入/貫流させ
てよい。単一タイプのヌクレオチドを一度に付加するか、あるいはシークエンシングプロ
シージャで使用されるヌクレオチドを可逆的終端特性を処理するように特別に設計するこ
とによって、シークエンシング反応の各サイクルを数タイプの標識化したヌクレオチド(
例えば、A、C、T、G)の存在下で同時に生じさせることができる。ヌクレオチドは、
フルオロフォア(蛍光色素分子)のような検出可能な標識部分を含むことができる。4つ
のヌクレオチドを互いに混合する場合、ポリメラーゼは適正塩基を選択して取り込むこと
ができ、各シークエンス(配列)は単一塩基によって伸長される。取り込まれなかったヌ
クレオチドは、フローセルに洗い流し溶液を流すことによって、洗い流すことができる。
1つ又はそれ以上のレーザーは、核酸を励起し、蛍光を誘発することができる。核酸から
発生される蛍光は取り込まれた塩基のフルオロフォアに基づき、異なるフルオロフォアは
異なる波長の発光を発生することができる。非ブロック化試薬をフローセルに付加して、
伸長され検出されたDNAストランドから可逆的ターミネータ群を除去することができる
。その後、非ブロック化試薬は、フローセルに洗い流し溶液を流すことによって、洗い流
すことができる。このとき、フローセルは、上述したように標識化されたヌクレオチドの
導入とともに開始するシークエンシングのその後のサイクルの準備が整う。この流体ステ
ップ及び検出ステップは数回繰り返し、シークエンシングランを完遂することができる。
例示的なシークエンシング方法は、例えば、Bentley et al.,Natur
e456:53-59(2008);国際公開第04/018497号;米国特許第7,
057,026号明細書;国際公開第91/06678号;同第07/123,744号
;米国特許第7,329,492号明細書;同第7,211,414号明細書;同第7,
315,019号明細書;同第7,405,281号明細書;及び米国特許出願公開第2
008/0108082号に記載されており、これらの各文献は参照により本明細書に組
み入れられる。
ことができる。例えば、増幅は表面上に核酸集団を形成する架橋増幅方法を用いて実行す
ることができる。有用な架橋増幅方法は、例えば、米国特許第5,641,658号明細
書;米国特許公開第2002/0055100号;米国特許第7、115,400号明細
書;米国特許公開第2004/0096853号;米国特許公開第2008/00094
20号に記載されている。表面上で核酸を増幅する別の有用な方法はローリングサークル
増幅(RCA)であり、例えばLizardi他、Nat.Genet.19:225-
232(1998)及びUS2007/0099208A1に記載されており、これらの
各文献は参照により本明細書に組み入れられる。ビーズ上のエマルジョンPCRを使用で
きることも、例えばDressman他、Proc.Natl.Acad.Sci.US
A100:8817-8822(2003)、国際公開第05/010145、又は米国
特許公開第2005/0130173号又は同第2005/0064460号に記載され
ており、これらの各文献は参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。
シークエンシング、ナノポアシークエンシング及びライゲーションによるシークエンシン
グである。特に有用な代表的なパイロシークエンシング技術及び試料は、米国特許第62
10891号明細書;同第6258568号明細書、および同第6274320号明細書
、及びRonghi,Genome Rsearch 11: 3-11 (2001)に記載されており、これらの各文献は参
照により本明細書に組み入れられる。同様に有用な代表的なナノポア技術及び試料は、Dr
eamer et al., Acc. Cem. Res. 35: 817-825 (2002); Li et al., Nat. Mater. 2: 611-6
15: (2003); Soni et al., Clin Chem. 53: 1996-2001 (2007); Healy et al., Nanomed.
2: 459-481 (2007) 及びCockroft et al., J. am. Chem. Soc. 130: 818-820 及び米国
特許第7,001,792号明細書に記載されており、これらの各文献は参照により本明
細書に組み入れられる。特に、これらの方法は試薬配送の繰り返しステップを利用する。
本明細書に記載する機器又は方法は、例えば上記の引用文献に記載されるような所望のプ
ロトコルに従って試薬を導入し光を検出するために、貯蔵部、バルブ、流体ライン及び他
の流体コンポーネントをこれらのコンポーネントのための制御システムと一緒に用いて構
成することができる。種々の試料の何れかは、エマルジョンPCRにより生成されるビー
ズを有する基板、ゼロ次波長を有する基板、集積CMOS検出器を有する基板、脂質二重
層の生物学的ナノポアを有する基板、合成ナノポアを有するソリッドステート基板、及び
当技術分野で既知の他の基板といったシステムで、用いることが可能である。このような
試料は、上記参考文献の種々のシークエンシング技法についての文脈で、さらには米国特
許出願公開第2005/0042648号、同第2005/0079510号、同第20
05/0130173号、および国際公開第05/010145号において記載されてお
り、これらの各文献は参照により本明細書に組み入れられる。
ことができる代表的な標識としては、限定しないが、発色団、発光団、フルオロフォア(
蛍光色素分子)、光学的にコード化されたナノ粒子、回折格子でコード化された粒子、Ru
(bpy).sup.32+のような電気化学発光標識、又は光学的特性に基づいて検出することがで
きるモイエティがある。有用であり得るフルオロフォアとしては、例えば、ユーロピウム
及びテルビウムの錯体を含む蛍光ランタニド錯体、フルオレセイン、ローダミン、テトラ
メチルローダミン、エオシン、エリトロシン、クマリン、メチル-クマリン、ピレン、マ
ラカイトグリーン、Cy3、Cy5、スチルベン、ルシファーイエロー、カスケードブル
ー(登録商標)、テキサスレッド(登録商標)、アレクサ染料、フィコエリトリン、ボデ
ィパイ、及びHaugland, Molecular Probes Handbook, (Eugene, Oreg.) 6th Edition; Th
e Synthegen catalog (Houston, Tex.), Lakowicz, Principles of Fluorescence Spectr
oscopy, 2nd Ed., Plenum Press New York (1999))又は国際公開第98/59066号
に記載されている従来既知のフルオロフォアがあり、これらの各文献は参照により本明細
書に組み入れられる。幾つかの実施形態において、1つの標識対は、第1励起波長によっ
て励起可能とすることができ、他の標識対は第2励起波長によって励起可能とすることが
できる。
出に関して例示するが、当然のことながら、他の試料を本明細書に記載の実施形態により
画像化することができる。他の例示的な試料としては、限定されないが、細胞又は組織の
ような生物学的試料、コンピュータプロセッサに使用されるような電子チップ、等々があ
る。幾つかの用途例としては、顕微鏡検査、衛星スキャナ、高解像度複写、蛍光画像収集
、核酸の解析及びシークエンシング、DNAシークエンシング、シークエンシング・バイ
・シンセシス、マイクロアレイの画像化、ホログラフ的にコード化した微粒子の画像化等
がある。
ジアセンブリが提供される。本カートリッジアセンブリは、フローセルを受け入れるフロ
ーセルチャンバと、所望量の液体を受け入れる液体ウェルを有するウェルプレートとを含
むハウジングを備える。ウェルプレートは、バルブステーション、ポンプステーション、
及び流体解析ステーションを含む。ポンプアセンブリがポンプステーションにおいてウェ
ルプレートの上に設けられる。ポンプアセンブリはポンプステーションと流体解析ステー
ションとの間のチャネルを通る流体の流量を制御する。回転バルブアセンブリがバルブス
テーションにおいてウェルプレートの上に設けられる。回転バルブアセンブリは回転軸を
中心に回転してウェルをポンプステーションに選択的に結合するように配置されたロータ
シャフトと回転バルブを含む。ロータシャフトはハウジングを貫通して露出する遠位端を
有する。ロータシャフトはその遠位端に二重スプライン構造を含む。二重スプライン構造
は第1及び第2組のスプラインを有する。第1組のスプラインは駆動インタフェースを形
成し、第2組のスプラインは位置コード化インタフェースを形成する。位置コード化イン
タフェースはロータシャフトの位置を追跡するためにバルブ駆動アセンブリで使用される
。
るスプラインの側面は第1の所定のスプライン間隔で隔てられる。このスプライン間隔は
バルブ駆動アセンブリの駆動シャフト上のスプラインパターンに対応する。第2組のスプ
ラインは遠位端に設けられた空洞の内面の周囲に形成された内部スプラインに相当する。
内部スプラインは、それらの隣接する側面が互いに所定の非平衡の角度を成すように傾斜
される。これらの隣接側面は底部で融合して駆動アセンブリの駆動軸の対応スプラインを
受け入れるくぼみを形成してよい。
付けてよい。結合フランジはロータバルブとロータシャフトとの間の所定量の傾動を許容
し得る。ロータバルブはロータシャフトの近位端の周囲に置かれた1つ以上のリブを有す
るロータベースを含んでよい。結合フランジは前記リブとロータシャフトの近位端との間
に保持し得る。ロータバルブは中心ポートと径方向ポートを有するウェルプレート接触面
を含んでよい。ロータバルブは中心ポートから径方向ポートまで径方向に外向きに延在す
るチャネルを含んでよい。
ートの中心フィードポートと一致するように整列してよい。ロータバルブは回転軸を中心
に回転して径方向ポートを対応するウェルポートと整列させることができる。回転バルブ
は界面リングで形成されたウェルプレート接触面を含んでよい。界面リングはウェルプレ
ート接触面の周囲に延在してよい。カートリッジアセンブリは更に回転バルブを回転可能
に収容する内部空洞を含むバルブキャップを備えてよい。バルブキャップはバルブキャッ
プをウェルプレートに対して下向きにウェルに固定する1つ以上のラッチアームを含んで
よい。バイアス素子を前記内部空洞に含め、バイアス力を回転バルブに与えて回転バルブ
のポートとウェルプレートのポートの間で密封された界面を維持してよい。
んでよい。駆動端とバイアス面は、プランジャの往復運動と関連して対応する単方向駆動
力とバイアス力をそれらに加えることができるようにハウジングの上面及び底面で露出さ
せてよい。プランジャはブリッジセグメントでU字形に互いに結合された駆動アームとプ
ランジャアームを有してよく、モノリシック構造に一体に形成してよい。駆動アームとプ
ランジャアームはウェルプレート上に位置する支持ポスト内に収容してよい。プランジャ
は異なる材料で一体にモールド成形されたプランジャアームとプランジャ素子を備えてよ
い。プランジャ素子は対応する支持ポスト中を移動してポンプステーションに高圧及び低
圧を生成するようにしてよい。
とに分割されたチャネル区分を含んでよく、これらの区分は互いに連続して両方向の流体
フローを支持するように形成される。ポンプステーションは作業区分の上流と下流に置か
れた1対のピンチバルブの間に挟まれた作業エリアを含んでよい。ポンプアセンブリは作
業エリアと整列するプランジャを備えてよい。プランジャは作業エリアに対して往復運動
して高圧及び低圧状態を導入し得る。ポンプアセンブリはピンチバルブと整列するプッシ
ュピンを備えてよい。プッシュピンは交互に移動してピンチピンを開閉する。穿孔機ユニ
ットをハウジング内に設け、ウェルに近接配置してよい。穿孔機ユニットは穿孔素子を含
んでよい。穿孔機ユニットは穿孔位置へ移動することができ、そこで穿孔素子が対応する
ウェルのカバーに孔をあけることができる。
孔機アクセス開口を含んでよい。穿孔機ユニットは、下部プラットフォームと中間部分と
上部フランジを有する円錐管状に形成された本体を含んでよく、下部プラットフォーム又
は上部フランジの少なくとも1つが所定の態様に分布された穿孔素子を含んでよい。穿孔
機ユニットはロータシャフトの上に嵌合するプラットフォームを有してよい。このプラッ
トフォームは、穿孔素子を対応するウェルと整列させるために、回転バルブアセンブリの
係合機構部と係合して穿孔機ユニットを所定の回転配向に位置させるインデックス機構部
を含んでよい。
配置されたウェルトランジションポートを含んでよい。ウェルプレートは対応するウェル
と整列するウェル排出ポートを含んでよい。ウェルプレートは対応するウェル排出ポート
とウェルトランジションポートとの間に延在するウェル排出チャネルを含んでよい。ウェ
ルプレートは上面及び底面を有するベースを含んでよく、その少なくとも一つの面にチャ
ネルを含んでよい。チャネルは側面開口チャネルを含んでよい。ベースはバック層に接合
して側面開口チャネルを閉鎖してよい。ウェルプレートは光学解析ステーション内に設け
られた光学インタフェース窓を含んでよい。ウェルプレートの上面は機器の照明素子と係
合する挿入制限素子を含んでよい。挿入制限素子は光学インタフェース窓の周囲に設けら
れた1つ以上のリブに相当してよい。これらのリブは出力名素子と光学インタフェース窓
との間のZ公差を決定し得る。
が提供され、該カートリッジアセンブリは照明チャンバとウェルプレートを含むハウジン
グを有する。ウェルプレートはハウジング内に維持され、所望量の液体を受け入れる液体
ウェルを有する。ウェルプレートは照明チャンバと整列する流体解析ステーションを含む
。ウェルプレートは流体解析ステーションに位置するインタフェース窓とインタフェース
ポートを含む。フローセルカートリッジは解析回路を中に含むフレームを有する。フレー
ムは解析回路と整列するフローセル窓を含む。フレームは解析回路内の活性領域に流体結
合するフローセルポートを含む。ハウジングはフローセルカートリッジを収容するフロー
セルチャンバを含む。フローセルチャンバはフローセルカートリッジを流体解析ステーシ
ョンに位置させ、対応するインタフェース窓及びポートと整列するフローセル窓及びポー
トを有する。
それらの少なくとも1つは、フローセルカートリッジを完全装填位置においてフローセル
窓及びポートが対応するインタフェース窓及びポートとそれぞれ整列されるように所定の
基準点に位置決めするエンドリミットを有してよい。フローセルチャンバは側面レールの
少なくとも1つに沿って延長するように向けられたバイアスアームを含んでよい。バイア
スアームはフローセルチャンバの内側に突出して延在し、前記フローセルカートリッジに
横方向のバイアス力を与えて前記フローセルカートリッジを所定の基準点に維持してよい
。バイアスアームはフローセルカートリッジ側面に設けられたノッチと嵌合するように設
置されたラッチ素子を含んでよい。ラッチ素子は前記フローセルカートリッジを(本明細
書で説明されるように)XYZ座標系に関してX基準点に維持することができる。
フレームはフローセル窓及びポートを含んでよい。上部フレームは上部フレームから上向
きに所定の高さだけ突出してZ基準点を規定するリブを含んでよい。フローセルカートリ
ッジはエラストマ材料でモノリシック構造に形成されたガスケットを含んでよい。ウェル
プレートは、バルブステーション、ポンプステーション及びインタフェースチャネルを含
んでよく、インタフェースチャネルはバルブステーションとインタフェースポートの1つ
との間の第1の流体通路及び前記ポンプステーションと前記インタフェースポートの1つ
との間の第2の流体通路を提供してよい。照明チャンバは、インタフェース窓、フローセ
ル窓及び解析回路内の活性領域を貫通して延びる照明軸に沿って延在するように向けてよ
い。
図1Aは、本明細書に記載の一実施形態に従って形成されたカートリッジアセンブリ1
00の前上面斜視図を示す。一例として、カートリッジアセンブリ100はSBSカート
リッジアセンブリを表す。カートリッジアセンブリ100はマイクロ流体機器に挿入され
るハウジングを備える。本明細書では実施形態はマイクロ流体システム、機器及びカート
リッジと関連して記載されるが、必要に応じ実施形態は「マイクロ」流体システム、機器
、カートリッジ等とみなせない流体システムで実装してもよい。ハウジングはベース10
1とカバー102を備える。カバー102は機器接触面104を有し、機器接触面104
は以下で詳述する多数の機器コンポーネントと係合される内部コンポーネントを露出させ
る開口を有する。操作中、カートリッジアセンブリ100は、流体操作の実行と関連して
カートリッジアセンブリ100に物理的に、光学的に且つ電気的に結合する機器に近接し
