JP2022531021A - 複合冷却フィルム及び同フィルムを含む物品 - Google Patents

Abstract

複合冷却フィルム（１００）は、反射性微多孔層（１１０）の第１の主面に固定された防汚層（１６０）を備える。反射性微多孔層（１１０）は、第１のフルオロポリマーを含み、４００～２５００ナノメートルの範囲の波長の過半にわたって電磁放射を拡散反射する。防汚層（１６０）は、ミクロ空隙ポリマーフィルムとは反対側に外向き防汚表面（１６２）を有する。基材（１１１０）に固定された複合冷却フィルム（１１１２）を備える物品（１１００）も開示される。

Description

本開示は概して、受動放射冷却フィルム及び物品に関する。

地球の大気は、８～１３ミクロンの赤外波長範囲に半透明の窓を有する、すなわち、大気の放射放出（radiative emission）は、その窓において非常に弱い。大気の窓の外側では、地球の大気は高度に放射性である。ところで、大気の窓は、周囲温度（すなわち、約３００度ケルビン（Ｋ））でプランクの法則によって定義される黒体のピーク熱放射内に入る。この特徴により、大気の窓を通る放射放出によって熱を排除することにより、周囲温度における地球上の物体の潜在的な受動冷却メカニズムが可能となる。放出された放射は、地球の表面よりもはるかに冷たい上層大気中高く逃げる。大気の窓により、高い日射反射率を有する表面の出射放射放出が、その吸収された入射大気放射を上回ることが可能になり、よって周囲温度未満に受動的に冷却することが可能となる。入射大気放射の影響と共に、放熱器の冷却性能は、例えば、放熱器の放射率、周囲媒体からの非放射（伝導及び対流）熱の増加、及び日中の入射太陽放射などの他の要因に依存する。受動放射冷却フィルムの重要な特性としては、０．３ミクロン～２５００ミクロンの太陽エネルギーの波長にわたって概して低いが、８ミクロン～１３ミクロンの大気の窓の波長にわたって高い放射力が挙げられる。キルヒホッフの熱放射の法則によれば、高い吸光度は高い放射力と相関する。

本開示は、日中でも、基材（例えば、乗物又は建物）の冷却に使用するのに好適な受動放射冷却フィルムを提供する。受動放射冷却フィルムは、高効率の紫外線（ＵＶ）、可視光（ＶＩＳ）、及び近赤外線（ｎｅａｒ－ＩＲ）反射能を組み合わせる。

一態様では、本開示は、反射性微多孔層の第１の主面に固定された防汚層を備え、反射性微多孔層が、第１のフルオロポリマーを含み、４００～２５００ナノメートルの範囲の波長の過半にわたって電磁放射を拡散反射し、防汚層が、反射性微多孔層とは反対側に外向き防汚表面を有する、複合冷却フィルムを提供する。

別の態様では、本開示は、基材に固定された、先行する請求項のいずれかに記載の複合冷却フィルムを備える物品であって、防汚層が、反射性微多孔層よりも基材から遠くにある、物品を提供する。

本明細書で使用される場合、
「フルオロポリマー」は、フッ素を含有する任意の有機ポリマーを指し、
「赤外線」（ＩＲ）は、特に指定しない限り、７００ｎｍ超～１ｍｍの波長を有する赤外電磁放射を指す。
「可視光」（ＶＩＳ）は、特に指定しない限り、４００ｎｍ～７００ｎｍ（両端を含む）の波長を有する可視電磁放射を指す。
「紫外線」（ＵＶ）は、特に指定しない限り、少なくとも２５０ｎｍ、最大で４００ｎｍ未満の波長を有する紫外電磁放射を指す。
「微多孔性」は、５０～１０，０００ｎｍの平均細孔径を有する（連続及び／又は不連続な）内部多孔性を有することを意味し、
「ミクロ空隙」は、１００～３０００ｎｍの平均空隙径を有する個別の内部空隙を有することを意味する。
「非フッ素化ポリマー」は、フッ素を含有しない任意の有機ポリマーを指す。
「放射」は、特に指定がない限り、電磁放射を意味する。
「固定された」は、直接又は間接的に（例えば、直接接触して、又は単一層の接着剤によって間接的に）接着結合されることを意味する。
「平均反射率」は、指定される波長範囲にわたって平均化された反射率を意味する。
「反射性」及び「反射能」は、光又は放射を反射する特性、特に材料の厚さとは無関係に測定される反射率を指す。
「反射率」は、垂直入射で表面に当たって反射される光又は他の放射の割合の測定値である。反射能は典型的に、波長によって変化し、表面から反射される入射光の百分率として報告される（０パーセント－反射光なし、１００－全ての光が反射される）。反射能と反射率は、本明細書において互換的に使用される。

吸光度は、ＡＳＴＭ Ｅ９０３－１２「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｓｏｌａｒ Ａｂｓｏｒｐｔａｎｃｅ，Ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ，ａｎｄ Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｕｓｉｎｇ Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｎｇ Ｓｐｈｅｒｅｓ」に記載されている方法で測定することができる。本明細書に記載される吸光度測定は、前述したような透過率測定を行い、次いで式１を用いて吸光度を計算することによって行った。

本明細書で使用するとき、用語「吸光度」は、材料を通して透過される放射束に対する入射放射束の比率の底１０の対数を指す。比率は、材料によって受けられる放射束を、材料によって透過される放射束によって除した値として説明され得る。吸光度（Ａ）は、式１による透過率（Ｔ）に基づいて計算され得る。
Ａ＝－ｌｏｇ_１０Ｔ （１）

放射率は、ＡＳＴＭ Ｅ１９３３－１４（２０１８）「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｎｇ ｆｏｒ Ｅｍｉｓｓｉｂｉｌｉｔｙ Ｕｓｉｎｇ Ｉｎｆｒａｒｅｄ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｒａｄｉｏｍｅｔｅｒｓ」に記載されている方法によって、赤外線イメージング放射計を使用して測定することができる。

本開示の特徴及び利点は、詳細な説明及び添付の特許請求の範囲を考察することによって更に理解されるであろう。

本開示の特徴及び利点は、詳細な説明及び添付の特許請求の範囲を考察することによって更に理解されるであろう。

本開示の一実施形態による例示的な複合冷却フィルム１００の概略側面図である。 ミクロ構造を有する防汚表面構造の図である。図２Ａは、ｘｙｚ軸に関する断面の斜視図を示す。図２Ｃは、ｘｚ平面における図２Ａの断面を示す。図２Ｂは、ｙｚ平面における別の断面を示す。 ミクロ構造を有する防汚表面構造の図である。図２Ａは、ｘｙｚ軸に関する断面の斜視図を示す。図２Ｃは、ｘｚ平面における図２Ａの断面を示す。図２Ｂは、ｙｚ平面における別の断面を示す。 ミクロ構造を有する防汚表面構造の図である。図２Ａは、ｘｙｚ軸に関する断面の斜視図を示す。図２Ｃは、ｘｚ平面における図２Ａの断面を示す。図２Ｂは、ｙｚ平面における別の断面を示す。 図２Ａ～図２Ｃの防汚表面構造の様々なナノ構造のｘｚ平面における断面図である。 図２Ａ～図２Ｃの防汚表面構造と共に使用され得る、図３のナノ構造の代替としての、マスキング要素を含む様々なナノ構造のｘｚ平面における断面図である。 防汚表面構造のための異なる形態のミクロ構造のｘｚ平面における断面プロファイルを表す線の図を示す。 防汚表面構造のための異なる形態のミクロ構造のｘｚ平面における断面プロファイルを表す線の図を示す。 不連続なミクロ構造を有する第１の防汚表面構造の一部分の斜視図である。 不連続なミクロ構造を有する第２の防汚表面構造の一部分の斜視図である。 不連続なミクロ構造を有する第３の防汚表面構造の異なる部分の斜視図である。 不連続なミクロ構造を有する第３の防汚表面構造の異なる部分の斜視図である。 例示的なＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０を示す。 本開示による例示的な物品１１００の概略側面図である。 本開示の一実施形態による例示的な複合冷却フィルム１２００の概略側面図である。

明細書及び図面中の参照文字が繰り返して使用されている場合、本開示の同じ又は類似の特徴部又は要素を表すことを意図している。当業者は多くの他の修正形態及び実施形態を考案することができ、それらは本開示の原理の範囲及び趣旨に含まれることを理解されたい。図は、縮尺通りに描かれていないことがある。

図１に示される例示的な一実施形態では、例示的な複合冷却フィルム１００は、反射性微多孔層１１０に固定された防汚層１６０を有する反射性微多孔層１１０を備える。防汚層１６０は、外向き防汚表面１６２が反射性微多孔層１１０とは反対側になるように、反射性微多孔層１１０の主面１１２に固定される。

任意選択的な赤外線反射（ＩＲ反射）層１５０が、防汚層１６０とは反対側で反射性微多孔層１１０に固定される。任意選択的な接着剤層１７０、１７２が、図１に示されるように、様々な構成要素を一緒に接着してもよい。任意選択的な接着剤層１７４は、任意選択的なライナー１８０に剥離可能に結合されてもよい。一実施形態では、任意選択的なライナー１８０を除去した後に、任意選択的な接着剤層１７４は、冷却される基材（例えば、図示されていない乗物又は建物）に結合されてもよい。

本開示による複合冷却フィルムは、好ましくは、８～１３ミクロンの波長範囲にわたって少なくとも０．８５、好ましくは少なくとも０．９、より好ましくは少なくとも０．９５の平均吸光度を有するが、これは必須ではない。

反射性微多孔層
反射性微多孔層は、球状、偏球状、又は何らかの他の形状であり得る、相互接続された空隙及び／又は個別の空隙の網状組織を含んでもよい。反射性微多孔層の主要な機能は、太陽スペクトルの可視及び赤外放射の少なくとも一部分を反射することと、大気の窓（すなわち、８～１３ミクロンの波長）の熱放射を放出することとを含む。

したがって、反射性微多孔層は、４００ｎｍ～７００ｎｍ、好ましくは４００ｎｍ～２５００ｎｍの波長範囲の波長の光を拡散反射する適切なサイズの空隙を有する。一般に、これは、空隙径が、４００ｎｍ～２５００ｎｍの波長範囲の光を反射できるサイズ範囲（例えば、１００～３０００ｎｍ）であるべきことを意味する。好ましくは、それらの寸法に対応する範囲の空隙径が存在することで、効果的な広帯域反射が達成される。

反射性微多孔層の反射能は一般に、ポリマーフィルム／空隙の境界面の数の関数である。これは、反射（典型的には拡散反射）がそれらの位置で生じるためである。したがって、反射性微多孔層の多孔率及び厚さが、重要な変数である。一般に、より高い多孔率及びより大きな厚さが、より高い反射能と相関する。しかし、フィルムの厚さは、コストを考慮して好ましくは最小化されるが、これは必須ではない。したがって、反射性微多孔層の厚さは、典型的には１０ミクロン～５００ミクロンの範囲、好ましくは１０ミクロン～２００ミクロンの範囲であるが、これは必須ではない。同様に、反射性微多孔層の多孔率は、典型的に１０体積％～９０体積％の範囲、好ましくは２０体積％～８５体積％の範囲であるが、これは必須ではない。

図１２に示されるいくつかの実施形態では、補助的な反射性微多孔層が、防汚層とは反対側の主面で反射性微多孔層に固定されていてもよい。このような補助的な反射性微多孔層の使用は、反射性微多孔層の必要な厚さを低減し、それを非フッ素化ポリマー代替物と機能的に置き換えることによって、コストを低減するためであり得る。

ここで図１２を参照すると、例示的な複合冷却フィルム１２００が、反射性微多孔層に固定された防汚層１２６０を有する反射性微多孔層１２１０を備える。防汚層１２６０は、防汚層１２６０が（フルオロポリマーを含まない）補助的な反射性微多孔層１２２０とは反対側になるように、（フルオロポリマーを含む）反射性微多孔層１２１０に固定される。任意選択的な赤外線反射（ＩＲ反射）層１２５０が、反射性微多孔層１２１０とは反対側で補助的な反射性微多孔層１２１０に固定される。任意選択的な接着剤層１２７０、１２７２、１２７４が、様々な構成要素を一緒に接着してもよい。防汚層１２６０とは反対側にある任意選択的な接着剤層１２７６が、任意選択的なライナー１２８０に剥離可能に結合されてもよい。一実施形態では、任意選択的なライナー１２８０を除去した後に、任意選択的な接着剤層１２７６は、冷却される基材（例えば、図示されていない乗物又は建物）に結合されてもよい。

（少なくとも１種のフルオロポリマーを含む）反射性微多孔層又は（フルオロポリマーを含まない）補助的な反射性微多孔層のうちの少なくとも１つ（好ましくは１つのみ）に有用であり得る例示的な材料について、以下に記載する。どの層にどの微多孔性材料を含めるかの選択は、前述した議論を考慮すれば明らかであろう。

反射性微多孔層として使用するのに好適な微多孔性ポリマーフィルムは、当該技術分野において知られており、例えば、「Ｍｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ ＰＶＤＦ Ｆｉｌｍｓ」と題する米国特許第８，９６２，２１４号（Ｓｍｉｔｈら）、「Ｍｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ Ｍａｔｅｒｉａｌ ｆｒｏｍ Ｅｔｈｙｌｅｎ－Ｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ Ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｍａｋｉｎｇ Ｓａｍｅ」と題する同第１０，２４０，０１３号（Ｍｒｏｚｉｎｓｋｉら）、及び「Ｍｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ Ｍｅｍｂｒａｎｅｓ ｆｒｏｍ Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ」と題する同第４，８７４，５６７号（Ｌｏｐａｔｉｎら）に記載されている。これらのフィルムは、少なくとも０．０５ミクロンの平均細孔径を有してもよい。

特定の実施形態では、反射性微多孔層は、少なくとも１種の熱誘導相分離（Thermally Induced Phase Separation；ＴＩＰＳ）材料を含む。ＴＩＰＳ材料の細孔径は一般に、層の延伸度合いの選択が可能であることから、制御することができる。ＴＩＰＳ材料は作製が比較的廉価であり、それらの作製方法は当業者（skilled practitioner）に知られている。例えば、様々な材料及び方法が、米国特許第４，７２６，９８９号（Ｍｒｏｚｉｎｓｋｉ）、同第５，２３８，６２３号（Ｍｒｏｚｉｎｓｋｉ）、同第５，９９３，９５４号（Ｒａｄｏｖａｎｏｖｉｃら）、及び同第６，６３２，８５０号（Ｈｕｇｈｅｓら）に詳細に記載されている。本開示の態様で使用するための反射性微多孔層としては、溶媒誘導相分離（Solvent Induced Phase Separated；ＳＩＰＳ）材料（例えば、米国特許第４，９７６，８５９号（Ｗｅｃｈｓ））、並びに押出、押出／延伸、及び押出／延伸／抽出プロセスによって作製される他の反射性微多孔層も挙げられる。ＳＩＰＳによって形成され得る好適な反射性微多孔層としては、限定はしないが、例えば、フッ化ポリビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホン（ＰＳ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ナイロン（例えば、ポリアミド）、酢酸セルロース、硝酸セルロース、再生セルロース、及びポリイミドが挙げられる。延伸技術（例えば、米国特許第６，３６８，７４２号（Ｆｉｓｈｅｒら））によって形成され得る好適な反射性微多孔層としては、限定はしないが、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）及びポリプロピレンが挙げられる。

