JP2023054827A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、基板処理装置を提供する。【解決手段】一例で、基板処理装置は、お互いに組合されて内部に基板を処理する処理空間を有する第1ボディーと第2ボディーを有する工程チャンバと、第1ボディーと第2ボディーが接触される接触面に置かれる摩擦防止部材を含み、摩擦防止部材は接触面と対応される面に溝が形成され、溝に摩擦防止部材と第1ボディーまたは摩擦防止部材と第2ボディーを接着させる接着剤が提供され、溝は開放されたパターンを形成することができる。【選択図】図6
Description
本発明は、工程チャンバの間の摩擦を防止する摩擦防止部材を含む基板処理装置に関するものである。
一般に、半導体素子はウェハーのような基板から製造する。具体的に、半導体素子は蒸着工程、フォトリソグラフィ工程、洗浄工程、乾燥工程、蝕刻工程などを遂行して基板の上部面に微細な回路パターンを形成して製造される。
一般に、洗浄工程はケミカルを基板に供給して基板上の異物を除去するケミカル処理、純水を基板に供給して基板上に残留するケミカルを除去するリンス処理、そして、基板上に残留する純水を除去する乾燥処理を含む。
基板の乾燥処理のために超臨界流体が使用される。一例によれば、基板上の純水を有機溶剤で置換した後、チャンバ内で超臨界流体を基板の上部面に供給して基板上に残っている有機溶剤を超臨界流体に溶解させて基板から除去する。有機溶剤でイソプロピルアルコール(isopropyl alcohol:以下、IPA)が使用される場合、超臨界流体としては臨界温度及び臨界圧力が相対的に低く、IPAがよく溶解される二酸化炭素(CO2)が使用される。
超臨界流体を利用した基板の処理は次のようである。基板がチャンバ内に搬入されれば、チャンバ内に超臨界状態の二酸化炭素が供給されてチャンバ内部を加圧し、以後、超臨界流体の供給及びチャンバ内の排気を繰り返しながら超臨界流体で基板を処理する。そして、基板の処理が完了すれば、チャンバ内部を排気して減圧する。チャンバを排気した以後に、チャンバを開放して基板を除去し、チャンバを補修する過程を経る。
一般に、チャンバはお互いに組合されて内部に基板が処理される処理空間を提供する二つの独立されたボディーで提供される。各ボディーは金属材質でなされる。ただ、ボディーが駆動される時に各ボディーの間の衝突と摩擦が発生する。これに、各ボディーの接触面には衝突と摩擦発生を低減させるための摩擦防止層が提供される。摩擦防止層を接触面に固定させるために接着剤が利用される。
摩擦防止層はボディーが駆動される時、ボディーとの衝撃によって損傷される。これによりパーティクルが惹起されて工程不良の原因になる。また、処理空間の高圧によって摩擦防止層とボディーとの間に真空圧が作用して摩擦防止層とボディーが分離されない問題がある。
本発明は、内部の処理空間が高圧で維持されたまま基板を処理する工程チャンバに提供された摩擦防止部材の破損を防止することを一目的とする。
また、本発明は内部の処理空間が高圧で維持されたまま基板を処理する工程チャンバに提供された摩擦防止部材に真空圧が発生することを防止することを一目的とする。
本発明の目的はこれに制限されないし、言及されなかったまた他の目的らは下の記載から当業者に明確に理解されることができるであろう。
本発明は、基板処理装置を提供する。一例で、基板処理装置は、お互いに組合されて内部に基板を処理する処理空間を有する第1ボディーと第2ボディーを有する工程チャンバと、第1ボディーと第2ボディーが接触される接触面に置かれる摩擦防止部材を含み、摩擦防止部材は接触面と対応される面に溝が形成され、溝に摩擦防止部材と第1ボディーまたは摩擦防止部材と第2ボディーを接着させる接着剤が提供され、溝は開放されたパターンを形成することができる。
一例で、摩擦防止部材は、溝が提供されない領域に貫通ホールが形成されることができる。
一例で、パターンは、一端と他端との間に閉鎖された領域を形成することができる。
一例で、閉鎖された領域には摩擦防止部材を貫通する貫通ホールが形成されることができる。
一例で、摩擦防止部材は、接触面と対応される面の粗度が加工されることができる。
一例で、摩擦防止部材の材料は摩擦防止部材が受ける力より摩擦防止部材の圧縮応力がさらに大きいように提供されることができる。
一例で、接着剤と接触面との間の接着力より接着剤と摩擦防止部材との間の接着力がさらに大きいように提供されることができる。
また、基板処理装置は、一例で、お互いに組合されて内部に基板を処理する高圧の処理空間を有する第1ボディーと第2ボディーを有する工程チャンバと、工程チャンバを開放位置または閉鎖位置に移動させる駆動機と、処理空間内で基板を支持する支持ユニットと、処理空間に流体を供給する流体供給ユニットと、工程チャンバの一面に提供される摩擦防止部材を含み、一面は、第1ボディーと第2ボディーが接触される接触面を含み、摩擦防止部材は接触面と対応される面に溝が形成され、溝に摩擦防止部材と第1ボディーまたは摩擦防止部材と第2ボディーを接着させる接着剤が提供され、溝は開放されたパターンを形成することができる。
一例で、パターンは、一端と他端との間に閉鎖された領域を形成することができる。
