JP2022090638A - Manufacturing device for organic el display panel, manufacturing system, manufacturing method for organic el display panel, and organic el display panel - Google Patents

Manufacturing device for organic el display panel, manufacturing system, manufacturing method for organic el display panel, and organic el display panel Download PDF

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敏生 福田
Toshio Fukuda
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Abstract

To suppress unintended drying of ink and improve the uniformity of the film thickness of a coating film on a substrate when an organic EL display panel is manufactured.SOLUTION: A manufacturing device for an organic EL display panel includes a transport unit that moves a board, an ink ejection head that ejects ink for forming a functional layer of the organic EL display panel, and a drying suppressing member arranged to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.SELECTED DRAWING: Figure 12

Description

本願発明は、有機EL表示パネルの製造装置、製造システム、有機EL表示パネルの製造方法、および有機EL表示パネルに関する。 The present invention relates to an organic EL display panel manufacturing apparatus, a manufacturing system, an organic EL display panel manufacturing method, and an organic EL display panel.

従来、機能性材料を分散もしくは溶解したインクを使って基板上に所望のパターンを形成する装置として、インクを液滴にして吐出するインクジェット装置が知られている。インクジェット装置は、基板とインク吐出ヘッドとを相対的に移動させながら、インク吐出ヘッドから吐出されるインクの液滴を基板上の任意の箇所に配置することによりパターンを形成する。 Conventionally, as an apparatus for forming a desired pattern on a substrate by using ink in which a functional material is dispersed or dissolved, an inkjet apparatus for ejecting ink as droplets is known. The inkjet device forms a pattern by arranging droplets of ink ejected from the ink ejection head at an arbitrary position on the substrate while relatively moving the substrate and the ink ejection head.

近年では、インクジェット装置は、大画面カラーフィルタや有機EL(Electro-Luminescence)表示パネルの製造などに用いられている。有機EL表示パネルの製造工程の1つに有機EL膜の成膜工程があり、この工程においてインクジェット印刷技術が利用されている。このようなインクジェット方式を用いた成膜方法におけるウェットプロセスによれば、塗布膜を乾燥する工程において乾燥ムラが生じることがあり、均一な膜厚を得ることが難しい。要因の1つとして、溶解度を上げるために、塗布液の溶媒として揮発性の高い有機溶剤が用いられ、その結果、成膜途中から乾燥が進んでしまうことが挙げられる。 In recent years, inkjet devices have been used in the manufacture of large screen color filters and organic EL (Electro-Luminence) display panels. One of the manufacturing processes of the organic EL display panel is a film forming process of an organic EL film, and an inkjet printing technique is used in this process. According to the wet process in the film forming method using such an inkjet method, uneven drying may occur in the step of drying the coating film, and it is difficult to obtain a uniform film thickness. One of the factors is that a highly volatile organic solvent is used as a solvent for the coating liquid in order to increase the solubility, and as a result, drying proceeds from the middle of film formation.

従来、均一な乾燥を目的とした乾燥方法として、塗布膜面に凝縮板を対向させ、凝縮板により塗布膜中の溶媒を凝縮させる乾燥方法がある(例えば、特許文献1)。乾燥ムラは塗布直後に発生することが多く、初期段階での乾燥が乾燥の均一性に寄与するところが大きいことから、特許文献1では、塗布直後の乾燥の初期段階のみ凝縮板と塗布膜間の距離を小さくし、保持する乾燥方法が提案されている。また、特許文献2では、凝縮板の凝縮面と基板上の塗布膜面間の距離を一定値に保持する塗布膜の乾燥方法が提案されている。特許文献3では、基材上にインクジェット法にて塗布したのち、蓋状構造物にて基材の表面を覆い、溶媒の揮発を抑制して加熱乾燥させるためにホットプレート上に移動させることが開示されている。特許文献4では、カラーフィルタ用インクを基板上にインクジェットヘッドにて着色層領域に塗布したのち、着色層の上方をシートで覆い、溶媒の揮発を抑制することが開示されている。 Conventionally, as a drying method for the purpose of uniform drying, there is a drying method in which a condensing plate is opposed to a coating film surface and the solvent in the coating film is condensed by the condensing plate (for example, Patent Document 1). Drying unevenness often occurs immediately after coating, and drying in the initial stage contributes greatly to the uniformity of drying. Therefore, in Patent Document 1, only in the initial stage of drying immediately after coating, between the condenser plate and the coating film. A drying method has been proposed in which the distance is reduced and held. Further, Patent Document 2 proposes a method for drying a coating film in which the distance between the condensed surface of the condensed plate and the coating film surface on the substrate is maintained at a constant value. In Patent Document 3, after coating on a base material by an inkjet method, the surface of the base material is covered with a lid-like structure, and the solvent is moved onto a hot plate in order to suppress volatilization and heat-dry. It has been disclosed. Patent Document 4 discloses that after applying a color filter ink on a substrate with an inkjet head to a colored layer region, the upper part of the colored layer is covered with a sheet to suppress the volatilization of the solvent.

特開2011-25244号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-25244 特開2013-250002号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-250002 特開2004-253179号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-253179 特開2008-249986号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-249986

しかしながら、上記先行技術文献による凝縮板と塗布膜間の距離を保持する方法は、フィルムなどを対象にした塗布方法が非常に速い構成、および、一方向の塗布方法を想定している。そのため、上記先行技術文献の手法では、インクジェット方式のように塗布速度が比較的遅い、もしくは、塗布の際に複数回の走査を要するような場合においては、乾燥の均一性を十分に実現することはできない。有機EL素子等の電子デバイスの場合、塗布膜は非常に薄膜であり、また、形成時に乾燥しやすいという特性がある。有機EL素子等の電子デバイスがその機能を良好に発揮するために必要な膜厚の均一性を得るためには、塗布した直後からの乾燥抑制が必要となり、かつ、搬送工程の時間も乾燥が抑制されることが求められる。 However, the method of maintaining the distance between the condensing plate and the coating film according to the above-mentioned prior art document assumes a configuration in which the coating method for a film or the like is very fast and a one-way coating method. Therefore, in the method of the above-mentioned prior art document, when the coating speed is relatively slow as in the inkjet method, or when a plurality of scans are required for coating, the uniformity of drying is sufficiently realized. Can't. In the case of an electronic device such as an organic EL element, the coating film is a very thin film and has a characteristic of being easily dried at the time of formation. In order to obtain the uniformity of the film thickness required for an electronic device such as an organic EL element to exert its function well, it is necessary to suppress drying immediately after application, and the time of the transport process is also dried. It is required to be suppressed.

例えば、特許文献3では、急速固化させるためにホットプレートで加熱乾燥しており、ホットプレートによる急激な温度上昇によって乾燥が安定せず、膜厚が不均一になりやすいという問題点があった。また、特許文献4はカラーフィルタ製造に関する技術であり、膜厚や要求される制度が異なる有機EL表示素子の形成には用いられていなかった。 For example, Patent Document 3 has a problem that it is heated and dried on a hot plate in order to be rapidly solidified, and the drying is not stable due to a rapid temperature rise due to the hot plate, and the film thickness tends to be uneven. Further, Patent Document 4 is a technique related to manufacturing a color filter, and has not been used for forming an organic EL display element having a different film thickness and required system.

本願発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、有機EL表示パネルの製造の際に、意図しないインクの乾燥を抑制し、基板上の塗膜の膜厚の均一性を向上させることを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and suppresses unintended drying of ink during the manufacture of an organic EL display panel, and improves the uniformity of the film thickness of the coating film on the substrate. The purpose is.

上記課題を解決するために本願発明は以下の構成を有する。すなわち、有機EL表示パネルの製造装置であって、
基板を移動させる搬送部と、
前記有機EL表示パネルの機能層を形成するためのインクを吐出するインク吐出ヘッドと、
前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置される乾燥抑制部材を備える。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configurations. That is, it is a manufacturing device for an organic EL display panel.
A transport unit that moves the board,
An ink ejection head for ejecting ink for forming a functional layer of the organic EL display panel, and an ink ejection head.
A drying suppressing member is provided which is arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.

また、本願発明の別の形態は以下の構成を有する。すなわち、有機EL表示パネルの製造システムは、製造装置と、インクが吐出された基板を乾燥させる乾燥装置を備え、
前記製造装置は、
基板を移動させる搬送部と、
前記有機EL表示パネルの機能層を形成するためのインクを吐出するインク吐出ヘッドと、
前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置される乾燥抑制部材と
を備え、
前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から前記搬送部により前記乾燥装置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように対向して配置される。
In addition, another embodiment of the present invention has the following configuration. That is, the organic EL display panel manufacturing system includes a manufacturing device and a drying device for drying the substrate on which ink is discharged.
The manufacturing equipment is
A transport unit that moves the board,
An ink ejection head for ejecting ink for forming a functional layer of the organic EL display panel, and an ink ejection head.
It is provided with a drying suppressing member arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
The drying suppressing member is arranged so as to face each other so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range while being transported from a position adjacent to the ink ejection head to the drying device by the transport unit. ..

また、本願発明の別の形態は以下の構成を有する。すなわち、有機EL表示パネルの製造方法であって、
基板に、インク吐出ヘッドによりインクを吐出させて前記有機EL表示パネルの機能層を形成し、
乾燥抑制部材を前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置させる。
In addition, another embodiment of the present invention has the following configuration. That is, it is a method for manufacturing an organic EL display panel.
Ink is ejected onto the substrate by the ink ejection head to form the functional layer of the organic EL display panel.
The drying suppressing member is arranged so as to face the surface of the substrate on which the ink is ejected by the ink ejection head.

また、本願発明の別の形態は以下の構成を有する。すなわち、
基板に、インク吐出ヘッドによりインクを吐出させて前記有機EL表示パネルの機能層を形成し、
乾燥抑制部材を前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置させる、製造方法を用いて製造される有機EL表示パネル。
In addition, another embodiment of the present invention has the following configuration. That is,
Ink is ejected onto the substrate by the ink ejection head to form the functional layer of the organic EL display panel.
An organic EL display panel manufactured by a manufacturing method in which a drying suppressing member is arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.

本願発明により、有機EL表示パネルの製造の際に、意図しないインクの乾燥を抑制し、基板上の膜厚の均一性を向上させることが可能となる。 According to the present invention, it is possible to suppress unintended drying of ink and improve the uniformity of the film thickness on the substrate when manufacturing an organic EL display panel.

