JP2022530882A - エリブリンの中間体、その合成方法および使用 - Google Patents
エリブリンの中間体、その合成方法および使用 Download PDFInfo
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Abstract
本発明は、薬物合成分野に属し、具体的にエリブリンの中間体、その合成方法および使用に関する。本発明は、ハリコンドリンB、エリブリンまたはその類似体、特にそのC27-C35構造断片の合成に用いられる中間体、その製造方法および使用を提供する。本発明における合成経路の出発原料が安価で入手が容易で、その光学純度が保障されるため、ハリコンドリン、エリブリンまたはその類似体におけるC27-C35構造断片の光学純度が保障される。C27-C35構造断片のキラル中心を構築する方法では、高いジアステレオマー選択性および収率を有し、特に式(X)、式(XI)、式(XVI)および式(XV)で示す化合物の製造方法では、反応副生物の一部を再結晶するだけで除去でき、精製が容易でコストを大幅に低減できる。
Description
本出願は、2019年4月26日に中国国家知識産権局に出願され、出願番号が2019103461407であり、発明の名称が「エリブリンの中間体、その合成方法および使用」である先行出願の優先権を主張し、その全体は参照により本出願に組み込まれる。
[技術分野]
本発明は、薬物合成分野に属し、具体的にエリブリンの中間体、その合成方法および使用に関する。
本発明は、薬物合成分野に属し、具体的にエリブリンの中間体、その合成方法および使用に関する。
[背景技術]
ハリコンドリンB(HalichondrinB)は、スポンジ内に存在する複雑な構造を持つ天然物であり、強力な抗腫瘍効果と幅広い医学的展望がある。天然物由来のハリコンドリンBは、供給が限られており、研究開発の進捗も制限されている。
エリブリン(Eribulin)は、ハリコンドリンBを構造最適化した大環状ケトン類似体である。エリブリンメシレート注射剤は転移性乳癌の治療について米国FDAに承認されている。
ハリコンドリンB(HalichondrinB)は、スポンジ内に存在する複雑な構造を持つ天然物であり、強力な抗腫瘍効果と幅広い医学的展望がある。天然物由来のハリコンドリンBは、供給が限られており、研究開発の進捗も制限されている。
エリブリン(Eribulin)は、ハリコンドリンBを構造最適化した大環状ケトン類似体である。エリブリンメシレート注射剤は転移性乳癌の治療について米国FDAに承認されている。
エリブリンは、構造が複雑で、分子内に19個のキラル炭素原子を含んでおり、現在使用されている全合成経路は62ステップと長く、全合成プロセスにおける立体制御は技術的に困難であり、さらには、当業者に化学医薬品合成業界の「エベレスト」と呼ばれるものもある。
従来のエリブリンまたはその類似体の合成方法は多くの欠点がある。例えば、合成経路が長すぎ、出発物質の光学的純度を制御することが困難であり、中間体の精製が複雑であり、コストが高い。また、上記の合成方法に用いられるいくつかの反応の中には立体選択性が悪いという欠点があり、加えて、製品分子中のキラル炭素原子が多いことから、合成過程で性質の近い除去の困難な異性体が形成されやすく、製品の純度を保つ面で不利である。
従って、合成効率を改善し、立体選択性を向上させると共に精製操作がより簡便なエリブリン又はその類似体の中間体の合成方法の開発が急務である。
[発明の詳細な説明]
前述した課題を改善するために、本発明は、下式の(IX)で示す化合物を提供する。
前述した課題を改善するために、本発明は、下式の(IX)で示す化合物を提供する。
(そのうち、PG1、PG2は同一または異なって、互いに独立してヒドロキシ保護基から選ばれたものであり、そのキラル中心の絶対配置は(2R,3S)である。
本発明の実施形態によれば、前記ヒドロキシ保護基は、置換または非置換の、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環式、アシル、スルホニル、アルキルオキシカルボニル、アリールアルキルオキシカルボニル、無機酸からOH基を除去して得られる基、チオホスフィン、または、シリルから選ばれたものであってもよい。
本発明の実施形態によれば、PG1、PG2は同一または異なって、互いに独立して置換または非置換の、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環式、シリルから選ばれたものであってもよい。実例として、メトキシベンジル(PMB)、ベンジル(Bn)、トリフェニルメチル(Tr)、トリメチルシリル(TMS)、tert-ブチルジフェニルシリル(TBDPS)、tert-ブチルジメチルシリル(TBS)から選ばれたものであってもよい。
本発明は、さらに、D-2-デオキシリボース(I)を原料とし、酸化、ヒドロキシ保護、還元による開環、脱ヒドロキシル保護などの複数の反応を行って、式(IX)で示す化合物を得るステップを含む式(IX)の化合物の製造方法を提供する。
本発明の実施形態によれば、式(IX)で示す化合物は、D-2-デオキシリボース(I)を原料とし、下記の経路で製造される。
(そのうち、PG1、PG2は、前文に記載の定義を有し、PG3は独立して前文に記載のヒドロキシ保護基から選ばれたものであり、各Xは、同一または異なって、互いに独立してハロゲンから選ばれたものである。)
好ましくは、式(II)で示す化合物が式(I)で示す化合物から液体臭素による酸化反応を経って得られ、式(III)で示す化合物が式(II)化合物とTrXとをDMAP、ピリジンの作用で置換反応させて得られ、式(IV)で示す化合物が式(III)で示す化合物とPG3XとをDMAP、イミダゾールの作用で反応させて得られ、式(V)で示す化合物が式(IV)で示す化合物からBX3の作用でTrを低温で除去されて得られ、式(VI)で示す化合物が式(V)で示す化合物と
好ましくは、式(II)で示す化合物が式(I)で示す化合物から液体臭素による酸化反応を経って得られ、式(III)で示す化合物が式(II)化合物とTrXとをDMAP、ピリジンの作用で置換反応させて得られ、式(IV)で示す化合物が式(III)で示す化合物とPG3XとをDMAP、イミダゾールの作用で反応させて得られ、式(V)で示す化合物が式(IV)で示す化合物からBX3の作用でTrを低温で除去されて得られ、式(VI)で示す化合物が式(V)で示す化合物と
を反応させて得られ、式(VII)で示す化合物が式(VI)で示す化合物をボランジメチルスルフィドの作用下で還元開環させて得られ、式(VIII)で示す化合物が式(VII)で示す化合物とPG2Xとを、
を触媒とし、塩基およびヨウ化カリウムの作用で反応して得られ、式(IX)で示す化合物が式(VIII)で示す化合物からTBAFの作用下でPG3を脱離させて得られ、そのうち、PG1、PG2、PG3、Xは、前文に記載の定義を有する。
本発明の実施形態によれば、前記の塩基は、有機塩基または無機塩基から選ばれ、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アルキルリチウム、メトキシドナトリウム、エトキシドナトリウム、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミンから選ばれた1種、2種またはそれより多い種である。Xは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素から選ばれたものであり、例えば、ヨウ素、臭素から選択られる。市販のD-2-デオキシリボース(I)の低価格、および光学純度が100%に達することができることを考慮して、本発明の実施形態によれば、式(IX)の化合物は、光学純度が99.9%以上に達することが可能である。
本発明は、さらに、式(IX)の化合物を原料とし、
(1)式(IX)で示す化合物と
(1)式(IX)で示す化合物と
を反応して式(IXa)で示す化合物を得るステップ、
(2)式(IXa)で示す化合物と酸ハライド
(2)式(IXa)で示す化合物と酸ハライド
またはハロゲン化シランR3
3SiXとを反応させて、式(IXb-1)で示す化合物および/または式(IXb-2)で示す化合物を得るステップ、および、
(3)式(IXb-1)で示す化合物および/または式(IXb-2)で示す化合物を、塩基性条件でアルコール分解し、さらに分子内SN2閉環反応を行って、式(X)で示す化合物を得るステップ、
を含む、式(X)の化合物の製造方法を提供する。
(3)式(IXb-1)で示す化合物および/または式(IXb-2)で示す化合物を、塩基性条件でアルコール分解し、さらに分子内SN2閉環反応を行って、式(X)で示す化合物を得るステップ、
を含む、式(X)の化合物の製造方法を提供する。
(そのうち、PG1、PG2および各Xは、独立して前文に記載の定義を有し、R1、R2、R3は、同一または異なって、互いに独立してH、アルキル、またはアリールから選ばれたものであり、R6はアルキルから選ばれたものである。)
本発明の実施形態によれば、ステップ(1)において、反応は、触媒、好ましくが酸性触媒の存在で行い、前記酸性触媒は、エステル交換に適した酸性触媒から選択され、例えば、ピリジンp-トルエンスルホン酸(PPTs)またはプロトン酸(例えば、硫酸、リン酸、塩化水素)から選択された1種、2種またはそれより多い種であってもよい。
本発明の実施形態によれば、ステップ(1)において、反応は、触媒、好ましくが酸性触媒の存在で行い、前記酸性触媒は、エステル交換に適した酸性触媒から選択され、例えば、ピリジンp-トルエンスルホン酸(PPTs)またはプロトン酸(例えば、硫酸、リン酸、塩化水素)から選択された1種、2種またはそれより多い種であってもよい。
は、例えば、オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル、オルト酢酸トリメチル、オルト酢酸トリエチル、オルト安息香酸トリメチル、オルト安息香酸トリエチルなどのオルトエステル系化合物から選ばれたいずれの1種から選ばれたものであってもよい。
反応温度は10℃~40℃、例えば、20℃~30℃であってもよく、反応時間は、0.5~2h、例えば、1hであってもよい。
式(IX)化合物と
のモル比は1:(1~5)、例えば、1:(1~3)、例えば、1:(1.2~1.8)、例えば1:1.5であってもよく、触媒が存在する場合、式(IX)化合物と触媒とのモル比は、1:(0.01~0.2)、例えば1:(0.01~0.1)、例えば1:0.05であってもよい。
ステップ(2)において、反応温度は10℃~40℃、例えば20℃~30℃であってもよく、反応時間は0.1~2h、例えば0.5hであってもよい。
式(IXa)の化合物と酸ハライド
またはハロゲン化シランR3
3SiXとのモル比は1:(1~5)、例えば1:(1~3)、例えば1:(1.2~1.8)、例えば1:1.5であってもよい。
ステップ(3)において、反応は塩基の存在で行ってもよく、反応温度は10℃~40℃、例えば20℃~30℃であってもよく、反応時間は5~15 h、例えば8~12hであってもよい。
式(IXb-1)で示す化合物および/または式(IXb-2)で示す化合物と前記塩基とのモル比が1:(1~10)、例えば1:(1~5)、例えば1:(1.5~2.5)、例えば1:2であってもよい。
本発明の実施形態によれば、ステップ(3)は溶媒中に行ってもよく、前記溶媒は、例えば、アルコール系溶媒(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール)、水またはそれらの混合物であってもよく、例えば、式(IX)で示す化合物と前記溶媒との重量体積比は1g:(1~20)mL、例えば1g:10mLであってもよい。
前記製造方法では、式(IX)の化合物から式(X)の化合物への転化において、2つのキラル中心の絶対配置が変化しないことを確保し、それによって式(X)の化合物の光学純度と式(IX)の化合物の光学純度との相関が確保される。すなわち、高純度の式(IX)の化合物を原料として得られる式(X)の化合物も相応の高純度を有する。
本発明は、さらに下記の式(XI)の化合物を提供する。
(そのうち、PG1、PG2は、前文に記載の定義を有し、R7は水素または末端アルキニル保護基である。保護基は、トリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル)、tert-ブチルジフェニルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリルなどのシリル基から選ばれたものであってもよい。)
式(XI)の化合物の製造方法では、式(X)化合物とR7-C≡CHを、アルキルリチウムまたはアルキルグリニャール試薬などの強塩基の存在で反応させて、式(XI)で示す化合物を得ることを含む。
式(XI)の化合物の製造方法では、式(X)化合物とR7-C≡CHを、アルキルリチウムまたはアルキルグリニャール試薬などの強塩基の存在で反応させて、式(XI)で示す化合物を得ることを含む。
(そのうち、PG1、PG2、R7は、前文に記載の定義を有する。)
