JP2023003965A - grinding wheel - Google Patents

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敬祐 山本
Keisuke Yamamoto
恵助 中野
Keisuke Nakano
陵 島津
Ryo SHIMAZU
息吹 新海
Ibuki SHINKAI
佳一 鈴木
Keiichi Suzuki
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Abstract

To provide a grinding wheel capable of improving efficiency and quality of grinding.SOLUTION: A grinding wheel 34 for grinding a workpiece by creep feed grinding, is equipped with a disc-shaped wheel base 40, a plurality of first grinding wheels 42A including first abrasive grains and provided on one end surface side of the wheel base, and a plurality of second grinding wheels 42B including second abrasive grains and provided on the one end surface side of the wheel base. The wheel base is divided into a first region 50A and a second region 50B by a straight line 48 dividing the one end surface of the wheel base into two. The first grinding wheels are aligned in an arc-shape in the first region, and the second grinding wheels are aligned in an arc-shape in the second region. Distances from a center of the wheel base to the second grinding wheels are shorter than distances of the center of the wheel to the first grinding wheels. Hardness of the first grinding wheels is lower than the hardness of the second grinding wheels. An average grain size of the first abrasive grains is less than three times an average grain size of the second abrasive grains.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、被加工物をクリープフィード研削で研削するための研削ホイールに関する。 The present invention relates to a grinding wheel for grinding a workpiece by creep feed grinding.

デバイスチップの製造プロセスでは、互いに交差する複数のストリート(分割予定ライン)によって区画された複数の領域にそれぞれデバイスが形成されたウェーハが用いられる。このウェーハをストリートに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。デバイスチップは、携帯電話、パーソナルコンピュータ等の様々な電子機器に組み込まれる。 In the process of manufacturing device chips, a wafer is used in which devices are formed in a plurality of areas partitioned by a plurality of streets (division lines) that intersect with each other. A plurality of device chips each having a device is obtained by dividing the wafer along the streets. Device chips are incorporated into various electronic devices such as mobile phones and personal computers.

近年では、電子機器の小型化に伴い、デバイスチップに薄型化が求められている。そこで、分割前のウェーハを研削装置で研削して薄化する工程が実施されることがある。研削装置は、被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、被加工物を研削する研削ユニットとを備えており、研削ユニットには研削砥石を含む研削ホイールが装着される。研削装置は、研削ホイールを回転させて研削砥石を被加工物に接触させることにより、被加工物を研削する。 In recent years, along with the miniaturization of electronic devices, there is a demand for thinner device chips. Therefore, a process of thinning the wafer by grinding it with a grinding machine may be carried out before splitting. The grinding apparatus includes a chuck table having a holding surface that holds a workpiece, and a grinding unit that grinds the workpiece. A grinding wheel including a grinding wheel is attached to the grinding unit. A grinding device grinds a workpiece by rotating a grinding wheel and bringing a grinding wheel into contact with the workpiece.

研削装置を用いてウェーハ等の被加工物を研削する際には、チャックテーブルによって保持された被加工物の中心が研削砥石の軌跡と重なるように、チャックテーブルと研削ユニットとの位置関係が調節される。そして、チャックテーブルと研削ホイールとをそれぞれ回転させながら研削ホイールを保持面と垂直な加工送り方向(鉛直方向)に沿って下降させると、研削砥石の下面が被加工物の上面側に接触して被加工物が研削される。このような研削方式は、インフィード研削と呼ばれる。 When grinding a workpiece such as a wafer using a grinding device, the positional relationship between the chuck table and the grinding unit is adjusted so that the center of the workpiece held by the chuck table overlaps the trajectory of the grinding wheel. be done. When the chuck table and the grinding wheel are rotated and the grinding wheel is lowered along the processing feed direction (vertical direction) perpendicular to the holding surface, the lower surface of the grinding wheel comes into contact with the upper surface of the workpiece. A workpiece is ground. Such a grinding method is called infeed grinding.

一方、被加工物の研削には、クリープフィード研削と称される研削方式が用いられることもある。クリープフィード研削では、研削砥石が被加工物の外側に位置付けられ、且つ、研削砥石の下面が被加工物の上面よりも下方に位置付けられるように、チャックテーブルと研削ユニットとの位置関係が調節される。そして、研削ホイールを回転させつつチャックテーブルを保持面と平行な加工送り方向(水平方向)に沿って移動させる。これにより、被加工物の上面側が研削砥石によって被加工物の側面から円弧状に削り取られ、被加工物が研削される(特許文献1、2参照)。 On the other hand, a grinding method called creep feed grinding is sometimes used for grinding the workpiece. In creep feed grinding, the positional relationship between the chuck table and the grinding unit is adjusted so that the grinding wheel is positioned outside the workpiece and the lower surface of the grinding wheel is positioned below the upper surface of the workpiece. be. Then, while rotating the grinding wheel, the chuck table is moved along the processing feed direction (horizontal direction) parallel to the holding surface. As a result, the upper surface side of the workpiece is scraped off from the side surface of the workpiece in an arc shape by the grinding wheel, and the workpiece is ground (see Patent Literatures 1 and 2).

特開2017-56522号公報JP 2017-56522 A 特開2020-93318号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-93318

研削装置で被加工物を研削する際の研削条件は、被加工物が研削能力の高い研削ホイールによって効率よく研削され、且つ、研削された被加工物の面(被研削面)の平坦性が高くなるように選択される。例えば、被加工物の材質等に応じて、研削砥石に含まれる砥粒の粒径が決定される。 Grinding conditions for grinding a workpiece with a grinding apparatus are such that the workpiece is efficiently ground by a grinding wheel with high grinding ability and the surface of the ground workpiece (surface to be ground) is flat. selected to be high. For example, the grain size of the abrasive grains contained in the grinding wheel is determined according to the material of the workpiece.

ここで、粒径の大きい砥粒を含む研削砥石には、研削能力が高く被加工物を短時間で効率的に研削できるという利点があるが、被加工物の被研削面に粗さを残しやすいという欠点がある。一方、粒径の小さい砥粒を含む研削砥石には、被加工物の被研削面の表面粗さを低減できるという利点があるが、被加工物の研削によって生じた屑(研削屑)が研削砥石に付着して砥粒の突出が不十分になる現象(目詰まり)が生じやすく、研削能力が低下しやすいという欠点がある。そのため、研削加工の効率と研削後の被加工物の品質とを両立させることは難しい。 Here, a grinding wheel containing abrasive grains with a large grain size has the advantage that it has a high grinding ability and can efficiently grind a workpiece in a short time, but it leaves a roughness on the ground surface of the workpiece. It has the disadvantage of being easy. On the other hand, a grinding wheel containing abrasive grains with a small grain size has the advantage of being able to reduce the surface roughness of the surface to be ground of the workpiece. There is a drawback that a phenomenon (clogging) in which the abrasive grains stick to the grindstone and the protrusion of the abrasive grains becomes insufficient tends to occur, and the grinding performance tends to decrease. Therefore, it is difficult to achieve both the efficiency of grinding and the quality of the workpiece after grinding.

本発明は、かかる問題に鑑みてなされたものであり、研削加工の効率及び質を向上させることが可能な研削ホイールの提供を目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a grinding wheel capable of improving the efficiency and quality of grinding.

本発明の一態様によれば、被加工物をクリープフィード研削で研削するための研削ホイールであって、円盤状のホイール基台と、第1砥粒を含み、該ホイール基台の一端面側に設けられた複数の第1研削砥石と、第2砥粒を含み、該ホイール基台の一端面側に設けられた複数の第2研削砥石と、を備え、該ホイール基台は、該ホイール基台の一端面を二分する直線によって第1領域と第2領域とに区画され、該第1研削砥石は、該第1領域に弧状に配列され、該第2研削砥石は、該第2領域に弧状に配列され、該ホイール基台の中心から該第2研削砥石までの距離は、該ホイール基台の中心から該第1研削砥石までの距離よりも短く、該第1研削砥石の硬度は、該第2研削砥石の硬度よりも低く、該第1砥粒の平均粒径は、該第2砥粒の平均粒径の3倍未満である研削ホイールが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a grinding wheel for grinding a workpiece by creep feed grinding, comprising a disk-shaped wheel base and first abrasive grains, one end face side of the wheel base A plurality of first grinding wheels provided in the wheel base and a plurality of second grinding wheels containing second abrasive grains and provided on one end surface side of the wheel base, the wheel base comprising the wheel A straight line that bisects one end face of the base is divided into a first region and a second region, the first grinding wheel is arranged in an arc in the first region, and the second grinding wheel is arranged in the second region. The distance from the center of the wheel base to the second grinding wheel is shorter than the distance from the center of the wheel base to the first grinding wheel, and the hardness of the first grinding wheel is , the hardness of the second grinding wheel is less than the average grain size of the first abrasive grains is less than three times the average grain size of the second abrasive grains.

