JP2023019083A - ガス分子吸着体及びガスセンサ - Google Patents

Abstract

【課題】吸着部の厚さの均一性を向上させることが可能なガス分子吸着体及びガスセンサを提供する。
【解決手段】ガス分子吸着体１は、電気絶縁性基板２と、複数のピラー６と、吸着部７と、を備える。電気絶縁性基板２は、第１主面２１及び第１主面２１とは反対側の第２主面２２を有する。複数のピラー６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出している。吸着部７は、電気絶縁性基板２の第１主面２１の一部及び複数のピラー６それぞれの側面６３の一部を覆っており、吸着対象のガス分子を吸着する。複数のピラー６の各々は、電気絶縁性基板２側の第１端６１と、電気絶縁性基板２側とは反対側の第２端６２と、を有する。複数のピラー６の各々の第２端６２は、吸着部７における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面７１から突出している。
【選択図】図１

Description

本開示は、ガス分子吸着体及びガスセンサに関し、より詳細には、検出対象のガス分子を吸着するガス分子吸着体、及び、ガス分子吸着体を備えるガスセンサに関する。

特許文献１には、基板と、第１の導電体と、第２の導電体と、絶縁層と、吸着材層（吸着部）と、壁部と、を備えるガスセンサが開示されている。

特許文献１に開示されたガスセンサでは、第１の導電体及び第２の導電体は、基板の上に配置されている。第１の導電体の下面及び第２の導電体の下面は、基板の上面に接している。絶縁層は、第１の導電体及び第２の導電体のそれぞれを被覆している。絶縁層は、基板の上面全体を被覆してもよいし、基板の上面を部分的に被覆していてもよい。吸着材層は、絶縁層の上に配置されている。絶縁層は、第１の開口部及び第２の開口部を有する。第１の開口部は、第１の導電体の表面の一部を露出させている。第２の開口部は、第２の導電体の表面の一部を露出させている。吸着材層は、第１の開口部及び第２の開口部を通じて、第１の導電体及び第２の導電体のそれぞれに接触している。吸着材層は、導電材料と、ガスを吸着することができる有機吸着材と、を含む。

特許文献１には、吸着材層が基板の上面を部分的に被覆していてもよいこと、吸着材層が基板と接していてもよいこと、が開示されている。

国際公開第２０１８／１８６２６８号

ガスセンサでは、吸着部の厚さの均一性の向上が望まれる場合がある。

本開示の目的は、吸着部の厚さの均一性を向上させることが可能なガス分子吸着体及びガスセンサを提供することにある。

本開示の一態様に係るガス分子吸着体は、電気絶縁性基板と、複数のピラーと、吸着部と、を備える。前記電気絶縁性基板は、第１主面及び前記第１主面とは反対側の第２主面を有する。前記複数のピラーは、前記電気絶縁性基板の前記第１主面から前記電気絶縁性基板に対して規定された厚さ方向に沿った方向に突出している。前記吸着部は、前記電気絶縁性基板の前記第１主面の一部及び前記複数のピラーそれぞれの側面の一部を覆っており、吸着対象のガス分子を吸着する。前記複数のピラーの各々は、前記電気絶縁性基板側の第１端と、前記電気絶縁性基板側とは反対側の第２端と、を有する。前記複数のピラーの各々の前記第２端は、前記吸着部における前記電気絶縁性基板側とは反対側の主面から突出している。

本開示の一態様に係るガスセンサは、前記ガス分子吸着体と、前記ガス分子吸着体の前記吸着部に接続されている第１電極と、前記第１電極から離れており、前記吸着部に接続されている第２電極と、を備える。

本開示のガス分子吸着体及びガスセンサは、吸着部の厚さの均一性を向上させることが可能となる。

図１は、実施形態１に係るガス分子吸着体を備えるガスセンサの断面図である。 図２は、同上のガス分子吸着体を備えるガスセンサの平面図である。 図３は、同上のガス分子吸着体を備えるガスセンサの動作説明図である。 図４Ａ～４Ｃは、同上のガス分子吸着体を備えるガスセンサの製造方法を説明するための主要工程断面図である。 図５Ａ～５Ｃは、同上のガス分子吸着体を備えるガスセンサの製造方法を説明するための主要工程断面図である。 図６Ａ～６Ｃは、同上のガス分子吸着体を備えるガスセンサの製造方法を説明するための主要工程断面図である。 図７は、一実施例に係るガスセンサの断面ＳＥＭ像図である。 図８は、同上のガスセンサの断面ＳＥＭ像図である。 図９は、実施形態２に係るガス分子吸着体を備えるガスセンサの断面図である。 図１０は、同上のガス分子吸着体を備えるガスセンサの平面図である。 図１１は、実施形態３に係るガス分子吸着体を備えるガスセンサの断面図である。 図１２は、実施形態４に係るガス分子吸着体を備えるガスセンサの断面図である。 図１３Ａは、同上のガス分子吸着体を備えるガスセンサの平面図である。図１３Ｂは、図１３Ａの要部拡大図である。

下記の実施形態１～４等において説明する各図は、模式的な図であり、図中の各構成要素の大きさや厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。

（実施形態１）
以下では、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びそれを備えるガスセンサ１００について図１～３に基づいて説明する。

（１）概要
実施形態１に係るガス分子吸着体１は、吸着対象（ガスセンサ１００での検出対象）のガス分子を吸着する吸着部７を備える。吸着部７は、導電性粒子と、有機材料と、を含む。ガス分子吸着体１は、吸着対象のガス分子が含まれる雰囲気に晒されたときに吸着部７において吸着対象のガス分子を吸着する。ガスセンサ１００は、ガス分子吸着体１と、ガス分子吸着体１の吸着部７に接している第１電極１１及び第２電極１２と、を備える。ガスセンサ１００においては、ガス分子が吸着部７に吸着されると、吸着部７の電気抵抗が変化する。これは、吸着部７に含まれる有機材料がガス分子を吸着して膨張することで、吸着部７に含まれる複数の導電性粒子の位置関係が変化することに起因する、と推察される。

したがって、ガスセンサ１００は、ガス分子吸着体１における吸着部７の電気抵抗の変化を利用して、検出対象のガス分子を検出することが可能である。例えば、ガスセンサ１００は、第１電極１１と第２電極１２との間に電圧を印加した状態で第１電極１１と吸着部７と第２電極１２とを通って流れる電流の変化を測定することにより、吸着部７の電気抵抗の変化を測定することができ、結果として吸着部７に吸着した検出対象のガス分子を検出することが可能である。

