JP2023030833A - Active energy ray-curable resin composition, cured product, laminate, and article - Google Patents

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晃生 海野
Akio Umino
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Abstract

To provide an active energy ray-curable resin composition which has high refractive index performance and is excellent in hardness, scratch resistance, and moist heat resistance.SOLUTION: The active energy ray-curable resin composition is used which contains a urethane (meth)acrylate (A), a bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B), a compound (C) having at least three (meth)acryloyl groups, and a photopolymerization initiator (D). The urethane (meth)acrylate (A) uses a polyvalent isocyanate compound (a1) and a compound (a2) having at least one hydroxyl group and at least two (meth)acryloyl groups as essential raw materials.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物、積層体及び物品に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition, a cured product, a laminate and an article.

液晶ディスプレイ(LCD)に代表される画像表示装置の表面や内部に用いる光学積層体は、通常、取扱い時に傷が付かないように硬度を付与することが要求されることから、光透過性基材上にハードコート層などを設けることにより、硬度や反射防止機能を付与することが一般になされている(例えば、特許文献1参照。)。また、前記光透過性基材としては、従来は、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たないため液晶表示装置の表示品質への影響が少ないことなどから、TAC(トリアセチルセルロースフィルム)が用いられていたが、耐湿熱性が充分でなく、偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという問題があった。 Optical laminates used on the surface and inside of image display devices typified by liquid crystal displays (LCDs) are usually required to be hardened so as not to be scratched during handling. Hardness and antireflection function are generally imparted by providing a hard coat layer or the like on the surface (see, for example, Patent Document 1). In addition, as the light-transmitting substrate, conventionally, TAC is excellent in transparency and optical isotropy and has little effect on the display quality of the liquid crystal display device because it has almost no in-plane retardation. (triacetyl cellulose film) has been used, but its resistance to moisture and heat is not sufficient, and when used as a polarizing plate protective film in a hot and humid environment, there is a problem that the polarizing plate functions such as polarizing function and hue are deteriorated. rice field.

そこで、優れた耐水性、耐久性を有する特殊PET基材などを用いた偏光板保護フィルムへの代替が促進されており、当該基材上のハードコート層についても、高硬度、屈折率を始めとする機械特性、優れた耐久性を付与することが検討されている。 Therefore, the replacement of polarizing plate protective films using special PET substrates with excellent water resistance and durability is being promoted, and the hard coat layer on such substrates has high hardness, refractive index, and other properties. It is being studied to impart mechanical properties and excellent durability.

国際公開第97/040115号WO 97/040115

本発明が解決しようとする課題は、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物、積層体及び物品を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide an active energy ray-curable resin composition, a cured product, a laminate, and an article having high refractive index performance and excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance. be.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、特定範囲のアクリロイル基濃度を有する多価イソシアネート化合物及び水酸基を有する多官能(メタ)アクリレートを必須原料とする特定のウレタン(メタ)アクリレートと、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートと、特定範囲のアクリロイル基濃度を有する少なくとも3つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物と、光重合開始剤とを含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いることによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a specific urethane ( An active energy ray-curable resin containing a meth)acrylate, a bisphenol A type epoxy (meth)acrylate, a compound having at least three (meth)acryloyl groups having an acryloyl group concentration within a specific range, and a photopolymerization initiator. The inventors have found that the above problems can be solved by using the composition, and completed the present invention.

すなわち、本発明は、ウレタン(メタ)アクリレート(A)と、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)と、少なくとも3つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(C)と、光重合開始剤(D)とを含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、多価イソシアネート化合物(a1)と、少なくとも1つの水酸基及び少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a2)とを必須原料とするものであることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物、積層体及び物品に関するものである。 That is, the present invention comprises a urethane (meth)acrylate (A), a bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B), a compound (C) having at least three (meth)acryloyl groups, and a photopolymerization initiator ( D), wherein the urethane (meth)acrylate (A) comprises a polyvalent isocyanate compound (a1), at least one hydroxyl group and at least two (meth)acryloyl The present invention relates to an active energy ray-curable resin composition, a cured product, a laminate, and an article, characterized by comprising a compound (a2) having a group as an essential raw material.

本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れることから、コーティング剤等に好適に用いることができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The active energy ray-curable resin composition of the present invention has high refractive index performance and is excellent in hardness, scratch resistance, and moist heat resistance, and thus can be suitably used for coating agents and the like.

本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成は、ウレタン(メタ)アクリレート(A)と、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)と、少なくとも3つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(C)と、光重合開始剤(D)とを含有するものであることを特徴とする。 The active energy ray-curable resin composition of the present invention comprises urethane (meth)acrylate (A), bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B), and a compound (C) having at least three (meth)acryloyl groups. , and a photopolymerization initiator (D).

なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。また、「(メタ)アクリロイル」とは、アクリロイル及び/又はメタクリロイルを意味する。さらに、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。 In addition, in this invention, "(meth)acrylate" means an acrylate and/or a methacrylate. Moreover, "(meth)acryloyl" means acryloyl and/or methacryloyl. Furthermore, "(meth)acryl" means acryl and/or methacryl.

前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)としては、多価イソシアネート化合物(a1)と、少なくとも1つの水酸基及び少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a2)とを必須原料とするものを用いる。 As the urethane (meth)acrylate (A), one containing a polyvalent isocyanate compound (a1) and a compound (a2) having at least one hydroxyl group and at least two (meth)acryloyl groups as essential raw materials is used.

前記多価イソシアネート化合物(a1)としては、例えば、ブタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;ノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート化合物;トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、m-テトラメチルキシレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、4,4’-ジイソシアナト-3,3’-ジメチルビフェニル、o-トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;下記構造式(1)で表される繰り返し構造を有するポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート;これらのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体等が挙げられる。これらの中でも、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、キシレンジイソシアネート、m-テトラメチルキシレンジイソシアネートが好ましい。また、これらの多価イソシアネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polyvalent isocyanate compound (a1) include aliphatic diisocyanate compounds such as butane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate; norbornane diisocyanate , isophorone diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate and other alicyclic diisocyanate compounds; Aromatic diisocyanate compounds such as diisocyanato-3,3′-dimethylbiphenyl and o-tolidine diisocyanate; polymethylene polyphenyl polyisocyanate having a repeating structure represented by the following structural formula (1); isocyanurate modified products thereof, biuret Modified products, allophanate modified products and the like can be mentioned. Among these, xylene diisocyanate and m-tetramethylxylene diisocyanate are preferred because they have high refractive index performance and yield an active energy ray-curable resin composition having excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance. In addition, these polyvalent isocyanate compounds can be used alone or in combination of two or more.

Figure 2023030833000001
[式(1)中、Rはそれぞれ独立して、水素原子、または炭素原子数1~6の炭化水素基の何れかである。Rはそれぞれ独立して、炭素原子数1~4のアルキル基であり、lは0または1~3の整数であり、mは1~15の整数である。]
Figure 2023030833000001
[In formula (1), each R 1 is independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Each R 2 is independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, l is 0 or an integer of 1 to 3, and m is an integer of 1 to 15. ]

前記化合物(a2)としては、一分子中に少なくとも1つの水酸基及び少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いる。例えば、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、前記各種の水酸基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性体;前記各種の水酸基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性体等も用いることができる。これらの中でも、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが好ましい。また、これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the compound (a2), a compound having at least one hydroxyl group and at least two (meth)acryloyl groups in one molecule is used. For example, trimethylolpropane di(meth)acrylate, glycerol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate ) acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate and the like. In addition, (poly)oxyalkylene chains such as (poly)oxyethylene chains, (poly)oxypropylene chains, and (poly)oxytetramethylene chains are added to the molecular structures of the compounds having various hydroxyl groups and (meth)acryloyl groups. Introduced (poly)oxyalkylene modified products; lactone modified products obtained by introducing a (poly)lactone structure into the molecular structure of the various compounds having a hydroxyl group and a (meth)acryloyl group can also be used. Among these, pentaerythritol tri(meth)acrylate is preferable because it has a high refractive index performance and provides an active energy ray-curable resin composition excellent in hardness, scratch resistance, and moist heat resistance. In addition, these compounds can be used alone or in combination of two or more.

前記化合物(a2)の水酸基価は、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、90~170mgKOH/gが好ましく、90~120mgKOH/gがより好ましい。 The hydroxyl value of the compound (a2) is preferably 90 to 170 mgKOH/g because it has a high refractive index performance and provides an active energy ray-curable resin composition having excellent hardness, scratch resistance, and moisture and heat resistance. , 90 to 120 mg KOH/g is more preferred.

