JP2021009968A - Device chip manufacturing method - Google Patents

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JP2021009968A JP2019124214A JP2019124214A JP2021009968A JP 2021009968 A JP2021009968 A JP 2021009968A JP 2019124214 A JP2019124214 A JP 2019124214A JP 2019124214 A JP2019124214 A JP 2019124214A JP 2021009968 A JP2021009968 A JP 2021009968A
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洋介 村田
Yosuke Murata
洋介 村田
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Abstract

To provide a manufacturing method for a device chip capable of reducing the number of steps and costs.SOLUTION: A manufacturing method for a device chip which divides a work-piece where devices are formed on surface sides of a plurality of areas divided by a plurality of division schedule lines crossing each other into a plurality of device chips includes: a groove formation step which cuts a first cutting blade on a surface side of the work-piece and has depth equal to thickness of the device chip or thicker along the division schedule lines; an adhesive tape sticking step for sticking an adhesive tape on the surface side of the work-piece where the groove is formed; and a reverse surface cutting step for exposing the groove on the reverse surface side of the work-piece and dividing the work-piece into a plurality of device chips by cutting a second cutting blade thicker than the first cutting blade on the reverse surface side of the work-piece and cutting the whole reverse surface side of the work-piece so that thickness of the work-piece becomes the same as that of the device chip.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、被加工物を複数のデバイスチップに分割するデバイスチップの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a device chip that divides a workpiece into a plurality of device chips.

格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)によって区画された複数の領域の表面側にそれぞれIC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスが形成されたウェーハを、分割予定ラインに沿って分割することにより、それぞれデバイスを備えた複数のデバイスチップが製造される。このデバイスチップは、携帯電話やパーソナルコンピュータ等に代表される様々な電子機器に搭載される。 Wafers in which devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integration) are formed on the surface side of a plurality of regions partitioned by a plurality of scheduled division lines (streets) arranged in a grid pattern are scheduled to be divided. By dividing along the line, a plurality of device chips, each having a device, are manufactured. This device chip is mounted on various electronic devices such as mobile phones and personal computers.

近年では、電子機器の小型化、薄型化に伴い、デバイスチップにも薄型化が求められている。そこで、ウェーハを分割する前に、ウェーハの裏面側に研削加工を施すことにより、ウェーハを薄化する処理が行われることがある。ウェーハを薄化した後に分割することにより、薄型化されたデバイスチップが得られる。 In recent years, as electronic devices have become smaller and thinner, device chips are also required to be thinner. Therefore, before dividing the wafer, a process of thinning the wafer may be performed by performing a grinding process on the back surface side of the wafer. By thinning the wafer and then dividing it, a thin device chip can be obtained.

ウェーハを薄化して複数のデバイスチップに分割する手法として、DBG(Dicing Before Grinding)と称されるプロセスが提案されている(特許文献1参照)。DBGプロセスでは、まず、デバイスが形成されたウェーハの表面側に、深さがウェーハの厚さ未満の溝を分割予定ラインに沿って形成する(ハーフカット)。その後、ウェーハの裏面側に研削加工を施し、ウェーハの裏面側に溝を露出させることにより、ウェーハを複数のデバイスチップに分割する。このDBGプロセスを用いると、ウェーハの裏面側での欠け(チッピング)の発生が抑制される等の効果が得られる。 A process called DBG (Dicing Before Grinding) has been proposed as a method of thinning a wafer and dividing it into a plurality of device chips (see Patent Document 1). In the DBG process, first, a groove having a depth less than the thickness of the wafer is formed along the planned division line on the surface side of the wafer on which the device is formed (half cut). After that, the back surface side of the wafer is ground and the grooves are exposed on the back surface side of the wafer to divide the wafer into a plurality of device chips. By using this DBG process, it is possible to obtain effects such as suppressing the occurrence of chipping on the back surface side of the wafer.

特開2003−7653号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-7653

DBGプロセスでは、切削ブレードでウェーハを切削する切削装置を用いてウェーハのハーフカットが行われるとともに、研削砥石でウェーハを研削する研削装置を用いてウェーハが薄化される。そのため、ウェーハをデバイスチップに分割する工程において、少なくとも2種類の加工装置を準備、可動する必要があり、これによって工程数及びコストが増大するという問題がある。 In the DBG process, the wafer is half-cut using a cutting device that cuts the wafer with a cutting blade, and the wafer is thinned using a grinding device that grinds the wafer with a grinding wheel. Therefore, in the process of dividing the wafer into device chips, it is necessary to prepare and move at least two types of processing devices, which causes a problem that the number of processes and the cost increase.

本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、工程数及びコストを低減することが可能なデバイスチップの製造方法の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a device chip capable of reducing the number of steps and costs.

本発明の一態様によれば、互いに交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域の表面側にそれぞれデバイスが形成された被加工物を複数のデバイスチップに分割するデバイスチップの製造方法であって、該被加工物の表面側に第1の切削ブレードを切り込ませ、該分割予定ラインに沿って該デバイスチップの厚さ以上の深さを有する溝を形成する溝形成ステップと、該溝が形成された該被加工物の表面側に粘着テープを貼着する粘着テープ貼着ステップと、該被加工物の裏面側に該第1の切削ブレードよりも厚い第2の切削ブレードを切り込ませ、該被加工物の厚さが該デバイスチップの厚さになるように該被加工物の裏面側の全体を切削することにより、該溝を該被加工物の裏面側に露出させて該被加工物を複数の該デバイスチップに分割する裏面切削ステップと、を備えるデバイスチップの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, a method for manufacturing a device chip for dividing a work piece in which a device is formed on the surface side of a plurality of regions partitioned by a plurality of scheduled division lines intersecting each other into a plurality of device chips. A groove forming step in which a first cutting blade is cut into the surface side of the workpiece to form a groove having a depth equal to or greater than the thickness of the device chip along the planned division line. An adhesive tape sticking step for sticking the adhesive tape to the front surface side of the workpiece in which the groove is formed, and a second cutting blade thicker than the first cutting blade on the back surface side of the workpiece. The groove is exposed on the back surface side of the work piece by making a cut and cutting the entire back surface side of the work piece so that the thickness of the work piece becomes the thickness of the device chip. Provided is a method for manufacturing a device chip comprising a back surface cutting step for dividing the workpiece into a plurality of the device chips.

なお、好ましくは、該裏面切削ステップでは、該被加工物を保持する保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、回転する該第2の切削ブレードの下端の移動方向と該保持テーブルの移動方向とが一致するように相対的に移動させ、該第2の切削ブレードを該被加工物の裏面側から表面側に向かって切り込ませる。 Preferably, in the back surface cutting step, the holding table for holding the workpiece and the second cutting blade are moved in the moving direction of the lower end of the second cutting blade and the moving direction of the holding table. The second cutting blade is cut from the back surface side to the front surface side of the work piece by moving the second cutting blade relative to each other.

また、好ましくは、該裏面切削ステップでは、該被加工物を保持面で保持する保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、該保持面と平行で該第2の切削ブレードの回転軸と垂直な方向に沿って相対的に移動させながら、該被加工物を該第2の切削ブレードで切削する切削ステップと、該保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、該第2の切削ブレードの回転軸と平行な方向に沿って相対的に移動させる切削ブレード移動ステップと、を繰り返すことにより、該被加工物の裏面側の全体を切削する。 Further, preferably, in the back surface cutting step, the holding table for holding the workpiece on the holding surface and the second cutting blade are parallel to the holding surface and perpendicular to the rotation axis of the second cutting blade. The cutting step of cutting the workpiece with the second cutting blade and the holding table and the second cutting blade while relatively moving along the above directions of the second cutting blade. By repeating the cutting blade moving step of moving the cutting blade relative to the direction parallel to the rotation axis, the entire back surface side of the workpiece is cut.

また、好ましくは、該裏面切削ステップでは、該被加工物を保持面で保持する保持テーブルを、該保持面と垂直な方向に沿う回転軸を中心として回転させながら、該保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、該第2の切削ブレードの回転軸と平行な方向に沿って相対的に移動させることにより、該被加工物の裏面側を渦巻き状に切削する。 Further, preferably, in the back surface cutting step, the holding table and the second holding table for holding the workpiece on the holding surface are rotated about a rotation axis along a direction perpendicular to the holding surface. By relatively moving the cutting blade of No. 1 along a direction parallel to the rotation axis of the second cutting blade, the back surface side of the work piece is cut in a spiral shape.

