JP2022052029A - Led substrate - Google Patents

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JP2022052029A
JP2022052029A JP2020158182A JP2020158182A JP2022052029A JP 2022052029 A JP2022052029 A JP 2022052029A JP 2020158182 A JP2020158182 A JP 2020158182A JP 2020158182 A JP2020158182 A JP 2020158182A JP 2022052029 A JP2022052029 A JP 2022052029A
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裕仁 内田
hirohito Uchida
秀夫 荘司
Hideo Shoji
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Toray Industries Inc
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Abstract

To provide an LED substrate that makes it possible to provide an LED substrate suitable for thinning.SOLUTION: An LED substrate includes at least a base material, an LED light source, and a reflective material, and the height (H) of the LED light source is 300 μm or less, the thickness (T) of the reflective material is 20 μm or more and 120 μm or less, and the surface roughness Ra of the surface of the reflective material is 10 nm or more and less than 300 nm.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、薄型液晶ディスプレイ用途に好ましく用いられるLED基板に関するものである。 The present invention relates to an LED substrate preferably used for thin liquid crystal display applications.

近年、パソコン、テレビ、携帯電話などの表示装置として、液晶を利用したディスプレイが数多く用いられている。これらの液晶ディスプレイは、裏側からバックライトと呼ばれる面光源を設置して光を照射することにより表示が可能となっている。 In recent years, many displays using liquid crystals have been used as display devices for personal computers, televisions, mobile phones and the like. These liquid crystal displays can be displayed by installing a surface light source called a backlight from the back side and irradiating the light.

液晶ディスプレイ用バックライトの光源としてはLEDが用いられるようになり、薄型化が進んでいる。薄型化のために、使用される部材の小型化、フィルム部材の薄膜化や、複数の機能を統合したような部材のニーズが高まっている。 LEDs have come to be used as a light source for a backlight for a liquid crystal display, and are becoming thinner. In order to reduce the thickness, there is an increasing need for members such as smaller members used, thinner film members, and integrated multiple functions.

従来、バックライトには反射板(反射フィルムと呼称する場合もある)として、白色顔料を添加したフィルムや内部に微細な気泡を含有させたフィルムが単独で、もしくはこれらのフィルムと金属板、プラスチック板などを張り合わせたものが使用されてきた。特に内部に微細な気泡を含有させたフィルムは、輝度の向上効果や、画面輝度の均一化に一定の効果があることから広く使用されている(特許文献1、2)。 Conventionally, the backlight has a reflective plate (sometimes called a reflective film), which is a film to which a white pigment is added or a film containing fine bubbles inside, or these films and a metal plate or plastic. Those made by laminating boards have been used. In particular, a film containing fine bubbles inside is widely used because it has a certain effect on improving the brightness and making the screen brightness uniform (Patent Documents 1 and 2).

特開2003-160682号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-160682 特公平8-16175号公報Special Fair 8-16175 Gazette

しかしながら、バックライトの小型化、薄型化や画面の高精細化技術が進歩するにつれ、従来の反射フィルムでは性能・効果が十分ではなくなっている。また、従来の反射フィルムと他の部材とを組み合わせることによりその性能・効果を向上させる取り組みが行われているが、その効果は十分ではない。 However, as the technology for reducing the size and thickness of the backlight and increasing the definition of the screen advances, the performance and effect of the conventional reflective film are not sufficient. In addition, efforts have been made to improve the performance and effect of the conventional reflective film by combining it with other members, but the effect is not sufficient.

本発明は、上記の問題を解決し、薄型化に適したLED基板を提供することを目的とするものである。 An object of the present invention is to solve the above problems and to provide an LED substrate suitable for thinning.

上記課題を鑑み、鋭意検討した結果、以下の構成を有するLED基板により上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
すなわち
[I]少なくとも基材、LED光源、反射材を有するLED基板であり、
前記LED光源の高さ(H)が300μm以下であり、
前記反射材の厚み(T)が20μm以上120μm以下であり、
前記反射材表面の三次元表面粗さSRaが10nm以上300nm未満であるLED基板。
[II]前記LED光源の高さ(H)と前記反射材の厚み(T)の比(T/H)が0.1~1.0である[I]に記載のLED基板。
[III]前記反射材表面における入射角85°の光沢度が80以上である[I]または[II]に記載のLED基板。
[IV]前記反射材が酸化チタンを含有しており、その含有量が反射材全体の重量に対して0.1重量%以上50重量%以下である[I]~[III]のいずれかに記載のLED基板。
[V]前記反射材がポリエステル樹脂を含有しており、その含有量が反射材全体の重量に対して5重量%以上である[I]~[IV]のいずれかに記載のLED基板。
[VI]前記反射材が気泡を含有しており、その含有量が反射材全体の体積に対して1体積%以上80体積%以下である[I]~[V]のいずれかに記載のLED基板。
[VII][I]~[VI]のいずれかに記載のLED基板を用いたバックライト
As a result of diligent studies in view of the above problems, it was found that the above problems can be solved by an LED substrate having the following configuration, and the present invention has been reached.
That is, [I] is an LED substrate having at least a base material, an LED light source, and a reflective material.
The height (H) of the LED light source is 300 μm or less, and the height (H) is 300 μm or less.
The thickness (T) of the reflective material is 20 μm or more and 120 μm or less.
An LED substrate having a three-dimensional surface roughness SRa of the surface of the reflective material of 10 nm or more and less than 300 nm.
[II] The LED substrate according to [I], wherein the ratio (T / H) of the height (H) of the LED light source to the thickness (T) of the reflective material is 0.1 to 1.0.
[III] The LED substrate according to [I] or [II], wherein the glossiness at an incident angle of 85 ° on the surface of the reflective material is 80 or more.
[IV] One of [I] to [III], wherein the reflective material contains titanium oxide, and the content thereof is 0.1% by weight or more and 50% by weight or less with respect to the total weight of the reflective material. The LED substrate described.
[V] The LED substrate according to any one of [I] to [IV], wherein the reflective material contains a polyester resin and the content thereof is 5% by weight or more with respect to the total weight of the reflective material.
[VI] The LED according to any one of [I] to [V], wherein the reflective material contains bubbles and the content thereof is 1% by volume or more and 80% by volume or less with respect to the total volume of the reflective material. substrate.
[VII] Backlight using the LED substrate according to any one of [I] to [VI].

本発明によれば、薄型化に適したLED基板を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an LED substrate suitable for thinning.

本発明者らは、係る課題について鋭意検討した結果、
少なくとも基材、LED光源、反射材を含むLED基板であり、
前記LED光源の高さ(H)が300μm以下であり、
前記反射材の厚み(T)が20μm以上120μm以下であり、
前記反射材表面の表面粗さSRaが10nm以上300nm未満であるLED基板、であれば、薄型化しても十分な性能が得られることを見出した。
As a result of diligent studies on such issues, the present inventors have obtained results.
An LED substrate containing at least a base material, an LED light source, and a reflective material.
The height (H) of the LED light source is 300 μm or less, and the height (H) is 300 μm or less.
The thickness (T) of the reflective material is 20 μm or more and 120 μm or less.
It has been found that if the LED substrate has a surface roughness SRa of 10 nm or more and less than 300 nm on the surface of the reflective material, sufficient performance can be obtained even if the thickness is reduced.

以下に本発明を詳細に説明する。 The present invention will be described in detail below.

本発明のLED基板は、少なくとも基材、LED光源、反射材を有する必要がある。以下、各部材について説明する。 The LED substrate of the present invention needs to have at least a base material, an LED light source, and a reflective material. Hereinafter, each member will be described.