前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。例えば、前記多価イソシアネート化合物(a1)と前記化合物(a2)とを、前記多価イソシアネート化合物(a1)が有するイソシアネート基と、前記化合物(a2)が有する水酸基とのモル比[(NCO)/(OH)]が、1/1.01~1/1.1の範囲となる割合で用い、60~100℃の温度範囲内で、必要に応じて、ウレタン化触媒を用いて行う方法等が挙げられる。また、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の製造は、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the urethane (meth)acrylate (A) is not particularly limited, and any method may be used. For example, the polyvalent isocyanate compound (a1) and the compound (a2), the isocyanate group of the polyvalent isocyanate compound (a1), the molar ratio of the hydroxyl group of the compound (a2) [(NCO) / (OH)] is used at a ratio in the range of 1/1.01 to 1/1.1, and the temperature range is 60 to 100 ° C., and if necessary, a method of using a urethanization catalyst. mentioned. Moreover, the urethane (meth)acrylate (A) may be produced in an organic solvent, if necessary, or a basic catalyst may be used, if necessary.

前記ウレタン化触媒としては、例えば、ピリジン、ピロール、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン等のアミン化合物;トリフェニルホスフィン、トリエチルホスフィン等のリン化合物;ジブチル錫ジラウレート、オクチル錫トリラウレート、オクチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫等の有機錫化合物、オクチル酸亜鉛等の有機亜鉛化合物などが挙げられる。 Examples of the urethanization catalyst include amine compounds such as pyridine, pyrrole, triethylamine, diethylamine, and dibutylamine; phosphorus compounds such as triphenylphosphine and triethylphosphine; dibutyltin dilaurate, octyltin trilaurate, octyltin diacetate, and dibutyltin. Diacetate, organic tin compounds such as tin octylate, organic zinc compounds such as zinc octylate, and the like.

前記有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキソラン等の環状エーテル溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族溶剤;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族溶剤;カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤;アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等のグリコールエーテル溶剤;メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic solvent include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide and methyl isobutyl ketone; cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxolane; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; toluene, xylene and solvent. Aromatic solvents such as naphtha; Alicyclic solvents such as cyclohexane and methylcyclohexane; Alcohol solvents such as carbitol, cellosolve, methanol, isopropanol, butanol and propylene glycol monomethyl ether; Alkylene glycol monoalkyl ethers and dialkylene glycol monoalkyl ethers , dialkylene glycol monoalkyl ether acetate; methoxypropanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

前記塩基性触媒としては、N-メチルモルフォリン、ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、トリ-n-ブチルアミンもしくはジメチルベンジルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、イミダゾール、1-メチルイミダゾール、2,4-ジメチルイミダゾール、1,4-ジエチルイミダゾール、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(N-フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアミン化合物類;トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等の四級アンモニウム塩類;トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類;テトラメチルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホニウムクロライド、テトラプロピルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、トリメチル(2-ヒドロキシルプロピル)ホスホニウムクロライド、トリフェニルホスホニウムクロライド、ベンジルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩類;ジブチル錫ジラウレート、オクチル錫トリラウレート、オクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジネオデカノエート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫、1,1,3,3-テトラブチル-1,3-ドデカノイルジスタノキサン等の有機錫化合物;オクチル酸亜鉛、オクチル酸ビスマス等の有機金属化合物;オクタン酸錫等の無機錫化合物;無機金属化合物などが挙げられる。また、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物等を用いることもできる。これらの塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the basic catalyst include N-methylmorpholine, pyridine, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 ( DBN), 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO), tri-n-butylamine or dimethylbenzylamine, butylamine, octylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, imidazole, 1-methyl imidazole, 2,4-dimethylimidazole, 1,4-diethylimidazole, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-(N-phenyl)aminopropyltrimethoxysilane, 3-(2- Amine compounds such as aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, tetramethylammonium hydroxide; quaternary ammonium compounds such as trioctylmethylammonium chloride and trioctylmethylammonium acetate Salts; Phosphines such as trimethylphosphine, tributylphosphine, and triphenylphosphine; Phosphonium salts such as triphenylphosphonium chloride and benzylphosphonium chloride; dibutyltin dilaurate, octyltin trilaurate, octyltin diacetate, dioctyltin diacetate, dioctyltin dineodecanoate, dibutyltin diacetate, tin octylate, Organic tin compounds such as 1,3,3-tetrabutyl-1,3-dodecanoyldistannoxane; Organometallic compounds such as zinc octylate and bismuth octylate; Inorganic tin compounds such as tin octoate; mentioned. Alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, alkali metal hydroxides and the like can also be used. These basic catalysts can be used alone or in combination of two or more.

また、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の原料としては、前記多価イソシアネート化合物(a1)、前記化合物(a2)以外にアルキレンオキサイド変性ビスフェノール化合物を用いることもできる。 In addition to the polyvalent isocyanate compound (a1) and the compound (a2), an alkylene oxide-modified bisphenol compound can also be used as a raw material for the urethane (meth)acrylate (A).

前記アルキレンオキサイド変性ビスフェノール化合物としては、例えば、下記構造式(2)で表される分子構造を有する化合物等が挙げられる。 Examples of the alkylene oxide-modified bisphenol compound include compounds having a molecular structure represented by the following structural formula (2).

Figure 2023030833000002
[式中Rはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、ハロゲン化脂肪族炭化水素基、アリール基、ハロゲン化アリール基の何れかである。Rはハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、ハロゲン化脂肪族炭化水素基、アリール基、ハロゲン化アリール基の何れかであり、pはそれぞれ0又は1~4の整数である。Rは炭素原子数1~6の脂肪族炭化水素基であり、qはそれぞれ1以上の整数である。]
Figure 2023030833000002
[In the formula, each R 3 is independently a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, a halogenated aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, or a halogenated aryl group. R 4 is a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, a halogenated aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, or a halogenated aryl group, and p is an integer of 0 or 1-4. R 5 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and each q is an integer of 1 or more. ]

前記構造式(2)中のRはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、ハロゲン化脂肪族炭化水素基、アリール基、ハロゲン化アリール基の何れかである。前記ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。前記脂肪族炭化水素基は直鎖型及び分岐型のいずれでもよく、構造中に不飽和結合を有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、シクロへキシル基等が挙げられる。前記ハロゲン化脂肪族炭化水素基は、前記脂肪族炭化水素基中の水素原子の一つ乃至全部が前記ハロゲン原子で置換されたもの等が挙げられる。前記アリール基は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、及びこれらの芳香核上に前記脂肪族炭化水素基が置換した構造部位等が挙げられる。前記ハロゲン化アリール基は、前記アリール基中の水素原子の一つ乃至全部が前記ハロゲン原子で置換されたもの等が挙げられる。 Each R3 in the structural formula (2) is independently a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, a halogenated aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, or a halogenated aryl group. The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and the like. The aliphatic hydrocarbon group may be linear or branched, and may have an unsaturated bond in its structure. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group and the like. Examples of the halogenated aliphatic hydrocarbon group include those in which one or all of the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are substituted with the halogen atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and structural sites in which the aromatic nuclei of these groups are substituted with the aliphatic hydrocarbon group. Examples of the halogenated aryl group include those in which one or all of the hydrogen atoms in the aryl group are substituted with the halogen atoms.

前記構造式(2)中のRはそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、ハロゲン化脂肪族炭化水素基、アリール基、ハロゲン化アリール基の何れかである。それぞれの具体例は前記Rと同様のものが挙げられる。 Each R 4 in the structural formula (2) is independently a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, a halogenated aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, or a halogenated aryl group. Specific examples of each are the same as those for R 3 above.

前記構造式(2)中のRは炭素原子数1~6の脂肪族炭化水素基である。中でも、硬化物における伸度と耐薬品性とのバランスに一層優れるウレタン(メタ)アクリレート樹脂となることから、Rはエチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。前記構造式(2)中のqは1以上の整数である。前記アルキレンオキサイド変性ビスフェノール化合物(B)はq値の異なる複数の成分を含有していてもよい。 R 5 in the structural formula (2) is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Among these, R5 is preferably an ethylene group or a propylene group, since the urethane (meth)acrylate resin will have a better balance between elongation and chemical resistance in the cured product. q in the structural formula (2) is an integer of 1 or more. The alkylene oxide-modified bisphenol compound (B) may contain a plurality of components with different q values.

また、前記アルキレンオキサイド変性ビスフェノール化合物の市販品としては、例えば、三洋化成工業株式会社製「ニューポールBPE-20」等が挙げられる。 Examples of commercially available products of the alkylene oxide-modified bisphenol compound include "Newpol BPE-20" manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., and the like.