（２）詳細
（２．１）ガス分子吸着体及びガスセンサの構成
ガス分子吸着体１は、図１及び２に示すように、電気絶縁性基板２と、複数のピラー６と、吸着部７と、を備える。また、ガス分子吸着体１は、覆い部８を更に備える。また、ガスセンサ１００は、ガス分子吸着体１と、第１電極１１と、第２電極１２と、を備える。また、ガスセンサ１００は、第１配線部１３と、第２配線部１４と、を更に備える。

電気絶縁性基板２は、第１主面２１及び第１主面２１とは反対側の第２主面２２を有する。

電気絶縁性基板２は、電気絶縁性を有する。電気絶縁性基板２では、電気絶縁性基板２のうち少なくとも、吸着部７及び覆い部８に接する部分の材料が、無機材料である。電気絶縁性基板２は、例えば、支持基板３と、支持基板３上に形成されている第１絶縁層４と、第１絶縁層４上に形成されている第２絶縁層５と、を含み、第１絶縁層４及び第２絶縁層５により電気絶縁性を有している。支持基板３は、例えば、シリコン基板である。支持基板３は、シリコン基板に限らず、例えば、ガラス基板でもよい。第１絶縁層４及び第２絶縁層５の材料は、無機材料であり、例えば、酸化ケイ素である。酸化ケイ素は、二酸化ケイ素を含む。第１絶縁層４及び第２絶縁層５の材料は、酸化ケイ素に限らず、例えば、窒化ケイ素であってもよい。また、電気絶縁性基板２では、第１絶縁層４の材料と第２絶縁層５の材料とが異なっていてもよい。この場合、例えば、第１絶縁層４の材料が酸化ケイ素であり、第２絶縁層５の材料が窒化ケイ素である。

複数のピラー６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出している。複数のピラー６の各々は、電気絶縁性基板２側の第１端６１と、電気絶縁性基板２側とは反対側の第２端６２と、を有する。複数のピラー６の各々の第２端６２は、吸着部７における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面７１から突出している。複数のピラー６の各々は、例えば、円柱状である。複数のピラー６の直径は、例えば、３μｍ以上２０μｍ以下であり、一例として、１０μｍである。また、複数のピラー６の高さＨ６は、例えば、３μｍ以上２０μｍであり、一例として、１０μｍである。複数のピラー６は、電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１からの平面視で、例えば、仮想的な２次元正方格子の格子点の群のうち、第１電極１１、第２電極１２、第１配線部１３及び第２配線部１４に重ならない複数の格子点に位置するように配置されている。２次元正方格子において隣り合う２つの格子点に位置する２つのピラー６間の距離は、例えば、３μｍ以上５０μｍ以下であり、一例として、１０μｍである。また、複数のピラー６の配置は、特に限定されない。複数のピラー６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向と平行であるが、厚さ方向Ｄ１と厳密に平行である場合に限らず、例えば、ピラー６と厚さ方向Ｄ１とのなす角度が１０度以下であればよい。

複数のピラー６の各々の材料は、例えば、エポキシ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリイミド、ノボラック樹脂、シリコーン樹脂、環化ポリイソプレン、環化ポリブタジエン及びポリヒドロキシスチレンからなる群より選ばれる少なくとも１種類の材料を含んでいる。

吸着部７は、電気絶縁性基板２の第１主面２１の一部及び複数のピラー６それぞれの側面６３の一部を覆っており、吸着対象のガス分子を吸着する。電気絶縁性基板２に対して規定される厚さ方向Ｄ１からの平面視で、吸着部７の外縁は、円形状であるが、これに限らず、例えば、四角形状又は六角形状であってもよい。

吸着部７は、吸着対象のガス分子を吸着する有機材料と、導電性粒子と、を含む。吸着対象のガス分子とは、例えば、ガス分子吸着体１を備えるガスセンサ１００において検出対象とするガス分子を意味する。吸着部７における吸着対象のガス分子（化学物質）は、例えば、揮発性有機化合物（Volatile Organic Compounds）又は無機化合物である。揮発性有機化合物は、例えば、ケトン類、アミン類、アルコール類、芳香族炭化水素類、アルデヒド類、エステル類、有機酸、メチルメルカプタン及びジスルフィドからなる群より選ばれる少なくとも１種類を含む。無機化合物は、例えば、硫化水素、二酸化硫黄及び二硫化炭素からなる群より選ばれる少なくとも１種類を含む。

吸着部７は、膜状であって、有機材料中に導電性粒子が分散されている。吸着部７は、感応膜を構成している。感応膜は、上述の有機材料からなる感応材料と導電性粒子とを含むコンポジット膜である。

吸着部７における有機材料は、吸着対象のガス分子の種類、及び／又は吸着部７に含まれる導電性粒子の種類等に応じて選択される。有機材料は、例えば、ポリアルキレングリコール、ポリエステル、シリコーン、グリセロール、ニトリル、ジカルボン酸モノエステル、又は脂肪族アミンから選択される少なくとも１種類の材料である。

吸着部７における導電性材料は、炭素材料、導電性ポリマー、金属、金属酸化物、半導体、超伝導体、又は錯化合物等から選択される少なくとも１種類の材料を含む。炭素材料は、例えば、カーボンブラック、グラファイト、コークス、カーボンナノチューブ、グラフェン、又はフラーレンを含み得る。導電性ポリマーは、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、又はポリアセチレンを含み得る。金属は、例えば、銀、金、銅、白金、又はアルミニウムを含み得る。金属酸化物は、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化タングステン、酸化亜鉛、又は酸化チタンを含み得る。半導体は、例えば、ケイ素、砒化ガリウム、リン化インジウム、又は硫化モリブデンを含み得る。超伝導体は、例えば、ＹＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７、又はＴｌ_２Ｂａ_２Ｃａ_２Ｃｕ_３Ｏ_１０を含み得る。錯化合物は、例えば、テトラメチルパラフェニレンジアミンとクロラニルとの錯化合物、テトラシアノキノジメタンとアルカリ金属との錯化合物、テトラチアフルバレンとハロゲンとの錯化合物、イリジウムとハロカルボニル化合物との錯化合物、又はテトラシアノ白金を含み得る。

