JP2023054029A - 粘着シート - Google Patents
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- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims abstract description 124
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims abstract description 124
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 92
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 74
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims abstract description 50
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 claims abstract description 36
- 238000005187 foaming Methods 0.000 claims abstract description 21
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 176
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 113
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 63
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 63
- 229920000103 Expandable microsphere Polymers 0.000 claims description 55
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 238000007373 indentation Methods 0.000 claims description 18
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 16
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 claims description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 abstract description 39
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- -1 softeners Substances 0.000 description 62
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 40
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 31
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 19
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 18
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 15
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 15
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 15
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 13
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 11
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 11
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 11
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 10
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 9
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 6
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 5
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 5
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 5
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 5
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- FLIACVVOZYBSBS-UHFFFAOYSA-N Methyl palmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC FLIACVVOZYBSBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 4
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 4
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 3
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 3
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-phenylpyridine-3-carboxamide Chemical compound ClC1=NC=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIQIXEFWDLTDED-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-1-piperidin-4-ylpyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CC(O)CN1C1CCNCC1 HIQIXEFWDLTDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004156 Azodicarbonamide Substances 0.000 description 2
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 2
- NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N Butyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N Methyl stearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC HPEUJPJOZXNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 2
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 2
- XOZUGNYVDXMRKW-AATRIKPKSA-N azodicarbonamide Chemical compound NC(=O)\N=N\C(N)=O XOZUGNYVDXMRKW-AATRIKPKSA-N 0.000 description 2
- 235000019399 azodicarbonamide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPOZNMOEPOHHSC-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCCCOC(=O)C=C BPOZNMOEPOHHSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- RGXWDWUGBIJHDO-UHFFFAOYSA-N ethyl decanoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OCC RGXWDWUGBIJHDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUGNVMKQXJXZCD-UHFFFAOYSA-N isopropyl palmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC(C)C XUGNVMKQXJXZCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSQLTHHMFHEFIY-UHFFFAOYSA-N methyl behenate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC QSQLTHHMFHEFIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZAZKJZBWRNNLDS-UHFFFAOYSA-N methyl tetradecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OC ZAZKJZBWRNNLDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N neopentane Chemical compound CC(C)(C)C CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- JREYOWJEWZVAOR-UHFFFAOYSA-N triazanium;[3-methylbut-3-enoxy(oxido)phosphoryl] phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].CC(=C)CCOP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O JREYOWJEWZVAOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N (2r,5s)-1-benzyl-2,5-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@@H]1CN[C@@H](C)CN1CC1=CC=CC=C1 WJTCHBVEUFDSIK-NWDGAFQWSA-N 0.000 description 1
- KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N (e)-but-2-enedinitrile Chemical compound N#C\C=C\C#N KYPOHTVBFVELTG-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGNQGTFARHLQFB-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-2-phenoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1 LGNQGTFARHLQFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQSQUYVFNGIECQ-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-dimethyl-1-n,4-n-dinitrosobenzene-1,4-dicarboxamide Chemical compound O=NN(C)C(=O)C1=CC=C(C(=O)N(C)N=O)C=C1 CQSQUYVFNGIECQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYTGWHZODQKWEF-UHFFFAOYSA-N 1-o-dodecyl 4-o-sulfo butanedioate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC(=O)OS(O)(=O)=O TYTGWHZODQKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSMCAVKSJWMSI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-1-n,1-n,3-n,3-n-tetrakis(oxiran-2-ylmethyl)benzene-1,3-diamine Chemical compound CC1=C(N(CC2OC2)CC2OC2)C(C)=CC=C1N(CC1OC1)CC1CO1 KQSMCAVKSJWMSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEXUGPWTFNCSO-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-pyridin-1-ium-1-ylacetyl)amino]ethyl octadecanoate;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCNC(=O)C[N+]1=CC=CC=C1 LNEXUGPWTFNCSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGXAFZNONAXBOS-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethyl)phenyl]methyl]oxirane Chemical compound C=1C=CC(CC2OC2)=CC=1CC1CO1 AGXAFZNONAXBOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-2-enenitrile Chemical compound ClC(=C)C#N OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBFWXYFXKDVKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyprop-2-enenitrile Chemical compound CCOC(=C)C#N RVBFWXYFXKDVKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLJHFERYMGMXSC-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(hydrazinesulfonyl)phenyl]sulfonylbenzenesulfonohydrazide