JP2022117934A - 化学機械研磨パッドのコンディショナー及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】中間基板(20)は下部基板(10)に設けられ、空洞部と、空洞部を取り囲んだ環状部とを含み、環状部は環状領域に沿って間隔を開けて配列した複数の第1研磨領域(221)と、第1研磨領域(221)の間に位置する複数の第2研磨領域(222)とを含み、第1研磨領域(221)は中間基板(20)の径方向に沿って延在する。ダイヤモンド薄膜(30)は中間基板(20)に設けられ、第1研磨領域(221)及び第2研磨領域(222)を覆う。ダイヤモンド薄膜(30)は複数の第1表面(31)と複数の第2表面(32)とを有し、且つ第1表面(31)から隆起した複数の第1研磨先端(311)と第2表面(32)から隆起した複数の第2研磨先端(321)とが形成される。
【選択図】図2A
Description
下部基板と、
当該下部基板に設けられた中間基板であって、空洞部と、当該空洞部を取り囲んだ環状部とを含み、当該環状部が、環状領域に沿って間隔を開けて配列した複数の第1研磨領域と、当該第1研磨領域の間に位置する複数の第2研磨領域とを含み、当該第1研磨領域が当該中間基板の径方向に沿って延在する当該中間基板と、
当該中間基板に設けられ、当該第1研磨領域及び当該第2研磨領域を覆うダイヤモンド薄膜であって、当該第1研磨領域を覆う複数の第1表面と、当該第2研磨領域を覆う複数の第2表面とを有する当該ダイヤモンド薄膜とを含み、
当該ダイヤモンド薄膜には当該第1表面から隆起した複数の第1研磨先端と当該第2表面から隆起した複数の第2研磨先端とが形成され、当該第1研磨先端は第1先端高さを有し、当該第2研磨先端は第2先端高さを有し、当該第1研磨領域は当該第1研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有し、当該第2研磨領域は当該第2研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有する。
中間基板を提供するステップであって、当該中間基板が空洞部と、当該空洞部を取り囲んだ環状部とを含み、当該環状部が、環状領域に沿って間隔を開けて配列した複数の第1研磨領域と、当該研磨領域の間に位置する複数の第2研磨領域とを含み、当該第1研磨領域が当該中間基板の径方向に沿って延在するステップと、
当該中間基板にダイヤモンド薄膜を形成させるステップであって、当該ダイヤモンド薄膜が当該第1研磨領域及び当該第2研磨領域を覆い、当該第1研磨領域を覆う複数の第1表面と、当該第2研磨領域を覆う複数の第2表面とを有するステップであって、当該ダイヤモンド薄膜には当該第1表面から隆起した複数の第1研磨先端と当該第2表面から隆起した複数の第2研磨先端とが形成され、当該第1研磨先端は第1先端高さを有し、当該第2研磨先端は第2先端高さを有し、当該第1表面は当該第1研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有し、当該第2表面は当該第2研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有するステップと、
当該中間基板を下部基板に設けるステップとを含む。
本発明の第1実施例の化学機械研磨パッドのコンディショナー1を上から見た図である図1、A-A’方向の断面模式図である図2A、B-B’方向の断面模式図である図2Bを参照して説明する。
本発明の化学機械研磨パッドのコンディショナー1の第2実施例を示す図4Aを参照して説明する。第2実施例では、さらに複数の研磨ユニット50を含む以外は、当該化学機械研磨パッドのコンディショナー1の構造は前記第1実施例とほぼ同じである。
(S1)中間基板20を提供し、中間基板20は空洞部21と、空洞部21を取り囲んだ環状部22とを含む。
10 下部基板
10a 外周部
10b 環状収容溝
20 中間基板
21 空洞部
22 環状部
30 ダイヤモンド薄膜
31 第1表面
32 第2表面
40 接着層
50 研磨ユニット
51 支持コラム
52 研磨粒子
53 研磨材接着層
201 バンプ
221 第1研磨領域
221a 第1先端
222 第2研磨領域
222a 第2先端
301 研磨バンプ
303、303a、303b、303c、303d 立体的形状集合部
304 平坦な領域
311 第1研磨先端
321 第2研磨先端
3011 上面
3012 立体的形状
D1 第1距離
D0 幅
H1 第1先端高さ
H2 第2先端高さ
Claims (31)
- 下部基板と、
前記下部基板に設けられた中間基板であって、空洞部と、前記空洞部を取り囲んだ環状部とを含み、前記環状部が、環状領域に沿って間隔を開けて配列した複数の第1研磨領域と、前記第1研磨領域の間に位置する複数の第2研磨領域とを含み、前記第1研磨領域が前記中間基板の径方向に沿って延在する前記中間基板と、
前記中間基板に設けられ、前記第1研磨領域及び前記第2研磨領域を覆うダイヤモンド薄膜であって、前記第1研磨領域を覆う複数の第1表面と、前記第2研磨領域を覆う複数の第2表面とを有する前記ダイヤモンド薄膜とを含み、
