CN113825729A - 制造带的方法和设备 - Google Patents

Abstract

制造带的方法可包括识别移动带的熔融部分的特性的不均匀的位置。方法可进一步包括使偏转的脉冲激光束撞击在加热区上，所述加热区包括在带的熔融部分中的不均匀的位置。在一些实施例中，加热区可在移动带的行进路径的行进方向上伸长。在一些实施例中，脉冲激光束可从以基本上恒定的角速度旋转的多边形反射装置的反射表面反射。在一些实施例中，方法可包含使偏转的脉冲激光束撞击在感测装置上以产生讯号。方法可进一步包括基于来自感测装置的讯号来校准偏转的脉冲激光束的位置。

Description

制造带的方法和设备

技术领域

本申请案主张于2019年4月12日申请的美国临时申请案序号第62/833,260号的优先权的权益，依据此案的内容并且将此案的内容以其全文引用方式并入本文，就像以下进行完整记载。

本公开案大致上关于用于制造带(ribbon)的方法及设备，并且更具体而言关于用于加热带的熔融部分的不均匀的位置的方法及设备。

背景技术

已知通过将激光束导向带的熔融部分的预选部分来控制带的熔融部分的厚度。激光束可升高温度并且减少带的熔融部分的预选部分的粘度，致使在将熔融部分冷却成带的玻璃部分之前预选部分达到期望的厚度。

发明内容

以下描述本公开案的一些示例实施例，并且理解实施例的任一者可单独使用或彼此结合使用。

实施例1。一种制造带的方法可包括沿行进路径的行进方向移动带。方法可进一步包括识别带的熔融部分的特性的不均匀的位置。方法可进一步包括偏转脉冲激光束。方法可进一步包括使偏转的脉冲激光束撞击在加热区上，所述加热区包括不均匀的位置。加热区可在行进路径的行进方向上伸长。

实施例2。根据实施例1的方法，其中偏转脉冲激光束的步骤可包括从多边形反射装置的反射表面反射脉冲激光束。

实施例3。根据实施例2的方法，其中方法可进一步包括绕多边形反射装置的旋转轴以基本上恒定的角速度旋转多边形反射装置。

实施例4。根据实施例1至实施例3中的任一者的方法，其中方法可进一步包括使偏转的脉冲激光束撞击在感测装置上以产生讯号，及基于来自感测装置的讯号来校准偏转的脉冲激光束的位置。

实施例5。一种制造带的方法可包括沿行进路径的行进方向移动带。方法可进一步包括识别在带的熔融部分的处理路径上带的熔融部分的特性的不均匀的位置。方法可进一步包括从多边形反射装置的反射表面反射脉冲激光束。反射的脉冲激光束可撞击在处理路径上的加热区上。方法可进一步包括绕多边形反射装置的旋转轴以基本上恒定的角速度旋转多边形反射装置，以沿处理路径移动加热区。加热区可包括不均匀的位置。

实施例6。根据实施例5的方法，其中方法可进一步包括使反射的脉冲激光束以多边形反射装置的第二角度定向撞击在感测装置上以产生讯号，并且基于来自感测装置的讯号校准反射的脉冲激光束的位置。

实施例7。一种制造带的方法可包括沿行进路径的行进方向移动带。方法可进一步包括识别带的熔融部分的特性的不均匀的位置。方法可进一步包括偏转脉冲激光束。方法可进一步包括使偏转的脉冲激光束撞击在不均匀的位置的加热区上。方法可进一步包括使偏转的脉冲激光束撞击在感测装置上。使偏转的脉冲激光束撞击在感测装置上的步骤产生讯号。方法可进一步包括基于产生的讯号来校准偏转的脉冲激光束的位置。

实施例8。根据实施例7的方法，其中偏转脉冲激光束的步骤可包括从反射表面反射脉冲激光束。

实施例9。根据实施例1至实施例8中的任一者的方法，其中特性可包括带的厚度。

实施例10。根据实施例1至实施例8中的任一者的方法，其中特性可包括带的温度。

实施例11。根据实施例1至实施例10中的任一者的方法，其中脉冲激光束可包括在从约0.9微米至约12微米的范围中的波长。

实施例12。根据实施例1至实施例11中的任一者的方法，其中脉冲激光束可由二氧化碳(CO₂)激光产生器产生。

实施例13。根据实施例1至实施例12中的任一者的方法，其中脉冲激光束可于光束点(beam spot)处撞击在加热区上，所述光束点可沿行进路径在加热区内重复移动。

实施例14。根据实施例1至实施例12中的任一者的方法，其中脉冲激光束可包括多个脉冲激光束，所述多个脉冲激光束在对应的光束点处撞击在加热区上，所述光束点安置成在行进路径的行进方向上对准的光束点的阵列。

实施例15。根据实施例14的方法，其中方法可进一步包括将产生的脉冲激光束分成多个脉冲激光束。

实施例16。根据实施例1至实施例12中的任一者的方法，其中加热区可包括椭圆形，所述椭圆形包括在行进路径的行进方向上延伸的主轴。

实施例17。根据实施例16的方法，其中方法可进一步包括使脉冲激光束穿过圆柱状透镜以产生椭圆形。

实施例18。根据实施例16的方法，其中方法可进一步包括使脉冲激光束穿过变形(anamorphic)棱镜以产生椭圆形。

实施例19。根据实施例1至实施例18中的任一者的方法，其中方法可进一步包括控制脉冲激光束的特性以控制不均匀的位置的加热。

实施例20。根据实施例19的方法，其中脉冲激光束的特性可包括脉冲激光束的脉冲频率。

实施例21。根据实施例19至实施例20中的任一者的方法，其中脉冲激光束的特性可包括脉冲激光束的脉冲宽度。

实施例22。根据实施例19至实施例21中的任一者的方法，其中脉冲激光束的特性可包括脉冲激光束的占空比。

实施例23。根据实施例19至实施例22中的任一者的方法，其中加热不均匀的位置可致使不均匀性消除。

实施例24。根据实施例1至实施例23中的任一者的方法，其中加热区跨行进路径的宽度可在从约100微米至约30毫米的范围中。

实施例25。根据实施例1至实施例24中的任一者的方法，其中方法可进一步包括选择性地控制在行进方向上延伸的加热区的伸长长度。

实施例26。根据实施例1至实施例24中的任一者的方法，其中加热区可包括在行进方向上延伸的在从约1毫米至约100毫米的范围中的伸长长度。

实施例27。根据实施例26的方法，其中方法可进一步包括选择性地控制加热区的伸长长度。

实施例28。根据实施例25至实施例27中的任一者的方法，其中加热区的伸长长度与跨行进路径的加热区的宽度的比率可为约3或更大。

实施例29。根据实施例28的方法，其中加热区的宽度可在从约100微米至约30毫米的范围中。

在以下的实施方式中将记载本文公开的另外实施例。应理解，前述一般性描述及以下实施方式两者呈现欲提供用于理解本案公开的实施例的本质及特性的概要或架构的实施例。本文包含附图以提供进一步理解，并且附图并入此说明书中且构成此说明书的部分。图式显示本公开案的各种实施例，且图式与说明一起用以解释各种实施例的原理及操作。

