JP2022090638A - Manufacturing device for organic el display panel, manufacturing system, manufacturing method for organic el display panel, and organic el display panel - Google Patents
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Abstract
Description
本願発明は、有機EL表示パネルの製造装置、製造システム、有機EL表示パネルの製造方法、および有機EL表示パネルに関する。 The present invention relates to an organic EL display panel manufacturing apparatus, a manufacturing system, an organic EL display panel manufacturing method, and an organic EL display panel.
従来、機能性材料を分散もしくは溶解したインクを使って基板上に所望のパターンを形成する装置として、インクを液滴にして吐出するインクジェット装置が知られている。インクジェット装置は、基板とインク吐出ヘッドとを相対的に移動させながら、インク吐出ヘッドから吐出されるインクの液滴を基板上の任意の箇所に配置することによりパターンを形成する。 Conventionally, as an apparatus for forming a desired pattern on a substrate by using ink in which a functional material is dispersed or dissolved, an inkjet apparatus for ejecting ink as droplets is known. The inkjet device forms a pattern by arranging droplets of ink ejected from the ink ejection head at an arbitrary position on the substrate while relatively moving the substrate and the ink ejection head.
近年では、インクジェット装置は、大画面カラーフィルタや有機EL(Electro-Luminescence)表示パネルの製造などに用いられている。有機EL表示パネルの製造工程の1つに有機EL膜の成膜工程があり、この工程においてインクジェット印刷技術が利用されている。このようなインクジェット方式を用いた成膜方法におけるウェットプロセスによれば、塗布膜を乾燥する工程において乾燥ムラが生じることがあり、均一な膜厚を得ることが難しい。要因の1つとして、溶解度を上げるために、塗布液の溶媒として揮発性の高い有機溶剤が用いられ、その結果、成膜途中から乾燥が進んでしまうことが挙げられる。 In recent years, inkjet devices have been used in the manufacture of large screen color filters and organic EL (Electro-Luminence) display panels. One of the manufacturing processes of the organic EL display panel is a film forming process of an organic EL film, and an inkjet printing technique is used in this process. According to the wet process in the film forming method using such an inkjet method, uneven drying may occur in the step of drying the coating film, and it is difficult to obtain a uniform film thickness. One of the factors is that a highly volatile organic solvent is used as a solvent for the coating liquid in order to increase the solubility, and as a result, drying proceeds from the middle of film formation.
従来、均一な乾燥を目的とした乾燥方法として、塗布膜面に凝縮板を対向させ、凝縮板により塗布膜中の溶媒を凝縮させる乾燥方法がある(例えば、特許文献1)。乾燥ムラは塗布直後に発生することが多く、初期段階での乾燥が乾燥の均一性に寄与するところが大きいことから、特許文献1では、塗布直後の乾燥の初期段階のみ凝縮板と塗布膜間の距離を小さくし、保持する乾燥方法が提案されている。また、特許文献2では、凝縮板の凝縮面と基板上の塗布膜面間の距離を一定値に保持する塗布膜の乾燥方法が提案されている。特許文献3では、基材上にインクジェット法にて塗布したのち、蓋状構造物にて基材の表面を覆い、溶媒の揮発を抑制して加熱乾燥させるためにホットプレート上に移動させることが開示されている。特許文献4では、カラーフィルタ用インクを基板上にインクジェットヘッドにて着色層領域に塗布したのち、着色層の上方をシートで覆い、溶媒の揮発を抑制することが開示されている。 Conventionally, as a drying method for the purpose of uniform drying, there is a drying method in which a condensing plate is opposed to a coating film surface and the solvent in the coating film is condensed by the condensing plate (for example, Patent Document 1). Drying unevenness often occurs immediately after coating, and drying in the initial stage contributes greatly to the uniformity of drying. Therefore, in Patent Document 1, only in the initial stage of drying immediately after coating, between the condenser plate and the coating film. A drying method has been proposed in which the distance is reduced and held. Further, Patent Document 2 proposes a method for drying a coating film in which the distance between the condensed surface of the condensed plate and the coating film surface on the substrate is maintained at a constant value. In Patent Document 3, after coating on a base material by an inkjet method, the surface of the base material is covered with a lid-like structure, and the solvent is moved onto a hot plate in order to suppress volatilization and heat-dry. It has been disclosed. Patent Document 4 discloses that after applying a color filter ink on a substrate with an inkjet head to a colored layer region, the upper part of the colored layer is covered with a sheet to suppress the volatilization of the solvent.
しかしながら、上記先行技術文献による凝縮板と塗布膜間の距離を保持する方法は、フィルムなどを対象にした塗布方法が非常に速い構成、および、一方向の塗布方法を想定している。そのため、上記先行技術文献の手法では、インクジェット方式のように塗布速度が比較的遅い、もしくは、塗布の際に複数回の走査を要するような場合においては、乾燥の均一性を十分に実現することはできない。有機EL素子等の電子デバイスの場合、塗布膜は非常に薄膜であり、また、形成時に乾燥しやすいという特性がある。有機EL素子等の電子デバイスがその機能を良好に発揮するために必要な膜厚の均一性を得るためには、塗布した直後からの乾燥抑制が必要となり、かつ、搬送工程の時間も乾燥が抑制されることが求められる。 However, the method of maintaining the distance between the condensing plate and the coating film according to the above-mentioned prior art document assumes a configuration in which the coating method for a film or the like is very fast and a one-way coating method. Therefore, in the method of the above-mentioned prior art document, when the coating speed is relatively slow as in the inkjet method, or when a plurality of scans are required for coating, the uniformity of drying is sufficiently realized. Can't. In the case of an electronic device such as an organic EL element, the coating film is a very thin film and has a characteristic of being easily dried at the time of formation. In order to obtain the uniformity of the film thickness required for an electronic device such as an organic EL element to exert its function well, it is necessary to suppress drying immediately after application, and the time of the transport process is also dried. It is required to be suppressed.
例えば、特許文献3では、急速固化させるためにホットプレートで加熱乾燥しており、ホットプレートによる急激な温度上昇によって乾燥が安定せず、膜厚が不均一になりやすいという問題点があった。また、特許文献4はカラーフィルタ製造に関する技術であり、膜厚や要求される制度が異なる有機EL表示素子の形成には用いられていなかった。 For example, Patent Document 3 has a problem that it is heated and dried on a hot plate in order to be rapidly solidified, and the drying is not stable due to a rapid temperature rise due to the hot plate, and the film thickness tends to be uneven. Further, Patent Document 4 is a technique related to manufacturing a color filter, and has not been used for forming an organic EL display element having a different film thickness and required system.
本願発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、有機EL表示パネルの製造の際に、意図しないインクの乾燥を抑制し、基板上の塗膜の膜厚の均一性を向上させることを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and suppresses unintended drying of ink during the manufacture of an organic EL display panel, and improves the uniformity of the film thickness of the coating film on the substrate. The purpose is.
上記課題を解決するために本願発明は以下の構成を有する。すなわち、有機EL表示パネルの製造装置であって、
基板を移動させる搬送部と、
前記有機EL表示パネルの機能層を形成するためのインクを吐出するインク吐出ヘッドと、
前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置される乾燥抑制部材を備える。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configurations. That is, it is a manufacturing device for an organic EL display panel.
A transport unit that moves the board,
An ink ejection head for ejecting ink for forming a functional layer of the organic EL display panel, and an ink ejection head.
A drying suppressing member is provided which is arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
また、本願発明の別の形態は以下の構成を有する。すなわち、有機EL表示パネルの製造システムは、製造装置と、インクが吐出された基板を乾燥させる乾燥装置を備え、
前記製造装置は、
基板を移動させる搬送部と、
前記有機EL表示パネルの機能層を形成するためのインクを吐出するインク吐出ヘッドと、
前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置される乾燥抑制部材と
を備え、
前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から前記搬送部により前記乾燥装置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように対向して配置される。
In addition, another embodiment of the present invention has the following configuration. That is, the organic EL display panel manufacturing system includes a manufacturing device and a drying device for drying the substrate on which ink is discharged.
The manufacturing equipment is
A transport unit that moves the board,
An ink ejection head for ejecting ink for forming a functional layer of the organic EL display panel, and an ink ejection head.
It is provided with a drying suppressing member arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
The drying suppressing member is arranged so as to face each other so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range while being transported from a position adjacent to the ink ejection head to the drying device by the transport unit. ..
また、本願発明の別の形態は以下の構成を有する。すなわち、有機EL表示パネルの製造方法であって、
基板に、インク吐出ヘッドによりインクを吐出させて前記有機EL表示パネルの機能層を形成し、
乾燥抑制部材を前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置させる。
In addition, another embodiment of the present invention has the following configuration. That is, it is a method for manufacturing an organic EL display panel.
Ink is ejected onto the substrate by the ink ejection head to form the functional layer of the organic EL display panel.
The drying suppressing member is arranged so as to face the surface of the substrate on which the ink is ejected by the ink ejection head.
また、本願発明の別の形態は以下の構成を有する。すなわち、
基板に、インク吐出ヘッドによりインクを吐出させて前記有機EL表示パネルの機能層を形成し、
乾燥抑制部材を前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置させる、製造方法を用いて製造される有機EL表示パネル。
In addition, another embodiment of the present invention has the following configuration. That is,
Ink is ejected onto the substrate by the ink ejection head to form the functional layer of the organic EL display panel.
An organic EL display panel manufactured by a manufacturing method in which a drying suppressing member is arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
本願発明により、有機EL表示パネルの製造の際に、意図しないインクの乾燥を抑制し、基板上の膜厚の均一性を向上させることが可能となる。 According to the present invention, it is possible to suppress unintended drying of ink and improve the uniformity of the film thickness on the substrate when manufacturing an organic EL display panel.