本発明の実施形態によれば、前記反応は、触媒の存在で行ってもよい。例えば、前記触媒は、ルイス酸、例えば、三フッ化ホウ素またはその錯体、例えば、三フッ化ホウ素または三フッ化ホウ素メタノール錯体、三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素アセトニトリル錯体、三フッ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体、三フッ化ホウ素エチルアミン錯体から選ばれた1種、2種またはそれより多い種類であってもよい。
本発明の実施形態によれば、前記反応は、触媒の存在で行ってもよい。例えば、前記触媒は、ルイス酸、例えば、三フッ化ホウ素またはその錯体、例えば、三フッ化ホウ素または三フッ化ホウ素メタノール錯体、三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素アセトニトリル錯体、三フッ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体、三フッ化ホウ素エチルアミン錯体から選ばれた1種、2種またはそれより多い種類であってもよい。
本発明の実施形態によれば、前記式(X)の化合物とR7-C≡CHとのモル比は1:(1~10)、例えば1:(1~5)、例えば1:(1.5~3)、例えば1:2であってもよく、前記式(X)の化合物とアルキルリチウムとのモル比は1:(1~10)、例えば1:(1~5)、例えば1:(1.5~3)、例えば1:2であってもよく、前記式(X)の化合物と触媒とのモル比は1:(1~10)、例えば1:(1~5)、例えば1:(1.5~3)、例えば1:2であってもよい。
本実施形態によれば、前記強塩基は、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、n-ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、ペンチルリチウム、ヘキシルリチウムなどのアルキルリチウムから選ばれた1種、2種またはそれより多い種類であってもよく、または、アルキルグリニャール試薬、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n-プロピル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、へキシル、フェニルなどのグリニャール試薬の1種、2種またはそれより多い種類であってもよく、そのうち、グリニャール試薬に含まれるハロゲンは、塩素、臭素、またはヨウ素であってもよい。
本発明の実施形態によれば、前記反応は、有機溶媒の存在で行ってもよい。前記有機溶媒は不活性有機溶媒であってもよく、反応条件下で不活性な有機溶媒、特に原材料や製品と化学的に反応しない有機溶媒から選択してもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素化合物系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、または、N、N-ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N-メチルピロリドン(NMP)、アセトニトリルまたはピリジンなどのその他の溶媒、または、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル溶媒などから選ばれた1種、2種または複数種の混合物であってもよい。本発明の実施形態によれば、反応温度は-80℃~0℃、例えば、-60℃~-30℃であってもよく、反応時間は0.5~5h、例えば、1~3hであってもよい。
本発明の実施形態によれば、前記式(XI)の化合物の製造方法において、製品は、さらに下記の式(XIa)の化合物を含む。
本発明の実施形態によれば、前記式(XI)の化合物の製造方法で得られた製品において、式(XIa)の化合物を除き、式(XI)化合物の他の異性体の含有量≦0.1%である。
本発明の1つの実施形態によれば、前記式(XI)の化合物の製造方法において、さらにクロマトグラフィー(カラムクロマトグラフィーなど)でXIとXIaの化合物を分離するステップを含む。
例示的な実施形態によれば、前記カラムクロマトグラフィーの充填媒体はシリカゲルであってもよく、前記カラムクロマトグラフィーの溶離液は、石油エーテルと酢酸エチルの混合物であってもよく、前記混合物の体積比は(5~20):1、例えば、10:1であってもよい。好ましくは、クロマトグラフィーで分離した後、前記式(XI)の化合物の製造方法で得られた製品中の式(XIa)の化合物の含有量≦0.1%である。
本発明は、さらに下記の式(XI)、(XII)、(XIII)、(XIV)、(XV)または(XVI)で示す化合物を提供する。
(そのうち、PG1、PG2、R7は、前文に記載の定義を有し、PG4、PG5は同一または異なって、互いに独立して前文に記載のヒドロキシ保護基から選ばれたものであり、
ただし、PG4およびPG5のいずれも、PG1またはPG2のいずれとも同一ではなく、かつ、PG1およびPG2は、PG4およびPG5を除去する条件下で反応しない。)
本発明の実施形態によれば、PG4、PG5は同一または異なって、互いに独立してシリルから選ばれたものであり、例えば、PG4、PG5は、同一または異なって、互いに独立してトリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル)、tert-ブチルジフェニルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリルから選ばれたものであり、PG1およびPG2は、同一または異なって、互いに独立してアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環基、テトラヒドロピラニル、アシル、スルホニル、アルキルオキシカルボニル、アリールアルキルオキシカルボニル、無機酸からOH基を除去して得られる基、チオホスフィン基などのシリル基以外のヒドロキシル保護基から選ばれたものである。)
本発明は、さらに、式(XIII)の化合物と式(XIV)の化合物とを、エポキシ開環反応させて式(XV)で示す化合物を得、そして式(XV)で示す化合物を、PG4とPG5を脱離する条件で反応させて式(XVI)の化合物を得るステップを含む下記の式(XVI)の化合物の製造方法を提供する。
ただし、PG4およびPG5のいずれも、PG1またはPG2のいずれとも同一ではなく、かつ、PG1およびPG2は、PG4およびPG5を除去する条件下で反応しない。)
本発明の実施形態によれば、PG4、PG5は同一または異なって、互いに独立してシリルから選ばれたものであり、例えば、PG4、PG5は、同一または異なって、互いに独立してトリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル)、tert-ブチルジフェニルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリルから選ばれたものであり、PG1およびPG2は、同一または異なって、互いに独立してアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素環基、テトラヒドロピラニル、アシル、スルホニル、アルキルオキシカルボニル、アリールアルキルオキシカルボニル、無機酸からOH基を除去して得られる基、チオホスフィン基などのシリル基以外のヒドロキシル保護基から選ばれたものである。)
本発明は、さらに、式(XIII)の化合物と式(XIV)の化合物とを、エポキシ開環反応させて式(XV)で示す化合物を得、そして式(XV)で示す化合物を、PG4とPG5を脱離する条件で反応させて式(XVI)の化合物を得るステップを含む下記の式(XVI)の化合物の製造方法を提供する。
(そのうち、PG1、PG2、PG4、PG5は、前文に記載の定義を有する。)
好ましくは、前記式(XIII)の化合物と式(XIV)の化合物との反応がn-ブチルリチウムとBF3Et2Oの存在で行う。
好ましくは、前記式(XIII)の化合物と式(XIV)の化合物との反応がn-ブチルリチウムとBF3Et2Oの存在で行う。
本発明の例示的な実施形態によれば、前記PG4とPG5を脱離する条件として、本分野で周知のこのようなヒドロキシ保護基を脱離する条件で行い、例えば、シリルの脱離は、酸性条件(例えば、HClを含有する有機溶媒システム、酢酸とテトラヒドロフランのシステム、トリフルオロ酢酸、フッ化水素およびピリジンのシステム、フッ化カリウムとアセトニトリルのシステムなど)またはフッ化アンモニウム系化合物(例えば、フッ化テトラメチルアンモニウム、フッ化テトラエチルアンモニウム、フッ化テトラブチルアンモニウム)の存在で行う。
本発明の好ましい実施形態によれば、使用される式(XIV)の化合物のエナンチオマーの純度が99.9%未満である場合、式(XVI)化合物の粗体を得った後、含有されている下記の式(XVIa)の化合物の含有量≦0.1%になるように、再結晶することによって精製させる。
本発明の実施形態によれば、前記再結晶の作業は、式(XVIa)の化合物を含有する式(XVI)の化合物の粗体を良溶媒に溶け、加熱させて溶けた後貧溶媒を添加し、冷却して、精製した式(XVI)の化合物を得ることを含む。
本発明の例示的な実施形態によれば、前記良溶媒は、メタノール、イソプロパノール、エタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、メチルtert-ブチルエーテル、イソプロピルエーテル、クロロホルム、アセトン、ジオキサンのいずれであってもよく、前記貧溶媒は、石油エーテル、n-オクタン、シクロヘキサン、n-ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエンのいずれであってもよく、前記式(XVI)の化合物の粗体と良溶媒と貧溶媒との重量体積比は、1g:(1~5)mL:(1~5)mL、例えば1g:(1~2)mL:(1~2)mLであってもよく、必要に応じて、前記再結晶の作業は、複数回、例えば、1~3回繰り返してもよい。
本発明の例示的な実施形態によれば、式(XIII)で示す化合物は、下記のステップの1つまたは複数のステップで製造することができる。
(そのうち、PG1、PG2、PG5、R7は、前文に記載の定義を有し、LはOTS,OMS、OTf、Cl、Br、Iなどの脱離基である。)
本発明は、さらに下記の式(XIX)で示す化合物およびその製造方法を提供する。
本発明は、さらに下記の式(XIX)で示す化合物およびその製造方法を提供する。
(そのうち、PG1、PG2は、前文に記載の定義を有し、PG6は、独立して置換または非置換の芳香族アシル基、例えば、置換または非置換のベンゾイル、ナフトイルから選ばれたものである。PG7はo-ジヒドロキシ保護基である。好ましくは、前記o-ジヒドロキシ保護基がこれと結合している酸素と環状アセタールおよびケタール、シクロシリレン誘導体、環状カーボネートおよび環状ボレートを形成する。アセタールとは-CHR-であり、ケタールとは-CR2-であり、環状カーボネートとは-OC(O)O-であり、環状ボレートとはOBRO-であり、そのうち、RはH、アルキル、アルケニル、アリール、または、アラルキルである。)
本発明の実施形態によれば、前記o-ジヒドロキシ保護基は、置換または非置換のアルキレン、シクロアルキレン、シリレン、アシルから選ばれたものであってもよい。例えば、置換または非置換のメチレン、エチレン、イソプロピリデン、シクロヘキシレン、シクロペンチレン、フェニルメチレン、ジフェニルメチレン、p-メトキシフェニルメチレン、2,4,6-トリメチルフェニルメチレン、ジ-tert-ブチルシリレン、1,1,3,3-テトライソプロピルシロキサン、カルボニルであってもよい。
本発明の実施形態によれば、前記o-ジヒドロキシ保護基は、置換または非置換のアルキレン、シクロアルキレン、シリレン、アシルから選ばれたものであってもよい。例えば、置換または非置換のメチレン、エチレン、イソプロピリデン、シクロヘキシレン、シクロペンチレン、フェニルメチレン、ジフェニルメチレン、p-メトキシフェニルメチレン、2,4,6-トリメチルフェニルメチレン、ジ-tert-ブチルシリレン、1,1,3,3-テトライソプロピルシロキサン、カルボニルであってもよい。
本発明の1つの実施形態によれば、式(XIX)で示す化合物は、下記のステップで製造することができる。
(そのうち、PG1、PG2、PG6は、前文に記載の定義を有し、PG7は、置換または非置換のアルキレン、例えば、ジアルキル置換メチレン、例えば、ジエチル置換メチレンから選ばれたものである。)
好ましくは、式(XVI)の化合物と
好ましくは、式(XVI)の化合物と
とをスカンジウムトリフラートの作用で反応して式(XVII)の化合物を得、式(XVIII)の化合物は、式(XVII)の化合物からLindlar触媒の作用で水素化還元して得られ、式(XIX)の化合物は、式(XVIII)化合物とPG6XをDMAP、ピリジンの作用で反応して得られ、そのうち、PG6、PG7、Xは、前文に記載の定義を有する。
本発明は、さらに式(XX)の化合物を提供する。
(そのうち、PG1、PG2、PG6、PG7は、前文に記載の定義を有する。)
