JP2022530567A - 斜めフィッティング技術に基づいてアライメントモデルを決定するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2019年5月3日に出願された欧州出願19172514.2号の優先権を主張し、その全体が参照によって本書に援用される。
本記述は、例えばリソグラフィ技術によるデバイスの製造時の計測を実行するために使用可能な検査装置および方法、または、パターニングプロセス中のリソグラフィ装置の制御に関する。本記述は、このような方法の実行時の使用のためのコンピュータプログラム製品にも関する。
cw = (Mx TWTWMx)-1Mx TWTWx = (WMx)+Wx
xcorrection = Mycw = My(Mx TWTWMx)-1Mx TWTWx = My(WMx)+Wx
(i)単位行列。
(ii)ウェーハで比較的疎にサンプリングされた領域におけるアライメントマークに対する重みを増やし、または、よりノイズが多いアライメントスキャンに対する重みを減らすために使用されうる対角行列。
(iii)本開示の一般化最小二乗フィッティングにおいて使用される正則行列。内積およびノルムの基礎となる基底は直交しない。この内積は、行列Wを適宜選択することによって、補正不能コンポーネントから補正可能コンポーネントへのクロストークを低減しうる。
(iv)データにおける自由度の数を低減することから(例えば、データの部分空間への斜投影のみ)、一般化最小二乗法と(斜め)部分空間モデリングの組合せと見なしうる非正則行列。このアプローチは、クロストークおよびノイズ伝播の両方を低減しうる。このアプローチ(iv)は、斜投影行列を用いる斜投影最小二乗フィッティングによって実行されうる。
cP = (Mx TMx)-1Mx TPx = Mx +Px
ここで、Pは斜投影行列である。密なアライメントレイアウト上の補正不能コンポーネントが疎なアライメントレイアウト上の補正可能コンポーネントに直交しないため、補正可能なコンポーネントおよび補正不能コンポーネントが少なくとも疎なグリッド上で線型独立である限り、斜投影行列を使用することで補正不能コンポーネントがブロックされうる。
Claims (15)
- (a)比較的疎なマークレイアウトと比べて比較的密なマークレイアウトに関する第1測定データおよび比較的疎なマークレイアウトに関する第2測定データを取得することと、
(b)比較的密なマークレイアウトについてオブジェクトの変形を記述する第1フィットモデルを取得することと、
(c)フィッティング技術(好ましくは斜めフィッティング技術)を用いて、比較的疎なマークレイアウトについてオブジェクトの変形を記述する第2フィットモデルに基づいてアライメントモデルを決定することと、
を備えるマークレイアウトに関するアライメントモデルを決定するための方法。 - フィッティング技術は第1および第2測定データを使用する、請求項1に記載の方法。
- フィッティング技術は、斜内積行列を用いる一般化最小二乗フィッティングである、請求項1または2に記載の方法。
- 斜内積行列の決定は、
第1フィットモデルおよび第1測定データを使用して第1出力を決定するステップと、
斜内積行列、第2フィットモデル、第2測定データおよび第1フィットモデルを使用して第2出力を決定するステップと、
第1フィットモデルおよび第2フィットモデルの間の差が低減されるように斜内積行列の係数を決定するステップと、
を備える請求項3に記載の方法。 - 第1および第2測定データは、アライメントマーク測位データおよび/またはオーバーレイ測位データを備え、
斜内積行列の係数を決定するステップは、以下の数理モデルを実行することを備える、
請求項4に記載の方法。
- フィッティング技術は斜投影行列を用いる斜投影最小二乗フィッティングである、請求項1または2に記載の方法。
- 斜投影行列の決定は、
第1フィットモデルおよび第1測定データを使用して第1出力を決定するステップと、
斜投影行列、第2フィットモデル、第2測定データおよび第1フィットモデルを使用して第2出力を決定するステップと、
第1フィットモデルおよび第2フィットモデルの間の差が低減されるように斜投影行列の係数を決定するステップと、
を備える請求項6に記載の方法。 - 第1および第2測定データは、アライメントマーク測位データおよび/またはオーバーレイ測位データを備え、
斜投影行列の係数を決定するステップは、以下の数理モデルを実行することを備える、
請求項7に記載の方法。
- 測定データは、所定の公称位置データに対する疎なマークレイアウトの位置データおよび変位データを備える、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- オブジェクトはパターニングプロセスのウェーハであり、
フィットモデルはウェーハフィットモデルである、
請求項1から9のいずれかに記載の方法。 - オブジェクトの変形は、パターニングプロセスによって所望パターンが転写されるウェーハの表面の変形である、請求項10に記載の方法。
- 第2フィットモデルおよび/または第1モデルは、パラメータの第1セット好ましくは四つのパラメータを備える第1サブモデルおよびパラメータの第2セット好ましくは六つのパラメータを備える第2サブモデルの二つのサブモデルの組合せである、請求項1から11のいずれかに記載の方法。
- コンピュータによって実行されると請求項1から12のいずれかに記載の方法を実行する命令が記録された、コンピュータが読み取り可能な非一時的な媒体を備えるコンピュータプログラム製品。
- 請求項13に記載のコンピュータプログラム製品を備える測定システム。
- 請求項14に記載の測定システムを備えるリソグラフィ装置。
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