以下、本願発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本願発明を説明するための一実施形態であり、本願発明を限定して解釈されることを意図するものではなく、また、各実施形態で説明されている全ての構成が本願発明の課題を解決するために必須の構成であるとは限らない。また、各図面において、同じ構成要素については、同じ参照番号を付すことにより対応関係を示す。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings and the like. It should be noted that the embodiments described below are embodiments for explaining the invention of the present application, and are not intended to be interpreted in a limited manner, and are described in each embodiment. Not all configurations are essential configurations for solving the problems of the present invention. Further, in each drawing, the same reference number is assigned to the same component to show the correspondence.
<第1の実施形態>
[装置構成]
本願発明の一実施形態に係る有機EL表示パネルの製造装置として動作するインクジェット装置の構成の例について、図1および図2を参照して説明する。図1は、本実施形態に係るインクジェット装置1の構成の概略を模式的に示す側面図である。図2は、本実施形態に係るインクジェット装置1の構成の概略を模式的に示す平面図である。以下においては、ステージ40の主走査方向(すなわち、基材の搬送方向)をX軸方向とし、主走査方向に直交する副走査方向をY軸方向とし、X軸方向およびY軸方向に直交する鉛直方向をZ軸方向とする。更に、Z軸方向回りの回動方向をθ方向とする。各図において、各軸方向は対応しているものとして説明する。
<First Embodiment>
[Device configuration]
An example of the configuration of an inkjet device that operates as a manufacturing device for an organic EL display panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a side view schematically showing an outline of the configuration of the inkjet device 1 according to the present embodiment. FIG. 2 is a plan view schematically showing an outline of the configuration of the inkjet device 1 according to the present embodiment. In the following, the main scanning direction of the stage 40 (that is, the transport direction of the base material) is the X-axis direction, the sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction is the Y-axis direction, and the X-axis direction and the Y-axis direction are orthogonal to each other. The vertical direction is the Z-axis direction. Further, the rotation direction around the Z-axis direction is set to the θ direction. In each figure, it is assumed that each axial direction corresponds to each other.
インクジェット装置1は、主走査方向(X軸方向)に延在するX軸テーブル10と、X軸テーブル10を跨ぐように架け渡され、副走査方向(Y軸方向)に延在する一対のY軸テーブル11とを有する。X軸テーブル10の上面には、一対のX軸ガイドレール12がX軸方向に延伸して設けられ、X軸ガイドレール12には、X軸リニアモータ(不図示)が設けられている。Y軸テーブル11の上面には、Y軸ガイドレール13がY軸方向に延伸して設けられ、Y軸ガイドレール13には、Y軸リニアモータ(不図示)が設けられている。一対のY軸テーブル11には、キャリッジユニット20が設けられている。
The inkjet device 1 spans an X-axis table 10 extending in the main scanning direction (X-axis direction) and a pair of Ys extending in the sub-scanning direction (Y-axis direction) so as to straddle the X-axis table 10. It has an axis table 11. A pair of
なお、以下の説明では、図1や図2において基材Bが位置している側を、基材Bの搬送方向(X軸方向)の上流側とし、インク吐出ヘッド23に向かって下流側として示す。また、[装置構成]の以降の各装置、動作の説明における基材Bは、後述の有機EL表示パネル製造においては、基板としてよい。すなわち、後述の有機ELパネルの製造においては、基材Bを基板と読み替えることができる。
In the following description, the side where the base material B is located in FIGS. 1 and 2 is defined as the upstream side in the transport direction (X-axis direction) of the base material B, and the downstream side toward the
(キャリッジユニット)
キャリッジユニット20は、キャリッジ支持部21、キャリッジ22、およびインク吐出ヘッド23を含んで構成される。キャリッジユニット20の下面には、吐出されるインクの種類に対応して1または複数のキャリッジ22、および1または複数のインク吐出ヘッド23が備えられる。本実施形態では、例えばY軸方向に基板幅に対応したラインヘッド方式の構成を有するインク吐出ヘッド23が複数設けられている。インク吐出ヘッド23の下面、すなわちインクの吐出面には複数のノズルが形成され、ノズルからインクの液滴が吐出される。例えば、R(Red)、G(Green)、B(Blue)の3色に対応した3種類のインクを吐出する場合には、3列のインク吐出ヘッド23が設けられる。なお、インクジェット装置1が対応可能なインクの種類数は、特に限定するものではなく、製造物の構成に応じて増減してよい。また、キャリッジユニット20には、インクを供給するための供給部(不図示)が接続され、適時インクの供給が行われる。
(Carriage unit)
The
キャリッジ支持部21は、Y軸ガイドレール13に取り付けられ、Y軸ガイドレール13に設けられたY軸リニアモータ(不図示)によってY軸方向に移動自在に構成される。例えば、キャリッジユニット20は、インクの吐出時には図2に示すようにX軸テーブル10上に位置するように移動し、インク吐出ヘッド23のクリーニング時にはY軸ガイドレール13に沿って退避位置へ移動し、クリーニング動作を行うような構成であってもよい。クリーニング動作としては、インクの予備吐出やインク吐出ヘッド23の吐出面のワイピングなどが挙げられる。
The
(乾燥抑制部材)
また、インク吐出ヘッド23の周辺には、基材Bに塗布されたインクの乾燥を抑制するための乾燥抑制部材が設置される。乾燥抑制部材は、乾燥抑制部材の下面が少なくとも基材B上のインクが塗布された領域全てを覆う様に、少なくとも基材B上のインクが塗布された領域に対向して配置される。このように乾燥抑制部材を配置することにより、乾燥抑制部材の下面と基材Bの上面(インクの塗布面)との間にインクから揮発した溶剤が充満し、基材B上に塗布されたインクに含まれる溶剤の揮発が抑制され、乾燥を抑制することができると考えられる。図2では板状の乾燥抑制部材として乾燥抑制板Fが配置されているが、乾燥抑制部材は、基材B上のインクが塗布された領域を全て覆う様に対向する面を有すればよく、板状に限定されるものではない。乾燥抑制部材は、軽量であること及び、薄いことで後述する乾燥装置などの次工程のチャンバ内に移動させやすいことから、板状であることが好ましい。
(Drying suppression member)
Further, a drying suppressing member for suppressing the drying of the ink applied to the base material B is installed around the
また、乾燥抑制板Fの材質は特に限定するものでは無いが、少なくとも有機EL表示パネルを形成するために用いられるインクに含まれる有機溶剤に対して耐性を有するものが望ましい。例えば、乾燥抑制板Fに用いられる材質としては、ステンレス材などが挙げられる。また、本実施形態では、乾燥抑制部材として板状のものを例に挙げて説明するが、形状についても特に限定するものではない。 The material of the drying suppressing plate F is not particularly limited, but at least one having resistance to the organic solvent contained in the ink used for forming the organic EL display panel is desirable. For example, examples of the material used for the drying suppression plate F include a stainless steel material. Further, in the present embodiment, a plate-shaped member as an example of the drying suppressing member will be described as an example, but the shape is not particularly limited.
本実施形態において、乾燥抑制板Fは、基材上に吐出されたインクの乾燥を抑制するため、インク吐出ヘッド23に隣接した位置に設置される。ここでの設置位置は、インクが吐出された基材Bが移動する方向であって、基材B上のインクが塗布された全領域を覆って基材Bに対向する位置とする。図1では、基材Bを移動させるステージ40の移動方向(X軸方向)において、インク吐出ヘッド23を基準として下流側と上流側それぞれに設置した例を示している。図2では、ステージ40の移動方向(X軸方向)において、インク吐出ヘッド23の上流側に設置した乾燥抑制板Fは省略しているが、図1と同様に設置されているものとする。乾燥抑制板Fの配置や動作の詳細については、後述する。
In the present embodiment, the drying suppression plate F is installed at a position adjacent to the
図3は、インク吐出ヘッド23よりインク液滴202が吐出される状況を模式的に示す図である。本実施形態に係るインク吐出ヘッド23は、ピエゾ方式を用いた例を示す。ピエゾ方式では、インク吐出ヘッド23内部にある圧電素子(不図示)に駆動電圧を与えることで圧電素子を伸び縮みさせて、ノズル孔201と呼ばれる細孔より所定の量のインク液滴202を吐出させる。吐出されたインク液滴202は、ステージ40に配置された基材B上に着弾する。なお、ノズル孔201の配置や数は特に限定するものではなく、図3に示す例に限定するものではない。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a situation in which
(ステージ)
ステージ40は、例えば、真空吸着ステージであり、基材Bを吸着して固定することができる。ステージ40は、ステージ40の下面側に設けられたステージ回動機構41によって、Z軸周りのθ方向に回動自在に支持される。ステージ回動機構41は、ステージ回動機構41の下面側に設けられたX軸スライダ42に支持される。X軸スライダ42は、X軸ガイドレール12に取り付けられ、X軸ガイドレール12に設けられたX軸リニアモータ(不図示)によってX軸方向に移動自在に構成される。ステージ40がX軸方向に移動することにより、ステージ40に吸着された基材BをX軸方向に搬送することができる。
(stage)
The
なお、詳細については後述するが、本実施形態に係るインクジェット装置1を用いて製造可能な表示パネルは、複数の層から構成される。これらの層には、インクジェット方式により形成可能な1または複数の層が含まれる。したがって、これらの層それぞれを形成する場合、図1や図2に示した構成を複数設けて適用することができる。 Although details will be described later, the display panel that can be manufactured by using the inkjet device 1 according to the present embodiment is composed of a plurality of layers. These layers include one or more layers that can be formed by an inkjet method. Therefore, when forming each of these layers, a plurality of configurations shown in FIGS. 1 and 2 can be provided and applied.
