JP2023050160A - Biaxially-oriented polyarylene sulfide film - Google Patents

Biaxially-oriented polyarylene sulfide film Download PDF

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茂俊 前川
Shigetoshi Maekawa
拓海 曽我部
Takumi Sokabe
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Abstract

To provide a polyarylene sulfide film having excellent transparency.SOLUTION: A biaxially-oriented polyarylene sulfide film is primarily composed of polyarylene sulfide (PAS), and has a crystal size of 90Å or less, obtained by applying the Scherrer equation to a half peak width of the (200) diffraction peak of polyarylene sulfide crystal determined by X-ray diffraction.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムに関する。 The present invention relates to biaxially oriented polyarylene sulfide films.

近年、透明性が必要な回路基板材料には、ガラスの検討が進められている。しかし、ガラス基材は、割れやすい、重い、薄型化困難などの欠点があり、また、車のフロントガラスや屋内外での曲面に接する部分へのフレキシブル化に関して十分な材質を有していなかった。 In recent years, glass has been studied as a circuit board material that requires transparency. However, glass substrates have drawbacks such as being fragile, heavy, and difficult to make thin. In addition, they do not have sufficient materials for flexible applications such as car windshields and parts that come into contact with curved surfaces indoors and outdoors. .

ポリアリーレンスルフィドは優れた耐熱性、難燃性、剛性、耐薬品性、電気絶縁性および低吸湿性などの性質を有しており、特に電気・電子機器、機械部品および自動車部品などに好適に使用されている。電気、電子部品分野において高速・大容量化の流れから、伝送損失の小さい材料が求められており、ポリフェニレンサルファイド(以下、PPSと略称することがある。)に代表されるポリアリーレンスルフィドフィルムは、その伝送損失性や低吸湿性の高さを活かし、回路材料への適用が進められている。しかしながら、PPSフィルムはヘイズに示される透明性が低いため、例えば、透明回路基板として用いた場合、PPSフィルムによって透明性による視認性の悪化が生じやすく、回路基板として使用されるフィルム厚さでの透明性の向上が望まれている。 Polyarylene sulfide has properties such as excellent heat resistance, flame resistance, rigidity, chemical resistance, electrical insulation, and low moisture absorption, making it particularly suitable for electrical and electronic equipment, mechanical parts, and automobile parts. It is used. In the field of electrical and electronic parts, materials with low transmission loss are in demand due to the trend toward higher speed and larger capacity. Taking advantage of its high transmission loss and low hygroscopicity, it is being applied to circuit materials. However, since PPS films have low transparency in terms of haze, for example, when used as a transparent circuit board, visibility tends to deteriorate due to the transparency of the PPS film. Improvements in transparency are desired.

これまで、PPSフィルムにおいては、透明性と滑り性を向上させたものとして、PPSフィルムにラビング処理を施す技術が開示されている(特許文献1)。また、粒子径と分散性を制御した酸化亜鉛粒子を含有させることで透明性と滑り性を向上させた技実が開示されている。(特許文献2)
一方、ポリフェニレンサルファイドを使用したシートの結晶サイズを大きくなるように制御し熱的特性、機械的特性を改善する技術が開示されている(特許文献3)
In the past, a technique for subjecting a PPS film to a rubbing treatment has been disclosed as a method for improving the transparency and slipperiness of the PPS film (Patent Document 1). In addition, a technique is disclosed in which zinc oxide particles whose particle size and dispersibility are controlled are included to improve transparency and slipperiness. (Patent document 2)
On the other hand, a technique has been disclosed in which the crystal size of a sheet using polyphenylene sulfide is controlled to be large to improve the thermal and mechanical properties (Patent Document 3).

特開2013-67748号公報JP 2013-67748 A 特開平5-320380号公報JP-A-5-320380 特開平7-205373号公報JP-A-7-205373

しかしながら、特許文献1や特許文献2に記載されている技術は、厚さ25μmでの透明性を向上する技術が開示されているものの回路基板用フィルムとして求められている厚さ30μm以上でのヘイズに示される透明性向上には不十分であるという課題があった。また、特許文献2に記載されている技術は、フィルム用途に適用した場合、透明性が十分ではないという課題があった。 However, although the techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose techniques for improving transparency at a thickness of 25 μm, haze at a thickness of 30 μm or more, which is required for a film for circuit boards. There was a problem that it was insufficient to improve the transparency shown in . In addition, the technology described in Patent Document 2 has a problem of insufficient transparency when applied to film applications.

また、特許文献3に記載されている技術は、ガラス繊維物にPPSを含侵させたシートの結晶サイズを制御する技術であり、延伸により二軸配向されたフィルム中の配向制御された分子鎖の結晶サイズを制御できないという課題があった。 Further, the technique described in Patent Document 3 is a technique for controlling the crystal size of a sheet obtained by impregnating a glass fiber material with PPS. There was a problem that the crystal size of was not controllable.

本発明の課題は、上記した問題点を解決することにある。すなわち、透明性に優れた二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above problems. That is, the object is to provide a biaxially oriented polyarylene sulfide film having excellent transparency.

本発明者らは上記課題を解決すべく検討した結果、二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム中の結晶サイズを小さくすることにより透明性を向上させうることを見いだし、厚さが厚くても高い透明性の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを提供するものである。
本発明の好ましい一態様は以下の通りである。
(1)ポリアリーレンスルフィド(PAS)を主たる構成成分とし、X線回折法により求めるポリアリーレンスルフィド結晶の(200)回折ピークの半価幅にSchllerの式を適用して得られる結晶サイズが90Å以下である二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。
(2)厚さが30μm以上である(1)に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。
(3)少なくとも一方のフィルム表面の光沢度が200%以上である(1)または(2)のいずれかに記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。
(4)少なくとも一方のフィルム表面の光沢度が200%以上である(1)~(3)のいずれかに記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。
(5)ヘイズが10%以下である(1)~(4)に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。
(6)ポリアリーレンスルフィドを主たる構成成分とする層を2層以上有し、少なくとも一方の最外層がポリアリーレンスルフィドを主成分としポリアリーレンスルフィドとは異なる他の熱可塑性樹脂を少なくとも1種以上含む層(A層)を有する(1)~(5)のいずれかに記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。
(7)前記A層がポリアリーレンスルフィドに非相溶な分散体を含み、A層の厚み比率がフィルム全体厚みに対して0.1%以上10%以下である(1)~(6)のいずれかに記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。
(8)(1)~(7)のいずれかに記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを用いた透明回路基材。
(9)(1)~(7)のいずれかに記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを用いた透明アンテナ基材。
(10)(1)~(7)に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを用いてなる絶縁フィルム。
(11)(1)~(7)に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの少なくとも片面に金属膜を有する、金属膜積層フィルム
(12)(11)に記載の金属積層フィルムを用いてなる、フィルムコンデンサ。
(13)(12)に記載のフィルムコンデンサを有する、パワーコントロールユニット。
(14)(13)に記載のパワーコントロールユニットを有する、電動自動車。
(15)(13)に記載のパワーコントロールユニットを有する、電動航空機。
As a result of studies to solve the above problems, the present inventors found that the transparency can be improved by reducing the crystal size in the biaxially oriented polyarylene sulfide film. provides a biaxially oriented polyarylene sulfide film.
A preferable aspect of the present invention is as follows.
(1) Polyarylene sulfide (PAS) is the main component, and the crystal size obtained by applying Schller's formula to the half width of the (200) diffraction peak of polyarylene sulfide crystals determined by X-ray diffraction is 90 Å or less. A biaxially oriented polyarylene sulfide film.
(2) The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to (1), which has a thickness of 30 μm or more.
(3) The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to (1) or (2), wherein at least one film surface has a glossiness of 200% or more.
(4) The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to any one of (1) to (3), wherein at least one film surface has a glossiness of 200% or more.
(5) The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to (1) to (4), which has a haze of 10% or less.
(6) It has two or more layers containing polyarylene sulfide as a main component, and at least one of the outermost layers contains polyarylene sulfide as a main component and at least one other thermoplastic resin different from polyarylene sulfide. The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to any one of (1) to (5), which has a layer (A layer).
(7) of (1) to (6), wherein the layer A contains a dispersion incompatible with polyarylene sulfide, and the thickness ratio of the layer A is 0.1% or more and 10% or less of the total thickness of the film; A biaxially oriented polyarylene sulfide film according to any one.
(8) A transparent circuit substrate using the biaxially oriented polyarylene sulfide film according to any one of (1) to (7).
(9) A transparent antenna substrate using the biaxially oriented polyarylene sulfide film according to any one of (1) to (7).
(10) An insulating film using the biaxially oriented polyarylene sulfide film described in (1) to (7).
(11) Metal film laminated film having a metal film on at least one side of the biaxially oriented polyarylene sulfide film described in (1) to (7) (12) Using the metal laminated film described in (11), Film capacitor.
(13) A power control unit having the film capacitor according to (12).
(14) An electric vehicle having the power control unit according to (13).
(15) An electric aircraft having the power control unit according to (13).

本発明のポリアリーレンスルフィドフィルムは、透明性に優れ、表面品位に優れる。そのため、かかる特性を活かして、自動車用部材、電池用部材、ディスプレイ用部材、工業用包材、意匠用材料、電気・電子材料、電気絶縁材料の特に透明性を必要とする各種部品、例えば透明回路基板、透明アンテナ基板、高周波用透明回路基板、高周波用透明アンテナ基板、また表面品位を必要とするコンデンサ材料をはじめとした絶縁フィルムとして好適に用いることができる。 The polyarylene sulfide film of the present invention is excellent in transparency and surface quality. Therefore, by making use of such characteristics, various parts requiring transparency, such as automobile members, battery members, display members, industrial packaging materials, design materials, electrical/electronic materials, and electrical insulating materials, can be used. It can be suitably used as an insulating film including a circuit board, a transparent antenna substrate, a high frequency transparent circuit substrate, a high frequency transparent antenna substrate, and a capacitor material that requires surface quality.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、ポリアリーレンスルフィド(以下、PAS)系樹脂を主たる構成成分とする樹脂組成物からなる。 The biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention comprises a resin composition containing a polyarylene sulfide (hereinafter referred to as PAS) resin as a main component.

本発明において、PAS系樹脂を主たる構成成分とするとは、PAS系樹脂を50質量%以上含むことをいう。60質量%以上含むことが好ましく、70質量%以上含むことがより好ましい。PAS系樹脂の含有量が50質量%未満では、PASフィルムの特徴である、耐熱性、寸法安定性、機械的特性を損なう場合がある。 In the present invention, containing a PAS-based resin as a main constituent means that the PAS-based resin is contained in an amount of 50% by mass or more. It preferably contains 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. If the content of the PAS-based resin is less than 50% by mass, the heat resistance, dimensional stability and mechanical properties characteristic of the PAS film may be impaired.

本発明で用いるPAS系樹脂とは、-(Ar-S)-の繰り返し単位を有するホモポリマーあるいはコポリマーである。Arとしては下記の式(A)~式(K)などであらわされる単位などがあげられる。 The PAS-based resin used in the present invention is a homopolymer or copolymer having -(Ar-S)- repeating units. Examples of Ar include units represented by the following formulas (A) to (K).

