JP2022516286A - 溶媒及び洗浄用途のための四級共沸及び共沸様組成物 - Google Patents

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Abstract

本出願は、トランス－ジクロロエチレン及び３つ以上の追加成分を含む、第４級共沸又は共沸様組成物を提供する。本明細書で提供される組成物を、洗浄、フラックス除去、蒸着、及びキャリア流体の用途で使用する方法も提供される。

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１９年１月４日出願の米国仮特許出願第６２／７８８，４８１号の利益を主張するものであり、その開示の全体が参照により本明細書に組み込まれる。
（発明の分野）
本発明は、トランス－ジクロロエチレン及び３つ以上の追加成分を含む四級共沸又は共沸様組成物に関する。本明細書に記載される組成物は、例えば、洗浄及びフラックス除去流体用途において有用であり得る。
クロロフルオロカーボン（ＣＦＣ）及びヒドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）化合物は、磁気ディスク媒体などの表面を洗浄するために、半導体製造分野において広く使用されている。しかしながら、ＣＦＣ化合物などの塩素含有化合物は、地球のオゾン層に有害である。更に、ＣＦＣ化合物を置換するために使用されるヒドロフルオロカーボンの多くは、地球温暖化に寄与することが見出されている。
米国仮特許出願第６２／７８８，４８１号
したがって、残渣フラックス、潤滑剤又は油汚染物質、及び粒子の除去などの洗浄用途のための新たな環境に安全な溶媒を特定する必要がある。フッ素系潤滑剤の堆積のため、及び水溶液中で処理された基材の乾燥又は脱水のための新たな溶媒も特定する必要がある。
本出願は、とりわけ、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）ヒドロフルオロオレフィン、ヒドロフルオロエーテル、及びヒドロクロロフルオロオレフィンから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）ヒドロフルオロカーボンである第３の成分と、
ｉｖ）Ｃ１～６アルコール、Ｃ３～６ケトン、Ｃ５～８アルカン、Ｃ３～６シクロアルカン、及びＣ１～６アルキルアセテートから選択される第４の成分と、
を含む組成物を提供する。
本出願は、更に、溶質を溶解させるプロセスであって、当該溶質を十分な量の本明細書に記載の組成物と接触させ混合するステップを含む、プロセスを提供する。
本出願は、表面を洗浄するプロセスであって、本明細書に記載される組成物を当該表面と接触させるステップを含む、プロセスを更に提供する。
本出願は、濡れている基材の表面から水の少なくとも一部を除去するためのプロセスであって、基材を本明細書に記載される組成物と接触させるステップと、次いで、基材を組成物との接触から除去するステップと、を含む、プロセスを更に提供する。
本出願は、表面上にフルオロ潤滑剤を堆積させるプロセスであって、
ａ）フッ素系潤滑剤と溶媒とを組み合わせて、潤滑剤／溶媒の組み合わせを形成するステップであって、溶媒は、本明細書で提供される組成物を含む、ステップと、
ｂ）潤滑剤／溶媒の組み合わせを表面と接触させるステップと、
ｃ）表面から溶媒を蒸発させて、表面上にフッ素系潤滑剤コーティングを形成するステップと、
を含む、プロセスを更に提供する。
特に定義しない限り、本明細書で使用される全ての技術的及び科学的用語は、本発明の属する当該技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同一の意味を有する。本発明で使用するための方法及び材料が本明細書に記載されており、また、当該技術分野において既知の他の好適な方法及び材料を使用してもよい。材料、方法、及び実施例は、単なる例証であり、限定することを意図するものではない。本明細書で言及される全ての刊行物、特許出願、特許、配列、データベースエントリ、及び他の参考文献は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。矛盾が生じた場合には、定義を含め、本明細書が優先される。
トランス－１，２－ジクロロエチレン（ｔ－ＤＣＥ）、メチルペルフルオロヘプテンエーテル（ＭＰＨＥ）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（ＨＦＣＰ）、及び組成物１の沸点（４５℃、星印で示す）における３重量パーセントのエタノールを含む組成物の三元組成空間を示す。
不燃性フッ素化溶媒系洗浄剤は、工業用蒸気脱脂及びフラックス除去用途において有用である。ヒドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）及びその混合物は、良好な安全性と健康特性、オゾン層破壊ゼロ、良好な溶解性、低粘度の特性を兼ね備えているため、重要な洗浄に成功している。最近の環境問題や規制は、世界的な条約の観点から、オゾン層破壊から地球温暖化へとシフトしている（例えば、欧州連合のＦガス規制、米国のＳＮＡＰ規制など）。このように、環境的に持続可能でありかつ低ＧＷＰである代替洗浄剤の用途が存在する。更に、共沸及び共沸様組成物は、蒸留、凝縮、再混合しても分留されないため、重要な洗浄用途に望ましい。したがって、共沸及び共沸様組成物は、安定した洗浄性能を提供し、溶媒のメンテナンス時間を最小限に抑え、生産スループットを向上させる。また、高い溶解性は、脱脂にとって、及び電子部品上の無鉛ハンダ及び無洗浄ハンダからフラックス残渣を除去する能力にとって望ましい。
したがって、本出願は、トランス－ジクロロエチレンと３つ以上の追加成分との混合物を含む新しい四級共沸及び共沸様組成物を提供する。これらの組成物は、以前はＨＦＣ化合物が果たしていた多くの用途において有用性を有する。本出願の組成物は、上記の望ましい特性のいくつか又は全てを保有し、環境への影響がほとんど又は全くなく、かつ、油、油脂、及び／又はフラックスを溶解する能力を保有している。したがって、本明細書で提供される組成物は、洗浄剤、フラックス除去剤、及び／又は脱脂剤として有用であり得る。
定義及び略語
本明細書で使用するとき、「含む（comprises）」、「含む（comprising）」、「含む（includes）」、「含む（including）」、「有する（has）」、「有する（having）」という用語、又はこれらの他の任意の変化形は、非排他的な包含を網羅することを意図する。例えば、要素のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、これらの要素に必ずしも限定されるものではなく、そのようなプロセス、方法、物品、又は装置に対して明示的に記載されていない、又はこれらに固有のものではない、他の要素も含む場合がある。更に、明示的にこれに反する記載がない限り、「又は」は、包括的な「又は」を指し、排他的な「又は」を指すものではない。例えば、条件Ａ又はＢは、以下、すなわち、Ａが真であり（又は存在し）かつＢが偽である（又は存在しない）、Ａが偽であり（又は存在しない）かつＢが真である（又は存在する）、並びにＡ及びＢの両方が真である（又は存在する）のいずれか１つにより満たされる。
本発明で使用するとき、「から本質的になる」は、これらの追加的に含まれる材料、工程、特徴、成分、又は要素が、特許請求される発明の基本的及び新規の特徴（複数可）、特に本発明のプロセスのいずれかの所望の結果を達成するための作用機序に実質的に影響を及ぼさないことを条件に、文字どおり開示されているものに加えて、材料、工程、特徴、成分、又は要素を含む、組成物、方法を定義するために使用される。「から本質的になる（consists essentially of）」又は「から本質的になる（consisting essentially of）」という用語は、「含む」と「からなる」との間の中間の立場をとる。
また、「ａ」又は「ａｎ」の使用は、本明細書に記載された要素及び成分を記述するために用いられる。これは、単に便宜上なされるものであり、及び本発明の範囲の一般的な意味を与えるためのものである。この記載は、１つ又は少なくとも１つを含むものと解釈されるべきであり、単数形は、別の意味を有することが明白でない限り、複数形も含む。
本明細書で使用するとき、「約」という用語は、実験誤差による変動（例えば、示された値のプラスマイナス約１０％）を考慮することを意味する。本明細書で報告される全ての測定値は、特に明記しない限り、「約」という用語が明示的に使用されているか否かに関わらず、「約」という用語によって修飾されるものと理解される。
定義の全体を通して、用語「Ｃｎ～ｍ」は、端点を含む範囲を示し、ｎ及びｍは整数であり、炭素の数を示す。例としては、Ｃ１～６、Ｃ５～８などが挙げられる。
本明細書で使用するとき、用語「Ｃｎ～ｍアルキル」は、ｎ～ｍ個の炭素を有する、直鎖状又は分枝状であり得る飽和炭化水素基を指す。例示的なアルキル部分としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｎ－ペンチル、３－ペンチル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、アルキル基は、１～８個の炭素原子、５～８個の炭素原子、１～６個の炭素原子、１～３個の炭素原子、又は１～２個の炭素原子を含有する。
本明細書で使用するとき、用語「Ｃｎ～ｍアルコール」は、式（Ｃｎ～ｍアルキル）－ＯＨの基を指し、アルキル基はｎ～ｍ個の炭素原子を有する。代表的なアルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、及びブタノールが挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、アルコールは、Ｃ１～６アルコールである。
本明細書で使用するとき、用語「Ｃｎ～ｍケトン」は、式（Ｃｎ～ｍアルキル）Ｃ（Ｏ）（Ｃｎ～ｍアルキル）の基を指し、各アルキルは独立してｎ～ｍ個の炭素原子を有する。例示的なケトンとしては、ジメチルケトン（すなわち、アセトン）、エチルメチルケトン、ジエチルケトンなどが挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、ケトンは、Ｃ３－６ケトンである。
本明細書で使用するとき、用語「Ｃｎ～ｍアルカン」は、ｎ～ｍ個の炭素を有する、直鎖状又は分枝状であり得る飽和炭化水素化合物を指す。例示的なアルカンとしては、メタン、エタン、ｎ－プロパン、イソプロパン、ｎ－ブタン、ｔｅｒｔ－ブタン、イソブタン、ｓｅｃ－ブタン、ｎ－ペンタン、３－ペンタン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－オクタンなどが挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、アルカンは、Ｃ５～８アルカンである。
本明細書で使用するとき、用語「Ｃｎ～ｍシクロアルカン」は、ｎ～ｍ個の炭素原子を有する非芳香族環状炭化水素化合物を指す。例示的なシクロアルカンとしては、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンなどが挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、シクロアルカンは、Ｃ３～６シクロアルカンである。
本明細書で使用するとき、用語「Ｃｎ～ｍアルキルアセテート」は、式（Ｃｎ～ｍアルキル）ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３の化合物を指し、アルキルはｎ～ｍ個の炭素原子を有する。例示的なアルキルアセテートとしては、メチルアセテート（すなわち、ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３）、エチルアセテート（すなわち、ＣＨ３ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３）、プロピルアセテート（すなわち、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ３）、イソプロピルアセテート（すなわち、（ＣＨ３）２ＣＨＯＣ（Ｏ）ＣＨ３）などが挙げられるが、これらに限定されない。いくつかの実施形態では、アルキルアセテートは、Ｃ１～６アルキルアセテートである。いくつかの実施形態では、アルキルアセテートは、Ｃ１～３アルキルアセテートである。