附图说明

当参照附图阅读以下实施方式时，将更好地理解这些及其他实施例，其中：

第1图示意显示根据本公开案的实施例的经配置以形成带的玻璃制造设备的示例性实施例；

第2图图示根据本公开案的实施例的沿第1图的线2-2的玻璃制造设备的透视剖面图；

第3图图示第2图的视图3处截取的加热区的一个实施例的放大图；

第4图图示第2图的视图3处截取的加热区的另一个实施例的放大图；

第5图图示第2图的视图3处截取的加热区的另一个实施例的放大图；

第6图图示第2图的视图3处截取的加热区的另一个实施例的放大图；

第7图图示第2图的视图3处截取的加热区的另一个实施例的放大图；

第8图图示第2图的视图3处截取的加热区的另一个实施例的放大图；

第9图显示处理设备的实施例的示意透视图，处理设备使偏转的脉冲激光束撞击在带的熔融部分的加热区上；及

第10图显示感测装置，感测装置经配置以产生用于校准偏转的脉冲激光束的位置的讯号。

具体实施方式

现将在下文参照图示了示例实施例的附图来更全面地描述实施例。在图式各处尽可能使用相同的组件符号来指称相同或类似的部件。然而，本公开案可以许多不同的形式来实现，并且不应被解释为限于本文记载的实施例。

本公开案关于玻璃制造设备及用于由一定量的熔融材料制造带的方法。在一些实施例中，带可包括熔融部分，所述熔融部分可被冷却成玻璃部分。可使用槽拉制(slotdraw)设备、浮浴(float bath)设备、下拉(down-draw)设备、上拉(up-draw)设备、压辊(press-rolling)设备或其他玻璃制造设备来由一定量的熔融材料形成带。

现将通过示例性实施例来描述用于制造玻璃的方法及设备，示例性实施例用于由一定量的熔融材料形成带。如第1图中示意显示，在一些实施例中，示例性玻璃制造设备100可包括：玻璃熔化及输送设备102；包含成形容器140的成形设备101，成形容器140设计成由一定量的熔融材料121产生带的熔融部分104；及/或处理设备142，其经设计用于处理带的熔融部分104。为了本申请案的目的，带的“熔融部分”视为带的包括在从约10⁴泊至约10^7.6泊的范围内的粘度的部分。在一些实施例中，玻璃制造设备100可视为处理设备142而无需玻璃熔化及输送设备102或成形设备101的特征。在进一步实施例中，玻璃制造设备100可视为处理设备142与成形设备101的特征结合而无需玻璃熔化及输送设备102的特征。在进一步实施例中，玻璃制造设备100可包括处理设备142与玻璃熔化及输送设备102及成形设备101的特征组合。

在一些实施例中，可将带的熔融部分104冷却成带的玻璃部分103，玻璃部分103包括设置在带的第一外边缘153与第二外边缘155之间的中心部分152。另外，在一些实施例中，可通过玻璃分离器149(例如，划线、刻痕轮、钻石尖端、激光等)沿分离路径151将分离的玻璃带106从带的玻璃部分103分离。

在一些实施例中，玻璃熔化及输送设备102可包含熔化容器105，熔化容器105定向以接收来自储存仓109的批料107。批料107可通过由马达113提供动力的批量输送装置111引入。在一些实施例中，任选的控制装置115(例如，可编程逻辑控制器)可经配置以(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)操作而启动马达113，以将批料107的期望的量引入熔化容器105中，如由箭头117指示。熔化容器105可加热批料107以提供熔融材料121。在一些实施例中，可采用熔体探针119来测量竖管(standpipe)123内的熔融材料121的水平(level)，并且通过通讯线路125将测量的信息传送至控制装置115。

另外，在一些实施例中，玻璃熔化及输送设备102可包含第一调节站，第一调节站包含澄清容器127，澄清容器127位于熔化容器105的下游并且通过第一连接导管129耦接至熔化容器105。在一些实施例中，熔融材料121可通过第一连接导管129从熔化容器105重力供给至澄清容器127。例如，在一些实施例中，重力可驱动熔融材料121通过第一连接导管129的内部通道从熔化容器105流至澄清容器127。另外，在一些实施例中，可通过各种技术从澄清容器127内的熔融材料121移除气泡。

在一些实施例中，玻璃熔化及输送设备102可进一步包含第二调节站，第二调节站包含混合腔室131，混合腔室131可位于澄清容器127的下游。混合腔室131可用以提供均质的熔融材料121的组成物，从而减少或消除在另外情况下可能存在于离开澄清容器127的熔融材料121内的不均质性。如图所示，澄清容器127可通过第二连接导管135耦接至混合腔室131。在一些实施例中，熔融材料121可通过第二连接导管135从澄清容器127重力供给至混合腔室131。例如，在一些实施例中，重力可驱动熔融材料121通过第二连接导管135的内部通道从澄清容器127流至混合腔室131。

另外，在一些实施例中，玻璃熔化及输送设备102可包含第三调节站，第三调节站包含输送容器133，输送容器133可位于混合腔室131的下游。在一些实施例中，输送容器133可调节待供给至入口导管141中的熔融材料121。例如，输送容器133可作为累加器(accumulator)及/或流量控制器，以调整并且提供一致的熔融材料121流至入口导管141。如图所示，混合腔室131可通过第三连接导管137耦接至输送容器133。在一些实施例中，熔融材料121可通过第三连接导管137从混合腔室131重力供给至输送容器133。例如，在一些实施例中，重力可驱动熔融材料121通过第三连接导管137的内部通道从混合腔室131流至输送容器133。如进一步所显示，在一些实施例中，输送管139可定位成将熔融材料121输送至成形设备101，例如成形容器140的入口导管141。

成形设备101可包括根据本公开案的特征的成形容器的各种实施例，包含具有用于熔融拉制带的楔形物的成形容器，具有用于槽拉制带的槽的成形容器，或提供有压辊以将来自成形容器的带压辊的成形容器。通过说明，可提供以下图示及公开的成形容器140，以将熔融材料121从成形楔209的底部边缘(界定为根部145)熔融拉出，以产生带的熔融部分104，熔融部分104可被拉制并且冷却成带的玻璃部分103。例如，在一些实施例中，熔融材料121可从入口导管141输送至成形容器140。然后可至少部分基于成形容器140的结构将熔融材料121成形为带的熔融部分104。例如，如图所示，熔融材料121可作为熔融部分104从成形容器140的根部145拉离并且沿行进路径150的行进方向154移动。

