JP2023026818A - Cleaning method of cover - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、洗浄装置のカバーの内壁を洗浄するカバーの洗浄方法に関する。 The present invention relates to a cover cleaning method for cleaning the inner wall of a cover of a cleaning device.
半導体基板の洗浄には、保持テーブルに保持された基板に洗浄水を供給しながら保持テーブルを回転させる事で、基板を洗浄する洗浄装置が用いられている(例えば、特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art For cleaning a semiconductor substrate, a cleaning apparatus is used that cleans the substrate by rotating the holding table while supplying cleaning water to the substrate held on the holding table (see, for example, Patent Document 1).
洗浄装置の洗浄空間は、円筒状のカバーによって囲繞されているが、洗浄水が飛散するため、カバーの内壁は洗浄によって除去された異物が付着し汚れ、内壁に付着した汚れが基板に落下して、基板を再び汚染するおそれがあった。 The cleaning space of the cleaning equipment is surrounded by a cylindrical cover, but because the cleaning water scatters, the inner wall of the cover is stained with foreign substances removed by cleaning, and the dirt adhering to the inner wall falls onto the substrate. There is a risk that the substrate will be contaminated again.
そして、従来、カバーの内壁を洗浄する洗浄方法は、カバー内に配置された保持テーブルを一定速度で回転させながら、洗浄水を保持テーブルの上面に供給して洗浄水を霧化して拡散させることで、カバーの内壁を濡らす方法が一般的であった。しかし、洗浄水が霧化しているため、カバーに当たる水滴の径が小さくなり衝突箇所における水量が少なく、洗浄力が弱いという問題があった。 Conventionally, the cleaning method for cleaning the inner wall of the cover is to supply cleaning water to the upper surface of the holding table arranged in the cover while rotating the holding table at a constant speed to atomize and spread the cleaning water. A common method is to wet the inner wall of the cover. However, since the cleansing water is atomized, the diameter of the water droplets hitting the cover becomes small, and the amount of water at the collision point is small, resulting in a weak cleansing power.
よって、洗浄装置のカバーの内壁を洗浄する場合には、内壁の汚れをより効果的に洗浄除去するという課題がある。 Therefore, when cleaning the inner wall of the cover of the cleaning device, there is a problem of more effectively cleaning and removing dirt from the inner wall.
基板を保持する保持面を有する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された基板に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該保持テーブルの外周を囲繞するカバーと、を少なくとも備える洗浄装置の該カバーの内壁を洗浄する洗浄方法であって、該保持面に該洗浄水供給ノズルによって該洗浄水を供給し、該保持面の上に該洗浄水を溜める貯留ステップと、該保持テーブルを回転させながら該貯留ステップにおいて該保持テーブルの上に溜まった該洗浄水を該カバーの該内壁に向けて飛ばす放出ステップと、該放出ステップの実施後に、該保持テーブルを回転させながら回転による風圧によって該カバーの該内壁に付着した該洗浄水を除去する除去ステップと、を備える事を特徴とする、カバーの洗浄方法である。
また、本発明に係るカバーの洗浄方法においては、前記貯留ステップと、前記放出ステップと、前記除去ステップと、を所定回数繰り返すと好ましい。
また、前記洗浄装置は、少なくとも前記保持テーブルの回転を制御する制御ユニットを備え、該制御ユニットは、前記放出ステップで前記洗浄水が前記カバーの前記内壁に衝突する高さと、該保持テーブルの回転速度と、の相関データを記憶する記憶部を有し、本発明に係るカバーの洗浄方法では、該制御ユニットによって、該放出ステップにおいて、該相関データに基づき、該内壁の所望する高さに該洗浄水が衝突するように該保持テーブルの回転速度を制御すると好ましい。
また、本発明に係るカバーの洗浄方法では、前記貯留ステップにおいて、前記保持面に、開口を有する環状フレームの該開口を塞ぐようにシートが接着されて構成されたフレームユニットを保持し、該保持面に代えて、該開口に対応する該シートの上に前記洗浄水を溜めてもよい。
また、本発明に係るカバーの洗浄方法では、前記貯留ステップにおいて、前記保持面に、外周に凸部と、中央に該凸部に囲繞された凹部と、を備える容器を保持し、該保持面に代えて、該凹部に前記洗浄水を溜めてもよい。
A cleaning apparatus comprising at least a holding table having a holding surface for holding a substrate, a cleaning water supply nozzle supplying cleaning water to the substrate held on the holding table, and a cover surrounding the outer circumference of the holding table. A cleaning method for cleaning the inner wall of a cover, comprising: a storing step of supplying the cleaning water to the holding surface by the cleaning water supply nozzle and storing the cleaning water on the holding surface; and rotating the holding table. a discharging step of blowing the wash water accumulated on the holding table in the storing step toward the inner wall of the cover; and a removing step of removing the cleaning water adhering to the inner wall of the cover.
