JP2022107375A - Method for producing thermosetting resin composition, thermosetting resin composition, electronic component device, and method for manufacturing electronic component device - Google Patents

Method for producing thermosetting resin composition, thermosetting resin composition, electronic component device, and method for manufacturing electronic component device Download PDF

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Chang Xun Hong
格 山浦
Itaru Yamaura
東哲 姜
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岳博 中村
Takehiro Nakamura
博 野澤
Hiroshi Nozawa
達也 片桐
Tatsuya Katagiri
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Abstract

To provide a method for producing a thermosetting resin composition applicable even to a low-temperature curable composition and capable of maintaining good fluidity and curability, a thermosetting resin composition obtained by the production method, an electronic component device including an element sealed with the thermosetting resin composition, and a method for manufacturing the same.SOLUTION: The method for producing a thermosetting resin composition includes: primary kneading in which a mixture of a thermosetting resin and an inorganic filler is kneaded in a kneader; cooling of the mixture after the primary kneading; and secondary kneading in which a curing accelerator is added to the mixture after the cooling and the mixture is further kneaded. The temperature of the secondary kneading is lower than an onset temperature measured by differential scanning calorimetry of the mixture after the addition of the curing accelerator in the secondary kneading.SELECTED DRAWING: None

Description

本開示は、熱硬化性樹脂組成物の製造方法、熱硬化性樹脂組成物、電子部品装置、及び電子部品装置の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a method for producing a thermosetting resin composition, a thermosetting resin composition, an electronic component device, and a method for manufacturing an electronic component device.

半導体素子の封止用途等に用いられる熱硬化性樹脂組成物は、一般的に、熱硬化性樹脂、無機充填材、添加剤等の各成分を混練機で溶融混練することによって製造される。溶融混練した組成物には、冷却後、用途に応じて粉砕、タブレット化等の処理が施される。 Thermosetting resin compositions used for sealing semiconductor devices and the like are generally produced by melt-kneading each component such as a thermosetting resin, an inorganic filler, and an additive with a kneader. After cooling, the melt-kneaded composition is subjected to treatments such as pulverization and tableting depending on the intended use.

半導体素子の封止材として例えばエポキシ樹脂組成物を用いる場合には、一般的に175℃程度で封止が行われる。一方、熱処理を高温で行うほど、樹脂組成物の膨張及び収縮により半導体装置に反りが発生したり、はんだの軟化により接合不良が発生したりしやすくなる。熱処理による半導体パッケージへの影響を最小限とするため、熱硬化性樹脂組成物の組成及び硬化方法の検討がなされている。 When, for example, an epoxy resin composition is used as a sealing material for a semiconductor element, sealing is generally performed at about 175 ° C. On the other hand, the higher the temperature of the heat treatment, the more likely it is that the semiconductor device will warp due to the expansion and contraction of the resin composition, and that bonding defects will occur due to the softening of the solder. In order to minimize the influence of heat treatment on the semiconductor package, the composition and curing method of the thermosetting resin composition have been studied.

例えば、特許文献1では、成形温度の低温化及び半導体装置の反りの抑制を目的として、150℃でのICI粘度が0.1Pa・s以下である特定のナフチレンエーテル骨格含有エポキシ樹脂、イミダゾール化合物を含む硬化剤、及び無機充填材を含有する封止用エポキシ樹脂組成物が提案されている。この封止用エポキシ樹脂組成物は、成形温度が低くてもナフチレンエーテル骨格含有エポキシ樹脂が良好な流動性を有し、かつナフチレンエーテル骨格含有エポキシ樹脂とイミダゾール化合物との反応性が低温でも良好であるため、低温成形によっても成形性の悪化及び封止材のムラの発生が生じにくいことが記載されている。 For example, in Patent Document 1, a specific naphthylene ether skeleton-containing epoxy resin and imidazole compound having an ICI viscosity at 150 ° C. of 0.1 Pa · s or less are used for the purpose of lowering the molding temperature and suppressing warpage of the semiconductor device. An epoxy resin composition for sealing containing a curing agent containing the above and an inorganic filler has been proposed. In this sealing epoxy resin composition, the naphthylene ether skeleton-containing epoxy resin has good fluidity even when the molding temperature is low, and the reactivity between the naphthylene ether skeleton-containing epoxy resin and the imidazole compound is low. It is described that since it is good, deterioration of moldability and unevenness of the sealing material are unlikely to occur even by low-temperature molding.

特開2016-089096号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-089096

特許文献1に記載されるように、半導体装置の封止における反り抑制などのため、熱硬化性樹脂組成物の低温硬化が望まれる場合がある一方、低温硬化によって良好な成形性を担保することは困難である。熱硬化性樹脂組成物の組成設計を低温硬化可能な組成とすると、組成物を十分に低粘度化させた状態で混練を行うことが困難であるため、成分の偏在が生じやすく、その結果、流動性が低下したり、硬化性が低下したりしやすいためである。 As described in Patent Document 1, low-temperature curing of the thermosetting resin composition may be desired in order to suppress warpage in sealing of semiconductor devices, while low-temperature curing ensures good moldability. It is difficult. If the composition design of the thermosetting resin composition is such that it can be cured at a low temperature, it is difficult to knead the composition in a state where the viscosity is sufficiently low, so that the components are likely to be unevenly distributed, and as a result, the components are likely to be unevenly distributed. This is because the fluidity tends to decrease and the curability tends to decrease.

特許文献1のエポキシ樹脂組成物によれば、低温硬化によっても良好な成形性が得られ、ムラの抑制が可能であることが記載されているが、成形性を担保しつつ低温硬化を可能とするためには、熱硬化性樹脂、硬化剤等の組成の許容幅が大幅に制限される。例えば、特許文献1には、融点の高い結晶性エポキシ樹脂を含有する組成物を用いて低温で封止材を形成すると、成形性が悪化し、また封止材の均一性が悪化して封止材にムラが生じやすくなることが記載されている。 According to the epoxy resin composition of Patent Document 1, it is described that good moldability can be obtained even by low-temperature curing and unevenness can be suppressed, but low-temperature curing is possible while ensuring moldability. In order to do so, the allowable range of the composition of the thermosetting resin, the curing agent, etc. is significantly limited. For example, in Patent Document 1, when a sealing material is formed at a low temperature by using a composition containing a crystalline epoxy resin having a high melting point, the moldability is deteriorated and the uniformity of the sealing material is deteriorated for sealing. It is described that unevenness is likely to occur in the stop material.

かかる事情に鑑み、本開示は、低温硬化性の組成にも適用可能であり、良好な流動性及び硬化性を維持することができる熱硬化性樹脂組成物の製造方法、当該製造方法により得られる熱硬化性樹脂組成物、並びに当該熱硬化性樹脂組成物により封止された素子を備える電子部品装置及びその製造方法が提供される。 In view of such circumstances, the present disclosure can be applied to a low-temperature curable composition, and can be obtained by a method for producing a thermosetting resin composition capable of maintaining good fluidity and curability, and a method for producing the same. Provided are a thermosetting resin composition, an electronic component device including an element sealed with the thermosetting resin composition, and a method for manufacturing the same.

上記課題を解決するための手段は、以下の態様を含む。
<1> 熱硬化性樹脂と無機充填材の混合物を混練機中で混練する一次混練と、
前記一次混練の後の前記混合物の冷却と、
前記冷却後の前記混合物に硬化促進剤を添加してさらに混練する二次混練と、
を含み、
前記二次混練の温度が、前記二次混練において前記硬化促進剤を添加した後の混合物の、示差走査熱量測定により測定されるオンセット温度より低い、
熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<2> 前記一次混練の温度が前記オンセット温度以上である、<1>に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<3> 前記熱硬化性樹脂の融点又は軟化点が前記オンセット温度以上である、<1>又は<2>に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<4> 前記オンセット温度が120℃以下である、<1>~<3>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<5> 前記二次混練の温度が120℃未満である、<1>~<4>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<6> 前記一次混練の温度が120℃以上である、<1>~<5>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<7> 前記熱硬化性樹脂の融点又は軟化点が120℃以上である、<1>~<6>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<8> 前記一次混練及び前記二次混練からなる群より選択される少なくとも一方において、さらに硬化剤を添加することを含む、<1>~<7>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<9> 前記混練機が、
前記一次混練を行うための第1混練部と、
前記二次混練を行うための第2混練部と、
前記第1混練部及び前記第2混練部の間に配置される冷却部と、
を備える混練押出機である、<1>~<8>のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
<10> <1>~<9>のいずれか1項に記載の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物。
<11> <1>~<9>のいずれか1項に記載の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により封止された素子を備える電子部品装置。
<12> <1>~<9>のいずれか1項に記載の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により、素子を120℃以下で封止することを含む、電子部品装置の製造方法。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> Primary kneading, in which a mixture of thermosetting resin and inorganic filler is kneaded in a kneader,
With cooling of the mixture after the primary kneading,
Secondary kneading, in which a curing accelerator is added to the cooled mixture and further kneaded,
Including
The temperature of the secondary kneading is lower than the onset temperature measured by differential scanning calorimetry of the mixture after adding the curing accelerator in the secondary kneading.
A method for producing a thermosetting resin composition.
<2> The method for producing a thermosetting resin composition according to <1>, wherein the temperature of the primary kneading is equal to or higher than the onset temperature.
<3> The method for producing a thermosetting resin composition according to <1> or <2>, wherein the melting point or softening point of the thermosetting resin is equal to or higher than the onset temperature.
<4> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the onset temperature is 120 ° C. or lower.
<5> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of <1> to <4>, wherein the temperature of the secondary kneading is less than 120 ° C.
<6> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of <1> to <5>, wherein the temperature of the primary kneading is 120 ° C. or higher.
<7> The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of <1> to <6>, wherein the thermosetting resin has a melting point or a softening point of 120 ° C. or higher.
<8> The thermosetting property according to any one of <1> to <7>, which comprises adding a curing agent to at least one selected from the group consisting of the primary kneading and the secondary kneading. A method for producing a resin composition.
<9> The kneading machine
The first kneading part for performing the primary kneading and
The second kneading part for performing the secondary kneading and
A cooling section arranged between the first kneading section and the second kneading section,
The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of <1> to <8>, which is a kneading extruder comprising the above.
<10> A thermosetting resin composition obtained by the production method according to any one of <1> to <9>.
<11> An electronic component device including an element sealed with a thermosetting resin composition obtained by the production method according to any one of <1> to <9>.
<12> Manufacture of an electronic component device including sealing an element at 120 ° C. or lower with a thermosetting resin composition obtained by the manufacturing method according to any one of <1> to <9>. Method.

本開示によれば、低温硬化性の組成にも適用可能であり、良好な流動性及び硬化性を維持することができる熱硬化性樹脂組成物の製造方法、当該製造方法により得られる熱硬化性樹脂組成物、並びに当該熱硬化性樹脂組成物により封止された素子を備える電子部品装置及びその製造方法が提供される。 According to the present disclosure, a method for producing a thermosetting resin composition which can be applied to a low-temperature curable composition and can maintain good fluidity and curability, and a thermosetting property obtained by the production method. Provided are an electronic component device including a resin composition and an element sealed with the thermosetting resin composition, and a method for manufacturing the same.

本開示の製造方法の一態様に用いられる混練押出機の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of the kneading extruder used in one aspect of the manufacturing method of this disclosure.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the following embodiments, the components (including element steps and the like) are not essential unless otherwise specified. The same applies to the numerical values and their ranges, and does not limit the present invention.