一例で、閉鎖された領域には摩擦防止部材を貫通する貫通ホールが形成されることができる。
一例で、摩擦防止部材は、溝が提供されない領域に貫通ホールが形成されることができる。
一例で、摩擦防止部材は弧(arc)形状で提供されることができる。
一例で、駆動機は、第1ボディーと第2ボディーを貫通して第1ボディーと第2ボディーのうちで何れか一つを昇下降させるシリンダーで提供され、摩擦防止部材はシリンダーを囲むように提供されることができる。
一例で、摩擦防止部材は、一面と対応される面の粗度が加工されることができる。
一例で、工程チャンバは金属物質で提供されることができる。
一例で、摩擦防止部材の材料は摩擦防止部材が受ける力より摩擦防止部材の圧縮応力がさらに大きいように提供されることができる。
一例で、接着剤と一面との間の接着力より接着剤と摩擦防止部材との間の接着力がさらに大きいように提供されることができる。
一例で、閉鎖位置に置かれた第1ボディーと第2ボディーをクランピングするクランピング部材をさらに含み、摩擦防止部材は、第1ボディーとクランピング部材との間、そして、第2ボディーとクランピング部材との間に提供され、一面は、第1ボディーとクランピング部材が接触する面、そして、第2ボディーとクランピング部材が接触する面を含むことができる。
一例で、摩擦防止部材は、リング形状で提供されることができる。
一例で、基板の処理は処理空間内部で超臨界流体を利用して基板を乾燥させる処理であることがある。
本発明の一実施例によれば、内部の処理空間が高圧で維持されたまま基板を処理する工程チャンバに提供された摩擦防止部材の破損を防止することができる。
また、本発明は内部の処理空間が高圧で維持されたまま基板を処理する工程チャンバに提供された摩擦防止部材に真空圧が発生することを防止することができる。
本発明の効果が上述した効果らに限定されるものではなくて、言及されない効果らは本明細書及び添付された図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者に明確に理解されることができるであろう。
以下、本発明の実施例を添付された図面らを参照してより詳細に説明する。本発明の実施例はさまざまな形態で変形することができるし、本発明の範囲が下の実施例らに限定されるものとして解釈されてはいけない。本実施例は、当業界で平均的な知識を有した者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面での要素の形状はより明確な説明を強調するために誇張されたものである。
図1は、本発明の一実施例による基板処理装置を概略的に見せてくれる平面図である。図1を参照すれば、基板処理システムはインデックスモジュール10、処理モジュール20、そして、制御機(図示せず)を含む。一実施例によれば、インデックスモジュール10と処理モジュール20は一方向に沿って配置される。以下、インデックスモジュール10と処理モジュール20が配置された方向を第1方向92といって、上部から眺める時第1方向92と垂直な方向を第2方向94といって、第1方向92及び第2方向94にすべて垂直な方向を第3方向96という。
インデックスモジュール10は基板(W)が収納された容器80から基板(W)を処理モジュール20に返送し、処理モジュール20で処理が完了された基板(W)を容器80で収納する。インデックスモジュール10の長さ方向は第2方向94に提供される。インデックスモジュール10はロードポート(loadport)12とインデックスフレーム14を有する。インデックスフレーム14を基準でロードポート12は処理モジュール20の反対側に位置される。基板(W)らが収納された容器80はロードポート12に置かれる。ロードポート12は複数個が提供されることができるし、複数のロードポート12は第2方向94に沿って配置されることができる。
容器80としては前面開放一体式ポッド(Front Open Unified Pod:FOUP)のような密閉用容器が使用されることができる。容器80はオーバーヘッドトランスファー(Overhead Transfer)、オーバーヘッドコンベヤー(Overhead Conveyor)、または自動案内車両(Automatic Guided Vehicle)のような移送手段(図示せず)や作業者によってロードポート12に置かれることができる。
インデックスフレーム14にはインデックスロボット120が提供される。インデックスフレーム14内には長さ方向が第2方向94に提供されたガイドレール140が提供され、インデックスロボット120はガイドレール140上で移動可能に提供されることができる。インデックスロボット120は基板(W)が置かれるハンド122を含み、ハンド122は前進及び後進移動、第3方向96を軸にした回転、そして、第3方向96に沿って移動可能に提供されることができる。ハンド122は複数個が上下方向に離隔されるように提供され、ハンド122らはお互いに独立的に前進及び後進移動することができる。
処理モジュール20はバッファーユニット200、返送装置300、液処理装置400、そして、超臨界装置500を含む。バッファーユニット200は処理モジュール20に搬入される基板(W)と処理モジュール20から搬出される基板(W)が一時的にとどまる空間を提供する。液処理装置400は基板(W)上に液を供給して基板(W)を液処理する液処理工程を遂行する。超臨界装置500は基板(W)上に残留する液を除去する乾燥工程を遂行する。返送装置300はバッファーユニット200、液処理装置400、そして、超臨界装置500の間に基板(W)を返送する。