Figure 2023050160000001
Figure 2023050160000001

(R1,R2は、水素、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基から選ばれた置換基であり、R1とR2は同一でも異なっていてもよい)
繰り返し単位としては、上記の式の中でもp-アリーレンスルフィド単位が好ましく、これらの代表的なものとして、ポリフェニレンスルフィド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンスルフィドスルホン、ポリフェニレンスルフィドケトンなどが挙げられ、特に好ましいp-アリーレンスルフィド単位としては、フィルム物性と経済性の観点から、p-フェニレンスルフィド単位が好ましく例示される。
(R1 and R2 are substituents selected from hydrogen, an alkyl group, an alkoxy group and a halogen group, and R1 and R2 may be the same or different)
Among the above formulas, the repeating unit is preferably a p-arylene sulfide unit, and representative examples thereof include polyphenylene sulfide, polysulfone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide sulfone, polyphenylene sulfide ketone, etc., and are particularly preferred. As the p-arylene sulfide unit, a p-phenylene sulfide unit is preferably exemplified from the viewpoint of film properties and economy.

本発明に用いるポリアリーレンスルフィド樹脂は、主要構成単位として下記構造式で示されるp-アリーレンスルフィド単位を全繰り返し単位の97モル%以上で構成されていることが好ましい。好ましくは、98モル%以上である。かかる主成分を97モル%以上とすることで、結晶性やガラス転移温度などが高くなり、優れた耐熱性、電気特性、耐薬品性を発言せしめることができる。 The polyarylene sulfide resin used in the present invention preferably comprises p-arylene sulfide units represented by the following structural formula as main structural units in 97 mol % or more of all repeating units. Preferably, it is 98 mol % or more. When the main component is 97 mol % or more, crystallinity, glass transition temperature, etc. are increased, and excellent heat resistance, electrical properties, and chemical resistance can be achieved.

Figure 2023050160000002
Figure 2023050160000002

また、繰り返し単位の3モル%未満に共重合可能なスルフィド結合を含有する単位が含まれていてもよい。このような繰り返し単位としては、例えば、3官能単位、エーテル単位、スルホン単位、ケトン単位、メタ結合単位、アルキル基等の置換基を有するアリール単位、ビフェニル単位、ターフェニレン単位、ビニレン単位、カーボネート単位などがあげられ、このうち1つまたは2つ以上共存させて構成することができる。この場合、該構成単位は、ランダム共重合、ブロック共重合のいずれの形態でもよい。 Moreover, a unit containing a copolymerizable sulfide bond may be contained in less than 3 mol % of the repeating units. Examples of such repeating units include trifunctional units, ether units, sulfone units, ketone units, meta-bond units, aryl units having substituents such as alkyl groups, biphenyl units, terphenylene units, vinylene units, and carbonate units. etc., and one or more of them can coexist. In this case, the constitutional unit may be in the form of random copolymerization or block copolymerization.

ポリアリーレンスルフィド樹脂は既知の合成方法を用いることが出来、ポリフェニレンスルフィドの場合は後述する参考例1が例示できる。しかし、これに限定されるものではない。 Polyarylene sulfide resins can be prepared by known synthesis methods, and in the case of polyphenylene sulfide, reference example 1 described later can be exemplified. However, it is not limited to this.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを構成するPAS系樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲において、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤やブロッキング防止剤などの各種添加剤を含有させてもよい。 To the PAS-based resin composition constituting the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention, various additives such as antioxidants, heat stabilizers, antistatic agents and antiblocking agents are added to the extent that the effects of the present invention are not impaired. agents may be included.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、X線回折法により求めるポリアリーレンスルフィド結晶の(200)回折ピークの半価幅にSchllerの式を適用して得られる結晶サイズが90Å以下であることが必要である。好ましくは80Å以下であり、より好ましくは30Å以上70Å以下である。結晶サイズが90Å以下であることによって、結晶による光散乱が抑えられ、フィルム厚みが厚くてもヘイズが低く透明度の高い二軸延伸ポリアリーレンスルフィドフィルムを得ることが出来る。一方、結晶サイズを前述のサイズ以上とすることで耐熱性を向上させることができる。 In the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention, the crystal size obtained by applying Schller's formula to the half width of the (200) diffraction peak of the polyarylene sulfide crystal determined by X-ray diffraction is 90 Å or less. is necessary. It is preferably 80 Å or less, more preferably 30 Å or more and 70 Å or less. When the crystal size is 90 Å or less, light scattering due to crystals is suppressed, and a biaxially stretched polyarylene sulfide film with low haze and high transparency can be obtained even if the film thickness is large. On the other hand, the heat resistance can be improved by making the crystal size equal to or larger than the above size.

なお本発明でいう結晶サイズとは、X線回折法により求めたものであり具体的には、反射法で回折パターンを測定し、ポリアリーレンスルフィド結晶の(200)回折ピークの半価幅に、Schllerの式を適用して得られる見かけの結晶サイズを意味する。 The crystal size referred to in the present invention is determined by the X-ray diffraction method. Specifically, the diffraction pattern is measured by the reflection method, and the half width of the (200) diffraction peak of the polyarylene sulfide crystal is It means the apparent crystal size obtained by applying the Schller equation.

二軸延伸ポリアリーレンスルフィドフィルムの結晶サイズを制御する方法は特に限られるものでは無い。例えば、二軸延伸ポリアリーレンスルフィドフィルムの製造工程において、二軸方向に延伸した後に、(ポリアリーレンスルフィド樹脂の融点-10℃)以上(ポリアリーレンスルフィド樹脂の融点+10℃)以下の温度で長手方向および/または幅方向に1.01倍乃至1.80倍以下に延伸した後に同じ温度で熱処理を施す後高温延伸工程を経ることが好ましい方法として例示できる。延伸温度をポリアリーレンスルフィド樹脂の融点付近で行う事によって結晶が部分融解しながら変形し結晶サイズを小さくすることができる。 The method for controlling the crystal size of the biaxially stretched polyarylene sulfide film is not particularly limited. For example, in the process of producing a biaxially stretched polyarylene sulfide film, after stretching in the biaxial direction, the film is stretched in the longitudinal direction at a temperature of (the melting point of the polyarylene sulfide resin −10° C.) or higher (the melting point of the polyarylene sulfide resin +10° C.). And/or a preferred method is to stretch the film by 1.01 times to 1.80 times or less in the width direction, heat-treat the film at the same temperature, and then subject the film to a high-temperature stretching step. By drawing at a temperature near the melting point of the polyarylene sulfide resin, the crystals are partially melted and deformed to reduce the crystal size.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、二軸配向フィルムであることが必要である。ポリアリーレンスルフィドフィルムを二軸配向フィルムとすることで、機械強度、平面性を向上させ、厚みムラが減少させることが可能であり、自動車用部材、電池用部材、電気・電子材料の各種部品および工業用包材として使用する際には、二軸配向処理はフィルムの特性を向上させる観点で必要である。 The biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention must be a biaxially oriented film. By using a polyarylene sulfide film as a biaxially oriented film, it is possible to improve mechanical strength and flatness and reduce unevenness in thickness. When used as an industrial packaging material, the biaxial orientation treatment is necessary from the viewpoint of improving the properties of the film.

ここで本発明のポリアリーレンスルフィドフィルムが二軸配向フィルムであるとは、分子配向計(王子計測機器製、MOA-6015)を用いて測定される、ポリアリーレンスルフィドフィルムの共振の鋭さを示すパラメータ(Q値)の10回測定の平均値が4300以上であることをいう。 Here, the fact that the polyarylene sulfide film of the present invention is a biaxially oriented film is a parameter indicating the sharpness of resonance of the polyarylene sulfide film measured using a molecular orientation meter (manufactured by Oji Scientific Instruments, MOA-6015). It means that the average value of 10 measurements of (Q value) is 4300 or more.

二軸配向処理の方法としては後述の製造方法で例示する逐次二軸延伸法(長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行う方法などの一方向ずつの延伸を組み合わせた延伸法)、同時二軸延伸法(長手方向と幅方向を同時に延伸する方法)、又はそれらを組み合わせた方法を用いることが挙げられる。 The method of biaxial orientation treatment includes a sequential biaxial stretching method (a method of stretching in one direction at a time, such as a method of stretching in the longitudinal direction and then stretching in the width direction), which will be exemplified in the manufacturing method described later. An axial stretching method (a method of stretching in the longitudinal direction and the width direction at the same time) or a method combining them may be used.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの厚さは特に制限はないが、製膜性の観点からフィルム厚さが1μm以上であることが好ましい。本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドは使用される用途により適宜調整することが好ましいが、回路基材用としては30μm以上が好ましく、50μm以上がより好ましい。上限は特に規定されないが製膜性の観点から200μm以下が好ましい。 Although the thickness of the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention is not particularly limited, the film thickness is preferably 1 μm or more from the viewpoint of film-forming properties. The biaxially oriented polyarylene sulfide of the present invention is preferably adjusted appropriately depending on the application, but for circuit substrates, the thickness is preferably 30 μm or more, more preferably 50 μm or more. Although the upper limit is not particularly defined, it is preferably 200 μm or less from the viewpoint of film formability.

本発明でいう厚さとはフィルムの断面を走査型電子顕微鏡により観察し計測した値をいう。 The term "thickness" as used in the present invention refers to a value measured by observing the cross section of the film with a scanning electron microscope.

二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムをかかる厚さにする方法は特に限られるものでは無いが、例えばフィルムの製造工程において押出機から押し出す樹脂の量、製膜速度と延伸倍率を調整することによって得ることができる。 Although the method for making the biaxially oriented polyarylene sulfide film have such a thickness is not particularly limited, for example, it can be obtained by adjusting the amount of resin extruded from an extruder, the film forming speed and the draw ratio in the film production process. can be done.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、少なくとも一方のフィルム表面における光沢度が140%以上であることが好ましい。光沢度が上記範囲とすることで、表面で光学的に光を乱反射する表面凹凸が少なく、フィルム表面のキズや異物などが少ないことを示す。これより、回路やコンデンサとして使用するため金属層の蒸着、スパッタ、めっき法などによる金属層を形成した場合、表面の凹凸を生じにくく伝送特性に優れた回路や傷などによる絶縁不良を抑制したコンデンサを得ることができる。光沢度が140%未満であると、表面凹凸が多く回路材として使用した場合に透明性に劣る場合や表面のキズが多く欠陥が多く品位に劣る場合がある。光沢度の上限はないが、製膜性の観点から240%以下である。光沢度は、より好ましくは160%以上であり、さらに好ましくは180%以上であり、最も好ましくは200%以上である。光沢度は後述する手法で測定することができる。
光沢度を上記した好ましい範囲とする方法の好ましい態様としては、後述する製造方法の積層構成や延伸条件によりボイドを形成することなく表面凹凸制御することによって得ることできる。粒子および/または分散体を配合しない場合、ボイドを形成することはないが、表面の走行性に劣り、表面にキズや欠点が生じやすく表面光沢度が大きくならず表面品位に劣る場合がある。
The biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention preferably has a glossiness of 140% or more on at least one film surface. When the glossiness is within the above range, it means that there are few surface irregularities that optically diffusely reflect light on the surface, and there are few scratches and foreign matter on the film surface. As a result, when a metal layer is formed by vapor deposition, sputtering, plating, etc., for use as a circuit or capacitor, it is difficult to cause unevenness on the surface, and the capacitor has excellent transmission characteristics and a circuit that suppresses insulation failure due to scratches. can be obtained. If the glossiness is less than 140%, the surface may have many irregularities, and when used as a circuit material, the transparency may be poor, or the surface may be scratched and defective, resulting in poor quality. Although there is no upper limit for the glossiness, it is 240% or less from the viewpoint of film-forming properties. The glossiness is more preferably 160% or higher, still more preferably 180% or higher, and most preferably 200% or higher. Glossiness can be measured by the method described later.
As a preferred mode of the method of adjusting the glossiness to the preferred range described above, it can be obtained by controlling the surface unevenness without forming voids according to the lamination structure and stretching conditions of the production method described below. When particles and/or dispersions are not blended, voids are not formed, but surface running properties are poor, scratches and defects are likely to occur on the surface, and surface glossiness is not increased, resulting in poor surface quality.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムのヘイズは10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることが更に好ましい。二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムのヘイズを上記範囲とすることで、フィルム内部での光拡散を抑制し、光を効率よく透過・利用でき、該フィルムを使用した製品生産工程中での欠点検出や位置合わせが可能となったり、光学用フィルムとして利用が可能となったりする。ポリアリーレンスルフィドフィルムのヘイズが10%より大きいと、欠点検出性が不十分となり、上述するような光学用途で不具合が起こる場合がある。 The haze of the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, even more preferably 3% or less. By setting the haze of the biaxially oriented polyarylene sulfide film within the above range, light diffusion inside the film can be suppressed, light can be efficiently transmitted and used, and defects can be detected during the production process of products using the film. Alignment becomes possible, and utilization as an optical film becomes possible. When the haze of the polyarylene sulfide film is more than 10%, the defect detectability becomes insufficient, and problems may occur in optical applications as described above.