本発明の一態様に係るデバイスチップの製造方法では、第1の切削ブレードによって被加工物の表面側を切削して溝を形成した後、第2の切削ブレードによって被加工物の裏面側を切削して、被加工物を複数のデバイスチップに分割する。そのため、被加工物を複数のデバイスチップに分割する際に、研削装置を用いて被加工物を研削して薄化する工程を省略できる。これにより、研削装置の準備及び稼働が不要となり、デバイスチップの製造に要する工程数及びコストを低減することができる。 In the method for manufacturing a device chip according to one aspect of the present invention, the front surface side of the workpiece is cut by the first cutting blade to form a groove, and then the back surface side of the workpiece is cut by the second cutting blade. Then, the workpiece is divided into a plurality of device chips. Therefore, when the work piece is divided into a plurality of device chips, the step of grinding the work piece to be thinned by using a grinding device can be omitted. This eliminates the need for preparation and operation of the grinding apparatus, and can reduce the number of steps and costs required for manufacturing the device chip.

切削装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the cutting apparatus. 被加工物を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the workpiece. 図3(A)は溝形成ステップにおける被加工物を示す斜視図であり、図3(B)は溝形成ステップにおける被加工物を示す断面図である。FIG. 3A is a perspective view showing an workpiece in the groove forming step, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing an workpiece in the groove forming step. 図4(A)は粘着テープ貼着ステップにおける被加工物を示す斜視図であり、図4(B)は粘着テープ貼着ステップにおける被加工物を示す断面図である。FIG. 4A is a perspective view showing a work piece in the adhesive tape sticking step, and FIG. 4B is a cross-sectional view showing a work piece in the adhesive tape sticking step. 図5(A)は裏面切削ステップにおける被加工物を示す斜視図であり、図5(B)は裏面切削ステップにおける被加工物を示す断面図である。FIG. 5 (A) is a perspective view showing a work piece in the back surface cutting step, and FIG. 5 (B) is a cross-sectional view showing a work piece in the back surface cutting step.

以下、添付図面を参照して本実施形態を説明する。まず、本実施形態に係るデバイスチップの製造方法に用いることが可能な切削装置の構成例について説明する。図1は、切削装置2を示す斜視図である。 Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. First, a configuration example of a cutting device that can be used in the device chip manufacturing method according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a cutting device 2.

切削装置2は、切削装置2を構成する各構成要素が搭載される基台4を備える。基台4の上面4a上には、X軸移動機構6が設けられている。X軸移動機構6は、X軸方向(加工送り方向、前後方向)に沿って配置された一対のX軸ガイドレール8を備え、X軸ガイドレール8には、X軸移動テーブル10がX軸ガイドレール8に沿ってX軸方向にスライド可能な状態で装着されている。 The cutting device 2 includes a base 4 on which each component constituting the cutting device 2 is mounted. An X-axis moving mechanism 6 is provided on the upper surface 4a of the base 4. The X-axis moving mechanism 6 includes a pair of X-axis guide rails 8 arranged along the X-axis direction (machining feed direction, front-back direction), and the X-axis moving table 10 is attached to the X-axis guide rail 8 on the X-axis. It is mounted so that it can slide along the guide rail 8 in the X-axis direction.

X軸移動テーブル10の下面(裏面)側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、X軸ガイドレール8に沿って配置されたX軸ボールねじ12が螺合されている。また、X軸ボールねじ12の一端部には、X軸ボールねじ12を回転させるX軸パルスモータ14が連結されている。X軸パルスモータ14でX軸ボールねじ12を回転させると、X軸移動テーブル10がX軸ガイドレール8に沿ってX軸方向に移動する。なお、X軸移動機構6には、X軸移動テーブル10のX軸方向における位置を測定するX軸測定ユニット(不図示)が設けられていてもよい。 A nut portion (not shown) is provided on the lower surface (back surface) side of the X-axis moving table 10, and an X-axis ball screw 12 arranged along the X-axis guide rail 8 is screwed into the nut portion. Has been done. Further, an X-axis pulse motor 14 for rotating the X-axis ball screw 12 is connected to one end of the X-axis ball screw 12. When the X-axis ball screw 12 is rotated by the X-axis pulse motor 14, the X-axis moving table 10 moves in the X-axis direction along the X-axis guide rail 8. The X-axis moving mechanism 6 may be provided with an X-axis measuring unit (not shown) for measuring the position of the X-axis moving table 10 in the X-axis direction.

X軸移動テーブル10の上面(表面)側には、円筒状のテーブルベース16が設けられている。また、テーブルベース16の上部には、被加工物11を保持する保持テーブル18が設けられている。切削装置2によって被加工物11を加工する際には、被加工物11が保持テーブル18によって保持される。 A cylindrical table base 16 is provided on the upper surface (surface) side of the X-axis moving table 10. Further, a holding table 18 for holding the workpiece 11 is provided on the upper part of the table base 16. When the workpiece 11 is machined by the cutting device 2, the workpiece 11 is held by the holding table 18.

保持テーブル18の上面は、被加工物11を保持する保持面18aを構成する。この保持面18aは、X軸方向及びY軸方向(割り出し送り方向、左右方向)と概ね平行に形成されており、保持テーブル18及びテーブルベース16の内部に形成された流路(不図示)を介してエジェクタ等の吸引源(不図示)に接続されている。 The upper surface of the holding table 18 constitutes a holding surface 18a for holding the workpiece 11. The holding surface 18a is formed substantially parallel to the X-axis direction and the Y-axis direction (indexing feed direction, left-right direction), and a flow path (not shown) formed inside the holding table 18 and the table base 16 is formed. It is connected to a suction source (not shown) such as an ejector via an ejector.

図2は、保持テーブル18によって保持される被加工物11を示す斜視図である。被加工物11は、例えば円盤状に形成されたシリコンウェーハであり、表面11a及び裏面11bを備える。被加工物11は、互いに交差するように格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)13によって複数の領域に区画されており、この領域の表面11a側にはそれぞれ、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスが形成されている。 FIG. 2 is a perspective view showing the workpiece 11 held by the holding table 18. The workpiece 11 is, for example, a silicon wafer formed in a disk shape, and includes a front surface 11a and a back surface 11b. The workpiece 11 is divided into a plurality of regions by a plurality of scheduled division lines (streets) 13 arranged in a grid pattern so as to intersect each other, and ICs (Integrated Circuits) are respectively on the surface 11a side of this region. ), LSI (Large Scale Integration) and other devices are formed.

なお、被加工物11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば被加工物11は、シリコン以外の半導体(GaAs、InP、GaN、SiC等)、ガラス、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなるウェーハであってもよい。また、デバイス15の種類、数量、形状、構造、大きさ、配置等にも制限はない。 There are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the workpiece 11. For example, the workpiece 11 may be a wafer made of a material other than silicon (GaAs, InP, GaN, SiC, etc.), glass, ceramics, resin, metal, or the like. Further, there are no restrictions on the type, quantity, shape, structure, size, arrangement, etc. of the device 15.

被加工物11を分割予定ライン13に沿って分割すると、デバイス15をそれぞれ備える複数のデバイスチップが得られる。例えば切削装置2は、この被加工物11の分割に用いられる。 When the workpiece 11 is divided along the scheduled division line 13, a plurality of device chips each including the device 15 are obtained. For example, the cutting device 2 is used to divide the workpiece 11.

なお、被加工物11は、加工や搬送の便宜のため、環状のフレームによって支持されることがある。この場合には、被加工物11の裏面11b側に被加工物11より直径の大きい円形のテープが貼着される。また、テープの外周部は、被加工物11より径の大きい円形の開口を中央部に備える環状のフレームに貼着される。これにより、被加工物11はテープを介してフレームによって支持される。 The workpiece 11 may be supported by an annular frame for convenience of processing and transportation. In this case, a circular tape having a diameter larger than that of the workpiece 11 is attached to the back surface 11b side of the workpiece 11. Further, the outer peripheral portion of the tape is attached to an annular frame having a circular opening having a diameter larger than that of the workpiece 11 in the central portion. As a result, the workpiece 11 is supported by the frame via the tape.