(制御装置)
インクジェット装置1は、制御装置50を備える。制御装置50は、例えば、不図示の制御部、記憶部、および出力部を含んで構成される情報処理装置にて実現されてよい。制御部は、CPU(Central Processing Unit)、MPU(Micro Processing Unit)、DSP(Digital Single Processor)、または専用回路などから構成されてよい。記憶部は、HDD(Hard Disk Drive)、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などの揮発性や不揮発性の記憶媒体により構成され、制御部からの指示により各種情報の入出力が可能である。また、記憶部は、本実施形態に係る処理を実現するためのプログラムを格納する。出力部は、スピーカやライト、或いは液晶ディスプレイなどの表示デバイスなどから構成され、制御部からの指示により、各種出力を行う。出力装置による出力方法は特に限定するものではないが、例えば、画面出力による視覚的な出力であってもよい。また、出力部は、通信機能を備えたネットワークインターフェースであってもよく、ネットワーク(不図示)を介した外部装置(不図示)へのデータ送信により出力動作を行ってもよい。
(Control device)
The inkjet device 1 includes a
制御装置50は、例えば、上述したステージ40やキャリッジユニット20の位置制御や、インク吐出ヘッド23によるインクの吐出制御を統括的に行う。インクの吐出においては、制御装置50は、形成する画素パターンに応じて、その制御信号をインク吐出ヘッド23へ出力する。そのほか、制御装置50は、表示パネルDを生成するための各種制御を行う。本実施形態では、表示パネルDとして有機EL表示パネルを例に挙げて説明する。
The
(乾燥装置)
次に、本実施形態に係る表示パネルDの製造に用いる乾燥装置60の構成について説明する。図4は、本実施形態に係る乾燥工程にて用いられる乾燥装置60の構成例を示す概略図であり、ここでは、減圧による乾燥を行う減圧乾燥機を用いるものとする。乾燥対象である基材Bが乾燥装置60のチャンバ63内に搬入され、支持台61に設置される。その後、乾燥装置60は、真空ポンプ62を稼働させることにより、チャンバ63内の気圧を低減させ、乾燥を行わせる。図4内の矢印は、減圧に伴う気体(蒸気)の流れを示している。本実施形態に係る乾燥装置60の動作の詳細は、フローチャートと併せて後述する。なお、乾燥装置60は、本実施形態に係る有機EL表示パネルの製造システムの一部として設けられてもよいし、別個の装置として設けられてもよい。
(Drying device)
Next, the configuration of the drying
また、減圧乾燥機は、減圧下で加熱しないことが好ましいと考えられる。この理由は、加熱によってインクからの溶剤の揮発が激しくなり、不安定となることで、表示パネルの面内の膜厚が不均一になりやすいと考えられるためである。ここでの加熱とは、減圧乾燥機内で、基材の温度を上昇させる目的の加熱機構によって加熱することを意味する。 Further, it is considered preferable that the vacuum dryer is not heated under reduced pressure. The reason for this is that the solvent in the ink volatilizes violently due to heating and becomes unstable, so that the film thickness in the surface of the display panel tends to be non-uniform. The heating here means heating in a vacuum dryer by a heating mechanism for the purpose of raising the temperature of the base material.
(インク)
本実施形態に係る有機EL表示パネルを構成する層を形成するためのインクは、機能性材料を含む溶質と、有機溶剤を含む溶媒とから構成されている。機能性材料は、有機EL表示パネルを構成する層において、インクジェット方式により形成する層の機能を実現するためのものである。有機溶剤は、機能性材料を含む溶質が溶解もしくは分散可能な有機溶媒であることが必要である。
(ink)
The ink for forming the layer constituting the organic EL display panel according to the present embodiment is composed of a solute containing a functional material and a solvent containing an organic solvent. The functional material is for realizing the function of the layer formed by the inkjet method in the layer constituting the organic EL display panel. The organic solvent needs to be an organic solvent in which a solute containing a functional material can be dissolved or dispersed.
また、インク組成物は、上記の有機溶媒以外には、表面調整用として界面活性剤、インク組成物の保存安定用として紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤などの添加剤を適宜含有させてもよい。 In addition to the above-mentioned organic solvent, the ink composition appropriately contains additives such as a surfactant for surface adjustment and an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and an antioxidant for stabilizing the storage of the ink composition. You may.
[層形成動作]
次に、本実施形態に係るインクジェット装置1を用いて有機EL表示パネルの層を形成する際の動作について図5~図13を用いて説明する。図5は、基材Bがインク吐出ヘッド23の直下に向けて搬送される状態を示す図である。なお、ステージ40は、所定の開始位置へ制御された上で基材Bの装着が行われる。ここでは、ステージ40への基材Bの装着位置は、図1に示した位置であるものとする。また、インク吐出ヘッド23についても、図2に示すように、基材Bの搬送経路上に位置しているものとする。なお、ステージ40への基材Bの装着は、別途設けられる装着装置(不図示)などを用いて行われてよい。また、本実施形態では、基材Bのサイズとして370mm×470mmを想定して説明するがこれに限定するものではない。
[Layer formation operation]
Next, the operation when forming the layer of the organic EL display panel by using the inkjet device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 13. FIG. 5 is a diagram showing a state in which the base material B is conveyed directly below the
図6は、インク吐出ヘッド23による基材Bに対するインクの塗布開始位置を示す図である。基材Bのインクの塗布位置の端部が、複数のインク吐出ヘッド23のうちの最も上流側のインク吐出ヘッド23の直下に位置している。
FIG. 6 is a diagram showing an ink application start position on the base material B by the
図7は、インクの塗布が開始された状態を示す。インク吐出ヘッド23からインク液滴202が吐出され、基材B上にインク液滴Kが塗布される。ここでは、基材Bに着弾後のインク液滴をKとして示す。また、本実施形態では、図1に示すように基材Bの全面がインク吐出ヘッド23の下方を通過するように構成されている。インクが吐出されている間もステージ40は稼働し、これにより基材Bは適時移動する。なお、本実施形態では、説明を簡単にするため、着弾後のインク液滴Kを個別に示しているが、実際には、1のインク液滴202に限らず、複数のインク液滴202により層が所定の厚みにて均一化されて形成する。なお、図では、液滴Kを平坦な基材B上に吐出した場合について、模式的に説明したが、このような条件に限定されない。実際のパネル製造において、後述のバンク付き基材のバンクで区画された領域内にインクを吐出する場合も同様である。
FIG. 7 shows a state in which the application of ink has started. The
図8は、1回の走査によるインクの塗布動作でインク液滴Kが形成された基材Bの位置を示す。必要に応じて、X軸方向に沿って基材Bの往復動作(往復移動)を行わせ、更に基材B上にインクの塗布を行わせる。図9~図11は、往復動作およびその結果として形成された基材Bの状態を示している。 FIG. 8 shows the position of the base material B on which the ink droplet K is formed by the ink application operation by one scanning. If necessary, the base material B is reciprocated (reciprocated) along the X-axis direction, and ink is further applied onto the base material B. 9 to 11 show the reciprocating motion and the state of the base material B formed as a result.