返送装置300はその長さ方向が第1方向92に提供されることができる。バッファーユニット200はインデックスモジュール10と返送装置300との間に配置されることができる。液処理装置400と超臨界装置500は返送装置300の側部に配置されることができる。液処理装置400と返送装置300は第2方向94に沿って配置されることができる。超臨界装置500と返送装置300は第2方向94に沿って配置されることができる。バッファーユニット200は返送装置300の一端に位置されることができる。
一例によれば、液処理装置400らは返送装置300の両側に配置され、超臨界装置500らは返送装置300の両側に配置され、液処理装置400らは超臨界装置500らよりバッファーユニット200にさらに近い位置に配置されることができる。返送装置300の一側で液処理装置400らは第1方向92及び第3方向96に沿ってそれぞれAXB(A、Bはそれぞれ1または1より大きい自然数)配列で提供されることができる。また、返送装置300の一側で超臨界装置500らは第1方向92及び第3方向96に沿ってそれぞれCXD(C、Dはそれぞれ1または1より大きい自然数)個が提供されることができる。前述したところとは異なり、返送装置300の一側には液処理装置400らだけ提供され、その他側には超臨界装置500らだけ提供されることができる。
返送装置300は返送ロボット320を有する。返送装置300内には長さ方向が第1方向92に提供されたガイドレール340が提供され、返送ロボット320はガイドレール340上で移動可能に提供されることができる。返送ロボット320は基板(W)が置かれるハンド322を含み、ハンド322は前進及び後進移動、第3方向96を軸にした回転、そして、第3方向96に沿って移動可能に提供されることができる。ハンド322は複数個が上下方向に離隔されるように提供され、ハンド322らはお互いに独立的に前進及び後進移動することができる。
バッファーユニット200は基板(W)が置かれるバッファー220を複数個具備する。バッファー220らは第3方向96に沿ってお互いの間に離隔されるように配置されることができる。バッファーユニット200は前面(front face)と後面(rear face)が開放される。前面はインデックスモジュール10と見合わせる面であり、後面は返送装置300と見合わせる面である。インデックスロボット120は前面を通じてバッファーユニット200に近付いて、返送ロボット320は後面を通じてバッファーユニット200に近付くことができる。
図2は、図1の液処理装置400の一実施例を概略的に見せてくれる図面である。図2を参照すれば、液処理装置400はハウジング410、コップ420、支持ユニット440、液供給ユニット460、昇降ユニット480及び制御機40を有する。制御機40は液供給ユニット460、支持ユニット440及び昇降ユニット480の動作を制御する。ハウジング410は概して直方体形状で提供される。コップ420、支持ユニット440、そして、液供給ユニット460はハウジング410内に配置される。
コップ420は上部が開放された処理空間を有して、基板(W)は処理空間内で液処理される。支持ユニット440は処理空間内で基板(W)を支持する。液供給ユニット460は支持ユニット440に支持された基板(W)上に液を供給する。液は複数種類で提供され、基板(W)上に順次に供給されることができる。昇降ユニット480はコップ420と支持ユニット440との間の相対高さを調節する。
一例によれば、コップ420は複数の回収桶422、424、426を有する。回収桶ら422、424、426はそれぞれ基板処理に使用された液を回収する回収空間を有する。それぞれの回収桶422、424、426は支持ユニット440を囲むリング形状で提供される。液処理工程が進行時基板(W)の回転によって飛散される前処理液は各回収桶422、424、426の流入口422a、424a、426aを通じて回収空間に流入される。一例によれば、コップ420は第1回収桶422、第2回収桶424、そして、第3回収桶426を有する。第1回収桶422は支持ユニット440を囲むように配置され、第2回収桶424は第1回収桶422を囲むように配置され、第3回収桶426は第2回収桶424を囲むように配置される。第2回収桶424に液を流入する第2流入口424aは、第1回収桶422に液を流入する第1流入口422aより上部に位置され、第3回収桶426に液を流入する第3流入口426aは第2流入口424aより上部に位置されることができる。
支持ユニット440は支持板442と駆動軸444を有する。支持板442の上面は概して円形で提供されて基板(W)より大きい直径を有することができる。支持板442の中央部には基板(W)の後面を支持する支持ピン442aが提供され、支持ピン442aは基板(W)が支持板442から一定距離が離隔されるようにその上端が支持板442から突き出されるように提供される。支持板442の縁部にはチャックピン442bが提供される。