覆い部８は、電気絶縁性基板２の第１主面２１において吸着部７の周囲に位置し、電気絶縁性基板２の第１主面２１を覆っている。覆い部８は、吸着部７を露出させる円形状の開口９を有している。吸着部７は、平面視で、覆い部８の開口９内に配置されている。より詳細には、吸着部７は、電気絶縁性基板２と覆い部８の開口９とによって規定される凹部８３内に配置されている。覆い部８は、例えば、エポキシ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリイミド、ノボラック樹脂、シリコーン樹脂、環化ポリイソプレン、環化ポリブタジエン及びポリヒドロキシスチレンからなる群より選ばれる少なくとも１種類の材料を含む。覆い部８は、フッ素を更に含んでいてもよい。

電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１において、覆い部８の厚さＨ８は、吸着部７の厚さＨ７よりも厚い。ガス分子吸着体１では、吸着部７は、覆い部８における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面８１までは至っていない。

また、電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１において、覆い部８の厚さＨ８は、複数のピラー６の各々の高さＨ６よりも大きい。

ガスセンサ１００は、上述のように、ガス分子吸着体１と、吸着部７に接続されている第１電極１１と、吸着部７に接続されている第２電極１２と、を備える。

ガス分子吸着体１は、吸着部７においてガス吸着性を有する。「ガス吸着性」とは、ガスに晒された場合にガス中に含まれる検出対象のガス分子（ここでは、化学物質）を吸着する性質をいう。有機材料がガス吸着性を有することは、技術常識に基づいて判断され得る。例えば、有機材料をガスに晒してから、この有機材料をガスクロマトグラフ質量分析計で分析することでガス由来の化学物質が検出される場合、この有機材料がガス吸着性を有していると判断され得る。

第１電極１１は、吸着部７に接している。また、第２電極１２は、吸着部７に接している。第１電極１１及び第２電極１２は、電気絶縁性基板２の第１絶縁層４上に形成されている。第１電極１１及び第２電極１２の材料は、例えば、Ｐｔ又はＡｕであるが、これに限らない。また、第１電極１１及び第２電極１２の各々は、例えば、Ｐｔ膜と第１絶縁層４との間に、Ｐｔ膜と比べて第１絶縁層４との密着性の高い下地膜（例えば、Ｔｉ膜）を有していてもよい。

第１電極１１及び第２電極１２は、互いに離れている。第１電極１１及び第２電極１２は、電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１からの平面視で、例えば、櫛形状である。第１電極１１は、第１櫛骨部１１０と、第１櫛骨部１１０から突出している複数の第１櫛歯部１１１と、を有する。第１櫛骨部１１０は、例えば、電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に直交する第１方向Ｄ２に長い長尺形状である。第２電極１２は、第２櫛骨部１２０と、第２櫛骨部１２０から突出している複数の第２櫛歯部１２１と、を有する。第２櫛骨部１２０は、例えば、第１方向Ｄ２に長い長尺形状である。電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１からの平面視で、第１櫛骨部１１０と第２櫛骨部１２０とは、第１方向Ｄ２に直交する第２方向Ｄ３において互いに対向している。ガスセンサ１００では、第１電極１１及び第２電極１２は、電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１からの平面視で、複数の第１櫛歯部１１１と第２電極１２の複数の第２櫛歯部１２１とが第１方向Ｄ２において離隔して１つずつ交互に並ぶように配置されている。

上述の電気絶縁性基板２の第２絶縁層５は、第１電極１１に対応する第１開口５１を有し、第２電極１２に対応する第２開口５２を有している。第１開口５１の開口形状は、第１電極１１と同様に櫛形状であるが、平面視で第１電極１１の外縁よりも第１開口５１の内縁が内側に位置するように第１電極１１よりも小さい。第２開口５２の開口形状は、第２電極１２と同様に櫛形状であるが、平面視で第２電極１２の外縁よりも第２開口５２の内縁が内側に位置するように第２電極１２よりも小さい。第１電極１１は、吸着部７に覆われており、吸着部７に接している表面１１３において吸着部７と電気的に接続されている。また、第２電極１２は、吸着部７に覆われており、吸着部７に接している表面１２３において吸着部７と電気的に接続されている。第１電極１１は、吸着部７において第１開口５１内に配置されている部分に接続されている。第２電極１２は、吸着部７において第２開口５２内に配置されている部分に接続されている。

また、ガスセンサ１００は、第１端子と、第１電極１１と第１端子とを接続している第１配線部１３と、を備える。また、ガスセンサ１００は、第２端子と、第２電極１２と第２端子とを接続している第２配線部１４と、を備える。

第１配線部１３及び第２配線部１４は、電気絶縁性基板２の第１絶縁層４上に形成されている。第１配線部１３及び第２配線部１４の材料は、例えば、Ｐｔ又はＡｕであるが、これに限らない。また、第１配線部１３及び第２配線部１４の各々は、例えば、Ｐｔ膜と第１絶縁層４との間に、Ｐｔ膜と比べて第１絶縁層４との密着性の高い下地膜（例えば、Ｔｉ膜）を有していてもよい。また、第１配線部１３及び第２配線部１４の各々は、第１電極１１及び第２電極１２よりも抵抗率の低い材料により形成されていてもよい。

第１端子及び第２端子は、電気絶縁性基板２の第１絶縁層４上に形成されている。第１端子及び第２端子の材料は、例えば、Ｐｔ又はＡｕであるが、これに限らない。また、第１端子及び第２端子の各々は、例えば、Ｐｔ膜と第１絶縁層４との間に、Ｐｔ膜と比べて第１絶縁層４との密着性の高い下地膜（例えば、Ｔｉ膜）を有していてもよい。第１端子及び第２端子は、外部回路と接続するための外部接続端子であり、第２絶縁層５及び覆い部８に覆われずに露出している端子表面を有する。