なお、好ましくは、複数の該第1研削砥石及び複数の該第2研削砥石は、中心位置が該ホイール基台の中心位置と異なる円の円周に沿って配列されている。また、好ましくは、該第1研削砥石の抗折強度は、該第2研削砥石の抗折強度の30%以上60%以下である。また、好ましくは、該第1研削砥石における該第1砥粒の集中度は、該第2研削砥石における該第2砥粒の集中度の60%未満である。また、好ましくは、該第1研削砥石の数は、該第2研削砥石の数よりも少ない。また、好ましくは、該ホイール基台の径方向における該第1研削砥石の幅は、該ホイール基台の径方向における該第2研削砥石の幅よりも小さい。 Preferably, the plurality of first grinding wheels and the plurality of second grinding wheels are arranged along the circumference of a circle whose center position is different from the center position of the wheel base. Moreover, preferably, the bending strength of the first grinding wheel is 30% or more and 60% or less of the bending strength of the second grinding wheel. Also preferably, the concentration of the first abrasive grains on the first grinding wheel is less than 60% of the concentration of the second abrasive grains on the second grinding wheel. Also preferably, the number of said first grinding wheels is less than the number of said second grinding wheels. Also preferably, the width of the first grinding wheel in the radial direction of the wheel base is smaller than the width of the second grinding wheel in the radial direction of the wheel base.

本発明の一態様に係る研削ホイールを用いると、第1研削砥石によって被加工物が効率よく研削された後、第2研削砥石によって被加工物がフラットに研削される。これにより、被加工物の研削の効率及び質が向上する。 When the grinding wheel according to the aspect of the present invention is used, the first grinding wheel efficiently grinds the workpiece, and then the second grinding wheel grinds the workpiece flat. This improves the efficiency and quality of grinding of the workpiece.

研削装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a grinding apparatus. 図2(A)はチャックテーブル及び研削ユニットを示す斜視図であり、図2(B)は研削砥石の一部を示す拡大断面図である。FIG. 2(A) is a perspective view showing a chuck table and a grinding unit, and FIG. 2(B) is an enlarged cross-sectional view showing a part of a grinding wheel. 研削ホイールを示す底面図である。FIG. 10 is a bottom view of the grinding wheel; 図4(A)は準備ステップにおけるチャックテーブル及び研削ユニットを示す側面図であり、図4(B)は研削ステップにおけるチャックテーブル及び研削ユニットを示す側面図である。FIG. 4A is a side view showing the chuck table and grinding unit in the preparation step, and FIG. 4B is a side view showing the chuck table and grinding unit in the grinding step. 図5(A)は第1研削砥石に接触する被加工物を示す断面図であり、図5(B)は第2研削砥石に接触する被加工物を示す断面図であり、図5(C)は第2研削砥石によって研削される被加工物を示す断面図である。FIG. 5A is a cross-sectional view showing the workpiece in contact with the first grinding wheel, FIG. 5B is a cross-sectional view showing the workpiece in contact with the second grinding wheel, and FIG. ) is a cross-sectional view showing a workpiece to be ground by a second grinding wheel.

以下、添付図面を参照して本発明の一態様に係る実施形態を説明する。まず、本実施形態に係る研削ホイールを用いて被加工物を研削することが可能な研削装置の構成例について説明する。図1は、研削装置2を示す斜視図である。なお、図1において、X軸方向(加工送り方向、前後方向、第1水平方向)とY軸方向(左右方向、第2水平方向)とは、互いに垂直な方向である。また、Z軸方向(鉛直方向、上下方向、高さ方向)は、X軸方向及びY軸方向と垂直な方向である。 An embodiment according to one aspect of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. First, a configuration example of a grinding apparatus capable of grinding a workpiece using the grinding wheel according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a grinding device 2. FIG. In FIG. 1, the X-axis direction (processing feed direction, front-rear direction, first horizontal direction) and the Y-axis direction (left-right direction, second horizontal direction) are perpendicular to each other. Also, the Z-axis direction (vertical direction, vertical direction, height direction) is a direction perpendicular to the X-axis direction and the Y-axis direction.

研削装置2は、研削装置2を構成する各構成要素を支持及び収容する基台4を備える。基台4の上面側には、長手方向がX軸方向に沿う矩形状の開口4aが形成されている。また、基台4の後端部には、基台4の上面から上方に突出する直方体状の支持構造6が、Z軸方向に沿って設けられている。 The grinding device 2 includes a base 4 that supports and accommodates each component constituting the grinding device 2 . A rectangular opening 4a whose longitudinal direction is along the X-axis direction is formed on the upper surface side of the base 4 . At the rear end of the base 4, a rectangular parallelepiped support structure 6 protruding upward from the upper surface of the base 4 is provided along the Z-axis direction.

開口4aの内部には、第1移動機構(第1移動ユニット)8が設けられている。例えば第1移動機構8は、ボールねじ式の移動機構であり、X軸方向に沿って配置された一対のガイドレール(不図示)と、一対のガイドレールにスライド可能に装着された平板状の移動テーブル(不図示)とを備える。移動テーブルの裏面(下面)側にはナット部が設けられており、このナット部には、一対のガイドレールの間にX軸方向に沿って配置されたボールねじ(不図示)が螺合されている。また、ボールねじの端部にはパルスモータ(不図示)が連結されている。パルスモータによってボールねじを回転させると、移動テーブルが一対のガイドレールに沿ってX軸方向に移動する。 A first moving mechanism (first moving unit) 8 is provided inside the opening 4a. For example, the first moving mechanism 8 is a ball-screw type moving mechanism, and includes a pair of guide rails (not shown) arranged along the X-axis direction, and a flat plate-like member slidably attached to the pair of guide rails. and a moving table (not shown). A nut portion is provided on the rear (lower) side of the moving table, and a ball screw (not shown) arranged along the X-axis direction between a pair of guide rails is screwed into this nut portion. ing. A pulse motor (not shown) is connected to the end of the ball screw. When the ball screw is rotated by the pulse motor, the moving table moves in the X-axis direction along the pair of guide rails.

第1移動機構8の移動テーブルの表面(上面)側には、被加工物11を保持するチャックテーブル(保持テーブル)10が設けられている。また、第1移動機構8は、チャックテーブル10を囲むように設けられたテーブルカバー8aを備える。さらに、テーブルカバー8aの前方及び後方には、X軸方向に沿って伸縮可能な蛇腹状の防塵防滴カバー12が設けられている。テーブルカバー8a及び防塵防滴カバー12は、開口4aの内部に配置されている第1移動機構8の構成要素(ガイドレール、移動テーブル、ボールねじ、パルスモータ等)を覆っている。 A chuck table (holding table) 10 for holding a workpiece 11 is provided on the surface (upper surface) side of the moving table of the first moving mechanism 8 . The first moving mechanism 8 also includes a table cover 8a that surrounds the chuck table 10 . Furthermore, bellows-shaped dust and splash proof covers 12 that are extendable along the X-axis direction are provided in front and rear of the table cover 8a. The table cover 8a and the dust/splash proof cover 12 cover the constituent elements (guide rail, moving table, ball screw, pulse motor, etc.) of the first moving mechanism 8 arranged inside the opening 4a.

チャックテーブル10の上面は、水平面(XY平面)と概ね平行な平坦面であり、被加工物11を保持する保持面10aを構成している。保持面10aは、例えばポーラスセラミックス等の多孔質部材によって構成されており、チャックテーブル10の内部に形成された流路(不図示)、バルブ(不図示)等を介して、エジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。なお、図1では円盤状の被加工物11の保持を想定して保持面10aが円形に形成されている例を示すが、保持面10aの形状は被加工物11の形状に応じて適宜変更できる。 The upper surface of the chuck table 10 is a flat surface substantially parallel to the horizontal plane (XY plane), and constitutes a holding surface 10a for holding the workpiece 11 . The holding surface 10a is made of, for example, a porous material such as porous ceramics. (not shown). Note that FIG. 1 shows an example in which the holding surface 10a is formed in a circular shape assuming that a disk-shaped workpiece 11 is held, but the shape of the holding surface 10a can be appropriately changed according to the shape of the workpiece 11. can.

チャックテーブル10は、第1移動機構8によってテーブルカバー8aとともにX軸方向に沿って移動する。また、チャックテーブル10にはモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、この回転駆動源はチャックテーブル10をZ軸方向と概ね平行な回転軸の周りで回転させる。すなわち、チャックテーブル10の回転軸は保持面10aと垂直な方向に沿って設定されている。 The chuck table 10 is moved along the X-axis direction by the first moving mechanism 8 together with the table cover 8a. A rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the chuck table 10, and this rotary drive source rotates the chuck table 10 around a rotary shaft substantially parallel to the Z-axis direction. That is, the rotation axis of the chuck table 10 is set along the direction perpendicular to the holding surface 10a.

支持構造6の前面側には、第2移動機構(第2移動ユニット)14が設けられている。第2移動機構14は、Z軸方向に沿って配置された一対のガイドレール16を備える。一対のガイドレール16には、平板状の移動テーブル18が一対のガイドレール16に沿ってスライド可能に装着されている。 A second moving mechanism (second moving unit) 14 is provided on the front side of the support structure 6 . The second moving mechanism 14 includes a pair of guide rails 16 arranged along the Z-axis direction. A flat plate-like moving table 18 is attached to the pair of guide rails 16 so as to be slidable along the pair of guide rails 16 .