チャックピン442bは支持板442から上部に突き出されるように提供され、基板(W)が回転される時基板(W)が支持ユニット440から離脱されないように基板(W)の側部を支持する。駆動軸444は駆動部材446によって駆動され、基板(W)の底面中央と連結され、支持板442をその中心軸を基準で回転させる。
一例によれば、液供給ユニット460は第1ノズル462、第2ノズル464、そして、第3ノズル466を有する。第1ノズル462は第1液を基板(W)上に供給する。第1液は基板(W)上に残存する膜や異物を除去する液であることがある。第2ノズル464は第2液を基板(W)上に供給する。第2液は第3液によく溶解される液であることがある。例えば、第2液は第1液に比べて第3液にさらによく溶解される液であることがある。第2液は基板(W)上に供給された第1液を中和させる液であることがある。また、第2液は第1液を中和させてそてと共に第1液に比べて第3液によく溶解される液であることがある。
一例によれば、第2液は水であることができる。第3ノズル466は第3液を基板(W)上に供給する。第3液は超臨界装置500で使用される超臨界流体によく溶解される液であることがある。例えば、第3液は第2液に比べて超臨界装置500で使用される超臨界流体によく溶解される液であることがある。一例によれば、第3液は有機溶剤であることがある。有機溶剤はイソプロピルアルコール(IPA)であることがある。一例によれば、超臨界流体は二酸化炭素であることがある。
第1ノズル462、第2ノズル464、そして、第3ノズル466はお互いに相異なアーム461に支持され、これらアーム461らは独立的に移動されることができる。選択的に第1ノズル462、第2ノズル464、そして、第3ノズル466は等しいアームに装着されて共に移動されることができる。
昇降ユニット480はコップ420を上下方向に移動させる。コップ420の上下移動によってコップ420と基板(W)との間の相対高さが変更される。これによって基板(W)に供給される液の種類によって前処理液を回収する回収桶422、424、426が変更されるので、液らを分離回収することができる。前述したところと異なり、コップ420は固定設置され、昇降ユニット480は支持ユニット440を上下方向に移動させることができる。
図3乃至図4は、それぞれ図1の超臨界装置500の一実施例を概略的に見せてくれる図面である。一実施例によれば、超臨界装置500は超臨界流体を利用して基板(W)上の液を除去する。一実施例によれば、基板(W)上の液はイソプロピルアルコール(IPA)である。超臨界装置500は超臨界流体を基板上に供給して基板(W)上のIPAを超臨界流体に溶解させて基板(W)からIPAを除去する。
図3乃至図4を参照すれば、超臨界装置500は工程チャンバ520、流体供給ライン540、支持ユニット580、駆動部材590、そして、排気ユニット550を含む。
工程チャンバ520は超臨界工程が遂行される処理空間502を提供する。一例で、工程チャンバ520は円筒形状で提供されることができる。または、これとは異なり直方体形状で提供されることができる。工程チャンバ520は第1ボディー522と第2ボディー524を有する。第1ボディー522と第2ボディー524はお互いに組合されて上述した処理空間502を提供する。一例で、第1ボディー522は上部から眺める時、円形形状で提供される。同じく、第2ボディー524は上部から眺める時、円形形状で提供される。一例で、第1ボディー522は第2ボディー524の上部に提供される。選択的に、第1ボディー522と第2ボディー524は等しい高さに提供されることができるし、第1ボディー522と第2ボディー524は左右に開閉されることができる。
第1ボディー522が第2ボディー524から離隔されれば、処理空間502が開放され、この時基板(W)が搬入または搬出される。駆動部材590は工程チャンバ520が開放位置または閉鎖位置に移動されるように第1ボディー522及び第2ボディー524のうちで何れか一つを昇下降させる。
一例で、駆動部材590は第1ボディー522または第2ボディー524を昇下降させるシリンダー595を駆動するように提供されることができる。例えば、駆動部材590は第2ボディー524を昇下降させるように提供されることができる。ここで、開放位置は第1ボディー522及び第2ボディー524がお互いに離隔される位置であり、閉鎖位置はお互いに向い合う第1ボディー522及び第2ボディー524の密着面がお互いに密着される位置である。すなわち、開放位置で処理空間502は外部から開放され、閉鎖位置で処理空間502が閉まられる。
一例で、第1ボディー522には第1供給ライン542が連結される第1吐出ホール525が形成されることができる。第1吐出ホール525を通じて処理空間502に流体が供給されることができる。一例で、第2ボディー524には第2供給ライン562が連結される第2吐出ホール526と、排気ライン552が連結される排気ホール527が形成されることができる。選択的に、工程チャンバ520には第1吐出ホール525と第2吐出ホール526のうちで何れか一つだけが提供されることができる。一例で、工程チャンバ520の壁内部にはヒーター570が提供される。ヒーター570は工程チャンバ520の内部空間内に供給された流体が超臨界状態を維持するように工程チャンバ520の処理空間502を加熱する。処理空間502の内部は超臨界流体による雰囲気が形成される。