本発明でいうヘイズとはJIS-K7136(2000)に準拠し測定した値をいう。 The haze referred to in the present invention is a value measured according to JIS-K7136 (2000).

ヘイズを上記範囲とする方法としては、X線回折法により求めるポリアリーレンスルフィド結晶の(200)回折ピークの半価幅にSchllerの式を適用して得られる結晶サイズを90Å以下とすることが好ましく挙げられる。 As a method for adjusting the haze to the above range, it is preferable to set the crystal size obtained by applying Schller's formula to the half width of the (200) diffraction peak of the polyarylene sulfide crystal obtained by the X-ray diffraction method to be 90 Å or less. mentioned.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、PAS系樹脂を主たる構成成分とする層を2層以上有し、少なくとも一方の最外層がPAS系樹脂を主成分としPAS系樹脂とは異なる他の熱可塑性樹脂(X)を少なくとも1種以上含む層(A層)を有することが好ましい。2層以上の層を構成することで、主に最外層を用いて表面凹凸制御することが可能となり、表面の走行性を有するだけでなく、表面のキズを抑制することができ、透明性、色調、走行性、表面品位による絶縁不良抑制など複数の特性を併せ持つことができる。積層構成としては、PAS系樹脂を主たる構成成分とする層をB層とした場合に、A/B、A/B/A、A/B/A/B、A/B/A/B/Aなどの多層構成が挙げられる。本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、耐薬品性等の観点から、最表層がPAS系樹脂を主たる構成成分とする層であることが好ましい。また、同様の観点から、コーティング層を有しないことが好ましい。 The biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention has two or more layers containing a PAS-based resin as a main component, and at least one of the outermost layers contains a PAS-based resin as a main component and is different from the PAS-based resin. It is preferable to have a layer (A layer) containing at least one thermoplastic resin (X). By constructing two or more layers, it is possible to control surface unevenness mainly using the outermost layer, and not only has surface runnability, but also can suppress scratches on the surface, transparency, It can have multiple properties such as color tone, runnability, and suppression of insulation failure due to surface quality. As for the laminate structure, when the layer having a PAS-based resin as a main component is the B layer, A/B, A/B/A, A/B/A/B, A/B/A/B/A and the like. In the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention, from the viewpoint of chemical resistance and the like, the outermost layer is preferably a layer containing a PAS resin as a main component. Moreover, from the same point of view, it is preferable not to have a coating layer.

本発明において、透明性、色調、表面品位、走行性の観点からA/B/Aの3層構成がより好ましい。 In the present invention, a three-layer structure of A/B/A is more preferable from the viewpoint of transparency, color tone, surface quality, and runnability.

かかる構成とするためには、フィルムの製造工程においてPAS系を主たる成分とする樹脂とPAS系樹脂を主成分としPAS系樹脂とは異なる他の熱可塑性樹脂を含む樹脂の2種の樹脂原料を、別々の溶融押出装置に供給し、各樹脂の融点以上に加熱、溶融させた後に、溶融押出装置と口金出口の間に設けられた合流装置でPAS系樹脂を主たる成分とする層とPAS系樹脂を主成分としPAS系樹脂とは異なる他の熱可塑性樹脂を含む層が厚み方向に積層されるように合流せしめ、スリット上の口金出口から押出した未延伸シートを二軸に延伸することにより得ることが出来る。 In order to achieve such a structure, two types of resin raw materials, a resin containing a PAS-based resin as a main component and a resin containing a PAS-based resin as a main component and containing another thermoplastic resin different from the PAS-based resin, are used in the film manufacturing process. , Separate melt extruders are supplied, and after heating and melting above the melting point of each resin, a layer containing a PAS-based resin as a main component and a PAS-based Layers containing resin as the main component and other thermoplastic resin different from PAS resin are combined so as to be laminated in the thickness direction, and the unstretched sheet extruded from the nozzle outlet on the slit is biaxially stretched. can be obtained.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、前記A層において、前記PAS系樹脂とは異なる他の熱可塑性樹脂(X)がPAS系樹脂に非相溶であって、前記PAS系樹脂中に分散体として含むことが好ましい。PAS系樹脂を主たる構成成分とするA層中に、PAS系樹脂に非相溶な分散体を有することで、表面の凹凸を形成、制御でき透明性、走行性、品位に優れたフィルムを得ることができる。 In the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention, in the layer A, another thermoplastic resin (X) different from the PAS-based resin is incompatible with the PAS-based resin, and It is preferably included as a dispersion. By including a dispersion incompatible with the PAS-based resin in the layer A, the main component of which is the PAS-based resin, the unevenness of the surface can be formed and controlled to obtain a film with excellent transparency, runnability and quality. be able to.

本発明において、熱可塑性樹脂(X)がPAS系樹脂に非相溶であって、PAS系樹脂中に分散体として含むとは、PAS系樹脂と熱可塑性樹脂(X)が海島構造を形成し、PAS系樹脂が海成分、熱可塑性樹脂(X)が島成分を構成することをあらわす。 In the present invention, the thermoplastic resin (X) is incompatible with the PAS-based resin and contained as a dispersion in the PAS-based resin means that the PAS-based resin and the thermoplastic resin (X) form a sea-island structure. , that the PAS-based resin constitutes the sea component and the thermoplastic resin (X) constitutes the island component.

PAS系樹脂と非相溶な熱可塑性樹脂(X)としては、PAS系樹脂がポリフェニレンスルフィドの場合、ポリサルフォン、ポリフェニルサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルイミド、6ナイロン、46ナイロンなどが例示される。特にポリサルフォン、ポリフェニルサルフォン、ポリエーテルサルフォンがポリフェニレンスルフィド中で分散性が良く、フィルム製膜中の延伸時に界面にボイドが形成されないため透明性の観点から好ましく、分散体のサイズが小さくできることからポリエーテルサルフォンがより好ましい。 Examples of the thermoplastic resin (X) incompatible with the PAS-based resin include polysulfone, polyphenylsulfone, polyethersulfone, polyetherimide, nylon 6, and nylon 46 when the PAS-based resin is polyphenylene sulfide. be done. In particular, polysulfone, polyphenylsulfone, and polyethersulfone have good dispersibility in polyphenylene sulfide and do not form voids at the interface during stretching during film formation, which is preferable from the viewpoint of transparency, and the size of the dispersion can be reduced. polyether sulfone is more preferred.

また、分散体の形状は、特に限られるものでは無い。該フィルムの断面を透過型電子顕微鏡(TEM)観察や走査電子顕微鏡(SEM)観察などによりその形態を確認することができるが、円形、楕円形、紡錘形、不定形などを挙げることができる。 Moreover, the shape of the dispersion is not particularly limited. The cross-section of the film can be observed by a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM) to confirm its shape, and examples thereof include circular, elliptical, spindle-shaped, and irregular shapes.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、前記A層のPAS樹脂の含有量をWIと、PAS樹脂とは異なる熱可塑性樹脂(X)の含有量WIIの合計を100質量部とした場合に、熱可塑性樹脂(X)の含有量WIIが、0.01質量部以上3.0質量部以下であることが好ましい。走行性と透明性を両立するため、より好ましくは熱可塑性樹脂(X)の含有量WIIが、0.1質量部以上1.0質量部以下であり、さらに好ましくは、0.2質量部以上0.5質量部以下である。熱可塑性樹脂(X)の含有量を前述の上限以下とすることで、樹脂の屈折率差により透明性が悪化するのを抑制することができる。また、熱可塑性樹脂(X)の含有量WIIを前述の下限以上とすることで、フィルム時の走行性が悪くなりキズなどによる表面品位の低下を抑制することができる。 In the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention, when the total of the content of the PAS resin in the layer A and the content of the thermoplastic resin (X) different from the PAS resin is 100 parts by mass, , the content WII of the thermoplastic resin (X) is preferably 0.01 parts by mass or more and 3.0 parts by mass or less. In order to achieve both runnability and transparency, the content WII of the thermoplastic resin (X) is more preferably 0.1 parts by mass or more and 1.0 parts by mass or less, and still more preferably 0.2 parts by mass or more. It is 0.5 parts by mass or less. By making the content of the thermoplastic resin (X) equal to or less than the upper limit described above, it is possible to suppress the deterioration of transparency due to the difference in the refractive index of the resin. Further, by setting the content WII of the thermoplastic resin (X) to the above-mentioned lower limit or more, it is possible to suppress deterioration of the surface quality due to scratches due to deterioration of running properties when the film is formed.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、前記A層の厚み比率がフィルム全体厚みに対して0.1%以上10%以下であることが好ましい。A層の厚み比率が上記範囲とすることで、表面凹凸を緻密に形成しやすくすることができ、また、フィルム全体における分散体の量を低減できるため、透明性、色調表面品位が向上できるため好ましい。A層の厚み比率を前述の下限以上とすることで、表面凹凸の形成が小さくなり、表面が平滑となる結果、搬送時の摩擦が大きくなり、走行性、表面品位が低下するのを抑制できる。また、A層の厚み比率を前述の上限以下とすることで、表面凹凸を緻密に形成されるため、透明性に優れる。A層の厚み比率はより好ましくは0.5%以上5.0%以下であり、より好ましくは1.0%以上3.0%以下である。 In the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention, the thickness ratio of the layer A is preferably 0.1% or more and 10% or less with respect to the total thickness of the film. By setting the thickness ratio of the A layer within the above range, it is possible to make it easier to form surface irregularities densely, and it is possible to reduce the amount of the dispersion in the entire film, so that the transparency and color tone surface quality can be improved. preferable. By setting the thickness ratio of the layer A to the above lower limit or more, the formation of unevenness on the surface is reduced and the surface becomes smooth. . In addition, by setting the thickness ratio of the layer A to the above upper limit or less, the surface unevenness is formed densely, so that the transparency is excellent. The thickness ratio of the A layer is more preferably 0.5% or more and 5.0% or less, and more preferably 1.0% or more and 3.0% or less.