量、濃度、又は他の値若しくはパラメータが、ある範囲、好ましい範囲、又は好ましい上方値及び／若しくは好ましい下方値のリストのいずれかとして与えられている場合に、これらは、範囲が別個に開示されているかに関わらず、任意の範囲上限値又は好ましい上方値及び任意の範囲下限値又は好ましい下方値の任意の対から形成される全ての範囲を、具体的に開示するものとして、理解されるものとする。本明細書に数値範囲が記述されている場合、特に指示しない限り、この範囲は、その端点を包含し、かつその範囲内の全ての整数及び分数を包含することが意図される。
当該技術分野において認識されるように、共沸組成物は、２つ以上の異なる成分の混合物であり、液体形態にあるとき、（１ａ）所与の一定圧力下において、実質的に一定の温度で沸騰するか（この温度は、個々の成分の沸騰温度よりも高い場合があるか若しくは低い場合がある）、又は（１ｂ）所与の一定温度において、実質的に一定の圧力で沸騰し（この圧力は、個々の成分の沸騰圧力よりも高い場合があるか若しくは低い場合がある）、かつ（２）実質的に一定の組成で沸騰する（この相組成は、一定であるが、必ずしも等しいわけではない）（例えば、Ｍ．Ｆ．Ｄｏｈｅｒｔｙ ａｎｄ Ｍ．Ｆ．Ｍａｌｏｎｅ，Ｃｏｎｃｅｐｔｕａｌ Ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｄｉｓｔｉｌｌａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ，ＭｃＧｒａｗ－Ｈｉｌｌ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ），２００１，１８５を参照されたい）。
単一の気相が単一の液相と平衡状態にある、均一共沸は、上記の特性（１ａ）、（１ｂ）、及び（２）に加えて、各成分の組成が共存平衡相のそれぞれにおいて同じである。一般用語「共沸」は、均一共沸に一般的に使用される代替名である。
本明細書で使用するとき、「共沸様」組成物は、共沸組成物のように挙動する（すなわち、一定の沸騰特性又は沸騰若しくは蒸発時に分留しない傾向を有する）組成物を指す。したがって、沸騰又は蒸発中、蒸気及び液体の組成は、変化する場合でも、最小限又は無視できる程度しか変化しない。対照的に、非共沸様組成物の蒸気及び液体の組成は、沸騰又は蒸発中にかなりの程度変化する。
本明細書で使用するとき、用語「共沸様」又は「共沸様挙動」は、事実上圧力差がない露点圧力及び気泡点圧力を呈する組成物を指す。いくつかの実施形態では、所与の温度における露点圧力と気泡点圧力との差は、３％以下である。いくつかの実施形態では、気泡点圧力と露点圧力との差は、５％以下である。
化学的略語
本出願全体を通して、以下の略語を使用することができる。
ＣＦＣ：クロロフルオロカーボン
ｔ－ＤＣＥ：トランス－１，２－ジクロロエチレン
ＥｔＯＨ：エタノール
ＨＣＦＯ：ヒドロクロロフルオロオレフィン
ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）：（Ｚ）－１－クロロ－３，３，３－トリフルオロプロペン
ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）：（Ｅ）－１－クロロ－３，３，３－トリフルオロプロペン
ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）：（Ｚ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン
ＨＦＣ：ヒドロフルオロカーボン
ＨＦＣ－４３－１０ｍｅｅ又はＸＦ：１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロペンタン
ＨＦＣＰ：１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン
ＨＦＥ：ヒドロフルオロエーテル
ＨＦＥ－７０００：ペルフルオロイソプロピルメチルエーテル
ＨＦＥ－７１００：１－メトキシペルフルオロブタンと１－メトキシペルフルオロイソブタンとの混合物
ＨＦＥ－７２００：１－エトキシペルフルオロブタンと１－エトキシペルフルオロイソブタンとの混合物
ＨＦＥ－７３００：３－メトキシペルフルオロイソヘキサン
ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ：１，１，２，２－テトラフルオロエチル－２，２，２－トリフルオロエチルエーテル
ＨＦＯ：ヒドロフルオロオレフィン
ＨＦＯ－１３３６ｍｚｚ（Ｚ）：（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン
ＭｅＯＨ＝メタノール。
ＭＰＨＥ：メチルペルフルオロヘプテンエーテル
Ｎｏｖｅｃ（商標）７３００：１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン
共沸及び共沸様組成物
本出願は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）ヒドロフルオロオレフィン、ヒドロフルオロエーテル、ヒドロクロロフルオロオレフィン、及びアルキルペルフルオロアルケンエーテルから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）ヒドロフルオロカーボンである第３の成分と、
ｉｖ）Ｃ１～６アルコール、Ｃ３～６ケトン、Ｃ５～８アルカン、Ｃ３～６シクロアルカン、及びＣ１～６アルキルアセテートから選択される第４の成分と、
を含む組成物を提供する。
いくつかの実施形態では、組成物は共沸（すなわち、共沸性）組成物である。いくつかの実施形態では、第２、第３、及び第４の成分は、トランス－１，２－ジクロロエチレンと共沸組成物を形成するのに有効な量で組成物中に存在する。
いくつかの実施形態では、組成物は、共沸様組成物である。いくつかの実施形態では、第２、第３、及び第４の成分は、トランス－１，２－ジクロロエチレンと共沸様組成物を形成するのに有効な量で組成物中に存在する。
いくつかの実施形態では、組成物は、約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレン、例えば、約７５～約８３、約７５～約８１、約７５～約７９、約７５～約７７、約７７～約８５、約７７～約８３、約７７～約８１、約７７～約７９、約７９～約８５、約７９～約８３、約７９～約８１、約８１～約８５、約８１～約８３、又は約８３～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約８０重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、約７０～約８０重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレン、例えば、約７０～約７８、約７０～約７６、約７０～約７４、約７０～約７２、約７２～約８０、約７２～約７８、約７２～約７６、約７２～約７４、約７４～約８０、約７４～約７８、約７４～約７６、約７６～約８０、約７６～約７８、又は約７８～約８０重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約７４～約７６重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約７５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む。
いくつかの実施形態では、第２の成分は、ヒドロフルオロオレフィンである。いくつかの実施形態では、ヒドロフルオロオレフィンは、（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンである。
いくつかの実施形態では、第２の成分は、ヒドロフルオロエーテルである。いくつかの実施形態において、ヒドロフルオロエーテルは、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、及び１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される。いくつかの実施形態では、ヒドロフルオロエーテルは、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、及びＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆから選択される。いくつかの実施形態では、ヒドロフルオロエーテルは、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンである。
いくつかの実施形態では、組成物は、約５～約１５重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、例えば、約５～約１０又は約１０～約１５重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約１０～約１２重量％の１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約１１重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンを含む。
いくつかの実施形態では、第２の成分は、ヒドロクロロフルオロオレフィンである。いくつかの実施形態では、ヒドロクロロフルオロオレフィンは、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、及びＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）から選択される。
いくつかの実施形態では、第２の成分は、アルキルペルフルオロアルケンエーテルである。いくつかの実施形態では、アルキルペルフルオロアルケンエーテルは、メチルペルフルオロヘプテンエーテルである。
いくつかの実施形態では、組成物は、約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテル、例えば、約１～約４、約１～約３、約１～約２、約２～約５、約２～約４，約２～約３、約３～約５、約３～約４、約４～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約４重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルを含む。
いくつかの実施形態では、メチルペルフルオロヘプテンエーテルは、２つ以上の構造及び／又は立体異性体の混合物を含む。
いくつかの実施形態では、メチルペルフルオロヘプテンエーテルは、約４８～約５２重量パーセントの５－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約１８～約２２重量パーセントの３－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約１８～約２２重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－２－ヘプテン、及び約６～約１０重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテンの混合物を含む。
いくつかの実施形態では、メチルペルフルオロヘプテンエーテルは、約５０重量パーセントの５－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約２０重量パーセントの３－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約２０重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－２－ヘプテン、及び約８重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテンの混合物を含む。
