JP2022500857A - インプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法、インプリントリソグラフィ用スタンプ、インプリントローラおよびロールツーロール基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
インプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法が記載される。本方法は、マスタ(10)を、第1の層(30)および第2の層(21)を含む層システム(13)でコーティングすることを含み、第2の層(21)は、第1の層(30)の上にあり、マスタ(10)は、インプリント構造(31)のテンプレートを提供する。本方法はさらに、第2の層(21)の上に、第2の層(21)よりも高い曲げ抵抗を有する安定化要素(25)を提供することと、マスタ(10)を層システム(13)から分離してインプリント構造(31)を露出させることとを含む。【選択図】図4
Description
[0001] 本開示の実施形態は、インプリントリソグラフィに関する。具体的には、本開示の実施形態は、リソグラフィのためのスタンプの製造方法に関する。さらに、本開示の実施形態は、インプリントリソグラフィ用のスタンプを含むインプリントローラと、インプリントローラを含む基板処理装置とに関する。
[0002] 薄膜のパターニングは、例えば、マイクロエレクトロニクスデバイス、光電子デバイス、または光学装置の製造などの複数の用途で使用される。光リソグラフィ技術は、デバイス内の薄膜のパターニングに使用されうる。しかしながら、光リソグラフィ技術は高価になることがあり、例えば、大きなサイズを有する基板、および/または、フレキシブル基板上では限界に達することがある。
[0003] 特にロールツーロール処理に関しては、高価なフォトリソグラフィを使用せずに、従来の技術を用いると、小さな特徴(feature)サイズの製造には限界がある。スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷などの印刷技術は、例えば、特徴サイズが10μmを超えるサイズに限定されているため、十分に小さいとは言えない。加えて、インプリントリソグラフィ処理は、シートツーシート処理に有効であり得る。インプリントリソグラフィは、デバイスにパターニングされた構造を提供するため、薄膜をパターニングする比較的安価な処理を提供しうる。さらに、インプリントリソグラフィは比較的高速で、装置およびオペレータの時間を節約することができる。
[0004] ロールツーロール装置用のインプリントリソグラフィスタンプおよびインプリントローラの製造に関しては、いくつかの技術的課題がある。例えば、典型的には、スタンプは、スタンプの寸法安定性の維持に関していくつかの問題を引き起こし得る軟質材料、例えば、軟質ポリマー材料から作られることがある。例えば、ディスプレイ用の構造の製造に関しては、寸法安定性の維持は、構造を確実にピクセルと整列させるためには重要となる。また、ロールツーロール(R2R)製造用のローラ表面にインプリントスタンプを備えるインプリントローラを製造するためには、特に転写処理中の寸法安定性の確保に関連して、インプリントスタンプのローラ表面への転写が課題になる。
[0005] したがって、上記を踏まえて、インプリントリソグラフィ用スタンプ、スタンプおよびインプリントローラ、並びにインプリントリソグラフィに使用されるロールツーロールインプリント装置の製造方法の改善が引き続き要求されている。
[0006] 上記に照らして、インプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法、インプリントリソグラフィ用スタンプ、ロールツーロール基板処理装置用のインプリントローラが提供される。
[0007] 本開示の別の態様によれば、インプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法が提供される。この方法は、第1の層および第2の層を含む層システムで、マスタをコーティングすることを含み、第2の層は第1の層の上にあり、マスタはインプリント構造のテンプレートを提供する。この方法はさらに、第2の層の上に安定化要素を提供することを含み、安定化要素は、第2の層よりも高い曲げ抵抗を有する。この方法はさらに、マスタをシステムから分離して、インプリント構造を露出させることを含む。
[0008] 本開示の別の態様によれば、インプリントリソグラフィのためのスタンプが提供される。スタンプは、スタンプ支持構造と、層にスタンプをインプリントするとパターンを生成する複数の特徴を有するインプリント構造とを含み、インプリント構造は、第1の層および第2の層を含む層システムによって提供され、第2の層は、第1の層の上にある。スタンプはさらに、第2の層の上に安定化要素を含み、安定化要素は、特に接着層によってスタンプ支持構造に付着され、安定化要素は、第2の層よりも高い曲げ抵抗を有する。
[0009] 本開示のさらなる実施形態によれば、ロールツーロール基板処理装置のインプリントローラが提供される。インプリントローラは、本明細書に記載される任意の実施形態によるスタンプを含み、スタンプ支持構造は、円筒形支持構造である。
[0010] 実施形態はまた、開示方法を実施するための装置も対象としており、説明されている各方法の態様を実行するための装置部分を含む。これらの方法の態様は、ハードウェア構成要素を用いて、適切なソフトウェアによってプログラミングされたコンピュータを用いて、これらの2つの任意の組合せによって、またはそれ以外の任意の態様で、実行されうる。さらに、本開示による実施形態は、記載される装置を操作する方法も対象とする。記載された装置を操作する方法は、装置のあらゆる機能を実行するための方法の態様を含む。
