JP2022513892A - セラミック表面改質材料およびその使用方法 - Google Patents
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1225—Deposition of multilayers of inorganic material
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Abstract
Description
本出願は、全体として参照により本明細書に組み入れられる、2018年12月12日出願の米国特許仮出願第62/778,888号の利益を主張するものである。
本出願は、セラミック表面改質材料、詳細には基板表面上の金属酸化物および/または金属水酸化物セラミックなどのバインダレス多孔性セラミックに関する。
コーティングおよび表面改質は、商品を改善するために、そして追加的利益を提供するために用いられる。1つのそのような適用分野は、商品の追加的な電気化学的保護または防食を提供することである。他の所望の特性としては、視覚的外観、または湿潤性、または電気的特性が挙げられる。有用な利益を提供するために、これらのコーティングおよび表面改質は、環境の供用条件に対して耐久性がなければならない。表面改質およびコーティングの他の所望の属性としては、薄く、コンフォーマルであり、広範囲の動作条件を有し、かつ商品に対し突出していない表面が挙げられる。多機能性である表面改質およびコーティングが、さらに所望される。
金属酸化物、金属水酸化物、金属酸化物の水和物、および/もしくは金属水酸化物の水酸化物、またはそれらの組み合わせを含むバインダレス多孔性セラミック組成物、ならびにそのような組成物を作製する方法、および用途が、提供される。
多孔性金属酸化物(例えば、金属酸化物セラミック)組成物が、本明細書で提供される。本明細書に記載される表面改質材料は、持続性、薄さ、コンフォーマリティ、および/または種々の方法で機能化される能力などの所望の特性を付与し、それは広範囲の適用に多機能の利益を提供する。
本明細書で提供される数値範囲は、その範囲を定義する数の全てを含む。
多孔性セラミック(例えば、金属酸化物および/または金属水酸化物)表面改質組成物が、本明細書で提供される。組成物は、基板の表面上の表面改質材料、例えば表面に固定された材料として提供される。幾つかの実施形態において、多孔性セラミック材料は、金属酸化物および/または水酸化物セラミック、例えば単一金属または混合金属酸化物および/または水酸化物セラミックを包含する。幾つかの実施形態において、多孔性セラミック材料は、金属水酸化物および/または水酸化物セラミック、例えば単一金属または混合金属酸化物および/または水酸化物セラミックを包含する。幾つかの実施形態において、多孔性セラミック材料は、金属酸化物および金属水酸化物セラミックを含み、金属酸化物および金属水酸化物は、同じまたは異なる単一金属または混合金属を含む。幾つかの実施形態において、多孔性セラミック材料は、金属酸化物および/または金属水酸化物セラミックを含み、基板は、水または他の化合物により水和され、表面エネルギーの変化、かつ潜在的にセラミックの金属水酸化物組成物対金属酸化物の比率の変化をもたらす。幾つかの実施形態において、多孔性セラミック材料は、金属水酸化物を含み、金属水酸化物の少なくとも一部は、層状複水酸化物の形態であり、例えば金属水酸化物の少なくとも約5%、約10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、または95%は、層状複水酸化物である。
本明細書に記載されるバインダレスセラミック多孔性表面改質材料は、1種または複数の金属塩(複数可)を含む水溶液に清浄な基板を一定時間浸漬して基板上に所望の厚さの多孔性コーティング組成物を実現することを含む方法により生成されてよい。溶液はまた、キレート化または錯形成剤を含有してよい。pH、温度、および堆積時間(例えば、約5分~約300分)は、生成される表面改質材料の所望の厚さ、形態、および表面多孔性に適する。溶液のpHは、酸性または塩基性材料の添加により表面改質の特徴(例えば、所望の結晶構造および/または表面多孔性)を調整するために1~12の範囲で調整されてよい。金属塩(複数可)は、例えば、マグネシウム、アルミニウム、セリウム、鉄、コバルト、ガドリニウム、マンガン、タングステン、亜鉛、および/またはスズの塩を含んでよい。塩は、例えば、硫酸、硝酸、塩化物、または酢酸のアニオンとの金属カチオン塩であってよい。金属カチオン塩中のアニオンは、例えば、硝酸、過塩素酸、テトラフルオロホウ酸、またはヘキサフルオロリン酸であってよい。金属カチオン塩中のアニオンは、ハロゲン化物であってよい。金属カチオン塩中のアニオンは、例えば塩化物、臭化物またはヨウ化物であってよい。金属カチオン塩中のアニオンは、カルボン酸であってよい。金属カチオン塩中のアニオンは、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、またはイソ酪酸であってよい。金属カチオン塩中のアニオンは、ハロゲン化カルボン酸であってよい。金属カチオン塩中のアニオンは、例えば、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ酢酸であってよい。他の実施形態において、ナトリウムカチオン塩が、例えばスズ酸ナトリウムなどの金属アニオンと共に用いられる。幾つかの実施形態において、金属塩の濃度は、水性溶液中で約1mM~約5Mである。幾つかの実施形態において、例えば、クエン酸、尿素、高級アミン、ジアミン、トリアミンもしくはテトラアミン、チオグリセロール、オレイン酸、他の脂肪酸、ポリオール、Tween80、他の界面活性剤、またはそれらの組み合わせなどのキレート化または錯形成剤が、約1mM~約5Mの濃度で含まれる。幾つかの実施形態において、例えば、アミン(例えば、ジアミン(尿素またはエチレンジアミンなど)、トリアミン、テトラアミン(ヘキサメチレンテトラアミンなど))もしくはアルカリ金属塩などの還元剤(例えば、塩基)、または例えば水酸化カルシウムなどの、金属水酸化物が、含まれる。例えば、還元剤は、より高い酸化状態からより低い酸化状態へと(例えば、Fe3+からFe2+に)金属の酸化状態を変化させてよい。幾つかの実施形態において、還元剤に対する金属塩の比は、約2:1~約0.5:1である。
様々な実施形態において、本明細書に記載されるバインダレス多孔性セラミック表面改質材料は、非限定的に伝熱表面、流体バリア、フィルター、布地または織物、および分離媒体としての使用などの、種々の適用において用いられてよい。
実施例1