前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)のアクリロイル基濃度は、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから6~12mmol/gが好ましく、7~10mmol/gがより好ましい。 The acryloyl group concentration of the urethane (meth)acrylate (A) is 6 to 12 mmol because an active energy ray-curable resin composition having high refractive index performance and excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance is obtained. /g, more preferably 7 to 10 mmol/g.

前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量は、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の不揮発分中に40~80質量%の範囲が好ましく、45~70質量%の範囲がより好ましい。 The content of the urethane (meth)acrylate (A) has a high refractive index performance, and an active energy ray-curable resin composition having excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance is obtained. It is preferably in the range of 40 to 80% by mass, more preferably in the range of 45 to 70% by mass, in the non-volatile content of the radiation-curable resin composition.

前記ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)としては、特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを、前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂が有するグリシジル基と、前記(メタ)アクリル酸が有するカルボキシル基とのモル比[(グリシジル基)/(COOH)]が、1/1.01~1/1.03の範囲となる割合で用い、80~120℃の温度範囲内で、必要に応じて、エポキシ化触媒を用い反応させて得られたもの等を用いることができる。 The bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B) is not particularly limited. The molar ratio [(glycidyl group) / (COOH)] with the carboxyl group of meth)acrylic acid is used at a rate in the range of 1/1.01 to 1/1.03, and the temperature range is 80 to 120 ° C. Among them, if necessary, those obtained by reacting with an epoxidation catalyst can be used.

前記エポキシ化触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ジメチルブチルアミン、トリ-n-ブチルアミン等のアミン類、テトラメチルアンムニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩等の第四級アンモニウム塩、又は第四級ホスホニウム塩、その他トリフェニルホスフィン等のホスフィン類や、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール等のイミダゾール類などが挙げられる。また、前記エポキシ化触媒の使用量としては、反応原料混合物100質量部に対して、0.1~10質量部が好ましく、0.2~3質量部がより好ましい。 Examples of the epoxidation catalyst include amines such as triethylamine, dimethylbutylamine and tri-n-butylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, tetrabutylammonium salt and benzyltriethylammonium salt. , quaternary phosphonium salts, phosphines such as triphenylphosphine, and imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole. The amount of the epoxidation catalyst used is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.2 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of the reaction raw material mixture.

前記ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)の市販品としては、例えば、DIC株式会社製「LUXYDIR V-5500」等が挙げられる。 Examples of commercially available products of the bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B) include “LUXYDIR V-5500” manufactured by DIC Corporation.

これらのビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 These bisphenol A type epoxy (meth)acrylates can be used alone or in combination of two or more.

前記ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)の一分子当たりの(メタ)アクリロイル基の数は、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、2以上が好ましく、2~4がより好ましい。また、前記ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)の液屈折率は1.51~1.56の範囲が好ましい。 The number of (meth)acryloyl groups per molecule of the bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B) is such that an active energy ray-curable resin composition having excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance can be obtained. , is preferably 2 or more, more preferably 2 to 4. Further, the liquid refractive index of the bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B) is preferably in the range of 1.51 to 1.56.

前記ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)の含有量は、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の不揮発分中に5~50質量%の範囲が好ましく、10~40質量%の範囲がより好ましい。 The content of the bisphenol A-type epoxy (meth)acrylate (B) has a high refractive index performance, and an active energy ray-curable resin composition having excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance is obtained. It is preferably in the range of 5 to 50% by mass, more preferably in the range of 10 to 40% by mass, based on the non-volatile content of the active energy ray-curable resin composition.

前記化合物(C)としては、一分子中に少なくとも3つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物を用いる。例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、前記各種の(メタ)アクリロイル基を有する化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性体;前記各種の(メタ)アクリロイル基を有する化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性体等も用いることができる。これらの中でも、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートが好ましい。また、これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。前記化合物(C)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the compound (C), a compound having at least three (meth)acryloyl groups in one molecule is used. For example, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra( meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate and the like. In addition, a (poly)oxyalkylene chain such as a (poly)oxyethylene chain, (poly)oxypropylene chain, or (poly)oxytetramethylene chain is introduced into the molecular structure of the compounds having various (meth)acryloyl groups. (Poly)oxyalkylene modified products; Lactone modified products obtained by introducing a (poly)lactone structure into the molecular structure of the various compounds having a (meth)acryloyl group can also be used. Among these, pentaerythritol tri(meth)acrylate is preferable because it has a high refractive index performance and provides an active energy ray-curable resin composition excellent in hardness, scratch resistance, and moist heat resistance. In addition, these compounds can be used alone or in combination of two or more. The compound (C) can be used alone or in combination of two or more.

前記化合物(C)のアクリロイル基濃度は、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから6~12mmol/gの範囲が好ましく、7~12mmol/gの範囲がより好ましい。 The acryloyl group concentration of the compound (C) is preferably in the range of 6 to 12 mmol/g, more preferably 7 to 12 mmol/g, because an active energy ray-curable resin composition having excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance can be obtained. is more preferred.

前記化合物(C)の含有量は、高い屈折率性能を有し、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性に優れた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が得られることから、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の不揮発分中に5~50質量%の範囲が好ましく、10~40質量%の範囲がより好ましい。 The content of the compound (C) has a high refractive index performance, and an active energy ray-curable resin composition having excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance is obtained, so the active energy ray-curable resin It is preferably in the range of 5 to 50% by mass, more preferably in the range of 10 to 40% by mass, based on the non-volatile content of the composition.

前記光重合開始剤(D)としては、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、2,2’-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン等の光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator (D) include 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, thioxanthone and thioxanthone derivatives, 2,2′-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, diphenyl (2,4,6-trimethoxy benzoyl)phosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropane -1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone and other photoradical polymerization initiators.

前記光重合開始剤(D)の市販品としては、例えば、「Omnirad 1173」、「Omnirad 184」、「Omnirad 127」、「Omnirad 2959」、「Omnirad 369」、「Omnirad 379」、「Omnirad 907」、「Omnirad 4265」、「Omnirad 1000」、「Omnirad 651」、「Omnirad TPO」、「Omnirad 819」、「Omnirad 2022」、「Omnirad 2100」、「Omnirad 754」、「Omnirad 784」、「Omnirad 500」、「Omnirad 81」(IGM Resins社製);「KAYACURE DETX」、「KAYACURE MBP」、「KAYACURE DMBI」、「KAYACURE EPA」、「KAYACURE OA」(日本化薬株式会社製);「Vicure 10」、「Vicure 55」(Stoffa Chemical社製);「Trigonal P1」(Akzo Nobel社製)、「SANDORAY 1000」(SANDOZ社製);「DEAP」(Upjohn Chemical社製)、「Quantacure PDO」、「Quantacure ITX」、「Quantacure EPD」(Ward Blenkinsop社製);「Runtecure 1104」(Runtec社製)等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Commercially available products of the photopolymerization initiator (D) include, for example, "Omnirad 1173", "Omnirad 184", "Omnirad 127", "Omnirad 2959", "Omnirad 369", "Omnirad 379" and "Omnirad 907". , “Omnirad 4265”, “Omnirad 1000”, “Omnirad 651”, “Omnirad TPO”, “Omnirad 819”, “Omnirad 2022”, “Omnirad 2100”, “Omnirad 754”, “Omnirad 784”, “Omnirad 500mni , "Omnirad 81" (manufactured by IGM Resins); "KAYACURE DETX", "KAYACURE MBP", "KAYACURE DMBI", "KAYACURE EPA", "KAYACURE OA" (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); "Vicure 10", "Vicure 55" (manufactured by Stoffa Chemical); "Trigonal P1" (manufactured by Akzo Nobel), "SANDORAY 1000" (manufactured by SANDOZ); "DEAP" (manufactured by Upjohn Chemical), "Quantacure PDO", "Quantacure ITX ", "Quantacure EPD" (manufactured by Ward Blenkinsop); "Runtecure 1104" (manufactured by Runtec). These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

前記光重合開始剤(D)の添加量は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の不揮発分中に0.05~15質量%の範囲であることが好ましく、0.1~10質量%の範囲であることがより好ましい。 The amount of the photopolymerization initiator (D) added is, for example, preferably in the range of 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, in the non-volatile content of the active energy ray-curable resin composition. is more preferably in the range of

また、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、紫外線吸収剤、重合禁止剤、酸化防止剤、有機溶剤、無機質充填材やポリマー微粒子、顔料、消泡剤、粘度調整剤、レベリング剤、難燃剤、保存安定化剤等の各種添加剤を含有することもできる。 In addition, the active energy ray-curable resin composition of the present invention may optionally contain an ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an organic solvent, an inorganic filler, a fine polymer particle, a pigment, an antifoaming agent, a viscosity Various additives such as regulators, leveling agents, flame retardants, and storage stabilizers can also be contained.