[0011] 本開示の上記の特徴を詳細に理解することができるように、実施形態を参照することによって、上で簡単に概説した本開示のより具体的な説明を得ることができる。添付の図面は、本開示の実施形態に関し、以下において説明される。
[0012] 本開示の様々な実施形態について、これより詳細に参照する。これらの実施形態の1つまたは複数の実施例は、図面に示されている。図面の以下の説明において、同じ参照番号は同じ構成要素を表わす。個々の実施形態に関しては、相違点についてのみ説明する。本開示の説明のために各実施例が提供されているが、各実施例は、本開示を限定することを意図するものではない。さらに、一実施形態の一部として図示または記載される特徴は、他の実施形態で用いることが可能であり、または他の実施形態と併用してさらに別の実施形態を生み出すことも可能である。本明細書は、このような変更および変形例を含むことが意図されている。
[0013] 例示的に図1〜図8を参照して、本開示によるインプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法の実施形態を説明する。本明細書に記載の任意の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、本方法は、マスタ10を層システム30(図1参照)でコーティングすることを含み、マスタ10はインプリント構造31のテンプレートを提供する。層システム13は、第1の層30と、第1の層30の上の第2の層21とを含み(図2参照)、第2の層21の上に安定化要素25を提供する。安定化要素25は、第2の層21よりも高い曲げ抵抗を有する(図3参照)。この方法はさらに、マスタ10を第1の層30から分離して、インプリント構造31を露出させることを含む(図4参照)。典型的には、インプリント構造31は、図7に例示的に示されるように、インプリント構造31のネガティブテンプレート32を有するマスタ10をコーティングすることによって提供される。
[0014] したがって、図1に例示的に示すように、マスタ10を層システム13でコーティングすることは、マスタの表面上にコーティングまたは層システムを塗布することを含み、様々なコーティング処理を使用することができる。コーティングは、例えば、CVD、PVD、PECVD、蒸着、スピンコーティングおよび/またはスピンキャスティングなどの化学的、機械的、熱的および/または熱機械的処理によって適用され得る。層システム13によるマスタ10のコーティングは、マスタ10のパターン、特にそこに描画されているマスタの表面のパターンに基づくインプリント構造31のテンプレートを、層システム13に提供する。
[0015] したがって、図2に例示的に示すように、層システム13はさらに、第1の層30の上に第2の層21を含む。層システム13は、第1の層および第2の層を含む層スタック13として理解することもできる。層システム13は、例えば、SCIL Nanoimprint Solutions社によって提供される材料であってよい。第2の層21は有益で、スタンプ製造中に、直接接触および/または不純物から第1の層30を保護することができる。特に、第2の層は、接着層としても機能し得る。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、層システムはまた、さらなる層の上に層を提供することによって形成可能であり、層は第2の層に対応し、さらなる層は層システムの第1の層に対応する。さらに、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第2の層は、第1の層からの化学的または物理化学的表面変形によって形成することもできる。
[0016] したがって、図3を参照すると、第2の層21の上に安定化要素25を提供することは、例えば、第2の層21の上に安定化要素25を置くこと、静置すること、重ね合わせること、配置すること、付加することなどとして理解することができる。提供される安定化要素25は、第2の層21、特に第2の層21の上面と直接接触させることができる。第2の層21は、平面または平坦な上面を形成するように構成することができ、安定化要素25は、第2の層21の上面の上に置かれる。安定化要素25の底部または下面は、第2の層21を接続することができ、この接続は、安定化要素25の底部が第2の層21の上面と直接接触することで説明することもできる。安定化要素、特に安定化要素25の底面を第2の層25の上面と直接接触させることは、安定化要素25が第2の層21の頂部に付着または密着することと理解することもできる。安定化要素25および第2の層21のそれぞれの表面を互いに接触させるとき、安定化要素25および第2の層はまた、接着力によって互いに粘着または接着することができる。
[0017] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、安定化要素25は、平坦な底面および平坦な上面を形成する平坦な形状の本体を有することができ、安定化要素25の底面および上面は、基本的に互いに平行になり得る。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第2の層21の上面は、安定化要素25の上面および/または底面と基本的に平行である。第2の層の上面に基本的に平行な底面を安定化要素25に提供することによって、特に、さらなる処理中にスタンプを取り扱うときには、スタンプの安定性を改善することができる。
[0018] 本開示では、「安定化要素が第2の層よりも高い曲げ抵抗を有する」という特徴は、安定化要素が、第2の層の材料および/または構成要素よりも高い剛性を有する材料および/または構成要素を含むことで理解することができる。第2層よりも高い曲げ抵抗を有する安定化要素はまた、第2層よりも高い剛性を有する安定化要素として説明することもできる。剛性は、例えば、ねじり剛性、曲げ剛性、せん断剛性および/または引張剛性として理解され得る。