基板上のバインダレス多孔性セラミック材料を含む組成物を、以下の一般的手順に従って調製した。基板アッセンブリをイソプロパノールでスポットクリーニングして、任意の残留する油を除去した。次に、部品を、約20℃~約60℃の温度にてpH11を超える苛性アルカリのエッチング浴に、約5分~約20分間沈積した。アッセンブリをその後、蒸留水または脱イオン水ですすいで、任意の残留する苛性材料またはゆるく接着された材料を除去した。次に、部品を、pH2未満および約20℃~約60℃の温度の非配位性酸化性酸(硝酸など)溶液の中に沈積して、スマットを除去し、かつ/または基板を脱酸素した。その後、アッセンブリを、約50℃~85℃の反応温度に加熱された、20~250mMの金属硝酸塩(硝酸マンガン(II)など)もしくは硫酸塩(硫酸マンガン(II)など)または混合金属硝酸塩(硝酸マンガン(II)および硝酸亜鉛など、典型的には約50:1~約1:50の比で)もしくは硫酸塩と、同様のモル量のジアミン(尿素またはエチレンジアミンなど)、トリアミン、またはテトラアミン(ヘキサメチレンテトラアミンなど)を、典型的には約2:1~約0.5:1の比で含有する製造浴の中に配置した。アッセンブリを、約5分~約3時間の範囲の時間、浴中で保持した。アッセンブリを、取り出し、蒸留水または脱イオン水ですすぎ、オーブン内に配置して、50~600℃で数分~数時間乾燥および/またはか焼した。この堆積ステップを場合により、所望ならば、乾燥ステップに続く別の任意選択による乾燥ステップの前または後に、繰り返すことができる(同じまたは異なる金属塩で)。幾つかの実施形態において、堆積されるコーティング中の金属は、基板から得ることができる(亜鉛およびアルミニウムの水酸化物/酸化物を含む堆積物中のアルミニウムなど)。冷却後に、部品を、以下の実施例に記載される通りさらに処理および/またはテストした。
清浄な316ステンレススチール管を、酸化亜鉛を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、液滴法により5°未満であると測定された。管をその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、毛管上昇は、液面の上1センチメートルより高いと測定された。この方法を表す略図を、図1A~1Cに示す。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化亜鉛および酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、液滴法により5°未満であると測定された。プレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、毛管上昇は、液面の上約0.5センチメートルであると決定され、3分後にそれは1cmより高く上昇した。基板をその後、乾燥させ、ヒドロフルオロカーボンおよび1,2-ジクロロエチレンの混合物を含有する低表面張力クリーナーのVertrel SDGを含有するバイアルの中に配置した。300秒後に、Vertrel SDG液の毛管上昇は、約1センチメートルであると決定された。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化亜鉛および酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、毛管上昇は、液面の上約2.5センチメートルより高く、3分後に5cmより高く、10分後に8cmより高いと決定された。基板をその後、乾燥させ、ヒドロフルオロカーボンおよび1,2-ジクロロエチレンの混合物を含有する低表面張力クリーナーのVertrel SDGを約1cm含有するバイアルの中に配置した。600秒後に、Vertrel SDG液は、液高から1.4センチメートルより高く上昇した。
清浄なアルミニウム基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。基板の重量を、コーティング塗布の前および後に測定した。コーティングの比質量(specific mass)は、約3g/m2基板面積であると決定された。コーティングの断面走査電子顕微鏡像は、膜厚が約2.5ミクロンであることを示した。固体材料の既知の理論密度に基づき、表面は固体材料の約40%密度(60%多孔率)に過ぎない。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が1000m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が、約250m2/gであることを示した。BJH測定は、最小細孔が約0.6nm径であることを示す。最少細孔径を図5に示す。水銀ポロシメトリーは、約33nmおよび約4.6nmの細孔径に集中したバイモーダルな細孔径分布があることを示した。水銀ポロシメトリーは、この材料がバルク酸化物材料に比べ75%多孔性であることを示す。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウム、酸化セリウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、毛管上昇は、液面の上1センチメートルであると決定され、2分後に、水は液面から2cmより高く上昇した。
清浄なアルミニウム基板を、酸化亜鉛、酸化ガドリニウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。120秒後に、水は液面から約1センチメートル上昇し、10分後に、水は液面から約1.3センチメートル上昇した。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1センチメートルの、脱イオン水中の0.2容量%Water-Glo(登録商標)802-p蛍光色素を含むカップの中に配置した。約15分後に、水は液面から約6センチメートル上昇したが、色素は、液面から約1cmしか上昇しなかった。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、脱イオン水100ml中の緑色ゲル食用色素1滴を含むカップの中に配置した。30分後に、水は液面から約8センチメートル上昇したが、緑色食用色素は、液面から0.5cm未満しか上昇しなかった。非多孔性アルミナプレートを、対照として購入した。それを、500℃に1時間加熱して任意の有機混入物を除去することにより、浄化した。それが5°未満の水接触角を有するにもかかわらず、水および食用色素はどちらも、プレート上の液体メニスカス(液面の約2mm上)より高く上昇しなかった。
蒸気脱脂5000シリーズ合金アルミニウムメッシュを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。水接触角は、5°未満であると測定された。メッシュをその後、液高約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。約30秒後に、水の毛管上昇は、液面の上6センチメートルであると測定された。90秒後に、水は液面から9センチメートル上昇した。コーティングされなかった蒸気脱脂5000シリーズ合金アルミニウムメッシュもまた、対照として同じ脱イオン水浴に浸漬した。液面からの測定可能な液体上昇は、30秒後、2分後、および80分後になかった。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化コバルトおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。15秒後に、毛管上昇は液面の上約0.6センチメートルであると測定された。300秒後に、毛管上昇は1.5cmより高いと測定された。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マンガンおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30分後に、水の毛管上昇は液面の上3センチメートルであると測定された。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化セリウムを基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は、5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1.5センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、水は液面から3センチメートル上昇した。対照として、セリウムに基づく化成被覆を、プレートを約1%の硝酸セリウム希釈溶液に約55℃で1時間浸漬することにより3003アルミニウムプレートに塗布した。このプレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。2分後に、液面からの測定可能な毛管上昇はなかった。