[基材]
本発明のLED基板において、基材は平板状である限り、特に制限されず、目的に応じて適宜選択することができ、回路基板や発光装置の分野において既知のもの、例えば、セラミック基板、樹脂基板、金属基板、ガラス基板、ガラスエポキシ基板などを用いることができる。基板には、LEDと接続するための金属回路や端子を有していることが好ましい。金属回路部を形成させる方法としては特に限定されず、各種めっき処理による方法、回路形成箇所以外へマスキングを施すマスク形成方法、レーザー照射による基板表面の変性、部分除去による方法、およびそれらの組み合わせによるものが挙げられる。
[Base material]
In the LED substrate of the present invention, the substrate is not particularly limited as long as it is in the shape of a flat plate, and can be appropriately selected depending on the intended purpose. A substrate, a metal substrate, a glass substrate, a glass epoxy substrate, or the like can be used. It is preferable that the substrate has a metal circuit or a terminal for connecting to the LED. The method for forming the metal circuit portion is not particularly limited, and a method by various plating treatments, a mask forming method of masking other than the circuit forming portion, a modification of the substrate surface by laser irradiation, a method of partial removal, and a combination thereof are used. Things can be mentioned.

上記方法により形成される回路部の金属種は、金、銀、銅、白金、亜鉛、スズ、ニッケ
ル、カドミウム、クロム、およびそれらを含む合金などが挙げられ、特に金、銅、ニッケ
ルが金属回路部の形成性、密着性の点から好ましい。また、金属回路部の安定性、導通性
の向上の観点から、成形品の金属回路部上にめっき等の手法によりさらに異なる種類の金
属種からなる金属層を形成してもよい。
Examples of the metal type of the circuit portion formed by the above method include gold, silver, copper, platinum, zinc, tin, nickel, cadmium, chromium, and alloys containing them, and gold, copper, and nickel are particularly metal circuits. It is preferable from the viewpoint of formability and adhesion of the portion. Further, from the viewpoint of improving the stability and conductivity of the metal circuit portion, a metal layer made of a different kind of metal may be formed on the metal circuit portion of the molded product by a method such as plating.

上記の金属回路部は、LED側表面にあっても反対側の表面にあってもよく、2枚以上の基板を貼り合わせてその中間に存在するように形成されても良い。 The metal circuit portion may be on the surface on the LED side or the surface on the opposite side, or may be formed so that two or more substrates are bonded together and exist in the middle thereof.

[LED光源]
本発明のLED基板において、LED光源は、基板の上に実装されていることが好ましい。LED光源の高さは300μm以下である必要がある。より好ましくは250μm以下、さらに好ましくは200μm以下である。LEDの高さが300μmより大きい場合、LED基板の総厚みが薄くできないため好ましくない。また、LEDの高さが20μmより低い場合、輝度が不足する場合がある。より好ましくは30μm以上、さらに好ましくは50μm以上である。
[LED light source]
In the LED substrate of the present invention, it is preferable that the LED light source is mounted on the substrate. The height of the LED light source needs to be 300 μm or less. It is more preferably 250 μm or less, still more preferably 200 μm or less. When the height of the LED is larger than 300 μm, the total thickness of the LED substrate cannot be reduced, which is not preferable. Further, when the height of the LED is lower than 20 μm, the brightness may be insufficient. It is more preferably 30 μm or more, still more preferably 50 μm or more.

本発明のLED基板におけるLED光源は、LED(発光ダイオード)素子から引き出した電極部が基板の金属回路に接続されていることが好ましい。電極部はLED素子の側面から伸びていても良いし、LED素子の底面から基板の金属回路に接続されていてもよい。本願におけるLED光源の高さは、基板の表面を基準とした高さを言い、LED素子の底面にある電極から金属回路に接続する場合は、配線あるいははんだなどの接続部の厚さもLED光源の高さとして含むこととする。 In the LED light source in the LED substrate of the present invention, it is preferable that the electrode portion drawn from the LED (light emitting diode) element is connected to the metal circuit of the substrate. The electrode portion may extend from the side surface of the LED element, or may be connected to the metal circuit of the substrate from the bottom surface of the LED element. The height of the LED light source in the present application refers to the height with respect to the surface of the substrate, and when connecting to a metal circuit from the electrode on the bottom surface of the LED element, the thickness of the connection portion such as wiring or solder is also the thickness of the LED light source. It shall be included as the height.

[反射材]
本発明のLED基板において、反射材は、LED光源と同じ側の面に有することが好ましい。
[Reflective material]
In the LED substrate of the present invention, it is preferable that the reflective material is provided on the same surface as the LED light source.

本発明の反射材は、基板表面に形成された金属回路を保護・絶縁する目的で塗布するソルダーレジスト層を兼ねていても良く、ソルダーレジスト層とは別に高反射層を反射材として設けても良い。その場合は、ソルダーレジスト層と高反射層が反射材を構成しているものとして扱う。なお、本発明において、LED光源と同じ側の面に積層される樹脂からなる反射性を有する層を反射材とする。ただし、後述する封止樹脂やLED光源より上に存在し、LEDを覆うものは除く。 The reflective material of the present invention may also serve as a solder resist layer applied for the purpose of protecting and insulating a metal circuit formed on the substrate surface, or a highly reflective layer may be provided as a reflective material separately from the solder resist layer. good. In that case, the solder resist layer and the highly reflective layer are treated as constituting the reflective material. In the present invention, the reflective layer made of resin laminated on the surface on the same side as the LED light source is used as the reflective material. However, those that exist above the sealing resin and LED light source described later and cover the LED are excluded.

本発明の反射材の厚み(T)は、20μm以上120μm以下である必要がある。厚みが20μmより薄い場合、反射性能が不足する場合があり好ましくない。本来は反射材は厚いほど反射性能は上がるが、120μmより厚い場合、上記高さの低い小型のLED光源から横方向に出る光を阻害してしまい、輝度が低下する場合があるため好ましくない。より好ましくは40μm以上105μm以下、さらに好ましくは60μm以上95μm以下である。 The thickness (T) of the reflective material of the present invention needs to be 20 μm or more and 120 μm or less. If the thickness is thinner than 20 μm, the reflection performance may be insufficient, which is not preferable. Originally, the thicker the reflective material, the higher the reflection performance, but if it is thicker than 120 μm, it is not preferable because it may obstruct the light emitted in the lateral direction from the small LED light source having a low height and the brightness may decrease. It is more preferably 40 μm or more and 105 μm or less, and further preferably 60 μm or more and 95 μm or less.

本発明のLED光源の高さ(H)と反射材の厚み(T)の比(T/H)は0.1~1.0であることが好ましい。より好ましくは0.2~0.85、さらに好ましくは0.3~0.75である。厚みの比が0.1より小さい場合、反射材が薄く輝度が低下する場合がある。また、1.0より大きい場合、LED光源の側面部から出る光を反射材が阻害し、輝度が低下する場合がある。 The ratio (T / H) of the height (H) of the LED light source of the present invention to the thickness (T) of the reflective material is preferably 0.1 to 1.0. It is more preferably 0.2 to 0.85, still more preferably 0.3 to 0.75. If the thickness ratio is less than 0.1, the reflective material may be thin and the brightness may decrease. If it is larger than 1.0, the reflective material may obstruct the light emitted from the side surface of the LED light source, and the brightness may decrease.

本発明の反射材表面の表面粗さSRaは、10nm以上300nm未満である必要がある。表面粗さSRaが300nm以上である場合、LED基板をバックライトの光源として組み込んだ際に、LEDの直上のみが他の場所に比べて明るくなる輝度ムラの原因となる場合がある。通常、表面粗さSRaが大きいほど光は拡散されるため輝度のムラは抑制される傾向があるが、反射材表面の表面粗さSRaを上記の範囲とすることで、光学フィルム群からの反射を反射材が拡散することでLEDの形状が見えやすくなることで発生する二次反射による輝度ムラの発生を抑制することが可能となる。表面粗さSRaが10nmより小さい場合、加工のためのコストが高くなるため好ましくない。より好ましくは20nm以上250nm未満、さらに好ましくは30nm以上200nm未満である。 The surface roughness SRa of the surface of the reflective material of the present invention needs to be 10 nm or more and less than 300 nm. When the surface roughness SRa is 300 nm or more, when the LED substrate is incorporated as a light source of the backlight, it may cause uneven brightness in which only the area directly above the LED becomes brighter than other places. Normally, the larger the surface roughness SRa, the more the light is diffused, so the unevenness of the luminance tends to be suppressed. However, by setting the surface roughness SRa of the surface of the reflective material within the above range, the reflection from the optical film group is performed. It is possible to suppress the occurrence of luminance unevenness due to secondary reflection that occurs because the shape of the LED becomes easy to see due to the diffusion of the reflective material. If the surface roughness SRa is smaller than 10 nm, the cost for processing increases, which is not preferable. It is more preferably 20 nm or more and less than 250 nm, and further preferably 30 nm or more and less than 200 nm.