図5~図11に示すように、本実施形態では、インクの塗布動作が行われている際の基材Bの移動範囲を包含する位置に、乾燥抑制板Fが対向するように設置される。これにより、乾燥抑制板Fは、少なくとも基材B上のインクが塗布された領域全てを覆うことになる。なお、上記の例では、基材BはX軸方向に沿って移動する構成を示している。例えば、インク吐出ヘッド23の直下の位置などにおいて、インク吐出ヘッド23や基材BがY軸方向に沿って移動しながらインクの塗布を行うような構成である場合には、その際に基材Bの位置する範囲に対向するように乾燥抑制板Fが設置されてよい。すなわち、基材Bの位置する方向であるY軸方向の範囲である、図2におけるキャリッジ22、図示されているキャリッジ22の下流側の乾燥抑制板F、及び図示されていないキャリッジ22の上流側の乾燥抑制板Fの3つの部材全てのY軸方向の位置に隣接する様に、基材Bに対向する様に乾燥抑制板Fが設置されることで、乾燥抑制板Fは、少なくとも基材B上のインクが塗布された領域全てを覆うことができ、好ましい。
As shown in FIGS. 5 to 11, in the present embodiment, the drying suppressing plate F is installed so as to face each other at a position including the moving range of the base material B when the ink coating operation is performed. .. As a result, the drying suppression plate F covers at least the entire area on the base material B to which the ink is applied. In the above example, the base material B shows a configuration in which the base material B moves along the X-axis direction. For example, if the
また、本実施形態では、図5に示すように、乾燥抑制板Fの下面と基材Bの上面(インクの塗布面)との間の距離dが一定の範囲内となるように、乾燥抑制板Fが設置される。ここでの距離dは、特に限定されるものでは無いが、インクの組成や乾燥の特性に応じて規定されるものとする。本実施形態では、距離dを5~10mmを想定しており、以下では、5mmとして説明する。また、この距離dは、インクの塗布の開始から後述する乾燥装置60への搬入までは少なくとも維持されるものとする。
Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 5, drying suppression is performed so that the distance d between the lower surface of the drying suppression plate F and the upper surface (ink coated surface) of the base material B is within a certain range. The plate F is installed. The distance d here is not particularly limited, but is defined according to the composition of the ink and the characteristics of drying. In the present embodiment, the distance d is assumed to be 5 to 10 mm, and will be described below as 5 mm. Further, this distance d is assumed to be maintained at least from the start of ink application to the delivery to the drying
なお、図5~図11では、Z軸方向において、乾燥抑制板Fの下面とインク吐出ヘッド23の吐出面とが同じ位置になるような例を示したがこれに限定するものではない。例えば、乾燥抑制板Fの下面が、インク吐出ヘッド23の吐出面よりも基材Bにより近くなるように配置されてもよい。各面の高さは、インクの乾燥の特性やインクの塗布時の利便性などに応じて調整されてよい。
Note that FIGS. 5 to 11 show an example in which the lower surface of the drying suppression plate F and the ejection surface of the
(搬送部)
次に、インク液滴Kが吐出された基材Bを乾燥させるための乾燥装置60への搬送について説明する。本実施形態に係る乾燥抑制板Fは、図5~図11に示すように、インクの塗布時にはインク吐出ヘッド23に隣接した位置に配置される。インクの塗布動作の後、図12に示すように、基材Bが乾燥装置60に搬送される。その際に、基材B(ステージ40)の移動に伴って、乾燥抑制板Fも基材Bに対向した状態で移動される。このとき、基材Bおよび乾燥抑制板Fは、搬送部(不図示)によって搬送される。すなわち、搬送部は、基材Bおよび乾燥抑制板Fを搬送するように構成された機構である。その後、基材Bは、乾燥装置60内に搬入され、乾燥装置60により乾燥工程が実施される。乾燥装置60内への基材Bの搬入は、搬送部によりそのまま行われてもよいし、別途設けられる搬入装置(不図示)などを用いて行われてよい。
(Transport section)
Next, the transfer to the drying
本実施形態では、2つの搬入構成の例を示す。図12は、基材Bのみを乾燥装置60に搬入した場合の概略図を示す。この場合、乾燥装置60に搬入される直前まで、基材Bと乾燥抑制板Fとは距離dにて対向した状態で維持される。そして、基材Bのみが、乾燥装置60内に搬入され、乾燥装置60内の支持台61に設置される。
In this embodiment, an example of two carry-in configurations is shown. FIG. 12 shows a schematic view when only the base material B is carried into the drying
図13は、基材Bと乾燥抑制板Fとを乾燥装置60に搬入した場合の概略図を示す。この場合、基材Bと乾燥抑制板Fとは距離dにて対向した状態で維持されて乾燥装置60に搬入される。そして、基材Bと乾燥抑制板Fは、対向した状態で乾燥装置60内の支持台61上に設置される。
FIG. 13 shows a schematic view when the base material B and the drying suppression plate F are carried into the drying
なお、図12、図13では、インク吐出ヘッド23よりも下流側に設置された乾燥抑制板Fが、基材Bの搬送に連動して移動する例を示した。これに限定するものではなく、インク吐出ヘッド23よりも上流側に位置している乾燥抑制板Fもインク塗布時などに、基材Bに対向して連動する動作を行ってもよい。
In addition, in FIGS. 12 and 13, an example in which the drying suppressing plate F installed on the downstream side of the
[表示パネルDの構成]
続いて、上述したインクの吐出量の測定手法を用いて製造可能な表示パネルDについて、図14~図16を用いて説明する。図14は、本実施形態に係る表示パネルDの構成例を示す模式平面図である。なお、図14は模式図であって、その縮尺は実際とは異なる場合がある。
[Configuration of display panel D]
Subsequently, the display panel D that can be manufactured by using the above-mentioned ink ejection amount measuring method will be described with reference to FIGS. 14 to 16. FIG. 14 is a schematic plan view showing a configuration example of the display panel D according to the present embodiment. Note that FIG. 14 is a schematic diagram, and the scale thereof may differ from the actual scale.
本実施形態に係る表示パネルDは、有機化合物の電界発光現象を利用した有機EL表示パネルである。表示パネルDは、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)が形成された基板(以下、「TFT基板」と称する)に、各々が画素を構成する複数の有機EL表示素子が行列状に配され、上面(カラーフィルタ基板131側)より光を発するトップエミッション型の構成を有する。ここで、図14におけるX方向、Y方向、およびZ方向をそれぞれ、表示パネルDにおける行方向、列方向、および厚み方向とも称する。
The display panel D according to the present embodiment is an organic EL display panel utilizing the electroluminescence phenomenon of an organic compound. In the display panel D, a plurality of organic EL display elements, each of which constitutes a pixel, are arranged in a matrix on a substrate (hereinafter referred to as "TFT substrate") on which a thin film transistor (TFT) is formed, and the upper surface thereof is formed. It has a top-emission type configuration that emits light from (
図14に示すように、本実施形態に係る表示パネルDは、区画領域10aと、区画領域10aの周囲に位置する非区画領域10bとが構成される。区画領域10aは、基板100上を、各色(ここでは、RGBの3色)の発光単位を規制するバンク122によりマトリックス状に区画される。なお、Y軸方向に沿ったバンク122を列バンク122Yとし、X軸方向に沿ったバンクを行バンク122Xとして説明する。
As shown in FIG. 14, the display panel D according to the present embodiment includes a
非区画領域10bには、区画領域10aを取り囲む矩形上の封止部材300が形成されている。区画領域10aは、基板100の中心を含む表示画素配列領域10eと、表示画素配列領域10eの周囲に位置する非発光領域10neとから構成される。表示画素配列領域10eは、列バンク122Yと行バンク122Xにより規制される各区画に有機EL表示素子が形成されている領域である。一方、非発光領域10neには、有機EL表示素子が形成されていない領域である。
In the
図15は、図14に示した表示画素配列領域10eのうちの一部の領域10cを拡大した平面図である。表示画素配列領域10eには、有機EL表示素子に対応する単位素子100eが行列上に配置されている。単位素子100eは有機化合物により光を発する領域である。本例において、単位素子100eは、赤色(R)に発光する自己発光領域100aR、緑色に発光する自己発光領域100aG、青色に自己発光領域100aBの3色に対応した自己発光領域100aを含んで構成される。
FIG. 15 is an enlarged plan view of a part of the display
また、図15に示すように、複数の画素電極119が基板100上に行方向および列方向にそれぞれ所定の距離だけ離れた状態で配列されている。行列状に配列された画素電極119は、行方向に順に並んだ自己発光領域100aR、100aG、100aBに対応する。また、自己発光領域100a以外の領域は、非自己発光領域100bとなる。非自己発光領域100bには、画素電極119とTFTのソースとを接続するコンタクトホール119cが設けられる。更に、非自己発光領域100bには、画素電極119に対して電気的に接続するためのコンタクト領域119bが設けられる。
Further, as shown in FIG. 15, a plurality of
図16は、図15に示すX1-X1で切断した位置の模式断面図である。図16に示すように、本実施形態に係る表示パネルDは、Z軸方向下方に薄膜トランジスタが形成された基板100(TFT基板)が構成され、その上に発光素子部としての有機EL素子部が構成されている。有機EL素子部は、複数の層から構成され、このうちの一部を形成する際に上述したインクジェット装置1を適用することができる。有機EL素子部を構成する複数の層として、画素電極119、正孔注入層120、正孔輸送層121、バンク122、発光層123、電子輸送層124、対向電極125、封止層126、接合層127、およびカラーフィルタ基板131が含まれる。また、カラーフィルタ基板131は、カラーフィルタ層128、および上部基板130を含んで構成される。以下、表示パネルDを構成する部位について説明する。
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view of a position cut at X1-X1 shown in FIG. As shown in FIG. 16, in the display panel D according to the present embodiment, a substrate 100 (TFT substrate) in which a thin film transistor is formed downward in the Z-axis direction is configured, and an organic EL element portion as a light emitting element portion is formed on the substrate 100 (TFT substrate). It is configured. The organic EL element unit is composed of a plurality of layers, and the above-mentioned inkjet device 1 can be applied when forming a part of the layers. As a plurality of layers constituting the organic EL element portion, a
