JP2022138268A - Chamfering device - Google Patents

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Abstract

To provide a chamfering device that can improve accuracy in chamfering.SOLUTION: A chamfering device 1, which polishes and chamfers end parts E1 and E2 of a coil spring C while conveying the coil spring C which can be compressed between the end parts E1 and E2, comprises: a conveyor 11 that conveys the coil spring C; a pair of guide parts 13a and 13b, oppositely arranged in a width direction crossing a conveying direction of the conveyor 11, which respectively guide both end parts E1 and E2 of the spring C on the conveyor 11; a polishing machine 15, provided at either of the pair of guide parts 13a and 13b which guide object end parts, which polishes the object end parts; and a pressing part, arranged on the conveyor 11, which presses the coil spring C against the conveyor 11 to roll the spring during polishing by the polishing machine 15. The pair of guide parts 13a and 13b have compressing parts that make an interval in the width direction of the conveyor 11 narrower partially to compress the coil spring C during polishing by the polishing machine 15.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、コイルばねの両端部の面取りを行う面取り加工装置に関する。 The present invention relates to a chamfering device for chamfering both end portions of a coil spring.

従来の面取り加工装置としては、例えば、非特許文献１に記載のものがある。 As a conventional chamfering device, there is one described in Non-Patent Document 1, for example.

この面取り加工装置は、コイルばねをコンベヤで搬送しながら端部の面取りを行うようになっている。コンベヤ上は、転動ガイドで覆われている。コンベヤと転動ガイドとの間には、幅方向に対向した一対のガイド部が配置されている。一対のガイド部には、それぞれコイルばねの異なる端部を研磨する一対の研磨機が位置決められている。 This chamfering device chamfers the ends of the coil spring while it is conveyed on a conveyor. The conveyor is covered with rolling guides. A pair of guide portions facing each other in the width direction are arranged between the conveyor and the rolling guide. A pair of grinders for grinding different ends of the coil spring are positioned on the pair of guides.

かかる面取り加工装置では、コイルばねを一対のガイド部で両端部をガイドしながら搬送することで、両端部をそれぞれ一対の研磨機により研磨し面取りすることができる。 In such a chamfering apparatus, both ends of the coil spring can be polished and chamfered by a pair of polishing machines by conveying the coil spring while guiding the both ends with a pair of guide portions.

しかし、一対のガイド部は、搬送するコイルばねとの間にクリアランスを有している。このため、研磨時には、コイルばねがクリアランスの分だけ軸方向に変位し、研磨される端部が研磨機からずれてしまっていた。また、コイルばねは、製造誤差によって長さにばらつきが生じるため、このばらつきに応じて研磨される端部の研磨機に対する位置がばらついて安定しなかった。結果として、従来の面取り加工装置では、面取り精度が低下していた。 However, the pair of guide portions has a clearance between them and the coil springs to be conveyed. Therefore, during polishing, the coil spring is displaced in the axial direction by the clearance, and the end to be polished is displaced from the polishing machine. In addition, since the length of the coil spring varies due to manufacturing errors, the position of the edge to be ground with respect to the grinding machine varies according to this variation and is not stable. As a result, the chamfering accuracy of the conventional chamfering apparatus is low.

技能検定テキスト改訂委員会編「ばねハンドブック」、日本ばね工業会 出版、２００５年４月３０日 第１版発行、３９７～３９８頁Skill Test Text Revision Committee, "Spring Handbook", published by Japan Spring Industry Association, 1st edition issued on April 30, 2005, pp. 397-398

解決しようとする問題点は、面取りの精度が低下していた点である。 The problem to be solved is that the accuracy of chamfering has decreased.

本発明は、端部間で圧縮可能なコイルばねを搬送しながら前記コイルばねの端部を研磨して面取り加工を施す面取り加工装置を提供する。面取り加工装置は、前記コイルばねを搬送するコンベヤと、前記コンベヤの搬送方向に交差する幅方向で対向配置され前記コンベヤ上のコイルばねの両端部をそれぞれガイドする一対のガイド部と、前記一対のガイド部にガイドされた前記コイルばねの端部を研磨する研磨機と、前記コンベヤ上に配置され前記研磨機による研磨時に前記コイルばねを前記コンベヤに対して押圧して転動させる押圧部とを備える。前記一対のガイド部は、前記コンベヤの幅方向での間隔を部分的に小さくし前記研磨機での研磨時に前記コイルばねを圧縮する圧縮部を有する。 The present invention provides a chamfering device for chamfering the ends of a coil spring by polishing the ends of the coil spring while conveying the coil spring compressible between the ends. The chamfering device includes a conveyor that conveys the coil spring, a pair of guide portions that are arranged opposite to each other in a width direction that intersects the conveying direction of the conveyor and guides both ends of the coil spring on the conveyor, and the pair of a polishing machine for polishing the end portion of the coil spring guided by the guide section; and a pressing section arranged on the conveyor for pressing the coil spring against the conveyor and rolling it during polishing by the polishing machine. Prepare. The pair of guide portions has a compression portion that partially reduces the gap in the width direction of the conveyor and compresses the coil spring during polishing with the polishing machine.

本発明は、コイルばねを圧縮することで、コイルばねの姿勢の安定性を保つことができ、且つ研磨される端部を研磨機に対して位置決めることができ、面取り精度を向上することができる。 According to the present invention, by compressing the coil spring, the stability of the posture of the coil spring can be maintained, and the edge to be ground can be positioned with respect to the grinding machine, thereby improving the chamfering accuracy. can.

面取り加工装置を示す平面図である（実施例１）。It is a top view which shows a chamfering processing apparatus (Example 1). 図１の面取り加工装置の正面図である（実施例１）。1. It is a front view of the chamfering processing apparatus of FIG. 1 (Example 1). 図１の面取り加工装置の第１面取り部のガイド部の要部を示す平面図である（実施例１）。FIG. 2 is a plan view showing a main portion of a guide portion of a first chamfering portion of the chamfering apparatus of FIG. 1 (Example 1); 変形例に係る面取り加工装置の正面図である（（実施例１）。It is a front view of the chamfering processing apparatus which concerns on a modification ((Example 1). 変形例に係る可動ガイド部の要部を示す平面図である（実施例１）。It is a top view which shows the principal part of the movable guide part which concerns on a modification (Example 1). 図１の面取り加工装置の要部を示す平面図である（実施例１）。FIG. 2 is a plan view showing a main part of the chamfering apparatus of FIG. 1 (Example 1); 変形例に係る面取り加工装置の平面図である（（実施例１）。It is a top view of the chamfering processing apparatus which concerns on a modification ((Example 1). 面取り加工装置を示す平面図である（実施例２）。It is a top view which shows a chamfering processing apparatus (Example 2). 面取り加工装置を示す平面図である（実施例３）。It is a top view which shows a chamfering processing apparatus (Example 3). 変形例に係る面取り加工装置を示す平面図である（実施例３）。It is a top view which shows the chamfering processing apparatus which concerns on a modification (Example 3).

面取り精度を向上するという目的を、コイルばねを圧縮しながら端部を研磨する面取り加工装置によって実現した。 The purpose of improving the chamfering accuracy was achieved by a chamfering machine that polishes the ends of the coil spring while compressing it.

面取り加工装置（１）は、端部（Ｅ１，Ｅ２）間で圧縮可能なコイルばね（Ｃ）を搬送しながらコイルばね（Ｃ）の端部（Ｅ１，Ｅ２）を研磨して面取り加工を施すものである。 A chamfering device (1) grinds and chamfers the ends (E1, E2) of the coil spring (C) while conveying the coil spring (C) compressible between the ends (E1, E2). It is.

この面取り加工装置（１）は、コンベヤ（１１）と、一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）と、研磨機（１５）と、押圧部（１７）とを備える。コンベヤ（１１）は、コイルばね（Ｃ）を搬送するものである。一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）は、コンベヤ（１１）の搬送方向に交差する幅方向で対向配置され、コンベヤ（１１）上のコイルばね（Ｃ）の両端部（Ｅ１，Ｅ２）をそれぞれガイドする。研磨機（１５）は、一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）にガイドされたコイルばね（Ｃ）の端部を研磨する。押圧部（１７）は、コンベヤ（１１）上に配置され、研磨機（１５）による研磨時にコイルばね（Ｃ）をコンベヤ（１１）に対して押圧して転動させる。 This chamfering device (1) comprises a conveyor (11), a pair of guides (13a, 13b), a grinder (15), and a presser (17). A conveyor (11) conveys the coil spring (C). A pair of guide portions (13a, 13b) are arranged opposite to each other in the width direction intersecting the conveying direction of the conveyor (11), and guide both ends (E1, E2) of the coil spring (C) on the conveyor (11), respectively. do. A grinder (15) grinds the ends of the coil spring (C) guided by the pair of guides (13a, 13b). The pressing part (17) is arranged on the conveyor (11), and presses the coil spring (C) against the conveyor (11) to roll during polishing by the polishing machine (15).

一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）は、コンベヤ（１１）の幅方向での間隔を部分的に小さくし、研磨機（１５）での研磨時にコイルばね（Ｃ）を圧縮する圧縮部（３１）を有する。 A pair of guide portions (13a, 13b) partially reduces the interval in the width direction of the conveyor (11), and a compression portion (31) compresses the coil spring (C) during polishing by the polishing machine (15). have

圧縮部（３１）は、一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）に対して一体又は別体に設けることが可能である。圧縮部（３１）を一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）に対して別体とする場合、圧縮部（３１）は、一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）よりも高硬度な材質で形成され、一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）の少なくとも一方に支持されてもよい。 The compression part (31) can be provided integrally with or separately from the pair of guide parts (13a, 13b). When the compression portion (31) is separate from the pair of guide portions (13a, 13b), the compression portion (31) is made of a material having higher hardness than the pair of guide portions (13a, 13b), It may be supported by at least one of the pair of guide portions (13a, 13b).

押圧部（１７）は、コンベヤ（１１）の搬送方向において少なくとも研磨機（１５）の研磨開始位置手前から研磨終了位置にわたり、圧縮部（３１）は、搬送方向の上流側に一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）の幅方向での間隔を漸次小さくするテーパ部（３３）を備えてもよい。この場合、テーパ部（３３）の始点（３３ａ）及び終点（３３ｂ）は、搬送方向における押圧部（１７）の上流側の端部（１７ａ）と研磨開始位置との間に配置してもよい。 The pressing part (17) extends from at least before the polishing start position of the polishing machine (15) to the polishing end position in the conveying direction of the conveyor (11), and the compressing part (31) is provided with a pair of guide parts ( 13a, 13b) may be provided with a tapered portion (33) that gradually reduces the spacing in the width direction. In this case, the start point (33a) and end point (33b) of the tapered portion (33) may be arranged between the upstream end (17a) of the pressing portion (17) in the conveying direction and the polishing start position. .

面取り加工装置（１）は、コイルばね（Ｃ）の両端部（Ｅ１，Ｅ２）のうちの異なる対象端部をそれぞれ研磨して面取り加工を施す相互に分離した第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）を備えてもよい。 A chamfering device (1) comprises a first chamfering part (5) and a first chamfering part (5) separated from each other for chamfering different target ends of both ends (E1, E2) of a coil spring (C) by polishing respectively. A double chamfer (7) may be provided.

第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）のそれぞれは、コンベヤ（１１）、一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）、研磨機（１５）、押圧部（１７）、圧縮部（３１）を備える。 Each of the first chamfered portion (5) and the second chamfered portion (7) includes a conveyor (11), a pair of guide portions (13a, 13b), a grinder (15), a pressing portion (17), a compressing portion (31). ).

一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）は、双方を固定的に設けてもよいが、一方を他方に対して可動にしてもよい。この場合、一対のガイド部（１３ａ，１３ｂ）は、固定ガイド部（１３ａ）と可動ガイド部（１３ｂ）とで構成する。固定ガイド部（１３ａ）は、コイルばね（Ｃ）の対象端部をガイドする。可動ガイド部（１３ｂ）は、固定ガイド部（１３ａ）に対してコンベヤ（１１）の幅方向で変位可能であり、コイルばね（Ｃ）の非対象端部をガイドする。 Both of the pair of guide portions (13a, 13b) may be fixed, or one may be movable with respect to the other. In this case, the pair of guide portions (13a, 13b) is composed of a fixed guide portion (13a) and a movable guide portion (13b). The fixed guide portion (13a) guides the target end portion of the coil spring (C). The movable guide portion (13b) is displaceable relative to the fixed guide portion (13a) in the width direction of the conveyor (11) and guides the asymmetric end of the coil spring (C).

第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）は、双方を固定又は少なくとも一方を可動としてもよい。 Both the first chamfered portion (5) and the second chamfered portion (7) may be fixed or at least one may be movable.

第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）を固定する場合は、第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）間でコイルばね（Ｃ）を連携させる連繋部（９）を備える。連繋部（９）の一実施形態では、第１面取り部（５）からコイルばね（Ｃ）を移乗させて第２面取り部（７）へと搬送する。 When fixing the first chamfered portion (5) and the second chamfered portion (7), the linking portion (9) that links the coil spring (C) between the first chamfered portion (5) and the second chamfered portion (7) ). In one embodiment of the connecting part (9), the coil spring (C) is transferred from the first chamfer (5) and conveyed to the second chamfer (7).

第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）の少なくとも一方を可動とする場合は、第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）のコンベヤ（１１）の搬送方向が相互に一致し、第１面取り部（５）及び第２面取り部（７）を相対的に幅方向に移動自在とする。 When at least one of the first chamfered portion (5) and the second chamfered portion (7) is movable, the conveying directions of the conveyor (11) of the first chamfered portion (5) and the second chamfered portion (7) are mutually , and the first chamfered portion (5) and the second chamfered portion (7) are relatively movable in the width direction.

押圧部（１７）は、少なくとも搬送方向における研磨開始位置手前から研磨終了位置にわたり、研磨開始位置手前において幅方向で膨出する膨出部（１７ｃ，１７ｄ）を有してもよい。 The pressing portion (17) may have bulging portions (17c, 17d) that bulge in the width direction at least before the polishing start position from before the polishing start position to the polishing end position in the transport direction.

面取り加工装置（１）は、押圧部（１７）をコンベヤ（１１）に対して近接離間可能に支持し、近接離間によってコイルばね（Ｃ）を押圧する荷重を調整可能とする支持部（４７）と、押圧部（１７）の荷重を検出する荷重センサー（４９）とを備えてもよい。この場合、支持部（４７）は、荷重センサー（４９）の検出結果に基づき押圧部（１７）を近接離反して荷重を調整する。 The chamfering device (1) supports the pressing part (17) so as to be able to approach and separate from the conveyor (11), and the supporting part (47) adjusts the load pressing the coil spring (C) by approaching and separating from the conveyor (11). and a load sensor (49) for detecting the load of the pressing portion (17). In this case, the support part (47) adjusts the load by moving the pressing part (17) closer and away based on the detection result of the load sensor (49).