ソルダーレジスト層としては、公知のものが使用できるが、白色ソルダーレジストであることが好ましい。白色ソルダーレジストは無機粒子により白色化されていることが好ましい。無機粒子としては、シリカ、コロイダルシリカ、炭酸カルシウム、珪酸アルミ、リン酸カルシウム、アルミナ、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、二酸化チタン、酸化亜鉛(亜鉛華)、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化ランタン、酸化マグネシウム、炭酸バリウム、塩基性炭酸鉛(鉛白)、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸鉛、硫化亜鉛、マイカ、雲母チタン、タルク、クレー、カオリン、などの無機粒子が挙げられる。また、それらは単独もしくは2種類以上の混合で使用することができるが、中でも高い光学特性を得られることから、硫酸バリウム粒子、二酸化チタン粒子、炭酸カルシウムが好ましい。さらに好ましくは二酸化チタン粒子、中でもルチル型の結晶構造を持つ二酸化チタン粒子であることが特に好ましい。一般的に二酸化チタンはルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型の3種類の結晶構造を取り得るとされているが、ルチル型が最も屈折率が高く、反射効率に優れる。 As the solder resist layer, a known one can be used, but a white solder resist is preferable. The white solder resist is preferably whitened by inorganic particles. Inorganic particles include silica, colloidal silica, calcium carbonate, aluminum silicate, calcium phosphate, alumina, magnesium carbonate, zinc carbonate, titanium dioxide, zinc oxide (zinc white), antimony oxide, cerium oxide, zirconium oxide, tin oxide, lanthanum oxide. , Magnesium oxide, barium carbonate, basic lead carbonate (lead white), barium sulfate, calcium sulfate, lead sulfate, zinc sulfide, mica, mica titanium, talc, clay, kaolin, and the like. Further, they can be used alone or in a mixture of two or more kinds, but barium sulfate particles, titanium dioxide particles and calcium carbonate are preferable because high optical properties can be obtained. More preferably, titanium dioxide particles, especially titanium dioxide particles having a rutile-type crystal structure, are particularly preferable. It is generally said that titanium dioxide can have three types of crystal structures: rutile type, anatase type, and brookite type, but the rutile type has the highest refractive index and excellent reflection efficiency.

無機粒子の数平均粒子径は、30nm以上500nm以下であることが好ましい。より好ましくは50nm以上450nm以下、さらに好ましくは100nm以上400nm以下である。無機粒子の数平均粒子径が30nmより小さい場合、粒子が凝集しやすく、ソルダーレジスト層の表面が粗くなる場合がある。また、500nmより大きい場合、粒子の凹凸により表面が粗くなる場合がある。 The number average particle diameter of the inorganic particles is preferably 30 nm or more and 500 nm or less. It is more preferably 50 nm or more and 450 nm or less, and further preferably 100 nm or more and 400 nm or less. When the number average particle diameter of the inorganic particles is smaller than 30 nm, the particles tend to aggregate and the surface of the solder resist layer may become rough. If it is larger than 500 nm, the surface may become rough due to the unevenness of the particles.

本発明の反射材が高反射層を有する場合、ソルダーレジスト層の上に高反射層が接していても良いし、粘着層のような機能層を介して積層されていても良い。 When the reflective material of the present invention has a highly reflective layer, the highly reflective layer may be in contact with the solder resist layer, or may be laminated via a functional layer such as an adhesive layer.

本発明における反射材の高反射層とは、可視光線を反射する機能を有する樹脂層であり、白色の顔料を含有する方法、内部に気泡を含有する方法、屈折率が異なる2種以上の樹脂を交互に積層することで干渉反射により反射する方法が好ましく用いられる。これらの方法は、単独であっても、それぞれを組合せて使用しても良い。 The highly reflective layer of the reflective material in the present invention is a resin layer having a function of reflecting visible light, and is a method of containing a white pigment, a method of containing bubbles inside, and two or more kinds of resins having different refractive indexes. A method of reflecting by interference reflection by alternately stacking the above is preferably used. These methods may be used alone or in combination.

本発明における反射材の高反射層は、可視光波長領域(400nm~800nm)において、平均反射率が80%以上であることが好ましい。より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上である。平均反射率が80%未満である場合、反射材としての反射性能が不足する場合がある。 The highly reflective layer of the reflective material in the present invention preferably has an average reflectance of 80% or more in the visible light wavelength region (400 nm to 800 nm). It is more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more. If the average reflectance is less than 80%, the reflective performance as a reflective material may be insufficient.

高反射層の樹脂としては、取扱性、膜形成の観点から熱可塑性樹脂が好ましい。熱可塑性樹脂としては、たとえば、ポリエチレン,ポリプロピレン,ポリ(1-ブテン),ポリ(4-メチルペンテン),ポリイソブチレン,ポリイソプレン,ポリブタジエン,ポリビニルシクロヘキサン,ポリスチレン,ポリ(α-メチルスチレン),ポリ(p-メチルスチレン),ポリノルボルネン,ポリシクロペンテンなどに代表されるポリオレフィン、ナイロン6,ナイロン11,ナイロン12,ナイロン66などに代表されるポリアミド、エチレン/プロピレンコポリマー,エチレン/ビニルシクロヘキサンコポリマー,エチレン/ビニルシクロヘキセンコポリマー,エチレン/アルキルアクリレートコポリマー,エチレン/アクリルメタクリレートコポリマー,エチレン/ノルボルネンコポリマー,エチレン/酢酸ビニルコポリマー,プロピレン/ブタジエンコポリマー,イソブチレン/イソプレンコポリマー,塩化ビニル/酢酸ビニルコポリマーなどに代表されるビニルモノマーのコポリマー系樹脂、ポリアクリレート,ポリメタクリレート,ポリメチルメタクリレート,ポリアクリルアミド,ポリアクリロニトリルなどに代表されるアクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート,ポリプロピレンテレフタレート,ポリブチレンテレフタレート,ポリエチレン-2,6-ナフタレートなどに代表されるポリエステル、ポリエチレンオキシド,ポリプロピレンオキシド,ポリアクリレングリコールに代表されるポリエーテル、ジアセチルセルロース,トリアセチルセルロース,プロピオニルセルロース,ブチリルセルロース,アセチルプロピオニルセルロース,ニトロセルロースに代表されるセルロースエステル系樹脂、ポリ乳酸,ポリブチルサクシネートなどに代表される生分解性ポリマー、その他、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリアセタール、ポリグルコール酸、ポリカーボネート、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、変性ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリシロキサン、4フッ化エチレン樹脂、3フッ化エチレン樹脂、3フッ化塩化エチレン樹脂、4フッ化エチレン-6フッ化プロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデンなどを挙げることができる。 As the resin for the highly reflective layer, a thermoplastic resin is preferable from the viewpoint of handleability and film formation. Examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, poly (1-butene), poly (4-methylpentene), polyisobutylene, polyisoprene, polybutadiene, polyvinylcyclohexane, polystyrene, poly (α-methylstyrene), and poly (poly (α-methylstyrene)). p-Methylstyrene), Polynorbornen, Polychloride represented by polycyclopentene, etc., Polyamide represented by Nylon 6, Nylon 11, Nylon 12, Nylon 66, etc., Ethylene / propylene copolymer, Ethylene / Vinylcyclohexane copolymer, Ethylene / Vinyl Vinyl monomers represented by cyclohexene copolymers, ethylene / alkyl acrylate copolymers, ethylene / acrylic methacrylate copolymers, ethylene / norbornen copolymers, ethylene / vinyl acetate copolymers, propylene / butadiene copolymers, isobutylene / isoprene copolymers, vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, etc. Copolymer resins, polyacrylates, polymethacrylates, polymethylmethacrylates, polyacrylamides, acrylic resins typified by polyacrylonitrile, polyethylene terephthalates, polypropylene terephthalates, polybutylene terephthalates, polyethylene-2,6-naphthalates, etc. Polyester, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyether represented by polyacrylene glycol, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetylpropionyl cellulose, cellulose ester resin represented by nitrocellulose, polylactic acid. , Biodegradable polymers such as polybutyl succinate, other, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyacetal, polyglucolic acid, polycarbonate, polyketone, polyether sulfone, polyether ether ketone, Modified polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyimide, polysiloxane, tetrafluoroethylene resin, trifluoroethylene resin, trifluorochloride ethylene resin, tetrafluoroethylene-6fluoropropylene copolymer, polyfluoride Biniriden and the like can be mentioned.