て置かれる。カートリッジアセンブリ100は流体操作の実行と関連してフローセルを受
け入れるフローセルチャンバ108を含む前面106を備える。
リ、例えば回転バルブアセンブリ200(図2A-2Dと関連して以下で詳述する)、穿
孔機ユニット300(図3A-3Dと関連して以下で詳述する)、照明チャンバ400(
図4と関連して以下で詳述する)及びシリンジポンプアセンブリ500(図6A-6Cと
関連して以下で詳述する)等を含む。
ェル116を含む。カバー102は穿孔機アクセス開口122も含み、これらの開口は本
明細書に記載する操作と関連する穿孔機ユニット300の上端への機器のアクセスを提供
する。操作中、機器の駆動シャフトは回転バルブアセンブリ200の動きを管理するため
に回転バルブアセンブリ200のバルブシャフトに物理的に結合される。カバー102は
穿孔機アクセス開口122を含み、これらの開口はウェルフォイルの穿孔操作と関連する
穿孔機ユニット300の上端への機器の1つ以上の穿孔機シャフトのアクセスを提供する
。一例として、複数の穿孔機アクセス開口122は、起動時に穿孔機ユニット300の平
面運動を維持するために、穿孔機ユニット300の上端に沿って分散して設けることがで
きる。試料ウェル124が前面106に近接して設けられる。試料ウェル124は機器で
解析すべき関心試料量を受け取る。流入する試料の温度を要望どおりに調整(予熱)する
ために、加熱素子125を試料ウェル124に近接して設けることができる。ポンプアク
セス開口123がカバー102の上面104に設けられる。ポンプアクセス開口123は
機器内のバイアス素子が係合表面542をポンプアセンブリ500のプランジャに係合さ
せることを許す。例えば、バイアス素子は金属波型ばね、弾性ばね、又は均等力を提供す
る別の構造体としてよい。
、フローセルカートリッジ900がフローセルチャンバ108内に挿入されている。カー
トリッジアセンブリ100はフローセルカートリッジアクセスエリア112を有する底面
110を含み、アクセスエリア112はフローセルカートリッジ900の関心部分、例え
ば電気接点パッドのアレイ950及び加熱素子を受け入れるための開口944を露出する
。底面110は1対のプッシュピン孔114及びポンプ駆動開口116も含む。プッシュ
ピン開口114はポンプ500内のプッシュピンを露出する。本明細書で説明するように
、プッシュピンは機器内のバルブ駆動シャフトと係合し、流体フローの制御と関連して対
応するピンチバルブを開閉する。ポンプ駆動開口116はポンプ500内のバルブシャフ
ト546の近位端548を露出する。本明細書で説明するように、バルブシャフト546
は機器内のポンプ駆動シャフトと係合して流体フローの制御と関連するポンプ作用を導入
する。底面110は穿孔可能な廃液排出口120を露出する開口118も含み、廃液排出
口120はカートリッジアセンブリ100内の廃液容器から使用済み流体を排出するため
に使用される。
ンポーネントの正面斜視図を示す。図1Cに示すように、カートリッジアセンブリ100
はバルブ操作ステーションにおいてウェルプレート150に回転可能に装着された回転バ
ルブアセンブリ200を含む。シリンジポンプアセンブリ500がポンプステーションに
おいてウェルプレート150に装着される。ウェルプレート150はベース152(例え
ば、略平面の板)を含み、ベース152と一体に形成されベース152から上向きに伸び
る複数の試薬ウェル154,156を有する。試薬ウェル154,156は回転バルブア
センブリ200を少なくとも部分的に囲む様々な位置に設けられる。試薬ウェルには所望
量の液体が入る。必要に応じ、回転バルブアセンブリ200は試料ウェル154,156
(一般に液体ウェルと称される)を流体解析ステーション170に選択的に結合させる。
積及びベース152の上方に異なる高さを有し、異なるウェル容積を有するように形成し
てよい。必要に応じ、1つ以上のウェル154,156は本明細書に記載の実施形態に応
じて溶液ウェルとして利用してもよい。ウェル154,156は充填操作中に所望量の液
体を受け入れるために開いた充填端158,160を含む。所望量の液体がウェル154
,156に充填されると、充填端158,160がフォイル又は他のシールカバーで覆わ
れて各ウェル154,156内に気密の容積部を形成する。図1Cでは見えないが、ウェ
ル154,156はその底部に設けられた1つ以上の排出口を含む。操作中、回転バルブ
200及びポンプアセンブリ500の制御の下で、カバーが穿孔されて空気が1つ以上の
ウェル容積部に入ると、それによって液体が排出口を経て流体解析ステーション170に
(例えば、重力又は加圧により)自由に流出することができる。
ウジングの一部分を形成する廃液トレー130の上面斜視図を示す。廃液トレーはウェル
プレート150の比較的大きな部分の下部領域に広がる廃液収集容積部131を含む。一
例として、、廃液トレー130は回転バルブアセンブリ200とウェル54,156の少
なくとも一部分の下に設置される。廃液トレー130は、その周縁に沿って延在し、(例
えば、ウェルプレート150の底面上の)嵌合面に封止されるリッジ132を含む。リッ
ジ132はその隅部に、ウェルプレート150の貫通開口と連通する通気孔133を含ん
でよい。通気孔133は廃液が容積部131に入るにつれて容積部131から空気を放出
することができる。通気孔133は操作中にわずかに傾けても通気孔133の少なくとも
1つが空気吸入口として常に使用し得るように分布される。通気孔133は、廃液が通気
孔133の表面に跳ね上がっても漏れないので、廃液トレー130のサイズを制限するこ
とができる。通気孔133は発泡ポリプロピレン、ポリエチレン又はポリテトラフルオロ
エチレン等の多孔性材料で形成してよい。
口と連通するレッジ部136で終端する。管135の底端は最初にカバーで覆われる。廃
液トレー130を空にするためには、カバー136を穿孔し、カートリッジアセンブリ1
00(廃液トレー130を含む)を傾けて漏斗部134が最も低い位置にすることができ
る。廃液は漏斗部134を通りレッジ部136を超えて管135から流出する。
図1Eは、カートリッジアセンブリ100の一部分と、フローセルチャンバ108と整
列したフローセルカートリッジ900の正面斜視図を示す。フローセルチャンバ108は
キー機構部109を含み、キー機構部109は溝として形成し、フローセルチャンバ10
8の底面に設けてよい。キー機構部109は、フローセルカートリッジ900が正しい方
向及び向きに装填されるように、フローセルカートリッジ900の底面の対応するキー機
構部(例えば、図9Cのスタンドオフ914)を受け入れる形状及び寸法を有する。フロ
ーセルチャンバ108は側面レール413と上壁451及び低壁451及び453を含む
。カートリッジ900は装填方向900Aに挿入される。
入されたフローセルカートリッジ900の底面図を示す。フローセルチャンバ900は図
1Fにおいてフローセルチャンバ108内に完全装填位置まで挿入されている。本明細書
において、図9A-9Eと関連してより詳細に説明されるように、フローセルカートリッ
ジ900は装填端部908と側縁部912を含む。装填端部908は基準ポスト923を
含み、側縁部912の少なくとも1つは1つ以上の基準ポスト925を含む。1つの対向
側縁部912はノッチ927を含む。フローセルカートリッジ900の底面は熱拡散器9
57と接点パッド950を露出する開口を有する。
に平行に延在する側面レール413を含む。エンドストップ417がチャンバ108の最
深部に設けられる。上面及び底面、側面レール413、及びエンドストップ417は、フ
ローセルカートリッジ900を座標系(例えば、XYZ座標系)に対して所定の基準点(
例えば、X基準点、Y基準点及びZ基準点と称される基準点)に正しく位置させるように
設置される。エンドストップ417はエンドストップ417に沿って所望の位置に設けら
れたエンドリミッタ414を含む。エンドリミッタ414は装填端部908に設けられた
基準ポスト923と整列する。側面レール413の1つはフローセルチャンバ108の内
部に向かって延在する横方向リミッタ420を含む。横方向リミッタ420は横方向基準
ポスト923と整列する。反対側の側面レール413は、側面レール413に沿って延在
するように方向づけられ、横方向バイアス力を矢1Eの方向に与えるバイアスアーム42
2を含む。バイアスアーム422はその遠位端にラッチ素子424を含む。ラッチ素子4
24は側縁912のノッチ927に嵌合する形状を有する。
填方向9Aの移動の限界を規定するフローセルチャンバ108内の限界機構部としっかり
当接するまで挿入される。フローセルカートリッジ900が挿入されるにつれて、バイア
スアーム422がノッチ927を含む側縁912に沿って、ラッチ素子424がノッチ9
27に嵌合するまで摺動する。バイアスアーム422は矢IEの方向に横方向の力を加え
てフローセルカートリッジ900を横方向(Y軸に対応)に、横方向基準ポスト923が
横方向リミタ420に係合するまでシフトさせる。フローセルチャンバ108の横境界は
横(Y)方向の移動限界を規定する。バイアスアームはフローセルカートリッジ900を
所望のY位置(Y基準点に対応)に維持する。ノッチ927内のラッチ素子424は所定
の位置でフローセルカートリッジ900を所望のX位置(X基準点)に維持する。
にする。フローセルカートリッジ900のカートリッジアセンブリ100内への及びから
の挿入及び取り出しを可能にすることによって、本明細書に記載の実施形態はフローセル
カートリッジを試薬及び試料と別個に管理及び配送することが可能になる。更に、フロー
セルカートリッジ900を試薬と分離することによって、本明細書に記載の実施形態は分
離製造するワークフローを可能にする。更に、本明細書に記載の実施形態はフローセルカ
ートリッジを様々な組み合わせの試薬、試薬量及びフローセルカートリッジサイズと混合
及び適合させることができる。例えば、1つのプロトコルは大量の所定の試薬を使用し得
るが、別のプロトコルは多数の少量の異なる試薬を使用する。試薬の数及び量に対する様
々な基準は異なるカートリッジアセンブリで満足させることができるが、上述したカート
リッジアセンブリのいずれも同じフローセルカートリッジを使用することができる。他の
実施形態としては、解析回路に異なる要件を有する異なるプロトコルに対して同じタイプ
のカートリッジアセンブリを使用することができる。例えば、1つのプロトコルは大きな
光学フットプリントを有する解析回路を使用するかもしれないが、別のプロトコルは小さ
な光学フットプリントを有する解析回路を使用するかもしれない。更に、いくつかのプロ
トコルは他の解析回路と比較してもっと複雑な電子回路及び相互接続を有する解析回路を
使用するかもしれないが、上述した解析回路のいずれも同じカートリッジアセンブリに収
まる共通の全体エンベロープを有するフローセルカートリッジ内に具体化することができ
る。
例えば、最小化高さ)を有するインタフェースを提供する。
穿孔機ユニット300はハウジング内に設けられ、ウェル154,156に近接して設
置される。穿孔機ユニット300は穿孔位置に移動され、そこで穿孔素子が対応するウェ
ル154,156のフォイル又はカバーを穿孔する。図3Aの実施形態では、穿孔機ユニ
ット300は回転バルブアセンブリ200に装着され、操作中機器によってウェル154
,156の1つ以上を穿孔するように制御される。
視図を示す。穿孔機ユニット300は全体構造をより良く提示するために一部を切除して
示されている。穿孔機ユニット300は、下部プラットフォーム302と中間部分308
と上部フランジ310とを有する円錐管状に成形された本体306を含む。プラットフォ
ーム302と部分308とフランジ310は一体に形成される。下部プラットフォーム3
02はプラットフォーム302の周囲に所定の方法で分布された穿孔素子312を含む。
図3Aの実施形態では、穿孔素子312は円形パターンに配列されている。上部フランジ
310もその下面に設けられた、穿孔素子312と共通の方向に突出する穿孔素子314
を含む。穿孔素子314は上部フランジ310の周囲に所定の方法で、例えば円形パター
ンに分布される。
れる。例えば、図1Aを参照すると、機器は1つ以上の穿孔機シャフトをカバー102の
穿孔機アクセスポート122を通して伸ばすことができる。穿孔機シャフトは穿孔方向3
18に押し下げられ、穿孔機ユニット300を押し下げて、穿孔素子312,314を対
応するウェル154,156のフォイル/カバーを貫通するよう駆動する。穿孔機シャフ
トは穿孔機ユニット300に穿孔力を均等に与えるように分布される。
穿孔を容易にし、フォイル/カバーを貫通する通気を提供すために、X状の断面に形成さ
れる。X状断面は、穿孔素子312,314がフォイル/カバーを貫通している間も対応
するウェルへの空気の流入を可能にする。
しかしながら、必要に応じ、穿孔素子312,314の各々は、例えば穿孔素子314A
で示すように、もっと長く又はもっと短くしてよい。図1Cと図3Aを併せて参照すると
、穿孔素子312,314は対応するウェル154,156と整列するように置かれる。
図1C及び図3Aの実施形態では、穿孔素子300が駆動されたとき、対応するウェル5
14,516の各々を同時に穿孔するために、穿孔素子312,314は略共通の長さを
有している。必要に応じ、穿孔機ユニット300は(穿孔機アクチュエータアセンブリに
よって)多段穿孔システムとして操作し、穿孔素子312,314の一部分のみが第1の
穿孔操作中に対応するウェル154,156を穿孔し、穿孔素子312,314の異なる
部分のみが第2の穿孔操作中に対応するウェル154,156を穿孔するようにしてもよ
い。例えば、穿孔素子312は穿孔素子314より長くして、穿孔素子412が第1の穿
孔操作中に対応するフォイルを穿孔し、穿孔素子314が第2の穿孔操作中に対応するフ
ァイルを穿孔するようにしてもよい。
リム326は開口304の周囲に設けられた多数のインデックス機構部を含む。インデッ
クス機構部322は、穿孔機ユニット300をロータシャフト202に対して所定の回転
配向に位置させて穿孔素子312,314をウェル154,156と整列させるために、
回転バルブアセンブリ200の係合機構部と係合する。インデックス機構部322は内部
リム326の周囲に設けられた1つ以上のノッチ324を含む。リム326は本体306
の内部に上部フランジ310に向かって僅かに上方に突出する。ノッチ324が開口30
4の周囲に所定のパターンに分布される。ノッチ324は(以下で詳細に説明されるよう
に)回転バルブアセンブリ200に設けられたリブ又は歯と整列する。図3Aの実施形態
では、ノッチ324は開口304の周囲に相対的に均等に配置される。加えて又は代わり
に、もっと多数の又は少数のノッチ324を使用し、代替位置に均等に又は不均等に配置
してもよい。必要に応じ、ノッチ324以外のインデックス機構部を使用してもよい。
上の可撓性のスタンドオフ328を含む。スタンドオフ328はベース延長部216の周
囲の周りを延在するレッジ216Aと係合する。ノッチ324が回転バルブアセンブリ2
00の対応する歯と整列すると、穿孔機ユニット300はスタンドオフ328がレッジ2
16Aの上面に載るまで装填される。スタンドオフ328はレッジ216Aの上にとどま
って、垂直方向に非穿孔/準備位置に位置する穿孔機ユニット300を維持する。操作中
、穿孔機ユニット300は穿孔機シャフトにより下向き(矢318の方向)に押され、こ
れに応答してスタンドオフ318は外側に曲がってレッジ216Aの上に載り、穿孔機ユ
ニット300を穿孔方向318に下向きにロータキャップ210の上まで摺動させること
ができる。
一部分の上面図を示す。本明細書に説明されるように、回転バルブアセンブリ200はロ
ータシャフト202を含み、バルブキャップ210がロータシャフト202の上方に装着
される。バブルキャップ210はバブルキャップ210の中心リムの周囲に分布された複
数の歯212を含む。歯212は穿孔機ユニット300のノッチ324と整列し嵌合して
穿孔機ユニット300を回転バルブアセンブリ200に対して所定の回転角度に回転位置
決めする。図示されていないが、穿孔機ユニット300を回転バルブアセンブリ200の
ロータシャフト202の中心軸に沿って延びる回転軸に沿って取付け位置に維持するため
に、ラッチ328(図3A)がバルブキャップ210のラッチ機構部としっかり結合され
る。
れた、回転バルブアセンブリ200を示す。ロータシャフト202は細長く、回転軸22
0を中心に回転する。ロータシャフト202は近位端(図3Cでは見えない)と遠位端2
04を含む。バルブキャップ210は図3Cに示すようにロータシャフト202の遠位端
204の周囲に装着位置に装填される。バルブキャップ210はキャップベース部214
