JP2022521028A - リボンを製造するための方法及び装置 - Google Patents

リボンを製造するための方法及び装置 Download PDF

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Abstract

リボンの製造方法は、移動するリボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップを含みうる。この方法は、リボンの溶融部分の不均一性の位置を含む加熱ゾーンに偏向パルスレーザビームを衝突させるステップをさらに含みうる。幾つかの実施形態では、加熱ゾーンは、移動するリボンの移動経路の移動方向に延在しうる。幾つかの実施形態では、パルスレーザビームは、実質的に一定の角速度で回転する多角形反射装置の反射面で反射されうる。幾つかの実施形態では、該方法は、偏向パルスレーザビームをセンシングデバイスに衝突させて信号を生成するステップを含みうる。該方法は、センシングデバイスからの信号に基づいて偏向パルスレーザビームの位置を較正するステップをさらに含みうる。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、その内容が依拠され、その全体がここに参照することによって以下に完全に記載されているかのように本願に援用される、２０１９年４月１２日出願の米国仮特許出願第６２／８３３，２６０号の優先権の利益を主張する。
本開示は、概して、リボンを製造するための方法及び装置に関し、より詳細には、リボンの溶融部分の不均一性の位置を加熱するための方法及び装置に関する。
リボンの溶融部分の予め選択された部分に向けられたレーザビームを用いて、リボンの溶融部分の厚さを制御することが知られている。レーザビームは、リボンの溶融部分の予め選択された部分の温度を上昇させ、粘度を低下させて、溶融部分をリボンのガラス部分へと冷却する前に、予め選択された部分を所望の厚さに到達させることができる。
本開示の幾つかの例示的な実施形態は、該実施形態のいずれかが単独で又は互いに組み合わせて使用することができることを理解するとともに、以下に説明される。
実施態様１．リボンの製造方法は、移動経路の移動方向に沿ってリボンを移動させるステップを含みうる。該方法は、リボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップをさらに含みうる。該方法は、パルスレーザビームを偏向させるステップをさらに含みうる。該方法は、不均一性の位置を含む加熱ゾーンに偏向パルスレーザビームを衝突させるステップをさらに含みうる。加熱ゾーンは、移動経路の移動方向に伸びうる。
実施態様２．パルスレーザビームを偏向させるステップが、多角形反射装置の反射面でパルスレーザビームを反射させることを含みうる、実施態様１に記載の方法。
実施態様３．該方法が、多角形反射装置の回転軸を中心に実質的に一定の角速度で多角形反射装置を回転させるステップをさらに含みうる、実施態様２に記載の方法。
実施態様４．該方法が、偏向パルスレーザビームをセンシングデバイスに衝突させて信号を生成するステップ、及びセンシングデバイスからの信号に基づいて偏向パルスレーザビームの位置を較正するステップをさらに含みうる、実施態様１から３のいずれかに記載の方法。
実施態様５．リボンの製造方法は、移動経路の移動方向に沿ってリボンを移動させるステップを含みうる。該方法は、リボンの溶融部分の処理経路上でリボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップをさらに含みうる。該方法は、多角形反射装置の反射面でパルスレーザビームを反射させるステップをさらに含みうる。反射されたパルスレーザビームは、処理経路上の加熱ゾーンに衝突しうる。該方法は、多角形反射装置の回転軸を中心に実質的に一定の角速度で多角形反射装置を回転させて、処理経路に沿って加熱ゾーンを移動させるステップをさらに含みうる。加熱ゾーンは不均一性の位置を含みうる。
実施態様６．該方法が、反射されたパルスレーザビームをセンシングデバイスに衝突させて多角形反射装置の第２の角度方向で信号を生成するステップ、及びセンシングデバイスからの信号に基づいて、反射されたパルスレーザビームの位置を較正するステップをさらに含みうる、実施態様５に記載の方法。
実施態様７．リボンの製造方法は、移動経路の移動方向に沿ってリボンを移動させるステップを含みうる。該方法は、リボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップをさらに含みうる。該方法は、パルスレーザビームを偏向させるステップをさらに含みうる。該方法は、不均一性の位置の加熱ゾーンに偏向パルスレーザビームを衝突させるステップをさらに含みうる。該方法は、偏向パルスレーザビームをセンシングデバイスに衝突させるステップをさらに含みうる。偏向パルスレーザビームをセンシングデバイスに衝突させるステップは、信号を生成する。該方法は、生成された信号に基づいて偏向パルスレーザビームの位置を較正するステップをさらに含みうる。
実施態様８．パルスレーザビームを偏向させるステップが、反射面にパルスレーザビームを反射させることを含みうる、実施態様７に記載の方法。
実施態様９．特性がリボンの厚さを含みうる、実施態様１から８のいずれかに記載の方法。
実施態様１０．特性がリボンの温度を含みうる、実施態様１から８のいずれかに記載の方法。
実施態様１１．パルスレーザビームが、約０．９マイクロメートル～約１２マイクロメートルの範囲の波長を含みうる、実施態様１から１０のいずれかに記載の方法。
実施態様１２．パルスレーザビームがＣＯ２レーザ発生装置によって生成されうる、実施態様１から１１のいずれかに記載の方法。
実施態様１３．パルスレーザビームは、移動経路に沿って加熱ゾーン内を繰り返し移動しうるビームスポットで加熱ゾーンに衝突しうる、実施態様１から１２のいずれかに記載の方法。
実施態様１４．実施態様１から１２のいずれかに記載の方法。パルスレーザビームは、移動経路の移動方向に整列されたビームスポットのアレイとして配置された対応するビームスポットで加熱ゾーンに衝突する複数のパルスレーザビームを含みうる。
実施態様１５．該方法が、生成されたパルスレーザビームを複数のパルスレーザビームへと分割するステップをさらに含みうる、実施態様１４に記載の方法。
実施態様１６．加熱ゾーンが、移動経路の移動方向に延びる主軸を含む楕円形の形状を含みうる、実施態様１から１２のいずれかに記載の方法。
実施態様１７．該方法が、パルスレーザビームを円柱レンズ通して楕円形の形状を生成するステップをさらに含みうる、実施態様１６に記載の方法。
実施態様１８．該方法が、パルスレーザビームをアナモルフィックプリズム通して楕円形の形状を生成するステップをさらに含みうる、実施態様１６に記載の方法。
実施態様１９．該方法が、パルスレーザビームの特性を制御して不均一性の位置の加熱を制御するステップをさらに含みうる、実施態様１から１８のいずれかに記載の方法。
実施態様２０．パルスレーザビームの特性が、パルスレーザビームのパルス周波数を含みうる、実施態様１９に記載の方法。
実施態様２１．パルスレーザビームの特性が、パルスレーザビームのパルス幅を含みうる、実施態様１９から２０のいずれかに記載の方法。
実施態様２２．パルスレーザビームの特性が、パルスレーザビームのデューティサイクルを含みうる、実施態様１９から２１のいずれかに記載の方法。
実施態様２３．不均一性の位置の加熱が不均一性を消失させうる、実施態様１９から２２のいずれかに記載の方法。
実施態様２４．移動経路を横切る加熱ゾーンの幅が、約１００マイクロメートル～約３０ミリメートルの範囲でありうる、実施態様１から２３のいずれかに記載の方法。
実施態様２５．該方法が、移動方向に延びる加熱ゾーンの細長い長さを選択的に制御するステップをさらに含みうる、実施態様１から２４のいずれかに記載の方法。
実施態様２６．加熱ゾーンが、約１ミリメートル～約１００ミリメートルの範囲の移動方向に延びる細長い長さを含みうる、実施態様１から２４のいずれかに記載の方法。
実施態様２７．該方法が、加熱ゾーンの細長い長さを選択的に制御するステップをさらに含みうる、実施態様２６に記載の方法。
実施態様２８．加熱ゾーンの細長い長さの移動経路を横切る加熱ゾーンの幅に対する比が、約３以上でありうる、実施態様２５から２７のいずれかに記載の方法。
実施態様２９．加熱ゾーンの幅が、約１００マイクロメートル～約３０ミリメートルの範囲でありうる、実施態様２８に記載の方法。
本明細書に開示される追加の実施態様は、以下の詳細な説明に記載される。前述の概要及び後述する詳細な説明はいずれも、本明細書に開示される実施形態の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することを意図した実施形態を提示していることが理解されるべきである。添付の図面は、さらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれて、その一部を構成する。図面は本開示のさまざまな実施、形態を例証しており、その説明とともに、それらの原理及び動作を説明している。
これら及び他の実施形態は、以下の詳細な説明を添付の図面を参照して読む場合に、よりよく理解される。
本開示の実施形態によるリボンを形成するように構成されたガラス製造装置の例示的な実施形態の概略図 本開示の実施形態による図１の線２－２に沿ったガラス製造装置の斜視断面図 図２のビュー３で切り取った加熱ゾーンの一実施形態の拡大図 図２のビュー３で切り取った加熱ゾーンの別の実施形態の拡大図 図２のビュー３で切り取った加熱ゾーンの別の実施形態の拡大図 図２のビュー３で切り取った加熱ゾーンの別の実施形態の拡大図 図２のビュー３で切り取った加熱ゾーンの別の実施形態の拡大図 図２のビュー３で切り取った加熱ゾーンの別の実施形態の拡大図 リボンの溶融部分の加熱ゾーンに偏向パルスレーザビームを衝突させる処理装置の実施形態の概略的な斜視図 偏向パルスレーザビームの位置を較正するために使用するための信号を生成するように構成されたセンシングデバイス