白色の顔料を含有する場合、無機粒子であることが好ましい。無機粒子としては、シリカ、コロイダルシリカ、炭酸カルシウム、珪酸アルミ、リン酸カルシウム、アルミナ、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、二酸化チタン、酸化亜鉛(亜鉛華)、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化ランタン、酸化マグネシウム、炭酸バリウム、塩基性炭酸鉛(鉛白)、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸鉛、硫化亜鉛、マイカ、雲母チタン、タルク、クレー、カオリン、などの無機粒子が挙げられる。また、それらは単独もしくは2種類以上の混合で使用することができるが、中でも高い光学特性を製膜安定性が得られることから、硫酸バリウム粒子、二酸化チタン粒子、炭酸カルシウムが好ましい。さらには二酸化チタン粒子、中でもルチル型の結晶構造を持つ二酸化チタン粒子であることが特に好ましい。一般的に二酸化チタンはルチル型、アナターゼ型、ブルッカイト型の3種類の結晶構造を取り得るとされているが、ルチル型が最も屈折率が高く、反射効率に優れる。 When it contains a white pigment, it is preferably inorganic particles. Inorganic particles include silica, colloidal silica, calcium carbonate, aluminum silicate, calcium phosphate, alumina, magnesium carbonate, zinc carbonate, titanium dioxide, zinc oxide (zinc white), antimony oxide, cerium oxide, zirconium oxide, tin oxide, lanthanum oxide. , Magnesium oxide, barium carbonate, basic lead carbonate (lead white), barium sulfate, calcium sulfate, lead sulfate, zinc sulfide, mica, mica titanium, talc, clay, kaolin, and the like. Further, they can be used alone or in a mixture of two or more kinds, but among them, barium sulfate particles, titanium dioxide particles and calcium carbonate are preferable because high optical characteristics and film formation stability can be obtained. Further, titanium dioxide particles, particularly titanium dioxide particles having a rutile-type crystal structure, are particularly preferable. It is generally said that titanium dioxide can have three types of crystal structures: rutile type, anatase type, and brookite type, but the rutile type has the highest refractive index and excellent reflection efficiency.

本発明の反射材は、酸化チタンを含有しており、その含有量が反射材全体の重量に対して0.1重量%以上、50重量%以下であることが好ましい。より好ましくは3重量%以上45重量%以下、さらに好ましくは5重量%以上40重量%以下である。酸化チタンをかかる割合で含有することで反射材の反射率を高めることができるため好ましい。酸化チタンが0.1重量%より少ない場合、反射率が不足する場合がある。酸化チタンが50重量%より多い場合、反射材が脆くなる場合がある。 The reflective material of the present invention contains titanium oxide, and the content thereof is preferably 0.1% by weight or more and 50% by weight or less with respect to the total weight of the reflective material. It is more preferably 3% by weight or more and 45% by weight or less, and further preferably 5% by weight or more and 40% by weight or less. It is preferable to contain titanium oxide in such a ratio because the reflectance of the reflective material can be increased. If the amount of titanium oxide is less than 0.1% by weight, the reflectance may be insufficient. If the amount of titanium oxide is more than 50% by weight, the reflective material may become brittle.

内部に気泡を含有させる方法としては、(1)熱可塑性樹脂Aに発泡剤を含有せしめ、押出や製膜時の加熱により発泡、あるいは化学的分解により発泡させて気泡を形成する方法、(2)熱可塑性樹脂Aの押出時にガスまたは気化可能物質を添加する方法、(3)熱可塑性樹脂Aに無機粒子および/または該樹脂と非相溶の熱可塑性樹脂Bを添加し、それを一軸または二軸延伸することにより微細な気泡を発生させる方法等が挙げられるが、本発明においては、製膜性、内部に含有せしめる気泡の量の調整し易さ、製造コストなどの総合的な点から、上記の(3)の方法を用いることが好ましい。 As a method of containing bubbles inside, (1) a method of containing a foaming agent in the thermoplastic resin A and foaming by heating at the time of extrusion or film formation, or foaming by chemical decomposition to form bubbles, (2). ) A method of adding a gas or a vaporizable substance at the time of extruding the thermoplastic resin A, (3) Adding inorganic particles and / or a thermoplastic resin B incompatible with the resin to the thermoplastic resin A, and uniaxially or A method of generating fine bubbles by biaxial stretching can be mentioned, but in the present invention, from the comprehensive viewpoints such as film forming property, ease of adjusting the amount of bubbles contained therein, and manufacturing cost. , It is preferable to use the method (3) above.

上記の(3)の方法における無機粒子としては、上記と同様の無機粒子を好ましく用いることができる。 As the inorganic particles in the above method (3), the same inorganic particles as described above can be preferably used.

屈折率が異なる2種以上の樹脂を交互に積層する場合は、熱可塑性樹脂αを主成分とするα層、および、前記熱可塑性樹脂αと屈折率が異なる熱可塑性樹脂βを主成分とするβ層を交互に51層以上積層した多層積層構造であることが好ましい。 When two or more kinds of resins having different refractive coefficients are alternately laminated, the α layer containing the thermoplastic resin α as the main component and the thermoplastic resin β having a different refractive index from the thermoplastic resin α are used as the main components. It is preferable to have a multi-layer laminated structure in which 51 or more layers of β layers are alternately laminated.

前述した熱可塑性樹脂の中では、強度や耐熱性、透明性および汎用性の観点から、熱可塑性樹脂A、熱可塑性樹脂αおよび熱可塑性樹脂βの少なくとも一方は、ポリエステルを主成分として含むことが好ましい。高反射層を構成する全ての樹脂の合計を100質量%とした場合、ポリエステルが50質量%以上100質量%であれば、主成分といえる。ポリエステルが50質量%未満になる場合、耐熱性や生産性が低下する場合がある。 Among the above-mentioned thermoplastic resins, at least one of the thermoplastic resin A, the thermoplastic resin α and the thermoplastic resin β may contain polyester as a main component from the viewpoint of strength, heat resistance, transparency and versatility. preferable. Assuming that the total of all the resins constituting the high-reflection layer is 100% by mass, if the polyester is 50% by mass or more and 100% by mass, it can be said to be the main component. If the polyester content is less than 50% by mass, heat resistance and productivity may decrease.

本発明の反射材は、ポリエステル樹脂を含有しており、その含有量が反射材全体の重量にたいして5重量%以上であることが好ましい。より好ましくは10重量%以上、さらに好ましくは20重量%以上である。反射材が、ポリエステル樹脂を含有する高反射層を有することで、上記の範囲とすることが好ましい。 The reflective material of the present invention contains a polyester resin, and the content thereof is preferably 5% by weight or more with respect to the total weight of the reflective material. It is more preferably 10% by weight or more, still more preferably 20% by weight or more. It is preferable that the reflective material has a highly reflective layer containing a polyester resin and is in the above range.

ポリエステルについて、好ましい態様を以下に記載する。ポリエステルとはエステル結合を主鎖に持つ高分子をいうが、本発明に用いるポリエステルは、ジカルボン酸とグリコール(ジオール)とが縮重合した構造を持つポリエステルが好ましい。 Preferred embodiments of polyester are described below. The polyester refers to a polymer having an ester bond as a main chain, and the polyester used in the present invention is preferably a polyester having a polycondensation structure of a dicarboxylic acid and a glycol (diol).

