JP2023037175A - Polyester film, miniature led substrate, backlight and display - Google Patents

Polyester film, miniature led substrate, backlight and display Download PDF

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Shunya Yamamoto
昌平 吉田
Shohei Yoshida
孝行 宇都
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Abstract

To provide a backlight using a fine LED which achieves high heat resistance and luminance improving effect.SOLUTION: A polyester film has a void, wherein a void ratio is 10% or more, and a ratio of at least one trans of a polyester resin constituting the surface of the film is 0.75 time or more with respect to a ratio of a gauche.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ミニLEDディスプレイ用途に好ましく用いられるポリエステルフィルムに関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polyester film preferably used for mini LED display applications.

スマートフォンやパソコン、テレビなどの表示装置として、液晶を利用したディスプレイが数多く用いられている。これらの液晶ディスプレイは、裏側に設置したバックライトと呼ばれる面光源から光を照射することにより表示が可能となっている。バックライトについては、近年のディスプレイの高輝度、高コントラスト、広色域のニーズから、基板上に微小なLEDを多数配置してなるミニLED方式やマイクロLED方式の技術が検討されている。 Many displays using liquid crystals are used as display devices for smartphones, personal computers, televisions, and the like. These liquid crystal displays can display images by irradiating light from a surface light source called a backlight installed on the back side. As for the backlight, the mini-LED system and the micro-LED system, in which a large number of minute LEDs are arranged on a substrate, are being studied due to the recent needs for high brightness, high contrast, and a wide color gamut of the display.

一方、従来のLED方式では、LEDの周囲に反射フィルムがもうけられ、LED背面への光の回り込みを防ぎ光のロスを少なくすることで高輝度を実現していた。このような液晶ディスプレイ用バックライトに用いられる反射フィルムには、従来、白色顔料を添加したフィルムや内部に微細な気泡を含有させたフィルムが単独で、もしくは金属板、プラスチック板などと貼り合わされて使用されてきた。特に内部に微細な気泡を含有させたフィルムは、輝度の向上効果や、画面輝度の均一化に一定の効果があることから広く使用されている(特許文献1、2参照)。 On the other hand, in the conventional LED system, a reflective film is provided around the LED to prevent light from going around to the back of the LED and reduce light loss, thereby achieving high brightness. Reflective films used in backlights for such liquid crystal displays have been conventionally made of a film containing a white pigment or a film containing fine air bubbles, either alone or laminated with a metal plate or a plastic plate. has been used. In particular, a film containing fine air bubbles inside is widely used because it has a certain effect of improving brightness and making screen brightness uniform (see Patent Documents 1 and 2).

特開2003-160682号公報JP 2003-160682 A 特公平8-16175号公報Japanese Patent Publication No. 8-16175

しかしながら、特許文献1や2に記載されているような従来の反射フィルムは、微細な気泡を維持するために耐熱性が十分でない場合があった。特にミニLED方式やマイクロLED方式では、微小LEDを個別に封止する工程に対し、生産効率で優れる全面一括封止が採用される場合があるが、この際に反射フィルムに加わる熱負荷によりフィルムが変形し、輝度が低下してしまうだけでなく、変形したフィルムによってLEDに大きな負荷がかかり、損傷を引き起こす課題があった。 However, conventional reflective films such as those described in Patent Documents 1 and 2 may not have sufficient heat resistance to maintain fine air bubbles. Especially in the mini-LED method and micro-LED method, full-surface encapsulation, which is superior in production efficiency, may be adopted as opposed to the process of individually encapsulating micro LEDs. Not only is the film deformed and the luminance is lowered, but the deformed film places a large load on the LED, causing damage.

本発明は、上記の問題を解決し、高輝度であり、LEDの封止工程の高温熱履歴またはLED連続点灯などの高温環境における寸法変化に対しても安定であるポリエステルフィルムを提供することを目的とするものである。 The present invention solves the above problems and provides a polyester film that has high brightness and is stable against dimensional changes in high-temperature environments such as the high-temperature heat history of the LED sealing process or continuous LED lighting. It is intended.

前記課題を解決するために本発明は以下の構成をとる。 In order to solve the above problems, the present invention has the following configurations.

(1) ポリエステル樹脂と、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分として含む層を少なくとも有するポリエステルフィルムであって、該層のボイド含有率が10%以上であって、かつ該ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面を構成するポリエステル樹脂のトランス体の割合がゴーシュ体の割合に対し、0.75倍以上であるポリエステルフィルム。 (1) A polyester film having at least a layer containing a polyester resin and a thermoplastic resin or inorganic particles incompatible with the polyester resin as main components, wherein the layer has a void content of 10% or more, and A polyester film, wherein the ratio of the trans isomer of the polyester resin constituting at least one surface of the polyester film is 0.75 times or more the ratio of the gauche isomer.

(2) フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、フィルムの主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれのボイド含有率Va(%)、Vb(%)について、Vb/Vaが1.2(%)以上である、請求項1に記載のポリエステルフィルム。 (2) Vb/Va is 1.2 for the void content rates Va (%) and Vb (%) of the cross section A with the film main axis direction as the cutting direction and the cross section B with the film main axis direction as the normal. (%) or more, the polyester film according to claim 1.

(3) フィルムの主軸方向および主軸方向に直交する方向の50℃~150℃の熱膨張係数(CTE)の平均が0ppm/℃以上30ppm/℃以下である、請求項1または2に記載のポリエステルフィルム。 (3) The polyester according to claim 1 or 2, wherein the average of the coefficient of thermal expansion (CTE) at 50 ° C. to 150 ° C. in the principal axis direction of the film and in the direction perpendicular to the principal axis direction is 0 ppm / ° C. or more and 30 ppm / ° C. or less. the film.

(4) フィルムを150℃で2時間加熱した場合に、フィルムの主軸方向および主軸方向に直交する方向の熱収縮率の平均が0.05%以上0.5%以下である、請求項1~3のいずれかに記載のポリエステルフィルムフィルム。 (4) When the film is heated at 150° C. for 2 hours, the average thermal shrinkage rate in the principal axis direction of the film and in the direction perpendicular to the principal axis direction is 0.05% or more and 0.5% or less. 4. The polyester film according to any one of 3.

(5) フィルムの断面における、断面積0.1μm以上1.0μm以下のボイドの密度が0.25個/μm以上1.25個/μm以下である、請求項1~4のいずれかに記載のポリエステルフィルム。 (5) The density of voids having a cross-sectional area of 0.1 μm 2 or more and 1.0 μm 2 or less in the cross section of the film is 0.25/μm 2 or more and 1.25/μm 2 or less. The polyester film according to any one of the above.

(6) フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、フィルムの主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれの厚み方向における厚み1μmあたりの平均ボイド数が0.4個以上4.0個以下である、請求項1~5のいずれかに記載のポリエステルフィルム。 (6) The average number of voids per 1 μm of thickness in each thickness direction of cross section A with the film main axis direction as the cutting direction and cross section B with the film main axis direction as the normal line is 0.4 or more and 4.0 or less. The polyester film according to any one of claims 1 to 5.

(7) フィルムの主軸方向のヤング率と主軸方向と直交する方向のヤング率との和が4GPa以上20GPa以下である、請求項1~6のいずれかに記載のポリエステルフィルム。 (7) The polyester film according to any one of claims 1 to 6, wherein the sum of the Young's modulus in the principal axis direction and the Young's modulus in the direction perpendicular to the principal axis direction of the film is 4 GPa or more and 20 GPa or less.

(8) 請求項1~7のいずれかに記載のポリエステルフィルムを有する、ミニLED基板。 (8) A mini LED substrate having the polyester film according to any one of claims 1 to 7.

(9) 請求項8に記載のミニLED基板を有する、バックライト。 (9) A backlight having the mini LED substrate according to claim 8.

(10) 請求項9に記載のバックライトを有する、ディスプレイ。 (10) A display comprising the backlight of claim 9.

本発明によれば、ミニLEDを用いたバックライトの輝度を向上させることができる。 According to the present invention, it is possible to improve the luminance of a backlight using mini-LEDs.

図1は、本発明のポリエステルフィルムもしくはミニLED基板が好適に用いられるバックライト、または本発明のバックライトの一例における断面の模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a backlight in which the polyester film or mini LED substrate of the present invention is preferably used, or the backlight of the present invention.

以下に本発明の実施の形態について述べるが、本発明は以下の実施例を含む実施の形態に限定して解釈されるものではなく、発明の目的を達成できて、かつ、発明の要旨を逸脱しない範囲内においての種々の変更は当然あり得る。なお、本発明において「以上」とは、そこに示す数値と同じかまたはそれよりも大きいことを意味する。また、「以下」とは、そこに示す数値と同じかまたはそれよりも小さいことを意味する。 Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention should not be construed as being limited to the embodiments including the following examples. Naturally, various changes are possible within the scope of the invention. In the present invention, "more than or equal to" means equal to or greater than the indicated numerical value. Also, "or less" means equal to or smaller than the indicated numerical value.

本発明のポリエステルフィルムは、ポリエステル樹脂と、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分として含む層を少なくとも有することが必要である。ここで主成分とは、樹脂組成物を構成する樹脂成分のうち、50質量%以上を占める成分を言う。 The polyester film of the present invention must have at least a layer containing a polyester resin and a thermoplastic resin or inorganic particles incompatible with the polyester resin as main components. Here, the term "main component" refers to a component that accounts for 50% by mass or more of the resin components that constitute the resin composition.

ポリエステル樹脂について、好ましい態様を以下に記載する。ポリエステル樹脂とはエステル結合を主鎖に有する高分子をさすが、中でもジカルボン酸とジオールとが縮重合した構造を持つポリエステル樹脂が好ましい。ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸や、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、マレイン酸、フマル酸、などの脂肪族ジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸、パラオキシ安息香酸などのオキシカルボン酸などを挙げることができる。また、上記ジカルボン酸はそれぞれジカルボン酸エステル誘導体として用いられても良い。ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)などの脂肪族ジヒドロキシ化合物、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオキシアルキレングリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環族ジヒドロキシ化合物、ビスフェノールA、ビスフェノールSなどの芳香族ジヒドロキシ化合物などを挙げることができる。これらはそれぞれ1種だけであっても2種以上用いられるものであっても良い。また、フィルムとして製膜性に影響が出なければトリメリット酸、ピロメリット酸およびそのエステル誘導体のうち1種以上が少量共重合されたものであっても構わない。 Preferred embodiments of the polyester resin are described below. A polyester resin is a polymer having an ester bond in its main chain, and a polyester resin having a structure in which a dicarboxylic acid and a diol are polycondensed is preferable. Examples of dicarboxylic acids include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, and diphenylsulfonedicarboxylic acid. , oxalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, dimer acid, maleic acid, fumaric acid and other aliphatic dicarboxylic acids; alicyclic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid; Carboxylic acid and the like can be mentioned. Moreover, each of the above dicarboxylic acids may be used as a dicarboxylic acid ester derivative. Examples of diols include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, and 1,6-hexanediol. , 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol) and other aliphatic dihydroxy compounds, diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxyalkylene glycols such as polytetramethylene glycol, 1,4-cyclohexanediol. Alicyclic dihydroxy compounds such as methanol and spiroglycol; aromatic dihydroxy compounds such as bisphenol A and bisphenol S; Each of these may be used alone or in combination of two or more. In addition, a small amount of one or more of trimellitic acid, pyromellitic acid and their ester derivatives may be copolymerized as long as the film formability of the film is not affected.

ポリエステル樹脂の具体的な例は、ポリエチレンテレフタレート(以下、PETと略称する)、ポリエチレン-2,6-ナフタレンジカルボキシレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ-1,4-シクロヘキシレンジメチレンテレフタレートなどが安価に入手でき、かつ製膜性も良好であるため、特に好適に用いることができる。 Specific examples of polyester resins include polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET), polyethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexylene dimethylene terephthalate, and the like. is available at a low cost and has good film-forming properties, so it can be used particularly preferably.

もちろん、これらのポリエステル樹脂はホモポリマーであってもコポリマーであってもよい。コポリマーにおける共重合成分としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、炭素数2~15のジオール成分を挙げることができ、これらの例としては、たとえばイソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、スルホン酸塩基含有イソフタル酸、およびこれらのエステル形成性化合物、エチレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、数平均分子量400以上20,000以下のポリアルキレングリコールなどを挙げることができる。 Of course, these polyester resins may be homopolymers or copolymers. Copolymerization components in the copolymer include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and diol components having 2 to 15 carbon atoms, examples of which include isophthalic acid and adipic acid. , sebacic acid, phthalic acid, sulfonic acid group-containing isophthalic acid, and ester-forming compounds thereof, ethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, spiroglycol, number average molecular weight Polyalkylene glycol having a molecular weight of 400 or more and 20,000 or less can be mentioned.

本発明のポリエステルフィルムの前記層は、ポリエステル樹脂のほかに、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を含む必要がある。ポリエステル樹脂と、ポリエステル樹脂非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分とした層を有することで、ミニニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて、輝度向上効果に優れるだけでなく、耐水性、耐久性、耐薬品性などに優れたフィルムを得ることができる。 The layer of the polyester film of the present invention must contain a thermoplastic resin or inorganic particles incompatible with the polyester resin, in addition to the polyester resin. By having a layer mainly composed of a polyester resin and a thermoplastic resin or inorganic particles incompatible with the polyester resin, it not only has an excellent brightness improvement effect in backlights using minute LEDs such as the mini-LED system. , a film excellent in water resistance, durability, chemical resistance, etc. can be obtained.

本発明のポリエステルフィルムは、ボイドを有することが重要である。ここでボイドとは物体中に含まれる微小な空洞であり、後述するボイド含有率が、任意の垂直断面について1%を超えるものは全てボイドを有するポリエステルフィルムとみなす。 It is important that the polyester film of the present invention have voids. Here, voids are minute cavities contained in an object, and any polyester film having a void content exceeding 1% in an arbitrary vertical cross section, which will be described later, is regarded as a polyester film having voids.

ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂は、ボイドを形成するボイド核剤として使用される。以下、ボイド核剤として使用される、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂を、単に「ボイド核剤」とも呼ぶ。本発明におけるボイドとは、ボイド核剤によって形成される層中に存在する空間のことを指す。ボイドの形状は、フィルム断面から略円、略楕円状に観察される。ボイドの形成方法は、上記に記載のポリエステル樹脂とボイド核剤を任意の割合で混合した樹脂を延伸により外力を加え、ポリエステル樹脂とボイド核剤とを引き剥がす方法で形成させることができる。具体的には、ポリエステル樹脂とボイド核剤とを含有する混合物を溶融押出しした後、少なくとも一方向に延伸することで、内部にボイドを形成させる方法が挙げられる。 A thermoplastic resin that is incompatible with the polyester resin is used as a void nucleating agent that forms voids. Hereinafter, the thermoplastic resin incompatible with the polyester resin, which is used as the void nucleating agent, is also simply referred to as "void nucleating agent". A void in the present invention refers to a space existing in a layer formed by a void nucleating agent. The shape of the voids is observed in a substantially circular or substantially elliptical shape from the cross section of the film. Voids can be formed by stretching a resin obtained by mixing the above-described polyester resin and void nucleating agent in an arbitrary ratio to apply an external force to separate the polyester resin and the void nucleating agent. Specifically, there is a method of forming voids inside by melt-extruding a mixture containing a polyester resin and a void nucleating agent and then stretching in at least one direction.

ボイド核剤は、主成分の樹脂に対して非相溶な熱可塑性樹脂であることが重要である。ここで非相溶とは、溶解性パラメータ(以下、「SP値」と略称することがある)に0.5(MPa)1/2以上の乖離がある樹脂の組合せである。SP値は、Hildebrandらが提唱した溶解性パラメータ(“The Solubility of Nonelectrolytes”,[3rd,ed.]Reinhold,NY 1959)の理論を基に算出されたものであり、2種類の樹脂について各々の樹脂のSP値の乖離が大きいほど、それら樹脂の相溶性が低いことを示唆する指標となる。 It is important that the void nucleating agent is a thermoplastic resin that is incompatible with the main component resin. Herein, "incompatible" means a combination of resins whose solubility parameter (hereinafter sometimes abbreviated as "SP value") deviates by 0.5 (MPa) 1/2 or more. The SP value was calculated based on the theory of solubility parameters proposed by Hildebrand et al. The greater the divergence of the SP values of the resins, the lower the compatibility of the resins.

ボイド核剤に好ましく用いられる樹脂は、ASTM-D1525(50℃/h,50N)の方法で測定されるビカット軟化温度Tb(℃)と主成分の樹脂の融点Tm(℃)との差Tm-Tbが、10℃以上130℃以下であることが好ましい。Tm-Tbを10℃以上130℃以下、より好ましくは20℃以上100℃以下の範囲内とすることにより、混練時においてボイド核剤が微分散化し、延伸工程においてより確実にボイドを形成し、熱処理工程におけるボイド消失を抑制することができる。 The resin preferably used as the void nucleating agent is the difference Tm- Tb is preferably 10°C or higher and 130°C or lower. By setting Tm−Tb within the range of 10° C. or higher and 130° C. or lower, more preferably 20° C. or higher and 100° C. or lower, the void nucleating agent is finely dispersed during kneading, and voids are formed more reliably in the stretching process, Void disappearance in the heat treatment process can be suppressed.

ボイド核剤の具体的な例は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテンなどの直鎖状または分鎖状オレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリ(メタ)アクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、フッ素系樹脂などが選ばれる。なかでも好ましいのはオレフィン系樹脂またはスチレン系樹脂であり、オレフィン系樹脂としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4-メチルペンテン-1(以下、「ポリメチルペンテン」または「PMP」と略称することがある)、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-ブテン-1共重合体、環状オレフィンが、スチレン系樹脂としてはポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポリジメチルスチレンなどが好ましい。本発明で用いるボイド核剤としては、ポリエステル樹脂中にボイドを形成しやすく、かつ製膜性との両立がしやすいポリオレフィンが好ましく、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテンなどの直鎖状または分鎖状オレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂などが用いられる。特に、ボイドの形成および耐熱性の観点で、ポリメチルペンテンもしくは環状オレフィンが好ましく、よりガラス転移温度が高く、かつポリエステル中で微分散が可能な環状オレフィンが最も好ましい。
これらは単独重合体であっても共重合体であってもよく、さらには2種以上の熱可塑性樹脂を併用してもよい。
Specific examples of void nucleating agents include linear or branched olefin resins such as polyethylene, polypropylene, polybutene, and polymethylpentene, cyclic olefin resins, styrene resins, poly(meth)acrylate resins, and polycarbonate resins. , polyacrylonitrile resin, polyphenylene sulfide resin, fluorine-based resin, and the like. Among them, olefin-based resins or styrene-based resins are preferred. Examples of olefin-based resins include polyethylene, polypropylene, and poly-4-methylpentene-1 (hereinafter sometimes abbreviated as "polymethylpentene" or "PMP"). , ethylene-propylene copolymers, ethylene-butene-1 copolymers and cyclic olefins, and styrene resins such as polystyrene, polymethylstyrene and polydimethylstyrene. As the void nucleating agent used in the present invention, polyolefins that easily form voids in the polyester resin and are easily compatible with film-forming properties are preferred. Specifically, polyethylene, polypropylene, polybutene, polymethylpentene, and the like are preferred. Linear or branched olefin-based resins, cyclic olefin-based resins, and the like are used. In particular, from the viewpoint of void formation and heat resistance, polymethylpentene or cyclic olefin is preferable, and cyclic olefin which has a higher glass transition temperature and can be finely dispersed in polyester is most preferable.
These may be homopolymers or copolymers, and two or more thermoplastic resins may be used in combination.