Further, in the cover cleaning method according to the present invention, it is preferable to repeat the storing step, the discharging step, and the removing step a predetermined number of times.
Further, the cleaning apparatus includes a control unit for controlling at least the rotation of the holding table, the control unit controlling the height at which the cleaning water collides with the inner wall of the cover in the discharging step and the rotation of the holding table. In the method for cleaning a cover according to the present invention, in the discharging step, the speed and the speed are stored in a storage unit for storing the correlation data, and in the discharge step, the inner wall reaches the desired height based on the correlation data. It is preferable to control the rotation speed of the holding table so that the wash water impinges on it.
Further, in the cover cleaning method according to the present invention, in the storing step, a frame unit configured by bonding a sheet to an annular frame having an opening so as to cover the opening is held on the holding surface. Instead of the surface, the washing water may be accumulated on the sheet corresponding to the opening.
Further, in the cover cleaning method according to the present invention, in the storing step, a container having a convex portion on the outer periphery and a concave portion at the center surrounded by the convex portion is held on the holding surface, and the holding surface Alternatively, the cleaning water may be stored in the concave portion.
基板を保持する保持面を有する保持テーブルと、保持テーブルに保持された基板に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、保持テーブルの外周を囲繞するカバーと、を少なくとも備える洗浄装置のカバーの内壁を洗浄する本発明に係る洗浄方法は、保持面に洗浄水供給ノズルによって洗浄水を供給し、保持面の上に洗浄水を溜める貯留ステップと、保持テーブルを回転させながら貯留ステップにおいて保持テーブルの上に溜まった洗浄水をカバーの内壁に向けて飛ばす放出ステップと、放出ステップの実施後に、保持テーブルを回転させながら回転による風圧によってカバーの内壁に付着した洗浄水を除去する除去ステップと、を備えることで、カバーの内壁の汚れをより効果的に洗浄除去できる。即ち、従来とは異なり、一度保持テーブルの保持面に洗浄水を溜めた後、放出ステップで保持テーブルの回転によって洗浄水を径方向外側に向かって細かな噴霧ではなく大粒の水滴として放出するので、該水滴状で水量の多い洗浄水がカバーの内壁に打ち付けられて、汚れをより効果的に内壁から除去しやすく(剥がれやすく)する。その後、除去ステップにおいて、保持テーブルの回転による風圧で、内壁に付着した汚れを含む洗浄水を吹き飛ばして除去することで、汚れが洗浄水と共に流れ落ち、内壁に汚れが付着していない状態にすることが可能となる。
また、洗浄装置は、少なくとも保持テーブルの回転を制御する制御ユニットを備え、制御ユニットは、放出ステップで洗浄水がカバーの内壁に衝突する高さと、保持テーブルの回転速度と、の相関データを記憶する記憶部を有し、本発明に係るカバーの洗浄方法では、制御ユニットによって、放出ステップにおいて、相関データに基づき、内壁の所望する高さに洗浄水が衝突するように保持テーブルの回転速度を制御することで、内壁の汚れている狙いの領域を集中的に効果的に洗浄することができる。
例えば、貯留ステップにおいて、保持面に、開口を有する環状フレームの開口を塞ぐようにシートが接着されて構成されたフレームユニットを保持することで、保持面に代えて、開口に対応するシートの上により効率よく洗浄水を溜めることが可能となる。
また、貯留ステップにおいて、保持面に、外周に凸部と、中央に凸部に囲繞された凹部と、を備える容器を保持テーブルの保持面で保持することで、保持面に代えて、凹部により効率よく洗浄水を溜めることが可能となる。
An inner wall of a cover of a cleaning apparatus comprising at least a holding table having a holding surface for holding a substrate, a cleaning water supply nozzle supplying cleaning water to the substrate held by the holding table, and a cover surrounding the outer circumference of the holding table. The cleaning method according to the present invention for cleaning the holding surface comprises a step of supplying cleaning water to the holding surface by a cleaning water supply nozzle and pooling the cleaning water on the holding surface; A discharging step of blowing the washing water accumulated on the top toward the inner wall of the cover, and a removing step of removing the washing water adhering to the inner wall of the cover by wind pressure caused by the rotation while rotating the holding table after the discharging step. By providing it, dirt on the inner wall of the cover can be washed and removed more effectively. In other words, unlike the conventional apparatus, after washing water is once stored on the holding surface of the holding table, the washing water is discharged radially outward as large droplets instead of fine sprays by rotating the holding table in the discharging step. The droplet-shaped washing water with a large amount of water hits the inner wall of the cover, so that the dirt can be more effectively removed from the inner wall (easily peeled off). After that, in the removing step, the cleaning water containing the dirt adhering to the inner wall is blown off and removed by the wind pressure caused by the rotation of the holding table, so that the dirt flows down together with the cleaning water, leaving no dirt on the inner wall. becomes possible.