本願発明の一実施形態に係るインクジェット装置の構成例を示す概略図。The schematic diagram which shows the structural example of the inkjet apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインクジェット装置の構成例を示す概略図。The schematic diagram which shows the structural example of the inkjet apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる吐出を説明するための図。The figure for demonstrating the ejection by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る乾燥装置の構成例を示す概略図。The schematic diagram which shows the structural example of the drying apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる層形成時の動作を説明するための図。The figure for demonstrating the operation at the time of layer formation by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる層形成時の動作を説明するための図。The figure for demonstrating the operation at the time of layer formation by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる層形成時の動作を説明するための図。The figure for demonstrating the operation at the time of layer formation by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる層形成時の動作を説明するための図。The figure for demonstrating the operation at the time of layer formation by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる層形成時の動作を説明するための図。The figure for demonstrating the operation at the time of layer formation by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる層形成時の動作を説明するための図。The figure for demonstrating the operation at the time of layer formation by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係るインク吐出ヘッドによる層形成時の動作を説明するための図。The figure for demonstrating the operation at the time of layer formation by the ink ejection head which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る層形成後の基材の搬送動作を説明するための図。The figure for demonstrating the transport operation of the base material after layer formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る層形成後の基材の搬送動作を説明するための図。The figure for demonstrating the transport operation of the base material after layer formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る表示パネルの構成例を示す平面図。The plan view which shows the structural example of the display panel which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る表示パネルの構成例を示す平面図。The plan view which shows the structural example of the display panel which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る表示パネルの構成例を示す断面図。The cross-sectional view which shows the structural example of the display panel which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る表示パネルの製造処理のフローチャート。The flowchart of the manufacturing process of the display panel which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る層形成処理のフローチャート。The flowchart of the layer forming process which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る乾燥装置の構成例を示す概略図。The schematic diagram which shows the structural example of the drying apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る乾燥処理のフローチャート。The flowchart of the drying process which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る乾燥処理における気圧の変化を説明するためのグラフ図。The graph for demonstrating the change of the atmospheric pressure in the drying process which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る試験を説明するための図。The figure for demonstrating the test which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明の一実施形態に係る効果を説明するためのグラフ図。The graph for demonstrating the effect which concerns on one Embodiment of this invention. 本願発明のその他の実施形態に係る乾燥抑制板の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the drying | drying suppressing plate which concerns on other embodiment of this invention. 本願発明のその他の実施形態に係る乾燥抑制板の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the drying | drying suppressing plate which concerns on other embodiment of this invention.

以下、本願発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本願発明を説明するための一実施形態であり、本願発明を限定して解釈されることを意図するものではなく、また、各実施形態で説明されている全ての構成が本願発明の課題を解決するために必須の構成であるとは限らない。また、各図面において、同じ構成要素については、同じ参照番号を付すことにより対応関係を示す。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings and the like. It should be noted that the embodiments described below are embodiments for explaining the invention of the present application, and are not intended to be interpreted in a limited manner, and are described in each embodiment. Not all configurations are essential configurations for solving the problems of the present invention. Further, in each drawing, the same reference number is assigned to the same component to show the correspondence.

<第1の実施形態>
[装置構成]
本願発明の一実施形態に係る有機EL表示パネルの製造装置として動作するインクジェット装置の構成の例について、図1および図2を参照して説明する。図1は、本実施形態に係るインクジェット装置1の構成の概略を模式的に示す側面図である。図2は、本実施形態に係るインクジェット装置1の構成の概略を模式的に示す平面図である。以下においては、ステージ40の主走査方向(すなわち、基材の搬送方向)をX軸方向とし、主走査方向に直交する副走査方向をY軸方向とし、X軸方向およびY軸方向に直交する鉛直方向をZ軸方向とする。更に、Z軸方向回りの回動方向をθ方向とする。各図において、各軸方向は対応しているものとして説明する。
<First Embodiment>
[Device configuration]
An example of the configuration of an inkjet device that operates as a manufacturing device for an organic EL display panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a side view schematically showing an outline of the configuration of the inkjet device 1 according to the present embodiment. FIG. 2 is a plan view schematically showing an outline of the configuration of the inkjet device 1 according to the present embodiment. In the following, the main scanning direction of the stage 40 (that is, the transport direction of the base material) is the X-axis direction, the sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction is the Y-axis direction, and the X-axis direction and the Y-axis direction are orthogonal to each other. The vertical direction is the Z-axis direction. Further, the rotation direction around the Z-axis direction is set to the θ direction. In each figure, it is assumed that each axial direction corresponds to each other.

インクジェット装置1は、主走査方向(X軸方向)に延在するX軸テーブル10と、X軸テーブル10を跨ぐように架け渡され、副走査方向(Y軸方向)に延在する一対のY軸テーブル11とを有する。X軸テーブル10の上面には、一対のX軸ガイドレール12がX軸方向に延伸して設けられ、X軸ガイドレール12には、X軸リニアモータ(不図示)が設けられている。Y軸テーブル11の上面には、Y軸ガイドレール13がY軸方向に延伸して設けられ、Y軸ガイドレール13には、Y軸リニアモータ(不図示)が設けられている。一対のY軸テーブル11には、キャリッジユニット20が設けられている。 The inkjet device 1 spans an X-axis table 10 extending in the main scanning direction (X-axis direction) and a pair of Ys extending in the sub-scanning direction (Y-axis direction) so as to straddle the X-axis table 10. It has an axis table 11. A pair of X-axis guide rails 12 are provided on the upper surface of the X-axis table 10 so as to extend in the X-axis direction, and an X-axis linear motor (not shown) is provided on the X-axis guide rail 12. A Y-axis guide rail 13 is provided on the upper surface of the Y-axis table 11 so as to extend in the Y-axis direction, and a Y-axis linear motor (not shown) is provided on the Y-axis guide rail 13. A carriage unit 20 is provided on the pair of Y-axis tables 11.

なお、以下の説明では、図1や図2において基材Bが位置している側を、基材Bの搬送方向(X軸方向)の上流側とし、インク吐出ヘッド23に向かって下流側として示す。また、[装置構成]の以降の各装置、動作の説明における基材Bは、後述の有機EL表示パネル製造においては、基板としてよい。すなわち、後述の有機ELパネルの製造においては、基材Bを基板と読み替えることができる。 In the following description, the side where the base material B is located in FIGS. 1 and 2 is defined as the upstream side in the transport direction (X-axis direction) of the base material B, and the downstream side toward the ink ejection head 23. show. Further, the base material B in the description of each device and operation after [device configuration] may be used as a substrate in the production of the organic EL display panel described later. That is, in the production of the organic EL panel described later, the base material B can be read as a substrate.

(キャリッジユニット)
キャリッジユニット20は、キャリッジ支持部21、キャリッジ22、およびインク吐出ヘッド23を含んで構成される。キャリッジユニット20の下面には、吐出されるインクの種類に対応して1または複数のキャリッジ22、および1または複数のインク吐出ヘッド23が備えられる。本実施形態では、例えばY軸方向に基板幅に対応したラインヘッド方式の構成を有するインク吐出ヘッド23が複数設けられている。インク吐出ヘッド23の下面、すなわちインクの吐出面には複数のノズルが形成され、ノズルからインクの液滴が吐出される。例えば、R(Red)、G(Green)、B(Blue)の3色に対応した3種類のインクを吐出する場合には、3列のインク吐出ヘッド23が設けられる。なお、インクジェット装置1が対応可能なインクの種類数は、特に限定するものではなく、製造物の構成に応じて増減してよい。また、キャリッジユニット20には、インクを供給するための供給部(不図示)が接続され、適時インクの供給が行われる。
(Carriage unit)
The carriage unit 20 includes a carriage support portion 21, a carriage 22, and an ink ejection head 23. The lower surface of the carriage unit 20 is provided with one or more carriages 22 and one or more ink ejection heads 23, depending on the type of ink ejected. In the present embodiment, for example, a plurality of ink ejection heads 23 having a line head system configuration corresponding to the substrate width in the Y-axis direction are provided. A plurality of nozzles are formed on the lower surface of the ink ejection head 23, that is, the ink ejection surface, and ink droplets are ejected from the nozzles. For example, when ejecting three types of ink corresponding to three colors of R (Red), G (Green), and B (Blue), three rows of ink ejection heads 23 are provided. The number of types of ink that the inkjet device 1 can handle is not particularly limited, and may be increased or decreased depending on the configuration of the product. Further, a supply unit (not shown) for supplying ink is connected to the carriage unit 20, and ink is supplied in a timely manner.

キャリッジ支持部21は、Y軸ガイドレール13に取り付けられ、Y軸ガイドレール13に設けられたY軸リニアモータ(不図示)によってY軸方向に移動自在に構成される。例えば、キャリッジユニット20は、インクの吐出時には図2に示すようにX軸テーブル10上に位置するように移動し、インク吐出ヘッド23のクリーニング時にはY軸ガイドレール13に沿って退避位置へ移動し、クリーニング動作を行うような構成であってもよい。クリーニング動作としては、インクの予備吐出やインク吐出ヘッド23の吐出面のワイピングなどが挙げられる。 The carriage support portion 21 is attached to the Y-axis guide rail 13 and is configured to be movable in the Y-axis direction by a Y-axis linear motor (not shown) provided on the Y-axis guide rail 13. For example, the carriage unit 20 moves so as to be located on the X-axis table 10 as shown in FIG. 2 when the ink is ejected, and moves to the retracted position along the Y-axis guide rail 13 when the ink ejection head 23 is cleaned. , It may be configured to perform a cleaning operation. Examples of the cleaning operation include preliminary ejection of ink and wiping of the ejection surface of the ink ejection head 23.

(乾燥抑制部材)
また、インク吐出ヘッド23の周辺には、基材Bに塗布されたインクの乾燥を抑制するための乾燥抑制部材が設置される。乾燥抑制部材は、乾燥抑制部材の下面が少なくとも基材B上のインクが塗布された領域全てを覆う様に、少なくとも基材B上のインクが塗布された領域に対向して配置される。このように乾燥抑制部材を配置することにより、乾燥抑制部材の下面と基材Bの上面(インクの塗布面)との間にインクから揮発した溶剤が充満し、基材B上に塗布されたインクに含まれる溶剤の揮発が抑制され、乾燥を抑制することができると考えられる。図2では板状の乾燥抑制部材として乾燥抑制板Fが配置されているが、乾燥抑制部材は、基材B上のインクが塗布された領域を全て覆う様に対向する面を有すればよく、板状に限定されるものではない。乾燥抑制部材は、軽量であること及び、薄いことで後述する乾燥装置などの次工程のチャンバ内に移動させやすいことから、板状であることが好ましい。
(Drying suppression member)
Further, a drying suppressing member for suppressing the drying of the ink applied to the base material B is installed around the ink ejection head 23. The drying suppressing member is arranged so as to face at least the ink-coated region on the base material B so that the lower surface of the drying suppressing member covers at least the entire ink-coated region on the base material B. By arranging the drying suppressing member in this way, the solvent volatilized from the ink was filled between the lower surface of the drying suppressing member and the upper surface of the base material B (the surface on which the ink was applied), and the solvent was applied onto the base material B. It is considered that the volatilization of the solvent contained in the ink is suppressed and the drying can be suppressed. In FIG. 2, the drying suppressing plate F is arranged as a plate-shaped drying suppressing member, but the drying suppressing member may have a facing surface so as to cover the entire area on the base material B to which the ink is applied. , It is not limited to a plate shape. The drying suppressing member is preferably plate-shaped because it is lightweight and easy to move into the chamber of the next step such as a drying device described later because it is thin.