ジカルボン酸成分としては、例えば、芳香族ジカルボン酸では、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、5-ナトリウムスルホンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸、シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、マレイン酸、フマル酸などの脂肪族ジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸、パラオキシ安息香酸などのオキシカルボン酸などの各成分を挙げることができる。また、ジカルボン酸エステル誘導体成分として、上記ジカルボン酸化合物のエステル化物、たとえばテレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジエチル、テレフタル酸2-ヒドロキシエチルメチルエステル、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、ダイマー酸ジメチルなどの各成分を挙げることができる。 Examples of the dicarboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid, diphenylsulfonedicarboxylic acid, diphenoxyetanedicarboxylic acid, and 5-sodium sulfone as aromatic dicarboxylic acids. Aromatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acids, oxalic acids, succinic acids, adipic acids, sebacic acids, dimer acids, maleic acids, fumaric acids and other aliphatic dicarboxylic acids, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acids and other alicyclic dicarboxylic acids. , Each component such as an oxycarboxylic acid such as paraoxybenzoic acid can be mentioned. Further, as a dicarboxylic acid ester derivative component, an esterified product of the above dicarboxylic acid compound, for example, dimethyl terephthalate, diethyl terephthalate, 2-hydroxyethylmethyl ester terephthalate, dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, dimethyl isophthalate, adipic acid. Each component such as dimethyl, diethyl maleate, and dimethyl dimerate can be mentioned.

また、グリコール成分としては、例えば、エチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)などの脂肪族ジヒドロキシ化合物、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリオキシアルキレングリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、1,4:3,6-ジアンヒドロ-D-グルシトール(イソソルビド)などの脂環族ジヒドロキシ化合物、ビスフェノールA、ビスフェノールSなどの芳香族ジヒドロキシ化合物など各成分が挙げられる。これらはそれぞれ1種だけであっても2種以上用いられるものであってもよい。 Examples of the glycol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, and 1,6. -Hydroxydihydroxy compounds such as hexanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), polyoxyalkylene glycols such as diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4 Examples thereof include alicyclic dihydroxy compounds such as cyclohexanedimethanol, spiroglycol, 1,4: 3,6-dianhydro-D-glucitol (isosorbide), and aromatic dihydroxy compounds such as bisphenol A and bisphenol S. Each of these may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いられるポリエステルとして、共重合ポリエステルを使用してもよい。共重合ポリエステルは、上記のポリエステルのジカルボン酸成分として挙げている中から2種以上、および/またはグリコール成分としてあげている中から2種以上が共重合されていることが好ましい。共重合成分を導入する方法としては、原料であるポリエステルペレットの重合時に共重合成分を添加し、あらかじめ共重合成分が重合されたペレットとして用いてもよいし、また、例えば、ポリエチレンナフタレートのように単独で重合されたペレットとポリエチレンテレフタレートペレットの混合物を押出し機に供給し、溶融時にエステル交換反応によって共重合化する方法を用いてもよい。また、フィルムとして製膜性に影響が出なければまたトリメリット酸、ピロメリット酸およびそのエステル誘導体を少量共重合されたものであっても構わない。 As the polyester used in the present invention, a copolymerized polyester may be used. It is preferable that the copolymerized polyester is copolymerized with two or more of the above-mentioned polyester dicarboxylic acid components and / or two or more of the glycol components listed above. As a method of introducing the copolymerization component, the copolymerization component may be added at the time of polymerization of the polyester pellet as a raw material and used as a pellet in which the copolymerization component is polymerized in advance, or, for example, polyethylene naphthalate may be used. A method may be used in which a mixture of pellets polymerized alone and polyethylene terephthalate pellets is supplied to an extruder and copolymerized by an ester exchange reaction at the time of melting. Further, a film obtained by copolymerizing a small amount of trimellitic acid, pyromellitic acid and an ester derivative thereof may be used as long as the film-forming property is not affected.

熱可塑性樹脂Aがポリエステルの場合、熱可塑性樹脂Bはポリエステルと非相溶な熱可塑性樹脂であることが好ましい。ポリエステルと非相溶な熱可塑性樹脂とは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリメチルペンテン、環状オレフィンのようなオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、フッ素系樹脂などが選ばれる。なかでも好ましいのはオレフィン系樹脂またはスチレン系樹脂であり、オレフィン系樹脂としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4-メチルペンテン-1(以下、「ポリメチルペンテン」または「PMP」と略称することがある)、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-ブテン-1共重合体、環状オレフィンが、スチレン系樹脂としてはポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポリジメチルスチレンなどが好ましい。これらは単独重合体であっても共重合体であってもよく、さらには2種以上の熱可塑性樹脂を併用してもよい。熱可塑性樹脂Bは、本発明の高反射層の総質量に対して1~50質量%含有されていることが好ましい。熱可塑性樹脂Bが1質量%より少ない場合、反射層としての反射率が不足する場合があり、50質量%より多い場合は、ポリエステルの機械強度、耐熱性、製造コストが低下する場合がある。 When the thermoplastic resin A is polyester, it is preferable that the thermoplastic resin B is a thermoplastic resin incompatible with polyester. Thermoplastic resins that are incompatible with polyester include olefin resins such as polyethylene, polypropylene, polybutene, polymethylpentene, and cyclic olefins, styrene resins, polyacrylate resins, polycarbonate resins, polyacrylonitrile resins, and polyphenylene sulfide resins. Fluoro-based resin etc. are selected. Of these, olefin resins or styrene resins are preferable, and the olefin resins include polyethylene, polypropylene, and poly-4-methylpentene-1 (hereinafter, may be abbreviated as "polymethylpentene" or "PMP"). , Ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene-1 copolymer, cyclic olefin, and polystyrene, polymethylpentene, polydimethylstyrene and the like are preferable as the styrene resin. These may be homopolymers or copolymers, and further, two or more kinds of thermoplastic resins may be used in combination. The thermoplastic resin B is preferably contained in an amount of 1 to 50% by mass with respect to the total mass of the highly reflective layer of the present invention. If the amount of the thermoplastic resin B is less than 1% by mass, the reflectance as a reflective layer may be insufficient, and if it is more than 50% by mass, the mechanical strength, heat resistance, and manufacturing cost of the polyester may decrease.

ポリエステルと熱可塑性樹脂Bの質量比を求める手法としては、それぞれの樹脂の種類に応じて、複数の分析を組み合わせる手法が考えられる。ポリエステルのみを溶媒で除去し、残った熱可塑性樹脂Bを遠心分離機にて分離し、得られる残留物の質量から質量比を求める方法、IR(赤外分光法)、H-NMRや13C-NMRによりそれぞれの樹脂を同定したのち、ポリエステルと熱可塑性樹脂Bがいずれも可溶な溶媒に溶解し、遠心分離により不純物や無機物を除去し、吸光度により濃度を求めることにより質量比を求める方法が使用できる。ポリエステルを可溶な溶媒としては、トリフルオロ酢酸や1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロー2-プロパノール、o-クロロフェノールなどが用いられる。 As a method for obtaining the mass ratio of the polyester and the thermoplastic resin B, a method of combining a plurality of analyzes according to the type of each resin can be considered. A method of removing only polyester with a solvent, separating the remaining thermoplastic resin B with a centrifuge, and determining the mass ratio from the mass of the obtained residue, IR (Infrared Spectroscopy), 1 H-NMR or 13 . After identifying each resin by C-NMR, both polyester and thermoplastic resin B are dissolved in a soluble solvent, impurities and inorganic substances are removed by centrifugation, and the mass ratio is determined by determining the concentration by absorbance. The method can be used. As the solvent soluble in polyester, trifluoroacetic acid, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, o-chlorophenol and the like are used.

本発明の高反射層は、白色の顔料を含有する方法、内部に気泡を含有する方法、あるいはこれらを組み合わせる方法により可視光線を反射することが好ましい。 The highly reflective layer of the present invention preferably reflects visible light by a method containing a white pigment, a method containing bubbles inside, or a method combining these.