本発明においてA層の厚み比率は、フィルム切断面における走査型電子顕微鏡SEM画像よりA層の積層厚みとフィルム全体の厚みを計測し、比率を算出し求めることが出来る。A層が複数ある場合はその合計厚みをA層の厚みとしフィルム全体厚みとの比率を求めることによって得られた値とする。 In the present invention, the thickness ratio of the A layer can be obtained by measuring the lamination thickness of the A layer and the thickness of the entire film from a scanning electron microscope SEM image on the cut surface of the film, and calculating the ratio. When there are a plurality of A layers, the value obtained by determining the ratio of the total thickness of the A layers to the total thickness of the film.

A層の厚み比率は、フィルム製造工程においてA層とB層の樹脂を供給する押出機の吐出量比率を積層比率に合わせることによって制御することができる。 The thickness ratio of the A layer can be controlled by adjusting the discharge ratio of the extruder that supplies the resins of the A layer and the B layer in the film manufacturing process to the lamination ratio.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、透明性と色調に優れつつ、フィルム表面の走行性、品位にも優れることから、自動車用部材、電池用部材、電気・電子材料、電気絶縁材料として、特に透明性を必要とする各種部品および工業用包材、例えばフレキシブルプリント基板の下板保護材料、また、表面品位を必要とするコンデンサ材料をはじめとした絶縁フィルム、透明回路基板、透明アンテナ基材として好適に用いることができる。 The biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention is excellent in transparency and color tone, as well as in running property and quality of the film surface. , various parts and industrial packaging materials that require transparency, such as lower plate protection materials for flexible printed circuit boards, insulating films such as capacitor materials that require surface quality, transparent circuit boards, and transparent antenna substrates. It can be suitably used as a material.

また本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムは、耐候性や接着性の向上や、表面保護などを目的として、インラインまたはオフラインにて、両面または片面に、各種コーティング剤を塗布させてもよい。 The biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention may be coated with various coating agents on both sides or one side in-line or off-line for the purpose of improving weather resistance and adhesiveness and protecting the surface.

このようにして得られた二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムに導電膜を形成し回路基板を作製する。透明回路として使用する場合は、導電膜は透明または半透明な導電体であることが好ましく、例えば、Ag膜などの金属膜、ITO(酸化インジウム・スズ)膜などの金属酸化膜、導電性微粒子を含む樹脂膜を1種以上積層して作製されたものが挙げられる。また、導電膜として細線の導体をメッシュ状に形成する方法も透明性を向上させるために有効である。 A conductive film is formed on the biaxially oriented polyarylene sulfide film thus obtained to produce a circuit board. When used as a transparent circuit, the conductive film is preferably a transparent or translucent conductor. Examples include metal films such as Ag films, metal oxide films such as ITO (indium tin oxide) films, and conductive fine particles. A film produced by laminating one or more resin films containing A method of forming a thin wire conductor in a mesh form as a conductive film is also effective for improving the transparency.

導体の形成方法は周知の方法、例えば、スパッタリング、ペースト印刷などが挙げられるが特に限定されない。回路基板のパターニングは周知の方法、例えば、フォトリソグラフィによるエッチング、スクリーン印刷が挙げられる。さらに回路基板は必要に応じてドリル、レーザー、溶融貫通法などでスルーホールを形成し回路基板を得る。 A method for forming the conductor includes well-known methods such as sputtering and paste printing, but is not particularly limited. Patterning of the circuit board includes well-known methods such as photolithographic etching and screen printing. Furthermore, the circuit board is obtained by forming through holes by a drill, laser, fusion penetration method, or the like, if necessary.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを用いた回路基板は、透明性、色調に優れることから透明アンテナ基板として有用である。 A circuit board using the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention is useful as a transparent antenna substrate because of its excellent transparency and color tone.

本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを製造する方法についてポリアリーレンスルフィド系樹脂としてポリフェニレンスルフィド樹脂(以下PPS樹脂と略紀する場合がある)を用いた場合のフィルムの製造方法を例にとって説明するが、本発明は、この例に限定されない。 The method for producing the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention will be described by taking as an example a method for producing a film using a polyphenylene sulfide resin (hereinafter sometimes abbreviated as PPS resin) as the polyarylene sulfide resin. However, the invention is not limited to this example.

硫化ナトリウムとp-ジクロロベンゼンを配合し、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)などのアミド系極性溶媒中で、高温高圧下で反応させる。必要に応じて、m-ジクロロベンゼンやトリハロベンゼンなどの共重合成分を含ませることも可能である。重合度調整剤として苛性カリやカルボン酸アルカリ金属塩などを添加し230~290℃で重合反応させる。重合後にポリマーを冷却し、ポリマーを水スラリーとしてフィルターで濾過後、湿潤状態の粒状ポリマーを得る。この粒状ポリマーにアミド系極性溶媒を加えて30~100℃の温度で攪拌処理して洗浄し、イオン交換水にて30~80℃で数回洗浄し、酢酸カルシウムなどの金属塩水溶液で数回洗浄した後、乾燥してポリフェニレンスルフィドのポリマー粉末を得る。 Sodium sulfide and p-dichlorobenzene are blended and reacted at high temperature and high pressure in an amide-based polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP). Copolymerization components such as m-dichlorobenzene and trihalobenzene can be included as necessary. Caustic potash, carboxylic acid alkali metal salts, etc. are added as polymerization degree modifiers, and the polymerization reaction is carried out at 230 to 290°C. After the polymerization, the polymer is cooled, and the polymer is made into an aqueous slurry and filtered through a filter to obtain a wet granular polymer. Add an amide-based polar solvent to the granular polymer, stir and wash at a temperature of 30 to 100° C., wash several times with ion-exchanged water at 30 to 80° C., and wash several times with an aqueous solution of a metal salt such as calcium acetate. After washing, it is dried to obtain polyphenylene sulfide polymer powder.

本発明において、ポリマー粉末を洗浄する場合は、得られたポリマー粉末をNMPの溶媒中で、温度100~200℃、6~24時間の洗浄処理を施し、純水にて30~80℃で数回洗浄して、ポリマー粉末(洗浄済み)を得る。このポリマー粉末をベント付き押出機に投入してストランド状に溶融押出し、温度25℃の水で冷却した後、カッティングしてチップを作製しPPSチップとする。 In the present invention, when the polymer powder is washed, the obtained polymer powder is washed in an NMP solvent at a temperature of 100 to 200°C for 6 to 24 hours, and washed with pure water at 30 to 80°C for several hours. Wash twice to obtain polymer powder (washed). This polymer powder is put into a vented extruder, melt-extruded into strands, cooled with water at a temperature of 25° C., and cut into chips to obtain PPS chips.

ポリアリーレンスルフィド樹脂として上記で得られたポリマー粉末および/またはポリマー粉末(洗浄済み)と無機粒子および/または他の熱可塑性樹脂(X)などを任意の割合で混合しマスターバッチを作製する。マスターバッチ中の無機粒子および/または他の熱可塑性樹脂(X)の濃度は1質量%~25質量%が好ましく、5質量%~10質量%がより好ましい。25質量%より多いと分散性が悪化し分散径が大きくなる場合がある。1質量%未満だと希釈して使用時にマスターバッチの使用量が増える場合がありコストの観点から好ましくない場合がある。本発明においてマスターバッチを作製する方法は、二軸押出機などの剪断応力のかかる装置を用いてマスターバッチ化する方法などが好ましい。この場合、混練部では(PAS系樹脂の融点+5℃)以上(PAS系樹脂の融点+80℃)以下の樹脂温度範囲となる様に混練することが好ましく、より好ましくは(PAS系樹脂の融点+10℃)以上(PAS系樹脂の融点+80℃)以下であり、さらに好ましくは(PAS系樹脂の融点+15℃)以上(PAS系樹脂の融点+70℃)℃以下の温度範囲である。また、スクリュー回転数を100rpm以上1500rpm以下の範囲とすることが好ましい。樹脂温度やスクリュー回転数を好ましい範囲に設定することで、分散相の分散径をコントロールできる。 The polymer powder and/or the polymer powder (washed) obtained above as the polyarylene sulfide resin, inorganic particles and/or other thermoplastic resin (X) are mixed in an arbitrary ratio to prepare a masterbatch. The concentration of the inorganic particles and/or other thermoplastic resin (X) in the masterbatch is preferably 1% by mass to 25% by mass, more preferably 5% by mass to 10% by mass. If the amount is more than 25% by mass, the dispersibility may deteriorate and the dispersed diameter may become large. If it is less than 1% by mass, the amount of the masterbatch used may increase during use due to dilution, which may not be preferable from the viewpoint of cost. The method of producing the masterbatch in the present invention is preferably a method of forming a masterbatch using an apparatus such as a twin-screw extruder which is subjected to shear stress. In this case, in the kneading section, it is preferable to knead so that the resin temperature ranges from (melting point of PAS resin + 5 ° C.) to (melting point of PAS resin + 80 ° C.), more preferably (melting point of PAS resin + 10 °C) or more (melting point of PAS resin +80 °C), more preferably (melting point of PAS resin +15 °C) or more (melting point of PAS resin +70 °C) or less. Moreover, it is preferable to make screw rotation speed into the range of 100 rpm or more and 1500 rpm or less. The dispersed diameter of the dispersed phase can be controlled by setting the resin temperature and the screw rotation speed within preferable ranges.

必要に応じて180℃で3時間減圧乾燥したPPSチップとマスターバッチを所定の割合で混合した後、単層の場合は溶融部が300℃乃至350℃に設定されたフルフライトの単軸押出機に供給し、フィルターに通過させた後、続いてTダイ型口金から吐出させ、表面温度20℃乃至70℃の冷却ドラム上に静電荷を印加させながら密着させて急冷固化し、実質的に無配向状態の未延伸フィルムを得る。 After mixing the PPS chips dried under reduced pressure at 180°C for 3 hours and the masterbatch at a predetermined ratio, in the case of a single layer, a full-flight single-screw extruder with the melting zone set at 300°C to 350°C. After passing through a filter, it is then discharged from a T-die type nozzle and brought into close contact with a cooling drum with a surface temperature of 20 ° C. to 70 ° C. while applying an electrostatic charge to rapidly solidify and solidify. An unstretched film in an oriented state is obtained.

二層以上の積層フィルムとする場合は、上記PPSチップと、PPSチップとマスターバッチを所定の割合で混合したチップを、別々の単軸押出装置に供給し、各樹脂の融点以上に加熱する。加熱により溶融された各原料は、溶融押出装置と口金出口の間に設けられた合流装置に溶融状態で、(PPSを主たる成分とする層)/(PPSを主成分としPPSとは異なる他の熱可塑性樹脂を少なくとも1種以上含む層)の2層、あるいは(PPSを主成分としPPSとは異なる他の熱可塑性樹脂を少なくとも1種以上含む層)/(PPSを主たる成分とする層)/(PPSを主成分としPPSとは異なる他の熱可塑性樹脂を少なくとも1種以上含む層)の3層、に任意の積層比(例えば0.3:24.4:0.3や0.3:24.7)で積層され、スリット上の口金出口から押出される。このシート状物を表面温度20℃乃至70℃の冷却ドラム上に密着させて冷却固化し、実質的に無配向状態の2層積層未延伸フィルムあるいは3層積層未延伸フィルムを得る。 In the case of forming a laminated film having two or more layers, the PPS chips and chips obtained by mixing PPS chips and a masterbatch at a predetermined ratio are supplied to separate single-screw extruders and heated to the melting point of each resin or higher. Each raw material melted by heating is in a molten state in a merging device provided between the melt extruder and the mouthpiece outlet, and (a layer containing PPS as a main component) / (a layer containing PPS as a main component and other than PPS) Layer containing at least one thermoplastic resin), or (Layer containing PPS as the main component and at least one other thermoplastic resin different from PPS) / (Layer containing PPS as the main component) / (A layer containing PPS as a main component and at least one other thermoplastic resin different from PPS), and any lamination ratio (for example, 0.3:24.4:0.3 or 0.3: 24.7) and extruded from the spinneret outlet on the slit. This sheet-like material is brought into close contact with a cooling drum having a surface temperature of 20° C. to 70° C. and solidified by cooling to obtain a substantially non-oriented two-layer laminated unstretched film or three-layer laminated unstretched film.