これより、例示的な実施形態が示されている添付の図面を参照して、実施形態をより詳細に説明する。可能な場合はいつでも、同一又は類似した部分についての言及には、図面全体を通して同じ参照番号が用いられる。しかしながら、本開示は、多くの異なる形態で具現化することができ、本明細書に記載される実施形態に限定されると解釈されるべきではない。
本開示は、ある量の溶融材料からリボンを製造するためのガラス製造装置及び方法に関する。幾つかの実施形態では、リボンは、ガラス部分へと冷却されうる溶融部分を含みうる。スロットドロー装置、フロートバス装置、ダウンドロー装置、アップドロー装置、圧延装置、又は他のガラス製造装置を使用して、ある量の溶融材料からリボンを形成することができる。
次に、ガラスを製造するための方法及び装置を、ある量の溶融材料からリボンを形成するための例示的な実施形態として説明する。図１に概略的に示されているように、幾つかの実施形態では、例示的なガラス製造装置１００は、ガラス溶融及び送給装置１０２、ある量の溶融材料１２１からリボンの溶融部分１０４を生成するように設計された成形容器１４０を含む成形装置１０１、及び／又はリボンの溶融部分１０４を処理するように設計された処理装置１４２を含みうる。この用途の目的では、リボンの「溶融部分」は、約１０４～約１０７．６ポアズの範囲内の粘度を含むリボンの部分と見なされる。幾つかの実施形態では、ガラス製造装置１００は、ガラス溶融及び送給装置１０２又は成形装置１０１の特徴を必要とせずに、処理装置１４２と見なすことができる。さらなる実施形態では、ガラス製造装置１００は、ガラス溶融及び送給装置１０２の特徴を必要とせずに、成形装置１０１の特徴と組み合わせた処理装置１４２と見なすことができる。さらなる実施形態では、ガラス製造装置１００は、ガラス溶融及び送給装置１０２並びに成形装置１０１の特徴と組み合わせた処理装置１４２を含みうる。
幾つかの実施形態では、リボンの溶融部分１０４は、リボンの第１の外側エッジ１５３と第２の外側エッジ１５５との間に配置された中央部分１５２を含むリボンのガラス部分１０３へと冷却されうる。加えて、幾つかの実施形態では、分離されたガラスリボン１０６は、ガラス分離器１４９（例えば、スクライブ、スコアホイール、ダイアモンドチップ、レーザなど）によって、分離経路１５１に沿ってリボンのガラス部分１０３から分離されうる。
幾つかの実施形態では、ガラス溶融及び送給装置１０２は、貯蔵ビン１０９からバッチ材料１０７を受け入れるように配向された溶融容器１０５を含みうる。バッチ材料１０７は、モータ１１３によって駆動されるバッチ送給装置１１１によって導入することができる。幾つかの実施形態では、任意選択的な制御デバイス１１５（例えば、プログラマブルロジックコントローラ）は、矢印１１７で示されるように、モータ１１３を作動させて所望の量のバッチ材料１０７を溶融容器１０５に導入するように動作するように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。溶融容器１０５は、バッチ材料１０７を加熱して溶融材料１２１を提供することができる。幾つかの実施形態では、溶融プローブ１１９を使用して、スタンドパイプ１２３内の溶融材料１２１のレベルを測定し、測定された情報を、通信ライン１２５を介して制御デバイス１１５に通信することができる。
加えて、幾つかの実施形態では、ガラス溶融及び送給装置１０２は、溶融容器１０５の下流に位置し、第１の接続導管１２９によって溶融容器１０５に結合された清澄容器１２７を含む、第１のコンディショニングステーションを含みうる。幾つかの実施形態では、溶融材料１２１は、第１の接続導管１２９によって溶融容器１０５から清澄容器１２７へと重力供給することができる。例えば、幾つかの実施形態では、重力によって、溶融材料１２１を、溶融容器１０５から清澄容器１２７へと第１の接続導管１２９の内部経路を通過させてもよい。加えて、幾つかの実施形態では、気泡は、さまざまな技法によって清澄容器１２７内の溶融材料１２１から除去することができる。
幾つかの実施形態では、ガラス溶融及び送給装置１０２は、清澄容器１２７の下流に位置しうる混合チャンバ１３１を含む第２のコンディショニングステーションをさらに含みうる。混合チャンバ１３１は、溶融材料１２１の均質な組成を提供するために用いることができ、それによって、そうでなければ清澄容器１２７を出る溶融材料１２１内に存在するであろう不均質性を低減又は排除することができる。示されるように、清澄容器１２７は、第２の接続導管１３５によって混合チャンバ１３１に結合することができる。幾つかの実施形態では、溶融材料１２１は、第２の接続導管１３５によって清澄容器１２７から混合チャンバ１３１へと重力供給することができる。例えば、幾つかの実施形態では、重力によって、溶融材料１２１を、清澄容器１２７から混合チャンバ１３１へと第２の接続導管１３５の内部経路を通過させることができる。
加えて、幾つかの実施形態では、ガラス溶融及び送給装置１０２は、混合チャンバ１３１の下流に位置しうる送給容器１３３を含む第３のコンディショニングステーションを含みうる。幾つかの実施形態では、送給容器１３３は、溶融材料１２１を調整して、入口導管１４１内へと供給することができる。例えば、送給容器１３３は、入口導管１４１への溶融材料１２１の一定の流れを調整し、提供するためのアキュムレータ及び／又は流量コントローラとして機能することができる。示されるように、混合チャンバ１３１は、第３の接続導管１３７によって送給容器１３３に結合することができる。幾つかの実施形態では、溶融材料１２１は、第３の接続導管１３７によって混合チャンバ１３１から送給容器１３３へと重力供給することができる。例えば、幾つかの実施形態では、重力によって、溶融材料１２１を、混合チャンバ１３１から送給容器１３３へと第３の接続導管１３７の内部経路を通過させることができる。さらに示されるように、幾つかの実施形態では、送給管１３９は、溶融材料１２１を成形装置１０１、例えば成形容器１４０の入口導管１４１に送給するように位置決めすることができる。
成形装置１０１は、リボンを溶融延伸するためのウェッジを備えた成形容器、リボンをスロット延伸するためのスロットを備えた成形容器、又は成形容器からリボンを圧延するためのプレスロールを備えた成形容器を含む、本開示の特徴による成形容器のさまざまな実施形態を含みうる。実例として、以下に示され、開示される成形容器１４０は、成形ウェッジ２０９のルート１４５として規定された底部エッジから溶融材料１２１を溶融延伸して、リボンの溶融部分１０４（これが延伸されてリボンのガラス部分１０３へと冷却されうる）を生成するために提供することができる。例えば、幾つかの実施形態では、溶融材料１２１は、入口導管１４１から成形容器１４０へと送給することができる。次に、溶融材料１２１は、少なくとも一部には成形容器１４０の構造に基づいて、リボンの溶融部分１０４へと成形されうる。例えば、示されるように、溶融材料１２１は、成形容器１４０のルート１４５から溶融部分１０４として延伸され、移動経路１５０の移動方向１５４に沿って移動しうる。
幾つかの実施形態では、エッジディレクタ１６３、１６４は、溶融部分１０４を成形容器１４０から逸らすことができ、リボンの結果的に得られるガラス部分１０３の幅「Ｗ」を画成するのに役立つ。幾つかの実施形態では、ガラス部分１０３の幅「Ｗ」は、ガラス部分１０３の第１の外側エッジ１５３とガラス部分１０３の第２の外側エッジ１５５との間に延在しうる。幾つかの実施形態では、ガラス部分１０３の幅「Ｗ」は、例えば約２０ｍｍ以上、例えば約５０ｍｍ以上、例えば約１００ｍｍ以上、例えば約５００ｍｍ以上、例えば約１０００ｍｍ以上、例えば約２０００ｍｍ以上、例えば約３０００ｍｍ以上、例えば約４０００ｍｍ以上でありうるが、さらなる実施形態では上述した幅より狭い又は広い他の幅が提供されてもよい。例えば、幾つかの実施形態では、ガラス部分１０３の幅「Ｗ」は、約２０ｍｍ～約４０００ｍｍ、例えば約５０ｍｍ～約４０００ｍｍ、例えば約１００ｍｍ～約４０００ｍｍ、例えば約５００ｍｍ～約４０００ｍｍ、例えば約１０００ｍｍ～約４０００ｍｍ、例えば約２０００ｍｍ～約４０００ｍｍ、例えば約３０００ｍｍ～約４０００ｍｍ、例えば約２０ｍｍ～約３０００ｍｍ、例えば約５０ｍｍ～約３０００ｍｍ、例えば約１００ｍｍ～約３０００ｍｍ、例えば約５００ｍｍ～約３０００ｍｍ、例えば約１０００ｍｍ～約３０００ｍｍ、例えば約２０００ｍｍ～約３０００ｍｍ、例えば約２０００ｍｍ～約２５００ｍｍ、並びにそれらの間のすべての範囲及び部分範囲でありうる。
図２は、図１の線２－２に沿った成形装置１０１（例えば、成形容器１４０）の断面斜視図を示している。幾つかの実施形態では、成形容器１４０は、入口導管１４１から溶融材料１２１を受け入れるように配向されたトラフ２０１を含みうる。説明の目的で、溶融材料１２１のクロスハッチングは、明確にするために図２から削除されている。成形容器１４０は、成形ウェッジ２０９の対向端部２１０、２１１（図１参照）の間に延びる一対の下向きに傾斜した収束する表面部分２０７、２０８を備えた成形ウェッジ２０９をさらに含みうる。成形ウェッジ２０９の一対の下向きに傾斜した収束する表面部分２０７、２０８は、移動方向１５４に沿って収束して、形成容器１４０のルート１４５に沿って交差しうる。ガラス製造装置１００の延伸面２１３は、移動経路１５０の移動方向１５４に沿ってルート１４５を通って延びうる。幾つかの実施形態では、リボンの溶融部分１０４は、移動経路１５０の移動方向１５４に沿って、延伸面２１３を通って移動しうる。示されるように、延伸面２１３は、ルート１４５を介して成形ウェッジ２０９を二等分することができるが、幾つかの実施形態では、延伸面２１３は、ルート１４５に対して他の配向で延びてもよい。