本発明のポリエステルフィルムフィルムは、無機粒子を含有することが好ましい。無機粒子を含有させることで、光散乱に由来する入射面側への出射光量を増大させることができる。無機粒子の平均粒径としては、効果的な粒子散乱効果を得るためには、0.05μm以上1.00μm以下が好ましい。平均粒径を0.05μm以上、より好ましくは0.10μm以上、さらに好ましくは0.15μm以上とすることで、良好な分散性により凝集を防ぎつつ、効果的な粒子散乱効果を得ることができる。また、1.00μm以下、より好ましくは0.50μm以下、さらに好ましくは0.35μm以下とすることで、フィルム製膜時や穿孔加工時の破れを抑えることができる。また特に、0.10~0.50μmの範囲内とすることで、後述する特定ボイドの断面内密度や、フィルムの反射性能を効果的に高めることができる。なお、本発明における平均粒径とは、動的光散乱法にて測定される平均粒子径をさす。 The polyester film of the present invention preferably contains inorganic particles. By containing inorganic particles, the amount of light emitted to the incident surface side due to light scattering can be increased. The average particle diameter of the inorganic particles is preferably 0.05 μm or more and 1.00 μm or less in order to obtain an effective particle scattering effect. By setting the average particle size to 0.05 μm or more, more preferably 0.10 μm or more, and even more preferably 0.15 μm or more, it is possible to obtain an effective particle scattering effect while preventing aggregation due to good dispersibility. . Also, by setting the thickness to 1.00 μm or less, more preferably 0.50 μm or less, and even more preferably 0.35 μm or less, breakage during film formation or perforation can be suppressed. In particular, when the thickness is within the range of 0.10 to 0.50 μm, the cross-sectional density of specific voids, which will be described later, and the reflection performance of the film can be effectively increased. In addition, the average particle diameter in the present invention refers to the average particle diameter measured by the dynamic light scattering method.

無機粒子の材質は、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、レニウム、バナジウム、オスミウム、コバルト、鉄、亜鉛、ルテニウム、プラセオジウム、クロム、ニッケル、アルミニウム、スズ、亜鉛、チタン、タンタル、ジルコニウム、アンチモン、インジウム、イットリウム、ランタニウム、ケイ素などの金属、
酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セシウム、酸化アンチモン、酸化スズ、インジウム・スズ酸化物、酸化イットリウム、酸化ランタニウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素などの金属酸化物、
フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、氷晶石などの金属フッ化物、
リン酸カルシウムなどの金属リン酸塩、
炭酸カルシウムなどの炭酸塩、
硫酸バリウム、硫酸マグネシウムなどの硫酸塩、
窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化炭素などの窒化物、
ワラストナイト、セピオライト、ゾノトライトなどのケイ酸塩、
チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウムなどのチタン酸塩
などが挙げられる。また、これらの無機粒子は2種類以上用いてもよい。これらの中でも、屈折率、気泡形成、白色度、光学濃度など総合的効果の点から、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウムがより好ましく、特に酸化チタンが好適に用いられる。
Materials of inorganic particles include, for example, gold, silver, copper, platinum, palladium, rhenium, vanadium, osmium, cobalt, iron, zinc, ruthenium, praseodymium, chromium, nickel, aluminum, tin, zinc, titanium, tantalum, zirconium, metals such as antimony, indium, yttrium, lanthanum, silicon,
metal oxides such as zinc oxide, titanium oxide, cesium oxide, antimony oxide, tin oxide, indium tin oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, silicon oxide;
Metal fluorides such as lithium fluoride, magnesium fluoride, aluminum fluoride, cryolite,
metal phosphates such as calcium phosphate,
carbonates such as calcium carbonate,
Sulfates such as barium sulfate and magnesium sulfate,
Nitrides such as silicon nitride, boron nitride, carbon nitride,
silicates such as wollastonite, sepiolite and xonotlite,
Examples include titanates such as potassium titanate and strontium titanate. Moreover, two or more kinds of these inorganic particles may be used. Among these, titanium oxide, calcium carbonate, and barium sulfate are more preferable, and titanium oxide is particularly preferably used, from the viewpoint of comprehensive effects such as refractive index, bubble formation, whiteness, and optical density.

無機粒子の含有量は、ポリエステルフィルムのボイドを有する層に対して10質量%以上50質量%以下であることが好ましい。無機粒子の含有量を10質量%以上、より好ましくは20質量%以上とすることで、光散乱に由来する入射面側へ出射する光量が増大し、反射性能に優れたフィルムとなる。また50質量%以下、より好ましくは40質量%以下とすることで、フィルム延伸性の低下による生産性の低下や穿孔加工等の加工性の低下を防ぐことができる。 The content of the inorganic particles is preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the voided layer of the polyester film. By setting the content of the inorganic particles to 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, the amount of light emitted to the incident surface side due to light scattering increases, resulting in a film with excellent reflective performance. In addition, by making it 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, it is possible to prevent a decrease in productivity due to a decrease in film stretchability and a decrease in workability such as perforation.

特に、フィルム厚みが薄くなるほど生産性や加工性は低下しやすくなる。この生産性・加工性の低下を改善するため、無機粒子をボイド核剤中に含有せしめることも効果的である。無機粒子をボイド核剤中に含有せしめる方法として、無機粒子に熱可塑性樹脂との相溶性を高めるための表面処理を施すことが好ましい。表面処理剤としては、シリコーン、シランカップリング剤、アルミキレート剤、ポリ尿素などが好ましく用いられる。特に好ましくはシランカップリング剤である。 In particular, as the film thickness becomes thinner, the productivity and workability tend to decrease. It is also effective to incorporate inorganic particles into the void nucleating agent in order to improve the decrease in productivity and workability. As a method for incorporating the inorganic particles into the void nucleating agent, it is preferable to subject the inorganic particles to a surface treatment for enhancing compatibility with the thermoplastic resin. As the surface treatment agent, silicone, silane coupling agent, aluminum chelating agent, polyurea and the like are preferably used. A silane coupling agent is particularly preferred.

無機粒子の表面処理方法は特に限定されないが、例えば、乾式法または湿式法を挙げることができる。乾式法とは、攪拌機によって高速攪拌している無機材料の中に表面処理剤を滴下または噴霧して反応させる手法であり、湿式法とは、無機材料にアルコール等の有機溶剤を加えスラリーとした状態で表面処理剤を加え反応させる手法である。 The surface treatment method of the inorganic particles is not particularly limited, and examples thereof include a dry method and a wet method. The dry method is a method of reacting by dropping or spraying a surface treatment agent into an inorganic material that is being stirred at high speed by a stirrer, and the wet method is to add an organic solvent such as alcohol to the inorganic material to make a slurry. In this method, a surface treatment agent is added and reacted in the state.

例えばシランカップリング剤による処理の場合、常法に従って予め無機粒子をシランカップリング剤により表面処理し、ついで熱可塑性樹脂と溶融混練する方法が好ましく用いられる。また、予め無機粒子の表面処理を行わずに、無機粒子と熱可塑性樹脂を溶融混練する際に、カップリング剤を添加するインテグラブルブレンド法を用いることもできる。 For example, in the case of treatment with a silane coupling agent, a method of surface-treating inorganic particles with a silane coupling agent in advance according to a conventional method and then melt-kneading them with a thermoplastic resin is preferably used. Alternatively, an integral blend method may be used in which a coupling agent is added when the inorganic particles and the thermoplastic resin are melt-kneaded without subjecting the inorganic particles to surface treatment in advance.

無機粒子とボイド核剤とを溶融混練したマスターバッチを作った後に、そのマスターバッチと主成分の樹脂とを溶融混練することで、無機粒子がボイド核剤に含まれる構造を得ることができる。 A structure in which the inorganic particles are contained in the void nucleating agent can be obtained by melt-kneading the masterbatch and the main component resin after preparing a masterbatch by melt-kneading the inorganic particles and the void nucleating agent.

本発明のポリエステルフィルムは、ボイド含有量の異なる2層以上の層からなることが好ましい。加熱時のカール抑制や生産適性、製膜性の観点から、ボイド含有量が最も多い層(B層)と、表層(A層)がA/B/Aの順に3層に積層した構成が特に好ましい。A層とB層をA/B/Aの順に積層することにより、B層に含まれる粒子やボイド核剤の脱落などによる生産性低下を抑制し、高い製膜安定性を得ることができる。また、本発明のポリエステルフィルムは、4層以上の構成であってもよい。 The polyester film of the present invention preferably consists of two or more layers having different void contents. From the viewpoint of curl suppression during heating, production aptitude, and film forming properties, a layer with the highest void content (B layer) and a surface layer (A layer) are laminated in the order of A/B/A in three layers. preferable. By laminating the A layer and the B layer in the order of A/B/A, it is possible to suppress a decrease in productivity due to falling off of particles and void nucleating agents contained in the B layer, and obtain high film forming stability. Moreover, the polyester film of the present invention may have a structure of four or more layers.

本発明のポリエステルフィルムは、前述したポリエステル樹脂と、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分として含む層を少なくとも有し、かつ、該層のボイド含有率が10%以上であることが必要である。ボイド含有率は、フィルムを構成する各層の反射性能を示す指標であり、ボイド含有率が高くなることにより、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトに搭載した際に、より輝度を向上させることができる。好ましくは、ボイド含有率が35%以上である。ボイド含有率の上昇に伴いポリエステルフィルムはより多くの光を入射方向に回帰させられるようになり、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて、輝度向上効果に優れたフィルムを得ることができる。一方で、ボイドの過剰な形成は、隣接しているボイド同士の連結を誘起し、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおける、輝度向上効果が低下してしまう場合があるために、ボイド含有率は60%以下であることが好ましい。ボイド含有率を高める方法としては、ボイド核剤の選択と増量に加え、延伸倍率、延伸速度の調整や、後述する再MD延伸や再TD延伸を行うことでボイドを段階的に成長させていく方法などが挙げられる。 The polyester film of the present invention has at least a layer containing the polyester resin described above and a thermoplastic resin or inorganic particles incompatible with the polyester resin as a main component, and the void content of the layer is 10% or more. There must be The void content rate is an index that indicates the reflective performance of each layer that makes up the film. The higher the void content rate, the higher the brightness when mounted in a backlight that uses minute LEDs such as the mini-LED system. can be improved. Preferably, the void content is 35% or more. As the void content increases, the polyester film becomes able to return more light to the incident direction, and in the backlight using minute LEDs such as the mini LED system, it is possible to obtain a film that is excellent in brightness improvement effect. can be done. On the other hand, excessive formation of voids induces connection between adjacent voids, which may reduce the brightness improvement effect in backlights using minute LEDs such as the mini-LED system. , the void content is preferably 60% or less. As a method for increasing the void content, in addition to selecting and increasing the amount of the void nucleating agent, the voids are gradually grown by adjusting the stretching ratio and stretching speed, and performing re-MD stretching and re-TD stretching, which will be described later. methods and the like.

本発明のポリエステルフィルムは、FT-IR(ATR法)で測定した、ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面を構成するポリエステル樹脂の配向状態におけるトランス体の割合とゴーシュ体の割合との比(以下、「表面トランス/ゴーシュ比」と呼ぶことがある。)が、0.75倍以上であることが必要である。表面トランス/ゴーシュ比が高くなることにより、全面樹脂封止などの高温となる加工工程や、LED連続点灯などの高温環境において、フィルムの変形や基板からの剥離を抑制することができるとともに、打ち抜きを始めとしたフィルムの穿孔加工におけるバリの抑制が容易となる。 In the polyester film of the present invention, the ratio of the ratio of the trans isomer to the ratio of the gauche isomer in the orientation state of the polyester resin constituting at least one surface of the polyester film, measured by FT-IR (ATR method) (hereinafter referred to as " It is sometimes referred to as "surface trans/gauche ratio") must be 0.75 times or more. By increasing the surface transformer/gauche ratio, it is possible to suppress film deformation and peeling from the substrate in high-temperature processing processes such as full-surface resin sealing and in high-temperature environments such as LED continuous lighting. It is easy to suppress burrs in the perforation of films such as.

ミニLED方式のディスプレイに用いられる反射フィルムは、LEDの発光を反射フィルムが遮蔽してしまうことを防ぐため、厚み100μm以下のものが一般的であり、かかる厚みの反射フィルムは、粒子拡散効果により反射率を向上させるため、ボイド核剤の他に無機粒子を添加する場合がある。しかしながら、無機粒子を添加した反射フィルムを製膜する場合、無機粒子を含有する層は無機粒子を添加しない反射フィルムに比べ耐熱性が低く、また無機粒子によりポリエステル樹脂の配向結晶化が促進されるために、より低い延伸倍率で破れを生じるようになる。 Reflective films used in mini-LED displays generally have a thickness of 100 μm or less in order to prevent the reflective film from blocking the light emitted from the LEDs. In order to improve the reflectance, inorganic particles may be added in addition to the void nucleating agent. However, when forming a reflective film to which inorganic particles are added, the layer containing the inorganic particles has lower heat resistance than the reflective film to which the inorganic particles are not added, and the inorganic particles promote the oriented crystallization of the polyester resin. Therefore, tearing occurs at a lower draw ratio.

一方で、無機粒子を含有しない層のポリエステル樹脂は、低い延伸倍率で製膜するため配向が不十分であり、全面樹脂封止などの高温となる加工工程や、LED連続点灯などの高温環境において、フィルムの変形や基板からの剥離が発生する場合があるだけでなく、後述する穿孔過程においてバリが生じ、加工性を低下させる場合もある。 On the other hand, the polyester resin of the layer that does not contain inorganic particles has insufficient orientation because it is formed at a low stretching ratio, and in high-temperature processing processes such as full-surface resin sealing and in high-temperature environments such as LED continuous lighting. In addition, deformation of the film and peeling from the substrate may occur, and burrs may occur in the process of perforating the film, which will be described later, which may reduce workability.

また、ポリエステル樹脂、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分とした層の熱可塑性樹脂や無機粒子の添加量を減らした場合、ボイド含有率や無機粒子による光散乱性能が低下するため、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果が低下する場合がある。 In addition, when the amount of thermoplastic resin or inorganic particles added to the layer mainly composed of polyester resin, thermoplastic resin incompatible with polyester resin, or inorganic particles is reduced, the void content rate and light scattering performance due to inorganic particles decrease. As a result, the brightness improvement effect may decrease in a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system.

一方、本発明のとおり、表面トランス/ゴーシュ比が0.75以上となるポリエステルフィルムの場合、ポリエステル樹脂、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分とした層のボイド含有率が10%以上であっても、高度に配向した表層が高温環境下において膨張抑制層として働くことにより、フィルムの変形や基盤からの剥離を抑制する効果を得ることができる。 On the other hand, as in the present invention, in the case of a polyester film having a surface trans/gauche ratio of 0.75 or more, the void content of the layer mainly composed of a polyester resin, a thermoplastic resin incompatible with the polyester resin, or inorganic particles is 10% or more, the highly oriented surface layer acts as an expansion-suppressing layer in a high-temperature environment, so that it is possible to obtain the effect of suppressing film deformation and peeling from the substrate.

表面トランス/ゴーシュ比は、好ましくは0.8以上であり、より好ましくは0.85以上である。表面トランス/ゴーシュ比が0.8以上の場合には、より高温の環境においてもフィルムの変形を抑制することが可能となり、0.85以上の場合には、表層が高度に配向し強力化されるために、前記の耐熱性向上効果に加え、穿孔加工におけるバリの発生を抑制することも可能となる。一方、穿孔加工などの、フィルムに強い衝撃を加える加工時に、フィルムが破損してしまうことを防ぐ観点から、表面トランス/ゴーシュ比は3.0以下であることが好ましい。 The surface trans/gauche ratio is preferably 0.8 or greater, more preferably 0.85 or greater. When the surface trans/gauche ratio is 0.8 or more, it is possible to suppress deformation of the film even in a higher temperature environment, and when it is 0.85 or more, the surface layer is highly oriented and strengthened. Therefore, in addition to the effect of improving the heat resistance described above, it is also possible to suppress the occurrence of burrs in the drilling process. On the other hand, the surface transformer/gauche ratio is preferably 3.0 or less from the viewpoint of preventing the film from being damaged during processing such as perforation that applies a strong impact to the film.

表面トランス/ゴーシュ比をかかる範囲とするための達成方法としては、後述する再MD延伸や再TD延伸を行い、各延伸段階の延伸倍率や延伸速度、MD方向とTD方向のトータル延伸倍率の比を特定の範囲内に制御したり、添加するボイド核剤や無機粒子の含有量や種類を最適なものにしたりする方法が挙げられる。 As a method for achieving the surface trans/gauche ratio in such a range, re-stretching in MD and re-stretching in TD, which will be described later, are performed, and the draw ratio and draw speed at each drawing stage, the ratio of the total draw ratio in the MD direction and the TD direction. is controlled within a specific range, or the content and type of the void nucleating agent and inorganic particles to be added are optimized.