また、押出機から押し出す樹脂の量、製膜速度と延伸倍率を調整することで所望の厚さを得ることができる。 A desired thickness can be obtained by adjusting the amount of resin extruded from the extruder, the film-forming speed, and the stretching ratio.

次いで上記で得られた未延伸フィルムを二軸延伸する。延伸方法としては、逐次二軸延伸法(長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行う方法などの一方向ずつの延伸を組み合わせた延伸法)、同時二軸延伸法(長手方向と幅方向を同時に延伸する方法)、又はそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ここでは、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸法を例示する。 The unstretched film obtained above is then biaxially stretched. Stretching methods include sequential biaxial stretching (stretching in one direction at a time, such as stretching in the longitudinal direction and then stretching in the width direction), simultaneous biaxial stretching (stretching in the longitudinal direction and the width direction). stretching at the same time), or a combination thereof. Here, a sequential biaxial stretching method is exemplified in which stretching is performed first in the longitudinal direction and then in the width direction.

未延伸フィルムを加熱ロール群で加熱し、長手方向(MD方向)に2.0倍~4.5倍、より好ましくは2.8倍~4.2倍に1段もしくは2段以上の多段で延伸する(MD延伸)。延伸温度は好ましくはTg~Tcc、より好ましくは(Tg+5℃)~(Tcc-10℃)の範囲である。その後20℃~50℃の冷却ロール群で冷却する。 An unstretched film is heated by a group of heating rolls, and is stretched in the longitudinal direction (MD direction) by 2.0 to 4.5 times, more preferably 2.8 to 4.2 times in one stage or two or more stages. Draw (MD draw). The stretching temperature is preferably in the range of Tg to Tcc, more preferably (Tg+5°C) to (Tcc-10°C). After that, it is cooled by a group of cooling rolls at 20°C to 50°C.

MD延伸に続く幅方向(TD方向)の延伸方法としては、例えば、テンターを用いる方法が一般的である。このフィルムの両端部をクリップで把持して、テンターに導き、幅方向の延伸を行う(TD延伸)。延伸温度はTg~Tccが好ましく、より好ましくは(Tg+5℃)~(Tcc-10℃)の範囲である。延伸倍率はフィルムの平面性の観点から3.0倍~5.0倍、好ましくは3.0倍~4.5倍が好ましい。 As a stretching method in the width direction (TD direction) following MD stretching, for example, a method using a tenter is common. Both ends of the film are gripped with clips, guided to a tenter, and stretched in the width direction (TD stretching). The stretching temperature is preferably from Tg to Tcc, more preferably from (Tg+5°C) to (Tcc-10°C). The draw ratio is preferably 3.0 to 5.0 times, preferably 3.0 to 4.5 times, from the viewpoint of flatness of the film.

次に、(ポリアリーレンスルフィド樹脂の融点-10℃)以上(ポリアリーレンスルフィド樹脂の融点+10℃)以下の温度で長手方向および/または幅方向に1.01倍乃至1.80倍以下に延伸した後に同じ温度で熱処理を施す後高温延伸工程を経ることが好ましい。より好ましい温度は(ポリアリーレンスルフィド樹脂の融点)以上(ポリアリーレンスルフィド樹脂の融点+5℃)以下であり、より好ましい倍率は幅方向に1.3倍~1.5倍である。本工程により結晶が部分融解しながら変形するため結晶サイズを所望の大きさまで小さく制御することができ、ヘイズを小さくすることが出来る。さらに、本工程では、樹脂の流動性が高い温度域で延伸を加えることによって、MD延伸およびTD延伸で形成された粒子および/または分散体の界面での微細なボイドを形成することなく延伸ができボイドによる表面凹凸が抑制されることで表面の凹凸がなだらかとなって表面光沢度を大きくすることが可能となる。
延伸倍率が1.01倍未満では十分な効果を得ることができず、1.8倍より大きいと延伸中に破れが生じることがある。また、熱処理中に長手および/または幅方向に弛緩処理を施してもよい。
Next, it was stretched 1.01 times to 1.80 times or less in the longitudinal direction and/or the width direction at a temperature of (melting point of polyarylene sulfide resin −10° C.) or higher (melting point of polyarylene sulfide resin +10° C.) or lower. It is preferable to pass through a high temperature drawing process after heat-treating at the same temperature later. A more preferable temperature is (melting point of polyarylene sulfide resin) or more and (melting point of polyarylene sulfide resin+5° C.) or less, and a more preferable magnification is 1.3 to 1.5 times in the width direction. Since the crystals are partially melted and deformed in this step, the crystal size can be controlled to a desired size, and the haze can be reduced. Furthermore, in this step, by applying stretching in a temperature range where the resin has high fluidity, stretching can be performed without forming fine voids at the interfaces of particles and/or dispersions formed by MD stretching and TD stretching. By suppressing the surface unevenness due to voids, the surface unevenness becomes gentle and the surface glossiness can be increased.
If the draw ratio is less than 1.01 times, a sufficient effect cannot be obtained, and if it exceeds 1.8 times, tearing may occur during drawing. Also, relaxation treatment may be performed in the longitudinal and/or width direction during the heat treatment.

次に、フィルムを室温まで、必要ならば、長手および/または幅方向に弛緩処理を施しながら、フィルムを冷やして巻き取り、二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得る。
続いて、本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを用いてなる金属膜積層フィルム、それを用いてなるフィルムコンデンサ、およびそれらの製造方法について説明する。
Next, the film is cooled to room temperature and, if necessary, subjected to relaxation treatment in the longitudinal and/or transverse direction, and wound up to obtain a biaxially oriented polyarylene sulfide film.
Next, a metal film laminated film using the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention, a film capacitor using the same, and production methods thereof will be described.

本発明の金属膜積層フィルムは、本発明の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの少なくとも片面に金属膜を有する。この金属膜積層フィルムは、上記の本発明に係る二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの少なくとも片面に金属膜を設けることで得ることができる。 The metal film laminated film of the present invention has a metal film on at least one side of the biaxially oriented polyarylene sulfide film of the present invention. This metal film laminated film can be obtained by providing a metal film on at least one side of the biaxially oriented polyarylene sulfide film according to the present invention.

本発明において、金属膜を付与する方法は特に限定されないが、例えば、二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの少なくとも片面に、アルミニウムまたは、アルミニウムと亜鉛との合金を蒸着してフィルムコンデンサの内部電極となる蒸着膜等の金属膜を設ける方法が好ましく用いられる。このとき、アルミニウムと同時あるいは逐次に、例えば、ニッケル、銅、金、銀、クロムなどの他の金属成分を蒸着することもできる。また、蒸着膜上にオイルなどで保護層を設けることもできる。二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの表面粗さが表裏で異なる場合には、粗さが平滑な表面側に金属膜を設けて金属膜積層フィルムとすることが耐電圧性を高める観点から好ましい。 In the present invention, the method of applying the metal film is not particularly limited, but for example, aluminum or an alloy of aluminum and zinc is deposited on at least one side of the biaxially oriented polyarylene sulfide film to form an internal electrode of the film capacitor. A method of providing a metal film such as a vapor deposition film is preferably used. At this time, other metal components such as nickel, copper, gold, silver, chromium, etc. can be vapor-deposited simultaneously or sequentially with aluminum. Also, a protective layer can be provided on the deposited film with oil or the like. When the surface roughness of the biaxially oriented polyarylene sulfide film is different between the front and back surfaces, it is preferable to form a metal film laminated film by providing a metal film on the smooth surface side from the viewpoint of increasing the voltage resistance.

本発明では、必要により、金属膜を形成後、金属膜積層フィルムを特定の温度でアニール処理を行ったり、熱処理を行ったりすることができる。また、絶縁もしくは他の目的で、金属膜積層フィルムの少なくとも片面に、ポリフェニレンオキサイドなど樹脂のコーティングを施すこともできる。 In the present invention, if necessary, after forming the metal film, the metal film laminated film can be annealed at a specific temperature or subjected to heat treatment. Also, for insulation or other purposes, at least one surface of the metal film laminated film can be coated with a resin such as polyphenylene oxide.

本発明のフィルムコンデンサは、本発明の金属膜積層フィルムを用いてなる。つまり本発明のフィルムコンデンサは、本発明の金属膜積層フィルムを有する。 The film capacitor of the present invention uses the metal film laminated film of the present invention. That is, the film capacitor of the present invention has the metal film laminated film of the present invention.

例えば、上記した本発明の金属膜積層フィルムを、種々の方法で積層もしくは捲回すことにより本発明のフィルムコンデンサを得ることができる。捲回型フィルムコンデンサの好ましい製造方法を例示すると、次のとおりである。 For example, the film capacitor of the present invention can be obtained by laminating or winding the above metal film laminated film of the present invention by various methods. A preferred method for manufacturing a wound film capacitor is as follows.

二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの片面にアルミニウムを減圧状態で蒸着する。その際、長手方向に走るマージン部を有するストライプ状に蒸着する。次に、表面の各蒸着部の中央と各マージン部の中央に刃を入れてスリットし、表面の一方にマージンを有した、テープ状の巻取リールを作製する。左もしくは右にマージンを有するテープ状の巻取リールを左マージンおよび右マージンのもの各1本ずつを、幅方向に蒸着部分がマージン部よりはみ出すように2枚重ね合わせて捲回し、捲回体を得る。 Aluminum is deposited under reduced pressure on one side of the biaxially oriented polyarylene sulfide film. At that time, vapor deposition is performed in stripes having margins running in the longitudinal direction. Next, a blade is inserted into the center of each vapor-deposited portion and the center of each margin portion on the surface to form a slit, thereby producing a tape-shaped take-up reel having a margin on one side of the surface. A tape-shaped take-up reel having a margin on the left or right is wound by stacking two reels each of the left margin and the right margin so that the vapor-deposited portion protrudes from the margin in the width direction, and a wound body is obtained. get

両面に蒸着を行う場合は、一方の面の長手方向に走るマージン部を有するストライプ状に蒸着し、もう一方の面には長手方向のマージン部が裏面側蒸着部の中央に位置するようにストライプ状に蒸着する。次に表裏それぞれのマージン部中央に刃を入れてスリットし、両面ともそれぞれ片側にマージン(例えば表面右側にマージンがあれば裏面には左側にマージン)を有するテープ状の巻取リールを作製する。得られたリールと未蒸着の合わせフィルム各1本ずつを、幅方向に金属化フィルムが合わせフィルムよりはみ出すように2枚重ね合わせて捲回し、捲回体を得る。 When vapor deposition is performed on both sides, vapor deposition is performed in stripes having a margin running in the longitudinal direction on one surface, and stripes are deposited on the other surface so that the margin in the longitudinal direction is positioned in the center of the vapor deposition on the back side. evaporate in a shape. Next, a blade is inserted in the center of the margins on the front and back sides to form a slit to produce a tape-shaped take-up reel having margins on one side on both sides (for example, if there is a margin on the right side on the front side, a margin on the left side on the back side). Two sheets of the obtained reel and one undeposited laminated film are superimposed and wound so that the metallized film protrudes from the laminated film in the width direction to obtain a wound body.

