JP2022526810A - Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エン及びそれを生成するための中間体を生成するためのプロセス - Google Patents
Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エン及びそれを生成するための中間体を生成するためのプロセス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022526810A JP2022526810A JP2021559372A JP2021559372A JP2022526810A JP 2022526810 A JP2022526810 A JP 2022526810A JP 2021559372 A JP2021559372 A JP 2021559372A JP 2021559372 A JP2021559372 A JP 2021559372A JP 2022526810 A JP2022526810 A JP 2022526810A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- hexafluoro
- product mixture
- diene
- pentachlorobuta
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 163
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 159
- NLOLSXYRJFEOTA-UPHRSURJSA-N (z)-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)\C=C/C(F)(F)F NLOLSXYRJFEOTA-UPHRSURJSA-N 0.000 title claims abstract description 14
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 title abstract description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 109
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 35
- WVFBDVFCOCLEFM-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,4,4-pentachlorobuta-1,3-diene Chemical compound ClC(Cl)=CC(Cl)=C(Cl)Cl WVFBDVFCOCLEFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 26
- PREWBNUKNNTMHC-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CC(Cl)C(F)(F)F PREWBNUKNNTMHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000001273 butane Substances 0.000 claims abstract description 17
- NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N (e)-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)\C=C\C(F)(F)F NLOLSXYRJFEOTA-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims abstract description 12
- DRNMSWBRUAIIJO-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)C(Cl)C(F)(F)F DRNMSWBRUAIIJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- WBCLXFIDEDJGCC-UHFFFAOYSA-N hexafluoro-2-butyne Chemical compound FC(F)(F)C#CC(F)(F)F WBCLXFIDEDJGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 104
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 29
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 claims description 26
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 17
- BNIXVQGCZULYKV-UHFFFAOYSA-N pentachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)(Cl)Cl BNIXVQGCZULYKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 10
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 6
- GNKTZDSRQHMHLZ-UHFFFAOYSA-N [Si].[Si].[Si].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti] Chemical compound [Si].[Si].[Si].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti].[Ti] GNKTZDSRQHMHLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 claims 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 108
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 74
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 33
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 33
- 239000002585 base Substances 0.000 description 27
- MJBPUQUGJNAPAZ-AWEZNQCLSA-N butin Chemical compound C1([C@@H]2CC(=O)C3=CC=C(C=C3O2)O)=CC=C(O)C(O)=C1 MJBPUQUGJNAPAZ-AWEZNQCLSA-N 0.000 description 26
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 16
- MJBPUQUGJNAPAZ-UHFFFAOYSA-N Butine Natural products O1C2=CC(O)=CC=C2C(=O)CC1C1=CC=C(O)C(O)=C1 MJBPUQUGJNAPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 15
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 15
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 15
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 15
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 14
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 13
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical group [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 11
- -1 heat transfer media Substances 0.000 description 11
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 7
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M rubidium hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+] CPRMKOQKXYSDML-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CXIGIYYQHHRBJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCC(F)(F)F CXIGIYYQHHRBJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 5
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 5
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 5
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 5
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 208000003556 Dry Eye Syndromes Diseases 0.000 description 4
- 206010013774 Dry eye Diseases 0.000 description 4
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical group [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 4
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000011981 lindlar catalyst Substances 0.000 description 4
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 4
- LMCCPYJNBKRUNQ-OWOJBTEDSA-N (3e)-1,1,2,3,4-pentachlorobuta-1,3-diene Chemical compound Cl\C=C(\Cl)C(Cl)=C(Cl)Cl LMCCPYJNBKRUNQ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 3
- LMCCPYJNBKRUNQ-UPHRSURJSA-N (3z)-1,1,2,3,4-pentachlorobuta-1,3-diene Chemical compound Cl\C=C(/Cl)C(Cl)=C(Cl)Cl LMCCPYJNBKRUNQ-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- NLNZZGSYZYNUNI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3,4-hexachlorobut-1-ene Chemical class ClCC(Cl)(Cl)C(Cl)=C(Cl)Cl NLNZZGSYZYNUNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-(2-fluorophenyl)ethanol Chemical compound NCC(O)C1=CC=CC=C1F MFGOFGRYDNHJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 3
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000013844 butane Nutrition 0.000 description 3
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N caesium oxide Chemical compound [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001942 caesium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 3
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 3
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N lithium oxide Chemical compound [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001947 lithium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical class CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 3
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical group 0.000 description 3
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- DGIASWZGWOVOAS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,4,4,4-heptachlorobutane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(Cl)CC(Cl)(Cl)Cl DGIASWZGWOVOAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLOLSXYRJFEOTA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C=CC(F)(F)F NLOLSXYRJFEOTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MIMLLEXTFXWJLP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-2-(trifluoromethyl)butane Chemical compound CCC(C(F)(F)F)C(F)(F)F MIMLLEXTFXWJLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FTPHAWKOBMZSCZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,4,4,4-pentafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CC(Cl)C(F)(F)Cl FTPHAWKOBMZSCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUZIOGQZQQHUSZ-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)[ClH]O Chemical compound C(C)(C)(C)[ClH]O WUZIOGQZQQHUSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 2
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical group [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910021381 transition metal chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- KNONCROWWQOPPK-OWOJBTEDSA-N (E)-2-chloro-1,1,1,4,4-pentafluorobut-2-ene Chemical compound C(=C(\C(F)(F)F)/Cl)\C(F)F KNONCROWWQOPPK-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- XDIDQEGAKCWQQP-UPHRSURJSA-N (z)-2,3-dichloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C(\Cl)=C(\Cl)C(F)(F)F XDIDQEGAKCWQQP-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- JRENXZBKMHPULY-UPHRSURJSA-N (z)-2-chloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)\C=C(/Cl)C(F)(F)F JRENXZBKMHPULY-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- BSRRYOGYBQJAFP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3-hexafluorobutane Chemical compound CC(F)C(F)(F)C(F)(F)F BSRRYOGYBQJAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrachloroethane Chemical class ClCC(Cl)(Cl)Cl QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GENRYAJRHIWOJI-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoropentane Chemical compound CCCCC(F)(F)F GENRYAJRHIWOJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDJKZBLOOIFFAS-UHFFFAOYSA-N 1,1,4,4-tetrachlorobuta-1,3-diene Chemical class ClC(Cl)=CC=C(Cl)Cl NDJKZBLOOIFFAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOFZTCSTGIWCQG-UHFFFAOYSA-N 1-bromotetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCBr KOFZTCSTGIWCQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQZHZSNSEBYUCE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,1,4,4,4-pentafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C=CC(F)(F)Cl RQZHZSNSEBYUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOERTVADMVAHAA-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CC(Cl)(Cl)C(F)(F)F AOERTVADMVAHAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDIDQEGAKCWQQP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)=C(Cl)C(F)(F)F XDIDQEGAKCWQQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRENXZBKMHPULY-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C=C(Cl)C(F)(F)F JRENXZBKMHPULY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYFKOKYVFFRTFF-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1-fluorobut-2-ene Chemical compound FCC(=CC)Cl TYFKOKYVFFRTFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMIWYOZFFSLIAK-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoro-2-(trifluoromethyl)prop-1-ene Chemical group FC(F)(F)C(=C)C(F)(F)F QMIWYOZFFSLIAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMKQXWMMSDACQF-UHFFFAOYSA-N 4,4-dichloro-1,1,1,3,3-pentafluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)C(Cl)Cl AMKQXWMMSDACQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical group [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011627 DL-alpha-tocopherol Substances 0.000 description 1