Also, the washing apparatus comprises a control unit for controlling at least the rotation of the holding table, and the control unit stores correlation data between the height at which washing water collides with the inner wall of the cover in the discharging step and the rotational speed of the holding table. In the cover cleaning method according to the present invention, the control unit controls the rotational speed of the holding table in the discharge step based on the correlation data so that the cleaning water collides with the desired height of the inner wall. The control allows intensive and effective cleaning of the dirty targeted areas of the inner wall.
For example, in the storing step, by holding a frame unit configured by bonding a sheet to the holding surface so as to close the opening of the annular frame having the opening, instead of the holding surface, the sheet corresponding to the opening is held. Therefore, it is possible to store washing water efficiently.
Further, in the storing step, the holding surface of the holding table holds the container provided with the convex portion on the outer periphery and the concave portion surrounded by the convex portion in the center. Washing water can be stored efficiently.
図1に示す洗浄装置3は、例えば、保持テーブル30に保持された基板19に対して洗浄水を供給して、基板19を洗浄する枚葉式の洗浄装置である。なお、洗浄装置3は、例えば研削装置や切削装置等の加工装置に組み込まれていてもよいし、それ単独で用いられてもよい。
The
図1に示す基板19は、例えば、円形板状のシリコン半導体ウェーハであり、基板19の上側を向いた状態の表面190には、分割予定ライン191によって区画された格子状の領域にデバイス192が形成されている。例えば、基板19の裏面193はシート198の貼着面(表面)に貼着されている。シート198の外周部は環状フレーム197に貼着されており、これにより、基板19は、シート198を介して環状フレーム197に支持され、環状フレーム197を用いたハンドリングが可能なワークセット199となっている。環状フレーム197の中心と基板19の中心とは略合致した状態になっている。なお、基板19は上記例に限定されるものではなく、ワークセット199となっておらず基板単体であってもよく、シリコン以外にガリウムヒ素、サファイア、窒化ガリウム、樹脂、セラミックス、又はシリコンカーバイド等で構成されていてもよいし、デバイスが形成されていない基板であってもよいし、パッケージ基板等でもよい。
The
図1に示す洗浄装置3は、例えば、基板19を保持する保持面302を有する保持テーブル30と、保持テーブル30を回転させる回転機構32と、上端側に円形の開口を備えた有底円筒状のカバー34と、基板19に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル35と、を備えている。
The
保持テーブル30は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材等からなりワークセット199を吸着する吸着部300と、吸着部300を支持する枠体301とを備える。吸着部300は図示しない吸引源に連通し、吸引源が吸引することで生み出された吸引力が、吸着部300の露出面であり枠体301の上面と面一に形成された保持面302に伝達されることで、保持テーブル30は保持面302上で基板19を吸引保持することができる。また、枠体301の周囲には、環状フレーム197を固定する固定クランプ304が例えば4つ均等に配設されている。固定クランプ304は、例えば、振り子式の固定クランプであり、保持テーブル30の回転が始まることで、錘が遠心力を受けてクランプ板が環状フレーム197を挟み込む構成となっている。なお、固定クランプ304は、バネ式のメカニカルクランプであってもよい。
The holding table 30 has, for example, a circular outer shape, and includes a
保持テーブル30の下側に配設された回転機構32は、保持テーブル30の底面側に上端が固定され鉛直方向(Z軸方向)の軸心周りに回転可能なスピンドル320と、モータ等で構成されスピンドル320の下端側に連結する回転駆動源321とを少なくとも備えている。回転駆動源321がスピンドル320を回転させることで、スピンドル320に固定された保持テーブル30も回転する。回転駆動源321は、エアシリンダ等からなる昇降ユニット322によって上下方向に移動可能に支持されている。昇降ユニット322は、回転駆動源321を上昇させることで保持テーブル30を上昇させて、保持テーブル30を基板19の搬入・搬出高さ位置に位置付け、また、回転駆動源321を下降させることで基板19を保持した状態の保持テーブル30を下降させて、保持テーブル30をカバー34内における洗浄作業高さ位置に位置付ける。