支持ユニット580は工程チャンバ520の処理空間502内で基板(W)を支持する。工程チャンバ520の処理空間502に搬入された基板(W)は支持ユニット580に置かれる。一例によれば、基板(W)はパターン面が上部に向けるように支持ユニット580によって支持される。一例で、支持ユニット580は第2吐出ホール526より上部で基板(W)を支持する。一例で、支持ユニット580は第1ボディー522に結合されることができる。選択的に、支持ユニット580は第2ボディー524に結合されることができる。
また、第2ボディー524には排気ユニット550が結合される。工程チャンバ520の処理空間502内の超臨界流体は排気ユニット550を通じて工程チャンバ520の外部に排気される。排気ユニット550は、排気ライン552、そして、排気バルブ5521を含む。排気バルブ5521は、排気ライン552に設置されて処理空間502の排気如何と排気流量を調節する。
工程進行時には第1ボディー522と第2ボディー524が密着されて処理空間502が外部から密閉される。
一例で、第1ボディー522と第2ボディー524は金属材質で提供される。例えば、第1ボディー522と第2ボディー524はステンレスで提供されることができる。第1ボディー522と第2ボディー524が密着される過程で第1ボディー522と第2ボディー524の接触面には衝撃と振動が発生する。これに、第1ボディー522と第2ボディー524の接触面に発生する衝撃と振動を低減させるための摩擦防止層510が提供される。
以下、図5乃至図6を参照して本発明の摩擦防止部材510に対して説明する。図5は、本発明の一実施例による摩擦防止部材510が第2ボディー524に置かれた姿を概略的に見せてくれる平面図であり、図6は本発明の一実施例に摩擦防止部材510の姿を概略的に見せてくれる斜視図である。
一例で、摩擦防止層510は第1ボディー522と第2ボディー524が接触する接触面に提供される。一例で、摩擦防止層510は図5に示されたように、第2ボディー524上に置かれる。
摩擦防止層510は第1ボディー522と第2ボディー524が直接的に衝突することを防止する。これに、第1ボディー522と第2ボディー524の衝突によってパーティクルが発生することを防止する。一例で、摩擦防止層510は処理空間502に供給される工程流体に安定な物質で提供される。一例で、処理空間502に超臨界状態の二酸化炭素が提供されて基板を建造し、摩擦防止層510はポリイミド(PI:Polyimide)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK:Polyetheretherketone)、ポリエチレンテレフタラート(PET:Polyethyleneterephthalate)、ジルコニア(Zirconia)、シリコンカーバイド(SiC)、窒化珪素(SiN)、酸化アルミニウム(Alumina)のうちで何れか一つで提供される。一例で、摩擦防止層510は0.5mm乃至3mmの厚さを有する。
シリンダー595は工程チャンバ520を昇下降させるが、シリンダー595近所で工程チャンバ520とシリンダー595の間の衝突が頻繁である。これに、摩擦防止部材510はシリンダー595近所に提供されることができる。一例で、摩擦防止部材510はシリンダー595を囲むように提供されることができる。例えば、摩擦防止部材510はリング形状で提供されることができる。摩擦防止部材510は中空512を有して開口513が提供されて開口513を通じて中空512が提供された領域がシリンダー595に挟まれることができる。
一例で、摩擦防止部材510は図6のように接触面と対応される面に溝514が形成されることができる。溝514には摩擦防止部材510と第1ボディー522または摩擦防止部材510と第2ボディー524を接着させる接着剤が提供される。一例で、接着剤は金属で提供される工程チャンバ520と摩擦防止部材510の接触力を高めてくれる物質で提供される。一例で、接着剤は金属物質と接触性が高い物質で提供される。一例で、接着剤は金属物質と接触性が高くて高温性能が優秀な物質で提供されることができる。例えば、接着剤はアクリル系物質で提供されることができる。一例で、接着剤は、両面テープのような形態で提供されることができる。選択的に、接着剤は溝514内に塗布される液体で提供されることができる。一例で、接着剤は溝514と第1ボディー522を接着させる。選択的に、接着剤は溝514と第2ボディー524を接着させる。溝514は摩擦防止部材510で所定のパターンを形成する。一例で、溝514は開放されたパターンを形成する。例えば、図6に示されたように、溝514が形成するパターンはA領域で開放される。これに溝514が提供されない領域516が、溝514によって孤立されて真空圧が発生することを防止する。これに、真空圧によって工程チャンバ520と摩擦防止部材510が必要時に分離されない問題が発生することを防止する。
