JP2023001441A - 電子ビーム検査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】停電時や緊急停止の際にサーボバルブが停止した場合でも装置全体の安全性を高めることができる電子ビーム検査装置を提供する。【解決手段】電子ビーム検査装置は、ビーム照射装置と、ステージ機構４１と、ポンプと、を備えている。ステージ機構４１は、ガイド軸４４と、スライダ４３と、第１サーボバルブ５１と、第２サーボバルブ５２と、第１排気配管６３と、第２排気配管６５と、排気バルブ５５と、を備えている。スライダ４３は、ガイド軸４４に静圧軸受４９を介して移動可能に支持され、第１圧力室４７及び第２圧力室４８を有する。排気バルブ５５は、第１排気配管６３に設けられ、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２の駆動時に、開放され、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２への電力供給が停止した際に、閉じられる。【選択図】図３

Description

本発明は、電子ビーム検査装置に関するものである。

電子ビーム検査装置は、電子ビームを試料に対して高精細に照射するために、試料を移動可能に支持するステージ装置の移動精度を向上させることが求められている。近年では、ステージ装置の移動精度を向上させるために、静圧流体軸受を用いたステージ装置を適用することが考えられている。静圧流体軸受は、案内軸と移動体との隙間部分に潤滑流体によって流体膜を形成することにより、流体膜の厚み寸法分だけ案内軸から移動体を浮上させ、移動体の滑らかな移動を実現する軸受である。また、特許文献１には、潤滑流体として気体を用いたエアステージ装置に関する技術が記載されている。

特許文献１には、水平な固定部材にスライドテーブルを静圧軸受で非接触状態に支持し、固定部材とスライドテーブルの間に形成されたエア圧力室のエア圧をエア圧制御系で制御して両エア圧力室のエア圧差によりスライドテーブルに推力を作用させる技術が記載されている。

特開平１１－１９０３０６号公報

しかしながら、特許文献１に記載された技術では、停電時や緊急停止の際に圧力室に空気を供給するサーボバルブが停止した際、ステージを移動するスライダの位置をコントロールできなくなる、という問題を有していた。そのため、特許文献１に記載された技術を電子ビーム検査装置に適用した場合、サーボバルブが停止した際に、スライダが使用者の意図に反した位置に移動し、ステージ装置に載置された試料が他の装置に接触し、試料や他の装置が破損するおそれがあった。

本発明の目的は、上記の問題点を考慮し、停電時や緊急停止の際にサーボバルブが停止した場合でも装置全体の安全性を高めることができる電子ビーム検査装置を提供することにある。

上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の電子ビーム検査装置は、電子ビームを照射するビーム照射装置と、電子ビームが照射される試料を移動可能に支持するステージ機構と、ステージ機構に空気を供給するポンプと、を備えている。
ステージ機構は、ガイド軸と、スライダと、第１サーボバルブと、第２サーボバルブと、第１排気配管と、第２排気配管と、排気バルブと、を備えている。
スライダは、ガイド軸に静圧軸受を介して移動可能に支持され、第１圧力室及び第２圧力室を有する。第１サーボバルブは、第１圧力室の圧力を制御する。第２圧力室の圧力を制御する。第１排気配管は、第１サーボバルブから排気された空気が通過する。第２排気配管は、第２サーボバルブから排気された空気が通過する。排気バルブは、第１排気配管に設けられる。そして、排気バルブは、第１サーボバルブ及び第２サーボバルブの駆動時に、開放され、第１サーボバルブ及び第２サーボバルブへの電力供給が停止した際に、閉じられる。

本発明の電子ビーム検査装置によれば、停電時や緊急停止の際にサーボバルブが停止した場合でも装置全体の安全性を高めることができる。

本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置を示す概略構成図である。 本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置のステージ装置を示す平面図である。 本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置におけるステージ機構を示す断面図である。 本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置におけるステージ機構のサーボバルブがオフになった状態を示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置におけるステージ機構のサーボバルブがオフになった状態を示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置におけるステージ機構のスライダが安全位置まで退避した状態を示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置におけるステージ機構のロック機構を示す説明図である。 本発明の実施の形態例にかかる電子ビーム検査装置におけるステージ機構のロック機構が作動した状態を示す説明図である。