本発明は、さらに、式(XIX)の化合物が酸化剤の作用でビスヒドロキシオキサイド反応を行って式(XX)化合物を得ることを含む式(XX)の化合物の製造方法を提供する。
本発明は、さらに、式(XIX)の化合物が酸化剤の作用でビスヒドロキシオキサイド反応を行って式(XX)化合物を得ることを含む式(XX)の化合物の製造方法を提供する。
(そのうち、PG1、PG2、PG6、PG7は、前文に記載の定義を有する。)
本発明の実施形態によれば、前記酸化剤は、過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウム、過酸化水素、フェリシアン化カリウム、N-メチル-N-オキシモルホリン(NMO)から選ばれた1種または複数種であってもよい。本発明の実施形態によれば、前記反応は、必要に応じて共酸化剤を加えることができ、前記共酸化剤は、四酸化オスミウム、オスミウム酸カリウムのいずれの1種であってもよい。本発明の実施形態によれば、前記反応は、塩基の触媒作用で行ってもよく、前記塩基は、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、トリエチルアミン、N、N-ジイソプロピルエチルアミンから選ばれた1種または複数種であってもよい。本発明の実施形態によれば、前記式(XIX)化合物と酸化剤とのモル比は1:(1~5)であり、好ましくは1:(1~3)であり、前記式(XIX)の化合物と前記共酸化剤とのモル比が1:(0.005~0.15)であり、好ましくは1:(0.005~0.1)であり、前記式(XIX)の化合物と前記塩基とのモル比が1:(0.4~2)であり、好ましくは1:(0.5~1.5)である。本発明の実施形態によれば、前記反応は、混合溶媒に行ってもよく、前記混合溶媒は有機溶媒と水との混合物、例えば、tert-ブタノール/水、アセトン/水、アセトニトリル/水から選ばれたものであってもよく、前記混合溶媒において、有機溶媒と水との体積比は、(1:5)~(5:1)、例えば、(2~2.5):(2.5~2)であってもよく、本発明の実施形態によれば、前記式(XIX)の化合物の重量と混合溶媒の合計体積との比は、1g:(2~50mL)、例えば、1g:4mL、1g : 22.2mLであってもよく、本発明の実施形態によれば、前記反応温度は-10℃~50℃であり、例えば、35℃~45℃であってもよく、反応時間は10~60h、例えば、24hであってもよい。
本発明の実施形態によれば、前記酸化剤は、過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウム、過酸化水素、フェリシアン化カリウム、N-メチル-N-オキシモルホリン(NMO)から選ばれた1種または複数種であってもよい。本発明の実施形態によれば、前記反応は、必要に応じて共酸化剤を加えることができ、前記共酸化剤は、四酸化オスミウム、オスミウム酸カリウムのいずれの1種であってもよい。本発明の実施形態によれば、前記反応は、塩基の触媒作用で行ってもよく、前記塩基は、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、トリエチルアミン、N、N-ジイソプロピルエチルアミンから選ばれた1種または複数種であってもよい。本発明の実施形態によれば、前記式(XIX)化合物と酸化剤とのモル比は1:(1~5)であり、好ましくは1:(1~3)であり、前記式(XIX)の化合物と前記共酸化剤とのモル比が1:(0.005~0.15)であり、好ましくは1:(0.005~0.1)であり、前記式(XIX)の化合物と前記塩基とのモル比が1:(0.4~2)であり、好ましくは1:(0.5~1.5)である。本発明の実施形態によれば、前記反応は、混合溶媒に行ってもよく、前記混合溶媒は有機溶媒と水との混合物、例えば、tert-ブタノール/水、アセトン/水、アセトニトリル/水から選ばれたものであってもよく、前記混合溶媒において、有機溶媒と水との体積比は、(1:5)~(5:1)、例えば、(2~2.5):(2.5~2)であってもよく、本発明の実施形態によれば、前記式(XIX)の化合物の重量と混合溶媒の合計体積との比は、1g:(2~50mL)、例えば、1g:4mL、1g : 22.2mLであってもよく、本発明の実施形態によれば、前記反応温度は-10℃~50℃であり、例えば、35℃~45℃であってもよく、反応時間は10~60h、例えば、24hであってもよい。
本発明の好ましい実施形態によれば、従来技術と異なるPG6を採用すること、および、反応時間、反応温度、反応溶媒の最適化により、反応の立体選択性を大幅向上した。前記反応で得られた生成物において、目的生成物である式(XX)の化合物の含有量は、95%より高くなり、副生成物である式(XXa)の化合物の含有量は、5%未満である。一方、従来技術(PG6がアセチルである場合)を利用する場合、目的生成物である式(XX)の化合物の含有量は、85%未満である。本発明に係る技術は、生成物における副生成物の割合を著しく減少し、かつ、式(XX)の化合物およびその後続の誘導体生成物、例えば式(XXIIIa)で示す化合物の分離困難度を著しく減少した。
本発明は、さらに前記の式(IX)、式(X)、式(XI)、式(XVI)、式(XX)化合物の製造方法の1種、2種またはそれより多い種類を含む下記の式(XXIII)化合物の製造方法を提供する。
(そのうち、PG1、PG2、PG7は、前記に記載の定義を有する。)
好ましくは、前記式(XXIII)の化合物の製造方法は、さらにカラムクロマトグラフィーで分離して得られた製品を含む。好ましくは、前記の式(XXIII)の化合物の製造方法において、カラムクロマトグラフィーで分離して得られた製品において、下式で示す化合物(XXIIIa)の含有量≦0.1%である。
好ましくは、前記式(XXIII)の化合物の製造方法は、さらにカラムクロマトグラフィーで分離して得られた製品を含む。好ましくは、前記の式(XXIII)の化合物の製造方法において、カラムクロマトグラフィーで分離して得られた製品において、下式で示す化合物(XXIIIa)の含有量≦0.1%である。
(そのうち、PG1、PG2、PG7は、前記に記載の定義を有する。)
実例として、本発明は、さらに、下記のステップの少なくとも1つを含む下記の式23の化合物の製造方法を提供する。
実例として、本発明は、さらに、下記のステップの少なくとも1つを含む下記の式23の化合物の製造方法を提供する。
好ましくは、式2で示す化合物が式1の化合物を液体臭素で酸化する反応により得られ、式3の化合物が式2の化合物とTrXとをDMAP、ピリジンの作用で置換反応して得られ、式4の化合物が式3の化合物とTBDPSXとをDMAP、イミダゾールの作用で反応して得られ、式5の化合物が式4の化合物からBX3の作用で低温でTrを脱離して得られ、式6の化合物が式5の化合物と
とを反応して得られ、式7の化合物が式6の化合物をボランジメチルスルフィドの存在下に開環して得られ、式8の化合物が式7化合物とBnX、
とを、塩基およびヨウ化カリウムの作用で反応して得られ、式9の化合物が、式8の化合物からTBAFの作用でTBDPSを脱離して得られ、式13の化合物と式14化合物との反応がn-ブチルリチウムとBF3Et2Oの存在下に行われ、式16の化合物とペンタノン、
とをスカンジウムトリフラートの作用で反応して式17の化合物を得られ、式18の化合物が式17の化合物をLindlar触媒の作用で水素化還元して得られ、式19の化合物が式18の化合物とBzXとをDMAP、ピリジンの作用で反応して得られ、式21の化合物が式20の化合物とMsXをDMAP、塩基の作用で反応して得られ、式22の化合物が式21の化合物を塩基の作用で閉環反応して得られ、式23の化合物が式22の化合物をアルキルグリニャール試薬の作用でMs保護基を脱離して得られ、そのうち、各Xは同一または異なって、互いに独立してハロゲンから選ばれたものである。
本発明は、さらに前記の式(I)~(XXIII)のいずれの化合物、および/または前記の1種または複数種の製造方法を使用することを含む、エリブリン、その類似物またはそれらのC27-C35部分の製造方法を提供する。
本発明は、さらに前記の式(I)~(XIII)のいずれの化合物の、エリブリン、その類似物、またはそれらのC27-C35部分への使用を提供する。
〔用語および定義〕
特に明記しない限り、本明細書および請求の範囲に記載の基および技術用語に関する定義は、例としての定義、例示的な定義、好ましい定義、表に記載された定義、実施形態における特定の化合物の定義などを含み、互いに任意に組み合わせ、結合することができる。このような組み合わせと結合した基の定義および化合物構造は、本願明細書に記載の範囲内に属するものとする。
特に明記しない限り、本明細書および請求の範囲に記載の基および技術用語に関する定義は、例としての定義、例示的な定義、好ましい定義、表に記載された定義、実施形態における特定の化合物の定義などを含み、互いに任意に組み合わせ、結合することができる。このような組み合わせと結合した基の定義および化合物構造は、本願明細書に記載の範囲内に属するものとする。
特に明記しない限り、本明細書および請求の範囲に記載の数値範囲は、少なくともそのうちのそれぞれの具体的な整数の数値を記載したものに相当する。例えば、「1-40」という数値範囲は、少なくとも「1-10」という数値範囲における各整数の数値、すなわち、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、および、「11-40」という数値範囲における各整数の数値、すなわち、11、12、13、14、15、…、35、36、37、38、39、40を記載したと理解すべきである。可能な場合、ある数値範囲が「数」として定義されるとき、その範囲の両端、その範囲内の各整数、およびその範囲内の各小数が記載されることが理解されるべきである。例えば、「0~10の数」は、0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10の各整数だけでなく、少なくとも、各整数がそれぞれ独立に0.1、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、または0.9と加算してなる数も記載されていると理解されるべきである。1つ、2つ、またはそれ以上を本明細書で説明する場合、「それ以上」は、3以上の整数、例えば、3、4、5、6、7、8、9、または10を指すことを理解されたい。
「アルキル」という用語は、好ましくは1~40個の炭素原子を有する直鎖または分枝状の飽和一価炭化水素基を意味し、好ましくはC1~10アルキル基を意味すると理解されるべきである。「C1-10アルキル」は、好ましくは1、2、3、4、5、6、7、8、9または10個の炭素原子を有する直鎖または分枝状の飽和一価炭化水素基を意味すると理解されるべきである。前記アルキルは、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、イソプロピル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、イソペンチル、2-メチルブチル、1-メチルブチル、1-エチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、ネオペンチル、1,1-ジメチルプロピル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチルペンチル、2-エチルブチル、1-エチルブチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、または、それらの異性体である。特に、前記基は、1、2、3、4、5、6個の炭素原子(「C1-6アルキル」)、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチルであり、より特に、前記基は、1、2または3個の炭素原子(「C1-3アルキル」)、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、または、イソプロビルである。
「アルケニル」という用語は、好ましくは1つまたは複数の二重結合を含み、かつ2~40個の炭素原子を有する直鎖または分枝状の一価炭化水素基を意味すると理解されるべきであり、好ましくが「C2-6アルケニル」である。「C2-6アルケニル」は、好ましくは1つまたは複数の二重結合を含み、かつ2、3、4、5または6個の炭素原子、特に2個または3個の炭素原子(「C2-3アルケニル」)を有する直鎖または分枝状の一価炭化水素基を意味すると理解されるべきである。前記アルケニルが2つ以上の二重結合を含む場合、前記二重結合は、互いに分離または共役していってもよいと理解されたい。前記アルケニルは、例えば、ビニル、アリル、(E)-2-メチルビニル、(Z)-2-メチルビニル、(E)-ブタ-2-エニル、(Z)-ブタ-2-エニル、(E)-ブタ-1-エニル、(Z)-ブタ-1-エニル、ペント-4-エニル、(E)-ペント-3-エニル、(Z)-ペント-3-エニル、(E)-ペント-2-エニル、(Z)-ペント-2-エニル、(E)-ペント-1-エニル、(Z)-ペント-1-エニル、ヘキサ-5-エニル、(E)-ヘキサ-4-エニル、(Z)-ヘキサ-4-エニル、(E)-ヘキサ-3-エニル、(Z)-ヘキサ-3-エニル、(E)-ヘキサ-2-エニル、(Z)-ヘキサ-2-エニル、(E)-ヘキサ-1-エニル、(Z)-ヘキサ-1-エニル、イソプロペニル、2-メチルプロパ-2-エニル、1-メチルプロパ-2-エニル、2-メチルプロパ-1-エニル、(E)-1-メチルプロパ-1-エニル、(Z)-1-メチルプロパ-1-エニル、3-メチルブタ-3-エニル、2-メチルブタ-3-エニル、1-メチルブタ-3-エニル、3-メチルブタ-2-エニル、(E)-2-メチルブタ-2-エニル、(Z)-2-メチルブタ-2-エニル、(E)-1-メチルブタ-2-エニル、(Z)-1-メチルブタ-2-エニル、(E)-3-メチルブタ-1-エニル、(Z)-3-メチルブタ-1-エニル、(E)-2-メチルブタ-1-エニル、(Z)-2-メチルブタ-1-エニル、(E)-1-メチルブタ-1-エニル、(Z)-1-メチルブタ-1-エニル、1,1-ジメチルプロパ-2-エニル、1-エチルプロパ-1-エニル、1-プロビルビニル、1-イソプロピルビニルがある。