保持テーブル18の周囲には、複数(図1では4個)のクランプ20が設けられている。被加工物11がフレームによって支持されている場合には、複数のクランプ20によってフレームが把持され、固定される。 A plurality of clamps 20 (4 in FIG. 1) are provided around the holding table 18. When the workpiece 11 is supported by the frame, the frame is gripped and fixed by the plurality of clamps 20.

また、保持テーブル18は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、保持面18aと垂直な方向に沿う回転軸を中心として回転する。すなわち、保持テーブル18は、Z軸方向(鉛直方向、上下方向)に概ね平行な軸の周りで回転する。また、X軸移動機構6によってX軸移動テーブル10をX軸方向に移動させることにより、保持テーブル18の加工送りが行われる。 Further, the holding table 18 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates about a rotation axis along a direction perpendicular to the holding surface 18a. That is, the holding table 18 rotates around an axis substantially parallel to the Z-axis direction (vertical direction, vertical direction). Further, by moving the X-axis moving table 10 in the X-axis direction by the X-axis moving mechanism 6, the holding table 18 is processed and fed.

保持テーブル18の近傍には、被加工物11を保持テーブル18上に搬送する搬送機構(不図示)が設けられている。また、X軸移動テーブル10の近傍には、切削加工に用いられる切削液(純水等)の廃液などを一時的に貯留するケース22が設けられている。ケース22の内部に貯留された廃液は、切削装置2の外部に排出される。 A transport mechanism (not shown) for transporting the workpiece 11 onto the holding table 18 is provided in the vicinity of the holding table 18. Further, in the vicinity of the X-axis moving table 10, a case 22 is provided for temporarily storing waste liquid of cutting fluid (pure water or the like) used for cutting. The waste liquid stored inside the case 22 is discharged to the outside of the cutting device 2.

また、基台4の上面には、門型の支持構造24がX軸移動機構6を跨ぐように配置されている。支持構造24の前面の上部には、2組の移動ユニット(移動機構)26が設けられている。また、支持構造24の前面側には、一対のY軸ガイドレール28がY軸方向に沿って設けられている。移動ユニット26はそれぞれY軸移動プレート30を備えており、Y軸移動プレート30は、一対のY軸ガイドレール28に沿ってY軸方向にスライド可能な状態で装着されている。 Further, on the upper surface of the base 4, a gate-shaped support structure 24 is arranged so as to straddle the X-axis moving mechanism 6. Two sets of moving units (moving mechanisms) 26 are provided on the upper part of the front surface of the support structure 24. Further, on the front surface side of the support structure 24, a pair of Y-axis guide rails 28 are provided along the Y-axis direction. Each of the moving units 26 is provided with a Y-axis moving plate 30, and the Y-axis moving plate 30 is mounted so as to be slidable in the Y-axis direction along a pair of Y-axis guide rails 28.

Y軸移動プレート30の後面(裏面)側にはそれぞれ、ナット部(不図示)が設けられている。また、一対のY軸ガイドレール28の間には、一対のY軸ボールねじ32がY軸方向に沿って設けられている。Y軸移動プレート30のナット部にはそれぞれ、一のY軸ボールねじ32が螺合されている。また、一対のY軸ボールねじ32の一端部にはそれぞれ、Y軸パルスモータ34が連結されている。 Nut portions (not shown) are provided on the rear surface (back surface) side of the Y-axis moving plate 30. Further, a pair of Y-axis ball screws 32 are provided along the Y-axis direction between the pair of Y-axis guide rails 28. One Y-axis ball screw 32 is screwed into each nut portion of the Y-axis moving plate 30. A Y-axis pulse motor 34 is connected to one end of each of the pair of Y-axis ball screws 32.

Y軸パルスモータ34でY軸ボールねじ32を回転させると、Y軸移動プレート30がY軸ガイドレール28に沿ってY軸方向に移動する。なお、移動ユニット26には、Y軸移動プレート30のY軸方向における位置を測定するY軸測定ユニット(不図示)が設けられていてもよい。 When the Y-axis ball screw 32 is rotated by the Y-axis pulse motor 34, the Y-axis moving plate 30 moves in the Y-axis direction along the Y-axis guide rail 28. The moving unit 26 may be provided with a Y-axis measuring unit (not shown) for measuring the position of the Y-axis moving plate 30 in the Y-axis direction.

Y軸移動プレート30の前面(表面)側にはそれぞれ、一対のZ軸ガイドレール36がZ軸に沿って配置されている。Z軸ガイドレール36には、Z軸移動プレート38がZ軸ガイドレール36に沿ってZ軸方向にスライド可能な状態で装着されている。 A pair of Z-axis guide rails 36 are arranged along the Z-axis on each of the front (surface) sides of the Y-axis moving plate 30. The Z-axis moving plate 38 is mounted on the Z-axis guide rail 36 in a state where it can slide in the Z-axis direction along the Z-axis guide rail 36.

Z軸移動プレート38の後面(裏面)側にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Z軸ガイドレール36に沿って配置されたZ軸ボールねじ40が螺合されている。また、Z軸ボールねじ40の一端部には、Z軸パルスモータ42が連結されている。Z軸パルスモータ42でZ軸ボールねじ40を回転させると、Z軸移動プレート38がZ軸ガイドレール36に沿ってZ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the rear surface (back surface) side of the Z-axis moving plate 38, and a Z-axis ball screw 40 arranged along the Z-axis guide rail 36 is screwed into the nut portion. Has been done. A Z-axis pulse motor 42 is connected to one end of the Z-axis ball screw 40. When the Z-axis ball screw 40 is rotated by the Z-axis pulse motor 42, the Z-axis moving plate 38 moves in the Z-axis direction along the Z-axis guide rail 36.

一方の移動ユニット26が備えるZ軸移動プレート38の下部には、被加工物11を切削するための切削ユニット44a(第1の切削ユニット)が固定されている。また、他方の移動ユニット26が備えるZ軸移動プレート38の下部には、被加工物11を切削するための切削ユニット44b(第2の切削ユニット)が固定されている。また、切削ユニット44a,44bに隣接する位置にはそれぞれ、被加工物11等を撮像する撮像ユニット(カメラ)46が設けられている。 A cutting unit 44a (first cutting unit) for cutting the workpiece 11 is fixed to the lower portion of the Z-axis moving plate 38 included in the moving unit 26. A cutting unit 44b (second cutting unit) for cutting the workpiece 11 is fixed to the lower portion of the Z-axis moving plate 38 included in the other moving unit 26. Further, an imaging unit (camera) 46 for imaging the workpiece 11 and the like is provided at positions adjacent to the cutting units 44a and 44b, respectively.

移動ユニット26によって、切削ユニット44a,44bの位置が制御される。具体的には、Y軸移動プレート30をY軸方向に移動させることにより、切削ユニット44a,44b及び撮像ユニット46のY軸方向における位置が制御される。また、Z軸移動プレート38をZ軸方向に移動させることにより、切削ユニット44a,44b及び撮像ユニット46が昇降し、切削ユニット44a,44b及び撮像ユニット46のZ軸方向における位置(高さ位置)が制御される。 The position of the cutting units 44a and 44b is controlled by the moving unit 26. Specifically, by moving the Y-axis moving plate 30 in the Y-axis direction, the positions of the cutting units 44a and 44b and the imaging unit 46 in the Y-axis direction are controlled. Further, by moving the Z-axis moving plate 38 in the Z-axis direction, the cutting units 44a and 44b and the imaging unit 46 move up and down, and the positions (height positions) of the cutting units 44a and 44b and the imaging unit 46 in the Z-axis direction. Is controlled.

切削ユニット44aは、移動ユニット26に支持された筒状のハウジング48aを備える。ハウジング48aの内部には、Y軸方向に概ね平行に配置されたスピンドル50a(図3(B)参照)が収容されている。また、切削ユニット44bは、移動ユニット26に支持された筒状のハウジング48bを備える。ハウジング48bの内部には、Y軸方向に概ね平行に配置されたスピンドル50b(図5(B)参照)が収容されている。 The cutting unit 44a includes a tubular housing 48a supported by the moving unit 26. Inside the housing 48a, a spindle 50a (see FIG. 3B) arranged substantially parallel to the Y-axis direction is housed. Further, the cutting unit 44b includes a tubular housing 48b supported by the moving unit 26. Inside the housing 48b, a spindle 50b (see FIG. 5B) arranged substantially parallel to the Y-axis direction is housed.