(基板(TFT基板))
基板100は表示パネルDの支持部材であり、基材(不図示)と、基材上に形成された薄膜トランジスタ(TFT)層(不図示)と、基材上およびTFT層上に形成された層間絶縁層(不図示)とを有する。
(Substrate (TFT substrate))
The
基板100を構成する基材(不図示)は、表示パネルDの支持部材であり、平板状である。基材の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば、ガラス材料、樹脂材料、半導体材料、絶縁層をコーティングした金属材料などを用いることができる。
The base material (not shown) constituting the
基板100を構成するTFT層(不図示)は、基材上面に形成された複数のTFTおよび配線から構成される。TFTは、表示パネルDの外部回路からの駆動信号に応じ、自身に対応する画素電極119と外部電源(不図示)とを電気的に接続するものであり、電極、半導体層、絶縁層などの多層構造からなる。配線(不図示)は、TFT、画素電極119、外部電源、外部回路などを電気的に接続している。基板100の上面に位置する層間絶縁層は、TFT層によって凹凸が存在する基板100の上面の少なくとも一部を平坦化するものである。また、層間絶縁層は、配線およびTFTの間を埋め、配線およびTFTの間を電気的に絶縁している。
The TFT layer (not shown) constituting the
(画素電極)
基板100の上面に位置する層間絶縁層(不図示)上には、画素電極119が設けられる。画素電極119は、発光層123へキャリアを供給するためのものであり、例えば、陽極として機能した場合は、発光層123へ正孔を供給する。画素電極119は、矩形形状をした平板状である。また、基板100の上面に開設されたコンタクトホールを通して、画素電極119の一部を基板100方向に凹入された画素電極119の接続凹部とTFTのソースとが接続される。
(Pixel electrode)
A
画素電極119は、金属材料から構成される。トップエミッション型の有機EL表示パネルの場合には、層厚を最適に設定して光共振器構造を採用することにより出射される光の色度を調整し輝度を高めている。そのため、画素電極119の表面部が高い反射性を有する。画素電極119は、金属層、合金層、透明導電膜の中から選択される複数の膜を積層させた構造であってもよい。
The
(正孔注入層、正孔輸送層)
画素電極119上には、正孔注入層120、正孔輸送層121が順に積層され、正孔輸送層121は正孔注入層120に接触している。正孔注入層120、正孔輸送層121は、画素電極119から注入された正孔を発光層123へ輸送する機能を有する。
(Hole injection layer, hole transport layer)
The
正孔注入層120および正孔輸送層121は、図1にて示したインクジェット装置1を用いて形成することが可能である。正孔注入層120や正孔輸送層121を形成するためのインクとして、使用する有機溶剤は正孔注入材料や正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はない。
The
(バンク)
画素電極119、正孔注入層120、および正孔輸送層121の端縁を被覆するように絶縁物からなるバンク122が形成されている。バンク122は、画素電極119の外縁と、対向電極125との間における厚み方向(Z軸方向)の電流リークを防止するために、バンク122は、樹脂などの有機材料を用い形成されており絶縁性を有し、体積抵抗率が1×106Ωcm以上の絶縁性を備えていることが望ましい。
(bank)
A
さらに、バンク122は、製造工程中において、エッチング処理、ベーク処理など施されることがあるため、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。また、表面に撥液性をもたせるために、バンク122の表面をCVD(Chemical Vapor Deposition)などによりフッ素処理するような構成であってもよい。
Further, since the
(発光層)
表示パネルDには、各色に発光する発光層123が形成される。ここでの色とは、具体的には、R(Red)、G(Green)、およびB(Blue)の3色が挙げられる。発光層123は、有機化合物からなる層であり、内部で正孔と電子が再結合することで光を発する機能を有する。発光層123は、画素電極119からキャリアが供給される部分のみが発光する。発光層123は、図1にて示したインクジェット装置1を用いて形成することが可能である。
(Light emitting layer)
A
発光層123の形成に用いる材料は、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。発光層123としては、有機EL素子部の発光層(発光する機能を有する層)に利用できる公知の材料からなる層とすればよく、その材料等は特に制限されないが、有機材料からなる発光層であることが好ましい。例えば、発光性材料としての蛍光又はりん光を発光する有機物(低分子化合物および高分子化合物)と、これを補助するドーパントとから形成される層とすることが好ましい。
As the material used for forming the
(電子輸送層)
バンク122上、およびバンク122により規定された開口内には、発光層123の上に電子輸送層124が形成される。電子輸送層124は、対向電極125から注入された電子を発光層123へ輸送する機能を有する。
(Electron transport layer)
An
(対向電極)
電子輸送層124を被覆するように、対向電極125が積層形成される。対向電極125は、表示パネルD全体に連続した状態で形成され、ピクセル単位あるいは数ピクセル単位でバスバー配線に接続されていてもよい(図示を省略)。対向電極125は、画素電極119と対になって発光層123を挟むことで通電経路を作り、発光層123へキャリアを供給するものである。対向電極125は、例えば陰極として機能した場合、発光層123へ電子を供給する。対向電極125は、電子輸送層124の表面に沿って形成され、バンク122間に形成された発光層123それぞれに共通の電極となっている。対向電極125は、光透過性を有する導電材料が用いられる。
(Counter electrode)
The
(封止層)
対向電極125を被覆するように、封止層126が積層形成される。封止層126は、発光層123が水分や空気などに触れて劣化することを抑制するために形成される。封止層126は、対向電極125の上面を覆うように表示パネルD全面に渡って設けられる。
(Sealing layer)
The
(接合層)
封止層126のZ軸方向上方には、上部基板130とカラーフィルタ層128から構成されるカラーフィルタ基板131が配され、封止層126とカラーフィルタ基板131は接合層127により接合されている。接合層127は、基板100から封止層126までの各層からなる背面パネルとカラーフィルタ基板131とを貼り合わせるとともに、各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。
(Joining layer)
A
(上部基板)
カラーフィルタ基板131を構成する上部基板130には、表示パネルDがトップエミッション型であるため、例えば、カバーガラス、透明樹脂フィルムなどの光透過性材料が用いられる。また、表示パネルDは、上部基板130により、剛性向上、水分や空気などの侵入防止などを図ることができる。
(Upper board)
Since the display panel D is a top emission type for the
(カラーフィルタ層)
カラーフィルタ基板131には画素の発光領域に対応する位置に、各色に対応したカラーフィルタ層128が形成されている。発光領域は、バンク122間に形成された発光層123の位置に対応する。カラーフィルタ層128は、各色(例えば、R、G、B)に対応する波長の可視光を透過させるために設けられる透明層であり、各色画素から出射された光を透過させて、その色度を矯正する機能を有する。カラーフィルタ層128は、具体的には、複数の開口部を画素単位に行列状に形成されたカラーフィルタ形成用のカバーガラスからなる上部基板130に対し、カラーフィルタ材料および溶媒を含有したインクを塗布する工程により形成される。
(Color filter layer)
A
[表示パネルDの製造]
次に、表示パネルDの製造工程について具体例にて説明する。図16にて示した表示パネルDの構成のうち、発光層123、正孔注入層120、および正孔輸送層121をインクジェット方式により形成することができる。そこで、本実施形態では、これらの3つの層を形成する際にインクジェット方式を用いるものとして説明する。図17は、表示パネルDの製造工程を示すフローチャートである。
[Manufacturing of display panel D]
Next, the manufacturing process of the display panel D will be described with reference to specific examples. Among the configurations of the display panel D shown in FIG. 16, the
本実施形態において、各層に対応したインク吐出ヘッド23を備える。つまり、図1~図4に示した構成が、発光層123、正孔注入層120、および正孔輸送層121それぞれを形成するために用意される。また、説明を簡単にするために、表示パネルDを製造するための動作は、制御装置50が包括的に制御するものとして説明する。本動作フローが開始する際には、基材、TFT層、および層間絶縁層により構成される基板100が準備される。
In the present embodiment, the
S1701にて、制御装置50は、基板100上に画素電極119を形成させる。具体的には、基板100の層間絶縁層にコンタクト孔(不図示)を開設し、画素電極119を形成する。画素電極119の形成は、スパッタリング法あるいは真空蒸着法などを用い金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いパターニングすることでなされる。なお、画素電極119は、基板100を構成するTFTの電極と電気的に接続された状態となる。
In S1701, the
S1702にて、制御装置50は、バンク122を形成させる。バンク122の形成では、所定方向に沿ったバンク122を形成し、その後、その所定方向に直交する方向のバンクを形成させる。バンク122の形成は、バンク122の構成材料(例えば、感光性樹脂材料)からなる膜を積層形成する。そして、樹脂膜をパターニングしてバンクを順次形成する。バンクのパターニングは、樹脂膜の上方にフォトマスクを利用し露光を行い、現像工程、焼成工程(例えば、約230℃、約60分)をすることにより行われてよい。
In S1702, the
バンク122の形成工程では、先ず、スピンコート法などを用い、有機系の感光性樹脂材料、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂などからなる感光性樹脂膜を形成する。その後、乾燥を行って溶媒をある程度揮発させてから、所定の開口部が施されたフォトマスクを重ねる。さらに、その上から紫外線照射を行い感光性樹脂などからなるフォトレジストを露光し、そのフォトレジストにフォトマスクが有するパターンを転写する。続いて、感光性樹脂を現像によってバンク122をパターニングした絶縁層を形成する。一般には、ポジ型と呼ばれるフォトレジストが使用される。ポジ型は露光された部分が現像によって除去される。露光されないマスクパターンの部分は、現像されずバンク122が一定程度の厚みで残存する。
In the process of forming the
S1703にて、制御装置50は、画素電極119上に正孔注入層120を積層形成させる。正孔注入層120の形成は、導電性ポリマー材料を有機溶剤に溶解させたインクを用いてインクジェット法にて形成することができる。本工程の詳細は、図18を用いて後述する。
In S1703, the
S1704にて、制御装置50は、正孔注入層120上に正孔輸送層121を積層形成させる。正孔輸送層121の形成は、導電性ポリマー材料を有機溶剤に溶解させたインクを用いてインクジェット法にて形成することができる。本工程の詳細は、図18を用いて後述する。
In S1704, the
S1705にて、制御装置50は、バンク122で規定された所定の位置の正孔輸送層121上に発光層123を積層形成させる。本工程の詳細は、図18を用いて後述する。
In S1705, the
S1706にて、制御装置50は、電子輸送層124を発光層123上に積層形成させる。電子輸送層124は、真空蒸着法などを用いて形成できる。
In S1706, the
S1707にて、制御装置50は、ベタ膜として電子輸送層124を被覆するように、対向電極125を積層形成させる。対向電極125は、CVD法、スパッタリング法などを用いて形成できる。
In S1707, the
S1708にて、制御装置50は、ベタ膜として対向電極125を被覆するように、封止層126を積層形成させる。封止層126は、対向電極125と同様、CVD法、スパッタリング法などを用いて形成できる。
In S1708, the
S1709にて、制御装置50は、カラーフィルタ基板131を形成させる。カラーフィルタ基板131の形成では、まず、透明な上部基板130を準備する。次に、上部基板130表面に、紫外線硬化樹脂成分を主成分とするカラーフィルタ層128(例えば、G)の材料を溶媒に分散させ、ペーストを塗布し、溶媒を一定除去した後、所定のパターンマスクを載置し、紫外線照射を行う。その後、キュアを行い、パターンマスクおよび未硬化のペーストを除去して現像すると、カラーフィルタ層(G)が形成される。この工程を各色のカラーフィルタ材料について同様に繰り返すことで、カラーフィルタ層(R)、(B)を形成する。なお、ペーストを用いる代わりに市販されているカラーフィルタ製品を利用してもよい。また、カラーフィルタ基板131は、予め形成しておき、本工程では形成済みのカラーフィルタ基板131を設置するのみであってもよい。