また、乾燥抑制板Fの材質は特に限定するものでは無いが、少なくとも有機EL表示パネルを形成するために用いられるインクに含まれる有機溶剤に対して耐性を有するものが望ましい。例えば、乾燥抑制板Fに用いられる材質としては、ステンレス材などが挙げられる。また、本実施形態では、乾燥抑制部材として板状のものを例に挙げて説明するが、形状についても特に限定するものではない。 The material of the drying suppressing plate F is not particularly limited, but at least one having resistance to the organic solvent contained in the ink used for forming the organic EL display panel is desirable. For example, examples of the material used for the drying suppression plate F include a stainless steel material. Further, in the present embodiment, a plate-shaped member as an example of the drying suppressing member will be described as an example, but the shape is not particularly limited.

本実施形態において、乾燥抑制板Fは、基材上に吐出されたインクの乾燥を抑制するため、インク吐出ヘッド23に隣接した位置に設置される。ここでの設置位置は、インクが吐出された基材Bが移動する方向であって、基材B上のインクが塗布された全領域を覆って基材Bに対向する位置とする。図1では、基材Bを移動させるステージ40の移動方向(X軸方向)において、インク吐出ヘッド23を基準として下流側と上流側それぞれに設置した例を示している。図2では、ステージ40の移動方向(X軸方向)において、インク吐出ヘッド23の上流側に設置した乾燥抑制板Fは省略しているが、図1と同様に設置されているものとする。乾燥抑制板Fの配置や動作の詳細については、後述する。 In the present embodiment, the drying suppression plate F is installed at a position adjacent to the ink ejection head 23 in order to suppress the drying of the ink ejected on the base material. The installation position here is a position in which the base material B on which the ink is ejected moves, and covers the entire area on the base material B to which the ink is applied and faces the base material B. FIG. 1 shows an example in which the stage 40 for moving the base material B is installed on the downstream side and the upstream side with the ink ejection head 23 as a reference in the moving direction (X-axis direction). In FIG. 2, the drying suppression plate F installed on the upstream side of the ink ejection head 23 is omitted in the moving direction (X-axis direction) of the stage 40, but it is assumed that the stage 40 is installed in the same manner as in FIG. Details of the arrangement and operation of the drying suppression plate F will be described later.

図3は、インク吐出ヘッド23よりインク液滴202が吐出される状況を模式的に示す図である。本実施形態に係るインク吐出ヘッド23は、ピエゾ方式を用いた例を示す。ピエゾ方式では、インク吐出ヘッド23内部にある圧電素子(不図示)に駆動電圧を与えることで圧電素子を伸び縮みさせて、ノズル孔201と呼ばれる細孔より所定の量のインク液滴202を吐出させる。吐出されたインク液滴202は、ステージ40に配置された基材B上に着弾する。なお、ノズル孔201の配置や数は特に限定するものではなく、図3に示す例に限定するものではない。 FIG. 3 is a diagram schematically showing a situation in which ink droplets 202 are ejected from the ink ejection head 23. The ink ejection head 23 according to the present embodiment shows an example using the piezo method. In the piezo method, a drive voltage is applied to a piezoelectric element (not shown) inside the ink ejection head 23 to expand and contract the piezoelectric element, and a predetermined amount of ink droplet 202 is ejected from a pore called a nozzle hole 201. Let me. The ejected ink droplet 202 lands on the base material B arranged on the stage 40. The arrangement and number of the nozzle holes 201 are not particularly limited, and are not limited to the example shown in FIG.

(ステージ)
ステージ40は、例えば、真空吸着ステージであり、基材Bを吸着して固定することができる。ステージ40は、ステージ40の下面側に設けられたステージ回動機構41によって、Z軸周りのθ方向に回動自在に支持される。ステージ回動機構41は、ステージ回動機構41の下面側に設けられたX軸スライダ42に支持される。X軸スライダ42は、X軸ガイドレール12に取り付けられ、X軸ガイドレール12に設けられたX軸リニアモータ(不図示)によってX軸方向に移動自在に構成される。ステージ40がX軸方向に移動することにより、ステージ40に吸着された基材BをX軸方向に搬送することができる。
(stage)
The stage 40 is, for example, a vacuum suction stage, and can suck and fix the base material B. The stage 40 is rotatably supported in the θ direction around the Z axis by a stage rotation mechanism 41 provided on the lower surface side of the stage 40. The stage rotation mechanism 41 is supported by an X-axis slider 42 provided on the lower surface side of the stage rotation mechanism 41. The X-axis slider 42 is attached to the X-axis guide rail 12, and is configured to be movable in the X-axis direction by an X-axis linear motor (not shown) provided on the X-axis guide rail 12. By moving the stage 40 in the X-axis direction, the base material B adsorbed on the stage 40 can be conveyed in the X-axis direction.

なお、詳細については後述するが、本実施形態に係るインクジェット装置1を用いて製造可能な表示パネルは、複数の層から構成される。これらの層には、インクジェット方式により形成可能な1または複数の層が含まれる。したがって、これらの層それぞれを形成する場合、図1や図2に示した構成を複数設けて適用することができる。 Although details will be described later, the display panel that can be manufactured by using the inkjet device 1 according to the present embodiment is composed of a plurality of layers. These layers include one or more layers that can be formed by an inkjet method. Therefore, when forming each of these layers, a plurality of configurations shown in FIGS. 1 and 2 can be provided and applied.

(制御装置)
インクジェット装置1は、制御装置50を備える。制御装置50は、例えば、不図示の制御部、記憶部、および出力部を含んで構成される情報処理装置にて実現されてよい。制御部は、CPU(Central Processing Unit)、MPU(Micro Processing Unit)、DSP(Digital Single Processor)、または専用回路などから構成されてよい。記憶部は、HDD(Hard Disk Drive)、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などの揮発性や不揮発性の記憶媒体により構成され、制御部からの指示により各種情報の入出力が可能である。また、記憶部は、本実施形態に係る処理を実現するためのプログラムを格納する。出力部は、スピーカやライト、或いは液晶ディスプレイなどの表示デバイスなどから構成され、制御部からの指示により、各種出力を行う。出力装置による出力方法は特に限定するものではないが、例えば、画面出力による視覚的な出力であってもよい。また、出力部は、通信機能を備えたネットワークインターフェースであってもよく、ネットワーク(不図示)を介した外部装置(不図示)へのデータ送信により出力動作を行ってもよい。
(Control device)
The inkjet device 1 includes a control device 50. The control device 50 may be realized by, for example, an information processing device including a control unit, a storage unit, and an output unit (not shown). The control unit may be composed of a CPU (Central Processing Unit), an MPU (Micro Processing Unit), a DSP (Digital Single Processor), a dedicated circuit, or the like. The storage unit is composed of volatile and non-volatile storage media such as HDD (Hard Disk Drive), ROM (Read Only Memory) and RAM (Random Access Memory), and various information can be input and output according to instructions from the control unit. It is possible. Further, the storage unit stores a program for realizing the process according to the present embodiment. The output unit is composed of a speaker, a light, a display device such as a liquid crystal display, or the like, and performs various outputs according to instructions from the control unit. The output method by the output device is not particularly limited, but may be, for example, a visual output by screen output. Further, the output unit may be a network interface having a communication function, and may perform an output operation by transmitting data to an external device (not shown) via a network (not shown).

制御装置50は、例えば、上述したステージ40やキャリッジユニット20の位置制御や、インク吐出ヘッド23によるインクの吐出制御を統括的に行う。インクの吐出においては、制御装置50は、形成する画素パターンに応じて、その制御信号をインク吐出ヘッド23へ出力する。そのほか、制御装置50は、表示パネルDを生成するための各種制御を行う。本実施形態では、表示パネルDとして有機EL表示パネルを例に挙げて説明する。 The control device 50 comprehensively controls, for example, the positions of the stage 40 and the carriage unit 20 described above, and the ink ejection control by the ink ejection head 23. In ink ejection, the control device 50 outputs the control signal to the ink ejection head 23 according to the formed pixel pattern. In addition, the control device 50 performs various controls for generating the display panel D. In the present embodiment, an organic EL display panel will be described as an example of the display panel D.

(乾燥装置)
次に、本実施形態に係る表示パネルDの製造に用いる乾燥装置60の構成について説明する。図4は、本実施形態に係る乾燥工程にて用いられる乾燥装置60の構成例を示す概略図であり、ここでは、減圧による乾燥を行う減圧乾燥機を用いるものとする。乾燥対象である基材Bが乾燥装置60のチャンバ63内に搬入され、支持台61に設置される。その後、乾燥装置60は、真空ポンプ62を稼働させることにより、チャンバ63内の気圧を低減させ、乾燥を行わせる。図4内の矢印は、減圧に伴う気体(蒸気)の流れを示している。本実施形態に係る乾燥装置60の動作の詳細は、フローチャートと併せて後述する。なお、乾燥装置60は、本実施形態に係る有機EL表示パネルの製造システムの一部として設けられてもよいし、別個の装置として設けられてもよい。
(Drying device)
Next, the configuration of the drying device 60 used for manufacturing the display panel D according to the present embodiment will be described. FIG. 4 is a schematic view showing a configuration example of the drying device 60 used in the drying step according to the present embodiment, and here, it is assumed that a vacuum dryer that performs drying by reduced pressure is used. The base material B to be dried is carried into the chamber 63 of the drying device 60 and installed on the support table 61. After that, the drying device 60 reduces the air pressure in the chamber 63 by operating the vacuum pump 62 to perform drying. The arrows in FIG. 4 indicate the flow of gas (steam) with depressurization. The details of the operation of the drying device 60 according to the present embodiment will be described later together with the flowchart. The drying device 60 may be provided as a part of the organic EL display panel manufacturing system according to the present embodiment, or may be provided as a separate device.

また、減圧乾燥機は、減圧下で加熱しないことが好ましいと考えられる。この理由は、加熱によってインクからの溶剤の揮発が激しくなり、不安定となることで、表示パネルの面内の膜厚が不均一になりやすいと考えられるためである。ここでの加熱とは、減圧乾燥機内で、基材の温度を上昇させる目的の加熱機構によって加熱することを意味する。 Further, it is considered preferable that the vacuum dryer is not heated under reduced pressure. The reason for this is that the solvent in the ink volatilizes violently due to heating and becomes unstable, so that the film thickness in the surface of the display panel tends to be non-uniform. The heating here means heating in a vacuum dryer by a heating mechanism for the purpose of raising the temperature of the base material.