本発明の金属層積層フィルムから本発明のフィルムコンデンサを得る方法としては、例えば、以上のようにして作製した捲回体から芯材を抜いてプレスし、両端面にメタリコンを溶射して外部電極とし、メタリコンにリード線を溶接して捲回型フィルムコンデンサとする方法が挙げられる。フィルムコンデンサの用途は、電気自動車、ハイブリッド車、燃料電池車等の電動自動車やドローン等の電動航空機のパワーコントロールユニット用途、鉄道車輌用途、太陽光発電・風力発電用途および一般家電用途等、多岐に亘っており、本発明のフィルムコンデンサもこれら用途に好適に用いることができる。その他、本発明のポリプロピレンフィルムは、包装用フィルム、離型用フィルム、工程フィルム、衛生用品、農業用品、建築用品、医療用品など様々な用途でも用いることができ、特にフィルム加工において加熱工程を含む用途に好ましく用いることができる。 As a method of obtaining the film capacitor of the present invention from the metal layer laminated film of the present invention, for example, the core material is removed from the wound body produced as described above and pressed, and metallikon is thermally sprayed on both end surfaces to form external electrodes. and a method of welding a lead wire to a metallicon to form a wound film capacitor. Film capacitors are used in a wide variety of applications, including electric vehicles such as electric vehicles, hybrid vehicles, and fuel cell vehicles, power control unit applications for electric aircraft such as drones, railroad vehicle applications, solar and wind power generation applications, and general home appliance applications. Therefore, the film capacitor of the present invention can also be suitably used for these applications. In addition, the polypropylene film of the present invention can be used in various applications such as packaging films, release films, process films, sanitary products, agricultural products, building products, medical products, etc. In particular, film processing includes a heating step. It can be preferably used for the purpose.

以下、本発明のパワーコントロールユニット、電動自動車、電動航空機について説明する。本発明のパワーコントロールユニットは、本発明のフィルムコンデンサを有する。パワーコントロールユニットは、電力により駆動する機構を持つ電動自動車や電動航空機等において、動力をマネジメントするシステムである。パワーコントロールユニットに本発明のフィルムコンデンサを搭載することで、パワーコントロールユニット自体の小型化、耐熱性向上、高効率化が可能となり、結果、燃費が向上する。 A power control unit, an electric vehicle, and an electric aircraft according to the present invention will be described below. The power control unit of the present invention has the film capacitor of the present invention. A power control unit is a system that manages power in an electric vehicle, an electric aircraft, or the like that has a mechanism driven by electric power. By mounting the film capacitor of the present invention in a power control unit, it becomes possible to reduce the size of the power control unit itself, improve heat resistance, and improve efficiency, resulting in improved fuel efficiency.

本発明の電動自動車は、本発明のパワーコントロールユニットを有する。ここで電動自動車とは、電気自動車、ハイブリッド車、燃料電池車等の電力により駆動する機構を有する自動車を指す。前述のとおり、本発明のパワーコントロールユニットは小型化が可能な他、耐熱性や効率にも優れるため、電動自動車が本発明のパワーコントロールユニットを備えることで燃費の向上等に繋がる。 The electric vehicle of the present invention has the power control unit of the present invention. Here, an electric vehicle refers to a vehicle having a mechanism driven by electric power, such as an electric vehicle, a hybrid vehicle, and a fuel cell vehicle. As described above, the power control unit of the present invention can be miniaturized and has excellent heat resistance and efficiency.

本発明の電動航空機は、本発明のパワーコントロールユニットを有する。ここで電動航空機とは、有人電動航空機やドローン等の電力により駆動する機構を有する航空機を指す。前述のとおり、本発明のパワーコントロールユニットは小型化が可能な他、耐熱性や効率にも優れるため、電動航空機が本発明のパワーコントロールユニットを備えることで燃費の向上等に繋がる。 The electric aircraft of the invention has the power control unit of the invention. Here, an electric aircraft refers to an aircraft having a mechanism driven by electric power, such as a manned electric aircraft and a drone. As described above, the power control unit of the present invention can be miniaturized and has excellent heat resistance and efficiency.

[特性の測定方法]
(1)結晶サイズ
結晶サイズは、試料の配向効果を消去するために試料を面内で回転する方法を採用し、反射法で回折パターンを測定した。X線発生装置、X線源、ゴニオメーター、スリット系、2θ走査速度、チャート速度および測定試料は、結晶化度の求め方と同じ方法で実施した。
[Method for measuring characteristics]
(1) Crystal Size The crystal size was determined by measuring the diffraction pattern by a reflection method, employing a method in which the sample was rotated in-plane to eliminate the orientation effect of the sample. The X-ray generator, X-ray source, goniometer, slit system, 2θ scanning speed, chart speed, and measurement sample were carried out in the same manner as in determining the degree of crystallinity.

PPS(200)回折ピークの半価幅よりSchellerの式を用いて、みかけの結晶サイズ(ACS)を算出した。 The apparent crystal size (ACS) was calculated from the half width of the PPS (200) diffraction peak using Scheller's formula.

ACS(Å)=kλ/(βcosθ)
β={B-(B′)1/2
ここで、k=Scheller定数(k=1)
λ=X線波長(λ=1.5418Å)
2θ=Bragg angle(°)
β=補正後の半価幅(radian)
B=実測半価幅(radian)
B′=補正用標準試料(Si単結晶)の半価幅(radian)。
(2)光沢度
JIS K-7105(1981)に準じ、スガ試験機(株)製 デジタル変角光沢計UGV-5Dを用いて入射角60°受光角60°の条件でフィルム表面について測定した5点のデータの平均値を光沢度(%)とした。測定は、フィルムの両面について行い、高い光沢度が得られた表面の値を表に記した。
ACS(Å)=kλ/(β cos θ)
β={B 2 −(B′) 2 } 1/2
where k = Scheller constant (k = 1)
λ = X-ray wavelength (λ = 1.5418 Å)
2θ = Bragg angle (°)
β=half width after correction (radian)
B = measured half width (radian)
B'=half width (radian) of standard sample for correction (Si single crystal).
(2) Glossiness According to JIS K-7105 (1981), the film surface was measured using a digital variable angle gloss meter UGV-5D manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. under the conditions of an incident angle of 60° and a light receiving angle of 60°. The average value of the point data was defined as glossiness (%). Measurements were made on both sides of the film, and the value of the surface with the highest glossiness was shown in the table.

(3)フィルム全体厚み、A層の厚みおよびA層の厚み比率
フィルムをエポキシ樹脂に包埋後、ミクロト-ムでフィルム長手方向に平行かつフィルム面に垂直な方向でフィルム断面を厚み方向につぶすことなく切断した。次に切断したフィルムの断面に対し、熱による材料変質が起こらない条件で、走査型電子顕微鏡の試料台に固定し、(株)日立ハイテクノロジーズ製イオンミリング装置IM4000PLUSを用いて断面イオンリミング処理、続いてPt蒸着を行った。そして、得られたフィルム断面に対し、日本電子(株)製電解放射走査型電子顕微鏡JSM-6700Fを用いて、加速電圧3.0kV、ワーキングディスタンス8.0mmの条件で観察し、画像を得た。
(3) Overall thickness of film, thickness of A layer and thickness ratio of A layer After embedding the film in epoxy resin, crush the cross section of the film in the thickness direction parallel to the longitudinal direction of the film and perpendicular to the film surface with a microtome. disconnected without Next, the cross section of the cut film is fixed to a sample stage of a scanning electron microscope under conditions that do not cause material deterioration due to heat, and the cross section is subjected to ion rimming using an ion milling device IM4000PLUS manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. Subsequently, Pt vapor deposition was performed. Then, the cross section of the obtained film was observed using an electrolytic emission scanning electron microscope JSM-6700F manufactured by JEOL Ltd. under the conditions of an accelerating voltage of 3.0 kV and a working distance of 8.0 mm to obtain an image. .

A層の厚みは観察倍率5000倍の条件で観察し、得られた画像の解析からフィルムのA層の厚みについて、任意の5カ所を測定し、その平均値をA層の厚みとした。A層が複数ある場合は、それぞれのA層について層厚みを求め、全てのA層の合計をA層厚みとした。 The thickness of the A layer was observed under conditions of an observation magnification of 5000 times, and the thickness of the A layer of the film was measured at arbitrary 5 points from the analysis of the obtained image, and the average value was taken as the thickness of the A layer. When there were a plurality of A layers, the thickness of each A layer was obtained, and the total thickness of all A layers was taken as the A layer thickness.

また、フィルム全体の厚みは観察倍率3000倍の条件で観察し、フィルムの厚み方向全体が観察できる画像を採取する。観察により得られた画像よりフィルム全体の厚みを計測した。上記の倍率でフィルムの厚み方向が全体を確認できない場合は厚み方向に数点の画像を撮影し、画像をつなぎ合わせることで全体像を確認する。厚みの測定に用いるサンプルは任意の場所の合計5箇所を選定し、5サンプルの計測値の平均をそのサンプルのフィルム全体厚みとした。 Further, the thickness of the entire film is observed under the condition of an observation magnification of 3000 times, and an image in which the entire thickness direction of the film can be observed is collected. The thickness of the entire film was measured from the image obtained by observation. If the entire thickness direction of the film cannot be confirmed at the above magnification, several images are taken in the thickness direction and the images are joined to confirm the overall image. Samples used for the thickness measurement were selected at random locations at a total of 5 locations, and the average of the measured values of the 5 samples was taken as the total film thickness of the sample.

上述の方法で求めたフィルム全体厚みに対するA層厚みの比率を求め、A層の厚み比率とした。 The ratio of the thickness of the A layer to the total thickness of the film obtained by the above-described method was obtained and defined as the thickness ratio of the A layer.

