JP2023026818A - Cleaning method of cover - Google Patents

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Abstract

To effectively clean and remove fouling on an inner wall in the case of cleaning the inner wall of a cover of a cleaning device.SOLUTION: A method of cleaning an inner wall 348 of a cover 34 of a cleaning device 3, comprises at least: a table 30 including a holding surface 302 that holds a substrate 19; a cleaning water supply nozzle 35 that supplies a cleaning water 356 to the substrate 19 held by the table 30; and the cover 34 that surrounds an outer periphery of the table 30. The method includes: a step of supply the cleaning water 356 by the cleaning water supply nozzle 35 to the holding surface 302 and accumulating the cleaning water 356 onto the holding surface 302; a step of splashing the cleaning water 356 accumulated onto the table 30 in the accumulation step to the inner wall 348 of the cover 34 while rotating the table 30; and a step of removing the cleaning water 356 attached to the inner wall 348 of the cover 34 by a wind pressure by the rotation while rotating the table 30 after the execution of a discharge step.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、洗浄装置のカバーの内壁を洗浄するカバーの洗浄方法に関する。 The present invention relates to a cover cleaning method for cleaning the inner wall of a cover of a cleaning device.

半導体基板の洗浄には、保持テーブルに保持された基板に洗浄水を供給しながら保持テーブルを回転させる事で、基板を洗浄する洗浄装置が用いられている(例えば、特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art For cleaning a semiconductor substrate, a cleaning apparatus is used that cleans the substrate by rotating the holding table while supplying cleaning water to the substrate held on the holding table (see, for example, Patent Document 1).

特開2012-015347号公報JP 2012-015347 A

洗浄装置の洗浄空間は、円筒状のカバーによって囲繞されているが、洗浄水が飛散するため、カバーの内壁は洗浄によって除去された異物が付着し汚れ、内壁に付着した汚れが基板に落下して、基板を再び汚染するおそれがあった。 The cleaning space of the cleaning equipment is surrounded by a cylindrical cover, but because the cleaning water scatters, the inner wall of the cover is stained with foreign substances removed by cleaning, and the dirt adhering to the inner wall falls onto the substrate. There is a risk that the substrate will be contaminated again.

そして、従来、カバーの内壁を洗浄する洗浄方法は、カバー内に配置された保持テーブルを一定速度で回転させながら、洗浄水を保持テーブルの上面に供給して洗浄水を霧化して拡散させることで、カバーの内壁を濡らす方法が一般的であった。しかし、洗浄水が霧化しているため、カバーに当たる水滴の径が小さくなり衝突箇所における水量が少なく、洗浄力が弱いという問題があった。 Conventionally, the cleaning method for cleaning the inner wall of the cover is to supply cleaning water to the upper surface of the holding table arranged in the cover while rotating the holding table at a constant speed to atomize and spread the cleaning water. A common method is to wet the inner wall of the cover. However, since the cleansing water is atomized, the diameter of the water droplets hitting the cover becomes small, and the amount of water at the collision point is small, resulting in a weak cleansing power.

よって、洗浄装置のカバーの内壁を洗浄する場合には、内壁の汚れをより効果的に洗浄除去するという課題がある。 Therefore, when cleaning the inner wall of the cover of the cleaning device, there is a problem of more effectively cleaning and removing dirt from the inner wall.

基板を保持する保持面を有する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された基板に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該保持テーブルの外周を囲繞するカバーと、を少なくとも備える洗浄装置の該カバーの内壁を洗浄する洗浄方法であって、該保持面に該洗浄水供給ノズルによって該洗浄水を供給し、該保持面の上に該洗浄水を溜める貯留ステップと、該保持テーブルを回転させながら該貯留ステップにおいて該保持テーブルの上に溜まった該洗浄水を該カバーの該内壁に向けて飛ばす放出ステップと、該放出ステップの実施後に、該保持テーブルを回転させながら回転による風圧によって該カバーの該内壁に付着した該洗浄水を除去する除去ステップと、を備える事を特徴とする、カバーの洗浄方法である。
また、本発明に係るカバーの洗浄方法においては、前記貯留ステップと、前記放出ステップと、前記除去ステップと、を所定回数繰り返すと好ましい。
また、前記洗浄装置は、少なくとも前記保持テーブルの回転を制御する制御ユニットを備え、該制御ユニットは、前記放出ステップで前記洗浄水が前記カバーの前記内壁に衝突する高さと、該保持テーブルの回転速度と、の相関データを記憶する記憶部を有し、本発明に係るカバーの洗浄方法では、該制御ユニットによって、該放出ステップにおいて、該相関データに基づき、該内壁の所望する高さに該洗浄水が衝突するように該保持テーブルの回転速度を制御すると好ましい。
また、本発明に係るカバーの洗浄方法では、前記貯留ステップにおいて、前記保持面に、開口を有する環状フレームの該開口を塞ぐようにシートが接着されて構成されたフレームユニットを保持し、該保持面に代えて、該開口に対応する該シートの上に前記洗浄水を溜めてもよい。
また、本発明に係るカバーの洗浄方法では、前記貯留ステップにおいて、前記保持面に、外周に凸部と、中央に該凸部に囲繞された凹部と、を備える容器を保持し、該保持面に代えて、該凹部に前記洗浄水を溜めてもよい。
A cleaning apparatus comprising at least a holding table having a holding surface for holding a substrate, a cleaning water supply nozzle supplying cleaning water to the substrate held on the holding table, and a cover surrounding the outer circumference of the holding table. A cleaning method for cleaning the inner wall of a cover, comprising: a storing step of supplying the cleaning water to the holding surface by the cleaning water supply nozzle and storing the cleaning water on the holding surface; and rotating the holding table. a discharging step of blowing the wash water accumulated on the holding table in the storing step toward the inner wall of the cover; and a removing step of removing the cleaning water adhering to the inner wall of the cover.
Further, in the cover cleaning method according to the present invention, it is preferable to repeat the storing step, the discharging step, and the removing step a predetermined number of times.
Further, the cleaning apparatus includes a control unit for controlling at least the rotation of the holding table, the control unit controlling the height at which the cleaning water collides with the inner wall of the cover in the discharging step and the rotation of the holding table. In the method for cleaning a cover according to the present invention, in the discharging step, the speed and the speed are stored in a storage unit for storing the correlation data, and in the discharge step, the inner wall reaches the desired height based on the correlation data. It is preferable to control the rotation speed of the holding table so that the wash water impinges on it.
Further, in the cover cleaning method according to the present invention, in the storing step, a frame unit configured by bonding a sheet to an annular frame having an opening so as to cover the opening is held on the holding surface. Instead of the surface, the washing water may be accumulated on the sheet corresponding to the opening.
Further, in the cover cleaning method according to the present invention, in the storing step, a container having a convex portion on the outer periphery and a concave portion at the center surrounded by the convex portion is held on the holding surface, and the holding surface Alternatively, the cleaning water may be stored in the concave portion.