を含み、キャップベース部214は互いに隣接してほぼ円形に配列されたウェル156の
一群内に収まるように寸法決めされた拡大直径を有する。キャップベース部214は、ロ
ータシャフト202の長さに沿ってキャップベース部214から上向きに延びるキャップ
延長部216と結合する。キャップ延長部216は図3Cに示す実施形態ではキャップベ
ース部214の直径より小さい直径を有する。しかし、キャップ延長部216及びキャッ
プベース部214に対して他の寸法を用いてもよいことは認識されよう。キャップ延長部
216は、キャップ延長部216の周囲に形成された、(回転軸220に対して)径方向
に外向きに突出する歯212を含む。
上のラッチアーム226を含む。ラッチアーム226はL型に形成され且つラッチアーム
226のレッグが隣接するウェル156の間に嵌合する寸法にされ、ラッチアーム226
の外側部分又はフット部がウェル156の1つの外面の周囲に沿って曲がりその上にしっ
かり休止する。対応するウェル156はその外壁に設けられた戻り止め158を含む。L
型ラッチアーム226は、バルブキャップ210がロータシャフト202の上に挿入され
るとき、スナップフィットし、戻り止め158の下にしっかり保持される。
次に、回転バルブアセンブリ200の操作を図2A-2Fと関連して説明する。
0の斜視図を示す。図2Aはロータシャフト202を覆って設けられたバルブキャップ2
10をよりよく示す。ロータシャフト202はバルブキャップ210内で回転し、バルブ
キャップ210はロータシャフト202をウェルプレート150に対して所定の位置に維
持する。バルブキャップ210はキャップベース部214の周囲に均等に分布された多数
のラッチアーム226を含む。ロータシャフト202の遠位端204はキャップ延長部2
16を超えて突出する。遠位端214はロータシャフト202の周囲に分布された複数の
外部スプライン230を含む。遠位端204は空洞228も含み、その空洞228の周囲
に分布された内部スプラインを含む。ロータシャフト202は内部及び外部スプライン2
32,230(第1組及び第2組のスプラインとも称される)を有するデュアルスプライ
ン構造を含み、このスプライン構造は流体操作中にカートリッジアセンブリと係合する機
器内のバルブ駆動アセンブリの駆動シャフトの対応スプライン構造と係合する。内部及び
外部スプライン232,230のデュアルスプライン構造は、機器の駆動シャフトとロー
タシャフト202との間の駆動インタフェース及び回転関係の正確な追跡のための位置コ
ード化インタフェースを提供する。
端の周囲に装着されたロータバルブ234を示すために部分的に透けて見えるように示さ
れている。ロータバルブ234はロータシャフト202に固定され、ロータシャフト20
2と一緒に回転する。ロータバルブ234はキャップベース部214内で(それと相対的
に)回転するが、キャップベース部214はウェルプレート150上の対応するウェルの
周囲に固定されたラッチアーム226によって静止したままである。キャップ延長部21
6の内径はロータシャフト202の外形に対応し、それらの間に精密許容差を与える。キ
ャップ延長部216が十分な構造的及び回転的支持をもたらすならば、キャップ延長部2
16は変化し得る長さ217を有し、それによってロータシャフト202の回転軸はウェ
ルプレート150に対して所定の固定位置に維持される。一例として、ロータシャフト2
02の回転軸は、ウェルプレートに設けられた、流体が移動する中心ポートと対応する。
本明細書で説明されるように、ウェル154,156の所望の1つをロータシャフト20
2の下方の中心ポートと流体結合させるために、機器のバルブ駆動アセンブリがロータシ
ャフト230を回転し、このロータシャフトがロータバルブ234を回転する。
ライン232,230は異なるスプライン形状を有する。外部スプライン230は駆動イ
ンタフェースを構成する第1組のスプラインに相当し、よって第1/外部スプラインはバ
ルブ駆動アセンブリの駆動シャフトの対応スプラインと係合される。内部スプライン23
2は位置コード化インタフェースを構成する第2組のスプラインに相当し、バルブ駆動ア
センブリによりバルブ駆動アセンブリの駆動シャフトとロータシャフト202との間の十
分に嵌合した(及び密接に追跡される)相互結合を維持するために利用される。外部スプ
ライン230は互いにほぼ平行に延在するスプライン側面233を有する。外部スプライ
ン230は第1の所定のスプライン間隔231で隔てられた隣接するスプラインの側面2
33が互いに平行に延在するように方向付けられる。スプライン間隔231はバルブ駆動
アセンブリの駆動シャフトのスプラインパターンに対応する。スプライン提示間隔231
は係合を容易にするために駆動シャフトアセンブリからの対応スプラインより僅かに大き
く決定される。入来するスプラインより大きいスプライン間隔231を与えることによっ
て、僅かな緩みが導入され、これはロータシャフトと駆動シャフトとの間に限定量の相対
回転シフトを許容し得る。従って、駆動シャフトのスプラインはロータシャフト230の
回転位置を正確に示し得ない。代わりに、内部スプライン232が位置コード化インタフ
ェースを構成し、該インタフェースは、本明細書で説明されるように、駆動アセンブリの
別個の位置コード化/追跡素子と結合されたとき、位置コード化情報を提供するために利
用される。位置コード化インタフェースは、外部スプライン230と結合する駆動スプラ
インと無関係にロータシャフトの位置を密接に正確に追跡するためにバルブ駆動アセンブ
リにより利用される。内部スプライン232は、隣接する側面が互いに対して所定の非平
行角237(例えば、30度)を形成するようにV字形に広がる側面235を有する。側
面235は内部スプライン232の底面で融合して、バルブ駆動アセンブリの駆動シャフ
トの対応スプラインを受け入れるV字形のくぼみを形成する。スプライン232は駆動シ
ャフトの対応スプラインと十分に係合し、緩みなしに協働する。スプライン232は駆動
シャフトがロータシャフト202に対して幾分「傾いた」姿勢で動作することも可能にす
る。スプライン230,232及び遠位端の遠位端縁はベベルエッジで構成して、駆動シ
ャフトのアライメントを容易にするとともに、スプラインの位置合わせなしに駆動シャフ
トがただロータシャフト202にぶつかることがないようにすることができる。
く」係合され、駆動される外部スプライン230を使用するとともに、ロータシャフト2
02の回転位置を監視する位置エンコーダに比較的「密接に」結合された内部スプライン
232を使用する。
む回転バルブアセンブリ200の側断面図を示す。図2Bはロータシャフト202の近位
端203及び遠位端204を示す。ロータシャフト202は細長く、回転軸220を中心
に回転するようにバルブキャップ210で所定の位置に保持される。図2Bは、バルブキ
ャップ210の断面エンベロープを示し、キャップベース部214はキャップ延長部21
6より大きな直径を有する。キャップ延長部216はロータシャフト202の外経にほぼ
一致する内径を有する内部通路219を含む。キャップ延長部216の内部通路219は
ロータシャフト202を所定の向きに保持し、回転軸220はウェルプレート上の所望の
点(例えば、中心フィードポート)にセンタリングされる。
斜視図を示す。ロータバルブ234は、上面とウェルプレート接触面238を有するロー
タベース部240を含む。ロータベース部240はポリプロピレン又は所望の特性を有す
る別の材料で射出成形してよい。流体チャネル246がロータベース部240内に設けら
れる。流体チャネル246は中心ポート248に対応するロータベース部240の中心点
から径方向に外向きに向けられる。流体チャネル246はロータベース部240の周囲の
点まで延び、径方向ポート250で終端する。中心ポート248及び径方向ポート250
はロータベース部240を貫通してウェル接触面238に通じている。中心ポート248
はロータシャフト202の回転軸220と対応するように整列させるとともに、ウェルプ
レート150の中心フィードポートと整列させることができる。ロータバルブ234は、
径方向ポート250をウェルからの関心試薬又は試料の吸い上げと関連して対応するウェ
ルトランジションポート162と整列させるために回転軸220を中心に径方向252に
回転される。
261は流体チャネル246の開口面を覆うチャネルカバー258を受け取るように形成
される。チャネルカバー258は流体チャネル246の全長に延在して流体チャネル24
6を完全に封鎖する。本実施形態では、オープンフェースの流体チャネル246及びチャ
ネルカバー258は容易且つ高信頼の製造プロセスを提供するために使用される。必要に
応じ、チャネルカバー258を除去しながら流体チャネルを提供する別の構造を用いるこ
とができ、例えばロータベース部240のモノリシック構造内に流体チャネルを形成する
ことができ、それによりチャネルカバー258を設ける必要がなくなる。
2及び内部リブ256を有する。ウェルプレート接触面238は外周及び内部リブ242
,256と反対側に面する。バイアス素子253(例えば、波形ばね又は他の構造対)が
内部空洞213内に設けられ、ロータバルブ234にバイアス力を与える。バイアス素子
253は内部リブ256の周囲のロータベース部240の上に置かれる。バイアス素子2
53はロータベース部240とバルブキャップ210に膨張力を与えてロータバルブ23
4のポート248,250とウェルプレート150のポートとの間の密閉界面を維持する
。
ング260と界面パッド262とにより形成される。界面リング260はロータベース部
240の周囲に延在する。図2Cを参照すると、界面リング260内の界面パッド262
はロータベース部240をウェルプレート150から離して維持する微小のスタンドオフ
を形成する。一実施形態では、界面リング260は滑らかな平坦下面で形成してよい。別
の実施形態では、界面リング260は界面リング260とウェルプレート150との接触
面積を低減するために界面リング260の外面上に形成された所定のパターンで形成して
よい。例えば、そのパターンは界面リング260上に(例えば、チェーンパターンに)形
成された一群の相互接続された円形又はOリング状部分を備えてよい。例えば、詳細図2
Eは界面リング260の表面の代替構成を示す。詳細図2Eにおいて、界面リング260
Aは凹部262Aを囲む一連の円形隆起リング/部分261Aを備えている。例えば、詳
細図2Eのパターンは隣接する8リングのチェーン又は列に類似してよいが、別のパター
ンを使用してもよい。使用中でないとき、界面リング260Aは凹部262Aがウェルプ
レートのポートと整列する位置に回転してポート構造内でのクリープを避けることができ
る。
えば2ショット)成形プロセスによって形成することができ、ロータベース部は1つの種
類の材料で形成し、界面リング260及び界面パッド262は別の種類の材料で形成する
ことができる。例えば、界面リング260及び界面パッド262は熱可塑性エラストマ(
TPE)又は他の同様の材料で形成することができる。径方向ポート250は界面リング
260を貫通する。界面パッド262は中心ポート248の周囲に形成される。中心ポー
ト248はウェルプレート150の中心フィードポート161と整列するように位置付け
されるが、径方向ポート250は異なるウェルトランジションポート162と整列するよ
うに回転される。中心界面パッド262及び界面リング260は共通の射出成形作業中に
熱可塑性エラストマを1つまたは2つのゲートで射出することによって形成される。径方
向ポート250は界面リング260の周囲の円弧(中心ポート248に対して)に沿って
延在する細長寸法の楕円として形成してもよい。楕円形の径方向ポート250は対応する
ウェルポートと整列する際に所定量の公差を提供する。
除去されている)を示す。図2Fは回転軸220に沿って延びるロータシャフト202を
示す。ロータシャフト202の近位端203は負荷結合界面部239を通してロータバル
ブ234にしっかり装着される。負荷結合界面部239は結合フランジ241をその中に
保持する内部リブ256で形成される。結合フランジ241はロータシャフト202の所
望の区分に沿って延在する側壁243を含む。側壁243はロータシャフト202の周囲
を少なくとも部分的に沿って延在するベース区分245及び上部区分247を含む。結合
フランジ241はロータシャフト202をロータバルブ234から減結合する(例えば、
別々にモールド成形する)ことを可能にする。加えて、結合フランジ241はロータシャ
フト202に加わる側面加重をロータバルブ234から減結合することができる。例えば
、側面荷重は矢印2Fで示すように様々な径方向に認められ、対応する径方向へのロータ
シャフト202の僅かな偏倚を生じ得る。結合フランジ241はロータシャフト202と
回転バルブとの間の、例えば矢印2Fの方向の所定量の傾動を許容するとともに、ロータ
バルブ234をウェルプレートの表面に対して比較的一定の向きに維持する。他の実施形
態として、ロータバルブ234を座標XYで示す所定の平面内に維持することができる。
によってウェルプレート上の所定の位置に維持される。ラッチアーム226がバルブキャ
ップ210をウェル156に対してウェルプレート150上の所定のXY位置に固定する
(図3C)。ウェル156の壁上のへこみ(図3C)がラッチアーム226及びバブルキャッ
プ210を下向きに保持する。キャップ延長部216がロータシャフト202を所定のX
Y位置に維持し、配向し、回転軸220を中心とする回転を可能にする。内部リブ256
内に設けられたバイアス素子253がキャップベース部214(図2B)内の内部空洞21
3内に設けられた内部棚221に当接する。内部棚221はバイアス素子253への下向
きの力を維持し、それによって回転運動を許可しながらロータベース部240、界面リン
グ260及び中心界面パッド260をウェルプレート250の表面にしっかり押しつけ保
持する。
図4Aは、照明チャンバ400をより詳しく説明するために、カートリッジアセンブリ
100の一部分の底面図を示す。照明チャンバ400は機器の照明素子を受け入れるため
のものである。例えば、照明素子は予め決められたXYZ座標に従って照明チャンバ40
0内に設置される。後に説明されるように、LED照明素子が照明チャンバ400内(例
えば、その中のドック内)に、明確に定義されたXYZ位置に挿入され、LED照明素子
の位置は照明チャンバ400内の位置制限機構部により規定される。
06が形成され、反対側に位置リミタ408(図5D)が形成される。位置リミタ408
は流体解析ステーション170の周囲の選択点に設けられる。位置リミタ408は照明素
子の周囲外壁上の係合機構部と係合して照明素子を、例えばウェルプレート150に設け
られた光学インタフェース窓410に対してXY方向に既知の所望の位置に位置させる。
本実施形態では、XY方向は光学インタフェース窓410の表面にほぼ平行な平面内を延
在する。加えて、1つ以上のリブ412がウェルプレート150上に設けられ、光学イン
タフェース窓410の周囲に配置される。照明素子はZ方向に挿入されたときリブ412
に当接(ドッキング)する(照明素子に対して基準点を提供する)。リブ412は照明素
子の前面に当接して照明素子のZ方向(光学インタフェース窓410に向かう又は離れる
方向)の移動を制御する。必要に応じ、照明素子の位置の制御と関連して追加の又はより
少ないリミタ408及びリブ412を使用してもよい。必要に応じ、XYZ方向は異なる
形に向けてもよい。
連通する流体チャネルを覆うように形成される。一例として、、流体チャネルはウェルプ
レート150の上面に開口を有するものとして形成し、その流体チャネルの上にチャネル
カバーをレーザボンド(又は他の方法)で接合してもよい。
され且つ照明素子が照明チャンバ内に挿入されたとき、流体解析ステーション170で提
供され得る様々な構造のモデル側断面図を示す。図4Bにおいて、照明素子450がウェ
ルプレート150の上方の動作位置で点灯されるとともに、フローセルカートリッジ90
0がフローセルチャンバ108内に挿入される。図4Bで見えるウェルプレート150の
構造は、窓410、リブ412、ポート180,182及びチャネルカバー416及び4
18を含む。図4Bで見えるフローセルカートリッジ900の構造は、上部フレーム90
4、フローセル窓928、ポート934、及び解析回路958を含む。解析回路958は
活性領域962及び活性領域ポート964を含む。照明チャンバ400は、インタフェー
ス窓410、フローセル窓928、透明層429及び解析回路内の活性領域962を貫通
する照明軸4Bに沿って延長するように配向される。
0内に挿入される。リブ412は照明素子450に対するZデータム点(Z基準点)を窓