以下、本発明の電子ビーム検査装置の実施の形態例について、図１～図８を参照して説明する。なお、各図において共通の部材には、同一の符号を付している。

１．実施の形態例
１－１．電子ビーム検査装置の構成
まず、本発明の実施の形態例（以下、「本例」という。）にかかる電子ビーム検査装置について図１を参照して説明する。
図１は、本例の電子ビーム検査装置を模式的に示す説明図である。

図１に示す電子ビーム検査装置１は、試料に電子ビームを照射し、パターン検査するものである。図１に示すように、電子ビーム検査装置１は、電子ビームを照射するビーム照射装置２と、真空チャンバー３と、防振台４と、を備えている。真空チャンバー３の内部３ａには、試料を保持するチャック３１と、チャック３１に保持された試料を移動可能に支持するステージ装置４０が配置されている。なお、ステージ装置４０の詳細な構成については、後述する。また、真空チャンバー３の内部３ａには、試料を交換する試料交換室２２と、マスクの位置を調整するマスク調整室２１が連通している。

さらに、ビーム照射装置２は、電子ビームを照射する電子銃と、対物レンズや集束レンズ等からなる光学系ユニットと、を備えている。そして、ビーム照射装置２には、電子銃に電力を供給する高圧電源１１と、光学系ユニットに電力を供給するレンズ電源１２が接続されている。

また、電子ビーム検査装置１は、描画パターンデータ準備部１３と、データ転送部１４と、描画制御部１５と、ステージ制御部１６と、レーザ測長部１７と、エアサーボ制御部１８と、真空制御を行うポンプ１９とを備えている。

描画パターンデータ準備部１３は、試料に描画する描画パターンデータを作成する。そして、描画パターンデータ準備部１３は、作成した描画パターンデータを、データ転送部１４を介して描画制御部１５に出力する。描画制御部１５は、ビーム照射装置２及びステージ制御部１６に接続されている。そして、描画制御部１５は、データ転送部１４から取得した描画パターンデータに基づいて、ビーム照射装置２及びステージ制御部１６を制御する。ビーム照射装置２は、描画制御部１５により、電子ビームの照射位置や、照射タイミング、ビーム系等が制御される。

ステージ制御部１６は、レーザ測長部１７と、エアサーボ制御部１８に接続されている。レーザ測長部１７は、チャック３１に設けたミラー３２に向けてレーザを照射し、ミラー３２を反射したレーザを受光する。そして、レーザ測長部１７は、ステージ装置４０に支持されたチャック３１及び試料の位置を計測する。レーザ測長部１７は、位置情報をステージ制御部１６に出力する。

ステージ制御部１６は、レーザ測長部１７から取得した位置情報と、描画制御部１５から出力された制御信号に基づいて、エアサーボ制御部１８にステージ装置４０の制御信号を出力し、ステージ装置４０の駆動を制御する。エアサーボ制御部１８は、ステージ装置４０に接続されている。そして、エアサーボ制御部１８は、後述するステージ装置４０のサーボバルブ５１、５２（図３参照）の駆動を制御する。

ポンプ１９は、真空チャンバー３及びステージ装置４０に接続されている。そして、ポンプ１９は、真空チャンバー３内の空気を吸引すると共に、ステージ装置４０に空気を供給する。なお、ポンプ１９は、ビーム照射装置２に接続された高圧電源１１やレンズ電源１２とは異なる電源から電力が供給されている。

次に、図２を参照してステージ装置４０について説明する。
図２は、ステージ装置４０を示す平面図である。
ステージ装置４０は、第１ステージ機構４１と、第２ステージ機構４２Ａと、第３ステージ機構４２Ｂとを有している。第１ステージ機構４１、第２ステージ機構４２Ａ及び第３ステージ機構４２Ｂは、それぞれスライダ４３と、スライダ４３を移動可能に支持するガイド軸４４とを有している。