The
保持テーブル30は、保持テーブル30の外周を囲繞するカバー34の内部空間に収容されている。なお、図1においては、カバー34の外側板340等の一部を切欠いて内部が把握できるように示している。カバー34は、保持テーブル30を囲繞する外側板340と、外側板340の下部に一体的に連接し中央にスピンドル320が挿通される開口を有する底板341と、底板341の開口の内周縁から立設する内側板342とから構成されている。カバー34は、底板341に一端が固定された脚部343により支持されている。底板341には、排出口349が厚み方向に貫通形成されており、排出口349には、保持テーブル30の保持面302上からカバー34内に流下した汚れを含んだ洗浄水をカバー34の外部に排出するホース346が接続されている。
The holding table 30 is housed in the inner space of a
図1、図2に示すように、保持テーブル30の下面とカバー34の内側板342の上端面との間には、スピンドル320に挿嵌された円形状のスカートカバー344が配設されており、保持テーブル30をカバー34内における作業高さ位置に位置付けると、スカートカバー344の外周縁から-Z方向に向かって垂下するスカートカバー344が、内側板342の周囲を囲んだ状態になる。スカートカバー344は、スピンドル320と底板341の開口との隙間に、保持テーブル30の保持面302上から流下する汚れを含んだ洗浄水を入り込ませないようにしている。
As shown in FIGS. 1 and 2, between the lower surface of the holding table 30 and the upper end surface of the
図1に示すように、カバー34内には、保持面302で吸引保持された基板19の表面190に洗浄水を噴射する洗浄水供給ノズル35と、保持面302で吸引保持された基板19の表面190にエアを噴射するエア噴射ノズル37とが配設されている。洗浄水供給ノズル35及びエア噴射ノズル37は、例えばカバー34の底板341から立設しており、外形が側面視略L字状となっており、それぞれの先端部分に形成された噴射口が保持テーブル30の保持面302に向かって開口している。両ノズルは、Z軸方向の軸心周りに旋回可能となっており、保持テーブル30の上方から退避位置までそれぞれの噴射口を移動することができる。洗浄水供給ノズル35は、純水等の洗浄水を送出可能なポンプ等からなる洗浄水供給源350に連通している。また、エア噴射ノズル37は、圧縮エアを送出可能なコンプレッサー等からなるエア供給源370に連通している。
As shown in FIG. 1, the
図1に示すように、洗浄装置3は、少なくとも保持テーブル30の回転を制御する制御ユニット9を備えており、制御ユニット9は、制御プログラムに従って演算処理するCPU及びメモリ等の記憶部91等から構成されている。制御ユニット9は、例えば有線又は無線の通信経路を介して、回転機構32のモータ等で構成される回転駆動源321に電気的に接続されている。
回転駆動源321は、例えば、サーボモータであり、サーボアンプとしての機能も有する制御ユニット9の出力インターフェイスから回転駆動源321に対して動作信号が供給されることによってスピンドル320が回転し、エンコーダが認識した保持テーブル30の回転速度をエンコーダ信号として制御ユニット9の入力インターフェイスに対して出力する。そして、該エンコーダ信号を受けた制御ユニット9は、保持テーブル30の回転速度を所望の回転速度にするフィードバック制御を行うことができる。
As shown in FIG. 1, the
The
以下に、図1に示す洗浄装置3により基板19を洗浄する場合について説明する。
ワークセット199が、保持テーブル30の上方に搬送され、ワークセット199の中心が保持テーブル30の保持面302の中心におおよそ合致するようにして、保持面302に載置される。図示しない吸引源が生み出す吸引力が保持テーブル30の保持面302上に伝達されることで、保持テーブル30がワークセット199を吸引保持する。
そして、ワークセット199を吸引保持する保持テーブル30が、昇降ユニット322によってカバー34内における洗浄作業高さ位置(例えば、最下高さ位置)まで下降する。
A case of cleaning the
A work set 199 is conveyed above the holding table 30 and placed on the holding
Then, the holding table 30 sucking and holding the work set 199 is lowered by the
次いで、洗浄水供給ノズル35が旋回移動し、洗浄水供給ノズル35の噴射口が保持テーブル30により吸引保持された基板19の表面190の中央領域上方に位置付けられる。そして、洗浄水供給ノズル35の噴射口から基板19の表面190の中心部に向かって洗浄水(例えば、純水)が噴射される。さらに、洗浄水を噴射する洗浄水供給ノズル35が、基板19の上方をZ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。また、保持テーブル30が所定の回転速度で回転することで、基板19の表面190全面に洗浄水供給ノズル35から洗浄水が噴射される。
Next, the cleaning
これにより、基板19が洗浄され、保持テーブル30の回転により発生する遠心力によって、洗浄水が、基板19の表面190上を中心側から外周側に向けて流れていき、保持テーブル30上からカバー34の底板341へと流下する。洗浄水によって所定時間基板19の洗浄が行われた後、洗浄水供給ノズル35からの洗浄水の噴射が止められる。次いで、エア噴射ノズル37の噴射口から基板19の表面190の中心部に向かってエアが噴射される。さらに、エアを噴射するエア噴射ノズル37が、基板19の上方をZ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。さらに、回転機構32が保持テーブル30を所定の回転速度で回転させることによって、基板19の表面190全面がエアブローにより乾燥される。そして、基板19の乾燥が完了すると、エア噴射ノズル37が保持テーブル30上から旋回移動して退避し、ワークセット199が保持テーブル30から搬出される。