前記紫外線吸収剤としては、例えば、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン等のトリアジン誘導体、2-(2’-キサンテンカルボキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-o-ニトロベンジロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-キサンテンカルボキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン、2-o-ニトロベンジロキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the ultraviolet absorber include 2-[4-{(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl)oxy}-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1 , 3,5-triazine, 2-[4-{(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl)oxy}-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1, triazine derivatives such as 3,5-triazine, 2-(2′-xanthenecarboxy-5′-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2′-o-nitrobenzyloxy-5′-methylphenyl)benzotriazole, 2 -xanthenecarboxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2-o-nitrobenzyloxy-4-dodecyloxybenzophenone, and the like. These ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.

前記重合禁止剤としては、例えば、p-メトキシフェノール、p-メトキシクレゾール、4-メトキシ-1-ナフトール、4,4’-ジアルコキシ-2,2’-ビ-1-ナフトール、3-(N-サリチロイル)アミノ-1,2,4-トリアゾール、N’1,N’12-ビス(2-ヒドロキシベンゾイル)ドデカンジヒドラジド、スチレン化フェノール、N-イソプロピル-N’-フェニルベンゼン-1,4-ジアミン、6-エトキシ-2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン等のフェノール化合物、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、p-ベンゾキノン、メチル-p-ベンゾキノン、2,5-ジフェニルベンゾキノン、2-ヒドロキシ-1,4-ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン等のキノン化合物、メラミン、p-フェニレンジアミン、4-アミノジフェニルアミン、N.N’-ジフェニル-p-フェニレンジアミン、N-i-プロピル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、N-(1.3-ジメチルブチル)-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、4,4’-ジクミル-ジフェニルアミン、4,4’-ジオクチル-ジフェニルアミン、ポリ(2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン)、スチレン化ジフェニルアミン、スチレン化ジフェニルアミンと2,4,4-トリメチルペンテンの反応生成物、ジフェニルアミンと2,4,4-トリメチルペンテンの反応生成物等のアミン化合物、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、2,2-ビス({[3-(ドデシルチオ)プロピオニル]オキシ}メチル)-1,3-プロパンジイル=ビス[3-(ドデシルチオ)プロピオナート]、ジトリデカン-1-イル=3,3’-スルファンジイルジプロパノアート等のチオエーテル化合物、N-ニトロソジフェニルアミン、N-ニトロソフェニルナフチルアミン、p-ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、p-ニトロソジフェニルアミン、α-ニトロソ-β-ナフトール等、N、N-ジメチルp-ニトロソアニリン、p-ニトロソジフェニルアミン、p-ニトロンジメチルアミン、p-ニトロン-N、N-ジエチルアミン、N-ニトロソエタノールアミン、N-ニトロソジ-n-ブチルアミン、N-ニトロソ-N-n-ブチル-4-ブタノールアミン、N-ニトロソ-ジイソプロパノールアミン、N-ニトロソ-N-エチル-4-ブタノールアミン、5-ニトロソ-8-ヒドロキシキノリン、N-ニトロソモルホリン、N-二トロソーN-フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、N-ニトロソ-N-メチル-p-トルエンスルホンアミド、N-ニトロソ-N-エチルウレタン、N-ニトロソ-N-n-プロピルウレタン、1-ニトロソ-2-ナフトール、2-ニトロソ-1-ナフトール、1-ニトロソ-2-ナフトール-3,6-スルホン酸ナトリウム、2-ニトロソ-1-ナフトール-4-スルホン酸ナトリウム、2-ニトロソ-5-メチルアミノフェノール塩酸塩、2-ニトロソ-5-メチルアミノフェノール塩酸塩等のニトロソ化合物、リン酸とオクタデカン-1-オールのエステル、トリフェニルホスファイト、3,9-ジオクタデカン-1-イル-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、トリスノニルフェニルホスフィト、亜リン酸-(1-メチルエチリデン)-ジ-4,1-フェニレンテトラ-C12-15-アルキルエステル、2-エチルヘキシル=ジフェニル=ホスフィット、ジフェニルイソデシルフォスファイト、トリイソデシル=ホスフィット、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト等のホスファイト化合物、ビス(ジメチルジチオカルバマト-κ(2)S,S’)亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチル・ジチオカルバミン酸亜鉛等の亜鉛化合物、ビス(N,N-ジブチルカルバモジチオアト-S,S’)ニッケル等のニッケル化合物、1,3-ジヒドロ-2H-ベンゾイミダゾール-2-チオン、4,6-ビス(オクチルチオメチル)-o-クレゾール、2-メチル-4,6-ビス[(オクタン-1-イルスルファニル)メチル]フェノール、ジラウリルチオジプロピオン酸エステル、3,3’-チオジプロピオン酸ジステアリル等の硫黄化合物などが挙げられる。これらの重合禁止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polymerization inhibitor include p-methoxyphenol, p-methoxycresol, 4-methoxy-1-naphthol, 4,4'-dialkoxy-2,2'-bi-1-naphthol, 3-(N -salicyloyl)amino-1,2,4-triazole, N'1,N'12-bis(2-hydroxybenzoyl)dodecane dihydrazide, styrenated phenol, N-isopropyl-N'-phenylbenzene-1,4-diamine , 6-ethoxy-2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline and other phenolic compounds, hydroquinone, methylhydroquinone, p-benzoquinone, methyl-p-benzoquinone, 2,5-diphenylbenzoquinone, 2-hydroxy- quinone compounds such as 1,4-naphthoquinone, anthraquinone and diphenoquinone, melamine, p-phenylenediamine, 4-aminodiphenylamine, N.I. N'-diphenyl-p-phenylenediamine, Ni-propyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine, N-(1.3-dimethylbutyl)-N'-phenyl-p-phenylenediamine, diphenylamine, 4 ,4'-dicumyl-diphenylamine, 4,4'-dioctyl-diphenylamine, poly(2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline), styrenated diphenylamine, styrenated diphenylamine and 2,4,4-trimethyl Amine compounds such as reaction products of pentene, reaction products of diphenylamine and 2,4,4-trimethylpentene, phenothiazine, distearylthiodipropionate, 2,2-bis({[3-(dodecylthio)propionyl]oxy } Methyl)-1,3-propanediyl = bis [3-(dodecylthio) propionate], ditridecan-1-yl = 3,3'-sulfanediyl dipropanoate and other thioether compounds, N-nitrosodiphenylamine, N- Nitrosophenylnaphthylamine, p-nitrosophenol, nitrosobenzene, p-nitrosodiphenylamine, α-nitroso-β-naphthol, etc., N,N-dimethyl p-nitrosoaniline, p-nitrosodiphenylamine, p-nitronedimethylamine, p-nitrone -N,N-diethylamine, N-nitrosoethanolamine, N-nitrosodi-n-butylamine, N-nitroso-Nn-butyl-4-butanolamine, N-nitroso-diisopropanolamine, N-nitroso-N- Ethyl-4-butanolamine, 5-nitroso-8-hydroxyquinoline, N-nitrosomorpholine, N-nitroso N-phenylhydroxylamine ammonium salt, nitrosobenzene, N-nitroso-N-methyl-p-toluenesulfonamide , N-nitroso-N-ethylurethane, N-nitroso-Nn-propylurethane, 1-nitroso-2-naphthol, 2-nitroso-1-naphthol, 1-nitroso-2-naphthol-3,6-sulfone nitroso compounds such as sodium acid, sodium 2-nitroso-1-naphthol-4-sulfonate, 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride, 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride, phosphoric acid and octadecane- Ester of 1-ol, triphenylphosphite, 3,9-dioctadecan-1-yl-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosph aspiro[5.5]undecane, trisnonylphenyl phosphite, phosphorous acid-(1-methylethylidene)-di-4,1-phenylene tetra-C12-15-alkyl ester, 2-ethylhexyl diphenyl phosphite, phosphite compounds such as diphenylisodecylphosphite, triisodecyl=phosphite, tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphite, bis(dimethyldithiocarbamate-κ(2)S,S′) zinc, Zinc compounds such as zinc diethyldithiocarbamate and zinc dibutyl dithiocarbamate, nickel compounds such as bis(N,N-dibutylcarbamodithioato-S,S') nickel, 1,3-dihydro-2H-benzimidazole-2 -thione, 4,6-bis(octylthiomethyl)-o-cresol, 2-methyl-4,6-bis[(octane-1-ylsulfanyl)methyl]phenol, dilaurylthiodipropionate, 3, Examples thereof include sulfur compounds such as distearyl 3'-thiodipropionate. These polymerization inhibitors can be used alone or in combination of two or more.