99%+理論密度のアルミナプレート(多孔率1%未満)を400℃に1時間加熱して、任意の表面有機混入物を除去した。液滴法での水接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1センチメートルの脱イオン水を含むカップに配置した。20分後、水は液面の上のメニスカス(3mm未満)から上昇しなかった。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムを基にした多孔性セラミック表面でコートした。表面をその後、室温で2~5時間イソプロパノール中のヘキサデシルホスホン酸の希釈溶液(0.5%未満)を用いて機能化した。基板をその後、取り出し、105℃で約1時間乾燥させた。液滴法による水接触角は、165°を超えると測定された。プレートをその後、約5センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、基板は気泡中に完全にカプセル化され、水に全く接触していなかった。基板を、取り出して完全に乾燥させ、ヒドロフルオロカーボンおよび1,2-ジクロロエチレンの混合物を含有する低表面張力クリーナーのVertrel SDGを約1cm含有するバイアルの中に配置した。30秒後に、Vertrel SDG液の毛管上昇は、液高の上1センチメートルであり、15分後に、液高の上約1.5cmであると測定された。基板をその後、乾燥させ、その後、液高約1cmのイソプロパノールを含有するバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液高から約0.8センチメートル上昇し、20分後に約2cm上昇した。基板をその後、乾燥させ、約1cmのミネラルスピリットを含有するバイアルの中に配置した。30秒後に、ミネラルスピリットは、液面から1センチメートル上昇し、10分後に3cm、および90分後に7cm上昇した。液滴法による水接触角を、溶媒への沈積後に測定したが、それは依然として165°を超えていた。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。表面をその後、実施例16の手順と同様に、イソプロパノール中のヘキサデシルホスホン酸の希釈溶液を用いて機能化した。窒素BET表面積測定は、表面積が300~500m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が、150~200m2/gであることを示した。水銀ポロシメトリーは、約5nmおよび約30nmの細孔径に集中したバイモーダルな細孔径分布があることを示した。BJH測定は、2.7nm径より小さな細孔の容積が事実上ゼロであることを示す。これは、最少細孔径が2.7nm径であることを示す。部分的充填表面機能化の前および後にBJH吸着測定により決定された細孔径分布を、図5A~5Bに示す。追加的に、水銀ポロシメトリーは、この材料がバルク酸化物材料に比べ52%~69%多孔性であることを示す。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウム、酸化セリウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。クリプトンBET表面積測定は、表面積が約200m2/m2基板投影表面積であることを示す。
蒸気脱脂5000シリーズ合金アルミニウムメッシュを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。表面をその後、実施例16の手順と同様に、イソプロパノール中のヘキサデシルホスホン酸の希釈溶液を用いて機能化した。プレートをその後、約5センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、基板は気泡中に完全にカプセル化され、水に全く接触していなかった。基板を、取り出して完全に乾燥させ、ヒドロフルオロカーボンおよび1,2-ジクロロエチレンの混合物を含有する低表面張力クリーナーのVertrel SDGを約1cm含有するバイアルの中に配置した。30秒後に、Vertrel SDG液の毛管上昇は、液高の上約2.5センチメートルであり、15分後に、液高の上8cmであると測定された。基板をその後、乾燥させ、その後、約1cmのイソプロパノールを含有するバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液高から2センチメートル上昇し、15分後に6.5cm上昇した。基板をその後、乾燥させ、約1cmのミネラルスピリットを含有するバイアルの中に配置した。30秒後に、ミネラルスピリットは、液面から2.5センチメートル上昇し、15分後に7cm上昇した。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。表面をその後、エタノールでバランスをとった1~5%ペルフルオロデシルトリエトキシシラン、1~3%酢酸および2~5%水の溶液を用いて機能化した。表面をその後、機能化溶液から取り出し、エタノールですすぎ、105℃で1時間乾燥させた。液滴法による水接触角は、160°を超えると測定された。プレートをその後、約5センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、基板は気泡中に完全にカプセル化された。基板をその後、約1cmのイソプロパノールを含有するバイアルの中に配置した。300秒後に、イソプロパノールは、液高から約1センチメートル上昇した。
清浄な304ステンレススチールプレートを、酸化亜鉛多孔性セラミック表面でコートした。表面をその後、ミネラルスピリット中のステアリン酸の希釈溶液(約0.1%~約1%)を用い、室温で約15分~約2時間その溶液に表面を浸漬することにより機能化した。表面をその後、取り出し、室温で乾燥させた。接触角は、150°を超えると測定された。プレートをその後、約5センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。15秒後に、基板は気泡中に完全にカプセル化された。基板を、取り出し、その後、液高約1cmのイソプロパノールを含有するバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液高から1センチメートルより高く上昇した。
清浄なスライドガラスを、多孔性酸化亜鉛セラミック表面でコートした。この特有の例では、苛性アルカリのエッチング浴および硝酸浴を伴うステップはいずれも省いた。表面をその後、実施例16の手順と同様に、ヘキサデシルホスホン酸の希釈溶液を用いて機能化した。液滴法による水接触角は160°を超えると測定された。スライドをその後、液高約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、基板は気泡中に完全にカプセル化された。基板を、取り出し、イソプロパノールを約1cm含有するバイアルに配置した。30秒後に、イソプロパノール液は、液高から1センチメートル上昇した。