410より所定の距離(最小距離)上に規定する。照明素子450から放射する光は窓4
10、フローセル窓928及び透明層929を通過して解析回路958の上面に至る。ウ
ェルプレート150内のポート180,182はカバー416,418の下のチャネルを
通る流体の注入及び排出を管理する。ポート180,182はフローセルカートリッジ9
00の上部フレーム904内のポート934と整列するとともに、ポート934は解析回
路958へのポート968と整列する。1つのフロー方向として、流体はチャネルカバー
418に対応するチャネルに入って移動し、ポート180、194及び964を下向きに
通過することができる。流体はポート964,934及び182からチャネルカバー41
6に対応するチャネルに排出されるまで活性領域962を横切って移動する。必要に応じ
、フローの方向は逆にしてもよい。
置することができる。更に、解析回路は活性領域内で流体により電位を生じさせるために
反対電位として機能させることもできる。
次に、ウェルプレート150及びウェルプレート150中の流体チャネルのネットワー
クを図5A-5Eと関連してより詳しく説明する。ウェルプレート150は薄型チャネル
構造を提供する。一例として、ウェルプレート150は片面又は両面に形成された側面開
口流体チャネルのネットワークを有するベース層で形成することができる。流体チャネル
の側面開口を閉じるために、ベース層の上面及び/又は底面は対応するバック層(例えば
、プラスチックフィルム)にシール接合される。例えば、ベース層の底面のみが側面開口
チャネルを含む場合には、バック層は底面上にのみ設ければよい。同様に、ベース層の上
面のみが側面開口チャネルを含む場合には、バック層は上面上にのみ設ければよい。ベー
ス層の上面及び底面が側面開口を含む場合には、正面及び底面バック層を対応するベース
層の上面及び底面に設ければよい。
性エラストマ、加硫熱可塑性エラストマ等で形成してよい。ベース層及び/又はバック層
は様々な方法、例えばレーザボンディングによって互いに接合してよい。ベース層は、ベ
ース層の上面と底面に設けられたチャネルを相互接続する手段を提供するためにベース層
を貫通するポートのネットワークを含む。
。炭素添加は接合構造部とのレーザボンディングを容易にするとともに、接合部分を少な
くとも部分的に不透明にする。黒色プラスチック又は他の不透明材料を使用することによ
って、ウェルプレート150は露光に対する所望量の耐性を提供し、蛍光の望ましくない
伝達又は反射を防止することによってフローセルカートリッジの自己蛍光発光を低減する
。ウェルプレート150は望ましくない光の伝達又は反射を防止することによってシステ
ム内の光学ノイズも低減する。
面斜視図を示す。図5Bは、本明細書に記載の側面開口チャネルのネットワークの一実施
形態をよりよく示すためにウェルプレート150のベース152の底面を示す。上述した
ように、側面開口チャネルを閉鎖するためにバック層をベース152の底面の上に設ける
ことができる。ウェルプレート150はバルブステーション164、ポンプステーション
168及び流体解析ステーション170を含む。試料入口チャネル172Dは試料入口1
24から試料トランジションポート162Dまで延在する。ベース152の前面はバルブ
ステーション164の周囲に置かれた複数のウェル154,156を含む。ウェル156
の一部はバルブステーション164の周囲に円形パターンに配列される。バルブステーシ
ョン164内にはベース152上に円形フランジ166が形成され(それは上向き延在す
る)。フランジ166はロータベース部240の形状に合致する内部円形を有する。フラ
ンジ166及びフランジ166内のウェルプレートの部分は回転バルブアセンブリ200
の出発部として作用する。フランジ166の内面はロータベース部240の外周とほぼ一
致する内径を有する。必要に応じ、フランジ166は回転バルブ部240とウェルプレー
ト150との間の密閉関係の維持を容易にすることもできる。
52に設けられる。ウェルトランジションポート162は回転バルブアセンブリ200の
移動パターン及び可動域に対応する所定のパターンに形成され、例えば所定の半径を有す
る円弧に沿って形成される。例えばウェルトランジションポート162は流体チャネル2
46(図2C)の長さに等しい半径を有する円に沿って形成してよい。中心フィードポー
ト160はフランジ166の中心及びウェルトランジションポート162により規定され
る円の中心に設けられる。中心フィードポート161はロータシャフト202の回転軸2
20と一致するように位置され、回転軸220はロータバルブ234を貫通して形成され
た中心ポート248にも一致する。
スト502,504を含む。支持ポスト502,504はポンプアセンブリ500の駆動
シャフト及びシリンジアームを受け入れる。支持ポスト502,504は駆動シャフト及
びシリンジアームの運動を所定の往復直線通路に沿って案内して流体をカートリッジアセ
ンブリを通して移動させる。流体解析スターション170はフローセルへ流体を送り、フ
ローセルから流体を除去する。
ネル172のネットワークを示す。フローチャネル172はポンプステーション168、
バルブステーション164及び流体解析ステーション170を通って延在する。加えて又
は代わりに、フローチャネル172は追加のステーションを通ってもよい。フローチャネ
ル172は様々なパターンに形成し、様々な長さ及び直径を有するものとしてもよい。
示す。バルブステーション164は、回転バルブアセンブリ200が移動する通路に対応
する所定のパターン(例えば、円形パターン)に配列されたウェルトランジションポート
162を含む。ウェルプレート150は更にウェル排出ポート163を含み、ウェル排出
ポート163はベース152を貫通し、対応するウェル(図5Aでは見えない)内でベー
ス152の上面に開口する。各ウェル排出ポート163はウェル排出チャネル165を経
て対応するウェルトランジションポート162に接続される。ウェルプレート150はウ
ェル154,156の数及び位置に依存して複数のウェル排出チャネル165を含む。ウ
ェル排出チャネルは様々な形状、例えば直線ライン、蛇行パス、U字形パス等に形成して
よい。図5Eの実施形態では、短い直線ウェル排出チャネル165Aの群が、対応するウ
ェルトランジションポート162Aと小さい近接ウェル156(図5A)と整列するウェ
ル排出ポート163Aとの間に延在する。長い直線ウェル排出チャネル165Bの群が、
対応するウェルトランジションポート162Bと、半径方向に外側にウェル156を超え
て位置する大きいウェル154と整列するウェル排出ポート165Bとの間に延在する。
更に、キャッシュ貯蔵部167が設けられ、該貯蔵部は貯蔵ポート162Cでロード及び
アンロードされる貯蔵チャネル165Cを含む。操作中の様々な時点において、流体の一
部分を無駄に捨てることなく一時的に貯蔵するのが望ましいことがある。従って、流体は
利用可能貯蔵チャネル165Cに移動される。必要に応じ、貯蔵チャネル165Cに空気
(又は不活性流体)を注入し残存させることができるように貯蔵チャネル165Cの反対
端にポート163Cを含んでもよい。必要に応じ、ポート163Cはウェルプレート15
0上の対応する貯蔵ウェルに結合してもよい。
図を提供するためのベース152の一部分の底面図を示す。操作中、フローセルはステー
ション170に挿入され整列される。流体解析ステーション170は光学インタフェース
窓410を含み、該窓は対向隅部でインタフェースポート180及び182により対角的
に縁取られている。インタフェースポート180及び182は、フローセルが挿入された
とき、フローセルのポートと結合される。リミットポスト190及び192が流体解析ス
テーション170の1つ以上の側面に沿って位置する。リミットポスト190,192は
、フローセルが挿入されたとき、フローセルと係合し、フローセルを光学インタフェース
窓410及びインタフェースポート180,182に対してXY方向に正しく整列させる
。
リブ472を含む。例えば、リブ472はリブ412(図5D)と反対方向の延長線と一
致してよい。ウェルプレート150の底面はZ位置パッド473も含む。Z位置パッド4
773及びリブ472の最外面は共通の所定の平面に整列してZデータム点を規定し、こ
のZデータム点でフローセルカートリッジ900が挿入時に位置決めされる。本明細書に
説明されるように、フローセルカートリッジ900は、フローセル窓及びポートを流体解
析ステーション170においてウェルプレートの底面に対して所定のZ位置に維持するた
めにZ位置パッド473及びリブ472に当接する上面を有する上部フレームを含む。
図を提供する、図5Cに対応するベース152の正面/上面部分の上面図を示す。流体解
析ステーション172内のベース152の前側/上側部分は照明チャンバ(図4)に対応
するので、図4に関して使用した参照番号を図5Dに関しても使用する。図5D示すよう
に、位置リミッタ408が照明ステーション172の1つ以上の側面に沿って設けられ、
照明素子の外周壁の係合機構部と係合する。ほんの一例として、機器により挿入されたと
きの照明素子のフットプリントを示すために破線の円が示されている。位置リミッタ40
8は照明素子を所定のXY座標位置に位置させる(ここで、XY座標系はウェルプレート
150及び光学インタフェース窓410の表面にほぼ平行な平面内にある)。
0から所定の距離に保つために1つ以上の挿入制限素子411を含む。挿入制限素子41
1はマイクロ流体解析操作中に機器の照明素子と係合する。一例として、挿入制限素子4
11は光学インタフェース窓410の1つ以上の側面に沿って設けられた1つ以上のリブ
412を含み、これらのリブ412は光学インタフェース窓410から上向きに、照明素
子(例えば、レンズ)の遠位面と光学インタフェース窓410との間に所望のオフセット
を維持するように決定された所定の距離リブだけ突出する。ウェルプレート150の上面
上のリブ412はウェルプレート150の底面上のリブ472と整列する。リブ412は
照明素子を所定のZ公差位置又はZ座標位置に位置させる(ここで、基準座標系のZ軸は
ウェルプレート150の表面及び光学インタフェース窓410の表面にほぼ直角の面内に
ある)。一例として、リブ412は照明素子内のLED光源を所定の表面(例えば、光学
インタフェース窓410)に対して、機器のLED光源と光学インタフェース窓410の
下のフローセルとの間のZ公差を最小にしつつ保つことができる。
ータバルブ234を介して)中心フィードポート160に結合される。中心フィードポー
ト160はチャネル174を介してトランジションポート176に結合され、該ポート1
76は流れの方向をベース152の反対側へ転流する。図5Aを参照するに、トランジシ
ョンポート176は流体解析ステーション170内に示されている。照明チャネル178
はトランジションポート176から光学インタフェース窓410に隣接して位置するイン
タフェースポート180へと連続する。流体はフローセル上のフローセルチャネルを通過
し、フローセルポート182においてフローセルから排出される。流体はその後インタフ
ェースポート182からフローセルチャネル184に沿って移送される。
し、照明チャネル178、184は光学インタフェース窓410に近接して対応するイン
タフェースポート180,182で終端する。照明チャネル178,184はウェルプレ
ート150の前面上に側面開口チャネルとして形成してよく、その場合には開口側面はチ
ャネルカバー416,418(図4)で覆われる。照明チャネル178はトランジション
ポート176で始まり、インタフェースポート180で終わる。照明チャネル184はイ
ンタフェースポート182で始まり、ポンプステーションポート(図5Dでは見えない)
で終わる。
体解析操作は反対方向に流れる流体フローと関連して実行してもよい。加えて又は代わり
に、流体は流体解析の異なる段階において様々なチャネル内で異なる方向に制御すること
ができる。それゆえ、どのポート、チャネル又は他の構造にも流れの方向を記述する名前
が割り当てられているが、そのような記述は単なる例示であって、ポート、チャネル又は
他の構造は流体を反対方向に運搬するために使用してもよいと認識されたい。
つぎに、図6A-6Eを参照してシリンジポンプアセンブリ500を本明細書に記載の
一実施形態と関連して説明する。本明細書に説明されるように、シリンジポンプアセンブ
リ500は不都合なバックラッシュュ効果を回避する双方向ポンプアクションを提供する
。シリンジポンプアセンブリ500は、駆動力を一方向に加えるとともにバイアス力によ
るプランジャアームの逆方向移動を許すことによって往復運動され、それによってポンプ
アセンブリ500に引張力を加える必要がなくなる。
ンプステーション168の上平面図を示す。ポンプステーション168は、一端がステー
ション入口ポート508に結合され、反対端がステーション排出端510に結合されたポ
ンプチャネル区分506を含む。ポンプチャネル区分506は、準備区分512と排出区
分514とポンプ作業区分516とに機能的に分割することができ、それらの区分のすべ
ては互いに連続して両方向の流体フローを支持するよう形成される。作業区分516は作
業エリア513を含み、該エリアではプランジャ540が低圧(例えば真空)と高圧を交
互に導入するように往復運動する。作業エリア513は作業エリア513の上流と下流に
位置する1対のピンチバルブ518の間に挟まれている。ピンチバルブ518は作業エリ
ア513からの流れの方向、例えば排出方向又はフローセル方向、を決定する。一例とし
て、ピンチバルブ518は作業区分516内のチャネルに沿って形成された円形のへこみ
に関心材料(例えば、熱可塑性エラストマ)を押し込むことによって形成することができ
る。本明細書で説明されるように、ピンチバルブ518は、ポンプステーション168を
通して流体を引きこむ又は押し出すために、作業エリア513における低圧及び高圧の導
入と関連して状況に合わせて交互に開閉される。準備区分512は、作業区分516とス
テーション入口ポート508との間にあって、作業区分516の上流に位置する。本実施
形態では、準備区分512は、流体が作業エリア516を通過する前に所定量の流体を保
持するための貯蔵部をポンプチャネル区分506内に形成するために、蛇行形状に配置さ
れたチャネルを含む。必要に応じ、準備区分512は長くしても、又は短くしても、又は
例えばステーション入口ポート508を作業区分516の端に近接して設けることによっ
て完全に除去してもよい。排出区分514は、作業区分516とステーション排出ポート
510との間にあって作業区分516の下流に位置する。本実施形態では、排出区分51
4は比較的短い直線チャネルとして設けられているが、代替実施形態では長さ及びパター
ンが異なる排出区分514を設けても、完全に除去してもよい。
40は一般にブリッジセグメント552により互いに結合された駆動アーム546及びプ
ランジャアーム554を含み、それらのすべてはモノリシック構造(例えば、一体成形)
に一体に形成される。駆動アーム546は駆動端548及び遠位端549を有する。プラ
ンジャアーム554は作業端部556及び遠位端558を有する。プランジャ素子557
はプランジャアームの作業端部556に装着される。駆動アーム546及びプランジャア
ーム554の遠位端549及び558はブリッジセグメント552に結合される。プラン
ジャアーム554及び駆動アーム546はブリッジセグメント552からプランジャアー
ム554と共通の方向に下向きに延在する。プランジャアーム554は駆動アーム546
の長さにほぼ平行な方向に延在するように向けられるため、駆動アーム546及びプラン
ジャアーム554は駆動力543及びバイアス力544に応答して共通の方向に且つ整列
して一緒に移動する。駆動力543及びバイアス力544は対応する逆方向引張力のない
単方向力を表す。ブリッジセグメント552はカバー102に形成されたポンプアクセス
開口123(図1A)に位置し、その開口を通して露出されるバイアス面542を含む。
機器のバイアス素子(例えばばね)がバイアス面542に係合し、バイアス力をバイアス
面542に加える。駆動アーム546の駆動端548はカートリッジアセンブリ100の
底面110の駆動開口116(図1B)に位置し、機器のポンプ駆動アセンブリに係合さ
れる。ポンプ駆動アセンブリは駆動力543を間欠的に駆動アーム546へ供給及びから
除去する。駆動端548及びバイアス面542はプランジャ540の両端に位置する。駆
動端548及びバイアス面542はカートリッジアセンブリ100のハウジングの上面及
び底面で露出されるため、プランジャ540の往復運動と関連して対応する単方向の駆動
力543及びバイアス力544を駆動端548及びバイアス面542に供給することがで