在一些实施例中，边缘导引器163、164可将熔融部分104导引离开成形容器140，并且帮助界定带的所产生的玻璃部分103的宽度“W”。在一些实施例中，玻璃部分103的宽度“W”可在玻璃部分103的第一外边缘153与玻璃部分103的第二外边缘155之间延伸。在一些实施例中，玻璃部分103的宽度“W”可大于或等于约20mm，如大于或等于约50mm，如大于或等于约100mm，如大于或等于约500mm，如大于或等于约1000mm，如大于或等于约2000mm，如大于或等于约3000mm，如大于或等于约4000mm，但在进一步实施例中可提供小于或大于上述宽度的其他宽度。例如，在一些实施例中，玻璃部分103的宽度“W”可为从约20mm至约4000mm，如从约50mm至约4000mm，如从约100mm至约4000mm，如从约500mm至约4000mm，如从约1000mm至约4000mm，如从约2000mm至约4000mm，如从约3000mm至约4000mm，如从约20mm至约3000mm，如从约50mm至约3000mm，如从约100mm至约3000mm，如从约500mm至约3000mm，如从约1000mm至约3000mm，如从约2000mm至约3000mm，如从约2000mm至约2500mm，以及介于其间的所有范围及子范围。

第2图图示沿第1图的线2-2的成形设备101(例如，成形容器140)的剖面透视图。在一些实施例中，成形容器140可包含槽201，槽201定向为从入口导管141接收熔融材料121。为了说明的目的，为了清楚起见从第2图移除熔融材料121的交叉影线。成形容器140可进一步包含成形楔209，成形楔209包含在成形楔209的相对端210、211(见第1图)之间延伸的一对向下倾斜的会聚表面部分207、208。成形楔209的此对向下倾斜的会聚表面部分207、208可沿行进方向154会聚，以沿成形容器140的根部145相交。玻璃制造设备100的拉制平面213可沿行进路径150的行进方向154延伸穿过根部145。在一些实施例中，带的熔融部分104可沿行进路径150的行进方向154移动并且穿过拉制平面213。如图所示，拉制平面213可穿过根部145将成形楔209二等分，但在一些实施例中，拉制平面213可相对于根部145以其他定向延伸。

另外，在一些实施例中，熔融材料121可在方向156上流入并且沿成形容器140的槽201流动。然后，熔融材料121可通过同时流过对应的堰203、204并且向下流过对应的堰203、204之外表面205、206而从槽201溢出。相应的熔融材料121的流然后可沿成形楔209的向下倾斜的会聚表面部分207、208流动，以从成形容器140的根部145被拉制出，于此处流动会聚并且熔融成带的熔融部分104。然后可将带的熔融部分104从拉制平面213中的根部145拉制出，并且带可沿行进路径150的行进方向154移动并且冷却成带的玻璃部分103。

带的熔融部分104包括第一主表面215及第二主表面216，第一主表面215及第二主表面216面对相反方向并且界定熔融部分104的厚度“T”(例如，平均厚度)。在一些实施例中，带的熔融部分104的厚度“T”可为从约0.5毫米(mm)至约5mm，但在进一步实施例中可提供其他厚度。带的厚度随着其在行进路径150的行进方向154上移动而衰减，并且冷却以从带的熔融部分104过渡至带的玻璃部分103。带的玻璃部分103的最终厚度可为小于或等于约2毫米(mm)，小于或等于约1毫米，小于或等于约0.5毫米，例如，小于或等于约300微米(μm)，小于或等于约200微米，或小于或等于约100微米，但在进一步实施例中可提供其他厚度。例如，在一些实施例中，玻璃部分103的厚度可为从约50μm至约750μm，从约100μm至约700μm，从约200μm至约600μm，从约300μm至约500μm，从约50μm至约500μm，从约50μm至约700μm，从约50μm至约600μm，从约50μm至约500μm，从约50μm至约400μm，从约50μm至约300μm，从约50μm至约200μm，从约50μm至约100μm，包含介于其间的所有厚度的范围及子范围。另外，带的玻璃部分103可包含各种组成物，包含但不限于钠钙(soda-lime)玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃、含碱玻璃或无碱玻璃。

然后可将分离的玻璃带处理成期望的应用，例如显示应用。例如，分离的玻璃带可用于各种显示应用，包含液晶显示器(LCD)、电泳显示器(EPD)、有机发光二极管(OLED)显示器、等离子体显示面板(PDP)及其他电子显示器。

第3图～第4图显示用于处理带的熔融部分104的玻璃制造设备100的处理设备142的示例实施例的特征。处理设备142可包括经设计成产生脉冲激光束303的激光产生器301。在一些实施例中，激光产生器可经设计成产生脉冲激光束303，脉冲激光束303可由带的熔融部分104吸收以在脉冲激光束303撞击带的熔融部分104的表面的位置处加热带的熔融部分104。在一些实施例中，激光产生器301可包括CO₂激光产生器，但在进一步实施例中可使用其他类型的激光产生器。另外或替代地，在一些实施例中，由激光产生器301产生的脉冲激光束303可包括在从约0.9微米至约12微米的范围内的波长。

处理设备142可进一步包含偏转器装置，其经配置以使脉冲激光束303偏转以使偏转的脉冲激光束303撞击在带的熔融部分104的加热区上。如第2图所示，偏转的激光束可撞击在熔融部分104的处理路径321上的加热区217上，同时加热区217沿方向216a行进。例如，加热区217可在方向216a上从第一外边缘153至第二外边缘155行进跨基本上整个宽度“W”。在抵达第二外边缘155之后，加热区可在第一外边缘153处重新出现并且再次在方向216a上行进至第二外边缘155。因此，在一些实施例中，对于加热区217的每次从第一外边缘153至第二外边缘155经过带的宽度“W”，加热区217可在相同方向216a上行进。

如第2图所示，偏转的激光束可撞击在熔融部分104的处理路径321上的加热区217上，同时加热区217沿方向216b行进。例如，加热区217可在方向216b上从第二外边缘155至第一外边缘153行进跨基本上整个宽度“W”。在抵达第一外边缘153之后，加热区可在第二外边缘156处重新出现并且再次在方向216b上行进至第一外边缘153。因此，在一些实施例中，对于加热区217的每次从第二外边缘155至第一外边缘153经过带的宽度“W”，加热区217可在相同方向216b上行进。

如第2图进一步所示，偏转的激光束可撞击在熔融部分104的处理路径321上的加热区217上，同时加热区217沿方向216a及方向216b行进。例如，在一些实施例中，加热区217可在方向216a上从第一外边缘153至第二外边缘155行进跨基本上整个宽度“W”。在抵达第二外边缘155之后，然后加热区217可在方向216b上从第二外边缘155至第一外边缘153行进跨基本上整个宽度“W”。因此，在一些实施例中，对于每次连续经过带的宽度“W”加热区217可在交替方向216a及216b上行进。

方向216a及216b中的一或两者可延伸跨行进路径150的行进方向154。例如，如图所示，方向216a及216b中的一或两者可沿宽度“W”的方向垂直于行进方向154延伸，但在进一步实施例中，加热区可沿不垂直于行进方向154的方向行进。如上所论述，可使用各种偏转器装置致使加热区217在方向216a及216b中的一或两者上行进。例如，在一些实施例中，偏转器装置可包括声光偏转器。在另一个实例中，在一些实施例中，偏转器装置可包括电光偏转器。在又另一个实例中，在一些实施例中，偏转器装置可包括旋转反射表面。