As a result, the
上記のように、例えば基板19を複数枚連続して洗浄することで、保持テーブル30の回転等によって飛散する汚れを含んだ洗浄水が、カバー34の外側板340の内壁348に付着した場合を想定する。
そこで、以下に、図1に示す洗浄装置3において、カバー34の内壁348を洗浄する場合の洗浄装置3の各構成の動作を、本発明に係る洗浄方法の各工程と共に説明する。
As described above, for example, by cleaning a plurality of
Therefore, in the
(1)貯留ステップ
まず、本実施形態においては、図2に示すように、保持テーブル30の保持面302に、環状フレーム197の開口を塞ぐようにシート198が接着されて構成されたフレームユニット196に洗浄水供給ノズル35によって洗浄水を供給し、環状フレーム197の開口に対応するシート198の上に洗浄水を溜める貯留ステップを実施する。なお、洗浄水は、保持テーブル30の保持面302に直に溜めてもよいが、保持面302は完全には水平ではないため洗浄水が流れ落ちてしまう恐れや、表面張力による貯留できる容量が限られるため、フレームユニット196を用いると環状フレーム197により溜められる洗浄水の量を増やせるため好ましい。
(1) Storing Step First, in the present embodiment, as shown in FIG. The cleaning water is supplied from the cleaning
フレームユニット196は、図1に示すワークセット199の基板19がシート198に貼着されていない構成となっている。なお、シート198は、糊層を備える粘着テープであってもよい。また、シート198は、例えば、ポリエステル系の樹脂シートである。ポリエステル系のシート198は、ジカルボン酸(2つのカルボキシル基を有する化合物)と、ジオール(2つのヒドロキシル基を有する化合物)と、をモノマーとして合成されるポリマーのシートである。このポリエステル系のシート198は、糊層を備えないため室温では環状フレーム197に接着できない。しかしながら、ポリエステル系のシート198は熱可塑性を有するため、所定の圧力を印加し押圧しながら環状フレーム197と接合させた状態で融点近傍の温度まで加熱すると、部分的に溶融して環状フレーム197に接着できる。なお、シート198は、糊層を備えないが熱接着可能なポリオレフィンシートやポリスチレンシートであってもよい。
The
フレームユニット196の中心が保持テーブル30の保持面302の中心におおよそ合致するようにして、保持面302に載置され、保持テーブル30がフレームユニット196を吸引保持する。そして、フレームユニット196を吸引保持する保持テーブル30が、昇降ユニット322(図2には不図示)によってカバー34内における例えば最下高さ位置まで下降する。
The
洗浄水供給ノズル35が旋回移動し、洗浄水供給ノズル35の噴射口が保持テーブル30により吸引保持されたフレームユニット196の開口の中央領域上方に位置付けられる。そして、洗浄水供給ノズル35の噴射口からフレームユニット196の開口に対応するシート198上に向かって洗浄水356が滴下される。また、保持テーブル30が所定の回転速度で回転する。なお、保持テーブル30は回転せずに停止していてもよい。
保持テーブル30は、例えば、後述する放出ステップ及び除去ステップにおける保持テーブル30の回転速度よりも低速で回転しており、保持テーブル30の回転速度は、制御ユニット9によって、遠心力によって洗浄水356がフレームユニット196の開口に対応するシート198上から飛び散ってしまわない程度の回転速度に制御されている。貯留ステップにおいて、保持テーブル30をこのように低速で回転させるのは、保持面302が完全には水平となっていないため、保持面302に吸引保持されたフレームユニット196の開口に対応するシート198上により均等に洗浄水356を貯留するためである。
The cleansing
The holding table 30 rotates, for example, at a lower speed than the rotation speed of the holding table 30 in the later-described discharge step and removal step. The rotational speed is controlled to such an extent that the
所定時間、洗浄水供給ノズル35の噴射口からシート198上に向かって洗浄水356が滴下されることで、洗浄水356がシート198上に、環状フレーム197及び表面張力によって所定量貯留したら、貯留ステップを完了する。なお、貯留ステップを完了した後も、洗浄水供給ノズル35は、保持面302上のシート198に対して洗浄水356の供給を続ける。
フレームユニット196を用いずに、保持面302に直に洗浄水356を貯留する場合には、所定時間、洗浄水供給ノズル35の噴射口から低速で回転する保持面302上に向かって洗浄水356が滴下されることで、洗浄水356が保持面302上に表面張力によって所定量貯留したら、貯留ステップを完了する。なお、貯留ステップを完了した後も、洗浄水供給ノズル35は、保持面302に対して洗浄水356の供給を続ける。
When the
(2)放出ステップ
貯留ステップが完了することで、所定量の洗浄水356がフレームユニット196のシート198上に溜まっており、そして、図3に示すように、保持テーブル30の回転速度が制御ユニット9による回転機構32の制御の下で貯留ステップよりも速められる。その結果、貯留ステップにおいて保持テーブル30上のフレームユニット196のシート198上に溜まった洗浄水356が、遠心力によってカバー34の外側板340の内壁348に向けて大粒の水滴となって放出される。