加えて、幾つかの実施形態では、溶融材料１２１は、方向１５６で、成形容器１４０のトラフ２０１内に、トラフ２０１に沿って流れうる。溶融材料１２１は、対応する堰２０３、２０４の上を同時に流れ、かつ対応する堰２０３、２０４の外面２０５、２０６上を下向きに流れることにより、トラフ２０１から溢れ出ることができる。溶融材料１２１のそれぞれの流れは、成形ウェッジ２０９の下向きに傾斜した収束する表面部分２０７、２０８に沿って流れることができ、成形容器１４０のルート１４５から延伸され、そこで流れが収束して、リボンの溶融部分１０４へと融着する。次に、リボンの溶融部分１０４は、延伸面２１３のルート１４５から延伸され、リボンは、移動経路１５０の移動方向１５４に沿って移動し、リボンのガラス部分１０３へと冷却されうる。
リボンの溶融部分１０４は、反対の方向を向き、溶融部分１０４の厚さ「Ｔ」（例えば、平均厚さ）を画成する第１の主面２１５及び第２の主面２１６を含む。幾つかの実施形態では、リボンの溶融部分１０４の厚さ「Ｔ」は、約０．５ミリメートル（ｍｍ）～約５ｍｍでありうるが、さらなる実施形態では、他の厚さが提供されてもよい。リボンの厚さは、移動経路１５０の移動方向１５４に移動するにつれて減衰し、また、冷却されて、リボンの溶融部分１０４からガラス部分１０３へと移行する。リボンのガラス部分１０３の最終的な厚さは、約２ミリメートル（ｍｍ）以下、約１ミリメートル以下、約０．５ミリメートル以下、例えば、約３００マイクロメートル（μｍ）以下、約２００マイクロメートル以下、又は約１００マイクロメートル以下でありうるが、さらなる実施形態では、他の厚さが提供されてもよい。例えば、幾つかの実施形態では、ガラス部分１０３の厚さは、それらの間の厚さのすべての範囲及び部分範囲を含めて、約５０μｍ～約７５０μｍ、約１００μｍ～約７００μｍ、約２００μｍ～約６００μｍ、約３００μｍ～約５００μｍ、約５０μｍ～約５００μｍ、約５０μｍ～約７００μｍ、約５０μｍ～約６００μｍ、約５０μｍ～約５００μｍ、約５０μｍ～約４００μｍ、約５０μｍ～約３００μｍ、約５０μｍ～約２００μｍ、約５０μｍ～約１００μｍでありうる。加えて、リボンのガラス部分１０３は、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、アルカリ含有ガラス、又は無アルカリガラスを含むがこれらに限定されない、さまざまな組成物を含みうる。
次に、分離されたガラスリボンは、所望の用途、例えば、ディスプレイ用途へと加工されうる。例えば、分離されたガラスリボンは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、及び他の電子ディスプレイを含む、幅広いディスプレイ用途で使用することができる。
図３～４は、リボンの溶融部分１０４を処理するためのガラス製造装置１００の処理装置１４２の例示的な実施形態の特徴を示している。処理装置１４２は、パルスレーザビーム３０３を生成するように設計されたレーザ発生装置３０１を含みうる。幾つかの実施形態では、レーザ発生装置は、パルスレーザビーム３０３がリボンの溶融部分１０４の表面に衝突する位置でリボンの溶融部分１０４を加熱するためにリボンの溶融部分１０４によって吸収されうるパルスレーザビーム３０３を生成するように設計することができる。幾つかの実施形態では、レーザ発生装置３０１はＣＯ２レーザ発生装置を含みうるが、さらなる実施形態では、他のタイプのレーザ発生装置が用いられてもよい。加えて又は代替的に、幾つかの実施形態では、レーザ発生装置３０１によって生成されるパルスレーザビーム３０３は、約０．９マイクロメートル～約１２マイクロメートルの範囲の波長を含みうる。
処理装置１４２は、パルスレーザビーム３０３を偏向させて、偏向パルスレーザビーム３０３をリボンの溶融部分１０４の加熱ゾーンに衝突させるように構成された偏向装置をさらに含みうる。図２に示されるように、偏向レーザビームは、加熱ゾーン２１７が方向２１６ａに沿って移動する間、溶融部分１０４の処理経路３２１上の加熱ゾーン２１７に衝突しうる。例えば、加熱ゾーン２１７は、第１の外側エッジ１５３から第２の外側エッジ１５５まで、実質的に全幅「Ｗ」にわたって、方向２１６ａに移動することができる。第２の外側エッジ１５５に到達後、加熱ゾーンは、第１の外側エッジ１５３に再度現れ、再び方向２１６ａで第２の外側エッジ１５５へと移動しうる。その結果、幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７は、第１の外側エッジ１５３から第２の外側エッジ１５５までリボンの幅「Ｗ」を横切る加熱ゾーン２１７の各通過で、同じ方向２１６ａに移動しうる。
図２に示されるように、偏向レーザビームは、加熱ゾーン２１７が方向２１６ｂに沿って移動する間、溶融部分１０４の処理経路３２１上の加熱ゾーン２１７に衝突しうる。例えば、加熱ゾーン２１７は、第２の外側エッジ１５５から第１の外側エッジ１５３まで、実質的に全幅「Ｗ」にわたって、方向２１６ｂに移動することができる。第１の外側エッジ１５３に到達後、加熱ゾーンは、第２の外側エッジ１５５に再度現れ、再び方向２１６ｂで第１の外側エッジ１５３へと移動しうる。その結果、幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７は、第２の外側エッジ１５５から第１の外側エッジ１５３までリボンの幅「Ｗ」を横切る加熱ゾーン２１７の各通過で、同じ方向２１６ｂに移動しうる。
図２にさらに示されるように、偏向レーザビームは、加熱ゾーン２１７が方向２１６ａ及び方向２１６ｂに沿って移動する間、溶融部分１０４の処理経路３２１上の加熱ゾーン２１７に衝突しうる。例えば、幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７は、第１の外側エッジ１５３から第２の外側エッジ１５５まで、実質的に全幅「Ｗ」にわたって、方向２１６ａに移動することができる。第２の外側エッジ１５５に到達した後、次に、加熱ゾーン２１７は、第２の外側エッジ１５５から第１の外側エッジ１５３まで、実質的に全幅「Ｗ」にわたって、方向２１６ｂに移動することができる。その結果、幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７は、リボンの幅「Ｗ」を横切る連続する各通過で、交互の方向２１６ａ及び２１６ｂに移動しうる。
方向２１６ａ及び２１６ｂの一方又は両方は、移動経路１５０の移動方向１５４を横切って延びうる。例えば、示されるように、方向２１６ａ及び２１６ｂの一方又は両方は、幅「Ｗ」の方向に沿って移動方向１５４に垂直に延びることができるが、さらなる実施形態では、加熱ゾーンは、移動方向１５４に垂直ではない方向に沿って移動することができる。さまざまな偏向装置を使用して、加熱ゾーン２１７を、上述のように、方向２１６ａ及び２１６ｂの一方又は両方に移動させることができる。例えば、幾つかの実施形態では、偏向装置は、音響光学デフレクタを含みうる。別の例では、幾つかの実施形態では、偏向装置は、電気光学デフレクタを含みうる。さらに別の例では、幾つかの実施形態では、偏向装置は、回転する反射面を含みうる。
幾つかの実施形態では、図９に示されるように、偏向装置は、複数の反射面３０７を含む多角形反射装置３０５を含みうる。示されるように、多角形反射装置３０５は、モータ３０９によって回転されて、多角形反射装置３０５の回転軸３１３を中心に回転方向３１１に回転することができる。幾つかの実施形態では、モータ３０９は、通信ライン３１７に沿ってコマンド信号をモータ３０９に送信して、幾つかの実施形態では、多角形反射装置３０５の回転軸３１３を中心に実質的に一定の角速度で回転するように構成された（例えば、「プログラムされた」、「エンコードされた」、「設計された」、及び／又は「作られた」）制御デバイス３１５（例えば、プログラマブルロジックコントローラ）によって、任意選択的に動作させることができる。多角形反射装置３０５を実質的に一定の角速度で回転させることは、該多角形反射装置３０５の角速度を頻繁に変更することによって発生するであろうモータ３０９の損傷の防止に役立ちうる。パルスレーザビームが多角形反射装置３０５によって偏向される実施形態では、加熱ゾーン２１７は、多角形反射装置３０５が回転軸３１３を中心に回転する回転方向３１１に応じて、方向２１６ａに繰り返し移動するか、又は方向２１６ｂに繰り返し移動することができる。
制御デバイス３１５は、コマンド信号をレーザ発生装置３０１に（例えば、通信ライン３１９によって）送信して、パルスレーザビーム３０３の特性を制御し、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を選択的に制御するように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３のパルス周波数を制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３のパルス幅を制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３のデューティサイクルを制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３の複数の特性を制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。例えば、幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３のパルス周波数及びパルス幅を制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３のパルス周波数及びデューティサイクルを制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３のパルス幅及びデューティサイクルを制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３のパルス周波数、パルス幅、及びデューティサイクルのうちの２つ以上を制御して、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置の加熱を制御することができる。