(インク)
本実施形態に係る有機EL表示パネルを構成する層を形成するためのインクは、機能性材料を含む溶質と、有機溶剤を含む溶媒とから構成されている。機能性材料は、有機EL表示パネルを構成する層において、インクジェット方式により形成する層の機能を実現するためのものである。有機溶剤は、機能性材料を含む溶質が溶解もしくは分散可能な有機溶媒であることが必要である。
(ink)
The ink for forming the layer constituting the organic EL display panel according to the present embodiment is composed of a solute containing a functional material and a solvent containing an organic solvent. The functional material is for realizing the function of the layer formed by the inkjet method in the layer constituting the organic EL display panel. The organic solvent needs to be an organic solvent in which a solute containing a functional material can be dissolved or dispersed.

また、インク組成物は、上記の有機溶媒以外には、表面調整用として界面活性剤、インク組成物の保存安定用として紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤などの添加剤を適宜含有させてもよい。 In addition to the above-mentioned organic solvent, the ink composition appropriately contains additives such as a surfactant for surface adjustment and an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and an antioxidant for stabilizing the storage of the ink composition. You may.

[層形成動作]
次に、本実施形態に係るインクジェット装置1を用いて有機EL表示パネルの層を形成する際の動作について図5~図13を用いて説明する。図5は、基材Bがインク吐出ヘッド23の直下に向けて搬送される状態を示す図である。なお、ステージ40は、所定の開始位置へ制御された上で基材Bの装着が行われる。ここでは、ステージ40への基材Bの装着位置は、図1に示した位置であるものとする。また、インク吐出ヘッド23についても、図2に示すように、基材Bの搬送経路上に位置しているものとする。なお、ステージ40への基材Bの装着は、別途設けられる装着装置(不図示)などを用いて行われてよい。また、本実施形態では、基材Bのサイズとして370mm×470mmを想定して説明するがこれに限定するものではない。
[Layer formation operation]
Next, the operation when forming the layer of the organic EL display panel by using the inkjet device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 5 to 13. FIG. 5 is a diagram showing a state in which the base material B is conveyed directly below the ink ejection head 23. The stage 40 is controlled to a predetermined start position, and then the base material B is mounted. Here, it is assumed that the mounting position of the base material B on the stage 40 is the position shown in FIG. Further, it is assumed that the ink ejection head 23 is also located on the transport path of the base material B as shown in FIG. The base material B may be mounted on the stage 40 by using a mounting device (not shown) provided separately. Further, in the present embodiment, the size of the base material B is assumed to be 370 mm × 470 mm, but the description is not limited to this.

図6は、インク吐出ヘッド23による基材Bに対するインクの塗布開始位置を示す図である。基材Bのインクの塗布位置の端部が、複数のインク吐出ヘッド23のうちの最も上流側のインク吐出ヘッド23の直下に位置している。 FIG. 6 is a diagram showing an ink application start position on the base material B by the ink ejection head 23. The end of the ink application position of the base material B is located directly below the ink ejection head 23 on the most upstream side of the plurality of ink ejection heads 23.

図7は、インクの塗布が開始された状態を示す。インク吐出ヘッド23からインク液滴202が吐出され、基材B上にインク液滴Kが塗布される。ここでは、基材Bに着弾後のインク液滴をKとして示す。また、本実施形態では、図1に示すように基材Bの全面がインク吐出ヘッド23の下方を通過するように構成されている。インクが吐出されている間もステージ40は稼働し、これにより基材Bは適時移動する。なお、本実施形態では、説明を簡単にするため、着弾後のインク液滴Kを個別に示しているが、実際には、1のインク液滴202に限らず、複数のインク液滴202により層が所定の厚みにて均一化されて形成する。なお、図では、液滴Kを平坦な基材B上に吐出した場合について、模式的に説明したが、このような条件に限定されない。実際のパネル製造において、後述のバンク付き基材のバンクで区画された領域内にインクを吐出する場合も同様である。 FIG. 7 shows a state in which the application of ink has started. The ink droplet 202 is ejected from the ink ejection head 23, and the ink droplet K is applied onto the base material B. Here, the ink droplet after landing on the base material B is shown as K. Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, the entire surface of the base material B is configured to pass below the ink ejection head 23. The stage 40 operates while the ink is being ejected, whereby the base material B moves in a timely manner. In this embodiment, the ink droplets K after landing are individually shown for the sake of simplicity, but in reality, the ink droplets 202 are not limited to one ink droplet 202, and a plurality of ink droplets 202 are used. The layers are homogenized to form a predetermined thickness. In the figure, the case where the droplet K is ejected onto the flat base material B has been schematically described, but the condition is not limited to such a condition. The same applies to the case where ink is ejected into a region partitioned by a bank of a base material with a bank, which will be described later, in actual panel manufacturing.

図8は、1回の走査によるインクの塗布動作でインク液滴Kが形成された基材Bの位置を示す。必要に応じて、X軸方向に沿って基材Bの往復動作(往復移動)を行わせ、更に基材B上にインクの塗布を行わせる。図9~図11は、往復動作およびその結果として形成された基材Bの状態を示している。 FIG. 8 shows the position of the base material B on which the ink droplet K is formed by the ink application operation by one scanning. If necessary, the base material B is reciprocated (reciprocated) along the X-axis direction, and ink is further applied onto the base material B. 9 to 11 show the reciprocating motion and the state of the base material B formed as a result.

図5~図11に示すように、本実施形態では、インクの塗布動作が行われている際の基材Bの移動範囲を包含する位置に、乾燥抑制板Fが対向するように設置される。これにより、乾燥抑制板Fは、少なくとも基材B上のインクが塗布された領域全てを覆うことになる。なお、上記の例では、基材BはX軸方向に沿って移動する構成を示している。例えば、インク吐出ヘッド23の直下の位置などにおいて、インク吐出ヘッド23や基材BがY軸方向に沿って移動しながらインクの塗布を行うような構成である場合には、その際に基材Bの位置する範囲に対向するように乾燥抑制板Fが設置されてよい。すなわち、基材Bの位置する方向であるY軸方向の範囲である、図2におけるキャリッジ22、図示されているキャリッジ22の下流側の乾燥抑制板F、及び図示されていないキャリッジ22の上流側の乾燥抑制板Fの3つの部材全てのY軸方向の位置に隣接する様に、基材Bに対向する様に乾燥抑制板Fが設置されることで、乾燥抑制板Fは、少なくとも基材B上のインクが塗布された領域全てを覆うことができ、好ましい。 As shown in FIGS. 5 to 11, in the present embodiment, the drying suppressing plate F is installed so as to face each other at a position including the moving range of the base material B when the ink coating operation is performed. .. As a result, the drying suppression plate F covers at least the entire area on the base material B to which the ink is applied. In the above example, the base material B shows a configuration in which the base material B moves along the X-axis direction. For example, if the ink ejection head 23 and the base material B are configured to apply ink while moving along the Y-axis direction at a position directly below the ink ejection head 23, the base material is applied at that time. The drying suppression plate F may be installed so as to face the range where B is located. That is, the carriage 22 in FIG. 2, the drying suppression plate F on the downstream side of the carriage 22 shown, and the upstream side of the carriage 22 not shown, which is the range in the Y-axis direction in which the base material B is located. By installing the drying suppression plate F so as to face the base material B so as to be adjacent to the positions of all three members of the drying suppression plate F in the Y-axis direction, the drying suppression plate F can be at least the base material. It is preferable because it can cover the entire area on B where the ink is applied.

また、本実施形態では、図5に示すように、乾燥抑制板Fの下面と基材Bの上面(インクの塗布面)との間の距離dが一定の範囲内となるように、乾燥抑制板Fが設置される。ここでの距離dは、特に限定されるものでは無いが、インクの組成や乾燥の特性に応じて規定されるものとする。本実施形態では、距離dを5~10mmを想定しており、以下では、5mmとして説明する。また、この距離dは、インクの塗布の開始から後述する乾燥装置60への搬入までは少なくとも維持されるものとする。 Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 5, drying suppression is performed so that the distance d between the lower surface of the drying suppression plate F and the upper surface (ink coated surface) of the base material B is within a certain range. The plate F is installed. The distance d here is not particularly limited, but is defined according to the composition of the ink and the characteristics of drying. In the present embodiment, the distance d is assumed to be 5 to 10 mm, and will be described below as 5 mm. Further, this distance d is assumed to be maintained at least from the start of ink application to the delivery to the drying device 60 described later.

なお、図5~図11では、Z軸方向において、乾燥抑制板Fの下面とインク吐出ヘッド23の吐出面とが同じ位置になるような例を示したがこれに限定するものではない。例えば、乾燥抑制板Fの下面が、インク吐出ヘッド23の吐出面よりも基材Bにより近くなるように配置されてもよい。各面の高さは、インクの乾燥の特性やインクの塗布時の利便性などに応じて調整されてよい。 Note that FIGS. 5 to 11 show an example in which the lower surface of the drying suppression plate F and the ejection surface of the ink ejection head 23 are at the same position in the Z-axis direction, but the present invention is not limited to this. For example, the lower surface of the drying suppression plate F may be arranged so as to be closer to the base material B than the ejection surface of the ink ejection head 23. The height of each surface may be adjusted according to the drying characteristics of the ink, the convenience of applying the ink, and the like.

(搬送部)
次に、インク液滴Kが吐出された基材Bを乾燥させるための乾燥装置60への搬送について説明する。本実施形態に係る乾燥抑制板Fは、図5~図11に示すように、インクの塗布時にはインク吐出ヘッド23に隣接した位置に配置される。インクの塗布動作の後、図12に示すように、基材Bが乾燥装置60に搬送される。その際に、基材B(ステージ40)の移動に伴って、乾燥抑制板Fも基材Bに対向した状態で移動される。このとき、基材Bおよび乾燥抑制板Fは、搬送部(不図示)によって搬送される。すなわち、搬送部は、基材Bおよび乾燥抑制板Fを搬送するように構成された機構である。その後、基材Bは、乾燥装置60内に搬入され、乾燥装置60により乾燥工程が実施される。乾燥装置60内への基材Bの搬入は、搬送部によりそのまま行われてもよいし、別途設けられる搬入装置(不図示)などを用いて行われてよい。
(Transport section)
Next, the transfer to the drying device 60 for drying the base material B on which the ink droplets K are ejected will be described. As shown in FIGS. 5 to 11, the drying suppression plate F according to the present embodiment is arranged at a position adjacent to the ink ejection head 23 when the ink is applied. After the ink application operation, the base material B is transferred to the drying device 60 as shown in FIG. At that time, as the base material B (stage 40) moves, the drying suppression plate F is also moved in a state of facing the base material B. At this time, the base material B and the drying suppression plate F are transported by a transport unit (not shown). That is, the transport unit is a mechanism configured to transport the base material B and the drying suppression plate F. After that, the base material B is carried into the drying device 60, and the drying step is carried out by the drying device 60. The base material B may be carried into the drying device 60 as it is by the transport unit, or may be carried out by using a separately provided carry-in device (not shown) or the like.