(2) Discharging Step By completing the storing step, a predetermined amount of
従来は、洗浄水供給ノズルから供給された洗浄水が、高速回転する保持テーブルの保持面に衝突して、衝突により飛散して噴霧化していたが、本発明に係る洗浄方法では、水膜を形成するようにしてフレームユニット196のシート198上、又は保持テーブル30の保持面302上に貯留されている洗浄水356が、遠心力によって放出されるので、噴霧化せず、従来よりも水滴の径が大きく、水量も多い水滴状の洗浄水356が内壁348に衝突する。そのため、内壁348に付着していた加工屑等の汚れが衝撃を受けて、内壁348から剥がれ落ちて内壁348に付着した洗浄水356に含まれる状態になる。
なお、洗浄水356は放出ステップの実施中も、洗浄水供給ノズル35からシート198上に向かって供給され続ける。
Conventionally, the cleaning water supplied from the cleaning water supply nozzle collides with the holding surface of the holding table rotating at high speed and is scattered and atomized by the collision. Since the cleaning
The cleaning
例えば、制御ユニット9の記憶部91には、放出ステップで洗浄水356がカバー34の内壁348に衝突する高さと、保持テーブル30の回転速度と、の図4に示す相関データ99が予め記憶されている。相関データ99は、過去に行った実験等から、実験的、経験的、又は理論的に得られたデータである。なお、相関データ99として、保持テーブル30の回転速度と洗浄水356の衝突する高さとの対応関係を示すテーブル形式のデータを用いたが、グラフ形式のデータを用いてもよい。なお、相関データ99は、洗浄水356の内壁348に衝突する高さを、保持面302を0度基準として遠心力で飛散する洗浄水356の水滴の斜め上方に飛散する角度で間接的に表示しているが、これに限定されるものではない。また、本実施形態のようにフレームユニット196のシート198上に洗浄水356を貯留した場合にも、相関データ99はそのまま使用できる。シート198は非常に薄いため、その厚みを無視しても問題が無いためである。また、シート198として厚みが厚いシートを用いる場合には、該シートの厚みを相関データ99の上記角度に補正値として加えた角度を適切な角度として認定してもよい。
For example, the
本実施形態における放出ステップにおいては、制御ユニット9によって、相関データ99に基づき、カバー34の内壁348の所望する高さに遠心力で放出される洗浄水356が衝突するように保持テーブル30の回転速度を制御する。即ち、例えば、相関データ99に示す通り、最下高さ位置に位置付けされた保持テーブル30の保持面302を0度基準に斜め上方に向かって傾きが15度の仮想線L1がぶつかる高さ位置の特に汚れが多く付着している内壁348に、洗浄水356の水滴を衝突させる場合には、相関データ99を参照した制御ユニット9により、保持テーブル30の回転速度制御が行われ、保持テーブル30の回転速度が1000rpmに設定される。その結果、保持面302を0度基準として環状フレーム197の開口に対応するシート198の外周領域から斜め上方に向かって傾きが15度の仮想線L1がぶつかる高さ位置の内壁348に向かって、洗浄水356の水滴が飛んでいき衝突する。
なお、保持テーブル30を低速で回転させれば、より低い高さ位置の内壁348に洗浄水356の水滴を衝突させることができ、保持テーブル30をより高速で回転させれば、より高い高さ位置の内壁348に洗浄水356の水滴を衝突させることができる。
In the discharging step in this embodiment, the
If the holding table 30 is rotated at a low speed, the water droplets of the cleaning
上記のように、保持テーブル30の回転速度を制御しながら、放出ステップを所定時間実施することで、フレームユニット196のシート198上に貯留していた洗浄水356が無くなり、保持テーブル30に吸引保持されたフレームユニット196のシート198に衝突して従来と同じように噴霧化した洗浄水356による内壁348の洗浄へと移行するため、一度放出ステップを完了する。
As described above, by performing the discharging step for a predetermined time while controlling the rotational speed of the holding table 30, the cleaning
(3)除去ステップ
次いで、放出ステップの実施後に、保持テーブル30を回転させながら回転による保持テーブル30が生み出す風圧によってカバー34の内壁348に付着した汚れを含んだ洗浄水356を除去する除去ステップを実施する。
まず、図5に示すように、洗浄水供給ノズル35によるシート198上に対する洗浄水356の供給が停止される。そして、例えば、制御ユニット9による回転制御の下で、保持テーブル30が放出ステップにおける回転速度よりもさらに高速で回転して、保持テーブル30からカバー34の内壁348に向かう風308が発生する。該風308の風圧によって、内壁348に付着した汚れを含んだ洗浄水356が内壁348から押し流されて、カバー34の底板341へと流下する。即ち、洗浄水356と共に内壁348から離れた異物や汚れが押し流される。なお、風308が内壁348の上側の領域に衝突するようにして、内壁348に沿って底板341に向かって流れるように、保持テーブル30が高速で回転すると好ましい。また除去ステップにおける保持テーブル30の回転速度は、カバー34の内壁348に付着した洗浄水を流せる風圧が発生すれば、放出ステップと同じまたは放出ステップより遅くても良い。