本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含まれていてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示において、固形、固体、液状、及び液体とは、25℃での性状をいう。
本開示において実施形態を図面を参照して説明する場合、当該実施形態の構成は図面に示された構成に限定されない。また、各図における部材の大きさは概念的なものであり、部材間の大きさの相対的な関係はこれに限定されない。
In the present disclosure, the term "process" includes not only a process independent of other processes but also the process if the purpose of the process is achieved even if the process cannot be clearly distinguished from the other process. ..
The numerical range indicated by using "-" in the present disclosure includes the numerical values before and after "-" as the minimum value and the maximum value, respectively.
In the numerical range described stepwise in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise. .. Further, in the numerical range described in the present disclosure, the upper limit value or the lower limit value of the numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
In the present disclosure, each component may contain a plurality of applicable substances. When a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition, the content or content of each component is the total content or content of the plurality of substances present in the composition unless otherwise specified. Means quantity.
In the present disclosure, a plurality of types of particles corresponding to each component may be contained. When a plurality of particles corresponding to each component are present in the composition, the particle size of each component means a value for a mixture of the plurality of particles present in the composition unless otherwise specified.
In the present disclosure, solid, solid, liquid, and liquid refer to properties at 25 ° C.
When the embodiment is described in the present disclosure with reference to the drawings, the configuration of the embodiment is not limited to the configuration shown in the drawings. Further, the size of the members in each figure is conceptual, and the relative relationship between the sizes of the members is not limited to this.

≪熱硬化性樹脂組成物の製造方法≫
本開示の熱硬化性樹脂組成物の製造方法(以下、本開示の製造方法ともいう)は、熱硬化性樹脂と無機充填材の混合物を混練機中で混練する一次混練と、前記一次混練の後の前記混合物の冷却と、前記冷却後の前記混合物に硬化促進剤を添加してさらに混練する二次混練と、を含み、前記二次混練の温度が、前記二次混練において前記硬化促進剤を添加した後の混合物の、示差走査熱量測定(DSC)により測定されるオンセット温度より低い。本開示の製造方法によれば、一次混練の後、温度を低下させて二次混練において硬化促進剤を添加するため、組成物の硬化温度、例えばオンセット温度が従来より低温であっても、熱硬化性樹脂と無機充填材とを十分に混練することが可能である。その結果、成分の偏在、凝集体の発生等を抑制し、熱硬化性樹脂組成物の硬化性を担保することが可能である。
<< Manufacturing method of thermosetting resin composition >>
The method for producing the heat-curable resin composition of the present disclosure (hereinafter, also referred to as the production method of the present disclosure) is a primary kneading in which a mixture of a heat-curable resin and an inorganic filler is kneaded in a kneader, and the primary kneading. The temperature of the secondary kneading includes the subsequent cooling of the mixture and the secondary kneading in which the curing accelerator is added to the cooled mixture and further kneaded, and the temperature of the secondary kneading is the temperature of the curing accelerator in the secondary kneading. Is lower than the onset temperature of the mixture after addition, as measured by differential scanning calorimetry (DSC). According to the production method of the present disclosure, after the primary kneading, the temperature is lowered and the curing accelerator is added in the secondary kneading, so that even if the curing temperature of the composition, for example, the onset temperature is lower than the conventional one, It is possible to sufficiently knead the thermosetting resin and the inorganic filler. As a result, it is possible to suppress uneven distribution of components, generation of aggregates, and the like, and to ensure the curability of the thermosetting resin composition.

本開示においてオンセット温度とは、DSCチャートの発熱ピークの微分値が最大となる点における接線と、DSCチャートの発熱ピークのベースラインと、の交点に相当する温度をいう。発熱ピークの微分値が最大となる点が複数存在する場合には、当該複数の点のうち最も低い温度側の点を採用する。 In the present disclosure, the onset temperature means a temperature corresponding to the intersection of the tangent line at the point where the differential value of the heat generation peak of the DSC chart becomes maximum and the baseline of the heat generation peak of the DSC chart. When there are a plurality of points having the maximum differential value of the exothermic peak, the point on the lowest temperature side among the plurality of points is adopted.

混練方法としては、予め所望の温度に加熱してある混練機によって溶融混練する方法が挙げられる。混練機としては、例えば混練押出機が挙げられる。混練押出機としては、単軸混練押出機、二軸混練押出機、三軸混練押出機等のスクリュー押出機などが挙げられる。なかでも、成分の分散性及び分配性の観点から二軸混練押出機が好ましい。 Examples of the kneading method include a method of melt-kneading with a kneader that has been preheated to a desired temperature. Examples of the kneading machine include a kneading extruder. Examples of the kneading extruder include a single-screw kneading extruder, a twin-screw kneading extruder, a screw extruder such as a triple-screw kneading extruder, and the like. Of these, a twin-screw kneading extruder is preferable from the viewpoint of component dispersibility and dispersibility.

好ましい一態様において、前記混練機は、一次混練を行うための第1混練部と、二次混練を行うための第2混練部と、第1混練部及び第2混練部の間に配置される冷却部と、を備える混練押出機であってもよい。混練押出機では、各成分を混練しながら、モーターを用いて所定の方向へ混合物を押し出すことができる。本態様では、第1混練部で一次混練を経た混合物は、下流に押し出されて冷却部に移動する。冷却された混合物は、さらに下流に押し出されて第2混練部に移動し、二次混練が行われる。 In a preferred embodiment, the kneader is arranged between a first kneading section for performing primary kneading, a second kneading section for performing secondary kneading, and a first kneading section and a second kneading section. It may be a kneading extruder including a cooling unit. In the kneading extruder, the mixture can be extruded in a predetermined direction by using a motor while kneading each component. In this embodiment, the mixture that has undergone the primary kneading in the first kneading section is pushed downstream and moved to the cooling section. The cooled mixture is extruded further downstream and moves to the second kneading section, where secondary kneading is performed.

混練押出機には、主材の投入口と、当該主材の投入口とは別に設けられた投入口(サイドフィーダー)が設けられていることが好ましい。例えば、上述のように、第1混練部、第2混練部、及び冷却部を備える混練押出機を用いる場合、第1混練部に設けられる主材の投入口から第1混練のための成分を投入し、第2混練部に設けられるサイドフィーダーから硬化促進剤を添加することが好ましい。サイドフィーダーは第1混練部にも設けられていてもよい。この場合、一次混練において、熱硬化性樹脂組成物の成分をそれぞれ別個の投入口から同時に又は順次投入することが可能である。
なお、本開示において便宜的に「主材の投入口」「主材の投入口とは別に設けられた投入口(サイドフィーダー)」等の用語を用いることがあるが、これらの投入口から添加される成分の種類又は量に特に制限はない。すなわち、主材とは、熱硬化性樹脂組成物に含まれる成分のうち、任意の量の任意の成分を表す。また、これらの投入口の構造は特に制限されない。
It is preferable that the kneading extruder is provided with an input port for the main material and an input port (side feeder) provided separately from the input port for the main material. For example, as described above, when a kneading extruder having a first kneading section, a second kneading section, and a cooling section is used, the components for the first kneading are extracted from the input port of the main material provided in the first kneading section. It is preferable to add the curing accelerator from the side feeder provided in the second kneading portion. The side feeder may also be provided in the first kneading portion. In this case, in the primary kneading, the components of the thermosetting resin composition can be charged simultaneously or sequentially from separate inlets.
In the present disclosure, terms such as "main material input port" and "input port (side feeder) provided separately from the main material input port" may be used for convenience, but they are added from these input ports. There is no particular limitation on the type or amount of ingredients to be produced. That is, the main material represents an arbitrary component in an arbitrary amount among the components contained in the thermosetting resin composition. Further, the structure of these inlets is not particularly limited.

例えば、一態様において、第1混練部に設けられる主材の投入口から、熱硬化性樹脂と無機充填材の混合物、必要に応じて硬化剤、カップリング剤、その他の添加剤等の混合物を投入する。又は、第1混練部に設けられる主材の投入口から無機充填材を投入し、同様に第1混練部に設けられるサイドフィーダーから熱硬化性樹脂、及び必要に応じてその他の成分を投入する。一次混練後、第2混練部に移動した混合物に対して、第2混練部に設けられるサイドフィーダーから硬化促進剤が投入される。 For example, in one embodiment, a mixture of a thermosetting resin and an inorganic filler, and if necessary, a mixture of a curing agent, a coupling agent, and other additives are provided from the input port of the main material provided in the first kneading portion. throw into. Alternatively, the inorganic filler is charged from the input port of the main material provided in the first kneading portion, and the thermosetting resin and other components are charged as necessary from the side feeder provided in the first kneading portion. .. After the primary kneading, the curing accelerator is added to the mixture that has moved to the second kneading section from the side feeder provided in the second kneading section.

一次混練は、二次混練に比べて高せん断条件で行うことが好ましい。一般的に、高せん断条件で樹脂と無機充填材を混合すると、せん断発熱が発生するが、一次混練ではせん断発熱が生じても増粘しにくいため、高せん断条件で混練を行うことができ、これにより熱硬化性樹脂と無機充填材を十分に混練することができる。 The primary kneading is preferably performed under higher shear conditions than the secondary kneading. Generally, when a resin and an inorganic filler are mixed under high shear conditions, shear heat generation is generated, but in primary kneading, thickening is difficult even if shear heat generation occurs, so kneading can be performed under high shear conditions. As a result, the thermosetting resin and the inorganic filler can be sufficiently kneaded.

一態様において用いられる混練押出機の概略断面図を図1に示す。混練押出機10は、第1混練部A、第2混練部C、及び両者の間に配置される冷却部B、並びに第1混練部Aに設けられる主材の投入口1、及び第2混練部Cに設けられるサイドフィーダー2を備える。図1中、矢印は組成物の押出方向を表す。混練方法の具体例は上述の通りである。
以下、本開示の製造方法の各工程について説明する。
A schematic cross-sectional view of the kneading extruder used in one embodiment is shown in FIG. The kneading extruder 10 includes a first kneading section A, a second kneading section C, a cooling section B arranged between the two, a main material inlet 1 provided in the first kneading section A, and a second kneading section. A side feeder 2 provided in the portion C is provided. In FIG. 1, the arrows indicate the extrusion direction of the composition. Specific examples of the kneading method are as described above.
Hereinafter, each step of the manufacturing method of the present disclosure will be described.

〔一次混練〕
一次混練では、熱硬化性樹脂と無機充填材の混合物を混練機中で混練する。このとき、さらに硬化剤、カップリング剤、その他の添加剤等を必要に応じて混合してもよい。一次混練の各成分は、事前にミキサー等で混合した混合物として混練機に添加してもよく、それぞれ別個の投入口から添加してもよい。
[Primary kneading]
In the primary kneading, a mixture of a thermosetting resin and an inorganic filler is kneaded in a kneader. At this time, a curing agent, a coupling agent, other additives and the like may be further mixed as necessary. Each component of the primary kneading may be added to the kneader as a mixture previously mixed with a mixer or the like, or may be added from separate inlets.

一次混練における増粘が進行しすぎずに、良好に混練が行える範囲で、一次混練において、硬化促進剤のうちの一部を添加してもよい。一次混練において硬化促進剤の一部を混合する場合には、当該混合する量は、最終的に添加する全硬化促進剤のうち、30質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることがさらに好ましい。製造工程の簡便化の観点から、好ましくは、一次混練では熱硬化性樹脂及び無機充填材を、硬化促進剤を添加しない状態で混練する。 A part of the curing accelerator may be added in the primary kneading as long as the thickening in the primary kneading does not proceed too much and the kneading can be performed well. When a part of the curing accelerator is mixed in the primary kneading, the mixing amount is preferably 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less, of the total curing accelerator to be finally added. More preferably, it is more preferably 10% by mass or less. From the viewpoint of simplifying the manufacturing process, preferably, in the primary kneading, the thermosetting resin and the inorganic filler are kneaded without adding a curing accelerator.