[0019] したがって、図4を参照すると、この方法はさらに、マスタ10を第1の層30から分離して、インプリント構造31を露出させることを含む。マスタ10を第1の層30から分離することは、マスタ10が第1の層30から切り離される切断処理を含み得る。特に、マスタ10は、第1の層30のインプリント構造31に隣接して位置する、少なくとも「エッジ領域」において、第1の層30から切り離され、その切断処理は、例えば、ブレードによって、レーザーなどによって実行され得る。マスタを分離することは、マスタ10を第1の層30から引き離すことを含み得る。マスタを分離することはまた、層気流、特に層流を使用するエアナイフまたはブレードによる分離を含み得る。
[0020] 有利には、安定化要素は、第1の層および第2の層の変形に対する抵抗力を提供することによって、マスタを第1の層から分離するときに、第1の層および第2の層を安定化することができる。特に、マスタと第1の層との間に加えられる分離力に対する背圧または反力(counter force)を提供するために、安定化要素は、分離中に支持または保持され得る。安定化要素は、第1の層および第2の層を含む層スタックの変形、特に第1の層のインプリント構造の変形に対抗することができる。さらに、インプリント構造の安定化要素の剛性により、安定化要素は歪みに対して作用することができ、インプリント構造のパターンを保護することができる。さらに、安定化要素は、取扱い、特にマスタを第1の層から分離した後のスタンプの安全な取扱いを改善することができる。安定化要素はまた、スタンプの搬送を促進するため、製造工程中にさらに搬送するための接触面を提供することができる。
[0021] したがって、本明細書に記載のインプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法の実施形態は、従来の製造方法と比較して改善することができる。より具体的には、本明細書で説明されるように、スタンプリソグラフィの製造方法の実施形態によって、インプリント構造を有するテンプレートは、製造工程全体にわたって安定化され、構造およびインプリント構造の寸法安定性は、スタンプ製造中に保証することができる。しかも、第1の層および第2の層の寸法安定性を強化することができる。
[0022] 本開示の様々なさらなる実施形態を詳細に説明する前に、本書で使用されるいくつかの用語に関するいくつかの態様を説明する。
[0023] 本開示では、「インプリントリソグラフィ用スタンプ」は、インプリントリソグラフィ処理で利用されるように構成されたスタンプとして理解することができる。本開示において、「第1の層」は、ポリマー材料、特に硬化性ポリマー材料から作ることができる。例えば、第1の層は、エラストマ、例えばシリコンエラストマで作ることができる。一実施例によれば、第1の層は、xPDMSで作られてもよい。
[0024] 本開示において、「第2の層」は、ポリマー材料、特に硬化性ポリマー材料から作ることができる。本明細書に記載の硬化性ポリマー材料は、熱および/または放射の適用によって硬化され得るポリマーとして理解され得る。言い換えるならば、硬化性ポリマー材料は、例えば熱、放射または化学添加剤によって誘発されるポリマー鎖の架橋を伴うまたは伴わない重合によって強化または硬化することができるポリマー材料として理解することができる。
[0025] 本開示では、「インプリント構造を有するテンプレート」は、インプリントされるパターンを有する三次元構造として理解することができる。典型的には、三次元構造は、インプリントされる構造のネガティブ構造である。例えば、テンプレートのインプリント構造は、複数の特徴を含むことができる。典型的には、複数の特徴は、側面、底面および上面を含む。例えば、マルチレベルインプリント構造はさらに、異なるレベルの様々な底面を含み得る。
[0026] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、インプリント構造の複数の特徴は、同じ特徴幅および同じ深さの特徴を有することができる。追加的にまたは代替的に、インプリント構造の異なる特徴は異なる特徴形状寸法、すなわち、異なる特徴幅および異なる特徴の深さを有し得る。なおさらに、異なるサイズの2つ以上の特徴は、反復パターンを形成するため、反復的な方法で互いに隣り合うように配置され得る。例えば、パターニングされた特徴は、ライン、ポール、トレンチ、孔、円、正方形、長方形、三角形、その他の多角形、ピラミッド形、プラトー、およびこれらの組み合わせまたはアレイからなる群から選択され得る。
[0027] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、方法はさらに、第1の層を硬化させることを含む。特に、第1の層を硬化させることは、第1の層を熱および/または放射に露出させることを含み得る。例えば、第1の層を硬化させることは、65℃≦Tc≦105℃の硬化温度Tc、具体的には75℃≦Tc≦95℃の硬化温度、より具体的には80℃≦Tc≦90℃の硬化温度、例えば約85℃の硬化温度に第1の層を露出させることを含み得る。さらに、第1の層を硬化させることは、本明細書に記載されるような硬化温度Tcに第1の層を、2h≦tc≦6hの硬化時間tc、具体的には3h≦tc≦5h、より具体的には3.5h≦Tc≦4.5hの硬化時間だけ露出させることを含み、例えば、硬化時間tcは約4hの硬化時間を有する。