面取り加工装置（１）は、コンベヤ（１１）上でのコイルばね（Ｃ）の姿勢を取得する姿勢取得部（２７）と、姿勢取得部（２７）で取得したコイルばね（Ｃ）の姿勢を判断する姿勢判断部（３）と、コンベヤ（１１）上に進退可能に支持された遮断部材（２５）とを備えてもよい。この構成では、コイルばね（Ｃ）がコンベヤ（１１）の幅方向に対する傾斜量が閾値以上の場合に、遮断部材（２５）をコンベヤ（１１）上に進出させてコイルばね（Ｃ）の搬送を遮断する。 A chamfering device (1) includes an orientation acquisition unit (27) for acquiring the orientation of a coil spring (C) on a conveyor (11), and the orientation of the coil spring (C) acquired by the orientation acquisition unit (27). A posture determination unit (3) for determination and a blocking member (25) supported so as to move back and forth on the conveyor (11) may be provided. In this configuration, when the amount of inclination of the coil spring (C) with respect to the width direction of the conveyor (11) is equal to or greater than the threshold value, the blocking member (25) advances onto the conveyor (11) to transport the coil spring (C). Cut off.

面取り加工装置（１）は、研磨機（１５）を、コイルばね（Ｃ）に対する進出移動量によって面取り量の調整を可能としてもよい。この場合、面取り加工装置（１）は、進出移動を制御する進出移動制御部（３）と、コイルばね（Ｃ）の面取り量を取得する面取り量取得部（４３ａ，４３ｂ）と、面取り量取得部（４３ａ，４３ｂ）で取得したコイルばね（Ｃ）の面取り量が所定値か否かを判断する面取り量判断部（３）とを更に備えてもよい。この構成では、面取り量が所定値から外れている場合に、進出移動制御部（３）が面取り量を所定値とするように研磨機（１５）の進出移動量を調整する。 The chamfering device (1) may allow the grinder (15) to adjust the amount of chamfering by moving the grinder (15) toward the coil spring (C). In this case, the chamfering device (1) includes an advancing movement control section (3) for controlling advancing movement, a chamfering amount acquisition section (43a, 43b) for acquiring the chamfering amount of the coil spring (C), and a chamfering amount acquisition A chamfering amount determination unit (3) for determining whether or not the chamfering amount of the coil spring (C) obtained in the unit (43a, 43b) is a predetermined value may be further provided. In this configuration, when the chamfering amount is out of the predetermined value, the advancing movement control section (3) adjusts the advancing movement amount of the grinding machine (15) so that the chamfering amount becomes the predetermined value.

研磨機（１５）は、回転によって外周で研磨を行う周回状の砥石を有してもよい。この場合、面取り加工装置（１）は研磨機（１５）の回転速度を制御する回転速度制御部（３）と、研磨機（１５）の外径を検出する検出部（４１）とを備えてもよい。この場合、回転速度制御部（３）は、検出部（４１）で検出した研磨機（１５）の外径に応じて回転速度を調整して周速度が一定となるようにする。 The grinder (15) may have a circular grindstone that grinds on its periphery by rotation. In this case, the chamfering device (1) comprises a rotation speed control section (3) for controlling the rotation speed of the grinder (15) and a detection section (41) for detecting the outer diameter of the grinder (15). good too. In this case, the rotational speed control section (3) adjusts the rotational speed according to the outer diameter of the grinding machine (15) detected by the detection section (41) so that the peripheral speed is constant.

［面取り加工装置の構造］
図１は、本発明の実施例１に係る面取り加工装置を示す概略平面図であり、図２は、面取り加工装置の概略正面図である。 [Structure of chamfering device]
FIG. 1 is a schematic plan view showing a chamfering device according to Example 1 of the present invention, and FIG. 2 is a schematic front view of the chamfering device.

面取り加工装置１は、制御部３による制御の下、コイルばねＣを搬送しながら、コイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２を面取り加工するものである。面取り加工は、外面取りをすることであり、コイルばねＣの端面Ｆ１，Ｆ２によるエッジを除去して面取りをする。 The chamfering device 1 chamfers both end portions E1 and E2 of the coil spring C while conveying the coil spring C under the control of the control unit 3 . The chamfering process is to chamfer the outer surface of the coil spring C by removing the edges of the end faces F1 and F2.

なお、制御部３は、面取り加工装置１の各部を制御するコンピューターであり、データライン３ａにより各部に接続されている。データライン３ａに代えて、無線通信を利用してもよい。制御部３は、ＣＰＵ等のプロセッサーやＲＯＭ、ＲＡＭ、ＨＤＤ、ＳＳＤ等のメモリーデバイスを有する。 The control section 3 is a computer that controls each section of the chamfering apparatus 1, and is connected to each section by a data line 3a. Wireless communication may be used instead of the data line 3a. The control unit 3 has a processor such as a CPU and memory devices such as ROM, RAM, HDD, and SSD.

面取り対象のコイルばねＣは、本実施例において圧縮ばね等の両端部Ｅ１，Ｅ２間で圧縮可能なものである。ただし、コイルばねＣは、引張ばねのように両端部Ｅ１，Ｅ２間で圧縮不能なものであってもよい。 The coil spring C to be chamfered is compressible between both ends E1 and E2 of a compression spring or the like in this embodiment. However, the coil spring C may be incompressible between the ends E1 and E2 like a tension spring.

また、本実施例のコイルばねＣは、軸方向の全域にわたって径が一定であるが、軸方向で径を変化させたものとしてもよい。コイルばねＣの素線の断面形状は、円形であるが、楕円形、矩形等の他の断面形状とすることが可能である。また、コイルばねＣの材質は、金属のみならず、樹脂等であってもよい。 Further, although the coil spring C of this embodiment has a constant diameter over the entire axial direction, the diameter may be varied in the axial direction. The cross-sectional shape of the wires of the coil spring C is circular, but other cross-sectional shapes such as elliptical and rectangular are possible. Further, the material of the coil spring C is not limited to metal, and may be resin or the like.

本実施例の面取り加工装置１は、第１面取り部５及び第２面取り部７と、連繋部９とを備えている。 The chamfering device 1 of this embodiment includes a first chamfering portion 5 , a second chamfering portion 7 , and a connecting portion 9 .

第１面取り部５及び第２面取り部７は、相互に分離し、それぞれコイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２のうちの異なる対象端部を研磨して面取り加工を施す。第１面取り部５及び第２面取り部７の分離は、第１面取り部５及び第２面取り部７間が物理的に分離又は分割していることをいう。 The first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 are separated from each other, and different target end portions of both end portions E1 and E2 of the coil spring C are ground and chamfered. Separation of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 means physical separation or division between the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 .

これら第１面取り部５及び第２面取り部７は、後述する搬送方向の長さが、それぞれ従来の面取り加工装置の半分以下に短く設定されている。ただし、第１面取り部５及び第２面取り部７の長さは、それぞれ従来の面取り加工装置に対して短ければよい。 The lengths of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 in the conveying direction, which will be described later, are each set to be shorter than half that of the conventional chamfering apparatus. However, the lengths of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 may be shorter than those of the conventional chamfering apparatus.

なお、コイルばねＣの対象端部とは、コイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２のうちの第１面取り部５及び第２面取り部７において面取りの対象となる端部をいう。これら対象端部は、コイルばねＣの特定の端部ではなく、第１面取り部５にコイルばねＣが供給された時点で決まる。 Note that the target end portions of the coil spring C refer to the end portions to be chamfered in the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 of the both end portions E1 and E2 of the coil spring C. As shown in FIG. These target ends are not specific ends of the coil spring C, but are determined at the time the coil spring C is fed to the first chamfer 5 .

つまり、第１面取り部５上に供給されたコイルばねＣの後述する一対のガイド部１３ａ，１３ｂの一方（固定ガイド部１３ａ）でガイドされる端部Ｅ１，Ｅ２の一方が、第１面取り部５の対象端部となる。第２面取り部７の対象端部は、第１面取り部５の対象端部とは軸方向の反対側の端部Ｅ１，Ｅ２の他方である。 That is, one of the ends E1 and E2 guided by one (fixed guide portion 13a) of a pair of guide portions 13a and 13b described later of the coil spring C supplied onto the first chamfered portion 5 is the first chamfered portion. 5 target end. The target end of the second chamfered portion 7 is the other of the ends E1 and E2 on the side opposite to the target end of the first chamfered portion 5 in the axial direction.

ただし、本実施例では、理解容易のため、端部Ｅ１が第１面取り部５の対象端部であり、端部Ｅ２が第２面取り部７の対象端部であるものとして説明する。 However, in this embodiment, for ease of understanding, the description will be made assuming that the end E1 is the target end of the first chamfered portion 5 and the end E2 is the target end of the second chamfered portion 7 .

かかる第１面取り部５及び第２面取り部７は、コイルばねＣの搬送方向が一致し、相対的に幅方向に移動不能に固定的に設けられている。第１面取り部５及び第２面取り部７のコイルばねＣの搬送方向は、異ならせることも可能である。 The first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 are arranged so that the conveying direction of the coil spring C is the same, and relatively immovable in the width direction. The conveying directions of the coil springs C of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 can be different.

第２面取り部７は、第１面取り部５での面取り後の面取りを行うため、第１面取り部５に対して搬送方向の後方に位置している。また、第１面取り部５及び第２面取り部７は、幅方向にもずれて位置し、図１において上下対称に構成されている。 The second chamfered portion 7 is located behind the first chamfered portion 5 in the transport direction in order to perform chamfering after chamfering by the first chamfered portion 5 . In addition, the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 are also shifted in the width direction, and are vertically symmetrical in FIG.

第１面取り部５及び第２面取り部７のそれぞれは、コンベヤ１１と、一対のガイド部１３ａ，１３ｂと、研磨機１５と、押圧部１７とを備えている。なお、第１面取り部５及び第２面取り部７は、基本的に同一構成であるため、第１面取り部５についてのみ説明する。第２面取り部７については、第１面取り部５の説明において符号を括弧書きで示し、必要に応じて別途説明する。 Each of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 includes a conveyor 11 , a pair of guide portions 13 a and 13 b , a grinder 15 and a pressing portion 17 . Since the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 basically have the same configuration, only the first chamfered portion 5 will be described. Regarding the second chamfered portion 7, reference numerals are shown in parentheses in the description of the first chamfered portion 5, and will be described separately as necessary.

コンベヤ１１は、コイルばねＣを搬送するものである。本実施例のコンベヤ１１は、ベルトコンベヤであり、ローラー１９に巻き回されたベルト２１を備える。ベルト２１は、ゴム等の弾性体である。なお、コンベヤ１１は、チェーンコンベヤやローラーコンベヤ等を採用することも可能である。 The conveyor 11 conveys the coil spring C. As shown in FIG. The conveyor 11 in this embodiment is a belt conveyor and comprises a belt 21 wound around rollers 19 . The belt 21 is an elastic body such as rubber. In addition, the conveyor 11 can also employ a chain conveyor, a roller conveyor, or the like.

コンベヤ１１にローラーコンベヤを用いる場合は、搬送方向の研磨機１５に対応した部分において、ベルトコンベヤやチェーンコンベヤを併用するのが好ましい。搬送方向は、コンベヤ１１によってコイルばねＣを搬送する方向であり、コンベヤ１１の走行方向に一致する。 When a roller conveyor is used as the conveyor 11, it is preferable to use a belt conveyor or a chain conveyor together in a portion corresponding to the polishing machine 15 in the transport direction. The conveying direction is the direction in which the coil spring C is conveyed by the conveyor 11 and coincides with the running direction of the conveyor 11 .

コンベヤ１１の幅方向の寸法（幅）は、加工対象となり得る最も長いコイルばねＣを搬送可能とする程度に設定されている。幅方向とは、コンベヤ１１の搬送方向に交差する方向である。幅方向には、搬送方向に直交した方向に加え、搬送方向に直交した方向に対して僅かに傾斜した方向も含まれる。 The dimension (width) of the conveyor 11 in the width direction is set to the extent that the longest coil spring C that can be processed can be conveyed. The width direction is a direction intersecting the conveying direction of the conveyor 11 . The width direction includes not only the direction perpendicular to the conveying direction, but also the direction slightly inclined with respect to the direction perpendicular to the conveying direction.

コンベヤ１１へのコイルばねＣの供給は、ロボットアーム、他のコンベヤ等の適宜の搬送機構によって行うことが可能である。本実施例では、コンベヤ１１の搬送方向の上流に位置するプッシャー２３が、コンベヤ１１との間に順次供給されたコイルばねＣをコンベヤ１１上に押し込む。プッシャー２３は、例えばシリンダー装置２３ａの先端に取り付けられたプレート部材によって構成することが可能である。 The supply of the coil springs C to the conveyor 11 can be performed by an appropriate transport mechanism such as a robot arm or another conveyor. In this embodiment, the pusher 23 located upstream of the conveyer 11 in the conveying direction pushes the coil springs C successively supplied between the conveyer 11 and the conveyer 11 onto the conveyer 11 . The pusher 23 can be composed of, for example, a plate member attached to the tip of the cylinder device 23a.

なお、第２面取り部７のプッシャー２３は、連繋部９によってコンベヤ１１との間に順次供給されたコイルばねＣをコンベヤ１１上に押し込む。ただし、第１面取り部５及び第２面取り部７の何れにおいても、コイルばねＣは、搬送機構によって直接コンベヤ１１上へ供給してもよい。 The pusher 23 of the second chamfered portion 7 pushes onto the conveyor 11 the coil springs C sequentially supplied between the conveyor 11 and the connecting portion 9 . However, in both the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, the coil spring C may be directly supplied onto the conveyor 11 by the conveying mechanism.

コンベヤ１１上に供給されたコイルばねＣは、コンベヤ１１の幅方向に沿っているのが好ましい姿勢となる。幅方向に対して所定値以上に傾斜したコイルばねＣは、面取り不良や詰まりを生じる可能性がある。このため、本実施例では、そうした所定値以上に傾斜したコイルばねＣの搬送を遮断部材２５によって遮断するようになっている。 The coil spring C supplied onto the conveyor 11 is preferably oriented along the width direction of the conveyor 11 . A coil spring C inclined by a predetermined value or more with respect to the width direction may cause chamfering failure or clogging. For this reason, in this embodiment, the blocking member 25 blocks the conveying of the coil spring C tilted by a predetermined value or more.

遮断部材２５は、コンベヤ１１上に進退可能に支持された部材である。遮断部材２５の出没方向は、本実施例において上下である。ただし、遮断部材２５は、コンベヤ１１上に進退可能である限り、弧状に出没動作するものであってもよい。このため、遮断部材２５の出没は、直動機構や回転機構等の適宜の駆動機構によって行えばよい。 The blocking member 25 is a member supported on the conveyor 11 so as to be able to move back and forth. The projection and retraction direction of the blocking member 25 is up and down in this embodiment. However, as long as the blocking member 25 can move back and forth on the conveyor 11, it may be moved in and out in an arc shape. Therefore, the blocking member 25 can be moved in and out by an appropriate driving mechanism such as a direct-acting mechanism or a rotating mechanism.