(3) Removal step Next, after the discharge step is performed, a removal step is performed in which the holding table 30 is rotated and the cleaning
First, as shown in FIG. 5, the supply of the
所定時間上記のように、保持テーブル30を高速回転させながら、除去ステップを実施した後、一度除去ステップを完了する。上記のような、貯留ステップ、放出ステップ、及び除去ステップを1サイクル完了させても、内壁348の汚れを除去しきれない場合があるため、例えば、貯留ステップと、放出ステップと、除去ステップと、を所定回数繰り返すと好ましい。
After performing the removing step while rotating the holding table 30 at high speed as described above for a predetermined time, the removing step is once completed. Even if one cycle of the storage step, the release step, and the removal step as described above is completed, the dirt on the
上記のように、基板19を保持する保持面302を有する保持テーブル30と、保持テーブル30に保持された基板19に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル35と、保持テーブル30の外周を囲繞するカバー34と、を少なくとも備える洗浄装置3のカバー34の内壁348を洗浄する本発明に係る洗浄方法、保持面302に洗浄水供給ノズル35によって洗浄水356を供給し、保持面302の上に洗浄水356を溜める貯留ステップと、保持テーブル30を回転させながら貯留ステップにおいて保持テーブル30の上に溜まった洗浄水356をカバー34の内壁348に向けて飛ばす放出ステップと、放出ステップの実施後に、保持テーブル30を回転させながら回転による風圧によってカバー34の内壁348に付着した洗浄水356を除去する除去ステップと、を備えることで、カバー34の内壁348の汚れをより効果的に洗浄除去できる。即ち、従来とは異なり、一度保持テーブル30の保持面302に洗浄水356を溜めた後、放出ステップで保持テーブル30の回転によって洗浄水356を径方向外側に向かって細かな噴霧ではなく大粒の水滴として放出するので、該水滴状の洗浄水356がカバー34の内壁348に打ち付けられて、汚れをより効果的に内壁348から除去しやすく(離れやすく)する。その後、除去ステップにおいて、保持テーブル30の回転により発生する風圧で、内壁348に付着した汚れを含む洗浄水356を吹き飛ばして除去することで、内壁348に汚れが付着していない状態にすることが可能となる。
As described above, the holding table 30 having the holding
また、洗浄装置3は、少なくとも保持テーブル30の回転を制御する制御ユニット9を備え、制御ユニット9は、放出ステップで洗浄水356がカバー34の内壁348に衝突する高さと、保持テーブル30の回転速度と、の相関データ99を記憶する記憶部91を有し、本発明に係るカバー34の洗浄方法では、制御ユニット9によって、放出ステップにおいて、相関データ99に基づき、内壁348の所望する高さに洗浄水356が衝突するように保持テーブル30の回転速度を制御することで、内壁348の汚れている領域をより効果的に集中して水滴状の洗浄水356で洗浄することができる。
The
例えば、本実施形態のように、貯留ステップにおいて、保持面302に、開口を有する環状フレーム197の開口を塞ぐようにシート198が接着されて構成されたフレームユニット196を保持することで、保持面302に代えて、開口に対応するシート198の上により効率よく洗浄水356を溜めることが可能となる。
For example, as in the present embodiment, in the storing step, the holding
本発明に係る洗浄方法の各工程は上記実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。また、使用する洗浄装置3の構成も、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
It goes without saying that each step of the cleaning method according to the present invention is not limited to the above embodiment, and may be implemented in various forms within the scope of the technical idea. Also, the configuration of the
例えば、貯留ステップと、放出ステップと、除去ステップとを実施する場合に、図6に示す外周に凸部40と、中央に凸部40に囲繞された凹部41と、を備える容器4、即ち、例えば、薄い平面視円形の皿状の容器4を、保持テーブル30の保持面302で吸引保持することで、凸部の高さを貯留したい容量に合わせて形成し、貯留ステップにおいて凹部41により効率よく洗浄水を溜められるようにしてもよい。
なお貯留ステップにおいては、洗浄水を貯留できれば洗浄水供給ノズル35は旋回移動せず、停止していてもよい。放出ステップ時においても、洗浄水は洗浄水供給ノズル35から洗浄水をシート198上または凹部41上に洗浄水を供給できていれば洗浄水供給ノズル35が旋回移動していても停止していてもよい。
For example, when performing the storing step, the discharging step, and the removing step, a
In addition, in the storing step, the cleaning
19:基板 199:ワークセット 196:フレームユニット
3:洗浄装置