本実施形態では、2つの搬入構成の例を示す。図12は、基材Bのみを乾燥装置60に搬入した場合の概略図を示す。この場合、乾燥装置60に搬入される直前まで、基材Bと乾燥抑制板Fとは距離dにて対向した状態で維持される。そして、基材Bのみが、乾燥装置60内に搬入され、乾燥装置60内の支持台61に設置される。 In this embodiment, an example of two carry-in configurations is shown. FIG. 12 shows a schematic view when only the base material B is carried into the drying apparatus 60. In this case, the base material B and the drying suppressing plate F are maintained in a state of facing each other at a distance d until immediately before being carried into the drying device 60. Then, only the base material B is carried into the drying device 60 and installed on the support 61 in the drying device 60.

図13は、基材Bと乾燥抑制板Fとを乾燥装置60に搬入した場合の概略図を示す。この場合、基材Bと乾燥抑制板Fとは距離dにて対向した状態で維持されて乾燥装置60に搬入される。そして、基材Bと乾燥抑制板Fは、対向した状態で乾燥装置60内の支持台61上に設置される。 FIG. 13 shows a schematic view when the base material B and the drying suppression plate F are carried into the drying apparatus 60. In this case, the base material B and the drying suppressing plate F are maintained in a state of facing each other at a distance d and are carried into the drying device 60. Then, the base material B and the drying suppression plate F are installed on the support 61 in the drying device 60 in a state of facing each other.

なお、図12、図13では、インク吐出ヘッド23よりも下流側に設置された乾燥抑制板Fが、基材Bの搬送に連動して移動する例を示した。これに限定するものではなく、インク吐出ヘッド23よりも上流側に位置している乾燥抑制板Fもインク塗布時などに、基材Bに対向して連動する動作を行ってもよい。 In addition, in FIGS. 12 and 13, an example in which the drying suppressing plate F installed on the downstream side of the ink ejection head 23 moves in conjunction with the transportation of the base material B is shown. The present invention is not limited to this, and the drying suppression plate F located on the upstream side of the ink ejection head 23 may also perform an operation of interlocking with the base material B at the time of ink application or the like.

[表示パネルDの構成]
続いて、上述したインクの吐出量の測定手法を用いて製造可能な表示パネルDについて、図14~図16を用いて説明する。図14は、本実施形態に係る表示パネルDの構成例を示す模式平面図である。なお、図14は模式図であって、その縮尺は実際とは異なる場合がある。
[Configuration of display panel D]
Subsequently, the display panel D that can be manufactured by using the above-mentioned ink ejection amount measuring method will be described with reference to FIGS. 14 to 16. FIG. 14 is a schematic plan view showing a configuration example of the display panel D according to the present embodiment. Note that FIG. 14 is a schematic diagram, and the scale thereof may differ from the actual scale.

本実施形態に係る表示パネルDは、有機化合物の電界発光現象を利用した有機EL表示パネルである。表示パネルDは、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)が形成された基板(以下、「TFT基板」と称する)に、各々が画素を構成する複数の有機EL表示素子が行列状に配され、上面(カラーフィルタ基板131側)より光を発するトップエミッション型の構成を有する。ここで、図14におけるX方向、Y方向、およびZ方向をそれぞれ、表示パネルDにおける行方向、列方向、および厚み方向とも称する。 The display panel D according to the present embodiment is an organic EL display panel utilizing the electroluminescence phenomenon of an organic compound. In the display panel D, a plurality of organic EL display elements, each of which constitutes a pixel, are arranged in a matrix on a substrate (hereinafter referred to as "TFT substrate") on which a thin film transistor (TFT) is formed, and the upper surface thereof is formed. It has a top-emission type configuration that emits light from (color filter substrate 131 side). Here, the X direction, the Y direction, and the Z direction in FIG. 14 are also referred to as a row direction, a column direction, and a thickness direction in the display panel D, respectively.

図14に示すように、本実施形態に係る表示パネルDは、区画領域10aと、区画領域10aの周囲に位置する非区画領域10bとが構成される。区画領域10aは、基板100上を、各色(ここでは、RGBの3色)の発光単位を規制するバンク122によりマトリックス状に区画される。なお、Y軸方向に沿ったバンク122を列バンク122Yとし、X軸方向に沿ったバンクを行バンク122Xとして説明する。 As shown in FIG. 14, the display panel D according to the present embodiment includes a compartmentalized area 10a and a non-partitioned region 10b located around the compartmentalized area 10a. The partition area 10a is partitioned on the substrate 100 in a matrix by banks 122 that regulate the emission units of each color (here, three colors of RGB). The bank 122 along the Y-axis direction will be referred to as a column bank 122Y, and the bank along the X-axis direction will be referred to as a row bank 122X.

非区画領域10bには、区画領域10aを取り囲む矩形上の封止部材300が形成されている。区画領域10aは、基板100の中心を含む表示画素配列領域10eと、表示画素配列領域10eの周囲に位置する非発光領域10neとから構成される。表示画素配列領域10eは、列バンク122Yと行バンク122Xにより規制される各区画に有機EL表示素子が形成されている領域である。一方、非発光領域10neには、有機EL表示素子が形成されていない領域である。 In the non-partitioned area 10b, a sealing member 300 on a rectangle surrounding the sectioned area 10a is formed. The partition area 10a is composed of a display pixel arrangement area 10e including the center of the substrate 100 and a non-light emitting area 10ne located around the display pixel arrangement area 10e. The display pixel arrangement area 10e is an area in which an organic EL display element is formed in each section regulated by the column bank 122Y and the row bank 122X. On the other hand, the non-light emitting region 10ne is a region in which the organic EL display element is not formed.

図15は、図14に示した表示画素配列領域10eのうちの一部の領域10cを拡大した平面図である。表示画素配列領域10eには、有機EL表示素子に対応する単位素子100eが行列上に配置されている。単位素子100eは有機化合物により光を発する領域である。本例において、単位素子100eは、赤色(R)に発光する自己発光領域100aR、緑色に発光する自己発光領域100aG、青色に自己発光領域100aBの3色に対応した自己発光領域100aを含んで構成される。 FIG. 15 is an enlarged plan view of a part of the display pixel arrangement area 10e shown in FIG. 14 and is a part of the area 10c. In the display pixel arrangement region 10e, unit elements 100e corresponding to the organic EL display elements are arranged on a matrix. The unit element 100e is a region that emits light due to an organic compound. In this example, the unit element 100e includes a self-luminous region 100aR that emits light in red (R), a self-luminous region 100aG that emits light in green, and a self-luminous region 100a corresponding to three colors of self-luminous region 100aB in blue. Will be done.

また、図15に示すように、複数の画素電極119が基板100上に行方向および列方向にそれぞれ所定の距離だけ離れた状態で配列されている。行列状に配列された画素電極119は、行方向に順に並んだ自己発光領域100aR、100aG、100aBに対応する。また、自己発光領域100a以外の領域は、非自己発光領域100bとなる。非自己発光領域100bには、画素電極119とTFTのソースとを接続するコンタクトホール119cが設けられる。更に、非自己発光領域100bには、画素電極119に対して電気的に接続するためのコンタクト領域119bが設けられる。 Further, as shown in FIG. 15, a plurality of pixel electrodes 119 are arranged on the substrate 100 in a row direction and a column direction, respectively, in a state of being separated by a predetermined distance. The pixel electrodes 119 arranged in a matrix correspond to the self-luminous regions 100aR, 100aG, and 100aB arranged in order in the row direction. Further, the region other than the self-luminous region 100a is the non-self-luminous region 100b. The non-self-luminous region 100b is provided with a contact hole 119c for connecting the pixel electrode 119 and the source of the TFT. Further, the non-self-luminous region 100b is provided with a contact region 119b for electrically connecting to the pixel electrode 119.

図16は、図15に示すX1-X1で切断した位置の模式断面図である。図16に示すように、本実施形態に係る表示パネルDは、Z軸方向下方に薄膜トランジスタが形成された基板100(TFT基板)が構成され、その上に発光素子部としての有機EL素子部が構成されている。有機EL素子部は、複数の層から構成され、このうちの一部を形成する際に上述したインクジェット装置1を適用することができる。有機EL素子部を構成する複数の層として、画素電極119、正孔注入層120、正孔輸送層121、バンク122、発光層123、電子輸送層124、対向電極125、封止層126、接合層127、およびカラーフィルタ基板131が含まれる。また、カラーフィルタ基板131は、カラーフィルタ層128、および上部基板130を含んで構成される。以下、表示パネルDを構成する部位について説明する。 FIG. 16 is a schematic cross-sectional view of a position cut at X1-X1 shown in FIG. As shown in FIG. 16, in the display panel D according to the present embodiment, a substrate 100 (TFT substrate) in which a thin film transistor is formed downward in the Z-axis direction is configured, and an organic EL element portion as a light emitting element portion is formed on the substrate 100 (TFT substrate). It is configured. The organic EL element unit is composed of a plurality of layers, and the above-mentioned inkjet device 1 can be applied when forming a part of the layers. As a plurality of layers constituting the organic EL element portion, a pixel electrode 119, a hole injection layer 120, a hole transport layer 121, a bank 122, a light emitting layer 123, an electron transport layer 124, a counter electrode 125, a sealing layer 126, and a junction are used. Layer 127 and a color filter substrate 131 are included. Further, the color filter substrate 131 includes a color filter layer 128 and an upper substrate 130. Hereinafter, the parts constituting the display panel D will be described.

(基板(TFT基板))
基板100は表示パネルDの支持部材であり、基材(不図示)と、基材上に形成された薄膜トランジスタ(TFT)層(不図示)と、基材上およびTFT層上に形成された層間絶縁層(不図示)とを有する。
(Substrate (TFT substrate))
The substrate 100 is a support member for the display panel D, and is a base material (not shown), a thin film transistor (TFT) layer (not shown) formed on the base material, and layers formed on the base material and the TFT layer. It has an insulating layer (not shown).

基板100を構成する基材(不図示)は、表示パネルDの支持部材であり、平板状である。基材の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば、ガラス材料、樹脂材料、半導体材料、絶縁層をコーティングした金属材料などを用いることができる。 The base material (not shown) constituting the substrate 100 is a support member of the display panel D and has a flat plate shape. As the material of the base material, a material having an electrically insulating property, for example, a glass material, a resin material, a semiconductor material, a metal material coated with an insulating layer, or the like can be used.