第１ステージ機構４１のガイド軸４４は、水平方向と平行をなす第１の方向Ｘと平行に配置されている。第２ステージ機構４２Ａは、第１ステージ機構４１の第１の方向Ｘの一端部に配置され、第３ステージ機構４２Ｂは、第１ステージ機構４１の第１の方向Ｘの他端部に配置されている。そして、第１ステージ機構４１のガイド軸４４の両端部は、第２ステージ機構４２Ａ及び第３ステージ機構４２Ｂのスライダ４３に支持されている。

第２ステージ機構４２Ａ及び第３ステージ機構４２Ｂのガイド軸４４は、水平方向と平行をなし、かつ第１の方向Ｘと直交する第２の方向Ｙと平行に配置されている。また、第２ステージ機構４２Ａ及び第３ステージ機構４２Ｂのガイド軸４４は、防振台４（図１参照）に支持されている。そして、第１ステージ機構４１のスライダ４３には、チャック３１（図１参照）及び試料が載置される。

次に、ステージ機構４１、４２Ａ、４２Ｂの詳細な構成について図３を参照して説明する。なお、第１ステージ機構４１、第２ステージ機構４２Ａ及び第３ステージ機構４２Ｂは、それぞれ同一の構成を有しているため、ここでは第１ステージ機構４１について説明する。なお、以下の説明では、第１ステージ機構４１を単にステージ機構４１と称する。

図３は、ステージ機構４１を示す断面図である。
図３に示すように、ステージ機構４１は、スライダ４３と、ガイド軸４４と、第１サーボバルブ５１と、第２サーボバルブ５２と、流量調整バルブ５３と、レギュレータ５４と、排気バルブ５５と、を備えている。

スライダ４３は、中空の矩形状に形成されている。スライダ４３には、圧力室４６と、貫通孔５０が形成されている。圧力室４６は、スライダ４３の内部に形成されている。貫通孔５０は、スライダ４３の第１の方向Ｘの両端部に形成されており、圧力室４６に連通している。なお、第２ステージ機構４２Ａ及び第３ステージ機構４２Ｂの貫通孔５０は、スライダ４３の第２の方向Ｙの両端部に形成される。この貫通孔５０には、ガイド軸４４が貫通する。

また、貫通孔５０におけるガイド軸４４と対向する面には、溝部４９が形成されている。溝部４９には、エア供給配管６１が接続されている。そして、溝部４９には、エア供給配管６１を介してポンプ１９（図１参照）から空気が常に供給される。溝部４９に圧縮空気が供給されることで、スライダ４３の貫通孔５０の内面とガイド軸４４との外周面との間には、空気の膜が形成される。これにより、スライダ４３は、ガイド軸４４と非接触の状態で支持される。そして、溝部４９により、静圧軸受が構成される。

ガイド軸４４は、仕切り部４５が設けられている。仕切り部４５は、ガイド軸４４の外周面から略直角に突出したフランジ部である。仕切り部４５は、ガイド軸４４におけるスライダ４３の圧力室４６内に配置される。そのため、スライダ４３の圧力室４６は、仕切り部４５により第１圧力室４７と、第２圧力室４８に仕切られる。第１圧力室４７及び第２圧力室４８は、貫通孔５０を介して溝部４９と連通する。

なお、第１ステージ機構４１では、第１圧力室４７は、仕切り部４５の第１の方向Ｘの一端部側に形成され、第２圧力室４８は、仕切り部４５の第１の方向Ｘの他端部に形成される。また、第２ステージ機構４２Ａ及び第３ステージ機構４２Ｂでは、第１圧力室４７は、仕切り部４５の第２の方向Ｙの一端部に形成され、第２圧力室４８は、仕切り部４５の第２の方向Ｙの他端部に形成される。

第１圧力室４７は、第１配管６２を介して第１サーボバルブ５１に接続されている。また、第２圧力室４８は、第２配管６４を介して第２サーボバルブ５２に接続されている。

第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２には、それぞれ供給用の配管を介してポンプ１９（図１参照）に接続されている。また、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２には、エアサーボ制御部１８に接続されており、エアサーボ制御部１８により駆動が制御される。第１サーボバルブ５１は、エアサーボ制御部１８からの制御信号に基づいて、第１圧力室４７に空気を供給及び排気することで、第１圧力室４７の空気圧を制御する。また、第２サーボバルブ５２は、エアサーボ制御部１８からの制御信号に基づいて、第２圧力室４８に空気を供給及び排気することで、第２圧力室４８の空気圧を制御する。