「シクロアルキル」という用語は、好ましくは3~40個の炭素原子を有する飽和または不飽和の一価単環、二環式炭化水素環又は橋かけ環式炭化水素環を意味すると理解されるべきであり、好ましくが「C3-10シクロアルキル」である。「C3-10シクロアルキル」という用語は、3、4、5、6、7、8、9または10個の炭素原子を有する飽和の一価単環、二環式炭化水素環又は橋かけ環式炭化水素環を意味すると理解されるべきである。前記C3-10シクロアルキルは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロデシルなどの単環式炭化水素基、またはデカリン環などの二環式炭化水素基であってもよい。
「複素環基」という用語は、好ましくは、N、OおよびSから独立して選択される1~5個のヘテロ原子を有し、総環形成原子数が3~20個(例えば、原子数が3、4、5、6、7、8、9、10などである)である非芳香族環式基を含む飽和または不飽和一価単環、二環式炭化水素環又は橋かけ環式炭化水素環を意味すると理解されるべきであり、好ましくは「3~10員の複素環式基」である。「3~10員の複素環基」という用語は、N、OおよびSから選ばれた1-5個、好ましくが1-3個のヘテロ原子を含む飽和の一価単環、二環式炭化水素環又は橋かけ環式炭化水素環を意味すると理解されるべきである。前記複素環基は、前記炭素原子におけるいずれまたは窒素原子(存在する場合)によって分子の他の部分と連結してもよい。特に、前記複素環基は、アゼチジニル、オキセタニルなどの4員環、テトラヒドロフラン、ジオキソラニル、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピロリニルなどの5員環、または、テトラヒドロピラニル、ピペリジニル、モルホリニル、ジチアアルキル、チオモルホリニル、ピペラジニルまたはトリチアアルキルなどの6員環、または、ジアザシクロヘプタニルなどの7員環を含むが、これらに限定されない。任意的に、前記複素環基は、ベンゾ縮合複素芳香環であってもよい。前記複素環基は、二環式芳香族複素環であってもよく、例えば、ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール-2(1H)-イル環等の5,5員環、またはヘキサヒドロピロロ[1,2-a]ピラジン-2(1H)-イル環等の5,6員環の二環があるが、これらに限定されない。窒素原子を含む環は、部分的に不飽和であってもよく、すなわち、1つまたは2つの二重結合を含んでもよく、例えば、2、5-ジヒドロ-1H-ピロリル、4H-[1、3、4]チアジアジニル、4、5-ジヒドロオキサゾリル、もしくは4H-[1,4]チアジニル基などがあるがこれらに限定されず、また、ベンゾ縮合しているものであってもよく、例えば、ジヒドロイソキノリニルがあるがこれらに限定されない。本発明によれば、前記複素環基は芳香族性を有しない。
「アリール」という用語は、好ましくは、6~20個の炭素原子を有する一価芳香族性または部分芳香族性を有する単環式、二環式または三環式炭化水素環を意味すると理解されるべきであり、好ましくは、「C6-14アリール」である。「C6-14アリール」という用語は、好ましくは、6、7、8、9、10、11、12、13または14個の炭素原子を有する一価芳香族性または部分芳香族性を有する単環式、二環式または三環式炭化水素環(「C6-14アリール」)、特に6個の炭素原子を有する環(「C6アリール」)、例えば、フェニル、または、ビフェニルがあり、または、9個の炭素原子を有する環(「C9アリール」)、例えば、インダニルまたはインデニルがあり、または、10個の炭素原子を有する環(「C10アリール」)、例えば、テトラヒドロナフチル、ジヒドロナフチル、またはナフチルがあり、または、13個の炭素原子を有する環(「C13アリール」)、例えば、フルオレニルがあり、または14個の炭素原子を有する環(「C14アリール」)、例えば、アントリルがある。前記C6-20アリールが置換される場合、一置換でも多置換でもよい。また、置換位は、制限がなく、例えば、オルト位、パラ位又はメタ位に置換されてもよい。
「ヘテロアリール」という用語は、好ましくは5~20個の環形成原子を含み、かつ、独立してN、OおよびSから選ばれた1-5個のヘテロ原子を含む一価の単環式、二環式または三環式芳香族環系を含むと理解されるべきであり、例えば「5-14員ヘテロアリール」がある。「5-14員ヘテロアリール」という用語は、5、6、7、8、9、10、11、12、13または14個の環原子を有し、特に5、6、9または10個の炭素原子を有し、かつ、独立してN、OおよびSから選ばれた1-5個、好ましく1-3個のヘテロ原子を含み、かついずれの場合でもベンゾ縮合しているものであってもよい一価の単環式、二環式または三環式芳香族環系を含むと理解されるべきである。特に、ヘテロアリールは、チエニル、フリル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソキサゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、チオ-4H-ピラゾリルなど、およびそれらのベンゾ誘導体、例えばベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンゾオキサゾリル、ベンズイソキサゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾトリアゾリル、インダゾリル、インドリル、イソインドリルなど、または、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルなど、およびそれらのベンゾ誘導体、例えば、キノリニル、キナゾリニル、イソキノリニルなど、または、アゼピニル、インジノアジニル、プリニルなどおよびそれらのベンゾ誘導体、または、シノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、ナフチリジニル、プテリジニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェナジニル、フェノチアジニル、フェノキサジニルなどから選ばれたものである。前記5~20員ヘテロアリールが他の基に結合して本発明の化合物を形成する場合、5~20員ヘテロアリール環の炭素原子は、他の基に結合していてもよく、5~20員ヘテロアリール環のヘテロ原子は、他の基に結合していてもよい。前記5~20員ヘテロアリールが置換される場合、それは一置換または多置換され得る。また、置換位に制限はなく、例えば、ヘテロアリール環の炭素原子に結合している水素が置換されたり、ヘテロアリール環のヘテロ原子に結合している水素が置換されたりすることができる。
特に明記しない限り、複素環基、ヘテロアリールまたはヘテロアリーレンは、例えばその位置異性体などのすべての異性体を含む。したがって、いくつかの例示的な非限定的な例について,その1-、2-、3-、4-、5-、6-、7-、8-、9-、10-、11-、12-位など(存在する場合)の1つ、2つ、またはより多い位置で置換または他の基と結合する形式を含み、ピリジン-2-イル、ピリジレン-2-イル、ピリジン-3-イル、ピリジレン-3-イル、ピリジン-4-イルおよびピリジレン-4-イル、チオフェン-2-イル、チエニレン-2-イル、チオフェン-3-イルおよびチエニレン-3-イルなどのチエニルまたはチエニレン、ピラゾール-1-イル、ピラゾール-3-イル、ピラゾール-4-イル、ピラゾール-5-イルを含む。
前記のアルキル、アルケニル、シクロアルキル、複素環基、アリール、ヘテロアリールは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ(置換または非置換のアミノ、例えば、-N(C1-6アルキル)2、-NHC1-6アルキル)、ニトロ、シアノ、カルボキシル、アジド、アルキル、アルコキシ、シクロアルキル、アシル、アリール、ヘテロアリールなどの基で置換されてもよい。
「ハロゲン」という用語は、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を意味する。
特に明記しない限り、本出願における用語の定義は、当該用語を含む基にも適用でき、例えば、C1-6アルキルの定義は、C1-6アルキルオキシ、-N(C1-6アルキル)2、-NHC1-6アルキルまたは-S(O)2-C1-6アルキルなどにも適用する。
本発明における「ヒドロキシ保護基」は、合成プロセスに導入されたヒドロキシを保護する基を指し、その目的は、反応条件下でヒドロキシの望ましくない化学反応を回避することである。また、ヒドロキシを回復するために、当該ヒドロキシ保護基は、後続の合成ステップで除去される。例示的なヒドロキシ保護基として、下記の基があるがこれらに限定されない。
置換または非置換のアルキル、例えば、メチル、tert-ブチルおよび他のC1-C6アルキル、メトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、tert-ブトキシメチル、2-メトキシエトキシメチル、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、双(2-クロロエトキシ)メチルおよび2-(トリメチルシリル)エトキシメチル、1-エトキシエチル、1-メチル-1-メトキシエチル、1-イソプロポキシエチル、2,2,2-トリクロロエチルおよび2-メトキシエチル、1-ヒドロキシアルキル、例えば、1-ヒドロキシエチル、1-ヒドロキシへキシル、1-ヒドロキシデシル、1-ヒドロキシヘキサデシルおよび1-ヒドロキシ-1-フェニルメチル、置換または非置換のアリールアルキル、例えば、ベンジル、メトキシベンジル、2,6-ジクロロベンジル、3-ブロモベンジル、2-ニトロベンジルおよびトリフェニルメチル、置換または非置換のヘテロアリールアルキル、置換または非置換の複素環基アルキル、
置換または非置換のアルケニル、例えば、アリル、
置換または非置換のシクロアルキル、例えば、シクロヘキシル、
置換または非置換のアリール、例えば、フェニル、2,4-ジニトロフェニル、
置換または非置換のヘテロアリール、
置換または非置換の複素環基、
置換または非置換のテトラヒドロピラニル、置換または非置換のテトラヒドロフリル、および、他のヒドロキシとアセタール基やヘミアセタール基を形成しうる基、
置換または非置換のアシル、例えば、ホルミル、置換または非置換のアルキルカルボニル、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ネオペンチルカルボニル、へキシルカルボニル、ヘプチルカルボニル、オクチルカルボニル、デシルカルボニル、ノニルカルボニル、ドデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ヘキサデシルカルボニル、オクタデシルカルボニルおよび他の置換または非置換のアルキルカルボニル、アセトアセチル、置換または非置換のシクロアルキルカルボニル、例えば、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、置換または非置換のアリールアシル、例えば、ベンゾイル、ナフトイル、置換または非置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、メチルカルバモイルおよびフェニルカルバモイル、
置換または非置換のスルホニル、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、p-トルエンスルホニルおよびナフタレンスルホニル、
置換または非置換のアルキルオキシカルボニル、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニルおよび他のC1-C6アルコキシカルボニル、
置換または非置換のアリールアルキルオキシカルボニル、例えば、ベンジルオキシカルボニルおよびp-メトキシベンジルオキシカルボニル、
無機酸(例えば、硫酸、硝酸、リン酸、およびホウ酸)からOH基を除去して得た基、
ホスフィンスルフィド基、例えば、ジアルキルホスフィンスルフィド基(例えば、ジメチルホスフィンスルフィド基)、ジアリールホスフィンスルフィド基(例えば、ジフェニルホスフィンスルフィド基)、