本発明の反射材は気泡を含有しており、その含有量が反射材全体の体積に対して1体積%以上80体積%以下であることが好ましい。気泡の含有量を上記の範囲とすることで、反射率を高くしやすい。気泡の含有量が1体積%より小さい場合、反射率が不足する場合がある。また、気泡が80体積%を超える場合、構造を保持できない場合がある。より好ましくは、10体積%以上60体積%以下である。さらに好ましくは20体積%以上50体積%以下である。 The reflective material of the present invention contains bubbles, and the content thereof is preferably 1% by volume or more and 80% by volume or less with respect to the total volume of the reflective material. By setting the content of bubbles in the above range, it is easy to increase the reflectance. If the content of bubbles is less than 1% by volume, the reflectance may be insufficient. Further, if the number of bubbles exceeds 80% by volume, the structure may not be maintained. More preferably, it is 10% by volume or more and 60% by volume or less. More preferably, it is 20% by volume or more and 50% by volume or less.

本発明の反射材は、反射材表面における入射角85°の光沢度が80以上であることが好ましい。より好ましくは90以上、さらに好ましくは100以上である。上限は特に限られるものでは無いが150以下であると製造が容易となるため好ましい。85°の光沢度が80以上であれば、LED基板をバックライトの光源として組み込んだ際に、LEDの直上のみが他の場所に比べて明るくなる輝度ムラを抑制しやすいため好ましい。85°の光沢度が80より小さい場合、LED基板をバックライトの光源として組み込んだ際に、LEDの直上のみが他の場所に比べて明るくなる輝度ムラを抑制できない場合がある。 The reflective material of the present invention preferably has a glossiness of 80 ° or more at an incident angle of 85 ° on the surface of the reflective material. It is more preferably 90 or more, still more preferably 100 or more. The upper limit is not particularly limited, but it is preferable that the upper limit is 150 or less because the production becomes easy. When the glossiness of 85 ° is 80 or more, when the LED substrate is incorporated as a light source of the backlight, it is preferable because it is easy to suppress the luminance unevenness that becomes brighter only directly above the LED as compared with other places. When the glossiness of 85 ° is less than 80, when the LED substrate is incorporated as a light source of the backlight, it may not be possible to suppress the uneven brightness in which only the area directly above the LED becomes brighter than in other places.

本発明の高反射層は粘着層を介してソルダーレジスト層と積層されていても良い。粘着層とは粘着特性を有する樹脂からなる層であり、グラビアコーター、ダイコーター、バーコーター、ナイフコーターなどを用いるコーティング、押出ラミネート、転写など各種方法により作製することができる。粘着層に用いられる樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂などが好ましく使用される。樹脂の種類は接着する対象により、適切な樹脂を選択することが好ましいが、耐熱性の観点からシリコーン系樹脂が最も好ましい。 The highly reflective layer of the present invention may be laminated with a solder resist layer via an adhesive layer. The adhesive layer is a layer made of a resin having adhesive properties, and can be produced by various methods such as coating using a gravure coater, a die coater, a bar coater, a knife coater, extruded lamination, and transfer. The resin used for the adhesive layer is not particularly limited, but for example, an acrylic resin, a polyether resin, a urethane resin, a silicone resin, or the like is preferably used. As the type of resin, it is preferable to select an appropriate resin depending on the object to be adhered, but a silicone-based resin is most preferable from the viewpoint of heat resistance.

本発明における粘着層は、厚みが0.1μm以上30μm以下であることが好ましい。より好ましくは0.5μm以上20μm以下、さらに好ましくは1μm以上15μm以下である。厚みが0.1μm未満である場合、粘着力が不足する場合がある。また、30μmより大きい場合、反射材の厚みが大きくなりすぎてしまう場合がある。 The pressure-sensitive adhesive layer in the present invention preferably has a thickness of 0.1 μm or more and 30 μm or less. It is more preferably 0.5 μm or more and 20 μm or less, and further preferably 1 μm or more and 15 μm or less. If the thickness is less than 0.1 μm, the adhesive strength may be insufficient. Further, if it is larger than 30 μm, the thickness of the reflective material may become too large.

本発明のLED基板は、LED光源と反射材を含めた全体を透明樹脂で封止してあっても良い。透明とは、JIS-K7361-1(1997)に準拠して測定される固体における全光線透過率が50%以上であることをいう。透明樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられる。具体的には、ポリメタクリル酸メチルなどのメタアクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリル共重合体などのスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。 The LED substrate of the present invention may be entirely sealed with a transparent resin including the LED light source and the reflective material. Transparency means that the total light transmittance of a solid measured in accordance with JIS-K7361-1 (1997) is 50% or more. Examples of the transparent resin include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photocurable resin. Specifically, methacrylic resin such as polymethylmethacrylate, styrene resin such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymer, polycarbonate resin, polyester resin, phenoxy resin, polyvinyl alcohol resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, Examples thereof include silicone resin.

本発明のLED基板は、バックライトに用いることが好ましい。つまり本発明のLED基板は、バックライト用のLED基板として好適である。本発明のLED基板を使用したバックライトの場合、薄型化が可能で面内の輝度の均一性に優れるため、特に液晶ディスプレイ、液晶テレビ、液晶モニターなどに使用される直下型LEDバックライトユニット用のLED基板として好ましい。 The LED substrate of the present invention is preferably used as a backlight. That is, the LED substrate of the present invention is suitable as an LED substrate for a backlight. In the case of a backlight using the LED substrate of the present invention, it is possible to reduce the thickness and have excellent in-plane brightness uniformity. Is preferable as an LED substrate.

以下、実施例により本発明を詳述する。なお、各特性値は以下の方法で測定した。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples. Each characteristic value was measured by the following method.

(1)LED光源の高さ(H)、反射材の厚み(T)
表面形状測定装置VertScan2.0((株)菱化システム製)を用いて観察した。金属回路部を含めた基材の表面部から、LED光源の頂点部までの高さをLED光源の高さ(H)とした。同様に、金属回路部を含めた基材の表面部から反射材の最表面までの高さを反射材の厚み(T)とした。基材の表面部が露出していない場合は、切断面を観察して、高さ(H)および厚み(T)を算出した。
(1) Height of LED light source (H), thickness of reflective material (T)
Observation was performed using a surface shape measuring device VertScan 2.0 (manufactured by Ryoka System Co., Ltd.). The height from the surface portion of the base material including the metal circuit portion to the apex portion of the LED light source was defined as the height (H) of the LED light source. Similarly, the height from the surface portion of the base material including the metal circuit portion to the outermost surface of the reflective material was defined as the thickness (T) of the reflective material. When the surface portion of the base material was not exposed, the height (H) and the thickness (T) were calculated by observing the cut surface.

(2)表面粗さSRa
三次元微細表面形状測定器(小坂製作所製ET-4000AK)を用いて測定し、得られたる表面のプロファイル曲線より、JIS B 0601(1994)に準じ、反射材の最表面の算術平均粗さSRa値を求めた。反射材が高反射層を有する場合は高反射層の表面、レジスト層のみの場合はレジスト層の表面において、測定を行った。測定条件は下記のとおり。
(2) Surface roughness SRa
Measured using a three-dimensional fine surface shape measuring instrument (ET-4000AK manufactured by Kosaka Seisakusho), and from the obtained surface profile curve, according to JIS B 0601 (1994), the arithmetic mean roughness SRa of the outermost surface of the reflective material The value was calculated. When the reflective material had a highly reflective layer, the measurement was performed on the surface of the highly reflective layer, and when only the resist layer was used, the measurement was performed on the surface of the resist layer. The measurement conditions are as follows.

X方向測定長さ:0.5mm、X方向送り速度:0.1mm/秒。 X-direction measurement length: 0.5 mm, X-direction feed rate: 0.1 mm / sec.

Y方向送りピッチ:5μm、Y方向ライン数:40本。 Y-direction feed pitch: 5 μm, number of Y-direction lines: 40.

カットオフ:0.25mm。 Cutoff: 0.25 mm.