スピンドル50aの一端側の先端部はハウジング48aの外部に露出しており、この先端部には環状の切削ブレード52a(第1の切削ブレード)が装着される(図3(B)参照)。また、スピンドル50bの一端側の先端部はハウジング48bの外部に露出しており、この先端部には環状の切削ブレード52b(第2の切削ブレード)が装着される(図5(B)参照)。 The tip of the spindle 50a on one end side is exposed to the outside of the housing 48a, and an annular cutting blade 52a (first cutting blade) is mounted on the tip (see FIG. 3B). Further, the tip of the spindle 50b on one end side is exposed to the outside of the housing 48b, and an annular cutting blade 52b (second cutting blade) is mounted on the tip (see FIG. 5B). ..

切削ブレード52a,52bとしては、ダイヤモンド等でなる砥粒をニッケル等でなるめっき層で固定して形成された環状の切刃を備える電鋳ハブブレードや、砥粒を金属、セラミックス、樹脂等でなるボンド材で固定して形成された環状の切刃からなるワッシャータイプのブレード等が用いられる。なお、切削ブレード52a,52bの材質、砥粒の粒径等は、被加工物11の材質等に応じて適宜選択される。 The cutting blades 52a and 52b include an electroformed hub blade having an annular cutting edge formed by fixing abrasive grains made of diamond or the like with a plating layer made of nickel or the like, or using metal, ceramics, resin or the like for the abrasive grains. A washer-type blade or the like made of an annular cutting edge formed by fixing with a bonding material is used. The materials of the cutting blades 52a and 52b, the particle size of the abrasive grains, and the like are appropriately selected according to the material of the workpiece 11.

スピンドル50a,50bの他端側はそれぞれ、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されている。スピンドル50a,50bの先端部に装着された切削ブレード52a,52bは、回転駆動源からスピンドル50a,50bを介して伝達される動力によって回転する。このとき、切削ブレード52a,52bの回転軸は、スピンドル50a,50bの長さ方向(Y軸方向)に沿うように設定される。 The other ends of the spindles 50a and 50b are respectively connected to a rotary drive source (not shown) such as a motor. The cutting blades 52a and 52b mounted on the tips of the spindles 50a and 50b are rotated by the power transmitted from the rotation drive source via the spindles 50a and 50b. At this time, the rotation axes of the cutting blades 52a and 52b are set so as to be along the length direction (Y-axis direction) of the spindles 50a and 50b.

また、切削ブレード52a,52bの近傍にはそれぞれ、被加工物11や切削ブレード52a,52bに純水等の切削液を供給するノズル54が設けられる。切削ブレード52a,52bで被加工物11を切削する際には、ノズル54から切削液が供給される。これにより、被加工物11及び切削ブレード52a,52bが冷却されるとともに、切削によって生じた屑(切削屑)が洗い流される。 Further, nozzles 54 for supplying a cutting liquid such as pure water to the workpiece 11 and the cutting blades 52a and 52b are provided in the vicinity of the cutting blades 52a and 52b, respectively. When cutting the workpiece 11 with the cutting blades 52a and 52b, the cutting fluid is supplied from the nozzle 54. As a result, the workpiece 11 and the cutting blades 52a and 52b are cooled, and the debris (cutting debris) generated by cutting is washed away.

また、切削装置2の構成要素(X軸移動機構6、保持テーブル18、移動ユニット26、切削ユニット44a,44b、撮像ユニット46等)はそれぞれ、制御ユニット(制御部)56に接続されている。この制御ユニット56は、例えばコンピュータによって構成され、被加工物11の加工条件に合わせて切削装置2の構成要素の動作を制御する。 Further, each of the components of the cutting device 2 (X-axis moving mechanism 6, holding table 18, moving unit 26, cutting units 44a, 44b, imaging unit 46, etc.) is connected to the control unit (control unit) 56. The control unit 56 is configured by, for example, a computer, and controls the operation of the components of the cutting device 2 according to the machining conditions of the workpiece 11.

次に、上記の切削装置2を用いて被加工物11を複数のデバイスチップに分割する方法の具定例について説明する。本実施形態では、被加工物11の表面11a側に分割予定ライン13に沿って溝を形成した後、被加工物11の裏面11b側を薄化することによって、被加工物11を分割し、デバイスチップを製造する。 Next, a specific example of a method of dividing the workpiece 11 into a plurality of device chips by using the above-mentioned cutting device 2 will be described. In the present embodiment, after forming a groove on the front surface 11a side of the workpiece 11 along the planned division line 13, the workpiece 11 is divided by thinning the back surface 11b side of the workpiece 11. Manufacture device chips.

まず、被加工物11の表面11a側に切削ブレード52aを切り込ませ、分割予定ライン13に沿って溝11cを形成する(溝形成ステップ)。図3(A)は溝形成ステップにおける被加工物11を示す斜視図であり、図3(B)は溝形成ステップにおける被加工物11を示す断面図である。 First, the cutting blade 52a is cut into the surface 11a side of the workpiece 11, and the groove 11c is formed along the planned division line 13 (groove formation step). FIG. 3A is a perspective view showing the workpiece 11 in the groove forming step, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing the workpiece 11 in the groove forming step.

溝形成ステップでは、まず、被加工物11を保持テーブル18によって保持する。具体的には、被加工物11は、表面11a側が上方に露出し、裏面11b側が保持面18aと対向するように、保持テーブル18上に配置される。この状態で、保持面18aに吸引源(不図示)の負圧を作用させることにより、被加工物11が保持面18aによって吸引保持される。 In the groove forming step, first, the workpiece 11 is held by the holding table 18. Specifically, the workpiece 11 is arranged on the holding table 18 so that the front surface 11a side is exposed upward and the back surface 11b side faces the holding surface 18a. In this state, the work piece 11 is suction-held by the holding surface 18a by applying a negative pressure of a suction source (not shown) to the holding surface 18a.

次に、保持テーブル18を回転させて、一の分割予定ライン13の長さ方向をX軸方向に合わせる。また、切削ブレード52aの下端が被加工物11の表面11aよりも下方で且つ被加工物11の裏面11bよりも上方に配置されるように、切削ユニット44aの高さを調整する。さらに、該一の分割予定ライン13の延長線上に切削ブレード52aが配置されるように、切削ユニット44aのY軸方向における位置を調整する。 Next, the holding table 18 is rotated to align the length direction of one scheduled division line 13 with the X-axis direction. Further, the height of the cutting unit 44a is adjusted so that the lower end of the cutting blade 52a is arranged below the front surface 11a of the workpiece 11 and above the back surface 11b of the workpiece 11. Further, the position of the cutting unit 44a in the Y-axis direction is adjusted so that the cutting blade 52a is arranged on the extension line of the one scheduled division line 13.

そして、切削ブレード52aを回転させながら、保持テーブル18をX軸方向に沿って移動させる。例えば図3(A)に示すように、切削ブレード52aを矢印Aで示す方向に回転させ、保持テーブル18を矢印Bで示す方向に移動させる。これにより、保持テーブル18と切削ブレード52aとが分割予定ライン13に沿って相対的に移動し、切削ブレード52aが分割予定ライン13に沿って被加工物11の表面11a側に所定の深さ(切り込み深さ)で切り込む。その結果、被加工物11が切削され、被加工物11の表面11a側には深さが被加工物11の厚さ未満である線状の溝11cが、分割予定ライン13に沿って形成される(ハーフカット)。 Then, the holding table 18 is moved along the X-axis direction while rotating the cutting blade 52a. For example, as shown in FIG. 3A, the cutting blade 52a is rotated in the direction indicated by the arrow A, and the holding table 18 is moved in the direction indicated by the arrow B. As a result, the holding table 18 and the cutting blade 52a move relatively along the scheduled division line 13, and the cutting blade 52a moves along the scheduled division line 13 to a predetermined depth on the surface 11a side of the workpiece 11. Cut at the depth of cut). As a result, the workpiece 11 is cut, and a linear groove 11c having a depth less than the thickness of the workpiece 11 is formed on the surface 11a side of the workpiece 11 along the planned division line 13. (Half cut).