（３）ガスセンサの動作
ガスセンサ１００では、吸着部７において、検出対象のガス分子を吸着すると、第１電極１１と第２電極１２との間に電気的に接続されている吸着部７の電気抵抗値の変化が生じる。したがって、ガスセンサ１００は、例えば、吸着部７に接続されている第１電極１１及び第２電極１２に対応する第１端子及び第２端子間に電圧を印加した状態で第１端子及び第２端子間に流れる電流を測定することにより、吸着部７でのガス分子の吸着等に起因した吸着部７の電気抵抗値の変化を測定することが可能となる。図３は、電気抵抗値の変化例を示している。図３では、横軸が時間であり、縦軸が規格化された電気抵抗値である。図３において、期間Ｔ１は、ガスセンサ１００の雰囲気を検出対象のガス分子を含まない純窒素ガス雰囲気とした期間である。また、期間Ｔ２は、ガスセンサ１００の雰囲気を検出対象のガス分子を含む雰囲気とした期間である。また、期間Ｔ３は、ガスセンサ１００の雰囲気を検出対象のガス分子を含まない純窒素ガス雰囲気とした期間である。ガスセンサ１００では、検出対象のガス分子を含む雰囲気に晒されることにより、図３に示すように吸着部７の電気抵抗値が増加し、検出対象のガス分子を含む雰囲気に晒されなくなると吸着部７の電気抵抗値が低下する。

したがって、ガスセンサ１００では、吸着部７の電気抵抗値の変化に基づいて、吸着部７に吸着した分子を検出することが可能である。例えば、第１端子と第２端子との間に一定電圧を印加した状態で吸着部７を流れる電流を測定することにより、吸着部７に吸着した分子を検出することが可能である。また、例えば、第１端子及び第２端子に一定電流を流した状態で吸着部７における電圧降下を測定することによっても、吸着部７に吸着した分子を検出することが可能である。

（４）ガス分子吸着体及びガスセンサの製造方法
以下、ガス分子吸着体１を備えるガスセンサ１００の製造方法について、図４Ａ～６Ｃを参照して説明する。

ガスセンサ１００の製造方法は、第１工程～第９工程を含む。

第１工程では、シリコン基板からなる支持基板３を準備する（図４Ａ参照）。

第２工程では、例えば、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法又は熱酸化法によって、支持基板３上に第１絶縁層４を形成する（図４Ｂ参照）。

第３工程では、例えば、蒸着法によって、第１絶縁層４上に、第１電極１１、第２電極１２、第１配線部１３、第２配線部１４、第１端子及び第２端子の元になる導電層１０を形成する（図４Ｃ参照）。

第４工程では、例えば、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して導電層１０をパターニングすることによって、第１電極１１、第２電極１２、第１配線部１３、第２配線部１４、第１端子及び第２端子を形成する（図５Ａ参照）。第１電極１１、第２電極１２、第１配線部１３、第２配線部１４、第１端子及び第２端子は、導電層１０において互いに異なる部分によって構成される。

第５工程では、例えば、ＣＶＤ法によって、第１絶縁層４の露出している表面と、第１電極１１、第２電極１２、第１配線部１３、第２配線部１４、第１端子及び第２端子と、を覆い第２絶縁層５の元になる絶縁層５０を形成する（図５Ｂ参照）。

第６工程では、例えば、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して絶縁層５０をパターニングすることによって、第１開口５１及び第２開口５２を有する第２絶縁層５を形成する（図５Ｃ参照）。これにより、支持基板３と第１絶縁層４と第２絶縁層５とを含む電気絶縁性基板２が形成される。

第７工程では、例えば、フォトリソグラフィ技術を利用して電気絶縁性基板２の第１主面２１上に複数のピラー６を形成する（図６Ａ参照）。第７工程では、複数のピラー６の元になる第１レジスト層の材料として、例えば、ＳＵ－８を利用する。

第８工程では、例えば、フォトリソグラフィ技術を利用して電気絶縁性基板２の第１主面２１上に覆い部８を形成する（図６Ｂ参照）。第８工程では、覆い部８の元になる第２レジスト層の材料として、例えば、ＳＵ－８を利用する。

第９工程では、例えば、塗布法及び乾燥法等を利用して吸着部７を形成する（図６Ｃ参照）。第９工程は、吸着部７の材料を含むインク（溶液）を塗布する塗布工程と、インクを乾燥させることで吸着部７を形成する乾燥工程と、を含む。塗布工程では、電気絶縁性基板２の第１主面２１において覆い部８で覆われていない部位と、第１電極１１の表面１１３及び第２電極１２の表面１２３と、に吸着部７の材料（有機材料及び導電性粒子）及び溶媒を含むインクを塗布する。塗布工程では、例えば、インクジェット法によって、インクを電気絶縁性基板２の第１主面２１上に塗布する。インクは、吸着部７の材料である有機材料及び導電性粒子と、溶媒と、を含む。溶媒は、有機材料を溶解又は分散させ、かつ、導電性粒子を分散させる。溶媒は、例えばジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、トルエン、クロロホルム、アセトン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、又は酢酸ブチル等から選択される少なくとも１種類の成分を含み得る。乾燥工程では、電気絶縁性基板２の第１主面２１上のインクを乾燥させる（溶媒を揮発させる）ことによって吸着部７を形成する。第９工程は、塗布工程の前に、電気絶縁性基板２の第１主面２１において覆い部８で覆われていない部位と、第１電極１１の表面１１３及び第２電極１２の表面１２３とをＯ_２プラズマに晒すＯ_２プラズマ処理工程を含んでいてもよい。Ｏ_２プラズマ処理工程を行うことによって、電気絶縁性基板２の第１主面２１において覆い部８で覆われていない部位、第１電極１１の表面１１３、及び第２電極１２の表面１２３それぞれの、インクに対する濡れ性を向上させることが可能となる。

ガスセンサ１００の製造方法では、第１工程において支持基板３を含む第１ウェハ（例えば、シリコンウェハ）を準備して、第２工程から第９工程を行うことにより、複数のガスセンサ１００を含む第２ウェハを得ることができる。ガスセンサ１００の製造方法では、第２ウェハを例えばダイシングソー等によって切断することで、複数のガスセンサ１００を得ることができる。

（５）利点
実施形態１に係るガス分子吸着体１は、電気絶縁性基板２と、複数のピラー６と、吸着部７と、を備える。電気絶縁性基板２は、第１主面２１及び第１主面２１とは反対側の第２主面２２を有する。複数のピラー６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出している。吸着部７は、電気絶縁性基板２の第１主面２１の一部及び複数のピラー６それぞれの側面６３の一部を覆っており、吸着対象のガス分子を吸着する。複数のピラー６の各々は、電気絶縁性基板２側の第１端６１と、電気絶縁性基板２側とは反対側の第２端６２と、を有する。複数のピラー６の各々の第２端６２は、吸着部７における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面７１から突出している。