[0028] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、安定化要素は、第2の層に付着される。付着は、安定化要素と第2の層との間の接着、特に安定化要素の下方底面と第2の層の上面との間の接着が、本明細書に記載のように、補強または強化されることとして理解することができる。付着は、例えば、安定化要素および/または第2の層のそれぞれの表面に接着剤を加えることを含んでもよく、接着剤は、安定化要素と第2の層との間の結合を形成する。接着剤は、糊、ペースト、接着剤層、ラッカー、接着剤ラッカーなどからなる群から選択することができる。また、安定化要素25と第2の層21との接着は、化学修飾やプラズマ処理によっても促進させることができる。安定化要素25は、下方の第2の層に接着することもできる。安定化要素を付着させることはまた、機械的力を加えることを含むこともあり、安定化要素は、第2の層の上に押圧される。
[0029] さらに、安定化要素の第2の層への付着は、プラズマ活性化によって、特にプラズマ活性化による安定化要素の表面変形によって強化することができる。安定化要素を第2の層に付着させることによって、スタンプ全体の安定性、特に第1の層、第2の層と安定化要素との間の寸法安定性を強化することができる。特に、安定化要素の曲げ抵抗は、本明細書に記載されるように、安定化要素を第2の層の上に付着させることによって、第2の層および第1の層の変形に対する保護を強化することができる。
[0030] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第2の層21の上に安定化要素を提供することは、中間層を提供すること、特に、図5に例示的に示されるように、中間層24を第2の層21に付着させることをさらに含み、中間層24は、支持層または補助層として理解することができる。中間層は、例えば、65℃〜75℃の硬化温度に約4〜6分間露出させることによって熱硬化させることができる。中間層は、その後、約2〜48時間、後硬化処理にかけることもできる。中間層24は、第1の層30の上へ第2の層21の付着を促進するため、第1の層と第2の層との間の接着促進をもたらすように構成することができる。さらに、中間層は、スタンプのさらなる処理中に、第1の層、特に第1の層のインプリント構造を保護するように構成することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、層スタック13はまた、第1の層30と第2の層21との間に位置する中間層24を含むこともできる。さらに、中間層24は、第2の層21の副層として理解することもできる。
[0031] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、第1の層を硬化させることは、安定化要素を通して第1の層を照射することを含む。安定化要素を通して第1の層を照射することによって第1の層を硬化させることは、均一で安定した硬化を可能にすることができ、第1の層に適用される硬化温度は、第1の層内の放射の吸収によって少なくとも部分的に生成される。また、安定化素子を介して第1層を照射して第1の層を硬化させることにより、製造工程中に第2の層および安定化要素を提供した後に第1の層を硬化させることができ、製造工程を短縮することができる。
[0032] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、第2の層を硬化させることは、安定化要素を通して第2の層を照射することを含む。図6は、硬化処理の概略的な実施例を示す。安定化要素25の上面25aは、照射源(図示せず)によって照射され、放射63は、安定化要素25の上面25aに入り、安定化要素25を貫通する。放射63は、安定化要素25を通って第2の層21に入り、放射63は、第2の層21内で少なくとも部分的に吸収され、第2の層21を硬化させるための熱が生成される。放射63の少なくとも一部は、第2の層21をさらに貫通し、第2の層21の下に配置された第1の層30に入ることができる。同様に、第1の層30内で放射63を吸収することによって、第1の層30内に熱が発生し、第1の層30の硬化を可能にし、かつ/または支援する。
[0033] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、放射を吸収することによって生成される熱は、第1の層30および/または第2の層21を支援または硬化させることができる。さらに、放射を吸収することにより、マスタ10に隣接するインプリント構造31のパターンを硬化させて、インプリント構造31の形成を改善することができる。さらに、安定化要素25を通る放射63は、第2の層21と安定化要素25との間に位置する第1の境界領域23内で接着を支援して、例えば、本明細書に記載されるように接着剤を固化および/または硬化させることによって、安定化層25の第2の層21への付着を改善することができる。同様に、安定化要素25を通る放射63は、第2の層21と第1の層30との間に位置する第2の境界領域24において接着を支援することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、第2の層と第1の層との間に配置された中間層は、安定化要素を通して第1の層を照射することによって硬化させることができる。
[0034] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、本方法はさらに、支持面によって層システムを、特に第1の層を支持することを含み、支持面は、第1の層のインプリント構造と接触する。支持面は、例えば、平坦な表面を有するプレートであってもよく、スタンプは、マスタを第1の層から分離した後に載せることができる。プレートは、例えば、ガラスプレート、プラスチックプレート、セラミックプレートなどになり得る。支持面によって第1の層を支持することは、インプリント構造をマスタから解放した後にインプリント構造の表面を覆うことによってインプリント構造を保護する。