移動テーブル18の後面側(裏面側)には、ナット部(不図示)が設けられている。このナット部には、一対のガイドレール16の間にZ軸方向に沿って配置されたボールねじ20が螺合されている。また、ボールねじ20の端部にはパルスモータ22が連結されている。パルスモータ22によってボールねじ20を回転させると、移動テーブル18が一対のガイドレール16に沿ってZ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the rear surface side (rear surface side) of the moving table 18 . A ball screw 20 arranged along the Z-axis direction between the pair of guide rails 16 is screwed into the nut portion. A pulse motor 22 is connected to the end of the ball screw 20 . When the ball screw 20 is rotated by the pulse motor 22, the moving table 18 moves along the pair of guide rails 16 in the Z-axis direction.

移動テーブル18の前面側(表面側)には、移動テーブル18の前面から前方に突出する支持部材24が固定されている。支持部材24は、被加工物11を研削する研削ユニット26を支持している。第2移動機構14によって研削ユニット26のZ軸方向における移動(昇降)が制御される。 A support member 24 projecting forward from the front surface of the moving table 18 is fixed to the front side (surface side) of the moving table 18 . The support member 24 supports a grinding unit 26 that grinds the workpiece 11 . The second moving mechanism 14 controls the movement (up and down) of the grinding unit 26 in the Z-axis direction.

研削ユニット26は、支持部材24によって支持された中空の円柱状のハウジング28を備える。ハウジング28には、Z軸方向に沿って配置された円柱状のスピンドル30が収容されている。スピンドル30の先端部(下端部)は、ハウジング28の下面から下方に突出している。また、スピンドルの基端部(上端部)には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。 Grinding unit 26 comprises a hollow cylindrical housing 28 supported by support members 24 . The housing 28 accommodates a cylindrical spindle 30 arranged along the Z-axis direction. A tip (lower end) of the spindle 30 protrudes downward from the lower surface of the housing 28 . A rotational drive source (not shown) such as a motor is connected to the base end (upper end) of the spindle.

スピンドル30の先端部には、金属等でなる円盤状のホイールマウント32が固定されている。そして、ホイールマウント32の下面側に、被加工物11を研削する研削ホイール34が装着される。例えば研削ホイール34は、ボルト等の固定具によってホイールマウント32に固定される。 A disk-shaped wheel mount 32 made of metal or the like is fixed to the tip of the spindle 30 . A grinding wheel 34 for grinding the workpiece 11 is attached to the lower surface of the wheel mount 32 . For example, grinding wheel 34 is secured to wheel mount 32 by fasteners such as bolts.

研削ホイール34は、回転駆動源からスピンドル30及びホイールマウント32を介して伝達される動力により、Z軸方向と概ね平行な回転軸の周りを回転する。すなわち、研削ホイール34の回転軸はチャックテーブル10の保持面10aと垂直な方向に沿って設定されている。また、研削ユニット26の内部又は近傍には、チャックテーブル10によって保持された被加工物11と研削ホイール34とに純水等の液体(研削液)を供給する、ノズル等の研削液供給路(不図示)が設けられている。 Grinding wheel 34 rotates about a rotation axis generally parallel to the Z-axis direction by power transmitted from a rotational drive source via spindle 30 and wheel mount 32 . That is, the rotation axis of the grinding wheel 34 is set along the direction perpendicular to the holding surface 10 a of the chuck table 10 . Further, inside or near the grinding unit 26, a grinding liquid supply path ( (not shown) are provided.

研削装置2の内部又は外部には、研削装置2を制御する制御部(制御ユニット、制御装置)36が設けられている。制御部36は、研削装置2の各構成要素(第1移動機構8、チャックテーブル10、第2移動機構14、研削ユニット26等)に接続されており、各構成要素の動作を制御するための制御信号を生成する。 A control section (control unit, control device) 36 for controlling the grinding device 2 is provided inside or outside the grinding device 2 . The control unit 36 is connected to each component (the first moving mechanism 8, the chuck table 10, the second moving mechanism 14, the grinding unit 26, etc.) of the grinding device 2, and controls the operation of each component. Generate control signals.

例えば制御部36は、コンピュータによって構成され、研削装置2の制御に必要な演算を行う演算部と、研削装置2の制御に用いられる各種の情報(データ、プログラム等)を記憶する記憶部とを備える。演算部は、CPU(Central Processing Unit)等のプロセッサを含んで構成される。また、記憶部は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等のメモリを含んで構成される。 For example, the control unit 36 is configured by a computer, and includes a calculation unit that performs calculations necessary for controlling the grinding device 2 and a storage unit that stores various information (data, programs, etc.) used for controlling the grinding device 2. Prepare. The calculation unit includes a processor such as a CPU (Central Processing Unit). Further, the storage unit includes memories such as ROM (Read Only Memory) and RAM (Random Access Memory).

上記の研削装置2によって、被加工物11が研削される。例えば被加工物11は、シリコン等の半導体材料でなる円盤状のウェーハであり、表面11a及び裏面11bを備える。被加工物11は、互いに交差するように格子状に配列された複数のストリート(分割予定ライン)によって、複数の矩形状の領域に区画されている。また、ストリートによって区画された複数の領域の表面11a側にはそれぞれ、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)、LED(Light Emitting Diode)等のデバイス(不図示)が形成されている。 A workpiece 11 is ground by the grinding device 2 described above. For example, the workpiece 11 is a disk-shaped wafer made of a semiconductor material such as silicon, and has a front surface 11a and a rear surface 11b. The workpiece 11 is partitioned into a plurality of rectangular regions by a plurality of streets (planned division lines) arranged in a lattice so as to intersect each other. Devices (not shown) such as ICs (Integrated Circuits), LSIs (Large Scale Integrations), and LEDs (Light Emitting Diodes) are formed on the surface 11a side of a plurality of regions partitioned by the streets.

被加工物11を切削加工、レーザー加工等によってストリートに沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ備える複数のデバイスチップが製造される。また、被加工物11の分割前に、研削装置2を用いて被加工物11の裏面11b側を研削して被加工物11を薄化しておくと、薄型化されたデバイスチップが得られる。 A plurality of device chips each having a device are manufactured by dividing the workpiece 11 along the streets by cutting, laser processing, or the like. If the back surface 11b side of the workpiece 11 is ground using the grinding device 2 before the workpiece 11 is divided to thin the workpiece 11, a thinned device chip can be obtained.

なお、被加工物11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば被加工物11は、シリコン以外の半導体(GaAs、InP、GaN、SiC等)、サファイア、ガラス、セラミックス、樹脂、金属等でなる基板であってもよい。また、被加工物11に形成されるデバイスの種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はなく、被加工物11にはデバイスが形成されていなくてもよい。 The material, shape, structure, size, etc. of the workpiece 11 are not limited. For example, the workpiece 11 may be a substrate made of a semiconductor other than silicon (GaAs, InP, GaN, SiC, etc.), sapphire, glass, ceramics, resin, metal, or the like. Moreover, there are no restrictions on the type, quantity, shape, structure, size, arrangement, etc. of the devices formed on the workpiece 11, and devices may not be formed on the workpiece 11. FIG.

図2(A)は、チャックテーブル10及び研削ユニット26を示す斜視図である。被加工物11をチャックテーブル10上に配置した状態で、保持面10aに吸引源の吸引力(負圧)を作用させると、被加工物11がチャックテーブル10によって吸引保持される。なお、被加工物11の表面11a側には、樹脂等でなり被加工物11の表面11a側(デバイス側)を保護する保護テープが貼付されてもよい。この場合には、被加工物11が保護テープを介してチャックテーブル10の保持面10aで保持される。 FIG. 2A is a perspective view showing the chuck table 10 and the grinding unit 26. FIG. When the workpiece 11 is placed on the chuck table 10 and the suction force (negative pressure) of the suction source is applied to the holding surface 10a, the workpiece 11 is held by the chuck table 10 by suction. A protective tape made of resin or the like and protecting the surface 11a side (device side) of the workpiece 11 may be attached to the surface 11a side of the workpiece 11 . In this case, the workpiece 11 is held by the holding surface 10a of the chuck table 10 via the protective tape.

研削ユニット26には、研削ホイール34が装着される。研削ホイール34は、金属等でなりホイールマウント32と概ね同径に形成された円盤状(環状)のホイール基台40を備える。ホイール基台40は、互いに概ね平行な第1面(上面)40a及び第2面(下面)40bと、第1面40a及び第2面40bに接続された外周縁(側面)40cとを含む。 A grinding wheel 34 is attached to the grinding unit 26 . The grinding wheel 34 includes a disk-shaped (annular) wheel base 40 made of metal or the like and formed to have approximately the same diameter as the wheel mount 32 . The wheel base 40 includes a first surface (upper surface) 40a and a second surface (lower surface) 40b generally parallel to each other, and an outer peripheral edge (side surface) 40c connected to the first surface 40a and the second surface 40b.