Chemical compound NNS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(C=CC=2)S(=O)(=O)NN)=C1 BLJHFERYMGMXSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRRGMQBIAJCOBQ-UHFFFAOYSA-N 4-(thiatriazol-5-yl)morpholine Chemical compound C1COCCN1C1=NN=NS1 GRRGMQBIAJCOBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBOCQTNZUPTTEI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(hydrazinesulfonyl)phenoxy]benzenesulfonohydrazide Chemical compound C1=CC(S(=O)(=O)NN)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)NN)C=C1 NBOCQTNZUPTTEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2-n,2-n-diethylpyrimidine-2,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(N)=CC(Cl)=N1 XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMHWNJGXUIJPKG-UHFFFAOYSA-N CC(=O)O[SiH](CC=C)OC(C)=O Chemical compound CC(=O)O[SiH](CC=C)OC(C)=O JMHWNJGXUIJPKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- MWRWFPQBGSZWNV-UHFFFAOYSA-N Dinitrosopentamethylenetetramine Chemical compound C1N2CN(N=O)CN1CN(N=O)C2 MWRWFPQBGSZWNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001050985 Disco Species 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical class [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Natural products CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004166 Lanolin Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000000907 Musa textilis Species 0.000 description 1
- 150000004008 N-nitroso compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N Sorbitan monostearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N 0.000 description 1
- VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M Stearyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VBIIFPGSPJYLRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVWGGPRWKSHASF-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid, monooctadecyl ester Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O HVWGGPRWKSHASF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006271 aliphatic hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- CAMXVZOXBADHNJ-UHFFFAOYSA-N ammonium nitrite Chemical compound [NH4+].[O-]N=O CAMXVZOXBADHNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229920006272 aromatic hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSJGOMATDFSEED-UHFFFAOYSA-M behentrimonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C YSJGOMATDFSEED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000686 benzalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- LSNDGFYQJRXEAR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonamidourea Chemical compound NC(=O)NNS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 LSNDGFYQJRXEAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003872 benzethonium Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical class NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1OC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CO1 KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229960001927 cetylpyridinium chloride Drugs 0.000 description 1