この遮断部材２５は、コンベヤ１１上への進出によってコイルばねＣの搬送を遮断する。遮断部材２５の形状は、コイルばねＣの搬送を阻止できればよく、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間に位置可能であればよい。本実施例では、遮断部材２５が幅方向に沿った平面矩形状の部材となっている。 This blocking member 25 blocks the conveyance of the coil spring C by advancing onto the conveyor 11 . The blocking member 25 may have any shape as long as it can block the conveyance of the coil spring C and can be positioned between the pair of guide portions 13a and 13b. In this embodiment, the blocking member 25 is a flat rectangular member along the width direction.

また、遮断部材２５は、磁力、電磁力、粘着力等によってコイルばねＣを吸着する機能を有してもよい。この場合、搬送を遮断したコイルばねＣを、遮断部材２５の退避によって除去することが可能となる。 Also, the blocking member 25 may have a function of attracting the coil spring C by magnetic force, electromagnetic force, adhesive force, or the like. In this case, it becomes possible to remove the coil spring C that has blocked the transport by retracting the blocking member 25 .

かかる遮断部材２５による遮断は、制御部３によって行われるようになっている。すなわち、制御部３は、コンベヤ１１上のコイルばねＣの姿勢を取得し、コイルばねＣが幅方向に対する傾斜量が所定値以上の場合に遮断部材２５をコンベヤ１１上に進出させる。 The blocking by the blocking member 25 is performed by the control section 3 . That is, the control unit 3 obtains the posture of the coil spring C on the conveyor 11 and advances the blocking member 25 onto the conveyor 11 when the amount of inclination of the coil spring C with respect to the width direction is equal to or greater than a predetermined value.

なお、本実施例のコイルばねＣの搬送の遮断は、第１面取り部５及び第２面取り部７の双方において可能であるが、第１面取り部５及び第２面取り部７の一方においてのみ可能としてもよい。 It should be noted that although the conveyance of the coil spring C of this embodiment can be interrupted at both the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, it is possible only at one of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7. may be

コイルばねＣの姿勢の取得は、姿勢取得部としてのカメラ２７によって行うことが可能である。カメラ２７は、ＣＣＤカメラやＣＭＯＳカメラ等であり、コンベヤ１１上のコイルばねＣを撮像する。撮像方向は、本実施例において幅方向、つまりコイルばねＣの軸方向である。ただし、撮像方向は、コイルばねＣの姿勢を取得できる限り、上下方向等としてもよい。撮像した画像は、制御部３に送られる。制御部３では、姿勢判断部として、画像処理によってコイルばねＣの姿勢を判断する。 Acquisition of the orientation of the coil spring C can be performed by the camera 27 as an orientation acquisition unit. The camera 27 is a CCD camera, a CMOS camera, or the like, and images the coil spring C on the conveyor 11 . The imaging direction is the width direction, that is, the axial direction of the coil spring C in this embodiment. However, as long as the orientation of the coil spring C can be obtained, the imaging direction may be the vertical direction or the like. The captured image is sent to the control section 3 . The controller 3, as a posture determination unit, determines the posture of the coil spring C by image processing.

なお、姿勢取得部としては、コイルばねＣの変位、距離、ずれ、位置等を測定可能なレーザーセンサー、渦電流センサー、静電容量センサー等の各種のセンサーとしてもよい。また、姿勢判断部としては、別途のコンピューターである制御部を設けてもよい。 Various sensors such as a laser sensor, an eddy current sensor, and a capacitance sensor that can measure the displacement, distance, deviation, position, etc. of the coil spring C may be used as the posture acquisition unit. Also, as the posture determination unit, a control unit, which is a separate computer, may be provided.

図３は、図１の面取り加工装置１の第１面取り部５のガイド部１３ａ，１３ｂを示す概略平面図である。 FIG. 3 is a schematic plan view showing guide portions 13a and 13b of the first chamfering portion 5 of the chamfering apparatus 1 of FIG.

一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、図１～図３のように、コンベヤ１１の搬送方向に交差する幅方向で対向配置されている。これらガイド部１３ａ，１３ｂは、コンベヤ１１上のコイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２をそれぞれガイドする。 The pair of guide portions 13a and 13b are arranged to face each other in the width direction intersecting the conveying direction of the conveyor 11, as shown in FIGS. These guide portions 13a and 13b guide both end portions E1 and E2 of the coil spring C on the conveyor 11, respectively.

一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、コイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２をガイドして幅方向に位置決めるものであれば形状は任意である。ガイドとは、摺動を意味するが、常時摺動することではない。つまり、コイルばねＣは、搬送中に幅方向に変位しても、その変位がガイド部１３ａ，１３ｂの一方によるガイドで制限される。 The pair of guide portions 13a and 13b may have any shape as long as they guide both end portions E1 and E2 of the coil spring C and position them in the width direction. Guide means sliding, but not always sliding. That is, even if the coil spring C is displaced in the width direction during transportation, the displacement is limited by one of the guide portions 13a and 13b.

かかる一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、搬送方向に沿った摺動用のガイド面２９ａ，２９ｂを有する構成であればよい。本実施例の一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、断面矩形の長尺状の部材からなり、その長手方向に沿ってガイド面２９ａ，２９ｂを形成している。ガイド面２９ａ，２９ｂは、相互に平行な平面で構成される。 The pair of guide portions 13a and 13b may be configured to have guide surfaces 29a and 29b for sliding along the transport direction. The pair of guide portions 13a and 13b of the present embodiment are made of long members having a rectangular cross section, and form guide surfaces 29a and 29b along the longitudinal direction thereof. The guide surfaces 29a and 29b are composed of planes parallel to each other.

これら一対のガイド部１３ａ，１３ｂの搬送方向の長さは、従来のガイド部の半分以下になっている。これにより、一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、平行度を高めることができ、且つ要求される平行度の許容幅を大きくできる。 The length of the pair of guide portions 13a and 13b in the conveying direction is less than half that of the conventional guide portions. As a result, the pair of guide portions 13a and 13b can increase the degree of parallelism and increase the allowable width of the required degree of parallelism.

平行度の許容幅は、搬送方向の研磨機１５に対応した部分において、ガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔を許容範囲内にできるガイド部１３ａ，１３ｂの平行度の範囲をいう。 The allowable range of parallelism means the range of parallelism of the guide portions 13a and 13b in which the interval between the guide portions 13a and 13b can be within the allowable range in the portion corresponding to the grinder 15 in the transport direction.

ガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔は、従来のように双方の研磨機１５に対して一対のガイド部１３ａ，１３ｂの平行度を設定しようとすると、平行度によっては、一方の研磨機１５に対応した部分では許容範囲内であっても、他方の研磨機１５に対応した部分では大きく又は小さくなりすぎて許容範囲外となることがある。 The distance between the guide portions 13a and 13b corresponds to one of the grinders 15 depending on the degree of parallelism when trying to set the parallelism of the pair of guide portions 13a and 13b for both grinders 15 as in the conventional art. Even if the portion corresponding to the other grinder 15 is within the allowable range, the portion corresponding to the other grinder 15 may be too large or too small to be outside the allowable range.

このため、従来は、一方の研磨機１５に対してのみガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔が許容範囲内となる平行度を採用することはできなかった。これに対し、本実施例は、そのような平行度であっても採用することが可能となる。つまり、本実施例では、平行度の許容幅が大きくなる。 For this reason, conventionally, it has not been possible to adopt a parallelism in which the distance between the guide portions 13a and 13b is within the allowable range only for one polishing machine 15. As shown in FIG. On the other hand, the present embodiment can employ even such a degree of parallelism. That is, in this embodiment, the allowable range of parallelism is increased.

本実施例において、一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、それぞれ固定ガイド部１３ａ及び可動ガイド部１３ｂとなっている。 In this embodiment, the pair of guide portions 13a and 13b are a fixed guide portion 13a and a movable guide portion 13b, respectively.

固定ガイド部１３ａは、幅方向に移動しないように固定して設けられる。固定ガイド部１３ａの固定は、面取り加工装置１のフレーム（図示せず）等に対して行えばよい。この固定ガイド部１３ａは、コンベヤ１１に幅方向で対向して配置されており、一部がコンベヤ１１のベルト２１に対して突出する。 The fixed guide portion 13a is fixed so as not to move in the width direction. The fixed guide portion 13a may be fixed to a frame (not shown) of the chamfering apparatus 1 or the like. The fixed guide portion 13 a is arranged to face the conveyor 11 in the width direction, and a part of the fixed guide portion 13 a protrudes from the belt 21 of the conveyor 11 .

この固定ガイド部１３ａの突出部分が、可動ガイド部１３ｂと幅方向で対向し、コイルばねＣの対象端部Ｅ１（Ｅ２）をガイドする。また、固定ガイド１３ａは、突出方向（上下方向）の先端に斜面１３ａａを備え、後述する研磨機１５の砥石３９との干渉を避けている。 The projecting portion of the fixed guide portion 13a faces the movable guide portion 13b in the width direction, and guides the target end portion E1 (E2) of the coil spring C. As shown in FIG. In addition, the fixed guide 13a has a slope 13aa at the tip in the projecting direction (vertical direction) to avoid interference with a grindstone 39 of the grinder 15, which will be described later.

なお、固定ガイド部１３ａは、図４の変形例のようにコンベヤ１１上に位置させることも可能である。 It should be noted that the fixed guide portion 13a can also be positioned on the conveyor 11 as in the modification shown in FIG.

可動ガイド部１３ｂは、コイルばねＣの非対象端部Ｅ２（Ｅ１）をガイドするものであり、固定ガイド部１３ａに対して幅方向で変位可能となっている。なお、一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、双方を固定して設けることも可能である。 The movable guide portion 13b guides the asymmetric end portion E2 (E1) of the coil spring C, and is displaceable in the width direction with respect to the fixed guide portion 13a. Note that the pair of guide portions 13a and 13b can also be fixed and provided.

可動ガイド部１３ｂの変位は、同一ロットのコイルばねＣの面取り加工の開始前において、直動機構や回動機構等の駆動機構の動作によって行われる。駆動機構の動作は、ハンドル等の操作部の操作や電動モーター等によって行えばよい。 The displacement of the movable guide portion 13b is performed by the operation of a drive mechanism such as a direct-acting mechanism or a rotating mechanism before starting the chamfering of the coil springs C of the same lot. The drive mechanism may be operated by operating an operating portion such as a handle or by an electric motor or the like.

なお、可動ガイド部１３ｂを変位させても、一対のガイド部１３ａ，１３ｂに要求される平行度の許容幅が大きくなっているので、その後の調整等が不要又は簡素化できる。同一ロットのコイルばねＣは、同一長さを有するものとして設計されている。ただし、同一ロットのコイルばねＣは、製造誤差を含むため、実際は同一長さではないことが多い。 Note that even if the movable guide portion 13b is displaced, the allowable range of parallelism required for the pair of guide portions 13a and 13b is large, so subsequent adjustment or the like can be eliminated or simplified. Coil springs C of the same lot are designed to have the same length. However, the coil springs C of the same lot often do not have the same length due to manufacturing errors.

かかる可動ガイド部１３ｂの変位により、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔は、コイルばねＣの自由長にクリアランスを加えた程度に設定される。コイルばねＣの自由長とは、外力が加わっていない状態のコイルばねＣの長さをいう。ここでの自由長は、コイルばねＣの設計時の自由長である。クリアランスは、コイルばねＣの製造誤差や搬送の円滑等を考慮して設定すればよい。 Due to the displacement of the movable guide portion 13b, the distance between the pair of guide portions 13a and 13b is set to the extent of the free length of the coil spring C plus the clearance. The free length of the coil spring C refers to the length of the coil spring C to which no external force is applied. The free length here is the free length of the coil spring C when it is designed. The clearance may be set in consideration of the manufacturing error of the coil spring C, the smoothness of transportation, and the like.

本実施例の可動ガイド部１３ｂは、圧縮部３１を有する。圧縮部３１は、コンベヤ１１の幅方向での間隔を部分的に小さくし、研磨機１５での研磨時にコイルばねＣを圧縮するものである。圧縮部３１による間隔の減少量（圧縮部３１の突出量）は、面取り対象のコイルばねＣの自由長によって決まる。 The movable guide portion 13 b of this embodiment has a compression portion 31 . The compression part 31 partially reduces the interval in the width direction of the conveyor 11 and compresses the coil spring C during polishing by the polishing machine 15 . The amount of reduction in the interval by the compression portion 31 (the amount of protrusion of the compression portion 31) is determined by the free length of the coil spring C to be chamfered.

具体的には、圧縮部３１による間隔の減少量は、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔がコイルばねＣの設計時の自由長から予想される最大の製造誤差を引いた寸法よりも小さくなる範囲とする。ただし、コイルばねＣの転動が圧縮により阻害されないようにする必要がある。 Specifically, the amount of reduction in the space due to the compressing portion 31 is smaller than the dimension obtained by subtracting the maximum expected manufacturing error from the free length of the coil spring C in designing the space between the pair of guide portions 13a and 13b. range. However, it is necessary to ensure that the rolling motion of the coil spring C is not hindered by the compression.

この圧縮部３１は、可動ガイド部１３ｂに一体に設けられ、可動ガイド部１３ｂと同材質のステンレス鋼等によって形成されている。なお、圧縮部３１は、可動ガイド部１３ｂに代えて或いは可動ガイド部１３ｂと共に固定ガイド部１３ａに設けてもよい。従って、圧縮部３１は、可動ガイド部１３ｂ及び固定ガイド部１３ａの一方又は双方に設けることが可能である。 The compression portion 31 is provided integrally with the movable guide portion 13b and is made of the same material as the movable guide portion 13b, such as stainless steel. The compressing portion 31 may be provided on the fixed guide portion 13a instead of the movable guide portion 13b or together with the movable guide portion 13b. Therefore, the compressing portion 31 can be provided on one or both of the movable guide portion 13b and the fixed guide portion 13a.

本実施例の圧縮部３１は、搬送方向の両側にテーパ部３３，３５を備え、搬送方向のテーパ部３３，３５間に平面部３７を備えている。これらテーパ部３３，３５及び平面部３７を含めた圧縮部３１の搬送方向の長さは、後述する研磨機１５の砥石３９の搬送方向の長さよりも長く設定されている。 The compressing portion 31 of this embodiment includes tapered portions 33 and 35 on both sides in the conveying direction, and a plane portion 37 between the tapered portions 33 and 35 in the conveying direction. The length of the compressing portion 31 including the tapered portions 33 and 35 and the plane portion 37 in the conveying direction is set longer than the length of the grindstone 39 of the grinder 15 described later in the conveying direction.

搬送方向の上流側のテーパ部３３は、下流側に向けて一対のガイド部１３ａ，１３ｂの幅方向での間隔を漸次小さくする。テーパ部３３の始点３３ａ及び終点３３ｂは、後述する押圧部１７の搬送方向における上流側の端部１７ａと研磨開始位置３９ａとの間に配置されている。 The tapered portion 33 on the upstream side in the conveying direction gradually decreases the widthwise interval between the pair of guide portions 13a and 13b toward the downstream side. A start point 33a and an end point 33b of the tapered portion 33 are arranged between an upstream end portion 17a in the conveying direction of the pressing portion 17 described later and a polishing start position 39a.