- 235000001815 DL-alpha-tocopherol Nutrition 0.000 description 1
- ASGCRBUXUYGLIQ-OWOJBTEDSA-N FC(\C=C(/C(F)F)\Cl)(F)F Chemical compound FC(\C=C(/C(F)F)\Cl)(F)F ASGCRBUXUYGLIQ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 241001546602 Horismenus Species 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- CQXADFVORZEARL-UHFFFAOYSA-N Rilmenidine Chemical compound C1CC1C(C1CC1)NC1=NCCO1 CQXADFVORZEARL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical group [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- GVJHHUAWPYXKBD-UHFFFAOYSA-N d-alpha-tocopherol Natural products OC1=C(C)C(C)=C2OC(CCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C)(C)CCC2=C1C GVJHHUAWPYXKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 230000000779 depleting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MGLUUYLPGOWCNW-UHFFFAOYSA-M dimethyl(diphenyl)phosphanium;iodide Chemical compound [I-].C=1C=CC=CC=1[P+](C)(C)C1=CC=CC=C1 MGLUUYLPGOWCNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRLVUNNBSSUWAC-UHFFFAOYSA-M hydrogen sulfate;tetraoctylazanium Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZRLVUNNBSSUWAC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KKWUACQXLWHLCX-UHFFFAOYSA-N hydron;tetradecan-1-amine;chloride Chemical compound Cl.CCCCCCCCCCCCCCN KKWUACQXLWHLCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940046892 lead acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- QLPMKRZYJPNIRP-UHFFFAOYSA-M methyl(trioctyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QLPMKRZYJPNIRP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VKTOBGBZBCELGC-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenoxy)phosphanium;iodide Chemical compound [I-].C=1C=CC=CC=1O[P+](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 VKTOBGBZBCELGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical class CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910001952 rubidium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M rubidium(1+);hydroxide Chemical compound [OH-].[Rb+].[Rb+] CWBWCLMMHLCMAM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KEVJUENWYCMNET-UHFFFAOYSA-M tetradodecylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](CCCCCCCCCCCC)(CCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCCCC KEVJUENWYCMNET-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M tetraoctylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QBVXKDJEZKEASM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CHYBTAZWINMGHA-UHFFFAOYSA-N tetraoctylazanium Chemical class CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC CHYBTAZWINMGHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNNIPOQLGBPXPS-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC SNNIPOQLGBPXPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- AOBORMOPSGHCAX-DGHZZKTQSA-N tocofersolan Chemical compound OCCOC(=O)CCC(=O)OC1=C(C)C(C)=C2O[C@](CCC[C@H](C)CCC[C@H](C)CCCC(C)C)(C)CCC2=C1C AOBORMOPSGHCAX-DGHZZKTQSA-N 0.000 description 1
- 229960000984 tocofersolan Drugs 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- RYVBINGWVJJDPU-UHFFFAOYSA-M tributyl(hexadecyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RYVBINGWVJJDPU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IPILPUZVTYHGIL-UHFFFAOYSA-M tributyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](C)(CCCC)CCCC IPILPUZVTYHGIL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019798 tripotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/25—Preparation of halogenated hydrocarbons by splitting-off hydrogen halides from halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/013—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens
- C07C17/04—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of halogens to unsaturated halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/07—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides
- C07C17/087—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides to unsaturated halogenated hydrocarbons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/44—Palladium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/74—Iron group metals
- B01J23/745—Iron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
- C07C17/202—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
- C07C17/206—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/263—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by condensation reactions
- C07C17/269—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by condensation reactions of only halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/272—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions
- C07C17/278—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions of only halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/35—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction
- C07C17/354—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions not affecting the number of carbon or of halogen atoms in the reaction by hydrogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/19—Halogenated dienes
- C07C21/20—Halogenated butadienes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エン及びそれを生成するための中間体を生成するためのプロセス。２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを生成するためのプロセスは、液相中で１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させることを含む。Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスは、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させることを含む。２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを生成するためのプロセスは、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを塩素源及び触媒と接触させることを含む。１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを生成するためのプロセスは、２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させることを含む。Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスは、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素及び触媒と接触させることを含む。
Description
本明細書における開示は、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン及びその生成において有用な中間体を生成するためのプロセスに関する。本開示は、更に、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、及び２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを生成するためのプロセスを提供する。
過去数十年間にわたり、多くの産業でオゾン層破壊性のクロロフルオロカーボン（ozone depleting chlorofluorocarbon、ＣＦＣ）類及びヒドロクロロフルオロカーボン（hydrochlorofluorocarbon、ＨＣＦＣ）類に代わる代替物を見つける取り組みがなされてきた。ＣＦＣ及びＨＣＦＣは、冷媒、洗浄剤、熱可塑性及び熱硬化性発泡体用の膨張剤、伝熱媒体、気体誘電体、エアゾール噴射剤、消火剤及び抑火剤、動力サイクル作動流体、重合媒体、微粒子除去流体、キャリア流体、バフ磨き研磨剤、並びに置換乾燥剤としての使用を含む、幅広い用途において使用されてきた。これら多用途の化合物に代わる代替物の探索において、多くの産業でヒドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）の使用が注目されている。ＨＦＣは、オゾン層破壊係数がゼロであり、したがって、モントリオール議定書の結果としての現在の規制による段階的廃止によって影響を受けない。
オゾン層破壊の問題に加えて、これら用途の多くに関する別の環境問題は、地球温暖化である。したがって、低オゾン層破壊規格を満たし、かつ低地球温暖化係数を有する組成物が必要とされている。特定のヒドロフルオロオレフィンが、これら両目標を満たすと考えられる。したがって、ヒドロフルオロオレフィンを生成するのに有用な中間体及び塩素を含有しないヒドロフルオロオレフィンを提供する製造プロセスが必要とされている。これらの材料は、オゾン層破壊係数を有しておらず、地球温暖化係数が低い。
（参照による組み込み）
本明細書において言及する、全ての出版物、特許、及び特許出願については、これら個々の出版物、特許、又は特許出願が参照により組み込まれる旨、具体的且つ個別に示されているのと同一程度に、本明細書中に参照により組み込まれる。矛盾が生じた場合、本明細書中の任意の定義を含め、本出願が優先する。
本明細書において言及する、全ての出版物、特許、及び特許出願については、これら個々の出版物、特許、又は特許出願が参照により組み込まれる旨、具体的且つ個別に示されているのと同一程度に、本明細書中に参照により組み込まれる。矛盾が生じた場合、本明細書中の任意の定義を含め、本出願が優先する。
本開示は、ヒドロフルオロオレフィンＺ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エン（Ｚ－ＨＦＯ－１３３６ｍｚｚ又はＺ－１３３６ｍｚｚ）を生成するためのプロセスを提供する。このプロセスは、（ａ）フッ素化触媒の存在下において液相中で１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物混合物を生成することと、（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エン（Ｅ－ＨＦＯ－１３３６ｍｚｚ又はＥ－１３３６ｍｚｚ）を含む生成物混合物を生成することと、（ｃ）Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを塩素源と接触させて、２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物混合物を生成することと、（ｄ）２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを含む生成物混合物を生成することと、（ｅ）触媒の存在下で１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と接触させて、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物混合物を生成することと、を含む。