き、バックラッシュの導入を回避することができるとともに、直接的な機器コード化計測
を提供することができる。駆動力及びバイアス力543,544は双方向プッシュシステ
ムをもたらし、プッシュ/プルポンプドライバを不要にする。
す。プランジャ素子557は内部構造を示すために部分的に透明にして示されている。プ
ランジャアーム554は1つ以上のステム559が一体にモノリシック構造に形成された
先端部553を含む。ステム559はそれらの間に延在するヒンジピン565を含む。支
持ビーム551にはその近位端に目孔545が設けられる。目孔545は細長く、ヒンジ
ピン565を受け入れて支持ビーム551がプランジャアーム554及びプランジャ素子
557の長さにほぼ平行に伸びる矢印567の方向に所定の範囲に亘って移動可能にする
。必要に応じ、ステム及び支持ビーム559,551は共通のモノリシック構造として形
成してよい。
定の輪郭を有するほぼ管の形状に形成される。本体561は、プランジャアーム554の
前縁部553と(例えば、常温成形処理により)1列に形成された後縁部555を含む。
本体561は1つ以上の外周プランジャリブ563を含み、該リブはプランジャアーム5
54が往復運動する支持ポスト504の内部通路内の気密シールを維持するために成形さ
れ設置される。
可塑性エラストマ(TPV)又は他の材料で形成してよい。駆動アーム546、ブリッジ
セグメント552、及びプランジャアーム554は比較的硬質のプラスチック材料(例え
ば、ポリカーボネイトプラスチック)で形成される。プランジャ素子557はプランジャ
アーム554に非スナップ留め式に形成される。一例として、プランジャアーム554は
ステム559及び支持ビーム551の上にモールド成形してよい。例えば、2ショットモ
ールディングを使用し、プランジャアーム554を最初の成形処理中に成形し、プランジ
ャ素子557を第2の成形処理中に付加してよい。成形プロセスを使用することによって
、プランジャ素子557はプランジャアームに、それらの間(前縁553と後縁555の
間)にあるかなしかの公差又は間隙で固着され、プランジャ素子557とプランジャアー
ム554が(前縁553と後縁555で)互いに物理的に及び化学的に連結される。
って、プランジャ540は、プランジャ素子を単にプランジャアームにスナップ留めする
又は別の方法で緩く装着する場合に起こるかもしれない「ヒステリシス」がほぼ解消又は
回避される。
スは、運動方向が変化する度にプランジャ素子がプランジャアームに対して上向き及び下
向きに動く可能性を導入するスナップ留め型のプランジャ素子対して改善をもたらす。ス
ナップ留めプランジャとプランジャアームとの間で運動が経験されるとき、このような構
成はヒステリシスとも称されるバックラッシュを生じる可能性がある。
ラン当たり数千~数万サイクル)両方向に移動する。プランジャ540は0.3mm/s
ec~10mm/secの速度で移動し得る。従って、スナップ留め型プランジャ素子は
1ラン(マイクロ流体解析操作)中にバックラッシュ又はヒステリシスを多数回生じる可
能性がある。本明細書に記載の実施形態は、プランジャ素子557をプランジャアーム5
54の一部分に(非スナップ留め式に)形成することでそられの間に固定関係を維持する
ことによってヒステリシス又はバックラッシュのリスクを回避している。
駆動端548に駆動力543を間欠的に加えてプランジャ540を駆動力543の方向に
上向きに移動する。駆動力543が除去されると、バイアス力544がプランジャ540
をバイアス力544の方向に下向きに移動する。本明細書に記載の実施形態は、バイアス
力544を印加することによって、ポンプ駆動アセンブリを駆動アーム546に取り付け
る必要性及び引張力を駆動アームに加える必要性を回避している。駆動力543は間欠的
に印加及び除去され、それによってプランジャ540を操作中上向き及び下向きに繰り返
し移動させている。プランジャ540が上向き及び下向きに移動すると、作業端部556
が作業エリア513(図6A)内に低圧及び高圧状態を導入する。高圧及び低圧状態が作業
エリア513に導入されると、流体がチャネルセグメント506に沿って引き込まれ及び
押し出される。ポンプチャネルセグメント506を通る流体の移動方向はピンチバルブの
開閉で制御される。
。ポンプステーション168内には、プッシュピン支持部560がウェルプレート150
のベース152の底面に装着される。支持部560は通路564を有する支持ポスト56
2を含む。通路564は対応するプッシュピン520,521を受け入れる。プッシュピ
ン520,521はシャフト523を含み、シャフト523は作業端部566及び反対側
の接触バッド524を含む。作業端部566はピンチバルブ518に位置するが、接触パ
ッド524は支持ポスト562の外縁を超えて半径方向に広がっている。シャフト523
はその周りに1つ以上の外部リブ525を含む。通路564も1つ以上の内部リブ527
を含む。外部及び内部リブ525,527は協働してプッシュピン520,521を対応
する通路564内に保持するが、プッシュピン520,521はバルブ開方向519及び
バルブ開方向517に支持ポスト562に沿って上下に移動することができる。接触パッ
ド524は底面110のプッシュピン開口114(図1B)に位置する。
ブ駆動素子はバルブ閉鎖力を(バルブ閉方向519に)プッシュピン520,521の1
つに加えるが、他のプッシュピン520,521には閉鎖力を加えない。バルブ閉鎖力が
プッシュピン520,521に加えられないとき、プッシュピン520,521はバルブ
開方向517に移動してバルブ開状態になるため、対応するピンチバルブ518は開く。
バルブ閉力が加えられ、対応するプッシュピン520,521がバルブ閉方向519に移
動するとき、対応するピンチバルブ518が閉じる。プッシュピン520,521及び対
応するピンチバルブ518は交互に開及び閉状態になる。
ジャアーム554はプル方向566及びプッシュ方向568に往復運動して作業エリア5
13内に対応する低圧及び高圧状態を生成する。プランジャアーム554がプル方向56
6に移動するにつれて、流体が作業エリア513に引き込まれ、作業エリア513内に引
き込まれた流体の量はプランジャアームの可動域により決まる。シリンジアームがプッシ
ュ方向568に移動すると、作業エリア513内の流体が作業エリア513からフローチ
ャネルへと押し出される。流体が流体チャネルから作業エリア513内に引き込まれる方
向は、プッシュピン520,521のどちらが対応するピンチバルブ518を閉じたかに
よって決まる。例えば、プル力を矢印Aの方向に導入するには、シリンジアームがプル方
向566に移動される間プッシュピン521が対応するピンチバルブ518を閉じるため
に閉状態に移動される。プランジャアーム554が作業エリア513から引き込まれるに
つれて、流体は流体チャネルに沿って矢印Aの方向に進む。プランジャアーム554が可
動域の終端に到達すると、プッシュピン521が解放され、開方向517に移動すること
が許され、対応するピンチバルブ518を開くことが許される。同時に、プッシュピン5
20が閉方向519に移動して対応するピンチバルブ518を閉じる。その後、プランジ
ャアーム554はプッシュ方向568に移動して流体を作業エリア513から流体チャネ
ル内へ矢印Bの方向に押し出す。流体を反対方向へ移動させたい場合には、プッシュピン
520,521の操作をプランジャアーム554の移動に対して逆にすればよい。
斜視図を示す。プランジャアーム554は支持ポスト504内に摺動可能に収容され、駆
動アーム546は支持シャフト502内に摺動可能に収容される。支持シャフト502及
び駆動アーム546はプランジャ540を所定の往復通路に沿って比較的小さい公差で案
内するためにX型の断面で形成される。
504の斜視図を示す。支持シャフト504は近位端570及び遠位端571を含む。近
位端570はウェルプレート150に取り付けられるが、遠位端571はポンプステーシ
ョン168から上向きに延在する。支持シャフト504は細長く、近位端570と遠位端
571との間に延在する通路572を含む。通路572は、遠位端571から近位端57
0の近くの部分に向かって延びる通路572の区分において第1の内径571を有する。
通路572は、パーキングステーション574を形成するために近位端570で第2の大
径576を有する。パーキングステーション574は保存位置に置く際にプランジャ素子
557の少なくともプランジャリブを含む部分を受け入れる。プランジャ素子557は、
保存中、輸送中、又は一般に非使用時中パーキングステーション574に置いてよい。拡
大直径を有するパーキングステーションにプランジャ素子557のプランジャリブを保持
可能にすることによって、本明細書に記載の実施形態はプランジャ素子557のクリープ
を回避するため、プランジャ素子557及びプランジャリブは過度に圧縮されることなく
長期間に亘ってもとの形状を維持する。さもなければ、プランジャ素子557及びプラン
ジャリブは、第1の狭い直径575を有する通路572の部分内に長期間格納された場合
、クリープ(又は形状の変化)を生じ得る。
図7は本明細書に記載の実施形態に従って実装される流体機器700のブロック図を示
す。機器700はカートリッジアセンブリ100を収容するドッキングステーション70
3を含む。機器700内の様々な電気的、光学的及び機械的サブアセンブリがマイクロ流
体解析操作中にカートリッジアセンブリ100と相互作用する。
体解析操作を実行するためにメモリ704に格納されたプログラム命令を実行する。プロ
セッサ702はバルブ駆動アセンブリ710、ポンプ駆動アーム720、穿孔機アクチュ
エータアセンブリ740、照明素子750、電気接点アレイ752、及び加熱素子753
に通信可能に結合される。
のために設けられる。1つ以上の通信インタフェース708が機器700とリモートコン
ピュータ、ネットワーク等との間のデータ及び他の情報を伝達する。例えば、通信インタ
フェース708は特定の流体解析操作に関連するプロトコル、患者記録及び他の情報を受
信する。通信インタフェース708は得られた生データ並びに1つ以上の試料の解析から
導出されたデータも伝達する。
12を含む。バルブ駆動アセンブリ710は回転モータ714及び並進モータ716も含
む。並進モータ716は駆動シャフト712を回転バルブアセンブリ200のロータシャ
フトとの係合状態と離合状態との間で併進方向に移動させる。駆動シャフト712が回転
バルブアセンブリ200と物理的にしっかり係合されると、回転モータ714が駆動シャ
フト712の回転方向719の回転を制御して回転バルブアセンブリ200を様々な試薬
のウェルをウェルプレートのチャネルに接続又は切離すように指示する。
に対する位置を監視する位置エンコーダ713を含む。エンコーダ713は、駆動シャフ
ト712のスプラインとロータシャフト202の内部スプラインとの完全な係合を確実に
するために位置データをプロセッサ702に供給し、それにより位置エンコーダ713が
ロータシャフト202の回転位置を密接に追跡するのを確実にする。一例として、エンコ
ーダ713は回転バルブアセンブリ200と関連して上述した内部スプライン232(図
2B)に合致するように形成及び寸法決定された雄エンコーダスプライン構造を有するシ
ャフトを含んでよい。エンコーダスプラインはそれらの間に一定の関係を維持するように
内部スプライン232内に底に達するまで形成される。エンコーダスプラインは駆動力を
供給しないで、単にロータシャフト202に従動して精密且つ正確な角度位置データをプ
ロセッサ702に提供する。駆動シャフト712はロータシャフト202の遠位端上に嵌
合する別の一組の駆動スプラインを含む。駆動スプラインは互いに嵌合し、駆動力をロー
タシャフト202上の外部スプラインに供給する。
、プロセッサ702はモータ714から得られる回転データを用いてロータバルブ234
の特定の回転位置を決定することができる。
ためにロータシャフト202を移動(回転)させるものである。多くの操作において、ロ
ータシャフト202は連続的に使用される試薬ウェルのためのウェルポートの位置に基づ
いて様々な角度に回転される。例えば、隣接するウェルが順に使用されるとき、バルブ駆
動アセンブリ710はロータシャフト202を数度だけ回転する。しかし、ウェルプレー
トの対辺にある第1及び第2のウェルが使用されるとき、バルブ駆動アセンブリ710は
ロータシャフト202を180°又はほぼ180°回転する。ロータシャフト202の回
転後、回転バルブアセンブリ200は一時的に停止し、それを通して流体を流すこと又は
試料を検出することを可能にする。
機シャフト742を後退位置と延長位置との間で駆動する並進モータ744とを含む。穿
孔機シャフト742が延長位置に移動されると、穿孔機シャフト742は穿孔機ユニット
300の上面と係合し、穿孔機ユニット300を下向きに押して穿孔機ユニット300の
穿孔素子で対応する試薬ウェルを覆うフォイルに孔を開けることができる。穿孔シャフト
742は流体解析操作中延長したままにしてもよいし、後退させてもよい。
、ポンプシャフト722はポンプ方向723に沿って伸長位置及び後退位置の間を移動す
る。一例として、ポンプシャフト722は矢印721の方向に回転されるスクリュー軸と
して形成してよい。ポンプシャフト722をねじる方向を変えることによって、ポンプシ
ャフト722は内側(後退方向)又は外側(伸長方向)にポンプ方向723に沿って移動
する。ポンプシャフト722を後退位置と伸長位置との間で繰り返し移動させることによ
って、ポンプシャフト722は駆動力543を駆動アーム546に与えてポンプアセンブ
リ500を、ポンピングステーションに流体を吸引/吸入するように、シリンジアーム5
54が作業エリアに低圧状態を生じさせる方向に移動させる。駆動シャフト722は後退
位置に繰り返し移動され、バイアス素子734がポンプアセンブリ500のバイアス面5
42にバイアス力を与えてポンプアセンブリ500をバイアス力544の方向に下向きに
移動させ、それによりシリンジアーム544が作業エリアに高圧状態を生じさせてポンピ
ングステーションから流体が吐出される。
、バイアス素子がプランジャ540とともに上下動するにつれてバイアス素子734の位
置を追跡する。位置エンコーダ735は位置データをプロセッサ702に供給してプラン
ジャ540の位置を動作中追跡する。
ルブ駆動シャフト726及び728も含む。バルブ駆動シャフト726,728はモータ
730により伸長位置と後退位置の間で矢印725に沿って移動する。バルブ駆動シャフ
ト726,728は反対方向に移動され、バルブ駆動シャフト726が伸長されるとき、
バルブ駆動シャフト728は後退され、逆も同様である。バルブ駆動シャフト726,7
28は、流体をポンプステーション168を通し、よってフローセルを通して流すために
、ポンプシャフト722の移動と同期して交互に反対方向に移動される。
上の種類の照明光を照明チャンバ400内に提供する光学系を含む。一例として、照明素
子756は、所望の量及び種類の光を発生するためにLEDライトチューブ等を含んでよ
い。電気接点アレイ752及び加熱素子753がカートリッジアセンブリ100の底面1
10内のフローセルカートリッジアクセスエリア112内に挿入される。接点アレイ75
2はフローセルカートリッジ900の対応する電気接点パッドアレイと係合する。加熱素
子753はフローセルカートリッジ900内の熱拡散器と係合する。
などの動作を管理する。必要に応じ、機器700と関連して記載したモータ、アセンブリ
、光学系、接点アレイ、アセンブリ及びコンポーネントの各々の動作を管理するために(
例えば、プロセッサ702の制御の下で)協働する複数のプロセッサを設けてもよい。
直流(DC)モータ、ソレノイドドライバ、リニアアクチュエータ、圧電気モータなどを
使用してよい。
図8は、一実施形態に従って図7の機器700で実装されるコンピュータシステム81
0の概略図を示す。例えば、コンピュータシステム810は1つ以上のプロセッサ702
によってユーザインタフェース708の制御及びメモリ704に格納されたプログラム命
令の下で実施することができる。図8はコンピュータシステム810の様々なコンポーネ
ントの代表的な説明図又はブロックを示すが、図8は単なる概略図又は例示であって、コ
ンピュータシステム810は様々な形態及び構成としてよいことを理解されたい。
(又はサブシステム)と通信可能である。コンピュータシステム810は、流体セレクタ
モジュール851、流体制御モジュール852、検出器モジュール853、プロトコルモ
ジュール854、解析モジュール855、ポンプ駆動モジュール857、バルブ駆動モジ
ュール859、及び照明管理モジュール861を含んでよい。モジュール851-861
は別個のブロックで示されているが、モジュールの各々はハードウェア、ソフトウェア又