在一些实施例中，如第9图所示，偏转器装置可包括多边形反射装置305，多边形反射装置305包含多个反射表面307。如图所示，多边形反射装置305可由马达309旋转以绕多边形反射装置305的旋转轴313在旋转方向311上旋转。在一些实施例中，马达309可任选地由控制装置315(例如，可编程逻辑控制器)操作，控制装置315经配置以(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)发送命令讯号沿通讯线路317至马达309以在一些实施例中绕多边形反射装置305的旋转轴313以基本上恒定的角速度旋转。以基本上恒定的角速度旋转多边形反射装置305可帮助防止损伤马达309，否则频繁地改变多边形反射装置305的角速度可能会发生损伤。在脉冲激光束由多边形反射装置305反射的实施例中，取决于多边形反射装置305绕旋转轴313旋转的旋转方向311，加热区217可在方向216a上重复行进或在方向216b上重复行进。

控制装置315可经配置以(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)发送命令讯号(例如，通过通讯线路319)至激光产生器301，以控制脉冲激光束303的特性而选择性地控制带的熔融部分104的不均匀位置的加热。在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的脉冲频率，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的脉冲宽度，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的占空比，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的多个特性，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。例如，在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的脉冲频率及脉冲宽度，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的脉冲频率及占空比，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的脉冲宽度及占空比，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。在一些实施例中，控制装置315可控制脉冲激光束303的脉冲频率、脉冲宽度及占空比中的两者或更多者，以控制带的熔融部分104的不均匀的位置的加热。

进一步参照第9图，处理设备142可进一步包括一或更多个感测装置，所述感测装置经配置以监测带的特性。在一些实施例中，带的监测特性可包括带的温度及/或厚度。在一些实施例中，一或更多个感测装置可直接监测带的熔融部分104的特性。例如，参照第2图，可直接监测沿处理路径321内的监测路径223a的带的熔融部分104的特性。在进一步实施例中，可直接监测沿处理路径321外侧(例如，处理路径321的上游或下游)的监测路径223b的带的熔融部分104的特性。在一些实施例中，可间接监测处理路径321内的带的熔融部分104的特性。例如，如第9图所示，可监测沿带的熔融部分104下游的监测路径223c的带的玻璃部分103的特性。然后，可基于沿玻璃部分103的监测路径223c的监测的特性来决定处理路径321内的带的熔融部分104的对应特性。例如，沿玻璃部分103的监测路径223c监测的特性的不均匀性可指示，在垂直地位于沿玻璃部分103的监测路径223c监测的监测的特性的不均匀性的上方，带的熔融部分104的处理路径321的一部分的对应的特性的不均匀性。

如第9图所示，处理设备142可任选地包含温度传感器323，温度传感器323经配置以沿监测路径(例如，监测路径223a、223b)监测带的熔融部分104的温度。在一些实施例中，温度传感器323可包括红外线传感器(例如，红外线摄影机)，红外线传感器经配置以通过沿监测路径(例如，223a、223b)中的一者监测由带的熔融部分104发射的红外线辐射来监测熔融部分104的温度。例如，温度传感器323可包括红外线传感器(例如，红外线摄影机)，红外线传感器经配置以沿监测路径223a直接监测熔融部分104的处理路径321的温度。然后可通过通讯线路325将有关于沿监测路径的带的熔融部分104的温度的感测的信息传递至处理器327。处理器327然后可处理此信息以决定在处理路径321上的带的熔融部分104的温度的不均匀的一或更多个位置。基于来自处理器327的信息，控制装置315可经配置以(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)修改带的熔融部分104的加热位置，以致使不均匀性消除，以跨带的熔融部分104的宽度“W”提供带的熔融部分104的更均匀的厚度。例如，可消除不均匀性，使得厚度变化小于3微米。一旦达成更均匀的厚度，带的熔融部分104即可继续冷却成带的玻璃部分103，其中玻璃部分103的厚度沿带的玻璃部分103的宽度“W”更为均匀。

在一个实施例中，若与监测路径的其他位置相比决定不均匀性为相对低的温度，则控制装置315可经配置为(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)通过通讯线路319发送命令讯号至激光产生器301，以当脉冲激光束303加热不均匀的一或更多个位置时通过增加如上论述的脉冲频率、脉冲宽度或占空比中的一或更多者来增加不均匀的一或更多个位置的加热。

在另一个实施例中，若与监测路径的其他位置相比决定不均匀性为相对高的温度，则控制装置315可经配置为(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)通过通讯线路319发送命令讯号至激光产生器301，以当脉冲激光束303加热不均匀的一或更多个位置时通过减少如上论述的脉冲频率、脉冲宽度或占空比中的一或更多者来减少不均匀的一或更多个位置的加热。

如第9图进一步所示，处理设备142可任选地包含厚度传感器329，厚度传感器329经配置以感测有关于带的厚度的信息。在一些实施例中，可提供厚度传感器329而没有温度传感器323。在进一步实施例中，可提供温度传感器323而没有厚度传感器329。在进一步实施例中，可提供厚度传感器329及温度传感器323两者以监测带的一或更多个特性。若提供，则厚度传感器329可包括光学厚度传感器。光学厚度传感器可包括跨过带的宽度“W”的一或更多个传感器。替代地，如图所示，光学厚度传感器329可经配置在横跨行进路径150的行进方向154的方向333上扫描。例如，如图所示，厚度传感器329可经配置以在垂直于行进方向154的方向333上扫描，但在进一步实施例中可提供其他扫描方向。在一些实施例中，光学厚度传感器329可包含激光，所述激光将激光束导引至监测路径(例如，玻璃部分103的监测路径223c)的位置。激光束的一部分可从第二主表面216反射以由光学厚度传感器329感测。激光束的另一部分可穿过带的厚度，然后从第一主表面215反射回来，以由光学厚度传感器329感测。有关于激光束的反射部分的信息可通过通讯线路335传递至处理器327。然后，处理器可将此信息与带的折射率一起考虑，以计算沿监测路径的带的厚度及/或计算沿处理路径321的带的厚度。例如，如第9图所示，厚度传感器329可沿监测路径223c感测玻璃部分103的厚度。处理器327然后可处理信息以决定沿监测路径223c感测到的厚度的不均匀的位置。处理器可使用感测的不均匀性来决定，可垂直地位于玻璃部分103中感测的不均匀性上方，处理路径321内带的熔融部分104的对应部分的厚度的不均匀的对应位置。基于来自处理器327的信息，控制装置315可经配置以(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)修改不均匀的位置的加热，以致使不均匀性消除，以跨带的熔融部分104的宽度“W”提供熔融部分104的更均匀的厚度。一旦达成更均匀的厚度，带的熔融部分104即可继续冷却成玻璃部分103，其中玻璃部分103的厚度沿带的玻璃部分103的宽度“W”更为均匀。