基板を保持する保持面を有する保持テーブルと、保持テーブルに保持された基板に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、保持テーブルの外周を囲繞するカバーと、を少なくとも備える洗浄装置のカバーの内壁を洗浄する本発明に係る洗浄方法は、保持面に洗浄水供給ノズルによって洗浄水を供給し、保持面の上に洗浄水を溜める貯留ステップと、保持テーブルを回転させながら貯留ステップにおいて保持テーブルの上に溜まった洗浄水をカバーの内壁に向けて飛ばす放出ステップと、放出ステップの実施後に、保持テーブルを回転させながら回転による風圧によってカバーの内壁に付着した洗浄水を除去する除去ステップと、を備えることで、カバーの内壁の汚れをより効果的に洗浄除去できる。即ち、従来とは異なり、一度保持テーブルの保持面に洗浄水を溜めた後、放出ステップで保持テーブルの回転によって洗浄水を径方向外側に向かって細かな噴霧ではなく大粒の水滴として放出するので、該水滴状で水量の多い洗浄水がカバーの内壁に打ち付けられて、汚れをより効果的に内壁から除去しやすく(剥がれやすく)する。その後、除去ステップにおいて、保持テーブルの回転による風圧で、内壁に付着した汚れを含む洗浄水を吹き飛ばして除去することで、汚れが洗浄水と共に流れ落ち、内壁に汚れが付着していない状態にすることが可能となる。
また、洗浄装置は、少なくとも保持テーブルの回転を制御する制御ユニットを備え、制御ユニットは、放出ステップで洗浄水がカバーの内壁に衝突する高さと、保持テーブルの回転速度と、の相関データを記憶する記憶部を有し、本発明に係るカバーの洗浄方法では、制御ユニットによって、放出ステップにおいて、相関データに基づき、内壁の所望する高さに洗浄水が衝突するように保持テーブルの回転速度を制御することで、内壁の汚れている狙いの領域を集中的に効果的に洗浄することができる。
例えば、貯留ステップにおいて、保持面に、開口を有する環状フレームの開口を塞ぐようにシートが接着されて構成されたフレームユニットを保持することで、保持面に代えて、開口に対応するシートの上により効率よく洗浄水を溜めることが可能となる。
また、貯留ステップにおいて、保持面に、外周に凸部と、中央に凸部に囲繞された凹部と、を備える容器を保持テーブルの保持面で保持することで、保持面に代えて、凹部により効率よく洗浄水を溜めることが可能となる。
An inner wall of a cover of a cleaning apparatus comprising at least a holding table having a holding surface for holding a substrate, a cleaning water supply nozzle supplying cleaning water to the substrate held by the holding table, and a cover surrounding the outer circumference of the holding table. The cleaning method according to the present invention for cleaning the holding surface comprises a step of supplying cleaning water to the holding surface by a cleaning water supply nozzle and pooling the cleaning water on the holding surface; A discharging step of blowing the washing water accumulated on the top toward the inner wall of the cover, and a removing step of removing the washing water adhering to the inner wall of the cover by wind pressure caused by the rotation while rotating the holding table after the discharging step. By providing it, dirt on the inner wall of the cover can be washed and removed more effectively. In other words, unlike the conventional apparatus, after washing water is once stored on the holding surface of the holding table, the washing water is discharged radially outward as large droplets instead of fine sprays by rotating the holding table in the discharging step. The droplet-shaped washing water with a large amount of water hits the inner wall of the cover, so that the dirt can be more effectively removed from the inner wall (easily peeled off). After that, in the removing step, the cleaning water containing the dirt adhering to the inner wall is blown off and removed by the wind pressure caused by the rotation of the holding table, so that the dirt flows down together with the cleaning water, leaving no dirt on the inner wall. becomes possible.
Also, the washing apparatus comprises a control unit for controlling at least the rotation of the holding table, and the control unit stores correlation data between the height at which washing water collides with the inner wall of the cover in the discharging step and the rotational speed of the holding table. In the cover cleaning method according to the present invention, the control unit controls the rotational speed of the holding table in the discharge step based on the correlation data so that the cleaning water collides with the desired height of the inner wall. The control allows intensive and effective cleaning of the dirty targeted areas of the inner wall.
For example, in the storing step, by holding a frame unit configured by bonding a sheet to the holding surface so as to close the opening of the annular frame having the opening, instead of the holding surface, the sheet corresponding to the opening is held. Therefore, it is possible to store washing water efficiently.
Further, in the storing step, the holding surface of the holding table holds the container provided with the convex portion on the outer periphery and the concave portion surrounded by the convex portion in the center. Washing water can be stored efficiently.

洗浄装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a washing|cleaning apparatus. 貯留ステップを実施している状態を説明する断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a state in which a storage step is being performed; 放出ステップを実施している状態を説明する断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a state in which a releasing step is being performed; 放出ステップで洗浄水がカバーの内壁に衝突する高さと、保持テーブルの回転速度と、の相関関係を示すテーブル形式の相関データの一例である。It is an example of correlation data in table format showing the correlation between the height at which wash water collides with the inner wall of the cover in the discharge step and the rotation speed of the holding table. 除去ステップを実施している状態を説明する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a state in which a removal step is being performed; 外周に凸部と、中央に凸部に囲繞された凹部と、を備える容器の一例を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing an example of a container having a convex portion on the outer periphery and a concave portion surrounded by the convex portion in the center.

図1に示す洗浄装置3は、例えば、保持テーブル30に保持された基板19に対して洗浄水を供給して、基板19を洗浄する枚葉式の洗浄装置である。なお、洗浄装置3は、例えば研削装置や切削装置等の加工装置に組み込まれていてもよいし、それ単独で用いられてもよい。 The cleaning apparatus 3 shown in FIG. 1 is, for example, a single substrate cleaning apparatus that supplies cleaning water to the substrate 19 held on the holding table 30 to clean the substrate 19 . In addition, the cleaning device 3 may be incorporated in a processing device such as a grinding device or a cutting device, or may be used alone.

図1に示す基板19は、例えば、円形板状のシリコン半導体ウェーハであり、基板19の上側を向いた状態の表面190には、分割予定ライン191によって区画された格子状の領域にデバイス192が形成されている。例えば、基板19の裏面193はシート198の貼着面(表面)に貼着されている。シート198の外周部は環状フレーム197に貼着されており、これにより、基板19は、シート198を介して環状フレーム197に支持され、環状フレーム197を用いたハンドリングが可能なワークセット199となっている。環状フレーム197の中心と基板19の中心とは略合致した状態になっている。なお、基板19は上記例に限定されるものではなく、ワークセット199となっておらず基板単体であってもよく、シリコン以外にガリウムヒ素、サファイア、窒化ガリウム、樹脂、セラミックス、又はシリコンカーバイド等で構成されていてもよいし、デバイスが形成されていない基板であってもよいし、パッケージ基板等でもよい。 The substrate 19 shown in FIG. 1 is, for example, a circular plate-shaped silicon semiconductor wafer, and devices 192 are arranged in grid-like regions partitioned by dividing lines 191 on a surface 190 of the substrate 19 facing upward. formed. For example, the back surface 193 of the substrate 19 is attached to the attachment surface (front surface) of the sheet 198 . The outer peripheral portion of the sheet 198 is attached to the annular frame 197, whereby the substrate 19 is supported by the annular frame 197 through the sheet 198, and becomes a work set 199 that can be handled using the annular frame 197. ing. The center of the annular frame 197 and the center of the substrate 19 are substantially aligned. The substrate 19 is not limited to the above example, and may be a single substrate instead of the work set 199. In addition to silicon, gallium arsenide, sapphire, gallium nitride, resin, ceramics, silicon carbide, or the like may be used. , a substrate on which no device is formed, a package substrate, or the like.