In S1709, the
S1710にて、制御装置50は、カラーフィルタ基板131と背面パネルの貼り合わせを行う。本工程では、まず、基板100から封止層126までの各層からなる背面パネルに、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂などの紫外線硬化型樹脂を主成分とする接合層127の材料を塗布する。続いて、塗布した材料に紫外線照射を行い、背面パネルとカラーフィルタ基板131との相対的位置関係を合せた状態で両基板を貼り合わせる。このとき、両者の間にガスが入らないように張り合わせが行われる。その後、両基板を焼成して封止工程を完了することにより、表示パネルDが完成する。そして、本動作フローを終了する。
In S1710, the
(層形成)
図18は、図17のS1703~S1705の工程それぞれにて行われるインクジェット装置1を用いた層形成の際の処理フローを示す。ここでは、同じ動作により各層の形成が行われるものとする。なお、説明を簡単化するために、以下の動作フローは制御装置50が包括的に制御するものとして説明する。
(Layer formation)
FIG. 18 shows a processing flow at the time of layer formation using the inkjet apparatus 1 performed in each of the steps S1703 to S1705 of FIG. Here, it is assumed that each layer is formed by the same operation. For the sake of simplicity, the following operation flow will be described as being comprehensively controlled by the
S1801にて、制御装置50は、インク吐出ヘッド23およびステージ40を制御し、基材B上にインクの塗布を行わせる。ここでの動作は、図5~図11に示したような制御を行うことで実行される。また、本工程に用いられるインクは、形成する層に応じたインクが用いられるものとする。例えば、発光層123の場合、有機EL発光パネルにて再現される複数の色(例えば、R,G,Bの3色)それぞれに対応して形成される。各色に対応した発光層123の基板100上の配置は予め規定され、その配置に従って形成が行われるものとする。なお、各色に対応する発光層123の形成順や配置は特に限定するものではなく、任意の設定が用いられてよい。基材B上の1画素に相当する範囲には、1または複数のインク液滴にて層が形成される。
In S1801, the
S1802にて、制御装置50は、基材Bを搬送し、乾燥装置60へ搬入させる。このとき、図12や図13にて示したように、基材B(ステージ40)の移動に伴って、乾燥抑制板Fを連動して移動させる。
In S1802, the
S1803にて、制御装置50は、乾燥装置60内に搬入された基材Bの乾燥動作を実行させる。本工程の詳細については、図19を用いて後述する。
In S1803, the
S1804にて、制御装置50は、S1803の乾燥動作が完了した後、基材Bのベーク処理を、ベーク装置(不図示)にて実行させる。なお、乾燥装置60からベーク装置(不図示)への基材Bの搬送は、別途設けられる搬送装置(不図示)を用いて行われてよい。ベーク処理により、層の形成が完了する。ベーク処理は、所定条件の焼成工程(例えば、加熱温度約230℃、加熱時間約60分の条件で真空焼成する工程)により行われてよい。ここでの条件は、形成する層の構成や機能に応じて異なってよい。そして、本処理フローを終了する。なお、基材Bのベーク処理は必須の構成ではなく、形成する層の材料に応じてベーク処理が行われないように構成されてよい。なお、ここでの基材Bのベーク処理とは、基材Bに塗布した膜に対するベーク処理(焼成処理)である。
In S1804, after the drying operation of S1803 is completed, the
(インクの乾燥)
本実施形態に係るインクの乾燥工程について説明する。上述したように、本実施形態に係る乾燥装置60は、減圧により対象の乾燥を行う減圧乾燥機である。また、本実施形態に係る乾燥装置60は、図12および図13を用いて説明したように、内部に乾燥抑制板Fを搬入する場合と搬入しない場合のいずれにも対応することができる。上記の例では、表示パネルDを構成する複数の層のうち、発光層123、正孔注入層120、および正孔輸送層121に対して、インクジェット方式を用いて形成できることを述べた。図12および図13のいずれの構成を適用するかは、層ごとに規定されてよい。
(Drying ink)
The ink drying step according to this embodiment will be described. As described above, the drying
図12のように、乾燥装置60内に基材Bのみを搬入する場合、図4に示した状態にて乾燥装置60により乾燥動作が行われる。基材Bの搬入後、真空ポンプ62により、チャンバ63内の気体(蒸気)が排出され、減圧されることとなる。これにより、基材B上のインク液滴Kの乾燥が進む。一定時間の後、チャンバ63内の気圧を大気圧へ戻し、基材Bを搬出して乾燥工程が終了することとなる。なお、乾燥時間は特に限定するものではなく、基材Bのサイズやインクの組成などに応じて規定されてよい。図12の構成の場合、本動作が、図18のS1803の工程にて行われる。
When only the base material B is carried into the drying
次に、図13のように、乾燥装置60内に基材Bと乾燥抑制板Fを搬入する場合の乾燥動作について説明する。図19は、乾燥工程の際に乾燥抑制板Fを搬入する構成に対応する乾燥装置60の動作を説明するための概略図である。図19において気体(蒸気)の流れを矢印にて示している。図19(a)は、乾燥動作が開始した時点における状態を示し、乾燥抑制板Fと基材Bとの距離は、図13に示した搬送時の距離dと同じであるものとする。図19(b)は、乾燥動作が開始した後、チャンバ63の圧力が一定の値に到達した場合の状態を示す。この場合、乾燥抑制板Fと基材Bとの距離dがZ軸方向において広がるように乾燥抑制板Fの位置が制御される。ここでは、チャンバ63内にて乾燥抑制板Fと基材Bとの間を最も離すことが可能な距離dmaxまで離すものとする。距離dmaxは、チャンバ63のサイズなどに応じて規定されてよい。また、乾燥装置60は、チャンバ63内において、乾燥抑制板Fと基材Bの距離を制御可能な離間機構(不図示)を備えるものとする。このとき、乾燥抑制板Fおよび支持台61の少なくとも一方を移動させることで、距離dを調整してよい。
Next, as shown in FIG. 13, a drying operation when the base material B and the drying suppressing plate F are carried into the drying
そして、真空ポンプ62により、チャンバ63内の気体(蒸気)が排出され、減圧されることとなる。これにより、基材B上のインク液滴Kの乾燥が進み、一定時間の後、乾燥工程が終了することとなる。なお、乾燥時間は特に限定するものではなく、基材Bのサイズやインクの組成などに応じて規定されてよい。
Then, the gas (steam) in the
図20は、図19の構成に対応した乾燥工程を示すフローチャートである。本処理フローは、図13の構成の場合に、図18のS1803の工程にて行われる。なお、説明を簡単化するために、以下の動作フローは制御装置50が包括的に制御するものとして説明する。
FIG. 20 is a flowchart showing a drying process corresponding to the configuration of FIG. This processing flow is performed in the process of S1803 of FIG. 18 in the case of the configuration of FIG. For the sake of simplicity, the following operation flow will be described as being comprehensively controlled by the
S2001にて、制御装置50は、インクが塗布された基材Bと乾燥抑制板Fとを所定の距離dにて対向した状態で乾燥装置60内に搬入させる。これは、図13に示した通りである。
In S2001, the
S2002にて、制御装置50は、乾燥装置60の真空ポンプ62を動作させ、チャンバ63内の減圧を開始させる。ここでの減圧のスピードは特に限定するものではなく、任意の設定が用いられてよい。制御装置50は、減圧の開始に伴って、時間の計測を開始させる。
In S2002, the
S2003にて、制御装置50は、チャンバ63内の気圧が所定の気圧P1に到達したか否かを判定する。ここでの所定の気圧P1は特に限定するものでは無いが、本実施形態では、P1は、101325Pa(大気圧)~10000Paの範囲内で設定される。図21は、本実施形態に係る乾燥装置60による乾燥動作の際の気圧の変化と経過時間の関係を示す図である。図21(a)において、縦軸は圧力[Pa]を示し、横軸は時間[sec]を示す。乾燥動作開始当初は大気圧(標準気圧)である101325Paであり、時間の経過とともに減圧される。図21(b)は、図21(a)にて示すグラフのうち、一部の値を取り出して示したものである。チャンバ63内の気圧が上記範囲内の中から設定された所定の気圧P1に到達した場合(S2003にてYES)、制御装置50の処理はS2004へ進む。一方、チャンバ63内の気圧が所定の気圧P1に到達していない場合(S2003にてNO)、制御装置50は減圧動作を継続させ、所定の気圧P1に到達するまで待機する。
In S2003, the
本実施形態では、乾燥装置60に基材Bを搬入した直後に距離dを制御するのではなく、気圧がP1に到達したタイミングにて距離dを制御している。距離dを調整した際には、チャンバ63内の気流の変動が生じ、層の形成に影響を与えてしまうことが想定される。そこで、本実施形態では、インクに対して一定の乾燥が行われ、層の形状がある程度安定した際に距離dを制御している。これにより、層の形成の品質を向上させることができる。
In the present embodiment, the distance d is not controlled immediately after the base material B is carried into the drying
S2004にて、制御装置50は、チャンバ63内において、離間機構(不図示)を用いて基材Bと乾燥抑制板Fの離間動作を行う。ここでは図19(b)に示したように、基材Bと乾燥抑制板Fの間の距離をdmaxまで広げる。
In S2004, the
S2005にて、制御装置50は、S2002の減圧開始から所定の時間が経過したか否かを判定する。ここでの所定の時間は、インクの組成や基材Bのサイズなどに応じて予め規定されているものとする。所定の時間が経過した場合(S2005にてYES)、制御装置50の処理はS2006へ進む。一方、所定の時間が経過していない場合(S2005にてNO)、制御装置50は減圧動作を継続させ、所定の時間が経過するまで待機する。
In S2005, the
S2006にて、制御装置50は、真空ポンプ62による減圧動作を停止させ、チャンバ63内の気圧を大気圧へと戻す。ここでの気圧の戻しは、一定の時間をかけて徐々に戻すような構成であってもよいし、気体を一気に流入させて戻すような構成であってもよい。
In S2006, the
S2007にて、制御装置50は、基材Bを乾燥装置60から搬出させる。ここでの搬出は、別途設けられる搬出装置(不図示)を用いて行われてもよい。また、乾燥抑制板Fは、基材Bと併せて乾燥装置60から搬出されてもよいし、別のタイミングにて搬出されるような構成であってもよい。そして、本処理フローを終了する。
In S2007, the
なお、図19や図20の例では、チャンバ63内の圧力が所定の気圧P1に到達した際に、乾燥抑制板Fと基材Bとの距離dを一気に距離dmaxまで広げるように制御している。しかし、この制御に限定するものではなく、例えば、圧力の変化に応じて段階的に距離が広がるように行われてもよい。または、圧力の変化や経過時間、乾燥条件の変化などに応じて、距離dを所定の距離に調整(離す、または、近づける)するような構成であってもよい。
In the examples of FIGS. 19 and 20, when the pressure in the
[実施形態例]
以下、本実施形態に係る手法を用いた実施形態例として、形成される膜厚による評価について説明する。ここでは、本実施形態の図12に対応する構成の実施形態例1、本実施形態の図13に対応する構成の実施形態例2、および、従来の構成に対応する比較形態例を用いて説明する。また、ここでは、表示パネルDにおける正孔注入層をインクジェット法により形成する場合を例に挙げる。
[Example of Embodiment]
Hereinafter, evaluation based on the film thickness formed will be described as an example of an embodiment using the method according to the present embodiment. Here, the first embodiment of the configuration corresponding to FIG. 12 of the present embodiment, the second embodiment of the configuration corresponding to FIG. 13 of the present embodiment, and the comparative embodiment example corresponding to the conventional configuration will be described. do. Further, here, a case where the hole injection layer in the display panel D is formed by an inkjet method will be taken as an example.