特定の実施形態では、反射性微多孔層は、熱可塑性ポリマー、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、１－オクテン、スチレン、ポリオレフィンコポリマー、ポリアミド、ポリ－１－ブテン、ポリ－４－メチル－１－ペンテン、ポリエーテルスルホン、エチレンテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリスルホン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、酢酸セルロース、硝酸セルロース、再生セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリテトラフルオロエチレン、エチレンクロロトリフルオロエチレン、又はこれらの組み合わせを含む。

反射性微多孔層として使用するのに好適な材料としては、不織繊維層が挙げられる。

ポリマー不織層は、メルトブロープロセスを使用して作製することができる。メルトブロー不織繊維層は、非常に微細な繊維を含むことができる。メルトブローでは、１つ以上の熱可塑性ポリマー流が、密接に配置されたオリフィスを含むダイを通して押し出される。これらのポリマー流は、高速熱風の先細流によって細径化されて微細繊維を形成し、次いで、メルトブロー不織繊維層を提供する表面に収集される。選ばれた動作パラメータに応じて、収集された繊維は、半連続的に又は本質的に不連続になり得る。

ポリマー不織層は、溶融紡糸として知られるプロセスによって作製することもできる。溶融紡糸では、不織布繊維は、一組のオリフィスからフィラメントとして押し出され、冷却及び固化して繊維を形成する。フィラメントを、移動する空気流が含まれ得る空気空間に通し、フィラメントを冷却し、細径化（つまり、引っ張り）ユニットを通過し、フィラメントを少なくとも部分的に延伸するのを支援する。溶融紡糸プロセスによって作製された繊維は「スパンボンド化」することができ、それにより、一組の溶融紡糸繊維を含むウェブが繊維ウェブとして収集され、任意選択的に、繊維を互いに融着させるための１つ以上の結合操作に供される。溶融紡糸繊維は概ね、メルトブロー繊維よりも直径が大きい。

メルトブロープロセス又は溶融紡糸プロセスで使用するのに好適なポリマーとしては、ポリプロピレン及びポリエチレンなどのポリオレフィン、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリウレタン、ポリブテン、ポリ乳酸、硫化ポリフェニレン、ポリスルホン、液晶ポリマー、ポリエチレン－コ－酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、環状ポリオレフィン、並びにこれらのコポリマー及びブレンドが挙げられる。いくつかの実施形態では、ポリマー、コポリマー、又はこれらのブレンドは、不織繊維層中に存在する直接形成された繊維の全重量の少なくとも３５％となる。

不織繊維は、半結晶性ポリエステルなどの熱可塑性半結晶性ポリマーから作製することができる。有用なポリエステルとしては、脂肪族ポリエステルが挙げられる。脂肪族ポリエステル繊維に基づく不織材料は、高温用途での劣化又は収縮に抗するのに特に有利であり得る。この特性は、メルトブロー繊維が多数のオリフィスから出ると直ぐに、制御された空中熱処理作業に供されることになるメルトブロープロセスを使用して、不織繊維層を作製することによって達成することができる。制御された空中熱処理作業は、制御された空中熱処理作業に供される繊維の部分中の分子の少なくとも一部分の応力緩和を達成するのに十分な時間にわたってメルトブロー繊維の部分の融解温度未満の温度で行われる。空中熱処理の詳細は、米国特許出願公開第２０１６／０２９８２６６号（Ｚｉｌｌｉｇら）に記載されている。

反射性微多孔層に使用され得る不織繊維層としては、内側が負圧である穿孔された収集ドラムに空気の壁が繊維を吹き付ける、エアレイドプロセス（air laid process）を使用して作製されたものが挙げられる。空気はドラムを通して引かれ、繊維はドラムの外側に収集され、ウェブとして除去される。不織繊維で作製された微多孔膜の例示的な実施形態は、多糖類を含む高反射性の白色紙である。４００～７００ｎｍの可視波長にわたって９０％超の反射率を有する微多孔性多糖類白色紙が、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｐａｐｅｒ（Ｍｅｍｐｈｉｓ，Ｔｅｎｎｅｓｓｅｅ）から、商品名ＩＰ ＡＣＣＥＮＴ ＯＰＡＱＵＥ ＤＩＧＩＴＡＬ（１００ ｌｂｓ）、ＩＰ ＡＣＣＥＮＴ ＯＰＡＱＵＥ ＤＩＧＩＴＡＬ（１００ ｌｂｓ）、ＨＡＭＭＥＲＭＩＬＬ ＰＲＥＭＩＵＭ ＣＯＬＯＲ ＣＯＰＹ（８０ ｌｂｓ）、及びＨＡＭＭＥＲＭＩＬＬ ＰＲＥＭＩＵＭ ＣＯＬＯＲ ＣＯＰＹ（１００ ｌｂｓ）で入手可能である。チタニア、ＢａＳＯ_４及び他の白色顔料が、可視光（４００～７００ｎｍ）の反射を高めるために紙に添加されることが多い。

反射性微多孔層に使用され得る他の不織繊維層としては、ウェットレイドプロセス（wet laid process）を使用して作製されたものが挙げられる。ウェット堆積プロセス又は「ウェットレイド」プロセスは、（ａ）少なくとも１種の分散液（好ましくは水）中に１種類以上の繊維、任意選択的にポリマーバインダー、及び任意選択的に粒子充填剤を含む分散体を形成することと、（ｂ）分散体から分散液を除去することと、を含む。

エアレイドプロセス及びウェットレイドプロセスで使用するのに好適な繊維としては、（動物性又は植物性の）天然物質並びに／又は熱可塑性ポリマー及び溶媒分散性ポリマーを含む合成ポリマーから作製されるものが挙げられる。有用なポリマーとしては、羊毛；絹；セルロース系ポリマー（例えば、セルロース及びセルロース誘導体）；フッ素化ポリマー（例えば、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ（フッ化ビニリデン－コ－ヘキサフルオロプロピレン）などのフッ化ビニリデンのコポリマー、及びポリ（エチレン－コ－クロロトリフルオロエチレン）などのクロロトリフルオロエチレンのコポリマー）；塩素化ポリマー；ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ－１－ブテン、エチレン及び／又はプロピレンと１－ブテン、１－ヘキセン、１－オクテン、及び／又は１－デセンのコポリマー（例えば、ポリ（エチレン－コ－１－ブテン）、ポリ（エチレン－コ－１－ブテン－コ－１－ヘキセン））；ポリイソプレン；ポリブタジエン；ポリアミド（例えば、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１２、ポリ（イミノアジポイルイミノヘキサメチレン）、ポリ（イミノアジポイルイミノデカメチレン）、又はポリカプロラクタム）；ポリイミド（例えば、ポリ（ピロメリチミド））；ポリエーテル；ポリエーテルスルホン（例えば、ポリ（ジフェニルエーテルスルホン）、又はポリ（ジフェニルスルホン－コ－ジフェニレンオキシドスルホン））、ポリスルホン、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニルのコポリマー（例えば、ポリ（エチレン－コ－酢酸ビニル）、アセテート基の少なくとも一部が加水分解されて、ポリ（エチレン－コ－ビニルアルコール）を含む様々なポリ（ビニルアルコール）を提供するコポリマー）、ポリホスファゼン、ポリビニルエステル、ポリビニルエーテル、ポリ（ビニルアルコール）、ポリアラミド（例えば、ポリ（パラフェニレンテレフタルアミド）などのパラアミド及びＤｕＰｏｎｔ Ｃｏ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅ）によって商品名ＫＥＶＬＡＲで販売されている繊維であって、そのパルプが、パルプを構成する繊維の長さに基づいて様々な等級で市販されている繊維、例えば、ＫＥＶＬＡＲ １Ｆ３０６及びＫＥＶＬＡＲ １Ｆ６９４など、両方ともに少なくとも４ｍｍの長さのアラミド繊維を含む）、ポリカーボネート、およびそれらの組み合わせが挙げられる。不織繊維層は、細孔径を調節するためにカレンダー加工されてもよい。

反射性微多孔層として反射性ミクロ空隙ポリマーフィルムを使用することにより、銀めっきミラーの反射率よりも高い反射率がもたらされ得る。いくつかの実施形態では、反射性ミクロ空隙ポリマーフィルムが、４００～２５００ナノメートル（ｎｍ）の範囲で最大量の太陽エネルギーを反射する。特に、ミクロ空隙ポリマーフィルムにブレンドされたフルオロポリマーを使用することにより、他の従来の多層光学フィルムよりも高い反射率がもたらされ得る。更に、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、ケイ酸アルミニウム、ジルコニア、及びチタニアなどの無機粒子を、０．４～２．５ミクロンの太陽放射スペクトルにおける高い日射反射率及び８～１３ミクロンの大気の窓における高い吸光度をもたらすために、ミクロ空隙ポリマーフィルムにブレンドしてもよい。いくつかの実施形態では、物品は、建物又は伝熱システムの少なくとも一部の外側に配置され得る冷却パネルの一部を形成してもよい。伝熱システムは、流体、液体、又は気体を冷却することができ、それらは次いで、建物又は乗物、電気自動車のバッテリなどから熱を除去するために使用することができる。外層は、特に屋外環境で、反射性微多孔層を保護するのに好適であり得る。外層を含むことにより、表面の汚れの低減及び表面の洗浄の容易さも促進され得る。

反射性ミクロ空隙ポリマーフィルムを形成するのに有用な例示的なポリマーとしては、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が挙げられる。Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｋｉｎｇｓｐｏｒｔ，Ｔｅｎｎｅｓｓｅｅ）からＳＰＥＣＴＡＲ １４４７１及びＥＡＳＴＡＲ ＧＮ０７１として入手可能な、ＰＥＴＧを含む変性ＰＥＴコポリエステル、及び、例えば、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＣｏｍｐａｎｙからＴＩＧＬＡＺＥ ＳＴ及びＥＢ００６２として入手可能な、ＰＣＴＧを含む変性ＰＥＴコポリエステルも有用な高屈折率ポリマーである。ＰＥＴ及びＰＥＴ変性コポリエステルの分子配向は、その面内屈折率を高める延伸によって高められ得る、多層光学フィルムにおける更に高い反射能をもたらす。一般に、延伸プロセス中に空隙を成核するために、延伸の前の押出中に、非相溶性ポリマー添加剤又は無機粒子添加剤を、少なくとも１０重量％、少なくとも２０重量％、少なくとも３０重量％、少なくとも４０重量％、又は更には少なくとも４９重量％のレベルで、ＰＥＴホストポリマーにブレンドする。ＰＥＴに好適な非相溶性ポリマー添加剤としては、フルオロポリマー、ポリプロピレン、ポリエチレン、及びＰＥＴに良好に接着しない他のポリマーが挙げられる。同様に、ポリプロピレンがホストポリマーである場合に、延伸プロセス中に空隙を成核するために、延伸の前の押出中に、ＰＥＴ又はフルオロポリマーなどの非相溶性ポリマー添加剤を、少なくとも１０重量％、少なくとも２０重量％、少なくとも３０重量％、少なくとも４０重量％、又は更には少なくとも４９重量％のレベルで、ポリプロピレンのホストポリマーに添加することができる。ミクロ空隙ポリマーフィルム中の空隙を成核するための例示的な好適な無機粒子添加剤としては、チタニア、シリカ、アルミナ、ケイ酸アルミニウム、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、並びにガラスビーズ及び中空ガラスバブルが挙げられるが、他の無機粒子及び無機粒子の組み合わせも使用されてもよい。架橋ポリマー微小球体も、無機粒子の代わりに使用することができる。無機粒子は、延伸プロセス中に空隙を成核するために、延伸の前の押出中に、少なくとも１０重量％、少なくとも２０重量％、少なくとも３０重量％、少なくとも４０重量％、又は更には少なくとも４９重量％のレベルで、ホストポリマーに添加することができる。存在する場合に、無機粒子は、好ましくは５ｎｍ～１ミクロンの体積平均粒径を有するが、他の粒径も使用されてもよい。ガラスビーズ及び／又はガラスバブルを含む硬質粒子は、耐擦傷性をもたらすためにＵＶミラースキン層の表面層上又は防汚層上に存在することができる。いくつかの実施形態では、ガラスビーズ及び／又はガラスバブルは、半球体又は更には４分の１球体として表面から突出してもよい。

いくつかの実施形態では、ミクロ空隙ポリマーフィルムは、フルオロポリマー連続相を含む。例示的な好適なポリマーとしては、ＥＣＴＦＥ、ＰＶＤＦ、及びテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びフッ化ビニリデンのコポリマー、例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名ＴＨＶで入手可能なものが挙げられる。

硫酸バリウムを含む例示的なミクロ空隙ＰＥＴフィルムは、Ｔｏｒａｙ Ｐｌａｓｔｉｃｓ（Ａｍｅｒｉｃａ）Ｉｎｃ．（Ｎｏｒｔｈ Ｋｉｎｇｓｔｏｗｎ，Ｒｈｏｄｅ Ｉｓｌａｎｄ）からＬＵＭＩＲＲＯＲ ＸＪＳＡ２として入手可能である。ＬＵＭＩＲＲＯＲ ＸＪＳＡ２は、可視光（４００～７００ｎｍ）の反射能を高めるためのＢａＳＯ_４無機添加剤を含む。例示的な他の反射性ミクロ空隙ポリマーフィルムは、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｆｉｌｍ，Ｉｎｃ．（Ｇｒｅｅｒ，Ｓｏｕｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ）からＨＯＳＴＡＰＨＡＮ Ｖ５４Ｂ、ＨＯＳＴＡＰＨＡＮ ＷＤＩ３、及びＨＯＳＴＡＰＨＡＮ Ｗ２７０として入手可能である。

例示的なミクロ空隙ポリオレフィンシートについては、例えば、米国特許第６，２６１，９９４号（Ｂｏｕｒｄｅｌａｉｓら）に記載されている。

反射性微多孔層は、例えば、４００～７００ナノメートルの範囲（両端を含む）の波長の過半にわたって可視放射を拡散反射する。いくつかの実施形態では、反射性微多孔層は、少なくとも４００ｎｍから最大で７００ｎｍの波長範囲にわたって、少なくとも８５％（いくつかの実施形態では、少なくとも９０％、少なくとも９１％、少なくとも９２％、少なくとも９３％、少なくとも９４％、少なくとも９５％、少なくとも９６％、少なくとも９７％、少なくとも９８％、少なくとも９９％、又は更には少なくとも９９．５％）の平均反射率を有してもよい。

反射性微多孔層の反射能は、より広い波長範囲にわたって反射性であってもよい。したがって、いくつかの実施形態では、微多孔性ポリマー層の反射能は、少なくとも４００ｎｍから最大で２．５マイクロメートル、好ましくは少なくとも３００ｎｍ～３．０マイクロメートルの波長範囲にわたって、少なくとも８５％（いくつかの実施形態では、少なくとも９０％、少なくとも９１％、少なくとも９２％、少なくとも９３％、少なくとも９４％、少なくとも９５％、少なくとも９６％、少なくとも９７％、少なくとも９８％、少なくとも９９％、又は更には少なくとも９９．５％）の平均反射能を有してもよいが、これは必須ではない。

防汚層
防汚層は、（例えば、太陽放射を吸収することによって）複合冷却フィルムの機能を妨げ得る表面上の汚れの蓄積をある程度防止する。

典型的に、防汚層は、好ましくは、例えばフルオロポリマーなどの１種以上の撥性ポリマーを含む、ポリマーフィルムである。使用され得るフルオロポリマーを作製するためのコモノマーの例としては、ＴＦＥ、ＨＦＰ、ＴＨＶ、ＰＰＶＥが挙げられる。防汚層として使用するための例示的なフルオロポリマーとしては、ＰＶＤＦ、ＥＣＴＦＥ、ＥＴＦＥ、ＰＦＡ、ＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＨＴＥ、及びこれらの組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、フルオロポリマーはＦＥＰを含む。いくつかの実施形態では、フルオロポリマーはＰＦＡを含む。