一次混練において硬化促進剤の一部を添加する場合としては、例えば以下の態様が想定される。複数種類の硬化促進剤を併用する場合において、一次混練の混練温度(Tとする)と、硬化促進剤を添加した後の混合物のオンセット温度(Tとする)が、T<Tの関係を満たす硬化促進剤(硬化促進剤aとする)は、一次混練において添加する。一方、T≧Tの関係を満たす硬化促進剤(硬化促進剤bとする)は、二次混練において添加する。この場合、一次混練において硬化促進剤aを添加しても、一次混練の温度Tにおいて硬化反応がほとんど進行しないため、増粘を抑制しながら混練することが可能である。 When a part of the curing accelerator is added in the primary kneading, for example, the following aspects are assumed. When a plurality of types of curing accelerators are used in combination, the kneading temperature of the primary kneading (referred to as T 1 ) and the onset temperature of the mixture after the addition of the curing accelerator (referred to as T x ) are T 1 <T. A curing accelerator (referred to as curing accelerator a) satisfying the relationship of x is added in the primary kneading. On the other hand, a curing accelerator (referred to as curing accelerator b) satisfying the relationship of T 1 ≥ T x is added in the secondary kneading. In this case, even if the curing accelerator a is added in the primary kneading, the curing reaction hardly proceeds at the temperature T1 of the primary kneading, so that the kneading can be performed while suppressing the thickening.

一次混練の温度は、用いる樹脂材料の溶融温度に応じて調節することが好ましい。一次混練の温度は、熱硬化性樹脂(複数種の熱硬化性樹脂を併用する場合には、融点又は軟化点が最も高い熱硬化性樹脂)の融点又は軟化点よりも高い温度であることが好ましい。例えば、一次混練の温度は熱硬化性樹脂(複数種の熱硬化性樹脂を併用する場合には、融点又は軟化点が最も高い熱硬化性樹脂)の融点又は軟化点よりも1℃~90℃高い温度であることが好ましく、1℃~70℃高い温度であることがより好ましく、1℃~50℃高い温度であることがさらに好ましい。かかる温度で混練を行うことにより、熱硬化性樹脂を十分に溶融させて流動性を維持することができるため、撹拌混合を良好に行うことができる。 The temperature of the primary kneading is preferably adjusted according to the melting temperature of the resin material used. The temperature of the primary kneading may be higher than the melting point or softening point of the thermosetting resin (the thermosetting resin having the highest melting point or softening point when a plurality of types of thermosetting resins are used in combination). preferable. For example, the temperature of the primary kneading is 1 ° C. to 90 ° C. higher than the melting point or softening point of the thermosetting resin (the thermosetting resin having the highest melting point or softening point when a plurality of types of thermosetting resins are used in combination). A high temperature is preferable, a temperature 1 ° C. to 70 ° C. higher is more preferable, and a temperature 1 ° C. to 50 ° C. higher is further preferable. By kneading at such a temperature, the thermosetting resin can be sufficiently melted to maintain the fluidity, so that stirring and mixing can be performed satisfactorily.

一態様において、一次混練の温度は、前記二次混練において前記硬化促進剤を添加した後の混合物の、示差走査熱量測定により測定されるオンセット温度以上であってもよい。かかる場合であっても、一次混練では硬化反応をほとんど進行させずに混練することができる。したがって、本開示の製造方法は、オンセット温度が低温となる硬化促進剤を用いる場合であっても、一次混練を当該オンセット温度以上で行うことが可能である点で特に有用である。当該オンセット温度は、例えば120℃以下であってもよく、110℃以下であってもよく、100℃以下であってもよく、90℃以下であってもよく、80℃以下であってもよく、70℃以下であってもよい。 In one aspect, the temperature of the primary kneading may be greater than or equal to the onset temperature measured by differential scanning calorimetry of the mixture after the addition of the curing accelerator in the secondary kneading. Even in such a case, in the primary kneading, the kneading can be performed with almost no progress of the curing reaction. Therefore, the production method of the present disclosure is particularly useful in that the primary kneading can be performed at the onset temperature or higher even when a curing accelerator having a low onset temperature is used. The onset temperature may be, for example, 120 ° C. or lower, 110 ° C. or lower, 100 ° C. or lower, 90 ° C. or lower, or 80 ° C. or lower. It may be 70 ° C. or lower.

一態様において、一次混練の温度は、70℃以上であってもよく、80℃以上であってもよく、90℃以上であってもよく、100℃以上であってもよく、110℃以上であってもよく、120℃以上であってもよい。粘度上昇を抑制する観点からは、一次混練の温度は、200℃以下であってもよい。かかる観点から、一次混練の温度は、70℃~200℃であってもよく、80℃~200℃であってもよく、90℃~200℃であってもよく、100℃~200℃であってもよく、110℃~200℃であってもよく、120℃~200℃であってもよい。 In one embodiment, the temperature of the primary kneading may be 70 ° C. or higher, 80 ° C. or higher, 90 ° C. or higher, 100 ° C. or higher, 110 ° C. or higher. It may be at 120 ° C. or higher. From the viewpoint of suppressing the increase in viscosity, the temperature of the primary kneading may be 200 ° C. or lower. From this point of view, the temperature of the primary kneading may be 70 ° C. to 200 ° C., 80 ° C. to 200 ° C., 90 ° C. to 200 ° C., or 100 ° C. to 200 ° C. It may be 110 ° C. to 200 ° C., or 120 ° C. to 200 ° C.

〔冷却〕
一次混練後、混合物は冷却される。冷却は特に制限されず、冷却装置により混練機全体を冷却してもよく、上述のように押出混練機に設けられた冷却部において冷却を行ってもよい。冷却温度は特に制限されず、混練性、増粘の抑制等の観点から、冷却装置又は冷却部の設定温度は30℃~80℃の範囲であることが好ましい。
〔cooling〕
After the primary kneading, the mixture is cooled. Cooling is not particularly limited, and the entire kneader may be cooled by a cooling device, or cooling may be performed in a cooling unit provided in the extrusion kneader as described above. The cooling temperature is not particularly limited, and the set temperature of the cooling device or the cooling unit is preferably in the range of 30 ° C. to 80 ° C. from the viewpoint of kneading property and suppression of thickening.

〔二次混練〕
二次混練では、冷却後の混合物に硬化促進剤を添加してさらに混練する。なお、二次混練において硬化剤と硬化促進剤の混合物を添加してもよい。硬化促進剤の添加量が樹脂成分に対して少量、例えば後述のように樹脂成分(すなわち熱硬化性樹脂と、必要に応じて添加される硬化剤の合計)100質量部に対して1質量部~30質量部程度であっても、二次混練において硬化促進剤を硬化剤との混合物として添加することによって、硬化促進剤の偏在を抑制することができ、硬化物としたときの良好な物性を担保しやすい傾向にある。また、硬化剤は一次混練で一部を添加し、残部を二次混練で硬化促進剤と混合して添加してもよい。
[Secondary kneading]
In the secondary kneading, a curing accelerator is added to the cooled mixture and the mixture is further kneaded. A mixture of a curing agent and a curing accelerator may be added in the secondary kneading. The amount of the curing accelerator added is small with respect to the resin component, for example, 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component (that is, the total of the thermosetting resin and the curing agent added as needed) as described later. Even if the amount is about 30 parts by mass, the uneven distribution of the curing accelerator can be suppressed by adding the curing accelerator as a mixture with the curing agent in the secondary kneading, and the cured product has good physical properties. It tends to be easy to secure. Further, a part of the curing agent may be added by the primary kneading, and the rest may be mixed with the curing accelerator by the secondary kneading and added.

二次混練において、硬化剤、硬化促進剤、及び無機充填材の一部(すなわち一次混練で混合した無機充填材の追加分)の混合物を添加してもよい。これにより、各成分の偏在をさらに抑制することができると考えられる。 In the secondary kneading, a mixture of a curing agent, a curing accelerator, and a part of the inorganic filler (that is, an additional portion of the inorganic filler mixed in the primary kneading) may be added. It is considered that this makes it possible to further suppress the uneven distribution of each component.

二次混練の温度は、一次混練の温度より低く、当該二次混練において硬化促進剤を添加した後の混合物の、示差走査熱量測定により測定されるオンセット温度より低い。これにより、二次混練において、硬化促進剤を含んだ組成物の増粘を抑制し、良好に混練することができる。二次混練の温度は、上記条件を満たす限り特に制限されず、例えば120℃未満であってもよく、110℃未満であってもよく、100℃未満であってもよく、90℃未満であってもよく、80℃未満であってもよく、70℃未満であってもよい。二次混練の温度は、混練性の観点からは、30℃以上であることが好ましく、40℃以上であることがより好ましく、50℃以上であることがさらに好ましい。 The temperature of the secondary kneading is lower than the temperature of the primary kneading and lower than the onset temperature measured by the differential scanning calorimetry of the mixture after the curing accelerator is added in the secondary kneading. As a result, in the secondary kneading, the thickening of the composition containing the curing accelerator can be suppressed and the kneading can be performed satisfactorily. The temperature of the secondary kneading is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied, and may be, for example, less than 120 ° C, less than 110 ° C, less than 100 ° C, or less than 90 ° C. It may be lower than 80 ° C., and may be lower than 70 ° C. From the viewpoint of kneading property, the temperature of the secondary kneading is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, and further preferably 50 ° C. or higher.

〔他の工程〕
本開示の製造方法は、一次混練と二次混練に加えて、任意のタイミングで他の工程を含んでいてもよい。例えば、熱硬化性樹脂、無機充填材、硬化促進剤以外の任意の成分を、当該熱硬化性樹脂、無機充填材、硬化促進剤のうち1以上の成分と同時又は異なる時点で添加し、混練してもよい。一次混練及び二次混練を経て得られた組成物を冷却及び粉砕し、固形の熱硬化性樹脂組成物を得てもよい。得られた固形の熱硬化性樹脂組成物を、打錠機によってタブレット化してもよい。
[Other processes]
The manufacturing method of the present disclosure may include other steps at arbitrary timings in addition to the primary kneading and the secondary kneading. For example, any component other than the thermosetting resin, the inorganic filler, and the curing accelerator is added at the same time as or at a different time from one or more of the thermosetting resin, the inorganic filler, and the curing accelerator, and kneaded. You may. The composition obtained through the primary kneading and the secondary kneading may be cooled and pulverized to obtain a solid thermosetting resin composition. The obtained solid thermosetting resin composition may be tableted by a tableting machine.

以下、本開示の製造方法に用いられる各成分、すなわち熱硬化性樹脂組成物に含まれる各成分について説明する。 Hereinafter, each component used in the production method of the present disclosure, that is, each component contained in the thermosetting resin composition will be described.