図９をさらに参照すると、処理装置１４２は、リボンの特性を監視するように構成された１つ以上のセンシングデバイスをさらに含みうる。幾つかの実施形態では、リボンの監視される特性は、リボンの温度及び／又は厚さを含みうる。幾つかの実施形態では、１つ以上のセンシングデバイスは、リボンの溶融部分１０４の特性を直接監視することができる。例えば、図２を参照すると、処理経路３２１内の監視経路２２３ａに沿ったリボンの溶融部分１０４の特性を直接監視することができる。さらなる実施形態では、処理経路３２１の外側（例えば、処理経路３２１の上流又は下流）の監視経路２２３ｂに沿ったリボンの溶融部分１０４の特性を、直接監視することができる。幾つかの実施形態では、処理経路３２１内のリボンの溶融部分１０４の特性は、間接的に監視することができる。例えば、図９に示されるように、リボンの溶融部分１０４の下流の監視経路２２３ｃに沿ったリボンのガラス部分１０３の特性を監視することができる。次に、処理経路３２１内のリボンの溶融部分１０４の対応する特性が、ガラス部分１０３の監視経路２２３ｃに沿った、監視された特性に基づいて決定されうる。例えば、ガラス部分１０３の監視経路２２３ｃに沿って監視された特性における不均一性は、ガラス部分１０３の監視経路２２３ｃに沿って監視された特性における監視された不均一性の垂直上に位置するリボンの溶融部分１０４の処理経路３２１の部分の特性における対応する不均一性を示しうる。
図９に示されるように、処理装置１４２は、任意選択的に、監視経路（例えば、監視経路２２３ａ、２２３ｂ）に沿ったリボンの溶融部分１０４の温度を監視するように構成された温度センサ３２３を含みうる。幾つかの実施形態では、温度センサ３２３は、監視経路（例えば、２２３ａ、２２３ｂ）の１つに沿ってリボンの溶融部分１０４によって放出される赤外線放射を監視することによって、溶融部分１０４の温度を監視するように構成された赤外線センサ（例えば、赤外線カメラ）を含みうる。例えば、温度センサ３２３は、監視経路２２３ａに沿って溶融部分１０４の処理経路３２１の温度を直接監視するように構成された赤外線センサ（例えば、赤外線カメラ）を含みうる。次に、監視経路に沿ったリボンの溶融部分１０４の温度に関する感知された情報は、通信ライン３２５によってプロセッサ３２７に送信されうる。次に、プロセッサ３２７は、情報を処理して、処理経路３２１上のリボンの溶融部分１０４の温度の不均一性の１つ以上の位置を決定することができる。プロセッサ３２７からの情報に基づいて、制御デバイス３１５は、リボンの溶融部分１０４の位置の加熱を変更して、不均一性を消失させて、リボンの溶融部分１０４の幅「Ｗ」を横切るリボンの溶融部分１０４のより均一な厚さを提供するように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。例えば、不均一性は、厚さの変動が３マイクロメートル未満になるように消失させることができる。より均一な厚さが達成されると、リボンの溶融部分１０４は、リボンのガラス部分１０３の幅「Ｗ」に沿ってガラス部分１０３のより均一な厚さを伴って、リボンのガラス部分１０３へと冷却されるように進みうる。
一実施形態では、不均一性が監視経路の他の位置と比較して比較的低い温度であると決定された場合、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３が不均一性の（一又は複数の）位置を加熱する間に、上述のように、通信ライン３１９を介してコマンド信号をレーザ発生装置３０１に送信して、パルス周波数、パルス幅、又はデューティサイクルのうちの１つ以上を増加させることによって不均一性の（一又は複数の）位置の加熱を増加させるように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。
別の実施形態では、不均一性が監視経路の他の位置と比較して比較的高い温度であると決定された場合、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３が不均一性の（一又は複数の）位置を加熱する間に、上述のように、通信ライン３１９を介してコマンド信号をレーザ発生装置３０１に送信して、パルス周波数、パルス幅、又はデューティサイクルのうちの１つ以上を低下させることによって不均一性の（一又は複数の）位置の加熱を低減させるように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。
図９にさらに示されるように、処理装置１４２は、任意選択的に、リボンの厚さに関する情報を感知するように構成された厚さセンサ３２９を含むことができる。幾つかの実施形態では、厚さセンサ３２９は、温度センサ３２３なしで提供されうる。さらなる実施形態では、温度センサ３２３は、厚さセンサ３２９なしで提供されうる。さらなる実施形態では、厚さセンサ３２９及び温度センサ３２３の両方が、リボンの１つ以上の特性を監視するために提供されうる。提供される場合、厚さセンサ３２９は、光式厚さセンサを含みうる。光式厚さセンサは、リボンの幅「Ｗ」を横切る１つ以上のセンサを含みうる。あるいは、示されるように、光式厚さセンサ３２９は、移動経路１５０の移動方向１５４を横切る方向３３３に走査するように構成することができる。例えば、示されるように、厚さセンサ３２９は、移動方向１５４に垂直な方向３３３に走査するように構成することができるが、さらなる実施形態では、他の走査方向が提供されうる。幾つかの実施形態では、光式厚さセンサ３２９は、監視経路（例えば、ガラス部分１０３の監視経路２２３ｃ）の位置にレーザビームを向けるレーザを含みうる。レーザビームの一部は、第２の主面２１６から反射されて、光式厚さセンサ３２９によって感知されうる。レーザビームの別の一部は、リボンの厚さを通過し、次に、光式厚さセンサ３２９によって感知されるように、第１の主面２１５で反射されて戻りうる。レーザビームの反射された部分に関する情報は、通信ライン３３５を介してプロセッサ３２７に送信することができる。次に、プロセッサは、この情報をリボンの屈折率と一緒に考慮して、監視経路に沿ったリボンの厚さを計算するか、及び／又は処理経路３２１に沿ったリボンの厚さを計算することができる。例えば、図９に示されるように、厚さセンサ３２９は、監視経路２２３ｃに沿ったガラス部分１０３の厚さを感知することができる。次に、プロセッサ３２７は、情報を処理して、監視経路２２３ｃに沿って感知された厚さの不均一性の位置を決定することができる。感知された不均一性をプロセッサで使用して、ガラス部分１０３における感知された不均一性の上方に垂直に位置しうる、処理経路３２１内のリボンの溶融部分１０４の対応する部分の厚さにおける不均一性の対応する位置を決定することができる。プロセッサ３２７からの情報に基づいて、制御デバイス３１５は、不均一性の位置の加熱を変更して、不均一性を消失させて、リボンの溶融部分１０４の幅「Ｗ」を横切る溶融部分１０４のより均一な厚さを提供するように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。より均一な厚さが達成されると、リボンの溶融部分１０４は、リボンのガラス部分１０３の幅「Ｗ」に沿ってガラス部分１０３のより均一な厚さを伴って、ガラス部分１０３へと冷却されるように進みうる。
一実施形態では、厚さの不均一性が処理経路３２１の他の位置と比較して比較的高い厚さであると決定された場合、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３が厚さの不均一性の（一又は複数の）位置を加熱する間に、上述のように、通信ライン３１９を介してコマンド信号をレーザ発生装置３０１に送信して、パルス周波数、パルス幅、又はデューティサイクルのうちの１つ以上を増加させることによって厚さの不均一性の（一又は複数の）位置の加熱を増加させるように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。加熱の増加は、不均一性の（一又は複数の）位置での溶融材料の粘度を低下させて、厚さの不均一性の（一又は複数の）位置でのリボンの溶融部分１０４の厚さを低下させることができる。
別の実施形態では、厚さの不均一性が処理経路３２１の他の位置と比較して比較的薄い厚さであると決定された場合、制御デバイス３１５は、パルスレーザビーム３０３が厚さの不均一性の（一又は複数の）位置を加熱する間に、上述のように、通信ライン３１９を介してコマンド信号をレーザ発生装置３０１に送信して、パルス周波数、パルス幅、又はデューティサイクルのうちの１つ以上を低下させることによって厚さの不均一性の（一又は複数の）位置の加熱を低下させるように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。加熱の減少は、厚さの不均一性の（一又は複数の）位置での溶融材料の粘度を低下させて、厚さの不均一性の（一又は複数の）位置でのリボンの溶融部分１０４の厚さを低下させることができる。
偏向パルスレーザは、図２に概略的に示されているように、さまざまな代替的な加熱ゾーン２１７の１つにおいて、リボンの溶融部分１０４の第１の主面２１５に衝突しうる。図３は、加熱ゾーン２１７が円形の加熱ゾーン２１７ａを含む、一実施形態を示している。図４は、角部が丸みを帯びた正方形の加熱ゾーン２１７ｂを含む加熱ゾーン２１７の別の実施形態を示している。