[0035] さらに、支持面を提供することにより、スタンプをスタンプ支持構造などに配置することなどのさらなる処理ステップを容易にすることができる。しかも、支持面は、光、特に可視範囲の光波に対して透明であって、支持面を通るインプリント構造のパターンの監視を可能にすることができる。支持面を通してインプリント構造を監視することによって、インプリント構造を測定して、インプリント構造内の誤差を検出することができる。さらに、支持面を通してインプリント構造を監視することによって、第1の層を支持面上に整列させて、例えば、さらなるステップでスタンプをスタンプ支持構造に付着させるときに、インプリント構造からの整列を改善することができる。
[0036] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、本方法はさらに、安定化要素、第2の層、および第1の層の露出したエッジ部分の上に接着層を提供することを含む。接着層を提供することはまた、露出したエッジ部分、特に第1のエッジ部分、第2のエッジ部分、および安定化要素のエッジ部分の外面を追加の接着層で埋め込むこととして理解することもできる。図8は、接着層が提供される、本明細書に記載の実施形態に従って製造される例示的なスタンプの概略図を示す。
[0037] 接着層42は、第1の層30、中間層24、第2の層21、および安定化要素25の外面を取り囲む。第1の層30のインプリント構造31は、支持面15によって覆われており、インプリント構造31は、接着層42と接触するように保護されている。接着層42の材料はまた、スタンプのそれぞれの層の間に寸法安定性をさらに提供するため、それぞれの層21c、24c、および30cの間のエッジ部分に入るか、または流入することができる。さらに、接着剤層42は、接着剤面を形成するように構成することができ、スタンプをさらなる支持構造にさらに取り扱うまたは配置することを容易にすることができる。他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、接着層は、放射に対して透過性であり、特にUV放射に対して透過性である。
[0038] 図9は、2つのインプリント構造31aおよび31bを有する第1の層30を有するスタンプを含む図8の概略上面図を示す。第1の層(図示せず)のインプリント構造31aおよび31bは、図8に示すように、接着層42、安定化要素25、第2の層(図示せず)および中間層(図示せず)によって覆われている。
[0039] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、接着層42は、300μm〜1000μmの幅を有する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、安定化要素25は、200μm〜500μmの幅を有する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、中間層24は、30μm〜100μmの幅を有する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第2の層21は、30μm〜100μmの幅を有する。記載された他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第1の層30は、30μm〜100μmの幅を有する。
[0040] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、本方法はさらに、スタンプ支持構造に安定化要素を付着させることを含み、特に安定化要素を付着させることは、スタンプ支持構造を安定化要素上で回転させることを含む。図10を参照すると、スタンプ12がスタンプ支持構造40に付着される例示的な付着工程の概略図が示されている。スタンプ支持構造40は、安定化要素25上を回転方向52に転がり、スタンプ支持構造40は接着剤層42の表面と接触する。スタンプ支持構造40がスタンプ12の上を移動することにより、スタンプ支持構造40は接着剤層42の頂部に圧力を加え、接着剤層42はスタンプ支持構造40の表面に付着する。実施形態によれば、スタンプ支持構造40の表面へ接着剤層42を付着させるため、または付着を改善するため、支持構造40の表面に接着剤46、糊などを提供することができる。
[0041] 本明細書に記載される他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、スタンプ支持構造に安定化要素を付着させることは、スタンプ支持構造を安定化要素の上で回転させることを含み、スタンプ支持構造を安定化要素の上で回転させることは、マスタを第1の層から分離してインプリント構造を露出させることを含む。
[0042] 他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、インプリントリソグラフィ用のスタンプが提供される。スタンプは、スタンプ支持構造と、層にスタンプをインプリントする際にパターンを生成する複数の特徴を有するインプリント構造とを含み、インプリント構造は、第1の層および第2の層を含む層システムによって提供され、第2の層は、第1の層の上にあり、スタンプはさらに、第2の層の上に安定化要素を含み、安定化要素は、特に接着層によってスタンプ支持構造に付着され、安定化要素は、第2の層よりも高い曲げ抵抗を有する。スタンプは、本明細書に記載の実施形態によって製造することができる。