図1に示す洗浄装置3は、例えば、基板19を保持する保持面302を有する保持テーブル30と、保持テーブル30を回転させる回転機構32と、上端側に円形の開口を備えた有底円筒状のカバー34と、基板19に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル35と、を備えている。 The cleaning apparatus 3 shown in FIG. 1 includes, for example, a holding table 30 having a holding surface 302 for holding the substrate 19, a rotating mechanism 32 for rotating the holding table 30, and a bottomed cylindrical shape with a circular opening on the upper end side. and a cleaning water supply nozzle 35 for supplying cleaning water to the substrate 19 .

保持テーブル30は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材等からなりワークセット199を吸着する吸着部300と、吸着部300を支持する枠体301とを備える。吸着部300は図示しない吸引源に連通し、吸引源が吸引することで生み出された吸引力が、吸着部300の露出面であり枠体301の上面と面一に形成された保持面302に伝達されることで、保持テーブル30は保持面302上で基板19を吸引保持することができる。また、枠体301の周囲には、環状フレーム197を固定する固定クランプ304が例えば4つ均等に配設されている。固定クランプ304は、例えば、振り子式の固定クランプであり、保持テーブル30の回転が始まることで、錘が遠心力を受けてクランプ板が環状フレーム197を挟み込む構成となっている。なお、固定クランプ304は、バネ式のメカニカルクランプであってもよい。 The holding table 30 has, for example, a circular outer shape, and includes a suction unit 300 made of a porous member or the like to suck the work set 199 , and a frame 301 supporting the suction unit 300 . The suction unit 300 communicates with a suction source (not shown), and a suction force generated by suction by the suction source is applied to a holding surface 302 that is an exposed surface of the suction unit 300 and is formed flush with the upper surface of the frame 301 . By being transmitted, the holding table 30 can suction-hold the substrate 19 on the holding surface 302 . For example, four fixing clamps 304 for fixing the annular frame 197 are evenly arranged around the frame 301 . The fixed clamp 304 is, for example, a pendulum type fixed clamp, and when the holding table 30 starts to rotate, the weight receives centrifugal force and the clamp plates sandwich the annular frame 197 . Note that the fixed clamp 304 may be a spring-type mechanical clamp.

保持テーブル30の下側に配設された回転機構32は、保持テーブル30の底面側に上端が固定され鉛直方向(Z軸方向)の軸心周りに回転可能なスピンドル320と、モータ等で構成されスピンドル320の下端側に連結する回転駆動源321とを少なくとも備えている。回転駆動源321がスピンドル320を回転させることで、スピンドル320に固定された保持テーブル30も回転する。回転駆動源321は、エアシリンダ等からなる昇降ユニット322によって上下方向に移動可能に支持されている。昇降ユニット322は、回転駆動源321を上昇させることで保持テーブル30を上昇させて、保持テーブル30を基板19の搬入・搬出高さ位置に位置付け、また、回転駆動源321を下降させることで基板19を保持した状態の保持テーブル30を下降させて、保持テーブル30をカバー34内における洗浄作業高さ位置に位置付ける。 The rotating mechanism 32 arranged below the holding table 30 is composed of a spindle 320 whose upper end is fixed to the bottom surface of the holding table 30 and which can rotate around the axis in the vertical direction (Z-axis direction), a motor, and the like. and a rotary drive source 321 connected to the lower end side of the spindle 320 . As the rotation drive source 321 rotates the spindle 320, the holding table 30 fixed to the spindle 320 also rotates. The rotary drive source 321 is supported so as to be vertically movable by an elevating unit 322 such as an air cylinder. The elevating unit 322 lifts the rotary drive source 321 to raise the holding table 30 to position the holding table 30 at the loading/unloading height position of the substrate 19 , and lowers the rotary driving source 321 to lift the substrate. The holding table 30 holding the 19 is lowered to position the holding table 30 at the cleaning work height position within the cover 34 .

保持テーブル30は、保持テーブル30の外周を囲繞するカバー34の内部空間に収容されている。なお、図1においては、カバー34の外側板340等の一部を切欠いて内部が把握できるように示している。カバー34は、保持テーブル30を囲繞する外側板340と、外側板340の下部に一体的に連接し中央にスピンドル320が挿通される開口を有する底板341と、底板341の開口の内周縁から立設する内側板342とから構成されている。カバー34は、底板341に一端が固定された脚部343により支持されている。底板341には、排出口349が厚み方向に貫通形成されており、排出口349には、保持テーブル30の保持面302上からカバー34内に流下した汚れを含んだ洗浄水をカバー34の外部に排出するホース346が接続されている。 The holding table 30 is housed in the inner space of a cover 34 surrounding the outer circumference of the holding table 30 . In FIG. 1, the outer plate 340 and the like of the cover 34 are partially cut away so that the inside can be grasped. The cover 34 includes an outer plate 340 surrounding the holding table 30, a bottom plate 341 integrally connected to the lower portion of the outer plate 340 and having an opening in the center through which the spindle 320 is inserted, and an inner peripheral edge of the opening of the bottom plate 341. It is composed of an inner plate 342 provided. The cover 34 is supported by legs 343 having one end fixed to the bottom plate 341 . A discharge port 349 is formed through the bottom plate 341 in the thickness direction. A hose 346 is connected to discharge to.

図1、図2に示すように、保持テーブル30の下面とカバー34の内側板342の上端面との間には、スピンドル320に挿嵌された円形状のスカートカバー344が配設されており、保持テーブル30をカバー34内における作業高さ位置に位置付けると、スカートカバー344の外周縁から-Z方向に向かって垂下するスカートカバー344が、内側板342の周囲を囲んだ状態になる。スカートカバー344は、スピンドル320と底板341の開口との隙間に、保持テーブル30の保持面302上から流下する汚れを含んだ洗浄水を入り込ませないようにしている。 As shown in FIGS. 1 and 2, between the lower surface of the holding table 30 and the upper end surface of the inner plate 342 of the cover 34, a circular skirt cover 344 is inserted into the spindle 320. When the holding table 30 is positioned at the working height position within the cover 34 , the skirt cover 344 hanging from the outer peripheral edge of the skirt cover 344 in the −Z direction surrounds the inner plate 342 . The skirt cover 344 prevents dirt-laden wash water flowing down from the holding surface 302 of the holding table 30 from entering the gap between the spindle 320 and the opening of the bottom plate 341 .

図1に示すように、カバー34内には、保持面302で吸引保持された基板19の表面190に洗浄水を噴射する洗浄水供給ノズル35と、保持面302で吸引保持された基板19の表面190にエアを噴射するエア噴射ノズル37とが配設されている。洗浄水供給ノズル35及びエア噴射ノズル37は、例えばカバー34の底板341から立設しており、外形が側面視略L字状となっており、それぞれの先端部分に形成された噴射口が保持テーブル30の保持面302に向かって開口している。両ノズルは、Z軸方向の軸心周りに旋回可能となっており、保持テーブル30の上方から退避位置までそれぞれの噴射口を移動することができる。洗浄水供給ノズル35は、純水等の洗浄水を送出可能なポンプ等からなる洗浄水供給源350に連通している。また、エア噴射ノズル37は、圧縮エアを送出可能なコンプレッサー等からなるエア供給源370に連通している。 As shown in FIG. 1, the cover 34 contains a cleaning water supply nozzle 35 for spraying cleaning water onto the surface 190 of the substrate 19 sucked and held by the holding surface 302, and a substrate 19 sucked and held by the holding surface 302. An air injection nozzle 37 for injecting air onto the surface 190 is arranged. The cleaning water supply nozzle 35 and the air injection nozzle 37 are erected, for example, from the bottom plate 341 of the cover 34, and have a substantially L-shaped outer shape when viewed from the side. It opens toward the holding surface 302 of the table 30 . Both nozzles are rotatable around the axis in the Z-axis direction, and each injection port can be moved from above the holding table 30 to the retracted position. The cleaning water supply nozzle 35 communicates with a cleaning water supply source 350 such as a pump capable of delivering cleaning water such as pure water. Further, the air injection nozzle 37 communicates with an air supply source 370 such as a compressor capable of sending out compressed air.