シリル、そのうち、アルキルの定義は前記の定義と同じである。例えば、トリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル)、tert-ブチルジフェニルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリルおよびトリフェニルシリルがある。
置換または非置換のアルケニル、例えば、アリル、
置換または非置換のシクロアルキル、例えば、シクロヘキシル、
置換または非置換のアリール、例えば、フェニル、2,4-ジニトロフェニル、
置換または非置換のヘテロアリール、
置換または非置換の複素環基、
置換または非置換のテトラヒドロピラニル、置換または非置換のテトラヒドロフリル、および、他のヒドロキシとアセタール基やヘミアセタール基を形成しうる基、
置換または非置換のアシル、例えば、ホルミル、置換または非置換のアルキルカルボニル、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ネオペンチルカルボニル、へキシルカルボニル、ヘプチルカルボニル、オクチルカルボニル、デシルカルボニル、ノニルカルボニル、ドデシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ヘキサデシルカルボニル、オクタデシルカルボニルおよび他の置換または非置換のアルキルカルボニル、アセトアセチル、置換または非置換のシクロアルキルカルボニル、例えば、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、置換または非置換のアリールアシル、例えば、ベンゾイル、ナフトイル、置換または非置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、メチルカルバモイルおよびフェニルカルバモイル、
置換または非置換のスルホニル、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、p-トルエンスルホニルおよびナフタレンスルホニル、
置換または非置換のアルキルオキシカルボニル、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニルおよび他のC1-C6アルコキシカルボニル、
置換または非置換のアリールアルキルオキシカルボニル、例えば、ベンジルオキシカルボニルおよびp-メトキシベンジルオキシカルボニル、
無機酸(例えば、硫酸、硝酸、リン酸、およびホウ酸)からOH基を除去して得た基、
ホスフィンスルフィド基、例えば、ジアルキルホスフィンスルフィド基(例えば、ジメチルホスフィンスルフィド基)、ジアリールホスフィンスルフィド基(例えば、ジフェニルホスフィンスルフィド基)、
シリル、そのうち、アルキルの定義は前記の定義と同じである。例えば、トリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル)、tert-ブチルジフェニルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリルおよびトリフェニルシリルがある。
本発明における「ヒドロキシ保護基」は、それと結合している酸素原子と以下に例示された基を形成する。すなわち、ギ酸エステル、ベンゾイルギ酸エステル、クロロ酢酸エステル、トリフルオロ酢酸エステル、メトキシ酢酸エステル、トリフェニルメトキシ酢酸エステル、p-クロロフェノキシ酢酸エステル、3-フェニルプロピオン酸エステル、4-オキソペンタノエート、4,4-(エチレンジチオ)吉草酸エステル、(トリメチルアセチル)ピバレート、クロトネート、4-メトキシクロトネート、安息香酸、p-安息香酸ベンジル、2,4,6-トリメチル安息香酸エステル、または、下記の基が形成した炭酸エステル:メチル、9-フルオレニルメチル、エチル、2,2,2-トリクロロエチル、2-(トリメチルシリル)エチル、2-(フェニルスルホニル)エチル、ビニル、アリル、p-ニトロフェニルの炭酸エステルを形成でき、下記のシリルエーテル:トリメチルシリルエーテル、トリエチルシリルエーテル、tert-ブチルジメチルシリルエーテル、tert-ブチルジフェニルシリルエーテル、トリイソプロピルシリルエーテル、下記のアルキルエーテル:メチルエーテル、ベンジルエーテル、p-メトキシベンジルエーテル、3,4-ジメトキシベンジルエーテル、トリベンジルエーテル、tert-ブチルエーテル、アリルエーテル、アリルオキシカルボニルエーテル、下記のアルコキシアルキルエーテル:メトキシメチルエーテル、メチルチオメチルエーテル、(2-メトキシエトキシ)メチルエーテル、ベンジルオキシメチルエーテル、β-(トリメチルシリル)エトキシメチルエーテル、テトラヒドロピラニルエーテル、下記のアリールアルキルエーテル:ベンジルエーテル、2,6-ジクロロベンジルエーテル、p-シアノベンジルエーテル、2-ピリジンメチルエーテルおよび4-ピリジンメチルエーテルを形成できる。
本発明における「o-ジヒドロキシ保護基」とは、合成プロセスに導入されたo-ジヒドロキシを保護する基を指し、その目的は、反応条件下でのo-ジヒドロキシの望ましくない化学反応を回避することである。また、ジヒドロキシを回復するために、当該o-ジヒドロキシ保護基は、後続の合成ステップで除去される。前記ジヒドロキシ保護基は、それと結合している酸素と環状アセタールおよびケタール、シクロシリレン誘導体、環状カーボネートおよび環状ボレートを形成する。アセタールとは-CHR-を意味し、ケタールとは、-CR2-を意味し、環状カーボネートとは-OC(O)O-を意味し、環状ボレートとはOBRO-を意味し、そのうち、RはH、アルキル、アルケニル、アリール、または、アラルキルであり、例示的なo-ジヒドロキシ保護基として、置換または非置換のアルキレン(例えば、メチレン、エチレン、イソプロピリデン、フェニルメチレン、ジフェニルメチレン、p-メトキシフェニルメチレン、2,4,6-トリメチルフェニルメチレン)、シクロアルキレン(例えば、シクロヘキシレン、シクロペンチレン)、ジ(C1-6アルキル)シリル(例えば、ジ-tert-ブチルシリレン、1,1,3,3-テトライソプロピルシロキサン)、ホウ酸メチル、ホウ酸エチル、ホウ酸フェニル、2,6-ジアセトアミドフェニルボレートがあるがこれらに限定されない。
特に明記しない限り、本発明における溶媒は、好ましくは無水溶媒である。
本発明の有益な効果
本発明は、エリブリンまたはその類似物、特にそのC27-C35の構造断片の合成に用いられる中間体、その製造方法および使用を提供する。本発明における合成経路の設計は、先行技術における既存の方法の原料と経路ステップを変更したものであり、出発物質が安価で入手が容易であり、光学純度は制御可能であり、そしてキラル中心を構築する方法(特に式(X)、式(XI)、式(XVI)および式(XV)で示す化合物の合成ステップ)は、高いジアステレオ選択性および収率を有するため、エリブリンまたはその類似物におけるC27-C35構造断片の最終生成物の光学純度を確保でき、その不純物の種類が少なく、立体異性体の不純物の合計含有量は、1000分の1以下に制御でき、原料薬に関する不純物規制指導原則の限界を満たし、後続の不純物の研究および精製工程を減少し、多段反応において、カラムクロマトグラフィー精製を必要とせずに次の工程に投入することができるため、精製コストを低減でき、一部の反応は、簡単な後処理の後、再結晶により副生成物と異物の一部を除去して純度を99.9%より高くすることができる。これにより、精製ステップが簡略化するだけでなく、最終製品の光学的純度が保証され、不純物の合成と分離と精製のコストを大幅に削減できる。
本発明は、エリブリンまたはその類似物、特にそのC27-C35の構造断片の合成に用いられる中間体、その製造方法および使用を提供する。本発明における合成経路の設計は、先行技術における既存の方法の原料と経路ステップを変更したものであり、出発物質が安価で入手が容易であり、光学純度は制御可能であり、そしてキラル中心を構築する方法(特に式(X)、式(XI)、式(XVI)および式(XV)で示す化合物の合成ステップ)は、高いジアステレオ選択性および収率を有するため、エリブリンまたはその類似物におけるC27-C35構造断片の最終生成物の光学純度を確保でき、その不純物の種類が少なく、立体異性体の不純物の合計含有量は、1000分の1以下に制御でき、原料薬に関する不純物規制指導原則の限界を満たし、後続の不純物の研究および精製工程を減少し、多段反応において、カラムクロマトグラフィー精製を必要とせずに次の工程に投入することができるため、精製コストを低減でき、一部の反応は、簡単な後処理の後、再結晶により副生成物と異物の一部を除去して純度を99.9%より高くすることができる。これにより、精製ステップが簡略化するだけでなく、最終製品の光学的純度が保証され、不純物の合成と分離と精製のコストを大幅に削減できる。
[図面の説明]
図面1は、化合物16のHPLCスペクトルである。
図面1は、化合物16のHPLCスペクトルである。
図面2は、化合物23のHPLCスペクトルである。
[発明を実施するための形態]
以下は、具体的な実施例を組み合わせて本発明に係る製造方法をさらに詳しく説明する。下記の実施例は、本発明を例示的な説明にすぎず、本発明の保護範囲を制限するものと解釈されるべきではない。本発明の上述の内容に基づいて実現される技術は、本発明の保護を意図する範囲内に含まれる。
以下は、具体的な実施例を組み合わせて本発明に係る製造方法をさらに詳しく説明する。下記の実施例は、本発明を例示的な説明にすぎず、本発明の保護範囲を制限するものと解釈されるべきではない。本発明の上述の内容に基づいて実現される技術は、本発明の保護を意図する範囲内に含まれる。
下記の実施例に使用する試験方法について、特に指定のない限り、これらはすべて従来の方法です。以下の実施例で使用される試薬および材料は、特に指定のない限り、市販されているものである。
〔実施例1 化合物9の合成〕
1.1 化合物4の合成
1.1 化合物4の合成
デオキシリボース1(100g)を水(400mL)に溶け、約5℃に降温し、液体臭素(200g)を3時間かけてゆっくり滴下し、滴下完了後、30℃に昇温し、24h(原料がなくなったことをドットプレートの検測で確認した)反応した。後処理:1)酢酸エチル(100mL×2)を添加して抽出し、有機相は下層にあり、3回目で酢酸エチル(50mL)を添加して抽出し、有機相は上層にあり、2)有機相と合わせ、その中に含まれる生成物を水(50mL×2)で抽出し、3)水相を合わせ、飽和チオ硫酸ナトリウムを使用して臭素(使用量:少量)を中和し、そして0℃まで降温し、溶液をpHが約3になるように調整(固体NaOH使用量:約61g)し、珪藻土でろ過し、4)濾液を少量の固体を含む粘稠液体になるように濃縮し、イソプロパノール(200mL)を添加し、攪拌しながら80℃まで加熱し、熱いうちにろ過し、固体をイソプロパノール(100mL)で洗浄し、濾液を濃縮し、残留物をイソプロパノール(100mL)に加えて溶解し、濾過し、固体をイソプロパノール(40mL)で洗浄し、濾液を濃縮し、そして残留物をアセトン(100mL)に加えて溶解し、ろ過して、80°Cに加熱したアセトン(100mL×2)で固体を抽出し、濾液を合わせて蒸発乾固し、(少量の固体を含む)油状物として化合物2の粗体を約95g得た。
化合物2の粗体(44g)をピリジン(200mL)に溶け、塩化トリフェニルメチル(88g)、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP)(4.5g)を加え、50℃に加熱し、一晩反応させた。後処理:減圧蒸留によりピリジンを除去し、ジクロロメタン(DCM)(500mL)を添加し、1N塩酸(300+200mL)を添加して分液し、飽和炭酸水素ナトリウム(200mL)で洗浄し、DCM(100mL)で各水相を抽出し、有機相と合わせ、乾燥し、ろ過し、濃縮し、そのまま次の工程に用いられる。
化合物3の粗体をDCM(400mL)に溶け、そしてイミダゾール(29g)、DMAP(4.5g)を加え、0℃に降温し、t-ブチルジフェニルクロロシラン(TBDPSCl、77mL)をゆっくり滴下し、適下完了後、室温に昇温して2-6h反応した。後処理:水(300mL×2)を添加し、分液し、毎回ジクロロメタン(100mL)で抽出し、有機相と合わせ、乾燥、濃縮し、メタノール(150mL×2)を添加して2回濃縮し、最後にメタノール(300mL)、n-ヘキサン(100mL)を加え、200~300mL程度まで減圧濃縮し、攪拌しながら約10℃に降温し、溶液から白色固体を析出し、ろ過し、固体を少量の冷メタノールで洗浄した。固体を取り出し、減圧下、残留された溶媒を留去して生成物としての化合物4を、約136g得た。1H NMR(500MHz,CDCl3)δ7.58-7.25(m,25H),4.41(d,J=3.5Hz,1H),4.37(d,J=6.4Hz,1H),3.32(dd,J=10.6,3.2Hz,1H),2.88(dd,J=17.8,6.6Hz,1H),2.70(dd,J=10.7,3.0Hz,1H),2.55(dd,J=17.8,1.8Hz,1H),1.07(s,9H).