第１サーボバルブ５１と第２サーボバルブ５２により、第１圧力室４７の空気圧と、第２圧力室４８の空気圧とに差（以下、単に「差圧」という）を生じさせることで、スライダ４３をガイド軸４４に沿って移動させる。具体的には、２つのサーボバルブ５１、５２は、第１圧力室４７の空気圧を第２圧力室４８の空気圧よりも高くすることにより、スライダ４３を第１の方向Ｘの一端部側（図３の左方向）に移動させる。また、２つのサーボバルブ５１、５２は、第２圧力室４８の空気圧を第１圧力室４７の空気圧よりも高くすることにより、スライダ４３を第１の方向Ｘの他端部側（図３の右方向）に移動させる。そして、２つのサーボバルブ５１，５２は、第１圧力室４７の空気圧と第２圧力室４８の空気圧とを均等にすることにより、スライダ４３を停止状態に維持する。

第１サーボバルブ５１と第２サーボバルブ５２は、停電時や緊急停止時により駆動が停止した場合、供給用のラインが閉じられる。すなわち、第１サーボバルブ５１と第２サーボバルブ５２の駆動が停止した場合、ポンプ１９から供給された空気は、第１配管６２及び第２配管６４を介して第１圧力室４７及び第２圧力室４８に供給されない。また、第１サーボバルブ５１と第２サーボバルブ５２は、駆動が停止した場合、後述する第１排気配管６３、６５に接続される排気用のラインが開放された状態となる。

第１サーボバルブ５１には、排気用の第１排気配管６３が接続されている。同様に、第２サーボバルブ５２にも、排気用の第２排気配管６５が接続されている。なお、第２サーボバルブ５２の第２排気配管６５は、常に開放されている。

第１サーボバルブ５１の第１排気配管６３は、排気用配管６３ａと調整用配管６３ｂの２つに分岐している。排気用配管６３ａには、排気流量調整機構を示す流量調整バルブ５３及びレギュレータ５４が設けられている。また、調整用配管６３ｂには、排気バルブ５５が設けられている。

排気バルブ５５は、電力が供給されているときは、開放され、電力の供給が遮断されると、閉じられる。そのため、ステージ機構４１が通常状態、すなわち第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２が駆動している状態では、開放される。そして、第１サーボバルブ５１が駆動時に排気された空気は、排気バルブ５５から排気される。また、排気バルブ５５は、ステージ機構４１が停止状態、すなわち第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２への電力供給が停止した状態では、閉じられる。

流量調整バルブ５３及びレギュレータ５４は、排気用配管６３ａの圧力が所定の圧力に達すると開放される。そして、流量調整バルブ５３及びレギュレータ５４により、排気用配管６３ａを流れる空気の流量及び圧力を調整する。

２．ステージ機構の動作例
次に、上述した構成を有するステージ機構４１が停電や緊急停止により停止した際の動作例を図４から図６を参照して説明する。
図４及び図５は、ステージ機構４１停止した状態を示す説明図である。ステージ機構４１のスライダ４３が安全位置まで退避した状態を示す説明図である。

図４に示すように、電子ビーム検査装置１が停電や緊急停止すると、エアサーボ制御部１８も停止し、ステージ機構４１の第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２の駆動も停止する。そして、上述したように、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２の供給用のラインが遮断される。そのため、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２に接続された第１配管６２及び第２配管６４からの第１圧力室４７及び第２圧力室４８への空気の供給が遮断される。

なお、ポンプ１９は、ビーム照射装置２に接続された高圧電源１１やレンズ電源１２や、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２に電力を供給する電源とは異なる電源から電力が供給されている。そのため、ポンプ１９は、他の装置が停止した場合でも、真空チャンバー３や、ステージ機構４１に空気が供給される。したがって、スライダ４３の静圧軸受を構成する溝部４９には、エア供給配管６１を介してポンプ１９から空気が供給される。

溝部４９と第１圧力室４７及び第２圧力室４８は、連通している。そのため、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２が停止した場合でも、第１圧力室４７及び第２圧力室４８には、溝部４９を介して空気７０が供給される。