清浄なスライドガラスを、多孔性酸化亜鉛セラミック表面でコートした。この特有の例では、苛性物質のエッチング浴および硝酸浴を伴うステップはいずれも省いた。液滴法による水接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、約0.5センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。約10秒後に、水の毛管上昇は、基板の全長である液高の上2センチメートルであると測定された。
ポリプロピレン片を、多孔性水酸化マグネシウムセラミック表面でコートした。この特有の例では、苛性物質のエッチング浴および硝酸浴を伴うステップはいずれも省いた。液滴法による水接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。約30秒後に、水は、液高から1センチメートルより高く上昇した。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、酢酸t-ブチル中のポリクロロプレンの希釈溶液(約0.1%)の中に室温で約1~2時間沈積し、取り出し、室温で一晩乾燥させた。液滴法による水接触角はその後、150°を超えると測定された。プレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、基板は気泡中に完全にカプセル化された。基板をその後、約1cmのイソプロパノールを含むバイアルの中に配置した。約300秒後に、イソプロパノールは、液高から1.2センチメートルより高く上昇した。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、酢酸t-ブチル中のポリクロロプレンの濃縮溶液(約2%)の中に室温で約1~2時間沈積し、取り出し、室温で一晩乾燥させた。液滴法による水接触角はその後、約85°であると測定された。プレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、毛管上昇はなかった。基板をその後、約1cmのイソプロパノールを含むバイアルの中に配置した。約300秒後に、毛管上昇はなかった。
実施例20の手順と同様に、3003アルミニウム基板上に酸化亜鉛で作製され、かつペルフルオロデシルトリエトキシシランの単層で機能化された粗面の超疎水性表面は、168°を超える接触角を有すると測定された。この基板は、水に浸漬すると、気泡中にカプセル化された。基板をその後、液高約1cmの、Vertrel SDG、イソプロパノールおよびミネラルスピリッツを有する溶液に浸漬した。これらの溶液はいずれも、10分後にこの基板の上の液高からの測定可能な毛管上昇を有しなかった。これは、粗面または接触角のみでは、毛管上昇を可能にするのに充分でないことを示す。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は5°未満であると測定された。プレートの下から4分の1をその後、酢酸t-ブチル中のポリクロロプレンの希釈溶液(約0.1%)の中に沈積し、バイアル内に密封した。1分後に、液体は表面の長さ全体(約3cm)に吸い上げられた。基板を溶液中に約30分間放置し、バイアルから取り出し、その後、風乾させた。液滴法による水接触角はその後、液中に沈積された部分では150°を超え、溶液が吸い上げられた部分では5°未満であると測定された。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化セリウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1.5センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、水は液面から3センチメートル上昇した。清浄な3003アルミニウムプレート、ならびに酸化セリウムおよび酸化アルミニウムの混合物でコーティングされたこの試料を、電気化学インピーダンス分光法を利用して耐食性について特徴づけた。セラミック改質試料は、露出した3003アルミニウムプレートよりも500倍高い耐食性を有することが示された。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化タングステンおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、液高約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、水の毛管上昇は、液面の上3センチメートルであると測定された。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化スズおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。液滴法による水接触角は5°未満であると測定された。プレートをその後、約1センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30分後に、水は、液面から3センチメートル上昇した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、水酸化マグネシウムおよび水酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。クリプトンBET表面積測定は、表面積が約180m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が67m2/gであることを示す。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が293mm3/gの空隙容積を含むことを示す。水銀ポロシメトリーは、この材料がバルク酸化物材料に比べ51%多孔性であることを示す。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マンガンおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が約180m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が110m2/gであることを示した。水銀ポロシメトリーは、5.3nmおよび28nmの細孔径に集中したバイモーダルな細孔径分布があることを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が670mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、この材料がバルク酸化物材料に比べ77%多孔性であることを示した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化亜鉛および酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が約160m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が95m2/gであることを示した。