本発明のポリエステルフィルムは、フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれのボイド含有率Va(%)、Vb(%)について、Vb/Vaが1.2以上であることが好ましい。ここで主軸方向とは、フィルムの垂直断面を作製する際に切削方向をフィルム面に対して5°刻みで0~90°回転させながら19の垂直断面を作製し、そのそれぞれの垂直断面について前述したボイド含有率を測定した場合に、ボイド含有率の値が最も高くなる時の切削方向をさす。Vb/Vaを増加させることで、ボイドの構造がより強固となり、全面樹脂封止などの高温となる加工工程や、LED連続点灯などの高温環境における耐熱性を向上させることができる。また、Vb/Vaの増加に従って、ボイドが主軸方向に引き伸ばされた形状をとることで光拡散性が向上し、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいてより輝度を向上させることが可能である。Vb/Vaは、好ましくは1.4以上、より好ましくは1.5以上である。Vb/Vaが1.4以上の場合には、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果が得られ、Vb/Vaが1.5以上の場合には、より明確な輝度向上効果を得ることができる。一方、隣接するボイド同士の連結を抑制する観点から、Vb/Vaは、4.0以下であることが好ましい。
VaおよびVbをかかる範囲とするための達成方法としては、後述する再MD延伸や再TD延伸を行ったり、各延伸段階の延伸倍率や延伸速度、MD方向とTD方向のトータル延伸倍率の比を特定の範囲内に制御したり、添加するボイド核剤や無機粒子の含有量や種類を最適なものにしたりする方法が挙げられる。
In the polyester film of the present invention, Vb/Va is 1 for the void content rate Va (%) and Vb (%) of each of the cross section A with the main axis direction of the film as the cutting direction and the cross section B with the main axis direction as the normal line. .2 or more is preferable. Here, the principal axis direction means that 19 vertical cross sections are prepared while rotating the cutting direction from 0 to 90 degrees with respect to the film surface in increments of 5 degrees when preparing a vertical cross section of the film, and each vertical cross section is described above. This refers to the cutting direction when the void content rate is the highest when the void content rate is measured. By increasing Vb/Va, the structure of voids becomes stronger, and heat resistance can be improved in high-temperature processing processes such as full-surface resin sealing and in high-temperature environments such as LED continuous lighting. In addition, as the Vb/Va increases, the void takes a shape elongated in the direction of the main axis, thereby improving the light diffusibility, and the backlight using minute LEDs such as the mini LED system can further improve the brightness. It is possible. Vb/Va is preferably 1.4 or more, more preferably 1.5 or more. When Vb/Va is 1.4 or more, a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system can obtain a brightness improvement effect. A brightness improvement effect can be obtained. On the other hand, from the viewpoint of suppressing connection between adjacent voids, Vb/Va is preferably 4.0 or less.
As a method for achieving Va and Vb in such ranges, re-stretching in MD or re-stretching in TD, which will be described later, is performed, the draw ratio and draw speed of each drawing stage, and the ratio of the total draw ratio in the MD direction and the TD direction are adjusted. Examples include a method of controlling within a specific range, and a method of optimizing the content and type of the void nucleating agent and inorganic particles to be added.

本発明のポリエステルフィルムは、フィルムの主軸方向および主軸方向に直交する方向の50℃~150℃の熱膨張係数(CTE)の平均が0ppm/℃以上30ppm/℃以下であることが好ましい。主軸方向および主軸方向に直交する方向の50℃~150℃の熱膨張係数が0ppm/℃以上30ppm/℃以下となることで、高温環境下においてフィルムが熱膨張することによる穿孔の閉塞、および閉塞に伴い光源に負荷がかかることによる光源の損傷を防ぐことが可能な、耐熱性に優れたフィルムを得ることができる。抑制主軸方向および主軸方向に直交する方向の50℃~150℃の熱膨張係数の上限は、好ましくは30ppm/℃以下であり、より好ましくは25ppm/℃以下であり、特に好ましくは15ppm/℃以下である。主軸方向および主軸方向に直交する方向の50℃~150℃の熱膨張係数が25ppm/℃以下である場合には、より小口径の穿孔であっても穿孔の閉塞を防ぐことができ、15ppm/℃以下である場合には、より高温な環境であっても、穿孔の閉塞を防ぐことが可能な、耐熱性に優れたフィルムを得ることができる。 The polyester film of the present invention preferably has an average coefficient of thermal expansion (CTE) of 0 ppm/° C. or more and 30 ppm/° C. or less at 50° C. to 150° C. in the principal axis direction of the film and in the direction perpendicular to the principal axis direction. The thermal expansion coefficient of 50 ° C. to 150 ° C. in the direction of the main axis and the direction perpendicular to the direction of the main axis is 0 ppm / ° C. or more and 30 ppm / ° C. or less, so that the film thermally expands in a high temperature environment. It is possible to obtain a film excellent in heat resistance, which can prevent the light source from being damaged due to the load applied to the light source. The upper limit of the coefficient of thermal expansion at 50° C. to 150° C. in the restrained main axis direction and the direction perpendicular to the main axis direction is preferably 30 ppm/° C. or less, more preferably 25 ppm/° C. or less, and particularly preferably 15 ppm/° C. or less. is. If the coefficient of thermal expansion at 50° C. to 150° C. in the direction of the main axis and in the direction perpendicular to the direction of the main axis is 25 ppm/° C. or less, blockage of the perforations can be prevented even if the perforations have a smaller diameter, and the coefficient of thermal expansion is 15 ppm/ °C or less, it is possible to obtain a film with excellent heat resistance that can prevent clogging of the perforations even in a higher temperature environment.

かかる範囲の主軸方向および主軸方向に直交する方向の50℃~150℃の熱膨張係数を達成するための方法としては、ボイド核剤や無機粒子の選択を始めとした原料の調整のみでなく、後述する再MD延伸や再TD延伸を行うことでボイドを段階的に成長させていく方法や、TD延伸後、再MD延伸を行う前に弛緩処理を施す方法、再延伸後の熱処理温度を適切な範囲に調整する方法なども挙げられる。 As a method for achieving a coefficient of thermal expansion of 50° C. to 150° C. in the main axis direction and in the direction perpendicular to the main axis direction in such a range, not only adjustment of raw materials such as selection of void nucleating agents and inorganic particles but also A method of gradually growing voids by performing re-MD stretching and re-TD stretching, which will be described later, a method of performing relaxation treatment before re-MD stretching after TD stretching, and a heat treatment temperature after re-stretching are appropriately set. A method of adjusting to a suitable range may also be mentioned.

本発明のポリエステルフィルムは、フィルムの主軸方向および主軸方向に直交する方向における、150℃で2時間加熱した場合の熱収縮率の平均が0.05%以上0.5%以下であることが好ましい。フィルムの主軸方向および主軸方向に直交する方向における、150℃で2時間加熱した場合の熱収縮率の平均を0.05%以上0.5%以下とすることで、高温環境におけるフィルムの変形が抑制されるため、全面樹脂封止などの高温となる加工工程や、LED連続点灯などの高温環境における耐熱性がより良好なものとなる。主軸方向および主軸方向に直交する方向における、150℃で2時間加熱した場合の熱収縮率の平均の上限は、好ましくは0.5%以下であり、より好ましくは0.4%以下、特に好ましくは0.3%以下である。主軸方向および主軸方向に直交する方向における、150℃で2時間加熱した場合の熱収縮率の平均が0.4%以下である場合は、高温環境におけるフィルムの変形に伴う穿孔の拡大を抑え、基盤からの剥離を防ぐことが可能となり、より耐熱性に優れたフィルムを得ることができる。0.3%以下である場合は、より小口径な穿孔加工を行ったフィルムに対しても、高温環境におけるフィルムの変形に伴う穿孔の拡大を抑え、基盤からの剥離を防ぐことが可能となるため、加工性と耐熱性に優れたフィルムを得ることができる。一方、主軸方向および主軸方向に直交する方向における、150℃で2時間加熱した場合の熱収縮率の平均が0.05%未満である場合は、バックライトの基盤の熱収縮との間に差が生じることで、基盤との剥離が進行してしまう場合がある。また、0.5%より大きい場合には、高温環境においてフィルムの変形と基盤からの剥離が起きる場合がある。主軸方向および主軸方向に直交する方向における、150℃で2時間加熱した場合の熱収縮率の平均をかかる範囲にするための方法としては、ボイド核剤や無機粒子の選択を始めとした原料を調整する方法、後述する再MD延伸や再TD延伸を行う方法、TD延伸後に弛緩処理を施す方法、熱処理温度を適切な範囲に調整する方法などが挙げられる
本発明のポリエステルフィルムは、フィルム断面を観察した時に断面積0.1μm以上1.0μm以下のボイドの密度が0.25個/μm以上1.25個/μm以下であることが好ましい。ここで、ボイドの断面積は画像解析ソフトを用いて断面解析データを2値化した際の、その2値化データにおける白領域の面積を測定することで求められ、ボイドの密度は前記範囲のボイドの数を画像面積で除することにより求められる。ボイドの断面積が0.1μm未満の場合には、当該ボイドは可視光領域の光を反射することなくほぼ透過させてしまうため、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果が低下する場合がある。またボイドの断面積を1.0μm未満とすることで、ボイドが光を反射するために必要なサイズを維持しつつ、多くのボイドをフィルムに含有できるため、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果に優れたフィルムを得ることができる。
フィルム断面を観察した時に断面積0.1μm以上1.0μm以下のボイドの密度を0.4個/μm以上、とすることで、光の散乱が多重的に起きることによる反射率の向上を高め、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて優れた輝度向上効果を得ることができる。前記ボイドの密度の下限は、好ましくは0.8個/μm以上である。0.8個/μm以上とすることにより、ボイドが密に充填され、多様な角度の散乱光をより反射することが可能となるため、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいてより優れた輝度向上効果を得ることができる、一方、0.25個/μm未満の場合、ボイドの反射性能が低く、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果が低い場合がある。また、1.25個/μm以下とすることで、ボイドの微細化による輝度向上効果の低下を抑制することができる。
フィルム断面を観察した時に断面積0.1μm以上1.0μm以下のボイドの密度の好ましい範囲は、前述したように添加する無機粒子の粒径を選択したり、後述する再MD延伸、再TD延伸を行ったりすることにより達成することができる。
The polyester film of the present invention preferably has an average thermal shrinkage rate of 0.05% or more and 0.5% or less when heated at 150 ° C. for 2 hours in the main axis direction of the film and in the direction perpendicular to the main axis direction. . By setting the average thermal shrinkage rate when heated at 150 ° C. for 2 hours in the main axis direction of the film and in the direction perpendicular to the main axis direction to 0.05% or more and 0.5% or less, the deformation of the film in a high temperature environment is reduced. Since it is suppressed, the heat resistance in high-temperature processing processes such as full-surface resin sealing and in high-temperature environments such as LED continuous lighting is improved. The upper limit of the average thermal shrinkage rate when heated at 150° C. for 2 hours in the principal axis direction and the direction perpendicular to the principal axis direction is preferably 0.5% or less, more preferably 0.4% or less, and particularly preferably 0.4% or less. is 0.3% or less. When the average thermal shrinkage rate when heated at 150 ° C. for 2 hours in the principal axis direction and the direction perpendicular to the principal axis direction is 0.4% or less, expansion of perforations due to deformation of the film in a high temperature environment is suppressed, It becomes possible to prevent peeling from the substrate and obtain a film with more excellent heat resistance. If it is 0.3% or less, it is possible to suppress the expansion of perforations due to deformation of the film in a high-temperature environment and prevent peeling from the substrate even for a film that has been perforated with a smaller diameter. Therefore, a film excellent in workability and heat resistance can be obtained. On the other hand, if the average thermal shrinkage rate is less than 0.05% when heated at 150° C. for 2 hours in the main axis direction and in the direction orthogonal to the main axis direction, there is a difference between the heat shrinkage of the backlight substrate. As a result, the separation from the substrate may progress. On the other hand, when it is more than 0.5%, deformation of the film and peeling from the substrate may occur in a high temperature environment. As a method for making the average of the thermal shrinkage rate when heated at 150 ° C. for 2 hours in the main axis direction and the direction perpendicular to the main axis direction within the above range, raw materials such as selection of void nucleating agents and inorganic particles are selected. A method of adjusting, a method of performing re-MD stretching and re-TD stretching described later, a method of performing relaxation treatment after TD stretching, a method of adjusting the heat treatment temperature to an appropriate range, etc. The polyester film of the present invention has a film cross section. When observed, the density of voids having a cross-sectional area of 0.1 μm 2 or more and 1.0 μm 2 or less is preferably 0.25/μm 2 or more and 1.25/μm 2 or less. Here, the void cross-sectional area is obtained by measuring the area of the white region in the binarized data when the cross-sectional analysis data is binarized using image analysis software, and the void density is within the above range. It is obtained by dividing the number of voids by the image area. If the cross-sectional area of the void is less than 0.1 μm 2 , the void transmits light in the visible light region without reflecting it. The improvement effect may decrease. In addition, by setting the cross-sectional area of the voids to less than 1.0 μm 2 , the film can contain many voids while maintaining the size necessary for the voids to reflect light. It is possible to obtain a film excellent in luminance improvement effect in a backlight using.
By setting the density of voids having a cross-sectional area of 0.1 μm 2 or more and 1.0 μm 2 or less to 0.4 voids/μm 2 or more when observing the cross section of the film, the reflectance is reduced due to the multiple occurrence of light scattering. It is possible to obtain an excellent brightness improvement effect in a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system. The lower limit of the void density is preferably 0.8 voids/μm 2 or more. By making it 0.8/μm 2 or more, the voids are densely filled and it is possible to reflect scattered light at various angles, so backlights using minute LEDs such as the mini LED method On the other hand, if it is less than 0.25 / μm 2 , the reflection performance of the void is low, and the backlight using minute LEDs such as the mini LED method has a brightness improvement effect. may be low. Further, by setting the number of voids to 1.25/μm 2 or less, it is possible to suppress a decrease in the luminance improvement effect due to miniaturization of voids.
The preferable range of the density of voids having a cross-sectional area of 0.1 μm 2 or more and 1.0 μm 2 or less when observing the film cross section is determined by selecting the particle size of the inorganic particles to be added as described above, or by re-MD stretching and re-stretching described later. It can be achieved by performing TD stretching.

本発明のポリエステルフィルムは、フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、フィルムの主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれの厚み方向における厚み1μmあたりの平均ボイド数が0.4個以上4.0個以下であることが好ましい。ここで、厚み1μmあたりのボイド数とは、フィルムの反射性能を示す指標であり、任意の断面における断面解析データをそれぞれ2値化し、厚み方向に平行な直線を引いた時に、直進が通過する白領域の数Nwと直線の長さDを用いて下記式で求められる。
厚み1μmあたりのボイド数(個/μm)=Nw/D
フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、フィルムの主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれの厚み方向における厚み1μmあたりの平均ボイド数を0.4個以上とすることで、ボイドを透過した光が別のボイドに反射され、入射方向に回帰されるため、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果に優れたフィルムを得ることができる。
In the polyester film of the present invention, the average number of voids per 1 μm in the thickness direction of each of the cross section A with the main axis direction of the film as the cutting direction and the cross section B with the main axis direction of the film as the normal line is 0.4 or more 4 0 or less is preferable. Here, the number of voids per 1 μm of thickness is an index that indicates the reflection performance of the film. Using the number Nw of white areas and the length D of the straight line, it is obtained by the following formula.
Number of voids per 1 μm thickness (number/μm) = Nw/D
The average number of voids per 1 μm in the thickness direction of each of the cross section A with the film main axis direction as the cutting direction and the cross section B with the film main axis direction as the normal is 0.4 or more, so that the voids can be penetrated. Since the emitted light is reflected by another void and returned to the direction of incidence, it is possible to obtain a film excellent in brightness improvement effect in a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system.

フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、フィルムの主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれの厚み方向における厚み1μmあたりの平均ボイド数は、好ましくは0.4個以上であり、より好ましくは1.0個以上である。厚み1μmあたりの平均ボイド数が1.0個以上である場合は、厚み方向に存在するボイドが厚み方向からの入射光に対し相互に干渉し合い、多重に反射と透過が繰り返されることで、より多くの光を入射方向に反射させられるため、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果により優れたフィルムを得られる。一方、0.4個未満の場合、ボイドが光を反射す回数が少なく、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおける輝度向上効果が低下する場合がある。また、3.0個以下とすることで、隣接したボイド同士が厚み方向で連結することによる反射率の低下と剛性の低下を抑制でき、穿孔加工において破れにくく、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果に優れたフィルムを得ることができる。
かかるボイド層数の平均を達成するための方法としては、分散剤を添加しボイド核剤の粒径を選択する方法、後述する再MD延伸、再TD延伸を行う方法などが挙げられる。
The average number of voids per 1 μm of thickness in each thickness direction of cross section A with the film main axis direction as the cutting direction and cross section B with the film main axis direction as the normal is preferably 0.4 or more, more preferably. is 1.0 or more. When the average number of voids per 1 μm of thickness is 1.0 or more, the voids existing in the thickness direction interfere with incident light from the thickness direction, and multiple reflections and transmissions are repeated. Since more light can be reflected in the direction of incidence, it is possible to obtain a film that is excellent in brightness improvement effect in a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system. On the other hand, if the number of voids is less than 0.4, the number of voids that reflect light is small, and the effect of improving brightness in a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system may decrease. In addition, by making it 3.0 or less, it is possible to suppress the decrease in reflectance and the decrease in rigidity due to the connection of adjacent voids in the thickness direction, and it is difficult to break during drilling, and the mini LED method etc. It is possible to obtain a film excellent in luminance improvement effect in a backlight using.
Examples of methods for achieving such an average number of void layers include a method of adding a dispersant and selecting the particle size of the void nucleating agent, a method of performing re-MD stretching and re-TD stretching, which will be described later.