本実施形態例においては、いずれの場合も同じインクを用いる。インクを構成する機能性材料である電荷輸送性材料として、下記の化学式Mの繰り返し構造を有する機能性高分子化合物と、電子受容性化合物として4-イソプロピル-4’-メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラートとを5:1の割合で混合したものを用いることができる。また、インクを構成する有機溶媒として、シクロヘキシルベンゼン:アニソール=2:8の割合で混合させた有機溶媒を用いる。そして、これらの機能性材料(溶質)を有機溶媒に溶解し、有機溶媒がインク全体に対して2.0重量%になるように調製する。 In this embodiment, the same ink is used in each case. As a charge transporting material which is a functional material constituting an ink, a functional polymer compound having a repeating structure of the following chemical formula M and a 4-isopropyl-4'-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluoro) as an electron accepting compound. A mixture of phenyl) borate and 5: 1 can be used. Further, as the organic solvent constituting the ink, an organic solvent mixed at a ratio of cyclohexylbenzene: anisole = 2: 8 is used. Then, these functional materials (solutes) are dissolved in an organic solvent, and the organic solvent is prepared so as to be 2.0% by weight with respect to the entire ink.
基材Bの所定の塗布領域内に上記インクを塗布して、減圧乾燥してから正孔注入層120を生成し、その膜厚の分布を測定する。図22は、本実施形態例において、基材B2上において膜厚を測定する位置を示す概略図である。本実施形態例では、図22の矢印にて示すように、基材Bのインクの塗布領域(図15の自己発光領域100aに対応)内のX方向の中心位置において、Y軸に沿って端部から端部までの膜厚を測定する。ここでの端部から端部までの測定長さは、例えば270mmである。更に、膜厚の狙い値は60nmである。また、実施形態例1、実施形態例2、および比較形態例の層形成時の構成例は以下の通りである。
The ink is applied in a predetermined coating region of the base material B, dried under reduced pressure, and then the
(実施形態例1)
実施形態例1は、図12の構成に対応する。乾燥抑制板Fの下面と基材Bの上面との距離dを5mmに固定する。インク塗布後の基材Bを乾燥装置60に搬入する直前に、乾燥抑制板Fとの対向を解除し、基材Bのみを乾燥装置60内に搬入させて、減圧乾燥を行う。
(Embodiment Example 1)
The first embodiment corresponds to the configuration of FIG. The distance d between the lower surface of the drying suppression plate F and the upper surface of the base material B is fixed at 5 mm. Immediately before the base material B after the ink is applied is carried into the drying
(実施形態例2)
実施形態例2は、図13の構成に対応する。乾燥抑制板Fの下面と基材Bの上面との距離dを5mmに固定する。インク塗布後の基材Bと乾燥抑制板Fとの距離dを維持した状態で、乾燥装置60内に搬入して、減圧乾燥を開始させる。その後、減圧動作の最中にチャンバ63内の圧力が所定の気圧P1に到達した時点で、乾燥抑制板Fを50mmまで上昇させて、減圧乾燥を行う。すなわち、距離dmaxを50mmとする。実施形態例2では、所定の気圧P1を、図21(a)にて示した101325Pa(大気圧)~10000Paの範囲内である3×104Paに設定する。
(Embodiment Example 2)
The second embodiment corresponds to the configuration of FIG. The distance d between the lower surface of the drying suppression plate F and the upper surface of the base material B is fixed at 5 mm. While maintaining the distance d between the base material B and the drying suppression plate F after the ink is applied, the ink is carried into the drying
(比較形態例)
比較形態例は、本実施形態に係る乾燥抑制板Fを備えていない構成に対応する。乾燥抑制板Fがない状態で基材B上に層の形成を行い、乾燥装置60へ搬送、搬入した後、減圧乾燥を行う。
(Example of comparative form)
The comparative embodiment corresponds to the configuration without the drying suppression plate F according to the present embodiment. A layer is formed on the base material B without the drying suppression plate F, and the layer is transported to and carried into the drying
(効果)
図23は、上記の実施形態例1、実施形態例2、及び比較形態例において推測される乾燥後の膜厚分布の模式図を示す。図23において、縦軸は形成される層の膜厚[nm]を示し、横軸は基材Bにおける測定位置[mm]を示す。
(effect)
FIG. 23 shows a schematic diagram of the film thickness distribution after drying estimated in the above-mentioned first embodiment, second embodiment, and comparative example. In FIG. 23, the vertical axis indicates the film thickness [nm] of the formed layer, and the horizontal axis indicates the measurement position [mm] on the base material B.
図23を参照すると、本実施形態に係る乾燥抑制板Fを備えていない比較形態例(点線)では、両端部(0mm周辺および270mm周辺)において、狙い値である60nmに対して大幅に膜厚減少すると考えられる。また、そのほかの位置でも、膜厚の狙い値の60nmに対して膜厚が安定せず、凹凸がある大きなうねりが生じると考えられる。 Referring to FIG. 23, in the comparative embodiment (dotted line) not provided with the drying suppression plate F according to the present embodiment, the film thickness is significantly larger than the target value of 60 nm at both ends (around 0 mm and around 270 mm). It is expected to decrease. Further, it is considered that the film thickness is not stable with respect to the target value of 60 nm of the film thickness at other positions, and large waviness with unevenness occurs.
一方、本実施形態に係る構成に対応する実施形態例1(実線)では、乾燥抑制板Fとの対向を解除した直後から溶剤の揮発による乾燥が始まり、減圧乾燥が開始されるまでの間に溶剤がある程度揮発する。このとき、両端部は、基材B外から基材B上に流入する空気と揮発した溶剤とが混合し、溶剤蒸気が希釈されて溶剤揮発が早く進み、かつ、気流も乱れると考えられ、液面形状が安定しないと考えられる。そのため、両端部(0mm周辺および270mm周辺)において、狙い値に対してわずかに膜厚が減少すると考えられるが、比較形態例と比較して膜厚が狙い値に近い値となると考えられる。また、そのほかの位置でも、膜厚の狙い値に近い値となると考えられる。すなわち、実施形態例1は、比較形態例と比較して改善されると考えられる。 On the other hand, in the first embodiment (solid line) corresponding to the configuration according to the present embodiment, the drying by the volatilization of the solvent starts immediately after the opposition to the drying suppressing plate F is released, and the drying under reduced pressure is started. The solvent volatilizes to some extent. At this time, it is considered that the air flowing into the base material B from the outside of the base material B and the volatile solvent are mixed at both ends, the solvent vapor is diluted, the solvent volatilizes quickly, and the airflow is disturbed. It is considered that the liquid level shape is not stable. Therefore, it is considered that the film thickness is slightly reduced with respect to the target value at both ends (around 0 mm and around 270 mm), but the film thickness is considered to be closer to the target value as compared with the comparative form example. In addition, it is considered that the value close to the target value of the film thickness is also obtained at other positions. That is, it is considered that the first embodiment is improved as compared with the comparative embodiment.
また、本実施形態に係る構成に対応する実施形態例2(破線)では、両端部を含め全体にわたって、膜厚の狙い値に近い値で均一になると考えられる。すなわち、実施形態例2では、実施形態例1よりも更に膜形成の精度が向上すると考えられる。 Further, in the second embodiment (broken line) corresponding to the configuration according to the present embodiment, it is considered that the film thickness becomes uniform at a value close to the target value over the entire area including both ends. That is, it is considered that the accuracy of film formation is further improved in the second embodiment as compared with the first embodiment.
比較形態例では、インクの塗布工程~乾燥装置への搬送において、インクの乾燥が進み、膜厚減少が引き起こされると考えられる。一方、本実施形態に係る構成に対応する実施形態例1、および実施形態例2では、乾燥抑制板Fを基材Bに対向させて配置することで、乾燥抑制板Fと基材Bの間の空間内の蒸気圧が増加してインクの溶媒の蒸発が抑制される。そのため、基材B上に形成されたインクが均一な状態での膜厚にて乾燥装置内にて乾燥され、乾燥後の層の膜厚の均一性が向上する。 In the comparative form example, it is considered that the ink is dried and the film thickness is reduced in the process of applying the ink to the transfer to the drying device. On the other hand, in the first embodiment and the second embodiment corresponding to the configuration according to the present embodiment, the drying suppressing plate F is arranged so as to face the base material B between the drying suppressing plate F and the base material B. The vapor pressure in the space of the ink increases and the evaporation of the ink solvent is suppressed. Therefore, the ink formed on the base material B is dried in the drying apparatus with a uniform film thickness, and the uniformity of the film thickness of the dried layer is improved.