は両者の組み合わせとしてもよいこと及びモジュールの各々は同じコンポーネント、例え
ばプロセッサ、の一部としてもよいことを理解されたい。代わりに、モジュール851-
861の少なくとも1つは別のプロセッサの一部としてもよい。更に、モジュール851
-861の各々は互いに通信可能にしてもよく、また特定の機能を実行するコマンド/命
令を統合してもよい。
ス又はマイクロプロセッサベースシステム、例えばマイクロコントローラ、縮小命令セッ
トコンピュータ(RISC)、特定用途向け集積回路(ASIC)、フィールドプログラ
マブルゲートアレイ(FPGA)、論理回路、及び本明細書に記載の機能を実行し得る任
意の論理ベースデバイスを用いるシステム、を含んでよい。上記の実施形態は一例にすぎ
ず、必ずしもモジュール又はコンピュータシステムという語の定義及び意味を限定するこ
とを意図するものではない。代表的な実施形態では、コンピュータシステム810及び/
又はモジュール851-861は、試料を生成し、検出データを取得し及び/又は検出デ
ータを解析するために、1つ以上の記憶素子、メモリ又はモジュールに格納された命令の
セットを実行する。
ロセスなどの特定の動作を実行させる様々なコマンドを含んでよい。命令のセットはソフ
トウェアプログラムの形態にしてよい。本明細書で使用する語「ソフトウェア」及び「フ
ァームウェア」は相互に交換可能であり、コンピュータによる実行のために、RAMメモ
リ、ROMメモリ、EPROMメモリ、EEPROMメモリ及び不揮発性RAM(NVR
AM)メモリなどのメモリに格納される任意のコンピュータプログラムを含む。上記のメ
モリのタイプは単なる例示であって、コンピュータプログラムの格納に有用なメモリのタ
イプを限定するものではない。
形態にしてよい。更に、ソフトウェアは別個のプログラムの集合、又は大きなプログラム
内のプログラムモジュール又はプログラムモジュールの一部分の形態にしてもよい。ソフ
トウェアはオブジェクト指向プログラミングの形態のモジュラープログラミングを含んで
もよい。
のハードウェアボード、DSP、プロセッサなどの任意の組み合わせを用いて実装するこ
とができる。代わりに、コンピュータシステム810は単一のプロセッサを有するオフザ
シェルフPCを用いて又は複数のプロセッサ有し複数のプロセッサに機能操作が分配され
るオフザシェルフPCを用いて実装してもよい。更なるオプションとして、本明細書に記
載のモジュール機能は、特定のモジュール機能は専用のハードウェアを用いて実行される
が、残りのモジュール機能はオフザシェルフPCなどを用いて実行される、ハイブリッド
構成を用いて実装してもよい。モジュールは処理ユニット内のソフトウェアモジュールと
して実装してもよい。計算モジュールの1つ以上は、例えばネットワーク内に又はクラウ
ドコンピューティング環境内に置いてもよい。
するコンポーネント(例えば、回転バルブ及びプランジャ)の回転位置及び並進位置を示
す信号をコンピュータシステム810に送信するエンコーダを含む。
子750及びフローセルカートリッジ内の解析回路を含む)にイメージング窓(インタフ
ェース窓410、フローセル窓928及び解析回路958の透明層)の一部分を撮像する
よう命令することができ、この命令は励起源(照明素子)に入射光線をインタフェース窓
に照射して解析回路958の活性領域内の試料中の標識を励起させる命令を含む。検出器
モジュール853は接点アレイ752及び接点パッド950を介して解析回路958と通
信して画像データを得る。SBSシークエンシングの場合には、各画像はDNAクラスタ
からの多数の点光源を含む。図にも示されるように、流体セレクタモジュール851がバ
ルブ駆動アセンブリに回転バルブアセンブリを動かすように命令することができる。流体
制御モジュール852が様々なポンプ及びバルブに流体の流れを制御するように命令する
ことができる。プロトコルモジュール854は、指定のプロトコルが実行されるようにシ
ステム800の動作を調整する命令を含み得る。プロトコルモジュール854は任意の熱
制御素子に流体の温度を制御するよう命令することもできる。ほんの一例として、プロト
コルモジュール854はシークエンシング・バイ・シンセシス(SBS)モジュールとし
、シークエンシング・バイ・シンセシスプロセスを実行するための様々なコマンドを発行
してもよい。いくつかの実施形態では、プロトコルモジュール854は検出データを処理
することもできる。架橋PCRによるアンプリコンの生成後に、プロトコルモジュール8
54は、アンプリコンを線状化又は変性してsstDNAを生成する命令及びシークエン
シングプライマーを加えてシークエンシングプライマーが関心領域の側面に位置するユニ
バーサルシーケンスにハイブリダイズされ得るようにする命令を与える。各シークエンシ
ングサイクルはsstDNAを単一塩基だけ伸長し、これはプロトコルモジュール854
によって命令され得る修飾DNAポリメラーゼ及び4タイプのヌクレオチドの混合物の送
給によって達成される。異なるタイプのヌクレオチドは、一意的蛍光標識を有し、また各
ヌクレオチドは単一塩基取り込みだけを各サイクルで生ずることができる可逆的ターミネ
ータを有する。単一塩基がsstDNAに付加された後、プロトコルモジュール854は
、フローセルに洗浄溶液を流して取り込まれなかったヌクレオチドを除去する洗浄ステッ
プを行うよう命令する。プロトコルモジュール854は、さらに、励起源アセンブリ及び
検出器アセンブリに対して、4つのチャンネルそれぞれにおける蛍光(各蛍光標識毎に1
つ)を検出する撮像セッションを行うよう命令する。撮像後に、プロトコルモジュール8
54は、非ブロック化試薬の送給を命令し、蛍光標識及びターミネータをsstDNAか
ら化学的に開裂させることができる。プロトコルモジュール854は、非ブロック化試薬
及び非ブロック化反応の生成物を除去する洗浄ステップを行うよう命令することができる
。他の同様なシークエンシングサイクルを続けることができる。
ーミネータベースのSBS法で使用される流体及び検出ステップを含み、これらのステッ
プは、例えば本明細書に記載され、また米国特許出願公開第2007/0166705号
、米国特許出願公開第2006/0188901号、米国特許第7,057,026号、
米国特許出願公開第2006/0240439号、米国特許出願公開第2006/281
109号、PCT国際公開第05/065814、米国特許出願公開第2005/100
900号、PCT国際公開第07/010251に記載されており、これらの各文献は参
照によりその全体が本明細書に組み入れられる。可逆ターミネータベースのSBS法のた
めの代表的な試薬は、米国特許第7,541,444号明細書、米国特許第7,507,
026号明細書、米国特許第7,414,116号明細書、米国特許第7,427,67
3号明細書、米国特許第7,566,537号明細書、米国特許第7,592,435号
明細書、及び国際公開第07/135368号に記載されており、これらの各文献は参照
によりその全体が本明細書に組み入れられる。市販のシークエンシングプラットフォーム
、例えばイラミーナ社(カリフォルニア州サンディエゴ)から市販されているGA、Hi
Seq(登録商標)及びMiSeq(登録商標)プラットフォーム、で使用されているプロト
コルステップ及び試薬を使用することもできる。
トコルのステップを実行する様々なコマンドを発行することができる。代表的なステップ
は以下に記載され、また以下の参考文献に記載されるステップを含む。パイロシークエン
シングは、特定のヌクレオチドが新生核酸鎖に取り込まれるとき、無機ピロリン酸(PP
i)の放出を検出する(Ronaghi,et al. ”Real-time DNA sequencing using detection
of pyrophosphate release” (1996), Analytical Biochemistry 242(1), 84-9;Ronaghi
,M. (2001), ”Pyrosequencing sheds light on DN sequencing”, Genome Res.11(1), 3
-11;Ronaghi et al.(1998) “A sequencing method based on real-time pyrophosphate
” Science 281(5375), 363;米国特許第6210891号明細書;同第6258568
号明細書、および同第6274320号明細書、これらの文献はそれぞれ参照により本明
細書に組み入れられる)。パイロシークエンシングでは、放出されたPPiを、ATPス
ルフリラーゼによりアデノシン三リン酸(ATP)に即時に変換することにより検出する
ことが可能であり、生成されたATP量はルシフェラーゼ生成光子を介して検出すること
が可能である。この場合には、反応バルブ816は何百万のウェルを含むことが可能であ
り、各ウェルはその上にクローン的に増幅されたsstDNAを有する単一捕獲ビーズを
含む。各ウェルは他のより小さいビーズを含むことも可能であり、該ビーズは、例えば固
定化酵素(例えば、ATPスルフリラーゼ及びルシフェラーゼ)を運ぶ又はウェル内の捕
獲ビーズの保持を促進することができる。プロトコルモジュール854は単一タイプのヌ
クレオチドを運ぶ流体の連続サイクル(例えば、第1サイクル:A;第2サイクル:G;
第3サイクル:C;第4サイクル:T;第5サイクル:A)を実行する命令を発行するこ
とができる。ヌクレオチドがDNAに取り込まれるとき、パイロピロリン酸が放出され、
それにより連鎖反応が引き起こされ、光のバーストが生じる。光のバーストは検出器アセ
ンブリにより検出することができる。検出データは処理のために解析モジュール855に
通知することができる。
てシステムにより実行するアッセイプロトコルを選択することができる。他の実施形態で
は、システムは機器802に挿入されたフローセルカートリッジのタイプを自動的に検出
し、ユーザと実行するアッセイプロトコルを確認することができる。代わりに、システム
は決定されたフローセルカートリッジのタイプに対して実行し得る限られた数のアッセイ
プロトコルを提供してもよい。ユーザは所望のアッセイプロトコルを選択することができ
、その後システムは選択されたアッセイプロトコルを予めプログラムされた命令に基づい
て実行することができる。
タを解析する。図示されていないが、機器はユーザとインタラクトするユーザインタフェ
ースを含んでもよい。例えば、ユーザインタフェースはユーザからの情報を表示又は要求
するディスプレイ及びユーザ入力を受信するユーザ入力装置を含んでもよい。いくつかの
実施形態では、ディスプレイ及びユーザ入力装置は同一デバイス(例えば、タッチセンシ
ティブディスプレイ)である。
中に増幅することができる。プロトコルモジュール854は増幅プロセスに含まれる流体
ステップに対する命令も含んでよい。例えば、表面上に核酸集団を形成するために使用さ
れる架橋増幅技術のための命令を供給することもできる。有用な架橋増幅方法は、例えば
、米国特許第5,641,658号明細書;米国特許公開第2002/0055100号
;米国特許第7、115,400号明細書;米国特許公開第2004/0096853号
;米国特許公開第2008/0009420号に記載されている。表面上で核酸を増幅す
る別の有用な方法はローリングサークル増幅(RCA)であり、例えばLizardi他
、Nat.Genet.19:225-232(1998)及びUS2007/0099
208A1に記載されており、それらはそれぞれ参照により本明細書に組み入れられる。
ビーズ上のエマルジョンPCRを使用することも、例えばDressman他、Proc
.Natl.Acad.Sci.USA100:8817-8822(2003)、国際
公開第05/010145、又は米国特許公開第2005/0130173号又は同第2
005/0064460号に記載されているように、可能であり、これらの各文献は参照
によりその全体が本明細書に組み入れられる。
成および解析操作はアッセイシステムにより自動的に行うことができる。いくつかの実施
形態では、ユーザはカートリッジアセンブリを装填し、プロトコルを実行する機器を起動
するだけでよい。
次に、フローセルカートリッジ900は本明細書に記載の少なくとも1つの実施形態に
従って使用される。
0の上面斜視図を示す。フローセルカートリッジ900は、一般的に、互いに結合されて
装填方向9Aに長い略矩形の構造体を形成する上部および底部フレーム904および90
6を含む。装填方向9Aは、フローセルカートリッジ900がカートリッジアセンブリ1
00のフローセルチャンバ108内に装填される方向に対応する。フローセルカートリッ
ジ900は装填端縁908、後端縁910及び側端縁912を含む。フローセルチャンバ
108内におけるXYZ方向の適正なアライメントを保証するために、装填端縁908及
び側端縁912はカートリッジアセンブリ100のフローセルチャンバ108内の対応す
る機構部と係合する1つ以上の位置決め機構部を含む。
護を与えるために導電性プラスチックで形成してよい。
リブのようなグリップ機構部920を含んでよい。グリップ機構部920はユーザによる
フレームカートリッジ900の把持を容易にする。必要に応じ、グリップ機構部920内
の溝は、フローセルカートリッジ900を挿入すべき方向に関する情報をユーザに与える
ように、例えばリブを矢印の形に形成することによって方向指示の形にしてもよい。
す上部フローセル904の一部分の拡大図を示す。図9A及び図9Bを併せて参照すると
、上部フローセル904はカートリッジアセンブリ100の光学コンポーネント及び流体
コンポーネントとコミュニケートするO-Fインタフェース940を含む。O-Fインタ
フェース940はフローセルカートリッジ900内に収容された解析回路(図9D及び9
Eと関連して以下で詳細に説明される)と整列するフローセル窓928を含む。フローセ
ル窓928は機器の照明素子からの光を解析回路に向けることができる。フローセル窓9
28はガラス又は同様の透明材料で形成してよく、ガラス窓は上部フローセル904の上
面と略共面に配置される。ガラスをフローセル窓928内に上部フレーム904の上面と
平面配向に維持することによって、フローセル窓928のZ位置は上面904の上面の位
置をモニタすることによってより正確にモニタすることができる。
34はカートリッジアセンブリ100からの流体を解析回路内の活性領域を通して搬送す
る。ポート934は細長く形成されたガスケットシール930内に設けられる。図9Aの
実施形態では、ガスケットシール930は互いに略平行に延在し、装填方向9Aに対して
鋭角に配置される。ガスケットシール930内のフローセルポート934はカートリッジ
アセンブリ100のフローセルチャンバ108内の対応するポートと結合するように位置
する。
は互いにフローセル窓928を対角方向に横切って対向配置してよい。シール930は熱
可塑性エラストマ又は他の同様の材料で形成してよい。シール930は注入ゲート932
と流体連通する上部フレーム904に形成された空洞内に嵌合する。製造プロセス中に、
TPEが注入ゲート932を通して注入され、TPEはシール930として形成されるま
で上部フレーム内の内部チャネルを貫流することができる。射出成形プロセスはシール9
30を上部フレーム904に物理的に且つ化学的に結合してシール930を上部フレーム
904上の所定の位置に(選択公差内に)維持する。ガスケットシール930は低断面で
小型のシール構造を提供し、所望公差の組立て(例えば、組立て公差の最小化)をもたら
す。
)方向に延在するように向けられた細長いリブ922を含む。リブ922は、フローセル
カートリッジ900がフローセルチャンバ内に装填されるとき、ガスケットシール930
及びフローセルポート934がフローセルチャンバ108を囲むハウジング機構部と接触
又は係合しないようにする装填保護機構部を提供する。加えて、リブ922はスタンドオ
フ機構部も提供し、フローセルカートリッジ900がテーブル又は他の構造の上に上下逆
さまに置かれた場合に、リブ922は上部フレーム904上の他の機構部がフローセルカ
ートリッジ900が置かれた表面上のほこりやその他の物質と接触するのを防ぐことがで
きる。
リッジ900のフローセル窓928に対して位置合わせするために使用される1つ以上の
Z位置機構部(Z基準点に相当する)を含む。例えば、上部フレーム904の上面はウェ
ルプレート150の底面上のリブ472及びパッド473と当接してフローセルカートリ
ッジ900に対するZ基準点を規定する。Z位置制限機構部は機器内の照明素子の光源と
フローセルカートリッジとの間の所望の公差を提供する。
は、装填端縁908及び後端縁910の近くに位置する1つ以上のスタンドオフ914が
形成されている。必要に応じ、スタンドオフ914は底部フレーム906上の他の位置に