いくつかの実施形態では、メチルペルフルオロヘプテンエーテルは、約４８～約５２重量パーセントの５－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、約１２～約１６重量％の３－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、約４～約８重量パーセントの３－メトキシ（Ｚ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、約１８～約２２重量パーセントの４－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－２－ヘプテン、約１～約３重量パーセントの４－メトキシ（Ｚ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、及び約４～約８重量パーセントの４－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－３－ヘプテンの混合物を含む。
いくつかの実施形態では、メチルペルフルオロヘプテンエーテルは、約５０重量パーセントの５－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、約１４重量％の３－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、約６重量パーセントの３－メトキシ（Ｚ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、約２０重量パーセントの４－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－２－ヘプテン、約２重量パーセントの４－メトキシ（Ｚ）－ペルフルオロ－３－ヘプテン、及び約６重量パーセントの４－メトキシ（Ｅ）－ペルフルオロ－３－ヘプテンの混合物を含む。
いくつかの実施形態では、第３の成分は、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される。いくつかの実施形態では、第３の成分は１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである。
いくつかの実施形態では、組成物は、約１～約１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、例えば、約１～約１０，約１～約５、又は約１０～約１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、約１０～約１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含み、例えば、約１０～約１４、約１０～約１３、約１０～約１２、約１０～約１１、約１１～約１５である。約１１～約１４、約１１～約１３、約１１～約１２、約１２～約１５、約１２～約１４、約１２～約１３、約１３～約１５、約１３～約１４、又は約１４～約１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約１１～約１３重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約１２重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、約５～約１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、例えば、約５～約１０又は約１０～約１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約９～約１１重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約１０重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む。
いくつかの実施形態では、第４成分は、Ｃ１～６アルコールである。いくつかの実施形態では、Ｃ１～６アルコールは、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールから選択される。
いくつかの実施形態では、Ｃ１～６アルコールは、エタノールである。いくつかの実施形態では、組成物は、約１～約５重量パーセントのエタノール、例えば、約１～約４、約１～約３、約１～約２、約２～約５、約２～約４、約２～約３、約３～約５、約３～約４、又は約４～約５重量パーセントのエタノール、を含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約２～約４重量パーセントのエタノールを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約３重量%のエタノールを含む。
いくつかの実施形態では、Ｃ１～６アルコールは、イソプロパノールである。いくつかの実施形態では、組成物は、約１～約５重量パーセントのイソプロパノール、例えば、約１～約４、約１～約３、約１～約２、約２～約５、約２～約４，約２～約３、約３～約５、約３～約４、又は約４～約５重量％のイソプロパノールを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約２～約４重量パーセントのイソプロパノールを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約３重量パーセントのイソプロパノールを含む。
いくつかの実施形態では、第４の成分はＣ３～６ケトンである。いくつかの実施形態では、Ｃ３～６ケトンはアセトンである。
いくつかの実施形態では、第４の成分はＣ５～８アルカンである。いくつかの実施形態では、Ｃ５～８アルカンは、ｎ－ヘキサンである。いくつかの実施形態では、組成物は、約１～約５重量パーセント％のｎ－ヘキサン、例えば、約１～約４、約１～約３、約１～約２、約２～約５、約２～約４，約２～約３、約３～約５、約３～約４、又は約４～約５重量パーセントのｎ－ヘキサンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約２～約４重量パーセントのｎ－ヘキサンを含む。いくつかの実施形態では、組成物は、約４重量パーセントのｎ－ヘキサンを含む。
いくつかの実施形態では、第４の成分は、Ｃ３～６シクロアルカンである。いくつかの実施形態では、Ｃ３～６シクロアルカンは、シクロペンタンである。
いくつかの実施形態では、第４の成分は、Ｃ１～６アルキルアセテートである。いくつかの実施形態では、Ｃ１～６アルキルアセテートはエチルアセテートである。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、及び１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びｎ－ヘキサンから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、及びメチルペルフルオロヘプテンエーテルから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、及びイソプロパノールから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテル、又は１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びｎ－ヘキサンから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテルである第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、及びイソプロパノールから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、及び１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びｎ－ヘキサンから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、及びメチルペルフルオロヘプテンエーテルから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、及びイソプロパノールから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、及び１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びｎ－ヘキサンから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、及びメチルペルフルオロヘプテンエーテルから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）エタノールである第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテル、又は１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンである第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びｎ－ヘキサンから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテルである第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである第３の成分と、
ｉｖ）メタノール、エタノール、及びイソプロパノールから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテル、又は１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンである第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）エタノール、イソプロパノール、及びｎ－ヘキサンから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテルである第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される第３の成分と、
ｉｖ）エタノールである第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、及び１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである第３の成分と、
ｉｖ）エタノール、イソプロパノール、及びｎ－ヘキサンから選択される第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、及びメチルペルフルオロヘプテンエーテルから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである第３の成分と、
ｉｖ）エタノールである第４の成分と、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）エタノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールを含む組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４４℃～約４６℃の沸点を有する。
いくつかの実施形態では、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールを含む組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４５℃の沸点を有する。