- YMKDRGPMQRFJGP-UHFFFAOYSA-M cetylpyridinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 YMKDRGPMQRFJGP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005354 coacervation Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N dichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)Cl UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940099364 dichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIYLLGKDQZGJHK-UHFFFAOYSA-N dimethyl-(phenylmethyl)-[2-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenoxy]ethoxy]ethyl]ammonium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1OCCOCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SIYLLGKDQZGJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M dimethyldioctadecylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019329 dioctyl sodium sulphosuccinate Nutrition 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHAIUSTWZPMYGG-UHFFFAOYSA-L disodium;2,2-dioctyl-3-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCC(C([O-])=O)(C(C([O-])=O)S(O)(=O)=O)CCCCCCCC YHAIUSTWZPMYGG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L disodium;2-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].OS(=O)(=O)C(C([O-])=O)CC([O-])=O JMGZBMRVDHKMKB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004664 distearyldimethylammonium chloride (DHTDMAC) Substances 0.000 description 1
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 1
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVACALAUIQMRDF-UHFFFAOYSA-N dodecyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O TVACALAUIQMRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N epoxidized methyl oleate Natural products CCCCCCCCC1OC1CCCCCCCC(=O)OC CAMHHLOGFDZBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- OIAUFEASXQPCFE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3-xylene Chemical compound O=C.CC1=CC=CC(C)=C1 OIAUFEASXQPCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N hexadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QPPQHRDVPBTVEV-UHFFFAOYSA-N isopropyl dihydrogen phosphate Chemical compound CC(C)OP(O)(O)=O QPPQHRDVPBTVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 1
- 229940039717 lanolin Drugs 0.000 description 1
- 235000019388 lanolin Nutrition 0.000 description 1
- VMPHSYLJUKZBJJ-UHFFFAOYSA-N lauric acid triglyceride Natural products CCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCC VMPHSYLJUKZBJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071180 lauryl sulfosuccinate Drugs 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMRPCJXLEQCTBH-RRCSTGOVSA-N methyl 2-[(2r,4ar,8r,8ar)-8-hydroxy-4a,8-dimethyl-1,2,3,4,5,6,7,8a-octahydronaphthalen-2-yl]prop-2-enoate Chemical compound C1CC[C@@](C)(O)[C@@H]2C[C@H](C(=C)C(=O)OC)CC[C@]21C PMRPCJXLEQCTBH-RRCSTGOVSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1CO1 JAYXSROKFZAHRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKBOOQDFOWZSDC-UHFFFAOYSA-N n-[2-(diethylamino)ethyl]octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCCN(CC)CC KKBOOQDFOWZSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWVIUVHFPSALDO-UHFFFAOYSA-N n-[3-(dimethylamino)propyl]octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCCCN(C)C WWVIUVHFPSALDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- GVRNEIKWGDQKPS-UHFFFAOYSA-N nonyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVRNEIKWGDQKPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N octanoic acid ethyl ester Natural products CCCCCCCC(=O)OCC YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- FURYAADUZGZUGQ-UHFFFAOYSA-N phenoxybenzene;sulfuric acid Chemical class OS(O)(=O)=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 FURYAADUZGZUGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 1