いくつかの実施形態では、防汚層は、反射性微多孔層にコーティングとして適用される。例えば、米国特許出願公開第２０１５／０１７５４７９号（Ｂｒｏｗｎら）、同第２００５／０２３３０７０号（Ｐｅｌｌｅｒｉｔｅら）、米国特許第６，２７７，４８５号（Ｉｎｖｉｅら）、及び国際公開第０２／１２４０４号（Ｌｉｕら）など、多くの適用された防汚性組成物が、当該技術分野において知られている。

いくつかの実施形態では、防汚層の外向き表面（すなわち、防汚表面）は、例えば、「ＡＮＴＩＳＯＩＬＩＮＧ ＳＵＲＦＡＣＥ ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳ」と題する、２０１８年１２月２１日に出願された国際出願ＰＣＴ／ＩＢ第２０１８／０６０５２７号に記載されているように、その表面の一部又は全体がミクロ構造化及び／又はナノ構造化されてもよい。

いくつかの実施形態では、ナノ構造は、防汚層の表面上のミクロ構造に重ねられてもよい。

防汚層は、ミクロ構造及び／又はナノ構造を含む主面（すなわち、防汚表面）を有する。ミクロ構造は、交互する一連のミクロピーク及びミクロスペースとして構成されてもよい。ミクロピーク間のミクロスペースのサイズ及び形状により、ミクロピークへの汚れ粒子の接着が軽減され得る。ナノ構造は、少なくともミクロスペース上に配置される少なくとも一連のナノピークとして構成されてもよい。ミクロピークは、環境効果に対してナノピークよりも耐久性があり得る。ミクロピークはミクロスペースのみで間隔をあけられ、ミクロスペースはナノピークよりも著しく高いため、ミクロピークは、ミクロスペースの表面上のナノピークを摩耗から保護する役割を果たし得る。

防汚層に関して、用語又は接頭語「ミクロ」は、１マイクロメートル～１ミリメートルの範囲の構造又は形状を画定する少なくとも１つの寸法を指す。例えば、ミクロ構造は、１マイクロメートル～１ミリメートルの範囲にある高さ又は幅を有してもよい。

本明細書で使用するとき、用語又は接頭語「ナノ」は、１マイクロメートル未満の構造又は形状を画定する少なくとも１つの寸法を指す。例えば、ナノ構造は、１マイクロメートル未満である高さ又は幅の少なくとも一方を有してもよい。

図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃは、一連のミクロ構造２１８によって画定された防汚表面２０２を有する防汚層２０８として示される、防汚表面構造の断面２００、２０１を示す。断面２００、２０１は、基材２０６、及び防汚層２０８と基材との間の接着剤２０４も示す。特に、図２Ａは、ｘｙｚ軸に関する断面２０１の斜視図を示す。図２Ｃは、軸線２１０に平行なｘｚ平面における断面２０１を示す。図２Ｂは、断面２０１に直交し、軸線２１０に直交する、ｙｚ平面における断面２００を示す。防汚表面２０２は、層２０８が平坦な水平面上に存在しているかのように、図２Ａ～図２Ｃに示されている。しかし、層２０８は、可撓性であってもよく、平坦ではない基材に適合してもよい。

層２０８は、防汚表面２０２を少なくとも部分的に画定し得るミクロ構造２１８を画定できる任意の好適な材料から形成されてもよい。層２０８は、様々な周波数の光（例えば、４００～３０００ｎｍの範囲のどこかにある波長を有する光）に対して透明であってもよい。いくつかの実施形態では、層２０８は、ＵＶ安定性材料を含んでもよい。いくつかの実施形態では、層２０８は、フルオロポリマー又はポリオレフィンポリマーなどのポリマー材料を含んでもよい。

防汚表面２０２は、軸線２１０に沿って、例えば、軸線に平行に又は実質的に平行に延びてもよい。平面２１２は、例えば、軸線２１０が平面２１２内にあるように平行又は交差する、軸線２１０を含んでもよい。軸線２１０と平面２１２の両方は、防汚表面２０２に関連する様々な特徴を示すために本明細書で使用される仮想構造物であってもよい。例えば、平面２１２と防汚表面２０２との交差は、本明細書でより詳細に説明するようなミクロピーク２２０及びミクロスペース２２２を含む、図２Ｃに示されるような表面の断面プロファイルを表現する線２１４を画定し得る。線２１４は、少なくとも１つの直線区間又は湾曲区間を含んでもよい。

線２１４は、一連のミクロ構造２１８を少なくとも部分的に画定してもよい。ミクロ構造２１８は、層２０８に配置された三次元（３Ｄ）構造であってもよく、線２１４は、その３Ｄ構造の２つの寸法（例えば、高さ及び幅）のみを表現してもよい。図２Ｂに見られるように、ミクロ構造２１８は、一方の側２３０から別の側２３２まで表面２０２に沿って延びる長さを有してもよい。

ミクロ構造２１８は、線２１４によって画定され得る又は線２１４に含まれ得る、軸線２１０に沿って又は軸線２１０の方向にある、交互する一連のミクロピーク２２０及びミクロスペース２２２を含んでもよい。軸線２１０の方向は、幅の寸法と一致してもよい。ミクロスペース２２２はそれぞれ、一対のミクロピーク２２０の間に配置されてもよい。換言すれば、複数のミクロピーク２２０は、少なくとも１つのミクロスペース２２２によって互いに隔てられてもよい。少なくとも１つの実施形態では、少なくとも１対のミクロピーク２２０は、それらの間にミクロスペース２２２を含まなくてもよい。交互するミクロピーク２２０及びミクロスペース２２２のパターンを「間引かれた歯状リブレット」（skipped tooth riblet；ＳＴＲ）と表現してもよい。各ミクロピーク２２０及び各ミクロスペース２２２は、少なくとも１つの直線区間又は湾曲区間を含んでもよい。

線２１４の勾配（例えば、垂直変化／水平変化）を、ｘ座標（水平変化）としての軸線２１０の方向に対して、またｙ軸（垂直変化）としての平面２１２の方向に対して画定してもよい。

最大絶対勾配は、線２１４の少なくとも一部分について画定されてもよい。本明細書で使用するとき、用語「最大絶対勾配」は、線２１４の特定の部分にわたる勾配の絶対値から選択される最大値を指す。例えば、１つのミクロスペース２２２の最大絶対勾配は、ミクロスペースを画定する線２１４に沿った全ての点での勾配の絶対値を計算することから選択される最大値を指し得る。

各ミクロスペース２２２の最大絶対勾配を画定する線が、軸線２１０に対する角度を画定するために使用されてもよい。いくつかの実施形態では、最大絶対勾配に対応する角度は、最大で３０（いくつかの実施形態では、最大で２５、２０、１５、１０、５、又は更には最大で１）度であってもよい。いくつかの実施形態では、ミクロピーク２２０の少なくとも一部（いくつかの実施形態では全て）の最大絶対勾配は、ミクロスペース２２２の少なくとも一部（いくつかの実施形態では全て）の最大絶対勾配よりも大きくてもよい。

いくつかの実施形態では、線２１４は、隣接する各ミクロピーク２２０と各ミクロスペース２２２との間に境界２１６を含んでもよい。境界２１６は、直線区間又は湾曲区間のうちの少なくとも一方を含んでもよい。境界２１６は、線２１４に沿った点であってもよい。いくつかの実施形態では、境界２１６は屈曲部を含んでもよい。屈曲部は、線２１４の２つの区間の交点を含んでもよい。屈曲部は、線２１４が局所的に方向を変える点（例えば、２つの異なる直線の間における勾配の変化）を含んでもよい。屈曲部は、線２１４が局所的に最も急に（例えば、隣接する湾曲区間よりも急に）方向を変える点も含んでもよい。いくつかの実施形態では、境界２１６は変曲点を含んでもよい。変曲点は、線の曲率方向が変わる点であってもよい。

図３は、２つの拡大オーバーレイに見ることができるナノ構造３３０、３３２を有する層２０８の防汚表面２０２を示す。少なくとも１つのミクロピーク２２０が、少なくとも１つの第１のミクロ区間２２４又は少なくとも１つの第２のミクロ区間２２６を含んでもよい。ミクロ区間２２４、２２６は、ミクロピーク２２０の頂点２４８の両側に配置されてもよい。頂点２４８は、例えば、線２１４の最高点又は局所最大値であってもよい。各ミクロ区間２２４、２２６は、直線区間又は湾曲区間の少なくとも一方を含んでもよい。

第１及び第２のミクロ区間２２４、２２６を画定する線２１４は、第１の平均勾配及び第２の平均勾配をそれぞれ有してもよい。勾配は、ｘ軸（水平変化）としての基準線２５０に対して画定されてもよく、この場合に直交方向がｚ軸（垂直変化）となる。

本明細書で使用するとき、用語「平均勾配」は、線の特定の部分にわたる平均勾配を指す。いくつかの実施形態では、第１のミクロ区間２２４の平均勾配は、第１のミクロ区間の端点の間における勾配を指してもよい。いくつかの実施形態では、第１のミクロ区間２２４の平均勾配は、第１のミクロ区間に沿った複数の点で測定された勾配から計算される平均値を指してもよい。

一般に、ミクロピークの第１の平均勾配は、正と定義されてもよく、ミクロピークの第２の平均勾配は、負と定義されてもよい。換言すれば、第１の平均勾配と第２の平均勾配は、逆の符号を有する。いくつかの実施形態では、ミクロピークの第１の平均勾配の絶対値は、ミクロピークの第２の平均勾配の絶対値と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、絶対値は異なってもよい。いくつかの実施形態では、ミクロ区間２２４、２２６の各平均勾配の絶対値は、ミクロスペース２２２の平均勾配の絶対値よりも大きくてもよい。

ミクロピーク２２０の角度Ａを、ミクロピークの第１の平均勾配と第２の平均勾配との間で画定してもよい。換言すれば、第１及び第２の平均勾配を計算して、それらの計算された線の間の角度を決定してもよい。例示のために、角度Ａは、第１及び第２のミクロ区間２２４、２２６に関連して示される。しかし、いくつかの実施形態では、第１及び第２のミクロ区間が直線ではない場合に、角度Ａは、２つのミクロ区間２２４、２２６の間の角度に必ずしも等しくなくてもよい。

角度Ａは、十分な防汚特性を表面２０２にもたらす範囲であり得る。いくつかの実施形態では、角度Ａは、最大で１２０（いくつかの実施形態では、最大で１１０、１００、９５、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、又は更には最大で１０）度であってもよい。いくつかの実施形態では、角度Ａは、最大で８５（いくつかの実施形態では、最大で７５）度である。いくつかの実施形態では、角度Ａは、下限で少なくとも３０（いくつかの実施形態では、少なくとも２５、４０、４５、又は更には少なくとも５０）度である。いくつかの実施形態では、角度Ａは、上限で最大で７５（いくつかの実施形態では、最大で６０、又は更には最大で５５）度である。

ミクロピーク２２０は、ミクロ区間２２４、２２６の平均勾配に基づく角度Ａを提供できる任意の好適な形状であってもよい。いくつかの実施形態では、ミクロピーク２２０は、概ね三角形の形状で形成される。いくつかの実施形態では、ミクロピーク２２０は、三角形の形状ではない。形状は、頂点２４８に交差するｚ軸を横切って対称であってもよい。いくつかの実施形態では、形状は非対称であってもよい。

各ミクロスペース２２２は、ミクロスペース幅２４２を画定してもよい。ミクロスペース幅２４２は、隣接するミクロピーク２２０の間であり得る、対応する境界２１６の間の距離として画定されてもよい。

ミクロスペース幅２４２の最小値を、マイクロメートルの観点で画定してもよい。いくつかの実施形態では、ミクロスペース幅２４２は、少なくとも１０（いくつかの実施形態では、少なくとも２０、２５、３０、４０、５０、６０、７０、７５、８０、９０、１００、１５０、２００、又は更には少なくとも２５０）マイクロメートルであってもよい。いくつかの用途では、ミクロスペース幅２４２は、下限で少なくとも５０（いくつかの実施形態では、少なくとも６０）マイクロメートルである。いくつかの用途では、ミクロスペース幅２４２は、上限で最大で９０（いくつかの実施形態では、最大で８０）マイクロメートルである。いくつかの用途では、ミクロスペース幅２４２は７０マイクロメートルである。

本明細書で使用するとき、用語「ピーク距離」は、ピークの各頂点又は各最高点で測定される、連続するピークの間、又は最も近い対を成すピークの間の距離を指す。

ミクロスペース幅２４２も、ミクロピーク距離２４０に対して画定されてもよい。特に、ミクロスペース幅２４２の最小値を、ミクロピークの各頂点２４８で測定される、ミクロスペース２２２を取り囲む最も近い対をなすミクロピーク２２０の間の距離を指し得る、対応するミクロピーク距離２４０に対して画定してもよい。いくつかの実施形態では、ミクロスペース幅２４２は、ミクロピーク距離２４０の最大値の少なくとも１０％（いくつかの実施形態では、少なくとも２０％、２５％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、又は更には少なくとも９０％）であってもよい。いくつかの実施形態では、ミクロスペース幅２４２の最小値は、下限でミクロピーク距離２４０の最大値の少なくとも３０％（いくつかの実施形態では、少なくとも４０％）である。いくつかの実施形態では、ミクロスペース幅２４２の最小値は、上限でミクロピーク距離２４０の最大値の最大で６０％（いくつかの実施形態では、最大で５０％）である。いくつかの実施形態では、ミクロスペース幅２４２は、ミクロピーク距離２４０の４５％である。

ミクロピーク距離２４０の最小値を、マイクロメートルの観点で画定してもよい。いくつかの実施形態では、ミクロピーク距離２４０は、少なくとも１（いくつかの実施形態では、少なくとも２、３、４、５、１０、２５、５０、７５、１００、１５０、２００、２５０、又は更には５００）マイクロメートルであってもよい。いくつかの実施形態では、ミクロピーク距離２４０は、少なくとも１００マイクロメートルである。

ミクロピーク距離２４０の最大値を、マイクロメートルの観点で画定してもよい。ミクロピーク距離２４０は、最大で１０００（いくつかの実施形態では、最大で９００、８００、７００、６００、５００、４００、３００、２５０、２００、１５０、１００、又は更には最大で５０）マイクロメートルであってもよい。いくつかの実施形態では、ミクロピーク距離２４０は、上限で最大で２００マイクロメートルである。いくつかの実施形態では、ミクロピーク距離２４０は、下限で少なくとも１００マイクロメートルである。いくつかの実施形態では、ミクロピーク距離２４０は、１５０マイクロメートルである。

各ミクロピーク２２０は、ミクロピーク高さ２４６を画定してもよい。ミクロピーク高さ２４６は、ミクロピーク２２０の基準線３５０と頂点２４８との間の距離として画定されてもよい。ミクロピーク高さ２４６の最小値を、マイクロメートルの観点で画定してもよい。いくつかの実施形態では、ミクロピーク高さ２４６は、少なくとも１０（いくつかの実施形態では、少なくとも２０、２５、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１５０、２００、又は更には少なくとも２５０）マイクロメートルであってもよい。いくつかの実施形態では、ミクロピーク高さ２４６は、少なくとも６０（いくつかの実施形態では、少なくとも７０）マイクロメートルである。いくつかの実施形態では、ミクロピーク高さ２４６は８０マイクロメートルである。