幾つかの実施形態では、加熱ゾーンは、移動経路１５０の移動方向１５４に伸長されてよく、この加熱ゾーンは、移動方向１５４に垂直に延びる加熱ゾーンの幅２２１より大きい、移動方向１５４に延びる長さ２１９を含む。幅２２１より大きい移動方向１５４に延びる長さ２１９を提供することにより、リボンの溶融部分１０４が移動方向１５４に移動する際に不均一性の位置が加熱される時間を増加させることができる；それによって、移動方向１５４に移動しているリボンの溶融部分１０４の厚さ「Ｔ」［例えば、約０．５ミリメートル（ｍｍ）～約５ｍｍ］を通して熱が伝導するためのより多くの時間を与える。幾つかの実施形態では、加熱ゾーンの長さ２１９の加熱ゾーンの幅２２１に対する比は約３以上でありうる。幾つかの実施形態では、３以上の長さ対幅の上記の比に加えて又は代替的に、移動方向１５４に垂直に延びる加熱ゾーンの幅２２１は、約１００マイクロメートル～約３０ミリメートル（ｍｍ）の範囲でありうる。幾つかの実施形態では、３以上の長さ対幅の上記の比に加えて又は代替的に、移動経路１５０に沿った加熱ゾーンの長さ２１９は、約１ｍｍ～約１００ｍｍの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、該方法は、パルスレーザビームの長さ２１９を選択的に制御するステップを含みうる。例えば、幾つかの実施形態では、制御デバイス３１５は、リボンの溶融部分１０４が移動方向１５４に移動している速度に基づいて、加熱ゾーンの長さ２１９を選択的に制御するように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。
幾つかの実施形態では、加熱ゾーンは、移動方向１５４に垂直に延びる幅よりも大きい、移動方向１５４に延びる長さ２１９など、楕円形の形状を含みうる。図５は、角部が丸みを帯びた長方形の加熱ゾーン２１７ｃの形態をした楕円形の形状を含む、加熱ゾーン２１７の別の実施形態を示している。
図６は、楕円形の加熱ゾーン２１７ｄを生成する往復するビームスポット６０１を含む、加熱ゾーン２１７の別の実施形態を示している。幾つかの実施形態では、パルスレーザビーム３０３を移動させて、ビームスポット６０１を移動経路１５０の移動方向１５４に繰り返し移動させて、楕円形の加熱ゾーン２１７ｄを生成することができる。幾つかの実施形態では、パルスレーザビーム３０３を移動させて、ビームスポット２１８を移動経路１５０の移動方向１５４とは反対の方向６０３に繰り返し移動させて、楕円形の加熱ゾーン２１７ｄを生成することができる。あるいは、幾つかの実施形態では、パルスレーザビーム３０３を移動させて、ビームスポット６０１を移動方向１５４及び移動方向１５４とは反対の方向６０３に繰り返し往復させて、楕円形の加熱ゾーン２１７ｄを生成することができる。例えば、ビームスポット６０１は、方向６０３に上向きに振動し、方向１５４に下向きに振動して、楕円形の加熱ゾーン２１７ｄを創出することができる。移動するビームスポット２１８によってもたらされる楕円形の加熱ゾーン２１７ｄは、移動方向１５４に垂直に延びる幅２２１より大きい、移動方向１５４に延びる長さ２１９を含みうる。図９に概略的に示されるように、処理装置１４２は、レーザ発生装置３０１によって生成されたパルスレーザビーム３０３を修正して、幅より大きい長さを含む加熱ゾーンを創出するための加熱ゾーンデバイス３３７を含みうる。例えば、加熱ゾーンデバイス３３７は、ビームスポット６０１を方向１５４又は６０３の１つ以上に沿って移動させる発振器を含みうる。幾つかの実施形態では、発振器は、（一又は複数の）方向に沿って迅速かつ繰り返し移動させて、楕円形の加熱ゾーン２１７ｄを生成するように、回転鏡又は他の移動する鏡又は移動する光学部品を含みうる。
幾つかの実施形態では、図７に示されるように、加熱ゾーン２１７は、ビームスポット７０１のアレイとして楕円形の加熱ゾーン２１７ｅに衝突する複数のパルスレーザビームによってもたらされる楕円形の加熱ゾーン２１７ｅを含みうる。示されるように、幾つかの実施形態では、ビームスポット７０１の中心はそれぞれ、移動方向１５４に延びる直線軸上に位置決めすることができる。例えば、図２に示されるように、ビームスポット７０１のアレイは、移動方向１５４に延びる直線軸上に位置決めされた中心を有する３つのビームスポットを含み、移動方向１５４に垂直に延びる幅２２１より大きい、移動方向１５４に延びる長さ２１９を有する楕円形の加熱ゾーン２１７ｅをもたらす。３つのビームスポット７０１が示されているが、幾つかの実施形態では、２つのビームスポット又は３つより多くのビームスポットが提供されてもよい。さらには、複数のビームスポット７０１は互いに重なり合うことができるが、さらなる実施形態では、ビームスポットはわずかに離れていてもよい。ビームスポットを重ね合わせることにより、長さ２１９に沿ってより均一な加熱を生成することができる。重なり合う整列構成でビームスポット７０１を提供する場合、幾つかの実施形態は、移動方向１５４にビームスポット７０１の寸法の５０％以下でビームスポットを重ね合わせることができる。幾つかの実施形態では、加熱ゾーンデバイス３３７は、パルスレーザビーム３０３を、レーザ発生装置３０１から、上述したビームスポットのアレイ内のリボンの溶融部分１０４の主面に衝突する複数のパルスレーザビームへと分割するように設計されたビームスプリッタを含みうる。
幾つかの実施形態では、図８に示されるように、加熱ゾーン２１７は、楕円の形状をしたビームスポット８０１として提供される楕円形の加熱ゾーン２１７ｆを含みうる。示されるように、図示される楕円形の形状をしたパルスレーザビーム３０３が衝突する楕円形の加熱ゾーン２１７ｆのビームスポット８０１は、加熱ゾーンの長さ２１９が移動経路１５０の移動方向１５４に延び、かつ、移動方向１５４に垂直に延びる幅２２１より大きくなるように、移動経路１５０の移動方向１５４に延びる主軸を含みうる。図９を参照すると、幾つかの実施形態では、光学部品３３９は、パルスレーザビーム３０３を成形し、楕円の形状をした楕円形の加熱ゾーン２１７ｆを提供するように提供されうる。幾つかの実施形態では、光学部品３３９は、１つ以上の円柱レンズを含みうる。幾つかの実施形態では、光学部品３３９は、アナモルフィックプリズムを含みうる。
図９～１０に示されるように、処理装置１４２は、任意選択的に、センシング装置３４１を含みうる。図１０は、センシングデバイス４０３を含むセンシング装置３４１の実施形態を概略的に示している。幾つかの実施形態では、レーザ発生装置３０１は、パルスレーザビーム３０３を放出して、偏向装置（例えば、多角形反射装置）で偏向させて、センシングデバイス４０３に衝突するように構成することができる。センシングデバイス４０３に衝突するパルスレーザビーム３０３は、通信ライン４０９を介してプロセッサ３２７に通信することができる信号を生成することができる。次に、プロセッサは、偏向パルスレーザビーム３０３の位置を較正して、リボンの溶融部分１０４の特性における不均一性の適切な位置のより正確かつ詳細な加熱を可能にすることができる。
次に、図２～１０を参照して、リボンの製造方法について考察する。リボンを製造する方法の実施形態は、移動経路１５０の移動方向１５４に沿ってリボンを移動させるステップを含みうる。例えば、リボンは、成形容器１４０のルート１４５から溶融延伸されて、移動経路１５０の移動方向１５４に沿ってリボンを延伸することができる。本開示の方法は、リボンの溶融部分１０４などのリボンの特性（例えば、温度及び／又は厚さ）における不均一性の位置を特定するステップをさらに含みうる。幾つかの実施形態では、方法は、監視経路２２３ａ、２２３ｂ、２２３ｃに沿ってリボンの溶融部分１０４の特性を監視して、リボンの溶融部分１０４の特性（例えば、温度、厚さ）における不均一性の位置を直接的又は間接的に特定するステップを含みうる。
一実施形態では、該方法は、リボンの溶融部分１０４の温度の不均一性の位置を特定するステップを含みうる。幾つかの実施形態では、温度は、温度センサ３２３（例えば、赤外線カメラ）によって監視することができる。幾つかの実施形態では、温度センサ３２３は、溶融部分１０４の監視経路２２３ａ、２２３ｂに沿ってリボンの溶融部分１０４の温度を監視することができる。感知された温度に関連する信号は、通信ライン３２５を介してプロセッサ３２７に通信することができ、該プロセッサ３２７は、監視経路に沿った温度の不均一性の１つ以上の位置を決定することができる。
別の実施形態では、該方法は、リボンの厚さ（例えば、リボンのガラス部分１０３及び／又は溶融部分１０４の厚さ）における不均一性の位置を特定するステップを含みうる。幾つかの実施形態では、厚さは、リボンのガラス部分１０３の監視経路２２３ｃに沿って厚さセンサ３２９によって監視することができる。感知された厚さに関連する信号は、通信ライン３３５を介してプロセッサ３２７に通信することができ、これは、ガラス部分１０３の垂直上に位置するガラス部分１０３及び／又は溶融部分１０４の厚さにおける不均一性の１つ以上の位置を決定することができる。
本開示の方法は、リボンの溶融部分１０４を加熱するステップをさらに含みうる。幾つかの実施形態では、パルスレーザビーム３０３は、レーザ発生装置３０１によって生成されうる。レーザ発生装置３０１は、リボンの溶融部分１０４の表面に衝突してパルスレーザビーム３０３から溶融部分１０４にエネルギーを伝達することができるパルスレーザビームを生成する。幾つかの実施形態では、ＣＯ２レーザ発生装置を使用してパルスレーザビーム３０３を生成することができるが、さらなる実施形態では、他のタイプのレーザ発生装置が用いられてもよい。幾つかの実施形態では、パルスレーザビーム３０３は、パルスレーザビーム３０３が溶融部分１０４の表面に衝突するときに、パルスレーザビーム３０３から溶融部分１０４へのエネルギーの伝達を容易にすることができる波長を含みうる。例えば、パルスレーザビームは、約０．９マイクロメートル～約１２マイクロメートルの範囲内の波長を含むことができ、パルスレーザビーム３０３からのエネルギーがリボンの溶融部分１０４によって吸収されることを可能にする。パルスレーザビームの波長は、処理される特定のタイプの溶融材料の吸収を最適化するように選択することができる。
次に、処理装置１４２は、パルスレーザビーム３０３を偏向させて、リボンの溶融部分１０４の処理経路３２１上の加熱ゾーン２１７で処理経路３２１に衝突させることができる。幾つかの実施形態では、示されるように、処理経路３２１は、移動方向１５４に垂直に延びることができるが、さらなる実施形態では、処理経路３２１は他の角度で延びてもよい。パルスレーザビーム３０３の偏向は、音響光学デフレクタ又は電気光学デフレクタを使用して、生成されたパルスレーザビーム３０３を偏向させることによって達成することができる。さらなる実施形態では、パルスレーザビーム３０３の偏向は、パルスレーザビーム３０３を反射面で反射することを含みうる。