本発明のポリエステルフィルムは、フィルムの主軸方向と主軸方向に直交する方向のヤング率との和が4.0GPa以上20GPa以下であることが好ましい。フィルムの主軸方向と主軸方向に直交する方向とのヤング率の和を5.0MPa以上とすることで、ボイド核剤または無機粒子を添加することによるフィルムの剛性の低下が抑制され、穿孔加工などの加工性に優れたフィルムを得ることができる。フィルムの主軸方向と主軸方向に直交する方向とのヤング率の和の下限は、好ましくは5.0GPa以上であり、より好ましくは6.0GPa以上であり、さらに好ましくは7.0GPa以上である。フィルムの主軸方向と主軸方向に直交する方向とのヤング率の和が6.0GPa以上である場合は、穿孔加工において、穿孔によるバリの発生をより抑制できることに加え、破片がフィルムに残留することによる加工不良を防ぐことが可能となり、7.0GPa以上である場合は、穿孔加工などの加工性が向上するのみでなく、高温環境下におけるフィルムの変形を抑制し、耐熱性に優れたフィルムを得ることができる。一方、フィルムの主軸方向と主軸方向に直交する方向とのヤング率の和が4.0GPa未満である場合は、穿孔加工におけるバリの発生が顕著であるとともに、穿孔による破片がフィルムに残留することによる加工不良が生じ、加工性が低下する場合がある。また、フィルムの主軸方向と主軸方向に直交する方向とのヤング率の和が20GPaより大きい場合には、フィルムの柔軟性が失われるために、例えば穿孔加工でフィルムが欠けるなど、加工性が低下する場合がある。
フィルムの主軸方向と主軸方向に直交する方向のヤング率の和をかかる範囲にするための方法としては、後述する再MD延伸や再TD延伸を行う方法や、各延伸段階の延伸倍率や延伸速度を制御する方法が挙げられる。
In the polyester film of the present invention, the sum of the Young's modulus in the principal axis direction of the film and the direction perpendicular to the principal axis direction is preferably 4.0 GPa or more and 20 GPa or less. By setting the sum of the Young's moduli in the principal axis direction of the film and the direction perpendicular to the principal axis direction to 5.0 MPa or more, the reduction in the rigidity of the film due to the addition of a void nucleating agent or inorganic particles is suppressed, and perforation processing etc. A film having excellent processability can be obtained. The lower limit of the sum of the Young's moduli in the principal axis direction of the film and the direction orthogonal to the principal axis direction is preferably 5.0 GPa or more, more preferably 6.0 GPa or more, and still more preferably 7.0 GPa or more. When the sum of the Young's moduli in the direction of the principal axis of the film and the direction perpendicular to the direction of the principal axis is 6.0 GPa or more, in perforation processing, the generation of burrs due to perforation can be further suppressed, and fragments remain in the film. If it is 7.0 GPa or more, it not only improves workability such as perforation, but also suppresses deformation of the film in a high-temperature environment, resulting in a film with excellent heat resistance. Obtainable. On the other hand, when the sum of the Young's moduli in the direction of the principal axis of the film and the direction perpendicular to the direction of the principal axis is less than 4.0 GPa, the generation of burrs in the perforation process is remarkable, and fragments due to perforation remain in the film. Machining defects may occur due to this, and the workability may deteriorate. In addition, when the sum of the Young's moduli in the direction of the principal axis of the film and the direction perpendicular to the direction of the principal axis is greater than 20 GPa, the flexibility of the film is lost. sometimes.
Methods for adjusting the sum of Young's moduli in the principal axis direction and the direction perpendicular to the principal axis direction of the film to the above range include a method of performing re-MD stretching and re-TD stretching, which will be described later, and a stretching ratio and stretching speed at each stretching stage. can be controlled.

本発明のポリエステルフィルムは、フィルム内で光の反射、散乱、吸収が過度に繰り返されることで入射方向に回帰される光の強度が低下し、LEDを用いたバックライトに搭載した際の輝度向上効果が低下してしまうことを抑制する観点から、ポリエステル樹脂と、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分として含む層の厚みが10μm以上188μm以下であることが好ましい。また、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおける輝度向上の観点から、前記厚みの上限は、より好ましくは100μm以下である。また、本発明のポリエステルフィルムが積層構造を有する場合、ポリエステルフィルム全体の厚みに対する前記層の厚みが占める割合は50%以上90%以下であることが好ましい。 In the polyester film of the present invention, the reflection, scattering, and absorption of light are excessively repeated in the film, so that the intensity of the light returned to the incident direction is reduced, and the brightness is improved when mounted in a backlight using LEDs. From the viewpoint of suppressing deterioration of the effect, the thickness of the layer containing the polyester resin and the thermoplastic resin or inorganic particles incompatible with the polyester resin as main components is preferably 10 μm or more and 188 μm or less. Moreover, from the viewpoint of improving the brightness of a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system, the upper limit of the thickness is more preferably 100 μm or less. Moreover, when the polyester film of the present invention has a laminated structure, the ratio of the thickness of the layer to the thickness of the entire polyester film is preferably 50% or more and 90% or less.

本発明のポリエステルフィルムは、その薄さや、反射性能の高さ、白色性、絶縁性、低比重性、断熱性の高さなどを活用して、ディスプレイ用反射板、照明用反射板、壁紙、光漏れ遮蔽ラベル、紙代替印字シート、コイル被覆用絶縁シート、断熱スペーサーなどの種々の用途に用いることができるが、中でも特に高い反射性能と薄膜性が必要とされるディスプレイ用途に好適に用いることができ、特にミニLED基板用途に好適である。ここで、ミニLEDとは、近年のディスプレイの高輝度、高コントラスト、広色域のニーズから、サイズが大幅に微小化したLEDの総称である。LEDは、サイズによって大きい方から従来のLED(幅数mm四方、高さ数mm)、ミニLED(幅数mm四方、高さ100μm前後)、マイクロLED(幅100μm前後以下、高さ50μm以下)といった分類がされる場合もあるが、実態はそれぞれの名称が意味するサイズの境界が明確ではない。本願においては「ミニLED」という言葉を用いる場合、プリント基板上での設置高さが5μm以上、200μm以下のLEDをさす。 The polyester film of the present invention utilizes its thinness, high reflective performance, whiteness, insulation, low specific gravity, high heat insulation, etc., and can be used as a reflector for displays, a reflector for lighting, wallpaper, It can be used for various purposes such as light leakage shielding labels, paper substitute printing sheets, insulating sheets for coil coating, and heat insulating spacers. and is particularly suitable for mini LED substrate applications. Here, the mini-LED is a general term for LEDs whose size is significantly miniaturized in order to meet the needs of recent displays for high brightness, high contrast, and wide color gamut. LEDs are conventional LEDs (several millimeters square, several millimeters high), mini LEDs (several millimeters square, around 100 μm high), and micro LEDs (around 100 μm or less in width and 50 μm or less in height). Although there are cases where it is classified as such, in reality, the boundary of the size that each name means is not clear. In the present application, when the term "mini-LED" is used, it means an LED with an installation height of 5 μm or more and 200 μm or less on a printed circuit board.

本発明のポリエステルフィルムは、ミニLEDチップがプリント基板上に搭載されたミニLED基板の反射材料として用いられることが好ましい。その場合、ミニLEDのサイズと個数、配置パターンに併せて、フィルムには複数の穿孔によるパターン加工が施されているものが好ましい。パターン加工を施すことで、簡便な工程で、ミニLEDが配置された基板に本発明のポリエステルフィルムを貼り合わせたり、あるいは基板に本発明のポリエステルフィルムを貼り合わせたものにミニLEDを配置させたりすることができる。パターン加工の加工方法は、トムソン刃打抜きや、ピナクル型打抜き、メカニカルパンチャーなどといった機械的な打抜きによるものや、レーザーによる焼抜き加工などを用いることができる。 The polyester film of the present invention is preferably used as a reflective material for mini-LED substrates in which mini-LED chips are mounted on printed substrates. In that case, it is preferable that the film is patterned with a plurality of perforations in accordance with the size, number, and arrangement pattern of the mini LEDs. By patterning, the polyester film of the present invention can be laminated to a substrate on which mini LEDs are arranged, or mini LEDs can be arranged on a substrate in which the polyester film of the present invention is laminated. can do. As a patterning method, mechanical punching such as Thomson blade punching, pinnacle punching, or mechanical punching, or laser baking can be used.

本発明のポリエステルフィルムが用いられた前記ミニLED基板は、バックライトとして用いられることが好ましい。バックライトとは、液晶ディスプレイの表示面を背後から照らす照明部材である。ミニLED基板を用いる場合には表示面の直下に多数のLED光源が並んで直接表示の輝度を調整する「直下型」と呼ばれるバックライトが一般的である。バックライトの構成の一例としては、例えば図1のようなものを挙げることができる。図1において、封止材の封止高さはLEDの設置高さよりも高くなるよう設計されるのが一般的であるが、本発明のポリエステルフィルムが搭載されることで、封止高さが小さくてもLEDの光を広範囲へ拡散させて液晶パネルの表示面方向へと出射させることができるため好ましい。 The mini LED substrate using the polyester film of the present invention is preferably used as a backlight. A backlight is an illumination member that illuminates the display surface of a liquid crystal display from behind. When a mini-LED substrate is used, a backlight called "direct type" is generally used, in which a large number of LED light sources are arranged directly under the display surface to directly adjust the brightness of the display. An example of the configuration of the backlight is shown in FIG. 1, for example. In FIG. 1, the sealing height of the sealing material is generally designed to be higher than the installation height of the LED, but by mounting the polyester film of the present invention, the sealing height is Even if it is small, the light from the LED can be diffused over a wide range and emitted in the direction of the display surface of the liquid crystal panel, which is preferable.

<ポリエステルフィルムの製造方法>
次に本発明のポリエステルフィルムの製造方法について、具体例を挙げて説明する。なお、本発明のポリエステルフィルムは下記の製法により得られるものに限定されるものではない。
<Method for producing polyester film>
Next, a specific example is given and demonstrated about the manufacturing method of the polyester film of this invention. In addition, the polyester film of the present invention is not limited to those obtained by the following manufacturing method.

少なくとも2台の一軸もしくは二軸押出機、または主押出機と副押出機を有する複合製膜装置において、主押出機にB層の原料となる樹脂、副押出機にA層の原料となる樹脂を投入する。それぞれの原料は水分率が50ppm以下となるように乾燥されていることが好ましい。このようにして各押出機に原料を供給し、例えば2台の押出機と直線状のリップを有する金型(Tダイ)上部に設置したフィードブロックやマルチマニホールドにてA/B/Aの3層積層フィルムとすることができる。押出された未延伸シートを冷却されたキャストドラム上で密着冷却固化し、未延伸積層フィルムを得る。このとき、均一なフィルムを得るために静電気を印加してキャストドラム上に密着させることが好ましい。 At least two single-screw or twin-screw extruders, or a composite film forming apparatus having a main extruder and a sub-extruder, in which the main extruder has a resin that is used as a raw material for layer B, and the sub-extruder has a resin that is used as a raw material for layer A. to put in. Each raw material is preferably dried to a moisture content of 50 ppm or less. In this way, the raw material is supplied to each extruder, and, for example, two extruders and a mold (T die) having a linear lip are installed at the upper part of the feed block or multi-manifold to produce 3 of A / B / A. It can be a layer laminated film. The extruded unstretched sheet is cooled and solidified on a cooled casting drum to obtain an unstretched laminated film. At this time, in order to obtain a uniform film, it is preferable to apply static electricity to bring the film into close contact with the casting drum.

この未延伸フィルムをロール加熱、必要に応じて赤外線加熱等で未延伸状態のフィルムのガラス転移温度Tgに対してTg以上、Tg+60℃以下に加熱し、長手方向(以降、MDと呼ぶ)に延伸する(MD延伸)。MD延伸は2個以上のロールの周速差を利用して行うことが好ましい。MD延伸の倍率は1.5倍以上6.0倍以下が好ましい。1.5倍以上、より好ましくは2.0倍以上、さらに好ましくは2.5倍以上である。この1回目のMD延伸の目的は、ボイドを形成させるとともに、次に続くフィルム幅方向への延伸時の均一延伸性を向上させるために必要最低限の配向を設けることにある。そのため、延伸倍率を6.0倍より大きい倍率とする場合、後述のフィルム幅方向延伸、および、その工程後に実施されるMD方向への再延伸時に十分な延伸倍率のフィルムが得られなくなる場合がある。また、延伸倍率が1.5倍未満である場合には、ボイドが十分に形成されず、LED方式のバックライトに搭載した場合の輝度向上効果が低下する場合がある。延伸速度は、LED方式のバックライトに搭載した場合の輝度向上効果を高めるために25%/秒以上750%/秒以下とすることが好ましく、より好ましくは100%/秒以上500%/秒以下である。 This unstretched film is heated by roll heating, and if necessary, by infrared heating, etc., to a glass transition temperature Tg of the unstretched film Tg or higher and Tg + 60 ° C. or lower, and stretched in the longitudinal direction (hereinafter referred to as MD). (MD stretching). MD stretching is preferably carried out using a difference in peripheral speed between two or more rolls. The MD stretching ratio is preferably 1.5 times or more and 6.0 times or less. It is 1.5 times or more, more preferably 2.0 times or more, still more preferably 2.5 times or more. The purpose of the first MD stretching is to form voids and to provide the minimum necessary orientation for improving the uniform stretchability during subsequent stretching in the width direction of the film. Therefore, when the draw ratio is greater than 6.0 times, it may not be possible to obtain a film with a sufficient draw ratio when stretching the film in the width direction described below and re-stretching in the MD direction performed after that step. be. Moreover, when the stretching ratio is less than 1.5 times, voids are not sufficiently formed, and the brightness improvement effect when mounted on an LED type backlight may decrease. The stretching speed is preferably 25%/second or more and 750%/second or less, more preferably 100%/second or more and 500%/second or less in order to enhance the luminance improvement effect when mounted on an LED type backlight. is.

MD延伸後、続いて、MDと直交する方向(以降、TDと呼ぶ)に延伸(TD延伸)を行う。TD延伸の方法としては、テンターを用いる方法が好ましい。このとき、TD延伸のための予熱および延伸温度は未延伸状態のフィルムのガラス転移温度Tgに対して、Tg+10℃以上、Tg+50℃以下で行うのが好ましい。TD延伸の倍率は、2.5倍以上6.0倍以下が好ましい。このTD方向への延伸の目的は、MD延伸により形成されたボイドをTD方向に拡張させ、ボイドの含有率を増やすとともに、次に続くフィルムMD方向への延伸時の高い延伸性を付与するために必要最低限の配向を設けることにある。そのため、延伸倍率を6.0倍より大きい倍率とする場合、この工程に続いて実施されるMD方向への再延伸時に十分な延伸倍率のフィルムが得られなくなる場合がある。また、延伸倍率が2倍未満である場合には、ボイドが十分に拡張されず、LED方式のバックライトに搭載した場合の輝度向上効果が低下する場合がある。TD延伸倍率を2.5倍以上、より好ましくは3.0倍以上とすることで、LED方式のバックライトに搭載した場合の輝度向上効果に優れたフィルムを得ることができる。またTD延伸倍率を6.0倍以下、より好ましくは4.5倍以下とすることで、製膜中の破断の発生を防ぐことができる。延伸速度は、ポリエステルフィルムの反射率を高めるために5%/秒以上150%/秒以下とすることが好ましく、より好ましくは10%/秒以上100%/秒以下である。 After the MD stretching, the film is then stretched in a direction perpendicular to the MD (hereinafter referred to as TD) (TD stretching). As a method of TD stretching, a method using a tenter is preferable. At this time, the preheating and stretching temperature for the TD stretching is preferably Tg+10° C. or more and Tg+50° C. or less with respect to the glass transition temperature Tg of the unstretched film. The ratio of TD stretching is preferably 2.5 times or more and 6.0 times or less. The purpose of the stretching in the TD direction is to expand the voids formed by the MD stretching in the TD direction, increase the content of voids, and impart high stretchability when the film is subsequently stretched in the MD direction. To provide the minimum necessary orientation for Therefore, if the draw ratio is more than 6.0 times, it may not be possible to obtain a film with a sufficient draw ratio during re-stretching in the MD direction following this step. In addition, when the stretching ratio is less than 2 times, voids are not sufficiently expanded, and the brightness improvement effect when mounted in an LED type backlight may decrease. By setting the TD draw ratio to 2.5 times or more, more preferably 3.0 times or more, it is possible to obtain a film excellent in luminance improvement effect when mounted in an LED type backlight. Further, by setting the TD draw ratio to 6.0 times or less, more preferably 4.5 times or less, it is possible to prevent breakage during film formation. The stretching speed is preferably 5%/second or more and 150%/second or less, more preferably 10%/second or more and 100%/second or less, in order to increase the reflectance of the polyester film.

本発明のポリエステルフィルムの表面トランス/ゴーシュ比は、延伸倍率を調整する、延伸後の熱処理温度を調整するといった公知の方法で調整することができるが、多量のボイドまたは無機粒子を含有する本発明のフィルムはフィルム破れが発生し易く、安定製膜には低延伸倍率での製膜が求められるため、ボイドまたは無機粒子を有していない層における高分子鎖の配向が不十分となり、耐熱性が低下する。ボイド核剤や無機粒子の含有量を低減させることで破れを抑制することはできるが、かかる設計では、LED方式のバックライトに搭載した場合の輝度向上効果に優れたフィルムを得ることは困難である。 The surface trans/gauche ratio of the polyester film of the present invention can be adjusted by known methods such as adjusting the draw ratio and adjusting the heat treatment temperature after stretching. The film is prone to film tearing, and film formation at a low draw ratio is required for stable film formation. decreases. Although tearing can be suppressed by reducing the content of the void nucleating agent and inorganic particles, it is difficult to obtain a film with an excellent brightness improvement effect when mounted in an LED backlight with such a design. be.

そこで、前述したMD延伸、TD延伸の後、さらにMD延伸を行う(再MD延伸)とよい。MD延伸は2個以上のロールの周速差を利用して行うことが好ましい。MD延伸およびTD延伸により配向結晶が形成された状態でさらにMD延伸を行うことにより、通常の二軸延伸工程で製膜するよりも高い延伸倍率での安定製膜が可能となり、ボイドまたは無機粒子を有していない層が高配向化されるとともに、ボイドの形成も促進できる。 Therefore, it is preferable to further perform MD stretching (re-MD stretching) after the aforementioned MD stretching and TD stretching. MD stretching is preferably carried out using a difference in peripheral speed between two or more rolls. By further performing MD stretching in a state in which oriented crystals are formed by MD stretching and TD stretching, stable film formation at a higher stretching ratio than film formation in a normal biaxial stretching process becomes possible, and voids or inorganic particles In addition to highly oriented layers that do not have the

そして前述のような本発明のフィルムにおける、ボイド含有率と表面のトランス/ゴーシュ比の両立や、特定範囲のボイド含有率、特定範囲の熱膨張係数、特定範囲の熱収縮率、特定範囲のボイド密度、特定範囲の単位厚みあたりのボイド層数、特定範囲のヤング率の和を効果的に達成することができる。これらは、ボイドが形成されてからさらに分子鎖が高度に配向することで、ボイド構造を強固なものとできるためと推察する。またA/B/Aの積層構造においては高度に配向したA層が膨張抑制層として機能するためと推察する。
そして本発明のポリエステルフィルムにおける、前述のような特定範囲のボイド含有率特定範囲のVb/Va、特定範囲の熱膨張係数、特定範囲の熱収縮率、特定範囲のボイドの密度、特定範囲の厚み1μmあたりのボイド数、特定範囲のヤング率の和を効果的に達成することができる。
And in the film of the present invention as described above, compatibility between the void content rate and the trans / gauche ratio of the surface, the void content rate in a specific range, the thermal expansion coefficient in a specific range, the thermal contraction rate in a specific range, the void in a specific range Density, a specific range of void layers per unit thickness, and a specific range of Young's modulus sums can be effectively achieved. It is presumed that this is because the void structure can be strengthened by further highly orienting the molecular chains after the voids are formed. In addition, in the laminated structure of A/B/A, it is presumed that the highly oriented A layer functions as an expansion suppressing layer.
And in the polyester film of the present invention, the void content rate in the specific range as described above Vb / Va in the specific range, the coefficient of thermal expansion in the specific range, the thermal contraction rate in the specific range, the density of voids in the specific range, the thickness in the specific range The number of voids per μm, the sum of Young's modulus in a specific range can be effectively achieved.