実施形態１に係るガス分子吸着体１は、吸着部７の厚さＨ７の均一性を向上させることが可能となる。例えば、実施形態１に係るガス分子吸着体１では、その製造時において、吸着部７の材料を含むインクを乾燥させるときに複数のピラー６によって吸着部７を保持できるので、吸着部７の厚さＨ７の均一性を向上させることが可能となる。また、実施形態１に係るガス分子吸着体１では、その製造時において、インクを乾燥させるときの応力集中に起因して吸着部７が剥離することを抑制でき、製造歩留まりの向上による低コスト化を図れるという利点もある。

また、実施形態１に係るガスセンサ１００は、ガス分子吸着体１と、吸着部７に接続されている第１電極１１と、第１電極１１から離れており吸着部７に接続されている第２電極１２と、を備える。

実施形態１に係るガスセンサ１００は、ガス分子吸着体１を備えるので、吸着部７の厚さＨ７の均一性を向上させることが可能となる。

また、実施形態１に係るガスセンサ１００は、複数のピラー６を備えていない比較例のガスセンサと場合と比べて、Ｓ／Ｎ比を向上させることが可能となる。より詳細には、実施形態１に係るガスセンサ１００は、複数のピラー６を備えていない比較例のガスセンサと場合と比べて、検出対象のガス分子を含む雰囲気に晒されたときのノイズレベルを低減することが可能となり、Ｓ／Ｎを向上させることが可能となる。

実施形態１の一実施例に係るガスセンサ１００では、複数のピラー６の直径を１０μｍ、高さＨ６を１０μｍとした。また、一実施例に係るガスセンサ１００の検出対象のガス分子は、例えば、ノナナール（nonanal）を含む。

一実施例に係るガスセンサ１００の一実施例では、その製造条件に関し、吸着部７を形成する第９工程において、インクにおける溶媒として、富士フィルム和光純薬株式会社製のＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）を用い、インクにおける導電性粒子（カーボン粒子）として、三菱ケミカル株式会社製のＣＢ＃２３５０（カーボンブラック）を用い、インクにおける有機材料として、信和化工株式会社製のＳＰ２３４０（シリコーン樹脂）を用いた。また、インクでは、ＣＢ＃２３５０の濃度を１０ｍｇ／ｍｌとし、ＳＰ２３４０の濃度を７．５ｍｇ／ｍｌとした。乾燥工程での条件は、乾燥温度を５０℃、乾燥時間を２０分とした。

図７及び８は、一実施例に係るガスセンサ１００の断面ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）像図である。図７及び８に示すように、複数のピラー６の各々の第２端６２は、吸着部７における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面７１から突出している。断面ＳＥＭ像図から、吸着部７は、上述の第９工程において吸着部７の元になるインクが複数のピラー６の各々の側面６３を這い上がった状態で乾燥していると推考される。

一実施例に係るガスセンサ１００のＳ／Ｎ比は、雰囲気中のノナナールの濃度を１ｐｐｍとしたとき、複数のピラー６を備えていない比較例に係るガスセンサのＳ／Ｎ比の約３．５倍であった。一実施例に係るガスセンサ１００は、比較例に係るガスセンサと比べて、検出対象のガス分子を含む雰囲気に晒されたときの信号レベルは同等でノイズレベルが大幅に低下した。

（実施形態２）
以下、実施形態２に係るガス分子吸着体１ａ及びガスセンサ１００ａについて、図９及び１０に基づいて説明する。

実施形態２に係るガス分子吸着体１ａ及びガスセンサ１００ａは、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと略同じであり、吸着部７を複数（例えば、４つ）備える点で、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと相違する。実施形態２に係るガス分子吸着体１ａ及びガスセンサ１００ａに関し、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。

電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１からの平面視で、複数の吸着部７の各々の外縁は、例えば、円形状であるが、これに限らず、例えば、四角形状であってもよい。電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１からの平面視で、複数の吸着部７は、２次元アレイ状に配置されているが、これに限らず、例えば、１次元アレイ状に配置されていてもよい。複数の吸着部７は、互いに離れている。複数の吸着部７は、平面視で互いに同じ大きさであるが、大きさが異なっていてもよい。また、複数の吸着部７は、平面視で互いに同じ形状であるが、形状が異なっていてもよい。以下では、説明の便宜上、４つの吸着部７を区別する場合、図１０の左上の吸着部７を第１吸着部７Ａと称し、左下の吸着部７を第２吸着部７Ｂと称し、右上の吸着部７を第３吸着部７Ｃと称し、右下の吸着部７を第４吸着部７Ｄと称することもある。

ガス分子吸着体１ａでは、複数の吸着部７の吸着対象（検出対象）のガス分子が互いに異なるが、これに限らず、少なくとも２つの吸着部７の吸着対象のガス分子が互いに異なっていればよい。また、ガス分子吸着体１ａでは、複数の吸着部７の検出対象のガス分子が互いに同じであってもよい。また、ガス分子吸着体１ａでは、複数の吸着部７の各々において、吸着対象のガス分子が２種類以上であってもよい。また、ガス分子吸着体１ａでは、複数の吸着部７の各々において吸着対象のガス分子が２種類以上の場合、複数の吸着部７において、２種類以上の検出対象のガス分子のうち少なくとも１種類が互いに同じであってもよい。複数の吸着部７は、例えば、有機材料の種類等を異ならせることによって吸着対象のガス分子を異ならせることができる。

ガス分子吸着体１ａでは、覆い部８は、電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１からの平面視で、複数の吸着部７の周囲に位置している。覆い部８は、平面視で所定のパターンに形成されており、複数の吸着部７に一対一に対応する複数の開口９を有する。複数の開口９の各々の開口形状は、例えば、円形状である。複数の吸着部７は、覆い部８の複数の開口９のうち対応する開口９内に配置されている。電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１において、覆い部８の厚さＨ８は、複数の吸着部７の各々の厚さＨ７よりも厚い。複数の吸着部７の厚さＨ７は、互いに同じであるが、これに限らず、互いに異なっていてもよい。