図1に示すように、洗浄装置3は、少なくとも保持テーブル30の回転を制御する制御ユニット9を備えており、制御ユニット9は、制御プログラムに従って演算処理するCPU及びメモリ等の記憶部91等から構成されている。制御ユニット9は、例えば有線又は無線の通信経路を介して、回転機構32のモータ等で構成される回転駆動源321に電気的に接続されている。
回転駆動源321は、例えば、サーボモータであり、サーボアンプとしての機能も有する制御ユニット9の出力インターフェイスから回転駆動源321に対して動作信号が供給されることによってスピンドル320が回転し、エンコーダが認識した保持テーブル30の回転速度をエンコーダ信号として制御ユニット9の入力インターフェイスに対して出力する。そして、該エンコーダ信号を受けた制御ユニット9は、保持テーブル30の回転速度を所望の回転速度にするフィードバック制御を行うことができる。
As shown in FIG. 1, the cleaning apparatus 3 includes a control unit 9 that controls at least the rotation of the holding table 30. The control unit 9 controls a CPU that performs arithmetic processing according to a control program and a storage unit 91 such as a memory. It is configured. The control unit 9 is electrically connected, for example, via a wired or wireless communication path to a rotational driving source 321 including a motor or the like for the rotating mechanism 32 .
The rotary drive source 321 is, for example, a servomotor, and when an operation signal is supplied to the rotary drive source 321 from the output interface of the control unit 9 that also functions as a servo amplifier, the spindle 320 rotates and the encoder rotates. The recognized rotational speed of the holding table 30 is output to the input interface of the control unit 9 as an encoder signal. Then, the control unit 9 that receives the encoder signal can perform feedback control to set the rotational speed of the holding table 30 to a desired rotational speed.

以下に、図1に示す洗浄装置3により基板19を洗浄する場合について説明する。
ワークセット199が、保持テーブル30の上方に搬送され、ワークセット199の中心が保持テーブル30の保持面302の中心におおよそ合致するようにして、保持面302に載置される。図示しない吸引源が生み出す吸引力が保持テーブル30の保持面302上に伝達されることで、保持テーブル30がワークセット199を吸引保持する。
そして、ワークセット199を吸引保持する保持テーブル30が、昇降ユニット322によってカバー34内における洗浄作業高さ位置(例えば、最下高さ位置)まで下降する。
A case of cleaning the substrate 19 by the cleaning apparatus 3 shown in FIG. 1 will be described below.
A work set 199 is conveyed above the holding table 30 and placed on the holding surface 302 such that the center of the work set 199 approximately coincides with the center of the holding surface 302 of the holding table 30 . A suction force generated by a suction source (not shown) is transmitted onto the holding surface 302 of the holding table 30 so that the holding table 30 holds the work set 199 by suction.
Then, the holding table 30 sucking and holding the work set 199 is lowered by the lifting unit 322 to the washing work height position (for example, the lowest height position) within the cover 34 .

次いで、洗浄水供給ノズル35が旋回移動し、洗浄水供給ノズル35の噴射口が保持テーブル30により吸引保持された基板19の表面190の中央領域上方に位置付けられる。そして、洗浄水供給ノズル35の噴射口から基板19の表面190の中心部に向かって洗浄水(例えば、純水)が噴射される。さらに、洗浄水を噴射する洗浄水供給ノズル35が、基板19の上方をZ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。また、保持テーブル30が所定の回転速度で回転することで、基板19の表面190全面に洗浄水供給ノズル35から洗浄水が噴射される。 Next, the cleaning water supply nozzle 35 pivots, and the injection port of the cleaning water supply nozzle 35 is positioned above the central region of the surface 190 of the substrate 19 sucked and held by the holding table 30 . Then, cleaning water (for example, pure water) is jetted from the injection port of the cleaning water supply nozzle 35 toward the center of the surface 190 of the substrate 19 . In addition, the cleaning water supply nozzle 35 for spraying cleaning water reciprocates above the substrate 19 at a predetermined angle around the axis in the Z-axis direction. Further, the washing water is sprayed from the washing water supply nozzle 35 onto the entire surface 190 of the substrate 19 by rotating the holding table 30 at a predetermined rotational speed.

これにより、基板19が洗浄され、保持テーブル30の回転により発生する遠心力によって、洗浄水が、基板19の表面190上を中心側から外周側に向けて流れていき、保持テーブル30上からカバー34の底板341へと流下する。洗浄水によって所定時間基板19の洗浄が行われた後、洗浄水供給ノズル35からの洗浄水の噴射が止められる。次いで、エア噴射ノズル37の噴射口から基板19の表面190の中心部に向かってエアが噴射される。さらに、エアを噴射するエア噴射ノズル37が、基板19の上方をZ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。さらに、回転機構32が保持テーブル30を所定の回転速度で回転させることによって、基板19の表面190全面がエアブローにより乾燥される。そして、基板19の乾燥が完了すると、エア噴射ノズル37が保持テーブル30上から旋回移動して退避し、ワークセット199が保持テーブル30から搬出される。 As a result, the substrate 19 is washed, and the centrifugal force generated by the rotation of the holding table 30 causes the washing water to flow over the surface 190 of the substrate 19 from the center side toward the outer peripheral side, and the holding table 30 is covered. It flows down to the bottom plate 341 of 34 . After the substrate 19 has been washed with the washing water for a predetermined time, the injection of the washing water from the washing water supply nozzle 35 is stopped. Next, air is jetted toward the center of the surface 190 of the substrate 19 from the jet port of the air jet nozzle 37 . Furthermore, the air injection nozzle 37 that injects air revolves above the substrate 19 so as to reciprocate at a predetermined angle around the axis in the Z-axis direction. Further, the rotation mechanism 32 rotates the holding table 30 at a predetermined rotation speed, so that the entire surface 190 of the substrate 19 is dried by air blow. When the drying of the substrate 19 is completed, the air injection nozzle 37 is swiveled and retracted from the holding table 30 , and the work set 199 is carried out from the holding table 30 .

上記のように、例えば基板19を複数枚連続して洗浄することで、保持テーブル30の回転等によって飛散する汚れを含んだ洗浄水が、カバー34の外側板340の内壁348に付着した場合を想定する。
そこで、以下に、図1に示す洗浄装置3において、カバー34の内壁348を洗浄する場合の洗浄装置3の各構成の動作を、本発明に係る洗浄方法の各工程と共に説明する。
As described above, for example, by cleaning a plurality of substrates 19 in succession, it is possible to avoid the case where cleaning water containing stains scattered by the rotation of the holding table 30 adheres to the inner wall 348 of the outer plate 340 of the cover 34. Suppose.
Therefore, in the cleaning device 3 shown in FIG. 1, the operation of each component of the cleaning device 3 when cleaning the inner wall 348 of the cover 34 will be described below together with each step of the cleaning method according to the present invention.