前記ダイヤモンド薄膜には前記第1表面から隆起した複数の第1研磨先端と前記第2表面から隆起した複数の第2研磨先端とが形成され、前記第1研磨先端は第1先端高さを有し、前記第2研磨先端は第2先端高さを有し、前記第1研磨領域は前記第1研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有し、前記第2研磨領域は前記第2研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有することを特徴とする化学機械研磨パッドのコンディショナー。 - 前記第1研磨領域の粗さは前記第2研磨領域の粗さより大きい、等しい又は小さいことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 単独な前記第1研磨領域の粗さは少なくとも2つ以上の範囲を含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 単独な前記第2研磨領域の粗さは少なくとも2つ以上の範囲を含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1先端高さは前記第2先端高さより大きい、等しい又は小さいことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記複数の第1研磨先端は少なくとも2組以上の前記第1先端高さを含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記複数の第2研磨先端は少なくとも2組以上の前記第2先端高さを含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1先端高さは5μm~300μmであることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第2先端高さは5μm~300μmであることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域と前記第2研磨領域は高さが同じであることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域と前記第2研磨領域の高さの差は1μm~300μmであることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域の形状は台形、扇形、円形、多角形を含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域がバンプで、前記ダイヤモンド薄膜が前記第1研磨領域を覆って前記バンプに従って複数の研磨バンプを形成しており、隣接する前記研磨バンプは互いに距離を開けており、前記距離は前記バンプの幅の1倍~5倍であることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域がバンプで、前記ダイヤモンド薄膜が前記第1研磨領域を覆って前記バンプに従って複数の研磨バンプを形成しており、前記研磨バンプは前記中間基板の前記径方向に対して弧度を有することを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域がバンプで、前記ダイヤモンド薄膜が前記第1研磨領域を覆って前記バンプに従って複数の研磨バンプを形成しており、前記研磨バンプは上面と、前記上面に形成された規則的に又は不規則的に配列した複数の立体的形状とを含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 各前記研磨バンプの前記上面は1平方ミリメートル当たり前記立体的形状の数量が10~250であることを特徴とする請求項15に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 隣接する前記立体的形状の中心点の間には、前記立体的形状の幅の1倍~8.3倍となる第1距離を有することを特徴とする請求項15に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記中間基板が、モリブデン、タングステン及び炭化タングステンからなる群から選ばれる導電性材料であることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記中間基板が、シリコン又は単結晶アルミナなる非導電性材料であることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記中間基板の材質は導電性の炭化ケイ素又は非導電性の炭化ケイ素であることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記下部基板と前記中間基板との間に設けられた接着層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域が1周であることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記第1研磨領域が2~20の周数を有することを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 隣接する前記第1研磨領域は互い違いになることを特徴とする請求項23に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記下部基板が平面の基板で、前記中間基板が前記平面の基板に設けられることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記下部基板が前記中間基板を収容する環状収容溝を有することを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記環状部が、互いに隣接してつなぎ合わせる複数の構成部分を含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記構成部分の数量は2つ~6つであることを特徴とする請求項27に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 前記中間基板が円形基板であることを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 支持コラムと、前記支持コラムに設けられた研磨粒子と、前記支持コラムと前記研磨粒子とを接着させるための研磨材接着層とを含む、複数の研磨ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械研磨パッドのコンディショナー。