30:保持テーブル 302:保持面 304:固定クランプ
32:回転機構 322:昇降ユニット
34:カバー
35:洗浄水供給ノズル 37:エア噴射ノズル
9:制御ユニット 91:記憶部 99:相関データ
19: Substrate 199: Work set 196: Frame unit 3: Cleaning device
30: Holding table 302: Holding surface 304: Fixing clamp 32: Rotation mechanism 322: Lifting unit 34: Cover
35: Cleaning water supply nozzle 37: Air injection nozzle 9: Control unit 91: Storage unit 99: Correlation data
Claims (5)
該保持面に該洗浄水供給ノズルによって該洗浄水を供給し、該保持面の上に該洗浄水を溜める貯留ステップと、
該保持テーブルを回転させながら該貯留ステップにおいて該保持テーブルの上に溜まった該洗浄水を該カバーの該内壁に向けて飛ばす放出ステップと、
該放出ステップの実施後に、該保持テーブルを回転させながら回転による風圧によって該カバーの該内壁に付着した該洗浄水を除去する除去ステップと、を備える事を特徴とする、カバーの洗浄方法。 A cleaning apparatus comprising at least a holding table having a holding surface for holding a substrate, a cleaning water supply nozzle supplying cleaning water to the substrate held on the holding table, and a cover surrounding the outer circumference of the holding table. A cleaning method for cleaning the inner wall of a cover, comprising:
a storing step of supplying the washing water to the holding surface by the washing water supply nozzle and storing the washing water on the holding surface;
a discharging step of blowing the wash water accumulated on the holding table in the storing step toward the inner wall of the cover while rotating the holding table;
a removing step of removing the washing water adhering to the inner wall of the cover by wind pressure caused by the rotation while rotating the holding table after performing the discharging step.
該制御ユニットは、前記放出ステップで前記洗浄水が前記カバーの前記内壁に衝突する高さと、該保持テーブルの回転速度と、の相関データを記憶する記憶部を有し、
該制御ユニットによって、該放出ステップにおいて、該相関データに基づき、該内壁の所望する高さに該洗浄水が衝突するように該保持テーブルの回転速度を制御する事を特徴とする請求項1、又は請求項2に記載のカバーの洗浄方法。 The cleaning device comprises a control unit that controls at least the rotation of the holding table,
The control unit has a storage section for storing correlation data between a height at which the washing water collides with the inner wall of the cover in the discharging step and a rotation speed of the holding table,
2. The control unit controls the rotation speed of the holding table in the discharge step based on the correlation data so that the washing water collides with the inner wall at a desired height. Or the cleaning method of the cover according to claim 2.
前記保持面に、外周に凸部と、中央に該凸部に囲繞された凹部と、を備える容器を保持し、
該保持面に代えて、該凹部に前記洗浄水を溜める事を特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3に記載のカバーの洗浄方法。 In the storing step,
holding a container provided with a convex portion on the outer periphery and a concave portion surrounded by the convex portion in the center on the holding surface;
4. A method of cleaning a cover according to claim 1, wherein said cleaning water is stored in said concave portion instead of said holding surface.
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