[0043] 本明細書に記載される他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、安定化要素は、放射に対して透過性であり、特に紫外放射に対して透過性である。安定化要素は、放射透過性の材料を含む、および/または放射透過性の材料で構成され得る。安定化要素は、例えば、ガラス、特に石英ガラス、willowガラス、金属ガラス、アモルファス金属などで作ることができる。さらに、安定化要素は、ポリマー、特にシクロオレフィンポリマー(COP)、および/またはワニス、特にフォトレジスト(photo lack)などの材料で作ることができる。安定化要素を形成するために前述の材料を使用することは、いくつかの有利な態様を提供することができる。例えば、安定化要素は、スタンプ支持構造、特に湾曲したスタンプ支持構造に付着されるときに、スタンプ内の異なる層を安定化させるのに十分な剛性を提供することができ、また十分な可撓性を提供することができる。加えて、前述の材料は、高い面内剛性を有し、これにより、第1の層内のインプリント構造を歪ませたり、反らせたりすることなく、第1の層からマスタを分離することができる。
[0044] さらに、前述の材料は、光の透過性、特にUV光の十分な透過性を提供し、安定化要素の下に位置する層、特に第1の層および第2の層の硬化は、本明細書に記載されるように、安定化層を通る照射によって可能になり得る。しかも、光に対して透過性である安定化層は、本明細書に記載の実施形態によるスタンプを用いたインプリント処理中に安定化層を通して放射することを可能にし、材料のインプリント処理を改善することができる。
[0045] 本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、安定化層は、箔または薄層の形状を有することができる。さらに、安定化要素は、格子形状であってもよく、安定化層は、上述のように光透過性材料で充填された凹部または切り欠きを有する剛性構造を有する。
[0046] 本明細書に記載される他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、層システム13はさらに、図5に例示されるように、第1の層30と第2の層21との間に配置される中間層24を含む。中間層は、本明細書に記載されるように、第1の層と第2の層との間の接着促進をもたらすことができる。
[0047] 図11を参照すると、本開示によるロールツーロール基板処理装置のためのインプリントローラ200が描かれている。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、インプリントローラ200は、インプリント構造31を有するスタンプ12を含む。スタンプ12は、接着層42によって円筒形支持構造40の表面に付着される。接着層42は、本明細書に記載の実施形態による、第1の層30、中間層24、第2の層21、および安定化要素25の外面を取り囲む。第1の層30は、本明細書に記載のインプリント構造31を含む。他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、スタンプ支持構造および/または安定化要素は、5cm〜10cmの範囲、より具体的には7cm〜8cmの範囲の曲げ半径を有する。
[0048] 例示的に図13を参照して、本開示によるロールツーロール基板処理装置400を説明する。図13に例示したように、ロールツーロール基板処理装置400は、本明細書に記載の実施形態によるインプリントローラ200を含む。R2R処理におけるインプリントリソグラフィの場合、インプリントローラ200は回転軸214の周りを回転し、基板101はロータの表面、例えば図13に示したローラ502のような別のローラの円筒表面上を移動することができる。例えば、基板の移送速度vは、公式v=r*wに従うローラ502の角速度wに対応しうる。ここで、Rはローラの半径である。すなわち、基板の移送速度は、半径方向に交差する方向の速度、すなわち、ローラの接線速度と同様になる。
[0049] 図13に例示したように、ロールツーロール基板処理装置400は、典型的には、インプリントローラ200の軸214の周りを回転することができるインプリントローラ200を含むインプリントステーションを含む。図13は矢印212によって回転を示す。インプリントローラ200が回転すると、ローラに付着された、またはローラの一部であるスタンプのパターンが、インプリントされる層102、例えば、導電性ペースト、ラッカー、フォトレジストなどの層にインプリントされる。説明のために、インプリント構造31を図13に拡大して示す。
[0050] したがって、本明細書に記載の装置は、導電性ペーストを用いてインプリントリソグラフィ処理を実行するように構成できることを理解されたい。例えば、導電性ペーストは、製造されるデバイスにおける機能層の基礎を形成することができる。導電性ペーストの層にスタンプまたはインプリントローラをインプリントまたはエンボス加工する前に、導電性ペーストが基板に接して、または基板の上方に提供される。
[0051] 例えば、装置は、基板101に接して、または基板100の上方に導電性ペーストを塗布する堆積ユニット544を含み得る。導電性ペーストを塗布することによって、導電性材料の層102を提供する。例えば、1つまたは複数の堆積ユニット544は、メニスカスコーティング、スロットダイコーティング、ドクターブレードコーティング、グラビアコーティング、フレキソコーティング、スプレーコーティングを用いて、層102をコーティングすることができる。図13に例示的に示したように、導電性ペーストの層102が堆積した後、層102にパターンをエンボス加工してパターニングされた層104を生成するため、本明細書に記載のように、スタンプ、特にインプリントローラが使用される。