前記酸化防止剤としては、前記重合禁止剤で例示した化合物と同様のものを用いることができ、前記酸化防止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the antioxidant, the same compounds as those exemplified for the polymerization inhibitor can be used, and the antioxidants can be used alone or in combination of two or more.

また、前記重合禁止剤、及び前記酸化防止剤の市販品としては、例えば、和光純薬工業株式会社製「Q-1300」、「Q-1301」、住友化学株式会社製「スミライザーBBM-S」、「スミライザーGA-80が」等が挙げられる。 Further, commercial products of the polymerization inhibitor and the antioxidant include, for example, "Q-1300" and "Q-1301" manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., and "Sumilizer BBM-S" manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. , “Sumilizer GA-80” and the like.

前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the organic solvent, the same organic solvent as exemplified above can be used, and the organic solvent can be used alone or in combination of two or more.

前記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。これらの無機質充填材は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, and aluminum hydroxide. These inorganic fillers can be used alone or in combination of two or more.

前記顔料としては、公知慣用の無機顔料や有機顔料を使用することができる。 As the pigment, known and commonly used inorganic pigments and organic pigments can be used.

前記無機顔料としては、例えば、白色顔料、アンチモンレッド、ベンガラ、カドミウムレッド、カドミウムイエロー、コバルトブルー、紺青、群青、カーボンブラック、黒鉛等が挙げられる。これらの無機顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the inorganic pigments include white pigments, antimony red, red iron oxide, cadmium red, cadmium yellow, cobalt blue, Prussian blue, ultramarine blue, carbon black, and graphite. These inorganic pigments can be used alone or in combination of two or more.

前記白色顔料としては、例えば、酸化チタン,酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、硫化亜鉛等が挙げられる。これらの白色顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the white pigment include titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, barium sulfate, silica, talc, mica, aluminum hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, hollow resin particles, and zinc sulfide. etc. These white pigments can be used alone or in combination of two or more.

前記有機顔料としては、例えば、キナクリドン顔料、キナクリドンキノン顔料、ジオキサジン顔料、フタロシアニン顔料、アントラピリミジン顔料、アンサンスロン顔料、インダンスロン顔料、フラバンスロン顔料、ペリレン顔料、ジケトピロロピロール顔料、ペリノン顔料、キノフタロン顔料、アントラキノン顔料、チオインジゴ顔料、ベンツイミダゾロン顔料、アゾ顔料等が挙げられる。これらの有機顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic pigments include quinacridone pigments, quinacridonequinone pigments, dioxazine pigments, phthalocyanine pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indanthrone pigments, flavanthrone pigments, perylene pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, perinone pigments, Examples include quinophthalone pigments, anthraquinone pigments, thioindigo pigments, benzimidazolone pigments, and azo pigments. These organic pigments can be used alone or in combination of two or more.

前記消泡剤としては、例えば、シリコーン系消泡剤、ポリエーテル系消泡剤、脂肪酸エステル系消泡剤等が挙げられる。これらの消泡剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the antifoaming agent include silicone antifoaming agents, polyether antifoaming agents, and fatty acid ester antifoaming agents. These antifoaming agents can be used alone or in combination of two or more.

前記粘度調整剤としては、例えば、アルカリ性に調整することによって増粘可能なアクリル重合体や合成ゴムラテックス、分子が会合することによって増粘可能なウレタン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルアルコール、水添加ヒマシ油、アマイドワックス、酸化ポリエチレン、金属石鹸、ジベンジリデンソルビトール等が挙げられる。これらの粘度調整剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the viscosity modifier include acrylic polymers and synthetic rubber latex that can be thickened by alkalinity adjustment, urethane resins that can be thickened by molecular association, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, and polyvinyl alcohol. , hydrogenated castor oil, amide wax, polyethylene oxide, metal soap, dibenzylidene sorbitol and the like. These viscosity modifiers can be used alone or in combination of two or more.

前記レベリング剤としては、例えば、シリコーン系化合物、アセチレンジオール系化合物、フッ素系化合物等が挙げられる。これらのレベリング剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the leveling agent include silicone compounds, acetylene diol compounds, and fluorine compounds. These leveling agents can be used alone or in combination of two or more.

前記難燃剤としては、例えば、赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム、リン酸アミド等の無機リン化合物;リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,5―ジヒドロオキシフェニル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,7-ジヒドロオキシナフチル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド等の環状有機リン化合物、及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等の有機リン化合物;トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等の窒素系難燃剤;シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等のシリコーン系難燃剤;金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等の無機難燃剤などが挙げられる。これらの難燃剤は、単独でも用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the flame retardant include red phosphorus, ammonium phosphates such as monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate and ammonium polyphosphate; inorganic phosphorus compounds such as phosphate amide; acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, organic nitrogen-containing phosphorus compounds, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10-(2,5-dihydroxy Cyclic organic compounds such as phenyl)-10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide and 10-(2,7-dihydroxynaphthyl)-10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide Organic phosphorus compounds such as phosphorus compounds and derivatives obtained by reacting them with compounds such as epoxy resins and phenolic resins; triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, nitrogen-based flame retardants such as phenothiazine; silicone oils, silicone rubbers, silicone-based flame retardants such as silicone resins; inorganic flame retardants such as metal hydroxides, metal oxides, metal carbonate compounds, metal powders, boron compounds, and low-melting glass; These flame retardants can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化物は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に、活性エネルギー線を照射することで得ることができる。前記活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線が挙げられる。また、前記活性エネルギー線として、紫外線を用いる場合、紫外線による硬化反応を効率よく行う上で、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で照射してもよく、空気雰囲気下で照射してもよい。 The cured product of the present invention can be obtained by irradiating the active energy ray-curable resin composition with an active energy ray. Examples of the active energy rays include ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. When ultraviolet rays are used as the active energy rays, the irradiation may be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or in an air atmosphere in order to efficiently perform the curing reaction using the ultraviolet rays.

紫外線発生源としては、実用性、経済性の面から紫外線ランプが一般的に用いられている。具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ガリウムランプ、メタルハライドランプ、太陽光、LED等が挙げられる。 An ultraviolet lamp is generally used as a source of ultraviolet light from the viewpoint of practicality and economy. Specific examples include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, gallium lamps, metal halide lamps, sunlight, and LEDs.

前記活性エネルギー線の積算光量は、特に制限されないが、0.1~50kJ/mであることが好ましく、0.5~10kJ/mであることがより好ましい。積算光量が上記範囲であると、未硬化部分の発生の防止又は抑制ができることから好ましい。 The integrated amount of active energy rays is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 kJ/m 2 , more preferably 0.5 to 10 kJ/m 2 . It is preferable that the integrated amount of light is within the above range because the generation of uncured portions can be prevented or suppressed.

なお、前記活性エネルギー線の照射は、一段階で行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。 The irradiation with the active energy ray may be performed in one step, or may be performed in two or more steps.

本発明の積層体は、基材の片面または両面に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜を有するものであり、前記基材上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させることにより得ることができる。 The laminate of the present invention has a cured coating film of the active energy ray-curable resin composition on one or both sides of a substrate, and the active energy ray-curable resin composition is applied on the substrate. , can be obtained by curing by irradiating with an active energy ray.

前記基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート基材、環状オレフィン系基材、線状オレフィン系基材、アクリル系基材等が挙げられる。また、前記基材はフィルム状であってもよい。 Examples of the base material include polyethylene terephthalate base material, cyclic olefin base material, linear olefin base material, and acrylic base material. Moreover, the substrate may be in the form of a film.

前記ポリエチレンテレフタレート基材としては、例えば、超複屈折フィルム(SRF)なども用いることができる。 As the polyethylene terephthalate base material, for example, a super-birefringent film (SRF) can also be used.

前記硬化塗膜の形成方法としては、例えば、塗装法、転写法、シート接着法等が挙げられる。 Examples of the method for forming the cured coating film include a coating method, a transfer method, and a sheet adhesion method.

前記塗装法とは、前記塗料をスプレーコートするか、もしくはカーテンコーター、ロールコーター、グラビアコーター等の印刷機器を用いて成形品にトップコートとして塗装した後、活性エネルギー線を照射して硬化させる方法である。 The coating method is a method in which the coating material is spray-coated or coated as a top coat on a molded product using a printing device such as a curtain coater, a roll coater, or a gravure coater, and then cured by irradiation with an active energy ray. is.