テーパ部３３の始点３３ａは、そこから幅方向での一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔が減少し始め、テーパ部３３の終点３３ｂは、そこでテーパ部３３による一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔の減少が終了する。 At the start point 33a of the tapered portion 33, the distance between the pair of guide portions 13a, 13b in the width direction starts to decrease, and at the end point 33b of the tapered portion 33, the distance between the pair of guide portions 13a, 13b by the tapered portion 33 begins to decrease. interval decreases.

下流側のテーパ部３５は、下流側に向けて一対のガイド部１３ａ，１３ｂの幅方向での間隔を漸次大きくする。テーパ部３５の始点３５ａ及び終点３５ｂは、後述する研磨終了位置３９ｂと搬送方向における押圧部１７の下流側の端部１７ｅとの間に配置されている。テーパ部３５の始点３５ａは、そこから幅方向での一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔が増加し始め、テーパ部３５の終点３５ｂは、そこでテーパ部３５による一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔の増加が終了する。 The tapered portion 35 on the downstream side gradually increases the distance between the pair of guide portions 13a and 13b in the width direction toward the downstream side. A start point 35a and an end point 35b of the tapered portion 35 are arranged between a later-described polishing end position 39b and a downstream end portion 17e of the pressing portion 17 in the transport direction. At the start point 35a of the tapered portion 35, the distance between the pair of guide portions 13a and 13b in the width direction starts to increase, and at the end point 35b of the tapered portion 35, the distance between the pair of guide portions 13a and 13b by the tapered portion 35 increases. interval increases.

平面部３７は、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔を増減させずに遷移する部分である。この平面部３７により、研磨機１５で研磨している間は、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の幅方向での間隔を一定となる。 The plane portion 37 is a portion that transitions without increasing or decreasing the distance between the pair of guide portions 13a and 13b. Due to this plane portion 37, while the polishing is being performed by the polishing machine 15, the gap in the width direction between the pair of guide portions 13a and 13b is kept constant.

本実施例の平面部３７は、搬送方向で研磨機１５の砥石３９の両端から突出する範囲で設けられている。ただし、平面部３７は、搬送方向での両端を研磨機１５の砥石３９の両端に一致させてもよい。 The plane portion 37 of this embodiment is provided in a range protruding from both ends of the grindstone 39 of the grinder 15 in the transport direction. However, the planar portion 37 may have both ends in the transport direction aligned with both ends of the grindstone 39 of the grinder 15 .

なお、研磨機１５で研磨している間において、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔を変化させることも可能である。例えば、研磨機１５で研磨している間において、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔を搬送方向の下流側に向けて漸次大きくしてもよい。 It is also possible to change the distance between the pair of guide portions 13a and 13b while the polishing machine 15 is polishing. For example, during polishing by the polishing machine 15, the gap between the pair of guide portions 13a and 13b may be gradually increased toward the downstream side in the transport direction.

圧縮部３１は、図５の変形例のように可動ガイド部１３ｂと別体に設けることも可能である。図５は、変形例に係る可動ガイド部１３ｂを示す平面図である。この変形例の場合、圧縮部３１は、可動ガイド部１３ｂよりも高硬度な材質で形成され、可動ガイド部１３ｂに支持される。圧縮部３１の支持は、可動ガイド部１３ｂに形成された支持凹部１４に圧縮部３１を入れ込んでボルト等によって締結することで行われる。 The compressing portion 31 can also be provided separately from the movable guide portion 13b as in the modification of FIG. FIG. 5 is a plan view showing a movable guide portion 13b according to a modification. In the case of this modification, the compressing portion 31 is made of a material having higher hardness than that of the movable guide portion 13b, and is supported by the movable guide portion 13b. The compressing portion 31 is supported by inserting the compressing portion 31 into the support recess 14 formed in the movable guide portion 13b and tightening it with a bolt or the like.

圧縮部３１の材質は、高炭素マルテンサイト系ステンレス鋼のような高硬度ステンレス鋼等とすることが可能である。これにより、コイルばねＣを圧縮する際の圧縮部３１の摩耗を低減することが可能である。なお、圧縮部３１の材質は、ガイド部１３ａ，１３ｂの材質、コイルばねＣの材質との関係で任意に設定される。 The material of the compression part 31 can be high hardness stainless steel such as high carbon martensitic stainless steel. Thereby, it is possible to reduce wear of the compression portion 31 when the coil spring C is compressed. The material of the compression portion 31 is arbitrarily set in relation to the material of the guide portions 13a and 13b and the material of the coil spring C. As shown in FIG.

研磨機１５は、対象端部Ｅ１（Ｅ２）をガイドする一対のガイド部１３ａ，１３ｂの一方である固定ガイド部１３ａに対して設けられ、対象端部Ｅ１（Ｅ２）を研磨する。本実施例の研磨機１５は、回転によって外周で研磨を行う周回状の砥石３９を有する。なお、砥石３９に代えて、バイスやフライス等を採用することも可能である。 The grinder 15 is provided for the fixed guide portion 13a, which is one of the pair of guide portions 13a and 13b that guide the target end E1 (E2), and grinds the target end E1 (E2). The grinder 15 of this embodiment has a circular grindstone 39 that grinds the outer periphery by rotation. A vise, a milling cutter, or the like may be used instead of the grindstone 39. FIG.

砥石３９は、回転軸４０が搬送方向に沿って配置されている。砥石３９の外周の一部がコンベヤ１１上に臨む。この砥石３９は、コイルばねＣに搬送方向の上流側の端部３９ａが研磨開始位置であり、下流側の端部３９ｂが研磨終了位置である。 The grindstone 39 has a rotating shaft 40 arranged along the conveying direction. A part of the outer circumference of the grindstone 39 faces the conveyor 11 . The grindstone 39 has a polishing start position at the end 39a on the upstream side in the conveying direction of the coil spring C, and a polishing end position at the downstream end 39b.

研磨の開始は、コイルばねＣに対して進退自在な砥石３９を、初期位置から進出移動してコイルばねＣの対象端部Ｅ１（Ｅ２）に接触させて行われる。従って、実際の研磨が開始される研磨開始位置は、厳密には一定ではない。このため、本実施例では、最も早く研磨が開始することが可能な、搬送方向の上流側の砥石３９の端部３９ａを研磨開始位置としている。 Polishing is started by moving the grindstone 39, which can move back and forth with respect to the coil spring C, forward from the initial position and bring it into contact with the target end portion E1 (E2) of the coil spring C. As shown in FIG. Therefore, the polishing start position where the actual polishing is started is not strictly constant. For this reason, in the present embodiment, the end portion 39a of the grindstone 39 on the upstream side in the transport direction, where polishing can be started earliest, is set as the polishing start position.

研磨の終了は、砥石３９をコイルばねＣの対象端部Ｅ１（Ｅ２）から離反させることで行われる。このため、実際の研磨が終了する研磨終了位置は、研磨開始位置と同様、厳密には一定ではない。このため、本実施例では、最も遅く研磨を終了することが可能な、搬送方向の下流側の砥石３９の端部３９ｂを研磨終了位置としている。 Polishing is finished by separating the grindstone 39 from the target end E1 (E2) of the coil spring C. As shown in FIG. For this reason, the polishing end position where the actual polishing ends is not exactly the same as the polishing start position. For this reason, in the present embodiment, the end portion 39b of the whetstone 39 on the downstream side in the conveying direction, where polishing can be finished the latest, is set as the polishing end position.

砥石３９の回転は、電動モーター（図示せず）によって行われる。砥石３９の回転速度は、回転速度制御部としての制御部３によって制御される。この回転速度の制御では、研磨機１５の砥石３９の外径に応じて回転速度を調整し、砥石３９の周速度（外径×π×回転数）が一定となるようにする。 The grindstone 39 is rotated by an electric motor (not shown). The rotation speed of the grindstone 39 is controlled by a control section 3 as a rotation speed control section. In this rotational speed control, the rotational speed is adjusted according to the outer diameter of the grindstone 39 of the grinder 15 so that the peripheral speed of the grindstone 39 (outer diameter.times..pi..times.rotational speed) is constant.

なお、本実施例の砥石３９の回転速度の調整は、第１面取り部５及び第２面取り部７の双方において可能であるが、第１面取り部５及び第２面取り部７の一方においてのみ可能としてもよい。また、回転速度制御部としては、別途のコンピューターである制御部を設けてもよい。 The rotation speed of the grindstone 39 of this embodiment can be adjusted at both the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, but only at one of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7. may be Further, as the rotational speed control section, a separate control section, which is a computer, may be provided.

砥石３９の外径の取得は、センサーやカメラ等の検出部４１によって行うことが可能である。センサーは、接触式変位センサー等の接触式センサーや光センサー等の非接触式センサーのような適宜の手法により外径を測定するものであればよい。カメラは、研磨機１５の砥石３９を撮像した画像により外径を取得可能とすればよい。カメラの場合は、砥石３９の外径は、制御部３での画像処理によって求めればよい。 Acquisition of the outer diameter of the grindstone 39 can be performed by a detection unit 41 such as a sensor or a camera. The sensor may be a contact-type sensor such as a contact-type displacement sensor or a non-contact-type sensor such as an optical sensor that measures the outer diameter by an appropriate method. The camera may be capable of acquiring the outer diameter from an image of the grindstone 39 of the grinder 15 . In the case of a camera, the outer diameter of the whetstone 39 can be obtained by image processing in the control section 3 .

本実施例の砥石３９は、コイルばねＣに対する初期位置からの進出移動の移動量（進出移動量）を調整することによって研磨機１５の面取り量の調整が可能となっている。本実施例の面取り量の調整は、第１面取り部５及び第２面取り部７の双方において可能であるが、第１面取り部５及び第２面取り部７の一方においてのみ可能としてもよい。 The whetstone 39 of this embodiment can adjust the amount of chamfering of the grinder 15 by adjusting the amount of advance movement (advancement movement amount) from the initial position with respect to the coil spring C. As shown in FIG. The amount of chamfering in this embodiment can be adjusted for both the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 , but it may be possible for only one of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 .

かかる面取り量の調整は、進出移動制御部としての制御部３によって行われる。すなわち、制御部３は、面取りが完了したコイルばねＣから面取り量を取得し、取得した面取り量と所定値との差をなくすように砥石３９の進出移動量を増減させる。なお、進出移動制御部としては、別途のコンピューターである制御部を設けてもよい。 The adjustment of the amount of chamfering is performed by the control section 3 as an advancing movement control section. That is, the control unit 3 acquires the amount of chamfering from the coil spring C whose chamfering has been completed, and increases or decreases the advance movement amount of the grindstone 39 so as to eliminate the difference between the acquired amount of chamfering and the predetermined value. In addition, a control unit, which is a separate computer, may be provided as the advancing movement control unit.

面取り量の調整時期は、面取り加工中のロットと次のロットとの間である。従って、面取り加工中のロットで得られた面取り量に基づいて、次のロットの面取り加工開始時に面取り量を調整する。面取り量の調整に用いられる面取り済みのコイルばねＣの面取り量は、ロット中の最後のコイルばねＣの面取り量やロット中の一部又は全部のコイルばねＣの面取り量の平均等とすることが可能である。 The timing for adjusting the amount of chamfering is between the lot being chamfered and the next lot. Therefore, based on the amount of chamfering obtained in the lot being chamfered, the amount of chamfering is adjusted at the start of chamfering of the next lot. The chamfering amount of the chamfered coil spring C used for adjusting the chamfering amount shall be the average of the chamfering amount of the last coil spring C in the lot or the chamfering amount of some or all of the coil springs C in the lot. is possible.

なお、面取り量の調整時期は、同一ロットのコイルばねＣの加工中であってもよい。この場合、直前の面取り済みコイルばねＣの面取り量を用いて、リアルタイムで研磨機１５の面取り量が調整される。 The timing for adjusting the amount of chamfering may be during processing of the coil springs C of the same lot. In this case, the chamfering amount of the chamfered coil spring C immediately before is used to adjust the chamfering amount of the grinder 15 in real time.

進出移動量の増減は、ロット間において砥石３９を一度初期位置に退避させる場合、単純に初期位置からの進出移動量を増減させればよい。ロット間において砥石３９を退避させない場合は、砥石３９を進出した状態において進退させることにより、結果として初期位置からの進出移動量を増減させればよい。リアルタイムの調整時には、砥石３９を退避させないので、砥石３９を進退させればよい。 When the grindstone 39 is once retracted to the initial position between lots, the advance movement amount can be increased or decreased simply by increasing or decreasing the advance movement amount from the initial position. When the grinding wheel 39 is not retracted between lots, the grinding wheel 39 may be advanced and retracted in the advanced state, and as a result, the advancing movement amount from the initial position may be increased or decreased. Since the whetstone 39 is not retracted during real-time adjustment, the whetstone 39 should be advanced and retreated.

砥石３９の進退移動可能な支持は、直動機構や回転機構等の適宜の駆動機構によって行うことが可能である。面取り量の取得は、面取り量取得部としてのカメラ４３ａ，４３ｂを通じて行うことが可能である。 The grindstone 39 can be supported so as to move back and forth by an appropriate drive mechanism such as a direct-acting mechanism or a rotating mechanism. Acquisition of the chamfering amount can be performed through the cameras 43a and 43b as a chamfering amount acquisition unit.

カメラ４３ａ，４３ｂは、第２面取り部７の砥石３９の下流側において、コイルばねＣの端面Ｆ１，Ｆ２を幅方向の両側から撮像する。撮像した画像に基づき、制御部３は、座面（図示せず）の面積や外径から面取り量を求めることができる。なお、面取り量の取得は、座面の外径をセンサーによって測定することで行ってもよい。座面は、面取り後に残ったコイルばねＣの端面Ｆ１，Ｆ２である。 The cameras 43a and 43b capture images of the end faces F1 and F2 of the coil spring C from both sides in the width direction on the downstream side of the grindstone 39 of the second chamfered portion 7 . Based on the captured image, the control unit 3 can obtain the amount of chamfering from the area and outer diameter of the seat surface (not shown). The chamfering amount may be obtained by measuring the outer diameter of the seat surface with a sensor. The bearing surfaces are end surfaces F1 and F2 of the coil spring C remaining after chamfering.

取得した面取り量に基づき、制御部３は、面取り量判断部として、コイルばねＣの面取り量が所定値か否かを判断する。面取り量が所定値から外れている場合には、制御部３が面取り量が所定値となるように研磨機１５の砥石３９の進出移動量を増減させる。 Based on the acquired amount of chamfering, the control section 3, as a chamfering amount determining section, determines whether or not the amount of chamfering of the coil spring C is a predetermined value. If the chamfering amount is out of the predetermined value, the control unit 3 increases or decreases the advance movement amount of the grindstone 39 of the grinder 15 so that the chamfering amount becomes the predetermined value.