いくつかの実施形態では、本明細書で提供される組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールから本質的になる。
いくつかの実施形態では、本明細書で提供される組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールからなる。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１０～約１５重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約１～約５重量パーセントのエタノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１１～約１３重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約２～約４重量パーセントのエタノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約４重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１２重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約３重量パーセントのエタノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）メチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）イソプロパノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びイソプロパノールを含む組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４５℃～約４７℃の沸点を有する。
いくつかの実施形態では、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びイソプロパノールを含む組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４６℃の沸点を有する。
いくつかの実施形態では、組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びイソプロパノールから本質的になる。
いくつかの実施形態では、組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びイソプロパノールからなる。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１０～約１５重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約１～約５重量パーセントのイソプロパノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１１～約１３重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約２～約４重量パーセントのイソプロパノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約４重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１２重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約３重量パーセントのイソプロパノールと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
ｉｉｉ）１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）ｎ－ヘキサンと、
を含む。
いくつかの実施形態では、トランス－１，２－ジクロロエチレン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びｎ－ヘキサンを含む組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４５℃～約４７℃の沸点を有する。
いくつかの実施形態では、トランス－１，２－ジクロロエチレン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びｎ－ヘキサンを含む組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４６℃の沸点を有する。
いくつかの実施形態では、組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びｎ－ヘキサンから本質的になる。
いくつかの実施形態では、組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びｎ－ヘキサンからなる。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約７０～約８０重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約５～約１５重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
ｉｉｉ）約５～約１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約１～約５重量パーセントのｎ－ヘキサンと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約７４～約７６重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１０～約１２重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
ｉｉｉ）約８～約１０重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約２～約４重量パーセントのｎ－ヘキサンと、
を含む。
いくつかの実施形態では、組成物は、
ｉ）約７５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１１重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
ｉｉｉ）約１０重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約４重量パーセントのｎ－ヘキサンと、
を含む。
使用方法
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の組成物は、洗浄剤、フラックス除去剤、及び／又は脱脂剤として有用であり得る。したがって、本出願は、表面を洗浄するプロセスであって、本明細書で提供される組成物を当該表面と接触させるステップを含む、プロセスを提供する。いくつかの実施形態では、プロセスは、表面又は基材から残渣を除去するステップであって、表面又は基材を本明細書で提供される組成物と接触させるステップと、組成物から表面又は基材を回収するステップと、を含む。
いくつかの実施形態では、本出願は、溶質を溶解させるためのプロセスであって、当該溶質を、十分な量の本明細書で提供される組成物と接触させ混合するステップを含む、プロセスを更に提供する。
いくつかの実施形態では、表面又は基材は、集積回路デバイスであり得、この場合、残渣は、ロジンフラックス又は油を含む。集積回路デバイスは、フリップチップ、μＢＧＡ、又はチップスケールパッケージング構成要素などの様々な種類の構成要素を有する回路基板であり得る。表面又は基材は、追加として、ステンレス鋼などの金属表面であり得る。ロジンフラックスは、ＲＭＡ（（rosin mildly activated）ロジン弱活性化）、ＲＡ（（rosin activated）ロジン活性化）、ＷＳ（（water soluble）水溶性）、及びＯＡ（（organic acid）有機酸）が挙げられるが、これらに限定されない、集積回路デバイスのはんだ付けにおいて一般的に使用される任意の種類であり得る。油残渣としては、鉱油、モータ油、及びシリコーン油が挙げられるが、これらに限定されない。
いくつかの実施形態では、本出願は、濡れている基材又は表面又はデバイスの表面から水の少なくとも一部を除去するためのプロセスであって、基材、表面、又はデバイスを本明細書で提供される組成物と接触させるステップと、次いで、基材、表面、又はデバイスを組成物との接触から除去するステップと、を含む、プロセスを提供する。
いくつかの実施形態では、本明細書で提供される組成物は、１つ以上の添加剤成分を更に含む（すなわち、組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、本明細書に記載される第２の成分、本明細書に記載の第３の成分、本明細書に記載の第４の成分、及び本明細書に記載される１つ以上の添加剤成分を含む）。例示的な添加剤としては、界面活性剤及びフルオロ潤滑剤が挙げられるが、これらに限定されない。
いくつかの実施形態では、本明細書で提供される組成物は、基材を脱水又は乾燥するのに好適な少なくとも１つの界面活性剤を更に含む。例示的な界面活性剤としては、アルキルジメチルアンモニウムイソオクチルホスフェート、ｔｅｒｔ－アルキルアミン（例えば、ｔｅｒｔ－ブチルアミン）、ペルフルオロアルキルホスフェート、ジメチルデセンアミド、フッ素化アルキルポリエーテル、四級アミン（例えば、アンモニウム塩）、及びグリセロールモノステアレートが挙げられるが、これらに限定されない。
デバイス、表面、又は基材を接触させるための手段は重要ではなく、例えば、本明細書で提供される組成物を含有する浴中にデバイス、表面、若しくは基材を浸漬するステップ、本明細書で提供される組成物を用いてデバイス、表面、若しくは基材を噴霧するステップ、又は組成物で湿潤された材料（例えば、布）でデバイス、表面、若しくは基材を拭き取るステップによって達成され得る。代替的に、本明細書で提供される組成物は、このような残渣の除去のために設計された蒸気脱脂又はフラックス除去装置において使用され得る。このような蒸気脱脂又はフラックス除去機器は、Ｆｏｒｗａｒｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（Ｃｒｅｓｔ Ｇｒｏｕｐ，Ｔｒｅｎｔｏｎ，ＮＪの子会社）、Ｔｒｅｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ａｚｕｓａ，ＣＡ）、及びＵｌｔｒｏｎｉｘ，Ｉｎｃ．（Ｈａｔｆｉｅｌｄ，ＰＡ）などの様々な供給元から入手可能である。
デジタル情報を記憶する最も高度で最も高い記録密度及び最低コストの方法は、磁気材料でコーティングされた回転ディスクからフラックスパターンを書き込み、読み取りすることを伴う。ビットの形態で情報が記憶される磁気層は、金属支持構造上にスパッタリングされる。次に、オーバーコート、通常は炭素系材料を保護のために磁気層の上に配置し、最後に潤滑剤をオーバーコートに塗布する。読み取り－書き込みヘッドは潤滑剤の上方に浮上し、ヘッドと磁気層との間で情報が交換される。情報転送の効率を高める飽くなき試みにおいて、ハードドライブ製造業者は、ヘッドと磁気層との間の距離、又は浮上高を１００オングストローム未満まで低減してきた。
必然的に、通常のディスクドライブアプリケーションの間、ヘッドとディスク表面とが接触することになる。ディスク上の摩耗を低減するために、摺動接点及び浮遊接点の両方から、それは潤滑される必要がある。
フッ素系潤滑剤は、磁気ディスクドライブ産業において潤滑剤として広く使用されて、ヘッドとディスクとの間の摩擦を減少させ、すなわち摩耗を低減し、したがってディスク故障の可能性を最小限に抑える。