(1)貯留ステップ
まず、本実施形態においては、図2に示すように、保持テーブル30の保持面302に、環状フレーム197の開口を塞ぐようにシート198が接着されて構成されたフレームユニット196に洗浄水供給ノズル35によって洗浄水を供給し、環状フレーム197の開口に対応するシート198の上に洗浄水を溜める貯留ステップを実施する。なお、洗浄水は、保持テーブル30の保持面302に直に溜めてもよいが、保持面302は完全には水平ではないため洗浄水が流れ落ちてしまう恐れや、表面張力による貯留できる容量が限られるため、フレームユニット196を用いると環状フレーム197により溜められる洗浄水の量を増やせるため好ましい。
(1) Storing Step First, in the present embodiment, as shown in FIG. The cleaning water is supplied from the cleaning water supply nozzles 35 to the annular frame 197, and the cleaning water is stored on the sheet 198 corresponding to the opening of the annular frame 197. As shown in FIG. The washing water may be stored directly on the holding surface 302 of the holding table 30, but since the holding surface 302 is not completely horizontal, there is a risk that the washing water may flow down, and surface tension may limit the amount of water that can be stored. Therefore, it is preferable to use the frame unit 196 because the amount of wash water that can be stored by the annular frame 197 can be increased.

フレームユニット196は、図1に示すワークセット199の基板19がシート198に貼着されていない構成となっている。なお、シート198は、糊層を備える粘着テープであってもよい。また、シート198は、例えば、ポリエステル系の樹脂シートである。ポリエステル系のシート198は、ジカルボン酸(2つのカルボキシル基を有する化合物)と、ジオール(2つのヒドロキシル基を有する化合物)と、をモノマーとして合成されるポリマーのシートである。このポリエステル系のシート198は、糊層を備えないため室温では環状フレーム197に接着できない。しかしながら、ポリエステル系のシート198は熱可塑性を有するため、所定の圧力を印加し押圧しながら環状フレーム197と接合させた状態で融点近傍の温度まで加熱すると、部分的に溶融して環状フレーム197に接着できる。なお、シート198は、糊層を備えないが熱接着可能なポリオレフィンシートやポリスチレンシートであってもよい。 The frame unit 196 has a structure in which the substrate 19 of the work set 199 shown in FIG. 1 is not attached to the sheet 198 . Note that the sheet 198 may be an adhesive tape having a glue layer. Also, the sheet 198 is, for example, a polyester-based resin sheet. The polyester-based sheet 198 is a polymer sheet synthesized using dicarboxylic acid (compound having two carboxyl groups) and diol (compound having two hydroxyl groups) as monomers. Since this polyester-based sheet 198 does not have a glue layer, it cannot be adhered to the annular frame 197 at room temperature. However, since the polyester-based sheet 198 has thermoplasticity, when it is heated to a temperature near the melting point while being joined to the annular frame 197 while applying a predetermined pressure, it partially melts and forms the annular frame 197 . Can be glued. The sheet 198 may be a heat-adherable polyolefin sheet or polystyrene sheet without a glue layer.

フレームユニット196の中心が保持テーブル30の保持面302の中心におおよそ合致するようにして、保持面302に載置され、保持テーブル30がフレームユニット196を吸引保持する。そして、フレームユニット196を吸引保持する保持テーブル30が、昇降ユニット322(図2には不図示)によってカバー34内における例えば最下高さ位置まで下降する。 The frame unit 196 is placed on the holding surface 302 so that the center of the frame unit 196 approximately coincides with the center of the holding surface 302 of the holding table 30 , and the holding table 30 holds the frame unit 196 by suction. Then, the holding table 30 sucking and holding the frame unit 196 is lowered to, for example, the lowest height position within the cover 34 by the lifting unit 322 (not shown in FIG. 2).

洗浄水供給ノズル35が旋回移動し、洗浄水供給ノズル35の噴射口が保持テーブル30により吸引保持されたフレームユニット196の開口の中央領域上方に位置付けられる。そして、洗浄水供給ノズル35の噴射口からフレームユニット196の開口に対応するシート198上に向かって洗浄水356が滴下される。また、保持テーブル30が所定の回転速度で回転する。なお、保持テーブル30は回転せずに停止していてもよい。
保持テーブル30は、例えば、後述する放出ステップ及び除去ステップにおける保持テーブル30の回転速度よりも低速で回転しており、保持テーブル30の回転速度は、制御ユニット9によって、遠心力によって洗浄水356がフレームユニット196の開口に対応するシート198上から飛び散ってしまわない程度の回転速度に制御されている。貯留ステップにおいて、保持テーブル30をこのように低速で回転させるのは、保持面302が完全には水平となっていないため、保持面302に吸引保持されたフレームユニット196の開口に対応するシート198上により均等に洗浄水356を貯留するためである。
The cleansing water supply nozzle 35 pivots, and the injection port of the cleansing water supply nozzle 35 is positioned above the central region of the opening of the frame unit 196 sucked and held by the holding table 30 . Then, the cleaning water 356 is dripped onto the sheet 198 corresponding to the opening of the frame unit 196 from the injection port of the cleaning water supply nozzle 35 . Also, the holding table 30 rotates at a predetermined rotational speed. Note that the holding table 30 may be stopped without rotating.
The holding table 30 rotates, for example, at a lower speed than the rotation speed of the holding table 30 in the later-described discharge step and removal step. The rotational speed is controlled to such an extent that the sheet 198 corresponding to the opening of the frame unit 196 is not scattered. This slow rotation of the holding table 30 in the storage step is due to the fact that the holding surface 302 is not perfectly horizontal, so that the sheet 198 corresponding to the opening of the frame unit 196 held by suction on the holding surface 302 is not fully horizontal. This is to store the wash water 356 more evenly.

所定時間、洗浄水供給ノズル35の噴射口からシート198上に向かって洗浄水356が滴下されることで、洗浄水356がシート198上に、環状フレーム197及び表面張力によって所定量貯留したら、貯留ステップを完了する。なお、貯留ステップを完了した後も、洗浄水供給ノズル35は、保持面302上のシート198に対して洗浄水356の供給を続ける。 Washing water 356 is dripped onto the sheet 198 from the injection port of the washing water supply nozzle 35 for a predetermined period of time. complete the step. Even after the storing step is completed, the cleaning water supply nozzle 35 continues supplying the cleaning water 356 to the sheet 198 on the holding surface 302 .

フレームユニット196を用いずに、保持面302に直に洗浄水356を貯留する場合には、所定時間、洗浄水供給ノズル35の噴射口から低速で回転する保持面302上に向かって洗浄水356が滴下されることで、洗浄水356が保持面302上に表面張力によって所定量貯留したら、貯留ステップを完了する。なお、貯留ステップを完了した後も、洗浄水供給ノズル35は、保持面302に対して洗浄水356の供給を続ける。 When the washing water 356 is stored directly on the holding surface 302 without using the frame unit 196, the washing water 356 flows from the injection port of the washing water supply nozzle 35 onto the holding surface 302 rotating at a low speed for a predetermined time. is dropped and a predetermined amount of cleaning water 356 is stored on the holding surface 302 by surface tension, the storing step is completed. Note that the cleaning water supply nozzle 35 continues to supply the cleaning water 356 to the holding surface 302 even after the storing step is completed.