なお、溝形成ステップでは、切削ブレード52aの切り込み深さを、最終的に被加工物11が複数のデバイスチップ19(図5(A)及び図5(B)参照)に分割された際の、デバイスチップ19の厚さ(仕上げ厚さ)以上に設定する。これにより、被加工物11には仕上げ厚さ以上の深さを有する溝11cが形成される。 In the groove forming step, the cutting depth of the cutting blade 52a is finally divided into a plurality of device chips 19 (see FIGS. 5 (A) and 5 (B)) when the workpiece 11 is finally divided. Set to be equal to or larger than the thickness (finishing thickness) of the device chip 19. As a result, the groove 11c having a depth equal to or greater than the finish thickness is formed in the workpiece 11.

また、溝11cの幅は、切削ブレード52aの幅(厚さ)によって制御される。切削ブレード52aの幅は、隣接するデバイス15間の距離(分割予定ライン13の幅)、被加工物11の材質、大きさ等に応じて適宜設定される。例えば、切削ブレード52aの厚さは50μm以上100μm以下に設定される。 The width of the groove 11c is controlled by the width (thickness) of the cutting blade 52a. The width of the cutting blade 52a is appropriately set according to the distance between adjacent devices 15 (width of the scheduled division line 13), the material of the workpiece 11, the size, and the like. For example, the thickness of the cutting blade 52a is set to 50 μm or more and 100 μm or less.

その後、同様の手順を繰り返し、他の全ての分割予定ライン13に沿って溝11cを形成する。これにより、被加工物11の表面11a側に複数の溝11cが格子状に形成される。 After that, the same procedure is repeated to form the groove 11c along all the other scheduled division lines 13. As a result, a plurality of grooves 11c are formed in a grid pattern on the surface 11a side of the workpiece 11.

次に、溝11cが形成された被加工物11の表面11a側に、粘着テープ17を貼着する(粘着テープ貼着ステップ)。図4(A)は粘着テープ貼着ステップにおける被加工物11を示す斜視図であり、図4(B)は粘着テープ貼着ステップにおける被加工物11を示す断面図である。 Next, the adhesive tape 17 is attached to the surface 11a side of the workpiece 11 on which the groove 11c is formed (adhesive tape attachment step). FIG. 4A is a perspective view showing a work piece 11 in the adhesive tape sticking step, and FIG. 4B is a cross-sectional view showing a work piece 11 in the adhesive tape sticking step.

粘着テープ貼着ステップでは、まず、被加工物11を保持テーブル60によって保持する。保持テーブル60は、例えば切削装置2の保持テーブル18(図3(A)及び図3(B)参照)と同様に構成され、被加工物11を保持する保持面60aを備える。被加工物11は、表面11a側が上方に露出し、裏面11b側が保持面60aと対向するように、保持テーブル60によって吸引保持される。 In the adhesive tape attaching step, first, the workpiece 11 is held by the holding table 60. The holding table 60 is configured in the same manner as the holding table 18 of the cutting apparatus 2 (see FIGS. 3A and 3B), and includes a holding surface 60a for holding the workpiece 11. The workpiece 11 is suction-held by the holding table 60 so that the front surface 11a side is exposed upward and the back surface 11b side faces the holding surface 60a.

次に、被加工物11に粘着テープ17を貼着する。例えば粘着テープ17は、被加工物11と概ね同径の円形のフィルム状の基材と、基材上に形成された粘着層(糊層)とを備える。基材は、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタラート等の樹脂でなり、粘着層は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化型の樹脂等でなる。 Next, the adhesive tape 17 is attached to the workpiece 11. For example, the adhesive tape 17 includes a circular film-shaped base material having substantially the same diameter as the workpiece 11, and an adhesive layer (glue layer) formed on the base material. The base material is made of a resin such as polyolefin, polyvinyl chloride, or polyethylene terephthalate, and the adhesive layer is made of an ultraviolet curable resin or the like that is cured by irradiation with ultraviolet rays.

粘着テープ17は、粘着層側が被加工物11と対向するように配置され、被加工物11の表面11a側に貼着される。これにより、複数のデバイス15が粘着テープ17によって覆われる。この粘着テープ17によって、後述の裏面切削ステップで被加工物11の裏面11b側が加工される際、複数のデバイス15が保護される。なお、粘着テープ17の貼着は、作業者によって行われてもよいし、被加工物11に粘着テープ17を貼着する専用の装置(テープ貼着装置)によって行われてもよい。 The adhesive tape 17 is arranged so that the adhesive layer side faces the work piece 11, and is attached to the surface 11a side of the work piece 11. As a result, the plurality of devices 15 are covered with the adhesive tape 17. The adhesive tape 17 protects the plurality of devices 15 when the back surface 11b side of the workpiece 11 is processed in the back surface cutting step described later. The adhesive tape 17 may be attached by an operator, or may be attached by a dedicated device (tape attaching device) for attaching the adhesive tape 17 to the workpiece 11.

次に、被加工物11の裏面11b側に切削ブレード52bを切り込ませ、被加工物11の裏面11b側の全体を切削する(裏面切削ステップ)。図5(A)は裏面切削ステップにおける被加工物11を示す斜視図であり、図5(B)は裏面切削ステップにおける被加工物11を示す断面図である。 Next, the cutting blade 52b is cut into the back surface 11b side of the workpiece 11, and the entire back surface 11b side of the workpiece 11 is cut (back surface cutting step). FIG. 5 (A) is a perspective view showing the workpiece 11 in the back surface cutting step, and FIG. 5 (B) is a cross-sectional view showing the workpiece 11 in the back surface cutting step.

裏面切削ステップでは、まず、被加工物11を保持テーブル18によって保持する。具体的には、被加工物11は、表面11a側が保持面18aと対向し、裏面11b側が上方に露出するように、保持テーブル18上に配置される。この状態で、保持面18aに吸引源(不図示)の負圧を作用させることにより、被加工物11が保持面18aによって吸引保持される。 In the back surface cutting step, first, the workpiece 11 is held by the holding table 18. Specifically, the workpiece 11 is arranged on the holding table 18 so that the front surface 11a side faces the holding surface 18a and the back surface 11b side is exposed upward. In this state, the work piece 11 is suction-held by the holding surface 18a by applying a negative pressure of a suction source (not shown) to the holding surface 18a.

次に、切削ブレード52bの下端が被加工物11の裏面11bよりも下方で且つ被加工物11の表面11aよりも上方に配置されるように、切削ユニット44bの高さを調整する。このとき切削ブレード52bは、切削ブレード52bの下端から被加工物11の表面11aまでの距離が、デバイスチップ19の仕上げ厚さと一致するように位置付けられる。 Next, the height of the cutting unit 44b is adjusted so that the lower end of the cutting blade 52b is arranged below the back surface 11b of the workpiece 11 and above the surface 11a of the workpiece 11. At this time, the cutting blade 52b is positioned so that the distance from the lower end of the cutting blade 52b to the surface 11a of the workpiece 11 matches the finishing thickness of the device chip 19.

そして、切削ブレード52bを回転させながら、保持テーブル18をX軸方向に沿って移動させる。これにより、保持テーブル18と切削ブレード52bとが、保持面18aと平行で切削ブレード52bの回転軸と垂直な方向に沿って相対的に移動し、切削ブレード52bが被加工物11の裏面11b側に所定の深さで切り込む。その結果、被加工物11が切削ブレード52bによって直線状に切削され、被加工物11の裏面11b側には線状(帯状)の切削溝が形成される(切削ステップ)。 Then, the holding table 18 is moved along the X-axis direction while rotating the cutting blade 52b. As a result, the holding table 18 and the cutting blade 52b move relatively along the direction parallel to the holding surface 18a and perpendicular to the rotation axis of the cutting blade 52b, and the cutting blade 52b is on the back surface 11b side of the workpiece 11. Cut to a predetermined depth. As a result, the workpiece 11 is linearly cut by the cutting blade 52b, and a linear (strip-shaped) cutting groove is formed on the back surface 11b side of the workpiece 11 (cutting step).

なお、切削ブレード52bは、溝形成ステップで用いられた切削ブレード52a(図3(A)及び図3(B)参照)よりも厚い。そのため、切削ブレード52bは切削ブレード52aよりも切削時に被加工物11の広範囲に接触し、切削ブレード52bによって形成される切削溝の幅は溝11cの幅よりも大きくなる。 The cutting blade 52b is thicker than the cutting blade 52a (see FIGS. 3A and 3B) used in the groove forming step. Therefore, the cutting blade 52b comes into contact with a wider area of the workpiece 11 during cutting than the cutting blade 52a, and the width of the cutting groove formed by the cutting blade 52b is larger than the width of the groove 11c.