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N sec-butylidene Natural products CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N semicarbazide Chemical compound NNC(N)=O DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003349 semicarbazides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940035044 sorbitan monolaurate Drugs 0.000 description 1
- 239000001587 sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000011076 sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035048 sorbitan monostearate Drugs 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- SFVFIFLLYFPGHH-UHFFFAOYSA-M stearalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SFVFIFLLYFPGHH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003784 tall oil Substances 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940029284 trichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 1
- SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M trimethyl(octadecyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C SZEMGTQCPRNXEG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
1つの実施形態においては、上記粘着剤層の25℃における押し込み硬度Hが、10MPa~1GPaである。
1つの実施形態においては、上記粘着剤に含まれるベースポリマーが、熱可塑性エラストマーである。
1つの実施形態においては、上記熱可塑性エラストマーが、スチレン系エラストマーである。
1つの実施形態においては、上記粘着剤が、粘着付与樹脂をさらに含む。
1つの実施形態においては、上記粘着付与樹脂の含有量が、前記ベースポリマー100重量部に対して、20重量部~350重量部である。
1つの実施形態においては、上記粘着剤が、界面活性剤をさらに含む。
1つの実施形態においては、上記界面活性剤の含有量が、前記ベースポリマー100重量部に対して、0.001重量部~15重量部である。
1つの実施形態においては、上記発泡剤が、熱膨張性微小球である。
1つの実施形態においては、上記熱膨張性微小球の含有量が、前記ベースポリマー100重量部に対して、20重量部~210重量部である。
1つの実施形態においては、上記粘着シートは、上記粘着剤層の少なくとも片側に配置された基材をさらに備える。
1つの実施形態においては、上記粘着シートは、上記粘着剤層の少なくとも片側に配置された別の粘着剤層をさらに備える。
1つの実施形態においては、上記基材が、上記粘着剤層と、上記別の粘着剤層との間に配置されている。
1つの実施形態においては、上記粘着シートは、半導体製造工程における基板加工時の仮固定材として用いられる。
本発明の別の局面によれば、基板の研削方法が提供される。この基板の研削方法は、粘着剤層を備える粘着シートの該粘着剤層上に基板を載置し、固定した後、該基板の粘着剤層側とは反対側の面を研削することを含み、該粘着剤層が、ベースポリマーを含む粘着剤と、発泡温度が90℃以上である発泡剤とを含み、該粘着シートの粘着面をシリコンチップに貼着した場合のせん断接着強度が、25℃の環境温度下において、1.0MPa以上であり、かつ、80℃の環境温度下において、0.2MPa以上である。
本発明のさらに別の局面によれば、チップの製造方法が提供される。このチップの製造方法は、粘着剤層を備える粘着シートの該粘着剤層上に基板を載置し、固定した後、該基板の粘着剤層側とは反対側の面を研削する研削工程を含み、該粘着剤層が、ベースポリマーを含む粘着剤と、発泡温度が90℃以上である発泡剤とを含み、該粘着シートの粘着面をシリコンチップに貼着した場合のせん断接着強度が、25℃の環境温度下において、1.0MPa以上であり、かつ、80℃の環境温度下において、0.2MPa以上である。
図1(a)は、本発明の1つの実施形態による粘着シートの概略断面図である。粘着シート100は、粘着剤層10を備える。本発明の粘着シートは、粘着剤層10のみから構成されていてもよく、該粘着剤層の他に任意の適切な層をさらに備えていてもよい。
上記粘着剤層は、粘着性を付与するための粘着剤と、発泡剤とを含む。
上記粘着剤層を構成する粘着剤としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な粘着剤が用いられ得る。上記粘着剤としては、例えば、熱可塑性エラストマー、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ビニルアルキルエーテル系樹脂、ポリステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素化樹脂等をベースポリマー(粘着性樹脂)として含む粘着剤が挙げられる。好ましくは、上記粘着剤は、ベースポリマーとして熱可塑性樹脂を含む。好ましくは、ベースポリマーとして熱可塑性エラストマーを含む粘着剤が用いられる。熱可塑性エラストマーとしては、スチレン系エラストマーが好ましく用いられる。例えば、スチレン系エラストマーを用いれば、スチレンユニット比率の調整により、上記せん断接着強度および押し込み硬度Hを容易に制御することができる。
上記粘着剤層は、発泡剤をさらに含む。発泡剤は、加熱により発泡し得る添加剤である。発泡剤としては、本発明の効果が得られる限り、任意の適切な発泡剤が用いられる。代表的には、上記発泡剤として、熱膨張性微小球が用いられ得る。熱膨張性微小球を含む粘着剤層を備える粘着シートは、加熱されることにより、該熱膨張性微小球が膨張または発泡して粘着面に凹凸が生じ、その結果、粘着力が低下または消失する。このような粘着シートは、加熱することにより容易に剥離することができる。
<体積充填率測定方法>
i)加熱前の粘着シートの粘着剤層を上に向けた状態で試料をホルダーに固定し、X線CTにより0~180°に対し1601枚の連続透過像を撮影する。X線CTはZEISS, Xradia 520 Versaを用いて、管電圧40kV、管電流73μA、ピクセルサイズ0.3μm/Pixelで測定する。
ii)得られた全透過像を元に再構成を行って断層像を作成し、解析ソフトImageJ.を用いて三次元再構成像(TIFスタック像)と再構成断面像(3面図)を作成する。
iii) 得られた三次元再構成像(TIFスタック像)について画像処理を施し、熱膨張性微小球の識別を行う。識別結果より、厚さ方向における体積充填率、個々の発泡体の体積、および球相当直径を算出する。
なお、各試料の粘着剤層厚さはSEM断面観察により測定し、充填率は気泡部分を除いた値を総体積として算出する。