なお、第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２は、電力の供給が停止した場合、排気用のラインが開放される。そのため、第１圧力室４７内の空気は、第１配管６２及び第１サーボバルブ５１を介して第１排気配管６３に流れ、第２圧力室４８内の空気は、第２配管６４及び第２サーボバルブ５２を介して第２排気配管６５に流れる。

また、図５に示すように、第１サーボバルブ５１の第１排気配管６３に設けられた排気バルブ５５は、電力の供給が停止されると閉じられる。そのため、第１サーボバルブ５１の第１排気配管６３から排気される空気は、排気用配管６３ａから調整用配管６３ｂに流れる。また、調整用配管６３ｂには、流量調整バルブ５３及びレギュレータ５４が設けられているため、調整用配管６３ｂを流れる空気の量が制限される。また、第２サーボバルブ５２の第２排気配管６５は、開放されている。

そのため、第１サーボバルブ５１の第１排気配管６３から排気される空気の量と、第２サーボバルブ５２の第２排気配管６５から排気される空気の量に差が生じる。本例では、第１サーボバルブ５１の第１排気配管６３から排気される空気の量は、第２サーボバルブ５２の第２排気配管６５から排気される空気の量よりも減少する。その結果、第１サーボバルブ５１に接続された第１圧力室４７の空気圧が、第２サーボバルブ５２に接続された第２圧力室４８の空気圧よりも高くなる。

第１圧力室４７の空気圧が第２圧力室４８の空気圧よりも高くなるため、図６に示すように、スライダ４３は、第１の方向Ｘの一端部側（図６の左方向）に移動する。これにより、停電や緊急停止により第１サーボバルブ５１及び第２サーボバルブ５２への電力の供給が停止した場合でも、スライダ４３を所望の方向に移動させることができ、スライダ４３を安全な位置に退避させることができる。その結果、スライダ４３が使用者の意図に反して移動し、スライダ４３やスライダ４３に載置された試料等が他の装置に接触して、装置が破損することを防止することができ、電子ビーム検査装置１全体の安全性を高めることができる。

さらに、第１サーボバルブ５１の第１排気配管６３には、排気される空気の量を調整する流量調整バルブ５３及びレギュレータ５４が設けられている。そのため、第２サーボバルブ５２の第２排気配管６５から排気される空気の量が、第１サーボバルブ５１の第１排気配管６３から排気される空気の量よりも急激に増大することを防止することができる。これにより、第１圧力室４７と第２圧力室４８の差圧をコントロールすることができ、スライダ４３が移動する速度を調整することができる。その結果、スライダ４３の移動速度が急激に上昇し、他の装置に接触することを防ぐことができる。

図７及び図８は、ステージ機構４１に設けたロック機構を示す図である。
図７に示すように、ステージ機構４１には、スライダ４３が安全な位置に退避（以下、「退避位置」という）した際に、スライダ４３の移動を規制するロック機構８２が設けられている。ロック機構８２は、ロック受け部８０と、ロック部８１とを有している。ロック受け部８０は、スライダ４３に固定されている。そして、ロック受け部８０には、係合穴８０ａが形成されている。

ロック部８１は、ステージ機構４１が載置される防振台４（図１参照）に固定されている。また、ロック部８１は、スライダ４３の退避位置に設置されている。そして、ロック部８１には、係合ピン８３が設けられている。

図８に示すように、スライダ４３が退避位置まで移動すると、係合ピン８３がロック受け部８０の係合穴８０ａを臨む。そして、係合ピン８３がロック部８１から突出することで、係合ピン８３が係合穴８０ａと係合する。これにより、退避位置まで移動したスライダ４３をロック機構８２により固定することができる。

なお、スライダ４３をロックさせるロック機構８２としては、上述した例に限定されるものではない。ロック機構としては、例えば、スライダ４３又は防振台４の一方に設けられたフック部と、スライダ４３又は防振台４の他方に設けられフック部と係合するフック受け部で構成してもよく、その他各種のロック機構が適用できるものである。

なお、本発明は上述しかつ図面に示した実施の形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々に変形実施が可能である。