再MD延伸の延伸倍率としては、1.1倍以上3.5倍以下が好ましく、より好ましくは1.5倍以上3.0倍以下である。再MD延伸における延伸温度としては、未延伸状態のフィルムのガラス転移温度Tgに対して、Tg+10℃以上、Tg+80℃以下が好ましい。延伸速度は、ポリエステルフィルムの表面トランス/ゴーシュ比、およびポリエステル樹脂、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分とした層のボイド含有率を高めるために50%/秒以上700%/秒以下とすることが好ましく、より好ましくは150%/秒以上450%/秒以下である。 The draw ratio in the re-MD drawing is preferably 1.1 times or more and 3.5 times or less, more preferably 1.5 times or more and 3.0 times or less. The stretching temperature in the re-MD stretching is preferably Tg+10° C. or more and Tg+80° C. or less with respect to the glass transition temperature Tg of the unstretched film. The stretching speed is 50%/second or more to increase the surface trans/gauche ratio of the polyester film and the void content of the polyester resin, the layer mainly composed of a thermoplastic resin incompatible with the polyester resin, or inorganic particles. %/second or less, more preferably 150%/second or more and 450%/second or less.

また、MD延伸倍率と再MD延伸倍率を掛け合わせたトータルMD倍率を5.0倍以上15.0倍以下、より好ましくは6.0倍以上、13.0倍以下とすることで、ボイドを効率的に形成、拡張させることが可能となり、ミニLED方式などの微小なLEDを用いたバックライトにおいて輝度向上効果に優れたフィルムを得ることができる。 また、TD延伸後、再MD延伸を行う前に、テンター内でTD延伸温度に対して+20℃~+70℃の温度で加熱しながらTD方向に1.5%以上5%以下の弛緩率にて処理時間0.2~10秒間で弛緩処理を施すことも好ましい。そうすることで再MD延伸前の結晶構造が安定化されて再MD延伸時の予熱時に生じるTD方向の熱収縮が抑制される結果、全面樹脂封止などの高温となる加工工程や、LED連続点灯などの高温環境において、フィルムの変形や基板からの剥離を抑制することが可能となるのみでなく、ボイドの構造が強固となるために、続く再MD延伸によりフィルムのボイド含有率を効果的に高めることができる。 Further, the total MD ratio obtained by multiplying the MD draw ratio and the re-MD draw ratio is 5.0 times or more and 15.0 times or less, more preferably 6.0 times or more and 13.0 times or less, so that voids are eliminated. It is possible to form and expand the film efficiently, and obtain a film excellent in luminance improvement effect in a backlight using minute LEDs such as a mini-LED system. In addition, after TD stretching, before performing MD stretching again, while heating at a temperature of +20 ° C. to +70 ° C. relative to the TD stretching temperature in the tenter, the relaxation rate in the TD direction is 1.5% or more and 5% or less. It is also preferable to perform relaxation treatment for a treatment time of 0.2 to 10 seconds. By doing so, the crystal structure before re-stretching in MD is stabilized, and the heat shrinkage in the TD direction that occurs during preheating during re-stretching in MD is suppressed. In a high-temperature environment such as lighting, it is possible not only to suppress film deformation and peeling from the substrate, but also to strengthen the structure of the voids. can be increased to

また、再MD延伸の後、さらにTD延伸を行う(再TD延伸)ことも好ましい。二軸延伸工程を各方向へ交互に複数回繰り返すことにより、高倍率延伸においても、より安定してボイドを形成させることができる。再TD延伸の方法としては、テンターを用いる方法が好ましい。再TD延伸の延伸倍率としては、1.1倍以上2.5倍以下が好ましく、1.1倍以上2.0倍以下がより好ましい。かかる範囲の延伸倍率で再TD延伸を行うことにより、ボイド同士が連結することによる反射性能の低下、およびフィルムの破れを抑制し、ボイド含有率に優れたフィルムを安定して製膜することができるとともに、
再TD延伸の延伸温度は未延伸状態のフィルムのガラス転移温度Tgに対して、Tg+20℃以上、Tg+80℃以下で行うのが好ましい。
Moreover, it is also preferable to further perform TD stretching (re-TD stretching) after re-MD stretching. By repeating the biaxial stretching step alternately a plurality of times in each direction, voids can be formed more stably even in high-ratio stretching. A method using a tenter is preferable as the method of re-TD stretching. The draw ratio of the re-TD drawing is preferably 1.1 times or more and 2.5 times or less, more preferably 1.1 times or more and 2.0 times or less. By performing re-TD stretching at a draw ratio within such a range, it is possible to suppress deterioration of reflection performance due to connection of voids and breakage of the film, and to stably form a film having an excellent void content rate. as well as
The stretching temperature of the re-TD stretching is preferably Tg+20° C. or more and Tg+80° C. or less with respect to the glass transition temperature Tg of the unstretched film.

再TD延伸の延伸速度は、ポリエステルフィルムの反射率と耐熱性を高めるために2%/秒以上120%/秒以下とすることが好ましく、より好ましくは5%/秒以上60%/秒以下である。 The stretching speed of the re-TD stretching is preferably 2%/second or more and 120%/second or less, more preferably 5%/second or more and 60%/second or less in order to increase the reflectance and heat resistance of the polyester film. be.

MD延伸倍率と再MD延伸倍率を掛け合わせたトータルMD倍率Em、TD延伸倍率と再TD延伸倍率を掛け合わせたトータルTD倍率Etについて、EmをEtで除したEm/Etの値が1.1以上であることが好ましい。Em/Etを1.1以上、より好ましくは1.5以上とすることで、フィルムの反射性能や加工性、耐熱性を高めることができる。 Regarding the total MD ratio Em obtained by multiplying the MD draw ratio by the re-MD draw ratio and the total TD ratio Et by multiplying the TD draw ratio by the re-TD draw ratio, the value of Em/Et obtained by dividing Em by Et is 1.1. It is preferable that it is above. When Em/Et is 1.1 or more, more preferably 1.5 or more, the reflection performance, workability and heat resistance of the film can be improved.

再TD延伸後、引き続いて、フィルムを緊張下または弛緩させながら熱処理する。その熱処理温度は未延伸状態のフィルムのTmに対して、Tm-60℃以上、Tm-10℃以下、より好ましくはTm-30℃以上、Tm-10℃以下で処理時間0.2~20秒間で行うのが好ましい。かかる範囲の温度で熱処理を行うことにより、再TD延伸前の結晶構造が安定化され、全面樹脂封止などの高温となる加工工程や、LED連続点灯などの高温環境において、耐熱性が向上するのみでなく、ボイドの構造が緩和することによる輝度の低下を抑制することが可能となる。また、弛緩させる場合は、過度な弛緩によりボイドが潰れることによる輝度向上効果の低下を抑制しつつ、フィルムの耐熱性を高めるため、TD方向に1.5%以上10%以下の弛緩率にて行うことが好ましい。 After re-TD-stretching, the film is subsequently heat-treated under tension or under relaxation. The heat treatment temperature is Tm-60° C. or higher and Tm-10° C. or lower, more preferably Tm-30° C. or higher and Tm-10° C. or lower with respect to the Tm of the unstretched film for a treatment time of 0.2 to 20 seconds. It is preferable to use By performing heat treatment at a temperature within such a range, the crystal structure before re-TD stretching is stabilized, and heat resistance is improved in high-temperature processing processes such as full-surface resin sealing and in high-temperature environments such as LED continuous lighting. In addition, it is possible to suppress a decrease in brightness due to relaxation of the void structure. In the case of relaxation, the relaxation rate in the TD direction is 1.5% or more and 10% or less in order to improve the heat resistance of the film while suppressing the deterioration of the luminance improvement effect due to the collapse of voids due to excessive relaxation. preferably.

その後、均一に徐冷後、室温まで冷却し、ロールに巻き取る。 Then, after uniformly slow cooling, it is cooled to room temperature and wound up on a roll.

ここでは逐次二軸延伸法によって延伸する場合を例に詳細に説明したが、本発明の効果が損なわれない限りにおいては、逐次二軸延伸法、同時二軸延伸法、縦多段延伸法のいずれを採用してもよい。 Here, the case of stretching by the sequential biaxial stretching method was described in detail as an example, but as long as the effects of the present invention are not impaired, any of the sequential biaxial stretching method, simultaneous biaxial stretching method, and longitudinal multistage stretching method can be used. may be adopted.

また、本発明の効果が損なわれない範囲で、易滑性や帯電防止性、紫外光吸収性能、耐衝撃性等を付与するために、本発明のポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面に公知の技術を用いて種々の塗液を塗布したり、ハードコート層などを設けたりしても良い。塗布は、フィルム製造時に塗布(インラインコーティング)してもよいし、フィルム製造後に塗布(オフラインコーティング)してもよい。 In addition, in order to impart lubricity, antistatic properties, ultraviolet light absorption performance, impact resistance, etc., to the extent that the effects of the present invention are not impaired, at least one surface of the polyester film of the present invention may be coated with a known technique. may be used to apply various coating liquids, or a hard coat layer or the like may be provided. The coating may be applied during film production (in-line coating) or may be applied after film production (off-line coating).

以下、実施例により本発明を詳述する。各特性値は以下の方法で測定した。 The present invention will be described in detail below with reference to examples. Each characteristic value was measured by the following method.

(1)ボイド含有率
上金型、下金型ともに温度150℃に加熱したプレス機を用いて、厚さ0.2mmのアルミニウム板/厚さ0.125mmのポリイミドフィルム(東レデュポン製カプトン500H/V)/サンプル/前記と同様のポリイミドフィルム/前記と同様のアルミニウム板の構成体を3MPaの条件下で1分間、加熱プレスを行った。フィルムを5cm×5cmの大きさに切り出し、JIS K7112(1980年版)に基づいて電子比重計SD-120L(ミラージュ貿易(株)製)を用いて、加熱処理前のサンプルの比重d0、加熱処理後のサンプルの比重d1を測定し、下記式に基づいてボイド率φを求めた。なお、各フィルムについて5枚用意し、それぞれを測定し、その平均値を比重とした。
ボイド含有率(%)=(1-d0/d1)×100
(2)表面トランス/ゴーシュ比
フィルムを幅5cm、長さ5cmに切り出した試料に対して、赤外顕微鏡装置(パーキンエルマー社製 Spectrum Spotlight 200)を用いてATR法で測定を行い、装置付属の解析ソフト(Spectrum)により試料表面における配向状態についての強度分布を得た。同解析ソフトを用い、1456cm-1にピークを持つ分布に対し、そのピークを基準に半値幅の2倍の範囲までの強度を積算し、積算値をゴーシュ体の強度とした。1472cm-1に対しても、同様にして強度を積算し、積算値トランス体の強度とした。得られたトランス体の強度をゴーシュ体の強度で除すことにより、フィルムの測定面における表面トランス/ゴーシュ比を求めた。
(1) Void content rate Using a press heated to a temperature of 150 ° C. for both the upper mold and the lower mold, a 0.2 mm thick aluminum plate / a 0.125 mm thick polyimide film V)/sample/polyimide film same as above/aluminum plate same as above was hot-pressed for 1 minute at 3 MPa. Cut the film into a size of 5 cm × 5 cm, and use an electronic hydrometer SD-120L (manufactured by Mirage Trading Co., Ltd.) based on JIS K7112 (1980 version) to measure the specific gravity d0 of the sample before heat treatment, after heat treatment The specific gravity d1 of the sample was measured, and the void fraction φ was obtained based on the following formula. Five sheets of each film were prepared, each was measured, and the average value was taken as the specific gravity.
Void content rate (%) = (1-d0/d1) x 100
(2) A surface trans/gauche ratio film cut into a width of 5 cm and a length of 5 cm was measured by the ATR method using an infrared microscope (PerkinElmer Spectrum Spotlight 200). The intensity distribution of the orientation state on the sample surface was obtained using analysis software (Spectrum). Using the same analysis software, with respect to the distribution having a peak at 1456 cm −1 , the intensity was integrated up to twice the half width with that peak as the reference, and the integrated value was taken as the intensity of the gauche body. Intensities at 1472 cm −1 were also integrated in the same manner, and the integrated value was taken as the intensity of the trans isomer. The surface trans/gauche ratio on the measurement surface of the film was obtained by dividing the obtained intensity of the trans isomer by the intensity of the gauche isomer.

(3)ボイド含有率Va,Vb,Vb/Va
下記(a1)~(a6)の手順で求めた。
(3) Void content rate Va, Vb, Vb/Va
It was obtained by the following procedures (a1) to (a6).

(a1) イオンミリング装置(日立社製IM4000)を用いて、液体窒素による冷却下でフィルムの変形や損傷を抑制しながらフィルム面に対して垂直に切断し測定試料を作製した。切削方向は、フィルム面に対して5°刻みで右方向に面内回転させながら、各回転角度において垂直断面を作製し、合計の回転角度が90°に達するまで、計19の垂直断面の試料を作製した。 (a1) Using an ion milling apparatus (Hitachi IM4000), the film was cut perpendicularly to the film surface under cooling with liquid nitrogen while suppressing deformation and damage to prepare a measurement sample. The cutting direction is rotated rightward in increments of 5° with respect to the film surface, and a vertical cross section is prepared at each rotation angle, until the total rotation angle reaches 90°. was made.

(a2) 作製した断面に白金-パラジウムを蒸着した後、形状解析レーザー顕微鏡(キーエンス社製VK-X1000、ヘッド部はVK-X1100)を用いてフィルム断面を真上から観察し、断面形状をマッピング計測した。拡大倍率は5000倍とし、表示分解能が最高となる測定条件とした。なお、フィルムが複数の層からなる場合には最も厚みの大きい層について観察した。 (a2) After depositing platinum-palladium on the prepared cross section, the cross section of the film is observed from directly above using a shape analysis laser microscope (VK-X1000 manufactured by Keyence Corporation, VK-X1100 for the head), and the cross-sectional shape is mapped. Measured. Magnification was set to 5,000 times, and the measurement conditions were such that the display resolution was maximized. When the film consisted of multiple layers, the thickest layer was observed.

(a3) 得られた断面解析データに対し、解析ソフト(装置付属のもの)を用いて16bitカラーのグレイスケール化を行い、明度に関する度数分布を得た。明度の異なる複数のピークを持つ度数分布のうち、度数の高いピークを有する2つの分布に着目し、前記2つの分布それぞれの最頻値の平均を境界値としてグレイスケール画像の2値化を行い、黒領域(切断面)と白領域(ボイド)からなる断面解析データを得た。 (a3) The obtained cross-sectional analysis data was converted to 16-bit color grayscale using analysis software (attached to the apparatus) to obtain a frequency distribution related to brightness. Of the frequency distributions having multiple peaks with different luminosity, focusing on two distributions with high frequency peaks, binarization of the grayscale image is performed using the average of the mode values of each of the two distributions as the boundary value. , obtained cross-sectional analysis data consisting of black areas (cut surfaces) and white areas (voids).

(a4) (a3)で作成した断面解析データに対し、解析ソフト(装置付属のもの)を用いて白領域の面積Swおよび黒領域の面積Sbをそれぞれ算出し、下記式に基づいてボイド含有率Vをもとめた。
V=Sb/(Sw+Sb)×100 …(式)。
(a4) For the cross-sectional analysis data created in (a3), the area Sw of the white region and the area Sb of the black region are calculated using analysis software (attached to the apparatus), and the void content rate is calculated based on the following formula. Based on V.
V=Sb/(Sw+Sb)×100 (formula).

(a5) (a1)で作製した19の垂直断面すべてについて(a2)~(a4)の手順でボイド含有率Vをもとめ、Vの値が最も高くなった試料の切削方向を該試料の主軸方向と定義し、その断面を断面Aと定義した。また、主軸方向と直交の断面を断面Bと定義した。 (a5) For all 19 vertical cross sections prepared in (a1), the void content rate V is determined by the procedure of (a2) to (a4), and the cutting direction of the sample with the highest value of V is the principal axis direction of the sample. and its cross section is defined as cross section A. A cross section perpendicular to the direction of the main axis is defined as a cross section B.

(a6) 断面Aのボイド含有率をVa(%)、断面Bのボイド含有率をVb(%)とし、それらの比Va/Vbを求めた。 (a6) The void content rate of cross section A was Va (%), the void content rate of cross section B was Vb (%), and the ratio Va/Vb was obtained.

なお、イオンミリング装置、形状解析レーザー顕微鏡およびそのヘッド部ならびに解析ソフトについては、同等の規格に準拠したものであれば代替品を用いてもよい。 As for the ion milling device, the shape analysis laser microscope and its head portion, and the analysis software, alternatives may be used as long as they comply with equivalent standards.

(4)熱膨張係数(CTE)
上記(3)に記載の方法で特定したフィルムの主軸方向、および主軸方向に直交する方向がそれぞれ短冊の長手方向となるように5検体ずつを採取し、下記の条件で測定を行った。
熱機械分析装置 :セイコーインスツルメンツ社製“TMA/SS6000”
短冊サイズ:幅3mm、長さ15mm
荷重条件 :29.4mN一定
温度条件 :10℃/minで30℃から170℃に昇温し、10分間保持。さらに10℃/minで170℃から40℃まで降温して20分保持。
CTE算出温度範囲:降温時の150℃から50℃まで
熱膨張係数は下記式から求め、それぞれの方向の平均値を算出した。
CTE = [(L150-L50)/{L50×(150-50)}]×10
ここで、
CTE:熱膨張係数(ppm/℃)
150:150℃におけるフィルムの長さ方向の寸法
50:50℃におけるフィルムの長さ方向の寸法。
(4) Coefficient of thermal expansion (CTE)
Five specimens were collected so that the main axis direction of the film specified by the method described in (3) above and the direction perpendicular to the main axis direction were each the longitudinal direction of the strip, and the measurement was performed under the following conditions.
Thermomechanical analyzer: "TMA/SS6000" manufactured by Seiko Instruments Inc.
Strip size: width 3 mm, length 15 mm
Load condition: 29.4 mN Constant temperature condition: Temperature was raised from 30°C to 170°C at 10°C/min and held for 10 minutes. Further, the temperature was lowered from 170°C to 40°C at a rate of 10°C/min and held for 20 minutes.
CTE calculation temperature range: From 150°C to 50°C when the temperature was lowered The thermal expansion coefficient was obtained from the following formula, and the average value in each direction was calculated.
CTE = [(L 150 −L 50 )/{L 50 ×(150−50)}]×10 6
here,
CTE: coefficient of thermal expansion (ppm/°C)
L 150 : lengthwise dimension of the film at 150°C L 50 : lengthwise dimension of the film at 50°C.