触針圧:0.02mN
測定端子:ダイヤモンド製、R=0.5μm、60°
(3)光沢度
デジタル変角光沢度計UGV-5B(スガ試験機(株)製)を用いて、JIS Z-8741(1997)に準じて85°光沢度を測定した。なお、測定条件は、85°光沢度は入射角=85°、受光角=85°としたときの値である。反射材が高反射層を有する場合は高反射層の表面、レジスト層のみの場合はレジスト層の表面において、測定を行った。
Needle pressure: 0.02mN
Measurement terminal: Made of diamond, R = 0.5 μm, 60 °
(3) Glossiness Using a digital variable angle gloss meter UGV-5B (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the glossiness of 85 ° was measured according to JIS Z-8741 (1997). The measurement conditions are the values when the 85 ° glossiness is an incident angle = 85 ° and a light receiving angle = 85 °. When the reflective material had a highly reflective layer, the measurement was performed on the surface of the highly reflective layer, and when only the resist layer was used, the measurement was performed on the surface of the resist layer.

(4)反射材中の気泡の体積分率
反射材をミクロトームを用いて、断面を厚み方向に潰すことなく、反射材面方向に対して垂直に、切断する。面内の切断方向は、任意の方向と、その任意の方向に垂直な方向と2方向で行った。次いで切断した断面を、走査型電子顕微鏡を用いて観察し、5000倍に拡大観察した画像を得る。観察場所は層内において無作為に定めるものとするが、画像の上下方向が反射材の厚み方向と、平行になるようにするものとする。また、厚み方向に観察位置を移動させて行い、一方の表面からもう一方の表面まで連続した画像を準備した。各方向の断面画像中において、気泡の部分の面積(S)を反射材の総断面積(Sall)で除した、(S/Sall)×100をその画像における気泡の体積分率(%)とし、全画像の相加平均より気泡の体積分率(%)を求めた。
(4) Volume Fraction of Bubbles in the Reflective Material Using a microtome, the reflective material is cut perpendicular to the surface direction of the reflective material without crushing the cross section in the thickness direction. The in-plane cutting direction was performed in two directions, an arbitrary direction and a direction perpendicular to the arbitrary direction. Next, the cut cross section is observed using a scanning electron microscope, and an image magnified at 5000 times is obtained. The observation location shall be randomly determined within the layer, but the vertical direction of the image shall be parallel to the thickness direction of the reflective material. In addition, the observation position was moved in the thickness direction to prepare a continuous image from one surface to the other. In the cross-sectional image in each direction, the area (S v ) of the bubble portion is divided by the total cross-sectional area (S all ) of the reflective material, and (S v / S all ) × 100 is the volume fraction of the bubbles in the image. The volume fraction (%) of bubbles was calculated from the additive average of all images.

(5)反射性、輝度ムラ
LED基板上に、OD=5mmとなるように、透明アクリル板(厚み0.6mm)と市販のテレビ(サムスン電子製、Q8)から取り出したQDシートを乗せ、評価用のバックライトを作成した。コニカミノルタセンシング(株)製、2次元色彩輝度計CA-2000を用いて、バックライトに対し正面方向、すなわち垂直方向より測定した。輝度計のカメラと基板との距離が50cmになるように設置し、基板の中央部30mm×60mmのエリアの平均輝度を測定した。解像度は60×120とした。LED基板へは直流電源装置により500mAの電流が流れるように電圧を調整し、測定した。参考例1における輝度を100%とし、反射性を以下のように評価した。
A:相対輝度120%以上
B:相対輝度110%以上120%未満
C:相対輝度100%以上110%未満
D:相対輝度100%未満。
(5) Reflectiveness and uneven brightness Place a transparent acrylic plate (thickness 0.6 mm) and a QD sheet taken out from a commercially available TV (Samsung Electronics, Q8) on the LED substrate so that OD = 5 mm, and evaluate. Created a backlight for. The measurement was performed from the front direction, that is, the direction perpendicular to the backlight, using a two-dimensional color luminance meter CA-2000 manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd. The luminance meter was installed so that the distance between the camera and the substrate was 50 cm, and the average luminance in an area of 30 mm × 60 mm in the center of the substrate was measured. The resolution was 60 × 120. The voltage was adjusted and measured so that a current of 500 mA would flow through the LED board with a DC power supply device. The brightness in Reference Example 1 was set to 100%, and the reflectivity was evaluated as follows.
A: Relative brightness 120% or more B: Relative brightness 110% or more and less than 120% C: Relative brightness 100% or more and less than 110% D: Relative brightness less than 100%.

同様に、エリア中の最大輝度Lmaxと最低輝度Lminの比を取り、輝度ムラを以下のように評価した。
A:Lmax/Lminが1.2未満
B:Lmax/Lminが1.2以上1.5未満
C:Lmax/Lminが1.5以上1.8未満
D:Lmax/Lminが1.8以上。
Similarly, the ratio of the maximum luminance Lmax and the minimum luminance Lmin in the area was taken, and the luminance unevenness was evaluated as follows.
A: Lmax / Lmin is less than 1.2 B: Lmax / Lmin is 1.2 or more and less than 1.5 C: Lmax / Lmin is 1.5 or more and less than 1.8 D: Lmax / Lmin is 1.8 or more.

[使用原料]
(1)ポリエステル樹脂(a)
テレフタル酸およびエチレングリコールから、三酸化アンチモンを触媒として、常法により重合を行い、ポリエチレンテレフタレート(PET)を得た。得られたPETのガラス転移温度は77℃、融点は255℃、固有粘度は0.63dl/g、末端カルボキシル基濃度は40eq./tであった。
[Raw materials used]
(1) Polyester resin (a)
Polymerization of terephthalic acid and ethylene glycol using antimony trioxide as a catalyst was carried out by a conventional method to obtain polyethylene terephthalate (PET). The glass transition temperature of the obtained PET was 77 ° C., the melting point was 255 ° C., the intrinsic viscosity was 0.63 dl / g, and the terminal carboxyl group concentration was 40 eq. It was / t.

(2)共重合ポリエステル樹脂(b)
市販の1,4-シクロヘキサンジメタノール共重合ポリエステル(イーストマン・ケミカル社製 GN001)を使用した。
(2) Copolymerized polyester resin (b)
A commercially available 1,4-cyclohexanedimethanol copolymerized polyester (GN001 manufactured by Eastman Chemical Company) was used.

(3)共重合ポリエステル樹脂(c)
市販のPBT-PAG(ポリアルキレングリコール)共重合体「ハイトレル 7247」(東レ・デュポン(株)製)を用いた。該樹脂はPBT(ポリブチレンテレフタレート)とPAG(主としてポリテトラメチレングリコール)のブロック共重合体である。
(3) Copolymerized polyester resin (c)
A commercially available PBT-PAG (polyalkylene glycol) copolymer "Hytrel 7247" (manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) was used. The resin is a block copolymer of PBT (polybutylene terephthalate) and PAG (mainly polytetramethylene glycol).

(4)熱可塑性樹脂(d)
市販の環状オレフィン樹脂「TOPAS 6017」(日本ポリプラスチックス株式会社)を用いた。
(4) Thermoplastic resin (d)
A commercially available cyclic olefin resin "TOPAS 6017" (Nippon Polyplastics Co., Ltd.) was used.

(5)二酸化チタンマスター(e)
ポリエステル樹脂(a)を50重量部と二酸化チタン粒子(数平均粒径0.25μm)50重量部を二軸押出機にて混練し、二酸化チタンマスターペレット(e)を得た。
(5) Titanium dioxide master (e)
50 parts by weight of the polyester resin (a) and 50 parts by weight of titanium dioxide particles (number average particle size 0.25 μm) were kneaded with a twin-screw extruder to obtain titanium dioxide master pellets (e).