フッ素系潤滑剤の堆積のための改良された方法の必要性が、産業界に存在する。ＣＦＣ－１１３及びＰＦＣ－５０６０などの特定の溶媒の使用は、環境への影響によって調節されている。したがって、本出願で使用されることになる溶媒は、環境への影響を考慮すべきである。また、このような溶媒は、フッ素系潤滑剤を溶解し、フッ素系潤滑剤の実質的に均一な又は均一なコーティングを形成する必要がある。追加として、既存の溶媒は、所与の厚さコーティングを生成するためにより高いフッ素系潤滑剤濃度を必要とし、フッ素系潤滑剤コーティングの均一性の不規則性を生じることが見出されている。
いくつかの実施形態において、本開示のフッ素系潤滑剤は、ペルフルオロポリエーテル（perfluoropolyether、ＰＦＰＥ）化合物、又はホスファゼン含有ディスク潤滑剤であるＸ－１Ｐ（登録商標）を含む潤滑剤を含む。これらのペルフルオロポリエーテル化合物は、時には、ペルフルオロアルキルエーテル（perfluoroalkylether、ＰＦＡＥ）又はペルフルオロポリアルキルエーテル（perfluoropolyalkylether、ＰＦＰＡＥ）と称される。これらのＰＦＰＥ化合物は、単純なペルフルオロ化エーテルポリマーから官能化ペルフルオロ化エーテルポリマーまで多岐にわたる。本発明においてフッ素系潤滑剤として有用であり得る異なる種類のＰＦＰＥ化合物は、いくつかの供給源から入手可能である。いくつかの実施形態では、本明細書で提供されるプロセスにおいて有用なフッ素系潤滑剤としては、Ｋｒｙｔｏｘ（登録商標）ＧＬＰ１００、ＧＬＰ１０５、又はＧＬＰ１６０（Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｏｕｒｓ Ｃｏ．，ＬＬＣ，Ｆｌｕｏｒｏｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，ＤＥ，１９８９８，ＵＳＡ）、Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）Ｚ－Ｄｏｌ ２０００、２５００若しくは４０００、Ｚ－Ｔｅｔｒａｏｌ、又はＦｏｍｂｌｉｎ（登録商標）ＡＭ ２００１若しくはＡＭ ３００１（Ｓｏｌｖａｙ Ｓｏｌｅｘｉｓ Ｓ．ｐ．Ａ．，Ｍｉｌａｎ，Ｉｔａｌｙから販売）、Ｄｅｍｎｕｍ（商標）ＬＲ－２００又はＳ－６５（Ｄａｉｋｉｎ Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．，Ｏｓａｋａ，Ｊａｐａｎから提供）、Ｘ－１Ｐ（登録商標）（Ｑｕｉｘｔｏｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ，Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩの子会社）から入手可能な部分フッ素化ヘキサフェノキシ（hyxaphenoxy）シクロトリホスファゼンディスク潤滑剤）、並びにそれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。Ｋｒｙｔｏｘ（登録商標）潤滑剤は、一般構造Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２ＣＦ３を有するペルフルオロアルキルポリエーテルであり、式中、ｎは１０～６０の範囲である。Ｆｏｍｂｌｉｎ（登録商標）潤滑剤は、分子量が５００～４０００原子質量単位の範囲であり、かつ一般式Ｘ－ＣＦ２－Ｏ（ＣＦ２－ＣＦ２－Ｏ）ｐ－（ＣＦ２Ｏ）ｑ－ＣＦ２－Ｘ（式中、Ｘは－ＣＨ２ＯＨであり得、ｐ＋ｑは４０～１８０であり、ｐ／ｑは０．５～２である）、ＣＨ２（Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２）ｎＯＨ（式中、ｎは１０～６０である）、ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ、又は－ＣＨ２Ｏ－ＣＨ２－ピペロニルを有する官能化ペルフルオロポリエーテルである。Ｄｅｍｎｕｍ（商標）油は、２７００～８４００原子質量単位の分子量の範囲のペルフルオロポリエーテル系油である。加えて、本明細書で提供されるプロセスにおいて有用であり得る、Ｍｏｒｅｓｃｏ（Ｔｈａｉｌａｎｄ）Ｃｏ．，Ｌｔｄからのものなどの新しい潤滑剤が開発されている。
本明細書に記載されるフッ素系潤滑剤は、フッ素系潤滑剤の特性を改善するための添加剤を追加として含み得る。潤滑剤自体として機能し得るＸ－１Ｐ（登録商標）は、ＰＦＰＥ分解に関与するディスク表面上のルイス酸部位を不活性化することによってディスクドライブの耐久性を高めるために、多くの場合、他のより低いコストのフッ素系潤滑剤に添加される。他の一般的な潤滑剤添加剤は、本明細書で提供されるプロセスにおいて有用なフッ素系潤滑剤において使用され得る。
本明細書に記載されるフッ素系潤滑剤は、Ｚ－ＤＰＡ（Ｈｉｔａｃｈｉ Ｇｌｏｂａｌ Ｓｔｏｒａｇｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｓａｎ Ｊｏｓｅ，ＣＡ）、ジアルキルアミン末端基で終端されたＰＦＰＥを更に含み得る。求核末端基は、Ｘ１Ｐ（登録商標）と同じ目的を果たすため、いかなる添加剤も有しない同じ安定性を提供する。
フッ素系潤滑剤が堆積され得る表面は、潤滑から利益を得ることができる任意の固体表面である。シリカディスク、金属又は金属酸化物表面、蒸着炭素表面又はガラス表面などの半導体材料は、本明細書に記載されるプロセスにおいて使用され得る表面の種類を表す。いくつかの実施形態では、本明細書で提供されるプロセスは、コンピュータドライブハードディスクなどの磁気媒体をコーティングするのに特に有用である。コンピュータディスクの製造において、表面は、アモルファス水素化又は窒素化炭素の薄い（１０～５０オングストロームの）層の蒸着によってもコーティングされる、磁性媒体の層を有する、ガラス、又はアルミニウム基材であり得る。フッ素系潤滑剤は、ディスクの炭素層にフッ素系潤滑剤を塗布することによって間接的に表面ディスク上に堆積され得る。
フッ素系潤滑剤及び本明細書で提供される組成物（すなわち、溶媒として）を合わせる第１の工程は、堆積プロセスのための浴として使用され得るビーカー又は他の容器などの好適な容器内で混合するなどの任意の好適な方法で、達成され得る。本明細書で提供される組成物中のフッ素系潤滑剤濃度は、約０．０１０重量パーセント（重量／重量）～約０．５０パーセント（重量／重量）であり得る。
フッ素系潤滑剤及び本明細書で提供される当該組成物の組み合わせを表面と接触させる工程は、当該表面に適切な任意の方法で達成され得る（表面のサイズ及び形状を考慮する）。ハードドライブディスクは、ディスクの中心の穴を通って嵌合することができるマンドレル又は他のいくつかの支持体などのいくつかの方法で支持される必要がある。したがって、ディスクは、ディスクの平面が溶媒浴に垂直になるように鉛直に保持される。マンドレルは、円筒形棒又はＶ字形棒を含むがこれらに限定されない、異なる形状を有し得る。マンドレル形状は、ディスクとの接触領域を決定することになる。マンドレルは、金属、金属合金、プラスチック、又はガラスを含むがこれらに限定されない、ディスクを保持するのに十分な強さの任意の材料で構築され得る。加えて、ディスクは、織布バスケット内に鉛直に直立して支持され得るか、又は外側縁部上の１つ以上のクランプで鉛直位置にクランプされ得る。支持体は、金属、金属合金、プラスチック、又はガラスなどのディスクを保持する強度を有する任意の材料で構築され得る。ディスクがどのような仕方で支持されるにしても、ディスクは、フッ素系潤滑剤／溶媒（すなわち、本明細書で提供される組成物）の組み合わせの浴を保持する容器内に下げられることになる。浴は、室温で保持されるか、又は約０℃～約５０℃の範囲の温度まで加熱若しくは冷却されてもよい。
代替的に、ディスクは上述のように支持され得、浴が上げられて、ディスクを浸漬し得る。いずれの場合も、次いで、ディスクは浴から（浴を下げることによって、又はディスクを上げることによってのいずれかで）除去され得る。超過量のフッ素系潤滑剤／溶媒の組み合わせを浴中に排出することができる。
ディスクを浴内に下げるか、又は浴を上げてディスクを浸漬するかのいずれかの、ディスク表面とフッ素系潤滑剤／溶媒の組み合わせとを接触させるプロセスのいずれかは、一般にディップコーティングと称される。噴霧又はスピンコーティングを含むがこれらに限定されない、ディスクをフッ素系潤滑剤／溶媒の組み合わせと接触させるための他のプロセスが、本明細書に記載されるプロセスにおいて使用され得る。
ディスクが浴から除去されると、ディスクは、その表面上にフッ素系潤滑剤及びいくらかの残渣溶媒（すなわち、本明細書で提供される組成物）のコーティングを有する。残留溶媒は蒸発され得る。蒸発は、通常、室温で実施される。しかしながら、室温超及び室温未満の両方の他の温度も、蒸発工程で使用され得る。約０℃～約１００℃の範囲の温度を蒸発に使用してもよい。
表面、又は表面がディスクである場合にはディスクには、コーティングプロセスの完了後、実質的に溶媒を含まないフッ素系潤滑剤の実質的に均一な又は均一なコーティングが残ることになる。フッ素系潤滑剤は、約３００ｎｍ未満の厚さに、及び代替的に約１００～約３００ｎｍの厚さに塗布され得る。
ディスクの適切な機能のために均一なフッ素系潤滑剤コーティングが要求されるので、そのようなフッ素系潤滑剤の厚さが様々である領域は、ディスクの表面上において望ましくない。ますます多くの情報が同じサイズのディスク上に記憶されるにつれて、読み取り／書き込みヘッドは、適切に機能するためにディスクにますます近づく必要がある。コーティング厚さの変動による不規則性がディスクの表面上に存在する場合、ヘッドとディスク上のこれらの領域との接触の可能性ははるかに大きくなる。ヘッド接点又は他の手段によって除去され得る領域に流れ込むのに十分なフッ素化潤滑剤をディスク上に有することが望ましいが、厚すぎるコーティングは、「汚れ」（超過量のフッ素系潤滑剤をかき集める読み取り／書き込みヘッドに関連付けられた問題である）を引き起こし得る。
産業界で観察される１つの特定のコーティング厚さの不規則性は、「ラビットイヤー」効果として知られるものである。これらの不規則性は、既存の溶媒系を使用してフッ素系潤滑剤を堆積した後にディスクの表面上で視覚的に検出される。ディスクが溶媒中のフッ素系潤滑剤の溶液と接触し、次いで溶液から除去されると、溶液が蓄積し、かつ容易に排出し得ない任意の点は、容易に流れ落ちない溶液の液滴を生じさせる。このような液滴形成点の１つは、マンドレル又は他の支持デバイスとディスクとの接点（複数可）である。Ｖ字形状のマンドレルが使用される場合、マンドレルがディスクの内側縁部に接触する２つの接点が存在する。フッ化潤滑剤の溶液が、浴から除去されたときに流れ落ちないこれらの場所で液滴を形成する場合、溶媒が蒸発すると、フッ素系潤滑剤の厚さがより大きい領域が形成される。フッ素系潤滑剤の厚さがより大きい領域は、ディスク表面上で視覚的に検出可能なウサギ耳に似たパターンを生成するので、ディスクとの２つの接点は、「ラビットイヤー」効果として知られているものを生成する。
表面上にフッ素系潤滑剤を堆積させるためにディップコーティングが使用される場合、引き上げ速度（ディスクが浴から除去される速度）、並びにフッ素系潤滑剤の密度及び表面張力は、フッ素系潤滑剤の結果として得られる膜厚を決定することに関連する。所望の膜厚を得るためのこれらのパラメータの認識が必要とされる。これらのパラメータがコーティングにどのような影響を与えるかに関する詳細は、その開示内容が参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、「Ｄｉｐ－Ｃｏａｔｉｎｇ ｏｆ Ｕｌｔｒａ－Ｔｈｉｎ Ｌｉｑｕｉｄ Ｌｕｂｒｉｃａｎｔ ａｎｄ ｉｔｓ Ｃｏｎｔｒｏｌ ｆｏｒ Ｔｈｉｎ－Ｆｉｌｍ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋｓ」 ｉｎ ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ，ｖｏｌ．３１，ｎｏ．６，Ｎｏｖｅｍｂｅｒ １９９５に記載されている。