上記基材としては、例えば、樹脂シート、不織布、紙、金属箔、織布、ゴムシート、発泡シート、これらの積層体(特に、樹脂シートを含む積層体)等が挙げられる。樹脂シートを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、ポリアミド(ナイロン)、全芳香族ポリアミド(アラミド)、ポリイミド(PI)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、フッ素系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等が挙げられる。不織布としては、マニラ麻を含む不織布等の耐熱性を有する天然繊維による不織布;ポリプロピレン樹脂不織布、ポリエチレン樹脂不織布、エステル系樹脂不織布等の合成樹脂不織布等が挙げられる。金属箔としては、銅箔、ステンレス箔、アルミニウム箔等が挙げられる。紙としては、和紙、クラフト紙等が挙げられる。上記基材は、単層であってもよく、多層であってもよい。上記基材が多層である場合、各層の構成は同じであってもよく、異なっていてもよい。
上記別の粘着剤層としては、任意の適切な粘着剤層が形成され得る。別の粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、フッ素系粘着剤、スチレン-ジエンブロック共重合体系粘着剤等が挙げられる。粘着剤には、例えば、可塑剤、充填剤、界面活性剤、老化防止剤、粘着性付与剤などの公知乃至慣用の添加剤が配合されていてもよい。
本発明の粘着シートは、弾性層をさらに備えていてもよい。弾性層は、粘着剤層の片面に配置され得る。粘着シートが基材を備える場合、弾性層は、粘着剤層と基材との間に配置され得る。弾性層を備えることにより、被着体に対する追従性が向上する。また、弾性層を備える粘着シートは、剥離時に加熱した際には、粘着剤層の面方向の変形(膨張)が拘束され、厚み方向の変形が優先される。その結果、剥離性が向上する。
本発明の粘着シートは、必要に応じて、セパレータをさらに備え得る。該セパレータは少なくとも一方の面が剥離面となっており、上記粘着剤層を保護するために設けられ得る。セパレータは、任意の適切な材料から構成され得る。
本発明の粘着シートは、任意の適切な方法により製造することができる。本発明の粘着シートは、例えば、基材(基材を含まない粘着シート得る場合には、任意の適切な基体)上に直接、粘着剤および発泡剤を含む組成物を塗工する方法、または任意の適切な基体上に粘着剤および発泡剤を含む組成物を塗工し形成された塗工層を基材に転写する方法等が挙げられる。粘着剤および発泡剤を含む組成物は、任意の適切な溶媒を含み得る。また、粘着剤を含む組成物により粘着剤塗工層を形成した後、該粘着剤塗工層に発泡剤(熱膨張性微小球)を振りかけた後、ラミネーター等を用いて、該発泡剤を該塗工層中に埋め込んで、発泡剤を含む粘着剤層を形成してもよい。
下記の評価方法において、粘着剤層(および別の粘着剤層)の貼着は、貼着面に積層されたセパレータを剥離した後に行った。
(1)せん断接着強度
実施例および比較例で得られた粘着シート(サイズ:20mm×20mm)を、粘着剤層とは反対側の面を所定の土台(例えば、20mm×20mmシリコンチップ)に貼り付けて固定し、該粘着シートの粘着剤層表面に5mm×5mmシリコンチップ配置し、該シリコンチップをヒートプレス機により、100℃、0.1MPaの貼り合わせ条件で、1分間熱圧着して評価用サンプルを作製した。なお、別の粘着剤層を備えない粘着シートの土台への固定は、日東電工株式会社製の両面テープNo.585を用いた。
当該評価用サンプルについて、25℃の環境温度下で、Nordson社製dage4000を用い、貼り付け面からの高さ50μm位置で5mm×5mmシリコンチップの側面に測定端子をセットし、せん断速度500μm/sec.でチップと水平方向に外力を印加することで得られる荷重-変位曲線から、最大破壊荷重を読み取り、これを25℃環境温度下におけるせん断接着強度とした。
また、80℃の環境温度下で、上記同様にせん断接着強度を測定した。
表1には、それぞれ3回測定の平均値を示す。
(2)押し込み硬度
実施例および比較例で得られた粘着シートの粘着剤層表面(発泡剤が存在しない箇所)に、ダイヤモンド製のBerkovich型(三角錐型)探針を垂直に押し当てることで得られる変位-荷重ヒステリシス曲線を、測定装置付帯のソフトウェア(triboscan)で数値処理して、押し込み硬度Hを測定した。押し込み硬度Hは、ナノインデンター(Hysitron Inc社製Triboindenter TI-950)を用いて、25℃における単一押し込み法により、押し込み速度約500nm/sec、押し込み深さ約3000nmの測定条件で、測定した。
(3)サファイア研削性
実施例および比較例で得られた粘着シートの粘着剤層上に厚み900μm、4インチサイズのサファイアウエハを配置した後、これらを予め90℃に予熱しておいたヒートプレス機で、1.0MPaの圧力で5分間圧着した。サファイアウエハが固定された粘着シートを株式会社ディスコ製のグラインダー装置DFG8540にセットし、ウエハ厚みが120μmとなるまで研削した。研削性は以下の基準に基づいて評価した。
〇:ウエハ厚みが120μmとなるまで裏面研削が可能。
×:ウエハ厚みが120μmになる前にウエハが割れる、もしくはウエハ端部が欠ける。(裏面研削が不可能)
(4)剥離性
実施例および比較例で得られた粘着シートを30mm×30mmにカットし、30mm×30mmサイズのガラス板に粘着剤層表面を貼り付けた後、粘着剤層とは反対側の面にも30mm×30mmサイズのガラス板を配置し、予め90℃に予熱していたヒートプレス機で0.3MPaの圧力で1分間圧着して、サンプルを作製した。作製したサンプルを、粘着剤層に含有される熱膨張性微小球の発泡開始温度より30℃高い温度に予め予熱していたホットプレート上に置き、5分間加熱した時の加熱剥離性を確認した。剥離性は以下の基準に基づいて評価した。なお、別の粘着剤層を備えない粘着シートについては、粘着剤層とは反対側の面とガラス板との固定は、日東電工株式会社製の両面テープNo.585を用いた。
〇:加熱後に粘着剤層側のガラス板が分離可能。
×:加熱後も粘着剤層側のガラス板が分離不可能。
マレイン酸変性スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共重合体(a)(SEBS:スチレン部位/エチレン・ブチレン部位(重量比)=30/70、酸価:10(mg-CH3ONa/g)、旭化成ケミカルズ社製、商品名「タフテックM1913」)100重量部と、テルペンフェノール系粘着付与樹脂(ヤスハラケミカルズ社製、商品名「YSポリスターT80」)25重量部と、エポキシ系架橋剤(三菱ガス化学社製、商品名「TETRAD-C」)3重量部と、熱膨張性微小球(松本油脂製薬社製、商品名「マツモトマイクロスフェアーF-50D」、発泡開始温度120℃、平均粒子径14μm)30重量部と、リン酸エステル系界面活性剤(東邦化学工業社製、商品名「フォスファノールRL210」、分子量422.57、化学式:C22H47O5P、アルキル基の炭素数:18)3重量部と、溶媒としてのトルエンとを混合して、樹脂組成物(I)(混合物)を調製した。この樹脂組成物(I)を、セパレータ上に、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、乾燥して粘着剤層を形成した。さらに、セパレータ上の粘着剤層と、別のセパレータを貼り合わせて、セパレータ/粘着剤層/セパレータの層構成を有する粘着シートを作製した。
得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表1に示す。
粘着付与樹脂および熱膨張性微小球の添加量を表1に示す量としたこと以外は、実施例1と同様にして、粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表1に示す。