また、研削ホイール34は、複数の研削砥石42を備える。複数の研削砥石42は、接着剤等を介してホイール基台40の一端面側(第2面40b側)に固定されている。例えば研削砥石42は、直方体状に形成され、ホイール基台40の外周に沿って配列される。 Grinding wheel 34 also includes a plurality of grinding wheels 42 . The plurality of grinding wheels 42 are fixed to one end surface side (second surface 40b side) of the wheel base 40 via an adhesive or the like. For example, the grinding wheel 42 is formed in a rectangular parallelepiped shape and arranged along the outer circumference of the wheel base 40 .

図2(B)は、研削砥石42の一部を示す拡大断面図である。研削砥石42は、砥粒44と、砥粒44を固定する結合材(ボンド材)46とを含む。砥粒44としては、ダイヤモンド、cBN(Cubic Boron Nitride)等が用いられる。また、結合材46としては、メタルボンド、レジンボンド、ビトリファイドボンド等が用いられる。 FIG. 2B is an enlarged cross-sectional view showing a portion of the grinding wheel 42. FIG. The grinding wheel 42 includes abrasive grains 44 and a binding material (bonding material) 46 that fixes the abrasive grains 44 . Diamond, cBN (Cubic Boron Nitride), or the like is used as the abrasive grains 44 . As the binding material 46, a metal bond, a resin bond, a vitrified bond, or the like is used.

図3は、研削ホイール34を示す底面図である。研削ホイール34が備えるホイール基台40の中心部には、ホイール基台40を厚さ方向に貫通する円形の開口40dが設けられている。なお、開口40dの中心位置は、ホイール基台40の中心Oの位置と概ね一致している。すなわち、ホイール基台40と開口40dとは同心円状に配置されている。 3 is a bottom view of the grinding wheel 34. FIG. 40 d of circular openings which penetrate the wheel base 40 in the thickness direction are provided in the center part of the wheel base 40 with which the grinding wheel 34 is provided. The center position of the opening 40 d substantially coincides with the position of the center O of the wheel base 40 . That is, the wheel base 40 and the opening 40d are arranged concentrically.

ホイール基台40の一端面側(第2面40b側)には、2種類の研削砥石42(第1研削砥石42A及び第2研削砥石42B)が固定されている。具体的には、ホイール基台40は、ホイール基台40の一端面(第2面40b)を二分する直線48によって、第1領域50Aと第2領域50Bとに区画されている。そして、第1研削砥石42Aは、第1領域50Aに弧状に配列されている。また、第2研削砥石42Bは、第2領域50Bに弧状に配列されている。 Two types of grinding wheels 42 (a first grinding wheel 42A and a second grinding wheel 42B) are fixed to one end surface side (second surface 40b side) of the wheel base 40 . Specifically, the wheel base 40 is divided into a first region 50A and a second region 50B by a straight line 48 that bisects one end surface (second surface 40b) of the wheel base 40 . The first grinding wheels 42A are arranged in an arc shape in the first region 50A. Also, the second grinding wheels 42B are arranged in an arc shape in the second region 50B.

図3には、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bが円52の円周に沿って配列されている例を示している。円52はホイール基台40と重なるように配置されており、円52の円周はホイール基台40と重なる位置に設定された環状の仮想線に相当する。 FIG. 3 shows an example in which the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B are arranged along the circumference of the circle 52. As shown in FIG. The circle 52 is arranged so as to overlap the wheel base 40 , and the circumference of the circle 52 corresponds to an annular imaginary line set at a position overlapping the wheel base 40 .

円52の直径は、ホイール基台40の外径(外周縁40cの直径)よりも小さく、且つ、ホイール基台40の内径(開口40dの直径)よりも大きい。また、ホイール基台40の中心Oの位置と円52の中心O´の位置とは異なる。すなわち、ホイール基台40と円52とは非同心円状に配置されており、円52はホイール基台40に対して偏心している。 The diameter of the circle 52 is smaller than the outer diameter of the wheel base 40 (the diameter of the outer peripheral edge 40c) and larger than the inner diameter of the wheel base 40 (the diameter of the opening 40d). Further, the position of the center O of the wheel base 40 and the position of the center O' of the circle 52 are different. That is, the wheel base 40 and the circle 52 are arranged non-concentrically, and the circle 52 is eccentric with respect to the wheel base 40 .

そして、例えば直線48は、円52の中心O´を通り円52を二等分するように設定される。この場合、ホイール基台40の第2面40bは、直線48によって、互いに面積が異なる第1領域50Aと第2領域50Bとに区画される。図3には、第1領域50Aの面積が第2領域50Bの面積よりも小さい例を示している。 Then, for example, a straight line 48 is set so as to pass through the center O' of the circle 52 and bisect the circle 52 . In this case, the second surface 40b of the wheel base 40 is divided by the straight line 48 into a first region 50A and a second region 50B having different areas. FIG. 3 shows an example in which the area of the first region 50A is smaller than the area of the second region 50B.

そして、第1研削砥石42Aは、円52の円周のうち第1領域50Aに属する部分と重なるように配列される。また、第2研削砥石42Bは、円52の円周のうち第2領域50Bに属する部分と重なるように配列される。例えば、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bは、長さ方向(長手方向)が円52の円周に沿うように配置される。その結果、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bは、ホイール基台40の中心Oからの距離が徐々に変化するように配列される。 The first grinding wheel 42A is arranged so as to overlap a portion of the circumference of the circle 52 belonging to the first region 50A. Also, the second grinding wheel 42B is arranged so as to overlap a portion of the circumference of the circle 52 belonging to the second region 50B. For example, the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B are arranged along the circumference of the circle 52 in the length direction (longitudinal direction). As a result, the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B are arranged so that the distance from the center O of the wheel base 40 gradually changes.

第1研削砥石42Aは、直線48に近いほどホイール基台40の中心Oからの距離が近くなるように配置される。例えば、直線48から最も遠い位置に配置された第1研削砥石42Aの端部(ホイール基台40の外周縁40c側の端部)からホイール基台40の中心Oまでの距離dA1は、直線48から最も近い位置に配置された第1研削砥石42Aの端部(ホイール基台40の外周縁40c側の端部)からホイール基台40の中心Oまでの距離dA2よりも長い。 The first grinding wheel 42A is arranged so that the closer it is to the straight line 48, the closer the distance from the center O of the wheel base 40 is. For example, the distance d A1 from the end of the first grinding wheel 42A arranged farthest from the straight line 48 (the end on the outer peripheral edge 40c side of the wheel base 40) to the center O of the wheel base 40 is a straight line It is longer than the distance dA2 from the end of the first grinding wheel 42A arranged closest to 48 (the end on the side of the outer peripheral edge 40c of the wheel base 40) to the center O of the wheel base 40.

第2研削砥石42Bは、直線48から遠いほどホイール基台40の中心Oからの距離が近くなるように配置される。例えば、直線48から最も近い位置に配置された第2研削砥石42Bの端部(ホイール基台40の外周縁40c側の端部)からホイール基台40の中心Oまでの距離dB1は、直線48から最も遠い位置に配置された第2研削砥石42Bの端部(ホイール基台40の外周縁40c側の端部)からホイール基台40の中心Oまでの距離dB2よりも長い。 The second grinding wheel 42B is arranged so that the farther it is from the straight line 48, the closer the distance from the center O of the wheel base 40 is. For example, the distance d B1 from the end of the second grinding wheel 42B arranged closest to the straight line 48 (the end on the outer peripheral edge 40c side of the wheel base 40) to the center O of the wheel base 40 is the straight line It is longer than the distance d B2 from the end of the second grinding wheel 42</b>B located farthest from 48 (the end on the outer peripheral edge 40 c side of the wheel base 40 ) to the center O of the wheel base 40 .

そして、第2研削砥石42Bはそれぞれ、全ての第1研削砥石42Aよりもホイール基台40の中心O側に設けられている。すなわち、ホイール基台40の中心Oから第2研削砥石42Bまでの距離は、ホイール基台40の中心Oから第1研削砥石42Aまでの距離よりも短い。そのため、距離dA2は距離dB1よりも長い。 Each of the second grinding wheels 42B is provided closer to the center O of the wheel base 40 than all of the first grinding wheels 42A. That is, the distance from the center O of the wheel base 40 to the second grinding wheel 42B is shorter than the distance from the center O of the wheel base 40 to the first grinding wheel 42A. Therefore, the distance d A2 is longer than the distance d B1 .

ただし、直線48の設定位置に制限はない。例えば直線48は、ホイール基台40の中心Oを通り、ホイール基台40の第2面40bを二等分するように設定されてもよい。この場合には、第1領域50Aの面積と第2領域50Bの面積とが等しくなる。 However, the setting position of the straight line 48 is not limited. For example, the straight line 48 may be set to pass through the center O of the wheel base 40 and bisect the second surface 40b of the wheel base 40 . In this case, the area of the first region 50A and the area of the second region 50B are equal.