[0052] より具体的には、インプリントローラ200と別のローラ502との間の間隙を通して基板101が動かされると、スタンプのパターンが層102内にエンボス加工される。これは、図13に例示したように、パターン化された層104をもたらす。矢印503は、他のローラ502の軸504の周りでの他のローラ502の回転を示す。図13の矢印121は、インプリントローラ200と他のローラ502との間の間隙を通る基板101の動きを示す。ローラは矢印212および矢印503によって示されているように回転する。例えば、本開示の幾つかの実施形態によれば、矢印101に沿った基板の移送速度は、半径方向に交差する方向の速度、すなわち、ローラの接線速度と同様になる。
[0053] 本開示のいくつかの実施形態によれば、装置400は、自己整合型インプリントリソグラフィ(SAIL)処理を行うように構成される。SAIL処理、すなわち、マルチレベルインプリントリソグラフィ処理に関しては、スタンプの凹部は、特徴の異なる部分に2つ以上の特徴深さを有しうる。これは薄膜にパターンを生成するのに非常に効率的になりうる。したがって、本明細書に記載のマスタおよびその結果としてのテンプレートは、マルチレベルインプリント構造を提供するように構成することができる。例えば、本明細書に記載されるスタンプは、インプリントリソグラフィ処理、例えば、SAIL処理を有する接続ラインのようなラインの製造に使用することができ、これにより、小さな幅およびライン間の小さな距離を有するラインが可能になる。
[0054] さらに、図13に例示したように、装置400は、インプリント層、例えば導電性ペーストを硬化させるための硬化ユニット532を含み得る。硬化ユニット532は、発光ユニット、および、層でのスタンプのインプリント中に層を硬化するように構成された加熱ユニットからなる群から選択可能で、発光533が行われる。例えば、発光ユニットはUV光を、特に410nm〜190nmの範囲の波長で発することができる。別の実施例では、発光ユニットはIR光で、特に9〜11マイクロメートルの範囲の波長(CO2レーザー)で発することができる。別の実施例では、発光ユニットは、IRからUVまでの幅広い光を、特に3マイクロメートルから250nmまでの波長範囲で発することができる。この発光は、光学フィルタを使用して、黒体放射の一部だけを選択するようにフィルタ処理され得る。
[0055] 図13は、スタンプが導電性ペーストの層にインプリントされる間に、硬化ユニット532が導電性ペーストを部分的に、または完全に硬化するように構成されている例示的な実施形態を示している。例えば、硬化の程度は、硬化ユニットの強度、光の強度または熱放出の強度などによって、調整可能である。追加的にまたは代替的に、硬化の程度は、ローラ502と基板101の回転速度によって調整可能である。硬化ユニット532は、インプリントローラ200の上方に配置することができ、硬化ユニット532は、層にスタンプをインプリントしながら層を硬化させることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、硬化ユニット532は、発光533によってスタンプ200を通して層を硬化させるように構成することができる。特に、硬化ユニット532は、層102から離れた方向を向いている面上のインプリントローラ200を貫通し、その後、層102と対向する面上のインプリントローラ200を貫通する光533を生成する。インプリントローラ200、特にスタンプ12の表面は、層内のスタンプをインプリントしながら層102を硬化させる際に、光533によって2回貫通される。本明細書に記載のインプリントローラ200を介した硬化処理は、本明細書に記載の実施形態による安定化要素によって、特に、放射透過性の安定化要素によって、可能にされ、かつ/または改善され得る。いくつかの実施形態によれば、硬化ユニット533は、ローラ502内に配置することもできる。さらに、処理装置400は、2つ以上の硬化ユニット533を含むこともできる。
[0056] 図12に示したフロー図を参照して、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、図示したインプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法300の特定の例が記載される。インプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法は、インプリント構造のテンプレートを提供するマスタに第1の層をコーティングすること(ブロック310)と、第1の層を硬化させること(ブロック320)と、第1の層の上に中間層を提供すること(ブロック330)と、中間層の上に第2の層を提供すること(ブロック340)とを含む。この方法はさらに、安定化要素を第2の層に付着させること(ブロック350)と、安定化要素を通して第2の層を照射することによって第2の層を硬化させること(ブロック360)と、マスタを第1の層から分離してインプリント構造を露出させること(ブロック370)とを含む。この方法はさらに、支持面によって第1の層を支持すること(ブロック380)と、安定化要素、第2の層、および第1の層の露出したエッジ部分の上に接着層を提供することと、スタンプ支持構造に安定化要素を付着させることとを含み、安定化要素を付着させることは、スタンプ支持構造を安定化要素上で回転させること(ブロック390)とを含む。
[0057] したがって、本明細書に記載の実施形態を考慮すると、インプリントリソグラフィ用スタンプの改善された最先端の製造方法と比較して、改善されたスタンプ、改善されたインプリントローラ、およびインプリントリソグラフィのための改善されたロールツーロール基板処理装置が提供されることを理解されたい。特に、本明細書に記載の実施形態は、インプリントリソグラフィスタンプまたはインプリントローラを製造する際に、スタンプが典型的には軟質材料(例えば、PDMS)から作製されるため、寸法安定性を維持することができないことが多いという問題を克服する。加えて、本明細書に記載の実施形態は、ディスプレイのための構造を製造する際に、不整合がインプリントを使用不可能にするため、構造は、ディスプレイ内のピクセルと並ぶ必要があるという問題に対処できる。言い換えるならば、本明細書に記載の実施形態は、スタンプインプリント構造−ピクセル不整合を実質的に回避するか、または排除することもできる。さらに、本明細書に記載の実施形態は、インプリントローラを作成する際の転写処理中に、スタンプ、特にインプリント構造を寸法的に安定化させる問題に対処できる。