水銀ポロシメトリーは、約29nmおよび4.8nmの細孔径に集中したバイモーダルな細孔径分布があることを示した。水銀ポロシメトリーは、この材料がバルク酸化物材料に比べ86%多孔性であることを示した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、熱処理ステップを行わずに、水酸化マンガンおよび水酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が約110m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が53m2/gであることを示した。水銀ポロシメトリーは、27nm、9.4nmおよび5.3nmの細孔に集中したマルチモーダルな細孔径分布があることを示す。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が540mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ72%多孔性であることを示した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が250~350m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が183m2/gであることを示す。水銀ポロシメトリーは、約28nmおよび約5nmの細孔径に集中したバイモーダルな細孔径分布があることを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が951mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ77%多孔性であることを示した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が約1000m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が約240m2/gであることを示す。水銀ポロシメトリーは、0.1ミクロン~10ミクロン径の間の細孔の圧入容積が2.35mL/m2基板であることを示す。別個に、第二の清浄な4006アルミニウム箔基板を、第一の試料と同じ処理条件を利用して、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。第二の試料の表面細孔構造をその後、製造業者の使用説明に従い塗布される、ラテックス噴霧塗料を用いて実質的に充填した。窒素BET表面積測定は、第二の試料の表面積が約3m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が0.1m2/g未満であることを示した。第二の試料の水銀ポロシメトリーは、0.1ミクロン~10ミクロン径の間の細孔の圧入容積が、0.29mL/m2基板であることを示した。これは、0.1ミクロン~10ミクロンの範囲の細孔容積の87%が、噴霧塗料を利用して充填されることを実証した。
コーティング材料を有しない清浄な4006アルミニウム箔基板を、分析した。クリプトンBET表面積測定は、表面積が約0.036m2/gであることを示した。水銀ポロシメトリーは、この材料が1%未満の多孔性であることを示した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。BJH気体吸着により決定される第三四分位細孔径に対する第一四分位細孔径の比は、0.63であると見出された。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が3091mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ92%多孔性であることを示した。測定された空隙容積および多孔率に基づいて、セラミック材料の厚さは、0.68ミクロン厚であると計算された。別個に、異なる清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。BJH気体吸着により決定される第三四分位細孔径に対する第一四分位細孔径の比は、0.45であると見出された。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が2264mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ89%多孔性であることを示した。測定された空隙容積および多孔率に基づいて、セラミック材料の厚さは、0.94ミクロン厚であると計算された。別個に、異なる清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。BJH気体吸着により決定される第三四分位細孔径に対する第一四分位細孔径の比は、0.41であると見出された。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が1660mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ86%多孔性であることを示した。測定された空隙容積および多孔率に基づいて、セラミック材料の厚さは、1.15ミクロン厚であると計算された。別個に、異なる清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。BJH気体吸着により決定される第三四分位細孔径に対する第一四分位細孔径の比は、0.32であると見出された。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が1455mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ84%多孔性であることを示した。測定された空隙容積および多孔率に基づいて、セラミック材料の厚さは、2.05ミクロン厚であると計算された。これらの基板は、同じセラミック表面で改質され、唯一の差異は厚さであった。これらの傾向を、図4A~4Bに表す。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が約70m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が350m2/gであることを示す。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が3091mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ92%多孔性であることを示した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が約170m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が約700m2/gであることを示す。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が3067mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ92%多孔性であることを示した。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が約85m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が約370m2/gであることを示す。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が約4900mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ95%多孔性であることを示した。