なお、イオンミリング装置、形状解析レーザー顕微鏡、解析ソフトおよび熱機械分析装置については、同等の規格に準拠したものであれば代替品を用いてもよい。 As for the ion milling device, shape analysis laser microscope, analysis software, and thermomechanical analysis device, alternatives may be used as long as they comply with equivalent standards.

(5)熱収縮率
上記(3)に記載の方法で特定したフィルムの主軸方向、および主軸方向に直交する方向がそれぞれ短冊の長手方向となるように5検体ずつを採取し、下記の条件で測定を行った。
寸法分析装置 :
短冊サイズ:幅10mm、長さ15mm
温度条件 :内部の温度を150℃に設定したオーブンを用い、無緊張状態で30分間保持。
加熱処理前後の標点間距離を用い、熱収縮率(150℃熱収縮率)を下記式から求め、それぞれの方向の平均値を算出した。
熱収縮率(%)=(H0 -H)/H0)×100
ここで、
H0:熱処理前の標点間距離
H:熱処理後の標点間距離
(6)断面積0.1μm以上1.0μm以下のボイドの密度
上記(3)の(a3)で得た断面のマッピングデータをもとに、画像解析ソフト(装置付属のもの)によって視野範囲内における面積0.1μm以上1.0μm以下のボイド(特定ボイド)の総数を求め、単位面積あたりの特定ボイドの数(個/μm)を算出した。切削方向を変えて作製した19の断面についてそれぞれ単位面積当たりの特定ボイド数を算出した後、それらの平均値をボイド密度(個/μm)として採用した。
(5) Thermal shrinkage rate Five specimens were collected so that the main axis direction of the film specified by the method described in (3) above and the direction perpendicular to the main axis direction were each the longitudinal direction of the strip, and under the following conditions I made a measurement.
Dimension analyzer:
Strip size: width 10mm, length 15mm
Temperature conditions: Using an oven with the internal temperature set to 150°C, hold for 30 minutes without tension.
Using the gauge length before and after the heat treatment, the thermal shrinkage rate (150° C. thermal shrinkage rate) was obtained from the following formula, and the average value in each direction was calculated.
Thermal shrinkage rate (%) = (H0 - H) / H0) x 100
here,
H0: gauge length before heat treatment H: gauge length after heat treatment (6) Void density with a cross-sectional area of 0.1 μm 2 or more and 1.0 μm 2 or less of the cross section obtained in (3) (a3) above Based on the mapping data, the total number of voids (specific voids) with an area of 0.1 μm 2 or more and 1.0 μm 2 or less within the field of view is determined by image analysis software (attached to the device), and the number of specific voids per unit area. The number (pieces/μm 2 ) was calculated. After calculating the number of specific voids per unit area for each of 19 cross sections prepared by changing the cutting direction, the average value was adopted as the void density (pieces/μm 2 ).

なお、イオンミリング装置、形状解析レーザー顕微鏡およびそのヘッド部ならびに解析ソフトについては、同等の規格に準拠したものであれば代替品を用いてもよい。 As for the ion milling device, the shape analysis laser microscope and its head portion, and the analysis software, alternatives may be used as long as they comply with equivalent standards.

(7)厚み1μmあたりボイド数
上記(3)に記載の方法で特定したフィルムの主軸方向、および主軸方向に直交する方向それぞれにおける、上記(3)の(a3)で得られ断面のマッピングデータをフィルムの長さ方向に8等分する、フィルムの厚み方向に平行な直線を等間隔に7本引いた時に、両端2つの線を除いた5つの線上に存在する白領域の数Nwを線ごとに計測し、単位厚みあたりボイド層数(個/μm)を下記式から求め、それらの平均値を算出した。切削方向を変えて作製した19の断面についてそれぞれ単位面積当たりの特定ボイド数を算出した後、それらの平均値を単位厚みあたりボイド数(個/μm)として採用した。
単位厚みあたりのボイド数(個/μm)=Nw/D
ここで、
D:直線の長さ(μm) なお、イオンミリング装置、形状解析レーザー顕微鏡およびそのヘッド部ならびに解析ソフトについては、同等の規格に準拠したものであれば代替品を用いてもよい。
(7) Number of voids per 1 μm of thickness The cross-sectional mapping data obtained in (a3) of (3) above in each of the principal axis direction of the film specified by the method described in (3) and a direction perpendicular to the principal axis direction. When 7 straight lines parallel to the thickness direction of the film are drawn at equal intervals, dividing the film into 8 equal parts in the length direction, the number Nw of white areas existing on 5 lines excluding the two lines at both ends is calculated for each line. , the number of void layers per unit thickness (number/μm) was obtained from the following formula, and the average value thereof was calculated. After calculating the number of specific voids per unit area for each of 19 cross sections prepared by changing the cutting direction, the average value was adopted as the number of voids per unit thickness (number/μm).
Number of voids per unit thickness (number/μm) = Nw/D
here,
D: length of straight line (μm) Note that the ion milling device, the shape analysis laser microscope, its head portion, and the analysis software may be replaced as long as they comply with equivalent standards.

(8)フィルムの主軸方向のヤング率と主軸方向に直交する方向のヤング率との和
上記(3)に記載の方法で特定したフィルムの主軸方向、および主軸方向に直交する方向がそれぞれ短冊の長手方向となるように幅10mm、長さ10cmの試料を各方向5検体ずつ切り出した。試料をチャック間長さ(初期試料長)50mmとなるように引張試験機(オリエンテック社製テンシロンUCT-100)にセットし、温度25℃、相対湿度65%の条件下、引張速度300mm/分でフィルムが破断するまで引張試験を行い、得られた荷重-伸び曲線の立ち上がり部の接線からヤング率を求めた。それぞれの方向について5回の測定を行い、それぞれの方向について5回分のヤング率の値の平均値を算出した後、主軸方向のヤング率の平均値と、主軸方向に直交する方向のヤング率の平均値とを足し合わせてヤング率の和(GPa)とした。
(8) The sum of the Young's modulus in the principal axis direction of the film and the Young's modulus in the direction perpendicular to the principal axis direction of the film specified by the method described in (3) above. Five samples each having a width of 10 mm and a length of 10 cm were cut in the longitudinal direction. The sample is set in a tensile tester (Tensilon UCT-100 manufactured by Orientec) so that the length between chucks (initial sample length) is 50 mm, and the temperature is 25 ° C. and the relative humidity is 65%. A tensile test was performed until the film broke at , and the Young's modulus was obtained from the tangent line of the rising portion of the obtained load-elongation curve. After measuring five times in each direction and calculating the average value of the Young's modulus values for five times in each direction, the average value of the Young's modulus in the principal axis direction and the Young's modulus in the direction perpendicular to the principal axis direction The sum of Young's moduli (GPa) was obtained by adding the average values.

なお、イオンミリング装置、形状解析レーザー顕微鏡、解析ソフトおよび引張試験機については、同等の規格に準拠したものであれば代替品を用いてもよい。 As for the ion milling device, the shape analysis laser microscope, the analysis software, and the tensile tester, alternatives may be used as long as they comply with equivalent standards.

(9)フィルム厚み
フィルムの幅方向の中心部分の断面を5枚切り出し、走査電子顕微鏡(日立製作所製電界放射型走査電子顕微鏡(FE-SEM)S-4000)を用いて500~5,000倍に拡大観察して撮影した断面写真より、フィルムの厚みを計測した。5枚の数値の平均値をフィルム厚みとした。
(9) Film thickness Cut out five cross-sections of the center part in the width direction of the film, and use a scanning electron microscope (Hitachi field emission scanning electron microscope (FE-SEM) S-4000) at 500 to 5,000 times. The thickness of the film was measured from a cross-sectional photograph taken by magnifying observation. The average value of the numerical values of 5 sheets was taken as the film thickness.

(10)輝度
長辺140mm、短辺76.4mmの樹脂基板上に2.5mmのピッチ(LEDの中心同士の間隔)で直方体型の青色LED(基板表面からの高さ80μm、長さ376μm、幅200μm)が1152個配置されたLED基板を評価に用いた。なお、LEDが配置された基板は、表面に積水化学工業社製の白色ソルダーレジスト(SFR-6 KS F)が23μmの膜厚で施されたものを用いた。次にポリエステルフィルムをLED基板と同じサイズに切り出し、トムソン刃を用いた打ち抜き穿孔加工によって青色LEDが配置されている位置が丁度くり抜かれるように幅500μm、長さ300μmの長方形の孔を開けた。
(10) Luminance Rectangular parallelepiped blue LEDs (height from substrate surface 80 μm, length 376 μm, An LED substrate on which 1152 LEDs with a width of 200 μm were arranged was used for evaluation. The substrate on which the LEDs were arranged had a surface coated with a white solder resist (SFR-6 KS F) manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. in a thickness of 23 μm. Next, the polyester film was cut into the same size as the LED substrate, and a rectangular hole with a width of 500 µm and a length of 300 µm was punched by punching with a Thomson blade so that the position where the blue LED was arranged was exactly hollowed out. .

基板上に並んだ青色LEDの天頂部から5mmの間隙が空くようにアクリル拡散板を載せ、その上にプリズムシートを配置し、温度25℃、相対湿度65%の条件下で1時間静置した。その後、LED基板から90cm直上の地点より2次元色彩輝度計(コニカミノルタ社製CA-2000)で撮影し、画像解析ソフト(コニカミノルタ社製CA-S20w)を用いて画像を取り込んだ。その後、撮影した画像の輝度レベルを3万ステップに制御し自動検出させ、輝度に変換し、反射フィルム無しの場合の輝度とした。 An acrylic diffuser plate was placed so that there was a gap of 5 mm from the zenith of the blue LEDs arranged on the substrate, a prism sheet was placed thereon, and left to stand for 1 hour under conditions of a temperature of 25°C and a relative humidity of 65%. . After that, an image was taken with a two-dimensional color luminance meter (CA-2000 manufactured by Konica Minolta) from a point 90 cm above the LED substrate, and the image was captured using image analysis software (CA-S20w manufactured by Konica Minolta). After that, the brightness level of the photographed image was controlled to 30,000 steps, automatically detected, converted to brightness, and used as the brightness in the absence of the reflective film.

次いで、青色LED上のアクリル拡散板およびプリズムシートを一旦外し、孔開け加工後の反射フィルムを、孔にLEDが入るように樹脂基板上に重ねて配置した。その後、前記と同様にアクリル拡散板、およびプリズムシートを再度配置し、1時間静置した後に前期と同様の方法で輝度を測定し、反射フィルム有りの場合の輝度とした。反射フィルム有りの場合の輝度を反射フィルム無しの場合の輝度で割り返して100を乗じた値を相対輝度とした。なお、一連の測定と計算をフィルムを替えて5回行い、5つの相対輝度の値の平均値を最終的に該フィルムの相対輝度とした。得られた相対輝度の値から下記の基準で輝度を判定した。C以上が合格である。
A:相対輝度が145%以上
B:相対輝度が140%以上145%未満
C:相対輝度が130%以上140%未満
D:相対輝度が130%未満。
Next, the acrylic diffuser plate and the prism sheet on the blue LEDs were once removed, and the reflective film after the perforation processing was placed over the resin substrate so that the LEDs entered the holes. After that, the acrylic diffuser plate and the prism sheet were placed again in the same manner as described above, and after standing still for 1 hour, the luminance was measured in the same manner as in the previous term, and was defined as the luminance with the reflective film. The value obtained by dividing the luminance with the reflective film by the luminance without the reflective film and multiplying the result by 100 was taken as the relative luminance. A series of measurements and calculations were performed 5 times with different films, and the average value of the 5 relative luminance values was finally taken as the relative luminance of the film. Based on the obtained relative luminance values, the luminance was determined according to the following criteria. C or more is a pass.
A: Relative brightness of 145% or more B: Relative brightness of 140% or more and less than 145% C: Relative brightness of 130% or more and less than 140% D: Relative brightness of less than 130%.

(11)穿孔加工性
トムソン刃を用いた打ち抜きによってフィルムに穿孔加工(φ200の円形)を行い、加工後の形状をキーエンス社製形状解析レーザー顕微鏡VK-X1000を用いて三次元解析し、加工に伴って孔周縁にバリが形成されていた場合には、フィルム面を基準としたバリの高さhを計測し、以下の基準で加工性を評価した。C以上が合格である。
A:バリが生じなかった、あるいはバリが生じたがバリの高さが1μm未満であった。
B:バリが生じ、バリの高さが1μm以上、2μm未満であった。
C:バリが生じ、バリの高さが2μm以上、3μm未満であった。
D:高さ3μm以上のバリが生じた、あるいは穿孔の際にフィルム破れが生じた。
(11) Perforation processing Perforation processing (φ200 circle) is performed on the film by punching using a Thomson blade, and the shape after processing is three-dimensionally analyzed using a shape analysis laser microscope VK-X1000 manufactured by Keyence Corporation. When burrs were formed along the periphery of the hole, the height h of the burrs was measured with respect to the film surface, and workability was evaluated according to the following criteria. C or more is a pass.
A: No burrs were generated, or burrs were generated, but the height of the burrs was less than 1 μm.
B: Burrs were generated, and the height of the burrs was 1 μm or more and less than 2 μm.
C: Burrs were generated, and the height of the burrs was 2 μm or more and less than 3 μm.
D: A burr with a height of 3 μm or more was generated, or the film was torn during perforation.

(12)耐熱性
FR-4ガラスエポキシ材(ニッカン工業社製L6504C1)を5cm×5cmに切り出し、その銅箔が積層されていない面に、同じサイズに切り出した厚み25μmのアクリル系の透明粘着剤(OCA)(3M社製8171)を貼り付けた。次に、ガラスエポキシ材とOCAが重なった状態の板の中央位置にレーザー加工によって直径200μm(孔断面積3.14×10μm)の円形の孔を形成した。次いで、フィルムを同様に5cm×5cmに切り出し、トムソン刃を用いた打ち抜き加工にて中央位置に直径200μmの円形の孔を形成した。次いで、ガラスエポキシ材とフィルムがOCAを介して接着するように貼り合わせて積層し、中央部に円筒状の直径200μmの貫通孔を有する積層体を得た。次いで、熱硬化型シリコーン樹脂封止材(東レ・ダウコーニング社製OE-6336A/B)を用いて貫通孔を含む積層体全体が完全に覆われる形で樹脂封止を行った。次に、得られた樹脂封止後の積層体を150℃に加熱された熱風オーブン内で500時間、加熱処理した。
(12) Heat resistance FR-4 glass epoxy material (L6504C1 manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd.) was cut into 5 cm × 5 cm, and on the side where the copper foil was not laminated, a transparent acrylic adhesive with a thickness of 25 μm was cut into the same size. (OCA) (8171 manufactured by 3M) was applied. Next, a circular hole with a diameter of 200 μm (cross-sectional area of the hole: 3.14×10 4 μm 2 ) was formed by laser processing at the center position of the plate in which the glass epoxy material and the OCA were overlapped. Then, the film was similarly cut into a size of 5 cm×5 cm, and a circular hole with a diameter of 200 μm was formed in the center by punching using a Thomson blade. Then, the glass epoxy material and the film were adhered to each other through the OCA and laminated to obtain a laminated body having a cylindrical through-hole with a diameter of 200 μm in the central portion. Then, a thermosetting silicone resin sealing material (OE-6336A/B manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) was used to perform resin sealing in such a manner that the entire laminate including the through holes was completely covered. Next, the resulting resin-sealed laminate was heat-treated in a hot air oven heated to 150° C. for 500 hours.

処理後の試料について形状解析レーザー顕微鏡(キーエンス社製VK-X1000)を用いて三次元解析し、以下の基準で耐熱性を評価した。C以上が合格である。
A:フィルムの孔に変形がなかった、あるいは孔断面積の穿孔加工時からの変化率が1%未満であった。
B:孔断面積の穿孔加工時からの変化率が1%以上、3%未満であった。
C:孔断面積の穿孔加工時からの変化率が3%以上、5%未満であった。
D:孔断面積の穿孔加工時からの変化率が5%以上、あるいはフィルムと基板の間に剥離が生じた。
The sample after treatment was subjected to three-dimensional analysis using a shape analysis laser microscope (VK-X1000 manufactured by Keyence Corporation), and the heat resistance was evaluated according to the following criteria. C or more is a pass.
A: The holes in the film were not deformed, or the change in the cross-sectional area of the holes from the time of punching was less than 1%.
B: The rate of change in the cross-sectional area of the hole from the time of punching was 1% or more and less than 3%.
C: The rate of change in cross-sectional area of the hole from the time of punching was 3% or more and less than 5%.
D: The rate of change in cross-sectional area of the hole from the time of perforation processing was 5% or more, or peeling occurred between the film and the substrate.

[使用原料]
(1)ポリエステル樹脂(a)
テレフタル酸およびエチレングリコールから、三酸化アンチモンを触媒として、常法により重合を行い、ポリエチレンテレフタレート(PET)を得た。得られたPETのガラス転移温度は77℃、融点は255℃、固有粘度は0.63dL/g、末端カルボキシル基濃度は40eq./tであった。
[raw materials used]
(1) polyester resin (a)
Terephthalic acid and ethylene glycol were polymerized by a conventional method using antimony trioxide as a catalyst to obtain polyethylene terephthalate (PET). The obtained PET had a glass transition temperature of 77° C., a melting point of 255° C., an intrinsic viscosity of 0.63 dL/g, and a terminal carboxyl group concentration of 40 eq. /t.

(2)共重合ポリエステル樹脂(b)
市販の1,4-シクロヘキサンジメタノール共重合ポリエステル(イーストマン・ケミカル社製 GN001)を使用した。
(2) Copolyester resin (b)
A commercially available 1,4-cyclohexanedimethanol copolymer polyester (GN001 manufactured by Eastman Chemical Co.) was used.

(3)共重合ポリエステル樹脂(c)
市販のPBT(ポリブチレンテレフタレート)・PAG(ポリアルキレングリコール)ブロック共重合体(東レ・デュポン社製“ハイトレル7247”)を用いた。本樹脂におけるPAGは主としてポリテトラメチレングリコールからなる。
(3) Copolyester resin (c)
A commercially available PBT (polybutylene terephthalate)/PAG (polyalkylene glycol) block copolymer ("Hytrel 7247" manufactured by Toray DuPont) was used. The PAG in this resin mainly consists of polytetramethylene glycol.