(6)二酸化チタンマスター(f)
二酸化チタン粒子(数平均粒径0.25μm)50質量部に対し、シランカップリング剤「11-100Additive」(東レダウ・コーニング社製)を0.25質量部添加し、常法により表面処理したのち、熱可塑性樹脂(d)を50重量部と二軸押出機にて混練し、二酸化チタンマスターペレット(f)を得た。
(6) Titanium dioxide master (f)
To 50 parts by mass of titanium dioxide particles (number average particle size 0.25 μm), 0.25 parts by mass of a silane coupling agent “11-100 Adaptive” (manufactured by Tohredo Corning Co., Ltd.) was added, and the surface was treated by a conventional method. Then, the thermoplastic resin (d) was kneaded with 50 parts by mass by a twin-screw extruder to obtain a titanium dioxide master pellet (f).

(7)凝集シリカマスター(g)
凝集シリカ粒子(数平均粒子径4.0μm)を粒子濃度10質量部とポリエステル樹脂(a)を90重量部と二軸押出機にて混練し、シリカマスター(g)を得た。
(7) Aggregated silica master (g)
Agglomerated silica particles (number average particle diameter 4.0 μm) were kneaded with 10 parts by mass of particle concentration and 90 parts by mass of polyester resin (a) with a twin-screw extruder to obtain silica master (g).

(参考例1、実施例1~9、比較例1~4)
[高反射層1~7]
表2に示した組成の原料を180℃の温度で6時間真空乾燥した後に主押出機に芯層(Y)の原料を供給し280℃の温度で溶融押出後30μmカットフィルターにより濾過を行い、副押出機に表層(X)の原料を供給し290℃の温度で溶融押出後30μmカットフィルターにより濾過を行った後に、Tダイ複合口金内で、表層(X)が芯層(Y)の両表層に積層(X/Y/X)されるよう合流せしめた。表層(X)と芯層(Y)の質量比率は1/8/1になるように積層した。
(Reference Example 1, Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 to 4)
[Highly reflective layers 1 to 7]
The raw materials having the compositions shown in Table 2 are vacuum-dried at a temperature of 180 ° C. for 6 hours, then the raw materials for the core layer (Y) are supplied to the main extruder, melt-extruded at a temperature of 280 ° C., and then filtered by a 30 μm cut filter. After supplying the raw material for the surface layer (X) to the sub-extruder and filtering it with a 30 μm cut filter after melt extrusion at a temperature of 290 ° C., the surface layer (X) is both the core layer (Y) in the T-die composite mouthpiece. They were merged so as to be laminated (X / Y / X) on the surface layer. The surface layer (X) and the core layer (Y) were laminated so that the mass ratio was 1/8/1.

次いで、シート状に押出して溶融シートとし、該溶融シートを、表面温度25℃に保たれたドラム上に静電印加法で密着冷却固化させて未延伸フィルムを得た。続いて、該未延伸フィルムを80℃の温度に加熱したロール群で予熱した後、赤外線ヒーターで両面から照射しながら、長手方向(縦方向)に表2の倍率にて延伸を行い、25℃の温度のロール群で冷却して一軸延伸フィルムを得た。その後、一軸延伸フィルムの両端をクリップで把持しながらテンター内の110℃の予熱ゾーンに導き、引き続き120 ℃ で長手方向に垂直な方向(横方向)に表2の倍率にて延伸した。さらに引き続いて、テンター内の熱処理ゾーンで表2の温度の熱処理を施し、次いで均一に徐冷後、ロールに巻き取り、表2に記載の厚みの白色フィルムを得た。白色フィルムにはシリコーン樹脂系粘着剤(SH4280PSA、東レ・ダウコーニング株式会社製)100質量部、過酸化ベンゾイル触媒(ナイパー(R)BMT-K40、日油株式会社製)0.15質量部、及びトルエン50質量部の混合物を乾燥後の厚みが5μmになるように塗布し、70℃で3分間、及び180℃で5分間加熱硬化を行った。 Then, it was extruded into a sheet to form a molten sheet, and the molten sheet was coagulated and cooled and solidified on a drum maintained at a surface temperature of 25 ° C. by an electrostatic application method to obtain an unstretched film. Subsequently, the unstretched film was preheated with a roll group heated to a temperature of 80 ° C., and then stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) at the magnification shown in Table 2 while irradiating from both sides with an infrared heater to 25 ° C. A uniaxially stretched film was obtained by cooling with a roll group at the same temperature. Then, while grasping both ends of the uniaxially stretched film with clips, the film was guided to a preheating zone at 110 ° C. in the tenter, and then stretched at 120 ° C. in the direction perpendicular to the longitudinal direction (horizontal direction) at the magnification shown in Table 2. Further, subsequently, the heat treatment at the temperature shown in Table 2 was performed in the heat treatment zone in the tenter, and then the film was uniformly slowly cooled and then wound on a roll to obtain a white film having the thickness shown in Table 2. The white film contains 100 parts by mass of a silicone resin adhesive (SH4280PSA, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), 0.15 parts by mass of a benzoyl peroxide catalyst (Niper (R) BMT-K40, manufactured by Nichiyu Co., Ltd.), and A mixture of 50 parts by mass of toluene was applied so that the thickness after drying was 5 μm, and heat-cured at 70 ° C. for 3 minutes and at 180 ° C. for 5 minutes.

[LED基板]
樹脂基板上に表1に記載のサイズのLEDを、2.54mmピッチで30×60個並列に並べたLED基板を作成した。樹脂基板上にはレジスト(白色ソルダーレジストPSR-4000:太陽インキ製造(株)製、酸化チタン30質量%含有)層と高反射層を表1および2に記載の構成と厚みで形成した。
[LED board]
An LED substrate was prepared in which 30 × 60 LEDs having the sizes shown in Table 1 were arranged in parallel on a resin substrate at a pitch of 2.54 mm. A resist (white solder resist PSR-4000: manufactured by Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd., containing 30% by mass of titanium oxide) and a highly reflective layer were formed on the resin substrate with the configurations and thicknesses shown in Tables 1 and 2.

Figure 2022052029000001
Figure 2022052029000001

Figure 2022052029000002
Figure 2022052029000002

Claims (7)

少なくとも基材、LED光源、反射材を有するLED基板であり、
前記LED光源の高さ(H)が300μm以下であり、
前記反射材の厚み(T)が20μm以上120μm以下であり、
前記反射材表面の三次元表面粗さSRaが10nm以上300nm未満であるLED基板。
An LED substrate having at least a base material, an LED light source, and a reflective material.
The height (H) of the LED light source is 300 μm or less, and the height (H) is 300 μm or less.
The thickness (T) of the reflective material is 20 μm or more and 120 μm or less.
An LED substrate having a three-dimensional surface roughness SRa of the surface of the reflective material of 10 nm or more and less than 300 nm.
前記LED光源の高さ(H)と前記反射材の厚み(T)の比(T/H)が0.1~1.0である請求項1に記載のLED基板。 The LED substrate according to claim 1, wherein the ratio (T / H) of the height (H) of the LED light source to the thickness (T) of the reflective material is 0.1 to 1.0. 前記反射材表面における入射角85°の光沢度が80以上である請求項1または2に記載のLED基板。 The LED substrate according to claim 1 or 2, wherein the glossiness at an incident angle of 85 ° on the surface of the reflective material is 80 or more. 前記反射材が酸化チタンを含有しており、その含有量が反射材全体の重量に対して0.1重量%以上50重量%以下である請求項1~3のいずれかに記載のLED基板。 The LED substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the reflective material contains titanium oxide, and the content thereof is 0.1% by weight or more and 50% by weight or less with respect to the total weight of the reflective material. 前記反射材がポリエステル樹脂を含有しており、その含有量が反射材全体の重量に対して5重量%以上である請求項1~4のいずれかに記載のLED基板。 The LED substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the reflective material contains a polyester resin, and the content thereof is 5% by weight or more with respect to the total weight of the reflective material. 前記反射材が気泡を含有しており、その含有量が反射材全体の体積に対して1体積%以上80体積%以下である請求項1~5のいずれかに記載のLED基板。 The LED substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the reflective material contains bubbles, and the content thereof is 1% by volume or more and 80% by volume or less with respect to the total volume of the reflective material. 請求項1~6のいずれかに記載のLED基板を用いたバックライト。
A backlight using the LED substrate according to any one of claims 1 to 6.
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