その後、被加工物11と切削ブレード52bとが接触していない状態で、切削ユニット44bをY軸方向に切削ブレード52bの幅以下の距離だけ移動させる。これにより、保持テーブル18と切削ブレード52bとが、切削ブレード52bの回転軸と平行な方向に沿って相対的に移動し、被加工物11の割り出し送りが行われる(切削ブレード移動ステップ)。 After that, the cutting unit 44b is moved in the Y-axis direction by a distance equal to or less than the width of the cutting blade 52b in a state where the workpiece 11 and the cutting blade 52b are not in contact with each other. As a result, the holding table 18 and the cutting blade 52b move relatively along the direction parallel to the rotation axis of the cutting blade 52b, and the work piece 11 is indexed and fed (cutting blade moving step).

その後、同様の手順で被加工物11の裏面11b側を切削ブレード52bで切削する。これにより、既に被加工物11の裏面11bに形成されている切削溝と連結するように、新たな線状の切削溝が形成される。そして、切削ステップと切削ブレード移動ステップとを、被加工物11の裏面11b側の全体が切削され、被加工物11の全体が薄化されるまで繰り返す。 After that, the back surface 11b side of the workpiece 11 is cut with the cutting blade 52b in the same procedure. As a result, a new linear cutting groove is formed so as to be connected to the cutting groove already formed on the back surface 11b of the workpiece 11. Then, the cutting step and the cutting blade moving step are repeated until the entire back surface 11b side of the workpiece 11 is cut and the entire workpiece 11 is thinned.

なお、切削ブレード52bの厚さは、被加工物11の大きさ、材質、溝11cの幅等に応じて適宜設定される。ただし、切削ブレード52bが厚いほど、一度の切削で加工される被加工物11の領域が大きくなり、切削ブレード52bを被加工物11に切り込ませる回数が低減される。そのため、裏面切削ステップでは、比較的幅の大きい切削ブレード52bを用いることが好ましい。 The thickness of the cutting blade 52b is appropriately set according to the size and material of the workpiece 11, the width of the groove 11c, and the like. However, the thicker the cutting blade 52b, the larger the region of the workpiece 11 to be machined in one cutting, and the number of times the cutting blade 52b is cut into the workpiece 11 is reduced. Therefore, it is preferable to use a cutting blade 52b having a relatively large width in the back surface cutting step.

例えば、切削ブレード52bの幅は、0.5mm以上、好ましくは1mm以上に設定される。なお、切削ブレード52bの幅の上限に制限はなく、例えば3mm以下に設定される。 For example, the width of the cutting blade 52b is set to 0.5 mm or more, preferably 1 mm or more. The upper limit of the width of the cutting blade 52b is not limited, and is set to, for example, 3 mm or less.

上記の切削ステップと切削ブレード移動ステップとを交互に繰り返し、被加工物11の裏面11b側の全体が切削ブレード52bによって切削されると、溝形成ステップにおいて形成された溝11cが被加工物11の裏面11b側で露出する。その結果、被加工物11が溝11cに沿って分割され、それぞれデバイス15を備える複数のデバイスチップ19が得られる。 When the above cutting step and the cutting blade moving step are alternately repeated and the entire back surface 11b side of the workpiece 11 is cut by the cutting blade 52b, the groove 11c formed in the groove forming step becomes the workpiece 11. It is exposed on the back surface 11b side. As a result, the workpiece 11 is divided along the groove 11c, and a plurality of device chips 19 each including the device 15 are obtained.

上記のように、本実施形態では、切削ブレード52aによって被加工物11の表面11a側を切削して溝11cを形成した後、切削ブレード52bによって被加工物11の裏面11b側を切削して、被加工物11を複数のデバイスチップ19に分割する。そのため、被加工物11を複数のデバイスチップ19に分割する際に、研削装置を用いて被加工物11を研削して薄化する工程を省略できる。これにより、研削装置の準備及び稼働が不要となり、デバイスチップ19の製造に要する工程数及びコストを低減することができる。 As described above, in the present embodiment, the surface 11a side of the workpiece 11 is cut by the cutting blade 52a to form the groove 11c, and then the back surface 11b side of the workpiece 11 is cut by the cutting blade 52b. The workpiece 11 is divided into a plurality of device chips 19. Therefore, when the workpiece 11 is divided into a plurality of device chips 19, the step of grinding and thinning the workpiece 11 using a grinding device can be omitted. This eliminates the need for preparation and operation of the grinding apparatus, and can reduce the number of steps and costs required for manufacturing the device chip 19.

また、従来のように研削装置を用いて被加工物11を研削して薄化する場合には、研削砥石が、被加工物11の裏面11bと平行な面内で回転しながら、被加工物11の裏面11b側に押し付けられる。そして、研削砥石は、被加工物11の裏面11b側の広範囲に接触した状態で、被加工物11の半径方向外側に向かって移動する。その結果、デバイスチップ19が研削砥石によって被加工物11の外側に向かって押し出されて粘着テープ17から剥離され、保持テーブル上から飛散してしまうことがある。 Further, when the workpiece 11 is ground and thinned by using a grinding device as in the conventional case, the grinding wheel rotates in a plane parallel to the back surface 11b of the workpiece 11, and the workpiece 11 is rotated. It is pressed against the back surface 11b side of 11. Then, the grinding wheel moves toward the outside in the radial direction of the workpiece 11 in a state of being in contact with a wide range on the back surface 11b side of the workpiece 11. As a result, the device tip 19 may be pushed out of the workpiece 11 by the grinding wheel, peeled off from the adhesive tape 17, and scattered from the holding table.

特に、被加工物11がサイズの小さいデバイスチップ19(例えば0.1mm角)に分割される場合には、デバイスチップ19の飛散が生じやすい。このデバイスチップ19の飛散が頻繁に生じると、デバイスチップ19の歩留まりが低下する。 In particular, when the workpiece 11 is divided into device chips 19 having a small size (for example, 0.1 mm square), the device chips 19 are likely to scatter. If the device chip 19 is frequently scattered, the yield of the device chip 19 is lowered.

一方、本実施形態では、被加工物11の薄化に切削ブレード52bを用いる。この場合、被加工物11と加工工具(切削ブレード52b)との接触面積が小さく抑えられるため、被加工物11がデバイスチップ19に分割された際にデバイスチップ19の飛散が生じにくい。これにより、デバイスチップ19の歩留まりの低下が抑制される。 On the other hand, in the present embodiment, the cutting blade 52b is used for thinning the workpiece 11. In this case, since the contact area between the workpiece 11 and the machining tool (cutting blade 52b) is suppressed to a small size, the device chip 19 is less likely to scatter when the workpiece 11 is divided into the device chips 19. As a result, a decrease in the yield of the device chip 19 is suppressed.

なお、裏面切削ステップでは、保持テーブル18と切削ブレード52bとを、回転する切削ブレード52bの下端の移動方向と保持テーブル18の移動方向とが一致するように相対的に移動させることが好ましい。具体的には、図5(A)に示すように、切削ブレード52bを矢印Cで示す方向に回転させながら、保持テーブル18を矢印Dで示す方向に移動させる。これにより、切削ブレード52bを被加工物11の上面(裏面11b)側から下面(表面11a)側に向かってに切り込ませる、所謂ダウンカットで被加工物11が切削される。 In the back surface cutting step, it is preferable that the holding table 18 and the cutting blade 52b are relatively moved so that the moving direction of the lower end of the rotating cutting blade 52b and the moving direction of the holding table 18 coincide with each other. Specifically, as shown in FIG. 5A, the holding table 18 is moved in the direction indicated by the arrow D while rotating the cutting blade 52b in the direction indicated by the arrow C. As a result, the workpiece 11 is cut by a so-called downcut in which the cutting blade 52b is cut from the upper surface (back surface 11b) side to the lower surface (front surface 11a) side of the workpiece 11.

被加工物11をダウンカットで切削すると、切削ブレード52bが被加工物11の裏面11b側から表面11a側に向かって切り込むため、被加工物11は保持テーブル18の保持面18a側に押し付けられながら切削される。これにより、被加工物11の切削中にデバイスチップ19がより飛散しにくくなる。 When the workpiece 11 is cut by downcut, the cutting blade 52b cuts from the back surface 11b side of the workpiece 11 toward the surface 11a side, so that the workpiece 11 is pressed against the holding surface 18a side of the holding table 18. Be cut. As a result, the device chip 19 is less likely to scatter during cutting of the workpiece 11.