(4)ヘイズ
フィルム全体のヘイズは下記装置を用いて測定した。
装置:濁度計NDH5000(日本電色工業社製)
光源:白色LED5V3W(定格)
受光素子:V(λ)フィルタ付Siフォトダイオード
測定光束:φ14mm(入射開口φ25mm)
光学条件:JIS-K7136(2000)に準拠
(5)走行性
東洋テスター工業製摩擦測定器を用い、ASTM-D1894(1999年)に準じて、フィルムの一方の面とその裏面とが接触するように重ねてMD方向同士を摩擦させた時の初期の立ち上がり抵抗値を測定し、最大値を静摩擦係数μsとした。ただし、初期の立ち上がりが大きくて測定値上限(5.0)を超えた場合は測定不能とした。サンプルは、幅80mm、長さ200mmの長方形とし、5セット(10枚)切り出した。5回測定を行い、平均値を求めた。求めた静摩擦係数から走行性を以下の基準で判定した。Dを走行性不良と判断した。
A:μs=0.50以下(走行性良好)
B:μs=0.50を超え、0.60以下(走行性普通)
C:μs=0.60を超え、0.70以下(走行性にやや劣る)
D:μs=0.70を超える(走行性に劣る)
(6)耐熱性
フィルム長手方向に、長さ200mm、幅10mmの短冊状のサンプルを切り出して用いた。ASTM-D882-97に規定された方法に従って、引っ張り試験器を用いて25℃、65%RHにて破断伸度を測定した。初期引っ張りチャック間距離は100mmとし、引っ張り速度は300m/分とした。測定はサンプルを変更して20回行いその破断伸度の平均値(X)を求めた。また、フィルム長手方向に、長さ200mm、幅10mmの短冊状のサンプルを、ギアオーブンにいれ、200℃の雰囲気下で放置した後、自然冷却し、このサンプルについて前記と同条件での引っ張り試験を20回行い、その破断伸度の平均値(Y)を求めた。得られた破断伸度の平均値(X)、(Y)から伸度保持率を次式で求めた。
伸度保持率(%)=(Y/X)×100
伸度保持率が50%以下となるまでのギアオーブン中での処理時間を破断伸度の半減時間とした。耐熱性は下記の基準に従って評価した。AとBが合格である。
A:伸度半減時間が120時間以上である。
B:伸度半減時間が80時間以上120時間未満である。
C:伸度半減時間が80時間未満である。
(7)絶縁性の評価
フィルムをサイズ25cm×25cmの正方形に切り出し、23℃、65%Rhの室内で24時間調湿した後、JIS C2151(2006)に基づいて、交流絶縁破壊試験器(春日電機(株)製、AC30kV)を用いて、周波数60Hz、昇圧速度1000V/secで単位厚みあたりの絶縁破壊電圧(kV)を測定した。そして、絶縁破壊が起きて孔が開いた部分の周囲部分の厚さ(μm)を測定した。次に、得られた絶縁破壊電圧を、厚さ(μm)で除し、単位厚さあたりの絶縁破壊電圧(V/μm)を算出した。測定は10回実施し、その平均値でもって単位厚さあたりの絶縁破壊電圧(V/μm)とした。得られた絶縁破壊電圧の値から絶縁性を以下の基準で判定した。
(4) Haze The haze of the entire film was measured using the following equipment.
Apparatus: Turbidity meter NDH5000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.)
Light source: White LED 5V3W (rated)
Light receiving element: Si photodiode with V(λ) filter
Measurement light flux: φ14 mm (incidence aperture φ25 mm)
Optical conditions: Compliant with JIS-K7136 (2000) (5) Runnability Using a Toyo Tester Kogyo friction measuring instrument, according to ASTM-D1894 (1999), one side of the film and its back side were in contact. The initial rising resistance value was measured when the MD directions were rubbed against each other, and the maximum value was taken as the static friction coefficient μs. However, when the initial rise was large and exceeded the upper limit (5.0) of the measured value, the measurement was considered impossible. Five sets (10 pieces) of samples were cut into rectangles having a width of 80 mm and a length of 200 mm. Measurement was performed 5 times and an average value was obtained. The running performance was judged according to the following criteria from the obtained coefficient of static friction. D was judged to have poor runnability.
A: μs = 0.50 or less (good runnability)
B: µs = more than 0.50 and 0.60 or less (normal runnability)
C: µs = more than 0.60 and 0.70 or less (slightly inferior in runnability)
D: more than μs = 0.70 (poor runnability)
(6) A strip-shaped sample with a length of 200 mm and a width of 10 mm was cut out in the longitudinal direction of the heat-resistant film and used. Breaking elongation was measured at 25° C. and 65% RH using a tensile tester according to the method specified in ASTM-D882-97. The initial tension chuck distance was 100 mm, and the tension speed was 300 m/min. The measurement was performed 20 times by changing the sample, and the average value (X) of the elongation at break was obtained. In addition, a strip-shaped sample with a length of 200 mm and a width of 10 mm in the longitudinal direction of the film was placed in a gear oven, left in an atmosphere of 200 ° C., naturally cooled, and subjected to a tensile test under the same conditions as above. was performed 20 times, and the average value (Y) of the elongation at break was obtained. From the obtained average values (X) and (Y) of the breaking elongation, the elongation retention rate was obtained by the following equation.
Elongation retention rate (%) = (Y/X) x 100
The treatment time in the gear oven until the elongation retention rate became 50% or less was defined as the half life time of the elongation at break. Heat resistance was evaluated according to the following criteria. A and B pass.
A: Elongation half life is 120 hours or more.
B: Elongation half life is 80 hours or more and less than 120 hours.
C: Elongation half life is less than 80 hours.
(7) Insulation evaluation Cut the film into squares of size 25 cm × 25 cm, and after conditioning the humidity in a room of 23 ° C. and 65% Rh for 24 hours, based on JIS C2151 (2006), AC dielectric breakdown tester (Kasuga The dielectric breakdown voltage (kV) per unit thickness was measured at a frequency of 60 Hz and a boost rate of 1000 V/sec using an AC 30 kV (manufactured by Denki Co., Ltd.). Then, the thickness (μm) of the peripheral portion of the portion where the dielectric breakdown occurred and the hole was opened was measured. Next, the obtained dielectric breakdown voltage was divided by the thickness (μm) to calculate the dielectric breakdown voltage per unit thickness (V/μm). The measurement was performed 10 times, and the average value was taken as the dielectric breakdown voltage (V/μm) per unit thickness. Based on the value of the dielectric breakdown voltage obtained, the insulation was judged according to the following criteria.

AA:絶縁破壊電圧が270V/μm以上
A:絶縁破壊電圧が240V/μm以上
B:絶縁破壊電圧が210V/μm以上
C:絶縁破壊電圧が180V/μm以上
D:絶縁破壊電圧が180V/μm未満
AA: Dielectric breakdown voltage of 270 V/μm or more
A: Dielectric breakdown voltage of 240 V/μm or more B: Dielectric breakdown voltage of 210 V/μm or more C: Dielectric breakdown voltage of 180 V/μm or more D: Dielectric breakdown voltage of less than 180 V/μm

(参考例1)PPS樹脂(顆粒)の製造方法
工程撹拌機付きの1リットルオートクレーブに、47%水硫化ナトリウム1.00モル、96%水酸化ナトリウム1.03モル、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)1.65モル、酢酸ナトリウム0.45モル、及びイオン交換水150gを仕込み、240rpm で撹拌しながら常圧で窒素を通じながら225℃まで約3時間かけて徐々に加熱し、水211gおよびNMP4gを留出したのち、反応容器を160℃ に冷却した。
(Reference Example 1) Production process of PPS resin (granules) Process In a 1-liter autoclave equipped with a stirrer, 1.00 mol of 47% sodium hydrosulfide, 1.03 mol of 96% sodium hydroxide, and N-methyl-2-pyrrolidone. (NMP) 1.65 mol, sodium acetate 0.45 mol, and ion-exchanged water 150 g were charged, stirred at 240 rpm, and gradually heated to 225° C. over about 3 hours while passing nitrogen under normal pressure, and 211 g of water and After distilling off 4 g of NMP, the reactor was cooled to 160°C.

次に、p-ジクロロベンゼン(p-DCB)1.00モル、NMP1.31モルを加えた。続いて反応容器を窒素ガス下に密封した。240rpmで撹拌しながら、200℃~235℃ まで0.6℃/分の速度で昇温して、235℃ 到達後、235℃で反応を95分間継続した。その後、0.8℃/分の速度で270℃まで昇温して100分保持した。270℃到達後水1モルを15分かけて系内に注入した。270℃で100分経過後、200℃まで1.0℃/分の速度で冷却し、その後室温近傍まで急速冷却した。内容物を取り出し、0.4リットルのNMPで希釈後、85℃で30分撹拌した後、溶剤と固形物をふるい(80mesh)で濾別した。後処理工程についで、得られた固形物に、0.5リットルのNMPを加えて85℃で30分撹拌し、濾別した。得られた固形物を0.9リットルの温水で3回洗浄、濾別した。更に、得られた粒子に1リットルの温水を加えて2回洗浄、濾別しポリマー粒子を得た。これを、80℃ で熱風乾燥した後、120℃で減圧乾燥し、融点が280℃、質量平均分子量70,000のポリフェニレンスルフィド(PPS)樹脂の顆粒(PPS顆粒)を得た。 Next, 1.00 mol of p-dichlorobenzene (p-DCB) and 1.31 mol of NMP were added. The reaction vessel was then sealed under nitrogen gas. While stirring at 240 rpm, the temperature was raised from 200° C. to 235° C. at a rate of 0.6° C./minute, and after reaching 235° C., the reaction was continued at 235° C. for 95 minutes. After that, the temperature was raised to 270° C. at a rate of 0.8° C./min and held for 100 minutes. After reaching 270° C., 1 mol of water was injected into the system over 15 minutes. After 100 minutes at 270°C, it was cooled to 200°C at a rate of 1.0°C/min, and then rapidly cooled to near room temperature. The content was taken out, diluted with 0.4 liter of NMP, stirred at 85° C. for 30 minutes, and the solvent and solids were separated by filtration through a sieve (80 mesh). In the post-treatment step, 0.5 liter of NMP was added to the resulting solid, stirred at 85°C for 30 minutes, and filtered. The obtained solid was washed with 0.9 liter of warm water three times and filtered. Furthermore, 1 liter of warm water was added to the obtained particles, and the particles were washed twice and filtered to obtain polymer particles. This was dried with hot air at 80°C and then dried under reduced pressure at 120°C to obtain polyphenylene sulfide (PPS) resin granules (PPS granules) having a melting point of 280°C and a mass average molecular weight of 70,000.

(参考例2)PPSペレット(PPS-1)の製造方法
参考例1で作製したPPS樹脂(顆粒)を、320℃に加熱されたベント付き同方向回転式二軸混練押出機に投入し、溶融押出してストランド状に吐出し、温度25℃の水で冷却した後、直ちにカッティングしてPPSペレット(PPS-1)を作製した。
(Reference Example 2) Production method of PPS pellets (PPS-1) The PPS resin (granules) prepared in Reference Example 1 was charged into a vented co-rotating twin-screw kneading extruder heated to 320°C and melted. The mixture was extruded into strands, cooled with water at 25° C., and immediately cut to prepare PPS pellets (PPS-1).

(参考例3)PPS顆粒と熱可塑性樹脂のマスターペレット(MBー1)の作製
ニーディングパドル混練部を1箇所設けた同方向回転タイプのベント式二軸混練押出機を320℃に加熱し、フィード口から参考例1で得たPPS顆粒を90質量部、ポリエーテルスルホン(PESU:ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社、ベラデル3600)を10質量部となるように供給し、スクリュー回転数200rpmで溶融混練後、ストランド状に吐出し、温度25℃の水で冷却した後、直ちにカッティングして、PESUを10質量部含有するマスターペレット(MBー1)を作製した。
(Reference Example 3) Preparation of PPS granules and thermoplastic resin master pellets (MB-1) A co-rotating vented twin-screw kneading extruder provided with one kneading paddle kneading section was heated to 320°C. 90 parts by mass of the PPS granules obtained in Reference Example 1 and 10 parts by mass of polyethersulfone (PESU: Solvay Advanced Polymers Co., Ltd., Veradel 3600) were supplied from the feed port, and melt-kneaded at a screw rotation speed of 200 rpm. , extruded in a strand shape, cooled with water at a temperature of 25° C., and immediately cut to prepare master pellets (MB-1) containing 10 parts by mass of PESU.