(4)ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂(d)
市販の環状オレフィン樹脂(日本ポリプラスチックス社製“TOPAS 6017”)を用いた。(表中、TOPASと記載した。)
(5)二酸化チタンマスター(e)
二酸化チタン粒子(数平均粒径0.25μm、ルチル型)50質量部に対し、シランカップリング剤(東レダウ・コーニング社製「11-100Additive」)を0.25質量部添加し、常法により表面処理したのち、ポリエステル樹脂(a)を50質量部と二軸押出機にて混練し、二酸化チタンマスター(e)のペレットを得た。
(4) Thermoplastic resin (d) incompatible with polyester resin
A commercially available cyclic olefin resin (“TOPAS 6017” manufactured by Nippon Polyplastics Co., Ltd.) was used. (Indicated as TOPAS in the table.)
(5) Titanium dioxide master (e)
0.25 parts by mass of a silane coupling agent (“11-100Additive” manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) is added to 50 parts by mass of titanium dioxide particles (number average particle size 0.25 μm, rutile type), and After the surface treatment, 50 parts by mass of the polyester resin (a) was kneaded with a twin-screw extruder to obtain pellets of the titanium dioxide master (e).

(6)二酸化チタンマスター(f)
二酸化チタン粒子(数平均粒径0.25μmルチル型)50質量部に対し、シランカップリング剤(東レダウ・コーニング社製「11-100Additive」)を0.25質量部添加し、常法により表面処理したのち、熱可塑性樹脂(d)を50質量部と二軸押出機にて混練し、二酸化チタンマスター(f)のペレットを得た。
(6) Titanium dioxide master (f)
0.25 parts by mass of a silane coupling agent ("11-100Additive" manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) is added to 50 parts by mass of titanium dioxide particles (number average particle size 0.25 μm rutile type), and the surface is After the treatment, 50 parts by mass of thermoplastic resin (d) was kneaded with a twin-screw extruder to obtain pellets of titanium dioxide master (f).

(7)ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂(g)
市販のポリメチルペンテン樹脂(三井化学社製、“TPX”)を用いた。(表中、PMPと記載した。)
(8)二酸化チタンマスター(h)
二酸化チタン粒子(数平均粒径0.25μmルチル型)50質量部に対し、シランカップリング剤(東レダウ・コーニング社製「11-100Additive」)を0.25質量部添加し、常法により表面処理したのち、熱可塑性樹脂(g)を50質量部と二軸押出機にて混練し、二酸化チタンマスター(h)のペレットを得た。
(7) Thermoplastic resin (g) incompatible with polyester resin
A commercially available polymethylpentene resin (“TPX” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was used. (Indicated as PMP in the table.)
(8) Titanium dioxide master (h)
0.25 parts by mass of a silane coupling agent ("11-100Additive" manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) is added to 50 parts by mass of titanium dioxide particles (number average particle size 0.25 μm rutile type), and the surface is After the treatment, 50 parts by mass of thermoplastic resin (g) was kneaded with a twin-screw extruder to obtain pellets of titanium dioxide master (h).

(9)炭酸カルシウムマスター(i)
炭酸カルシウム粒子(数平均粒径0.6μm)50質量部に対し、ポリエステル樹脂(a)を50質量部と二軸押出機にて混練し、二酸化チタンマスター(i)のペレットを得た。
(9) Calcium carbonate master (i)
50 parts by mass of the polyester resin (a) and 50 parts by mass of the polyester resin (a) were kneaded with 50 parts by mass of calcium carbonate particles (0.6 μm in number average particle size) using a twin-screw extruder to obtain pellets of titanium dioxide master (i).

[実施例1]
樹脂(a)50質量部、樹脂(b)5質量部、樹脂(c)5質量部、樹脂(e)20質量部、樹脂(f)20質量部の組成の原料を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に、主押出機にB層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。また、樹脂(a)100質量部を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に副押出機にA層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。引き続いて、これらの溶融ポリマーをTダイ複合口金内で、A層がB層の両表層に積層(A/B/A)されるよう合流させた。積層比は1:7:1とした。
[Example 1]
Raw materials having a composition of 50 parts by mass of resin (a), 5 parts by mass of resin (b), 5 parts by mass of resin (c), 20 parts by mass of resin (e), and 20 parts by mass of resin (f) were heated at a temperature of 180° C. After vacuum-drying for 3 hours, it was supplied to the main extruder as a raw material for layer B, melt-extruded at a temperature of 280° C., and then filtered through a 30 μm cut filter. Further, 100 parts by mass of resin (a) was vacuum-dried at a temperature of 180° C. for 6 hours, supplied to a sub-extruder as a raw material for layer A, melt-extruded at a temperature of 280° C., and filtered with a 30 μm cut filter. . Subsequently, these molten polymers were combined in a T-die composite die such that the A layer was laminated on both surfaces of the B layer (A/B/A). Lamination ratio was set to 1:7:1.

引き続いて、合流した溶融ポリマーをシート状に押出して溶融シートとし、当該溶融シートを、表面温度25℃に保たれたキャストドラム上に静電印加法で密着させ冷却固化させて未延伸フィルムとした。なお、未延伸フィルムの融点Tmは250℃であった。 Subsequently, the merged molten polymer was extruded into a sheet shape to form a molten sheet, and the molten sheet was brought into close contact with a cast drum whose surface temperature was kept at 25°C by an electrostatic application method and cooled and solidified to form an unstretched film. . The melting point Tm of the unstretched film was 250°C.

引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで30%/秒の延伸速度にて2.5倍にMD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムとした。 Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 2.5 at a stretching speed of 30% / sec with a roll heated to 88 ° C. The film was MD-stretched twice and cooled by a roll group at a temperature of 30° C. to obtain a uniaxially-stretched film.

引き続いて、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の90℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度95℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.2倍にTD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷し、二軸延伸フィルムとした。 Subsequently, while holding both ends of the uniaxially stretched film with clips, it was guided to a preheating zone of 90°C in the tenter, and TD stretching was performed at a stretching temperature of 95°C and a stretching speed of 15%/second to 3.2 times. , and slowly cooled in a cooling zone of 30° C. to obtain a biaxially stretched film.

引き続いて、当該二軸延伸フィルムを90℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、100℃に加熱したロールで50%/秒の延伸速度にて2.0倍に再MD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却した。次いでフィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の100℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度110℃のもと5%/秒の延伸速度にて1.5倍に再TD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷した。次いで、テンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷後、ロールに巻き取り、厚み60μmフィルムを得た。ミニLEDディスプレイ用ポリエステルフィルム(基材)としての物性は表1のとおりである。 Subsequently, the biaxially stretched film was preheated by a group of rolls heated to a temperature of 90° C. and then stretched by a roll heated to 100° C. at a stretching speed of 50%/sec while being irradiated from both sides by an infrared heater. It was again MD-stretched to 0 times and cooled with a roll group at a temperature of 30°C. Next, while holding both ends of the film with clips, it is guided to a preheating zone of 100°C in the tenter, and again TD-stretched to 1.5 times at a stretching temperature of 110°C and a stretching speed of 5%/sec, and 30°C. was led to the cooling zone of , and slowly cooled. Then, the film was heat-treated at a temperature of 200° C. for 10 seconds in a heat-treatment zone in the tenter, then uniformly cooled to 30° C. and then wound on a roll to obtain a film having a thickness of 60 μm. Table 1 shows the physical properties of the polyester film (substrate) for mini LED displays.

[実施例2]
樹脂(a)50質量部、樹脂(b)5質量部、樹脂(c)5質量部、樹脂(e)20質量部、樹脂(f)20質量部の組成の原料を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に、主押出機にB層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。また、樹脂(a)100質量部を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に副押出機にA層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。引き続いて、これらの溶融ポリマーをTダイ複合口金内で、A層がB層の両表層に積層(A/B/A)されるよう合流させた。積層比は1:7:1とし、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるよう押出機の吐出量を調整した。 引き続いて、合流した溶融ポリマーをシート状に押出して溶融シートとし、当該溶融シートを、表面温度25℃に保たれたキャストドラム上に静電印加法で密着させ冷却固化させて未延伸フィルムとした。なお、未延伸フィルムの融点Tmは250℃であった。
[Example 2]
Raw materials having a composition of 50 parts by mass of resin (a), 5 parts by mass of resin (b), 5 parts by mass of resin (c), 20 parts by mass of resin (e), and 20 parts by mass of resin (f) were heated at a temperature of 180° C. After vacuum-drying for 3 hours, it was supplied to the main extruder as a raw material for layer B, melt-extruded at a temperature of 280° C., and then filtered through a 30 μm cut filter. Further, 100 parts by mass of resin (a) was vacuum-dried at a temperature of 180° C. for 6 hours, supplied to a sub-extruder as a raw material for layer A, melt-extruded at a temperature of 280° C., and filtered with a 30 μm cut filter. . Subsequently, these molten polymers were combined in a T-die composite die such that the A layer was laminated on both surfaces of the B layer (A/B/A). The lamination ratio was 1:7:1, and the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 60 μm. Subsequently, the merged molten polymer was extruded into a sheet shape to form a molten sheet, and the molten sheet was brought into close contact with a cast drum whose surface temperature was kept at 25°C by an electrostatic application method and cooled and solidified to form an unstretched film. . The melting point Tm of the unstretched film was 250°C.

引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで150%/秒の延伸速度にて2.5倍にMD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムとした。 Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 2.5 at a stretching speed of 150% / sec with a roll heated to 88 ° C. The film was MD-stretched twice and cooled by a roll group at a temperature of 30° C. to obtain a uniaxially-stretched film.

引き続いて、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の90℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度95℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.2倍にTD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷し、二軸延伸フィルムとした。 Subsequently, while holding both ends of the uniaxially stretched film with clips, it was guided to a preheating zone of 90°C in the tenter, and TD stretching was performed at a stretching temperature of 95°C and a stretching speed of 15%/second to 3.2 times. , and slowly cooled in a cooling zone of 30° C. to obtain a biaxially stretched film.

引き続いて、当該二軸延伸フィルムを90℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、100℃に加熱したロールで250%/秒の延伸速度にて2.0倍に再MD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却した。次いでフィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の100℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度110℃のもと5%/秒の延伸速度にて1.5倍に再TD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷した。次いで、テンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷後、ロールに巻き取り、厚み60μmのフィルムを得た。ミニLEDディスプレイ用ポリエステルフィルム(基材)としての物性は表1のとおりである。 Subsequently, the biaxially stretched film was preheated with rolls heated to a temperature of 90° C., and then stretched with rolls heated to 100° C. at a stretching speed of 250%/sec while being irradiated from both sides by infrared heaters. It was again MD-stretched to 0 times and cooled with a roll group at a temperature of 30°C. Next, while holding both ends of the film with clips, it is guided to a preheating zone of 100°C in the tenter, and again TD-stretched to 1.5 times at a stretching temperature of 110°C and a stretching speed of 5%/sec, and 30°C. was led to the cooling zone of , and slowly cooled. Then, the film was heat-treated at a temperature of 200° C. for 10 seconds in a heat-treatment zone in the tenter, then uniformly cooled to 30° C. and then wound on a roll to obtain a film having a thickness of 60 μm. Table 1 shows the physical properties of the polyester film (substrate) for mini LED displays.

[実施例3]
樹脂(a)50質量部、樹脂(b)5質量部、樹脂(c)5質量部、樹脂(e)20質量部、樹脂(f)20質量部の組成の原料を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に、主押出機にB層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。また、樹脂(a)100質量部を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に副押出機にA層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。引き続いて、これらの溶融ポリマーをTダイ複合口金内で、A層がB層の両表層に積層(A/B/A)されるよう合流させた。積層比は1:7:1とし、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるよう押出機の吐出量を調整した。
[Example 3]
Raw materials having a composition of 50 parts by mass of resin (a), 5 parts by mass of resin (b), 5 parts by mass of resin (c), 20 parts by mass of resin (e), and 20 parts by mass of resin (f) were heated at a temperature of 180° C. After vacuum-drying for 3 hours, it was supplied to the main extruder as a raw material for layer B, melt-extruded at a temperature of 280° C., and then filtered through a 30 μm cut filter. Further, 100 parts by mass of resin (a) was vacuum-dried at a temperature of 180° C. for 6 hours, supplied to a sub-extruder as a raw material for layer A, melt-extruded at a temperature of 280° C., and filtered with a 30 μm cut filter. . Subsequently, these molten polymers were combined in a T-die composite die such that the A layer was laminated on both surfaces of the B layer (A/B/A). The lamination ratio was 1:7:1, and the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 60 μm.

引き続いて、合流した溶融ポリマーをシート状に押出して溶融シートとし、当該溶融シートを、表面温度25℃に保たれたキャストドラム上に静電印加法で密着させ冷却固化させて未延伸フィルムとした。なお、未延伸フィルムの融点Tmは250℃であった。 Subsequently, the merged molten polymer was extruded into a sheet shape to form a molten sheet, and the molten sheet was brought into close contact with a cast drum whose surface temperature was kept at 25°C by an electrostatic application method and cooled and solidified to form an unstretched film. . The melting point Tm of the unstretched film was 250°C.

引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで150%/秒の延伸速度にて3.0倍にMD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムとした。 Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 3.0 at a stretching speed of 150% / sec with a roll heated to 88 ° C. The film was MD-stretched twice and cooled by a roll group at a temperature of 30° C. to obtain a uniaxially-stretched film.

引き続いて、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の90℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度95℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.2倍にTD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷し、二軸延伸フィルムとした。 Subsequently, while holding both ends of the uniaxially stretched film with clips, it was guided to a preheating zone of 90°C in the tenter, and TD stretching was performed at a stretching temperature of 95°C and a stretching speed of 15%/second to 3.2 times. , and slowly cooled in a cooling zone of 30° C. to obtain a biaxially stretched film.

引き続いて、当該二軸延伸フィルムを90℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、100℃に加熱したロールで250%/秒の延伸速度にて2.0倍に再MD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却した。次いでフィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の100℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度110℃のもと5%/秒の延伸速度にて1.5倍に再TD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷した。次いで、テンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷後、ロールに巻き取り、厚み60μmのフィルムを得た。ミニLEDディスプレイ用ポリエステルフィルム(基材)としての物性は表1のとおりである。 Subsequently, the biaxially stretched film was preheated with rolls heated to a temperature of 90° C., and then stretched with rolls heated to 100° C. at a stretching speed of 250%/sec while being irradiated from both sides by infrared heaters. It was again MD-stretched to 0 times and cooled with a roll group at a temperature of 30°C. Next, while holding both ends of the film with clips, it is guided to a preheating zone of 100°C in the tenter, and again TD-stretched to 1.5 times at a stretching temperature of 110°C and a stretching speed of 5%/sec, and 30°C. was led to the cooling zone of , and slowly cooled. Then, the film was heat-treated at a temperature of 200° C. for 10 seconds in a heat-treatment zone in the tenter, then uniformly cooled to 30° C. and then wound on a roll to obtain a film having a thickness of 60 μm. Table 1 shows the physical properties of the polyester film (substrate) for mini LED displays.

[実施例4]
樹脂(a)50質量部、樹脂(b)5質量部、樹脂(c)5質量部、樹脂(e)20質量部、樹脂(f)20質量部の組成の原料を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に、主押出機にB層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。また、樹脂(a)100質量部を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に副押出機にA層の原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。引き続いて、これらの溶融ポリマーをTダイ複合口金内で、A層がB層の両表層に積層(A/B/A)されるよう合流させた。積層比は1:7:1とし、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるよう押出機の吐出量を調整した。
[Example 4]
Raw materials having a composition of 50 parts by mass of resin (a), 5 parts by mass of resin (b), 5 parts by mass of resin (c), 20 parts by mass of resin (e), and 20 parts by mass of resin (f) were heated at a temperature of 180° C. After vacuum-drying for 3 hours, it was supplied to the main extruder as a raw material for layer B, melt-extruded at a temperature of 280° C., and then filtered through a 30 μm cut filter. Further, 100 parts by mass of resin (a) was vacuum-dried at a temperature of 180° C. for 6 hours, supplied to a sub-extruder as a raw material for layer A, melt-extruded at a temperature of 280° C., and filtered with a 30 μm cut filter. . Subsequently, these molten polymers were combined in a T-die composite die such that the A layer was laminated on both surfaces of the B layer (A/B/A). The lamination ratio was 1:7:1, and the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 60 μm.

引き続いて、合流した溶融ポリマーをシート状に押出して溶融シートとし、当該溶融シートを、表面温度25℃に保たれたキャストドラム上に静電印加法で密着させ冷却固化させて未延伸フィルムとした。なお、未延伸フィルムの融点Tmは250℃であった。 Subsequently, the merged molten polymer was extruded into a sheet shape to form a molten sheet, and the molten sheet was brought into close contact with a cast drum whose surface temperature was kept at 25°C by an electrostatic application method and cooled and solidified to form an unstretched film. . The melting point Tm of the unstretched film was 250°C.

引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで150%/秒の延伸速度にて3.0倍にMD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムとした。 Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 3.0 at a stretching speed of 150% / sec with a roll heated to 88 ° C. The film was MD-stretched twice and cooled by a roll group at a temperature of 30° C. to obtain a uniaxially-stretched film.

引き続いて、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の90℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度95℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.2倍にTD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷し、二軸延伸フィルムとした。 Subsequently, while holding both ends of the uniaxially stretched film with clips, it was guided to a preheating zone of 90°C in the tenter, and TD stretching was performed at a stretching temperature of 95°C and a stretching speed of 15%/second to 3.2 times. , and slowly cooled in a cooling zone of 30° C. to obtain a biaxially stretched film.

