JP2022526748A - 半導体デバイスにおけるパラメタ安定位置ずれ計測改善 - Google Patents
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Abstract
Description
本願では、「計測条件によるオーバレイ誤差変動に基づく動的な正確性最適化」(DYNAMIC ACCURACY OPTIMIZATION BASED ON OVERLAY ERROR VARIATION WITH MEASUREMENT CONDITIONS)と題する2019年3月21日付米国仮特許出願第62/821596号を参照し、その開示内容を参照により本願に繰り入れ且つそれに基づく優先権を主張することにする。
Claims (28)
- パラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、
その上に形成された複数個の多層半導体デバイスが備わるウェハであり企図上同一なバッチウェハのなかから選択されたものを準備し、
位置ずれ計量ツールを用い、そのウェハの少なくとも第1層・第2層間の位置ずれを複数個の計測パラメタ集合を用い複数サイトにて計測することで、前記計測パラメタ集合それぞれに係る位置ずれ計測データを生成し、
前記ウェハに係り前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データからパラメタ依存部分及び平均誤差部分を特定して除去することで、そのウェハに係る改善パラメタ安定改善位置ずれデータを生成する、
パラメタ安定位置ずれ計測改善方法。 - 請求項1に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記計測パラメタ集合が、少なくとも、位置ずれ計測に用いられる複数通りの光波長を含むパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項1又は2に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記パラメタ依存部分及び前記平均誤差部分を特定する際に、
前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データに関しパラメタ依存部分を特定し、
前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれデータの前記パラメタ依存部分の少なくとも1個の主成分を特定し、
前記パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データの前記パラメタ依存部分の前記少なくとも1個の主成分に関し加重係数を特定し、且つ
少なくとも一通りの平均誤差部分を、当該平均誤差部分それぞれが前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データの前記パラメタ依存部分の前記少なくとも1個の主成分それぞれに対応する態で特定するパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。 - 請求項1~3のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、更に、前記パラメタ依存部分及び前記平均誤差部分を用い、前記企図上同一なバッチウェハのなかから選択された少なくとも1枚の付加的ウェハに係り前記計測パラメタ集合それぞれに関する位置ずれ計測データから、パラメタ依存部分及び平均誤差部分を特定して除去することで、当該少なくとも1枚の付加的ウェハに係る改善パラメタ安定改善位置ずれデータを生成するパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項1~4のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記位置ずれ計量ツールが撮像式位置ずれ計量ツールであるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項1~4のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記位置ずれ計量ツールがスキャタロメトリ式位置ずれ計量ツールであるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項1~6のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれデータの前記パラメタ依存部分の前記少なくとも1個の主成分が、主成分分析を用い特定されるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項1~7のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記平均誤差部分が参照位置ずれ値を用い特定されるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項8に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記参照位置ずれ値が、参照位置ずれ計量ツールを用い前記ウェハを計測することで生成されるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項9に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記参照位置ずれツールが電子ビーム式位置ずれ計量ツールであるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項1~7のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記平均誤差部分が統計モデルを用い特定されるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項11に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記統計モデルが、前記ウェハについての複数回の位置ずれ計測をもとに編纂されるパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項11又は12に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記統計モデルがモデル化部分及び非モデル化部分を有するパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。
- 請求項1~13のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善方法であって、前記計測パラメタ集合が、
位置ずれ計測における焦点可変性、
位置ずれ計測に用いられる数値開口、
位置ずれ計測に用いられる光の入射角、及び
位置ずれ計測に用いられる光の偏向、
のうち少なくとも一つを含むパラメタ安定位置ずれ計測改善方法。 - パラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、
その上に形成された複数個の多層半導体デバイスが備わるウェハであり企図上同一なウェハ群からなるバッチから選択されたウェハの少なくとも第1層・第2層間の位置ずれを、複数個の計測パラメタ集合を用い複数サイトにて計測することで、当該パラメタそれぞれに係る位置ずれ計測データを生成するよう動作する位置ずれ計量ツールと、
位置ずれデータアナライザであり、
前記ウェハに係り前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データからパラメタ依存部分及び平均誤差部分を特定して除去することで、そのウェハに係る改善パラメタ安定改善位置ずれデータを生成するよう、
動作する位置ずれデータアナライザと、
を備えるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。 - 請求項15に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記計測パラメタ集合が、少なくとも、位置ずれ計測に用いられる複数通りの光波長を含むパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項15又は16に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記位置ずれデータアナライザが、更に、
前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データに関しパラメタ依存部分を特定し、
前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれデータの前記パラメタ依存部分の少なくとも1個の主成分を特定し、
前記パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データに係る前記パラメタ依存部分の少なくとも1個の主成分に関し加重係数を特定し、且つ
少なくとも一通りの平均誤差部分を、当該少なくとも一通りの平均誤差部分それぞれが前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれ計測データの前記パラメタ依存部分の前記少なくとも1個の主成分それぞれに対応する態で特定するよう、
動作するパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。 - 請求項15~17のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記アナライザが、更に、前記パラメタ依存部分及び前記平均誤差部分を用い、前記企図上同一なウェハ群からなる前記バッチから選択された少なくとも1枚の付加的ウェハに係り前記計測パラメタ集合それぞれに関する前記位置ずれ計測データのなかから、前記パラメタ依存部分及び平均誤差部分を特定して除去することで、当該少なくとも1枚の付加的ウェハに係る改善パラメタ安定改善位置ずれデータを生成するよう、動作するパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項15~18のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記位置ずれ計量ツールが撮像式位置ずれ計量ツールであるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項15~18のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記位置ずれ計量ツールがスキャタロメトリ式位置ずれ計量ツールであるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項15~20のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記計測パラメタ集合それぞれに係る前記位置ずれデータの前記パラメタ依存部分の前記少なくとも1個の主成分が、主成分分析を用い特定されるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項15~21のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記平均誤差部分が参照位置ずれ値を用い特定されるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項22に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記参照位置ずれ値が、参照位置ずれ計量ツールを用い前記ウェハを計測することで生成されるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項23に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記参照位置ずれツールが電子ビーム式位置ずれ計量ツールであるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項15~21のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記平均誤差部分が統計モデルを用い特定されるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項25に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記統計モデルが、前記ウェハについての複数回の位置ずれ計測をもとに編纂されるパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項25又は26に係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記統計モデルがモデル化部分及び非モデル化部分を有するパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
- 請求項15~27のうち何れかに係るパラメタ安定位置ずれ計測改善システムであって、前記計測パラメタ集合が、
位置ずれ計測における焦点可変性、
位置ずれ計測に用いられる数値開口、
位置ずれ計測に用いられる光の入射角、及び
位置ずれ計測に用いられる光の偏向、
のうち少なくとも一つを含むパラメタ安定位置ずれ計測改善システム。
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