複数のナノ構造３３０、３３２を、少なくとも部分的に線２１４によって画定してもよい。複数のナノ構造３３０は、少なくとも１つのミクロスペース２２２に配置されてもよい。特に、ナノ構造３３０を画定する線３１４は、少なくとも１つのミクロスペース２２２に配置される少なくとも一連のナノピーク３２０を含んでもよい。いくつかの実施形態では、複数のナノ構造３３２の少なくとも一連のナノピーク３２０が、少なくとも１つのミクロピーク２２０にも配置されてもよい。

少なくともサイズの違いにより、ミクロ構造２１８は、耐摩耗性の観点でナノ構造３３０、３３２よりも耐久性が高くなり得る。いくつかの実施形態では、複数のナノ構造３３２は、ミクロスペース２２２上にのみ配置される、又は少なくともミクロピーク２２０の頂点２４８に近接若しくは隣接して配置されない。

各ナノピーク３２０は、第１のナノ区間３２４及び第２のナノ区間３２６の少なくとも一方を含んでもよい。各ナノピーク３２０は、ナノ区間３２４、３２６の両方を含んでもよい。ナノ区間３２４、３２６は、ナノピーク３２０の頂点３４８の両側に配置されてもよい。

第１及び第２のナノ区間３２４、３２６は、ナノ区間を画定する線３１４を表現する、第１の平均勾配及び第２の平均勾配をそれぞれ画定してもよい。ナノ構造３３０、３３２に関して、線３１４の勾配は、ｘ軸（水平変化）としての基準線３５０に対して画定されてもよく、この場合に直交方向がｚ軸（垂直変化）となる。

一般に、ナノピークの第１の平均勾配は、正と定義されてもよく、ナノピークの第２の平均勾配は、負と定義されてもよく、逆もまた同様である。換言すれば、第１の平均勾配と第２の平均勾配は、少なくとも逆の符号を有する。いくつかの実施形態では、ナノピークの第１の平均勾配の絶対値は、ナノピークの第２の平均勾配の絶対値に等しくてもよい（例えば、ナノ構造３３０）。いくつかの実施形態では、絶対値は異なってもよい（例えば、ナノ構造３３２）。

ナノピーク３２０の角度Ｂは、ナノピークの第１の平均勾配によって画定される線と第２の平均勾配によって画定される線との間で画定されてもよい。角度Ａと同様に、示されるような角度Ｂは、例示のためのものであり、ナノ区間３２４、３２６の間で直接測定される任意の角度に必ずしも等しくなくてもよい。

角度Ｂは、十分な防汚特性を表面２０２にもたらす範囲であり得る。いくつかの実施形態では、角度Ｂは、最大で１２０（いくつかの実施形態では、最大で１１０、１００、９０、８５、８０、７５、７０、６５、６０、５５、５０、４５、４０、３５、３０、２５、２０、又は更には最大で１０）度であってもよい。いくつかの実施形態では、角度Ｂは、上限で最大で８５（いくつかの実施形態では、最大で８０、又は更には最大で７５）度である。いくつかの実施形態では、角度Ｂは、下限で少なくとも５５（いくつかの実施形態では、少なくとも６０、又は更には少なくとも６５）度である。いくつかの実施形態では、角度Ｂは７０度である。

角度Ｂは、各ナノピーク３２０について、同じであっても異なっていてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、ミクロピーク２２０上のナノピーク３２０の角度Ｂは、ミクロスペース２２２上のナノピーク３２０の角度Ｂとは異なっていてもよい。

ナノピーク３２０は、ナノ区間３２４、３２６の平均勾配によって画定される線に基づいて角度Ｂを提供できる任意の好適な形状であってもよい。いくつかの実施形態では、ナノピーク３２０は、概ね三角形の形状で形成される。少なくとも１つの実施形態では、ナノピーク３２０は、三角形の形状ではない。形状は、頂点３４８を横切って対称であってもよい。例えば、ミクロスペース２２２上に配置されたナノ構造３３０のナノピーク３２０は、対称であってもよい。少なくとも１つの実施形態では、形状は非対称であってもよい。例えば、ミクロピーク２２０上に配置されたナノ構造３３２のナノピーク３２０は、他のナノ区間３２６よりも長い１つのナノ区間３２４を伴って非対称であってもよい。いくつかの実施形態では、ナノピーク３２０は、アンダーカットなしで形成されてもよい。

各ナノピーク３２０は、ナノピーク高さ３４６を画定してもよい。ナノピーク高さ３４６は、ナノピーク３２０の基準線３５０と頂点３４８との間の距離として画定されてもよい。ナノピーク高さ３４６の最小値を、ナノメートルの観点で画定してもよい。いくつかの実施形態では、ナノピーク高さ３４６は、少なくとも１０（いくつかの実施形態では、少なくとも５０、７５、１００、１２０、１４０、１５０、１６０、１８０、２００、２５０、又は更には少なくとも５００）ナノメートルであってもよい。

いくつかの実施形態では、ナノピーク高さ３４６は、特にミクロスペース２２２上のナノ構造３３０に関して、最大で２５０（いくつかの実施形態では、最大で２００）ナノメートルである。いくつかの実施形態では、ナノピーク高さ３４６は、１００～２５０（いくつかの実施形態では、１６０～２００）ナノメートルの範囲である。いくつかの実施形態では、ナノピーク高さ３４６は１８０ナノメートルである。

いくつかの実施形態では、ナノピーク高さ３４６は、特にミクロピーク２２０上のナノ構造３３２に関して、最大で１６０（いくつかの実施形態では、最大で１４０）ナノメートルである。いくつかの実施形態では、ナノピーク高さ３４６は、７５～１６０（いくつかの実施形態では、１００～１４０）ナノメートルの範囲である。いくつかの実施形態では、ナノピーク高さ３４６は１２０ナノメートルである。

本明細書で使用するとき、用語「対応するミクロピーク」又は「対応する複数のミクロピーク」は、その上にナノピーク３２０が配置されているミクロピーク２２０を指し、又はナノピークが対応するミクロスペース２２２上に配置されている場合には、そのミクロスペースを取り囲む最も近いミクロピークの一方又は両方を指す。換言すれば、ミクロスペース２２２に対応するミクロピーク２２０は、一連のミクロピークにおいてミクロスペースに先行又は後続するミクロピークを指す。

ナノピーク高さ３４６も、対応するミクロピーク２２０のミクロピーク高さ２４６に対して画定されてもよい。いくつかの実施形態では、対応するミクロピーク高さ２４６は、ナノピーク高さ３４６の少なくとも１０（いくつかの実施形態では、少なくとも５０、１００、１５０、２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００、９００、又は更には少なくとも１０００）倍であってもよい。いくつかの実施形態では、対応するミクロピーク高さ２４６は、下限でナノピーク高さ３４６の少なくとも３００（いくつかの実施形態では、少なくとも４００、５００、又は更には少なくとも６００）倍である。いくつかの実施形態では、対応するミクロピーク高さ２４６は、上限でナノピーク高さ３４６の最大で９００（いくつかの実施形態では、最大で８００、又は更には最大で７００）倍である。

ナノピーク距離３４０が、ナノピーク３２０の間で画定されてもよい。ナノピーク距離３４０の最大値が画定されてもよい。いくつかの実施形態では、ナノピーク距離３４０は、最大で１０００（いくつかの実施形態では、最大で７５０、７００、６００、５００、４００、３００、２５０、２００、１５０、又は更には最大で１００）ナノメートルであってもよい。いくつかの実施形態では、ナノピーク距離３４０は、最大で４００（いくつかの実施形態では、最大で３００）ナノメートルである。

ナノピーク距離３４０の最小値を画定してもよい。いくつかの実施形態では、ナノピーク距離３４０は、少なくとも１（いくつかの実施形態では、少なくとも５、１０、２５、５０、７５、１００、１５０、２００、２５０、３００、３５０、４００、４５０、又は更には少なくとも５００）ナノメートルであってもよい。いくつかの実施形態では、ナノピーク距離３４０は、少なくとも１５０（いくつかの実施形態では、少なくとも２００）ナノメートルである。

いくつかの実施形態では、ナノピーク距離３４０は、１５０～４００（いくつかの実施形態では、２００～３００）ナノメートルの範囲である。いくつかの実施形態では、ナノピーク距離３４０は２５０ナノメートルである。

ナノピーク距離３４０は、対応するミクロピーク２２０の間のミクロピーク距離２４０に対して画定されてもよい。いくつかの実施形態では、対応するミクロピーク距離２４０は、ナノピーク距離３４０の少なくとも１０（いくつかの実施形態では、少なくとも５０、１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００、９００、又は更には少なくとも１０００）倍である。いくつかの実施形態では、対応するミクロピーク距離２４０は、下限でナノピーク距離３４０の少なくとも２００（いくつかの実施形態では、少なくとも３００）倍である。いくつかの実施形態では、対応するミクロピーク距離２４０は、上限でナノピーク距離３４０の最大で５００（いくつかの実施形態では、最大で４００）倍である。

層２０８の防汚表面２０２を形成するいくつかの実施形態では、方法は、ＵＶ安定性材料を有するホットメルト材料を押し出すことを含んでもよい。押し出された材料は、高精細工具（micro-replication tool）で成形されてもよい。高精細工具は、層２０８の表面に一連のミクロ構造を形成し得る一連のミクロ構造の鏡像を含んでもよい。一連のミクロ構造は、軸線に沿って交互する一連のミクロピーク及びミクロスペースを含んでもよい。少なくともミクロスペース上の層の表面に、複数のナノ構造が形成されてもよい。複数のナノピークは、軸線に沿って少なくとも一連のナノピークを含んでもよい。

いくつかの実施形態では、複数のナノ構造は、表面を反応性イオンエッチングに露出することによって形成されてもよい。例えば、ナノピークを画定するためにマスキング要素を使用してもよい。

いくつかの実施形態では、複数のナノ構造は、押し出された材料を、イオンエッチングされたダイヤモンドを更に有する高精細工具で成形することによって形成されてもよい。この方法は、ダイヤモンド工具を用意することであって、工具の少なくとも一部分が複数の先端を含み、先端のピッチが１マイクロメートル未満であり得る、用意することと、ダイヤモンド工具で基材を切り込むことであって、ダイヤモンド工具をある方向に沿ってピッチ（ｐ１）で出し入れ移動させ得る、切り込むことを含んでもよい。ダイヤモンド工具は、最大カッター幅（ｐ２）

を有してもよい。

ナノ構造は、層２０８のミクロ構造化表面に埋め込まれていることを特徴としてもよい。ナノ構造の空気に露出した部分を除いて、ナノ構造の形状は、一般に、隣接するミクロ構造化された材料によって画定されてもよい。

ナノ構造を含むミクロ構造化表面層は、複数の先端を有するダイヤモンド工具を使用することによって形成することができる。ダイヤモンド旋削機械（Diamond Turning Machine；ＤＴＭ）を使用して、米国特許公開第２０１３／０２３６６９７号（Ｗａｌｋｅｒら）に記載されているようなナノ構造を含む防汚表面構造を作り出すための高精細工具を生成することができる。ナノ構造を更に含むミクロ構造化表面は、単一の半径を有し得る複数の先端を有するダイヤモンド工具を使用することによって形成することができ、複数の先端は、１マイクロメートル未満のピッチを有する。このような複数の先端を有するダイヤモンド工具は、「ナノ構造化ダイヤモンド工具」と呼ばれることもある。それゆえ、ミクロ構造がナノ構造を更に含むミクロ構造化表面は、ミクロ構造化工具のダイヤモンド工具作製中に同時に形成することができる。集束イオンビームミリング加工プロセスを、先端を形成するために使用することができ、ダイヤモンド工具の谷を形成するために使用してもよい。例えば、集束イオンビームミリング加工は、谷の底部を形成するように先端の内面が共通の軸線に沿って交わることを確実にするために、使用することができる。集束イオンビームミリング加工は、凹状又は凸状の円弧楕円形、放物線形、数学的に定義された表面パターン、又はランダム若しくは疑似ランダムパターンなどの特徴部を谷に形成するために使用することができる。多種多様な他の形状の谷も形成することができる。不連続又は不均一な表面構造を作り出すための例示的なダイヤモンド旋削機械及び方法は、例えば、２０００年８月１７日に発行された国際公開第００／４８０３７号、米国特許第７，３５０，４４２号（Ｅｈｎｅｓら）及び同第７，３２８，６３８号（Ｇａｒｄｉｎｅｒら）、及び米国特許公開第２００９／０１４７３６１号（Ｇａｒｄｉｎｅｒら）に記載されているような高速工具サーボ（fast tool servo；ＦＴＳ）を含むことができ、利用することができる。

いくつかの実施形態では、複数のナノ構造は、エンボス加工のためのナノ構造化された粒状めっきを更に有する高精細工具により、押し出された材料又は層２０８を成形することによって形成されてもよい。電着又はより具体的には電気化学的堆積を使用して、高精細工具を形成するためにナノ構造を含む様々な表面構造を生成することもできる。工具は、２部構成の電気めっきプロセスであって、第１の電気めっき手順により、第１の主面を有する第１の金属層が形成され得、第２の電気めっき手順により、第１の金属層上に第２の金属層が形成され得る、工程を使用して作製されてもよい。第２の金属層は、第１の主面の平均粗さよりも小さな平均粗さを有する第２の主面を有してもよい。第２の主面は、工具の構造化表面として機能することができる。次いで、この表面の複製を光学フィルムの主面に作製して、光拡散特性をもたらすことができる。電気化学的堆積技術の一例は、国際公開第２０１８／１３０９２６号（Ｄｅｒｋｓら）に記載されている。

図４は、防汚表面４０２を有する層４０８の断面４００を示す。防汚表面４０２は、例えば、層２０８、４０８のミクロ構造２１８、４１８が同じ又は同様の寸法を有してもよく、また交互するミクロピーク４２０及びミクロスペース４２２からなる間引かれた歯リブレットのパターンを形成してもよい点で、防汚表面２０２と同様であり得る。防汚表面４０２は、例えば、ナノ構造５２０がナノサイズのマスキング要素５２２を含んでもよい点で、表面２０２とは異なる。

ナノ構造５２０は、マスキング要素５２２を使用して形成されてもよい。例えば、マスキング要素５２２は、ミクロ構造４１８を有する表面４０２のナノ構造５２０を形成するために、反応性イオンエッチング（reactive ion etching；ＲＩＥ）などのサブトラクティブ製造プロセスで使用されてもよい。ナノ構造及びナノ構造化物品を作製する方法は、反応種を用いて表面を実質的に同時にエッチングしながら、混合ガスによるプラズマ化学蒸着によって基材の主面に層４０８などの層を堆積させることを含んでもよい。方法は、基材を提供することと、プラズマ化されると基材上に層を堆積できる第１のガス種を、プラズマ形成されると基材をエッチングできる第２のガス種と混合し、それによって混合ガスを形成することと、を含んでもよい。方法は、混合ガスをプラズマ化することと、基材の表面をプラズマに露出することであって、表面がエッチングされ得、かつエッチングされた表面の少なくとも一部分に実質的に同時に層が堆積され得、それによってナノ構造を形成し得る、ことと、を含んでもよい。

基材は、（コ）ポリマー材料、無機材料、合金、固溶体、又はこれらの組み合わせとすることができる。堆積層は、有機ケイ素化合物、金属アルキル化合物、金属イソプロポキシド化合物、金属アセチルアセトネート化合物、金属ハロゲン化物化合物、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される化合物を含む反応ガスを使用するプラズマ化学蒸着の反応生成物を含むことができる。高アスペクト比のナノ構造、及び任意選択的に少なくとも１つの寸法でランダム寸法を有する、更には３つの直交寸法でランダム寸法を有する、ナノ構造を調製することができる。