いくつかの実施形態では、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ、２３２０ａｚ）は、トリクロロエチレン（ＴＣＥ）の二量体化を含む、プロセスに従って生成される。２３２０ａｚを生成するためのプロセスは、触媒の存在下でＴＣＥを接触させて、２３２０ａｚを含む生成物混合物を生成することを含む。
いくつかの実施形態では、ＴＣＥの二量体化は、二量体化プロセスを加速させるペンタクロロエタン（ＣＣｌ３ＣＨＣｌ２、ＨＣＣ－１２０）の存在下で行われる。
特定の実施形態では、２３２０ａｚは、少なくとも８０％の選択率で生成され、いくつかの実施形態では、選択率は、９０％超、又は９５％超、又は９９％超、又は９９．５％超である。特定の実施形態では、生成物混合物から２３２０ａｚを回収する。いくつかの実施形態では、未反応のＴＣＥを回収し、再利用する。いくつかの実施形態では、ペンタクロロエタンを回収し、再利用する。
いくつかの実施形態では、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＨＦＣ－３４６ｍｄｆ又は３４６ｍｄｆ）は、触媒の存在下において液相中で１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ又は２３２０ａｚ）をフッ化水素（ＨＦ）と接触させて、３４６ｍｄｆを含む生成物混合物にすることによって生成される。
本開示のプロセスでは、３４６ｍｄｆを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）を生成する。
いくつかの実施形態では、２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＣＦ３ＣＨＣｌＣＨＣｌＣＦ３）（ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ、３３６ｍｄｄ）は、任意選択で触媒の存在下において液相若しくは気相中で又は光開始を用いて、Ｅ－１３３６ｍｚｚを塩素（Ｃｌ２）と接触させて、３３６ｍｄｄを含む生成物混合物にすることによって生成される。
いくつかの実施形態では、３３６ｍｄｄを、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを生成するプロセスにおいて使用し、このプロセスは、３３６ｍｄｄを塩基と接触させることを含む。いくつかの実施形態では、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを回収し、次いで、水素と反応させて、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを形成する。
本開示は、更に、本明細書に開示されるプロセスに従って生成される組成物を提供する。
本明細書で使用される際、「含む（comprises）」、「含む（comprising）」、「含む（includes）」、「含む（including）」、「有する（has）」、「有する（having）」という用語、又はこれらの他の任意の変化形は、非排他的な包含を網羅することを意図する。例えば、要素のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、これらの要素に必ずしも限定されるものではなく、そのようなプロセス、方法、物品、又は装置に対して明示的に記載されていない、又はこれらに固有のものではない、他の要素も含む場合がある。
量、濃度、又は他の値若しくはパラメータが、ある範囲、好ましい範囲、又は好ましい上方値及び／若しくは好ましい下方値のリストのいずれかとして与えられている場合に、これらは、範囲が別個に開示されているかに関わらず、任意の範囲上限値又は好ましい上方値及び任意の範囲下限値又は好ましい下方値の任意の対から形成される全ての範囲を、具体的に開示するものとして、理解されるものとする。本明細書に数値範囲が記述されている場合、特に指示しない限り、この範囲は、その端点を包含し、かつその範囲内の全ての整数及び分数を包含することが意図される。
「回収する」とは、後続の反応工程の出発材料として、又は、例えば、冷媒若しくは発泡体膨張剤若しくは溶媒若しくは消火剤若しくは電子ガスとして有用なＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン若しくはＺ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを回収する場合、その意図する用途に利用可能になるように、所望の生成物を十分に単離することを意味する。
回収工程の詳細は、生成物混合物の、後続の反応工程の反応条件との適合性に依存する。例えば、後続の反応工程とは異なるか又は不適合である反応媒体中で生成物が生成される場合、回収工程は、反応媒体を含む生成物混合物から所望の生成物を分離することを含んでいてよい。この分離は、所望の生成物が反応条件下で揮発性であるとき、接触工程と同時に行ってもよい。所望の生成物の揮発は、所望の生成物の単離及びそれによる回収を構成することができる。蒸気が、所望の生成物から分離することを意図する他の材料を含む場合、例えば、選択的蒸留によって所望の生成物を分離してもよい。
所望の生成物を生成物混合物から回収する工程は、好ましくは、所望の生成物を生成するために使用されるか又はプロセスで生成される生成物混合物の触媒又は他の成分から所望の生成物を分離することを含む。
本開示は、とりわけ、Ｅ－１３３６ｍｚｚ及びＺ－１３３６ｍｚｚを生成するためのプロセスを提供する。出発物質は、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含み得、これは、トリクロロエチレンから生成することができ、１つのプロセスは、本明細書に記載の通りである。
１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（２３２０ａｚ）の生成
１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ又は２３２０ａｚ）は、トリクロロエチレン（ＴＣＥ）の二量体化によって本開示に従って生成され得る。いくつかの実施形態では、２３２０ａｚを含む生成物混合物を生成するためのプロセスであって、高温でＴＣＥを二量体化触媒と接触させることを含む、プロセスが提供される。
１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ又は２３２０ａｚ）は、トリクロロエチレン（ＴＣＥ）の二量体化によって本開示に従って生成され得る。いくつかの実施形態では、２３２０ａｚを含む生成物混合物を生成するためのプロセスであって、高温でＴＣＥを二量体化触媒と接触させることを含む、プロセスが提供される。
いくつかの実施形態では、二量体化触媒は、鉄を含む。鉄二量体化触媒は、任意の供給源（供給源の組み合わせを含む）からの金属鉄を含んでいてよく、そして、鉄粉末、鉄線、鉄網、又は鉄削り屑であってもよく、これらを含んでいてもよい。鉄触媒はまた、塩化第二鉄又は塩化第一鉄（それぞれＦｅＣｌ３又はＦｅＣｌ２）などの鉄塩を含んでいてもよい。
いくつかの実施形態では、二量体化触媒は、銅を含む。銅二量体化触媒は、任意の供給源（供給源の組み合わせを含む）からの金属銅を含んでいてよく、そして、例えば、銅粉末又は銅線であってもよく、これらを含んでいてもよい。銅触媒はまた、塩化第一銅又は塩化第二銅（それぞれＣｕＣｌ又はＣｕＣｌ２）などの第一銅塩又は第二銅塩を含んでいてもよい。
このプロセスは、好ましくは、無水環境で実施される。例えば、塩化第二鉄を使用する場合、塩化第二鉄は好ましくは無水である。
いくつかの実施形態では、二量体化触媒は、使用されるＴＣＥ反応物質のモルに対して特定の濃度を有する。したがって、触媒が金属鉄触媒を含むいくつかの実施形態では、Ｆｅ線（又はＦｅ粉末）触媒のＴＣＥに対する重量比は、約０．０００１～約１である。他の実施形態では、鉄触媒のＴＣＥに対する重量比は、約０．０１～１である。
いくつかの実施形態では、二量体化触媒は、塩化第二鉄を含み、塩化第二鉄のＴＣＥに対する重量比は、約０．００００１～約１である。例えば、塩化第二鉄のＴＣＥに対する重量比は、約０．００００１～約０．００２であるが、別の例では、重量比は、約０．００００５～約０．００１である。更に別の例では、塩化第二鉄のＴＣＥに対する重量比は、約０．０００１～約１であるが、更なる例では、塩化第二鉄のＴＣＥに対する比は、約０．０００１５～約１である。
いくつかの実施形態では、トリクロロエチレンを二量体化触媒及びペンタクロロエタンと接触させる。ペンタクロロエタン（ＨＣＣ－１２０）は、反応を加速させて、２３２０ａｚを含む生成物混合物を生成する。特定の実施形態では、ＨＣＣ－１２０のＴＣＥに対する重量比は、約０．００１～約１である。他の実施形態では、ＨＣＣ－１２０のＴＣＥに対する重量比は、約０．００５～約１である。
ＴＣＥの二量体化は、高温、例えば、約２１０～約２３５℃の範囲の温度で行われる。温度は、２００℃超であってもよい。温度は、２４５℃未満であってもよい。
圧力は、典型的には、自己（autogenous）である。
接触（滞留）時間は、典型的には、約０．５～１０時間である。
いくつかの実施形態では、ＴＣＥの変換率は、少なくとも１５％、又は少なくとも３０％、又は少なくとも５０％である。いくつかの実施形態では、２３２０ａｚに対する選択率は、少なくとも８０％、又は少なくとも８５％、又は少なくとも９０％である。
二量体化反応における副生成物は、テトラクロロエタン異性体、テトラクロロブタジエン異性体、ヘキサクロロブテン異性体、トリクロロエチレンオリゴマーを含み得る。２３２０ａｚを含む生成物混合物は、Ｅ－１，１，２，３，４－ペンタクロロ－１，３－ブタジエン又はＺ－１，１，２，３，４－ペンタクロロ－１，３－ブタジエンを更に含んでいてもよい。．したがって、一実施形態では、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン、Ｅ－１，１，２，３，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン、及びＺ－１，１，２，３，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む組成物が存在する。
プロセスは、例えば、本明細書に記載の通り、ＨＣＦＣ－３４６ｍｄｆ、ＨＦＯ－Ｅ－１３３６ｍｚｚ、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチン、及びＨＦＯ－Ｚ－１３３６ｍｚｚを生成するためのプロセスにおいて、回収された２３２０ａｚを出発物質として使用する前に、生成物混合物から２３２０ａｚを回収することを更に含んでいてよい。
生成物混合物から２３２０ａｚを回収するためのプロセスは、当該技術分野において既知である蒸留などの精製技術のうちの１つ又は任意の組み合わせを含み得る。生成物混合物から２３２０ａｚを「回収する」ことによって、少なくとも９５％、又は少なくとも９７％、又は少なくとも９９％の２３２０ａｚを含む生成物が生成される。
特定の実施形態では、２３２０ａｚを生成するためのプロセスは、生成物混合物からトリクロロエチレンを回収することと、回収されたトリクロロエチレンを本明細書に記載の二量体化プロセスに再利用することと、を更に含んでいてもよい。
特定の実施形態では、２３２０ａｚを生成するためのプロセスは、生成物混合物からヘキサクロロブテン異性体を回収することと、回収されたヘキサクロロブテン異性体を本明細書に記載の二量体化プロセスに再利用することと、を更に含んでいてもよい。
特定の実施形態では、２３２０ａｚを生成するためのプロセスは、生成物混合物からペンタクロロエタンを回収することと、回収されたペンタクロロエタンを本明細書に記載の二量体化プロセスに再利用することと、を更に含んでいてもよい。
存在する場合、Ｅ－１，１，２，３，４－ペンタクロロ－１，３－ブタジエン及びＺ－１，１，２，３，４－ペンタクロロ－１，３－ブタジエンなどの他の生成物も回収され得る。
２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＨＣＦＣ－３４６ｍｄｆ）の生成
本明細書で提供されるプロセスによれば、液相中で触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（２３２０ａｚ）をＨＦと接触させて、ＨＣＦＣ－３４６ｍｄｆ（３４６ｍｄｆ）を含む生成物混合物を生成することを含む、プロセスが提供される。
本明細書で提供されるプロセスによれば、液相中で触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（２３２０ａｚ）をＨＦと接触させて、ＨＣＦＣ－３４６ｍｄｆ（３４６ｍｄｆ）を含む生成物混合物を生成することを含む、プロセスが提供される。
本発明の液相プロセスで使用することができるフッ素化触媒としては、金属ハロゲン化物などのルイス酸触媒に由来するものが挙げられる。ハロゲン化物は、フッ化物、塩化物、及び臭化物、又はこれらの組み合わせから選択してよい。金属ハロゲン化物は、遷移金属ハロゲン化物又は他の金属ハロゲン化物であってよい。遷移金属塩化物としては、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、タンタル、ニオブ、スズ、モリブデン、タングステン、及びアンチモンのハロゲン化物が挙げられる。他の好適な金属ハロゲン化物触媒としては、三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素、及び三フッ化ヒ素が挙げられる。
いくつかの実施形態では、液相フッ素化は、反応の規模に対して適切なサイズの任意の反応容器を含む反応ゾーンで行うことができる。いくつかの実施形態では、反応ゾーンは、耐腐食性の材料で構成された反応容器である。いくつかの実施形態では、これらの材料は、Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ（登録商標）などのニッケル系合金、商標Ｉｎｃｏｎｅｌ（登録商標）でＳｐｅｃｉａｌＭｅｔａｌｓＣｏｒｐ．から市販されているニッケル－クロム合金（以下、「Ｉｎｃｏｎｅｌ（登録商標）」）若しくは商標Ｍｏｎｅｌ（登録商標）でＳｐｅｃｉａｌＭｅｔａｌｓＣｏｒｐ．（Ｎｅｗ Ｈａｒｔｆｏｒｄ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）から市販されているニッケル－銅合金などの合金、又はフルオロポリマーで内張りされた容器を含む。他の実施形態では、反応容器は、ステンレス鋼、特にオーステナイト型のもの、及び銅覆鋼を含む他の構造材料で作製されていてもよい。
ＨＦの２３２０ａｚに対するモル比は、いくつかの実施形態では、約１～約３５である。他の実施形態では、ＨＦの２３２０ａｚに対するモル比は、約１～約２５である。
いくつかの実施形態では、フッ素化プロセスは、高温、例えば５０～１６０℃の範囲の温度で実施される。いくつかの実施形態では、温度は、１００℃超であってもよい。他の実施形態では、温度は、１５０℃未満であってもよい。
いくつかの実施形態では、フッ素化プロセスは、０～６００ｐｓｉ（０～４．１ＭＰａ）の範囲の圧力で実施される。
いくつかの実施形態では、フッ素化反応のための滞留時間は、約１～約２５時間であってよい。他の実施形態では、フッ素化反応のための滞留時間は、約２～約１０時間であってよい。他の実施形態では、フッ素化反応のための滞留時間は、約４～約６時間であってよい。
いくつかの実施形態では、３４６ｍｄｆを含む生成物混合物は、１，２－ジクロロ－１，１，４，４，４－ペンタフルオロブタン、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－クロロ－２－ブテン、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、及び１，１－ジクロロ－２，２，４，４，４－ペンタフルオロブタンのうちの１つ以上を更に含んでいてもよい。一実施形態では、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（３４６ｍｄｆ）、１，２－ジクロロ－１，１，４，４，４－ペンタフルオロブタン（３４５ｍｆｄ）、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－クロロ－２－ブテン（Ｚ－１３２６ｍｘｚ）、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）、及び１，１－ジクロロ－２，２，４，４，４－ペンタフルオロブタン（３４５ｍｆｃ）を含む組成物が存在する。
いくつかの実施形態では、生成物混合物は、３４６ｍｄｆを含む組成物であり、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（３５６ｍｆｆ）、１，１，１－トリフルオロ－２－トリフルオロメチルブタン（３５６ｍｚｚ）、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－クロロ－２－ブテン（Ｚ－１３２６ｍｘｚ）、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－クロロ－２－ブテン（Ｅ－１３２６ｍｘｚ）、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２，３－ジクロロブテン（Ｚ－１３１６ｍｘｘ）、及びＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２，３－ジクロロブテン（Ｅ－１３１６ｍｘｘ）を含む。ある実施形態では、３４６ｍｄｆを含む生成物混合物は、０重量％超かつ２重量％未満の３５６ｍｆｆ及び３５６ｍｍｚの各々、０重量％超かつ３重量％未満のＺ－１３２６ｍｘｚ、Ｚ－１３１６ｍｘｘ、及びＥ－１３１６ｍｘｘ、並びに０重量％超かつ５重量％未満のＥ－１３２６ｍｘｚを含む。この組成物は、本明細書に記載の通りＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）を生成するのに有用である。
いくつかの実施形態では、３４６ｍｄｆは、他の生成物に対して９０％、９２％、９４％、９５％、９６％、９７％、９８％、又は９９％を超える選択率で生成される。
プロセスは、３４６ｍｄｆを含む生成物混合物から３４６ｍｄｆを回収することを更に含んでいてもよい。３４６ｍｄｆを回収するためのプロセスは、当該技術分野において既知である蒸留などの精製技術のうちの１つ又は任意の組み合わせを含む。生成物混合物から３４６ｍｄｆを「回収する」ことによって、少なくとも９８．５％、又は少なくとも９９、又は少なくとも９９．５％の３４６ｍｄｆを含む、３４６ｍｄｆを含む生成物が生成される。
特定の実施形態では、３４６ｍｄｆを生成するためのプロセスは、生成物混合物から２３２０ａｚを回収することと、回収された２３２０ａｚを本明細書に記載のフッ素化プロセスに再利用することと、を更に含んでいてもよい。
いくつかの実施形態では、本明細書に開示される３４６ｍｄｆを生成するためのプロセスは、（ａ’）二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレンを接触させて、２３２０ａｚを含む生成物混合物を生成することと、（ａ）フッ素化触媒の存在下において液相中で、工程（ａ’）において生成された２３２０ａｚをフッ化水素と接触させて、３４６ｍｄｆを含む生成物混合物を生成することと、を含む。所望により、工程（ａ’）の後かつ工程（ａ）の前に、２３２０ａｚを回収する。
いくつかの実施形態では、本明細書に開示される３４６ｍｄｆを生成するためのプロセスは、（ａ’）二量体化触媒及びペンタクロロエタンの存在下でトリクロロエチレンを接触させて、２３２０ａｚを含む生成物混合物を生成することと、（ａ）フッ素化触媒の存在下において液相中で、工程（ａ’）において生成された２３２０ａｚをフッ化水素と接触させて、３４６ｍｄｆを含む生成物混合物を生成することと、を含む。所望により、工程（ａ’）の後かつ工程（ａ）の前に、２３２０ａｚを回収する。