本発明を、具体的な実施例によって、より詳細に説明する。以下の実施例は、例示目的のために提供され、いかなる意味でも、本発明を限定することを意図するものではない。当業者は、本質的に同じ結果を得るために変更又は修正することができる様々な重要でないパラメータを、容易に認識するであろう。
実施例１．組成物１の単一プレート蒸留分析
トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンとエタノールとの混合物を調製し、標準ＡＳＴＭ法Ｄ１０７８に基づき、７６０ｍｍＨｇの圧力で単一プレート蒸留カラム中で蒸留した。沸騰したフラスコの温度を１℃まで直接モニタした。蒸留は５０重量％蒸留点で停止し、蒸留物と残液のサンプルの両方を採取してガスクロマトグラフィで組成を決定した。表１は、共沸組成物であり、１０１ｋＰａで４５℃の沸点を示した組成物１の成分を示したものである。
Figure 2022516286000001
理論に束縛されることなく、組成物１は、電子機器や工業製品の製造プロセスで使用される様々な油、グリース、及びフラックスの除去に有効な洗浄剤として有用であり得ると考えられる。蒸気脱脂の用途では、共沸洗浄ブレンドが、蒸留、凝縮、再混合時に実質的な組成変化を示さないことから、特に有益である。これにより、信頼性の高い洗浄結果が得られ、可燃性のリスクも減少する。更に、共沸組成物は、溶解剤とリンス剤の比率を常に監視する必要性を排除し、それによって、生産のダウンタイムを低減しスループットを向上させるため、全体的な運用コストを削減させる。更に、組成物１は、このクラスでは最高濃度のトランス－１，２－ジクロロエチレンを含んでいる。組成物１は、不燃性であり、高いｋｂ値（＞９０）を有し、組成物中にエタノールが存在するため、フラックスやイオン性汚染物の除去に有用であると予想される。組成物１は、純粋な成分のＧＷＰの質量ベースの加重平均に基づいて、３０のＧＷＰ（１００年ＩＴＨ）を有することが期待される。
実施例２．組成物１の安定性分析
精密洗浄に使用される蒸気脱脂操作をシミュレートするために、組成物１の２００グラムの混合物を改良型ソックスレー抽出器に入れた。組成物を４時間かけて４５℃に加熱した。すすぎ液溜（蒸留物）及び沸騰液溜（沸騰フラスコ）の両方をＧＣ／ＦＩＤにより分析した。蒸留速度は、約２００グラム／時間であった。表２に示すように、組成物１は、ソックスレー分析中に組成物の変化が最小限であった。
Figure 2022516286000002
実施例３．組成物２の安定性分析
トランス－１，２－ジクロロエチレン（ｔ－ＤＣＥ）、メチルペルフルオロヘプテンエーテル（ＭＰＨＥ）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（ＨＦＣＰ）、及びイソプロパノール（ＩＰＡ）の２００グラム混合物を、精密洗浄に使用される蒸気脱脂操作をシミュレートするために、改良型ソックスレー抽出器に入れた。組成物を４時間かけて４５℃に加熱した。すすぎ液溜（蒸留物）及び沸騰液溜（沸騰フラスコ）の両方をＧＣ／ＦＩＤにより分析した。蒸留速度は、約２００グラム／時間であった。表３に示すように、組成物２は、ソックスレー分析中に組成の最小の変化を示した。
Figure 2022516286000003
実施例４．組成物１の洗浄効果係数（ＣＥＦ）分析
組成物１を凝縮コイル付きの１０００ｍＬビーカーにデカントし、ホットプレートを用いて沸点（４５．２℃）まで加熱した。３枚の予めクリーニングされた３０４ステンレス鋼クーポンを化学天秤で計量した（初期重量）。Ｍｏｂｉｌ ６００Ｗシリンダ油の薄膜を各クーポンの片面に適用し、拭き取り布で過剰分を除去した。次いで、各クーポンを再計量して汚れた重量を求め、その後、沸騰組成物の気相中に１０分間入れておいた。次いで、クーポンを取り出し、１０分間乾燥及び排ガスした後に再計量して（クリーニング後の重量）、溶媒ブレンドのクリーニング有効係数を求めた。洗浄分析の結果を表４に示し、式１に従ってＣＥＦを決定した。
式１．
ＣＥＦ＝（汚染重量－洗浄後重量）／（汚染重量－初期重量）
Figure 2022516286000004
実施例５．組成物２の洗浄効果係数（ＣＥＦ）分析
組成物２を凝縮コイル付きの１０００ｍＬビーカーにデカントし、ホットプレートを用いて沸点（４６．２℃）まで加熱した。３つの予め洗浄された３０４ステンレス鋼クーポンを分析天秤（初期重量）で計量した。Ｍｏｂｉｌ ６００Ｗシリンダ油の薄膜を各クーポンの片面に適用し、拭き取り布で過剰分を除去した。次いで、各クーポンを再計量して汚れた重量を求め、その後、沸騰組成物の気相中に１０分間入れておいた。次いで、クーポンを取り出し、１０分間乾燥及び排ガスした後に再計量して（クリーニング後の重量）、溶媒ブレンドのクリーニング有効係数を求めた。洗浄分析の結果を表５に示し、式１に従ってＣＥＦを決定した。
Figure 2022516286000005
実施例６．組成物３の単一プレート蒸留分析
混合物３を調製し、標準ＡＳＴＭ法Ｄ１０７８に基づき、７６０ｍｍＨｇの圧力で、２５プレート蒸留カラム中で蒸留した。ヘッド及びフラスコの温度を１℃まで直接モニタリングした。蒸留物サンプルを、ガスクロマトグラフィによる組成の決定のために蒸留全体を通して採取した。表６は、共沸様組成物であり、１０１ｋＰａで４６℃の沸点を示した組成物３の成分を示す。
Figure 2022516286000006
実施例７．四級共沸の範囲
四級共沸様組成物の範囲は、気泡点圧力に対する、露点圧力と気泡点圧力との間のパーセント偏差によって決定した。実施例２の４５℃の動作沸騰温度において、３％エタノールの固定重量パーセントで様々な組成を有する組成物の露点圧力及び沸点圧力を、等フガシティベースの気液平衡（vapor-liquid equilibria、ＶＬＥ）計算を使用して決定し、各所与の組成物に対するパーセント偏差を計算した。四元系の各構成二元系の二元系ＶＬＥデータを実験的に収集し，活性係数モデルの二元系相互作用パラメータを各二元系に適合させることができた。図１は、３％エタノールの重量パーセントでスライスされた三元組成物空間のスライスにおける、気泡圧力対露点圧力の偏差を示している。等高線は、露点圧力と気泡点圧力との間の一定のパーセント偏差の値に従う。図１に示すように、３％の偏差の等高線は、３％のエタノールで、０．１％～３２％のＨＦＣＰ、０．１％～１５％のＭＰＨＥ、及び６５％～９６．８％のｔ－ＤＣＥの組成物を含む。
他の実施形態
実施形態１． いくつかの実施形態では、本出願は、
ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）ヒドロフルオロオレフィン、ヒドロフルオロエーテル、ヒドロクロロフルオロオレフィン、及びアルキルペルフルオロアルケンエーテルから選択される第２の成分と、
ｉｉｉ）ヒドロフルオロカーボンである第３の成分と、
ｉｖ）Ｃ１～６アルコール、Ｃ３～６ケトン、Ｃ５～８アルカン、Ｃ３～６シクロアルカン、及びＣ１～６アルキルアセテートから選択される第４の成分と、
を含む、共沸又は共沸様組成物を提供する。
実施形態２． 第２の成分は、ヒドロフルオロオレフィンである、実施形態１に記載の組成物。
実施形態３． ヒドロフルオロオレフィンは、（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンである、実施形態１又は２に記載の組成物。
実施形態４． 第２の成分は、ヒドロフルオロエーテルである、実施形態１に記載の組成物。
実施形態５． ヒドロフルオロエーテルは、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、及び１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される、実施形態１又は４に記載の組成物。
実施形態６． ヒドロフルオロエーテルは、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンである、実施形態１又は４に記載の組成物。
実施形態７． 組成物は、約５～約１５重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンを含む、実施形態５又は６に記載の組成物。
実施形態８． 組成物は、約１０～約１２重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンを含む、実施形態５又は６に記載の組成物。
実施形態９． 第２の成分は、ヒドロクロロフルオロオレフィンである、実施形態１に記載の組成物。
実施形態１０． ヒドロクロロフルオロオレフィンは、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、及びＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）から選択される、実施形態１又は９に記載の組成物。
実施形態１１． 第２の成分は、アルキルペルフルオロアルケンエーテルである、実施形態１に記載の組成物。
実施形態１２． アルキルペルフルオロアルケンエーテルは、メチルペルフルオロヘプテンエーテルである、実施形態１又は１１に記載の組成物。
実施形態１３． メチルペルフルオロヘプテンエーテルは、約５０重量パーセントの５－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約２０重量パーセントの３－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約２０重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－２－ヘプテン、及び約８重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテンの混合物を含む、実施形態１２に記載の組成物。
実施形態１４． 組成物は、約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルを含む、実施形態１２又は１３に記載の組成物。
実施形態１５． 組成物は、約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルを含む、実施形態１２又は１３に記載の組成物。
実施形態１６． 第３の成分は、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される、実施形態１～１５のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態１７． 第３の成分は１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである、実施形態１～１６のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態１８． 組成物は、約１０～１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む、請求項１７に記載の組成物。
実施形態１９． 組成物は、約１１～約１３重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む、請求項１７に記載の組成物。
実施形態２０． 第４の成分は、Ｃ１～６アルコールである、実施形態１～１９のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態２１． Ｃ１～６アルコールは、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールから選択される、実施形態１～２０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態２２． Ｃ１～６アルコールは、エタノールである、実施形態１～２０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態２３． 組成物は、約１～約５重量パーセントのエタノールを含む、実施形態２０に記載の組成物。
実施形態２４． 組成物は、約２～約４重量パーセントのエタノールを含む、実施形態２０に記載の組成物。