防汚表面４０２を形成する方法のいくつかの実施形態では、一連のミクロ構造４１８が表面４０２に配置された層４０８が用意されてもよい。一連のミクロ構造４１８は、交互する一連のミクロピーク４２０及びミクロスペース４２２を含んでもよい。

一連のナノサイズのマスキング要素５２２が、少なくともミクロスペース４２２上に配置されてもよい。層４０８の表面４０２は、一連のナノピーク５２０を含む複数のナノ構造５１８を層の表面に形成するために、反応性イオンエッチングに露出されてもよい。各ナノピーク５２０は、マスキング要素５２２、及びマスキング要素５２２と層４０８との間の層材料のカラム５６０を含んでもよい。

マスキング要素５２２は、ＲＩＥの影響に対して層４０８の材料よりも耐性のある任意の好適な材料で形成されてもよい。いくつかの実施形態では、マスキング要素５２２は無機材料を含む。無機材料の非限定的な例としては、シリカ及び二酸化ケイ素が挙げられる。いくつかの実施形態では、マスキング要素５２２は親水性である。親水性材料の非限定的な例としては、シリカ及び二酸化ケイ素が挙げられる。

本明細書で使用するとき、用語「最大直径」は、任意の形状を有する要素を通る直線に基づく最長寸法を指す。

マスキング要素５２２は、ナノサイズであってもよい。各マスキング要素５２２は、最大直径５４２を画定してもよい。いくつかの実施形態では、マスキング要素５２２の最大直径は、最大で１０００（いくつかの実施形態では、最大で７５０、５００、４００、３００、２５０、２００、１５０、又は更には最大で１００）ナノメートルであってもよい。

各マスキング要素５２２の最大直径５４２は、対応するミクロピーク４２０のミクロピーク高さ４４０に対して表現されてもよい。いくつかの実施形態では、対応するミクロピーク高さ４４０は、マスキング要素５２２の最大直径５４２の少なくとも１０（いくつかの実施形態では、少なくとも２５、５０、１００、２００、２５０、３００、４００、５００、７５０、又は更には少なくとも１０００）倍である。

各ナノピーク５２０は、高さ５２２を画定してもよい。高さ５２２は、基準線５５０とマスキング要素５２２の頂点５４８との間で画定されてもよい。

図５Ａ及び図５Ｂは、表面２０２、４０２などの防汚表面のいずれかについて、ミクロ構造のミクロピーク又はナノ構造のナノピークであり得る異なる形態のピーク６０２、６２２の断面プロファイルを表す線６００及び６２０を示す。上述したように、構造は、厳密に三角形の形状である必要はない。

線６００は、頂点６１２を含むピーク６０２の第１の部分６０４（頂部）が概ね三角形の形状を有してもよい一方、隣接する側部６０６が湾曲していてもよいことを示している。いくつかの実施形態では、図示されるように、ピーク６０２の側部６０６は、スペース６０８に移行するときに、より急な方向転換を有していなくてもよい。ピーク６０２の側部６０６とスペース６０８との間の境界６１０は、例えば図２Ａ～図２Ｃ及び図３に関して、本明細書で説明される線６００の閾値勾配によって画定されてもよい。

スペース６０８も、ピーク６０２の高さ６１４に対して高さの観点で画定されてもよい。ピーク６０２の高さ６１４は、境界６１０の一方と頂点６１２との間で画定されてもよい。スペース６０８の高さは、スペース６０８の底部６１６、すなわち最低点と、境界６１０の一方との間で画定されてもよい。いくつかの実施形態では、スペース６０８の高さは、ピーク６０２の高さ６１４の最大で４０％（いくつかの実施形態では、最大で３０％、２５％、２０％、１５％、１０％、５％、４％、３％、又は更には最大で２％）であってもよい。いくつかの実施形態では、スペース６０８の高さは、ピーク６０２の高さ６１４の最大で１０％（いくつかの実施形態では、最大で５％、４％、３％、又は更には最大で２％）である。

線６２０は、頂点を含むピーク６２０の第１の部分６２４（頂部）が、隣接する側部６２６の間で急に方向転換しない、概ね丸みを帯びた形状を有してもよいことを示している。頂点６３２は、例えば、勾配が正から負に変わる、構造６２０の最高点として画定されてもよい。第１の部分６２４（頂部）は、頂点６３２で丸みを帯びていてもよいが、ピーク６２０は、第１の平均勾配と第２の平均勾配との間で、角度Ａ（図３を参照）などの角度を画定してもよい。

ピーク６２０の側部６２６とスペース６２８との間の境界６３０は、例えば、より急な方向転換によって画定されてもよい。境界６３０も、本明細書で説明されるように、勾配又は相対高さによって画定されてもよい。

図６～図９に示されるように、防汚表面は、不連続、断続的、又は不均一であってもよい。例えば、防汚表面は、ミクロ角錐を取り囲むミクロスペースを有するミクロ角錐（図８及び図９を参照）を含むものとして説明されてもよい。

図６は、不均一なミクロ構造１０１０によって少なくとも部分的に画定された第１の防汚表面１００１を示す。例えば、防汚表面１００１を（図２Ｂと同様に）ｙｚ平面で見た場合に、少なくとも１つのミクロピーク１０１２は、視界の左側から右側に不均一な高さを有してもよく、このことは、視界の左側から右側に均一な高さを有するミクロピーク２２０を示す図２Ｂと対照をなし得る。特に、ミクロ構造１０１０によって画定されるミクロピーク１０１２は、高さ又は形状の少なくとも１つが不均一であってもよい。ミクロピーク１０１２は、表面２０２のミクロスペース２２２（図２Ａ及び図２Ｃ）など、本明細書に記載される他の表面と同様に、ミクロスペース（この斜視図では示されていない）によって間隔をあけられる。

図７は、不連続なミクロ構造１０２０を有する第２の防汚表面１００２を示す。例えば、防汚表面１００２を（図２Ｂと同様に）ｙｚ平面で見た場合に、２つ以上のミクロピーク１０２２は、ミクロ構造１０２０によって間隔をあけられて示されてもよく、このことは、視界の左側から右側に連続して延びるミクロピーク２２０を示す図２Ｂと対照をなし得る。特に、ミクロ構造１０２０のミクロピーク１０２２は、ミクロスペース１０２４によって取り囲まれていてもよい。ミクロピーク１０２２はそれぞれ、半ドーム様形状を有してもよい。例えば、半ドーム様形状は、半球状、半卵形状、半長球状、又は半偏球状であってもよい。各ミクロピークの周りに延びる各ミクロピーク１０２２の基部の縁部１０２６が、丸みを帯びた形状（例えば、円形、楕円形、又は丸みを帯びた矩形）であってもよい。ミクロピーク１０２２の形状は、図示の実施形態に示されるように均一であってもよく、又は不均一であり得る。

図８及び図９は、不連続なミクロ構造１０３０を有する第３の防汚表面１００３の第１の部分１００４（図８）及び第２の部分１００５（図９）の斜視図である。両方とも斜視図である。図８の図は、４５度の角度に近いミクロ構造１０３０の「前面」側のより多くを示す一方、図９の図は、頂角に近いミクロ構造の「背面」側の一部を示す。

ミクロスペース１０３４によって取り囲まれたミクロ構造１０３０のミクロピーク１０３２は、角錐様形状（例えば、ミクロ角錐）を有してもよい。例えば、角錐様形状は、四角錐又は三角錐であってもよい。角錐様形状の側面１０３６は、例示される実施形態に示されるように、形状若しくは面積が不均一であってもよく、又は形状若しくは面積を均一にすることができる。角錐様形状の縁部１０３８は、例示される実施形態に示されるように非直線状であってもよく、又は直線状であり得る。各ミクロピーク１０３２の全体積は、例示される実施形態に示されるように不均一であってもよく、又は均一であり得る。

多層フィルムは、フィルムの底面の物理的及び化学的特性とは異なる物理的及び化学的特性をフィルムの上面に有するのに有利であり得る。例えば、高度にフッ素化されたポリマーは、耐汚染性、化学的耐性、及び汚れ耐性にとって有益であるが、本質的に他のポリマー又は接着剤に良好に接着しない。テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）の含有量が高い第１のフルオロポリマー層１５０１が、より高いフッ素含有量を有し、よって、本明細書に記載される物品のミクロ構造化された表面層として有益であり得る。第２のフルオロポリマー層１５０２は、ＴＦＥの含有量が低く、依然として第１のフルオロポリマー層１５０１に良好に接着し得る。第２のフルオロポリマー層がフッ化ビニリデン（ＶＤＦ）も含む場合に、それは、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）などの、ＶＤＦを含む他のフルオロポリマーに良好に接着する。第２又は第３のフルオロポリマー層１５０３が十分なＶＤＦを含む場合に、それは、アクリレートポリマー、更にはウレタンポリマーなどの非フッ素化ポリマー層１５０４に良好に接着する。高度にフッ素化された上面層及び殆どフッ素化されていない底面層を有する防汚表面構造化フィルムのための有用な多層フルオロポリマーフィルムが、２０１７年１０月５日に公表された国際公開第２０１７／１７２５６４（Ａ２）号に記載されており、この文献は、参照により本明細書に完全に組み込まれる。

いくつかの実施形態では、多層フルオロポリマーフィルムを共押出することができ、同時に、間引かれた歯のミクロ構造を有する高精細化された押出物が、ミクロスペースを有する。例えば、第１の層として３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＴＨＶ８１５」で入手可能な第１のフルオロポリマーを、第２の層として３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＴＨＶ２２１」で入手可能な第２のフルオロポリマーと、第３の層として３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＰＶＤＦ ６００８」で入手可能な第３のフルオロポリマーと共に、共押出することができる。任意選択的に、例えば、Ａｒｋｅｍａ（Ｂｒｉｓｔｏｌ，ＰＡ）から商品名「ＶＯ４４」で入手可能なＰＭＭＡ、Ｋｕｒａｒｙ Ｌｔｄ．（Ｏｓａｋａ，Ｊａｐａｎ）から商品名「ＫＵＲＡＲＩＴＹ ＬＡ４２８５」で入手可能なＣｏＰＭＭＡ、又はそれらのポリマーブレンドからなる第４の層を、３つのフルオロポリマー層と共押出することができる。この多層フルオロポリマー共押出方法は、高度にフッ素化された上部防汚表面構造化層、及びフッ素含有量を殆ど又は全く有していない底部層を提供し得る。

ＵＶ吸収剤（UV-absorber；ＵＶＡ）及びヒンダードアミン光安定剤（Hindered Amine Light Stabilizers；ＨＡＬｓ）によるＵＶ安定化は、ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、及びＣｏＰＭＭＡの光酸化劣化の防止に介入する可能性がある。ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、又はＣｏＰＭＭＡ光学層に組み込むためのＵＶＡとしては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、及びベンゾチアジンが挙げられる。ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、又はＣｏＰＭＭＡ光学層に組み込むための例示的なＵＶＡは、いずれもＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ，ＮＪ）から入手可能である商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ １５７７」又は「ＴＩＮＵＶＩＮ １６００」で提供されてもよい。典型的に、ＵＶＡは、１～１０重量％の濃度でポリマーに組み込まれる。ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、又はＣｏＰＭＭＡ光学層に組み込むための例示的なＨＡＬｓは、いずれもＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能である商品名「ＣＨＩＭＭＡＳＯＲＢ ９４４」又は「ＴＩＮＵＶＩＮ １２３」で提供されてもよい。典型的に、ＨＡＬｓは、０．１～１．０重量％でポリマーに組み込まれる。ＵＶＡとＨＡＬの比率１０：１を使用してもよい。

ＵＶＡ及びＨＡＬｓは、フルオロポリマー表面層、又は表面層の下のフルオロポリマー層に組み込まれてもよい。米国特許第９，６７０，３００号（Ｏｌｓｏｎら）及び米国特許公開第２０１７／０１９８１２９号（Ｏｌｓｏｎら）は、参照により本明細書に完全に組み込まれ、フルオロポリマー及びフルオロポリマーブレンドと相溶性である例示的なＵＶＡオリゴマーを記載している。

他のＵＶ遮断添加剤が、フルオロポリマー表面層に含まれてもよい。小粒子非顔料性の酸化亜鉛及び酸化チタンを、フルオロポリマー表面層のＵＶ遮断添加剤として使用することもできる。酸化亜鉛及び酸化チタンのナノスケール粒子は、可視光及び近赤外光に対して透明である一方でＵＶ光を反射又は散乱させる。ＵＶ光を反射できる１０～１００ナノメートルのサイズ範囲のこれらの酸化亜鉛及び酸化チタンの小粒子は、Ｋｏｂｏ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｉｎｃ．（Ｓｏｕｔｈ Ｐｌａｉｎｆｉｅｌｄ，ＮＪ）から市販されている。

帯電防止添加剤も、埃、汚れ、及び破片の望ましくない引き寄せを低減するために、フルオロポリマー表面層又は光学層のいずれかに組み込むのに有用であり得る。イオン帯電防止剤（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能な「３Ｍ ＩＯＮＩＣ ＬＩＱＵＩＤ ＡＮＴＩ－ＳＴＡＴ ＦＣ－４４００」又は「３Ｍ ＩＯＮＩＣ ＬＩＱＵＩＤ ＡＮＴＩ－ＳＴＡＴ ＦＣ－５０００」）を、静電気消散をもたらすためにＰＶＤＦフルオロポリマー層に組み込んでもよい。ＰＭＭＡ及びＣｏＰＭＭＡ光学ポリマー層用の帯電防止添加剤は、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ（Ｂｒｅｃｋｓｖｉｌｌｅ，ＯＨ）から入手可能な商品名「ＳＴＡＴＲＩＴＥ」で提供され得る。ＰＭＭＡ及びＣｏＰＭＭＡ光学ポリマー層用の追加の帯電防止添加剤が、Ｓａｎｙｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ）から入手可能な商品名「ＰＥＬＥＳＴＡＴ」で提供されてもよい。任意選択的に、帯電防止特性は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、又はグラフェンの薄層などの透明な導電性コーティングによってもたらすことができ、これらのいずれも、本明細書に記載される防汚表面構造化フィルムの層の１つの上に配置又はコーティングされてもよい。

本開示による複合冷却フィルムは、好ましくは、８～１３ミクロンの波長範囲にわたって少なくとも０．８５、好ましくは少なくとも０．９、より好ましくは少なくとも０．９５の平均吸光度を有するが、これは必須ではない。

任意選択的なＩＲ反射層
任意選択的なＩＲ反射層の機能は、反射性微多孔フィルムによって生成され、複合冷却フィルムによって冷却されることが意図されている任意の基材に向けて伝達される、ＩＲ熱放射の量を（反射によって）低減することである。

任意選択的なＩＲ反射層は、少なくとも８００～１３００ｎｍ、好ましくは７００～２５００ｎｍ、より好ましくは７００～３０００ｎｍの波長範囲にわたって、少なくとも５０パーセントの平均反射率を有する任意の材料で構成されてもよい。

図１０は、光学層の構成に応じて可視波長及び／又は赤外波長の反射ミラーとしても使用され得る例示的なＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０を示す。ＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０は、１つ以上の第１の光学層１２１２、１つ以上の第２の光学層１２１４、及び任意選択的に１つ以上のＩＲ透過性の追加スキン層１２１８を含む。

ＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０は、典型的には異なるポリマーを含む、少なくとも２種の材料の交互する光学層１２１２、１２１４を有する多層光学積層体１２０８を含む。高屈折率層１２１２の１つの面内方向における面内屈折率ｎ１が、同一の面内方向における低屈折率層１２１４の面内屈折率ｎ２よりも高い。層１２１２と層１２１４との間の各境界での屈折率の差は、入射光の一部を反射させる。ＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０の透過特性及び反射特性は、層１２１２と層１２１４との間の屈折率差並びに層１２１２及び層１２１４の厚さによって引き起こされる光のコヒーレント干渉に基づく。層１２１２と層１２１４との間で実効屈折率（又は垂直入射の面内屈折率）が異なる場合に、隣接する層１２１２、１２１４の間の境界面は反射面を形成する。反射面の反射能は、層１２１２の実効屈折率と層１２１４の実効屈折率との差の二乗（例えば、（ｎ１－ｎ２）^２）に依存する。層１２１２と層１２１４の間の屈折率差を大きくすることにより、光強度の向上（より高い反射能）、より薄いフィルム（より薄い層又はより少ない層）、及びより広い帯域幅性能を達成することができる。例示的な実施形態における一面内方向の屈折率差は、少なくとも約０．０５、好ましくは約０．１０超、より好ましくは約０．１５超、更により好ましくは約０．２０超である。

いくつかの実施形態では、層１２１２、１２１４の材料は、本質的に異なる屈折率を有する。別の実施形態では、層１２１２、１２１４の材料の少なくとも１つが、材料の屈折率（ｎ）が延伸プロセスによって影響を受けるような、応力誘発性の複屈折特性を有する。多層フィルムを一軸配向の範囲にわたって二軸配向に延伸することにより、異なる向きの平面偏光入射光に対してある反射率の範囲を有するフィルムを作り出すことができる。

ＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０の層の数は、フィルムの厚さ、可撓性及び経済性の理由から、最小数の層を使用して所望の光学特性を達成するように選択される。ミラーなどの反射フィルムの場合、層の数は、好ましくは約２，０００未満、より好ましくは約１，０００未満、更により好ましくは約７５０未満である。いくつかの実施形態では、層の数は、少なくとも１５０又は２００である。他の実施形態では、層の数は、少なくとも２５０である。

いくつかの実施形態では、ＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０は、任意選択的な追加の非光学的又は光学的なスキン層を更に含む。任意選択的なスキン層１２１８は、光学層１２１２、１２１４を損傷から保護し、共押出プロセスを助け、かつ／又はプロセス後の機械的特性を強化し得る。追加スキン層１２１８は、多くの場合、光学層１２１２、１２１４よりも厚い。スキン層１２１８の厚さは通常、個々の光学層１２１２、１２１４の厚さの少なくとも２倍、好ましくは少なくとも４倍、より好ましくは少なくとも１０倍である。スキン層１２１８の厚さは、特定の厚さを有するＩＲ反射性多層光学フィルムを作製するために変更されてもよい。結合層（図示せず）が、任意選択的にスキン層と光学層との間に存在してもよい。更に、任意選択的なトップコートがスキン層上に配置されてもよい。典型的に、追加層１２１８のうちの１つ以上が、光学層１２１２、１２１４によって透過、偏向及び／又は反射される光の少なくとも一部分が追加層も通って伝わるように配置される（すなわち、追加層は、光学層１２１２、１２１４を通って伝わる光又は同光学層によって反射される光の経路に配置される）。ある程度の防汚特性をもたらすために、スキン層（好ましくは、少なくとも最も外側のスキン層）の一方又は両方がフルオロポリマーを含む。

ＩＲ反射性多層光学フィルム１２２０は、低／高屈折率のフィルム層の複数の対を含み、低／高屈折率の光学層１２１２、１２１４の各対は、それが反射するように設計されている帯域の中心波長の１／２となる合計光学厚さを有する。このようなフィルムの積層体は、一般に１／４波長積層体と呼ばれる。いくつかの実施形態では、低／高屈折率の層の異なる対が、広帯域反射光学フィルムが所望される場合など、異なる合計光学厚さを有し得る。

光学層は、フッ素化ポリマー（すなわち、フルオロポリマー）、非フッ素化ポリマー、及びこれらのブレンドを含んでもよい。

使用され得るフルオロポリマーの例としては、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、及びフッ化ビニリデンのコポリマー（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＴＨＶで入手可能）；ＴＦＥ、ＨＦＰ、フッ化ビニリデン、及びペルフルオロプロピルビニルエーテル（ＰＰＶＥ）のコポリマー（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＴＨＶＰで入手可能）；ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ製の３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＰＶＤＦ ６００８）；エチレンクロロトリフルオロエチレンポリマー（ＥＣＴＦＥ）（例えば、Ｓｏｌｖａｙ（Ｂｒｕｓｓｅｌｓ，Ｂｅｌｇｉｕｍ）からＨＡＬＡＲ ３５０ＬＣ ＥＣＴＦＥとして入手可能）；エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＥＴＦＥ ６２３５として入手可能）；ペルフルオロアルコキシアルカンポリマー（ＰＦＡ）；フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）；ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）；ＴＦＥ、ＨＦＰ、及びエチレンのコポリマー（ＨＴＥ）（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＨＴＥ１７０５として入手可能）が挙げられる。フルオロポリマーの組み合わせも、使用することができる。いくつかの実施形態では、フルオロポリマーはＦＥＰを含む。いくつかの実施形態では、フルオロポリマーはＰＦＡを含む。

ＩＲ反射性多層光学フィルム１３２０の少なくとも１つの層に使用され得る非フッ素化ポリマーの例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンコポリマー、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレートコポリマー（例えば、エチルアクリレートとメチルメタクリレートのコポリマー）、ポリウレタン、伸長鎖ポリエチレンポリマー（ＥＣＰＥ）、又はこれらの組み合わせのうちの少なくとも１つが挙げられる。一般に、非フッ素化ポリマーの組み合わせを使用することができる。特に低屈折率光学層に使用するための、例示的な非フッ素化ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のホモポリマー、例えば、Ｉｎｅｏｓ Ａｃｒｙｌｉｃｓ，Ｉｎｃ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅ）からＣＰ７１及びＣＰ８０として入手可能なもの、及びＰＭＭＡよりも低いガラス転移温度を有するポリエチルメタクリレート（ＰＥＭＡ）が挙げられ得る。更なる有用なポリマーとしては、メチルメタクリレートのコポリマー、例えば、Ｉｎｅｏｓ Ａｃｒｙｌｉｃｓ，Ｉｎｃ．からＰＥＲＳＰＥＸ ＣＰ６３として入手可能であるか、又はＡｒｋｅｍａ（Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）からＡＬＴＵＧＬＡＳ ５１０として入手可能である、例えば、７５重量％のメチルメタクリレート及び２５重量％のエチルアクリレートから作製されるコポリマー、メチルメタクリレートモノマー単位とｎ－ブチルメタクリレートモノマー単位とのコポリマーなどが挙げられる。

ＰＭＭＡとＰＶＤＦのブレンドを使用してもよい。

好適なトリブロックアクリルコポリマーが、例えば、Ｋｕｒａｒａｙ Ａｍｅｒｉｃａ Ｉｎｃ．（Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａｓ）からＫｕｒａｒｉｔｙ ＬＡ４２８５として入手可能である。特に低屈折率光学層に使用するための、光学層用の更なる好適なポリマーが、ポリ（エチレン－コ－オクテン）（例えば、Ｄｏｗ Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｓ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ）からＥＮＧＡＧＥ ８２００として入手可能）、ポリエチレンメタクリレート（例えば、Ｄｏｗ ＥｌａｓｔｏｍｅｒｓからＥＬＶＡＬＯＹとして入手可能）、ポリ（プロピレン－コ－エチレン）（例えば、Ａｔｏｆｉｎａ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａｓ）からＺ９４７０として入手可能）などのポリオレフィンコポリマー；及びアタクチックポリプロピレンとアイソタクチックポリプロピレンのコポリマーのうちの少なくとも１つを含んでもよい。材料は、本明細書に記載される吸光特性又は透過特性、及び屈折率に基づいて選択されてもよい。一般に、２つの材料の間の屈折率が高いほど、フィルムを薄くすることができ、効率的な熱伝達にとって望ましくなり得る。

ＩＲ反射性多層光学フィルムに関しては、１／４波長積層体の設計により、好ましくは、約０．７マイクロメートル以下の平均厚さを有する、多層積層体内の各層がもたらされるが、これは必須ではない。

（反射偏光子及びミラーを含む）多層光学フィルムは、例えば、米国特許第６，０４５，８９４号（Ｊｏｎｚａら）、同第６，３６８，６９９号（Ｇｉｌｂｅｒｔら）、同第６，５３１，２３０号（Ｗｅｂｅｒら）、同第６，６６７，０９５号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）、同第６，７８３，３４９号（Ｎｅａｖｉｎら）、同第７，２７１，９５１（Ｂ２）号（Ｗｅｂｅｒら）、同第７，６３２，５６８号（Ｐａｄｉｙａｔｈら）、及び同第７，９５２，８０５号（ＭｃＧｕｒｒａｎら）、並びに国際公開第９５／１７３０３号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）及び同第９９／３９２２４号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）に記載されているように、異なる屈折率を有する交互するポリマー層を共押出しすることによって作製することができる。

例示的なＩＲ反射層としては、例えば、アルミニウム、金、又は銀などの金属の層、並びに、例えば、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、及び酸化インジウムスズなどの金属酸化物又は金属硫化物の層も挙げられる。

当該技術分野で知られている他のＩＲ反射層も使用されてもよい。

任意選択的な接着剤層
任意選択的な接着剤層は、任意の接着剤（例えば、熱硬化性接着剤、ホットメルト接着剤、及び／又は感圧性接着剤）を含んでもよい。存在する場合、任意選択的な接着剤層は、好ましくは感圧性接着剤を含む。いくつかの実施形態では、接着剤は、紫外線損傷に対して耐性であり得る。紫外線損傷に対して典型的に耐性である例示的な接着剤としては、例えば、上述したように、ＵＶ安定／遮断添加剤を含有するシリコーン接着剤及びアクリル接着剤が挙げられる。

任意選択的な接着剤層は、熱伝達を助けるために熱伝導性粒子を含んでもよい。例示的な熱伝導性粒子としては、酸化アルミニウム粒子、アルミナナノ粒子、六方晶窒化ホウ素粒子及び凝集粒子（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから３Ｍ Ｂｏｒｏｎ Ｄｉｎｉｔｒｉｄｅとして入手可能）、グラフェン粒子、グラフェン酸化物粒子、金属粒子、及びこれらの組み合わせが挙げられる。

任意選択的な剥離ライナーは、例えば、ポリオレフィンフィルム、フルオロポリマーフィルム、コーティングされたＰＥＴフィルム、又はシリコーン処理されたフィルム若しくは紙を含んでもよい。

ＵＶ安定化添加剤
ＵＶ安定化添加剤は、複合冷却フィルムの任意の構成要素（例えば、ＵＶ反射性多層光学フィルム、任意選択的な防汚層、任意選択的な接着剤層、反射性微多孔層、及び／又はＩＲ反射層）に添加されてもよい。

ＵＶ吸収剤（ＵＶＡ）及び／又はヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）によるＵＶ安定化は、ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、及びＣｏＰＭＭＡの光酸化劣化の防止に介入する可能性がある。ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、又はＣｏＰＭＭＡポリマー層に組み込むための例示的なＵＶＡとしては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、及びベンゾトリアジンが挙げられる。ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、又はＣｏＰＭＭＡ光学層に組み込むための市販のＵＶＡとしては、ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）からＴｉｎｕｖｉｎ １５７７及びＴｉｎｕｖｉｎ １６００として入手可能なものが挙げられる。典型的に、ＵＶＡは、１～１０重量％（重量％）の濃度でポリマーに組み込まれる。

ＰＥＴ、ＰＭＭＡ、又はＣｏＰＭＭＡ光学層に組み込むための例示的なＨＡＬＳ化合物としては、ＢＡＳＦ ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎからＣｈｉｍｍａｓｏｒｂ ９４４及びＴｉｎｕｖｉｎ １２３として入手可能なものが挙げられる。典型的に、ＨＡＬＳ化合物は、０．１～１．０重量％でポリマーに組み込まれる。ＵＶＡとＨＡＬＳの１０：１の比率が好ましい場合がある。

ＵＶＡ及びＨＡＬＳ化合物は、フルオロポリマー層に組み込むこともできる。米国特許第９，６７０，３００号（Ｏｌｓｏｎら）及び米国特許出願公開第２０１７／０１９８１２９号（Ｏｌｓｏｎら）は、ＰＶＤＦフルオロポリマーと相溶性のある例示的なＵＶＡオリゴマーを記載している。

他のＵＶ遮断添加剤が、フルオロポリマー層に含まれてもよい。例えば、小粒子非顔料性の酸化亜鉛及び酸化チタンを使用することができる。酸化亜鉛、炭酸カルシウム、及び硫酸バリウムのナノスケール粒子は、可視光及び近赤外光に対して透明である一方でＵＶ光を反射又は散乱させる。ＵＶ放射を反射できる、１０～１００ナノメートルのサイズ範囲の酸化亜鉛及び硫酸バリウムの小粒子は、例えば、Ｋｏｂｏ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｉｎｃ．（Ｓｏｕｔｈ Ｐｌａｉｎｆｉｅｌｄ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能である。

帯電防止添加剤も、埃、汚れ、及び破片の望ましくない引き寄せを低減するために、ポリマーフィルム／層のいずれかに組み込まれてもよい。３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なイオン帯電防止添加剤を、静電気消散をもたらすためにＰＶＤＦフルオロポリマー層に組み込んでもよい。ＰＭＭＡ及びＣｏＰＭＭＡ用の例示的な帯電防止添加剤は、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ（Ｂｒｅｃｋｓｖｉｌｌｅ，Ｏｈｉｏ）からＳＴＡＴ－ＲＩＴＥとして、又はＳａｎｙｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ）からＰＥＬＥＳＴＡＴとして市販されている。

物品及び使用
本開示による複合冷却フィルムは、熱的に（例えば、誘導、対流、放射）連通している基材を冷却するために使用することができる。

太陽光領域での反射率は、物体によって吸収されていたであろう太陽光を反射することにより、日光を受ける日中の冷却を促進するのに特に有効であり得る。大気の窓の領域での吸収は、赤外光を放射又は放出することにより、夜間の冷却を促進するのに特に有効であり得る。エネルギーは、ある程度は日中にも放射又は放出されてもよい。いくつかの実施形態では、物品の外層は、０．３～２．５マイクロメートルから最小の太陽エネルギーを吸収し、８～１４マイクロメートルから最大の太陽エネルギーを吸収する。

ここで図１１を参照すると、物品１１００は、基材１１１０に適用された（すなわち、基材１１１０と熱的に連通している）複合冷却フィルム１１１２を備える。複合冷却フィルム１１１２は、概ね平坦な形状であってもよいが、平坦である必要はなく、基材１３１０に適合するように可撓性であってもよい。

複合冷却フィルム１１１２は、基材１１１０を冷却するために太陽光１１０４を反射してもよく、これは日中の環境で特に有効であり得る。複合冷却フィルム１１１２がない場合に、太陽光１３０４は、基材１１１０によって吸収され、熱に変換され得る。反射された太陽光１１０４は、大気１１０８中に向けられてもよい。