また、第2研削砥石42Bが第1研削砥石42Aよりもホイール基台40の中心O側に配置される限り、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bの配列、寸法(長さ、幅、高さ)、個数等に制限はない。例えば、第1研削砥石42Aと第2研削砥石42Bとはそれぞれ、楕円弧に沿って配列されてもよい。また、第1研削砥石42Aと第2研削砥石42Bの一方が円弧に沿って配列され、第1研削砥石42Aと第2研削砥石42Bの他方が楕円弧に沿って配列されてもよい。さらに、第1研削砥石42Aの寸法及び個数は、第2研削砥石42Bの寸法及び個数と同じであっても異なっていてもよい。 Also, as long as the second grinding wheel 42B is arranged closer to the center O of the wheel base 40 than the first grinding wheel 42A, the arrangement and dimensions (length, width, height), number, etc. For example, the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B may each be arranged along an elliptical arc. Alternatively, one of the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B may be arranged along an arc, and the other of the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B may be arranged along an elliptical arc. Furthermore, the dimensions and number of the first grinding wheels 42A may be the same as or different from the dimensions and number of the second grinding wheels 42B.

研削ホイール34を回転させると、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bはそれぞれ、水平面に概ね平行な環状の移動経路(回転経路)に沿って移動する。このとき、第1研削砥石42Aの軌跡(移動経路)の外径は、第2研削砥石42Bの軌跡(移動経路)の外径よりも大きくなる。 When the grinding wheel 34 is rotated, the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B each move along an annular movement path (rotational path) generally parallel to the horizontal plane. At this time, the outer diameter of the trajectory (moving path) of the first grinding wheel 42A becomes larger than the outer diameter of the trajectory (moving path) of the second grinding wheel 42B.

ここで、第1研削砥石42Aの硬度は、第2研削砥石42Bの硬度よりも低い。すなわち、第2研削砥石42Bは第1研削砥石42Aよりも硬い。そのため、研削ホイール34で被加工物11を研削する際(図2(A)参照)、第1研削砥石42Aは第2研削砥石42Bよりも摩耗しやすい。 Here, the hardness of the first grinding wheel 42A is lower than the hardness of the second grinding wheel 42B. That is, the second grinding wheel 42B is harder than the first grinding wheel 42A. Therefore, when the workpiece 11 is ground by the grinding wheel 34 (see FIG. 2A), the first grinding wheel 42A wears more easily than the second grinding wheel 42B.

なお、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bの硬度を調節する方法に制限はない。例えば、第1研削砥石42Aと第2研削砥石42Bとで材質や密度(気孔率)が異なる結合材46(図2(B)参照)を用いることにより、第1研削砥石42Aの硬度と第2研削砥石42Bの硬度との大小関係を調節することができる。 The method of adjusting the hardness of the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B is not limited. For example, the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B are made of different materials and have different densities (porosity) in the bonding material 46 (see FIG. 2B). The magnitude relationship with the hardness of the grinding wheel 42B can be adjusted.

また、第1研削砥石42Aに含まれる砥粒44(第1砥粒)のサイズ及び第2研削砥石42Bに含まれる砥粒44(第2砥粒)のサイズは、被加工物11の材質等に応じて適宜設定される。ただし、第1砥粒及び第2砥粒は、第1砥粒の平均粒径が第2砥粒の平均粒径の3倍未満となるように選択される。 Also, the size of the abrasive grains 44 (first abrasive grains) contained in the first grinding wheel 42A and the size of the abrasive grains 44 (second abrasive grains) contained in the second grinding wheel 42B depend on the material of the workpiece 11, etc. is set as appropriate. However, the first abrasive grains and the second abrasive grains are selected so that the average grain size of the first abrasive grains is less than three times the average grain size of the second abrasive grains.

上記の研削ホイール34が研削ユニット26(図1及び図2(A)参照)に装着され、被加工物11が研削ホイール34によって研削される。本実施形態においては、チャックテーブル10と研削ホイール34とを保持面10aと平行な方向に沿って相対的に移動させて被加工物11を加工するクリープフィード研削を実施することにより、被加工物11を薄化する。以下、研削装置2を用いた被加工物11の研削方法の具体例を説明する。 The grinding wheel 34 is attached to the grinding unit 26 (see FIGS. 1 and 2A), and the workpiece 11 is ground by the grinding wheel 34 . In this embodiment, the chuck table 10 and the grinding wheel 34 are relatively moved in a direction parallel to the holding surface 10a to perform creep feed grinding in which the workpiece 11 is machined. 11 is thinned. A specific example of a method for grinding the workpiece 11 using the grinding device 2 will be described below.

まず、図2(A)に示すように、被加工物11をチャックテーブル10によって保持する(保持ステップ)。例えば被加工物11は、表面11a側が保持面10aに対向し、裏面11b側が上方に露出するように、チャックテーブル10上に配置される。この状態で保持面10aに吸引源の吸引力(負圧)を作用させると、被加工物11がチャックテーブル10によって吸引保持される。なお、前述の通り、被加工物11の表面11a側には保護テープが貼付されていてもよい。 First, as shown in FIG. 2A, the workpiece 11 is held by the chuck table 10 (holding step). For example, the workpiece 11 is arranged on the chuck table 10 so that the front surface 11a side faces the holding surface 10a and the back surface 11b side is exposed upward. When the suction force (negative pressure) of the suction source is applied to the holding surface 10a in this state, the workpiece 11 is held by the chuck table 10 by suction. In addition, as described above, a protective tape may be attached to the surface 11a side of the workpiece 11 .

次に、チャックテーブル10と研削ユニット26との位置関係を調節する(準備ステップ)。図4(A)は、準備ステップにおけるチャックテーブル10及び研削ユニット26を示す側面図である。準備ステップでは、保持面10aと平行な加工送り方向(X軸方向)において被加工物11と研削砥石42とが互いに離隔し、且つ、研削砥石42の下面が被加工物11の上面(裏面11b)から所定の距離下方に位置付けられるように、チャックテーブル10と研削ユニット26との位置関係が調節される。 Next, the positional relationship between the chuck table 10 and the grinding unit 26 is adjusted (preparation step). FIG. 4A is a side view showing the chuck table 10 and grinding unit 26 in the preparation step. In the preparation step, the workpiece 11 and the grinding wheel 42 are separated from each other in the processing feed direction (X-axis direction) parallel to the holding surface 10a, and the lower surface of the grinding wheel 42 is aligned with the upper surface (rear surface 11b) of the workpiece 11. ), the positional relationship between the chuck table 10 and the grinding unit 26 is adjusted.

具体的には、まず、被加工物11が研削ホイール34と重ならず研削ホイール34の前方(図4(A)における紙面左側)に配置されるように、チャックテーブル10のX軸方向における位置が第1移動機構8(図1参照)によって調節される。また、研削砥石42の下面が被加工物11の上面よりも下方に位置付けられるように、研削ユニット26のZ軸方向における位置が第2移動機構14(図1参照)によって調節される。このときの被加工物11の上面と研削砥石42の下面との高さ位置(Z軸方向における位置)の差ΔHが、後述の研削ステップにおける被加工物11の研削量(研削前後の被加工物11の厚さの差)の目標値に相当する。 Specifically, first, the chuck table 10 is positioned in the X-axis direction so that the workpiece 11 is arranged in front of the grinding wheel 34 (on the left side of the drawing in FIG. 4A) without overlapping the grinding wheel 34 . is adjusted by the first moving mechanism 8 (see FIG. 1). Also, the position of the grinding unit 26 in the Z-axis direction is adjusted by the second moving mechanism 14 (see FIG. 1) so that the lower surface of the grinding wheel 42 is positioned below the upper surface of the workpiece 11 . The difference ΔH in the height position (position in the Z-axis direction) between the upper surface of the workpiece 11 and the lower surface of the grinding wheel 42 at this time is the amount of grinding of the workpiece 11 in the later-described grinding step (the workpiece before and after grinding). (difference in thickness of object 11).

次に、研削ホイール34を回転させつつチャックテーブル10と研削ユニット26とを加工送り方向(X軸方向)に沿って相対的に移動させ、研削砥石42によって被加工物11を一端側から他端側まで研削する(研削ステップ)。図4(B)は、研削ステップにおけるチャックテーブル10及び研削ユニット26を示す側面図である。 Next, while rotating the grinding wheel 34, the chuck table 10 and the grinding unit 26 are relatively moved along the processing feed direction (X-axis direction), and the grinding wheel 42 moves the workpiece 11 from one end to the other end. Grind to the side (grinding step). FIG. 4B is a side view showing the chuck table 10 and grinding unit 26 in the grinding step.

研削ステップでは、被加工物11をクリープフィード研削によって研削する。具体的には、まず、スピンドル30を回転させることにより、研削ホイール34をチャックテーブル10の保持面10aと概ね垂直な回転軸の周りで回転させる。研削ホイール34の回転数は、例えば1000rpm以上3000rpm以下に設定される。 In the grinding step, the workpiece 11 is ground by creep feed grinding. Specifically, first, by rotating the spindle 30 , the grinding wheel 34 is rotated around a rotation axis substantially perpendicular to the holding surface 10 a of the chuck table 10 . The rotation speed of the grinding wheel 34 is set to, for example, 1000 rpm or more and 3000 rpm or less.