パルスレーザビーム３０３の偏向は、処理経路３２１の方向２１６ａ、２１６ｂの一方に沿った加熱ゾーン２１７の移動をもたらすことができる。処理経路３２１が移動方向１５４に垂直な実施形態では、方向２１６ａ、２１６ｂは、リボンの幅「Ｗ」の方向を含みうる。方向２１６ａ、２１６ｂに沿った加熱ゾーン２１７の移動は、音響光学デフレクタ、電気光学デフレクタ、又は反射面によって達成することができる。例えば、反射面は、回転鏡などの回転する反射面を含みうる。回転鏡は、反射面がどのように回転するかに応じて、加熱ゾーン２１７が方向２１６ａ、２１６ｂの一方又は両方に沿って移動する軸を中心に回転することができる。
図示される実施形態では、反射面は、提供される場合、多角形反射装置３０５の複数の反射面３０７を含みうる。示されるように、複数の反射面３０７は、幾つかの実施形態では、回転軸３１３を中心に放射状に配置されて多角形反射装置３０５の外側の多角形周辺形状を画成する、複数の反射平面鏡を含むことができる。その結果、図９に示されるように、多角形反射装置３０５の反射面３０７で反射するパルスレーザビーム３０３は、多角形反射装置３０５が回転軸３１３を中心に回転方向３１１に回転する際に、リボンの幅「Ｗ」を横切る方向２１６ａに沿って加熱ゾーン２１７のストロークをもたらすことができる。
幾つかの実施形態では、該方法は、多角形反射装置３０５の回転軸３１３を中心に回転方向３１１に実質的に一定の角速度で多角形反射装置を回転させて、処理経路３２１に沿って加熱ゾーン２１７を移動させるステップを含みうる。多角形反射装置３０５を実質的に一定の角速度で回転させると、そうでなければ処理経路３２１全体にわたって所望の加熱プロファイルを提供するために必要とされるであろう角速度の一定の変化に起因してモータ３０９の早期の故障を引き起こす可能性がある過熱及び他の応力を回避することにより、多角形反射装置３０５の回転を駆動するモータ３０９の寿命を延ばすことができる。
本開示の方法は、偏向された（例えば、反射された）パルスレーザビーム３０３を、処理経路３２１に沿って加熱ゾーン２１７に衝突させるステップを含むことができ、該加熱ゾーン２１７は、不均一性の特定された位置を含みうる。例えば、加熱ゾーン２１７が処理経路３２１の方向２１６ａ及び／又は２１６ｂに移動する際、該加熱ゾーンは、ある期間中に、加熱ゾーンが不均一性の特定された位置を含むように移動することができる。パルスレーザビーム３０３の特性は、処理経路３２１に沿った加熱ゾーン２１７の位置に応じて、パルスレーザビーム３０３によってもたらされる加熱を選択的に制御するように制御することができる。例えば、パルスレーザビーム３０３の特性を制御するステップは、加熱ゾーン２１７が不均一性の特定された位置を含む期間、パルスレーザビーム３０３の１つ以上の特性（例えば、パルス周波数、パルス幅、及び／又はデューティサイクル）を変更することを含みうる。パルスレーザビーム３０３の１つ以上の特性を変更することにより、不均一性の位置でのリボンの溶融部分１０４の加熱を選択的に調整して、処理経路３２１に沿った溶融部分１０４の他の位置とは異なる不均一性の位置を処理することも可能となる。幾つかの実施形態では、不均一性の加熱の選択的制御は、処理経路３２１に沿った他の位置の厚さに対する不均一性の位置での厚さの変動が３マイクロメートル未満である場合に、不均一性を消失させることができる。幾つかの実施形態では、パルスレーザビーム３０３は、処理経路３２１の一部に沿ってオフにすることができる。例えば、パルスレーザビーム３０３は、偏向パルスレーザビーム３０３が不均一性の位置を含む加熱ゾーン２１７を生成しないであろう場合にオフにすることができる。むしろ、パルスレーザビーム３０３は、偏向パルスレーザビーム３０３が不均一性の位置を含む加熱ゾーン２１７を提供する場合にのみオンにすることができる。結果として生じるビームスポットが不均一性の位置の外側に位置するであろう場合にパルスレーザビーム３０３をオフにすることにより、不均一性の位置の外側のリボンの部分が薄くなることを回避することができる。あるいは、パルスレーザビームは、処理経路３２１のより長い長さの間（例えば、リボンの全幅「Ｗ」にわたって）オンのままにして、処理経路３２１に沿った加熱量を変更することができ、ここで、強化された加熱を不均一性の位置に提供して、不均一性の外側の位置と比較してその位置で比較的高い薄化を引き起こし、不均一性を消失させることができる。
一実施形態では、不均一性が溶融部分１０４の過度に厚い位置を含む場合、該方法は、加熱ゾーン２１７が不均一性の特定された位置を含む間、パルスレーザビーム３０３の１つ以上の特性を変更してパルスレーザビーム３０３による加熱を増加させるステップを含むことができる。加熱を増加させると、処理経路３２１に沿った溶融部分の厚さの不均一性を消失させることができる。
別の実施形態では、不均一性が溶融部分１０４の位置での温度低下を含む場合、該方法は、加熱ゾーン２１７が不均一性の特定された位置を含む間、パルスレーザビーム３０３の１つ以上の特性を変更してパルスレーザビーム３０３による加熱を増加させるステップを含むことができる。加熱を増加させると、温度の不均一性を消失させることができ、処理経路３２１全体及びリボンの幅「Ｗ」全体にわたり、温度がより均一になりうる。
別の実施形態では、不均一性が溶融部分１０４の位置での高温を含む場合、該方法は、加熱ゾーン２１７が不均一性の特定された位置を含む間、パルスレーザビーム３０３の１つ以上の特性を変更して、パルスレーザビーム３０３による加熱を低減させるステップを含むことができる。加熱を低減させると、温度の不均一性を消失させることができ、処理経路３２１全体及びリボンの幅「Ｗ」全体にわたり、温度がより均一になりうる。
幾つかの実施形態では、多角形反射装置３０５は、実質的に一定の角速度で回転することができ、一方、パルスレーザビーム３０３の特性は、処理経路３２１全体にわたる加熱プロファイルを変更するように制御することができる。このような方法で、実質的に一定の角速度での多角形反射装置３０５の回転は、モータ３０９の故障を回避することができ、一方、パルスレーザビーム３０３の特性の変更は、多角形反射装置３０５が回転するときに、処理経路３２１全体にわたって所望の加熱プロファイルを提供することができる。
幾つかの実施形態では、該方法は、パルスレーザビーム３０３を加熱ゾーン２１７に衝突させるステップを含むことができ、該加熱ゾーン２１７は、図２に示されるように、移動経路１５０の移動方向１５４に伸長されてよく、ここで、移動方向１５４に延びる加熱ゾーン２１７の長さ２１９は、移動方向１５４に垂直に延びる加熱ゾーン２１７の幅２２１より大きい。加熱ゾーンは、幾つかの実施形態では、例えば、ある特定のガラス組成物を用いて、又はリボンの主面がパルスレーザビームによって衝突されたときにリボンの溶融部分が厚さ全体にわたって加熱に対してより応答性である場合には、伸長されない可能性がある。幾つかの実施形態では、移動方向１５４に伸長された加熱ゾーン２１７を提供することは、リボンが移動方向１５４に移動する際に、リボンの溶融部分１０４の不均一性の位置がパルスレーザビーム３０３に曝露される累積時間を増加させるのに役立てることができる。累積された曝露時間の増加は、リボンが移動方向１５４に移動していたとしても、パルスレーザビーム３０３が不均一性の位置においてリボンの溶融部分１０４の全厚をより完全に加熱するのを助けることができる。幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７の細長い長さ２１９の加熱ゾーン２１７の幅２２１に対する比は、約３以上でありうる。幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７の幅２２１は、約１００マイクロメートル～約３０ミリメートルの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７の長さ２１９は、約１ミリメートル～約１００ミリメートルの範囲でありうる。幾つかの実施形態では、加熱ゾーン２１７の細長い長さ２１９は、リボンが選択された時間内に移動方向１５４に移動する距離とほぼ同じでありうる。幾つかの実施形態では、その期間は少なくとも約１秒でありうるが、さらなる実施形態では１秒未満が提供されうる。例えば、制御デバイス３１５は、コマンド信号を加熱ゾーンデバイス３３７に送信して、リボンが移動している速度に基づいて加熱ゾーン２１７の長さ２１９を調整するように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。例えば、制御デバイス３１５は、コマンド信号を加熱ゾーンデバイス３３７に送信して、長さ２１９を、プログラムされた期間にわたってリボンが移動する距離になるように調整させるように構成されうる（例えば、「プログラムされる」、「エンコードされる」、「設計される」、及び／又は「作られる」）。
さまざまな方法を使用して、図３～８に示される代替的な加熱ゾーン２１７に示されるように、任意選択的に細長い加熱ゾーンを提供することができる。幾つかの実施形態では、図５～８に関して論じたように、加熱ゾーン２１７は、移動方向１５４に垂直な幅２２１より大きい、移動方向１５４の長さ２１９を含む長方形の加熱ゾーンを任意選択的に含みうる。例えば、図５は、角部が丸みを帯びた長方形の加熱ゾーン２１７ｃの形態をした長方形の形状を含む、加熱ゾーン２１７を示している。別の例では、図６に示され、前述したように、加熱ゾーン２１７は、長方形の加熱ゾーン２１７ｄを生成する往復するビームスポット６０１を含む。別の実施形態では、図７に示され、前述したように、加熱ゾーン２１７は、ビームスポット７０１のアレイとして長方形の加熱ゾーン２１７ｅに衝突する複数のパルスレーザビームによってもたらされる、楕円形の加熱ゾーン２１７ｅを含みうる。さらに別の実施形態では、図８に示され、前述したように、加熱ゾーン２１７は、楕円の形状をしたビームスポット８０１として提供される楕円形の加熱ゾーン２１７ｆを含みうる。