<熱硬化性樹脂>
熱硬化性樹脂の種類は特に制限されず、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。本開示では、エポキシ基を含有するアクリル樹脂等の、熱可塑性と熱硬化性の両方の性質を示すものは「熱硬化性樹脂」に含めるものとする。熱硬化性樹脂は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)で固体であっても液体であってもよく、固体であることが好ましい。熱硬化性樹脂は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Thermosetting resin>
The type of the thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, urethane resin, silicone resin, and unsaturated polyester resin. In the present disclosure, a resin exhibiting both thermoplastic and thermosetting properties, such as an acrylic resin containing an epoxy group, is included in the "thermosetting resin". The thermosetting resin may be a solid or a liquid under normal temperature and pressure (for example, 25 ° C. and atmospheric pressure), and is preferably a solid. The thermosetting resin may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。エポキシ樹脂として具体的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ビスフェノールS等のジグリシジルエーテルである硫黄原子含有型エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;などが挙げられる。さらにはシリコーン樹脂のエポキシ化物、アクリル樹脂のエポキシ化物等もエポキシ樹脂として挙げられる。エポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The thermosetting resin preferably contains an epoxy resin. Specifically, the epoxy resin is at least one selected from the group consisting of phenol compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, and bisphenol F, and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol, and dihydroxynaphthalene. A novolak type epoxy resin (phenol novolak) which is an epoxidation of a novolak resin obtained by condensing or cocondensing a seed phenolic compound and an aliphatic aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, etc. under an acidic catalyst. Type epoxy resin, orthocresol novolac type epoxy resin, etc.); Triphenylmethane type phenol resin obtained by condensing or cocondensing the above phenolic compound with aromatic aldehyde compounds such as benzaldehyde and salicylaldehyde under an acidic catalyst. Triphenylmethane type epoxide resin obtained by epoxidizing the above; a copolymerization type epoxy obtained by co-condensing the above phenol compound, naphthol compound and aldehyde compound under an acidic catalyst. Resin: Diphenylmethane type epoxy resin which is a diglycidyl ether such as bisphenol A and bisphenol F; Biphenyl type epoxy resin which is an alkyl-substituted or unsubstituted biphenol diglycidyl ether; Stilben-type epoxy which is a diglycidyl ether of a stilben-based phenol compound. Resin: Sulfur atom-containing epoxy resin that is a diglycidyl ether such as bisphenol S; Epoxide resin that is an alcoholic glycidyl ether such as butanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol; A glycidyl ester type epoxy resin that is a glycidyl ester of a valent carboxylic acid compound; a glycidylamine type epoxy resin that is obtained by substituting an active hydrogen bonded to a nitrogen atom such as aniline, diaminodiphenylmethane, or isocyanuric acid with a glycidyl group; Dicyclopentadiene type epoxy resin which is an epoxide of a cocondensation resin of a phenol compound; vinylcyclohexene epoxide which is an epoxide of an olefin bond in the molecule, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxide. Cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxide) cyclohexy An alicyclic epoxy resin such as ru-5,5-spiro (3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane; a paraxylylene-modified epoxy resin which is a glycidyl ether of a paraxylylene-modified phenol resin; a glycidyl ether of a metaxylylene-modified phenol resin. Metaxylylene-modified epoxy resin; terpen-modified epoxy resin, which is a glycidyl ether of terpen-modified phenol resin; dicyclopentadiene-modified epoxy resin, which is a glycidyl ether of dicyclopentadiene-modified phenol resin; cyclopentadiene-modified glycidyl ether of cyclopentadiene-modified phenol resin. Epoxy resin; Polycyclic aromatic ring-modified epoxy resin which is a glycidyl ether of a polycyclic aromatic ring-modified phenol resin; Naphthalene type epoxy resin which is a glycidyl ether of a naphthalene ring-containing phenol resin; Halogenated phenol novolac type epoxy resin; Hydroquinone type epoxy resin Trimethylol propane type epoxy resin; Linear aliphatic epoxy resin obtained by oxidizing an olefin bond with a peracid such as peracetic acid; Epoxy aralkyl type phenol resin such as phenol aralkyl resin and naphthol aralkyl resin. Aralkill type epoxy resin; etc. Further, an epoxy resin made of a silicone resin, an epoxy resin made of an acrylic resin, and the like can be mentioned as the epoxy resin. The epoxy resin may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である場合、エポキシ樹脂のエポキシ当量(分子量/エポキシ基数)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性及び電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、100g/eq~1000g/eqであることが好ましく、150g/eq~500g/eqであることがより好ましい。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、JIS K 7236:2009に準じた方法で測定される値とする。 When the thermosetting resin is an epoxy resin, the epoxy equivalent (molecular weight / number of epoxy groups) of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various characteristics such as moldability, reflow resistance and electrical reliability, it is preferably 100 g / eq to 1000 g / eq, and more preferably 150 g / eq to 500 g / eq. The epoxy equivalent of the epoxy resin shall be a value measured by a method according to JIS K 7236: 2009.

熱硬化性樹脂が25℃で固体である場合、熱硬化性樹脂の融点又は軟化点は特に制限されない。耐ブロッキングの観点からは、熱硬化性樹脂の融点又は軟化点は、40℃以上であることが好ましく、50℃以上であることがより好ましい。混練による増粘を抑制する観点からは、熱硬化性樹脂の融点又は軟化点は、150℃以下であることが好ましく、140℃以下であることがより好ましく、130℃以下であることがさらに好ましい。 When the thermosetting resin is solid at 25 ° C., the melting point or softening point of the thermosetting resin is not particularly limited. From the viewpoint of blocking resistance, the melting point or softening point of the thermosetting resin is preferably 40 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher. From the viewpoint of suppressing thickening due to kneading, the melting point or softening point of the thermosetting resin is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 140 ° C. or lower, and further preferably 130 ° C. or lower. ..

一態様において、熱硬化性樹脂の融点又は軟化点は、二次混練において硬化促進剤を添加した後の混合物のオンセット温度以上であってもよい。本開示の製造方法によれば、硬化促進剤を添加した後の混合物のオンセット温度にかかわらず、熱硬化性樹脂を選択することが可能である。したがって、本開示の製造方法は、融点又は軟化点の比較的高い熱硬化性樹脂と、硬化温度が低温となる硬化促進剤と、を併用しても、十分な混練性、及びその結果としての良好な硬化性を得ることができる点で特に有用である。かかる観点から、一態様において、熱硬化性樹脂の融点又は軟化点は、100℃以上であってもよく、110℃以上であってもよく、120℃以上であってもよい。 In one embodiment, the melting point or softening point of the thermosetting resin may be equal to or higher than the onset temperature of the mixture after the curing accelerator is added in the secondary kneading. According to the production method of the present disclosure, it is possible to select a thermosetting resin regardless of the onset temperature of the mixture after adding the curing accelerator. Therefore, the production method of the present disclosure has sufficient kneadability even when a thermosetting resin having a relatively high melting point or softening point and a curing accelerator having a low curing temperature are used in combination, and as a result, the kneading property is sufficient. It is particularly useful in that good curability can be obtained. From this point of view, in one aspect, the melting point or softening point of the thermosetting resin may be 100 ° C. or higher, 110 ° C. or higher, or 120 ° C. or higher.

熱硬化性樹脂の含有率は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から、熱硬化性樹脂組成物の全質量に対して0.5質量%~50質量%であることが好ましく、2質量%~30質量%であることがより好ましく、2質量%~20質量%であることがさらに好ましい。 The content of the heat-curable resin is preferably 0.5% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the heat-curable resin composition from the viewpoint of strength, fluidity, heat resistance, moldability and the like. It is more preferably 2% by mass to 30% by mass, and further preferably 2% by mass to 20% by mass.

<無機充填材>
無機充填材の材質は特に制限されない。無機充填材の材質として具体的には、溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化マグネシウム、炭化ケイ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の無機材料が挙げられる。難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。無機充填材の中でも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカ等のシリカが好ましく、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。
<Inorganic filler>
The material of the inorganic filler is not particularly limited. Specifically, as the material of the inorganic filler, silica such as molten silica and crystalline silica, glass, alumina, calcium carbonate, zirconium silicate, calcium silicate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, magnesium oxide, silicon carbide, Inorganic materials such as beryllia, zirconia, zircone, fosterite, steatite, spinel, mulite, titania, talc, clay and mica can be mentioned. An inorganic filler having a flame-retardant effect may be used. Examples of the inorganic filler having a flame-retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, composite metal hydroxides such as magnesium and zinc composite hydroxides, and zinc borate. Among the inorganic fillers, silica such as fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the coefficient of linear expansion, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity.

無機充填材の形状は特に制限されず、充填性及び金型摩耗性の点からは、球形が好ましい。 The shape of the inorganic filler is not particularly limited, and a spherical shape is preferable from the viewpoint of filling property and mold wear resistance.

無機充填材は1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。なお、「無機充填材を2種以上併用する」とは、例えば、同じ成分で平均粒子径が異なる無機充填材を2種類以上用いる場合、平均粒子径が同じで成分の異なる無機充填材を2種類以上用いる場合並びに平均粒子径及び種類の異なる無機充填材を2種類以上用いる場合が挙げられる。 As the inorganic filler, one type may be used alone or two or more types may be used in combination. In addition, "using two or more kinds of inorganic fillers together" means, for example, when two or more kinds of inorganic fillers having the same component but different average particle diameters are used, two inorganic fillers having the same average particle diameter but different components are used. There are cases where more than one type is used and cases where two or more types of inorganic fillers having different average particle diameters and types are used.

無機充填材の含有率は特に制限されない。熱硬化性樹脂組成物の硬化物の熱膨張係数、熱伝導率、弾性率等の特性をより向上させる観点からは、無機充填材の含有率は熱硬化性樹脂組成物全体の30体積%以上であることが好ましく、40体積%以上であることがより好ましく、50体積%以上であることがさらに好ましく、60体積%以上であることが特に好ましく、70体積%以上であることが極めて好ましい。熱硬化性樹脂組成物の流動性の向上、粘度の低下等の観点からは、無機充填材の含有率は熱硬化性樹脂組成物全体の99体積%以下であることが好ましく、98体積%以下であることが好ましく、97体積%以下であることがより好ましい。
また、例えば、熱硬化性樹脂組成物を圧縮成形用に用いる場合には、無機充填材の含有率は熱硬化性樹脂組成物全体の70体積%~99体積%としてもよく、80体積%~99体積%としてもよく、83体積%~99体積%としてもよく、85体積%~99体積%としてもよい。
The content of the inorganic filler is not particularly limited. From the viewpoint of further improving the properties such as thermal expansion coefficient, thermal conductivity, and elasticity of the cured product of the thermosetting resin composition, the content of the inorganic filler is 30% by volume or more of the entire thermocurable resin composition. It is preferably 40% by volume or more, more preferably 50% by volume or more, particularly preferably 60% by volume or more, and extremely preferably 70% by volume or more. From the viewpoint of improving the fluidity of the thermosetting resin composition, lowering the viscosity, etc., the content of the inorganic filler is preferably 99% by volume or less, preferably 98% by volume or less of the entire thermosetting resin composition. It is preferably 97% by volume or less.
Further, for example, when the thermosetting resin composition is used for compression molding, the content of the inorganic filler may be 70% by volume to 99% by volume of the entire thermosetting resin composition, and 80% by volume to 80% by volume. It may be 99% by volume, 83% by volume to 99% by volume, or 85% by volume to 99% by volume.

熱硬化性樹脂組成物の硬化物中の無機充填材の含有率は、次のようにして測定することができる。まず、硬化物の総質量を測定し、該硬化物を400℃で2時間、次いで700℃で3時間焼成し、樹脂成分等を蒸発させ、残存した無機充填材の質量を測定する。得られた各質量及びそれぞれの比重から体積を算出し、硬化物の総体積に対する無機充填材の体積の割合を得て、無機充填材の含有率とする。 The content of the inorganic filler in the cured product of the thermosetting resin composition can be measured as follows. First, the total mass of the cured product is measured, and the cured product is fired at 400 ° C. for 2 hours and then at 700 ° C. for 3 hours to evaporate the resin component and the like, and the mass of the remaining inorganic filler is measured. The volume is calculated from each mass obtained and the specific gravity of each, and the ratio of the volume of the inorganic filler to the total volume of the cured product is obtained and used as the content of the inorganic filler.

本開示の製造方法によれば、各成分の混合物の混練性を高めることができる傾向にある。そのため、従来の方法によれば粘度上昇による影響、例えば半導体パッケージにおけるワイヤ流れの発生の懸念から無機充填材の含有率を高められなかった組成であっても、本開示の製造方法によれば、無機充填材を高充填化することが可能となると考えられる。 According to the production method of the present disclosure, there is a tendency that the kneadability of the mixture of each component can be improved. Therefore, according to the manufacturing method of the present disclosure, even if the composition cannot increase the content of the inorganic filler due to the influence of the increase in viscosity according to the conventional method, for example, the concern about the occurrence of wire flow in the semiconductor package. It is considered that the inorganic filler can be highly filled.