前記転写法とは、離型性を有する基体シート上に前記した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して得られる転写材を成形品表面に接着させた後、基体シートを剥離して成型品表面にトップコートを転写し、次いで活性エネルギー線を照射し硬化させる方法、又は、該転写材を成形品表面に接着させた後、活性エネルギー線を照射して硬化させ、次いで基体シートを剥離する事により成型品表面にトップコートを転写する方法である。 In the transfer method, a transfer material obtained by applying the above active energy ray-curable resin composition to a base sheet having releasability is adhered to the surface of a molded product, and then the base sheet is peeled off to mold. A method in which the topcoat is transferred to the product surface and then cured by irradiation with active energy rays, or the transfer material is adhered to the surface of the molded product, cured by irradiation with active energy rays, and then the base sheet is peeled off. This is a method of transferring the top coat to the surface of the molded product by doing so.

前記シート接着法とは、基体シート上に前記の硬化性組成物からなる塗膜を有する保護シート、又は、基体シート上に硬化性組成物からなる塗膜と加飾層とを有する保護シートをプラスチック成形品に接着することにより、成形品表面に保護層を形成する方法である。 The sheet adhesion method is a protective sheet having a coating film made of the curable composition on a base sheet, or a protective sheet having a coating film made of a curable composition and a decorative layer on a base sheet. This is a method of forming a protective layer on the surface of a molded product by adhering it to the molded plastic product.

前記シート接着法は、具体的には、予め作製しておいた保護層形成用シートの基体シートと成形品とを接着させた後、加熱により熱硬化せしめてB-ステージ化してなる樹脂層の架橋硬化を行う方法(後接着法)や、前記保護層形成用シートを成形金型内に挟み込み、キャビテイ内に樹脂を射出充満させ、樹脂成形品を得るのと同時にその表面と保護層形成用シートを接着させ後、加熱により熱硬化させて樹脂層の架橋硬化を行う方法(成形同時接着法)等が挙げられる。 Specifically, in the sheet bonding method, after bonding a prefabricated base sheet of a protective layer forming sheet to a molded product, the resin layer is formed into a B-stage by thermosetting by heating. A method of cross-linking and curing (post-adhesion method), a method of sandwiching the protective layer forming sheet in a molding die, injecting and filling a resin into a cavity, and simultaneously obtaining a resin molded product and forming a protective layer on its surface. A method in which a sheet is adhered and then thermally cured by heating to cross-link and cure the resin layer (molding-simultaneous adhesion method) can be used.

ここで、前記基材として、フィルム状のポリエチレンテレフタレート基材を用いる場合、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を前記フィルム状のポリエチレンテレフタレート基材上に塗布する際の塗布量は、硬化後の膜厚が1~100μmの範囲となるように調整することが好ましい。また、この際の塗工方法としては、例えば、バーコーター塗工、ダイコート塗工、スプレーコート塗工、カーテンコート塗工、メイヤーバー塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷法等が挙げられる。本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が有機溶剤を含有する場合には、塗布後に80~150℃の条件下で数十秒~数分間加温して有機溶剤を揮発させたのち、活性エネルギー線を照射して前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることが好ましい。 Here, when a film-like polyethylene terephthalate base material is used as the base material, the coating amount when applying the active energy ray-curable resin composition of the present invention onto the film-like polyethylene terephthalate base material is It is preferable to adjust the film thickness afterward to be in the range of 1 to 100 μm. Further, the coating method at this time includes, for example, bar coater coating, die coating, spray coating, curtain coating, Mayer bar coating, air knife coating, gravure coating, reverse gravure coating, Examples include offset printing, flexo printing, screen printing, and the like. When the active energy ray-curable resin composition of the present invention contains an organic solvent, it is heated under conditions of 80 to 150° C. after application for several tens of seconds to several minutes to volatilize the organic solvent, and then activated. It is preferable to irradiate an energy ray to cure the active energy ray-curable resin composition.

本発明の積層体は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物からなる硬化塗膜以外に、その他の層構成を有していてもよい。これら各種の層構成の形成方法は特に限定されず、例えば、樹脂原料を直接塗布して形成しても良いし、予めシート状になっているものを接着剤にて貼り合せても良い。 The laminate of the present invention may have other layer structures in addition to the cured coating film made of the active energy ray-curable resin composition. The method of forming these various layer structures is not particularly limited, and for example, resin raw materials may be directly applied to form them, or sheets formed in advance may be pasted together with an adhesive.

本発明の物品としては、前記積層体を表面に有するものである。前記物品としては、例えば、携帯電話、家電製品、自動車内外装材、OA機器等のプラスチック成形品などが挙げられる。 The article of the present invention has the laminate on its surface. Examples of the articles include mobile phones, home electric appliances, automotive interior and exterior materials, plastic molded articles such as OA equipment, and the like.

以下、実施例と比較例とにより、本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、以下に挙げた実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. It should be noted that the present invention is not limited to the examples given below.

なお、本実施例において、重量平均分子量(Mw)は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)を用い、下記の条件により測定した値である。 In addition, in the present Examples, the weight average molecular weight (Mw) is a value measured under the following conditions using gel permeation chromatography (GPC).

測定装置 ; 東ソー株式会社製「HLC-8220」
カラム ; 東ソー株式会社製「ガードカラムHXL-H」
+東ソー株式会社製「TSKgel G5000HXL」
+東ソー株式会社製「TSKgel G4000HXL」
+東ソー株式会社製「TSKgel G3000HXL」
+東ソー株式会社製「TSKgel G2000HXL」
検出器 ; RI(示差屈折計)
データ処理:東ソー株式会社製「SC-8010」
測定条件: カラム温度 40℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 ;ポリスチレン
試料 ;樹脂固形分換算で0.4質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(100μl)
Measuring device; "HLC-8220" manufactured by Tosoh Corporation
Column; "Guard Column H XL -H" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSKgel G5000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSKgel G4000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSKgel G3000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
+ "TSKgel G2000HXL" manufactured by Tosoh Corporation
Detector; RI (differential refractometer)
Data processing: "SC-8010" manufactured by Tosoh Corporation
Measurement conditions: Column temperature 40°C
Solvent Tetrahydrofuran
Flow rate 1.0 ml/min Standard; Polystyrene Sample; A tetrahydrofuran solution of 0.4% by mass in terms of resin solid content filtered through a microfilter (100 μl)

(合成例1:ウレタンアクリレート(A1)の合成)
撹拌棒、温度センサー、水冷コンデンサーが備え付けられたフラスコに、ペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックスM-305」、水酸基価110.0mgKOH/g)1040.4質量部、メトキノン0.10質量部、ジブチル錫ジラウレート0.10質量部を仕込み、撹拌翼で混合し、乾燥空気を吹き込みながら60℃に昇温した。次いで、キシレンジイソシアネート188質量部を発熱に注意しながら滴下してウレタン化反応を行い、滴下終了後、80℃に昇温して反応を継続した。イソシアネート質量%が0.05質量%以下になったことを確認して冷却し、メチルイソブチルケトンを滴下することにより、樹脂固形分80質量%、アクリロイル基濃度8.97mmol/gのウレタンアクリレート(A1)を得た。
(Synthesis Example 1: Synthesis of urethane acrylate (A1))
Pentaerythritol (tri/tetra) acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd. "Aronix M-305", hydroxyl value 110.0 mg KOH / g) 1040.4 parts by mass, in a flask equipped with a stirring rod, a temperature sensor, and a water-cooled condenser, 0.10 parts by mass of methoquinone and 0.10 parts by mass of dibutyltin dilaurate were charged, mixed with a stirring blade, and heated to 60° C. while blowing dry air. Next, 188 parts by mass of xylene diisocyanate was added dropwise while paying attention to heat generation to carry out a urethanization reaction. After confirming that the isocyanate mass% is 0.05% by mass or less, cooling is performed, and methyl isobutyl ketone is added dropwise to obtain a urethane acrylate (A1 ).

(合成例2:ウレタンアクリレート(A2)の合成)
前記合成例1で用いたキシレンジイソシアネート188質量部をm-テトラメチルキシレンジイソシアネート244質量部に変更した以外は合成例1と同様に実施し、樹脂固形分80質量%、アクリロイル基濃度8.57mmol/gのウレタンアクリレート(A2)を得た。
(Synthesis Example 2: Synthesis of urethane acrylate (A2))
The procedure was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 188 parts by mass of xylene diisocyanate used in Synthesis Example 1 was changed to 244 parts by mass of m-tetramethylxylene diisocyanate. g of urethane acrylate (A2) was obtained.