図６は、図１の面取り加工装置１の要部を拡大して示す概略平面図である。なお、図６では、押圧部１７のベース部材４５の図示を省略している。 FIG. 6 is a schematic plan view showing an enlarged main part of the chamfering apparatus 1 of FIG. 6, illustration of the base member 45 of the pressing portion 17 is omitted.

押圧部１７は、図１～図３及び図６のように、コンベヤ１１上に配置され、研磨機１５による研磨時にコイルばねＣをコンベヤ１１に対して押圧して転動させる。この転動により、コイルばねＣの対象端部Ｅ１（Ｅ２）の全周にわたって面取りを行うことを可能とする。この押圧部１７は、コイルばねＣをコンベヤ１１に対して押圧して転動させる摩擦部材であればよいが、ゴム等の弾性を有するのが好ましい。 The pressing part 17 is arranged on the conveyor 11 as shown in FIGS. This rolling makes it possible to chamfer the entire circumference of the target end E1 (E2) of the coil spring C. The pressing portion 17 may be a friction member that presses the coil spring C against the conveyor 11 to roll, but preferably has elasticity such as rubber.

なお、転動とは、コイルばねＣが軸周り回転しながら搬送方向に移動することをいう。コイルばねＣの転動は、少なくとも砥石３９の研磨開始位置３９ａから研磨終了位置３９ｂに至るまで行われればよい。本実施例の転動では、コイルばねＣを複数回軸周り回転させる。この複数回の軸周り回転により、面取りを確実に行うことを可能とする。 Note that rolling means that the coil spring C moves in the conveying direction while rotating around its axis. The rolling of the coil spring C should be performed at least from the polishing start position 39a of the grindstone 39 to the polishing end position 39b. In the rolling of this embodiment, the coil spring C is rotated around the axis multiple times. By rotating around the axis a plurality of times, it is possible to perform the chamfering reliably.

押圧部１７は、搬送方向において研磨機１５に対応した部分に設けられていればよい。本実施例では、搬送方向において研磨機１５の前後にわたるように押圧部１７を設ける。具体的には、押圧部１７は、搬送方向において、研磨機１５の研磨開始位置３９ａに対する上流から研磨終了位置３９ｂに対する下流にわたって設けられている。この押圧部１７の搬送方向の長さは、圧縮部３１の搬送方向の長さよりも長く設定されている。 The pressing portion 17 may be provided at a portion corresponding to the grinder 15 in the transport direction. In this embodiment, the pressing portion 17 is provided so as to span the front and rear of the grinder 15 in the transport direction. Specifically, the pressing portion 17 is provided from the upstream side of the polishing start position 39a of the polishing machine 15 to the downstream side of the polishing end position 39b in the transport direction. The length of the pressing portion 17 in the conveying direction is set longer than the length of the compressing portion 31 in the conveying direction.

この押圧部１７は、全体として研磨機１５を避けて位置している。押圧部１７の本体部１７ｂは、研磨機１５に対して幅方向で隣接し、搬送方向に沿って設けられた一定幅の帯状に形成されている。なお、押圧部１７の本体部１７ｂの幅は、コイルばねＣを安定して転動させることができる範囲とされる。 The pressing portion 17 is positioned so as to avoid the grinder 15 as a whole. A body portion 17b of the pressing portion 17 is adjacent to the grinder 15 in the width direction and formed in a belt shape of a constant width provided along the conveying direction. The width of the main body portion 17b of the pressing portion 17 is set within a range in which the coil spring C can be stably rolled.

押圧部１７の本体部１７ｂには、研磨開始位置３９ａに対する上流において、幅方向で膨出する膨出部１７ｃ，１７ｄが備えられている。膨出部１７ｃ，１７ｄは、押圧部１７がコイルばねＣを押圧し始める際に、コイルばねＣの軸方向での押圧の偏りを抑制する。これにより、押圧の前から押圧に至るまでのコイルばねＣの姿勢が安定する。なお、面取りに要求される精度等によっては、膨出部１７ｃ，１７ｄを省略することも可能である。 The body portion 17b of the pressing portion 17 is provided with bulging portions 17c and 17d that bulge in the width direction upstream of the polishing start position 39a. When the pressing portion 17 starts to press the coil spring C, the bulging portions 17c and 17d suppress uneven pressing of the coil spring C in the axial direction. As a result, the posture of the coil spring C is stabilized from before pressing to pressing. It should be noted that the bulging portions 17c and 17d may be omitted depending on the accuracy required for the chamfering.

本実施例の膨出部１７ｃ，１７ｄは、本体部１７ｂからそれぞれコイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２に至るように幅方向に膨出している。膨出部１７ｃ，１７ｄの膨出量は、一対のガイド部１３ａ，１３ｂが最も離間した状態で、図６のようにそれぞれガイド部１３ａ，１３ｂに対して平面視で所定のクリアランスを有する程度とする。或いは、膨出部１７ｃ，１７ｄの膨出量は、図７のようにガイド部１３ａ，１３ｂに対して平面視で重なる程度とする。図７は、変形例に係る面取り加工装置１の概略平面図であり、図６と同様に押圧部１７のベース部材４５の図示を省略している。なお、膨出部１７ｃ，１７ｄの膨出量は、押圧の前から押圧に至るまでのコイルばねＣの姿勢を安定させることができる限りにおいて任意である。 The bulging portions 17c and 17d of this embodiment bulge in the width direction from the body portion 17b to reach both ends E1 and E2 of the coil spring C, respectively. The bulging amount of the bulging portions 17c and 17d is such that when the pair of guide portions 13a and 13b are the most separated from each other, a predetermined clearance is provided in plan view with respect to the respective guide portions 13a and 13b as shown in FIG. do. Alternatively, the amount of swelling of the swelling portions 17c and 17d is such that they overlap the guide portions 13a and 13b in plan view as shown in FIG. FIG. 7 is a schematic plan view of the chamfering device 1 according to the modification, and the illustration of the base member 45 of the pressing portion 17 is omitted as in FIG. The amount of swelling of the swelling portions 17c and 17d is arbitrary as long as the posture of the coil spring C can be stabilized from before pressing to pressing.

かかる押圧部１７は、コンベヤ１１に対して近接離間可能に支持され、この近接離間によってコイルばねＣを押圧する荷重を調整可能となっている。荷重の調整は、制御部３によって行われる。すなわち、制御部３は、押圧部１７の荷重を取得し、取得した荷重と設定値との差をなくすように押圧部１７をコンベヤ１１に対して近接離間させる。 The pressing portion 17 is supported so as to be close to and separated from the conveyor 11, and the load that presses the coil spring C can be adjusted by this closeness and separation. Adjustment of the load is performed by the controller 3 . That is, the control unit 3 acquires the load of the pressing part 17 and causes the pressing part 17 to approach and separate from the conveyor 11 so as to eliminate the difference between the acquired load and the set value.

押圧部１７の支持は、ベース部材４５によって押圧部１７の背面で行われている。ベース部材４５は、斜面４５ａを有し、砥石３９との干渉を避けている。このベース部材４５が、支持部４７によってコンベヤ１１に対して近接離間移動可能に支持されている。 The pressing portion 17 is supported on the back surface of the pressing portion 17 by the base member 45 . The base member 45 has an inclined surface 45 a to avoid interference with the grindstone 39 . The base member 45 is supported by a support portion 47 so as to be movable toward and away from the conveyor 11 .

ベース部材４５は、押圧部１７を支持してコイルばねＣに押し付けることができる程度の剛性が必要である。本実施例のベース部材４５は、ステンレス鋼等の金属により形成されている。 The base member 45 needs to have sufficient rigidity to support the pressing portion 17 and press it against the coil spring C. As shown in FIG. The base member 45 of this embodiment is made of metal such as stainless steel.

支持部４７は、直動機構や回転機構等の駆動機構によって構成することが可能である。この支持部４７には、荷重センサー４９が設けられている。荷重センサー４９は、ロードセル等で構成され、押圧部１７の荷重を検出する。検出した荷重は制御部３に入力される。 The support portion 47 can be configured by a driving mechanism such as a direct acting mechanism or a rotating mechanism. A load sensor 49 is provided on the support portion 47 . The load sensor 49 is composed of a load cell or the like, and detects the load of the pressing portion 17 . The detected load is input to the controller 3 .

連繋部９は、第１面取り部５と第２面取り部７との間でコイルばねＣを連繋させるものである。本実施例の連繋部９は、コイルばねＣの幅方向に搬送するコンベヤからなる。連繋部９の搬送方向は、第１面取り部５及び第２面取り部７のコンベヤ１１の幅方向であり、以下において連繋搬送方向と称する。なお、連繋部９としては、ロボットアーム等を用いてもよい。 The connecting portion 9 connects the coil spring C between the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 . The connecting portion 9 of this embodiment is composed of a conveyor for conveying the coil spring C in the width direction. The conveying direction of the linking portion 9 is the width direction of the conveyor 11 of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, and is hereinafter referred to as the linking conveying direction. A robot arm or the like may be used as the linking unit 9 .

連繋部９の連繋搬送方向の上流側の端部は、第１面取り部５の搬送方向において、第１面取り部５のコンベヤ１１の下流側の端部に下流側で隣接して配置されている。これにより、第１面取り部５のコンベヤ１１からコイルばねＣを連繋部９に移乗可能とする。 The upstream end of the connecting portion 9 in the connecting conveying direction is arranged adjacent to the downstream end of the conveyor 11 of the first chamfered portion 5 on the downstream side in the conveying direction of the first chamfered portion 5 . . As a result, the coil spring C can be transferred from the conveyor 11 of the first chamfered portion 5 to the connecting portion 9 .

また、連繋部９の連繋搬送方向の下流側の端部は、第２面取り部７の搬送方向において、第２面取り部７のコンベヤ１１の上流側の端部に上流側で隣接して配置されている。これにより、連繋部９は、第１面取り部５から移乗したコイルばねＣを上流側から下流側へ第２面取り部７に向けて搬送する。第２面取り部７側へ搬送されたコイルばねＣは、第２面取り部７のプッシャー２３によりコンベヤ１１上に押し込まれる。 In addition, the downstream end of the connecting portion 9 in the connecting conveying direction is arranged adjacent to the upstream end of the conveyor 11 of the second chamfered portion 7 on the upstream side in the conveying direction of the second chamfered portion 7 . ing. Thereby, the linking portion 9 conveys the coil spring C transferred from the first chamfered portion 5 toward the second chamfered portion 7 from the upstream side to the downstream side. The coil spring C conveyed to the second chamfered portion 7 side is pushed onto the conveyor 11 by the pusher 23 of the second chamfered portion 7 .

従って、連繋部９は、第１面取り部５からコイルばねＣを移乗させて第２面取り部７へと搬送し、第１面取り部５及び第２面取り部７間でコイルばねＣを連携させる構成となっている。 Therefore, the linking portion 9 transfers the coil spring C from the first chamfered portion 5 and conveys it to the second chamfered portion 7, and links the coil spring C between the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7. It has become.

連繋部９の上流側及び下流側の端部は、第１面取り部５及び第２面取り部７の幅方向で、第１面取り部５及び第２面取り部７の固定ガイド部１３ａにそれぞれ対向している。これにより、第１面取り部５から連繋部９へのコイルばねＣの移乗を固定ガイド部１３ａによってガイドする。また、第２面取り部７側へ搬送されたコイルばねＣが、第２面取り部７の固定ガイド部１３ａに突き当たり、第２面取り部７のコンベヤ１１に対して位置決められる構成となっている。 The upstream and downstream ends of the connecting portion 9 face the fixed guide portions 13a of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 in the width direction of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, respectively. ing. Thus, the transfer of the coil spring C from the first chamfered portion 5 to the connecting portion 9 is guided by the fixed guide portion 13a. Also, the coil spring C conveyed to the second chamfered portion 7 abuts against the fixed guide portion 13 a of the second chamfered portion 7 and is positioned with respect to the conveyor 11 of the second chamfered portion 7 .

この位置決めが位置決めセンサー５１によって検出され、プッシャー２３がコイルばねＣのコンベヤ１１上への押し込みを行う。位置決めセンサー５１は、固定ガイド部１３ａに設けた近接センサーや振動センサー等とすることができる。 This positioning is detected by the positioning sensor 51 and the pusher 23 pushes the coil spring C onto the conveyor 11 . The positioning sensor 51 can be a proximity sensor, a vibration sensor, or the like provided on the fixed guide portion 13a.

［面取り加工］
面取り加工を行う際には、第１面取り部５及び第２面取り部７において、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔を加工対象のコイルばねＣの自由長にクリアランスを加えた寸法に設定する。この設定は、ハンドルの操作等により、研磨機１５の位置決めとは関連のない可動ガイド部１３ｂを変位させることで行うことができる。従って、可動ガイド部１３ｂの変位後に研磨機１５を変位させることによる研磨機１５の可動ガイド部１３ｂに対する位置決めが不要となる。このため、ガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔設定が容易になる。 [Chamfering]
When performing the chamfering process, in the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, the distance between the pair of guide portions 13a and 13b is set to a dimension obtained by adding a clearance to the free length of the coil spring C to be processed. . This setting can be performed by displacing the movable guide portion 13b, which is not related to the positioning of the polishing machine 15, by operating the handle or the like. Therefore, it is unnecessary to position the grinder 15 with respect to the movable guide portion 13b by displacing the grinder 15 after the movable guide portion 13b is displaced. Therefore, it becomes easy to set the distance between the guide portions 13a and 13b.

また、第１面取り部５及び第２面取り部７において、研磨機１５の砥石３９の進退移動量を設定して面取り量を所定値に設定する。 Also, in the first chamfering portion 5 and the second chamfering portion 7, the amount of advance and retreat of the grindstone 39 of the grinder 15 is set to set the amount of chamfering to a predetermined value.

こうして面取り加工前の設定が完了すると、面取り加工が開始される。 When the setting before chamfering is completed in this manner, chamfering is started.

面取り加工では、第１面取り部５及び第２面取り部７でコイルばねＣの異なる対象端部Ｅ１及びＥ２の面取りをそれぞれ行う。 In the chamfering process, different target end portions E1 and E2 of the coil spring C are chamfered by the first chamfering portion 5 and the second chamfering portion 7, respectively.

第１面取り部５では、まず順次供給されるコイルばねＣをプッシャー２３によってコンベヤ１１上に押し込む。コンベヤ１１上のコイルばねＣは、その両端部Ｅ１，Ｅ２が一対のガイド部１３ａ，１３ｂにガイドされつつ、コンベヤ１１のベルト２１の走行によって研磨機１５へ向けて搬送される。 In the first chamfered portion 5 , first, the coil springs C supplied sequentially are pushed onto the conveyor 11 by the pusher 23 . The coil spring C on the conveyor 11 is conveyed toward the grinder 15 by the running of the belt 21 of the conveyor 11 while the ends E1 and E2 thereof are guided by the pair of guide portions 13a and 13b.