幾つかの実施形態では、方法は、不均一性の位置の加熱をより正確に制御するために、偏向レーザビームの位置を較正するステップを含みうる。偏向レーザビームの位置を頻繁に較正することにより、プロセッサ３２７は、適切な時間にパルスレーザビームの特性をより正確に制御して、リボンの溶融部分１０４における不均一性の特定された位置を含む加熱ゾーン２１７の所望の加熱をもたらすことができる。較正を容易にするため、幾つかの実施形態では、処理装置１４２は、図９に概略的に示されたセンシング装置３４１を含みうる。センシング装置３４１の一実施形態の特徴が図１０に示されている。示されるように、センシング装置３４１は、任意選択的に、パルスレーザビーム３０３を集束するように設計された集束レンズ４０１を備えることができる。さらなる実施形態では、センシング装置３４１は、開孔４０７を備えたマスク４０５を含みうる。示されるように、パルスレーザビームがマスク４０５の開孔４０７に近づくと、該マスク４０５は、パルスレーザビーム３０３がマスク４０５を通過してセンシングデバイス４０３に到達するのを阻止する。しかしながら、最終的に、パルスレーザビーム３０３は、マスクの開孔４０７と整列する位置に移動し、パルスレーザビーム３０３は開孔４０７を通過して、センシングデバイス４０３に衝突しうる。マスク４０５の開孔４０７は、サイズを縮小して、特定の時間におけるパルスレーザビームの位置を特定する精度を高めることができる。センシングデバイス４０３にパルスレーザビーム３０３を衝突させると、通信ライン４０９に沿ってプロセッサ３２７に渡される信号が生成され、該プロセッサ３２７は、センシングデバイスからの信号に基づいて、偏向パルスレーザビームの正確な位置を較正する。
多角形反射装置３０５を用いた幾つかの実施形態では、該方法は、多角形反射装置３０５の反射面３０７でパルスレーザビーム３０３を反射して、多角形反射装置の第１の角度方向でリボンの溶融部分１０４に衝突するステップ、及び多角形反射装置３０５の反射面３０７でパルスレーザビーム３０３をさらに反射して、第１の角度方向とは異なる第２の角度方向でセンシングデバイス４０３に衝突して、反射されたパルスレーザビーム３０３の位置を、例えばリボンの幅「Ｗ」を横切って移動する加熱ゾーンの各ストロークについて少なくとも１回、較正するステップ含みうる。例えば、図９に示されるように、反射されたパルスレーザビームは、加熱ゾーンがリボンの第１の外側エッジ１５３に到達するまで、加熱ゾーンが幅「Ｗ」を横切って処理経路３２１に沿った方向２１６ａに沿って移動するように移動することができる。多角形反射装置３０５を回転方向３１１にさらに回転させると、レーザビームは、第１の外側エッジ１５３から第１の外側エッジ１５３の外側に横方向に移動し、最終的に、第１の外側エッジ１５３の外側に横方向にセンシングデバイス４０３に衝突する。したがって、第１の外側エッジ１５３の外側を移動したパルスレーザビームの未使用部分を使用して、パルスレーザビーム３０３の位置を較正することができることから、パルスレーザビーム３０３の位置の較正は、処理経路３２１に沿ったリボンの溶融部分１０４の加熱を妨げることなく実施することができる。図示されていないが、別のセンシング装置（センシング装置３４１と同様又は同一）を、第２の外側エッジ１５５の外側に横方向に設けることができる。このような実施形態では、パルスレーザビーム３０３の較正は、リボンの幅「Ｗ」を横切って移動する加熱ゾーンの各ストロークについて２回実施されて、パルスレーザビーム３０３の位置の較正の精度をさらに高めることができる。
本明細書に記載される実施形態及び機能的動作は、本明細書に開示されている構造及びそれらの構造上の等価物、又はそれらの１つ以上の組み合わせを含めた、デジタル電子回路に、若しくはコンピュータソフトウェア、ファームウェア、又はハードウェアに実装することができる。本明細書に記載される実施形態は、１つ以上のコンピュータプログラム製品、すなわち、データ処理装置による実行のため、又はデータ処理装置の動作を制御するための有形プログラムキャリア上にエンコードされるコンピュータプログラム命令の１つ以上のモジュールとして実装されうる。有形プログラムキャリアは、コンピュータ可読媒体でありうる。コンピュータ可読媒体は、機械可読貯蔵デバイス、機械可読記憶基板、記憶デバイス、又はこれらの１つ以上の組み合わせでありうる。
「プロセッサ」、「コントローラ」、又は「制御デバイス」という用語は、例えば、プログラマブルプロセッサ、コンピュータ、若しくは複数のプロセッサ又はコンピュータを含む、データを処理するためのすべての装置、デバイス、及び機械を包含しうる。プロセッサは、ハードウェアに加えて、例えば、プロセッサファームウェア、プロトコルスタック、データベース管理システム、オペレーティングシステム、又はこれらの１つ以上の組合せを構成するコードなど、対象のコンピュータプログラムの実行環境を作り出すコードを含みうる。
コンピュータプログラム（プログラム、ソフトウェア、ソフトウェアアプリケーション、又はコードとしても知られている）は、コンパイラ型言語又は解釈言語、若しくは宣言型言語又は手続き型言語を含む、任意の形態のプログラミング言語で記述されてよく、スタンドアローンプログラムとして、又は、モジュール、コンポーネント、サブルーチン、若しくはコンピューティング環境での使用に適した他のユニットとしての形態を含む、任意の形式で展開されうる。コンピュータプログラムは、必ずしもファイルシステム内のファイルに対応するとは限らない。プログラムは、他のプログラム又はデータ（例えば、マークアップ言語ドキュメントに保存された１つ以上のスクリプト）を保持するファイルの一部、対象とするプログラム専用の単一ファイル、若しくは複数の調整されたファイル（例えば、１つ以上のモジュール、サブプログラム、又はコードの一部を保存するファイル）に保存することができる。コンピュータプログラムは、１つのコンピュータ又は１つのサイトに位置するか、又は複数のサイトにわたって分散され、かつ通信ネットワークで相互接続されている複数のコンピュータで実行されるように展開させることができる。
本明細書に記載されるプロセスは、入力データを操作し、出力を生成することによって機能を実行するように１つ以上のコンピュータプログラムを実行する１つ以上のプログラマブルプロセッサによって実行することができる。プロセス及び論理フローは、特殊用途の論理回路、例えば、幾つか例を挙げれば、ＦＰＧＡ（フィールドプログラマブルゲートアレイ）又はＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）によって実行することもできる。
コンピュータプログラムの実行に適しているプロセッサには、例として、汎用及び専用の両方のマイクロプロセッサ、並びに任意の種類のデジタルコンピュータの任意の１つ以上のプロセッサが含まれる。一般に、プロセッサは、読み取り専用メモリ、又はランダムアクセスメモリ、若しくはその両方から命令及びデータを受け取る。コンピュータの必須要素は、命令を実行するプロセッサと、命令及びデータを記憶する１つ以上の記憶デバイスである。一般に、コンピュータは、例えば磁気ディスク、光磁気ディスク、又は光ディスクなど、データを記憶する１つ以上の大容量記憶デバイスも含む、若しくはそれらからデータを受信する、若しくはそれらにデータを送信する、若しくは送受信の両方を行うように、動作可能に結合される。しかしながら、コンピュータはこのようなデバイスを有する必要はない。さらには、数例を挙げれば、コンピュータを別のデバイス、例えば携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）などに組み込むことができる。
コンピュータプログラム命令及びデータを保存するのに適したコンピュータ可読媒体には、不揮発性メモリを含むすべての形式のデータメモリ、例として、例えば、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、及びフラッシュメモリデバイスなどの半導体メモリデバイスを含む、メディア及びメモリデバイス；磁気ディスク、例えば、内蔵ハードディスク又はリムーバブルディスクなどの磁気ディスク；－光磁気ディスク；並びに、ＣＤ－ＲＯＭ及びＤＶＤ－ＲＯＭディスクが含まれる。プロセッサ及びメモリは、専用ロジック回路で補完するか、又は専用ロジック回路に組み込むことができる。
ユーザーとの対話を提供するために、本明細書に記載される実施形態は、ユーザーに情報を表示するための表示デバイス、例えば、ＣＲＴ（陰極線管）又はＬＣＤ（液晶ディスプレイ）モニターなど、並びに、キーボード及びポインティングデバイス（マウス又はトラックボールなど）、又はユーザーがコンピュータに入力を提供することができるタッチスクリーン等を備えたコンピュータに実装することができる。他の種類のデバイスを使用して、ユーザーとの対話を提供することもできる；例えば、ユーザーからの入力は、音響、音声、又は触覚による入力を含む任意の形式で受信することができる。
本明細書に記載される実施形態は、例えばデータサーバーなどのバックエンドコンポーネントを含む、若しくは、例えばアプリケーションサーバーなどのミドルウェアコンポーネントを含む、若しくは、例えば本明細書で説明する主題の実装とユーザーが対話可能なグラフィカルユーザーインターフェイス又はＷｅｂブラウザを備えた顧客のコンピュータなどのフロントエンドコンポーネントを含む、若しくは、１つ以上のこのようなバックエンド、ミドルウェア、又はフロントエンドコンポーネントの任意の組合せを含む、コンピューティングシステムに実装することができる。システムのコンポーネントは、例えば通信ネットワークなど、任意の形式又は媒体のデジタルデータ通信によって相互接続することができる。通信ネットワークの実施形態には、ローカルエリアネットワーク（「ＬＡＮ」）及びワイドエリアネットワーク（「ＷＡＮ」）、例えばインターネットが含まれる。
コンピューティングシステムには、顧客とサーバが含まれうる。顧客とサーバは、概して互いに遠く離れており、通常は通信ネットワークを介して対話する。顧客とサーバの関係は、それぞれのコンピュータで実行され、かつ相互に顧客とサーバの関係を有する、コンピュータプログラムから生じる。