引き続いて、当該二軸延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、95℃に加熱したロールで250%/秒の延伸速度にて2.0倍に再MD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却した。次いでフィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の100℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度110℃のもと5%/秒の延伸速度にて1.5倍に再TD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷した。次いで、テンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷後、ロールに巻き取り、厚み60μmのフィルムを得た。ミニLEDディスプレイ用ポリエステルフィルム(基材)としての物性は表1のとおりである。
[実施例5]
MD延伸倍率を2.2倍、TD延伸倍率を3.6倍、再MD延伸倍率を1.7倍、再TD延伸倍率を1.8倍にそれぞれ変更し、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[実施例6]
MD延伸倍率を3.4倍、TD延伸倍率を2.7倍、再MD延伸倍率を2.2倍、再TD延伸倍率を1.2倍にそれぞれ変更し、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[実施例7]
MD延伸倍率を2.2倍、TD延伸倍率を2.7倍、再MD延伸倍率を1.7倍、再TD延伸倍率を1.2倍にそれぞれ変更し、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
Subsequently, the biaxially stretched film was preheated by a group of rolls heated to a temperature of 80° C., and then irradiated from both sides with an infrared heater while being stretched by a roll heated to 95° C. at a stretching rate of 250%/second. It was again MD-stretched to 0 times and cooled with a roll group at a temperature of 30°C. Next, while holding both ends of the film with clips, it is guided to a preheating zone of 100°C in the tenter, and again TD-stretched to 1.5 times at a stretching temperature of 110°C and a stretching speed of 5%/sec, and 30°C. was led to the cooling zone of , and slowly cooled. Then, the film was heat-treated at a temperature of 200° C. for 10 seconds in a heat-treatment zone in the tenter, then uniformly cooled to 30° C. and then wound on a roll to obtain a film having a thickness of 60 μm. Table 1 shows the physical properties of the polyester film (substrate) for mini LED displays.
[Example 5]
The MD draw ratio was changed to 2.2 times, the TD draw ratio was changed to 3.6 times, the re-MD draw ratio was changed to 1.7 times, and the re-TD draw ratio was changed to 1.8 times, and the final film thickness was 60 μm. A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the discharge rate of the extruder was adjusted so that
[Example 6]
The MD draw ratio was changed to 3.4 times, the TD draw ratio was changed to 2.7 times, the re-MD draw ratio was changed to 2.2 times, and the re-TD draw ratio was changed to 1.2 times, and the final film thickness was 60 μm. A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the discharge rate of the extruder was adjusted so that
[Example 7]
The MD draw ratio was changed to 2.2 times, the TD draw ratio was changed to 2.7 times, the re-MD draw ratio was changed to 1.7 times, and the re-TD draw ratio was changed to 1.2 times, and the final film thickness was 60 μm. A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the discharge rate of the extruder was adjusted so that

[実施例8]
B層に供給する原料として、樹脂(a)50質量部、樹脂(b)5質量部、樹脂(c)5質量部、樹脂(e)20質量部、樹脂(h)20質量部の組成の原料を用い、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[Example 8]
As a raw material to be supplied to the B layer, a composition of 50 parts by mass of resin (a), 5 parts by mass of resin (b), 5 parts by mass of resin (c), 20 parts by mass of resin (e), and 20 parts by mass of resin (h) A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the raw materials were used and the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 60 μm.

[実施例9]
B層に供給する原料として、樹脂(a)40質量部、樹脂(e)30質量部、樹脂(i)30質量部の組成の原料を用い、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[Example 9]
As a raw material to be supplied to layer B, a raw material having a composition of 40 parts by mass of resin (a), 30 parts by mass of resin (e), and 30 parts by mass of resin (i) was used so that the final film thickness was 60 μm. A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the discharge rate of the extruder was adjusted.

[実施例10]
B層に供給する原料として、樹脂(a)40質量部、樹脂(e)60質量部の組成の原料を用い、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[Example 10]
As a raw material to be supplied to layer B, a raw material having a composition of 40 parts by mass of resin (a) and 60 parts by mass of resin (e) was used, and the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 60 μm. A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2 except for the above.

[実施例11]
B層に供給する原料として、樹脂(a)40質量部、樹脂(b)5質量部、樹脂(c)5質量部、樹脂(d)10質量部、樹脂(e)40質量部の組成の原料を用い、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[Example 11]
As a raw material to be supplied to the B layer, a composition of 40 parts by mass of resin (a), 5 parts by mass of resin (b), 5 parts by mass of resin (c), 10 parts by mass of resin (d), and 40 parts by mass of resin (e) A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the raw materials were used and the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 60 μm.

[実施例12]
TD延伸後に、150℃で5秒間、弛緩率3%のTD方向の弛緩処理を施した後に再MD延伸を行い、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[Example 12]
After the TD stretching, the film was subjected to relaxation treatment in the TD direction at a relaxation rate of 3% at 150° C. for 5 seconds, and then subjected to MD stretching again, and the extruder discharge rate was adjusted so that the final film thickness was 60 μm. A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2 except for the above.

[実施例13]
再TD延伸後の熱処理温度を230℃に変更し、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例10と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[Example 13]
In the same manner as in Example 10, except that the heat treatment temperature after re-TD stretching was changed to 230 ° C. and the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 60 μm, the polyester described in Table 1 got the film.

[実施例14]
最終的なフィルムの厚みが188μmとなるように押出機の吐出量を調整した以外は実施例2と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。
[実施例15]
樹脂(a)50質量部、樹脂(b)5質量部、樹脂(c)5質量部、樹脂(e)20質量部、樹脂(f)20質量部の組成の原料を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に、押出機に原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。引き続いて、これらの溶融ポリマーをTダイ口金からシート状に押出して溶融シートとし、当該溶融シートを、表面温度25℃に保たれたキャストドラム上に静電印加法で密着させ冷却固化させて未延伸フィルムとした。なお、未延伸フィルムの融点Tmは250℃であった。この時、最終的なフィルムの厚みが60μmとなるよう押出機の吐出量を調整した。
[Example 14]
A polyester film shown in Table 1 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final film thickness was 188 μm.
[Example 15]
Raw materials having a composition of 50 parts by mass of resin (a), 5 parts by mass of resin (b), 5 parts by mass of resin (c), 20 parts by mass of resin (e), and 20 parts by mass of resin (f) were heated at a temperature of 180° C. After vacuum-drying for 3 hours, it was supplied as a raw material to an extruder, melt-extruded at a temperature of 280° C., and then filtered through a 30 μm cut filter. Subsequently, these molten polymers are extruded in sheet form from a T-die die to form a molten sheet, and the molten sheet is brought into close contact with a cast drum whose surface temperature is maintained at 25° C. by an electrostatic application method and cooled and solidified. A stretched film was obtained. The melting point Tm of the unstretched film was 250°C. At this time, the discharge rate of the extruder was adjusted so that the final thickness of the film was 60 μm.

引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで150%/秒の延伸速度にて2.5倍にMD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムとした。 Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 2.5 at a stretching speed of 150% / sec with a roll heated to 88 ° C. The film was MD-stretched twice and cooled by a roll group at a temperature of 30° C. to obtain a uniaxially-stretched film.

引き続いて、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の90℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度95℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.2倍にTD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷し、二軸延伸フィルムとした。 Subsequently, while holding both ends of the uniaxially stretched film with clips, it was guided to a preheating zone of 90°C in the tenter, and TD stretching was performed at a stretching temperature of 95°C and a stretching speed of 15%/second to 3.2 times. , and slowly cooled in a cooling zone of 30° C. to obtain a biaxially stretched film.

引き続いて、当該二軸延伸フィルムを90℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、100℃に加熱したロールで250%/秒の延伸速度にて2.0倍に再MD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却した。次いでフィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の100℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度110℃のもと5%/秒の延伸速度にて1.5倍に再TD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷した。次いで、テンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷後、ロールに巻き取り、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。 Subsequently, the biaxially stretched film was preheated with rolls heated to a temperature of 90° C., and then stretched with rolls heated to 100° C. at a stretching speed of 250%/sec while being irradiated from both sides by infrared heaters. It was again MD-stretched to 0 times and cooled with a roll group at a temperature of 30°C. Next, while holding both ends of the film with clips, it is guided to a preheating zone of 100°C in the tenter, and again TD-stretched to 1.5 times at a stretching temperature of 110°C and a stretching speed of 5%/sec, and 30°C. was led to the cooling zone of , and slowly cooled. Then, the film was heat-treated at a temperature of 200° C. for 10 seconds in a heat-treatment zone in the tenter, then uniformly cooled to 30° C. and wound up on a roll to obtain a polyester film shown in Table 1.

[比較例1]
最終的に得られるフィルム厚みが60μmとなるように押出条件を調整した以外は実施例1と同様にして、未延伸フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
An unstretched film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the extrusion conditions were adjusted so that the thickness of the film finally obtained was 60 μm.

引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで150%/秒の延伸速度にて2.5倍にMD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムとした。 Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 2.5 at a stretching speed of 150% / sec with a roll heated to 88 ° C. The film was MD-stretched twice and cooled by a roll group at a temperature of 30° C. to obtain a uniaxially-stretched film.

引き続いて、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の90℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度95℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.5倍にTD延伸を行い、次いでテンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷後、ロールに巻き取り、表1に記載のフィルムを得た。 Subsequently, while holding both ends of the uniaxially stretched film with clips, it is guided to a preheating zone of 90°C in the tenter, and TD stretching is performed at a stretching temperature of 95°C and a stretching rate of 15%/second to 3.5 times. Then, the film was heat-treated at a temperature of 200° C. for 10 seconds in a heat-treatment zone in the tenter, then uniformly cooled to 30° C. and then wound on a roll to obtain a film shown in Table 1.

[比較例2]
最終的に得られるフィルム厚みが60μmとなるように押出条件を調整し、さらにMD延伸倍率を3.5倍、TD延伸倍率を3.7倍にそれぞれ変更した以外は比較例1と同様にして、表1に記載のポリエステルフィルムを得た。製膜中にフィルム破れが頻発し、安定製膜できる延伸条件ではなかった。
[Comparative Example 2]
Extrusion conditions were adjusted so that the thickness of the film finally obtained was 60 μm, and the same procedure as in Comparative Example 1 was performed except that the MD draw ratio was changed to 3.5 times and the TD draw ratio was changed to 3.7 times. , the polyester film described in Table 1 was obtained. Film breakage occurred frequently during film formation, and the stretching conditions were not suitable for stable film formation.

[比較例3]
樹脂(a)100質量部を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に、押出機に原料として供給し、280℃の温度で溶融押出後、30μmカットフィルターにより濾過を行った。引き続いて、これらの溶融ポリマーをTダイ口金からシート状に押出して溶融シートとし、当該溶融シートを、表面温度25℃に保たれたキャストドラム上に静電印加法で密着させ冷却固化させて未延伸フィルムとした。
[Comparative Example 3]
After vacuum-drying 100 parts by mass of resin (a) at a temperature of 180° C. for 6 hours, it was supplied as a raw material to an extruder, melt-extruded at a temperature of 280° C., and then filtered through a 30 μm cut filter. Subsequently, these molten polymers are extruded in sheet form from a T-die die to form a molten sheet, and the molten sheet is brought into close contact with a cast drum whose surface temperature is maintained at 25° C. by an electrostatic application method and cooled and solidified. A stretched film was obtained.

引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで150%/秒の延伸速度にて3.0倍にMD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムとした。 Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 3.0 at a stretching speed of 150% / sec with a roll heated to 88 ° C. The film was MD-stretched twice and cooled by a roll group at a temperature of 30° C. to obtain a uniaxially-stretched film.

引き続いて、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の90℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度95℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.2倍にTD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷し、二軸延伸フィルムとした。 Subsequently, while holding both ends of the uniaxially stretched film with clips, it was guided to a preheating zone of 90°C in the tenter, and TD stretching was performed at a stretching temperature of 95°C and a stretching speed of 15%/second to 3.2 times. , and slowly cooled in a cooling zone of 30° C. to obtain a biaxially stretched film.

引き続いて、当該二軸延伸フィルムを90℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、100℃に加熱したロールで250%/秒の延伸速度にて2.0倍に再MD延伸を行い、30℃の温度のロール群で冷却した。次いでフィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の100℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度110℃のもと5%/秒の延伸速度にて1.5倍に再TD延伸を行い、30℃の冷却ゾーンに導いて徐冷した。次いで、テンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷後、ロールに巻き取り、表1に記載の厚みのポリエステルフィルムを得た。 Subsequently, the biaxially stretched film was preheated with rolls heated to a temperature of 90° C., and then stretched with rolls heated to 100° C. at a stretching speed of 250%/sec while being irradiated from both sides by infrared heaters. It was again MD-stretched to 0 times and cooled with a roll group at a temperature of 30°C. Next, while holding both ends of the film with clips, it is guided to a preheating zone of 100°C in the tenter, and again TD-stretched to 1.5 times at a stretching temperature of 110°C and a stretching speed of 5%/sec, and 30°C. was led to the cooling zone of , and slowly cooled. Then, the film was heat-treated at a temperature of 200° C. for 10 seconds in a heat treatment zone in the tenter, then uniformly cooled to 30° C. and then wound on a roll to obtain a polyester film having a thickness shown in Table 1.

[比較例4]
最終的に得られるフィルム厚みが60μmとなるように押出条件を調整した以外は実施例1と同様にして、未延伸フィルムを得た。
引き続いて、当該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、88℃に加熱したロールで150%/秒の延伸速度にて1.9倍にMD延伸を行った。次いで90℃に加熱したロール群で再MD延伸区間に導き、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、95℃に加熱したロールで300%/秒の延伸速度にて2.0倍に再MD延伸を行い、多段一軸延伸フィルムを得た。
引き続いて、当該多段一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の95℃の予熱ゾーンに導き、延伸温度100℃のもと15%/秒の延伸速度にて3.8倍にTD延伸を行い、次いでテンター内の熱処理ゾーンで200℃の温度で10秒間の熱処理を施し、次いで均一に30℃まで徐冷した。しかし、フィルムの破れが頻発し、評価可能なフィルムを採取することができなかった。
[Comparative Example 4]
An unstretched film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the extrusion conditions were adjusted so that the thickness of the film finally obtained was 60 μm.
Subsequently, after preheating the unstretched film with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., while irradiating from both sides with an infrared heater, 1.9 at a stretching speed of 150% / sec with a roll heated to 88 ° C. MD stretching was performed twice. Next, a group of rolls heated to 90°C is guided to a re-MD stretching section, and while being irradiated from both sides with an infrared heater, the rolls heated to 95°C are stretched again to 2.0 times at a stretching speed of 300%/sec. to obtain a multistage uniaxially stretched film.
Subsequently, while holding both ends of the multistage uniaxially stretched film with clips, it is guided to a preheating zone of 95°C in the tenter, and TD stretched 3.8 times at a stretching temperature of 100°C and a stretching rate of 15%/sec. and then heat-treated at a temperature of 200.degree. However, tearing of the film occurred frequently, and it was not possible to collect a film that could be evaluated.

Figure 2023037175000001
Figure 2023037175000001

Figure 2023037175000002
Figure 2023037175000002

本発明によれば、微小なLEDを用いたバックライトに好適に用いることのできる、耐熱性と輝度向上効果に優れた反射フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the reflective film excellent in heat resistance and the brightness improvement effect which can be used suitably for the backlight using minute LED can be provided.

1:基板(PCB)
2:反射フィルム
3:青色LED
4:封止材
5:波長変換シート
6:拡散板
7:LCD
1: Substrate (PCB)
2: Reflective film 3: Blue LED
4: sealing material 5: wavelength conversion sheet 6: diffusion plate 7: LCD

Claims (10)

ポリエステル樹脂と、ポリエステル樹脂に非相溶な熱可塑性樹脂または無機粒子を主成分として含む層を少なくとも有するポリエステルフィルムであって、該層のボイド含有率が10%以上であって、かつ該ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面を構成するポリエステル樹脂のトランス体の割合がゴーシュ体の割合に対し、0.75倍以上であるポリエステルフィルム。 A polyester film having at least a layer containing a polyester resin and a thermoplastic resin or inorganic particles incompatible with the polyester resin as main components, wherein the layer has a void content of 10% or more, and the polyester film A polyester film in which the ratio of the trans isomer of the polyester resin constituting at least one surface of is 0.75 times or more the ratio of the gauche isomer. フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、フィルムの主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれのボイド含有率Va(%)、Vb(%)について、Vb/Vaが1.2(%)以上である、請求項1に記載のポリエステルフィルム。 Vb/Va is 1.2 (%) for the void content rates Va (%) and Vb (%) of the cross section A with the film main axis direction as the cutting direction and the cross section B with the film main axis direction as the normal line. The polyester film according to claim 1, which is the above. フィルムの主軸方向および主軸方向に直交する方向の50℃~150℃の熱膨張係数(CTE)の平均が0ppm/℃以上30ppm/℃以下である、請求項1または2に記載のポリエステルフィルム。 3. The polyester film according to claim 1, wherein the average coefficient of thermal expansion (CTE) at 50° C. to 150° C. in the principal axis direction of the film and in the direction perpendicular to the principal axis direction is 0 ppm/° C. or more and 30 ppm/° C. or less. フィルムを150℃で2時間加熱した場合に、フィルムの主軸方向および主軸方向に直交する方向の熱収縮率の平均が0.05%以上0.5%以下である、請求項1~3のいずれかに記載のポリエステルフィルムフィルム。 4. Any one of claims 1 to 3, wherein when the film is heated at 150° C. for 2 hours, the average thermal shrinkage rate in the principal axis direction of the film and in the direction perpendicular to the principal axis direction is 0.05% or more and 0.5% or less. The polyester film described in 1. フィルムの断面における、断面積0.1μm以上1.0μm以下のボイドの密度が0.25個/μm以上1.25個/μm以下である、請求項1~4のいずれかに記載のポリエステルフィルム。 5. Any one of claims 1 to 4, wherein the density of voids having a cross-sectional area of 0.1 μm 2 or more and 1.0 μm 2 or less in the cross section of the film is 0.25/μm 2 or more and 1.25/μm 2 or less. The polyester film described. フィルムの主軸方向を切削方向とする断面A、フィルムの主軸方向を法線とする断面Bのそれぞれの厚み方向における厚み1μmあたりの平均ボイド数が0.4個以上4.0個以下である、請求項1~5のいずれかに記載のポリエステルフィルム。 The average number of voids per 1 μm of thickness in each thickness direction of cross section A with the film main axis direction as the cutting direction and cross section B with the film main axis direction as the normal is 0.4 or more and 4.0 or less. The polyester film according to any one of claims 1-5. フィルムの主軸方向のヤング率と主軸方向と直交する方向のヤング率との和が4GPa以上20GPa以下である、請求項1~6のいずれかに記載のポリエステルフィルム。 7. The polyester film according to any one of claims 1 to 6, wherein the sum of the Young's modulus in the principal axis direction and the Young's modulus in the direction perpendicular to the principal axis direction of the film is 4 GPa or more and 20 GPa or less. 請求項1~7のいずれかに記載のポリエステルフィルムを有する、ミニLED基板。 A mini LED substrate having the polyester film according to any one of claims 1 to 7. 請求項8に記載のミニLED基板を有する、バックライト。 A backlight comprising the mini LED substrate according to claim 8 . 請求項9に記載のバックライトを有する、ディスプレイ。 A display comprising a backlight according to claim 9.
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