在一个实施例中，若与处理路径321的其他位置相比决定厚度的不均匀性为相对高的厚度，则控制装置315可经配置为(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)通过通讯线路319发送命令讯号至激光产生器301，以当脉冲激光束303加热厚度的不均匀的一或更多个位置时通过增加如上论述的脉冲频率、脉冲宽度或占空比中的一或更多者来增加厚度的不均匀的一或更多个位置的加热。增加的加热可减少不均匀的一或更多个位置处的熔融材料的粘度，以减少在厚度的不均匀的一或更多个位置处的带的熔融部分104的厚度。

在另一个实施例中，若与处理路径321的其他位置相比决定厚度的不均匀性为相对低的厚度，则控制装置315可经配置为(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)通过通讯线路319发送命令讯号至激光产生器301，以当脉冲激光束303加热厚度的不均匀的一或更多个位置时通过减少如上论述的脉冲频率、脉冲宽度或占空比中的一或更多者来减少厚度的不均匀的一或更多个位置的加热。减少的加热可增加厚度的不均匀的一或更多个位置处的熔融材料的粘度，以增加在厚度的不均匀的一或更多个位置处的带的熔融部分104的厚度。

偏转的脉冲激光可在如第2图中示意图示的各种替代加热区217中的一者处撞击带的熔融部分104的第一主表面215上。第3图显示一个实施例，其中加热区217包括圆形加热区217a。第4图显示加热区217的另一个实施例，包括带有圆角的方形加热区217b。

在一些实施例中，加热区可在行进路径150的行进方向154上伸长，其中加热区包含在行进方向154上延伸的长度219，长度219大于加热区的宽度221，宽度221垂直于行进方向154延伸。提供在行进方向154上延伸的长度219大于宽度221可增加当带的熔融部分104在行进方向154上行进时加热不均匀的位置的时间；从而允许更多的时间使热传导通过在行进方向154上行进的带的熔融部分104的厚度“T”(例如，从约0.5毫米(mm)至约5mm)。在一些实施例中，加热区的长度219与加热区的宽度221的比率可为约3或更大。在一些实施例中，除了上述长度与宽度的比率为3或更大之外，或作为替代，垂直于行进方向154延伸的加热区的宽度221可在从约100微米至约30毫米(mm)的范围中。在一些实施例中，除了上述长度与宽度的比率为3或更大之外，或作为替代，沿行进路径150的加热区的长度219可在从约1mm至约100mm的范围中。在一些实施例中，方法可包括选择性地控制脉冲激光束的长度219。例如，在一些实施例中，控制装置315可经配置为(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)基于带的熔融部分104在行进方向154上行进的速度选择性地控制加热区的长度219。

在一些实施例中，加热区可包括长圆形，使得在行进方向154上延伸的长度219大于垂直于行进方向154延伸的宽度。第5图显示加热区217的另一个实施例，包括带有圆角的矩形加热区217c的形式的长圆形。

第6图显示加热区217的另一个实施例，包括产生长圆形加热区217d的往复式光束点601。在一些实施例中，可移动脉冲激光束303，以在行进路径150的行进方向154上重复移动光束点601，以产生长圆形加热区217d。在一些实施例中，可移动脉冲激光束303，以在与行进路径150的行进方向154相反的方向603上重复移动光束点218，以产生长圆形加热区217d。替代地，在一些实施例中，可移动脉冲激光束303，以在行进方向154上及在与行进方向154相反的方向603上重复往复光束点601，以产生长圆形加热区217d。例如，光束点601可在方向603上向上并且在方向154上向下振荡，以形成长圆形加热区217d。由移动光束点218提供的长圆形加热区217d可包含在行进方向154上延伸的长度219，长度219大于垂直于行进方向154延伸的宽度221。如第9图示意图示，处理设备142可包含加热区装置337，以修改由激光产生器301产生的脉冲激光束303，以产生长度大于宽度的加热区。例如，加热区装置337可包括振荡器，所述振荡器致使光束点601沿方向154或603中的一或更多者行进。在一些实施例中，振荡器可包括旋转镜或其他移动镜或移动光学部件以致使光束点沿所述方向(多个方向)快速且重复地行进以产生长圆形加热区217d。

在一些实施例中，如第7图所示，加热区217可包括由多个脉冲激光束提供的长圆形加热区217e，所述多个脉冲激光束撞击在长圆形加热区217e上作为光束点701的阵列。如图所示，在一些实施例中，光束点701的中心可分别位于在行进方向154上延伸的线性轴上。例如，如第2图所示，光束点701的阵列包括三个光束点，其中心位于在行进方向154上延伸的线性轴上，以提供长圆形加热区217e，其在行进方向154上延伸的长度219大于垂直于行进方向154延伸的宽度221。尽管显示了三个光束点701，但在一些实施例中，可提供两个光束点或多于三个光束点。此外，多个光束点701可彼此重迭，但在进一步实施例中光束点可稍微间隔开。重迭的光束点可沿长度219产生更均匀的加热。若以重迭对准的配置提供光束点701，则一些实施例可在行进方向154上以光束点701的尺寸的50％或更小来重迭光束点。在一些实施例中，加热区装置337可包括分光器，所述分光器设计成将来自激光产生器301的脉冲激光束303分成撞击在带的熔融部分104的主表面上在上述光束点的阵列中的多个脉冲激光束。

在一些实施例中，如第8图所示，加热区217可包括长圆形加热区217f，长圆形加热区217f以椭圆形的形状提供作为光束点801。如图所示，被脉冲激光束303撞击的长圆形加热区217f的光束点801在显示的椭圆形中可包括在行进路径150的行进方向154上延伸的主轴，使得加热区的长度219在行进路径150的行进方向154上延伸且大于垂直于行进方向154延伸的宽度221。参照第9图，在一些实施例中，可提供光学部件339以使脉冲激光束303成形并且提供以椭圆形的形状的长圆形加热区217f。在一些实施例中，光学部件339可包括一或更多个圆柱状透镜。在一些实施例中，光学部件339可包括变形棱镜。

如第9图～第10图所示，处理设备142可任选地包括感测设备341。第10图示意图示包括感测装置403的感测设备341的实施例。在一些实施例中，激光产生器301可经配置以发射脉冲激光束303，脉冲激光束303将由偏转器装置(例如，多边形反射装置)偏转以撞击在感测装置403上。撞击在感测装置403上的脉冲激光束303可产生可通过通讯线路409传递至处理器327的讯号。然后，处理器可校准偏转的脉冲激光束303的位置，以允许更准确且更精确地加热带的熔融部分104的特性的不均匀的适当位置。

现将参照第2图～第10图论述制造带的方法。制造带的方法的实施例可包括沿行进路径150的行进方向154移动带。例如，可从成形容器140的根部145熔融拉制带以沿行进路径150的行进方向154拉制带。本公开案的方法可进一步包含识别带的特性(例如，温度及/或厚度)的不均匀的位置，如带的熔融部分104。在一些实施例中，方法可包含沿监测路径223a、223b、223c监测带的熔融部分104的特性，以直接或间接识别带的熔融部分104的特性(例如，温度、厚度)的不均匀的位置。