無機充填材が粒子状である場合、その平均粒子径は、特に制限されない。例えば、無機充填材全体の体積平均粒子径は、80μm以下であることが好ましく、50μm以下であってもよく、40μm以下であってもよく、30μm以下であってもよく、20μm以下であってもよい。また、無機充填材全体の体積平均粒子径は、0.1μm以上であることが好ましく、0.2μm以上であることがより好ましく、0.3μm以上であることがさらに好ましい。無機充填材の体積平均粒子径が0.1μm以上であると、熱硬化性樹脂組成物の粘度の上昇がより抑制される傾向がある。無機充填材の体積平均粒子径が80μm以下であると、狭い隙間への充填性がより向上する傾向にある。無機充填材の体積平均粒子径は、レーザー散乱回折法粒度分布測定装置により測定された体積基準の粒度分布において、小径側からの累積が50%となるときの粒子径(D50)として測定することができる。 When the inorganic filler is in the form of particles, its average particle size is not particularly limited. For example, the volume average particle diameter of the entire inorganic filler is preferably 80 μm or less, 50 μm or less, 40 μm or less, 30 μm or less, 20 μm or less. May be good. The volume average particle size of the entire inorganic filler is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.2 μm or more, and further preferably 0.3 μm or more. When the volume average particle size of the inorganic filler is 0.1 μm or more, the increase in viscosity of the thermosetting resin composition tends to be further suppressed. When the volume average particle diameter of the inorganic filler is 80 μm or less, the filling property into a narrow gap tends to be further improved. The volume average particle size of the inorganic filler shall be measured as the particle size (D50) when the accumulation from the small diameter side is 50% in the volume-based particle size distribution measured by the laser scattering diffraction method particle size distribution measuring device. Can be done.

<硬化促進剤>
硬化促進剤の種類は、特に制限されず、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)等のジアザビシクロアルケン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール等の環状アミジン化合物;前記環状アミジン化合物の誘導体;前記環状アミジン化合物又はその誘導体のフェノールノボラック塩;これらの化合物に無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;DBUのテトラフェニルボレート塩、DBNのテトラフェニルボレート塩、2-エチル-4-メチルイミダゾールのテトラフェニルボレート塩、N-メチルモルホリンのテトラフェニルボレート塩等の環状アミジニウム化合物;ピリジン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物;前記三級アミン化合物の誘導体;酢酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、リン酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、酢酸テトラエチルアンモニウム、安息香酸テトラ-n-ヘキシルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム等のアンモニウム塩化合物;エチルホスフィン、フェニルホスフィン等の一級ホスフィン、ジメチルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の二級ホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p-トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキルアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、トリナフチルホスフィン、トリス(ベンジル)ホスフィン等の三級ホスフィンなどの、有機ホスフィン;前記有機ホスフィンと有機ボロン類との錯体等のホスフィン化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン、アントラキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と4-ブロモフェノール、3-ブロモフェノール、2-ブロモフェノール、4-クロロフェノール、3-クロロフェノール、2-クロロフェノール、4-ヨウ化フェノール、3-ヨウ化フェノール、2-ヨウ化フェノール、4-ブロモ-2-メチルフェノール、4-ブロモ-3-メチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジメチルフェノール、4-ブロモ-3,5-ジメチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジ-t-ブチルフェノール、4-クロロ-1-ナフトール、1-ブロモ-2-ナフトール、6-ブロモ-2-ナフトール、4-ブロモ-4’-ヒドロキシビフェニル等のハロゲン化フェノール化合物を反応させた後に、脱ハロゲン化水素の工程を経て得られる、分子内分極を有する化合物;テトラフェニルホスホニウム等のテトラ置換ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート等のテトラ置換ホスホニウムのテトラフェニルボレート塩、テトラ置換ホスホニウムとフェノール化合物との塩などの、テトラ置換ホスホニウム化合物;ホスホベタイン化合物;ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物などが挙げられる。硬化促進剤は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Curing accelerator>
The type of curing accelerator is not particularly limited, and is 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonen-5 (DBN), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), etc. Cyclic amidine compounds such as diazabicycloalkene, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole; derivatives of the cyclic amidine compounds; Phenol novolak salts; these compounds include maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-turquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy. Add a quinone compound such as -5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone, or a compound having a π bond such as diazophenylmethane. Compounds with intramolecular polarization; cyclic amidine compounds such as DBU tetraphenylborate salt, DBN tetraphenylborate salt, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate salt, N-methylmorpholin tetraphenylborate salt, etc. Tertiary amine compounds such as pyridine, triethylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol; derivatives of the tertiary amine compound; tetra-n-butylammonium acetate, Amidine salt compounds such as tetra-n-butylammonium phosphate, tetraethylammonium acetate, tetra-n-hexylammonium benzoate, tetrapropylammonium hydroxide; primary phosphine such as ethylphosphine and phenylphosphine, dimethylphosphine, diphenylphosphine and the like Secondary phosphine, triphenylphosphine, diphenyl (p-tolyl) phosphine, tris (alkylphenyl) phosphine, tris (alkoxyphenyl) phosphine, tris (alkylalkoxyphenyl) phosphine, tris (dialkylphenyl) phosphine, tris (trialkylphenyl) ) Phosphine, Tris (tetraalkylphenyl) phosphine, Tris (dialkoxyphenyl) phosphine, Tris (trialkoxyphenyl) phosphine, Tris (tetraalkenylphenyl) phosphine, trialkylphos Organic phosphines such as fins, dialkylarylphosphines, alkyldiarylphosphines, trinaphthylphosphines, tertiary phosphines such as tris (benzyl) phosphines; phosphine compounds such as complexes of said organic phosphines with organic borons; said organic phosphines or said above. Phenol compounds and maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-turquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1 , 4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone, anthraquinone and other quinone compounds, and diazophenylmethane and other quinone compounds with a π bond added. Compounds having; Phenol iodide, phenol 2-iodide, 4-bromo-2-methylphenol, 4-bromo-3-methylphenol, 4-bromo-2,6-dimethylphenol, 4-bromo-3,5-dimethylphenol, Halogen such as 4-bromo-2,6-di-t-butylphenol, 4-chloro-1-naphthol, 1-bromo-2-naphthol, 6-bromo-2-naphthol, 4-bromo-4'-hydroxybiphenyl A compound having intramolecular polarization obtained through a step of dehalogenation after reacting a phenol compound; tetra-substituted phosphonium such as tetraphenylphosphonium, tetra-substituted phosphonium such as tetraphenylphosphonium tetra-p-tolylbolate. Tetra-substituted phosphonium compounds; phosphobetaine compounds; adducts of phosphonium compounds and silane compounds, such as the tetraphenylborate salt of the above, salts of tetra-substituted phosphoniums and phenolic compounds, and the like. The curing accelerator may be used alone or in combination of two or more.

例えば熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合に特に好適な硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンとキノン化合物との付加物等が挙げられる。 For example, when an epoxy resin is used as the thermosetting resin, particularly suitable curing accelerators include triphenylphosphine, an adduct of triphenylphosphine and a quinone compound, and the like.

また、例えば熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合において、低温硬化が可能な硬化促進剤としては、トリブチルホスフィンと1,4-ベンゾキノンの付加物、ジメチルアミノピリジン、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール等が挙げられる。 Further, for example, when an epoxy resin is used as a thermosetting resin, examples of a curing accelerator capable of low-temperature curing include an adduct of tributylphosphine and 1,4-benzoquinone, dimethylaminopyridine, and 2-ethyl-4-methylimidazole. , 2-Methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole and the like.

硬化促進剤の含有量は、樹脂成分100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~15質量部であることがより好ましく、1質量部~10質量部であってもよく、1質量部~5質量部であってもよい。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.1質量部以上であると、短時間で良好に硬化する傾向にある。硬化促進剤の量が樹脂成分100質量部に対して30質量部以下であると、硬化速度が速すぎず良好な成形品が得られる傾向にある。 The content of the curing accelerator is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass, more preferably 1 part by mass to 15 parts by mass, and 1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. It may be 1 part by mass to 5 parts by mass. When the amount of the curing accelerator is 0.1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component, it tends to be cured well in a short time. When the amount of the curing accelerator is 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component, the curing rate is not too fast and a good molded product tends to be obtained.

<硬化剤>
一次混練又は二次混練において、さらに硬化剤を添加してもよい。硬化剤は、一次混練を行う熱硬化性樹脂と硬化反応を生じる化合物であれば特に制限されず、自身が熱硬化性樹脂であってもよい。例えば、エポキシ樹脂と併用する硬化剤としては、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤等が挙げられる。硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。耐熱性向上の観点からは、硬化剤は、フェノール性水酸基を分子中に有する化合物(フェノール硬化剤ともいう)が好ましい。硬化剤は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)で固体であっても液体であってもよく、固体であることが好ましい。
<Hardener>
In the primary kneading or the secondary kneading, a curing agent may be further added. The curing agent is not particularly limited as long as it is a compound that causes a curing reaction with a thermosetting resin that undergoes primary kneading, and may itself be a thermosetting resin. For example, examples of the curing agent used in combination with the epoxy resin include a phenol curing agent, an amine curing agent, an acid anhydride curing agent, a polymercaptan curing agent, a polyaminoamide curing agent, an isocyanate curing agent, and a blocked isocyanate curing agent. As the curing agent, one type may be used alone or two or more types may be used in combination. From the viewpoint of improving heat resistance, the curing agent is preferably a compound having a phenolic hydroxyl group in the molecule (also referred to as a phenol curing agent). The curing agent may be a solid or a liquid under normal temperature and pressure (for example, 25 ° C. and atmospheric pressure), and is preferably a solid.

フェノール硬化剤として具体的には、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、置換又は非置換のビフェノール等の多価フェノール化合物;フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等と、から合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;パラキシリレン及び/又はメタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジシクロペンタジエンと、から共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂及びジシクロペンタジエン型ナフトール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂;これら2種以上を共重合して得たフェノール樹脂などが挙げられる。フェノール硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specifically, the phenolic curing agent is a polyhydric phenol compound such as resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, substituted or unsubstituted biphenol; phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol. , At least one phenolic compound selected from the group consisting of phenolic compounds such as aminophenol and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol and dihydroxynaphthalene, and aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde and salicylaldehyde. A novolak-type phenol resin obtained by condensing or co-condensing a compound under an acidic catalyst; a phenol aralkyl resin and naphthol aralkyl synthesized from the above phenolic compound and dimethoxyparaxylene, bis (methoxymethyl) biphenyl and the like. Aralkyl-type phenolic resin such as resin; paraxylylene and / or metaxylylene-modified phenolic resin; melamine-modified phenolic resin; terpene-modified phenolic resin; dicyclopentadiene-type phenol synthesized by copolymerization of the above phenolic compound and dicyclopentadiene. Resin and dicyclopentadiene-type naphthol resin; cyclopentadiene-modified phenolic resin; polycyclic aromatic ring-modified phenolic resin; biphenyl-type phenolic resin; A triphenylmethane-type phenolic resin obtained by condensing or co-condensing in (1); a phenolic resin obtained by copolymerizing two or more of these types can be mentioned. The phenol curing agent may be used alone or in combination of two or more.