(合成例3:ウレタンアクリレート(A3)の合成)
前記合成例1で用いたペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックスM-305」、水酸基価110.0mgKOH/g)1040.4質量部をペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックス M-306」、水酸基価160.0mgKOH/g)715.3質量部に変更した以外は合成例1と同様に実施し、樹脂固形分80質量%、アクリロイル基濃度8.18mmol/gのウレタンアクリレート(A3)を得た。
(Synthesis Example 3: Synthesis of urethane acrylate (A3))
1040.4 parts by mass of pentaerythritol (tri/tetra)acrylate used in Synthesis Example 1 (“Aronix M-305” manufactured by Toagosei Co., Ltd., hydroxyl value 110.0 mgKOH/g) was added to pentaerythritol (tri/tetra)acrylate ("Aronix M-306" manufactured by Toagosei Co., Ltd., hydroxyl value 160.0 mgKOH / g) was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that it was changed to 715.3 parts by mass, resin solid content 80% by mass, acryloyl group concentration 8.18 mmol/g of urethane acrylate (A3) was obtained.

(合成例4:ウレタンアクリレート(A4)の合成)
前記合成例1で用いたキシレンジイソシアネート188質量部をイソホロンジイソシアネート222質量部に変更した以外は合成例1と同様に実施し、樹脂固形分80質量%、アクリロイル基濃度8.72mmol/gのウレタンアクリレート(A4)を得た。
(Synthesis Example 4: Synthesis of urethane acrylate (A4))
In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 188 parts by mass of xylene diisocyanate used in Synthesis Example 1 was changed to 222 parts by mass of isophorone diisocyanate, a urethane acrylate having a resin solid content of 80% by mass and an acryloyl group concentration of 8.72 mmol / g (A4) was obtained.

(合成例5:多官能ウレタンアクリレート(A5)の合成)
前記合成例1で用いたキシレンジイソシアネート188質量部をジフェニルメタンジイソシアネート(BASF INOACポリウレタン株式会社製「ルプラネートMI」)250質量部に変更した以外は合成例1と同様に実施し、樹脂固形分80質量部%、アクリロイル基濃度8.53mmol/gのウレタンアクリレート(A5)を得た。
(Synthesis Example 5: Synthesis of polyfunctional urethane acrylate (A5))
Synthesis Example 1 except that 188 parts by mass of xylene diisocyanate used in Synthesis Example 1 was changed to 250 parts by mass of diphenylmethane diisocyanate ("Lupranate MI" manufactured by BASF INOAC Polyurethane Co., Ltd.) was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, and the resin solid content was 80 parts by mass. % and an acryloyl group concentration of 8.53 mmol/g to obtain urethane acrylate (A5).

(合成例6:ビスフェノールA型エポキシアクリレート(B1)の合成)
撹拌棒、温度センサー、水冷コンデンサーが備え付けられたフラスコに、エピクロン850CRP(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量172.0、DIC株式会社製)344.0質量部、メトキノン0.10質量部、トリフェニルホスフィン0.50質量部を仕込み、撹拌翼で混合し、乾燥空気を吹き込みながら60℃に昇温した。次いで、アクリル酸146.9質量部を滴下して全量仕込んだ後、発熱に注意して105℃に昇温し、6時間反応を継続した。エポキシ当量が20,000を超えたことを確認して冷却し、メチルイソブチルケトンを滴下することにより、樹脂固形分60質量%、アクリロイル基濃度4.10mmol/gのビスフェノールA型エポキシアクリレート(B1)を得た。
(Synthesis Example 6: Synthesis of bisphenol A type epoxy acrylate (B1))
Epiclon 850CRP (bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 172.0, manufactured by DIC Corporation) 344.0 parts by mass, methoquinone 0.10 parts by mass, triphenyl 0.50 part by mass of phosphine was charged, mixed with a stirring blade, and heated to 60° C. while blowing dry air. Next, 146.9 parts by mass of acrylic acid was added dropwise and the entire amount was charged, then the temperature was raised to 105° C. while taking care of heat generation, and the reaction was continued for 6 hours. After confirming that the epoxy equivalent exceeds 20,000, it is cooled, and methyl isobutyl ketone is added dropwise to obtain a bisphenol A type epoxy acrylate (B1) having a resin solid content of 60% by mass and an acryloyl group concentration of 4.10 mmol / g. got

(実施例1:活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(1)の調製)
固形分換算で、以下の質量部となるように各成分を配合した。合成例1で得たウレタンアクリレート(A1)50質量部、合成例6で得たビスフェノールA型エポキシアクリレート(B1)30質量部、化合物(C)としてペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(東亞合成株式会社製「アロニックスM-305」、水酸基価110.0mgKOH/g)20質量部、光重合開始剤(D)(IGM RESINS B.V.社製「Omnirad TPO H)2.0質量部を配合し、メトキシプロピルアセテートで調製して不揮発分40質量%の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物溶液(1)を得た。
(Example 1: Preparation of active energy ray-curable resin composition (1))
Each component was blended so as to have the following weight parts in terms of solid content. 50 parts by mass of urethane acrylate (A1) obtained in Synthesis Example 1, 30 parts by mass of bisphenol A epoxy acrylate (B1) obtained in Synthesis Example 6, pentaerythritol (tri/tetra) acrylate (Toagosei Co., Ltd.) as compound (C) Company "Aronix M-305", hydroxyl value 110.0 mgKOH / g) 20 parts by weight, photopolymerization initiator (D) (IGM RESINS B.V. "Omnirad TPO H) 2.0 parts by weight. , and methoxypropyl acetate to obtain an active energy ray-curable resin composition solution (1) having a nonvolatile content of 40% by mass.

(実施例2~7:活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(2)~(7)の調製)
表1に示す配合比率で実施例1と同様の方法にて、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(2)~(7)を得た。
(Examples 2 to 7: Preparation of active energy ray-curable resin compositions (2) to (7))
Active energy ray-curable resin compositions (2) to (7) were obtained in the same manner as in Example 1 at the compounding ratios shown in Table 1.

(比較例1及び2:活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(R1)及び(R2)の調製)
表1に示す配合比率で実施例1と同様の方法にて、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(R1)及び(R2)を得た。
(Comparative Examples 1 and 2: Preparation of active energy ray-curable resin compositions (R1) and (R2))
Active energy ray-curable resin compositions (R1) and (R2) were obtained in the same manner as in Example 1 at the compounding ratios shown in Table 1.

上記の実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(1)~(7)、(R1)及び(R2)を用いて、下記の評価を行った。 The following evaluations were performed using the active energy ray-curable resin compositions (1) to (7), (R1) and (R2) obtained in the above examples and comparative examples.

[積層体の作製]
実施例及び比較例で得られた活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を超複屈折フィルム(SRF)(東洋紡株式会社製「コスモシャインSRF」、膜厚80μm)にバーコーターで塗工し、80℃で40秒間乾燥させた。次いで、窒素雰囲気下において高圧水銀灯ランプ(ランプ出力120W/cm)で紫外線を積算照射量1.5kJ/mとなるように照射し、SRF基材上に膜厚7μmの硬化塗膜を有する積層体を得た。
[Preparation of laminate]
The active energy ray-curable resin compositions obtained in Examples and Comparative Examples were applied to a super birefringent film (SRF) ("Cosmo Shine SRF" manufactured by Toyobo Co., Ltd., film thickness 80 μm) with a bar coater, and heated at 80 ° C. and dried for 40 seconds. Next, in a nitrogen atmosphere, ultraviolet rays were irradiated with a high-pressure mercury lamp (lamp output 120 W/cm) so that the cumulative irradiation amount was 1.5 kJ/m 2 , and a cured coating film having a thickness of 7 μm was laminated on the SRF substrate. got a body

[硬化膜屈折率の評価方法]
前記積層体について、アッベ屈折率計によって屈折率を測定し、以下の基準に従い評価した。
[Evaluation method of cured film refractive index]
The refractive index of the laminate was measured with an Abbe refractometer and evaluated according to the following criteria.

A:屈折率が、1.53以上であった。
B:屈折率が、1.53未満であった。
A: The refractive index was 1.53 or more.
B: The refractive index was less than 1.53.

[鉛筆硬度の評価方法]
前記積層体について、JIS K5600-5-4(1999)に準拠し、塗膜表面の鉛筆硬度を750g荷重条件下で測定した。1つの硬度につき5回測定を行い、傷が付かなかった測定が4回以上あった硬度を硬化塗膜の硬度とし、以下の基準に従い評価した。
[Method for evaluating pencil hardness]
With respect to the laminate, the pencil hardness of the coating film surface was measured under a load of 750 g according to JIS K5600-5-4 (1999). Each hardness was measured 5 times, and the hardness at which no scratch occurred 4 times or more was defined as the hardness of the cured coating film, and evaluated according to the following criteria.