そして、研削ホイール34が回転し、且つ、チャックテーブル10が回転していない状態で、チャックテーブル10を第1移動機構8(図1参照)によって所定の速度でX軸方向に沿って移動させる。これにより、チャックテーブル10と研削ホイール34とが加工送り方向に沿って所定の加工送り速度で相対的に移動して接近する。チャックテーブル10の移動速度(加工送り速度)は、例えば1mm/s以上20mm/s以下に設定される。 Then, with the grinding wheel 34 rotating and the chuck table 10 not rotating, the first moving mechanism 8 (see FIG. 1) moves the chuck table 10 along the X-axis direction at a predetermined speed. As a result, the chuck table 10 and the grinding wheel 34 move relatively at a predetermined processing feed speed along the processing feed direction and approach each other. The moving speed (processing feed speed) of the chuck table 10 is set to, for example, 1 mm/s or more and 20 mm/s or less.

チャックテーブル10が移動して被加工物11の一端(被加工物11の移動方向における前端、図4(B)における紙面右端)が研削砥石42の軌道に到達すると、被加工物11の一端部が研削砥石42によって削り取られる。そして、チャックテーブル10は、被加工物11の他端(被加工物11の移動方向における後端、図4(B)における紙面左端)が研削砥石42の軌跡と重なる位置に配置されるまで、X軸方向に沿って移動する。その結果、被加工物11が研削砥石42によって一端側から他端側まで研削され、被加工物11の全体が薄化される。 When the chuck table 10 moves and one end of the workpiece 11 (the front end in the movement direction of the workpiece 11, the right end of the paper surface in FIG. 4B) reaches the track of the grinding wheel 42, the one end of the workpiece 11 is scraped off by the grinding wheel 42 . Then, the chuck table 10 is placed at a position where the other end of the workpiece 11 (the rear end in the movement direction of the workpiece 11, the left edge of the paper surface in FIG. 4B) overlaps the trajectory of the grinding wheel 42. Move along the X-axis direction. As a result, the workpiece 11 is ground from one end to the other end by the grinding wheel 42, and the entire workpiece 11 is thinned.

なお、研削砥石42で被加工物11を研削すると、研削砥石42の結合材46(図2(B)参照)が徐々に摩耗し、露出している砥粒44(図2(B)参照)が脱落するとともに結合材46の内部に埋め込まれている砥粒44が新たに露出する現象(自生発刃)が生じる。これにより、砥粒44の摩耗による研削砥石42の切れ味の低下が抑制される。また、研削砥石42の目詰まりが抑制され、砥粒44が突出した状態が維持される。 When the workpiece 11 is ground by the grinding wheel 42, the bonding material 46 (see FIG. 2B) of the grinding wheel 42 is gradually worn away, and the exposed abrasive grains 44 (see FIG. 2B) As the abrasive particles 44 fall off, a phenomenon (self-sharpening) occurs in which the abrasive grains 44 embedded in the bonding material 46 are newly exposed. As a result, deterioration in sharpness of the grinding wheel 42 due to abrasion of the abrasive grains 44 is suppressed. In addition, clogging of the grinding wheel 42 is suppressed, and the protruding state of the abrasive grains 44 is maintained.

また、被加工物11が研削砥石42によって研削される際には、純水等の研削液が被加工物11及び研削砥石42に供給される。これにより、被加工物11及び研削砥石42が冷却されるとともに、研削加工によって発生した屑(研削屑)が洗い流される。 Also, when the workpiece 11 is ground by the grinding wheel 42 , a grinding liquid such as pure water is supplied to the workpiece 11 and the grinding wheel 42 . As a result, the workpiece 11 and the grinding wheel 42 are cooled, and scraps (grinding scraps) generated by the grinding process are washed away.

次に、研削ステップにおける被加工物11の研削ホイール34による研削の詳細について、図5(A)乃至図5(C)を参照しつつ説明する。図5(A)は、第1研削砥石42Aに接触する被加工物11を示す断面図である。なお、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bの下面と、被加工物11の下面(表面11a)との高さ位置の差は、研削後の被加工物11の厚さの目標値である仕上げ厚さTに相当する。 Next, the details of the grinding of the workpiece 11 by the grinding wheel 34 in the grinding step will be described with reference to FIGS. 5(A) to 5(C). FIG. 5A is a cross-sectional view showing the workpiece 11 in contact with the first grinding wheel 42A. The height difference between the lower surfaces of the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B and the lower surface (surface 11a) of the workpiece 11 is the target value of the thickness of the workpiece 11 after grinding. It corresponds to a certain finished thickness T.

加工送りが開始されると、まず、被加工物11の一端部が回転する第1研削砥石42Aに接触し、第1研削砥石42Aによって研削される。ここで、第1研削砥石42Aは硬度が低く、被加工物11との接触によって摩耗しやすい。そのため、被加工物11の研削中に第1研削砥石42Aの自生発刃が生じやすい。これにより、第1研削砥石42Aは高い研削能力を維持したまま被加工物11を研削でき、被加工物11の裏面11b側が第1研削砥石42Aによって確実に削り取られる。 When the processing feed is started, first, one end of the workpiece 11 comes into contact with the rotating first grinding wheel 42A and is ground by the first grinding wheel 42A. Here, the first grinding wheel 42A has a low hardness and is easily worn by contact with the workpiece 11 . Therefore, during grinding of the workpiece 11, the first grinding wheel 42A tends to generate a self-sharpening. As a result, the first grinding wheel 42A can grind the workpiece 11 while maintaining a high grinding ability, and the back surface 11b side of the workpiece 11 is reliably scraped off by the first grinding wheel 42A.

なお、図3に示すように、ホイール基台40には、ホイール基台40に対して偏心した円52の円周に沿って複数の第1研削砥石42Aが配列されている。そのため、加工送りが進行するにつれて、被加工物11に接触する第1研削砥石42Aの数が徐々に増加する。 As shown in FIG. 3, the wheel base 40 has a plurality of first grinding wheels 42A arranged along the circumference of a circle 52 that is eccentric with respect to the wheel base 40. As shown in FIG. Therefore, the number of first grinding wheels 42A in contact with the workpiece 11 gradually increases as the processing feed progresses.

図5(B)は、第2研削砥石42Bに接触する被加工物11を示す断面図である。なお、図5(B)では、第1研削砥石42Aの摩耗を誇張して図示している。 FIG. 5B is a cross-sectional view showing the workpiece 11 in contact with the second grinding wheel 42B. In addition, in FIG. 5B, the wear of the first grinding wheel 42A is exaggerated.

第1研削砥石42Aによる被加工物11の研削中は、硬度の低い第1研削砥石42Aが摩耗して第1研削砥石42Aの高さが徐々に減少し、第1研削砥石42Aの下面の高さ位置が変動する。その結果、被加工物11の第1研削砥石42Aによって研削された領域は、仕上げ厚さTよりも僅かに厚くなる。そして、第1研削砥石42Aによって研削し損なった領域が、第1研削砥石42Aの内側で回転する第2研削砥石42Bに接触する。 During the grinding of the workpiece 11 by the first grinding wheel 42A, the first grinding wheel 42A having a low hardness is worn, the height of the first grinding wheel 42A gradually decreases, and the height of the lower surface of the first grinding wheel 42A position changes. As a result, the area ground by the first grinding wheel 42A of the workpiece 11 becomes slightly thicker than the finished thickness T. Then, the area that has failed to be ground by the first grinding wheel 42A comes into contact with the second grinding wheel 42B that rotates inside the first grinding wheel 42A.

図5(C)は、第2研削砥石42Bによって研削される被加工物11を示す断面図である。被加工物11が第2研削砥石42Bに接触した後、加工送りがさらに進行すると、第1研削砥石42Aによって研削し損なった領域が第2研削砥石42Bによって削り取られる。 FIG. 5C is a cross-sectional view showing the workpiece 11 ground by the second grinding wheel 42B. After the workpiece 11 comes into contact with the second grinding wheel 42B, the second grinding wheel 42B scrapes off the area that has failed to be ground by the first grinding wheel 42A as the work progresses further.

なお、図3に示すように、ホイール基台40には、ホイール基台40に対して偏心した円52の円周に沿って複数の第2研削砥石42Bが配列されている。そのため、加工送りが進行するにつれて、被加工物11に接触する第2研削砥石42Bの数が徐々に増加する。 As shown in FIG. 3, the wheel base 40 has a plurality of second grinding wheels 42B arranged along the circumference of a circle 52 that is eccentric with respect to the wheel base 40. As shown in FIG. Therefore, the number of second grinding wheels 42B in contact with the workpiece 11 gradually increases as the processing feed progresses.