清浄な3003アルミニウムプレートを、水酸化亜鉛および水酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。プレートをその後、1cmのイソプロパノールを含む密封されたバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液相線から約0.5cm上昇した。5分後に、イソプロパノールは、液相線から1cm上昇した。プレートをその後、取り出し、乾燥させた。表面をその後、実施例16と同様の手順を利用して、イソプロパノール中のヘキサデシルホスホン酸の希釈溶液を用いて機能化した。プレートをその後、1cmのイソプロパノールを含む密封されたバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液相線から約0.6cm上昇した。5分後に、イソプロパノールは、液相線から1.4cm上昇した。この方法を表す略図を、図1A~1Cに示す。
清浄な3003アルミニウムプレートを、水酸化マグネシウムおよび水酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。プレートをその後、1cmのイソプロパノールを含む密封されたバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液相線から約1.4cm上昇した。5分後に、イソプロパノールは、液相線から3.5cm上昇した。プレートをその後、取り出し、乾燥させた。表面をその後、実施例16と同様の手順を利用して、イソプロパノール中のヘキサデシルホスホン酸の希釈溶液を用いて機能化した。プレートをその後、1cmのイソプロパノールを含む密封されたバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液相線から約1.5cm上昇した。5分後に、イソプロパノールは、液相線から3.6cm上昇した。この方法を表す略図を、図1A~1Cに示す。
清浄な3003アルミニウムプレートを、水酸化マンガンおよび水酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。表面をその後、実施例16と同様の手順を利用して、イソプロパノール中のヘキサデシルホスホン酸の希釈溶液を用いて機能化した。プレートをその後、1cmのイソプロパノールを含む密封されたバイアルの中に配置した。30秒後に、イソプロパノールは、液相線から約0.6cm上昇した。5分後に、イソプロパノールは、液相線から1.7cm上昇した。この方法を表す略図を、図1A~1Cに示す。
清浄な3003アルミニウムプレートを、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。コーティング工程は、実施例36で用いられた工程と同様であり、唯一の差異はアルミニウム合金であった。水接触角は、液滴法を介して5°未満であると測定された。プレートをその後、約4センチメートルの脱イオン水を含むカップの中に配置した。30秒後に、毛管上昇は液面の上約0.8cmであると決定され、5分後に2cm上昇した。この方法を表す略図を、図1A~1Cに示す。
99.999%アルミニウムを含む清浄な基板を、酸化亜鉛および酸化アルミニウムを基にした多孔性セラミック表面でコートした。試料を、CuK-アルファ線による微小角入射X線を用いて分析した。測定は、15~90°のスキャン範囲および1°の入射角での2シータスキャンであった。得られたX線回折ピークは、表面材料が結晶性であり主として酸化亜鉛を含むことを検証した。得られたスペクトルを、図3Aに示す。
99.999%アルミニウムを含む清浄な基板を、水酸化亜鉛および水酸化アルミニウムを基にした多孔性セラミック表面でコートした。試料を、CuK-アルファ線による微小角入射X線を用いて分析した。測定は、15~90°のスキャン範囲および1°の入射角での2シータスキャンであった。得られたX線回折ピークは、表面材料が結晶性であり主として亜鉛-アルミニウム層状複水酸化物を含むことを検証した。得られたスペクトルを、図3Bに示す。
99.999%アルミニウムを含む清浄な基板を、酸化マンガンを基にした多孔性セラミック表面でコートした。試料を、CuK-アルファ線による微小角入射X線を用いて分析した。測定は、15~90°のスキャン範囲および1°の入射角での2シータスキャンであった。得られたX線回折ピークは、表面材料が結晶性であり主として酸化マンガンを含むことを検証した。得られたスペクトルを、図3Cに示す。
99.999%アルミニウムを含む清浄な基板を、水酸化マンガンおよび水酸化アルミニウムを基にした多孔性セラミック表面でコートした。試料を、CuK-アルファ線による微小角入射X線を用いて分析した。測定は、15~90°のスキャン範囲および1°の入射角での2シータスキャンであった。得られたX線回折ピークは、表面材料が結晶性であり主として混合マンガン-アルミニウ水酸化物を含むことを検証した。得られたスペクトルを、図3Dに示す。
99.999%アルミニウムを含む清浄な基板を、酸化マグネシウムを基にした多孔性セラミック表面でコートした。試料を、CuK-アルファ線による微小角入射X線を用いて分析した。測定は、15~90°のスキャン範囲および1°の入射角での2シータスキャンであった。得られたX線回折ピークは、表面材料が結晶性であり主として酸化マグネシウムを含むことを検証した。得られたスペクトルを、図3Eに示す。
99.999%アルミニウムを含む清浄な基板を、水酸化マグネシウムおよび水酸化アルミニウムを基にした多孔性セラミック表面でコートした。試料を、CuK-アルファ線による微小角入射X線を用いて分析した。測定は、15~90°のスキャン範囲および1°の入射角での2シータスキャンであった。得られたX線回折ピークは、表面材料がマグネシウム-アルミニウム層状複水酸化物で構成されることを検証した。得られたスペクトルを、図3Fに示す。
いずれかの追加的材料でコーティングされていない99.999%アルミニウムを含む清浄な基板。試料を、CuK-アルファ線による微小角入射X線を用いて分析した。測定は、15~90°のスキャン範囲および1°の入射角での2シータスキャンであった。得られたX線回折ピークは、表面が純粋なアルミニウムで構成されることを検証した。得られたスペクトルを、図3Gに示す。
清浄な4006アルミニウム箔基板を、酸化マグネシウムおよび酸化アルミニウムの混合物を基にした多孔性セラミック表面でコートした。窒素BET表面積測定は、表面積が180m2/m2基板投影表面積であること、およびセラミック材料の質量比表面積が300m2/gであったことを示す。水銀ポロシメトリーは、約12.7および約5nmの細孔径に集中したバイモーダルな細孔径分布があることを示す。細孔径分布を、図2に示す。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料が1450mm3/gの空隙容積を含むことを示した。水銀ポロシメトリーは、セラミック材料がバルク酸化物材料に比べ84%多孔性であることを示した。
Claims (50)
- 基板上にバインダレス多孔性セラミック材料を含む組成物。