なお、実際にデバイスチップ19の飛散を実験によって評価したところ、本実施形態のように被加工物11を切削ブレード52bで切削して薄化すると、従来のように被加工物11を研削砥石によって研削して薄化する場合と比較して、デバイスチップ19の飛散率が大幅に低減されることが確認された。 When the scattering of the device chip 19 was actually evaluated by an experiment, when the workpiece 11 was cut by the cutting blade 52b and thinned as in the present embodiment, the workpiece 11 was cut by the grinding wheel as in the conventional case. It was confirmed that the scattering rate of the device chip 19 was significantly reduced as compared with the case of grinding and thinning.

本評価では、まず、シリコンでなる10mm角、厚さ725μmの被加工物を2枚準備し、各被加工物に複数の溝を格子状に形成した(ハーフカット)。その後、一方の被加工物には研削加工を施し、他方の被加工物には切削加工を施すことにより、被加工物をそれぞれ、0.1mm角、厚さ100μmの10000個のチップに分割した。 In this evaluation, first, two 10 mm square and 725 μm-thick workpieces made of silicon were prepared, and a plurality of grooves were formed in a grid pattern on each workpiece (half-cut). After that, one work piece was ground and the other work piece was cut to divide the work piece into 10000 chips each of 0.1 mm square and 100 μm thick. ..

まず、従来のように被加工物の裏面側を研削装置で研削することによって、被加工物を複数のチップに分割した。被加工物の研削は、被加工物を保持する保持テーブルの回転数を300rpm、複数の研削砥石が固定された環状の研削ホイール(直径300mm)の回転数を3000rpm、研削ホイールの下降速度(被加工物への押し付け速度)を0.3μm/sに設定し、被加工物に形成された複数の溝が被加工物の裏面側で露出するまで実施した。このとき、飛散したチップの数は全てのチップの数の25%であった。 First, the work piece was divided into a plurality of chips by grinding the back surface side of the work piece with a grinding device as in the conventional case. For grinding the work piece, the rotation speed of the holding table that holds the work piece is 300 rpm, the rotation speed of the annular grinding wheel (diameter 300 mm) to which multiple grinding wheels are fixed is 3000 rpm, and the lowering speed of the grinding wheel (work piece). The pressing speed against the work piece) was set to 0.3 μm / s, and this was carried out until a plurality of grooves formed in the work piece were exposed on the back surface side of the work piece. At this time, the number of scattered chips was 25% of the total number of chips.

次に、本実施形態で説明したように、被加工物の裏面側を切削装置(図1参照)で切削することによって、被加工物をダウンカットで複数のチップに分割した。被加工物の切削には、厚さ1mmの切削ブレードを用い、切削ブレードの回転数は30000rpm、保持テーブル18の移動速度(加工送り速度)は5mm/sに設定した。その結果、被加工物が複数のチップに分割される際に飛散したチップの数は、全てのチップの数の7%であった。 Next, as described in the present embodiment, the work piece was divided into a plurality of chips by down-cutting by cutting the back surface side of the work piece with a cutting device (see FIG. 1). A cutting blade having a thickness of 1 mm was used for cutting the workpiece, the rotation speed of the cutting blade was set to 30,000 rpm, and the moving speed (machining feed speed) of the holding table 18 was set to 5 mm / s. As a result, the number of chips scattered when the workpiece was divided into a plurality of chips was 7% of the total number of chips.

上記の結果より、図5(A)及び図5(B)に示すように切削ブレード52bを用いた切削加工によって被加工物11を薄化すると、デバイスチップ19の飛散が大幅に低減されることが確認された。そのため、本実施形態に係る裏面切削ステップによって被加工物11を分割することにより、デバイスチップ19の飛散による歩留まりの低下を抑制することができる。 From the above results, when the workpiece 11 is thinned by cutting using the cutting blade 52b as shown in FIGS. 5 (A) and 5 (B), the scattering of the device chip 19 is significantly reduced. Was confirmed. Therefore, by dividing the workpiece 11 by the back surface cutting step according to the present embodiment, it is possible to suppress a decrease in yield due to scattering of the device chip 19.

また、従来のように被加工物11を研削装置で研削する場合には、研削中の被加工物11の厚さをモニターするために、被加工物11の厚さを測定する厚さ測定器を設ける必要がある。また、被加工物11の材質及び形状も、厚さ測定器による厚さの測定が可能な範囲に限定される。一方、本実施形態では、切削ブレード52bの被加工物11への切り込み深さを制御することにより、裏面切削ステップ後の被加工物11の厚さ(デバイスチップ19の仕上げ厚さ)を正確に制御できる。そのため、厚さ測定器を省略できるとともに、被加工物11の材質及び形状の自由度を向上させることができる。 Further, when the workpiece 11 is ground by a grinding device as in the conventional case, a thickness measuring device that measures the thickness of the workpiece 11 in order to monitor the thickness of the workpiece 11 being ground. It is necessary to provide. Further, the material and shape of the workpiece 11 are also limited to the range in which the thickness can be measured by the thickness measuring device. On the other hand, in the present embodiment, by controlling the cutting depth of the cutting blade 52b into the workpiece 11, the thickness of the workpiece 11 after the back surface cutting step (finishing thickness of the device chip 19) can be accurately determined. Can be controlled. Therefore, the thickness measuring instrument can be omitted, and the degree of freedom in the material and shape of the workpiece 11 can be improved.

なお、本実施形態では、図5(A)及び図5(B)に示すように、被加工物11の裏面11b側を切削ブレード52bによって直線状に切削する工程を繰り返して被加工物11の全体を薄化する例について説明した。ただし、裏面切削ステップの態様はこれに限定されない。例えば裏面切削ステップでは、被加工物11の裏面11b側を切削ブレード52bで渦巻き状に切削してもよい。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 5A and 5B, the process of linearly cutting the back surface 11b side of the workpiece 11 with the cutting blade 52b is repeated to obtain the workpiece 11. An example of thinning the whole was described. However, the mode of the back surface cutting step is not limited to this. For example, in the back surface cutting step, the back surface 11b side of the workpiece 11 may be cut in a spiral shape with the cutting blade 52b.

具体的には、まず、切削ブレード52bを回転させながら保持テーブル18をX軸方向に沿って移動させ、切削ブレード52bを被加工物11の外周部の一部(図5(A)のY軸方向における端部)に切り込ませる。そして、切削ブレード52bが被加工物11に切り込んだ状態で、保持テーブル18の移動を停止する。 Specifically, first, the holding table 18 is moved along the X-axis direction while rotating the cutting blade 52b, and the cutting blade 52b is moved to a part of the outer peripheral portion of the workpiece 11 (Y-axis in FIG. 5A). Make a cut in the end in the direction). Then, in a state where the cutting blade 52b cuts into the workpiece 11, the movement of the holding table 18 is stopped.

次に、保持テーブル18を保持面18aと垂直な方向に沿う回転軸を中心として回転させながら、保持テーブル18と切削ブレード52bとを切削ブレード52bの回転軸(Y軸方向)と平行な方向に沿って相対的に移動させる。具体的には、保持テーブル18を回転させた状態で、切削ユニット44bを移動ユニット26(図1参照)によってY軸方向に移動させ、切削ブレード52bを被加工物11の中央(中心)側に向かって移動させる。 Next, while rotating the holding table 18 about a rotation axis along the direction perpendicular to the holding surface 18a, the holding table 18 and the cutting blade 52b are moved in a direction parallel to the rotation axis (Y-axis direction) of the cutting blade 52b. Move relatively along. Specifically, with the holding table 18 rotated, the cutting unit 44b is moved in the Y-axis direction by the moving unit 26 (see FIG. 1), and the cutting blade 52b is moved to the center (center) side of the workpiece 11. Move towards.