1.2 化合物7の合成
1.2 化合物7の合成
化合物4(286g)をジクロロメタンに溶け、-20℃まで降温し、1hをかけて三塩化ホウ素(1Mのジクロロメタン溶液233mL)をゆっくり滴下し、滴下完了後、引き続き0.5h反応した。後処理:無水メタノール(700mL)を加え、10分間攪拌し、そして炭酸水素ナトリウム溶液を添加してpHを塩基性に調整し、分液し、水相をジクロロメタン(500mL×2)で抽出し、乾燥、ろ過、濃縮した。残留物を無水メタノール(350mL)に溶け、10分間攪拌し、ろ過し、固体を少量のメタノールで洗浄し(このステップにより、80%以上のTrOMeを除去することができる)、濾液を濃縮し、残留物をトルエンで2回洗浄することにより、残留のメタノールを除去して得られた最後の生成物は、約190gであった。
前記のステップに得られた粗体5をジクロロメタン(1500mL)に溶け、カンファースルホン酸(ラセミ体、16g)を添加し、氷浴に降温し、そしてPMBのトリクロロイミド(158g)をゆっくり滴下し、滴下完了後、室温に昇温し、一晩反応した。後処理:飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え、分液し、水相をジクロロメタンで抽出し、有机相をろ過してカンファースルホン酸塩固体を除去し、飽和塩化ナトリウムで洗浄し、乾燥、ろ過、濃縮して化合物6の粗体を約313g得た。
前記のステップに得られた化合物6の粗体をテトラヒドロフラン(700mL)に溶け、氷浴に降温し、アルゴンガス保護下でボランジメチルスルフィド(10M、70mL)をゆっくり滴下し、滴下完了後、室温に昇温し、10分間反応し、そして55℃~60℃に加熱して一晩反応した。後処理:氷浴に降温し、メタノールを(気泡が発生しなくなるまで)ゆっくり滴下して反応をクエンチし、減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルに溶け、飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄し、酢酸エチルで抽出し、乾燥、濃縮し、残留物にメタノールを添加して蒸発乾固することを2回繰り返し、カラムクロマトグラフィーにより化合物7を、約156gを得、合計收率が68%であった。1H NMR(500MHz,CDCl3)δ7.72(t,J=6.7Hz,4H),7.57-7.48(m,2H),7.43(t,J=7.5Hz,4H),7.22(d,J=8.2Hz,2H),6.91(d,J=8.2Hz,2H),4.50-4.34(m,2H),3.96(dt,J=7.8,4.5Hz,2H),3.87(s,3H),3.79(td,J=7.1,3.5Hz,1H),3.55(td,J=8.5,7.3,4.1Hz,2H),3.43(dd,J=9.7,6.7Hz,1H),1.83(ddt,J=11.3,7.8,3.9Hz,1H),1.76(q,J=12.7,1H),1.10(s,9H)。
1.3 化合物9の合成
化合物7(103.4g)をアセトニトリル(1L)に溶け、SM2(4.7g)、炭酸カリウム(37.5g)、ヨウ化カリウム(38.2g)およびブロモベンジル(37.3mL)を添加し、70℃~80℃に加熱して3-5時間(原料がなくなることもしくは僅かに残るだけで変化しなくなることをドットプレートで検知する)反応した。後処理:水を添加し、酢酸エチルで2-3回抽出し、乾燥、濃縮してそのまま次の反応に用いられた。
化合物8の粗体をテトラヒドロフラン(314mL)に加え、フッ化テトラブチルアンモニウム(TBAF、314mL)を添加し、25℃で一晩反応した。後処理:減圧濃縮し、残留物を水および酢酸エチルに溶け、分液し、酢酸エチルで抽出し、乾燥、濃縮し、カラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル=2:1-1:1)を行った。最後に、化合物9を約62g得、2つのステップでの合計收率は約86%であった。1H NMR(400MHz,CDCl3)δ7.44-7.21(m,7H),6.85(s,2H),4.50(s,2H),4.47(s,2H),3.82(m,1H),3.79(s,3H),3.76-3.64(m,3H),3.65-3.54(m,2H),1.89(m,1H),1.85-1.72(m,1H).
〔実施例2 化合物10の合成〕
〔実施例2 化合物10の合成〕
化合物9(149.5g)をDCM(818mL)に溶け、PPTs(5.4g)を添加し、オルト酢酸トリメチル(82.4mL)を滴下し、滴下完了後、室温で1h反応し、溶媒を蒸発乾固して生成物であるエピマー混合物9aを得た。前記に得られた化合物9aを再びDCM(818mL)に溶け、臭化アセチル(47.9mL)を滴下し、滴下完了後、室温で0.5h反応し、溶媒を蒸発乾固して化合物9b-1と9b-2の混合物を得た。前記の化合物9b-1と9b-2の混合物を無水メタノール(1500mL)に溶け、炭酸カリウム(119g)を添加し、室温で8h反応した。後処理:飽和塩化アンモニウム溶液を添加し、DCMで抽出し、乾燥、ろ過し、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより、123gの化合物10精製生成物を87%の収率で得た。1H NMR(400MHz,CDCl3)δ7.38-7.25(m,7H),6.87(d,J=13.2Hz,2H),4.60-4.38(m,4H),3.79(s,3H),3.73-3.65(m,1H),3.62(d,J=11.5Hz,2H),3.56-3.44(m,1H),3.25-3.17(m,1H),3.13(s,1H),2.00-1.66(m,2H).
〔実施例3化合物11の合成〕
〔実施例3化合物11の合成〕
アルゴン保護下、トリメチルシリルアセチレン(15.5g)を300mL無水トルエンに溶け、-50℃に冷却し、64mLの2.5Mn-BuLiのn-ヘキサン溶液をゆっくり滴下し、滴下完了後、攪拌しながら30min反応した後、化合物10のトルエン溶液(26g化合物10を100mLのトルエンに溶解してなるもの)を滴下し、滴下完了後、BF3Et2O(22.6g)をゆっくり滴下し、温度を-30℃以下に維持し、滴下完了後、3h反応し、反応が完了したことをTLCで確認した。300mLの飽和塩化アンモニウムを添加して反応を処理し、分液し、水相を酢酸エチルで2回(200mL×2)抽出し、有機相と合わせ、飽和塩化ナトリウム(300mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、乾燥剤をろ過で除去し、濃縮して粗体44gを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離した。カラムクロマトグラフィーの結果は、下記に示した。化合物11は22g、收率が65%であり、下式11’で示す位置異性体は10gであった。
化合物111HNMR(500MHz,CDCl3)δ7.38-7.15(m,7H),6.87(d,J=6.8Hz,2H),4.56-4.45(m,4H),4.00(tt,J=6.3,3.2Hz,1H),3.80(d,J=2.3Hz,3H),3.75-3.57(m,4H),2.81(tt,J=5.0,2.8Hz,1H),2.61(d,J=6.5Hz,1H),1.95(h,J=6.5Hz,1H),1.89-1.80(m,1H),0.15(d,J=2.4Hz,9H).HPLCにより、化合物11における11’の含有量≦0.1%であり、化合物11の他のエピマーの含有量≦0.1%であった。
〔実施例4化合物16の合成〕
4.1化合物13の合成
4.1化合物13の合成
氷浴条件下、化合物11(21g)を無水ジクロロメタン(160mL)にとけ、6.8g2,6-ジメチルピリジンを添加した後、TBSOTf(tert-ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸、15.6g)を滴下し、滴下完了後、室温に昇温して、1h反応し、そして、TLCで反応が完了したことを確認した。飽和塩化アンモニウム(200mL)の水溶液を添加して反応をクエンチし、分液し、水相をジクロロメタン(200mL×2)で抽出し、有機相と合わせ、1N塩酸で2,6-ジメチルピリジンを洗浄し、再び飽和塩化ナトリウム(200mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥してろ過し、濾液を濃縮して粗体としての25.7gの黄褐色油状物(化合物12)を得た。前記化合物12の粗体を200mLの無水メタノールに溶け、炭酸カリウム粉末(13.5g)を添加し、室温で一晩反応し、TLCで反応が完了したことを確認し、200mLの酢酸エチルを添加して反応液を希釈し、珪藻土をろ過助剤として使って固体をろ過し、生成物を残留しないように固体を酢酸エチルで洗浄し、濃液を濃縮し、黄褐色粘稠物を得、200mLの酢酸エチルを添加し、十分に攪拌して溶解させ、珪藻土をろ過助剤として使ってろ過し、フィルターケーキを生成物が残留しないように酢酸エチルで洗浄し、濃液を濃縮して黄褐色油状物の粗体30gを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して白色油状物として化合物13を約20.7g得、2つのステップでの合計收率は90%であった。化合物131HNMR(400MHz,CDCl3)δ7.30-7.22(m,3H),7.24-7.13(m,4H),6.85-6.72(m,2H),4.77(s,1H),4.50-4.24(m,4H),4.13-3.80(m,1H),3.64-3.39(m,3H),2.84-2.65(m,1H),2.07-1.97(m,1H),1.90(dt,J=12.7,6.1Hz,1H),1.72(dd,J=13.8,7.0Hz,1H),0.81(s,9H),-0.01(s,6H).