(2)放出ステップ
貯留ステップが完了することで、所定量の洗浄水356がフレームユニット196のシート198上に溜まっており、そして、図3に示すように、保持テーブル30の回転速度が制御ユニット9による回転機構32の制御の下で貯留ステップよりも速められる。その結果、貯留ステップにおいて保持テーブル30上のフレームユニット196のシート198上に溜まった洗浄水356が、遠心力によってカバー34の外側板340の内壁348に向けて大粒の水滴となって放出される。
(2) Discharging Step By completing the storing step, a predetermined amount of wash water 356 has accumulated on the sheet 198 of the frame unit 196, and as shown in FIG. Under the control of the rotating mechanism 32 by 9 is faster than the dwell step. As a result, the washing water 356 accumulated on the sheet 198 of the frame unit 196 on the holding table 30 in the storing step is discharged as large droplets toward the inner wall 348 of the outer plate 340 of the cover 34 by centrifugal force. .

従来は、洗浄水供給ノズルから供給された洗浄水が、高速回転する保持テーブルの保持面に衝突して、衝突により飛散して噴霧化していたが、本発明に係る洗浄方法では、水膜を形成するようにしてフレームユニット196のシート198上、又は保持テーブル30の保持面302上に貯留されている洗浄水356が、遠心力によって放出されるので、噴霧化せず、従来よりも水滴の径が大きく、水量も多い水滴状の洗浄水356が内壁348に衝突する。そのため、内壁348に付着していた加工屑等の汚れが衝撃を受けて、内壁348から剥がれ落ちて内壁348に付着した洗浄水356に含まれる状態になる。
なお、洗浄水356は放出ステップの実施中も、洗浄水供給ノズル35からシート198上に向かって供給され続ける。
Conventionally, the cleaning water supplied from the cleaning water supply nozzle collides with the holding surface of the holding table rotating at high speed and is scattered and atomized by the collision. Since the cleaning water 356 stored on the sheet 198 of the frame unit 196 or the holding surface 302 of the holding table 30 is discharged by centrifugal force, it is not atomized and forms more water droplets than before. Droplet-shaped washing water 356 with a large diameter and a large amount of water collides with the inner wall 348 . As a result, dirt such as milling waste adhering to the inner wall 348 receives an impact, falls off the inner wall 348 , and is included in the washing water 356 adhering to the inner wall 348 .
The cleaning water 356 continues to be supplied from the cleaning water supply nozzle 35 toward the sheet 198 even during the discharging step.

例えば、制御ユニット9の記憶部91には、放出ステップで洗浄水356がカバー34の内壁348に衝突する高さと、保持テーブル30の回転速度と、の図4に示す相関データ99が予め記憶されている。相関データ99は、過去に行った実験等から、実験的、経験的、又は理論的に得られたデータである。なお、相関データ99として、保持テーブル30の回転速度と洗浄水356の衝突する高さとの対応関係を示すテーブル形式のデータを用いたが、グラフ形式のデータを用いてもよい。なお、相関データ99は、洗浄水356の内壁348に衝突する高さを、保持面302を0度基準として遠心力で飛散する洗浄水356の水滴の斜め上方に飛散する角度で間接的に表示しているが、これに限定されるものではない。また、本実施形態のようにフレームユニット196のシート198上に洗浄水356を貯留した場合にも、相関データ99はそのまま使用できる。シート198は非常に薄いため、その厚みを無視しても問題が無いためである。また、シート198として厚みが厚いシートを用いる場合には、該シートの厚みを相関データ99の上記角度に補正値として加えた角度を適切な角度として認定してもよい。 For example, the memory 91 of the control unit 9 stores in advance the correlation data 99 shown in FIG. ing. The correlation data 99 is data obtained experimentally, empirically, or theoretically from past experiments or the like. As the correlation data 99, data in a table format showing the correspondence relationship between the rotation speed of the holding table 30 and the collision height of the washing water 356 is used, but data in a graph format may also be used. The correlation data 99 indirectly indicates the height at which the cleansing water 356 collides with the inner wall 348 by the angle at which the droplets of the cleansing water 356 scattered by the centrifugal force scatter diagonally upward with the holding surface 302 as a reference of 0 degrees. However, it is not limited to this. Further, even when the cleaning water 356 is stored on the sheet 198 of the frame unit 196 as in this embodiment, the correlation data 99 can be used as it is. This is because the sheet 198 is so thin that there is no problem even if its thickness is ignored. Further, when a thick sheet is used as the sheet 198, an angle obtained by adding the thickness of the sheet to the angle of the correlation data 99 as a correction value may be recognized as an appropriate angle.

本実施形態における放出ステップにおいては、制御ユニット9によって、相関データ99に基づき、カバー34の内壁348の所望する高さに遠心力で放出される洗浄水356が衝突するように保持テーブル30の回転速度を制御する。即ち、例えば、相関データ99に示す通り、最下高さ位置に位置付けされた保持テーブル30の保持面302を0度基準に斜め上方に向かって傾きが15度の仮想線L1がぶつかる高さ位置の特に汚れが多く付着している内壁348に、洗浄水356の水滴を衝突させる場合には、相関データ99を参照した制御ユニット9により、保持テーブル30の回転速度制御が行われ、保持テーブル30の回転速度が1000rpmに設定される。その結果、保持面302を0度基準として環状フレーム197の開口に対応するシート198の外周領域から斜め上方に向かって傾きが15度の仮想線L1がぶつかる高さ位置の内壁348に向かって、洗浄水356の水滴が飛んでいき衝突する。
なお、保持テーブル30を低速で回転させれば、より低い高さ位置の内壁348に洗浄水356の水滴を衝突させることができ、保持テーブル30をより高速で回転させれば、より高い高さ位置の内壁348に洗浄水356の水滴を衝突させることができる。
In the discharging step in this embodiment, the control unit 9 rotates the holding table 30 based on the correlation data 99 so that the washing water 356 discharged by centrifugal force collides with the desired height of the inner wall 348 of the cover 34. Control speed. That is, for example, as shown in the correlation data 99, the height position at which the imaginary line L1 with an inclination of 15 degrees collides obliquely upward with respect to the holding surface 302 of the holding table 30 positioned at the lowest height position. When water droplets of the cleaning water 356 are caused to collide with the inner wall 348 on which a particularly large amount of dirt is adhered, the control unit 9 refers to the correlation data 99 to control the rotational speed of the holding table 30. is set to 1000 rpm. As a result, with the holding surface 302 as a reference of 0 degrees, toward the inner wall 348 at a height position where the imaginary line L1 having an inclination of 15 degrees obliquely upward from the outer peripheral region of the seat 198 corresponding to the opening of the annular frame 197 collides, Water droplets of the cleaning water 356 fly and collide.
If the holding table 30 is rotated at a low speed, the water droplets of the cleaning water 356 can collide with the inner wall 348 at a lower height position, and if the holding table 30 is rotated at a higher speed, the water droplets can be made to reach a higher height. Water droplets of cleaning water 356 can be made to impinge on the inner wall 348 of the position.