ここで、第2研削砥石42Bは硬度が高く、被加工物11と接触しても摩耗しにくい。そのため、第2研削砥石42Bで被加工物11を研削しても、第2研削砥石42Bの下面の高さ位置は変動しにくい。その結果、被加工物11のうち第2研削砥石42Bによって研削された領域の厚さが、仕上げ厚さTと概ね等しくなる。 Here, the second grinding wheel 42B has a high hardness and is hardly worn even when it comes into contact with the workpiece 11 . Therefore, even if the workpiece 11 is ground by the second grinding wheel 42B, the height position of the lower surface of the second grinding wheel 42B is less likely to fluctuate. As a result, the thickness of the region of the workpiece 11 ground by the second grinding wheel 42B becomes substantially equal to the finished thickness T.

また、第2研削砥石42Bの硬度は第1研削砥石42Aの硬度よりも高く、第2研削砥石42Bにおいては第1研削砥石42Aと比較して自生発刃が生じにくい。そのため、第2研削砥石42Bは結合材46(図2(B)参照)から砥粒44(図2(B)参照)が過度に突出した状態になりにくく、研削後の被加工物11の裏面11bの表面粗さが低減される。 Further, the hardness of the second grinding wheel 42B is higher than the hardness of the first grinding wheel 42A, so that the second grinding wheel 42B is less prone to self-sharpening than the first grinding wheel 42A. Therefore, the second grinding wheel 42B is less likely to cause the abrasive grains 44 (see FIG. 2(B)) to protrude excessively from the bonding material 46 (see FIG. 2(B)). The surface roughness of 11b is reduced.

なお、第2研削砥石42Bは、第1研削砥石42Aよりも自生発刃が生じにくいため、目詰まりが生じやすい性質を有する。ただし、被加工物11が第2研削砥石42Bに到達した段階では、既に被加工物11の研削すべき領域の大半が第1研削砥石42Aによって除去されており、第2研削砥石42Bに割り当てられる研削量は少ない。そのため、第2研削砥石42Bで被加工物11を研削する際に発生する研削屑の量が抑えられ、現実的には第2研削砥石42Bの研削能力が目詰まりによって大きく低下することはない。 In addition, since the second grinding wheel 42B is less prone to self-sharpening than the first grinding wheel 42A, the second grinding wheel 42B is prone to clogging. However, when the workpiece 11 reaches the second grinding wheel 42B, most of the area to be ground of the workpiece 11 has already been removed by the first grinding wheel 42A and is assigned to the second grinding wheel 42B. The amount of grinding is small. Therefore, the amount of grinding waste generated when the workpiece 11 is ground by the second grinding wheel 42B is suppressed, and in reality, the grinding ability of the second grinding wheel 42B is not greatly reduced due to clogging.

ここで、仮に第1研削砥石42Aに含まれる砥粒44(第1砥粒)の平均粒径が第2研削砥石42Bに含まれる砥粒44(第2砥粒)の平均粒径の3倍に達していると、被加工物11のうち第1研削砥石42Aによって研削された領域に粗い凹凸が形成され、その後の第2研削砥石42Bによる研削を経ても被加工物11に粗さが残りやすくなる。 Here, it is assumed that the average grain size of the abrasive grains 44 (first abrasive grains) contained in the first grinding wheel 42A is three times the average grain size of the abrasive grains 44 (second abrasive grains) contained in the second grinding wheel 42B. , rough unevenness is formed in the area of the workpiece 11 ground by the first grinding wheel 42A, and the roughness remains on the workpiece 11 even after the subsequent grinding by the second grinding wheel 42B. easier.

また、第1研削砥石42Aによる被加工物11の研削時に第1研削砥石42Aから脱落した砥粒44が、第2研削砥石42Bによる被加工物11の研削時に被加工物11と第2研削砥石42Bとの間に入り込むことがある。このとき、第1砥粒の平均粒径が第2砥粒の平均粒径の3倍に達していると、被加工物11と第2研削砥石42Bとの間に入り込んだ大サイズの第1砥粒によって被加工物11が削り取られ、研削後の被加工物11に予期しない粗さが残るおそれがある。 In addition, the abrasive grains 44 dropped from the first grinding wheel 42A when the workpiece 11 is ground by the first grinding wheel 42A are removed from the workpiece 11 and the second grinding wheel when the workpiece 11 is ground by the second grinding wheel 42B. 42B. At this time, when the average grain size of the first abrasive grains reaches three times the average grain size of the second abrasive grains, the large-sized first abrasive grains that have entered between the workpiece 11 and the second grinding wheel 42B The workpiece 11 may be scraped off by the abrasive grains, leaving unexpected roughness on the workpiece 11 after grinding.

しかしながら、前述の通り、第1砥粒の平均粒径は第2砥粒の平均粒径の3倍未満に設定されている。そのため、被加工物11のうち第1研削砥石42Aによって研削された領域に粗い凹凸が残存しにくい。また、被加工物11と第2研削砥石42Bとの間に第1砥粒が入り込んでも、被加工物11に予期しない粗さが残ることはない。 However, as described above, the average grain size of the first abrasive grains is set to less than three times the average grain size of the second abrasive grains. Therefore, rough unevenness is less likely to remain in the area of the workpiece 11 that has been ground by the first grinding wheel 42A. Moreover, even if the first abrasive grains enter between the workpiece 11 and the second grinding wheel 42B, the workpiece 11 does not have unexpected roughness.

上記の研削装置2による被加工物11の研削は、制御部36(図1参照)で研削装置2の各構成要素の動作を制御することによって実現される。具体的には、制御部36のメモリには、保持ステップ、準備ステップ、研削ステップを順に実施するために必要な研削装置2の各構成要素の一連の動作を記述するプログラムが記憶されている。そして、被加工物11の研削を実行する際には、制御部36はプログラムを読み出して実行し、研削装置2の各構成要素に制御信号を順次出力する。これにより、研削装置2の稼働が制御され、本実施形態に係る被加工物の研削方法が自動で実施される。 Grinding of the workpiece 11 by the grinding device 2 is realized by controlling the operation of each component of the grinding device 2 by the controller 36 (see FIG. 1). Specifically, the memory of the control unit 36 stores a program that describes a series of operations of each component of the grinding apparatus 2 required to sequentially perform the holding step, the preparation step, and the grinding step. When grinding the workpiece 11 , the control unit 36 reads out and executes the program, and sequentially outputs control signals to each component of the grinding device 2 . As a result, the operation of the grinding device 2 is controlled, and the method for grinding a workpiece according to this embodiment is automatically performed.

なお、第1研削砥石42Aの切削能力を第2研削砥石42Bの切削能力よりも高くするため、第1研削砥石42Aに含まれる第1砥粒のサイズは第2研削砥石42Bに含まれる第2砥粒のサイズよりも大きいことが好ましい。具体的には、第1砥粒の平均粒径は、第2砥粒の平均粒径よりも大きい。又は、第1砥粒の粒度は、第2砥粒の粒度よりも小さい。ただし、前述の通り第1砥粒の平均粒径は第2砥粒の平均粒径の3倍未満に抑えられる。例えば、第1砥粒として粒度♯3000のダイヤモンドを用い、第2砥粒として粒度♯5000のダイヤモンドを用いることができる。 In order to make the cutting power of the first grinding wheel 42A higher than that of the second grinding wheel 42B, the size of the first abrasive grains contained in the first grinding wheel 42A is the same as the size of the first abrasive grains contained in the second grinding wheel 42B. It is preferably larger than the size of the abrasive grains. Specifically, the average grain size of the first abrasive grains is larger than the average grain size of the second abrasive grains. Alternatively, the grain size of the first abrasive grains is smaller than the grain size of the second abrasive grains. However, as described above, the average grain size of the first abrasive grains is suppressed to less than three times the average grain size of the second abrasive grains. For example, a #3000 grain size diamond can be used as the first abrasive grains, and a #5000 grain size diamond can be used as the second abrasive grains.

また、第1研削砥石42Aの摩耗を促進するため、第1研削砥石42Aと第2研削砥石42Bとの間で硬度以外の要素を異ならせてもよい。例えば、第1研削砥石42Aの抗折強度(曲げ強度)は、第1研削砥石42Aによる被加工物11の研削に支障が出ない範囲内で、第2研削砥石42Bの抗折強度より低くてもよい。具体的には、第1研削砥石42Aの抗折強度は、第2研削砥石42Bの抗折強度の30%以上60%以下であることが好ましい。これにより、第1研削砥石42Aが第2研削砥石42Bよりもさらに摩耗しやすくなり、第1研削砥石42Aの自生発刃が促進される。なお、第1研削砥石42A及び第2研削砥石42Bの抗折強度は、3点曲げ試験によって測定できる。 Further, in order to accelerate the wear of the first grinding wheel 42A, the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B may differ in factors other than hardness. For example, the bending strength (bending strength) of the first grinding wheel 42A is lower than the bending strength of the second grinding wheel 42B within a range that does not hinder the grinding of the workpiece 11 by the first grinding wheel 42A. good too. Specifically, the bending strength of the first grinding wheel 42A is preferably 30% or more and 60% or less of the bending strength of the second grinding wheel 42B. As a result, the first grinding wheel 42A wears more easily than the second grinding wheel 42B, and the self-sharpening of the first grinding wheel 42A is promoted. The bending strength of the first grinding wheel 42A and the second grinding wheel 42B can be measured by a three-point bending test.