実施形態２５． Ｃ１～６アルコールは、イソプロパノールである、実施形態１～２０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態２６． 組成物は、約１～約５重量パーセントのイソプロパノールを含む、実施形態２０に記載の組成物。
実施形態２７． 組成物は、約２～約４重量パーセントのイソプロパノールを含む、実施形態２０に記載の組成物。
実施形態２８． 第４の成分は、Ｃ３～６ケトンである、実施形態１～１９のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態２９． Ｃ３～６ケトンはアセトンである、実施形態１～１９及び２８のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３０． 第４の成分は、Ｃ５～８アルカンである、実施形態１～１９のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３１． Ｃ５～８アルカンは、ｎ－ヘキサンである、実施形態１～１９及び３０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３２． 組成物は、約１～約５重量パーセントのｎ－ヘキサンを含む、実施形態１～１９及び３０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３３． 組成物は、約２～約４重量パーセントのｎ－ヘキサンを含む、実施形態１～１９及び３０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３４． 組成物は、約４重量パーセントのｎ－ヘキサンを含む、実施形態１～１９及び３０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３５． 第４の成分は、Ｃ３～６シクロアルカンである、実施形態１～１９のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３６． Ｃ３～６シクロアルカンはシクロペンタンである、実施形態１～１９及び３５のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３７． 第４の成分は、Ｃ１～６アルキルアセテートである、実施形態１～１９のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３８． Ｃ１～６アルキルアセテートがエチルアセテートである、実施形態１～１９及び３７のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態３９． 組成物は、約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む、実施形態１～３８のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態４０． 組成物は、約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む、実施形態１～３８のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態４１． 組成物は、
ｉ）約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１０～約１５重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約１～約５重量パーセントのエタノールと、
を含む、実施形態１に記載の組成物。
実施形態４２． 組成物は、
ｉ）約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１１～約１３重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約２～約４重量パーセントのエタノールと、
を含む、実施形態１に記載の組成物。
実施形態４３． 組成物は、
ｉ）約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約４重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１２重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約３重量パーセントのエタノールと、
を含む、請求項１に記載の組成物。
実施形態４４． 組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４４℃～約４６℃の沸点を有する、実施形態１、１２～１５、１７～１９、２２～２４及び３９～４３のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態４５． 組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールから本質的になる、実施形態１、１２～１５、１７～１９、２２～２４及び３９～４４のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態４６． 組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールからなる、実施形態１、１２～１５、１７～１９、２２～２４及び３９～４５のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態４７． 組成物は、
ｉ）約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１０～約１５重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約１～約５重量パーセントのエタノールと、
を含む、
実施形態１に記載の組成物。
実施形態４８． 組成物は、
ｉ）約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１１～約１３重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約２～約４重量パーセントのエタノールと、
を含む、
実施形態１に記載の組成物。
実施形態４９． 組成物は、
ｉ）約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約４重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
ｉｉｉ）約１２重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約３重量パーセントのイソプロパノールと、
を含む、請求項１に記載の組成物。
実施形態５０． 組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４５℃～４７℃の沸点を有する、実施形態１、１２～１５、１７～１９、２５～２７、３９、４０、及び４７～４９のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態５１． 組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びイソプロパノールから本質的になる、実施形態１、１２～１５、１７～１９、２５～２７、３９、４０、及び４７～５０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態５２． 組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びイソプロパノールからなる、実施形態１、１２～１５、１７～１９、２５～２７、３９、４０、及び４７～５１のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態５３． 組成物は、約５～約１５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む、実施形態１～３８のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態５４． 組成物は、約１０～約１２重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む、実施形態１～３８のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態５５． 組成物は、
ｉ）約７０～約８０重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約５～約１５重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
ｉｉｉ）約５～約１０重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約１～約５重量パーセントのｎ－ヘキサンと、
を含む、実施形態１に記載の組成物。
実施形態５６． 組成物は、
ｉ）約７４～約７６重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１０～約１２重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
ｉｉｉ）約８～約１０重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約２～約４重量パーセントのｎ－ヘキサンと、
を含む、実施形態１に記載の組成物。
実施形態５７． 組成物は、
ｉ）約７５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
ｉｉ）約１１重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
ｉｉｉ）約１０重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
ｉｖ）約４重量パーセントのｎ－ヘキサンと、
を含む、実施形態１に記載の組成物。
実施形態５８． 組成物は、約１０１ｋＰａの圧力で約４５℃～約４７℃の沸点を有する、実施形態１、６～８、１７～１９、３１～３４、及び５３～５７のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態５９． 組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びｎ－ヘキサンから本質的になる、実施形態１、６～８、１７～１９、３１～３４、及び５３～５８のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態６０． 組成物は、トランス－１，２－ジクロロエチレン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びｎ－ヘキサンからなる、実施形態１、６～８、１７～１９、３１～３４、及び５３～５９のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態６１． 組成物は共沸組成物である、実施形態１～６０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態６２． 組成物は共沸様組成物である、実施形態１～６０のいずれか１つに記載の組成物。
実施形態６３． 溶質を溶解するためのプロセスであって、当該溶質を、十分な量の実施形態１～６２のいずれか１つに記載の組成物と接触させ混合するステップを含む、プロセス。
実施形態６４． 表面を洗浄するプロセスであって、実施形態１～６２のいずれか１つに記載の組成物を当該表面と接触させるステップを含む、プロセス。
実施形態６５． 濡れた基材の表面から水の少なくとも一部分を除去するプロセスであって、基材を実施形態１～６２のいずれか１つに記載の組成物と接触させるステップと、次いで、組成物との接触から基材を除去するステップと、を含む、プロセス。
実施形態６６． 組成物は、基材を脱水又は乾燥するのに好適な少なくとも１つの界面活性剤を更に含む、実施形態６５に記載のプロセス。