4.2化合物15の合成
4.2化合物15の合成
アルゴン保護下、化合物13(10.8g)を無水トルエン100mLに溶け、-78℃に降温し、2.5Nn-ブチルリチウムのn-ヘキサン溶液(11mL)を滴下し、滴下完了後、30min反応した後、5.64gの化合物14(市販商品、光学純度>99%)をトルエン50mLに溶けた後、反応システムに滴下し、滴下完了後、BF3Et2O(4.0g)を徐々に滴下し、滴下完了後、当該温度を維持しながら引き続き2h反応させ、そして反応が完了したことをTLCで確認した。飽和塩化アンモニウム150mLを加えて反応をクエンチし、分液し、水相を酢酸エチル(150mL×2)で抽出し、有機相と合わせ,飽和塩化ナトリウム(150mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、濾液を濃縮して油状物粗体17.8gを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して約14.5gの化合物15を得、收率は96%であった。化合物151HNMR(500MHz,CDCl3)δ7.42-7.24(m,7H),6.90(d,J=8.0Hz,2H),4.60-4.40(m,4H),4.07(d,J=7.3Hz,1H),3.90-3.74(m,5H),3.75-3.59(m,2H),3.53(q,J=6.1,5.1Hz,3H),2.79(d,J=6.8Hz,1H),2.45(d,J=6.0Hz,1H),2.13-1.97(m,1H),1.88-1.71(m,2H),1.42-1.22(m,2H),1.02-0.84(m,18H),0.10(s,6H),0.07(s,6H).
4.3化合物16の合成
4.3化合物16の合成
室温条件下、化合物15(46g)を無水メタノール500mLに溶け、3NのHCl/MeOH溶液13mLを加え、室温で一晩反応した後、反応が完了したことをTLCで確認し、アンモニア水(25-28%)8mLを加え、攪拌して反応をクエンチし、無水硫酸ナトリウムを添加し、乾燥して水を除去し,ろ過し、残留物を酢酸エチルで洗浄し、濃液を濃縮して淡黄色油状物34.2gを得、酢酸エチル/n-ヘキサンで再結晶して白色晶体26gを得、単一な生成物であることをTLCで確認した。当該白色結晶を再び再結晶して25.2gの白色結晶である化合物16を得、收率は83.3%であり、光学純度>99.9%であり、HPLCスペクトルは図面1に示した。化合物161HNMR(500MHz,メタノール-d4)δ7.35-7.24(m,7H),6.90(dd,J=8.6,2.9Hz,2H),4.66-4.32(m,4H),3.99(dd,J=8.1,4.3Hz,1H),3.80(s,3H),3.74-3.34(m,7H),2.74(s,1H),2.56-2.24(m,2H),1.91(td,J=7.9,6.9,3.1Hz,2H).
〔実施例5化合物20の合成〕
5.1化合物17の合成
〔実施例5化合物20の合成〕
5.1化合物17の合成
化合物16(24.2g)をアセトニトリル70mLに溶け、ペンタノン25mLおよびオルトギ酸トリメチル9.8mLを加え、最後にスカンジウムトリフラート270mgを添加し、室温で1h反応した後、反応が完了したことをTLCで確認した後、反応液にトリエチルアミンを加えて反応をクエンチし、溶媒を留去して粗体29.4gを得、カラムクロマトグラフィーで分離して化合物1726.6gを得、收率は95%であった。1HNMR(500MHz,CDCl3)δ7.50-7.08(m,7H),6.87(d,J=8.2Hz,2H),4.60-4.33(m,4H),4.19(t,J=6.4Hz,1H),4.08(t,J=7.1Hz,1H),4.04-3.92(m,1H),3.80(s,3H),3.76-3.43(m,5H),2.87-2.64(m,2H),2.56(dd,J=16.4,4.7Hz,1H),2.42(dd,J=16.5,7.6Hz,1H),1.93(dd,J=14.9,7.9Hz,1H),1.79(dq,J=9.6,4.7Hz,1H),1.63(dq,J=22.5,7.9,7.4Hz,4H),0.89(q,J=7.0Hz,6H)
5.2化合物18の合成
5.2化合物18の合成
23.8g化合物17を無水メタノール150mLに溶け、Lindlar触媒2.4gを加え、常圧で水素化反応し、原料が完全に反応しなくなるまで反応の進行をTLCでモニターし、触媒を濾去し、濾液を濃縮して化合物18の粗体23.6gを得、精製せずにそのまま次の工程に用いられる。1HNMR(500MHz,CDCl3)δ7.35-7.23(m,7H),6.86(d,J=8.2Hz,2H),5.61-5.55(m,2H),4.51(s,2H),4.44(t,J=12.3Hz,2H),4.10-4.05(m,1H),4.03-3.99(m,2H),3.80(s,3H),3.70-3.61(m,2H),3.57(t,J=8.0Hz,1H),3.49-3.43(m,2H),3.06(s,1H),2.70(s,1H),2.40(dt,J=12.6,5.7Hz,1H),2.27(dt,J=14.1,5.9Hz,1H),1.83-1.74(m,1H),1.62(dt,J=15.6,7.9Hz,4H),0.89(q,J=7.7Hz,6H).
5.3化合物19の合成
5.3化合物19の合成
氷浴の条件で化合物18(8.3g)をピリジン50mLに溶け、BzCl(塩化ベンゾイル)2.58gを徐々に加え、最後にDMAP200mgを添加し、室温に昇温して3h反応した後、反応が完了したことをTLCで確認し、酢酸エチル100mLで反応液を希釈し、水100mLで反応をクエンチし、分液し、水相を酢酸エチル(100mL×2)で抽出し、有機相と合わせ,まず水(200mL×2)で洗浄し、そして1N希塩酸で中性になるまで洗浄し、飽和炭酸水素ナトリウムで残留HClを洗い、最後に飽和塩化ナトリウムで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、濃液を濃縮して粗体17gを得、カラムクロマトグラフィーで分離して約10.1gの化合物19を得、收率は99%であった。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.02-7.95(m,2H),7.58-7.54(m,1H),7.44-7.41(m,2H),7.28-7.26(m,5H),7.20(d,J=9.4Hz,2H),6.78(d,J=8.0Hz,2H),5.68-5.56(m,3H),4.43(d,J=2.9Hz,3H),4.36(d,J=2.8Hz,2H),4.09-4.02(m,1H),3.97-3.93(m,1H),3.75(s,3H),3.53-3.50(m,2H),3.49-3.42(m,2H),3.33(dd,J=9.3,6.3Hz,1H),3.03-2.97(m,1H),2.44-2.28(m,2H),2.07-1.99(m,2H),1.96-1.88(m,1H),1.66-1.57(m,4H),0.89(dd,J=14.7,7.2Hz,6H).
5.4化合物20の合成
5.4化合物20の合成
室温条件下、化合物19(10g)をtert-ブタノール/水(20mL/20mL)の混合溶媒に溶け、NMO(5.9g)を加え、最後に四酸化オスミウムの0.05Mトルエン溶液(11mL)を添加し、45℃に加熱し、攪拌しながら24h反応した後、反応が実質的に完了したことをTLCで確認し、飽和亜硫酸ナトリウム(50mL)を添加し、攪拌して反応をクエンチし、酢酸エチル(100mL×3)で反応液を抽出し、有機相と合わせ、水(200mL×2)で洗浄し、飽和塩化ナトリウム(200mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、濾液を濃縮して粗体11gを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して約9.8gの化合物20を得、收率は92%であった。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ7.98(dt,J=8.4,1.6Hz,2H),7.55(tt,J=7.0,1.3Hz,1H),7.46-7.39(m,2H),7.30-7.14(m,7H),6.82(dq,J=8.7,2.2,1.6Hz,2H),5.51(ddd,J=8.9,7.4,3.1Hz,1H),4.51-4.35(m,4H),4.35-4.24(m,1H),4.04(dd,J=8.0,6.0Hz,1H),3.89-3.64(m,7H),3.62-3.51(m,2H),3.47(td,J=8.1,5.0Hz,1H),3.30(t,J=5.5Hz,2H),2.41(tt,J=5.4,2.3Hz,1H),2.21(dtd,J=14.5,7.2,3.2Hz,1H),2.13-1.91(m,2H),1.74(ddd,J=14.2,7.6,4.5Hz,1H),1.57(dq,J=15.1,7.5Hz,4H),0.84(dt,J=9.8,7.5Hz,6H).
5.5化合物20の合成
5.5化合物20の合成
室温の条件で化合物19(90mg)をtert-ブタノール/水(1mL/1mL)の混合溶媒に溶け、DABCO(17mg)およびNMO(53mg)を加え、最後に四酸化オスミウムの0.05Mトルエン溶液(0.15mL)を添加し、攪拌しながら24h反応した後、反応が実質的に完了したことをTLCで確認し、飽和亜硫酸ナトリウム(5mL)を添加し、攪拌して反応をクエンチし、酢酸エチル(10mL×3)で反応液を抽出し、有機相と合わせ、水(10mL×2)で洗浄し、飽和塩化ナトリウム(10mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、濾液を濃縮して粗体110mgを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して化合物20 67mgを得、收率は70%であった。
5.6化合物20-Acの合成
室温条件下、化合物19-Ac(55g)をtert-ブタノール/水(425mL/425mL)の混合溶媒に溶け、0℃に降温し、NMO(36g)を加え、最後に四酸化オスミウムの0.05Mトルエン溶液(100mL)を添加し、室温に昇温し、攪拌しながら24h反応した後、TLCで出発物質の一部が残っていることを検出し、処理し、飽和亜硫酸ナトリウム(500mL)を添加して撹拌し、反応をクエンチし、酢酸エチル(500mL×3)で反応液を抽出し、有機相と合わせ、水(500mL×2)で洗浄し、飽和塩化ナトリウム(500mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、濾液を濃縮して粗体65gを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離し、原料とする化合物19-Ac 14.8gを回収して、約38.2gの化合物20-Acを得、收率は89.6%であり、純度は85%(そのうち、異性体は主に化合物20-Ac’であった)であった。1HNMR(400MHz,Chloroform-d)δ7.35-7.27(m,5H),7.21(d,J=8.2Hz,2H),6.86(d,J=8.2Hz,2H),5.32-5.20(m,1H),4.48-4.40(m,4H),4.34-4.30(m,1H),4.10-4.05(m,1H),3.80(s,3H),3.73(td,J=9.9,4.7Hz,2H),3.69-3.58(m,2H),3.55-3.38(m,4H),3.18(s,2H),2.31-2.20(m,1H),2.08-2.00(m,1H),1.98(s,3H),1.90-1.82(m,1H),1.78-1.72(m,1H),1.67-1.60(m,5H),0.90(t,J=7.4Hz,6H).