工程（ａ’）及び（ａ）におけるプロセスの要素の変形例は、本明細書において上記に開示されている。２３２０ａｚの純度は、典型的には、工程（ａ）に進む前に少なくとも９７％である。
（Ｅ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エン（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）の生成
３４６ｍｄｆを塩基と接触させてＥ－１３３６ｍｚｚを含む生成物混合物を形成することを含む、本明細書におけるプロセスが更に提供される。３４６ｍｄｆをＥ－１３３６ｍｚｚに変換するのに有効な量の塩基を添加する。
３４６ｍｄｆを塩基と接触させてＥ－１３３６ｍｚｚを含む生成物混合物を形成することを含む、本明細書におけるプロセスが更に提供される。３４６ｍｄｆをＥ－１３３６ｍｚｚに変換するのに有効な量の塩基を添加する。
いくつかの実施形態では、塩基は、水酸化リチウム、酸化リチウム、水酸化ナトリウム、酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酸化カリウム、水酸化ルビジウム、酸化ルビジウム、水酸化セシウム、酸化セシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、及び酸化バリウムから選択される。いくつかの実施形態では、塩基は水酸化カリウムである。いくつかの実施形態では、塩基は水酸化ナトリウムである。いくつかの実施形態では、塩基は水溶液の状態にある。いくつかの実施形態では、水溶液の状態にある塩基の濃度は、約４Ｍ～約１２Ｍである。
いくつかの実施形態では、プロセスは、相間移動触媒の存在下で行われる。いくつかの実施形態では、相間移動触媒は、四級アンモニウム塩、複素環アンモニウム塩、有機ホスホニウム塩、及び非イオン性化合物から選択される。いくつかの実施形態では、相間移動触媒は、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、メチルトリカプリルアンモニウムクロリド、メチルトリブチルアンモニウムクロリド、メチルトリオクチルアンモニウムクロリド、ジメチルジフェニルホスホニウムヨージド、メチルトリフェノキシホスホニウムヨージド、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムクロリド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムブロミド、及びＤＬ－α－トコフェロールメトキシポリエチレングリコールスクシネートからなる群から選択される。いくつかの実施形態では、相間移動触媒は、メチルトリオクチルアンモニウムクロリドである。
いくつかの実施形態では、塩基は水酸化ナトリウムであり、相間移動触媒はメチルトリオクチルアンモニウムクロリドである。
いくつかの実施形態では、生成物混合物は、ヘキサフルオロイソブチレン（１３３６ｍｔ）、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（３５６ｍｆｆ）、（Ｅ）－１－クロロ－１，１，４，４，４－ペンタフルオロブタ－２－エン（１３３５ｌｚｚ）、及びＺ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３のうちの１つ以上を更に含む。いくつかの実施形態では、Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３は、約９５％以上の収率で生成される。いくつかの実施形態では、Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３は、混合物の他の成分に対して約９９モル％以上の選択率で生成される。
ある実施形態では、生成物混合物は、Ｅ－１３３６ｍｚｚと、各々０重量％超かつ１重量％未満のＺ－１３３６ｍｚｚ及び１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（３５６ｍｆｆ）と、０重量％超かつ０．５重量％未満の１，１，１－トリフルオロ－２－トリフルオロメチルブテン（１３３６ｍｔ、ＣＦ３（ＣＦ３）Ｃ＝ＣＨ２）と、０重量％超かつ０．２重量％未満の１－クロロ－１，１，４，４，４－ペンタフルオロブタ－２－エン（１３３５ｌｚｚ、ＣＦ２ＣｌＣＨ＝ＣＨＣＦ３）と、を含む組成物である。
ある実施形態では、生成物混合物は、Ｅ－１３３６ｍｚｚと、合計０重量％超かつ１重量％未満のＺ－及びＥ－１，１，２，４，４，４－ヘキサフルオロブテン（Ｚ－及びＥ－１３３６ｍｚｙ、ＣＦ２ＨＣＦ＝ＣＨＣＦ３）と、合計０重量％超かつ０．５重量％未満のＺ－及びＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－クロロ－２－ブテン（Ｚ－及びＥ－１３２６ｍｘｚ）と、合計０重量％超かつ０．２重量％未満のＺ－及びＥ－１，１，１，４，４ペンタフルオロ－２－クロロブテン（Ｚ－及びＥ－１３３５ｍｘｚ、ＣＦ２ＨＣＨ＝ＣＣｌＣＦ３）と、合計０重量％超かつ０．２重量％未満のＺ－及びＥ－１，１，１，４，４－ペンタフルオロ－３－クロロブテン（Ｚ－及びＥ－１３３５ｍｚｘ、ＣＦ２ＨＣＣｌ＝ＣＨＣＦ３）と、を含む組成物である。
ある実施形態では、生成物混合物は、Ｅ－１３３６ｍｚｚと、各々０重量％超かつ１重量％未満の１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（３５６ｍｆｆ、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３）、１，１，１－トリフルオロ－２－トリフルオロメチルブタン（３５６ｍｍｚ、（ＣＦ３）２ＣＨＣＨ３）、及び１，１，４，４，４－ペンタフルオロ－２－メチルブタ－１－エン（１３４５ｃｍ、ＣＦ３Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＦ２）と、合計０重量％超かつ０．１重量％未満のＺ－及びＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－クロロ－２－ブテン（Ｚ－及びＥ－１３２６ｍｘｚ）と、合計０重量％超かつ０．１重量％未満のＺ－及びＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２，３－ジクロロブテン（Ｚ－及びＥ－１３１６ｍｘｘ、ＣＦ３ＣＣｌ＝ＣＣｌＣＦ３）と、を含む組成物である。
本明細書で提供されるプロセスのいくつかの実施形態では、Ｅ－１３３６ｍｚｚは、生成物混合物から回収される。
ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの生成
２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＣＦ３ＣＨＣｌＣＨＣｌＣＦ３、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ）を含む生成物混合物を生成するための、Ｅ－１３３６ｍｚｚの塩素源との反応は、塩素源とＥ－１３３６ｍｚｚとを反応させて、所望のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ生成物を含む生成物混合物を生成する塩素化プロセスである。このプロセスは、各々好ましくは塩素化触媒の存在下で又は光開始を用いて、液体媒体中の液相において又は気相において実施してよい。液体媒体の例は、Ｅ－１３３６ｍｚｚ反応物質自体である。
２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＣＦ３ＣＨＣｌＣＨＣｌＣＦ３、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ）を含む生成物混合物を生成するための、Ｅ－１３３６ｍｚｚの塩素源との反応は、塩素源とＥ－１３３６ｍｚｚとを反応させて、所望のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ生成物を含む生成物混合物を生成する塩素化プロセスである。このプロセスは、各々好ましくは塩素化触媒の存在下で又は光開始を用いて、液体媒体中の液相において又は気相において実施してよい。液体媒体の例は、Ｅ－１３３６ｍｚｚ反応物質自体である。
光開始は、例えば国際公開第２００６／０６９１０８（Ａ１）号に記載の通り、光源、塩素（Ｃｌ２）源、及びＥ－１３３６ｍｚｚ（塩素化される材料）を含む好適な光開始装置において実施される。
好適な塩素化触媒の例としては、遷移金属塩化物又は塩化アルミニウムなどのルイス酸が挙げられる。
液相中のこの塩素化プロセスのための触媒は、塩化第二鉄、塩化クロム、塩化アルミナ、塩化第二銅、及びこれらのうちの２つ以上の組み合わせから選択され得る。気相中のこの塩素化プロセスのための触媒は、炭素に担持されている塩化第二鉄、塩化クロム、塩化アルミナ、塩化第二銅、及びこれらのうちの２つ以上の組み合わせから選択され得る。
塩素化プロセスの温度及び圧力条件は、好ましくは、高い選択率でＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを生成するのに有効であるように選択される。Ｅ－１３３６ｍｚｚによって供給されるものなどの液相中のプロセスの実施において、プロセスは、好ましくは、内の圧力が液体状態を維持するのに十分な圧力である閉鎖加圧式反応器で実施される。反応器内の圧力は、自己圧又は高圧であってよい。液体媒体中でプロセスを実行するとき、未反応の塩素をパージし、未反応のＥ－１３３６ｍｚｚを留去することによって、所望の生成物ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを反応器から回収することができる。蒸留前又は蒸留中又は蒸留後に生成物混合物から触媒が析出するのに十分に高い濃度で存在する場合、触媒を濾過することができる。あるいは、触媒は、蒸留容器内残液（distillation heel）に残留してもよい。
管状反応器を使用して、蒸気状態（相）でプロセスを実行してもよい。所望の選択率で所望のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ反応生成物を生成するのに有効な温度及び滞留時間で反応器に同時に供給されるＥ－１３３６ｍｚｚ及び塩素源との有効な接触のために、ルイス酸などの塩素化触媒を反応器内に位置付けてもよい。塩素化プロセスの温度は、反応器に熱を加えることによって維持される。好ましくは、プロセスの温度は、１００℃～２００℃の範囲である。管状反応器内の圧力は、好ましくは、約０．１～１ＭＰａである。ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを、蒸留によりこの生成物混合物から回収してもよい。
塩素源は、塩素、Ｎ－クロロスクシンイミド、次亜塩素酸ｔ－ブチル、塩化オキサリル、及び塩化スルフリルから選択され得る。
ある実施形態では、Ｅ－１３３６ｍｚｚの塩素源との反応は、塩素化触媒の存在下で行われ、塩素源は塩素（Ｃｌ２）である。ある実施形態では、Ｅ－１３３６ｍｚｚの塩素源との反応は、塩素化触媒の非存在下で行われ、塩素源は塩素（Ｃｌ２）である。
ある実施形態では、Ｅ－１３３６ｍｚｚの塩素源との反応は、紫外線照射の存在下で光開始を用いて行われ、塩素源は塩素である。
ある実施形態では、Ｅ－１３３６ｍｚｚの塩素源との反応は、塩素化触媒の非存在下で行われ、塩素源は、Ｎ－クロロスクシンイミド、次亜塩素酸ｔ－ブチル、塩化オキサリル、又は塩化スルフリルである。
プロセスは、生成物混合物の他の成分を低減するために、生成物混合物からＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを回収することを更に含んでいてもよい。ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを回収するためのプロセスは、当該技術分野において既知である蒸留などの精製技術のうちの１つ又は任意の組み合わせを含んでいてよい。生成物混合物からＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを「回収する」ことによって、少なくとも９８．５％、又は少なくとも９９、又は少なくとも９９．５％のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを含む生成物が生成される。いくつかの実施形態では、Ｅ－１３３６ｍｚｚを回収し、プロセスに再利用してもよく、又は別の目的で使用してもよい。
Ｅ－１３３６ｍｚｚの塩素化は、好ましくは、反応が液相中で実施されるか気相中で実施されるかにかかわらず、少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも９０％、最も好ましくは少なくとも９５％のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄに対する選択率を提供する。
３３６ｍｄｄを含む生成物混合物は、ＨＣＦＣ－３３６ｍｆａ（２，２－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン、ＣＦ３ＣＣｌ２ＣＨ２ＣＦ３）及びＨＣＦＣ－３２６ｍｄａ（２，３，３－トリクロロ－１，１，１，４，４，４－トリフルオロプロパン、ＣＦ３ＣＨＣｌＣＣｌ２ＣＦ３）のうちの１つ以上を更に含んでいてもよく、これらは、生成物混合物から回収され得る。あるいは、ＨＣＦＣ－３３６ｍｆａ及び／又はＨＣＦＣ－３２６ｍｄａを生成物混合物中に保持し、ヘキサフルオロ－２－ブチンを生成するための後続の工程に持ち越してもよい。
特定の実施形態では、３３６ｍｄｄを生成するためのプロセスは、塩素化生成物混合物から未変換のＥ－１３３６ｍｚｚを回収することと、回収されたＥ－１３３６ｍｚｚを、本明細書に記載の塩素化プロセスに再利用することと、を更に含んでいてもよい。
いくつかの実施形態では、生成物混合物から未変換のＥ－１３３６ｍｚｚを回収する。いくつかの実施形態では、Ｅ－１３３６ｍｚｚを、発泡剤又は伝熱流体などの別の目的のために使用してもよい。
１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの生成
本開示は、更に、脱塩化水素反応においてＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを塩基と接触させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチン（ＣＦ３Ｃ≡ＣＣＦ３）を含む生成物混合物を生成することを含む、プロセスを提供する。塩基は、好ましくは、塩基性水性媒体である。この反応工程は、好ましくは、触媒の存在下で実施される。好ましくは、塩基性水性媒体は、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属ハロゲン化物塩又は他の塩基の水溶液を含む。好ましくは、触媒は、相間移動触媒である。本明細書で使用するとき、相間移動触媒は、有機相と水相との間のイオン性化合物の移動を促進する物質を意味することを意図する。この工程では、有機相はＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ反応物質を含み、水相は塩基性水性媒体を含む。相間移動触媒は、これらの類似していない不適合な成分の反応を促進する。
本開示は、更に、脱塩化水素反応においてＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを塩基と接触させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチン（ＣＦ３Ｃ≡ＣＣＦ３）を含む生成物混合物を生成することを含む、プロセスを提供する。塩基は、好ましくは、塩基性水性媒体である。この反応工程は、好ましくは、触媒の存在下で実施される。好ましくは、塩基性水性媒体は、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属ハロゲン化物塩又は他の塩基の水溶液を含む。好ましくは、触媒は、相間移動触媒である。本明細書で使用するとき、相間移動触媒は、有機相と水相との間のイオン性化合物の移動を促進する物質を意味することを意図する。この工程では、有機相はＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ反応物質を含み、水相は塩基性水性媒体を含む。相間移動触媒は、これらの類似していない不適合な成分の反応を促進する。
様々な相間移動触媒が様々な様式で機能し得るが、その作用機序は、相間移動触媒が脱塩化水素反応を促進する限り、本発明におけるその有用性を限定するものではない。
好ましい相間移動触媒は、四級アルキルアンモニウム塩である。いくつかの実施形態では、四級アルキルアンモニウム塩の少なくとも１つのアルキル基は、少なくとも８個の炭素を含有する。３つのアルキル基が少なくとも８個の炭素原子を含有する四級アルキルアンモニウム塩の例としては、塩化トリオクチルメチルアンモニウムが挙げられる。Ａｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６は、塩化トリオクチルメチルアンモニウムを含有する市販の相間移動触媒である。４つのアルキル基が少なくとも８個の炭素原子を含有する四級アルキルアンモニウム塩の例としては、テトラオクチルアンモニウム塩が挙げられる。このような塩のアニオンは、塩化物若しくは臭化物などのハロゲン化物、硫酸水素、又は任意の他の一般的に使用されるアニオンであってよい。具体的な四級アルキルアンモニウム塩としては、塩化テトラオクチルアンモニウム、硫酸水素テトラオクチルアンモニウム、臭化テトラオクチルアンモニウム、塩化メチルトリオクチルアンモニウム、臭化メチルトリオクチルアンモニウム、塩化テトラデシルアンモニウム、臭化テトラデシルアンモニウム、及び塩化テトラドデシルアンモニウムが挙げられる。このような実施形態によれば、相間移動触媒及び反応条件は、好ましくは１時間当たり少なくとも５０％のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの変換率を達成するのに有効である。
他の実施形態では、四級アルキルアンモニウム塩のアルキル基は４～１０個の炭素原子を含有し、非イオン性界面活性剤が水性塩基性媒体中に存在する。このような実施形態によれば、相間移動触媒及び反応条件は、好ましくは１時間当たり少なくとも２０％のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの変換率を達成するのに有効である。アルキル基が４～１０個の炭素原子を含有する四級アルキルアンモニウム塩のアニオンは、塩化物若しくは臭化物などのハロゲン化物、硫酸水素、又は任意の他の一般的に使用されるアニオンであってよい。上記の四級アルキルアンモニウム塩は、これらのアルキル基が４～１０個の炭素原子を含有するならば、この実施形態で使用することができる。特定の追加の塩としては、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、及び硫酸水素テトラブチルアンモニウムが挙げられる。
好ましい非イオン性界面活性剤としては、エトキシ化ノニルフェノール又はエトキシ化Ｃ１２～Ｃ１５直鎖脂肪族アルコールが挙げられる。非イオン性界面活性剤としては、Ｓｔｅｐａｎ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｎｏｒｔｈｆｉｅｌｄ，ＩＬ）から入手可能な、本発明において有用なＢｉｏ－ｓｏｆｔ（登録商標）Ｎ２５－９及びＭａｋｏｎ（登録商標）１０が挙げられる。