これにより、切削ブレード52bは被加工物11の外周縁側から中央側に向かって徐々に移動しながら、被加工物11を周方向に沿って環状に切削する。その結果、被加工物11の裏面11b側は渦巻き状に切削される。なお、このときの切削ユニット44bの移動速度は、被加工物11の裏面11b側に切削されていない領域が生じないように適宜調整される。 As a result, the cutting blade 52b cuts the workpiece 11 in an annular shape along the circumferential direction while gradually moving from the outer peripheral edge side to the center side of the workpiece 11. As a result, the back surface 11b side of the workpiece 11 is cut in a spiral shape. The moving speed of the cutting unit 44b at this time is appropriately adjusted so that an uncut region does not occur on the back surface 11b side of the workpiece 11.

なお、被加工物11を渦巻き状に切削する場合は、切削ブレード52bを被加工物11の中心部に切り込ませた後、被加工物11を中心側から外周縁側に向かって環状に切削してもよい。この場合には、保持テーブル18を回転させながら、切削ブレード52bを被加工物11の中央部から外周縁側に向かって徐々に移動させる。 When cutting the workpiece 11 in a spiral shape, the cutting blade 52b is cut into the center of the workpiece 11, and then the workpiece 11 is cut in an annular shape from the center side toward the outer peripheral edge side. You may. In this case, the cutting blade 52b is gradually moved from the central portion of the workpiece 11 toward the outer peripheral edge side while rotating the holding table 18.

また、本実施形態では、切削装置2が2組の切削ユニット44a,44bを備える場合について説明したが、切削装置2に備えられる切削ユニットは1組であってもよい。この場合は、切削ユニットに切削ブレード52aを装着して溝形成ステップを実施した後、切削ユニットから切削ブレード52aを取り外す。そして、切削ユニットに切削ブレード52bを装着して、裏面切削ステップを実施する。切削装置2に備えられる切削ユニットの数を1組にすることにより、切削装置2の構成が簡素化され、省スペース化を図ることができる。 Further, in the present embodiment, the case where the cutting device 2 includes two sets of cutting units 44a and 44b has been described, but the cutting device 2 may have one set of cutting units. In this case, the cutting blade 52a is attached to the cutting unit to perform the groove forming step, and then the cutting blade 52a is removed from the cutting unit. Then, the cutting blade 52b is attached to the cutting unit, and the back surface cutting step is performed. By setting the number of cutting units provided in the cutting device 2 to one set, the configuration of the cutting device 2 can be simplified and space can be saved.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, etc. according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented as long as the scope of the object of the present invention is not deviated.

11 被加工物
11a 表面
11b 裏面
13 分割予定ライン(ストリート)
15 デバイス
17 粘着テープ
19 デバイスチップ
2 切削装置
4 基台
4a 上面
6 X軸移動機構
8 X軸ガイドレール
10 X軸移動テーブル
12 X軸ボールねじ
14 X軸パルスモータ
16 テーブルベース
18 保持テーブル
18a 保持面
20 クランプ
22 ケース
24 支持構造
26 移動ユニット(移動機構)
28 Y軸ガイドレール
30 Y軸移動プレート
32 Y軸ボールねじ
34 Y軸パルスモータ
36 Z軸ガイドレール
38 Z軸移動プレート
40 Z軸ボールねじ
42 Z軸パルスモータ
44a,44b 切削ユニット
46 撮像ユニット(カメラ)
48a,48b ハウジング
50a,50b スピンドル
52a,52b 切削ブレード
54 ノズル
56 制御ユニット(制御部)
60 保持テーブル
60a 保持面
11 Work piece 11a Front surface 11b Back surface 13 Scheduled division line (street)
15 Device 17 Adhesive tape 19 Device chip 2 Cutting device 4 Base 4a Top surface 6 X-axis movement mechanism 8 X-axis guide rail 10 X-axis movement table 12 X-axis ball screw 14 X-axis pulse motor 16 Table base 18 Holding table 18a Holding surface 20 Clamp 22 Case 24 Support structure 26 Moving unit (moving mechanism)
28 Y-axis guide rail 30 Y-axis moving plate 32 Y-axis ball screw 34 Y-axis pulse motor 36 Z-axis guide rail 38 Z-axis moving plate 40 Z-axis ball screw 42 Z-axis pulse motor 44a, 44b Cutting unit 46 Imaging unit (camera) )
48a, 48b Housing 50a, 50b Spindle 52a, 52b Cutting blade 54 Nozzle 56 Control unit (control unit)
60 Holding table 60a Holding surface

Claims (4)

互いに交差する複数の分割予定ラインによって区画された複数の領域の表面側にそれぞれデバイスが形成された被加工物を複数のデバイスチップに分割するデバイスチップの製造方法であって、
該被加工物の表面側に第1の切削ブレードを切り込ませ、該分割予定ラインに沿って該デバイスチップの厚さ以上の深さを有する溝を形成する溝形成ステップと、
該溝が形成された該被加工物の表面側に粘着テープを貼着する粘着テープ貼着ステップと、
該被加工物の裏面側に該第1の切削ブレードよりも厚い第2の切削ブレードを切り込ませ、該被加工物の厚さが該デバイスチップの厚さになるように該被加工物の裏面側の全体を切削することにより、該溝を該被加工物の裏面側に露出させて該被加工物を複数の該デバイスチップに分割する裏面切削ステップと、を備えることを特徴とするデバイスチップの製造方法。
A method for manufacturing a device chip, which divides a workpiece having a device formed on the surface side of a plurality of regions partitioned by a plurality of scheduled division lines intersecting with each other into a plurality of device chips.
A groove forming step in which a first cutting blade is cut into the surface side of the workpiece to form a groove having a depth equal to or greater than the thickness of the device chip along the planned division line.
An adhesive tape attaching step of attaching the adhesive tape to the surface side of the workpiece in which the groove is formed, and
A second cutting blade thicker than the first cutting blade is cut into the back surface side of the work piece, and the work piece is made so that the thickness of the work piece is the thickness of the device chip. A device comprising a back surface cutting step of exposing the groove to the back surface side of the workpiece by cutting the entire back surface side to divide the workpiece into a plurality of device chips. How to make chips.
該裏面切削ステップでは、
該被加工物を保持する保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、回転する該第2の切削ブレードの下端の移動方向と該保持テーブルの移動方向とが一致するように相対的に移動させ、該第2の切削ブレードを該被加工物の裏面側から表面側に向かって切り込ませることを特徴とする請求項1記載のデバイスチップの製造方法。
In the backside cutting step
The holding table that holds the workpiece and the second cutting blade are relatively moved so that the moving direction of the lower end of the rotating second cutting blade coincides with the moving direction of the holding table. The method for manufacturing a device chip according to claim 1, wherein the second cutting blade is cut from the back surface side to the front surface side of the workpiece.
該裏面切削ステップでは、
該被加工物を保持面で保持する保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、該保持面と平行で該第2の切削ブレードの回転軸と垂直な方向に沿って相対的に移動させながら、該被加工物を該第2の切削ブレードで切削する切削ステップと、
該保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、該第2の切削ブレードの回転軸と平行な方向に沿って相対的に移動させる切削ブレード移動ステップと、
を繰り返すことにより、該被加工物の裏面側の全体を切削することを特徴とする請求項1又は2記載のデバイスチップの製造方法。
In the backside cutting step
While moving the holding table for holding the workpiece on the holding surface and the second cutting blade in a direction parallel to the holding surface and perpendicular to the rotation axis of the second cutting blade. , The cutting step of cutting the workpiece with the second cutting blade,
A cutting blade moving step in which the holding table and the second cutting blade are relatively moved along a direction parallel to the rotation axis of the second cutting blade.
The method for manufacturing a device chip according to claim 1 or 2, wherein the entire back surface side of the workpiece is cut by repeating the above.
該裏面切削ステップでは、
該被加工物を保持面で保持する保持テーブルを、該保持面と垂直な方向に沿う回転軸を中心として回転させながら、該保持テーブルと該第2の切削ブレードとを、該第2の切削ブレードの回転軸と平行な方向に沿って相対的に移動させることにより、該被加工物の裏面側を渦巻き状に切削することを特徴とする請求項1又は2記載のデバイスチップの製造方法。
In the backside cutting step
While rotating the holding table that holds the workpiece on the holding surface around a rotation axis along the direction perpendicular to the holding surface, the holding table and the second cutting blade are cut into the second cutting. The method for manufacturing a device chip according to claim 1 or 2, wherein the back surface side of the workpiece is cut in a spiral shape by moving it relatively along a direction parallel to the rotation axis of the blade.
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