複数の吸着部７は、覆い部８における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面８１までは至っていない。覆い部８は、平面視で、第１吸着部７Ａと第２吸着部７Ｂとの並んでいる方向において第１吸着部７Ａと第２吸着部７Ｂとの間に位置している部分８４１を含む。また、覆い部８は、平面視で、第１吸着部７Ａと第３吸着部７Ｃとの並んでいる方向において第１吸着部７Ａと第３吸着部７Ｃとの間に位置している部分８４２を含む。また、覆い部８は、平面視で、第１吸着部７Ａと第４吸着部７Ｄとの並んでいる方向において第１吸着部７Ａと第４吸着部７Ｄとの間に位置している部分８４３を含む。また、覆い部８は、平面視で、第２吸着部７Ｂと第３吸着部７Ｃとの並んでいる方向において第２吸着部７Ｂと第３吸着部７Ｃとの間に位置している部分８４４を含む。また、覆い部８は、平面視で、第２吸着部７Ｂと第４吸着部７Ｄとの並んでいる方向において第２吸着部７Ｂと第４吸着部７Ｄとの間に位置している部分８４５を含む。また、覆い部８は、平面視で、第３吸着部７Ｃと第４吸着部７Ｄとの並んでいる方向において第３吸着部７Ｃと第４吸着部７Ｄとの間に位置している部分８４６を含む。

ガスセンサ１００ａは、ガス分子吸着体１ａと、複数の吸着部７に一対一に接続されている複数の第１電極１１と、複数の吸着部７に一対一に接続されている複数の第２電極１２と、を備える。すなわち、複数の吸着部７の各々には、１つの第１電極１１と１つの第２電極１２とが接続されている。第１吸着部７Ａに接続されている第１電極１１及び第２電極１２は、互いに離れている。また、第２吸着部７Ｂに接続されている第１電極１１及び第２電極１２は、互いに離れている。また、第３吸着部７Ｃに接続されている第１電極１１及び第２電極１２は、互いに離れている。また、第４吸着部７Ｄに接続されている第１電極１１及び第２電極１２は、互いに離れている。

また、ガスセンサ１００ａは、複数の第１電極１１に一対一に接続されている複数の第１配線部１３と、複数の第２電極１２に一対一に接続されている複数の第２配線部１４と、を備える。また、ガスセンサ１００ａは、複数の第１配線部１３に一対一に接続されている複数の第１端子と、複数の第２配線部１４に一対一に接続されている複数の第２端子と、を備える。

覆い部８は、上述の複数の第１配線部１３及び複数の第２配線部１４それぞれの一部も覆っている。上述の複数の第１端子及び複数の第２端子は、外部回路と接続するための外部接続端子であり、第２絶縁層５及び覆い部８に覆われずに露出している端子表面を有する。

ガスセンサ１００ａでは、複数（例えば、４つ）の第１端子が１つの端子で構成されていてもよい。したがって、ガスセンサ１００ａでは、第１吸着部７Ａに接続されている第１端子と、第２吸着部７Ｂに接続されている第１端子と、第３吸着部７Ｃに接続されている第１端子と、第４吸着部７Ｄに接続されている第１端子と、が共通の端子であってもよい。

実施形態２に係るガス分子吸着体１ａ及びガスセンサ１００ａでは、複数の吸着部７の各々に対して複数のピラー６が配置されており、複数の吸着部７の各々に対して、複数のピラー６の各々の第２端６２が、吸着部７における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面７１から突出している。

実施形態２に係るガス分子吸着体１ａ及びガスセンサ１００ａは、複数の吸着部７の各々に関して、吸着部７の厚さＨ７の均一性を向上させることが可能となる。

また、ガスセンサ１００ａは、ガス分子吸着体１ａの複数の吸着部７が覆い部８における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面８１までは至っていないので、隣り合う吸着部７間のクロストークの発生を抑制することが可能となる。

（実施形態３）
以下、実施形態３に係るガス分子吸着体１ｂ及びガスセンサ１００ｂについて、図１１に基づいて説明する。実施形態３に係るガス分子吸着体１ｂ及びガスセンサ１００ｂは、電気絶縁性基板２が支持基板３と第１絶縁層４とで構成されている点で実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと相違する。実施形態３に係るガス分子吸着体１ｂ及びガスセンサ１００ｂに関し、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。

実施形態３に係るガス分子吸着体１ｂでは、第１絶縁層４における支持基板３側とは反対側の表面が、電気絶縁性基板２の第１主面２１を構成している。

実施形態３に係るガス分子吸着体１ｂ及びガスセンサ１００ｂでは、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００と同様、複数のピラー６が、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出している。吸着部７は、電気絶縁性基板２の第１主面２１の一部及び複数のピラー６それぞれの側面６３の一部を覆っており、吸着対象のガス分子を吸着する。複数のピラー６の各々は、電気絶縁性基板２側の第１端６１と、電気絶縁性基板２側とは反対側の第２端６２と、を有する。複数のピラー６の各々の第２端６２は、吸着部７における電気絶縁性基板２側とは反対側の主面７１から突出している。

実施形態３に係るガス分子吸着体１ｂ及びガスセンサ１００ｂは、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００と同様、吸着部７の厚さＨ７の均一性を向上させることが可能となる。

（実施形態４）
以下、実施形態４に係るガス分子吸着体１ｃ及びガスセンサ１００ｃについて、図１２、１３Ａ及び１３Ｂに基づいて説明する。

実施形態４に係るガス分子吸着体１ｃ及びガスセンサ１００ｃは、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと略同じであり、複数のピラー６である第１ピラー６とは別の第２ピラー１６を備える点で、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと相違する。実施形態４に係るガス分子吸着体１ｃ及びガスセンサ１００ｃに関し、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００それぞれと同様の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。

実施形態４に係るガス分子吸着体１ｃにおける吸着部７の厚さＨ７は、実施形態１に係るガス分子吸着体１における吸着部７の厚さＨ７よりも厚い。

第２ピラー１６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出している。第２ピラー１６は、電気絶縁性基板２側の第１端１６１と、電気絶縁性基板２側とは反対側の第２端１６２と、を有する。第２ピラー１６は、複数の吸着部７のうち１つの吸着部７に覆われている。したがって、複数の第２ピラー１６の側面１６３は、吸着部７により覆われている。

第２ピラー１６の材料は、例えば、第１ピラー６の材料と同じである。また、第２ピラー１６の直径は、第１ピラー６の直径と同じであるが、これに限らず異なってもよい。第２ピラー１６の高さは、第１ピラー６の高さＨ６と同じであるが、これに限らない。