このとき、コンベヤ１１上のコイルばねＣの姿勢がチェックされる。すなわち、カメラ２７で撮像したコイルばねＣの画像に基づき、制御部３がコイルばねＣの姿勢を判断する。そして、幅方向に対するコイルばねＣの傾斜量が所定値以上である場合は、遮断部材２５をコンベヤ１１上に進出させてコイルばねＣの搬送を遮断する。 At this time, the posture of the coil spring C on the conveyor 11 is checked. That is, the controller 3 determines the attitude of the coil spring C based on the image of the coil spring C captured by the camera 27 . When the amount of inclination of the coil spring C with respect to the width direction is equal to or greater than a predetermined value, the blocking member 25 is advanced above the conveyor 11 to block the conveyance of the coil spring C. As shown in FIG.

遮断されたコイルばねＣは、作業者によって除去される。これにより、コイルばねＣの面取り不良や詰まりが抑制される。このとき、コンベヤ１１の駆動は、止める必要がない。その後は、遮断部材２５を上げてコイルばねＣの搬送を再開する。 The interrupted coil spring C is removed by the operator. As a result, chamfering defects and clogging of the coil spring C are suppressed. At this time, the drive of the conveyor 11 need not be stopped. After that, the shielding member 25 is lifted and the conveying of the coil spring C is resumed.

なお、遮断部材２５にコイルばねＣが突き当たることでコイルばねＣの姿勢が正されることがあるが、この場合は、コイルばねＣを除去せずに遮断部材２５を上げて、コイルばねＣの搬送を再開すればよい。 In some cases, the posture of the coil spring C is corrected when the coil spring C collides with the blocking member 25. In this case, the blocking member 25 is raised without removing the coil spring C, and the coil spring C Transport should be resumed.

研磨機１５へ向けたコイルばねＣの搬送途中において、コンベヤ１１は、押圧部１７によりコンベヤ１１上への押圧が開始される。この押圧の開始時は、押圧部１７が幅方向の膨出部１７ｃ，１７ｄを有することにより、コイルばねＣに軸方向（押圧部１７の幅方向）で作用する押圧力の偏りが抑制される。この結果、コイルばねＣは、押圧力の偏りによって生じる幅方向に対するコイルばねＣの傾斜が抑制され、姿勢が安定する。 While the coil spring C is being conveyed toward the grinder 15 , the conveyor 11 is started to be pressed onto the conveyor 11 by the pressing portion 17 . At the start of this pressing, the bias of the pressing force acting on the coil spring C in the axial direction (the width direction of the pressing portion 17) is suppressed because the pressing portion 17 has the widthwise bulging portions 17c and 17d. . As a result, the coil spring C is restrained from tilting in the width direction due to biased pressing force, and the posture is stabilized.

押圧の間は、荷重センサー４９で押圧部１７による押圧の荷重を検出する。この検出した荷重に基づき、制御部３が支持部４７を制御して荷重を調整する。 During pressing, the load sensor 49 detects the load of pressing by the pressing portion 17 . Based on the detected load, the control section 3 controls the support section 47 to adjust the load.

コイルばねＣは、押圧部１７により押圧されると、上部側で移動が止められると共に下部側でコンベヤ１１によって移動されるため、転動する。この転動状態でコイルばねＣが研磨機１５の砥石３９に至る。 When the coil spring C is pressed by the pressing portion 17, the coil spring C is stopped on the upper side and moved by the conveyor 11 on the lower side, so that it rolls. In this rolling state, the coil spring C reaches the grindstone 39 of the grinder 15 .

また、研磨機１５の砥石３９に至る前より、一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔が圧縮部３１によって小さくなっており、これに応じてコイルばねＣが圧縮される。この圧縮は、押圧部１７による押圧下で圧縮部３１のテーパ部３３により徐々に行われる。従って、コイルばねＣの姿勢の安定性を保つことができる。 Further, the space between the pair of guide portions 13a and 13b is reduced by the compression portion 31 before reaching the grindstone 39 of the grinder 15, and the coil spring C is compressed accordingly. This compression is gradually performed by the tapered portion 33 of the compressing portion 31 under the pressure of the pressing portion 17 . Therefore, the stability of the posture of the coil spring C can be maintained.

コイルばねＣが砥石３９に至る際には、圧縮部３１の平面部３７により一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔が小さくなった状態で一定に保たれている。このため、コイルばねＣは、圧縮が完了した状態で姿勢の安定性が保たれている。 When the coil spring C reaches the grindstone 39, the flat portion 37 of the compression portion 31 keeps the gap between the pair of guide portions 13a and 13b small and constant. Therefore, the coil spring C maintains stability in posture after being compressed.

また、コイルばねＣは、圧縮により対象端部Ｅ１が一対のガイド部１３ａ，１３ｂの固定ガイド部１３ａに突き当てられて位置決められる。結果として、コイルばねＣが製造誤差を有していたとしても、コイルばねＣの対象端部Ｅ１が砥石３９に対して正確に位置決められる。 Further, the coil spring C is positioned by abutting the target end portion E1 against the fixed guide portion 13a of the pair of guide portions 13a and 13b by compression. As a result, even if the coil spring C has manufacturing errors, the target end E1 of the coil spring C is accurately positioned with respect to the grindstone 39 .

この位置決め状態且つ姿勢の安定性が保たれた状態において、コイルばねＣの対象端部Ｅ１が、研磨機１５の砥石３９に接触して研磨される。この研磨は、設定された進出移動量で事前に進出状態とされた砥石３９に、コイルばねＣの対象端部Ｅ１が接触することで開始される。なお、砥石３９は、ロットの最初のコイルばねＣの面取り時に、砥石３９を進出させてもよい。 In this positioned state and the state in which the stability of the posture is maintained, the target end portion E1 of the coil spring C contacts the grindstone 39 of the grinder 15 and is ground. This polishing is started when the object end E1 of the coil spring C contacts the grindstone 39, which has been advanced in advance by a set advance movement amount. The grindstone 39 may be advanced when chamfering the first coil spring C in a lot.

研磨は、コイルばねＣの転動に応じて対象端部Ｅ１の全周において行われる。このとき、コイルばねＣの圧縮、弾性変形、コンベヤ１１のベルト２１の撓み等によって、コイルばねＣの一回の軸周り回転では所望の面取り量で面取りすることができないことがある。これに対し、本実施例では、コイルばねＣの転動による軸周り回転が複数回行われるため、所望の面取り量でコイルばねＣの対象端部Ｅ１の面取りを安定して行うことができる。 Polishing is performed along the entire circumference of the target end E1 as the coil spring C rolls. At this time, due to the compression and elastic deformation of the coil spring C, the deflection of the belt 21 of the conveyor 11, and the like, it may not be possible to chamfer the desired chamfering amount with one rotation of the coil spring C around its axis. On the other hand, in the present embodiment, since the coil spring C rotates around the axis by rolling a plurality of times, the target end portion E1 of the coil spring C can be stably chamfered with a desired chamfering amount.

また、研磨時には、コイルばねＣが押圧部１７によってコンベヤ１１に対して押圧され、コイルばねＣの姿勢の変動を抑制される。従って、本実施例では、より安定して面取りを行うことができる。 Further, during polishing, the coil spring C is pressed against the conveyor 11 by the pressing portion 17, and the fluctuation of the posture of the coil spring C is suppressed. Therefore, in this embodiment, chamfering can be performed more stably.

この研磨時には、砥石３９の外径が検出部４１によって検出される。検出された外径は、制御部３に入力される。制御部３は、検出された砥石３９の外径に応じて、砥石３９の回転速度を調整して周速度が一定となるようにする。これにより、砥石３９の研磨能力を安定させて面取りを行うことができる。 During this polishing, the outer diameter of the grindstone 39 is detected by the detector 41 . The detected outer diameter is input to the controller 3 . The control unit 3 adjusts the rotational speed of the grindstone 39 according to the detected outer diameter of the grindstone 39 so that the peripheral velocity is constant. As a result, chamfering can be performed while the grinding ability of the grindstone 39 is stabilized.

こうして第１面取り部５でコイルばねＣの端部Ｅ１，Ｅ２の一方である対象端部Ｅ１の面取りが完了する。面取り完了後は、押圧部１７による押圧の下、圧縮部３１のテーパ部３５により徐々にコイルばねＣの圧縮が解除される。圧縮の解除後は、コイルばねＣが押圧部１７から離脱し、連繋部９へと至る。 In this way, chamfering of the target end E1, which is one of the ends E1 and E2 of the coil spring C, is completed by the first chamfering portion 5 . After the chamfering is completed, the compression of the coil spring C is gradually released by the tapered portion 35 of the compressing portion 31 under the pressure of the pressing portion 17 . After the compression is released, the coil spring C is separated from the pressing portion 17 and reaches the connecting portion 9 .

連繋部９に至ったコイルばねＣは、連繋部９上に移乗して第２面取り部７へ向けて搬送される。第２面取り部７へ至ると、コイルばねＣの面取りが行われていない端部Ｅ２が、第２面取り部７の固定ガイド部１３ａに突き当たる。これにより、コイルばねＣがコンベヤ１１に対して位置決められる。この位置決めに応じ、プッシャー２３がコイルばねＣをコンベヤ１１上に押し込む。 The coil spring C reaching the linking portion 9 is transferred onto the linking portion 9 and conveyed toward the second chamfered portion 7 . When reaching the second chamfered portion 7 , the unchamfered end E<b>2 of the coil spring C abuts against the fixed guide portion 13 a of the second chamfered portion 7 . Thereby, the coil spring C is positioned with respect to the conveyor 11 . In response to this positioning, pusher 23 pushes coil spring C onto conveyor 11 .

こうして押し込まれた後は、第１面取り部５と同様に、コイルばねＣの姿勢をチェックし、幅方向に対する傾斜量が所定値未満のコイルばねＣの対象端部Ｅ２を研磨機１５によって研磨する。 After being pushed in in this way, similarly to the first chamfered portion 5, the posture of the coil spring C is checked, and the target end portion E2 of the coil spring C whose inclination amount with respect to the width direction is less than a predetermined value is ground by the grinder 15. .

第２面取り部７でのコイルばねＣの対象端部Ｅ２の面取りが完了し、コイルばねＣが押圧部１７から離脱すると、コイルばねＣの面取りの状態がチェックされる。 After the chamfering of the target end portion E2 of the coil spring C by the second chamfering portion 7 is completed and the coil spring C is separated from the pressing portion 17, the chamfering state of the coil spring C is checked.

すなわち、砥石３９の下流側においてカメラ４３ａ，４３ｂで撮像したコイルばねＣの端面Ｆ１，Ｆ２の画像に基づき、制御部３が座面の面積や外径から面取り量を求める。求めた面取り量は、制御部３のメモリーデバイス等に保持され、次のロットの面取り加工時の面取り量の調整に用いられる。すなわち、ロット中の最後のコイルばねＣの面取り量やロット中の一部又は全部のコイルばねＣの面取り量の平均が所定値から外れている場合は、制御部３が次のロットの面取り加工前に、研磨機１５の砥石３９の進出移動量を増減させて面取り量を所定値となるように設定する。 That is, based on the images of the end faces F1 and F2 of the coil spring C captured by the cameras 43a and 43b on the downstream side of the grindstone 39, the controller 3 obtains the chamfering amount from the bearing surface area and outer diameter. The obtained chamfering amount is stored in the memory device or the like of the control unit 3, and used for adjusting the chamfering amount when chamfering the next lot. That is, if the chamfering amount of the last coil spring C in the lot or the average of the chamfering amounts of all or part of the coil springs C in the lot is out of the predetermined value, the control unit 3 performs the chamfering process for the next lot. First, the advance movement amount of the grindstone 39 of the grinder 15 is increased or decreased to set the chamfering amount to a predetermined value.

また、各コイルばねＣから求められた面取り量と所定値との差が製品として許容されない閾値を越えているような場合は、作業者の手作業やロボットアーム等によってコイルばねＣをコンベヤ１１上から排除すればよい。 Further, if the difference between the chamfering amount obtained from each coil spring C and the predetermined value exceeds a threshold value that is not allowed as a product, the coil springs C are moved onto the conveyor 11 manually by an operator or by a robot arm. should be excluded from

［実施例１の効果］
以上説明したように、本実施例の面取り加工装置１は、コイルばねＣを搬送しながらそれぞれコイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２のうちの異なる対象端部を研磨して面取り加工を施す相互に分離した第１面取り部５及び第２面取り部７を備えている。 [Effect of Example 1]
As described above, the chamfering apparatus 1 of the present embodiment grinds and chamfers different target ends of both ends E1 and E2 of the coil spring C while conveying the coil spring C. It comprises a separate first chamfer 5 and a second chamfer 7 .

第１面取り部５及び第２面取り部７のそれぞれは、コイルばねＣを搬送するコンベヤ１１と、コンベヤ１１の幅方向で対向配置され、コンベヤ１１上のコイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２をそれぞれガイドする一対のガイド部１３ａ，１３ｂと、対象端部をガイドする一対のガイド部１３ａ，１３ｂの一方に対して設けられ、対象端部を研磨する研磨機１５と、コンベヤ１１上に配置され、研磨機１５による研磨時にコイルばねＣをコンベヤ１１に対して押圧して転動させる押圧部１７と、を備えている。 Each of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 is arranged opposite to the conveyor 11 that conveys the coil spring C in the width direction of the conveyor 11, and both end portions E1 and E2 of the coil spring C on the conveyor 11 are respectively disposed. A pair of guide portions 13a and 13b for guiding and a polishing machine 15 for polishing the target end provided for one of the pair of guide portions 13a and 13b for guiding the target end and arranged on the conveyor 11, and a pressing portion 17 that presses the coil spring C against the conveyor 11 and rolls it during polishing by the polishing machine 15 .

従って、第１面取り部５及び第２面取り部７のそれぞれにおいて、一対のガイド部１３ａ，１３ｂを完結させることができる。すなわち、第１面取り部５及び第２面取り部７では、それぞれ一対のガイド部１３ａ，１３ｂを短く形成して平行度を高めることができ、且つ一対のガイド部１３ａ，１３ｂに要求される平行度の許容幅を大きくでき、面取りの精度を向上することができる。 Therefore, the pair of guide portions 13a and 13b can be completed at the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, respectively. That is, in the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7, the pair of guide portions 13a and 13b can be shortened to increase the parallelism, and the parallelism required for the pair of guide portions 13a and 13b can be increased. can be increased, and chamfering accuracy can be improved.

また、一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、コイルばねＣの対象端部をガイドする固定ガイド部１３ａと、この固定ガイド部１３ａに対してコンベヤ１１の幅方向で変位可能であり、コイルばねＣの非対象端部をガイドする可動ガイド部１３ｂとで構成されている。 Further, the pair of guide portions 13a and 13b includes a fixed guide portion 13a that guides the target end portion of the coil spring C, and a pair of guide portions 13a and 13b that can be displaced in the width direction of the conveyor 11 with respect to this fixed guide portion 13a. and a movable guide portion 13b that guides the non-target end.