基板100を構成するTFT層(不図示)は、基材上面に形成された複数のTFTおよび配線から構成される。TFTは、表示パネルDの外部回路からの駆動信号に応じ、自身に対応する画素電極119と外部電源(不図示)とを電気的に接続するものであり、電極、半導体層、絶縁層などの多層構造からなる。配線(不図示)は、TFT、画素電極119、外部電源、外部回路などを電気的に接続している。基板100の上面に位置する層間絶縁層は、TFT層によって凹凸が存在する基板100の上面の少なくとも一部を平坦化するものである。また、層間絶縁層は、配線およびTFTの間を埋め、配線およびTFTの間を電気的に絶縁している。 The TFT layer (not shown) constituting the substrate 100 is composed of a plurality of TFTs formed on the upper surface of the substrate and wiring. The TFT electrically connects the pixel electrode 119 corresponding to itself and the external power supply (not shown) in response to a drive signal from the external circuit of the display panel D, and includes electrodes, semiconductor layers, insulating layers, and the like. It consists of a multi-layer structure. The wiring (not shown) electrically connects a TFT, a pixel electrode 119, an external power supply, an external circuit, and the like. The interlayer insulating layer located on the upper surface of the substrate 100 flattens at least a part of the upper surface of the substrate 100 having irregularities due to the TFT layer. Further, the interlayer insulating layer fills the space between the wiring and the TFT, and electrically insulates the space between the wiring and the TFT.

(画素電極)
基板100の上面に位置する層間絶縁層(不図示)上には、画素電極119が設けられる。画素電極119は、発光層123へキャリアを供給するためのものであり、例えば、陽極として機能した場合は、発光層123へ正孔を供給する。画素電極119は、矩形形状をした平板状である。また、基板100の上面に開設されたコンタクトホールを通して、画素電極119の一部を基板100方向に凹入された画素電極119の接続凹部とTFTのソースとが接続される。
(Pixel electrode)
A pixel electrode 119 is provided on an interlayer insulating layer (not shown) located on the upper surface of the substrate 100. The pixel electrode 119 is for supplying carriers to the light emitting layer 123, and for example, when functioning as an anode, supplies holes to the light emitting layer 123. The pixel electrode 119 has a rectangular flat plate shape. Further, through the contact hole formed on the upper surface of the substrate 100, the connection recess of the pixel electrode 119 in which a part of the pixel electrode 119 is recessed in the direction of the substrate 100 and the source of the TFT are connected.

画素電極119は、金属材料から構成される。トップエミッション型の有機EL表示パネルの場合には、層厚を最適に設定して光共振器構造を採用することにより出射される光の色度を調整し輝度を高めている。そのため、画素電極119の表面部が高い反射性を有する。画素電極119は、金属層、合金層、透明導電膜の中から選択される複数の膜を積層させた構造であってもよい。 The pixel electrode 119 is made of a metal material. In the case of a top-emission type organic EL display panel, the chromaticity of the emitted light is adjusted and the brightness is increased by optimally setting the layer thickness and adopting the optical resonator structure. Therefore, the surface portion of the pixel electrode 119 has high reflectivity. The pixel electrode 119 may have a structure in which a plurality of films selected from a metal layer, an alloy layer, and a transparent conductive film are laminated.

(正孔注入層、正孔輸送層)
画素電極119上には、正孔注入層120、正孔輸送層121が順に積層され、正孔輸送層121は正孔注入層120に接触している。正孔注入層120、正孔輸送層121は、画素電極119から注入された正孔を発光層123へ輸送する機能を有する。
(Hole injection layer, hole transport layer)
The hole injection layer 120 and the hole transport layer 121 are laminated in this order on the pixel electrode 119, and the hole transport layer 121 is in contact with the hole injection layer 120. The hole injection layer 120 and the hole transport layer 121 have a function of transporting the holes injected from the pixel electrode 119 to the light emitting layer 123.

正孔注入層120および正孔輸送層121は、図1にて示したインクジェット装置1を用いて形成することが可能である。正孔注入層120や正孔輸送層121を形成するためのインクとして、使用する有機溶剤は正孔注入材料や正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はない。 The hole injection layer 120 and the hole transport layer 121 can be formed by using the inkjet device 1 shown in FIG. The organic solvent used as the ink for forming the hole injection layer 120 and the hole transport layer 121 is not particularly limited as long as it dissolves the hole injection material and the hole transport material.

(バンク)
画素電極119、正孔注入層120、および正孔輸送層121の端縁を被覆するように絶縁物からなるバンク122が形成されている。バンク122は、画素電極119の外縁と、対向電極125との間における厚み方向(Z軸方向)の電流リークを防止するために、バンク122は、樹脂などの有機材料を用い形成されており絶縁性を有し、体積抵抗率が1×10Ωcm以上の絶縁性を備えていることが望ましい。
(bank)
A bank 122 made of an insulator is formed so as to cover the edges of the pixel electrode 119, the hole injection layer 120, and the hole transport layer 121. The bank 122 is formed by using an organic material such as a resin and is insulated in order to prevent a current leak in the thickness direction (Z-axis direction) between the outer edge of the pixel electrode 119 and the counter electrode 125. It is desirable that the property has an insulating property having a volume resistivity of 1 × 10 6 Ωcm or more.

さらに、バンク122は、製造工程中において、エッチング処理、ベーク処理など施されることがあるため、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。また、表面に撥液性をもたせるために、バンク122の表面をCVD(Chemical Vapor Deposition)などによりフッ素処理するような構成であってもよい。 Further, since the bank 122 may be subjected to etching treatment, baking treatment, etc. during the manufacturing process, the bank 122 is formed of a material having high resistance to such treatments so as not to be excessively deformed or deteriorated. Is preferable. Further, in order to give the surface liquid repellency, the surface of the bank 122 may be treated with fluorine by CVD (Chemical Vapor Deposition) or the like.

(発光層)
表示パネルDには、各色に発光する発光層123が形成される。ここでの色とは、具体的には、R(Red)、G(Green)、およびB(Blue)の3色が挙げられる。発光層123は、有機化合物からなる層であり、内部で正孔と電子が再結合することで光を発する機能を有する。発光層123は、画素電極119からキャリアが供給される部分のみが発光する。発光層123は、図1にて示したインクジェット装置1を用いて形成することが可能である。
(Light emitting layer)
A light emitting layer 123 that emits light in each color is formed on the display panel D. Specific examples of the colors here include three colors, R (Red), G (Green), and B (Blue). The light emitting layer 123 is a layer made of an organic compound, and has a function of emitting light by recombining holes and electrons inside. In the light emitting layer 123, only the portion to which the carrier is supplied from the pixel electrode 119 emits light. The light emitting layer 123 can be formed by using the inkjet device 1 shown in FIG.

発光層123の形成に用いる材料は、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。発光層123としては、有機EL素子部の発光層(発光する機能を有する層)に利用できる公知の材料からなる層とすればよく、その材料等は特に制限されないが、有機材料からなる発光層であることが好ましい。例えば、発光性材料としての蛍光又はりん光を発光する有機物(低分子化合物および高分子化合物)と、これを補助するドーパントとから形成される層とすることが好ましい。 As the material used for forming the light emitting layer 123, it is necessary to use a light emitting organic material that can form a film by using a wet printing method. The light emitting layer 123 may be a layer made of a known material that can be used for the light emitting layer (layer having a light emitting function) of the organic EL element portion, and the material or the like is not particularly limited, but the light emitting layer made of an organic material. Is preferable. For example, it is preferable to use a layer formed of an organic substance (low molecular weight compound and high molecular weight compound) that emits fluorescence or phosphorescence as a luminescent material and a dopant that assists the organic substance (low molecular weight compound and high molecular weight compound).

(電子輸送層)
バンク122上、およびバンク122により規定された開口内には、発光層123の上に電子輸送層124が形成される。電子輸送層124は、対向電極125から注入された電子を発光層123へ輸送する機能を有する。
(Electron transport layer)
An electron transport layer 124 is formed on the light emitting layer 123 on the bank 122 and in the opening defined by the bank 122. The electron transport layer 124 has a function of transporting electrons injected from the counter electrode 125 to the light emitting layer 123.

(対向電極)
電子輸送層124を被覆するように、対向電極125が積層形成される。対向電極125は、表示パネルD全体に連続した状態で形成され、ピクセル単位あるいは数ピクセル単位でバスバー配線に接続されていてもよい(図示を省略)。対向電極125は、画素電極119と対になって発光層123を挟むことで通電経路を作り、発光層123へキャリアを供給するものである。対向電極125は、例えば陰極として機能した場合、発光層123へ電子を供給する。対向電極125は、電子輸送層124の表面に沿って形成され、バンク122間に形成された発光層123それぞれに共通の電極となっている。対向電極125は、光透過性を有する導電材料が用いられる。
(Counter electrode)
The counter electrode 125 is laminated and formed so as to cover the electron transport layer 124. The counter electrode 125 may be formed in a continuous state over the entire display panel D and may be connected to the bus bar wiring in pixel units or several pixel units (not shown). The counter electrode 125 is paired with the pixel electrode 119 to sandwich the light emitting layer 123 to form an energization path, and supplies carriers to the light emitting layer 123. When the counter electrode 125 functions as a cathode, for example, it supplies electrons to the light emitting layer 123. The counter electrode 125 is formed along the surface of the electron transport layer 124, and is a common electrode for each of the light emitting layers 123 formed between the banks 122. A conductive material having light transmittance is used for the counter electrode 125.

(封止層)
対向電極125を被覆するように、封止層126が積層形成される。封止層126は、発光層123が水分や空気などに触れて劣化することを抑制するために形成される。封止層126は、対向電極125の上面を覆うように表示パネルD全面に渡って設けられる。
(Sealing layer)
The sealing layer 126 is laminated so as to cover the counter electrode 125. The sealing layer 126 is formed to prevent the light emitting layer 123 from deteriorating due to contact with moisture, air, or the like. The sealing layer 126 is provided over the entire surface of the display panel D so as to cover the upper surface of the counter electrode 125.

(接合層)
封止層126のZ軸方向上方には、上部基板130とカラーフィルタ層128から構成されるカラーフィルタ基板131が配され、封止層126とカラーフィルタ基板131は接合層127により接合されている。接合層127は、基板100から封止層126までの各層からなる背面パネルとカラーフィルタ基板131とを貼り合わせるとともに、各層が水分や空気に晒されることを防止する機能を有する。
(Joining layer)
A color filter substrate 131 composed of an upper substrate 130 and a color filter layer 128 is arranged above the sealing layer 126 in the Z-axis direction, and the sealing layer 126 and the color filter substrate 131 are bonded by a bonding layer 127. .. The bonding layer 127 has a function of bonding the back panel composed of each layer from the substrate 100 to the sealing layer 126 and the color filter substrate 131, and preventing each layer from being exposed to moisture or air.