一例で、摩擦防止部材510は、溝514が提供されない領域516に貫通ホールが形成されることができる。これに、溝514が提供されない領域516に真空圧が発生することを防止する。一例で、パターンは、一端と他端との間に閉鎖された領域を形成することができる。閉鎖された領域は複数個が形成されることができる。閉鎖された領域によって取り囲まれた領域には貫通ホールが形成されることができる。
一例で、摩擦防止部材510は、接触面と対応される面の粗度が加工されることができる。例えば、摩擦防止部材510の上面と下面の粗度が加工されることができる。摩擦防止部材510の上面と下面の粗度は、摩擦防止部材510と工程チャンバ520との間に真空圧が発生されない粗度を有するように加工されることができる。
一例で、摩擦防止部材510の材料は摩擦防止部材510が受ける力より摩擦防止部材510の圧縮応力がさらに大きいように提供されることができる。一例で、摩擦防止部材510の面積、摩擦防止部材510の個数、そして、処理空間502内に発生する力を掛けた値より摩擦防止部材510の圧縮応力がさらに大きいように提供されることができる。例えば、摩擦防止部材510の面積、摩擦防止部材510の個数、そして、摩擦防止部材510の材料が上述した条件に合うように決まることができる。
一例で、接着剤と接触面との間の接着力より接着剤と摩擦防止部材510との間の接着力がさらに大きいように提供されることができる。例えば、接着剤は二重に提供され、摩擦防止部材510と接触される面の接着力が、工程チャンバ520と接触される面の接着力より大きく提供されることができる。選択的に、接着剤は単一層で提供され、接着剤と工程チャンバより摩擦防止部材510との接着力が大きいように接着剤の材料が選択されることができる。
前述した例では、摩擦防止部材510がシリンダー595近所にリング形状で提供されることとして説明した。しかし、これとは異なり、摩擦防止部材510は図7乃至図8に示されたように弧(arc)形状で提供されることができる。
前述した例では、摩擦防止部材510が、第1ボディー522と第2ボディー524との間に提供されることとして説明した。しかし、これと異なり摩擦防止部材510は工程チャンバ520をクランピングするクランピング部材5000と工程チャンバ520との間に提供されることができる。
図9は、本発明の基板処理装置の他の実施例を示す。
図9を参照すれば、一例で、基板処理装置4000はハウジング4020、工程チャンバ4100、基板支持ユニット4400、昇降部材4500、加熱部材4600、遮断部材4800、排気ユニット4700、流体供給ユニット4900、クランピング部材5000、移動部材5500を含む。一例で、工程チャンバ4100は、図3に示された工程チャンバ520で提供されることができる。
ハウジング4020は胴体4040及び中間板4060を含む。胴体4040は内部に空間を有する桶形状で提供される。例えば、胴体4040は直方体形状で提供されることができる。胴体4040の上面にはスリット形状の貫通ホール4050らが形成される。貫通ホール4050らはお互いに相異な位置でお互いに等しい長さ方向を有するように提供される。中間板4060は胴体4040内に位置される。中間板4060は胴体4040の内部を上部空間4080aと下部空間4080bで区切る。中間板4060は中空4040aを有する板形状で提供される。中空4040aには第2ボディー4200が挿入可能になるように提供される。中空4040aは第2ボディー4200の下端より大きい直径を有するように提供されることができる。上部空間4080aには工程チャンバ4100及びクランピング部材5000が位置され、下部空間4080bには昇降部材4500が位置されることができる。移動部材5500はハウジング4020の外壁に位置されることができる。
工程チャンバ4100は内部に基板(W)を処理する処理空間4120を有する。工程チャンバ4100は基板(W)を処理する間にその処理空間4120を外部から密閉する。工程チャンバ4100は第2ボディー4200、第1ボディー4300、そして、シーリング部材4140を含む。第2ボディー4200の底面は段差になるように提供される。第2ボディー4200は底面中央部が縁部に比べて低く位置される形状で提供される。例えば、第2ボディー4200は概して円筒形状で提供されることができる。第2ボディー4200は昇降部材4500によって胴体4040の上部空間4080a及び下部空間4080bで昇下降移動が可能である。第2ボディー4200の底面には下部供給ポート4220及び排気ポート4260が形成される。上部から眺める時下部供給ポート4220は第2ボディー4200の中心軸を脱するように位置されることができる。下部供給ポート4220は処理空間4120に超臨界流体を供給する流路で機能する。
第1ボディー4300は第2ボディー4200と組合されて内部に処理空間4120を形成する。第1ボディー4300は第2ボディー4200の上に位置される。第1ボディー4300はハウジング4020の上部空間4080aに位置される。第1ボディー4300は緩衝部材4350によって胴体4040の天井面に結合される。例えば、緩衝部材4350はスプリングであることがある。第1ボディー4300には上部供給ポート4320が形成される。上部供給ポート4320は処理空間4120に超臨界流体が供給される流路で機能する。上部供給ポート4320は第1ボディー4300の中心に一致するように位置されることができる。一例によれば、第1ボディー4300及び第2ボディー4200それぞれは金属材質で提供されることができる。