(実施例1)
参考例2で作成したPPSペレット(PPS-1)と参考例3で作成したPPSマスターペレット(MB-1)を表1の比率で均一になるよう混合させ、180℃で3時間減圧乾燥した後、溶融部が315℃に加熱された単軸押出機に供給した。
(Example 1)
The PPS pellets (PPS-1) prepared in Reference Example 2 and the PPS master pellets (MB-1) prepared in Reference Example 3 were uniformly mixed at the ratio shown in Table 1, and dried under reduced pressure at 180°C for 3 hours. , fed into a single screw extruder with the melt zone heated to 315°C.

次いで、溶融したポリマーを繊維焼結ステンレス金属フィルター(20μmカット)に通過させ温度310℃に設定したTダイの口金から溶融押出した後、表面温度25℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、厚み950μmの未延伸フィルムを得た。次いで、得られた未延伸フィルムを加熱された複数のロール群からなる縦延伸機を用い、ロールの周速差を利用して延伸温度105℃でフィルムの長手方向に3.6倍の倍率で延伸した。その後、フィルムの両端部をクリップで担持して、テンターに導き延伸温度100℃でフィルムの幅方向に3.6倍の倍率で延伸した。引き続いて後高温延伸工程として285℃で幅方向に1.4倍延伸し、285℃で熱処理を行った後、2%弛緩処理を行い、室温まで冷却した後、フィルムエッジを除去し、厚み50μmのポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を表1に示す。 Next, the molten polymer is passed through a fiber sintered stainless metal filter (20 μm cut) and melted and extruded from a T-die mouthpiece set at a temperature of 310° C., and then adhered to a cast drum with a surface temperature of 25° C. while applying an electrostatic charge. It was solidified by cooling to obtain an unstretched film having a thickness of 950 μm. Next, the obtained unstretched film is stretched in the longitudinal direction of the film at a stretching temperature of 105° C. by using a longitudinal stretching machine consisting of a plurality of heated rolls and utilizing the difference in peripheral speed of the rolls at a magnification of 3.6 times in the longitudinal direction of the film. Stretched. Thereafter, both ends of the film were held by clips, and the film was led to a tenter and stretched at a stretching temperature of 100° C. in the width direction at a magnification of 3.6 times. Subsequently, as a post-high-temperature stretching step, the film was stretched 1.4 times in the width direction at 285°C, heat-treated at 285°C, subjected to 2% relaxation treatment, cooled to room temperature, and film edges were removed to obtain a thickness of 50 µm. of polyarylene sulfide film was obtained. Table 1 shows the physical properties and characteristics of the obtained film.

(実施例2)
参考例2で作成したPPSペレット(PPS-1)と参考例3で作成したPPSマスターペレット(MB-1)を表1に示す組成および比率となるようA層とB層の原料を準備し、それぞれの原料を別々に180℃で3時間、真空乾燥した後、315℃に加熱された2台の単軸押出機に別々に供給し、溶融状態で口金上部にある積層装置で3層(積層構成A/B/A)で積層比は表1になるように導き、続いてTダイ型口金から吐出させ、表面温度25℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着急冷固化させて、厚み950μmの未延伸フィルムを得た。次いで、得られた未延伸フィルムを加熱された複数のロール群からなる縦延伸機を用い、ロールの周速差を利用して延伸温度105℃でフィルムの長手方向に3.6倍の倍率で延伸した。その後、フィルムの両端部をクリップで担持して、テンターに導き延伸温度100℃でフィルムの幅方向に3.6倍の倍率で延伸した。引き続いて後高温延伸工程として表1に記載の温度、倍率で幅方向に延伸し、同じ温度で熱処理を行った後、2%弛緩処理を行い、室温まで冷却した後、フィルムエッジを除去し、厚み50μmのポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を表1に示す。
(Example 2)
Raw materials for layers A and B were prepared so that the PPS pellets (PPS-1) prepared in Reference Example 2 and the PPS master pellets (MB-1) prepared in Reference Example 3 had the compositions and ratios shown in Table 1, After vacuum-drying the raw materials separately at 180°C for 3 hours, they were separately supplied to two single-screw extruders heated to 315°C, and three layers (laminated In the configuration A/B/A), the lamination ratio is guided to be as shown in Table 1, and then discharged from a T-die type nozzle, and while static charge is applied to a cast drum with a surface temperature of 25 ° C., it is adhered and rapidly cooled and solidified to obtain a thickness. An unstretched film of 950 μm was obtained. Next, the obtained unstretched film is stretched in the longitudinal direction of the film at a stretching temperature of 105° C. by using a longitudinal stretching machine consisting of a plurality of heated rolls and utilizing the difference in peripheral speed of the rolls at a magnification of 3.6 times in the longitudinal direction of the film. Stretched. Thereafter, both ends of the film were held by clips, and the film was led to a tenter and stretched at a stretching temperature of 100° C. in the width direction at a magnification of 3.6 times. Subsequently, as a post-high temperature stretching step, the film is stretched in the width direction at the temperature and magnification shown in Table 1, heat-treated at the same temperature, subjected to 2% relaxation treatment, cooled to room temperature, and the film edge is removed. A polyarylene sulfide film having a thickness of 50 μm was obtained. Table 1 shows the physical properties and characteristics of the obtained film.

(実施例3)
未延伸フィルムの厚みを800μmとし、表1の組成、比率、延伸条件となるようにした以外は実施例2と同様にして厚さ50μmの二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(Example 3)
A biaxially oriented polyarylene sulfide film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 2 except that the unstretched film had a thickness of 800 μm and the composition, ratio, and stretching conditions shown in Table 1 were applied.

(実施例4~5)
未延伸フィルムの厚みを950μmとし、表1の組成、比率、延伸条件となるようにした以外は実施例2と同様にして厚さ50μmの二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(Examples 4-5)
A biaxially oriented polyarylene sulfide film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 2 except that the unstretched film had a thickness of 950 μm and the composition, ratio, and stretching conditions shown in Table 1 were applied.

(実施例6)
未延伸フィルムの厚みを1900μmとし、表1の組成、比率、延伸条件となるようにした以外は実施例2と同様にして厚さ100μmの二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(Example 6)
A biaxially oriented polyarylene sulfide film having a thickness of 100 μm was obtained in the same manner as in Example 2 except that the unstretched film had a thickness of 1900 μm and the composition, ratio, and stretching conditions shown in Table 1 were applied.

(実施例7)
未延伸フィルムの厚みを950μmとし、表1の組成、比率、後高温延伸条件となるようにし、熱処理を実施しない以外は実施例2と同様にして厚さ50μmの二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(Example 7)
A biaxially oriented polyarylene sulfide film having a thickness of 50 μm was produced in the same manner as in Example 2 except that the unstretched film had a thickness of 950 μm, the composition, ratio, and post-high-temperature stretching conditions were as shown in Table 1, and heat treatment was not performed. Obtained.

(実施例8~9)
表1に示す積層比率とした以外は実施例2と同様にして厚さ50μmの二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(実施例10~11)
A層の組成を表1の比率とした以外は実施例2と同様にして厚さ50μmの二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(Examples 8-9)
A biaxially oriented polyarylene sulfide film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 2 except that the lamination ratio shown in Table 1 was used.
(Examples 10-11)
A biaxially oriented polyarylene sulfide film having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in Example 2 except that the composition of the A layer was changed to the ratio shown in Table 1.

(比較例1)
表1の組成および比率となるようにPPSペレット1とマスターバッチを混合し、表1に示す条件にて延伸した以外は実施例1と同様にしてポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(Comparative example 1)
A polyarylene sulfide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the PPS pellets 1 and the masterbatch were mixed so as to have the composition and ratio shown in Table 1, and the mixture was stretched under the conditions shown in Table 1.

(比較例2)
表1の組成および比率となるようにPPSペレット1とマスターバッチを混合し、表1に示す条件にて延伸した以外は実施例2と同様にしてポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
(Comparative example 2)
A polyarylene sulfide film was obtained in the same manner as in Example 2, except that the PPS pellets 1 and the masterbatch were mixed so as to have the composition and ratio shown in Table 1, and the mixture was stretched under the conditions shown in Table 1.

Figure 2023050160000003
Figure 2023050160000003

Figure 2023050160000004
Figure 2023050160000004

本発明のポリアリーレンスルフィドフィルムは、透明性に優れることから透明回路基板、透明アンテナ基板として好適に用いることができる。
Since the polyarylene sulfide film of the present invention is excellent in transparency, it can be suitably used as a transparent circuit substrate and a transparent antenna substrate.

Claims (15)

ポリアリーレンスルフィド(PAS)を主たる構成成分とし、X線回折法により求めるポリアリーレンスルフィド結晶の(200)回折ピークの半価幅にSchllerの式を適用して得られる結晶サイズが90Å以下である二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 Polyarylene sulfide (PAS) is the main component, and the crystal size obtained by applying Schller's equation to the half width of the (200) diffraction peak of the polyarylene sulfide crystal obtained by X-ray diffraction is 90 Å or less. Axially oriented polyarylene sulfide film. 厚さが30μm以上である請求項1に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 2. The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 1, having a thickness of 30 [mu]m or more. 少なくとも一方のフィルム表面の光沢度が140%以上である請求項1または2に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 3. The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 1, wherein at least one film surface has a glossiness of 140% or more. 少なくとも一方のフィルム表面の光沢度が200%以上である請求項3に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 4. The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 3, wherein at least one film surface has a glossiness of 200% or more. ヘイズが10%以下である請求項1または2に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 3. The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 1, which has a haze of 10% or less. ポリアリーレンスルフィドを主たる構成成分とする層を2層以上有し、少なくとも一方の最外層がポリアリーレンスルフィドを主成分としポリアリーレンスルフィドとは異なる他の熱可塑性樹脂を少なくとも1種以上含む層(A層)を有する請求項1または2に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 A layer (A layer). 前記A層がポリアリーレンスルフィドに非相溶な分散体を含み、A層の厚み比率がフィルム全体厚みに対して0.1%以上10%以下である請求項6に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 7. The biaxially oriented polyarylene according to claim 6, wherein the layer A contains a dispersion incompatible with polyarylene sulfide, and the thickness ratio of the layer A is 0.1% or more and 10% or less with respect to the total thickness of the film. sulfide film. 透明回路基材に用いられる請求項1または2に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 3. The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 1, which is used for a transparent circuit board. 透明アンテナ基材に用いられる請求項1または2に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルム。 3. The biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 1, which is used for a transparent antenna substrate. 請求項1または2に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを用いてなる絶縁フィルム。 An insulating film using the biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 1 or 2. 請求項1また2に記載の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの少なくとも片面に金属膜を有する、金属膜積層フィルム。 A metal film laminated film comprising a metal film on at least one surface of the biaxially oriented polyarylene sulfide film according to claim 1 or 2. 請求項11に記載の金属積層フィルムを用いてなる、フィルムコンデンサ。 A film capacitor using the metal laminated film according to claim 11 . 請求項12に記載のフィルムコンデンサを有する、パワーコントロールユニット。 A power control unit comprising a film capacitor according to claim 12. 請求項13に記載のパワーコントロールユニットを有する、電動自動車。 An electric vehicle comprising the power control unit according to claim 13. 請求項13に記載のパワーコントロールユニットを有する、電動航空機。
An electric aircraft, comprising a power control unit according to claim 13.
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