(上部基板)
カラーフィルタ基板131を構成する上部基板130には、表示パネルDがトップエミッション型であるため、例えば、カバーガラス、透明樹脂フィルムなどの光透過性材料が用いられる。また、表示パネルDは、上部基板130により、剛性向上、水分や空気などの侵入防止などを図ることができる。
(Upper board)
Since the display panel D is a top emission type for the upper substrate 130 constituting the color filter substrate 131, for example, a light transmissive material such as a cover glass or a transparent resin film is used. Further, the display panel D can improve the rigidity and prevent the intrusion of moisture, air, etc. by the upper substrate 130.

(カラーフィルタ層)
カラーフィルタ基板131には画素の発光領域に対応する位置に、各色に対応したカラーフィルタ層128が形成されている。発光領域は、バンク122間に形成された発光層123の位置に対応する。カラーフィルタ層128は、各色(例えば、R、G、B)に対応する波長の可視光を透過させるために設けられる透明層であり、各色画素から出射された光を透過させて、その色度を矯正する機能を有する。カラーフィルタ層128は、具体的には、複数の開口部を画素単位に行列状に形成されたカラーフィルタ形成用のカバーガラスからなる上部基板130に対し、カラーフィルタ材料および溶媒を含有したインクを塗布する工程により形成される。
(Color filter layer)
A color filter layer 128 corresponding to each color is formed on the color filter substrate 131 at a position corresponding to a light emitting region of a pixel. The light emitting region corresponds to the position of the light emitting layer 123 formed between the banks 122. The color filter layer 128 is a transparent layer provided for transmitting visible light having a wavelength corresponding to each color (for example, R, G, B), and transmits light emitted from each color pixel to transmit the chromaticity. Has the function of correcting. Specifically, the color filter layer 128 is formed by applying an ink containing a color filter material and a solvent to an upper substrate 130 made of a cover glass for forming a color filter in which a plurality of openings are formed in a matrix in pixel units. It is formed by the step of applying.

[表示パネルDの製造]
次に、表示パネルDの製造工程について具体例にて説明する。図16にて示した表示パネルDの構成のうち、発光層123、正孔注入層120、および正孔輸送層121をインクジェット方式により形成することができる。そこで、本実施形態では、これらの3つの層を形成する際にインクジェット方式を用いるものとして説明する。図17は、表示パネルDの製造工程を示すフローチャートである。
[Manufacturing of display panel D]
Next, the manufacturing process of the display panel D will be described with reference to specific examples. Among the configurations of the display panel D shown in FIG. 16, the light emitting layer 123, the hole injection layer 120, and the hole transport layer 121 can be formed by an inkjet method. Therefore, in the present embodiment, the inkjet method will be described as being used when forming these three layers. FIG. 17 is a flowchart showing a manufacturing process of the display panel D.

本実施形態において、各層に対応したインク吐出ヘッド23を備える。つまり、図1~図4に示した構成が、発光層123、正孔注入層120、および正孔輸送層121それぞれを形成するために用意される。また、説明を簡単にするために、表示パネルDを製造するための動作は、制御装置50が包括的に制御するものとして説明する。本動作フローが開始する際には、基材、TFT層、および層間絶縁層により構成される基板100が準備される。 In the present embodiment, the ink ejection head 23 corresponding to each layer is provided. That is, the configurations shown in FIGS. 1 to 4 are prepared for forming the light emitting layer 123, the hole injection layer 120, and the hole transport layer 121, respectively. Further, for the sake of simplicity, the operation for manufacturing the display panel D will be described as being comprehensively controlled by the control device 50. When this operation flow starts, the substrate 100 composed of the base material, the TFT layer, and the interlayer insulating layer is prepared.

S1701にて、制御装置50は、基板100上に画素電極119を形成させる。具体的には、基板100の層間絶縁層にコンタクト孔(不図示)を開設し、画素電極119を形成する。画素電極119の形成は、スパッタリング法あるいは真空蒸着法などを用い金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いパターニングすることでなされる。なお、画素電極119は、基板100を構成するTFTの電極と電気的に接続された状態となる。 In S1701, the control device 50 forms the pixel electrode 119 on the substrate 100. Specifically, a contact hole (not shown) is provided in the interlayer insulating layer of the substrate 100 to form the pixel electrode 119. The pixel electrode 119 is formed by forming a metal film by a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, or the like, and then patterning by a photolithography method and an etching method. The pixel electrode 119 is electrically connected to the electrodes of the TFTs constituting the substrate 100.

S1702にて、制御装置50は、バンク122を形成させる。バンク122の形成では、所定方向に沿ったバンク122を形成し、その後、その所定方向に直交する方向のバンクを形成させる。バンク122の形成は、バンク122の構成材料(例えば、感光性樹脂材料)からなる膜を積層形成する。そして、樹脂膜をパターニングしてバンクを順次形成する。バンクのパターニングは、樹脂膜の上方にフォトマスクを利用し露光を行い、現像工程、焼成工程(例えば、約230℃、約60分)をすることにより行われてよい。 In S1702, the control device 50 forms the bank 122. In the formation of the bank 122, the bank 122 is formed along the predetermined direction, and then the bank in the direction orthogonal to the predetermined direction is formed. The formation of the bank 122 is performed by laminating a film made of a constituent material of the bank 122 (for example, a photosensitive resin material). Then, the resin film is patterned to sequentially form banks. The patterning of the bank may be performed by exposing the upper part of the resin film using a photomask and performing a developing step and a firing step (for example, about 230 ° C. for about 60 minutes).

バンク122の形成工程では、先ず、スピンコート法などを用い、有機系の感光性樹脂材料、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂などからなる感光性樹脂膜を形成する。その後、乾燥を行って溶媒をある程度揮発させてから、所定の開口部が施されたフォトマスクを重ねる。さらに、その上から紫外線照射を行い感光性樹脂などからなるフォトレジストを露光し、そのフォトレジストにフォトマスクが有するパターンを転写する。続いて、感光性樹脂を現像によってバンク122をパターニングした絶縁層を形成する。一般には、ポジ型と呼ばれるフォトレジストが使用される。ポジ型は露光された部分が現像によって除去される。露光されないマスクパターンの部分は、現像されずバンク122が一定程度の厚みで残存する。 In the process of forming the bank 122, first, a spin coating method or the like is used to form a photosensitive resin film made of an organic photosensitive resin material, for example, an acrylic resin, a polyimide resin, a novolak type phenol resin, or the like. Then, after drying to volatilize the solvent to some extent, a photomask having a predetermined opening is layered. Further, ultraviolet irradiation is performed from above to expose a photoresist made of a photosensitive resin or the like, and the pattern of the photomask is transferred to the photoresist. Subsequently, the photosensitive resin is developed to form an insulating layer in which the bank 122 is patterned. Generally, a photoresist called a positive type is used. In the positive type, the exposed part is removed by development. The portion of the mask pattern that is not exposed is not developed and the bank 122 remains with a certain thickness.

S1703にて、制御装置50は、画素電極119上に正孔注入層120を積層形成させる。正孔注入層120の形成は、導電性ポリマー材料を有機溶剤に溶解させたインクを用いてインクジェット法にて形成することができる。本工程の詳細は、図18を用いて後述する。 In S1703, the control device 50 laminates and forms the hole injection layer 120 on the pixel electrode 119. The hole injection layer 120 can be formed by an inkjet method using an ink in which a conductive polymer material is dissolved in an organic solvent. Details of this step will be described later with reference to FIG.

S1704にて、制御装置50は、正孔注入層120上に正孔輸送層121を積層形成させる。正孔輸送層121の形成は、導電性ポリマー材料を有機溶剤に溶解させたインクを用いてインクジェット法にて形成することができる。本工程の詳細は、図18を用いて後述する。 In S1704, the control device 50 laminates and forms the hole transport layer 121 on the hole injection layer 120. The hole transport layer 121 can be formed by an inkjet method using an ink in which a conductive polymer material is dissolved in an organic solvent. Details of this step will be described later with reference to FIG.

S1705にて、制御装置50は、バンク122で規定された所定の位置の正孔輸送層121上に発光層123を積層形成させる。本工程の詳細は、図18を用いて後述する。 In S1705, the control device 50 laminates and forms the light emitting layer 123 on the hole transport layer 121 at a predetermined position defined by the bank 122. Details of this step will be described later with reference to FIG.

S1706にて、制御装置50は、電子輸送層124を発光層123上に積層形成させる。電子輸送層124は、真空蒸着法などを用いて形成できる。 In S1706, the control device 50 laminates and forms the electron transport layer 124 on the light emitting layer 123. The electron transport layer 124 can be formed by using a vacuum vapor deposition method or the like.

S1707にて、制御装置50は、ベタ膜として電子輸送層124を被覆するように、対向電極125を積層形成させる。対向電極125は、CVD法、スパッタリング法などを用いて形成できる。 In S1707, the control device 50 laminates and forms the counter electrode 125 so as to cover the electron transport layer 124 as a solid film. The counter electrode 125 can be formed by using a CVD method, a sputtering method, or the like.

S1708にて、制御装置50は、ベタ膜として対向電極125を被覆するように、封止層126を積層形成させる。封止層126は、対向電極125と同様、CVD法、スパッタリング法などを用いて形成できる。 In S1708, the control device 50 laminates and forms the sealing layer 126 so as to cover the counter electrode 125 as a solid film. Like the counter electrode 125, the sealing layer 126 can be formed by using a CVD method, a sputtering method, or the like.

S1709にて、制御装置50は、カラーフィルタ基板131を形成させる。カラーフィルタ基板131の形成では、まず、透明な上部基板130を準備する。次に、上部基板130表面に、紫外線硬化樹脂成分を主成分とするカラーフィルタ層128(例えば、G)の材料を溶媒に分散させ、ペーストを塗布し、溶媒を一定除去した後、所定のパターンマスクを載置し、紫外線照射を行う。その後、キュアを行い、パターンマスクおよび未硬化のペーストを除去して現像すると、カラーフィルタ層(G)が形成される。この工程を各色のカラーフィルタ材料について同様に繰り返すことで、カラーフィルタ層(R)、(B)を形成する。なお、ペーストを用いる代わりに市販されているカラーフィルタ製品を利用してもよい。また、カラーフィルタ基板131は、予め形成しておき、本工程では形成済みのカラーフィルタ基板131を設置するのみであってもよい。 In S1709, the control device 50 forms the color filter substrate 131. In forming the color filter substrate 131, first, a transparent upper substrate 130 is prepared. Next, on the surface of the upper substrate 130, the material of the color filter layer 128 (for example, G) containing the ultraviolet curable resin component as a main component is dispersed in a solvent, a paste is applied, the solvent is removed to a certain extent, and then a predetermined pattern is obtained. Place the mask and irradiate with ultraviolet rays. Then, curing is performed to remove the pattern mask and the uncured paste and developed to form a color filter layer (G). By repeating this step in the same manner for the color filter materials of each color, the color filter layers (R) and (B) are formed. Instead of using the paste, a commercially available color filter product may be used. Further, the color filter substrate 131 may be formed in advance, and the formed color filter substrate 131 may only be installed in this step.