シーリング部材4140は第1ボディー4300と第2ボディー4200との間に隙間をシーリングする。シーリング部材4140は第1ボディー4300及び第2ボディー4200との間に位置される。基板支持ユニット4400は処理空間4120から基板(W)を支持する。
昇降部材4500は第1ボディー4300及び第2ボディー4200の間に相対位置を調節する。昇降部材4500は第1ボディー4300及び第2ボディー4200のうちで何れか一つが異なる一つに対して離隔または密着されるように昇下降させる。昇降部材4500は工程チャンバ4100が開放位置または閉鎖位置に移動されるように第1ボディー4300及び第2ボディー4200のうちで何れか一つを昇下降させる。昇降部材4500は支持板4520、昇降軸4540、そして駆動機4560を含む。支持板4520は下部空間4080bで第2ボディー4200を支持する。昇降軸4540は下部空間4080bで支持板4520の底面を支持する。昇降軸4540は支持板4520に固定結合される。駆動機4560はそれぞれの昇降軸4540を昇下降させる。駆動機4560に駆動力が提供されれば、第2ボディー4200及び昇降軸4540は昇降移動され、第1ボディー4300及び第2ボディー4200は処理空間が密閉される閉鎖位置に移動される。閉鎖位置で駆動機4560の駆動力が解除されれば、第1ボディー4300及び第2ボディー4200は閉鎖位置を維持することができる。
遮断部材4800は下部供給ポート4220から供給される超臨界流体が基板(W)の非処理面に直接的に供給されることを防止する。遮断部材4800は遮断プレート4820及び支持台4840を含む。遮断プレート4820は下部供給ポート4220と基板支持ユニット4400の間に位置される。支持台4840は遮断プレート4820を支持する。
排気ユニット4700は処理空間4120の雰囲気を排気する。処理空間4120に発生された工程副産物は排気ユニット4700を通じて排気される。排気は自然排気または強制排気であることがある。また、排気ユニット4700は工程副産物を排気する共に、処理空間4120の圧力を調節可能である。排気ユニット4700は排気ライン4720及び圧力測定部材4740を含む。排気ライン4720は排気ポート4260に連結される。排気ライン4720に設置された排気バルブ4760は処理空間4120の排気量を調節可能である。圧力測定部材4740は排気ライン4720に設置され、排気ライン4720の圧力を測定する。圧力測定部材4740は排気方向に対して排気バルブ4760より上流に位置される。排気ユニット4700によって処理空間4120は常圧または工程チャンバ4100の外部に対応される圧力で減圧されることができる。
第1クランプ5100及び第2クランプ5200は工程チャンバ4100の側部に位置される。一例によれば、第1クランプ5100及び第2クランプ5200それぞれは工程チャンバ4100を間に置いてお互いに見合わせるように位置される。第1クランプ5100及び第2クランプ5200それぞれは工程チャンバ4100を囲む形状で提供される。
第1クランプ5100及び第2クランプ5200それぞれは工程チャンバ4100を眺める内側面にクランプ溝5120が形成される。クランプ溝5120には閉鎖位置に位置された第1ボディー4300の縁部及び第2ボディー4200の縁部が挿入可能である。クランピング部材5000は閉ざし位置または解除位置に移動可能である。ここで、閉ざし位置は第1クランプ5100及び第2クランプ5200がお互いに近くなって第1ボディー4300及び第2ボディー4200をクランピングする位置であり、解除位置は第1クランプ5100及び第2クランプ5200が第1ボディー4300及び第2ボディー4200から離隔される位置で定義する。第1クランプ5100及び第2クランプ5200は閉ざし位置でお互いに組合されて環形のリング形状を有するように提供される。
摩擦防止部材510bは1クランプ5100及び第2クランプ5200と工程チャンバ5200との間に提供されることができる。例えば、図9に示されたように、摩擦防止部材510bは第1クランプ5100及び第2クランプ5200と接触される上部面、そして、下部面に提供されることができる。一例で、摩擦防止部材510bは図10に示されたようにリング形状で提供されることができる。一例で、摩擦防止部材510bは開放された形態で提供されることができる。
以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、前述した内容は本発明の望ましい実施形態を示して説明するものであり、本発明は多様な他の組合、変更及び環境で使用することができる。すなわち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、著わした開示内容と均等な範囲及び/または当業界の技術または知識の範囲内で変更または修正が可能である。著わした実施例は本発明の技術的思想を具現するための最善の状態を説明するものであり、本発明の具体的な適用分野及び用途で要求される多様な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態で本発明を制限しようとする意図ではない。また、添付された請求範囲は他の実施状態も含むものとして解釈されなければならない。