〔実施例6化合物23の合成〕
6.1化合物22の合成
6.1化合物22の合成
氷浴条件下、化合物20(32g)を無水ジクロロメタン(160mL)に溶け、トリエチルアミン(36.5mL)とDMAP(640mg)を添加し、MsCl(19.5mL)を滴下し、滴下完了後、室温に加温して1h反応した後、反応が終了したことをTLCで確認した後、飽和塩化アンモニウム(200mL)で反応をクエンチし、分液し、水相をジクロロメタン(200mL×2)で抽出し、有機相と合わせ、水(250mL×2)で洗浄し、飽和塩化ナトリウム(250mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮して約39.4gの黄褐色油状粗体化合物21(理論的生成量39.8g)を得た。そして精製せず直接に次のステップに用いられた。化合物21粗体(39.4g)を無水メタノール(300mL)に溶け、無水炭酸カリウム粉末(19g)を加え、攪拌しながら一晩反応させ、TLCで反応が終了したことを確認した後、減圧濃縮することによって溶媒を留去し、水300mLを添加し、ジクロロメタン(300mL×2)で抽出し、有機相と合わせ,飽和塩化ナトリウム(300mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、濾液を濃縮して粗体33gを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して約27gの化合物22を得、2つのステップの合計收率は90%であった。化合物221H NMR(500MHz,CDCl3)δ7.38-7.17(m,7H),6.86(d,J=8.0Hz,2H),5.03(s,1H),4.53-4.36(m,4H),4.24(h,J=6.5Hz,1H),4.06(t,J=6.9Hz,1H),3.89(q,J=5.9,5.5Hz,1H),3.80(s,3H),3.67(q,J=6.6Hz,1H),3.62-3.51(m,4H),3.37(t,J=8.6Hz,1H),2.96(s,3H),2.40(q,J=6.6Hz,1H),2.04(dt,J=14.0,6.8Hz,1H),1.96(dq,J=12.4,6.3,5.5Hz,3H),1.62(p,J=7.7Hz,4H),0.89(t,J=7.5Hz,6H).
6.2化合物23の合成
6.2化合物23の合成
氷浴条件下、化合物22(7.8g)を無水テトラヒドロフラン(80mL)に溶け、3M臭化メチルマグネシウムのテトラヒドロフラン溶液(13.5mL)を滴下し、滴下終了後、室温に加温して一晩反応させ、TLCで反応が終了したことを確認した後、飽和塩化アンモニウム(100mL)を滴下して反応をクエンチし、酢酸エチル(100mL×3)で抽出し、有機相と合わせ、飽和塩化ナトリウム(200mL×2)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、濾液を濃縮して無色油状粗体8gを得、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離して化合物23 5.8gを得、収率が86%であり、同時に、化合物23’ 0.2gを得た。化合物23の純度>99.9%であり、HPLCスペクトルを図2に示した。下記に示す不純物23’の含有量は0.09%であった。
1HNMR(500MHz,CDCl3)δ7.35-7.28(m,5H),7.22(d,J=8.1Hz,2H),6.85(d,J=8.0Hz,2H),4.49(s,2H),4.43(s,2H),4.32-4.27(m,1H),4.08-4.04(m,2H),3.86(q,J=5.9Hz,1H),3.79(s,3H),3.72-3.63(m,2H),3.58(dt,J=21.2,7.5Hz,2H),3.47(d,J=6.3Hz,2H),2.13(dd,J=7.1,3.9Hz,1H),2.10-1.97(m,3H),1.93(dt,J=19.8,6.3Hz,2H),1.63(dq,J=14.9,7.4Hz,4H),0.89(q,J=7.3Hz,6H).
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。本発明の構想および原理の範囲内で行われたいかなる変形、交換、改良等は本発明の範囲に含まれるものとする。
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。本発明の構想および原理の範囲内で行われたいかなる変形、交換、改良等は本発明の範囲に含まれるものとする。
Claims (10)
- 請求項1に記載の式(IX)で示す化合物の製造方法であって、
D-2-デオキシリボース(I)を原料とし、酸化、ヒドロキシ保護、還元による開環、脱ヒドロキシル保護なおの複数の反応を行って、式(IX)で示す化合物を得るステップを含み、
好ましくは、式(IX)で示す化合物がD-2-デオキシリボース(I)を原料とし、下記の経路で製造される、請求項1に記載の式(IX)で示す化合物の製造方法。
(そのうち、PG1、PG2は、請求項1に記載の定義を有し、PG3は独立して請求項1に記載のヒドロキシ保護基から選ばれたものであり、各Xは、同一または異なって、互いに独立してハロゲンから選ばれたものであり、前記の塩基は、有機塩基または無機塩基から選ばれたものであり、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アルキルリチウム、メトキシドナトリウム、エトキシドナトリウム、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミンから選ばれた1種、2種またはそれより多い種である。) - (1)請求項1に記載の式(IX)で示す化合物と
とを反応して式(IXa)で示す化合物を得るステップ、
(2)式(IXa)で示す化合物と酸ハライド
またはハロゲン化シランR3 3SiXと反応させて式(IXb-1)で示す化合物および/または式(IXb-2)で示す化合物を得るステップ、および、
(3)式(IXb-1)で示す化合物および/または式(IXb-2)で示す化合物と反応させて式(X)で示す化合物を得るステップ
を含む式(X)で示す化合物の製造方法。
(そのうち、PG1、PG2および各Xは、独立して請求項1または2に記載の定義を有し、R1、R2、R3は、同一または異なって、互いに独立してH、アルキルまたはアリールから選ばれたものであり、R6はアルキルから選ばれたものである。) - ステップ(1)において、前記反応は、触媒、好ましくは酸性触媒の存在下で行うことができ、前記酸性触媒は、エステル交換に適した酸性触媒から選択され、例えば、ピリジンp-トルエンスルホン酸(PPTs)またはプロトン酸(例えば、硫酸、リン酸、塩化水素)から選択された1種、2種またはそれより多い種であり、前記
は、例えば、オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル、オルト酢酸トリメチル、オルト酢酸トリエチル、オルト安息香酸トリメチル、オルト安息香酸トリエチルなどのオルトエステル系化合物から選ばれたいずれの1種であり、前記式(IX)化合物と前記
とのモル比は1:(1~5)であり、前記触媒が存在する場合、前記式(IX)で示す化合物と前記触媒とのモル比が1:(0.01~0.2)であり、
ステップ(2)において、前記式(IXa)で示す化合物と前記
またはハロゲン化シランR3 3SiXとのモル比が1:(1~5)であり、
ステップ(3)において、反応が塩基の存在で行い、前記式(IXb-1)で示す化合物および/または式(IXb-2)で示す化合物と前記塩基とのモル比が1:(1~10)であり、
ステップ(3)が溶媒中に行い、前記溶媒が、例えば、アルコール系溶媒(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール)、水またはそれらの混合物であり、例えば、前記式(IX)で示す化合物と前記溶媒との重量体積比が1g:(1~20)mLであることを特徴とする、請求項3に記載の製造方法。 - 下記の(XI)、(XII)、(XIII)、(XIV)、(XV)または(XVI)で示す化合物。
(そのうち、PG1、PG2は、請求項1に記載の定義を有し、R7は水素または末端アルキニル保護基であり、前記保護基は、トリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル)、tert-ブチルジフェニルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリルなどのシリル基から選ばれたものであり、PG4、PG5は、同一または異なって、互いに独立して請求項1に記載のヒドロキシ保護基から選ばれたものであり、
ただし、前記PG4および前記PG5のいずれも、前記PG1または前記PG2のいずれとも同一ではなく、かつ、前記PG1および前記PG2は、前記PG4および前記PG5を除去する条件下で反応しない。)
好ましくは、前記PG4、前記PG5は、同一または異なって、互いに独立してシリルから選ばれたものであり、例えば、前記PG4、前記PG5は、同一または異なって、互いに独立してトリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル)、tert-ブチルジフェニルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリルから選ばれたものであり、前記PG1および前記PG2は、同一または異なって、互いに独立してアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、テトラヒドロピラニル、アシル、スルホニル、アルキルオキシカルボニル、アリールアルキルオキシカルボニル、無機酸からOH基を除去して得られる基、チオホスフィン基などのシリル基以外のヒドロキシ保護基から選ばれたものである。) - 下式(XIX)で示す化合物。
(そのうち、PG1、PG2は、請求項1に記載の定義を有し、PG6は、独立して置換または非置換のベンゾイル、ナフトイルなどの置換または非置換の芳香族アシルから選ばれたものであり、PG7はo-ジヒドロキシ保護基であり、
前記o-ジヒドロキシ保護基は、これと結合した酸素と環状アセタールおよびケタール、シクロシリレン誘導体、環状カーボネートおよび環状ボレートを形成し、アセタールとは-CHR-であり、ケタールとは-CR2-であり、環状カーボネートとは-OC(O)O-であり、環状ボレートとはOBRO-であり、そのうち、RはH、アルキル、アルケニル、アリール、または、アラルキルであり、例えば、置換または非置換のメチレン、エチレン、イソプロピリデン、シクロヘキシレン、シクロペンチレン、フェニルメチレン、ジフェニルメチレン、p-メトキシフェニルメチレン、2,4,6-トリメチルフェニルメチレン、ジ-tert-ブチルシリレン、1,1,3,3-テトライソプロピルシロキサン、シクロカーボネート、ホウ酸メチル、ホウ酸エチル、ホウ酸フェニル、2,6-ジアセトアミドフェニルボレートであってもよい。) - 請求項6に記載の式(XIX)の化合物が酸化剤の作用でビスヒドロキシオキサイド反応を行って式(XX)化合物を得る式(XX)化合物の製造方法。
(そのうち、PG1、PG2、PG6、PG7は、請求項6に記載の定義を有し、前記酸化剤は、過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウム、過酸化水素、フェリシアン化カリウム、N-メチル-N-オキシモルホリン(NMO)から選ばれた1種または複数種であり、前記反応は、必要に応じて共酸化剤を加えることができ、前記共酸化剤は、四酸化オスミウム、オスミウム酸カリウムのいずれの1種であり、前記反応は、塩基の触媒作用で行い、前記塩基は、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、トリエチルアミン、N、N-ジイソプロピルエチルアミンから選ばれた1種または複数種であり、前記式(XIX)の化合物と酸化剤とのモル比が1:(1~5)であり、好ましくが1:(1~3)であり、前記式(XIX)の化合物と前記共酸化剤とのモル比が1:(0.005~0.15)であり、好ましくが1:(0.005~0.1)であり、前記式(XIX)の化合物と前記塩基とのモル比が1:(0.4~2)であり、好ましくが1:(0.5~1.5)であり、前記反応が混合溶媒中に行い、前記混合溶媒が有機溶媒と水との混合物であり、例えば、tert-ブタノール/水、アセトン/水、アセトニトリル/水から選ばれたいずれのシステムであり、前記混合溶媒における有機溶媒と水との体積比が(1:5)~(5:1)であり、例えば(2~2.5):(2.5~2)であり、
前記式(XIX)の化合物の重量と混合溶媒の総体積との比が1g:(2~50mL)であり、例えば1g:4mL、1g:22.2mLであり、
前記反応温度が-10℃~50℃であり、例えば、35℃~45℃であってもよく、反応時間が10~60hであり、例えば、24hであってもよい。) - 請求項2、3、4、7に記載の式(IX)、式(X)、式(XX)化合物の製造方法の1種、2種またはそれより多い種を含む、式(XXIII)化合物の製造方法であって、
(そのうち、PG1、PG2、PG7は、請求項7に記載の定義を有する。)
好ましくは、前記式(XXIII)で示す化合物の製造方法がさらにカラムクロマトグラフィーで分離された生成物を含み、
好ましくは、前記式(XXIII)で示す化合物の製造方法において、前記ラムクロマトグラフィーで分離された生成物における下記で示す化合物(XXIIIa)の含有量≦0.1%である、式(XXIII)化合物の製造方法。
(そのうち、PG1、PG2、PG7は請求項7に記載の定義を有する。) - 請求項1、5、6のいずれに記載の式(I)~(XXIII)のいずれの化合物、および/または請求項2、3、4、7、8のいずれに記載の1種または複数種の製造方法を使用する、エリブリン、その類似物、またはそれらのC27-C35部分の製造方法。
- 請求項1、5、6のいずれに記載の式(I)~(XXIII)のいずれの化合物の、エリブリン、その類似物、またはそれらのC27-C35部分への使用。
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