硬化剤の官能基当量(フェノール硬化剤の場合は水酸基当量、アミン硬化剤の場合は活性水素当量)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点からは、硬化剤の官能基当量は70g/eq~1000g/eqであることが好ましく、80g/eq~500g/eqであることがより好ましい。 The functional group equivalent of the curing agent (hydroxyl equivalent in the case of a phenol curing agent, active hydrogen equivalent in the case of an amine curing agent) is not particularly limited. From the viewpoint of balancing various properties such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, the functional group equivalent of the curing agent is preferably 70 g / eq to 1000 g / eq, preferably 80 g / eq to 500 g / eq. Is more preferable.

フェノール硬化剤の場合における水酸基当量は、JIS K0070:1992に準拠して測定された水酸基価に基づいて算出された値をいう。また、アミン硬化剤の場合における活性水素当量は、JIS K7237:1995に準拠して測定されたアミン価に基づいて算出された値をいう。 The hydroxyl group equivalent in the case of a phenol curing agent means a value calculated based on the hydroxyl value measured in accordance with JIS K0070: 1992. The active hydrogen equivalent in the case of an amine curing agent refers to a value calculated based on the amine value measured in accordance with JIS K7237: 1995.

硬化剤が固体である場合、その軟化点又は融点は、特に制限されない。硬化剤の軟化点又は融点は、例えば熱硬化性樹脂組成物を封止材用途で用いる場合の成形性と耐リフロー性の観点からは、40℃~180℃であることが好ましく、熱硬化性樹脂組成物の製造時における取扱い性の観点からは、50℃~130℃であることがより好ましい。 When the curing agent is a solid, its softening point or melting point is not particularly limited. The softening point or melting point of the curing agent is preferably 40 ° C. to 180 ° C., and is thermally curable, for example, from the viewpoint of moldability and reflow resistance when a thermosetting resin composition is used as a sealing material. From the viewpoint of handleability during production of the resin composition, the temperature is more preferably 50 ° C to 130 ° C.

硬化剤の融点又は軟化点は、エポキシ樹脂の融点又は軟化点と同様にして測定される値とする。 The melting point or softening point of the curing agent shall be a value measured in the same manner as the melting point or softening point of the epoxy resin.

熱硬化性樹脂と硬化剤の当量比、すなわち熱硬化性樹脂中の官能基数に対する硬化剤中の官能基数の比(硬化剤中の官能基数/熱硬化性樹脂中の官能基数)は、特に制限されない。それぞれの未反応分を少なく抑える関連からは、熱硬化性樹脂と硬化剤の当量比は0.5~2.0の範囲に設定されることが好ましく、0.6~1.3の範囲に設定されることがより好ましい。成形性の観点からは、熱硬化性樹脂と硬化剤の当量比は0.8~1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。 The equivalent ratio of the thermosetting resin to the curing agent, that is, the ratio of the number of functional groups in the curing agent to the number of functional groups in the thermosetting resin (the number of functional groups in the curing agent / the number of functional groups in the thermosetting resin) is particularly limited. Not done. The equivalent ratio of the thermosetting resin and the curing agent is preferably set in the range of 0.5 to 2.0, preferably in the range of 0.6 to 1.3, from the viewpoint of suppressing the unreacted components of each. It is more preferable to be set. From the viewpoint of moldability, it is more preferable that the equivalent ratio of the thermosetting resin and the curing agent is set in the range of 0.8 to 1.2.

<添加剤>
熱硬化性樹脂組成物は、上述の成分に加えて、カップリング剤、イオン交換体、離型剤、難燃剤、着色剤、応力緩和剤等の各種添加剤を含有してもよい。熱硬化性樹脂組成物は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で一般的に用いられる各種添加剤を含有してもよい。
<Additives>
In addition to the above-mentioned components, the thermosetting resin composition may contain various additives such as a coupling agent, an ion exchanger, a mold release agent, a flame retardant, a colorant, and a stress relaxation agent. The thermosetting resin composition may contain various additives generally used in the art, if necessary, in addition to the additives exemplified below.

(カップリング剤)
熱硬化性樹脂組成物は、樹脂成分と無機充填材との接着性を高めるために、カップリング剤を含んでもよい。カップリング剤としては、シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などの公知のカップリング剤が挙げられる。
(Coupling agent)
The thermosetting resin composition may contain a coupling agent in order to enhance the adhesiveness between the resin component and the inorganic filler. Examples of the coupling agent include known coupling agents such as silane compounds, titanium compounds, aluminum chelate compounds, and aluminum / zirconium compounds.

シラン系化合物としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、オクテニルトリメトキシシラン、グリシドキシオクチルトリメトキシシラン及び、メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane compound include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 2-( 3,4-Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropyltriethoxysilane, 3- Aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, octenyltrimethoxysilane, glycid Examples thereof include xiooctyl trimethoxysilane and methacryloxyl trimethoxysilane.

チタン系化合物としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N-アミノエチル-アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2-ジアリルオキシメチル-1-ブチル)ビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等が挙げられる。 Titanium compounds include isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltris (dioctylpyrophosphate) titanate, isopropyltri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctylbis (ditridecylphosphite) titanate, and tetra (2,2). -Diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecylphosphite) titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, isopropyldimethacrylic isostearoyl titanate, Examples thereof include isopropyltridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropylisostearoyl diacrylic titanate, isopropyltri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyltricylphenyl titanate, tetraisopropylbis (dioctyl phosphate) titanate and the like.

熱硬化性樹脂組成物がカップリング剤を含む場合、カップリング剤の量は、無機充填材100質量部に対して0.05質量部~20質量部であることが好ましく、0.1質量部~15質量部であることがより好ましい。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して0.05質量部以上であると、金属部材との接着性がより向上する傾向にある。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して20質量部以下であると、成形性が向上する傾向にある。 When the thermosetting resin composition contains a coupling agent, the amount of the coupling agent is preferably 0.05 parts by mass to 20 parts by mass, and 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler. It is more preferably to 15 parts by mass. When the amount of the coupling agent is 0.05 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler, the adhesiveness with the metal member tends to be further improved. When the amount of the coupling agent is 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler, the moldability tends to be improved.

(イオン交換体)
熱硬化性樹脂組成物は、イオン交換体を含有してもよい。特に、熱硬化性樹脂組成物を封止用成形材料として用いる場合には、封止される素子を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含有することが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物等が挙げられる。イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
(Ion exchanger)
The thermosetting resin composition may contain an ion exchanger. In particular, when the thermosetting resin composition is used as a molding material for sealing, it contains an ion exchanger from the viewpoint of improving the moisture resistance and high temperature standing characteristics of the electronic component device provided with the element to be sealed. Is preferable. The ion exchanger is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Specific examples thereof include hydrotalcite compounds and hydroxides containing at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium and bismuth. As the ion exchanger, one type may be used alone or two or more types may be used in combination. Of these, hydrotalcite represented by the following general formula (A) is preferable.

Mg(1-X)Al(OH)(COX/2・mHO ……(A)
(0<X≦0.5、mは正の数)
Mg (1-X) Al X (OH) 2 (CO 3 ) X / 2・ mH 2 O …… (A)
(0 <X ≤ 0.5, m is a positive number)

熱硬化性樹脂組成物がイオン交換体を含有する場合、その含有量は、ハロゲンイオン等のイオンを捕捉するのに十分な量であれば特に制限はない。例えば、樹脂成分100質量部に対して0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~10質量部であることがより好ましい。 When the thermosetting resin composition contains an ion exchanger, the content thereof is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to capture ions such as halogen ions. For example, it is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 1 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component.

(離型剤)
熱硬化性樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含有してもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Release agent)
The thermosetting resin composition may contain a mold release agent from the viewpoint of obtaining good mold releasability from the mold at the time of molding. The release agent is not particularly limited, and conventionally known release agents can be used. Specific examples thereof include higher fatty acids such as carnauba wax, montanic acid and stearic acid, ester waxes such as higher fatty acid metal salts and montanic acid esters, and polyolefin waxes such as polyethylene oxide and non-oxidized polyethylene. The release agent may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化性樹脂組成物が離型剤を含有する場合、その量は樹脂成分100質量部に対して0.01質量部~10質量部が好ましく、0.1質量部~5質量部がより好ましい。離型剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.01質量部以上であると、離型性が十分に得られる傾向にある。10質量部以下であると、より良好な接着性及び硬化性が得られる傾向にある。 When the thermosetting resin composition contains a mold release agent, the amount thereof is preferably 0.01 part by mass to 10 parts by mass, more preferably 0.1 part by mass to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. .. When the amount of the mold release agent is 0.01 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component, the mold release property tends to be sufficiently obtained. When it is 10 parts by mass or less, better adhesiveness and curability tend to be obtained.

(難燃剤)
熱硬化性樹脂組成物は、難燃剤を含有してもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Flame retardants)
The thermosetting resin composition may contain a flame retardant. The flame retardant is not particularly limited, and conventionally known flame retardants can be used. Specific examples thereof include organic or inorganic compounds containing halogen atoms, antimony atoms, nitrogen atoms or phosphorus atoms, metal hydroxides and the like. The flame retardant may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化性樹脂組成物が難燃剤を含有する場合、その量は、所望の難燃効果を得るのに十分な量であれば特に制限されない。例えば、樹脂成分100質量部に対して1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。 When the thermosetting resin composition contains a flame retardant, the amount thereof is not particularly limited as long as it is sufficient to obtain the desired flame retardant effect. For example, it is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component.

(着色剤)
熱硬化性樹脂組成物は、着色剤をさらに含有してもよい。着色剤としてはカーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有量は目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Colorant)
The thermosetting resin composition may further contain a colorant. Examples of the colorant include known colorants such as carbon black, organic dyes, organic pigments, titanium oxide, lead tan, and red iron oxide. The content of the colorant can be appropriately selected according to the purpose and the like. As the colorant, one type may be used alone or two or more types may be used in combination.

(応力緩和剤)
熱硬化性樹脂組成物は、シリコーンオイル、シリコーンゴム粒子等の応力緩和剤を含有してもよい。応力緩和剤を含有することにより、熱硬化性樹脂組成物を封止材用途で使用する場合のパッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生を低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル-スチレン-ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル-シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル共重合体等のコア-シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Stress relaxation agent)
The thermosetting resin composition may contain a stress relaxation agent such as silicone oil and silicone rubber particles. By containing the stress relaxation agent, it is possible to reduce the warpage deformation of the package and the occurrence of package cracks when the thermosetting resin composition is used as a sealing material. Examples of the stress relaxation agent include commonly used known stress relaxation agents (flexible agents). Specifically, thermoplastic elastomers such as silicone-based, styrene-based, olefin-based, urethane-based, polyester-based, polyether-based, polyamide-based, and polybutadiene-based, NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), and acrylic. Rubber particles such as rubber, urethane rubber, silicone powder, core-shell such as methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (MBS), methyl methacrylate-silicone copolymer, methyl methacrylate-butyl acrylate copolymer Examples include rubber particles having a structure. As the stress relaxation agent, one type may be used alone or two or more types may be used in combination.

≪熱硬化性樹脂組成物≫
本開示の熱硬化性樹脂組成物は、上述の本開示の製造方法により得られる。熱硬化性樹脂組成物は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)において固体であっても液状であってもよく、固体であることが好ましい。熱硬化性樹脂組成物が固体である場合の形状は特に制限されず、粉状、粒状、タブレット状等が挙げられる。
<< Thermosetting resin composition >>
The thermosetting resin composition of the present disclosure is obtained by the above-mentioned production method of the present disclosure. The thermosetting resin composition may be solid or liquid under normal temperature and pressure (for example, 25 ° C. and atmospheric pressure), and is preferably solid. When the thermosetting resin composition is a solid, the shape is not particularly limited, and examples thereof include powder, granules, and tablets.