このため、本実施例では、可動ガイド部１３ｂを変位させることでガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔を設定し、異なる長さのコイルばねＣに対応することができる。しかも、可動ガイド部１３ｂを変位させても、一対のガイド部１３ａ，１３ｂに要求される平行度の許容幅が大きくなっているので、その後の調整等を不要に又は簡素化できる。しかも、研磨機１５の位置決めとは関連のない可動ガイド部１３ｂを変位させるため、ガイド部１３ａ，１３ｂ間の間隔設定が容易になる。 For this reason, in this embodiment, by displacing the movable guide portion 13b, the gap between the guide portions 13a and 13b can be set to accommodate coil springs C of different lengths. Moreover, even if the movable guide portion 13b is displaced, the allowable width of the parallelism required for the pair of guide portions 13a and 13b is large, so subsequent adjustment or the like can be made unnecessary or simplified. Moreover, since the movable guide portion 13b, which is not related to the positioning of the polishing machine 15, is displaced, it becomes easy to set the distance between the guide portions 13a and 13b.

連繋部９は、第１面取り部５からコイルばねＣを移乗させて第２面取り部７へと搬送し、第１面取り部５及び第２面取り部７間でコイルばねＣを連携させる。 The linking portion 9 transfers the coil spring C from the first chamfered portion 5 and conveys it to the second chamfered portion 7 to link the coil spring C between the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 .

従って、相互に分離した第１面取り部５及び第２面取り部７間において、コイルばねＣを円滑且つ確実に搬送してコイルばねＣの両端部Ｅ１，Ｅ２にそれぞれ面取り加工を行わせることができる。 Therefore, between the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 which are separated from each other, the coil spring C can be conveyed smoothly and reliably, and both ends E1 and E2 of the coil spring C can be chamfered. .

一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、コンベヤ１１の幅方向での間隔を部分的に小さくし、研磨機１５での研磨時にコイルばねＣを圧縮する圧縮部３１を有する。 The pair of guide portions 13 a and 13 b has a compression portion 31 that partially reduces the distance in the width direction of the conveyor 11 and compresses the coil spring C during polishing by the polishing machine 15 .

従って、コイルばねＣは、圧縮されて姿勢の安定性が保たれた状態で研磨が行われるので、この研磨による面取り精度を向上することができる。しかも、圧縮により、コイルばねＣが製造誤差を有していたとしても、コイルばねＣの対象端部を一対のガイド部１３ａ，１３ｂの一方である固定ガイド部１３ａに突き当てて位置決めることができる。この位置決め状態で研磨が行われるので、より面取り精度を向上することができる。 Therefore, since the coil spring C is polished while being compressed and the stability of the posture is maintained, it is possible to improve the chamfering accuracy by this polishing. Moreover, even if the coil spring C has a manufacturing error due to compression, the target end of the coil spring C can be positioned by abutting against the fixed guide portion 13a, which is one of the pair of guide portions 13a and 13b. can. Since polishing is performed in this positioning state, chamfering accuracy can be further improved.

すなわち、コイルばねＣを圧縮することで、コイルばねＣの姿勢の安定性を保つことができ、且つ研磨される対象端部を研磨機１５に対して位置決めることができ、面取り精度を向上することができる。 That is, by compressing the coil spring C, the stability of the posture of the coil spring C can be maintained, and the target end portion to be ground can be positioned with respect to the grinder 15, thereby improving the chamfering accuracy. be able to.

圧縮部３１は、一対のガイド部１３ａ，１３ｂよりも高硬度な材質で形成され、一対のガイド部１３ａ，１３ｂの一方に支持されている。 The compressing portion 31 is made of a material having higher hardness than the pair of guide portions 13a and 13b, and is supported by one of the pair of guide portions 13a and 13b.

従って、圧縮部３１の摩耗を抑制することができると共に圧縮部３１が摩耗しても容易に交換することができる。また、圧縮部３１を交換することにより、コイルばねＣの圧縮量を調整することもできる。 Therefore, abrasion of the compression portion 31 can be suppressed, and even if the compression portion 31 is worn, it can be easily replaced. Also, by replacing the compressing portion 31, the amount of compression of the coil spring C can be adjusted.

押圧部１７は、コンベヤ１１の搬送方向において少なくとも研磨機１５の研磨開始位置３９ａ手前から研磨終了位置３９ｂにわたり、圧縮部３１は、搬送方向の上流側に間隔を漸次小さくするテーパ部３３を備え、テーパ部３３の始点３３ａ及び終点３３ｂは、押圧部１７の搬送方向における上流側の端部１７ａと研磨開始位置３９ａとの間に配置されている。 The pressing portion 17 extends at least from the front side of the polishing start position 39a to the polishing end position 39b of the polishing machine 15 in the conveying direction of the conveyor 11, and the compressing portion 31 has a tapered portion 33 that gradually decreases the interval on the upstream side in the conveying direction, A start point 33a and an end point 33b of the tapered portion 33 are arranged between an upstream end portion 17a of the pressing portion 17 in the conveying direction and a polishing start position 39a.

このため、押圧部１７による押圧下でコイルばねＣを徐々に圧縮することができ、且つ圧縮が完了した状態でコイルばねＣの対象端部の研磨を行わせることができる。従って、コイルばねＣの姿勢の安定性を確保でき、結果として面取り精度を向上することができる。 Therefore, the coil spring C can be gradually compressed under pressure by the pressing portion 17, and the target end portion of the coil spring C can be ground after the compression is completed. Therefore, the stability of the posture of the coil spring C can be ensured, and as a result, chamfering accuracy can be improved.

押圧部１７は、少なくとも搬送方向における研磨開始位置３９ａ手前から研磨終了位置３９ｂにわたり、研磨開始位置３９ａ手前において幅方向で膨出する膨出部１７ｃ，１７ｄを有する。 The pressing portion 17 has swollen portions 17c and 17d that swell in the width direction at least before the polishing start position 39a in the conveying direction from before the polishing start position 39a to the polishing end position 39b.

従って、本実施例では、押圧部１７によるコイルばねＣの押圧が開始される際に、コイルばねＣに軸方向で作用する押圧力の偏りが抑制され、姿勢が安定する。結果として、面取り精度を向上することができる。 Therefore, in this embodiment, when the pressing portion 17 starts to press the coil spring C, the bias of the pressing force acting on the coil spring C in the axial direction is suppressed, and the posture is stabilized. As a result, chamfering precision can be improved.

第１面取り部５及び第２面取り部７は、押圧部１７をコンベヤ１１に対して近接離間可能に支持し、近接離間によってコイルばねＣを押圧する荷重を調整可能な支持部４７と、押圧部１７の荷重を検出する荷重センサー４９とを備え、支持部４７が、荷重センサー４９の検出結果に基づいて荷重を調整する。 The first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 support the pressing portion 17 so as to be able to approach and separate from the conveyor 11, and the support portion 47 capable of adjusting the load that presses the coil spring C by approaching and separating, and the pressing portion A load sensor 49 for detecting the load of 17 is provided, and the support portion 47 adjusts the load based on the detection result of the load sensor 49 .

従って、本実施例では、適切な荷重でコイルばねＣを押圧することができ、研磨時にコイルばねＣの姿勢及び転動等の円滑化並びに安定化を図ることができる。結果として、面取り精度を向上することができる。 Therefore, in this embodiment, the coil spring C can be pressed with an appropriate load, and the posture and rolling motion of the coil spring C can be smoothed and stabilized during polishing. As a result, chamfering precision can be improved.

面取り加工装置１は、第１面取り部５及び第２面取り部７のコンベヤ１１上でのコイルばねＣの姿勢を取得する姿勢取得部としてのカメラ２７と、カメラ２７で取得したコイルばねＣの姿勢を判断する姿勢判断部としての制御部３と、第１面取り部５及び第２面取り部７のコンベヤ１１上に進退可能に支持された遮断部材２５とを備える。 The chamfering apparatus 1 includes a camera 27 as a posture acquisition unit that acquires the posture of the coil spring C on the conveyor 11 of the first chamfering unit 5 and the second chamfering unit 7, and the posture of the coil spring C acquired by the camera 27. and a blocking member 25 supported on the conveyor 11 of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 so as to be able to advance and retreat.

そして、制御部３での判断結果に基づいて、コイルばねＣのコンベヤ１１の幅方向に対する傾斜量が閾値以上の場合に、遮断部材２５がコンベヤ１１上に進出してコイルばねＣの搬送を遮断する。 Then, when the amount of inclination of the coil spring C with respect to the width direction of the conveyor 11 is equal to or greater than a threshold based on the determination result of the control unit 3, the blocking member 25 advances onto the conveyor 11 to block the conveyance of the coil spring C. do.

従って、傾斜量が大きいコイルばねＣが研磨機１５まで搬送されることを阻止し、コイルばねＣの面取り不良や詰まりを抑制することができる。このとき、コンベヤ１１を停止させる必要がないので、続くコイルばねＣの面取り加工を円滑に行わせることができる。 Therefore, it is possible to prevent the coil spring C having a large amount of inclination from being conveyed to the polishing machine 15, thereby suppressing defective chamfering and clogging of the coil spring C. At this time, since it is not necessary to stop the conveyor 11, the following chamfering of the coil spring C can be performed smoothly.

また、コイルばねＣの姿勢が遮断部材２５によって是正された場合は、遮断部材２５を退避させれば、姿勢が是正されたコイルばねＣの面取り加工を再開することもできる。 Further, when the posture of the coil spring C is corrected by the blocking member 25, the chamfering of the coil spring C whose posture has been corrected can be resumed by withdrawing the blocking member 25. FIG.

第１面取り部５及び第２面取り部７の研磨機１５がコイルばねＣに対して進出移動量に応じて面取り量の調整が可能であり、コイルばねＣの面取り量を取得するカメラ４３ａ，４３ｂと、研磨機１５の進出移動を制御する進出移動制御部及びカメラ４３ａ，４３ｂで取得したコイルばねＣの面取り量が所定値か否かを判断する面取り量判断部としての制御部３とを備えている。 Cameras 43a and 43b for obtaining the amount of chamfering of the coil spring C, so that the amount of chamfering can be adjusted according to the amount of advance movement of the grinder 15 of the first chamfering section 5 and the second chamfering section 7 with respect to the coil spring C. and a control unit 3 as a chamfer amount determination unit that determines whether or not the amount of chamfering of the coil spring C acquired by the cameras 43a and 43b is a predetermined value or not. ing.

制御部３は、面取り量が所定値から外れている場合に、後のコイルばねＣに対する面取り量が所定値となるように研磨機１５の進出移動量を調整する。 When the amount of chamfering is out of the predetermined value, the control unit 3 adjusts the advance movement amount of the grinder 15 so that the amount of chamfering of the subsequent coil spring C becomes the predetermined value.

従って、本実施例では、適切な面取り量の面取りを行うことができ、面取り精度を向上することができる。 Therefore, in this embodiment, chamfering can be performed with an appropriate amount of chamfering, and chamfering accuracy can be improved.

研磨機１５は、回転によって外周で研磨を行う周回状の砥石３９を有し、第１面取り部５及び第２面取り部７の砥石３９の回転速度を制御する回転駆動制御部としての制御部３と、砥石３９の外径を検出する検出部４１とを備える。 The grinder 15 has a circular grindstone 39 that grinds the outer periphery by rotation, and a controller 3 as a rotation drive controller that controls the rotation speed of the grindstone 39 of the first chamfer 5 and the second chamfer 7. and a detection unit 41 for detecting the outer diameter of the grindstone 39 .

制御部３は、検出部４１で検出した砥石３９の外径に応じて、砥石３９の回転速度を調整して周速度が一定となるようにする。 The control unit 3 adjusts the rotation speed of the grindstone 39 according to the outer diameter of the grindstone 39 detected by the detection unit 41 so that the peripheral speed is constant.

従って、本実施例では、砥石３９の研磨能力を安定させ、面取り精度を向上することができる。 Therefore, in this embodiment, the grinding ability of the grindstone 39 can be stabilized and the chamfering accuracy can be improved.

図８は、本発明の実施例２に係る面取り加工装置を示す概略平面図である。なお、本実施例では、実施例１と対応する構成に同符号を付し、重複した説明を省略する。 FIG. 8 is a schematic plan view showing a chamfering apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. In addition, in the present embodiment, the same reference numerals are given to the configurations corresponding to those of the first embodiment, and redundant explanations are omitted.

面取り加工装置１は、第１面取り部５及び第２面取り部７を、そのコンベヤ１１の搬送方向を相互に一致させ、且つ相対的に幅方向に移動自在としたものである。これに応じ、実施例１の連繋部９、位置決めセンサー５１、第２面取り部７のプッシャー２３等が省略されている。その他は、実施例１と同一である。 In the chamfering device 1, the first chamfering portion 5 and the second chamfering portion 7 are arranged such that the conveying directions of the conveyor 11 are aligned with each other and are relatively movable in the width direction. Accordingly, the linking portion 9, the positioning sensor 51, the pusher 23 of the second chamfered portion 7, and the like of the first embodiment are omitted. Others are the same as the first embodiment.

本実施例では、第１面取り部５を固定して設け、第２面取り部７を第１面取り部５に対して幅方向に移動可能に設けている。ただし、第１面取り部５を幅方向に移動可能とし、第２面取り部７を固定して設けてもよい。 In this embodiment, the first chamfered portion 5 is fixed and the second chamfered portion 7 is provided so as to be movable in the width direction with respect to the first chamfered portion 5 . However, the first chamfered portion 5 may be movable in the width direction, and the second chamfered portion 7 may be fixed.

第１面取り部５及び第２面取り部７のコンベヤ１１の搬送方向は、厳密に一致している必要はない。すなわち、両搬送方向は、第１面取り部５及び第２面取り部７間で一対のガイド部１３ａ，１３ｂを搬送方向に整列させた際に、コイルばねＣを連繋できる範囲で一致させればよい。このため、それら搬送方向は、相互に僅かに傾斜していてもよい。 The conveying directions of the conveyor 11 of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 do not have to be exactly the same. That is, the two conveying directions may be matched within a range in which the coil springs C can be linked when the pair of guide portions 13a and 13b are aligned in the conveying direction between the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7. . For this reason, the transport directions may be slightly inclined with respect to each other.

第２面取り部７の移動は、可動ベース５３によって行えばよい。すなわち、第２面取り部７を可動ベース５３上に支持し、可動ベース５３を直動機構等の駆動機能によって幅方向に移動させる。この移動は、一対のガイド部１３ａ，１３ｂの可動ガイド部１３ｂの変位に連動して行う。 The movement of the second chamfered portion 7 may be performed by the movable base 53 . That is, the second chamfered portion 7 is supported on the movable base 53, and the movable base 53 is moved in the width direction by a driving function such as a linear motion mechanism. This movement is interlocked with the displacement of the movable guide portion 13b of the pair of guide portions 13a and 13b.