510 摩擦防止部材
524 第2ボディー
522 第1ボディー
524 第2ボディー
522 第1ボディー
Claims (18)
- 基板処理装置であって、
お互いに組合されて内部に基板を処理する処理空間を有する第1ボディーと第2ボディーを有する工程チャンバと、
配置された前記第1ボディーと前記第2ボディーをクランプするクランピング部材と、
前記クランピング部材と前記工程チャンバとの間の接触面に置かれる摩擦防止部材と、を含み、
前記摩擦防止部材は前記接触面と対応される面に溝が形成され、
前記溝に前記摩擦防止部材と前記クランピング部材または前記摩擦防止部材と前記工程チャンバを接着させる接着剤が提供され、
前記溝は開放されたパターンを形成することを特徴とする基板処理装置。 - 前記摩擦防止部材は、
前記溝が提供されない領域に貫通ホールが形成されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記パターンは、
一端と他端との間に閉鎖された領域を形成することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記閉鎖された領域には前記摩擦防止部材を貫通する貫通ホールが形成されることを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記摩擦防止部材は、
前記接触面と対応される面の粗度が加工されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記摩擦防止部材の材料は前記摩擦防止部材が受ける力より前記摩擦防止部材の圧縮応力がさらに大きいように提供されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記接着剤と前記接触面との間の接着力より前記接着剤と前記摩擦防止部材間の接着力がさらに大きいように提供されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 基板処理装置であって、
お互いに組合されて内部に基板を処理する高圧の処理空間を有する第1ボディーと第2ボディーを有する工程チャンバと、
前記工程チャンバを開放位置または閉鎖位置に移動させる駆動機と、
前記閉鎖位置に置かれた前記第1ボディーと前記第2ボディーをクランプするクランピング部材と、
前記処理空間内で基板を支持する支持ユニットと、
前記処理空間に流体を供給する流体供給ユニットと、
前記クランピング部材と前記工程チャンバとの間の接触面に置かれる摩擦防止部材と、を含み、
前記摩擦防止部材は前記接触面と対応される面に溝が形成され、
前記溝に前記摩擦防止部材と前記第1ボディーまたは前記摩擦防止部材と前記第2ボディーを接着させる接着剤が提供され、
前記溝は開放されたパターンを形成することを特徴とする基板処理装置。 - 前記パターンは、
一端と他端との間に閉鎖された領域を形成することを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。 - 前記閉鎖された領域には前記摩擦防止部材を貫通する貫通ホールが形成されることを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。
- 前記摩擦防止部材は、
前記溝が提供されない領域に貫通ホールが形成されることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。 - 前記摩擦防止部材は弧(arc)形状で提供されることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置
- 前記摩擦防止部材は、
前記接触面と対応される面の粗度が加工されることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。 - 前記工程チャンバは金属物質で提供されることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記摩擦防止部材の材料は前記摩擦防止部材が受ける力より前記摩擦防止部材の圧縮応力がさらに大きいように提供されることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記接着剤と前記接触面との間の接着力より前記接着剤と前記摩擦防止部材間の接着力がさらに大きいように提供されることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記摩擦防止部材は、
リング形状で提供されることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。 - 前記基板の処理は前記処理空間内部で超臨界流体を利用して前記基板を乾燥させる処理であることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。
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