上記のように、保持テーブル30の回転速度を制御しながら、放出ステップを所定時間実施することで、フレームユニット196のシート198上に貯留していた洗浄水356が無くなり、保持テーブル30に吸引保持されたフレームユニット196のシート198に衝突して従来と同じように噴霧化した洗浄水356による内壁348の洗浄へと移行するため、一度放出ステップを完了する。 As described above, by performing the discharging step for a predetermined time while controlling the rotational speed of the holding table 30, the cleaning water 356 that has been retained on the sheet 198 of the frame unit 196 is eliminated, and the holding table 30 is sucked and held. Once the discharge step is completed to move to washing the inner wall 348 with the conventionally atomized washing water 356 impinging against the sheet 198 of the frame unit 196 that has been sprayed.

(3)除去ステップ
次いで、放出ステップの実施後に、保持テーブル30を回転させながら回転による保持テーブル30が生み出す風圧によってカバー34の内壁348に付着した汚れを含んだ洗浄水356を除去する除去ステップを実施する。
まず、図5に示すように、洗浄水供給ノズル35によるシート198上に対する洗浄水356の供給が停止される。そして、例えば、制御ユニット9による回転制御の下で、保持テーブル30が放出ステップにおける回転速度よりもさらに高速で回転して、保持テーブル30からカバー34の内壁348に向かう風308が発生する。該風308の風圧によって、内壁348に付着した汚れを含んだ洗浄水356が内壁348から押し流されて、カバー34の底板341へと流下する。即ち、洗浄水356と共に内壁348から離れた異物や汚れが押し流される。なお、風308が内壁348の上側の領域に衝突するようにして、内壁348に沿って底板341に向かって流れるように、保持テーブル30が高速で回転すると好ましい。また除去ステップにおける保持テーブル30の回転速度は、カバー34の内壁348に付着した洗浄水を流せる風圧が発生すれば、放出ステップと同じまたは放出ステップより遅くても良い。
(3) Removal step Next, after the discharge step is performed, a removal step is performed in which the holding table 30 is rotated and the cleaning water 356 containing dirt adhering to the inner wall 348 of the cover 34 is removed by the wind pressure generated by the holding table 30 due to the rotation. implement.
First, as shown in FIG. 5, the supply of the washing water 356 onto the sheet 198 by the washing water supply nozzle 35 is stopped. Then, for example, under rotation control by the control unit 9 , the holding table 30 rotates at a higher speed than the rotation speed in the release step, and wind 308 is generated from the holding table 30 toward the inner wall 348 of the cover 34 . Due to the wind pressure of the wind 308 , the cleaning water 356 containing dirt adhering to the inner wall 348 is pushed away from the inner wall 348 and flows down to the bottom plate 341 of the cover 34 . That is, foreign matter and stains separated from the inner wall 348 are washed away together with the cleaning water 356 . It is preferable that the holding table 30 rotates at high speed so that the wind 308 impinges on the upper region of the inner wall 348 and flows along the inner wall 348 toward the bottom plate 341 . Further, the rotation speed of the holding table 30 in the removing step may be the same as or slower than that in the discharging step, as long as the wind pressure that can wash away the cleaning water adhering to the inner wall 348 of the cover 34 is generated.

所定時間上記のように、保持テーブル30を高速回転させながら、除去ステップを実施した後、一度除去ステップを完了する。上記のような、貯留ステップ、放出ステップ、及び除去ステップを1サイクル完了させても、内壁348の汚れを除去しきれない場合があるため、例えば、貯留ステップと、放出ステップと、除去ステップと、を所定回数繰り返すと好ましい。 After performing the removing step while rotating the holding table 30 at high speed as described above for a predetermined time, the removing step is once completed. Even if one cycle of the storage step, the release step, and the removal step as described above is completed, the dirt on the inner wall 348 may not be completely removed. is preferably repeated a predetermined number of times.

上記のように、基板19を保持する保持面302を有する保持テーブル30と、保持テーブル30に保持された基板19に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル35と、保持テーブル30の外周を囲繞するカバー34と、を少なくとも備える洗浄装置3のカバー34の内壁348を洗浄する本発明に係る洗浄方法、保持面302に洗浄水供給ノズル35によって洗浄水356を供給し、保持面302の上に洗浄水356を溜める貯留ステップと、保持テーブル30を回転させながら貯留ステップにおいて保持テーブル30の上に溜まった洗浄水356をカバー34の内壁348に向けて飛ばす放出ステップと、放出ステップの実施後に、保持テーブル30を回転させながら回転による風圧によってカバー34の内壁348に付着した洗浄水356を除去する除去ステップと、を備えることで、カバー34の内壁348の汚れをより効果的に洗浄除去できる。即ち、従来とは異なり、一度保持テーブル30の保持面302に洗浄水356を溜めた後、放出ステップで保持テーブル30の回転によって洗浄水356を径方向外側に向かって細かな噴霧ではなく大粒の水滴として放出するので、該水滴状の洗浄水356がカバー34の内壁348に打ち付けられて、汚れをより効果的に内壁348から除去しやすく(離れやすく)する。その後、除去ステップにおいて、保持テーブル30の回転により発生する風圧で、内壁348に付着した汚れを含む洗浄水356を吹き飛ばして除去することで、内壁348に汚れが付着していない状態にすることが可能となる。 As described above, the holding table 30 having the holding surface 302 holding the substrate 19 , the cleaning water supply nozzle 35 supplying cleaning water to the substrate 19 held on the holding table 30 , and the holding table 30 are surrounded by A cleaning method according to the present invention for cleaning the inner wall 348 of the cover 34 of the cleaning device 3 including at least the cover 34 , supplying cleaning water 356 to the holding surface 302 by the cleaning water supply nozzle 35 , and cleaning the holding surface 302 . a storing step of storing the water 356; a discharging step of blowing the cleaning water 356 collected on the holding table 30 toward the inner wall 348 of the cover 34 while rotating the holding table 30 in the storing step; and a removing step of removing the cleaning water 356 adhering to the inner wall 348 of the cover 34 by the wind pressure caused by rotation while rotating the table 30, so that dirt on the inner wall 348 of the cover 34 can be washed and removed more effectively. In other words, unlike the conventional art, after the washing water 356 is temporarily accumulated on the holding surface 302 of the holding table 30, the washing water 356 is not sprayed finely but radially outward by rotating the holding table 30 in the discharge step, and the washing water 356 is sprayed in large droplets. Since it is discharged as water droplets, the droplet-like washing water 356 hits the inner wall 348 of the cover 34, making it easier to remove (separate) dirt from the inner wall 348 more effectively. After that, in the removing step, the washing water 356 containing the dirt adhering to the inner wall 348 is blown off and removed by the wind pressure generated by the rotation of the holding table 30, so that the inner wall 348 can be kept in a dirt-free state. It becomes possible.

また、洗浄装置3は、少なくとも保持テーブル30の回転を制御する制御ユニット9を備え、制御ユニット9は、放出ステップで洗浄水356がカバー34の内壁348に衝突する高さと、保持テーブル30の回転速度と、の相関データ99を記憶する記憶部91を有し、本発明に係るカバー34の洗浄方法では、制御ユニット9によって、放出ステップにおいて、相関データ99に基づき、内壁348の所望する高さに洗浄水356が衝突するように保持テーブル30の回転速度を制御することで、内壁348の汚れている領域をより効果的に集中して水滴状の洗浄水356で洗浄することができる。 The cleaning device 3 also comprises a control unit 9 that controls at least the rotation of the holding table 30 , the control unit 9 controlling the height at which the cleaning water 356 hits the inner wall 348 of the cover 34 in the discharge step and the rotation of the holding table 30 . In the cleaning method for the cover 34 according to the present invention, the control unit 9 determines the desired height of the inner wall 348 based on the correlation data 99 in the discharge step. By controlling the rotation speed of the holding table 30 so that the washing water 356 collides with the inner wall 348, the dirty area of the inner wall 348 can be more effectively and intensively washed with the droplet-shaped washing water 356.