例えば、第１面取り部５及び第２面取り部７の一対のガイド部１３ａ，１３ｂを搬送方向に整列させた状態を初期位置とする。この状態で、可動ガイド部１３ｂを変位させると、第１面取り部５及び第２面取り部７の可動ガイド部１３ｂがそれぞれ第２面取り部７及び第１面取り部５の固定ガイド部１３ａから幅方向にズレる。このズレ量である可動ガイド部１３ｂの変位量の分だけ、可動ベース５３を幅方向に移動させる。 For example, the initial position is a state in which the pair of guide portions 13a and 13b of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 are aligned in the transport direction. In this state, when the movable guide portion 13b is displaced, the movable guide portions 13b of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 move in the width direction from the fixed guide portions 13a of the second chamfered portion 7 and the first chamfered portion 5, respectively. deviate to The movable base 53 is moved in the width direction by the displacement amount of the movable guide portion 13b, which is the displacement amount.

このように、本実施例では、第１面取り部５及び第２面取り部７の一対のガイド部１３ａ，１３ｂを搬送方向で整列させることができる。従って、整列した一対のガイド部１３ａ，１３ｂ間で第１面取り部５から第２面取り部７に至るまでコイルばねＣを搬送方向で直線的に搬送し、その両端部Ｅ１，Ｅ２を面取りすることができる。 Thus, in this embodiment, the pair of guide portions 13a and 13b of the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 can be aligned in the transport direction. Therefore, the coil spring C is conveyed linearly in the conveying direction from the first chamfered portion 5 to the second chamfered portion 7 between the aligned pair of guide portions 13a and 13b, and the both end portions E1 and E2 are chamfered. can be done.

図９は、本発明の実施例３に係る面取り加工装置を示す平面図である。また、本実施例では、実施例１と対応する構成に同符号を付し、重複した説明を省略する。 FIG. 9 is a plan view showing a chamfering device according to Embodiment 3 of the present invention. Moreover, in the present embodiment, the same reference numerals are given to the configurations corresponding to those of the first embodiment, and redundant explanations are omitted.

本実施例は、第１面取り部５及び第２面取り部７を一体に構成したものである。これに応じ、実施例１の連繋部９、位置決めセンサー５１、第２面取り部７のプッシャー２３等が省略されている。その他は、実施例１と同一である。 In this embodiment, the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 are integrated. Accordingly, the linking portion 9, the positioning sensor 51, the pusher 23 of the second chamfered portion 7, and the like of the first embodiment are omitted. Others are the same as the first embodiment.

一対のガイド部１３ａ，１３ｂは、第１面取り部５から第２面取り部７にわたって共通して用いられている。これらガイド部１３ａ，１３ｂには、それぞれ研磨機１５が設けられている。また、本実施例では、コンベヤ１１も、第１面取り部５から第２面取り部７にわたって共通して用いられている。なお、コンベヤ１１は、第１面取り部５及び第２面取り部７がそれぞれ備えてもよい。 A pair of guide portions 13 a and 13 b are commonly used from the first chamfered portion 5 to the second chamfered portion 7 . A grinder 15 is provided in each of the guide portions 13a and 13b. Further, in this embodiment, the conveyor 11 is also commonly used from the first chamfered portion 5 to the second chamfered portion 7 . In addition, the conveyor 11 may be provided with the first chamfered portion 5 and the second chamfered portion 7 respectively.

図１０は、実施例３の変形例に係る面取り加工装置１を示す平面図である。 FIG. 10 is a plan view showing a chamfering device 1 according to a modification of the third embodiment.

この図１０の変形例のように、図９の面取り加工装置１から第２面取り部７を省略し、一対のガイド部１３ａ，１３ｂの一方に対してのみ研磨機１５を設けてもよい。 As in the modification of FIG. 10, the second chamfering section 7 may be omitted from the chamfering apparatus 1 of FIG. 9, and the grinder 15 may be provided only for one of the pair of guide sections 13a and 13b.

この変形例では、コイルばねＣの一端部Ｅ１又はＥ２を面取り加工した後、同じ装置でコイルばねＣの他端部Ｅ２又はＥ１を面取り加工する。或いは、コイルばねＣの一端部Ｅ１又はＥ２を面取り加工した後、別装置で他端部Ｅ２又はＥ１を面取り加工する。 In this modification, after the one end E1 or E2 of the coil spring C is chamfered, the other end E2 or E1 of the coil spring C is chamfered by the same device. Alternatively, after one end portion E1 or E2 of the coil spring C is chamfered, the other end portion E2 or E1 is chamfered by another device.

かかる実施例及び変形例においても、実施例１と同様の作用効果を奏することができる。 Also in this example and modification, the same effect as Example 1 can be produced.

１ 面取り加工装置
３ 制御部（姿勢判断部、進出移動制御部、回転速度制御部）
５ 第１面取り部
７ 第２面取り部
９ 連繋部
１１ コンベヤ
１３ａ 固定ガイド部（ガイド部）
１３ｂ 可動ガイド部（ガイド部）
１５ 研磨機
１７ 押圧部
１７ａ 端部
１７ｃ，１７ｄ 膨出部
２５ 遮断部材
２７ カメラ（姿勢取得部）
３１ 圧縮部
３３ テーパ部
３３ａ 始点
３３ｂ 終点
３９ 砥石
３９ａ 端部（研磨開始位置）
３９ｂ 端部（研磨終了位置）
４１ 検出部
４３ａ，４３ｂ カメラ（面取り量取得部）
４７ 支持部
４９ 荷重センサー
Ｃ コイルばね
Ｅ１，Ｅ２ 端部
Ｆ１，Ｆ２ 端面 1 chamfering processing device 3 control unit (attitude determination unit, advance movement control unit, rotation speed control unit)
5 First chamfered portion 7 Second chamfered portion 9 Linking portion 11 Conveyor 13a Fixed guide portion (guide portion)
13b movable guide portion (guide portion)
15 polishing machine 17 pressing portion 17a end portions 17c, 17d bulging portion 25 shielding member 27 camera (posture acquisition portion)
31 compression part 33 taper part 33a start point 33b end point 39 grindstone 39a end (polishing start position)
39b end (polishing end position)
41 detection unit 43a, 43b camera (chamfering amount acquisition unit)
47 support portion 49 load sensor C coil springs E1, E2 ends F1, F2 end faces

Claims (12)

端部間で圧縮可能なコイルばねを搬送しながら前記コイルばねの端部を研磨して面取り加工を施す面取り加工装置であって、
前記コイルばねを搬送するコンベヤと、
前記コンベヤの搬送方向に交差する幅方向で対向配置され前記コンベヤ上のコイルばねの両端部をそれぞれガイドする一対のガイド部と、
前記一対のガイド部にガイドされた前記コイルばねの端部を研磨する研磨機と、
前記コンベヤ上に配置され前記研磨機による研磨時に前記コイルばねを前記コンベヤに対して押圧して転動させる押圧部とを備え、
前記一対のガイド部は、前記コンベヤの幅方向での間隔を部分的に小さくし前記研磨機での研磨時に前記コイルばねを圧縮する圧縮部を有する、
面取り加工装置。 A chamfering device for chamfering by polishing the ends of the coil spring while conveying the coil spring compressible between the ends,
a conveyor that conveys the coil spring;
a pair of guide portions arranged opposite to each other in a width direction intersecting the conveying direction of the conveyor and guiding both end portions of the coil spring on the conveyor;
a grinder that grinds the ends of the coil springs guided by the pair of guides;
a pressing portion disposed on the conveyor and configured to press the coil spring against the conveyor to roll during grinding by the grinding machine;
The pair of guide parts has a compression part that partially reduces the interval in the width direction of the conveyor and compresses the coil spring during polishing with the polishing machine,
Chamfering equipment. 請求項１記載の面取り加工装置であって、
前記圧縮部は、前記一対のガイド部よりも高硬度な材質で形成され、前記一対のガイド部の少なくとも一方に支持された、
面取り加工装置。 The chamfering device according to claim 1,
The compression portion is formed of a material having higher hardness than the pair of guide portions, and is supported by at least one of the pair of guide portions.
Chamfering equipment. 請求項１又は２記載の面取り加工装置であって、
前記押圧部は、前記コンベヤの搬送方向において少なくとも前記研磨機の研磨開始位置手前から研磨終了位置にわたり、
前記圧縮部は、前記搬送方向の上流側に前記間隔を漸次小さくするテーパ部を備え、
前記テーパ部の始点及び終点は、前記搬送方向における前記押圧部の上流側の端部と前記研磨開始位置との間に配置された、
面取り加工装置。 The chamfering device according to claim 1 or 2,
The pressing portion extends from at least before a polishing start position of the polishing machine to a polishing end position in the conveying direction of the conveyor,
The compression section has a tapered section that gradually reduces the interval on the upstream side in the conveying direction,
The start point and the end point of the tapered portion are arranged between an upstream end portion of the pressing portion in the transport direction and the polishing start position,
Chamfering equipment. 請求項１～３の何れか一項に記載の面取り加工装置であって、
前記コイルばねの両端部のうちの異なる対象端部をそれぞれ研磨して面取り加工を施す相互に分離した第１面取り部及び第２面取り部を備え、
前記第１面取り部及び第２面取り部のそれぞれは、前記コンベヤ、前記一対のガイド部、前記研磨機、前記押圧部、前記圧縮部を備えた、
面取り加工装置。 The chamfering device according to any one of claims 1 to 3,
A first chamfer and a second chamfer that are separated from each other for chamfering by polishing different target ends of both ends of the coil spring,
Each of the first chamfered portion and the second chamfered portion includes the conveyor, the pair of guide portions, the polishing machine, the pressing portion, and the compressing portion,
Chamfering equipment. 請求項４記載の面取り加工装置であって、
前記一対のガイド部は、前記コイルばねの対象端部をガイドする固定ガイド部と、この固定ガイド部に対して前記コンベヤの幅方向で変位可能であり前記コイルばねの非対象端部をガイドする可動ガイド部とで構成された、
面取り加工装置。 The chamfering device according to claim 4,
The pair of guide portions includes a fixed guide portion that guides the target end portion of the coil spring, and a guide portion that is displaceable in the width direction of the conveyor with respect to the fixed guide portion and guides the non-target end portion of the coil spring. Composed of a movable guide part,
Chamfering equipment. 請求項４又は５記載の面取り加工装置であって、
前記第１面取り部から前記コイルばねを移乗させ前記第２面取り部へと搬送し前記第１面取り部及び前記第２面取り部間で前記コイルばねを連携させる連繋部を備えた、
面取り加工装置。 The chamfering device according to claim 4 or 5,
A linking portion that transfers the coil spring from the first chamfered portion, conveys it to the second chamfered portion, and links the coil spring between the first chamfered portion and the second chamfered portion,
Chamfering equipment. 請求項４又は５記載の面取り加工装置であって、
前記第１面取り部及び第２面取り部は、前記コンベヤの搬送方向が相互に一致し、相対的に前記幅方向に移動自在である、
面取り加工装置。 The chamfering device according to claim 4 or 5,
The first chamfered portion and the second chamfered portion are aligned in the conveying direction of the conveyor and are relatively movable in the width direction.
Chamfering equipment. 請求項１～７の何れか一項に記載の面取り加工装置であって、
前記押圧部は、少なくとも前記搬送方向における前記研磨開始位置手前から研磨終了位置にわたり、前記研磨開始位置手前において前記幅方向で膨出する膨出部を有する、
面取り加工装置。 The chamfering device according to any one of claims 1 to 7,
The pressing portion has a bulging portion that bulges in the width direction in front of the polishing start position at least from before the polishing start position to the polishing end position in the transport direction,
Chamfering equipment. 請求項１～８の何れか一項に記載の面取り加工装置であって、
前記押圧部を前記コンベヤに対して近接離間可能に支持し、前記近接離間によって前記コイルばねを押圧する荷重を調整可能な支持部と、
前記押圧部の前記荷重を検出する荷重センサーとを備え、
前記支持部は、前記荷重センサーの検出結果に基づき前記押圧部を近接離反して前記荷重を調整する、
面取り加工装置。 The chamfering device according to any one of claims 1 to 8,
a supporting portion that supports the pressing portion so as to be able to move toward or away from the conveyor, and that is capable of adjusting a load that presses the coil spring by the moving toward or away from the conveyor;
A load sensor that detects the load of the pressing part,
The support portion adjusts the load by approaching and separating the pressing portion based on the detection result of the load sensor.
Chamfering equipment. 請求項１～９の何れか一項に記載の面取り加工装置であって、
前記コンベヤ上での前記コイルばねの姿勢を取得する姿勢取得部と、
前記姿勢取得部で取得した前記コイルばねの姿勢を判断する姿勢判断部と、
前記コンベヤ上に進退可能に支持された遮断部材とを備え、
前記コイルばねの前記コンベヤの幅方向に対する傾斜量が閾値以上の場合に、前記遮断部材が前記コンベヤ上に進出して前記コイルばねの搬送を遮断する、
面取り加工装置。 The chamfering device according to any one of claims 1 to 9,
a posture acquisition unit that acquires a posture of the coil spring on the conveyor;
an attitude determination unit that determines the attitude of the coil spring acquired by the attitude acquisition unit;
and a blocking member supported on the conveyor so as to be able to move back and forth,
When the amount of inclination of the coil spring with respect to the width direction of the conveyor is equal to or greater than a threshold value, the blocking member advances onto the conveyor to block conveyance of the coil spring.
Chamfering equipment. 請求項１～１０の何れか一項に記載の面取り加工装置であって、
前記研磨機は、前記コイルばねに対する進出移動量によって面取り量の調整が可能であり、
前記研磨機の進出移動を制御する進出移動制御部と、
前記コイルばねの面取り量を取得する面取り量取得部と、
前記面取り量取得部で取得した前記コイルばねの面取り量が所定値か否かを判断する面取り量判断部とを備え、
前記進出移動制御部は、前記面取り量が前記所定値から外れている場合に、前記面取り量が所定値となるように前記研磨機の進出移動量を調整する、
面取り加工装置。 The chamfering device according to any one of claims 1 to 10,
The grinding machine is capable of adjusting the amount of chamfering by the amount of advance movement with respect to the coil spring,
an advance movement control unit for controlling the advance movement of the polishing machine;
a chamfering amount acquisition unit that acquires the chamfering amount of the coil spring;
a chamfer amount determination unit that determines whether the chamfer amount of the coil spring acquired by the chamfer amount acquisition unit is a predetermined value,
When the amount of chamfering is out of the predetermined value, the advancing movement control unit adjusts the amount of advancing movement of the polishing machine so that the amount of chamfering becomes a predetermined value.
Chamfering equipment. 請求項１～１１の何れか一項に記載の面取り加工装置であって、
前記研磨機は、回転によって外周で研磨を行う周回状の砥石を有し、
前記砥石の回転速度を制御する回転速度制御部と、
前記砥石の外径を検出する検出部とを備え、
前記回転速度制御部は、前記検出部で検出した前記砥石の外径に応じて前記回転速度を調整して周速度が一定となるようにする、
面取り加工装置。 The chamfering device according to any one of claims 1 to 11,
The polishing machine has a circular grindstone that polishes on the outer periphery by rotation,
a rotation speed control unit that controls the rotation speed of the grindstone;
A detection unit that detects the outer diameter of the grindstone,
The rotation speed control unit adjusts the rotation speed according to the outer diameter of the grindstone detected by the detection unit so that the peripheral speed is constant.
Chamfering equipment.
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