実施形態６７． 表面上にフッ素系潤滑剤を堆積させるプロセスであって、
ａ）フッ素系潤滑剤と溶媒とを組み合わせて、潤滑剤／溶媒の組み合わせを形成するステップであって、溶媒は、実施形態１～６２のいずれか１つに記載の組成物を含む、ステップと、
ｂ）潤滑剤／溶媒の組み合わせを表面と接触させるステップと、
ｃ）表面から溶媒を蒸発させて、表面上にフッ素系潤滑剤コーティングを形成するステップと、を含む、プロセス。
本発明をその詳細な説明と併せて説明してきたが、前述の説明は、添付の特許請求の範囲により規定される本発明の範囲を例示することを意図し、かつ限定するものではないことを理解すべきである。他の態様、利点、及び変更は、以下の特許請求の範囲内である。本発明が、本発明の任意の特定の態様及び／又は実施形態に関して本明細書に記載される特徴のいずれも、本明細書に記載される本発明の任意の他の態様及び／又は実施形態の他の特徴のいずれかのうちの１つ以上と組み合わせることができ、組み合わせの適合性を確実にするために適宜変更することができることが、当業者により理解されるべきである。このような組み合わせは、本開示により企図される本発明の一部であるとみなされる。

Claims (47)

  1. ｉ）トランス－１，２－ジクロロエチレンと、
    ｉｉ）ヒドロフルオロオレフィン、ヒドロフルオロエーテル、ヒドロクロロフルオロオレフィン、及びアルキルペルフルオロアルケンエーテルから選択される第２の成分と、
    ｉｉｉ）ヒドロフルオロカーボンである第３の成分と、
    ｉｖ）Ｃ１～６アルコール、Ｃ３～６ケトン、Ｃ５～８アルカン、Ｃ３～６シクロアルカン、及びＣ１～６アルキルアセテートから選択される第４の成分と、
    を含む、共沸又は共沸様組成物。
  2. 前記第２の成分が、ヒドロフルオロオレフィンである、請求項１に記載の組成物。
  3. 前記ヒドロフルオロオレフィンが、（Ｚ）－１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンである、請求項２に記載の組成物。
  4. 前記第２の成分が、ヒドロフルオロエーテルである、請求項１に記載の組成物。
  5. 前記ヒドロフルオロエーテルが、ＨＦＥ－７０００、ＨＦＥ－７１００、ＨＦＥ－７２００、ＨＦＥ－７３００、ＨＦＥ－３４７ｐｃ－ｆ、及び１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンから選択される、請求項４に記載の組成物。
  6. 前記ヒドロフルオロエーテルが、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンである、請求項４に記載の組成物。
  7. 前記第２の成分が、ヒドロクロロフルオロオレフィンである、請求項１に記載の組成物。
  8. 前記ヒドロクロロフルオロオレフィンが、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｚｄ（Ｅ）、及びＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）から選択される、請求項７に記載の組成物。
  9. 前記第２の成分が、アルキルペルフルオロアルケンエーテルである、請求項１に記載の組成物。
  10. 前記アルキルペルフルオロアルケンエーテルが、メチルペルフルオロヘプテンエーテルである、請求項９に記載の組成物。
  11. メチルペルフルオロヘプテンエーテルが、約５０重量パーセントの５－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約２０重量パーセントの３－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテン、約２０重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－２－ヘプテン、及び約８重量パーセントの４－メトキシペルフルオロ－３－ヘプテンの混合物を含む、請求項１０に記載の組成物。
  12. 前記組成物が、約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルを含む、請求項１１に記載の組成物。
  13. 前記組成物が、約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルを含む、請求項１１に記載の組成物。
  14. 前記第３の成分が、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、及び１，１，１，３，３－ペンタフルオロプロパンから選択される、請求項１に記載の組成物。
  15. 前記第３の成分が１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンである、請求項１に記載の組成物。
  16. 前記組成物が、約１０～１５重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む、請求項１５に記載の組成物。
  17. 前記組成物が、約１１～約１３重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンを含む、請求項１５に記載の組成物。
  18. 前記第４の成分が、Ｃ１～６アルコールである、請求項１に記載の組成物。
  19. 前記Ｃ１～６アルコールが、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールから選択される、請求項１８に記載の組成物。
  20. 前記Ｃ１～６アルコールがエタノールである、請求項１８に記載の組成物。
  21. 前記組成物が、約１～約５重量パーセントのエタノールを含む、請求項２０に記載の組成物。
  22. 前記組成物が、約２～約４重量パーセントのエタノールを含む、請求項２０に記載の組成物。
  23. 前記第４の成分が、Ｃ３～６ケトンである、請求項１に記載の組成物。
  24. 前記Ｃ３～６ケトンがアセトンである、請求項２３に記載の組成物。
  25. 前記第４の成分が、Ｃ５～８アルカンである、請求項１に記載の組成物。
  26. 前記Ｃ５～８アルカンがｎ－ヘキサンである、請求項２５に記載の組成物。
  27. 前記第４の成分が、Ｃ３～６シクロアルカンである、請求項１に記載の組成物。
  28. 前記Ｃ３～６シクロアルカンがシクロペンタンである、請求項２７に記載の組成物。
  29. 前記第４の成分が、Ｃ１～６アルキルアセテートである、請求項１に記載の組成物。
  30. 前記Ｃ１～６アルキルアセテートがエチルアセテートである、請求項２９に記載の組成物。
  31. 前記組成物が、約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む、請求項１に記載の組成物。
  32. 前記組成物が、約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンを含む、請求項１に記載の組成物。
  33. 前記組成物が、
    ｉ）約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
    ｉｉ）約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
    ｉｉｉ）約１０～約１５重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
    ｉｖ）約１～約５重量パーセントのエタノールと、
    を含む、請求項１に記載の組成物。
  34. 前記組成物が、
    ｉ）約７９～約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
    ｉｉ）約３～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
    ｉｉｉ）約１１～約１３重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
    ｉｖ）約２～約４重量パーセントのエタノールと、
    を含む、請求項１に記載の組成物。
  35. 前記組成物が、
    ｉ）約８１重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
    ｉｉ）約４重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
    ｉｉｉ）約１２重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
    ｉｖ）約３重量パーセントのエタノールと、
    を含む、請求項１に記載の組成物。
  36. 前記組成物が、約１０１ｋＰａの圧力で約４４℃～約４６℃の沸点を有する、請求項３５に記載の組成物。
  37. 前記組成物が、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールから本質的になる、請求項１に記載の組成物。
  38. 前記組成物が、トランス－１，２－ジクロロエチレン、メチルペルフルオロヘプテンエーテル、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、及びエタノールからなる、請求項１に記載の組成物。
  39. 前記組成物が共沸組成物である、請求項１に記載の組成物。
  40. 前記組成物が共沸様組成物である、請求項１に記載の組成物。
  41. 前記組成物が、
    ｉ）約７５～約８５重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
    ｉｉ）約１～約５重量パーセントのメチルペルフルオロヘプテンエーテルと、
    ｉｉｉ）約１０～約１５重量％の１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
    ｉｖ）約１～約５重量パーセントのイソプロパノールと、
    を含む、請求項１に記載の組成物。
  42. 前記組成物が、
    ｉ）約７０～約８０重量パーセントのトランス－１，２－ジクロロエチレンと、
    ｉｉ）約５～約１５重量パーセントの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロ－３－メトキシ－４－（トリフルオロメチル）ペンタンと、
    ｉｉｉ）約５～約１０重量パーセントの１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタンと、
    ｉｖ）約１～約５重量パーセントのｎ－ヘキサンと、
    を含む、請求項１に記載の組成物。
  43. 溶質を溶解するためのプロセスであって、前記溶質を、十分な量の請求項１に記載の組成物と接触させ混合するステップを含む、プロセス。
  44. 表面を洗浄するプロセスであって、請求項１に記載の組成物を前記表面と接触させるステップを含む、プロセス。
  45. 濡れている基材の前記表面から水の少なくとも一部を除去するためのプロセスであって、前記基材を請求項１に記載の組成物と接触させるステップと、次いで、前記基材を前記組成物との接触から除去するステップと、を含む、プロセス。
  46. 組成物が、前記基材を脱水又は乾燥するのに好適な少なくとも１つの界面活性剤を更に含む、請求項４５に記載のプロセス。
  47. 表面上にフッ素系潤滑剤を堆積させるプロセスであって、
    ａ）フッ素系潤滑剤と溶媒とを合わせて、潤滑剤／溶媒の組み合わせを形成するステップであって、前記溶媒が、請求項１に記載の組成物を含む、ステップと、
    ｂ）前記潤滑剤／溶媒の組み合わせを前記表面と接触させるステップと、
    ｃ）前記表面から前記溶媒を蒸発させて、前記表面上にフッ素系潤滑剤コーティングを形成するステップと、を含む、プロセス。
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