例えば、本実施形態のように、貯留ステップにおいて、保持面302に、開口を有する環状フレーム197の開口を塞ぐようにシート198が接着されて構成されたフレームユニット196を保持することで、保持面302に代えて、開口に対応するシート198の上により効率よく洗浄水356を溜めることが可能となる。 For example, as in the present embodiment, in the storing step, the holding surface 302 holds the frame unit 196 configured by adhering the sheet 198 so as to close the opening of the annular frame 197 having the opening. Instead of the sheet 198 corresponding to the opening, the cleaning water 356 can be accumulated more efficiently.

本発明に係る洗浄方法の各工程は上記実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。また、使用する洗浄装置3の構成も、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。 It goes without saying that each step of the cleaning method according to the present invention is not limited to the above embodiment, and may be implemented in various forms within the scope of the technical idea. Also, the configuration of the cleaning device 3 to be used can be changed as appropriate within the range in which the effects of the present invention can be exhibited.

例えば、貯留ステップと、放出ステップと、除去ステップとを実施する場合に、図6に示す外周に凸部40と、中央に凸部40に囲繞された凹部41と、を備える容器4、即ち、例えば、薄い平面視円形の皿状の容器4を、保持テーブル30の保持面302で吸引保持することで、凸部の高さを貯留したい容量に合わせて形成し、貯留ステップにおいて凹部41により効率よく洗浄水を溜められるようにしてもよい。
なお貯留ステップにおいては、洗浄水を貯留できれば洗浄水供給ノズル35は旋回移動せず、停止していてもよい。放出ステップ時においても、洗浄水は洗浄水供給ノズル35から洗浄水をシート198上または凹部41上に洗浄水を供給できていれば洗浄水供給ノズル35が旋回移動していても停止していてもよい。
For example, when performing the storing step, the discharging step, and the removing step, a container 4 having a convex portion 40 on the outer circumference and a concave portion 41 surrounded by the convex portion 40 in the center, as shown in FIG. For example, by sucking and holding a thin dish-shaped container 4 that is circular in plan view on the holding surface 302 of the holding table 30, the height of the convex portion is formed according to the volume to be stored, and the concave portion 41 is used in the storage step to increase efficiency. The cleaning water may be stored well.
In addition, in the storing step, the cleaning water supply nozzle 35 may not turn and may be stopped as long as the cleaning water can be stored. Even during the discharging step, if the washing water can be supplied from the washing water supply nozzle 35 onto the sheet 198 or the concave portion 41, the washing water supply nozzle 35 is stopped even if it is swiveling. good too.

19:基板 199:ワークセット 196:フレームユニット
3:洗浄装置
30:保持テーブル 302:保持面 304:固定クランプ
32:回転機構 322:昇降ユニット
34:カバー
35:洗浄水供給ノズル 37:エア噴射ノズル
9:制御ユニット 91:記憶部 99:相関データ
19: Substrate 199: Work set 196: Frame unit 3: Cleaning device
30: Holding table 302: Holding surface 304: Fixing clamp 32: Rotation mechanism 322: Lifting unit 34: Cover
35: Cleaning water supply nozzle 37: Air injection nozzle 9: Control unit 91: Storage unit 99: Correlation data

Claims (5)

基板を保持する保持面を有する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された基板に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該保持テーブルの外周を囲繞するカバーと、を少なくとも備える洗浄装置の該カバーの内壁を洗浄する洗浄方法であって、
該保持面に該洗浄水供給ノズルによって該洗浄水を供給し、該保持面の上に該洗浄水を溜める貯留ステップと、
該保持テーブルを回転させながら該貯留ステップにおいて該保持テーブルの上に溜まった該洗浄水を該カバーの該内壁に向けて飛ばす放出ステップと、
該放出ステップの実施後に、該保持テーブルを回転させながら回転による風圧によって該カバーの該内壁に付着した該洗浄水を除去する除去ステップと、を備える事を特徴とする、カバーの洗浄方法。
A cleaning apparatus comprising at least a holding table having a holding surface for holding a substrate, a cleaning water supply nozzle supplying cleaning water to the substrate held on the holding table, and a cover surrounding the outer circumference of the holding table. A cleaning method for cleaning the inner wall of a cover, comprising:
a storing step of supplying the washing water to the holding surface by the washing water supply nozzle and storing the washing water on the holding surface;
a discharging step of blowing the wash water accumulated on the holding table in the storing step toward the inner wall of the cover while rotating the holding table;
a removing step of removing the washing water adhering to the inner wall of the cover by wind pressure caused by the rotation while rotating the holding table after performing the discharging step.
前記貯留ステップと、前記放出ステップと、前記除去ステップと、を所定回数繰り返す事を特徴とする請求項1に記載のカバーの洗浄方法。 2. The cover cleaning method according to claim 1, wherein said storing step, said discharging step, and said removing step are repeated a predetermined number of times. 前記洗浄装置は、少なくとも前記保持テーブルの回転を制御する制御ユニットを備え、
該制御ユニットは、前記放出ステップで前記洗浄水が前記カバーの前記内壁に衝突する高さと、該保持テーブルの回転速度と、の相関データを記憶する記憶部を有し、
該制御ユニットによって、該放出ステップにおいて、該相関データに基づき、該内壁の所望する高さに該洗浄水が衝突するように該保持テーブルの回転速度を制御する事を特徴とする請求項1、又は請求項2に記載のカバーの洗浄方法。
The cleaning device comprises a control unit that controls at least the rotation of the holding table,
The control unit has a storage section for storing correlation data between a height at which the washing water collides with the inner wall of the cover in the discharging step and a rotation speed of the holding table,
2. The control unit controls the rotation speed of the holding table in the discharge step based on the correlation data so that the washing water collides with the inner wall at a desired height. Or the cleaning method of the cover according to claim 2.
前記貯留ステップにおいて、前記保持面に、開口を有する環状フレームの該開口を塞ぐようにシートが接着されて構成されたフレームユニットを保持し、該保持面に代えて、該開口に対応する該シートの上に前記洗浄水を溜める事を特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3に記載のカバーの洗浄方法。 In the storing step, a frame unit configured by bonding a sheet to an annular frame having an opening so as to close the opening is held on the holding surface, and the sheet corresponding to the opening is substituted for the holding surface. 4. The method of cleaning a cover according to claim 1, wherein said cleaning water is stored on said cover. 前記貯留ステップにおいて、
前記保持面に、外周に凸部と、中央に該凸部に囲繞された凹部と、を備える容器を保持し、
該保持面に代えて、該凹部に前記洗浄水を溜める事を特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3に記載のカバーの洗浄方法。
In the storing step,
holding a container provided with a convex portion on the outer periphery and a concave portion surrounded by the convex portion in the center on the holding surface;
4. A method of cleaning a cover according to claim 1, wherein said cleaning water is stored in said concave portion instead of said holding surface.
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