また、第1研削砥石42Aにおける第1砥粒の集中度を、第2研削砥石42Bにおける第2砥粒の集中度よりも小さくしてもよい。具体的には、第1研削砥石42Aにおける第1砥粒の集中度は、第2研削砥石42Bにおける第2砥粒の集中度の60%未満であることが好ましい。これにより、第1研削砥石42Aが第2研削砥石42Bよりもさらに摩耗しやすくなり、第1研削砥石42Aの自生発刃が促進される。 Also, the degree of concentration of the first abrasive grains on the first grinding wheel 42A may be smaller than the degree of concentration of the second abrasive grains on the second grinding wheel 42B. Specifically, the degree of concentration of the first abrasive grains on the first grinding wheel 42A is preferably less than 60% of the degree of concentration of the second abrasive grains on the second grinding wheel 42B. As a result, the first grinding wheel 42A wears more easily than the second grinding wheel 42B, and the self-sharpening of the first grinding wheel 42A is promoted.

また、第1研削砥石42Aの数は、第2研削砥石の42Bの数より少なくてもよい。さらに、ホイール基台40の径方向における第1研削砥石42Aの幅W(図3参照)は、ホイール基台40の径方向における第2研削砥石42Bの幅W(図3参照)より小さくてもよい。これにより、第1研削砥石42Aが第2研削砥石42Bよりもさらに摩耗しやすくなり、第1研削砥石42Aの自生発刃が促進される。 Also, the number of first grinding wheels 42A may be less than the number of second grinding wheels 42B. Furthermore, the width W A (see FIG. 3) of the first grinding wheel 42A in the radial direction of the wheel base 40 is smaller than the width W B (see FIG. 3) of the second grinding wheel 42B in the radial direction of the wheel base 40. may As a result, the first grinding wheel 42A wears more easily than the second grinding wheel 42B, and the self-sharpening of the first grinding wheel 42A is promoted.

以上の通り、本実施形態に係る研削ホイール34を用いると、第1研削砥石42Aによって被加工物11が効率よく研削された後、第2研削砥石42Bによって被加工物11がフラットに研削される。これにより、被加工物11の研削の効率及び質が向上する。 As described above, when the grinding wheel 34 according to the present embodiment is used, the workpiece 11 is efficiently ground by the first grinding wheel 42A, and then the workpiece 11 is ground flat by the second grinding wheel 42B. . This improves the efficiency and quality of grinding of the workpiece 11 .

また、第1研削砥石42Aに含まれる第1砥粒の平均粒径が第2研削砥石42Bに含まれる第2砥粒の平均粒径の3倍未満に抑えられているため、第1研削砥石42Aから脱落した第1砥粒が第2研削砥石42Bによる被加工物11の研削に悪影響を与えにくく、研削後の被加工物11の品質低下が防止される。 In addition, since the average particle size of the first abrasive grains contained in the first grinding wheel 42A is suppressed to less than three times the average particle diameter of the second abrasive grains contained in the second grinding wheel 42B, the first grinding wheel The first abrasive grains falling off from 42A are less likely to adversely affect the grinding of the workpiece 11 by the second grinding wheel 42B, thus preventing deterioration in the quality of the workpiece 11 after grinding.

なお、クリープフィード研削の実施回数(準備ステップ及び研削ステップの実施回数)は、被加工物11の材質、研削量等に応じて適宜設定できる。すなわち、準備ステップ及び研削ステップを2回以上実施することによって被加工物11を仕上げ厚さまで薄化してもよい。 The number of creep-feed grinding operations (the number of preparatory steps and grinding steps) can be appropriately set according to the material of the workpiece 11, the amount of grinding, and the like. That is, the workpiece 11 may be thinned to the finished thickness by performing the preparation step and the grinding step two or more times.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above-described embodiments can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.

11 被加工物
11a 表面
11b 裏面
2 研削装置
4 基台
4a 開口
6 支持構造
8 第1移動機構(第1移動ユニット)
8a テーブルカバー
10 チャックテーブル(保持テーブル)
10a 保持面
12 防塵防滴カバー
14 第2移動機構(第2移動ユニット)
16 ガイドレール
18 移動テーブル
20 ボールねじ
22 パルスモータ
24 支持部材
26 研削ユニット
28 ハウジング
30 スピンドル
32 ホイールマウント
34 研削ホイール
36 制御部(制御ユニット、制御装置)
40 ホイール基台
40a 第1面(上面)
40b 第2面(下面)
40c 外周縁(側面)
40d 開口
42 研削砥石
42A 第1研削砥石
42B 第2研削砥石
44 砥粒
46 結合材(ボンド材)
48 直線
50A 第1領域
50B 第2領域
52 円
REFERENCE SIGNS LIST 11 workpiece 11a front surface 11b back surface 2 grinding device 4 base 4a opening 6 support structure 8 first moving mechanism (first moving unit)
8a table cover 10 chuck table (holding table)
10a holding surface 12 dust and splash proof cover 14 second moving mechanism (second moving unit)
16 guide rail 18 moving table 20 ball screw 22 pulse motor 24 support member 26 grinding unit 28 housing 30 spindle 32 wheel mount 34 grinding wheel 36 control section (control unit, control device)
40 wheel base 40a first surface (upper surface)
40b Second surface (lower surface)
40c Outer edge (side surface)
40d opening 42 grinding wheel 42A first grinding wheel 42B second grinding wheel 44 abrasive grain 46 binding material (bond material)
48 straight line 50A first area 50B second area 52 circle

Claims (6)

被加工物をクリープフィード研削で研削するための研削ホイールであって、
円盤状のホイール基台と、
第1砥粒を含み、該ホイール基台の一端面側に設けられた複数の第1研削砥石と、
第2砥粒を含み、該ホイール基台の一端面側に設けられた複数の第2研削砥石と、を備え、
該ホイール基台は、該ホイール基台の一端面を二分する直線によって第1領域と第2領域とに区画され、
該第1研削砥石は、該第1領域に弧状に配列され、
該第2研削砥石は、該第2領域に弧状に配列され、
該ホイール基台の中心から該第2研削砥石までの距離は、該ホイール基台の中心から該第1研削砥石までの距離よりも短く、
該第1研削砥石の硬度は、該第2研削砥石の硬度よりも低く、
該第1砥粒の平均粒径は、該第2砥粒の平均粒径の3倍未満であることを特徴とする研削ホイール。
A grinding wheel for grinding a workpiece by creep feed grinding,
a disk-shaped wheel base;
a plurality of first grinding wheels containing first abrasive grains and provided on one end surface side of the wheel base;
A plurality of second grinding wheels containing second abrasive grains and provided on one end surface side of the wheel base,
The wheel base is divided into a first region and a second region by a straight line that bisects one end surface of the wheel base;
The first grinding wheel is arranged in an arc in the first region,
The second grinding wheel is arranged in an arc in the second region,
the distance from the center of the wheel base to the second grinding wheel is shorter than the distance from the center of the wheel base to the first grinding wheel,
The hardness of the first grinding wheel is lower than the hardness of the second grinding wheel,
A grinding wheel, wherein the average grain size of the first abrasive grains is less than three times the average grain size of the second abrasive grains.
複数の該第1研削砥石及び複数の該第2研削砥石は、中心位置が該ホイール基台の中心位置と異なる円の円周に沿って配列されていることを特徴とする、請求項1に記載の研削ホイール。 The plurality of first grinding wheels and the plurality of second grinding wheels are arranged along the circumference of a circle whose center position is different from the center position of the wheel base. Grinding wheel as described. 該第1研削砥石の抗折強度は、該第2研削砥石の抗折強度の30%以上60%以下であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の研削ホイール。 3. The grinding wheel according to claim 1, wherein the bending strength of the first grinding wheel is 30% or more and 60% or less of the bending strength of the second grinding wheel. 該第1研削砥石における該第1砥粒の集中度は、該第2研削砥石における該第2砥粒の集中度の60%未満であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の研削ホイール。 4. The concentration of the first abrasive grains on the first grinding wheel is less than 60% of the concentration of the second abrasive grains on the second grinding wheel. A grinding wheel as described in . 該第1研削砥石の数は、該第2研削砥石の数よりも少ないことを特徴とする、請求項1乃至4のいずれかに記載の研削ホイール。 5. A grinding wheel according to any preceding claim, wherein the number of first grinding wheels is less than the number of second grinding wheels. 該ホイール基台の径方向における該第1研削砥石の幅は、該ホイール基台の径方向における該第2研削砥石の幅よりも小さいことを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の研削ホイール。 6. The width of the first grinding wheel in the radial direction of the wheel base is smaller than the width of the second grinding wheel in the radial direction of the wheel base. Grinding wheel as described.
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