置いてもよい。加えて又は代わりに、もっと多数の又は少数のスタンドオフ914を使用
してもよい。スタンドオフ914は底部フレーム906内の機構部とフローセルカートリ
ッジ900がセットされる任意の表面との間を所定の間隔に維持する。例えば、カートリ
ッジ900を机、実験台、保管所又は別の場所に保管するとき、スタンドオフ914は底
部フレーム906の機構部が机、実験台などの上の塵埃や他の粒状物質と接触するのを防
ぐ。加えて、スタンドオフ914は、フローセルカートリッジ900がカートリッジアセ
ンブリ100内に誤って(例えば後ろ向きに)挿入されるのを防ぐために位置合わせキー
機構部として成形し寸法決定してよい。例えば、スタンドオフ914は異なるサイズ、例
えば異なる長さ、厚さ、スタンドオフ高さなど、に形成してよい。図9Cの実施形態では
、スタンドオフ914は装填端縁908に隣接するスタンドオフ914の長さは後端縁9
10に隣接するスタンドオフ914の長さと比較して短い。
PCB952上の熱拡散器955)と整列する開口944を含む。開口944は解析回路
の一部分の裏面を露出する。底部フレーム906は、解析回路が設けられた接点パッド9
50のアレイと整列し該アレイを露出する接点パッド開口946も含む。接点パッド開口
946はクロスバー948により分離され、該クロスバーは接点パッド開口946の幅を
、さもなければ接点パッド950を損傷するかもしれない不所望の物体(例えばユーザの
指、試験装置等)の偶発的な挿入が起こらないように十分に小さく維持する。本実施形態
では、接点パッド開口946は矩形であり、それぞれ2列以上の接点パッド950を露出
する。
00内に設けられたプリント回路基板952の一部分の上面図を示す。プリント回路基板
952は解析回路958を含む上面956を含む。一例として、解析回路958はCMO
S回路を表している。解析回路958は機器内の照明源からの入来光を受信する活性領域
962を横切る流体の流れをサポートし、流体解析処理と関連して流体から放出される蛍
光のディジタル画像を検出し取得する。解析回路958は解析回路958内の活性領域9
62と連通するポート964を含む。流体は活性領域ポート964の1つを経て活性領域
962に流入し、その流体は活性領域から活性領域ポート964の他の1つを経て流出す
る。解析回路958はフローセル窓928を通して(及び図4の窓410を通して)放出
される光を受信するために透明の上面を含む。入来光は活性領域962内の流体を照明し
、それに応答して、流体内の試薬が試料の特性に応じて異なる蛍光スペクトル内の蛍光を
放出する。解析回路958は放出された蛍光スペクトルを検出し、その画像を取得し、そ
の画像はその後接点パッド950を通して機器に送られる。
952の底面図を示す。PCB952は接点パッド開口を通して見える接点パッドのアレ
イ950を含む。本実施形態では、接点パッドのアレイ950は複数の列に形成される。
必要に応じ、他の接点アレイ構造を使用してもよい。接点パッド950はソケットコネク
タ953内の対応するピンに接続される。ソケットコネクタ953は上面956(図9D
)に面する複数の接点ピンを含む。ソケットコネクタ953は解析回路958をしっかり
受け入れ、解析回路958と接点パッド950との間の電力、データ及び通信接続を提供
する。
む熱拡散器955も含む。熱拡散器955は底部フレーム906の開口944内において
下に向いた加熱素子接触面957を含む(図9C)。動作中、機器の加熱素子は開口94
4に挿入され、熱拡散器955の加熱素子接触面957に接触し、所望量の熱を解析回路
958に供給する。
及び底部フレーム904,906内の対応する機構部と嵌合してプリント回路基板952
を上部及び底部フレーム904及び906内の特定の位置に位置させる。
ートリッジ900の位置合わせに使用する1つ以上のXY位置決め機構部(XY基準点に
対応する)も含む。XY位置決め機構部は装填端部908に設けられたフロント基準ポス
ト923と、片側縁又は両側端縁912に沿って設けられた1つ以上の横方向基準ポスト
925を含む。横方向基準ポスト925の反対側の側縁912にノッチ927が設けられ
る。
填方向9A(X方向ともいう)の移動を制限するフローセルチャンバ108内の制限機構
部にしっかり当接するまで挿入される。フローセルカートリッジ900が挿入されるにつ
れて、バイアスアームがノッチ927を含む側縁912の上を、ラッチ素子がノッチ92
7に入るまで摺動する。ラッチ素子はノッチ927の形状に一致するように形成される。
バイアスアームは矢印9Cの方向に横方向力(横方向位置決め力も表す)を加え、フロー
セルカートリッジ900を横方向基準ポスト925がフローセルチャンバ108内の係合
機構部と係合するまで横方向(Y軸に対応する)にシフトさせる。横方向基準ポスト92
5が嵌合機構部に嵌合すると、フローセルチャンバ108が横方向9Cの移動限界を規定
する。バイアスアームはフローセルカートリッジ900を所望のY位置(Y基準点に対応
する)に維持する。バイアスアームのラッチ素子が所定の位置でノッチ927に嵌合して
フローセルカートリッジ900を所望のX位置(X基準点に対応する)に維持する。
Z方向に)接点パッド開口部946内に、通信コネクタの係合接点アレイが接点パッド9
50と係合するまで挿入される。通信コネクタは電力を供給し、データを収集し、フロー
セルカートリッジ900内の解析回路の動作を制御する。更に、加熱素子が熱拡散器95
5と係合するまで(Z方向に)開口部944内に挿入される。
実施形態1:カートリッジアセンブリにおいて、フローセルを受け入れるフローセルチャ
ンバを含むハウジングと;所望量の液体を受け入れる液体ウェルを有するウェルプレート
であり、前記ウェルプレートはバルブステーション、ポンプステーション、及び流体解析
ステーションを含み、前記ウェルプレートは前記ウェル、前記バルブステーション、前記
ポンプステーション、及び前記流体解析ステーションと関連するチャネルを含む、ウェル
プレートと;前記ポンプステーションにおいて前記ウェルプレートの上に設けられたポン
プアセンブリであり、前記ポンプアセンブリは前記ポンプステーションと前記流体解析ス
テーションとの間のチャネルを通る流体フローを制御する、ポンプアセンブリと;前記バ
ルブステーションにおいて前記ウェルプレートの上に設けられた回転バルブアセンブリで
あり、前記回転バルブアセンブリは回転軸を中心に回転して前記ウェルを前記ポンプステ
ーションに選択的に結合するように設置されたロータシャフトとロータバルブを含む、回
転バルブアセンブリと、を備え、前記ロータシャフトは前記ハウジングを貫通して露出す
る遠位端を有し、
前記ロータシャフトは前記遠位端に二重スプライン構造を含み、前記二重スプライン構造
は第1及び第2組のスプラインを有し、前記第1組のスプラインは駆動インタフェースを
形成し、前記第2組のスプラインは位置コード化インタフェースを形成する。
記遠位端は前記ハウジングに設けられたシャフトウェル内に延伸し、それによって前記二
重スプライン構造が流体解析機器のバルブ駆動アセンブリに露出される。
は前記遠位端の外面の周囲に延在する外部スプラインに相当し、それらの隣接するスプラ
インの側面は第1の所定のスプライン間隔で隔てられ、該スプライン間隔はバルブ駆動ア
センブリの駆動シャフト上のスプラインパターンに対応する。
は前記ロータシャフトの前記遠位端に設けられた空洞の内面周囲に形成された内部スプラ
インに相当し、前記内部スプラインは、それらの隣接する側面が互いに所定の非平衡の角
度を成すように傾斜された側面を有し、前記隣接側面は底部で融合して前記バルブ駆動ア
センブリの駆動シャフトの対応スプラインを受け入れるくぼみを形成する。
フランジによって前記ロータシャフトの近位端に取り付けられ、前記結合フランジが前記
ロータバルブと前記ロータシャフトとの間で所定量の傾動を許容する。
ロータシャフトの近位端の周囲に置かれた1つ以上のリブを有するロータベースを含み、
前記結合フランジが前記リブと前記ロータシャフトの近位端との間に保持される。
ポートと径方向ポートを有するウェルプレート接触面を含み、前記ロータバルブは前記中
心ポートから前記径方向ポートまで径方向に外向きに延在するチャネルを含む。
ータシャフトの回転軸と一致するとともに前記ウェルプレートの中心フィードポートと一
致するように整列され、前記ロータバルブは前記回転軸を中心に回転して前記径方向ポー
トを対応するウェルポートと整列させる。
ングで形成されたウェルプレート接触面を含み、前記界面リングは前記ウェルプレート接
触面の周囲に延在する。
可能に収容する内部空洞を含むバルブキャップを更に備え、前記バルブキャップは前記バ
ルブキャップを前記ウェルプレートに対して下向きに前記ウェルに固定する1つ以上のラ
ッチアームを含み、且つ前記内部空洞内に設けられたバイアス素子を更に備え、前記バイ
アス素子は前記回転バルブにバイアス力を加えて前記回転バルブのポートと前記ウェルプ
レートのポートとの間で密封された界面を維持する。
はプランジャの両端に駆動端とバイアス面を有するプランジャを含み、前記駆動端と前記
バイアス面は前記ハウジングの上面及び底面で露出され、前記プランジャの往復運動と関
連して対応する単方向駆動力とバイアス力が前記駆動端と前記バイアス面に加えられる。
リッジセグメントによりU字形に相互結合され且つモノリシック構造に一体に形成された
駆動アームとプランジャアームを有し、前記駆動アームと前記プランジャアームは前記ウ
ェルプレート上に位置する支持ポスト内に収容される。
なる材料で一体にモールド成形されたプランジャアームとプランジャ素子を備える。
は前記プランジャアームの先端に形成され、前記プランジャ素子は前記ポンプステーショ
ンに高圧及び低圧を生成するために対応する支持ポスト中を移動する。
ンは機能的に準備区分と排出区分とポンプ作業区分とに分割されたチャネル区分を含み、
これらのすべての区分は互いに連続して両方向の流体フローを支持するように形成される
。
ンは作業エリアの上流と下流に置かれた1対のピンチバルブの間に挟まれた作業エリアを
含み、前記ポンプアセンブリは前記作業エリアと整列するプランジャを備え、前記プラン
ジャは作業エリアに対して往復運動して高圧及び低圧状態を導入し、前記ポンプアセンブ
リは前記ピンチバルブと整列するプッシュピンを更に備え、前記プッシュピンは交互に移
動して前記ピンチバルブを開閉する。
けられ且つ前記ウェルに近接して位置する穿孔機ユニットを更に備え、前記穿孔機ユニッ
トは穿孔素子を含み、前記穿孔機ユニットが穿孔位置へ移動されると、前記穿孔素子が対
応するウェルのカバーに孔をあける。
前記穿孔機ユニットの上端への機器アクセスを提供する穿孔機アクセス開口を有するカバ
ーを含む。
トフォームと中間部分と上部フランジを有する円錐管状に形成された本体を含み、前記下
部プラットフォーム又は前記上部フランジの少なくとも1つが所定の態様に分布された穿
孔素子を含み、前記穿孔素子は前記ウェルプレートの前記ウェルと整列するように配置さ
れる。
周りに嵌合するプラットフォームを更に備え、前記プラットフォームは、前記穿孔素子を
対応するウェルと整列させるために、前記回転バルブアセンブリの係合機構部と係合して
前記穿孔機ユニットを前記ロータシャフトに対して所定の回転配向に位置させるインデッ
クス機構部を含む。
前記回転バルブアセンブリに対応する所定の態様に配置されたウェルトランジションポー
トを含み、前記ウェルプレートは対応するウェルと整列するウェル排出ポートを含み、前
記ウェルプレートは対応するウェル排出ポートとウェルトランジションポートとの間に延
在するウェル排出チャネルを含む。
上面及び底面を有し、それらの少なくとも一つの面がチャネルを含み、それらのチャネル
は側面開口チャネルを含み、前記ベースは前記側面開口チャネルを閉鎖するためにバック
層に接合される。
光学解析ステーション内に設けられた光学インタフェース窓を含み、前記ウェルプレート
の上面は機器の照明素子と係合する挿入制限素子を含む。
前記光学インタフェース窓の周囲に設けられた1つ以上のリブに相当し、これらのリブは
照明素子と前記光学インタフェース窓との間のZ公差を規定する。
グを有するカートリッジアセンブリであり、前記ウェルプレートは前記ハウジング内に保
持され、所望量の液体を受け入れる液体ウェルを有し、前記ウェルプレートは前記照明チ
ャンバと整列する流体解析ステーションを含み、前記ウェルプレートは前記流体解析ステ
ーションに置かれたインタフェース窓とインタフェースポートを含む、カートリッジアセ
ンブリと;内部に解析回路を含むフレームを有するフローセルカートリッジであり、前記
フレームは前記解析回路と整列するフローセル窓を含み、前記フレームは前記解析回路内
の活性領域に流体結合するフローセルポートを含む、フローセルカートリッジと;を備え
、前記ハウジングは前記フローセルカートリッジを収容するフローセルチャンバを含み、
前記フローセルチャンバは前記フローセルカートリッジを前記流体解析ステーションに位
置決めし、前記フローセル窓及びポートが対応するインタフェース窓及びポートと整列さ
れる。
レール及びエンドストップを含み、それらの少なくとも1つは、前記フローセルカートリ
ッジを完全装填位置にあるとき前記フローセル窓及びポートが対応するインタフェース窓
及びポートとそれぞれ整列されるように所定の基準点に位置決めするエンドリミットを有
する。
側面レールの少なくとも1つに沿って延在するように向けられたバイアスアームを含み、
前記バイアスアームは前記フローセルチャンバに内向きに突出し、前記バイアスアームは
前記フローセルカートリッジに横方向のバイアス力を与えて前記フローセルカートリッジ
を所定の基準点に維持する。
ーセルカートリッジ側面に設けられたノッチと嵌合するように設置されたラッチ素子を含
み、前記ラッチ素子は前記フローセルカートリッジをX基準点に維持する。
上部及び底部フレームを含み、前記上部フレームは前記フローセル窓及びポートを含み、
前記上部フレームは前記上部フレームから上向きに所定の高さだけ突出してZ基準点を規
定するリブを含む。
エラストマ材料によりモノリシック構造に形成されたガスケットを含む。
ステーション、ポンプステーション及びインタフェースチャネルを含み、前記インタフェ
ースチャネルは前記バルブステーションと前記インタフェースポートの1つとの間の第1
の流体通路及び前記ポンプステーションと前記インタフェースポートの1つとの間の第2
の流体通路を提供する。
タフェース窓、前記フローセル窓及び前記解析回路内の活性領域を貫通して延びる照明軸
に沿って延在するように向けられている。
以上のコンセプト(これらのコンセプトが相互に一貫性がないならば)のあらゆる組み
合わせが本明細書に開示した発明の要旨の一部分として考えられることを理解すべきであ
る。特に、上述した実施形態及び本開示の末尾の請求の範囲に記載の要旨のあらゆる組み
合わせが本明細書に開示した発明の要旨の一部とみなされる。
にそっくりそのまま組み入れられる。
タプログラムとして具体化することができることは理解されよう。本開示の態様はハード
ウェアの実施形態、ソフトウェアの実施形態(ファームウェア、常駐ソフトウェア、マイ
クロコード等を含む)、又は本明細書で一般に「回路」、「モジュール」又は「システム
」と呼ばれる、ソフトウェア及びハードウェアの態様を組み合わせた実施形態の形態をと
ることができる。さらに、本開示の方法は、コンピュータ使用可能プログラムコードを有
するコンピュータ使用可能記憶媒体として具体化したコンピュータプログラム製品の形態
をとることができる。
ることができる。コンピュータ使用可能媒体又はコンピュータ読取可能媒体を、例えば電
子的、磁気的、光学的、電磁気的、赤外的又は半導体の、システム、機器、デバイス又は
伝達媒体とすることができるが、これらに限定されるものではない。コンピュータ読取可
能媒体は、一時的及び/又は非一時的な実施形態を含むことができる。コンピュータ読取
可能媒体のより具体的な例(非包括的なリスト)には、一本以上のワイヤを含む電気的接
続、ポータブルコンピュータのディスケット、ハードディスク、ランダムアクセスメモリ
(RAM)、読取専用メモリ(ROM)、消去可能プログラマブルROM(EPROM又は
フラッシュメモリ)、光ファイバ、ポータブル読取専用コンパクト記憶ディスク(CDR
OM)、光記憶装置、例えばインターネット若しくはイントラネットを維持する伝送媒体
又は磁気記憶装置の一部又は全部を含むことができるが、これらに限定されるものではな
い。なお、コンピュータ使用可能又はコンピュータ読取可能媒体を、プログラムが印刷さ
れた、紙又は他の適切な媒体とすることさえもできる。これは、例えば紙又は他の媒体を
光学読み取りすることで、当該プログラムを電気的に取り込み、コンパイルし、解釈し又