複合冷却フィルム１１１２は、電磁スペクトルの大気の窓の領域における光１１０６を大気１１０８中に放射して、基材１１１０を冷却してもよく、これは夜間の環境で特に有効であり得る。複合冷却フィルム１１１２は、熱を大気の窓を通して大気１１０８に逃れることができる光１１０６（例えば、赤外光）に変換することを可能にし得る。光１１０６の放射は、追加のエネルギーを必要としない複合冷却フィルム１１１２の特性であってもよく、複合冷却フィルム１１１２及び複合冷却フィルム１１１２に熱的に結合された基材１１１０を冷却し得る、受動放射として説明されてもよい。日中に、反射特性により、複合冷却フィルム１１１２は、吸収するよりも多くのエネルギーを放出することができる。日中に太陽光を反射するための反射特性と組み合わせた複合冷却フィルム１１１２の放射特性は、大気を通して空間中にエネルギーを放射するだけの物品よりも多くの冷却をもたらし得る。

例示的な基材としては、自動車（例えば、ルーフ、車体パネル、及び／又は窓）、建物（例えば、屋根、壁）、熱交換器、衣類、傘、帽子、及び鉄道車両が挙げられる。例示的な基材は、より大きな物品、装置、又はシステムの一部（例えば、建物の窓）であってもよい。

パラメータの中でも、冷却及び温度低下の大きさは、複合冷却フィルム１１１２の反射特性及び吸収特性に依存し得る。複合冷却フィルム１１１２の冷却効果は、基材に近接又は隣接する周囲空気の第１の温度、及び複合冷却フィルム１３１２に近接又は隣接する基材１１１０の部分の第２の温度を参照して説明され得る。いくつかの実施形態では、第１の温度は、第２の温度よりも少なくとも摂氏２．７（いくつかの実施形態では、少なくとも５．５、８．３、又は更には少なくとも１１．１）度（例えば、少なくとも華氏５、１０、１５、又は更には少なくとも２０度）だけ高い。

本開示の選択実施形態
第１の実施形態において、本開示は、反射性微多孔層の第１の主面に固定された防汚層を備え、反射性微多孔層が、第１のフルオロポリマーを含み、４００～２５００ナノメートルの範囲の波長の過半にわたって電磁放射を拡散反射し、防汚層が、反射性微多孔層とは反対側に外向き防汚表面を有する、複合冷却フィルムを提供する。

第２の実施形態において、本開示は、防汚層とは反対側で反射性微多孔層に固定された補助的な反射性微多孔層を更に備える、第１の実施形態による複合冷却フィルムを提供する。

第３の実施形態において、本開示は、補助的な反射性微多孔層が、ポリエチレン、ポリプロピレン、多糖類、又はポリエチレンテレフタレートのうちの少なくとも１種を含む、第１又は第２の実施形態による複合冷却フィルムを提供する。

第４の実施形態において、本開示は、外向き防汚表面が軸線に沿って延びており、軸線を含む平面が、層の断面を画定し、表面と交差して２次元で表面を表現する線を画定し、層が、
線によって少なくとも部分的に画定される一連のミクロ構造であって、線が、軸線に沿って交互する一連のミクロピーク及びミクロスペースを画定し、各ミクロスペースが、軸線から最大で３０度の角度を画定する最大絶対勾配を有し、各ミクロピークが、第１の平均勾配を画定する第１のミクロ区間と、第２の平均勾配を画定する第２のミクロ区間とを有し、第１の平均勾配と第２の平均勾配との間に形成される角度が最大で１２０度である、一連のミクロ構造と、
線によって少なくとも部分的に画定される複数のナノ構造であって、線が、軸線に沿って少なくともミクロスペース上に配置される少なくとも一連のナノピークを画定する、複数のナノ構造と、を含み、
各ナノピークが高さを有し、対応する各ミクロピークが、ナノピークの高さの少なくとも１０倍の高さを有する、第１～第３の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第５の実施形態において、本開示は、ミクロピークの第１の平均勾配が正であり、ミクロピークの第２の平均勾配が負である、第４の実施形態による複合冷却フィルムを提供する。

第６の実施形態において、本開示は、ミクロピークの第１の平均勾配の絶対値が、ミクロピークの第２の平均勾配の絶対値に等しい、第４又は第５の実施形態による複合冷却フィルムを提供する。

第７の実施形態において、本開示は、外向き防汚表面が軸線に沿って延びており、軸線を含む平面が、層の断面を画定し、外向き防汚表面と交差して２次元で外向き防汚表面を表現する線を画定し、層が、
線によって少なくとも部分的に画定される一連のミクロ構造であって、線が、軸線に沿って交互する一連のミクロピーク及びミクロスペースを画定し、隣接する各ミクロピークと各ミクロスペースとの間の境界が、線の屈曲点又は変曲点の少なくとも一つを含む、一連のミクロ構造と、
線によって少なくとも部分的に画定される複数のナノ構造であって、線が、軸線に沿って少なくともミクロスペース上に配置される少なくとも一連のナノピークを画定する、複数のナノ構造と、を含み、
各ナノピークが高さを有し、対応する各ミクロピークが、ナノピークの高さの少なくとも１０倍の高さを有する、第１～第３の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第８の実施形態において、本開示は、各ミクロスペースの幅が、対応するミクロピーク距離の少なくとも１０％、又は少なくとも１０マイクロメートルの少なくとも一つである、第４～第７の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第９の実施形態において、本開示は、ミクロピーク間のミクロピーク距離が、１マイクロメートル～１０００マイクロメートルの範囲である、第４～第７の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１０の実施形態において、本開示は、ミクロピークが、少なくとも１０マイクロメートルの高さを有する、第４～第９の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１１の実施形態において、本開示は、各ナノピークが、第１の平均勾配を画定する第１のナノ区間と、第２の平均勾配を画定する第２のナノ区間とを含み、ナノピークの第１の平均勾配とナノピークの第２の平均勾配との間に形成される角度が最大で１２０度である、第４～第１０の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１２の実施形態において、本開示は、ナノピークの第１の平均勾配の絶対値が、ナノピークの第２の平均勾配の絶対値とは異なる、第１１の実施形態による複合冷却フィルムを提供する。

第１３の実施形態において、本開示は、複数のナノ構造が、ミクロピーク上に更に配置される、第４～第１２の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１４の実施形態において、本開示は、各ナノピークがナノピーク距離を画定し、対応するミクロピークが、ナノピーク距離の少なくとも１０倍のミクロピーク距離を画定する、第４～第１３の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１５の実施形態において、本開示は、ナノピーク間の最大ナノピーク距離が、１ナノメートル～１マイクロメートルの範囲である、第４～第１４の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１６の実施形態において、本開示は、ナノピークが、少なくとも１つのマスキング要素を含む、第４～第１５の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１７の実施形態において、本開示は、マスキング要素が、最大で１マイクロメートルの直径を有する、第１６の実施形態による複合冷却フィルムを提供する。

第１８の実施形態において、本開示は、ミクロピークが、高さ又は形状の少なくとも１つにおいて不均一である、第４～第１７の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第１９の実施形態において、本開示は、反射性微多孔層が、第１のフルオロポリマーを含み、３００～３０００ナノメートルの範囲の波長の過半にわたって電磁放射を拡散反射する、第１～第１８の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２０の実施形態において、本開示は、複合冷却フィルムが、８～１３ミクロンの波長範囲にわたって少なくとも０．９の電磁放射の平均吸光度を有する、第１～第１９の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２１の実施形態において、本開示は、外向き外向き防汚表面が、ミクロ構造化表面に重ねられたナノ構造化表面を有する、第１～第２０の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２２の実施形態において、本開示は、ナノ構造が、イオンエッチングプロセスによって少なくとも部分的に形成されている、第１～第２１の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２３の実施形態において、本開示は、防汚層が第２のフルオロポリマーを含む、第１～第２２の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２４の実施形態において、本開示は、反射性微多孔層がミクロ空隙フィルムを含む、第１～第２３の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２５の実施形態において、本開示は、ミクロ空隙フィルムが、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びフッ化ビニリデンを含むモノマーのコポリマーを含む、第１～第２４の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２６の実施形態において、本開示は、ミクロ空隙ポリマーフィルムが、白色の無機粒子を更に含む、第１～第２５の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２７の実施形態において、本開示は、ミクロ空隙ポリマーフィルムが、ポリマー粒子を更に含む、第１～第２６の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２８の実施形態において、本開示は、ポリマー粒子が、芳香族ポリエステルを含む、第１～第２７の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを提供する。

第２９の実施形態において、本開示は、ミクロ空隙ポリマーフィルムの第１の主面とは反対側の第２の主面に固定された赤外線反射層を更に備え、赤外線反射層が、８～１３ミクロンの波長範囲にわたって少なくとも０．５の平均反射率を有する、第１～第２８の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを備える物品を提供する。

第３０の実施形態において、本開示は、基材に固定された、第１～第２９の実施形態のいずれか１つによる複合冷却フィルムを備え、防汚層が、反射性微多孔層よりも基材から遠くにある物品を提供する。

本開示の目的及び利点は、以下の非限定的な実施例によって更に例証されるが、これらの実施例に引用される具体的な材料及びそれらの量、並びに他の条件及び詳細は、本開示を過度に制限しないものと解釈されるべきである。

特に記載のない限り、実施例及び本明細書のその他の箇所における全ての部、百分率、比などは、重量によるものである。

実施例１
ホッパー、独立した温度コントローラを有する８つのゾーン、及び押出機に希釈剤を供給するための液体リザーバを備えた、４０ｍｍ共回転二軸スクリュー押出機を使用して、微多孔性ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）材料の連続ロールを調製した。３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）から３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＰＶＤＦ １０１２／０００１として入手したＰＶＤＦポリマーペレットと、Ｍｉｌｌｉｋｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ（Ｓｐａｒｔａｎｂｕｒｇ，Ｓｏｕｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ）製の成核剤ＨＹＰＥＲＦＯＲＭ ＨＰＮ－６８とを、４０ｍｍ共回転二軸スクリュー押出機のホッパーに導入した。Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｋｉｎｇｓｐｏｒｔ，Ｔｅｎｎｅｓｓｅｅ）製の希釈剤（トリアセチン）を、押出機の第３の加熱バレルゾーンに注入した。凡その総押出速度は、毎時３０ポンド（毎時１３．６キログラム）であり、スクリュー速度は１５０ＲＰＭであった。希釈剤の量は、総重量の５９重量％であり、成核剤は０．３５重量％であった。押出機は、温度プロファイルを有する８つのゾーンを有し、ゾーン１が２０４℃、ゾーン２が２６０℃、ゾーン３が２６０℃、ゾーン４が２２１℃、ゾーン５が２０４℃、ゾーン６が１７７℃、ゾーン７が１７７℃、ゾーン８が１７７℃であった。続いて、溶融物を、二重クロム化コーティングハンガースロットフィルムダイを通して、クロムロール上に６５．５℃でキャストし、毎分１．９８メートルで回転させた。キャストされたフィルムを、温水を満たした洗浄槽を通して移送した後に、乾燥機によって細孔から希釈液及び水を実質的に除去した。

微多孔性ＰＶＤＦ材料を、長さ方向配向機で連続的に延伸比１．０：１まで延伸配向し、次いで、８つの温度ゾーンを備えたテンターオーブン内で横断方向に延伸比１．３５：１まで延伸した。長さ方向の延伸を１１０℃で行った。テンターオーブンの８つのゾーンの温度は、ゾーン１で１０４℃、ゾーン２で１２１℃、ゾーン３で１４３℃、ゾーン４で１６０℃、ゾーン５で１６０℃、ゾーン６で１６０℃、ゾーン７で１６８℃、ゾーン８で１６８℃であった。得られた配向された反射性微多孔性フルオロポリマーフィルムは、厚さが１２９．５ミクロン、密度が０．８５２ｇ／ｃｃ、多孔率が５２．１％、ガーレー透気抵抗度が４．２秒／５０ｃｃ、湿潤液として油を使用したバブルポイント圧力が３３．４キロパスカルであった。

次いで、２層の微多孔性ＰＶＤＦ材料を、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）製の光学的に透明な接着剤ＯＣＡ ８１７１で、Ｊ型熱電対が表面に埋め込まれ、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ製のアルミニウム裏当テープ３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１で接着されたアルミニウムプレートに、積層ラミネートし、放射冷却プレートＲＣＰ１を作り出した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、アルミニウム放射冷却プレートＲＣＰ１の下に置いて地面から熱絶縁した。表面にＪ型熱電対が埋め込まれ、３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着された別の裸のアルミニウムプレートを、対照用放射冷却プレートとして使用した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートの下に置いて地面から熱絶縁した。周囲空気温度１８℃で、２つの放射冷却プレートを正午に日光の下に置いた。１時間の温度平衡化の後に、対照用放射冷却プレートの温度は２５．６℃と測定され、放射冷却プレート１の温度は１７．２℃、すなわち、周囲温度よりも０．８℃低く測定された。

実施例２
ナノ構造化防汚フルオロポリマーフィルムを、実施例１に記載した反射性微多孔性フルオロポリマーフィルムの上面にラミネートした。Ａｒｋｅｍａ，Ｉｎｃ．（Ｋｉｎｇ ｏｆ Ｐｒｕｓｓｉａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）製のＫｙｎａｒ ７１０ ＰＶＤＦフルオロポリマーをナノ高精細キャスト工具に対して押し出して、図３に示される表面構造を作り出すことによって、表面構造化防汚フィルム作製した。ＰＶＤＦを毎時９０．９ｋｇの速度、２０４℃の温度、毎秒０．４４メートルのライン速度で押し出した。次いで、防汚表面化微多孔性フルオロポリマーフィルムを、Ｊ型熱電対が表面に埋め込まれ３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着されたアルミニウムプレートに、ラミネートし、放射冷却プレートＲＣＰ２を作り出した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、アルミニウム放射冷却プレートＲＣＰ２の下に置いて地面から熱絶縁した。表面にＪ型熱電対が埋め込まれ、３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着された別の裸のアルミニウムプレートを、対照用放射冷却プレートとして使用した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートの下に置いて地面から熱絶縁した。周囲空気温度２１．４℃で、２つの放射冷却プレートを正午に太陽の下に置いた。１時間の温度平衡化の後に、対照用放射冷却プレートの温度は３７．７℃と測定され、放射冷却プレート２の温度は２０℃、すなわち、周囲温度よりも１．４℃低く測定された。

実施例３
ホッパー、独立した温度制御を有する８つのゾーン、及び押出機に希釈剤を供給するための液体リザーバを備えた、４０ｍｍ二軸スクリュー押出機を使用して、微多孔性エチレン－クロロトリフルオロエチレンフルオロポリマー「ＥＣＴＦＥ」材料の連続ロールを調製した。Ｓｏｌｖａｙ（Ｓｏｌｅｘｉｓ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）からＨＡＬＡＲ ９０１ ＤＡとして入手したＥＣＴＦＥフルオロポリマーと、コポリマーペレットと、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから３Ｍ ＤＹＮＥＯＮ ＥＴＦＥ ６２３５として入手したエチレントリフルオロエチレンフルオロポリマー（ＥＴＦＥ）成核剤とを、固形物フィーダを使用してホッパーに導入し、スクリュー速度２３０ｒｐｍに維持された押出機に材料を供給した。Ｖｅｒｔｅｌｌｕｓ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（Ｇｒｅｅｎｓｂｏｒｏ，Ｎｏｒｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａ）製のセバシン酸ジブチル（ＤＢＳ）希釈剤を、リザーバから押出機に別途に供給した。ＥＣＴＦＥコポリマー／希釈剤／成核剤の重量比は６４．５／３５／０．５であった。総押出速度は毎時１８．１４ｋｇであり、押出機の８つのゾーンを、ゾーン１～８の温度プロファイル、２０４℃、２５４℃、２５４℃、２６０℃、２６０℃、２５４℃、２４９℃、及び２４９℃をそれぞれ提供するように設定した。溶融組成物を均一に混合した後に、２２４℃に維持された二重クロム化コーティングハンガースロットフィルムダイを通して圧送し、ホイール温度６０℃に維持されたパターン付きキャストホイール上に、フィルムダイとキャストホイールとの間に２．５ｃｍの間隙を置いてキャストした。キャスト速度は毎分４．５７ｍであり、フィルムをインラインで連続的に洗浄して、混合溶媒（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）から３Ｍ ＮＯＶＥＣ ７１ＤＥ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ Ｆｌｕｉｄとして入手）中のＤＢＳを除去し、空気乾燥させた。