在一个实施例中，方法可包含识别带的熔融部分104的温度的不均匀的位置。在一些实施例中，温度可由温度传感器323(例如，红外线摄影机)监测。在一些实施例中，温度传感器323可沿熔融部分104的监测路径223a、223b监测带的熔融部分104的温度。有关于感测的温度的讯号可通过通讯线路325传送至处理器327，处理器327可决定沿监测路径的温度的不均匀的一或更多个位置。

在另一个实施例中，方法可包含识别带的厚度(例如，带的玻璃部分103及/或熔融部分104的厚度)的不均匀的位置。在一些实施例中，厚度可由厚度传感器329沿带的玻璃部分103的监测路径223c监测。有关于感测的厚度的讯号可通过通讯线路335传送至处理器327，其可决定玻璃部分103及/或垂直地位于玻璃部分103上方的熔融部分104的厚度的不均匀的一或更多个位置。

本公开案的方法可进一步包括加热带的熔融部分104。在一些实施例中，脉冲激光束303可由激光产生器301产生。激光产生器301产生脉冲激光束，所述脉冲激光束可撞击在带的熔融部分104的表面上以从脉冲激光束303转移能量至熔融部分104。在一些实施例中，可使用CO₂激光产生器来产生脉冲激光束303，但在进一步实施例中可使用其他类型的激光产生器。在一些实施例中，脉冲激光束303可包括波长，当脉冲激光束303撞击在熔融部分104的表面上时，所述波长可促进能量从脉冲激光束303转移至熔融部分104。例如，脉冲激光束可包含在从约0.9微米至约12微米的范围内的波长，以允许来自脉冲激光束303的能量被带的熔融部分104吸收。可选择脉冲激光束的波长以将对特定类型的待处理的熔融材料的吸收优化。

然后，处理设备142可使脉冲激光束303偏转，以在带的熔融部分104的处理路径321上的加热区217处撞击在处理路径321上。在一些实施例中，如图所示，处理路径321可垂直于行进方向154延伸，但在进一步实施例中，处理路径321可以其他角度延伸。可使用声光偏转器或电光偏转器来偏转产生的脉冲激光束303来实现脉冲激光束303的偏转。在又进一步实施例中，脉冲激光束303的偏转可包括从反射表面反射脉冲激光束303。

脉冲激光束303的偏转可造成加热区217沿处理路径321的方向216a、216b中的一者移动。在处理路径321垂直于行进方向154的实施例中，方向216a、216b可包括带的宽度“W”的方向。沿方向216a、216b的加热区217的移动可通过声光偏转器、电光偏转器或反射表面来实现。例如，反射表面可包括旋转反射表面，如旋转镜。旋转镜可绕轴旋转，其中加热区217取决于反射表面如何旋转而沿方向216a、216b中的一或两者移动。

在显示的实施例中，若提供反射表面，则所述反射表面可包括多边形反射装置305的多个反射表面307。如图所示，在一些实施例中，多个反射表面307可包括绕旋转轴313径向地安置的多个反射平面镜，以界定多边形反射装置305的外部多边形周围形状。因此，如第9图所示，当多边形反射装置305绕旋转轴313在旋转方向311上旋转时，从多边形反射装置305的每个反射表面307反射的脉冲激光束303会造成加热区217沿方向216a跨带的宽度“W”的行程(stroke)。

在一些实施例中，方法可包括绕多边形反射装置305的旋转轴313在旋转方向311上以基本上恒定的角速度旋转多边形反射装置，以沿处理路径321移动加热区217。以基本上恒定的角速度旋转多边形反射装置305可通过避免过度加热及其他可能由于角速度的恒定改变(在另外情况下可能需要，以跨处理路径321提供期望的加热轮廓)而致使的马达309的过早故障的应力，来增加驱动多边形反射装置305的旋转的马达309的寿命。

本公开案的方法可包括沿处理路径321使偏转的(例如，反射的)脉冲激光束303撞击在加热区217上，其中加热区217可包括所识别的不均匀的位置。例如，当加热区217在处理路径321的方向216a及/或216b中行进时，加热区可移动，使得在一段时间内，加热区包括所识别的不均匀的位置。可控制脉冲激光束303的特性，以取决于沿处理路径321的加热区217的位置来选择性地控制由脉冲激光束303提供的加热。例如，控制脉冲激光束303的特性可包括在加热区217包括所识别的不均匀的位置的时间段内修改脉冲激光束303的一或更多个特性(例如，脉冲频率、脉冲宽度及/或占空比)。修改脉冲激光束303的一或更多个特性也可允许选择性地调整带的熔融部分104在不均匀的位置处的加热，以处理与沿处理路径321的熔融部分104的其他位置不同的不均匀的位置。在一些实施例中，选择性地控制不均匀性的加热可致使不均匀性消除，其中不均匀的位置处的厚度变化相对于沿处理路径321的其他位置的厚度小于3微米。在一些实施例中，可沿处理路径321的一部分关闭脉冲激光束303。例如，当偏转的脉冲激光束303不会产生包括不均匀的位置的加热区217时，可关闭脉冲激光束303。相反，仅当偏转的脉冲激光束303提供包括不均匀的位置的加热区217时，才可开启脉冲激光束303。当所造成的光束点将位于不均匀的位置外侧时关闭脉冲激光束303可避免在不均匀的位置外侧使带的部分变薄。替代地，脉冲激光束可在处理路径321的更长的长度期间(例如，跨带的整个宽度“W”)保留着，以改变沿处理路径321的加热量，其中可在不均匀的位置处提供增强的加热，以相对于不均匀之外侧的位置在所述位置处致使相对较高的变薄，从而致使不均匀性消除。

在一个实施例中，若不均匀性包括熔融部分104的过厚的位置，则方法可包含改变脉冲激光束303的一或更多个特性，以当加热区217包括所识别的不均匀的位置时增加由脉冲激光束303的加热。增加的加热可消除沿处理路径321的熔融部分的厚度的不均匀性。

在另一个实施例中，若不均匀性包括熔融部分104的位置处降低的温度，则方法可包含改变脉冲激光束303的一或更多个特性，以当加热区217包括所识别的不均匀的位置时增加由脉冲激光束303的加热。增加的加热可致使温度不均匀性消除，使温度跨处理路径321及跨带的宽度“W”变得更均匀。

在另一个实施例中，若不均匀性包括熔融部分104的位置处提高的温度，则方法可包含改变脉冲激光束303的一或更多个特性，以当加热区217包括所识别的不均匀的位置时减少由脉冲激光束303的加热。减少的加热可致使温度不均匀性消除，使温度跨处理路径321及跨带的宽度“W”变得更均匀。

在一些实施例中，多边形反射装置305可以基本上恒定的角速度旋转，同时可控制脉冲激光束303的特性以修改跨处理路径321的加热轮廓。以这种方式，以基本上恒定的角速度旋转多边形反射装置305可避免马达309故障，而当多边形反射装置305旋转时改变脉冲激光束303的特性可跨处理路径321提供期望的加热轮廓。