以上、本実施形態により、有機EL表示パネルの製造の際に、意図しないインクの乾燥を抑制し、基材上の場所によらず膜厚の均一性を向上させることが可能となる。また、複数のインク液滴にて基材上の層を形成する場合でも、各インク液滴の吐出タイミングの差に起因する乾燥の進行の差を抑制し、基材上の位置によらず膜層の均一化を図ることができる。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to suppress unintended drying of ink and improve the uniformity of the film thickness regardless of the location on the substrate when manufacturing the organic EL display panel. Further, even when a layer on the substrate is formed by a plurality of ink droplets, the difference in the progress of drying due to the difference in the ejection timing of each ink droplet is suppressed, and the film is formed regardless of the position on the substrate. The layers can be made uniform.
<その他の実施形態>
第1の実施形態では、図12や図13に示したように、インクの塗布後、基材B(ステージ40)の移動に伴って乾燥抑制板Fが連動して移動する構成を示した。乾燥抑制板Fの構成は上記に限定するものではなく、他の構成であってもよい。以下、本願発明に係る別の実施形態として別構成の例を説明する。
<Other embodiments>
In the first embodiment, as shown in FIGS. 12 and 13, after the ink is applied, the drying suppressing plate F moves in conjunction with the movement of the base material B (stage 40). The configuration of the drying suppression plate F is not limited to the above, and may be another configuration. Hereinafter, an example of another configuration will be described as another embodiment of the present invention.
図24は、乾燥抑制板Fの別の構成の例を示す図である。図12および図13では、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側では、基材Bの移動に伴って、乾燥抑制板Fも連動して移動する構成の例を示した。一方、図24は、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側において、基材Bの搬送経路に沿って、インク吐出ヘッド23の吐出面に隣接した位置から乾燥装置60への搬入位置直前まで乾燥抑制板Fが設置されている例を示している。そして、乾燥抑制板Fの端部の位置まで基材Bが搬送された後、搬入装置(不図示)により、基材Bは、乾燥装置60内へ搬入される。乾燥装置60に搬入された状態は、図12と同様であってよい。
FIG. 24 is a diagram showing an example of another configuration of the drying suppression plate F. 12 and 13 show an example of a configuration in which the drying suppression plate F moves in conjunction with the movement of the base material B on the downstream side in the transport direction (X-axis direction) from the
図25は、乾燥抑制板Fの別の構成の例を示す図である。図12および図13では、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側では、基材Bの移動に伴って、乾燥抑制板Fも連動して移動する構成の例を示した。一方、図25は、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側において、インク吐出ヘッド23の吐出面に隣接した位置から基材Bの搬送経路に沿って、乾燥抑制板Fが設置されている例を示している。更に、乾燥装置60への搬入位置直前の位置において、乾燥装置60へ搬入用の乾燥抑制板Faが設置されている。乾燥装置60への搬入位置直前の位置まで基材Bが搬送された後、搬入装置(不図示)により、基材Bは、乾燥抑制板Faと対向した状態で乾燥装置60内へ搬入される。このとき、乾燥抑制板Faと基材Bとの間の距離dは、乾燥抑制板Fと基材Bとの間の距離dと同様であるとする。乾燥装置60に搬入された状態は、図13と同様であってよく、この場合は、図19や図20にて説明したような構成にて乾燥動作が行われてよい。なお、乾燥抑制板Fと乾燥抑制板Faそれぞれの材質は同じであってもよいし、異なっていてもよい。
FIG. 25 is a diagram showing an example of another configuration of the drying suppression plate F. 12 and 13 show an example of a configuration in which the drying suppression plate F moves in conjunction with the movement of the base material B on the downstream side in the transport direction (X-axis direction) from the
なお、図25では、乾燥抑制板Fと乾燥抑制板Faは、ステージ40による基材Bの搬送中の移動には連動していない構成を示した。この構成に限らず、乾燥抑制板Fの一部(例えば、乾燥抑制板Fa)が図12などと同様に、基材Bの移動に連動してX軸方向に沿って移動するような構成であってもよい。または、基材Bの搬送方向(X軸方向)に沿って複数の部位から構成される乾燥抑制板Fを設置し、基材Bの移動に伴って乾燥抑制板Fを構成する各部位がリレー方式で順に切り替わりながら基材Bに対向するように連動してもよい。
Note that FIG. 25 shows a configuration in which the drying suppression plate F and the drying suppression plate Fa are not linked to the movement of the base material B during transportation by the
また、本願発明において、上述した1以上の実施形態の機能を実現するためのプログラムやアプリケーションを、ネットワーク又は記憶媒体等を用いてシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。 Further, in the present invention, one or more programs or applications for realizing the functions of the above-mentioned one or more embodiments are supplied to the system or device using a network or a storage medium, and the system or device is used in a computer. It can also be realized by the process of reading and executing the program by the processor of.
また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)やFPGA(Field Programmable Gate Array))によって実現してもよい。 Further, it may be realized by a circuit (for example, ASIC (Application Specific Integrated Circuit) or FPGA (Field Programmable Gate Array)) that realizes one or more functions.
このように、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本発明の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。 As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified or applied by those skilled in the art based on the mutual combination of the configurations of the embodiments, the description of the specification, and the well-known technique. It is also a matter of the present invention to do so, and it is included in the scope of seeking protection.
本願発明に係る有機ELパネルの製造装置、および有機ELパネルの製造方法は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの装置、表示パネルを有する様々な電子機器における表示パネル等の製造に広く利用することができる。また、インク塗布工程を用いて機能層を形成する工程を含む電子デバイスの製造等に広く活用することができる。 The organic EL panel manufacturing apparatus and the organic EL panel manufacturing method according to the present invention are widely used for manufacturing devices such as television sets, personal computers, mobile phones, and display panels in various electronic devices having display panels. can do. Further, it can be widely used for manufacturing electronic devices including a step of forming a functional layer by using an ink coating step.
1…インクジェット装置
10…X軸テーブル
11…Y軸テーブル
12…X軸ガイドレール
13…Y軸ガイドレール
20…キャリッジユニット
21…キャリッジ支持部
22…キャリッジ
23…インク吐出ヘッド
40…ステージ
41…ステージ回動機構
42…X軸スライダ
50…制御装置
60…乾燥装置
61…支持台
62…真空ポンプ
63…チャンバ
100…基板
119…画素電極
120…正孔注入層
121…正孔輸送層
122…バンク
123…発光層
124…電子輸送層
125…対向電極
126…封止層
127…接合層
128…カラーフィルタ層
130…上部基板
131…カラーフィルタ基板
201…ノズル孔
202…インク液滴
B…基材
F…乾燥抑制板
K…インク液滴
1 ...
Claims (19)
基板を移動させる搬送部と、
前記有機EL表示パネルの機能層を形成するためのインクを吐出するインク吐出ヘッドと、
前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置される乾燥抑制部材を備えることを特徴とする製造装置。 It is a manufacturing device for organic EL display panels.
A transport unit that moves the board,
An ink ejection head for ejecting ink for forming a functional layer of the organic EL display panel, and an ink ejection head.
A manufacturing apparatus comprising: a drying suppressing member arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
前記インクが吐出された前記基板を乾燥させる乾燥装置と
を備え、
前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から前記搬送部により前記乾燥装置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように対向して配置されることを特徴とする製造システム。 The manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7.
A drying device for drying the substrate on which the ink is discharged is provided.
The drying suppressing member is arranged so as to face each other so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range while being transported from a position adjacent to the ink ejection head to the drying device by the transport unit. A manufacturing system characterized by that.
前記インクが吐出された前記基板を乾燥させる乾燥装置と
を備え、
前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から前記搬送部により前記乾燥装置内の乾燥位置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように対向して配置されることを特徴とする製造システム。 The manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7.
A drying device for drying the substrate on which the ink is discharged is provided.
The drying suppressing member faces each other so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range while being transported from a position adjacent to the ink ejection head to a drying position in the drying device by the transport unit. A manufacturing system characterized by being placed in a row.
前記調整部は、乾燥時の気圧が所定の値にて、前記乾燥抑制部材と前記基板の表面との距離が所定の距離となるよう可動させて調整することを特徴とする請求項10に記載の製造システム。 The drying device is a vacuum dryer.
The tenth aspect of the present invention is characterized in that the adjusting unit is moved so that the air pressure at the time of drying is a predetermined value and the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate is a predetermined distance. Manufacturing system.
基板に、インク吐出ヘッドによりインクを吐出させて前記有機EL表示パネルの機能層を形成し、
乾燥抑制部材を前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置させることを特徴とする製造方法。 It is a manufacturing method of an organic EL display panel.
Ink is ejected onto the substrate by the ink ejection head to form the functional layer of the organic EL display panel.
A manufacturing method comprising arranging a drying suppressing member so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
前記乾燥工程に用いる前記乾燥装置内において、前記乾燥抑制部材と、前記基板の表面との距離を調整することを特徴とする請求項14または請求項15に記載の製造方法。 Has a drying process with a drying device,
The manufacturing method according to claim 14 or 15, wherein the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate is adjusted in the drying apparatus used in the drying step.
前記乾燥装置による乾燥動作の際に気圧が所定の値にて、前記乾燥抑制部材と前記基板の表面との距離が所定の距離となるよう可動させて調整することを特徴とする請求項16に記載の製造方法。 The drying device is a vacuum dryer.
The 16th aspect of the present invention is characterized in that, during a drying operation by the drying device, the atmospheric pressure is moved to a predetermined value and the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate is adjusted to be a predetermined distance. The manufacturing method described.
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