いくつかの実施形態では、四級アルキルアンモニウム塩は、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの０．５モルパーセント～２モルパーセントの量で添加される。他の実施形態では、四級アルキルアンモニウム塩は、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの１モルパーセント～２モルパーセントの量で添加される。更に他の実施形態では、四級アルキルアンモニウム塩は、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの１モルパーセント～１．５モルパーセントの量で添加される。いくつかの実施形態では、四級アルキルアンモニウム塩は、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの１モルパーセント～１．５モルパーセントの量で添加され、添加される非イオン性界面活性剤の重量は、四級アルキルアンモニウム塩の重量の１～２倍である。これらの量は、使用される四級アルキルアンモニウム塩の上記の実施形態のそれぞれに適用される。
いくつかの実施形態では、反応は、約６０～９０℃、最も好ましくは７０℃の温度で実施される。
塩基性水性媒体は、主に７を超えるｐＨを有する水性液体である液体（溶液、分散液、エマルション、又は懸濁液などのいずれであるかにかかわらず）である。いくつかの実施形態では、塩基性水溶液は、８を超えるｐＨを有する。いくつかの実施形態では、塩基性水溶液は、１０を超えるｐＨを有する。いくつかの実施形態では、塩基性水溶液は、１０～１３のｐＨを有する。幾つかの実施形態では、塩基性水溶液は、水と混和性であっても不混和性であってもよい有機液体を少量含有する。いくつかの実施形態では、塩基性水溶液中の液体は、少なくとも９０％水である。いくつかの実施形態では、水は、水道水であり、他の実施形態では、水は、脱イオン水又は蒸留水である。
塩基は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びこれらの混合物の水酸化物、酸化物、炭酸塩、又はリン酸塩から選択される。いくつかの実施形態では、塩基は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、及びこれらの混合物から選択される。
塩基性水性媒体及び塩基のこれらの実施形態は、上記の相転移触媒、量、及び反応条件の全てに適用される。１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの形成に対する選択率は、好ましくは少なくとも８５％である。
いくつかの実施形態では、３３６ｍｄｄの１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンへの脱塩化水素反応は、アルカリ金属ハロゲン化物塩の存在下で実施される。アルカリ金属は、ナトリウム又はカリウムであってよい。ハロゲン化物は、塩化物又は臭化物であってよい。好ましいアルカリ金属ハロゲン化物塩は、塩化ナトリウムである。任意の特定の理論に束縛されるものではないが、アルカリ金属ハロゲン化物塩は、相間移動触媒を安定化すると考えられている。脱塩化水素反応自体がアルカリ金属塩化物、特に、水酸化ナトリウムを塩基として用いる場合は塩化ナトリウムを生成するが、追加の塩化ナトリウムを添加すると、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの収量が増加するという更なる効果が得られる。いくつかの実施形態では、アルカリ金属ハロゲン化物は、相間移動触媒１モル当たり約２５～約１００当量で添加される。他の実施形態では、アルカリ金属ハロゲン化物は、相間移動触媒１モル当たり約３０～約７５当量で添加される。更に他の実施形態では、アルカリ金属ハロゲン化物は、相間移動触媒１モル当たり約４０～約６０当量で添加される。これらの量は、上述の四級アルキルアンモニウム塩のそれぞれに適用される。
生成物１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチン（沸点－２５℃）は、蒸留によって生成物混合物から回収することができ、この場合、ブチンを水性媒体から蒸発させ、次いで、凝縮させることができる。更に、生成物混合物はまた、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－クロロ－２－ブテン（ＨＣＦＯ－１３２６、Ｚ異性体、Ｅ異性体、又はこれらの混合物）を含有していてもよく、これは生成物混合物から分離し、そして、脱塩化水素反応においてＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを塩基と接触させて、ＣＦ３Ｃ≡ＣＣＦ３を含む生成物混合物を生成することを含む、プロセス工程に再利用することができる。
Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンの生成
本開示は、更に、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と接触させて、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン（Ｚ－１３３６ｍｚｚ）を含む生成物混合物を生成することを含む、水素化プロセスを提供する。このプロセスは、好ましくは、アルキンのアルケンへの触媒の存在下で実施される。
本開示は、更に、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と接触させて、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン（Ｚ－１３３６ｍｚｚ）を含む生成物混合物を生成することを含む、水素化プロセスを提供する。このプロセスは、好ましくは、アルキンのアルケンへの触媒の存在下で実施される。
いくつかの実施形態では、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの水素化は、液相中でバッチプロセスとして実施される。
いくつかの実施形態では、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの水素化は、気相中で連続プロセスとして実施される。
いくつかの実施形態では、アルキンのアルケンへの触媒は、銀及び／又はランタニドでドープされた、酸化アルミニウム又はケイ酸チタン上に分散しているパラジウムなどのパラジウム触媒である。酸化アルミニウム又はケイ酸チタン上に分散しているパラジウムの担持量は、比較的低い。いくつかの実施形態では、パラジウム担持量は、約１００ｐｐｍ～約５０００ｐｐｍである。他の実施形態では、パラジウム担持量は、約２００ｐｐｍ～約５０００ｐｐｍである。いくつかの実施形態では、パラジウム触媒に、銀、セリウム、又はランタンのうちの少なくとも１つをドープする。いくつかの実施形態では、セリウム又はランタンのパラジウムに対するモル比は、約２：１～約３：１である。いくつかの実施形態では、銀のパラジウムに対するモル比は、約０．５：１．０である。
アルキン→アルカン触媒の他の実施形態は、鉛化合物で不活化又はコンディショニングされている、炭酸カルシウム担体に担持された不均一パラジウム触媒であるリンドラー触媒である。鉛化合物は、酢酸鉛、酸化鉛、又は任意の他の好適な鉛化合物であってよい。いくつかの実施形態では、触媒は、炭酸カルシウムのスラリーの存在下でパラジウム塩を還元し、続いて、鉛化合物を添加することによって生成される。いくつかの実施形態では、塩化パラジウム中のパラジウム塩。
他の実施形態では、リンドラー触媒は、更にキノリンで不活化又はコンディショニングされる。担体に担持されたパラジウムの量は、典型的には約５重量％であるが、任意の触媒的に有効な量であってよい。他の実施形態では、リンドラー触媒中の担体に担持されたパラジウムの量は、５重量％超である。更に他の実施形態では、担体に担持されたパラジウムの量は、約５重量％～約１重量％であり得る。
いくつかの実施形態では、用いられる触媒の量は、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの量の約０．５重量％～約４重量％である。他の実施形態では、用いられる触媒の量は、ブチンの量の約１重量％～約３重量％である。更に他の実施形態では、用いられる触媒の量は、ブチンの量の約１重量％～約２重量％である。
いくつかの実施形態では、この反応工程はバッチ反応であり、溶媒の存在下で実施される。このような一実施形態では、溶媒は、アルコールである。典型的なアルコール溶媒としては、エタノール、ｉ－プロパノール、及びｎ－プロパノールが挙げられる。他の実施形態では、溶媒は、フルオロカーボン又はヒドロフルオロカーボンである。典型的なフルオロカーボン又はヒドロフルオロカーボンとしては、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロペンタン及び１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンが挙げられる。
いくつかの実施形態では、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの水素との反応は、好ましくは、水素を少しずつ添加しながら実施され、各添加により容器の圧力は約１００ｐｓｉ（０．６９ＭＰａ）以下しか増加しない。他の実施形態では、水素の添加は、各添加により容器内の圧力が約５０ｐｓｉ（０．３５ＭＰａ）以下しか増加しないように制御される。いくつかの実施形態では、十分な水素が水素化反応で消費されて、ブチンの少なくとも５０％がＺ－１３３６ｍｚｚに変換された後、反応の残留物に対して、より大きな増分で水素を添加することができる。他の実施形態では、十分な水素が水素化反応で消費されて、ブチンの少なくとも６０％が所望のブテンに変換された後、反応の残留物に対して、より大きな増分で水素を添加することができる。更に他の実施形態では、十分な水素が水素化反応で消費されて、ブチンの少なくとも７０％が所望のブテンに変換された後、反応の残留物に対して、より大きな増分で水素を添加することができる。いくつかの実施形態では、水素添加のより大きな増分は、３００ｐｓｉ（２．０７ＭＰａ）であってよい。他の実施形態では、水素添加のより大きな増分は、４００ｐｓｉ（２．７６ＭＰａ）であってよい。
いくつかの実施形態では、モル比は、約１モルの１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンに対して約１モルの水素である。他の実施形態では、ブチンに対する水素のモル比は、約０．９モル～約１．３モルである。更に他の実施形態では、添加される水素の量は、ブチン約１．１モルに対して水素約０．９５モルである。更に他の実施形態では、添加される水素の量は、ブチン約１．０３モルに対して水素約０．９５モルである。
いくつかの実施形態では、水素化は、周囲温度（１５℃～２５℃）で実施される。他の実施形態では、水素化は、周囲温度よりも高い温度で実施される。更に他の実施形態では、水素化は、周囲温度よりも低い温度で実施される。更に他の実施形態では、水素化は、約０℃よりも低い温度で実施される。
連続プロセスの実施形態では、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンと水素との混合物を、触媒を含む反応ゾーンに通す。反応容器、例えば金属管を使用し、触媒を充填して反応ゾーンを形成してもよい。いくつかの実施形態では、水素のブチンに対するモル比は、約１：１である。連続プロセスの他の実施形態では、水素のブチンに対するモル比は、１：１未満である。更に他の実施形態では、水素のブチンに対するモル比は、約０．６７：１．０である。
連続プロセスのいくつかの実施形態では、反応ゾーンを周囲温度で維持する。連続プロセスの別の実施形態では、反応ゾーンを３０℃の温度で維持する。連続プロセスの更に別の実施形態では、反応ゾーンを約４０℃の温度で維持する。
連続プロセスのいくつかの実施形態では、反応ゾーンにおける滞留時間が約３０秒間になるように、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチン及び水素の流速を維持する。連続プロセスの他の実施形態では、反応ゾーンにおける滞留時間が約１５秒間になるように、ブチン及び水素の流速を維持する。連続プロセスの更に他の実施形態では、反応ゾーンにおける滞留時間が約７秒間になるように、ブチン及び水素の流速を維持する。
１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチン及び水素が反応ゾーンに入る流速を増加させることによって反応ゾーンにおける滞留時間が短縮されることが理解される。流速が増加するにつれて、単位時間当たりの水素化されるブチンの量が増加する。水素化は発熱性であるので、反応ゾーンの長さ及び直径、並びにその放熱能に応じて、より高い流速では、反応ゾーンに外部冷却源を設けて所望の温度を維持することが望ましい場合がある。
触媒の選択を含む接触工程の条件は、好ましくは、少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも９０％、最も好ましくは少なくとも９５％の選択率でＺ－１３３６ｍｚｚを生成するように選択される。
いくつかの実施形態では、バッチ式又は連続の異性化プロセスの完了時に、例えば分留を含む任意の従来のプロセスを通してＺ－１３３６ｍｚｚを回収することができる。未変換のヘキサフルオロ－２－ブチンを回収し、水素化プロセスに再利用してもよい。他の実施形態では、バッチ式又は連続の水素化プロセスの完了時に、Ｚ－１３３６ｍｚｚは、更なる精製工程を必要としないほど十分な純度を有する。
材料
トリクロロエチレン、塩素、塩化第二鉄、ＴａＣｌ５、ペンタクロロエタン（ＨＣＣ－１２０）、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド（Ａｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６）、ＮａＯＨ、及びリンドラー触媒は、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ）から入手可能である。フッ化水素は、Ｓｙｎｑｕｅｓｔ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ．（Ａｌａｃｈｕａ，ＦＬ）から購入した。Ｍａｋｏｎ（登録商標）１０非イオン性界面活性剤は、Ｓｔｅｐａｎ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｎｏｒｔｈｆｉｅｌｄ，ＩＬ）から入手可能である。
トリクロロエチレン、塩素、塩化第二鉄、ＴａＣｌ５、ペンタクロロエタン（ＨＣＣ－１２０）、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド（Ａｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６）、ＮａＯＨ、及びリンドラー触媒は、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ）から入手可能である。フッ化水素は、Ｓｙｎｑｕｅｓｔ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ．（Ａｌａｃｈｕａ，ＦＬ）から購入した。Ｍａｋｏｎ（登録商標）１０非イオン性界面活性剤は、Ｓｔｅｐａｎ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｎｏｒｔｈｆｉｅｌｄ，ＩＬ）から入手可能である。
Ａｇｉｌｅｎｔ（登録商標）５９７５ ＧＣ、ＲＥＳＴＥＫ Ｒｔｘ－１カラムを使用して、実施例１～４のＧＣ分析を実施した。
実施例１：１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ）の調製
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、３０ｍｇの無水ＦｅＣｌ３を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、３０ｍｇの無水ＦｅＣｌ３を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
実施例２：１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ）の調製
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、１ｇの鉄線を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、１ｇの鉄線を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
実施例３：１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ）の調製
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、２０ｍｇの無水ＦｅＣｌ３及び１ｇのＨＣＣ－１２０を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、２０ｍｇの無水ＦｅＣｌ３及び１ｇのＨＣＣ－１２０を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
実施例４：１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン（ＨＣＣ－２３２０ａｚ）の調製
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、１ｇの鉄線及び１ｇのＨＣＣ－１２０を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
トリクロロエチレン（１００ｇ、０．７６ｍｏｌ）を、１ｇの鉄線及び１ｇのＨＣＣ－１２０を入れたシェーカー管に添加した。反応混合物を２３０℃で２時間加熱した。反応器の内容物を室温まで冷却し、ＧＣによって分析して、変換及び選択率を求めた。結果を表１に提供する。
表１から分かるように、ＦｅＣｌ３又はＦｅ線触媒を使用したとき、ＨＣＣ－１２０の存在は、トリクロロエチレンの２３２０ａｚへの変換率を増加させる。
実施例５：２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＨＣＦＣ－３４６ｍｄｆ）の調製
ＴａＣｌ５（１２．５ｇ）を２１０ｍＬのＨａｓｔｅｌｌｏｙ（登録商標）Ｃ反応器に添加し、続いて、ＨＦ（４９ｇ）を添加した。反応混合物を１時間かけて１５０℃に加熱し、０℃に冷却した。ＨＣＣ－２３２０ａｚ（２６ｇ）を反応器に添加し、反応物を１３０℃に加熱し戻した。反応速度は、圧力上昇によって示された。レベルオフ圧力は、反応の完了を意味する。水系後処理及び相分離後、生成物混合物をＧＣによって分析したところ、出発物質が１００％変換され、生成物ＨＣＦＣ－３４６ｍｄｆに対する選択率が９８％であることを示した。
ＴａＣｌ５（１２．５ｇ）を２１０ｍＬのＨａｓｔｅｌｌｏｙ（登録商標）Ｃ反応器に添加し、続いて、ＨＦ（４９ｇ）を添加した。反応混合物を１時間かけて１５０℃に加熱し、０℃に冷却した。ＨＣＣ－２３２０ａｚ（２６ｇ）を反応器に添加し、反応物を１３０℃に加熱し戻した。反応速度は、圧力上昇によって示された。レベルオフ圧力は、反応の完了を意味する。水系後処理及び相分離後、生成物混合物をＧＣによって分析したところ、出発物質が１００％変換され、生成物ＨＣＦＣ－３４６ｍｄｆに対する選択率が９８％であることを示した。
実施例６：Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）の調製
０．２７ｇの塩化メチルトリオクチルアンモニウム（Ａｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６）の存在下において室温（ＲＴ）で３４６ｍｄｆ（１０ｇ、０．０５ｍｏｌ）及び水（６．８ｍＬ）にＮａＯＨ水溶液（６ｍＬ、０．０６ｍｏｌ）を添加した。添加後、反応温度を７０℃に昇温し、ガスクロマトグラフィーを用いて反応をモニタリングした。２時間後、７．２ｇの生成物Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）をドライアイストラップ（Ｅ－１３３６ｍｚｚ選択性：９９．４％、収率：９５．４％）にて回収した。