実施形態４に係るガス分子吸着体１ｃ及びガスセンサ１００ｃは、実施形態１に係るガス分子吸着体１及びガスセンサ１００と同様、複数のピラー６を備えているので、吸着部７の厚さＨ７の均一性を向上させることが可能となる。

（変形例）
上述の実施形態１～４は、本開示の様々な実施形態の一つにすぎない。上述の実施形態１～４は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下、上述の実施形態１～４の変形例を列挙する。以下に説明する変形例は、適宜組み合わせて適用可能である。

電気絶縁性基板２に対して規定される厚さ方向Ｄ１からの平面視で、吸着部７の外縁は、円形状に限らず、例えば、楕円形状、四角形状又は六角形状であってもよい。

また、第１電極１１及び第２電極１２の各々の形状は、櫛形状に限らず、他の形状であってもよい。

また、ガス分子吸着体１、１ａ、１ｂの各々は、覆い部８を備えている態様に限らず、覆い部８を備えていない態様であってもよい。

また、ガス分子吸着体１、１ａ、１ｂ、１ｃでは、複数のピラー６の材料が電気絶縁性基板２の材料と異なるが、複数のピラー６の材料が電気絶縁性基板２の材料と同じであってもよい。この場合、複数のピラー６と電気絶縁性基板２とが一体であってもよい。より詳細には、複数のピラー６と電気絶縁性基板２との元になる基板を加工することによって、複数のピラー６と電気絶縁性基板２とを形成してもよい。

また、複数のピラー６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出していればよく、厚さ方向Ｄ１と平行である場合に限らず、斜めに傾いていてもよく、厚さ方向Ｄ１とピラー６とのなす角度が例えば、２０～３０度であってもよい。

また、複数のピラー６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出していればよく、第１端６１と第２端６２とが一直線上になくてもよい。言い換えれば、複数のピラー６は、電気絶縁性基板２の第１主面２１から電気絶縁性基板２に対して規定された厚さ方向Ｄ１に沿った方向に突出していればよく、途中で曲がっていてもよい。

また、複数のピラー６の各々の直径は、３μｍ以上２０μｍ以下である場合に限らず、０．１μｍ以上であればよい。

また、複数のピラー６のうち少なくとも１つのピラー６が、当該１つのピラー６とは異なる他の１つ以上のピラー６とつながっていてもよい。

また、ガスセンサ１００、１００ａ、１００ｂ、１００ｃは、抵抗検知式のガスセンサに限らず、他の検知方式のガスセンサであってもよい。

（態様）
本明細書には、以下の態様が開示されている。

第１の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、電気絶縁性基板（２）と、複数のピラー（６）と、吸着部（７）と、を備える。電気絶縁性基板（２）は、第１主面（２１）及び第１主面（２１）とは反対側の第２主面（２２）を有する。複数のピラー（６）は、電気絶縁性基板（２）の第１主面（２１）から電気絶縁性基板（２）に対して規定された厚さ方向（Ｄ１）に沿った方向に突出している。吸着部（７）は、電気絶縁性基板（２）の第１主面（２１）の一部及び複数のピラー（６）それぞれの側面（６３）の一部を覆っており、吸着対象のガス分子を吸着する。複数のピラー（６）の各々は、電気絶縁性基板（２）側の第１端（６１）と、電気絶縁性基板（２）側とは反対側の第２端（６２）と、を有する。複数のピラー（６）の各々の第２端（６２）は、吸着部（７）における電気絶縁性基板（２）側とは反対側の主面（７１）から突出している。

第１の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）の均一性を向上させることが可能となる。

第２の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１の態様において、吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）は、複数のピラー（６）の各々の高さよりも小さい。

第２の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、吸着部（７）の形成が容易になる。

第３の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１又は２の態様において、吸着部（７）は、吸着対象のガス分子を吸着する有機材料と、導電性粒子と、を含む。

第４の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１～３の態様のいずれか一つにおいて、複数のピラー（６）の各々は、電気絶縁性を有する。複数のピラー（６）の材料は、有機材料である。

第４の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、例えば、フォトリソグラフィ技術を利用して複数のピラー（６）を形成することが可能となる。

第５の態様に係るガス分子吸着体（１ｃ）は、第１～４の態様のいずれか一つにおいて、複数のピラー（６）である複数の第１ピラー（６）とは別に、電気絶縁性基板（２）の第１主面（２１）から電気絶縁性基板（２）に対して規定された厚さ方向（Ｄ１）に沿った方向に突出している第２ピラー（１６）を更に備える。第２ピラー（１６）は、電気絶縁性基板（２）側の第１端（１６１）と、電気絶縁性基板（２）側とは反対側の第２端（１６２）と、を有する。第２ピラー（１６）は、吸着部（７）に覆われている。

第６の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１～５の態様のいずれか一つにおいて、電気絶縁性基板（２）は、少なくとも、吸着部（７）に接する部分の材料が無機材料である。

第６の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、電気絶縁性基板（２）と吸着部（７）との密着性を向上させることが可能となる。

第７の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、第１～６の態様のいずれか一つにおいて、覆い部（８）を更に備える。覆い部（８）は、電気絶縁性基板（２）の第１主面（２１）において吸着部（７）の周囲に位置し、電気絶縁性基板（２）の第１主面（２１）を覆っている。

第７の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）の均一性を、より向上させることが可能となる。

第８の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第７の態様において、覆い部（８）は、エポキシ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリイミド、ノボラック樹脂、シリコーン樹脂、環化ポリイソプレン、環化ポリブタジエン及びポリヒドロキシスチレンからなる群より選ばれる少なくとも１種類の材料を含む。

第９の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、第７又は８の態様に基づく。第９の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、電気絶縁性基板（２）に対して規定された厚さ方向（Ｄ１）において、覆い部（８）の厚さ（Ｈ８）が吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）よりも厚い。

第９の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）の均一性を向上させやすくなる。

第１０の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、第７～９の態様のいずれか一つに基づく。第１０の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ）では、電気絶縁性基板（２）に対して規定された厚さ方向（Ｄ１）において、覆い部（８）の厚さ（Ｈ８）が複数のピラー（６）の各々の高さ（Ｈ６）よりも大きい。

第１０の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）は、吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）の均一性を、より向上させることが可能となる。