は適切な方法で処理し、その後必要に応じてコンピュータのメモリ内に格納することがで
きるからである。本明細書の文脈において、コンピュータ使用可能媒体又はコンピュータ
読取可能媒体を、命令実行システム、機器若しくはデバイスが使用する又はこれらに関連
する、プログラムを含む、格納する、伝達する若しくは伝送することができる任意の媒体
とすることができる。
プログラミング言語(Jave、Smalltalk又はC++等)で記述することができる。しかしなが
ら、本明細書に記載の方法及び機器の作業を実行するプログラムコードは、従来の手続き
型プログラミング言語(例えば“C”プログラミング言語又は類似のプログラミング言語
)で記述することもできる。プログラムコードはプロセッサ、特定用途向け集積回路(A
SIC)又は他のプログラムコード実行構成要素によって実行することができる。プログ
ラムコードは単にメモリ(例えば上述したコンピュータ可読媒体)に格納されるソフトウ
ェアアプリケーションと呼ぶことができる。プログラムコードは、プロセッサ(又は任意
のプロセッサ制御デバイス)にグラフィカルユーザーインターフェース(「GUI」)を
生成させることができる。グラフィカルユーザーインターフェースはディスプレイ装置に
視覚的に生成することができ、またグラフィカルユーザーインターフェースは可聴機能を
有してもよい。しかしながら、プログラムコードは、任意のプロセッサ制御デバイス(例
えばコンピュータ、サーバ、携帯情報端末、電話、テレビジョン、又はプロセッサ及び/
又はデジタル信号プロセッサを利用する任意のプロセッサ制御デバイス)内で動作するこ
とができる。
ムコードは例えば、プロセッサ制御デバイスのローカルメモリに完全に又は部分的に格納
することができる。しかしながら、プログラムコードは少なくとも部分的にリモート格納
し、アクセスし、プロセッサ制御デバイスにダウンロードすることもできる。ユーザのコ
ンピュータは例えば、プログラムコードを完全に実行することもでき、又はプログラムコ
ードを部分的にのみ実行することができる。プログラムコードは、ユーザのコンピュータ
に少なくとも部分的に存在する、及び/又は、リモートコンピュータで部分的に実行され
る、又はリモートコンピュータ又はサーバで完全に実行される、スタンドアローンのソフ
トウェアパッケージとすることができる。後者のシナリオでは、通信ネットワークを通じ
て遠隔のコンピュータをユーザのコンピュータに接続することができる。
ができる。通信ネットワークは無線周波数ドメイン及び/又はインターネットプロトコル
(IP)ドメインで動作するケーブルネットワークとすることができる。しかしながら、
通信ネットワークは、インターネット(ワールドワイドウェブとしても知られている)、
イントラネット、ローカルエリアネットワーク(LAN)及び/又は広域ネットワーク(
WAN)等の分散コンピューティングネットワークを含むこともできる。通信ネットワー
クは、同軸ケーブル、銅線、光ファイバーライン及び/又はハイブリッド同軸ラインを含
むことができる。通信ネットワークは、電磁スペクトルの任意の部分、及び任意の信号標
準方式(例えばIEEE 802標準ファミリ、GSM/CDMA/TDMA又は任意の無線規格及び/又はI
SMバンド)を利用する無線部分を含むことさえできる。通信ネットワークは、信号が電
気配線によって伝達されるパワーライン部分を含むことさえできる。本明細書に記載の方
法及び装置は、物理的な構成部分、物理的な構成又は通信規格に関わらず、任意の無線/
有線通信ネットワークに適用することができる。
方法のステップはプログラムコード及び/又は機械語命令によって実装できることは理解
されよう。プログラムコード及び/又は機械語命令は、当該方法で特定される機能/作動
を実装する手段を与えることができる。
ッサ、コンピュータ、または他のプログラマブルデータ処理装置に特定の態様で機能する
ように命令し、その結果コンピュータ可読メモリに格納されたプログラムコードが、方法
ステップの様々な態様を実装する命令手段を含む製品を生成又は変換するようにすること
ができる。
作を実行するステップを提供するように、コンピュータ又は他のプログラマブルデータ処
理装置にロードして一連の動作ステップを実行させてプロセッサ/コンピュータ実行プロ
セスを生成させてることもできる。
Claims (32)
- フローセルを受け入れるフローセルチャンバを含むハウジングと、
所望量の液体を受け入れる液体ウェルを有するウェルプレートであり、前記ウェルプレ
ートはバルブステーション、ポンプステーション、及び流体解析ステーションを含み、
前記ウェルプレートは前記ウェル、前記バルブステーション、前記ポンプステーション、
及び前記流体解析ステーションと関連するチャネルを含む、ウェルプレートと、
前記ポンプステーションにおいて前記ウェルプレートの上に設けられたポンプアセンブ
リであり、前記ポンプアセンブリは前記ポンプステーションと前記流体解析ステーション
との間のチャネルを通る流体フローを制御する、ポンプアセンブリと、
前記バルブステーションにおいて前記ウェルプレートの上に設けられた回転バルブアセ
ンブリであり、前記回転バルブアセンブリは回転軸を中心に回転して前記ウェルを前記ポ
ンプステーションに選択的に結合するように設置されたロータシャフト及びロータバルブ
を含む、回転バルブアセンブリと、
を備え、
前記ロータシャフトは前記ハウジングを貫通して露出する遠位端を有し、
前記ロータシャフトは前記遠位端に二重スプライン構造を含み、前記二重スプライン構
造は第1及び第2組のスプラインを有し、前記第1組のスプラインは駆動インタフェース
を形成し、前記第2組のスプラインは位置コード化インタフェースを形成する、
カートリッジアセンブリ。 - 前記ロータシャフトの前記遠位端は前記ハウジングに設けられたシャフトウェル内に延
伸し、それにより前記二重スプライン構造が流体解析機器のバルブ駆動アセンブリに露出
されている、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記第1組のスプラインは前記遠位端の外面周囲に延在する外部スプラインに相当し、
それらの隣接するスプラインの側面は第1の所定のスプライン間隔で隔てられ、該スプラ
イン間隔はバルブ駆動アセンブリの駆動シャフト上のスプラインパターンに対応する、請
求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記第2組のスプラインは前記ロータシャフトの前記遠位端に設けられた空洞の内面周
囲に形成された内部スプラインに相当し、前記内部スプラインは、それらの隣接する側面
が互いに所定の非平衡の角度を成すように傾斜された側面を有し、前記隣接側面は底部で
融合して前記バルブ駆動アセンブリの駆動シャフトの対応スプラインを受け入れるくぼみ
を形成する、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記ロータバルブは結合フランジによって前記ロータシャフトの近位端に取り付けられ
、前記結合フランジが前記ロータバルブと前記ロータシャフトとの間の所定量の傾動を許
容する、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記ロータバルブは前記ロータシャフトの近位端の周囲に置かれた1つ以上のリブを有
するロータベースを含み、前記結合フランジが前記リブと前記ロータシャフトの近位端と
の間に保持される、請求項4に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記ロータバルブは中心ポートと径方向ポートを有するウェルプレート接触面を含み、
前記ロータバルブは前記中心ポートから前記径方向ポートまで径方向に外向きに延在す
るチャネルを含む、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記中心ポートは前記ロータシャフトの回転軸と一致するとともに前記ウェルプレート
の中心フィードポートと一致するように整列され、前記ロータバルブは前記回転軸を中心
に回転して前記径方向ポートを対応するウェルポートと整列させる、請求項6に記載のカ
ートリッジアセンブリ。 - 前記回転バルブは界面リングで形成されたウェルプレート接触面を含み、前記界面リン
グは前記ウェルプレート接触面の周囲に延在する、請求項1に記載のカートリッジアセン
ブリ。 - 前記回転バルブを回転可能に収容する内部空洞を含むバルブキャップを更に備え、前記
バルブキャップは前記バルブキャップを前記ウェルプレートに対して下向きに前記ウェル
に固定する1つ以上のラッチアームを含み、且つ
前記内部空洞に設けられたバイアス素子を更に備え、前記バイアス素子は前記回転バル
ブにバイアス力を加えて前記回転バルブのポートと前記ウェルプレートのポートとの間で
密封された界面を維持する、
請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記ポンプアセンブリはプランジャの両端に駆動端とバイアス面を有するプランジャを
含み、前記駆動端と前記バイアス面は前記ハウジングの上面及び底面で露出され、前記プ
ランジャの往復運動と関連して対応する単方向駆動力とバイアス力が前記駆動端と前記バ
イアス面に加えられる、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記プランジャはブリッジセグメントによりU字形に相互結合され且つモノリシック構
造に一体に形成された駆動アームとプランジャアームを有し、前記駆動アームと前記プラ
ンジャアームは前記ウェルプレート上に位置する支持ポスト内に収容される、請求項11
に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記プランジャは異なる材料で一体にモールド成形されたプランジャアームとプランジ
ャ素子を備える、請求項11に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記プランジャ素子は前記プランジャアームの先端に形成され、前記プランジャ素子は
前記ポンプステーションに高圧及び低圧を生成するために対応する支持ポスト中を移動す
る、請求項13に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記ポンプステーションは機能的に準備区分と排出区分とポンプ作業区分とに分割され
たチャネル区分を含み、これらのすべての区分は互いに連続して両方向の流体フローを支
持するように形成される、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記ポンプステーションは作業エリアの上流と下流に置かれた1対のピンチバルブの間
に挟まれた作業エリアを含み、前記ポンプアセンブリは前記作業エリアと整列するプラン
ジャを備え、前記プランジャは作業エリアに対して往復運動して高圧及び低圧状態を導入
し、前記ポンプアセンブリは前記ピンチバルブと整列するプッシュピンを更に備え、前記
プッシュピンは交互に移動して前記ピンチバルブを開閉する、請求項1に記載のカートリ
ッジアセンブリ。 - 前記ハウジング内に設けられ且つ前記ウェルに近接して位置する穿孔機ユニットを更に
備え、前記穿孔機ユニットは穿孔素子を含み、前記穿孔機ユニットが穿孔位置へ移動され
ると、前記穿孔素子が対応するウェルのカバーに孔をあける、請求項1に記載のカートリ
ッジアセンブリ。 - 前記ハウジングは、前記穿孔機ユニットの上端への機器アクセスを提供する穿孔機アク
セス開口を有するカバーを含む、請求項17に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記穿孔機ユニットは、下部プラットフォームと中間部分と上部フランジを有する円錐
管状に形成された本体を含み、前記下部プラットフォーム又は前記上部フランジの少なく
とも1つが所定の態様に分布された穿孔素子を含み、前記穿孔素子は前記ウェルプレート
の前記ウェルと整列するように配置される、請求項17に記載のカートリッジアセンブリ
。 - 前記ロータシャフトの周りに嵌合するプラットフォームを更に備え、前記プラットフォ
ームは、前記穿孔素子を対応するウェルと整列させるために、前記回転バルブアセンブリ
の係合機構部と係合して前記穿孔機ユニットを前記ロータシャフトに対して所定の回転配
向に位置させるインデックス機構部を含む、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記ウェルプレートは前記回転バルブアセンブリに対応する所定の態様に配置されたウ
ェルトランジションポートを含み、前記ウェルプレートは対応するウェルと整列するウェ
ル排出ポートを含み、前記ウェルプレートは対応するウェル排出ポートとウェルトランジ
ションポートとの間に延在するウェル排出チャネルを含む、請求項1に記載のカートリッ
ジアセンブリ。 - 前記ウェルプレートは上面及び底面を有し、それらの少なくとも一つの面がチャネルを
含み、それらのチャネルは側面開口チャネルを含み、前記ベースは前記側面開口チャネル
を閉鎖するためにバック層に接合されている、請求項1に記載のカートリッジアセンブリ
。 - 前記ウェルプレートは光学解析ステーション内に設けられた光学インタフェース窓を含
み、前記ウェルプレートの上面は機器の照明素子と係合する挿入制限素子を含む、請求項
1に記載のカートリッジアセンブリ。 - 前記挿入制限素子は前記光学インタフェース窓の周囲に設けられた1つ以上のリブに相
当し、これらのリブは照明素子と前記光学インタフェース窓との間のZ公差を規定する、
請求項23に記載のカートリッジアセンブリ。 - 照明チャンバとウェルプレートを含むハウジングを有するカートリッジアセンブリであ
り、
前記ウェルプレートは前記ハウジング内に保持され、所望量の液体を受け入れる液体ウ
ェルを有し、前記ウェルプレートは前記照明チャンバと整列する流体解析ステーションを
含み、前記ウェルプレートは前記流体解析ステーションに置かれたインタフェース窓とイ
ンタフェースポートを含む、カートリッジアセンブリと、
内部に解析回路を含むフレームを有するフローセルカートリッジであり、前記フレーム
は前記解析回路と整列するフローセル窓を含み、前記フレームは前記解析回路内の活性領
域に流体結合するフローセルポートを含む、フローセルカートリッジと、
を備え、
前記ハウジングは前記フローセルカートリッジを収容するフローセルチャンバを含み、
前記フローセルチャンバは前記フローセルカートリッジを前記流体解析ステーションに
位置決めし、前記フローセル窓及びポートが対応するインタフェース窓及びポートと整列
される、
流体システム。 - 前記フローセルチャンバは側面レール及びエンドストップを含み、それらの少なくとも
1つは、前記フローセルカートリッジを完全装填位置にあるとき前記フローセル窓及びポ
ートが対応するインタフェース窓及びポートとそれぞれ整列されるように所定の基準点に
位置決めするエンドリミットを有する、請求項25に記載の流体システム。 - 前記フローセルチャンバは前記側面レールの少なくとも1つに沿って延長するように向
けられたバイアスアームを含み、前記バイアスアームは前記フローセルチャンバの内側に
突出し、前記バイアスアームは前記フローセルカートリッジに横方向のバイアス力を与え
て前記フローセルカートリッジを所定の基準点に維持する、請求項26に記載の流体シス
テム。 - 前記バイアスアームは前記フローセルカートリッジ側面に設けられたノッチと嵌合する
ように設置されたラッチ素子を含み、前記ラッチ素子は前記フローセルカートリッジをX
基準点に維持する、請求項27に記載の流体システム。 - 前記フローセルカートリッジは上部及び底部フレームを含み、前記上部フレームは前記
フローセル窓及びポートを含み、前記上部フレームは前記上部フレームから上向きに所定
の高さだけ突出してZ基準点を規定するリブを含む、請求項25に記載の流体システム。 - 前記フローセルカートリッジはエラストマ材料によりモノリシック構造に形成されたガ
スケットを含む、請求項25に記載の流体システム。 - 前記ウェルプレートは、バルブステーション、ポンプステーション及びインタフェース
チャネルを含み、前記インタフェースチャネルは前記バルブステーションと前記インタフ
ェースポートの1つとの間の第1の流体通路及び前記ポンプステーションと前記インタフ
ェースポートの1つとの間の第2の流体通路を提供する、請求項25に記載の流体システ
ム。 - 前記照明チャンバは、前記インタフェース窓、前記フローセル窓及び前記解析回路内の
活性領域を貫通して延びる照明軸に沿って延在するように向けられている、請求項25に
記載の流体システム。
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