- 前記多孔性セラミック材料が、主として結晶である、請求項1に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、金属酸化物、金属酸化物の水和物、金属水酸化物、および/または金属水酸化物の水和物を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、金属水酸化物を含み、かつ前記金属水酸化物の少なくとも一部が、層状複水酸化物を含む、請求項3に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、基板の投影面積m2あたり約10m2~1500m2の表面積を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、セラミック材料のgあたり約15m2~1500m2の表面積を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、約2nm~約20nmの平均細孔径を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記細孔径分布が、マルチモーダルである、請求項1~4に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、最大で約50マイクロメートルの厚さを含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、最大で約25マイクロメートルの厚さを含む、請求項9に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、約0.2マイクロメートル~約25マイクロメートルの厚さを含む、請求項1~4または9~10のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、約10%より大きい多孔率を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、約30%~約95%の多孔性を含む、請求項12に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、水銀圧入ポロシメトリーにより決定される約100mm3/g~約7500mm3/gの空隙容積を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記基板が、アルミニウム、アルミニウム合金、スチール合金、鉄合金、亜鉛、亜鉛合金、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、チタン、チタン合金、ガラス、ポリマー、コポリマー、またはプラスチックを含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、遷移金属、第二族元素、希土類元素、アルミニウム、スズ、または鉛を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、亜鉛、アルミニウム、マンガン、マグネシウム、セリウム、銅、ガドリニウム、タングステン、スズ、亜鉛、鉛、およびコバルトの1種または複数を含む、請求項16に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、亜鉛およびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;マンガンおよびマグネシウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;酸化および/もしくは水酸化マンガン;酸化および/もしくは水酸化アルミニウム;混合金属の酸化および/もしくは水酸化マンガン;マグネシウムおよびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;酸化および/もしくは水酸化マグネシウム;マグネシウム、セリウム、およびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;亜鉛、プラセオジミウム、およびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;コバルトおよびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;マンガンおよびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;セリウムおよびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;銅およびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;亜鉛およびアルミニウムの酸化物および/もしくは水酸化物の混合物;アルミン酸亜鉛の混合物;Zn、Alおよび酸素を含む1相もしくは複数の相を含む混合物;酸化および/もしくは水酸化亜鉛;または上の化合物または混合物のいずれかの水和物を含む、請求項1~3のいずれかに記載の組成物。
- 前記基板が、アルミニウム、鉄、ニッケル、チタン、または銅を含む、請求項18に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、前記セラミック材料を含まない基板に比較して、増強された湿潤性、硬度、弾性、機械的、電気的、圧電的、光学的、接着性、または熱的な特性、微生物親和性または抵抗性、バイオフィルム成長の改変、触媒活性、浸透性、美容的外観、撥液性、および耐食性から選択される1種または複数の機能的特徴を提供する、請求項1~19のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、湿潤性、耐食性、接着性、および/または光学特性を提供する、請求項20に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、オープンセル多孔性構造を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記オープンセル多孔性構造が、約25mN/m未満の表面張力を含む溶媒の約15℃~約25℃の温度で1時間に前記溶媒で飽和された大気中で約1Gの重力に対し垂直表面の上方約5mmより大きい毛管上昇により特徴づけられる、請求項22に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、気体、液体、もしくは固体物質、またはそれらの組み合わせで部分的に、実質的に、または完全に充填された細孔を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、前記液体で50%未満充填された細孔および/または細孔内に安定に含有されないもしくは保持されない液体を含有する細孔を含む、請求項24に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、第一の材料および第二の材料の混合物で充填された細孔を含み、前記細孔が、前記第一の材料で最初に部分的に充填されかつその後前記第二の材料で部分的にまたは完全に充填される、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記セラミック材料の1種または複数の機能的特徴が、前記第一および/または第二の材料の包含により改変される、請求項26に記載の組成物。