０．２７ｇの塩化メチルトリオクチルアンモニウム（Ａｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６）の存在下において室温（ＲＴ）で３４６ｍｄｆ（１０ｇ、０．０５ｍｏｌ）及び水（６．８ｍＬ）にＮａＯＨ水溶液（６ｍＬ、０．０６ｍｏｌ）を添加した。添加後、反応温度を７０℃に昇温し、ガスクロマトグラフィーを用いて反応をモニタリングした。２時間後、７．２ｇの生成物Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）をドライアイストラップ（Ｅ－１３３６ｍｚｚ選択性：９９．４％、収率：９５．４％）にて回収した。
実施例７：Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）の調製
ＫＯＨ水溶液（６ｍＬ、０．０６ｍｏｌ）を、室温（ＲＴ）で３４６ｍｄｆ（１０ｇ、０．０５ｍｏｌ）及び水（６．８ｍＬ）に添加した。添加後、反応温度を７０℃に昇温し、ガスクロマトグラフィーを用いて反応をモニタリングした。２時間後、７．６ｇの生成物Ｅ－１３３６ｍｚｚをドライアイストラップにて回収した（Ｅ－１３３６ｍｚｚ選択率：９９．５％、収率：９６％）。
ＫＯＨ水溶液（６ｍＬ、０．０６ｍｏｌ）を、室温（ＲＴ）で３４６ｍｄｆ（１０ｇ、０．０５ｍｏｌ）及び水（６．８ｍＬ）に添加した。添加後、反応温度を７０℃に昇温し、ガスクロマトグラフィーを用いて反応をモニタリングした。２時間後、７．６ｇの生成物Ｅ－１３３６ｍｚｚをドライアイストラップにて回収した（Ｅ－１３３６ｍｚｚ選択率：９９．５％、収率：９６％）。
生成物の組成を以下の表２に示し、９９％を超えるＥ－１３３６ｍｚｚが含有されている。
比較例：Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）の調製
ＮａＯＨ（６ｍＬ、０．０６ｍｏｌ）の水溶液を、室温（ＲＴ）で３４６ｍｄｆ（１０ｇ、０．０５ｍｏｌ）及び水（６．８ｍＬ）に添加した。添加後、反応温度を７０℃に昇温し、ガスクロマトグラフィーを用いて反応をモニタリングした。２時間後、０．１ｇの生成物Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）をドライアイストラップ（収率：＜１％）にて回収した。
ＮａＯＨ（６ｍＬ、０．０６ｍｏｌ）の水溶液を、室温（ＲＴ）で３４６ｍｄｆ（１０ｇ、０．０５ｍｏｌ）及び水（６．８ｍＬ）に添加した。添加後、反応温度を７０℃に昇温し、ガスクロマトグラフィーを用いて反応をモニタリングした。２時間後、０．１ｇの生成物Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）をドライアイストラップ（収率：＜１％）にて回収した。
実施例８：２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ）の液相調製
この実施例では、液相中でＥ－１３３６ｍｚｚを触媒的及び熱的に塩素化して、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを生成する。ルイス酸触媒を使用する。
この実施例では、液相中でＥ－１３３６ｍｚｚを触媒的及び熱的に塩素化して、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを生成する。ルイス酸触媒を使用する。
Ｈａｓｔ（登録商標）Ｃ反応器で液相反応を行った。液体媒体は、Ｅ－１３３６ｍｚｚ反応物質であった。使用する場合、触媒は、液相中に存在していた。反応器の内容物をシリンダに移し、ＧＣにより分析して、変換及び選択率を求めた。未反応の塩素をパージし、未反応のＥ－１３３６ｍｚｚを留去し、触媒を濾過することにより、反応からＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを回収した。反応条件及び結果を表３に示す。
実施例８－１～８－６の各々については、Ｅ－１３３６ｍｚｚ（２０ｇ、０．１２２モル）及び塩素（８．６５ｇ、０．１２２モル）を、指定の時間にわたって、Ｈａｓｔ（登録商標）Ｃ反応器内において、ＦｅＣｌ３、ＣｒＣｌ３、ＡｌＣｌ３、又はＣｕＣｌ２触媒（０．４ｇ、０．００２５ｍｏｌ）の存在下で、指定の温度に加熱した。指定の温度及び指定の時間を表３に提供する。
実施例８－７及び８－８については、Ｅ－１３３６ｍｚｚ（２０ｇ、０．１２２モル）及び塩素（８．６５ｇ、０．１２２モル）を、表３中の指定の温度まで、２１０ｍＬのＨａｓｔｅｌｌｏｙ（登録商標）Ｃ反応器内で、２時間かけて表３中の指定の温度まで加熱した。触媒は存在していなかった。
実施例８－１～８－８の結果の比較は、触媒の存在下で、並びに少なくとも１３０℃又は少なくとも１５０℃の温度で行われる反応の選好を示す。
実施例９：２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ）の気相調製
気相反応の手順は以下の通りであった：Ｉｎｃｏｎｅｌ（登録商標）チューブ（ＯＤ０．５インチ、長さ１５インチ、壁厚０．３４インチ）に、酸洗浄されたＴａｋｅｄａ（登録商標）炭素上の塩化第二鉄２ｃｃ（１．１０ｇｍ）を充填した。反応器をリンドバーグ炉内で１２５℃まで加熱し、ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）を２．４２～４．８３ｍＬ／時で供給し、８０℃で制御された気化器を通して６．２～１３．０ｓｃｃｍ（標準立方センチメートル／分）で塩素ガスを供給した。稼働の過程で、温度を１７５℃まで昇温した。以下の実験は全て、４９～５１ｐｓｉｇ（０．３４～０．３５ＭＰａ）で行った。３０ｓｃｃｍのヘリウムでパージした、Ａｇｉｌｅｎｔ（登録商標）６８９０ ＧＣ／５９７３ ＭＳ及びＲｅｓｔｅｋ（登録商標）ＰＣ２６１８ ５％Ｋｒｙｔｏｘ（登録商標）ＣＢＫ－Ｄ／６０／８０ ６メートル×２ｍｍ ＩＤ １／８”ＯＤパックドカラムを使用して、反応器の流出物をオンラインで分析した。ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを蒸留により回収した。
気相反応の手順は以下の通りであった：Ｉｎｃｏｎｅｌ（登録商標）チューブ（ＯＤ０．５インチ、長さ１５インチ、壁厚０．３４インチ）に、酸洗浄されたＴａｋｅｄａ（登録商標）炭素上の塩化第二鉄２ｃｃ（１．１０ｇｍ）を充填した。反応器をリンドバーグ炉内で１２５℃まで加熱し、ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ－１３３６ｍｚｚ）を２．４２～４．８３ｍＬ／時で供給し、８０℃で制御された気化器を通して６．２～１３．０ｓｃｃｍ（標準立方センチメートル／分）で塩素ガスを供給した。稼働の過程で、温度を１７５℃まで昇温した。以下の実験は全て、４９～５１ｐｓｉｇ（０．３４～０．３５ＭＰａ）で行った。３０ｓｃｃｍのヘリウムでパージした、Ａｇｉｌｅｎｔ（登録商標）６８９０ ＧＣ／５９７３ ＭＳ及びＲｅｓｔｅｋ（登録商標）ＰＣ２６１８ ５％Ｋｒｙｔｏｘ（登録商標）ＣＢＫ－Ｄ／６０／８０ ６メートル×２ｍｍ ＩＤ １／８”ＯＤパックドカラムを使用して、反応器の流出物をオンラインで分析した。ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを蒸留により回収した。
データを表４に示す。サンプルは、１時間間隔で採取する。
表４中、２３６ｆａ（ＨＦＣ－１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロプロパン）及び１２３（ＨＣＦＣ－２，２－ジクロロ－１，１，１－トリフルオロエタン）は、反応器への供給物中の不純物である。
反応条件は、１７５℃の反応器温度で２７～２９秒の滞留時間をもたらし、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの生成において高い選択率を与える。
実施例１０：２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタン（ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ）の調製
この実施例では、反応を光開始させる。
この実施例では、反応を光開始させる。
５０ガロン（１９０Ｌ）の撹拌反応容器は、冷却ジャケット付きのカラム、オーバーヘッド凝縮器、浸漬管、及び石英ライトウェルを備えていた。ライトウェルには、４５０ワットの水銀アークランプ電球が装着されていた。
この反応器に、１５８ｋｇのＥ－１３３６ｍｚｚを充填し、この液体を０℃に冷却した。攪拌器を１００ｒｐｍで作動させ、オーバーヘッド凝縮器を約－２０℃に冷却し、ライトを点灯させた。この系に、温度及び圧力を制御するための供給速度を用いて、５１時間かけて浸漬管を通して６９ｋｇの塩素をゆっくりと添加した。液体反応温度及び圧力は、それぞれ１０℃及び１ｐｓｉｇ（０．０７ＭＰａ）を超えないようにした。
塩素添加が完了してから、ライトを消灯し、溶液を室温まで加温した。この系を、苛性スクラバーを通して周囲に排気し、粗反応混合物を貯蔵容器に脱インベント（de-inventoried）した。得られた粗反応混合物（６６３Ｋｇ／４２２Ｌ）を３バッチ合わせ、次いで、底部排出弁を備えた２００ガロン（７５０Ｌ）の撹拌容器に浸漬管を通して粗反応混合物をゆっくりと添加し、８０ガロン（３００Ｌ）の１０％Ｋ２ＨＰＯ４／ＫＨ２ＰＯ４水溶液を充填することによって、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの回収を行った。添加を行った後、この混合物を３時間激しく撹拌し、次いで、撹拌を停止させた。次いで、伝導率測定を使用して相の変化を判定するために、反応器から下相の有機相をデカントした。得られた中和された有機油状物は、水－白色液体であり、５～６のｐＨを有しており、モレキュラーシーブの床に通して乾燥させ、最終精製のために保管した。７バッチにわたる単離された化学物質の収率は９８％であった。得られたＧＣアッセイ（％ＦＩＤ）は、９３．５％の２つの３３６ｍｄｄジアステレオマー（３３６ｍｄｄ－ｄｌ及び３３６ｍｄｄ－ｍｅｓｏ）であり、アッセイの残部は、生成物／出発物質のオリゴマーであると推定された重い未知物質が約６％であり、反応の選択率は９３．５％であった。最終精製を、蒸留によって行った。
実施例１１．１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンの調製
表４中の特定の情報に従って実施例９に記載の気相プロセスを用いてＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを生成して、９９．４％のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの選択率を得た。
表４中の特定の情報に従って実施例９に記載の気相プロセスを用いてＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄを生成して、９９．４％のＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄの選択率を得た。
室温で、トリオクチルメチルアンモニウムクロリドであるＡｌｉｑｕａｔ（登録商標）３３６（０．５３ｇ、０．００１３２５ｍｏｌ）の存在下において、ＨＣＦＣ－３３６ｍｄｄ（２３．５ｇ、０．１ｍｏｌ）及び水（５．６ｍＬ）にＮａＯＨ水溶液（２２ｍＬ、０．２２モル）を添加した。添加後、反応温度を７０℃に昇温し、ガスクロマトグラフィーを用いて反応をモニタリングした。反応は、２時間後に完了し、１４ｇの１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチン生成物（変換率：１００％；収率：８６％）をドライアイストラップで回収した。ブチンを蒸留により精製した。
実施例１２：Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンの調製
以下の手順によって、実施例１１に従って生成された１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と反応させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンの所望のＺ異性体を生成した：５ｇのリンドラー（鉛で被毒したＣａＣＯ３に担持された５％Ｐｄ）触媒を１．３Ｌのロッカーボム（rocker bomb）に充填した。４８０ｇ（２．９６モル）のヘキサフルオロ－２－ブチンをロッカーに投入した。反応器を冷却し（－７８℃）、排気した。ボムを室温に加温した後、Δｐ＝５０ｐｓｉ（０．３５ＭＰａ）を超えない増分で、Ｈ２をゆっくり添加した。合計３モルのＨ２を反応器に添加した。粗生成物のガスクロマトグラフィー分析は、混合物が、ＣＦ３Ｃ≡ＣＣＦ３（０．２３６％）、トランス異性体Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（０．４４４％）、飽和ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３（１．９％）、ＣＦ２＝ＣＨＣｌ、出発ブチン由来の不純物（０．６２８％）、シス異性体Ｚ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（９６．７４８％）からなることを示した。
以下の手順によって、実施例１１に従って生成された１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と反応させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンの所望のＺ異性体を生成した：５ｇのリンドラー（鉛で被毒したＣａＣＯ３に担持された５％Ｐｄ）触媒を１．３Ｌのロッカーボム（rocker bomb）に充填した。４８０ｇ（２．９６モル）のヘキサフルオロ－２－ブチンをロッカーに投入した。反応器を冷却し（－７８℃）、排気した。ボムを室温に加温した後、Δｐ＝５０ｐｓｉ（０．３５ＭＰａ）を超えない増分で、Ｈ２をゆっくり添加した。合計３モルのＨ２を反応器に添加した。粗生成物のガスクロマトグラフィー分析は、混合物が、ＣＦ３Ｃ≡ＣＣＦ３（０．２３６％）、トランス異性体Ｅ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（０．４４４％）、飽和ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３（１．９％）、ＣＦ２＝ＣＨＣｌ、出発ブチン由来の不純物（０．６２８％）、シス異性体Ｚ－ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（９６．７４８％）からなることを示した。
粗生成物の蒸留によって、２８７ｇ（収率５９％）の１００％純粋なシスＣＦ３ＣＨ＝ＣＨＣＦ３（沸点３３．３℃）を得た。ＭＳ：１６４［ＭＩ］、１４５［Ｍ－１９］、９５［ＣＦ３ＣＨ＝ＣＨ］、６９［ＣＦ３］。ＮＭＲ Ｈ１：６．１２ｐｐｍ（マルチプレット）、Ｆ１９：－６０．９ｐｐｍ（トリプレットＪ＝０．８６Ｈｚ）。Ｚ異性体の形成に対するこの反応の選択率は、９６．９８％であった。Ｚ異性体を蒸留により回収した。
他の実施形態
１．本開示は、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスであって、（ａ）液相中でフッ素化触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を生成することと、（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、（ｃ）Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを塩素源と接触させて、２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を形成することと、（ｄ）２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを含む生成物混合物を生成することと、（ｅ）１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と接触させて、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、を含む、プロセスを提供する。
２．実施形態１に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてよい。
３．実施形態１に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレン及びペンタクロロエタンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてもよい。
４．実施形態２又は３に記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン及びトリクロロエチレンを含む生成物混合物を生成することができる。
５．実施形態４に記載のプロセスは、トリクロロエチレンを回収することと、実施形態２に記載のプロセスに再利用することと、を更に含んでいてよい。
６．実施形態２～５のいずれかに記載の二量体化触媒は、鉄又は銅を含んでいてよい。
７．実施形態２～６のいずれかに記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成物混合物から回収することと、回収された１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを工程（ａ）に再利用することと、を更に含んでいてよい。
８．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属鉄を含む。
９．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第二鉄を含む。
１０．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属銅を含む。
１１．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第一銅又は塩化第二銅を含む。
１２．任意の実施形態３に記載のプロセスでは、ペンタクロロエタンのトリクロロエチレンに対する重量比は、約０．００１～約１又は約０．００５～約１である。
１３．先行する実施形態１～１２のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）のフッ素化触媒は、ルイス酸触媒である。
１４．先行する実施形態１～１３のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）におけるＨＦの１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンに対するモル比は、約１～約３５である。
１５．先行する実施形態１～１４のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）の生成物混合物は、１，２－ジクロロ－１，１，４，４，４－ペンタクロロブタンを含む。
１６．先行する実施形態１～１５のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）の塩基は、水酸化リチウム、酸化リチウム、水酸化ナトリウム、酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酸化カリウム、水酸化ルビジウム、酸化ルビジウム、水酸化セシウム、酸化セシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、及び酸化バリウムから選択される。
１７．先行する実施形態１～１６のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）は、相間移動触媒の存在下で行われる。