第１１の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第７～１０の態様のいずれか一つにおいて、吸着部（７）は、覆い部（８）における電気絶縁性基板（２）側とは反対側の主面（８１）までは至っていない。

第１１の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、吸着部（７）の厚さの均一性が向上する。

第１２の態様に係るガス分子吸着体（１ａ；１ｃ）は、第７～１１の態様のいずれか一つにおいて、吸着部（７）を複数備える。覆い部（８）は、複数の吸着部（７）の周囲に位置している。覆い部（８）は、電気絶縁性基板（２）に対して規定された厚さ方向（Ｄ１）から見て、複数の吸着部（７）のうち少なくとも２つの吸着部（７）の間に位置している部分（８４１、８４２、８４３、８４４、８４５、８４６）を含む。

第１２の態様に係るガス分子吸着体（１ａ；１ｃ）では、吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）の均一性を、より向上させることが可能となる。

第１３の態様に係るガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）では、第１～１２の態様のいずれか一つにおいて、ガス分子は、揮発性有機化合物又は無機化合物を含む。

第１４の態様に係るガスセンサ（１００；１００ａ；１００ｂ；１００ｃ）は、第１～１３の態様のいずれか一つのガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）と、第１電極（１１）と、第２電極（１２）と、を備える。第１電極（１１）は、ガス分子吸着体（１；１ａ；１ｂ；１ｃ）の吸着部（７）に接続されている。第２電極（１２）は、第１電極（１１）から離れており、吸着部（７）に接続されている。

第１４の態様に係るガスセンサ（１００；１００ａ；１００ｂ；１００ｃ）は、吸着部（７）の厚さ（Ｈ７）の均一性を向上させることが可能となる。

１、１ａ、１ｂ、１ｃ ガス分子吸着体
１１ 第１電極
１２ 第２電極
２ 電気絶縁性基板
２１ 第１主面
２２ 第２主面
６ ピラー（第１ピラー）
６１ 第１端
６２ 第２端
６３ 側面
７ 吸着部
７１ 主面
８ 覆い部
８１ 主面
８４１、８４２、８４３、８４４、８４５、８４６ 部分
１６ 第２ピラー
１６１ 第１端
１６２ 第２端
１６３ 側面
１００、１００ａ、１００ｂ、１００ｃ ガスセンサ
Ｄ１ 厚さ方向
Ｈ６ 高さ
Ｈ７ 厚さ
Ｈ８ 厚さ

Claims (14)

1. 第１主面及び前記第１主面とは反対側の第２主面を有する電気絶縁性基板と、
   前記電気絶縁性基板の前記第１主面から前記電気絶縁性基板に対して規定された厚さ方向に沿った方向に突出している複数のピラーと、
   前記電気絶縁性基板の前記第１主面の一部及び前記複数のピラーそれぞれの側面の一部を覆っており、吸着対象のガス分子を吸着する吸着部と、を備え、
   前記複数のピラーの各々は、
   前記電気絶縁性基板側の第１端と、
   前記電気絶縁性基板側とは反対側の第２端と、を有し、
   前記複数のピラーの各々の前記第２端は、前記吸着部における前記電気絶縁性基板側とは反対側の主面から突出している、
   ガス分子吸着体。
2. 前記吸着部の厚さは、前記複数のピラーの各々の高さよりも小さい、
   請求項１に記載のガス分子吸着体。
3. 前記吸着部は、
   吸着対象のガス分子を吸着する有機材料と、
   導電性粒子と、を含む、
   請求項１又は２に記載のガス分子吸着体。
4. 前記複数のピラーの各々は、電気絶縁性を有し、
   前記複数のピラーの材料は、有機材料である、
   請求項１～３のいずれか一項に記載のガス分子吸着体。
5. 前記複数のピラーである複数の第１ピラーとは別に、前記電気絶縁性基板の前記第１主面から前記電気絶縁性基板に対して規定された厚さ方向に沿った方向に突出している第２ピラーを更に備え、
   前記第２ピラーは、
   前記電気絶縁性基板側の第１端と、
   前記電気絶縁性基板側とは反対側の第２端と、を有し、
   前記第２ピラーは、前記吸着部に覆われている、
   請求項１～４のいずれか一項に記載のガス分子吸着体。
6. 前記電気絶縁性基板は、少なくとも、前記吸着部に接する部分の材料が無機材料である、
   請求項１～５のいずれか１項に記載のガス分子吸着体。
7. 前記電気絶縁性基板の前記第１主面において前記吸着部の周囲に位置し、前記電気絶縁性基板の前記第１主面を覆っている覆い部を更に備える、
   請求項１～６のいずれか一項に記載のガス分子吸着体。
8. 前記覆い部は、エポキシ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリイミド、ノボラック樹脂、シリコーン樹脂、環化ポリイソプレン、環化ポリブタジエン及びポリヒドロキシスチレンからなる群より選ばれる少なくとも１種類の材料を含む、
   請求項７に記載のガス分子吸着体。
9. 前記電気絶縁性基板に対して規定された前記厚さ方向において、前記覆い部の厚さが前記吸着部の厚さよりも厚い、
   請求項７又は８に記載のガス分子吸着体。
10. 前記電気絶縁性基板に対して規定された前記厚さ方向において、前記覆い部の厚さが前記複数のピラーの各々の高さよりも大きい、
    請求項７～９のいずれか一項に記載のガス分子吸着体。
11. 前記吸着部は、前記覆い部における前記電気絶縁性基板側とは反対側の主面までは至っていない、
    請求項７～１０のいずれか１項に記載のガス分子吸着体。
12. 前記吸着部を複数備え、
    前記覆い部は、前記複数の吸着部の周囲に位置しており、
    前記覆い部は、前記電気絶縁性基板に規定された前記厚さ方向から見て、前記複数の吸着部のうち少なくとも２つの吸着部の間に位置している部分を含む、
    請求項７～１１のいずれか１項に記載のガス分子吸着体。
13. 前記ガス分子は、揮発性有機化合物又は無機化合物を含む、
    請求項１～１２のいずれか１項に記載のガス分子吸着体。
14. 請求項１～１３のいずれか１項に記載のガス分子吸着体と、
    前記ガス分子吸着体の前記吸着部に接続されている第１電極と、
    前記第１電極から離れており、前記吸着部に接続されている第２電極と、を備える、
    ガスセンサ。

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