- 中間基板を提供するステップであって、前記中間基板が空洞部と、前記空洞部を取り囲んだ環状部とを含み、前記環状部が、環状領域に沿って間隔を開けて配列した複数の第1研磨領域と、前記第1研磨領域の間に位置する複数の第2研磨領域とを含み、前記第1研磨領域が前記中間基板の径方向に沿って延在するステップと、
前記中間基板にダイヤモンド薄膜を形成させるステップであって、前記ダイヤモンド薄膜が前記第1研磨領域及び前記第2研磨領域を覆い、前記ダイヤモンド薄膜が前記第1研磨領域を覆う複数の第1表面と、前記第2研磨領域を覆う複数の第2表面とを有するステップであって、前記ダイヤモンド薄膜には前記第1表面から隆起した複数の第1研磨先端と前記第2表面から隆起した複数の第2研磨先端とが形成され、前記第1研磨先端は第1先端高さを有し、前記第2研磨先端は第2先端高さを有し、前記第1表面は前記第1研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有し、前記第2表面は前記第2研磨先端の形態によって1μm~50μmの粗さを有するステップと、
前記中間基板を下部基板に設けるステップとを含むことを特徴とする化学機械研磨パッドのコンディショナーの製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004098214A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Read Co Ltd | 研磨布用ドレッサー及びそれを用いた研磨布のドレッシング方法 |
JP2011507717A (ja) * | 2007-12-31 | 2011-03-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | プラズマ処理された研磨物品及び同物品の作製方法 |
US20150283672A1 (en) * | 2014-04-08 | 2015-10-08 | Kinik Company | Chemical mechanical polishing conditioner having different heights |
JP2018022877A (ja) * | 2016-08-01 | 2018-02-08 | 中國砂輪企業股▲ふん▼有限公司 | 化学機械研磨コンディショナー及びその製造方法 |
JP2018192611A (ja) * | 2017-05-12 | 2018-12-06 | 中國砂輪企業股▲ふん▼有限公司 | 化学機械研磨パッドコンディショナーおよびその製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008238310A (ja) * | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Allied Material Corp | Cmpパッドコンディショナー |
CN103688343B (zh) * | 2011-03-07 | 2016-09-07 | 恩特格里公司 | 化学机械抛光垫修整器 |
SG11201407232YA (en) * | 2012-05-04 | 2014-12-30 | Entegris Inc | Cmp conditioner pads with superabrasive grit enhancement |
TWM545662U (zh) * | 2014-04-08 | 2017-07-21 | 中國砂輪企業股份有限公司 | 非等高度之化學機械研磨修整器 |
TWI546159B (zh) * | 2014-04-11 | 2016-08-21 | 中國砂輪企業股份有限公司 | 可控制研磨深度之化學機械研磨修整器 |
TW201605576A (zh) * | 2014-08-01 | 2016-02-16 | Crystalwise Technology | 拋光修整器 |
-
2021
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004098214A (ja) * | 2002-09-09 | 2004-04-02 | Read Co Ltd | 研磨布用ドレッサー及びそれを用いた研磨布のドレッシング方法 |
JP2011507717A (ja) * | 2007-12-31 | 2011-03-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | プラズマ処理された研磨物品及び同物品の作製方法 |
US20150283672A1 (en) * | 2014-04-08 | 2015-10-08 | Kinik Company | Chemical mechanical polishing conditioner having different heights |
JP2018022877A (ja) * | 2016-08-01 | 2018-02-08 | 中國砂輪企業股▲ふん▼有限公司 | 化学機械研磨コンディショナー及びその製造方法 |
JP2018192611A (ja) * | 2017-05-12 | 2018-12-06 | 中國砂輪企業股▲ふん▼有限公司 | 化学機械研磨パッドコンディショナーおよびその製造方法 |
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