在一些实施例中，方法可包括使脉冲激光束303撞击在加热区217上，如第2图所显示，加热区217可在行进路径150的行进方向154上伸长，其中在行进方向154上延伸的加热区217的长度219大于垂直于行进方向154延伸的加热区217的宽度221。在一些实施例中，例如在某些玻璃组成物的情况下，或当带的主表面被脉冲激光束撞击时带的熔融部分可能对整个厚度的加热更敏感时，加热区可不伸长。在一些实施例中，提供在行进方向154上伸长的加热区217可帮助增加当带在行进方向154上行进时带的熔融部分104的不均匀的位置暴露于脉冲激光束303的累积时间。即使带在行进方向154上行进，暴露的累积时间的增加仍可帮助脉冲激光束303在不均匀的位置处更充分地加热带的熔融部分104的整个厚度。在一些实施例中，加热区217的伸长长度219与加热区217的宽度221的比率可为约3或更大。在一些实施例中，加热区217的宽度221可在从约100微米至约30毫米的范围中。在一些实施例中，加热区217的长度219可在从约1毫米至约100毫米的范围中。在一些实施例中，加热区217的伸长长度219可约为带在行进方向154上在选定的时间段中移动的距离。在一些实施例中，时间段可为至少约1秒，但在进一步实施例中可提供少于1秒。例如，控制装置315可经配置以(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)发送命令讯号至加热区装置337，以基于带行进的速度调整加热区217的长度219。例如，控制装置315可经配置以(例如，“编程为”、“编码为”、“设计为”及/或“制作为”)发送命令讯号至加热区装置337，以致使长度219调整为带在已编程的时间段内行进的距离。

可使用各种方法来提供任选地伸长的加热区，如第3图～第8图所示的替代加热区217所显示。在一些实施例中，如关于第5图～第8图所论述，加热区217可任选地包括长圆形加热区，所述长圆形加热区包含在行进方向154上的长度219，长度219大于垂直于行进方向154的宽度221。例如，第5图显示加热区217包括带有圆角的矩形加热区217c的形式的长圆形。在另一个实例中，如第6图所示且先前所述，加热区217包括产生长圆形加热区217d的往复式光束点601。在另一个实施例中，如第7图所示且先前所述，加热区217可包括由多个脉冲激光束提供的长圆形加热区217e，所述多个脉冲激光束撞击在长圆形加热区217e上作为光束点701的阵列。在又另一个实施例中，如第8图所示且先前所述，加热区217可包括长圆形加热区217f，以椭圆形的形状提供作为光束点801。

在一些实施例中，方法可包含校准偏转的激光束的位置，以更准确地控制不均匀的位置的加热。通过频繁地校准偏转的激光束的位置，处理器327可在适当的时间更准确地控制脉冲激光束的特性，以提供包括带的熔融部分104中所识别出的不均匀的位置的加热区217的期望的加热。为了促进校准，在一些实施例中，处理设备142可包括第9图中示意显示的感测设备341。感测设备341的一个实施例的特征图示于第10图中。如图所示，感测设备341可任选地包括聚焦透镜401，聚焦透镜401经设计成聚焦脉冲激光束303。在进一步实施例中，感测设备341可包括具有孔407的屏蔽405。如图所示，当脉冲激光束接近屏蔽405中的孔407时，屏蔽405阻挡脉冲激光束303穿过屏蔽405抵达感测装置403。然而，最终，脉冲激光束303移动至与屏蔽的孔407对准的位置，其中脉冲激光束303可穿过孔407以撞击在感测装置403上。可减小屏蔽405中的孔407的尺寸，以增加在特定时间定位脉冲激光束的位置的准确度。由脉冲激光束303撞击感测装置403产生讯号，所述讯号沿通讯线路409传至处理器327，然后处理器327基于来自感测装置的讯号校准偏转的脉冲激光束的精确位置。

在一些具有旋转多边形反射装置305的实施例中，方法可包含从多边形反射装置305的反射表面307反射脉冲激光束303，以多边形反射装置的第一角度定向撞击在带的熔融部分104上，并且进一步从多边形反射装置305的反射表面307反射脉冲激光束303，以不同于第一角度定向的第二角度定向撞击在感测装置403上，以校准反射脉冲激光束303的位置，例如，对于加热区行进跨带的宽度“W”的每个行程至少校准一次。例如，如第9图所示，反射的脉冲激光束可移动，使得加热区沿处理路径321沿方向216a跨宽度“W”行进，直到加热区抵达带的第一外边缘153。多边形反射装置305在旋转方向311上的进一步旋转致使激光束从第一外边缘153行进离开并且在第一外边缘153的外侧横向行进，而最终在第一外边缘153的外侧横向地撞击在感测装置403上。因此，可进行脉冲激光束303的位置的校准，而不会干扰沿处理路径321的带的熔融部分104的加热，因为已行进至第一外边缘153的外侧的脉冲激光束的未使用部分可用于校准脉冲激光束303的位置。尽管未显示，但可在第二外边缘155的外侧横向地提供另一个感测设备(与感测设备341相似或相同)。在此种实施例中，对于加热区行进跨带的宽度“W”的每个行程，可对脉冲激光束303进行两次校准，以进一步提高脉冲激光束303的位置的校准的精确度。

本文所述的实施例及功能操作可以数字电子电路来实现，或以计算机软件、固件或硬件来实现，包含在本说明书中公开的结构及其结构均等物，或以它们中的一或更多者的组合。本文所述的实施例可实现为一或更多种计算机程序产品，也即，编码在有形程序载体上的计算机程序指令的一或更多个模块以供数据处理设备执行或控制数据处理设备的操作。有形程序载体可为计算机可读取媒体。计算机可读取媒体可为机器可读取储存装置、机器可读取储存基板、内存装置或它们中的一或更多者的组合。

术语“处理器”、“控制器”或“控制装置”可涵盖用于处理数据的所有设备、装置及机器，例如包含可编程处理器、计算机或多个处理器或计算机。除了硬件之外，处理器还可包含为所论述的计算机程序产生执行环境的码，例如，构成处理器固件、协议堆栈、数据库管理系统、操作系统或以它们中的一或更多者的组合的码。

计算机程序(也称为程序、软件、应用软件、脚本或代码)可以任何形式的编程语言(包含编译语言或解译语言，或宣告语言或程序式语言)编写，并且计算机程序可以任何形式部署，包含作为独立程序或作为模块、部件、副例程或适用于计算机环境的其他单元。计算机程序未必对应于文件系统中的文件。程序可储存在保存其他程序或数据的文件的一部分中(例如，储存在标记语言文件中的一或更多个脚本)，专用于所论述程序的单一文件中，或多个协调文件中(例如，储存一或更多个模块、子程序或部分码的文件)。可将计算机程序部署为在一个计算机上执行，或在位于一个位点上或分布在多个位点上并且通过通讯网络互连的多个计算机上执行。

本文所述的过程可通过一或更多个可编程处理器来执行，可编程处理器执行一或更多个计算机程序以执行通过操作输入数据及产生输出的功能。过程及逻辑流程也可由专用逻辑电路来执行，并且设备也可实现为专用逻辑电路，仅举几例，例如，FPGA(现场可编程门阵列)或ASIC(特殊应用集成电路)。