上述した実施の形態例では、ステージ機構４１としてスライダ４３が水平方向に移動する例を説明したが、これに限定されるものではない。例えば、スライダ４３が鉛直方向に移動するステージ機構にも適用できるものである。

また、上述した実施の形態例では、電子ビーム検査装置の一例として説明したが、これに限定されるものではない。例えば、電子ビーム露光装置や、電子顕微鏡、電子ビームを用いて試料を測定する測定装置、電子ビームを用いて試料を加工する加工装置などその他各種の装置に適用できるものである。

なお、本明細書において、「平行」及び「直交」等の単語を使用したが、これらは厳密な「平行」及び「直交」のみを意味するものではなく、「平行」及び「直交」を含み、さらにその機能を発揮し得る範囲にある、「略平行」や「略直交」の状態であってもよい。

１…電子ビーム検査装置（電子ビーム描画装置）、 ２…ビーム照射装置、 ３…真空チャンバー、 ４…防振台、 １１…高圧電源、 １２…レンズ電源、 １５…描画制御部、 １６…ステージ制御部、 １７…レーザ測長部、 １８…エアサーボ制御部、 １９…ポンプ、 ４０…ステージ装置、 ４１Ａ、４２Ａ、４２Ｂ…ステージ機構、 ４３…スライダ、 ４４…ガイド軸、 ４５…仕切り部、 ４６…圧力室、 ４７…第１圧力室、 ４８…第２圧力室、 ４９…溝部（静圧軸受）、 ５０…貫通孔、 ５１…第１サーボバルブ、 ５２…第２サーボバルブ、 ５３…流量調整バルブ、 ５４…レギュレータ、 ５５…排気バルブ、 ６１…エア供給配管、 ６２…第１配管、 ６３…第１排気配管、 ６３ａ…排気用配管、 ６３ｂ…調整用配管、 ６４…第２配管、 ６５…第２排気配管、 ７０…空気、 ８０…ロック受け部、 ８０ａ…係合穴、 ８１…ロック部、 ８２…ロック機構、 ８３…係合ピン

Claims (6)

1. 電子ビームを照射するビーム照射装置と、
   前記電子ビームが照射される試料を移動可能に支持するステージ機構と、
   前記ステージ機構に空気を供給するポンプと、を備え、
   前記ステージ機構は、
   ガイド軸と、
   前記ガイド軸に静圧軸受を介して移動可能に支持され、第１圧力室及び第２圧力室を有するスライダと、
   前記第１圧力室の圧力を制御する第１サーボバルブと、
   前記第２圧力室の圧力を制御する第２サーボバルブと、
   前記第１サーボバルブから排気された空気が通過する第１排気配管と、
   前記第２サーボバルブから排気された空気が通過する第２排気配管と、
   前記第１排気配管に設けられた排気バルブと、を備え、
   前記排気バルブは、前記第１サーボバルブ及び前記第２サーボバルブの駆動時に、開放され、前記第１サーボバルブ及び前記第２サーボバルブへの電力供給が停止した際に、閉じられる
   電子ビーム検査装置。
2. 前記第２排気配管は、常に開放されている
   請求項１に記載の電子ビーム検査装置。
3. 前記静圧軸受は、前記スライダにおける前記ガイド軸と対向する面に設けられた溝部であり、
   前記溝部には、前記ポンプからエア供給配管を介して空気が供給され、
   前記溝部は、前記第１圧力室及び前記第２圧力室と連通する
   請求項１又は２に記載の電子ビーム検査装置。
4. 前記第１排気配管は、排気用配管と、調整用配管に分岐され、
   前記排気バルブは、前記排気用配管に設けられ、
   前記調整用配管には、前記排気用配管を通過する空気の量を調整する排気流量調整機構が設けられる
   請求項１から３のいずれか１項に記載の電子ビーム検査装置。
5. 前記ポンプは、前記第１サーボバルブ及び前記第２サーボバルブを駆動させる電源とは異なる電源により駆動する
   請求項１から４のいずれか１項に記載の電子ビーム検査装置。
6. 前記ステージ機構には、前記スライダが所定の位置に移動した際に、前記スライダの移動を規制するロック機構が設けられる
   請求項１から５のいずれか１項に記載の電子ビーム検査装置。

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