１８．実施形態１７に記載のプロセスでは、相間移動触媒は、四級アンモニウム塩、複素環アンモニウム塩、有機ホスホニウム塩、及び非イオン性化合物から選択される。
１９．先行する実施形態１～１８のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｃ）は、液相中で行われる。
２０．先行する実施形態１～１８のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｃ）は、気相中で行われる。
２１．先行する実施形態１～２０のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｃ）における塩素源は、塩素である。
２２．先行する実施形態１～２１のいずれかに記載のプロセスでは、塩基は、工程（ｄ）における塩基性水性媒体である。
２３．先行する実施形態１～２２のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｄ）は、相間移動触媒の存在下で行われる。
２４．先行する実施形態１～２３のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｄ）は、アルカリ金属ハロゲン化物塩の存在下で行われる。
２５．先行する実施形態１～２４のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｅ）における触媒は、アルキンのアルケンへの触媒である。
２６．実施形態２５に記載のプロセスでは、アルキンのアルケンへの触媒は、銀及び／又はランタニドでドープされた、酸化アルミニウム又はケイ酸チタン上に分散しているパラジウム触媒である。
２７．実施形態２６に記載のプロセスでは、パラジウム担持量は、１００ｐｐｍ～５０００ｐｐｍである。
２８．実施形態２６又は２７に記載のプロセスでは、パラジウム触媒は、銀、セリウム、又はランタンのうちの少なくとも１つでドープされる。
２９．実施形態２５に記載のプロセスでは、アルキンのアルケンへの触媒は、リンドラー触媒である。
３０．先行する実施形態１～２９のいずれかでは、プロセスは、工程（ｂ）の前に工程（ａ）の生成物混合物から２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを回収すること、又は工程（ｃ）の前に工程（ｂ）の生成物混合物からＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを回収すること、又は工程（ｄ）の前に工程（ｃ）の生成物混合物から２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを回収すること、又は工程（ｅ）の前に工程（ｄ）の生成物混合物から１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンヘキサフルオロブタンを回収すること、又は工程（ｅ）の生成物混合物からＺ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを回収すること、を更に含む。
３１．本開示は、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスであって、（ａ）液相中でフッ素化触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を生成することと、（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、を含む、プロセスを提供する。
３２．本開示は、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスであって、（ａ）液相中でフッ素化触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を生成することと、（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、を含む、プロセスを提供する。
３３．実施形態３２に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてよい。
３４．実施形態３２に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレン及びペンタクロロエタンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてもよい。
３５．実施形態３３又は３４に記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン及びトリクロロエチレンを含む生成物混合物を生成することができる。
３６．実施形態３５に記載のプロセスは、トリクロロエチレンを回収することと、実施形態２に記載のプロセスに再利用することと、を更に含んでいてよい。
３７．実施形態３３～３６のいずれかに記載の二量体化触媒は、鉄又は銅を含んでいてよい。
３８．実施形態３３～３７のいずれかに記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成物混合物から回収することと、回収された１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを工程（ａ）に再利用することと、を更に含んでいてよい。
３９．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属鉄を含む。
４０．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第二鉄を含む。
４１．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属銅を含む。
４２．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第一銅又は塩化第二銅を含む。
４３．任意の実施形態３４に記載のプロセスでは、ペンタクロロエタンのトリクロロエチレンに対する重量比は、約０．００１～約１又は約０．００５～約１である。
４４．先行する実施形態３２～４３のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）のフッ素化触媒は、ルイス酸触媒である。
４５．前述の実施形態３２～４４のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）におけるＨＦの１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンに対するモル比は、約１～約３５である。
４６．先行する実施形態３２～４５のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）の生成物混合物は、１，２－ジクロロ－１，１，４，４，４－ペンタクロロブタンを含む。
４７．先行する実施形態３２～４６のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）の塩基は、水酸化リチウム、酸化リチウム、水酸化ナトリウム、酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酸化カリウム、水酸化ルビジウム、酸化ルビジウム、水酸化セシウム、酸化セシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、及び酸化バリウムから選択される。
４８．先行する実施形態３２～４７のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）は、相間移動触媒の存在下で行われる。
４９．実施形態４８に記載のプロセスでは、相間移動触媒は、四級アンモニウム塩、複素環アンモニウム塩、有機ホスホニウム塩、及び非イオン性化合物から選択される。
１．本開示は、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスであって、（ａ）液相中でフッ素化触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を生成することと、（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、（ｃ）Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを塩素源と接触させて、２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を形成することと、（ｄ）２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを含む生成物混合物を生成することと、（ｅ）１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と接触させて、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、を含む、プロセスを提供する。
２．実施形態１に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてよい。
３．実施形態１に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレン及びペンタクロロエタンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてもよい。
４．実施形態２又は３に記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン及びトリクロロエチレンを含む生成物混合物を生成することができる。
５．実施形態４に記載のプロセスは、トリクロロエチレンを回収することと、実施形態２に記載のプロセスに再利用することと、を更に含んでいてよい。
６．実施形態２～５のいずれかに記載の二量体化触媒は、鉄又は銅を含んでいてよい。
７．実施形態２～６のいずれかに記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成物混合物から回収することと、回収された１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを工程（ａ）に再利用することと、を更に含んでいてよい。
８．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属鉄を含む。
９．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第二鉄を含む。
１０．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属銅を含む。
１１．実施形態２～７のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第一銅又は塩化第二銅を含む。
１２．任意の実施形態３に記載のプロセスでは、ペンタクロロエタンのトリクロロエチレンに対する重量比は、約０．００１～約１又は約０．００５～約１である。
１３．先行する実施形態１～１２のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）のフッ素化触媒は、ルイス酸触媒である。
１４．先行する実施形態１～１３のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）におけるＨＦの１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンに対するモル比は、約１～約３５である。
１５．先行する実施形態１～１４のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）の生成物混合物は、１，２－ジクロロ－１，１，４，４，４－ペンタクロロブタンを含む。
１６．先行する実施形態１～１５のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）の塩基は、水酸化リチウム、酸化リチウム、水酸化ナトリウム、酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酸化カリウム、水酸化ルビジウム、酸化ルビジウム、水酸化セシウム、酸化セシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、及び酸化バリウムから選択される。
１７．先行する実施形態１～１６のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）は、相間移動触媒の存在下で行われる。
１８．実施形態１７に記載のプロセスでは、相間移動触媒は、四級アンモニウム塩、複素環アンモニウム塩、有機ホスホニウム塩、及び非イオン性化合物から選択される。
１９．先行する実施形態１～１８のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｃ）は、液相中で行われる。
２０．先行する実施形態１～１８のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｃ）は、気相中で行われる。
２１．先行する実施形態１～２０のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｃ）における塩素源は、塩素である。
２２．先行する実施形態１～２１のいずれかに記載のプロセスでは、塩基は、工程（ｄ）における塩基性水性媒体である。
２３．先行する実施形態１～２２のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｄ）は、相間移動触媒の存在下で行われる。
２４．先行する実施形態１～２３のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｄ）は、アルカリ金属ハロゲン化物塩の存在下で行われる。
２５．先行する実施形態１～２４のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｅ）における触媒は、アルキンのアルケンへの触媒である。
２６．実施形態２５に記載のプロセスでは、アルキンのアルケンへの触媒は、銀及び／又はランタニドでドープされた、酸化アルミニウム又はケイ酸チタン上に分散しているパラジウム触媒である。
２７．実施形態２６に記載のプロセスでは、パラジウム担持量は、１００ｐｐｍ～５０００ｐｐｍである。
２８．実施形態２６又は２７に記載のプロセスでは、パラジウム触媒は、銀、セリウム、又はランタンのうちの少なくとも１つでドープされる。
２９．実施形態２５に記載のプロセスでは、アルキンのアルケンへの触媒は、リンドラー触媒である。
３０．先行する実施形態１～２９のいずれかでは、プロセスは、工程（ｂ）の前に工程（ａ）の生成物混合物から２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを回収すること、又は工程（ｃ）の前に工程（ｂ）の生成物混合物からＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを回収すること、又は工程（ｄ）の前に工程（ｃ）の生成物混合物から２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを回収すること、又は工程（ｅ）の前に工程（ｄ）の生成物混合物から１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンヘキサフルオロブタンを回収すること、又は工程（ｅ）の生成物混合物からＺ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを回収すること、を更に含む。
３１．本開示は、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスであって、（ａ）液相中でフッ素化触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を生成することと、（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、を含む、プロセスを提供する。
３２．本開示は、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセスであって、（ａ）液相中でフッ素化触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物を生成することと、（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物を生成することと、を含む、プロセスを提供する。
３３．実施形態３２に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてよい。
３４．実施形態３２に記載のプロセスは、二量体化触媒の存在下でトリクロロエチレン及びペンタクロロエタンを接触させて、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを含む生成物混合物を生成することを更に含んでいてもよい。
３５．実施形態３３又は３４に記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエン及びトリクロロエチレンを含む生成物混合物を生成することができる。
３６．実施形態３５に記載のプロセスは、トリクロロエチレンを回収することと、実施形態２に記載のプロセスに再利用することと、を更に含んでいてよい。
３７．実施形態３３～３６のいずれかに記載の二量体化触媒は、鉄又は銅を含んでいてよい。
３８．実施形態３３～３７のいずれかに記載のプロセスは、１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成物混合物から回収することと、回収された１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを工程（ａ）に再利用することと、を更に含んでいてよい。
３９．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属鉄を含む。
４０．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第二鉄を含む。
４１．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、金属銅を含む。
４２．実施形態３３～３８のいずれかに記載のプロセスでは、二量体化触媒は、塩化第一銅又は塩化第二銅を含む。
４３．任意の実施形態３４に記載のプロセスでは、ペンタクロロエタンのトリクロロエチレンに対する重量比は、約０．００１～約１又は約０．００５～約１である。
４４．先行する実施形態３２～４３のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）のフッ素化触媒は、ルイス酸触媒である。
４５．前述の実施形態３２～４４のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）におけるＨＦの１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンに対するモル比は、約１～約３５である。
４６．先行する実施形態３２～４５のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ａ）の生成物混合物は、１，２－ジクロロ－１，１，４，４，４－ペンタクロロブタンを含む。
４７．先行する実施形態３２～４６のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）の塩基は、水酸化リチウム、酸化リチウム、水酸化ナトリウム、酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酸化カリウム、水酸化ルビジウム、酸化ルビジウム、水酸化セシウム、酸化セシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、及び酸化バリウムから選択される。