微多孔性ＥＣＴＦＥ材料を、長さ方向配向機内で連続的に延伸比２．４：１まで延伸配向し、次いで、８つの温度ゾーンを備えたテンターオーブン内で横断方向に延伸比２．６：１まで延伸した。長さ方向の延伸を１２６℃で行った。テンターオーブンの８つのゾーンの温度は、ゾーン１で１３２℃、ゾーン２で１３８℃、ゾーン３で１４９℃、ゾーン４で１５４℃、ゾーン５で１６０℃、ゾーン６で１６０℃、ゾーン７で１６０℃、ゾーン８で１４９℃であった。得られた配向された反射性微多孔フィルムは、厚さが４７ミクロン、密度が０．５０ｇ／ｃｃ、多孔率が７０．５％、ガーレー透気抵抗度が７．５秒／５０ｃｃ、イソプロピルアルコールを使用したバブルポイント圧が１２１．６キロパスカルであった。

次いで、５層の微多孔性フルオロポリマーＥＣＴＦＥ材料を、光学的に透明な接着剤ＯＣＡ ８１７１で、Ｊ型熱電対が表面に埋め込まれ３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着されたアルミニウムプレートに、積層ラミネートし、放射冷却プレートＲＣＰ３を作り出した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートＲＣＰ３の下に置いて地面から熱絶縁した。表面にＪ型熱電対が埋め込まれ、３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着された別の裸のアルミニウムプレートを、対照用放射冷却プレートとして使用した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートの下に置いて地面から熱絶縁した。周囲空気温度１７．８℃で、２つの放射冷却プレートを正午に太陽の下に置いた。１時間の温度平衡化の後に、対照用放射冷却プレートの温度は２５．６℃と測定され、放射冷却プレートＲＣＰ３の温度は１５．４℃、すなわち、周囲温度よりも２．４℃低く測定された。

実施例４
ナノ構造化防汚フルオロポリマーフィルムを、実施例３に記載した微多孔性フルオロポリマーフィルムの上面にラミネートした。Ｋｙｎａｒ ７１０ ＰＶＤＦフルオロポリマーをナノ高精細キャスト工具に対して押し出して、図３に示される表面構造を作り出すことによって、表面構造化防汚フィルムを作製した。ＰＶＤＦを毎時９０．９ｋｇの速度、２０４℃の温度、毎秒０．４４メートルのライン速度で押し出した。次いで、防汚表面化微多孔性フルオロポリマーフィルムを、Ｊ型熱電対が表面に埋め込まれ３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープに接着されたアルミニウムプレートに、ラミネートし、放射冷却プレートＲＣＰ４を作り出した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートＲＣＰ４の下に置いて地面から熱絶縁した。表面にＪ型熱電対が埋め込まれ、３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着された別の裸のアルミニウムプレートを、対照用放射冷却プレートとして使用した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートの下に置いて地面から熱絶縁した。周囲空気温度２１．４℃で、２つの放射冷却プレートを正午に太陽の下に置いた。１時間の温度平衡化の後に、対照用放射冷却プレートの温度は３７．７℃と測定され、放射冷却プレートＲＣＰ４の温度は２０．３℃、すなわち、周囲温度よりも１．１℃低く測定された。

実施例５
厚さ１１ミクロンのＰＴＦＥ膜（Ｗ．Ｌ．Ｇｏｒｅ＆Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ，Ｉｎｃ．（Ｅｌｋｔｏｎ，ＭＤ）からＴＥＦＬＯＮ ＰＦＳ ０２０ １０として入手）を使用した。微多孔性ＰＴＦＥ材料の８つの層を、光学的に透明な接着剤ＯＣＡ ８１７１で、Ｊ型熱電対が表面に埋め込まれ３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着されたアルミニウムプレートに、積層ラミネートし、放射冷却プレートＲＣＰ５を作り出した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、アルミニウム放射冷却プレートＲＣＰ５の下に置いて地面から熱絶縁した。表面にＪ型熱電対が埋め込まれ、３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着された別の裸のアルミニウムプレートを、対照用放射冷却プレートとして使用した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートの下に置いて地面から熱絶縁した。周囲空気温度１７．８℃で、２つの放射冷却プレートを正午に太陽の下に置いた。１時間の温度平衡化の後に、対照用放射冷却プレートの温度は２５．６℃と測定され、放射冷却プレートＲＣＰ５の温度は１６．７℃、すなわち、周囲温度よりも２．１℃低く測定された。

実施例６
ナノ構造化防汚フルオロポリマーフィルムを、実施例５に記載した微多孔性フルオロポリマーフィルムの上面にラミネートした。ＫＹＮＡＲ ７１０ ＰＶＤＦフルオロポリマーをナノ高精細キャスト工具に対して押し出して、図３に示される表面構造を作り出すことによって、表面構造化防汚フィルムを作製した。ＰＶＤＦを毎時９０．９ｋｇの速度、２０４℃の温度、毎秒０．４４メートルのライン速度で押し出した。次いで、防汚表面化微多孔性フルオロポリマーフィルムを、Ｊ型熱電対が表面に埋め込まれ３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着されたアルミニウムプレートに、ラミネートし、放射冷却プレートＲＣＰ６を作り出した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、アルミニウム放射冷却プレートＲＣＰ６の下に置いて地面から熱絶縁した。表面にＪ型熱電対が埋め込まれ、３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着された別の裸のアルミニウムプレートを、対照用放射冷却プレートとして使用した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートの下に置いて地面から熱絶縁した。周囲空気温度２１．７℃で、２つの放射冷却プレートを正午に太陽の下に置いた。１時間の温度平衡化の後に、対照用放射冷却プレートの温度は３７．７℃と測定され、放射冷却プレートＲＣＰ６の温度は２０．６℃、すなわち、周囲温度よりも１．１℃低く測定された。

実施例７
ナノ構造化防汚フルオロポリマーフィルムを、実施例３に記載した微多孔性フルオロポリマーフィルムの上面にラミネートした。Ｋｙｎａｒ ７１０ ＰＶＤＦフルオロポリマーをナノ高精細キャスト工具に対して押し出して、図３に示される表面構造を作り出すことによって、表面構造化防汚フィルムを作製した。ＰＶＤＦを毎時９０．９ｋｇの速度、２０４℃の温度、毎秒０．４４メートルのライン速度で押し出した。次いで、防汚表面化微多孔性フルオロポリマーフィルムを、図１２に示されるように、３Ｍ ＣｏｍｐａｎｙからＯＣＡ ８１７１として入手した光学的に透明な接着剤を使用して、Ｔｏｒａｙ Ｐｌａｓｔｉｃｓ（Ａｍｅｒｉｃａ）Ｉｎｃ．（Ｎｏｒｔｈ Ｋｉｎｇｓｔｏｗｎ，Ｒｈｏｄｅ Ｉｓｌａｎｄ）からＬＵＭＩＲＲＯＲ ＸＪＳＡ２として入手した厚さ１８８ミクロンのミクロ空隙ＰＥＴフィルムにラミネートした。

次いで、防汚表面化微多孔性複合フィルムを、３Ｍ ＣｏｍｐａｎｙからＯＣＡ８１７１として入手された光学的に透明な接着剤で、Ｊ型熱電対が表面に埋め込まれ３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着されたアルミニウムプレートに、ラミネートし、放射冷却プレートＲＣＰ４を作り出した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートＲＣＰ７の下に置いて地面から熱絶縁した。表面にＪ型熱電対が埋め込まれ、３Ｍ ４２５ ＨＤ ６１２７－４１アルミニウム裏当テープで接着された別の裸のアルミニウムプレートを、対照用放射冷却プレートとして使用した。厚さ１インチのＳｔｙｒｏｆｏａｍ断熱材を、対照用アルミニウム放射冷却プレートの下に置いて地面から熱絶縁した。周囲空気温度１９．８℃で、２つの放射冷却プレートを正午に太陽の下に置いた。１時間の温度平衡化の後に、対照用放射冷却プレートの温度は３１．７℃と測定され、放射冷却プレートＲＣＰ７の温度は１６．６℃、すなわち、周囲温度よりも３．２℃低く測定された。

参照によって組み込まれる、本出願における引用文献、特許、及び特許出願は全て、一貫した方法で組み込まれる。組み込まれた文献の一部と本出願との間に不一致又は矛盾がある場合、本出願における情報が優先するものとする。前述の記載は、当業者が、特許請求の範囲に記載の開示を実践することを可能にするためのものであり、本開示の範囲を限定するものと解釈すべきではなく、本開示の範囲は特許請求の範囲及びその全ての等価物によって定義される。

Claims (30)

1. 反射性微多孔層の第１の主面に固定された防汚層を備え、前記反射性微多孔層は、第１のフルオロポリマーを含み、４００～２５００ナノメートルの範囲の波長の過半にわたって電磁放射を拡散反射し、前記防汚層は、前記反射性微多孔層とは反対側に外向き防汚表面を有する、複合冷却フィルム。
2. 前記防汚層とは反対側で前記反射性微多孔層に固定された補助的な反射性微多孔層を更に備える、請求項１に記載の複合冷却フィルム。
3. 前記補助的な反射性微多孔層が、ポリエチレン、ポリプロピレン、多糖類、又はポリエチレンテレフタレートのうちの少なくとも１種を含む、請求項２に記載の複合冷却フィルム。
4. 前記外向き防汚表面が軸線に沿って延びており、前記軸線を含む平面が、前記層の断面を画定し、前記表面と交差して２次元で前記表面を表現する線を画定し、前記層が、
   前記線によって少なくとも部分的に画定される一連のミクロ構造であって、前記線が、前記軸線に沿って交互する一連のミクロピーク及びミクロスペースを画定し、各ミクロスペースが、前記軸線から最大で３０度の角度を画定する最大絶対勾配を有し、各ミクロピークが、第１の平均勾配を画定する第１のミクロ区間と、第２の平均勾配を画定する第２のミクロ区間とを有し、前記第１の平均勾配と前記第２の平均勾配との間に形成される角度が最大で１２０度である、一連のミクロ構造と、
   前記線によって少なくとも部分的に画定される複数のナノ構造であって、前記線が、前記軸線に沿って少なくとも前記ミクロスペース上に配置される少なくとも一連のナノピークを画定する、複数のナノ構造と、を含み、
   各ナノピークが高さを有し、かつ対応する各ミクロピークが、前記ナノピークの前記高さの少なくとも１０倍の高さを有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
5. 前記ミクロピークの前記第１の平均勾配が正であり、前記ミクロピークの前記第２の平均勾配が負である、請求項４に記載の複合冷却フィルム。
6. 前記ミクロピークの前記第１の平均勾配の絶対値が、前記ミクロピークの前記第２の平均勾配の絶対値に等しい、請求項４又は５に記載の複合冷却フィルム。
7. 前記外向き防汚表面が軸線に沿って延びており、前記軸線を含む平面が、前記層の断面を画定し、前記外向き防汚表面と交差して２次元で前記外向き防汚表面を表現する線を画定し、前記層が、
   前記線によって少なくとも部分的に画定される一連のミクロ構造であって、前記線が、前記軸線に沿って交互する一連のミクロピーク及びミクロスペースを画定し、隣接する各ミクロピークと各ミクロスペースとの間の境界が、前記線の屈曲点又は変曲点の少なくとも一つを含む、一連のミクロ構造と、
   前記線によって少なくとも部分的に画定される複数のナノ構造であって、前記線が、前記軸線に沿って少なくとも前記ミクロスペース上に配置される少なくとも一連のナノピークを画定する、複数のナノ構造と、を含み、
   各ナノピークが高さを有し、かつ対応する各ミクロピークが、前記ナノピークの前記高さの少なくとも１０倍の高さを有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
8. 各ミクロスペースの幅が、対応するミクロピーク距離の少なくとも１０％、又は少なくとも１０マイクロメートルの少なくとも一つである、請求項４～７のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
9. ミクロピーク間のミクロピーク距離が、１マイクロメートル～１０００マイクロメートルの範囲である、請求項４～８のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
10. 前記ミクロピークが、少なくとも１０マイクロメートルの高さを有する、請求項４～９のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
11. 各ナノピークが、第１の平均勾配を画定する第１のナノ区間と、第２の平均勾配を画定する第２のナノ区間とを含み、前記ナノピークの前記第１の平均勾配と前記ナノピークの前記第２の平均勾配との間に形成される角度が最大で１２０度である、請求項４～１０のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
12. 前記ナノピークの前記第１の平均勾配の絶対値が、前記ナノピークの前記第２の平均勾配の絶対値とは異なる、請求項１１に記載の複合冷却フィルム。
13. 前記複数のナノ構造が、前記ミクロピーク上に更に配置される、請求項４～１２のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
14. 各ナノピークがナノピーク距離を画定し、前記対応するミクロピークが、前記ナノピーク距離の少なくとも１０倍のミクロピーク距離を画定する、請求項４～１３のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
15. ナノピーク間の最大ナノピーク距離が、１ナノメートル～１マイクロメートルの範囲である、請求項４～１４のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
16. 前記ナノピークが、少なくとも１つのマスキング要素を含む、請求項４～１５のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
17. 前記マスキング要素が、最大で１マイクロメートルの直径を有する、請求項１６に記載の複合冷却フィルム。
18. 前記ミクロピークが、高さ又は形状の少なくとも１つにおいて不均一である、請求項４～１７のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
19. 前記反射性微多孔層が、第１のフルオロポリマーを含み、３００～３０００ナノメートルの範囲の波長の過半にわたって電磁放射を拡散反射する、請求項１～１８のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
20. 前記複合冷却フィルムが、８～１３ミクロンの波長範囲にわたって少なくとも０．９の電磁放射の平均吸光度を有する、請求項１～１９のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
21. 前記外向き外向き防汚表面が、ミクロ構造化表面に重ねられたナノ構造化表面を有する、請求項１～２０のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
22. 前記ナノ構造が、イオンエッチングプロセスによって少なくとも部分的に形成されている、請求項１～２１のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
23. 前記防汚層が第２のフルオロポリマーを含む、請求項１～２２のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
24. 前記反射性微多孔層が、ミクロ空隙フィルムを含む、請求項１～２３のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
25. 前記ミクロ空隙フィルムが、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、及びフッ化ビニリデンを含むモノマーのコポリマーを含む、請求項１～２４のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
26. 前記ミクロ空隙ポリマーフィルムが、白色の無機粒子を更に含む、請求項１～２５のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
27. 前記ミクロ空隙ポリマーフィルムが、ポリマー粒子を更に含む、請求項１～２６のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
28. 前記ポリマー粒子が、芳香族ポリエステルを含む、請求項１～２７のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
29. 前記ミクロ空隙ポリマーフィルムの前記第１の主面とは反対側の第２の主面に固定された赤外線反射層を更に備え、前記赤外線反射層が、８～１３ミクロンの波長範囲にわたって少なくとも０．５の平均反射率を有する、請求項１～２８のいずれか一項に記載の複合冷却フィルム。
30. 基材に固定された、請求項１～２９のいずれか一項に記載の複合冷却フィルムを備え、前記防汚層が、前記反射性微多孔層よりも前記基材から遠くにある、物品。

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