さまざまな開示される実施形態は、その特定の実施形態に関連して記載される特定の特徴、要素、又は工程を含みうることが認識されよう。また、特定の特徴、要素、又は工程は、特定の一実施形態に関連して説明されているが、図示されていないさまざまな組合せ又は順列の代替的な実施形態と交換又は組み合わせることができることも認識されよう。
本明細書で用いられる場合、用語「ｔｈｅ」、「ａ」、又は「ａｎ」は、「少なくとも１つ」を意味し、明示的に反対の指示がない限り、「１つのみ」に限定されるべきではないことが理解されるべきである。同様に、「複数」は、「１つより多い」ことを示すことを意図している。
本明細書では、範囲は、「約」１つの特定の値から、及び／又は「約」別の特定の値までとして表現することができる。このような範囲が表現される場合、実施形態は、その１つの特定の値から及び／又は他方の特定の値までを含む。同様に、例えば先行詞「約」の使用によって、値が近似値として表される場合、その特定の値は別の実施形態を形成することが理解されよう。さらには、範囲の各々の端点は、他の端点に関連して、及び他の端点とは独立してのいずれにおいても重要であることが理解されよう。
本明細書で用いられる用語「実質的な」、「実質的に」、及びそれらの変形は、記載された特徴が値又は説明に等しい又はほぼ等しいことを示すことが意図されている。
特に明記しない限り、本明細書に記載の任意の方法は、その工程が特定の順序で実行されることを必要とすると解釈されることは、決して意図していない。したがって、方法クレームがその工程が従うべき順序を実際に列挙していないか、又は工程が特定の順序に限定されるべきであることが特許請求の範囲又は明細書に具体的に述べられていない場合には、いかなる特定の順序も、推測されることは、決して意図していない。
特定の実施形態のさまざまな特徴、要素、又は工程は、「含む」という移行句を使用して開示されうるが、「～からなる」又は「～から実質的になる」という移行句を使用して説明されうるものを含む代替的な実施形態態が暗示されることが理解されるべきである。したがって、例えば、Ａ＋Ｂ＋Ｃを含む装置の暗黙の代替的な実施形態には、装置がＡ＋Ｂ＋Ｃからなる実施形態と、装置が実質的にＡ＋Ｂ＋Ｃからなる実施形態とが含まれる。
さまざまな実施形態が、それらのある特定の例示的な例及び具体的な例に関して詳細に説明されているが、以下の特許請求の範囲から逸脱することなく、開示された特徴の多くの修正及び組合せが可能であることから、本開示は、そのようなものに限定されると見なされるべきではないことが理解されるべきである。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
リボンの製造方法であって、
移動経路の移動方向に沿って前記リボンを移動させるステップ；
前記リボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップ；
パルスレーザビームを偏向させるステップ；及び
前記不均一性の前記位置を含む加熱ゾーンに前記偏向パルスレーザビームを衝突させるステップであって、前記加熱ゾーンが前記移動経路の前記移動方向に細長い、ステップ
を含む、方法。
実施形態２
前記パルスレーザビームを偏向させるステップが、多角形反射装置の反射面でパルスレーザビームを反射させることを含む、実施形態１に記載の方法。
実施形態３
リボンの製造方法であって、
移動経路の移動方向に沿って前記リボンを移動させるステップ；
前記リボンの溶融部分の処理経路上で前記リボンの前記溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップ；
多角形反射装置の反射面でパルスレーザビームを反射させるステップであって、前記反射されたパルスレーザビームが前記処理経路上の加熱ゾーンに衝突する、ステップ；及び
前記多角形反射装置の回転軸を中心に実質的に一定の角速度で前記多角形反射装置を回転させて、前記加熱ゾーンを前記処理経路に沿って移動させるステップであって、前記加熱ゾーンが前記不均一性の前記位置を含む、ステップ
を含む、方法。
実施形態４
リボンの製造方法であって、
移動経路の移動方向に沿って前記リボンを移動させるステップ；
前記リボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップ；
パルスレーザビームを偏向させるステップ；
前記不均一性の前記位置を含む加熱ゾーンに前記偏向パルスレーザビームを衝突させるステップ；
前記偏向パルスレーザビームをセンシングデバイスに衝突させるステップであって、前記センシングデバイス上の前記衝突が信号を生成する、ステップ；及び
前記生成された信号に基づいて、前記偏向パルスレーザビームの位置を較正するステップ
を含む、方法。
実施形態５
前記特性が前記リボンの厚さを含む、実施形態１から４のいずれかに記載の方法。
実施形態６
前記特性が前記リボンの温度を含む、実施形態１から４のいずれかに記載の方法。
実施形態７
前記パルスレーザビームが、前記移動経路に沿って前記加熱ゾーン内を繰り返し移動するビームスポットで前記加熱ゾーンに衝突する、実施形態１から６のいずれかに記載の方法。
実施形態８
前記パルスレーザビームが、前記移動経路の前記移動方向に整列されたビームスポットのアレイとして配置された対応するビームスポットで前記加熱ゾーンに衝突する、複数のパルスレーザビームを含む、実施形態１から６のいずれかに記載の方法。
実施形態９
前記加熱ゾーンが、前記移動経路の前記移動方向に延びる主軸を含む楕円形の形状を含む、実施形態１から６のいずれかに記載の方法。
実施形態１０
前記方法が、前記パルスレーザビームの特性を制御して前記不均一性の前記位置の加熱を制御するステップをさらに含む、実施形態１から９のいずれかに記載の方法。
実施形態１１
前記不均一性の前記位置の前記加熱が前記不均一性を消失させる、実施形態１０に記載の方法。
１００ ガラス製造装置
１０１ 成形装置
１０２ 送給装置
１０３ リボンのガラス部分
１０４ リボンの溶融部分
１０５ 溶融容器
１０７ バッチ材料
１１３ モータ
１１５ 制御デバイス
１２１ 溶融材料
１２５ 通信ライン
１４０ 成形容器
１４２ 処理装置
１５０ 移動経路
１５３ 第１の外側エッジ
１５４ 移動方向
１５５ 第２の外側エッジ
１６３、１６４ エッジディレクタ
３０３ パルスレーザビーム
３４１ センシング装置

Claims (10)

  1. リボンの製造方法であって、
    移動経路の移動方向に沿って前記リボンを移動させるステップ；
    前記リボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップ；
    パルスレーザビームを偏向させるステップ；及び
    前記不均一性の前記位置を含む加熱ゾーンに前記偏向パルスレーザビームを衝突させるステップであって、前記加熱ゾーンが前記移動経路の前記移動方向に細長い、ステップ
    を含む、方法。
  2. 前記パルスレーザビームを偏向させるステップが、多角形反射装置の反射面でパルスレーザビームを反射させることを含む、請求項１に記載の方法。
  3. リボンの製造方法であって、
    移動経路の移動方向に沿って前記リボンを移動させるステップ；
    前記リボンの溶融部分の処理経路上で前記リボンの前記溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップ；
    多角形反射装置の反射面でパルスレーザビームを反射させるステップであって、前記反射されたパルスレーザビームが前記処理経路上の加熱ゾーンに衝突する、ステップ；及び
    前記多角形反射装置の回転軸を中心に実質的に一定の角速度で前記多角形反射装置を回転させて、前記加熱ゾーンを前記処理経路に沿って移動させるステップであって、前記加熱ゾーンが前記不均一性の前記位置を含む、ステップ
    を含む、方法。
  4. リボンの製造方法であって、
    移動経路の移動方向に沿って前記リボンを移動させるステップ；
    前記リボンの溶融部分の特性における不均一性の位置を特定するステップ；
    パルスレーザビームを偏向させるステップ；
    前記不均一性の前記位置を含む加熱ゾーンに前記偏向パルスレーザビームを衝突させるステップ；
    前記偏向パルスレーザビームをセンシングデバイスに衝突させるステップであって、前記センシングデバイス上の前記衝突が信号を生成する、ステップ；及び
    前記生成された信号に基づいて、前記偏向パルスレーザビームの位置を較正するステップ
    を含む、方法。
  5. 前記特性が前記リボンの厚さを含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記特性が前記リボンの温度を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記パルスレーザビームが、前記移動経路に沿って前記加熱ゾーン内を繰り返し移動するビームスポットで前記加熱ゾーンに衝突する、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記パルスレーザビームが、前記移動経路の前記移動方向に整列されたビームスポットのアレイとして配置された対応するビームスポットで前記加熱ゾーンに衝突する、複数のパルスレーザビームを含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記加熱ゾーンが、前記移動経路の前記移動方向に延びる主軸を含む楕円形の形状を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記方法が、前記パルスレーザビームの特性を制御して前記不均一性の前記位置の加熱を制御するステップをさらに含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
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