４８．先行する実施形態３２～４７のいずれかに記載のプロセスでは、工程（ｂ）は、相間移動触媒の存在下で行われる。
４９．実施形態４８に記載のプロセスでは、相間移動触媒は、四級アンモニウム塩、複素環アンモニウム塩、有機ホスホニウム塩、及び非イオン性化合物から選択される。
本発明をその詳細な説明と併せて説明してきたが、前述の説明は、添付の特許請求の範囲により定義される本発明の範囲を例示することを意図し、かつ限定するものではないことを理解すべきである。他の態様、利点、及び変更は、以下の特許請求の範囲内である。本発明が、本発明の任意の特定の態様及び／又は実施形態に関して本明細書に記載される特徴のいずれも、本明細書に記載される本発明の任意の他の態様及び／又は実施形態の他の特徴のいずれかのうちの１つ以上と組み合わせることができ、組み合わせの適合性を確実にするために適宜変更することができることが、当業者により理解されるべきである。このような組み合わせは、本開示により企図される本発明の一部であるとみなされる。
Claims (33)
- Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを生成するためのプロセスであって、
（ａ）液相中で触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物混合物を生成することと、
（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物混合物を生成することと、
（ｃ）触媒の存在下でＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを塩素源と接触させて、２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物混合物を生成することと、
（ｄ）２，３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを含む生成物混合物を生成することと、
（ｅ）１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを水素と接触させて、Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物混合物を生成することと、を含む、プロセス。 - １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンが、触媒の存在下でトリクロロエチレンを接触させることによって生成される、請求項１に記載のプロセス。
- 前記生成物混合物からトリクロロエチレンを回収することと、前記回収されたトリクロロエチレンを再利用することと、を更に含む、請求項２に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンが、触媒の存在下でトリクロロエチレン及びペンタクロロエタンを接触させることによって生成される、請求項１に記載のプロセス。
- 前記生成物混合物からトリクロロエチレンを回収することと、前記回収されたトリクロロエチレンを再利用することと、を更に含む、請求項４に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成するために使用される前記触媒が、鉄を含む、請求項２又は４に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成するために使用される前記触媒が、銅を含む、請求項２又は４に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを前記生成物混合物から回収することと、前記回収された１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを工程（ａ）に再利用することと、を更に含む、請求項１に記載のプロセス。
- 工程（ａ）における前記触媒が、金属ハロゲン化物である、請求項１に記載のプロセス。
- 工程（ｂ）が、相間移動触媒の存在下で行われる、請求項１に記載のプロセス。
- 工程（ｃ）が、気相中において気相触媒の存在下で行われる、請求項１に記載のプロセス。
- 工程（ｃ）が、液相中において液相触媒の存在下で行われる、請求項１に記載のプロセス。
- 工程（ｄ）が、相間移動触媒の存在下で行われる、請求項１に記載のプロセス。
- 工程（ｃ）が、光開始を用いて行われる、請求項１に記載のプロセス。
- 工程（ｅ）が、アルキンのアルケンへの触媒の存在下で行われる、請求項１に記載のプロセス。
- 前記アルキンのアルケンへの触媒が、パラジウムを含む、請求項１５に記載のプロセス。
- 前記アルキンのアルケンへの触媒が、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、又はケイ酸チタンから選択される担体を含む、請求項１５又は１６に記載のプロセス。
- 前記アルキンのアルケンへの触媒が、１００～５０００ｐｐｍの濃度で、Ａｇ又はランタニド毒と共に酸化アルミニウム、炭化ケイ素、又はケイ酸チタン上に分散しているパラジウム触媒である、請求項１５に記載のプロセス。
- 工程（ａ）から２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを回収することを更に含む、請求項１～１８のいずれか一項に記載のプロセス。
- 工程（ｂ）からＥ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを回収することを更に含む、請求項１～１９のいずれか一項に記載のプロセス。
- 工程（ｃ）から２．３－ジクロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを回収することを更に含む、請求項１～２０のいずれか一項に記載のプロセス。
- 工程（ｄ）から１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを回収することを更に含む、請求項１～２１のいずれか一項に記載のプロセス。
- 工程（ｅ）からＺ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブチンを回収することを更に含む、請求項１～２２のいずれか一項に記載のプロセス。
- Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを生成するためのプロセスであって、
（ａ）液相中で触媒の存在下において１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンをＨＦと接触させて、２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを含む生成物混合物を生成することと、
（ｂ）２－クロロ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタンを塩基と接触させて、Ｅ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンを含む生成物混合物を生成することと、を含む、プロセス。 - １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンが、触媒の存在下でトリクロロエチレンを接触させることによって生成される、請求項２４に記載のプロセス。
- 前記生成物混合物からトリクロロエチレンを回収することと、前記回収されたトリクロロエチレンを再利用することと、を更に含む、請求項２５に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンが、触媒の存在下でトリクロロエチレン及びペンタクロロエタンを接触させることによって生成される、請求項２４に記載のプロセス。
- 前記生成物混合物からトリクロロエチレンを回収することと、前記回収されたトリクロロエチレンを再利用することと、を更に含む、請求項２７に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成するために使用される前記触媒が、鉄を含む、請求項２５又は２７に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを生成するために使用される前記触媒が、銅を含む、請求項２５又は２７に記載のプロセス。
- １，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを前記生成物混合物から回収することと、前記回収された１，１，２，４，４－ペンタクロロブタ－１，３－ジエンを工程（ａ）に再利用することと、を更に含む、請求項２４に記載のプロセス。
- 工程（ａ）における前記触媒が、金属ハロゲン化物である、請求項２４に記載のプロセス。
- 工程（ｂ）が、相間移動触媒の存在下で行われる、請求項２４に記載のプロセス。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201962829854P | 2019-04-05 | 2019-04-05 | |
| US62/829,854 | 2019-04-05 | ||
| PCT/US2020/026692 WO2020206335A1 (en) | 2019-04-05 | 2020-04-03 | Processes for producing z-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene and intermediates for producing same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022526810A true JP2022526810A (ja) | 2022-05-26 |
| JPWO2020206335A5 JPWO2020206335A5 (ja) | 2023-02-14 |
Family
ID=70476406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021559372A Pending JP2022526810A (ja) | 2019-04-05 | 2020-04-03 | Ｚ－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エン及びそれを生成するための中間体を生成するためのプロセス |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220194882A1 (ja) |
| EP (1) | EP3947326A1 (ja) |
| JP (1) | JP2022526810A (ja) |
| KR (1) | KR20210148285A (ja) |
| CN (1) | CN113661154B (ja) |
| AU (1) | AU2020252557A1 (ja) |
| BR (1) | BR112021018331A2 (ja) |
| CA (1) | CA3131532A1 (ja) |
| MX (1) | MX2021011163A (ja) |
| WO (1) | WO2020206335A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW202346449A (zh) | 2022-04-22 | 2023-12-01 | 美商科慕Ｆｃ有限責任公司 | 包含ｅ－１，１，１，４，４，４－六氟－２－丁烯之氟丁烯組成物及其用途 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5097082A (en) * | 1990-06-05 | 1992-03-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Production of saturated halohydrocarbons |
| JPH05194287A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-08-03 | Daikin Ind Ltd | ハロゲン化ブテンおよびブタンの製造方法 |
| DE4213975A1 (de) * | 1992-04-29 | 1993-11-04 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von hexafluorbutan und dabei zugaengliche zwischenprodukte |
| EP1838648A1 (en) | 2004-12-22 | 2007-10-03 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Photochlorination and fluorination process for preparation of fluorine-containing hydrocarbons |
| US8530709B2 (en) * | 2010-05-21 | 2013-09-10 | Honeywell International Inc. | Process for the production of fluorinated alkenes |
| CN108530261A (zh) * | 2012-09-28 | 2018-09-14 | 科慕埃弗西有限公司 | 氯化反应物的脱氯化氢以制备1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁炔 |
| CN103172489B (zh) * | 2013-03-14 | 2015-07-15 | 巨化集团技术中心 | 一种1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯的合成方法 |
| US20170015607A1 (en) * | 2014-03-21 | 2017-01-19 | The Chemours Company Fc, Llc | Processes for the production of z 1,1,1,4,4,4 hexafluoro 2-butene |
| CN104529695B (zh) * | 2015-01-26 | 2016-06-22 | 杭州芳环科技有限公司 | 一种制备1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯的方法 |
| CN111065616A (zh) * | 2017-09-11 | 2020-04-24 | 科慕埃弗西有限公司 | 用于制备(e)-1，1，1，4，4，4-六氟丁-2-烯的液相方法 |
-
2020
- 2020-04-03 CA CA3131532A patent/CA3131532A1/en active Pending
- 2020-04-03 CN CN202080026965.1A patent/CN113661154B/zh active Active
- 2020-04-03 US US17/601,515 patent/US20220194882A1/en active Pending
- 2020-04-03 MX MX2021011163A patent/MX2021011163A/es unknown
- 2020-04-03 BR BR112021018331A patent/BR112021018331A2/pt unknown
- 2020-04-03 JP JP2021559372A patent/JP2022526810A/ja active Pending
- 2020-04-03 EP EP20722793.5A patent/EP3947326A1/en active Pending
- 2020-04-03 WO PCT/US2020/026692 patent/WO2020206335A1/en unknown
- 2020-04-03 KR KR1020217035781A patent/KR20210148285A/ko active Search and Examination
- 2020-04-03 AU AU2020252557A patent/AU2020252557A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20210148285A (ko) | 2021-12-07 |
| WO2020206335A1 (en) | 2020-10-08 |
| AU2020252557A1 (en) | 2021-09-09 |
| CN113661154A (zh) | 2021-11-16 |
| CA3131532A1 (en) | 2020-10-08 |
| MX2021011163A (es) | 2021-10-22 |
| CN113661154B (zh) | 2024-04-09 |
| US20220194882A1 (en) | 2022-06-23 |
| EP3947326A1 (en) | 2022-02-09 |
| BR112021018331A2 (pt) | 2021-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102350419B1 (ko) | Z-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로-2-부텐의 생산을 위한 통합 공정 | |
| WO2015142981A1 (en) | Processes for the production of z 1,1,1,4,4,4 hexafluoro 2-butene | |
| CN113661154B (zh) | 用于制备z-1,1,1,4,4,4-六氟丁-2-烯的方法以及用于制备其的中间体 | |
| JP2022526613A (ja) | １，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロブタ－２－エンを生成するためのプロセス | |
| EP3947327B1 (en) | Processes for producing z-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene and intermediates for producing same | |
| EP3947331B1 (en) | Processes for producing z-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene and intermediates for producing same | |
| JP2023516058A (ja) | （ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン及び中間体を生成するためのプロセス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211006 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230203 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230203 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231206 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231226 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20240326 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20240527 |