- 前記セラミック材料の1種または複数の機能的特徴が、前記第一および/または第二の材料の量または組成を変動させることにより整調可能である、請求項27に記載の組成物。
- 前記整調可能な特徴が、湿潤性、硬度、弾性、機械的、電気的、圧電的、光学的、接着性もしくは熱的な特性、微生物親和性もしくは抵抗性、バイオフィルム成長の改変、触媒活性、浸透性、美容的外観、撥液性、および/または耐食性を含む、請求項28に記載の組成物。
- 前記第一の材料が、相乗的様式で前記第二の材料と相互作用して前記セラミック材料の1種または複数の機能的特徴を改変する、請求項26に記載の組成物。
- 前記1種または複数の機能的特徴が、湿潤性、硬度、弾性、機械的、電気的、圧電的、光学的、接着性もしくは熱的な特性、微生物親和性もしくは抵抗性、バイオフィルム成長の改変、触媒活性、浸透性、美容的外観、撥液性、および/または耐食性を含む、請求項30に記載の組成物。
- 前記セラミック材料の上に最上面材料の層をさらに含み、前記最上面材料が、液体での湿潤性または液体中の化合物の選択的分離を含む機能性を提供する、請求項24に記載の組成物。
- 前記最上面材料が、前記細孔内部の前記気体、液体または固体物質と相互作用し、それにより熱管理、湿潤性、電気化学的反応性のモジュレーション、または機械的特性のモジュレーションから選択される機能性を提供する、請求項32に記載の組成物。
- 前記最上面材料が、周囲の環境を含む、請求項32または33に記載の組成物。
- 前記最上面材料が、空気を含む、請求項32または33に記載の組成物。
- 前記電気化学的反応性のモジュレーションが、腐食性のモジュレーション、触媒のモジュレーション、またはエネルギー貯蔵を含む、請求項33に記載の組成物。
- 前記最上面材料が、アンモニウム基、アルキル基、ペルフルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フェニル基、ポリマー、および/またはセラミックを含む、請求項33に記載の組成物。
- 前記最上面材料が、抗微生物活性を付与する第四級アンモニウム基、撥水性を付与するアルキル基、炭化水素親和性を付与するアルキル基、撥水性を付与するペルフルオロアルキル基、撥油性を付与するペルフルオロアルキル基、改善された機械的特性を付与するポリマー、および/または改善された美容的性能、圧電性能、もしくは錆止め性能を付与するセラミックを含む、請求項37に記載の組成物。
- 前記細孔内部の前記気体、液体、または固体物質が、前記セラミック材料と相互作用し、それにより湿潤性、硬度、弾性、機械的、電気的、圧電的、光学的、接着性または熱的な特性、微生物親和性または抵抗性、バイオフィルム成長の改変、触媒活性、浸透性、美容的外観、撥液性、および耐食性から選択される1種または複数の機能性を提供する、請求項24に記載の組成物。
- 前記環境中の水分が、前記細孔内部の前記気体、固体、または液体物質と相互作用し、それによりモジュレートされた蒸発率、凝縮、もしくは水結晶化、前記基板の防食、および/または湿潤性増強から選択される1種または複数の機能性を提供する、請求項24に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、実質的に充填されたまたは完全に充填された多孔性構造であり、前記細孔が、別のセラミック材料またはポリマーで充填される、請求項24に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、部分的に充填された多孔性構造であり、前記細孔が、セラミックでまたは頭部基および末端基を有する分子で部分的に充填され、前記頭部基が、シラン基、スルホナート基、スルホン酸基、ボロナート基、ボロン酸基、ホスホナート基、ホスホン酸基、カルボキシラート基、カルボン酸基、ビニル基、水酸基、アルコール基、チオラート基、チオール基および/または第四級アンモニウム基を含み、前記末端基が、炭化水素基、フルオロカーボン基、ビニル基、フェニル基、エポキシド基、アクリル基、アクリラート基、ヒドロキシル基、カルボン酸基、チオール基、および/または第四級アンモニウム基を含む、請求項24に記載の組成物。
- 前記セラミック材料が、前記基板からのセラミック厚に関して非対称の細孔構造を提供する、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- 前記細孔径分布が、BJH気体吸着および脱離により決定される第三四分位細孔径に対する第一四分位細孔径の比により特徴づけられかつ材料の厚さにより0.2~0.7の間で変動する、請求項43に記載の組成物。
- 前記基板が、金属を含み、かつ前記セラミック材料中の主たる金属が、前記基板中の主たる金属と異なる、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
- (a)前記基板上に前記バインダレスセラミック多孔性材料を堆積させることであって、前記堆積させることが、1種または複数の金属塩(複数可)およびキレート化または錯形成剤を含む水性溶液で前記基板を浸漬すること、噴霧すること、ロール塗布すること、またはさもなければ接触させること、かつ前記pHおよび温度を制御して前記反応速度をモジュレートして所望の結晶構造、形態、および/または表面多孔性を含むセラミック材料を生成することを含む、堆積させること;ならびに
(b)前記溶液から前記基板を取り出すことかつ水分を取り去るために前記基板を加熱することおよび/またはか焼すること、
を含む、請求項1~4のいずれかに記載の組成物を作製するための方法。 - (c)前記細孔が機能化されるが開放されたままであるように前記セラミック表面に化学結合できる溶媒での機能的分子の希釈溶液中に前記基板を浸漬すること、
をさらに含む、請求項46に記載の方法。 - 前記細孔が、第一の材料で部分的に充填され、
(i)前記細孔が機能化されるが開放されたままであるように前記セラミック表面に化学結合できる機能性分子の希釈溶液中に;および/または(ii)1種もしくは複数の金属塩(複数可)およびキレート化もしくは錯形成剤を含む溶液中に表面に固定された多孔性セラミック表面を有する基板を浸漬すること、噴霧すること、ロール塗布すること、またはさもなければ接触させること、および水を取り去ること;ならびに
(i)または(ii)または(i)と(ii)を場合により繰り返して前記細孔内に様々な機能性分子および/または金属酸化物および/または金属水酸化物および/または層状複水酸化物の多層を積層すること、
を含む、請求項47に記載の方法。 - 前記細孔が、材料で完全にまたは実質的に充填され、(i)前記細孔が物質で充填されるように前記セラミック表面と化学結合できる機能性分子の溶液中に;および/または(ii)1種もしくは複数の金属塩(複数可)およびキレート化もしくは錯形成剤を含む溶液中に表面に固定された多孔性セラミック表面を有するまたは部分的に充填された細孔を有する前記基板を浸漬すること、噴霧すること、ロール塗布すること、またはさもなければ接触させること、および前記細孔を完全に充填するために水を取り去ること:を含む、請求項47または48に記載の方法。
- 伝熱表面、流体バリア、フィルター、布地または織物、腐食バリア、光吸収表面、触媒、または分離媒体としての使用に適合される、請求項1~4のいずれかに記載の組成物。
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