适用于执行计算机程序的处理器例如包含通用及专用微处理器，以及任何种类的数字计算机的任何一或更多个处理器。大体上，处理器将从只读存储器或随机存取内存或两者接收指令及数据。计算机的基本组件为用于执行指令的处理器以及用于储存指令及数据的一或更多个数据存储器装置。大体上，计算机还将包含用于储存数据的一或更多个大容量储存装置(例如，磁盘、磁光盘或光盘)，或可操作地耦合以从一或更多个大容量储存装置接收数据或将数据传输至一或更多个大容量储存装置，或两者。然而，计算机不必具有此种装置。再者，计算机可嵌入于另一个装置中，例如，仅举几例，移动电话、个人数字助理(PDA)。

适用于储存计算机程序指令及数据的计算机可读取媒体包含所有形式的数据存储器，包含非易失性内存、媒体及内存装置，包含例如半导体内存装置，例如EPROM、EEPROM及闪存装置；磁盘，例如，内部硬盘或可移除磁盘；磁光盘；以及CD ROM及DVD-ROM磁盘。处理器及内存可由专用逻辑电路补充或并入专用逻辑电路中。

为了提供与使用者的互动，本文所述的实施例可在具有显示设备以及键盘及指向装置或触控屏幕的计算机上实现，显示设备例如为用于向用户显示信息的CRT(阴极射线管)或LCD(液晶显示器)监测器等，指向装置例如鼠标或轨迹球，用户可通过键盘及指向装置或触控屏幕向计算机提供输入。其他种类的装置也可用于提供与使用者的互动；例如，可以任何形式接收来自使用者的输入，包含声音、语音或触觉输入。

本文所述的实施例可在包含后端部件(例如，作为数据服务器)的计算机系统，或包含中介部件(例如，应用服务器)的计算机系统，或包含前端部件(例如，具有图形用户界面或Web浏览器的客户端计算机，用户可通过图形用户界面或Web浏览器与本文所述目标的实现方式互动)的计算机系统，或包含一或更多个此种后端部件、中介部件或前端部件的任意组合的计算机系统中实现。系统的部件可通过数字数据通讯的任何形式或媒体(例如，通讯网络)来互连。通讯网络的实施例包含局域网络(“LAN”)及广域网(“WAN”)，例如，因特网。

计算机系统可包含客户端及服务器。客户端及服务器通常彼此远离，并且通常通过通讯网络进行互动。客户端与服务器之间的关系源于在各自计算机上运行的计算机程序，并且彼此之间具有客户端-服务器关系。

将理解，各种公开的实施例可涉及结合特定实施例描述的特定特征、组件或步骤。也将理解，尽管相对于一个特定实施例进行描述，但特定特征、组件或步骤可以各种未说明的组合或排列与替代实施例互换或组合。

也将理解，如本文所使用，术语“所述”、“一”或“一个”指“至少一个”，并且不应限于“仅一个”，除非明确地相反地指出。同样，“多个”意欲表示“多于一个”。

在本文中可将范围表示为从“约”一个特定值，及/或至“约”另一个特定值。当表示此种范围时，实施例包含从一个特定值及/或至另一个特定值。类似地，当通过使用先行词“约”将数值表示为近似值时，将理解特定值形成另一个实施例。将进一步理解，每个范围的端点关于另一个端点皆为有意义的并且独立于另一个端点。

如本文使用的术语“实质”、“基本上”及其变型意欲注意描述的特征等于或近似等于值或描述。

除非另外明确说明，否则本文记载的任何方法决不欲解释为要求以特定顺序执行方法的步骤。因此，当方法权利要求实际上并未叙述方法的步骤所要遵循的顺序时，或当在权利要求书或说明中并未另外特定说明步骤将限于特定顺序时，决不欲推断任何特定顺序。

尽管可使用连接词“包括”来公开特定实施例的各种特征、组件或步骤，但应理解，隐含了替代实施例，包含可使用连接词“由……组成”或“基本上由……组成”来描述的实施例。因此，例如，对于包括A+B+C的设备的暗示的替代实施例包含其中设备由A+B+C组成的实施例以及其中设备基本上由A+B+C组成的实施例。

应理解，尽管已关于本公开案的某些说明性及特定实施例详细地描述了各种实施例，但本公开案不应视为限于此种，因为在不脱离以下权利要求书的范畴的情况下所公开的特征的多种修改及组合为可能的。

Claims (11)

1.一种制造带的方法，包括以下步骤：

沿行进路径的行进方向移动所述带；

识别所述带的熔融部分的特性的不均匀的位置；

偏转脉冲激光束；及

使所述偏转的脉冲激光束撞击在加热区上，所述加热区包括所述不均匀的所述位置，其中所述加热区在所述行进路径的所述行进方向上伸长。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述偏转所述脉冲激光束的步骤包括从多边形反射装置的反射表面反射所述脉冲激光束。

3.一种制造带的方法，包括以下步骤：

沿行进路径的行进方向移动所述带；

识别在所述带的熔融部分的处理路径上所述带的所述熔融部分的特性的不均匀的位置；

从多边形反射装置的反射表面反射脉冲激光束，所述反射的脉冲激光束撞击在所述处理路径上的加热区上；及

绕所述多边形反射装置的旋转轴以基本上恒定的角速度旋转所述多边形反射装置，以沿所述处理路径移动所述加热区，所述加热区包括所述不均匀的所述位置。

4.一种制造带的方法，包括以下步骤：

沿行进路径的行进方向移动所述带；

识别所述带的熔融部分的特性的不均匀的位置；

偏转脉冲激光束；

使所述偏转的脉冲激光束撞击在加热区上，所述加热区包括所述不均匀的所述位置；

使所述偏转的脉冲激光束撞击在感测装置上，所述撞击在所述感测装置上的步骤产生讯号；及

基于所述产生的讯号来校准所述偏转的脉冲激光束的位置。

5.根据权利要求1至权利要求4中的任一项所述的方法，其中所述特性包括所述带的厚度。

6.根据权利要求1至权利要求4中的任一项所述的方法，其中所述特性包括所述带的温度。

7.根据权利要求1至权利要求6中的任一项所述的方法，其中所述脉冲激光束于光束点处撞击在所述加热区上，所述光束点沿所述行进路径在所述加热区内重复移动。

8.根据权利要求1至权利要求6中的任一项所述的方法，其中所述脉冲激光束包括多个脉冲激光束，所述多个脉冲激光束在对应的光束点处撞击在所述加热区上，所述光束点安置成在所述行进路径的所述行进方向上对准的光束点的阵列。

9.根据权利要求1至权利要求6中的任一项所述的方法，其中所述加热区包括椭圆形，所述椭圆形包括在所述行进路径的所述行进方向上延伸的主轴。

10.根据权利要求1至权利要求9中的任一项所述的方法，其中所述方法进一步包括以下步骤：控制所述脉冲激光束的特性以控制所述不均匀的所述位置的加热。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述不均匀的所述位置导致所述不均匀消失。

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