〔熱硬化性樹脂組成物の特性〕
(熱時硬度)
以下の方法で測定される熱硬化性樹脂組成物の硬化物の熱時硬度は、50以上であることが好ましく、60以上であることがより好ましく、70以上であることがさらに好ましい。
熱時硬度は以下のように測定する。熱硬化性樹脂組成物を、金型温度150℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で直径50mm×厚み3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型硬度計(例えば、株式会社上島製作所製、HD-1120(タイプD))を用いて熱時硬度を測定する。
[Characteristics of thermosetting resin composition]
(Hardness at heat)
The thermal hardness of the cured product of the thermosetting resin composition measured by the following method is preferably 50 or more, more preferably 60 or more, and further preferably 70 or more.
The hardness at heat is measured as follows. The thermosetting resin composition is molded into a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm under the conditions of a mold temperature of 150 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds. The thermal hardness is measured using HD-1120 (type D) manufactured by Ueshima Seisakusho Co., Ltd.

(流動性)
EMMI-1-66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、熱硬化性樹脂組成物を成形したときに得られる流動距離は、80cm以上であることが好ましく、100cm以上であることがより好ましく、120cm以上であることがさらに好ましい。当該流動距離の上限は特に制限されず、例えば300cm以下であってもよい。
成形条件は、トランスファー成形機により、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件とする。
(Liquidity)
The flow distance obtained when the thermosetting resin composition is molded using the spiral flow measurement mold according to EMMI-1-66 is preferably 80 cm or more, and more preferably 100 cm or more. It is preferably 120 cm or more, and more preferably 120 cm or more. The upper limit of the flow distance is not particularly limited, and may be, for example, 300 cm or less.
The molding conditions are a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds by a transfer molding machine.

(溶融粘度)
175℃における熱硬化性樹脂組成物の最低溶融粘度は、成形性の観点からは、30Pa・s以下であることが好ましく、20Pa・s以下であることがより好ましく、10Pa・s以下であることがさらに好ましい。バリの抑制の観点からは、175℃における熱硬化性樹脂組成物の最低溶融粘度は、5Pa・s以上であることが好ましく、10Pa・s以上であることがより好ましく、20Pa・s以上であることがさらに好ましい。最低溶融粘度は、高化式フローテスター(例えば、株式会社島津製作所製)を用いて測定することができる。
(Melting viscosity)
The minimum melt viscosity of the thermosetting resin composition at 175 ° C. is preferably 30 Pa · s or less, more preferably 20 Pa · s or less, and 10 Pa · s or less from the viewpoint of moldability. Is even more preferable. From the viewpoint of suppressing burrs, the minimum melt viscosity of the thermosetting resin composition at 175 ° C. is preferably 5 Pa · s or more, more preferably 10 Pa · s or more, and 20 Pa · s or more. Is even more preferable. The minimum melt viscosity can be measured using a high-grade flow tester (for example, manufactured by Shimadzu Corporation).

(ゲルタイム)
以下の方法で測定される熱硬化性樹脂組成物のゲルタイムは、増粘を抑制する観点からは、40秒以上であることが好ましく、50秒以上であることがより好ましく、60秒以上であることがさらに好ましい。硬化性の観点からは、当該ゲルタイムは、150秒以下であることが好ましく、120秒以下であることがより好ましく、100秒以下であることがさらに好ましい。
ゲルタイムの測定は次の方法で行う。熱硬化性樹脂組成物3gに対し、キュラストメータ(例えば、JSRトレーディング株式会社)を用いた測定を温度175℃で実施し、トルク曲線の立ち上がりまでの時間をゲルタイム(秒)とする。
(Gel time)
The gel time of the thermosetting resin composition measured by the following method is preferably 40 seconds or more, more preferably 50 seconds or more, and more preferably 60 seconds or more from the viewpoint of suppressing thickening. Is even more preferable. From the viewpoint of curability, the gel time is preferably 150 seconds or less, more preferably 120 seconds or less, and further preferably 100 seconds or less.
The gel time is measured by the following method. Measurement using a curast meter (for example, JSR Trading Co., Ltd.) is carried out on 3 g of the thermosetting resin composition at a temperature of 175 ° C., and the time until the rise of the torque curve is defined as the gel time (seconds).

〔熱硬化性樹脂組成物の用途〕
本開示の熱硬化性樹脂組成物の用途は特に制限されず、例えば上記に例示したように電子部品装置の封止材として種々の実装技術に用いることができる。また、本開示の熱硬化性樹脂組成物は、各種モジュール用樹脂成形体、モーター用樹脂成形体、車載用樹脂成形体、電子回路用保護材用封止材等、熱硬化性樹脂組成物が良好な硬化性を有することが望ましい種々の用途に用いることができる。
[Use of thermosetting resin composition]
The use of the thermosetting resin composition of the present disclosure is not particularly limited, and for example, as illustrated above, it can be used in various mounting techniques as a sealing material for electronic component devices. Further, the thermosetting resin composition of the present disclosure includes a thermosetting resin composition such as a resin molded body for various modules, a resin molded body for a motor, a resin molded body for a vehicle, a sealing material for a protective material for an electronic circuit, and the like. It can be used in various applications where it is desirable to have good curability.

≪電子部品装置≫
本開示の電子部品装置は、上述の本開示の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により封止された素子を備える。すなわち、電子部品装置は、上述の本開示の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。
≪Electronic parts equipment≫
The electronic component device of the present disclosure includes an element sealed with a thermosetting resin composition obtained by the above-mentioned production method of the present disclosure. That is, the electronic component device includes a cured product of the thermosetting resin composition obtained by the above-mentioned production method of the present disclosure.

電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、素子(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子など)を搭載して得られた素子部を熱硬化性樹脂組成物で封止したものが挙げられる。
より具体的には、リードフレーム上に素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部とをワイヤボンディング、バンプ等で接続した後、熱硬化性樹脂組成物を用いてトランスファー成形等によって封止した構造を有するDIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC;テープキャリアにバンプで接続した素子を熱硬化性樹脂組成物で封止した構造を有するTCP(Tape Carrier Package);支持部材上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した素子を、熱硬化性樹脂組成物で封止した構造を有するCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール等;裏面に配線板接続用の端子を形成した支持部材の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と支持部材に形成された配線とを接続した後、熱硬化性樹脂組成物で素子を封止した構造を有するBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、MCP(Multi Chip Package)などが挙げられる。また、プリント配線板においても熱硬化性樹脂組成物を好適に使用することができる。
Electronic component devices include lead frames, pre-wired tape carriers, wiring boards, glass, silicon wafers, organic substrates, and other support members, as well as elements (semiconductor chips, transistors, diodes, active elements such as thyristors, capacitors, resistors, etc.). , A passive element such as a coil, etc.), and the element portion obtained by mounting the element portion is sealed with a thermosetting resin composition.
More specifically, after fixing the element on the lead frame and connecting the terminal part and the lead part of the element such as a bonding pad by wire bonding, bumps, etc., transfer molding or the like using a thermosetting resin composition or the like. DIP (Dual Inline Package), PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), SOJ (SmallOdlinePack) General resin-sealed ICs such as Outline Package) and TQFP (Thin Quad Flat Package); TCP (Tape Carrier Package) having a structure in which an element connected to a tape carrier with a bump is sealed with a thermosetting resin composition. A COB (Chip On Board) module, hybrid IC, or multi having a structure in which an element connected by wire bonding, flip chip bonding, solder, or the like is sealed to a wiring formed on a support member with a thermosetting resin composition. Chip module, etc .; After mounting the element on the front surface of the support member having terminals for connecting the wiring board on the back surface and connecting the element and the wiring formed on the support member by bump or wire bonding, the thermosetting resin composition Examples thereof include BGA (Ball Grid Array), CSP (Chip Size Package), and MCP (Multi Chip Package) having a structure in which an element is sealed with an object. Further, the thermosetting resin composition can also be preferably used in the printed wiring board.

熱硬化性樹脂組成物を用いて電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法、インジェクション成形法、圧縮成形法等が挙げられる。 Examples of the method for sealing the electronic component device using the thermosetting resin composition include a low-pressure transfer molding method, an injection molding method, a compression molding method, and the like.

素子の封止温度は特に制限されない。封止温度は、例えば一般的な封止温度である170℃~180℃で行ってもよい。また、本開示の熱硬化性樹脂組成物の製造方法によれば、低温硬化型の熱硬化性樹脂組成物を製造することも可能であるため、封止温度を170℃未満、160℃以下、150℃以下、140℃以下、130℃以下、120℃以下等の低温とすることも可能となる。 The sealing temperature of the element is not particularly limited. The sealing temperature may be, for example, 170 ° C. to 180 ° C., which is a general sealing temperature. Further, according to the method for producing a thermosetting resin composition of the present disclosure, it is possible to produce a low temperature curable thermosetting resin composition, so that the sealing temperature is less than 170 ° C. and 160 ° C. or less. It is also possible to set the temperature to 150 ° C. or lower, 140 ° C. or lower, 130 ° C. or lower, 120 ° C. or lower, or the like.

≪電子部品装置の製造方法≫
一態様において、電子部品装置の製造方法は、上述の本開示の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により、素子を150℃以下で封止することを含む。本態様の電子部品装置の製造方法によれば、封止の際の熱処理における素子に対する影響を低減することができる。素子の封止温度は、140℃以下、130℃以下、120℃以下等としてもよい。
≪Manufacturing method of electronic parts equipment≫
In one aspect, the method of manufacturing an electronic component device comprises sealing the device at 150 ° C. or lower with the thermosetting resin composition obtained by the manufacturing method of the present disclosure described above. According to the method for manufacturing an electronic component device of this aspect, it is possible to reduce the influence on the element in the heat treatment at the time of sealing. The sealing temperature of the element may be 140 ° C. or lower, 130 ° C. or lower, 120 ° C. or lower, or the like.

次に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<熱硬化性樹脂組成物の作製>
まず、下記に示す各成分を準備した。
<Preparation of thermosetting resin composition>
First, each component shown below was prepared.