A:鉛筆硬度が、2H以上であった。
B:鉛筆硬度が、H以上2H未満であった。
C:鉛筆硬度が、H未満であった。
A: The pencil hardness was 2H or more.
B: The pencil hardness was H or more and less than 2H.
C: The pencil hardness was less than H.

[耐擦傷性の評価方法]
スチールウール(日本スチールウール株式会社製「ボンスター#0000」)0.5gで直径2.4センチメートルの円盤状の圧子を包み、該圧子に1kg重の荷重をかけて、前記積層体の塗装表面を10往復させる磨耗試験を行った。磨耗試験前後の積層体のヘーズ値をスガ試験機株式会社製「ヘーズコンピュータHZ-2」を用いて測定し、それらの差の値(dH)を用いて、以下の基準に従い評価した。なお、差の値(dH)が小さいほど、擦傷に対する耐性が高い。
[Scratch resistance evaluation method]
A disk-shaped indenter with a diameter of 2.4 cm is wrapped with 0.5 g of steel wool (“Bonstar #0000” manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.), and a load of 1 kg is applied to the indenter to coat the surface of the laminate. A wear test was performed by reciprocating 10 times. The haze value of the laminate before and after the abrasion test was measured using a "Haze Computer HZ-2" manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and the difference (dH) was used for evaluation according to the following criteria. It should be noted that the smaller the value of the difference (dH), the higher the resistance to abrasion.

A:dHが、1.0以下であった
B:dHが、1.0超~3.0以下であった。
C:dHが、3.0超であった。
A: dH was 1.0 or less B: dH was more than 1.0 and 3.0 or less.
C: dH was greater than 3.0.

耐湿熱性の評価は、基材密着性(初期)及び基材密着性(耐湿熱試験後)の評価により行った。 The wet heat resistance was evaluated by evaluating the substrate adhesion (initial stage) and the substrate adhesion (after the wet heat resistance test).

[基材密着性(初期)の評価方法]
前記積層体の硬化塗膜表面にカッターナイフで切れ目を入れて、1mm×1mmの碁盤目を100個作成し、その上からセロハン粘着テープを貼着した後、急速に剥がす操作を行い、剥離せずに残存した碁盤目の数を数え、以下の基準に従い評価した。
[Evaluation method for substrate adhesion (initial)]
Cut the surface of the cured coating film of the laminate with a cutter knife to create 100 grids of 1 mm × 1 mm. The number of cross-cuts remaining without any damage was counted and evaluated according to the following criteria.

A:碁盤目の残存数が80個以上であった。
B:碁盤目の残存数が80個未満であった。
A: The number of remaining grids was 80 or more.
B: Less than 80 grids remained.

[基材密着性(耐湿熱試験後)の評価方法]
前記積層体を、恒温恒湿環境試験機(80℃、95%RH)で500時間試験した。その後、上述の基材密着性(初期)と同様の方法にて行い、以下の基準に従い評価した。
[Evaluation method for substrate adhesion (after moist heat resistance test)]
The laminate was tested in a constant temperature and humidity environment tester (80° C., 95% RH) for 500 hours. After that, the same method as for the substrate adhesion (initial stage) described above was performed, and evaluation was performed according to the following criteria.

A:碁盤目の残存数が80個以上であった。
B:碁盤目の残存数が80個未満であった。
A: The number of remaining grids was 80 or more.
B: Less than 80 grids remained.

実施例1~7で調製した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(1)~(7)、及び比較例1及び2で調製した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物(R1)及び(R2)の組成及び評価結果を表1に示す。 Compositions of active energy ray-curable resin compositions (1) to (7) prepared in Examples 1 to 7, and active energy ray-curable resin compositions (R1) and (R2) prepared in Comparative Examples 1 and 2 And the evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2023030833000003
Figure 2023030833000003

なお、表1における質量部の記載は、固形分値である。 In addition, description of the mass part in Table 1 is a solid content value.

表1中の「アロニックス M-305」は、東亞合成株式会社製「アロニックス M-305;ペンタエリスリトール(トリ/テトラ)アクリレート(アクリロイル基濃度:10.59mmol/g)を示す。 “Aronix M-305” in Table 1 indicates “Aronix M-305; pentaerythritol (tri/tetra)acrylate (acryloyl group concentration: 10.59 mmol/g) manufactured by Toagosei Co., Ltd.

表1中の「アロニックス M-920」は、東亞合成株式会社製「アロニックス M-920」;グリシジル(ジ/トリ)アクリレート(アクリロイル基濃度:8.88mmol/g)を示す。 "Aronix M-920" in Table 1 indicates "Aronix M-920" manufactured by Toagosei Co., Ltd.; glycidyl (di/tri)acrylate (acryloyl group concentration: 8.88 mmol/g).

表1中の「Miramer M-240」は、MIWON社製「Miramer M-240」;ビスフェノールAEO変性ジアクリレート(アクリロイル基濃度:3.91mmol/g)を示す。 "Miramer M-240" in Table 1 indicates "Miramer M-240" manufactured by MIWON; bisphenol AEO-modified diacrylate (acryloyl group concentration: 3.91 mmol/g).

表1中の「ビスコート#230」は、大阪有機化学工業株式会社製「ビスコート#230」;1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(アクリロイル基濃度:8.85mmol/g)を示す。 "Viscoat #230" in Table 1 indicates "Viscoat #230" manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.; 1,6-hexanediol diacrylate (acryloyl group concentration: 8.85 mmol/g).

表1に示した実施例1~7は、本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の例である。この活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、高い屈折率性能を有し、優れた硬度、耐擦傷性、耐湿熱性を有し、各性能をバランスよく兼備していることが確認できた。 Examples 1 to 7 shown in Table 1 are examples of the active energy ray-curable resin composition of the present invention. It was confirmed that this active energy ray-curable resin composition has a high refractive index performance, excellent hardness, scratch resistance, and moist heat resistance, and has a well-balanced combination of these performances.

一方、比較例1及び2は、少なくとも3つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(C)を用いない活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の例である。この活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、高屈折率性能、硬度、耐擦傷性、耐湿熱性を兼備していないことが確認できた。 On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 are examples of active energy ray-curable resin compositions that do not use the compound (C) having at least three (meth)acryloyl groups. It was confirmed that this active energy ray-curable resin composition did not have high refractive index performance, hardness, scratch resistance, and moist heat resistance.

Claims (9)

ウレタン(メタ)アクリレート(A)と、
ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート(B)と、
少なくとも3つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(C)と、
光重合開始剤(D)とを含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であって、
前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、多価イソシアネート化合物(a1)と、少なくとも1つの水酸基及び少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a2)とを必須原料とするものであることを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
Urethane (meth)acrylate (A);
A bisphenol A type epoxy (meth)acrylate (B),
a compound (C) having at least three (meth)acryloyl groups;
An active energy ray-curable resin composition containing a photopolymerization initiator (D),
The urethane (meth)acrylate (A) comprises a polyvalent isocyanate compound (a1) and a compound (a2) having at least one hydroxyl group and at least two (meth)acryloyl groups as essential raw materials. An active energy ray-curable resin composition characterized by:
前記化合物(a2)の水酸基価が、90~170mgKOH/gである請求項1記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 2. The active energy ray-curable resin composition according to claim 1, wherein the compound (a2) has a hydroxyl value of 90 to 170 mgKOH/g. 前記多価イソシアネート化合物(a1)が、キシレンジイソシアネート及び/又はm-テトラメチルキシレンジイソシアネートを含むものである請求項1又は2記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 3. The active energy ray-curable resin composition according to claim 1, wherein the polyvalent isocyanate compound (a1) contains xylene diisocyanate and/or m-tetramethylxylene diisocyanate. 前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有量が、前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)、前記エポキシ(メタ)アクリレート(B)及び前記化合物(C)の合計質量中に40~80質量%である請求項1~3の何れか1項記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 The content of the urethane (meth)acrylate (A) is 40 to 80% by mass in the total mass of the urethane (meth)acrylate (A), the epoxy (meth)acrylate (B) and the compound (C). The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 1 to 3. 請求項1~4の何れか1項記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 1 to 4. 基材の片面又は両面に請求項1~4の何れか1項記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化塗膜を有することを特徴とする積層体。 A laminate having a cured coating film of the active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 1 to 4 on one or both sides of a substrate. 前記基材が、ポリエチレンテレフタレート基材である請求項6記載の積層体。 7. The laminate according to claim 6, wherein said substrate is a polyethylene terephthalate substrate. 前記基材が、フィルム状である請求項6又は7項記載の積層体。 The laminate according to claim 6 or 7, wherein the substrate is film-like. 請求項6~8の何れか1項記載の積層体を表面に有することを特徴とする物品。 An article having the laminate according to any one of claims 6 to 8 on its surface.
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