[0058] しかも、本明細書に記載される実施形態を考慮すると、本開示の実施形態は、軟質スタンプ材料がもはや反ることも歪むこともできない安定化要素を有利に提供することを理解されたい。加えて、歪みのないハンドリングとマスタからの分離が可能になる。さらに、ナノ構造は、ディスプレイ内のピクセルと並ぶであろう。さらに、この処理は、マスタの幾何学的形状の正確な保存を利用する任意のインプリントスタンプ製造に適用可能であることに留意されたい。
[0059] 加えて、本開示の実施形態は、インプリント構造の裏面の極めて良好な平坦性を提供できる利点を有し、スタンプをインプリントローラに積層するのに有用であり得る。さらに、本明細書に記載の実施形態は、インプリント構造の幾何学的保存が重要である場合、任意のインプリント処理に適用できることに留意されたい。
[0060] 以上の説明は実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲を逸脱せずに他の実施形態及び更なる実施形態を考案してもよく、本開示の範囲は、添付の特許請求の範囲によって定められる。
Claims (15)
- インプリントリソグラフィ用スタンプの製造方法であって、
第1の層(30)および第2の層(21)を含む層システム(13)で、マスタ(10)をコーティングすることであって、前記第2の層(21)は、前記第1の層(30)の上にあり、前記マスタ(10)は、インプリント構造(31)のテンプレートを提供する、マスタ(10)をコーティングすることと、
前記第2の層(21)の上に、前記第2の層(21)よりも高い曲げ抵抗を有する、安定化要素(25)を提供することと、
前記マスタ(10)を前記層システム(13)から分離して、前記インプリント構造(31)を露出させることと、
を含む方法。 - 前記第1の層(30)を硬化させることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2の層(21)を硬化させることをさらに含む、請求項1または2に記載の方法。
- 前記安定化要素(25)を前記第2の層(21)に付着させることをさらに含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の層(21)の上に安定化要素(25)を提供することはさらに、中間層(24)を提供すること、特に前記中間層(24)を前記第2の層(21)に付着させることを含む、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の層(30)を硬化させることは、前記安定化要素(25)を通して前記第1の層(30)を照射することを含む、請求項2から5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の層(21)を硬化させることは、前記安定化要素(25)を通して前記第2の層(21)を照射することを含む、請求項3から6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記層システム(13)、特に前記第1の層(30)を支持面(15)によって支持することをさらに含み、前記支持面(15)は、前記第1の層(30)の前記インプリント構造(31)と接触している、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記安定化要素(25)、前記第2の層(21)および前記第1の層(30)の露出したエッジ部分の上に接着層(42)を提供することをさらに含む、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記安定化要素(25)をスタンプ支持構造(40)に付着させることをさらに含み、特に、前記安定化要素(25)を付着させることは、前記スタンプ支持構造(40)を前記安定化要素(25)の上で回転させることを含む、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- インプリントリソグラフィ用スタンプであって、
スタンプ支持構造(40)と、
層に前記スタンプをインプリントする際にパターンを生成する複数の特徴を有するインプリント構造(31)であって、第1の層(30)および第2の層(21)を含み、前記第2の層(21)は、前記第1の層(30)の上にある層システム(13)によって提供されるインプリント構造(31)と、
前記第2の層(21)の上にある安定化要素(25)であって、特に接着層によって前記スタンプ支持構造(40)に付着され、前記第2の層(21)よりも高い曲げ抵抗を有する安定化要素(25)と、
を備える、スタンプ。 - 前記安定化要素(25)は、放射に対して透過性であり、特に紫外放射に対して透過性である、請求項11に記載のスタンプ。
- 前記層システム(13)はさらに、前記第1の層(30)と前記第2の層(21)との間に配置された中間層(24)を含む、請求項11または12に記載のスタンプ。
- ロールツーロール基板処理装置用のインプリントローラであって、請求項11から13のいずれか一項に記載のスタンプを備え、前記スタンプ支持構造(40)が円筒形支持構造である、インプリントローラ。
- 請求項14に記載のインプリントローラを備える、ロールツーロール基板処理装置。
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