(熱硬化性樹脂)
・エポキシ樹脂1:YL-6121(商品名、日本化薬株式会社、エポキシ当量170g/eq~180g/eq、軟化点53℃~63℃のアラルキル型エポキシ樹脂)
・エポキシ樹脂2:jER YX-4000H(商品名、三菱ケミカル株式会社、エポキシ当量180g/eq~192g/eq、融点105℃のビフェニル型エポキシ樹脂)
・エポキシ樹脂3:EPPN501HY(商品名、日本化薬株式会社、エポキシ当量163g/eq~175g/eq、軟化点57℃~63℃のトリフェニルメタン型エポキシ樹脂)
(Thermosetting resin)
-Epoxy resin 1: YL-6121 (trade name, Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 170 g / eq to 180 g / eq, aralkyl type epoxy resin with softening point 53 ° C to 63 ° C)
-Epoxy resin 2: jER YX-4000H (trade name, Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 180 g / eq to 192 g / eq, biphenyl type epoxy resin with melting point 105 ° C)
-Epoxy resin 3: EPPN501HY (trade name, Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 163 g / eq to 175 g / eq, triphenylmethane type epoxy resin with softening point 57 ° C to 63 ° C)

(硬化剤)
・硬化剤1:MEHC-7851(商品名、明和化成株式会社、水酸基当量205g/eqのビフェニレンアラルキル型フェノール樹脂、軟化点60℃~70℃)
・硬化剤2:SN-485(商品名、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社、水酸基当量215g/eqのナフタレンアラルキル型フェノール樹脂、軟化点80℃~90℃)
(Hardener)
-Curing agent 1: MEHC-7851 (trade name, Meiwa Kasei Co., Ltd., biphenylene aralkyl type phenol resin having a hydroxyl group equivalent of 205 g / eq, softening point 60 ° C to 70 ° C)
-Curing agent 2: SN-485 (trade name, Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., naphthalene aralkyl type phenol resin with hydroxyl group equivalent of 215 g / eq, softening point 80 ° C to 90 ° C)

(無機充填材)
・無機充填材:平均粒子径 1.5μmの球状シリカフィラ(表面処理なし)
(Inorganic filler)
-Inorganic filler: Spherical silica filler with an average particle diameter of 1.5 μm (without surface treatment)

(カップリング剤)
・カップリング剤:KBM-573(商品名、信越化学工業株式会社、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン)
(Coupling agent)
-Coupling agent: KBM-573 (trade name, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane)

(硬化促進剤)
・硬化促進剤:リン系硬化促進剤
(Curing accelerator)
・ Curing accelerator: Phosphorus-based curing accelerator

(他の添加剤)
・離型剤:ヘキストワックス(ヘキスト社)
・着色剤:カーボンブラック
(Other additives)
・ Release agent: Hoechst wax (Hoechst)
・ Colorant: Carbon black

実施例1~5の熱硬化性樹脂組成物は以下の方法(「製造方法A」とする)で作製した。表1に示される主供給物成分及び副供給物成分を各々容器内で混合し、高速ミキサで粉砕及び撹拌した。混練機として、第1混練部と、第2混練部と、第1混練部及び第2混練部の間に配置される冷却部と、を備える二軸混練押出機を用いた。投入口から主供給物成分を第1混練部に供給し、表1の第一混練温度で約2分間溶融混練した。その後、副供給物成分を開口部から第2混練部に添加し、第1混練部から冷却部を経て押し出された混合物と合わせて表1の第二混練温度で約1分間溶融混練した。溶融物を10℃の冷水を循環したプレスロールで冷却し、シート状になったものを粉末状に粉砕することにより、粉末状の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 The thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 were prepared by the following method (referred to as "manufacturing method A"). The main supply component and the sub-supply component shown in Table 1 were mixed in each container, and pulverized and stirred with a high-speed mixer. As the kneader, a twin-screw kneading extruder including a first kneading section, a second kneading section, and a cooling section arranged between the first kneading section and the second kneading section was used. The main feed component was supplied to the first kneading section from the inlet, and melt-kneaded at the first kneading temperature in Table 1 for about 2 minutes. Then, the by-supply component was added to the second kneading section through the opening, combined with the mixture extruded from the first kneading section through the cooling section, and melt-kneaded at the second kneading temperature shown in Table 1 for about 1 minute. A powdery thermosetting resin composition was prepared by cooling the melt with a press roll in which cold water at 10 ° C. was circulated and pulverizing the sheet in the form of powder.

比較例1~2の熱硬化性樹脂組成物は以下の方法(「製造方法B」とする)で作製した。表1に示される各成分すべてを容器中で混合し、高速ミキサで粉砕及び撹拌した。その後、表1の第一混練温度で約2分間溶融混練した。その後、第二混練温度で約1分間溶融混練した。溶融物を10℃の冷水を循環したプレスロールで冷却し、シート状になったものを粉末状に粉砕することにより、粉末状の熱硬化性樹脂組成物を調製した。 The thermosetting resin compositions of Comparative Examples 1 and 2 were prepared by the following method (referred to as "manufacturing method B"). All of the components shown in Table 1 were mixed in a container, pulverized and stirred with a high speed mixer. Then, it was melt-kneaded at the first kneading temperature shown in Table 1 for about 2 minutes. Then, it was melt-kneaded at the second kneading temperature for about 1 minute. A powdery thermosetting resin composition was prepared by cooling the melt with a press roll in which cold water at 10 ° C. was circulated and pulverizing the sheet in the form of powder.

<熱硬化性樹脂組成物の評価>
作製された熱硬化性樹脂組成物を、以下に示す各種試験によって評価した。評価結果を表1に示す。なお、熱硬化性樹脂組成物の成形は、明記しない限りトランスファー成形機により、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で成形した。また、必要に応じて後硬化を175℃、6時間の条件で行った。
<Evaluation of thermosetting resin composition>
The prepared thermosetting resin composition was evaluated by various tests shown below. The evaluation results are shown in Table 1. Unless otherwise specified, the thermosetting resin composition was molded by a transfer molding machine under the conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds. If necessary, post-curing was performed at 175 ° C. for 6 hours.

〔スパイラルフロー〕
EMMI-1-66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、熱硬化性樹脂組成物を上記条件で成形し、流動距離を求めた。
[Spiral flow]
The thermosetting resin composition was molded under the above conditions using a spiral flow measuring die according to EMMI-1-66, and the flow distance was determined.

〔溶融粘度〕
高化式フローテスター(株式会社島津製作所製)を用いて、175℃における熱硬化性樹脂組成物の最低溶融粘度を測定した。
[Melting viscosity]
The minimum melt viscosity of the thermosetting resin composition at 175 ° C. was measured using a high-grade flow tester (manufactured by Shimadzu Corporation).

〔ゲルタイム〕
熱硬化性樹脂組成物3gに対し、JSRトレーディング株式会社のキュラストメータを用いた測定を温度175℃で実施し、トルク曲線の立ち上がりまでの時間をゲルタイム(秒)とした。
[Gel time]
Measurement using a curast meter of JSR Trading Co., Ltd. was carried out on 3 g of the thermosetting resin composition at a temperature of 175 ° C., and the time until the rise of the torque curve was defined as the gel time (seconds).

〔熱時硬度〕
熱硬化性樹脂組成物を、金型温度150℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で直径50mm×厚み3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型硬度計(株式会社上島製作所製、HD-1120(タイプD))を用いて熱時硬度を測定した。
[Hardness at heat]
The thermosetting resin composition is molded into a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm under the conditions of a mold temperature of 150 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds. The thermal hardness was measured using HD-1120 (type D) manufactured by Ueshima Seisakusho.

〔無機充填材の凝集の有無〕
熱硬化性樹脂組成物を成形し、成形物の外観目視で観察し、無機充填材の凝集の有無を確認した。
[Presence or absence of aggregation of inorganic filler]
The thermosetting resin composition was molded, and the appearance of the molded product was visually observed to confirm the presence or absence of aggregation of the inorganic filler.

Figure 2022107375000001
Figure 2022107375000001

なお、実施例1~5、及び比較例1、2のいずれにおいても、熱硬化性樹脂組成物のオンセット温度は100℃以上140℃未満である。 In any of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, the onset temperature of the thermosetting resin composition is 100 ° C. or higher and lower than 140 ° C.

表1に示されるように、製造方法Aにより作製された実施例1~5の熱硬化性樹脂組成物では、流動性に優れ、ゲルタイムも良好であり、硬化物における無機充填材の凝集も観察されなかった。さらに、硬化物の熱時硬度も良好に維持されていた。
一方、比較例1では、硬化物において無機充填材の凝集が観察され、熱時硬度も低かった。これは、混練時の樹脂の溶融が不十分であり、混練が良好に行えなかったことが原因であると考えられる。
また、比較例2の熱硬化性樹脂組成物では、流動性及びゲルタイムに劣っていた。これは、硬化促進剤を添加した状態で140℃での混練を行ったため、反応が一部進行して組成物が増粘したためであると考えられる。
As shown in Table 1, the thermosetting resin compositions of Examples 1 to 5 produced by the production method A have excellent fluidity, good gel time, and agglomeration of the inorganic filler in the cured product is also observed. Was not done. Further, the hot hardness of the cured product was also well maintained.
On the other hand, in Comparative Example 1, agglomeration of the inorganic filler was observed in the cured product, and the hardness at the time of heat was also low. It is considered that this is because the resin was not sufficiently melted during kneading and the kneading could not be performed well.
Further, the thermosetting resin composition of Comparative Example 2 was inferior in fluidity and gel time. It is considered that this is because the kneading was performed at 140 ° C. with the curing accelerator added, so that the reaction partially proceeded and the composition became thickened.

これらの結果より、本開示の製造方法によれば、硬化促進剤を添加した後の組成物のオンセット温度が低い、すなわち低温硬化型の組成にも好適に適用することができ、流動性及び硬化性を良好に担保することができると考えられる。 From these results, according to the production method of the present disclosure, the composition can be suitably applied to a composition having a low onset temperature after the addition of the curing accelerator, that is, a low-temperature curing type composition, and has fluidity and fluidity. It is considered that the curability can be ensured well.

1 主材の投入口
2 サイドフィーダー
10 混練押出機
A 第1混練部
B 冷却部
C 第2混練部
1 Main material inlet 2 Side feeder 10 Kneading extruder A 1st kneading section B Cooling section C 2nd kneading section

Claims (12)

熱硬化性樹脂と無機充填材の混合物を混練機中で混練する一次混練と、
前記一次混練の後の前記混合物の冷却と、
前記冷却後の前記混合物に硬化促進剤を添加してさらに混練する二次混練と、
を含み、
前記二次混練の温度が、前記二次混練において前記硬化促進剤を添加した後の混合物の、示差走査熱量測定により測定されるオンセット温度より低い、
熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
Primary kneading, in which a mixture of thermosetting resin and inorganic filler is kneaded in a kneader,
With cooling of the mixture after the primary kneading,
Secondary kneading, in which a curing accelerator is added to the cooled mixture and further kneaded,
Including
The temperature of the secondary kneading is lower than the onset temperature measured by differential scanning calorimetry of the mixture after adding the curing accelerator in the secondary kneading.
A method for producing a thermosetting resin composition.
前記一次混練の温度が前記オンセット温度以上である、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。 The method for producing a thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the temperature of the primary kneading is equal to or higher than the onset temperature. 前記熱硬化性樹脂の融点又は軟化点が前記オンセット温度以上である、請求項1又は請求項2に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。 The method for producing a thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein the melting point or softening point of the thermosetting resin is equal to or higher than the onset temperature. 前記オンセット温度が120℃以下である、請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。 The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the onset temperature is 120 ° C. or lower. 前記二次混練の温度が120℃未満である、請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。 The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the temperature of the secondary kneading is less than 120 ° C. 前記一次混練の温度が120℃以上である、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。 The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the temperature of the primary kneading is 120 ° C. or higher. 前記熱硬化性樹脂の融点又は軟化点が120℃以上である、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。 The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the thermosetting resin has a melting point or a softening point of 120 ° C. or higher. 前記一次混練及び前記二次混練からなる群より選択される少なくとも一方において、さらに硬化剤を添加することを含む、請求項1~請求項7のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。 The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising adding a curing agent in at least one selected from the group consisting of the primary kneading and the secondary kneading. Manufacturing method. 前記混練機が、
前記一次混練を行うための第1混練部と、
前記二次混練を行うための第2混練部と、
前記第1混練部及び前記第2混練部の間に配置される冷却部と、
を備える混練押出機である、請求項1~請求項8のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物の製造方法。
The kneader
The first kneading part for performing the primary kneading and
The second kneading part for performing the secondary kneading and
A cooling section arranged between the first kneading section and the second kneading section,
The method for producing a thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 8, which is a kneading extruder comprising the above.
請求項1~請求項9のいずれか1項に記載の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物。 A thermosetting resin composition obtained by the production method according to any one of claims 1 to 9. 請求項1~請求項9のいずれか1項に記載の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により封止された素子を備える電子部品装置。
An electronic component device comprising an element sealed with a thermosetting resin composition obtained by the production method according to any one of claims 1 to 9.
請求項1~請求項9のいずれか1項に記載の製造方法により得られた熱硬化性樹脂組成物により、素子を150℃以下で封止することを含む、電子部品装置の製造方法。


A method for manufacturing an electronic component device, which comprises sealing an element at 150 ° C. or lower with a thermosetting resin composition obtained by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 9.


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