マレイン酸変性スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共重合体(a)に代えて、スチレン部位/エチレン・ブチレン部位(重量比)が20/80のマレイン酸変性スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共重合体(b)(酸価:10(mg-CH3ONa/g)、旭化成ケミカルズ社製社製、商品名「タフテックM1943」)を用いたこと、粘着付与樹脂および熱膨張性微小球の添加量を表1に示す量としたこと以外は、実施例1と同様にして、粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表1に示す。
マレイン酸変性スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共重合体(a)に代えて、スチレン部位/エチレン・ブチレン部位(重量比)が70/30のスチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共重合体(c)(未酸変性品、旭化成ケミカルズ社製、商品名「タフテックH1043」)を用いたこと、粘着付与樹脂および熱膨張性微小球の添加量を表1に示す量としたこと以外は、実施例1と同様にして、粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表1に示す。
マレイン酸変性スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共重合体(a)(SEBS:スチレン部位/エチレン・ブチレン部位(重量比)=30/70、酸価:10(mg-CH3ONa/g)、旭化成ケミカルズ社製、商品名「タフテックM1913」)100重量部と、テルペンフェノール系粘着付与樹脂(ヤスハラケミカルズ社製、商品名「YSポリスターT80」)50重量部と、エポキシ系架橋剤(三菱ガス化学社製、商品名「TETRAD-C」)3重量部と、熱膨張性微小球(松本油脂製薬社製、商品名「マツモトマイクロスフェアーF-50D」、発泡開始温度120℃、平均粒子径14μm)50重量部と、リン酸エステル系界面活性剤(東邦化学工業社製、商品名「フォスファノールRL210」、分子量422.57、アルキル基の炭素数:18)3重量部と、溶媒としてのトルエンとを混合して、樹脂組成物(II)(混合物)を調製した。
PET基材(厚さ:50μm)の一方の面に、樹脂組成物(II)を、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、乾燥して粘着剤層を形成した。さらに、粘着剤層上にセパレータを貼り合わせた。
次いで、アクリル系樹脂(アクリル酸ブチル-アクリル酸共重合体、アクリル酸ブチル:アクリル酸(重量比)=100:5)100重量部と、ウレタン系架橋剤(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートL」)1重量部と、溶媒としてのトルエンとを混合して、樹脂組成物(A)を調製した。この樹脂組成物(A)を、上記PET基材のもう一方の面に、乾燥後の厚さが10μmとなるように塗布し、乾燥して別の粘着剤層を形成した。さらに、当該別の粘着剤層上にセパレータを貼り合わせた。
上記のようにして、セパレータ/粘着剤層/基材/別の粘着剤層/セパレータの層構成を有する粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表1に示す。
PET基材(厚さ:50μm)の一方の面に、実施例8で調製した樹脂組成物(II)を、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、乾燥して粘着剤層を形成した。さらに、粘着剤層上にセパレータを貼り合わせた。
次いで、基材のもう一方の面にも、実施例8で調製した樹脂組成物(II)を、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、乾燥して粘着剤層を形成した。さらに、粘着剤層上にセパレータを貼り合わせた。
上記のようにして、セパレータ/粘着剤層/基材/別の粘着剤層/セパレータの層構成を有する粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表1に示す。
PET基材(厚さ:50μm)の一方の面に、実施例8で調製した樹脂組成物(II)を、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、乾燥して粘着剤層を形成した。さらに、粘着剤層上にセパレータを貼り合わせた。
次いで、マレイン酸変性スチレン・エチレン・ブチレン・スチレンブロック共重合体(a)(SEBS:スチレン部位/エチレン・ブチレン部位(重量比)=30/70、酸価:10(mg-CH3ONa/g)、旭化成ケミカルズ社製、商品名「タフテックM1913」)100重量部と、テルペンフェノール系粘着付与樹脂(ヤスハラケミカルズ社製、商品名「YSポリスターT80」)50重量部と、エポキシ系架橋剤(三菱ガス化学社製、商品名「TETRAD-C」)3重量部と、リン酸エステル系界面活性剤(東邦化学工業社製、商品名「フォスファノールRL210」、分子量422.57、アルキル基の炭素数:18)3重量部と、溶媒としてのトルエンとを混合して、樹脂組成物(II’)(混合物)を調製した。
この樹脂組成物(II’)を、上記PET基材のもう一方の面に、乾燥後の厚さが10μmとなるように塗布し、乾燥して別の粘着剤層を形成した。さらに、当該別の粘着剤層上にセパレータを貼り合わせた。
上記のようにして、セパレータ/粘着剤層/基材/別の粘着剤層/セパレータの層構成を有する粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表1に示す。
粘着付与樹脂および熱膨張性微小球の添加量を表1に示す量としたこと、表1に示す界面活性剤を表1に示す添加量で用いたこと以外は、実施例1と同様にして、粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表2に示す。なお、実施例11~19で用いた界面活性剤は、以下のとおりである。
実施例11:脂肪酸エステル系界面活性剤;花王社製、商品名「エキセパールIPP」、化学式:C19H38O2、アルキル基の炭素数:16、分子量:298.50
実施例12:脂肪酸アミド系界面活性剤;東京化成工業社製、ステアリン酸アミド、化学式:C18H37NO、アルキル基の炭素数:18、分子量:283.49
実施例13:脂肪酸アミド系界面活性剤;東京化成工業社製、ラウリル酸アミド、化学式:C12H25NO、アルキル基の炭素数:12、分子量:199.33
実施例14:脂肪酸アミノアルキルアミド系界面活性剤;東邦化学工業社製、商品名「カチナールMAPS」、化学式:C23H38N2O、アルキル基の炭素数:18、分子量:358.56
実施例15:塩化トリメチルアンモニウム系界面活性剤;東邦化学工業社製、商品名「カチナールSTC-70ET」、化学式:C21H46ClN、アルキル基の炭素数:16、分子量:348.04
実施例16:塩化ジメチルベンジルアンモニウム系界面活性剤;三洋化成社製、商品名「カチオンS」、化学式:C26H48ClN、アルキル基の炭素数:18、分子量:410.11
実施例17:コハク酸無水物系界面活性剤;三洋化成工業社製、商品名「DSA」、化学式:C16H26O3、アルキル基の炭素数:12、分子量:266.37
実施例18:コハク酸無水物系界面活性剤;三洋化成工業社製、商品名「PDSA-DA」、化学式:C19H32O3、アルキル基の炭素数:15、分子量:308.45
実施例19:スルホコハク酸ナトリウム系界面活性剤;三洋化成工業社製、商品名「サンセパラ100」、化学式:C20H27O7SNa、アルキル基の炭素数:6、分子量:434.48
エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂(三菱化学社製、商品名「EV-40W」)100重量部と、熱膨張性微小球(松本油脂製薬社製、商品名「マツモトマイクロスフェアーF-50D」、発泡開始温度120℃、平均粒子径14μm)50重量部と、溶媒としてのトルエンとを混合して、樹脂組成物C1(混合物)を調製した。この樹脂組成物C1を、セパレータ上に、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、乾燥して粘着剤層を形成した。さらに、セパレータ上の粘着剤層と、別のセパレータを貼り合わせて。セパレータ/粘着剤層/セパレータの層構成を有する粘着シートを作製した。
得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表3に示す。
エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂(三菱化学社製、商品名「EV-40W」)に代えて、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂(三菱化学社製、商品名「EV-150」)を用いたこと以外は、比較例1と同様にして粘着シートを得た。得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表3に示す。
アクリル系樹脂(アクリル酸ブチル-アクリル酸共重合体、アクリル酸ブチル:アクリル酸(重量比)=100:5)100重量部と、ウレタン系架橋剤(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートL」)1重量部と、熱膨張性微小球(松本油脂製薬社製、商品名「マツモトマイクロスフェアーF-50D」、発泡開始温度120℃、平均粒子径14μm)30重量部と、溶媒としてのトルエンとを混合して、樹脂組成物C2を調製した。この樹脂組成物C2を、セパレータ上に、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、乾燥して粘着剤層を形成した。さらに、セパレータ上の粘着剤層と、別のセパレータを貼り合わせて、セパレータ/粘着剤層/セパレータの層構成を有する粘着シートを作製した。
得られた粘着シートを上記評価(1)~(4)に供した。結果を表3に示す。
20 基材
30 別の粘着剤層
100,200、300 粘着シート
Claims (14)
- 粘着剤層を備える、粘着シートであって、
該粘着剤層が、ベースポリマーおよび粘着付与樹脂を含む粘着剤と、発泡温度が90℃以上である熱膨張性微小球とを含み、
該粘着シートの粘着面をシリコンチップに貼着した場合のせん断接着強度が、25℃の環境温度下において、1.0MPa以上であり、かつ、80℃の環境温度下において、0.2MPa以上である、
粘着シート。 - 前記粘着剤層の25℃における押し込み硬度Hが、10MPa~1GPaである、請求項1に記載の粘着シート。
- 前記粘着剤に含まれるベースポリマーが、熱可塑性エラストマーである、請求項1または2に記載の粘着シート。
- 前記熱可塑性エラストマーが、スチレン系エラストマーである、請求項3に記載の粘着シート。
- 前記粘着付与樹脂の含有量が、前記ベースポリマー100重量部に対して、20重量部~350重量部である、請求項1から4のいずれかに記載の粘着シート。
- 前記粘着剤が、界面活性剤をさらに含む、請求項1から5のいずれかに記載の粘着シート。
- 前記界面活性剤の含有量が、前記ベースポリマー100重量部に対して、0.001重量部~15重量部である、請求項6に記載の粘着シート。
- 前記熱膨張性微小球の含有量が、前記ベースポリマー100重量部に対して、20重量部~210重量部である、請求項1から7のいずれかに記載の粘着シート。
- 前記粘着剤層の少なくとも片側に配置された基材をさらに備える、請求項1から8のいずれかに記載の粘着シート。
- 前記粘着剤層の少なくとも片側に配置された別の粘着剤層をさらに備える、請求項1から9のいずれかに記載の粘着シート。
- 前記基材が、前記粘着剤層と、前記別の粘着剤層との間に配置されている、請求項9を引用する請求項10に記載の粘着シート。
- 半導体製造工程における基板加工時の仮固定材として用いられる、請求項1から11のいずれかに記載の粘着シート。
- 粘着剤層を備える粘着シートの該粘着剤層上に基板を載置し、固定した後、該基板の粘着剤層側とは反対側の面を研削することを含み、
該粘着剤層が、ベースポリマーおよび粘着付与樹脂を含む粘着剤と、発泡温度が90℃以上である熱膨張性微小球とを含み、
該粘着シートの粘着面をシリコンチップに貼着した場合のせん断接着強度が、25℃の環境温度下において、1.0MPa以上であり、かつ、80℃の環境温度下において、0.2MPa以上である、
基板の研削方法。 - 粘着剤層を備える粘着シートの該粘着剤層上に基板を載置し、固定した後、該基板の粘着剤層側とは反対側の面を研削する研削工程を含み、
該粘着剤層が、ベースポリマーおよび粘着付与樹脂を含む粘着剤と、発泡温度が90℃以上である熱膨張性微小球とを含み、
該粘着シートの粘着面をシリコンチップに貼着した場合のせん断接着強度が、25℃の環境温度下において、1.0MPa以上であり、かつ、80℃の環境温度下において、0.2MPa以上である、
チップの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023017336A JP7490838B2 (ja) | 2023-02-08 | 粘着シート |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018166993A JP7224818B2 (ja) | 2018-09-06 | 2018-09-06 | 粘着シート |
JP2023017336A JP7490838B2 (ja) | 2023-02-08 | 粘着シート |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018166993A Division JP7224818B2 (ja) | 2018-09-06 | 2018-09-06 | 粘着シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023054029A true JP2023054029A (ja) | 2023-04-13 |
JP7490838B2 JP7490838B2 (ja) | 2024-05-27 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI732286B (zh) | 2021-07-01 |
WO2020049985A1 (ja) | 2020-03-12 |
TWI751960B (zh) | 2022-01-01 |
JP2020041007A (ja) | 2020-03-19 |
CN112639040A (zh) | 2021-04-09 |
JP7224818B2 (ja) | 2023-02-20 |
TW202138520A (zh) | 2021-10-16 |
US20210309889A1 (en) | 2021-10-07 |
TW202020082A (zh) | 2020-06-01 |
TWI751961B (zh) | 2022-01-01 |
CN112639040B (zh) | 2022-09-09 |
TWI766743B (zh) | 2022-06-01 |
TW202138519A (zh) | 2021-10-16 |
TW202138518A (zh) | 2021-10-16 |
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