S1710にて、制御装置50は、カラーフィルタ基板131と背面パネルの貼り合わせを行う。本工程では、まず、基板100から封止層126までの各層からなる背面パネルに、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂などの紫外線硬化型樹脂を主成分とする接合層127の材料を塗布する。続いて、塗布した材料に紫外線照射を行い、背面パネルとカラーフィルタ基板131との相対的位置関係を合せた状態で両基板を貼り合わせる。このとき、両者の間にガスが入らないように張り合わせが行われる。その後、両基板を焼成して封止工程を完了することにより、表示パネルDが完成する。そして、本動作フローを終了する。 In S1710, the control device 50 bonds the color filter substrate 131 and the back panel. In this step, first, the material of the bonding layer 127 containing an ultraviolet curable resin such as an acrylic resin, a silicone resin, and an epoxy resin as a main component is applied to a back panel composed of each layer from the substrate 100 to the sealing layer 126. Subsequently, the applied material is irradiated with ultraviolet rays, and both substrates are bonded together in a state where the relative positional relationship between the back panel and the color filter substrate 131 is matched. At this time, the bonding is performed so that gas does not enter between the two. After that, both substrates are fired to complete the sealing step, thereby completing the display panel D. Then, this operation flow is terminated.

(層形成)
図18は、図17のS1703~S1705の工程それぞれにて行われるインクジェット装置1を用いた層形成の際の処理フローを示す。ここでは、同じ動作により各層の形成が行われるものとする。なお、説明を簡単化するために、以下の動作フローは制御装置50が包括的に制御するものとして説明する。
(Layer formation)
FIG. 18 shows a processing flow at the time of layer formation using the inkjet apparatus 1 performed in each of the steps S1703 to S1705 of FIG. Here, it is assumed that each layer is formed by the same operation. For the sake of simplicity, the following operation flow will be described as being comprehensively controlled by the control device 50.

S1801にて、制御装置50は、インク吐出ヘッド23およびステージ40を制御し、基材B上にインクの塗布を行わせる。ここでの動作は、図5~図11に示したような制御を行うことで実行される。また、本工程に用いられるインクは、形成する層に応じたインクが用いられるものとする。例えば、発光層123の場合、有機EL発光パネルにて再現される複数の色(例えば、R,G,Bの3色)それぞれに対応して形成される。各色に対応した発光層123の基板100上の配置は予め規定され、その配置に従って形成が行われるものとする。なお、各色に対応する発光層123の形成順や配置は特に限定するものではなく、任意の設定が用いられてよい。基材B上の1画素に相当する範囲には、1または複数のインク液滴にて層が形成される。 In S1801, the control device 50 controls the ink ejection head 23 and the stage 40 to apply ink on the base material B. The operation here is executed by performing the control as shown in FIGS. 5 to 11. Further, as the ink used in this step, the ink corresponding to the layer to be formed shall be used. For example, in the case of the light emitting layer 123, it is formed corresponding to each of a plurality of colors (for example, three colors of R, G, and B) reproduced by the organic EL light emitting panel. The arrangement of the light emitting layer 123 corresponding to each color on the substrate 100 is defined in advance, and the formation is performed according to the arrangement. The formation order and arrangement of the light emitting layer 123 corresponding to each color are not particularly limited, and any setting may be used. A layer is formed by one or a plurality of ink droplets in a range corresponding to one pixel on the base material B.

S1802にて、制御装置50は、基材Bを搬送し、乾燥装置60へ搬入させる。このとき、図12や図13にて示したように、基材B(ステージ40)の移動に伴って、乾燥抑制板Fを連動して移動させる。 In S1802, the control device 50 conveys the base material B and carries it into the drying device 60. At this time, as shown in FIGS. 12 and 13, the drying suppressing plate F is moved in conjunction with the movement of the base material B (stage 40).

S1803にて、制御装置50は、乾燥装置60内に搬入された基材Bの乾燥動作を実行させる。本工程の詳細については、図19を用いて後述する。 In S1803, the control device 50 executes the drying operation of the base material B carried into the drying device 60. Details of this step will be described later with reference to FIG.

S1804にて、制御装置50は、S1803の乾燥動作が完了した後、基材Bのベーク処理を、ベーク装置(不図示)にて実行させる。なお、乾燥装置60からベーク装置(不図示)への基材Bの搬送は、別途設けられる搬送装置(不図示)を用いて行われてよい。ベーク処理により、層の形成が完了する。ベーク処理は、所定条件の焼成工程(例えば、加熱温度約230℃、加熱時間約60分の条件で真空焼成する工程)により行われてよい。ここでの条件は、形成する層の構成や機能に応じて異なってよい。そして、本処理フローを終了する。なお、基材Bのベーク処理は必須の構成ではなく、形成する層の材料に応じてベーク処理が行われないように構成されてよい。なお、ここでの基材Bのベーク処理とは、基材Bに塗布した膜に対するベーク処理(焼成処理)である。 In S1804, after the drying operation of S1803 is completed, the control device 50 causes the baking process of the base material B to be executed by the baking device (not shown). The substrate B may be transported from the drying device 60 to the baking device (not shown) using a separately provided transport device (not shown). Baking completes layer formation. The baking process may be performed by a firing step under predetermined conditions (for example, a step of vacuum firing under the conditions of a heating temperature of about 230 ° C. and a heating time of about 60 minutes). The conditions here may differ depending on the configuration and function of the layer to be formed. Then, this processing flow is terminated. The baking treatment of the base material B is not an essential configuration, and may be configured so that the baking treatment is not performed depending on the material of the layer to be formed. The baking treatment of the base material B here is a baking treatment (firing treatment) of the film applied to the base material B.

(インクの乾燥)
本実施形態に係るインクの乾燥工程について説明する。上述したように、本実施形態に係る乾燥装置60は、減圧により対象の乾燥を行う減圧乾燥機である。また、本実施形態に係る乾燥装置60は、図12および図13を用いて説明したように、内部に乾燥抑制板Fを搬入する場合と搬入しない場合のいずれにも対応することができる。上記の例では、表示パネルDを構成する複数の層のうち、発光層123、正孔注入層120、および正孔輸送層121に対して、インクジェット方式を用いて形成できることを述べた。図12および図13のいずれの構成を適用するかは、層ごとに規定されてよい。
(Drying ink)
The ink drying step according to this embodiment will be described. As described above, the drying device 60 according to the present embodiment is a vacuum dryer that dries the target by reducing the pressure. Further, as described with reference to FIGS. 12 and 13, the drying apparatus 60 according to the present embodiment can handle both the case where the drying suppressing plate F is carried in and the case where the drying suppressing plate F is not carried in. In the above example, it has been described that the light emitting layer 123, the hole injection layer 120, and the hole transport layer 121 can be formed by using an inkjet method among a plurality of layers constituting the display panel D. Which of the configurations of FIGS. 12 and 13 is applied may be specified for each layer.

図12のように、乾燥装置60内に基材Bのみを搬入する場合、図4に示した状態にて乾燥装置60により乾燥動作が行われる。基材Bの搬入後、真空ポンプ62により、チャンバ63内の気体(蒸気)が排出され、減圧されることとなる。これにより、基材B上のインク液滴Kの乾燥が進む。一定時間の後、チャンバ63内の気圧を大気圧へ戻し、基材Bを搬出して乾燥工程が終了することとなる。なお、乾燥時間は特に限定するものではなく、基材Bのサイズやインクの組成などに応じて規定されてよい。図12の構成の場合、本動作が、図18のS1803の工程にて行われる。 When only the base material B is carried into the drying device 60 as shown in FIG. 12, the drying operation is performed by the drying device 60 in the state shown in FIG. After the base material B is carried in, the gas (steam) in the chamber 63 is discharged by the vacuum pump 62 and the pressure is reduced. As a result, the ink droplet K on the base material B is dried. After a certain period of time, the pressure in the chamber 63 is returned to the atmospheric pressure, the base material B is carried out, and the drying step is completed. The drying time is not particularly limited, and may be specified according to the size of the base material B, the composition of the ink, and the like. In the case of the configuration of FIG. 12, this operation is performed in the process of S1803 of FIG.

次に、図13のように、乾燥装置60内に基材Bと乾燥抑制板Fを搬入する場合の乾燥動作について説明する。図19は、乾燥工程の際に乾燥抑制板Fを搬入する構成に対応する乾燥装置60の動作を説明するための概略図である。図19において気体(蒸気)の流れを矢印にて示している。図19(a)は、乾燥動作が開始した時点における状態を示し、乾燥抑制板Fと基材Bとの距離は、図13に示した搬送時の距離dと同じであるものとする。図19(b)は、乾燥動作が開始した後、チャンバ63の圧力が一定の値に到達した場合の状態を示す。この場合、乾燥抑制板Fと基材Bとの距離dがZ軸方向において広がるように乾燥抑制板Fの位置が制御される。ここでは、チャンバ63内にて乾燥抑制板Fと基材Bとの間を最も離すことが可能な距離dmaxまで離すものとする。距離dmaxは、チャンバ63のサイズなどに応じて規定されてよい。また、乾燥装置60は、チャンバ63内において、乾燥抑制板Fと基材Bの距離を制御可能な離間機構(不図示)を備えるものとする。このとき、乾燥抑制板Fおよび支持台61の少なくとも一方を移動させることで、距離dを調整してよい。 Next, as shown in FIG. 13, a drying operation when the base material B and the drying suppressing plate F are carried into the drying apparatus 60 will be described. FIG. 19 is a schematic view for explaining the operation of the drying device 60 corresponding to the configuration in which the drying suppressing plate F is carried in during the drying step. In FIG. 19, the flow of gas (steam) is indicated by an arrow. FIG. 19A shows a state at the time when the drying operation is started, and it is assumed that the distance between the drying suppressing plate F and the base material B is the same as the distance d during transportation shown in FIG. FIG. 19B shows a state when the pressure of the chamber 63 reaches a constant value after the drying operation is started. In this case, the position of the drying suppressing plate F is controlled so that the distance d between the drying suppressing plate F and the base material B increases in the Z-axis direction. Here, it is assumed that the drying suppressing plate F and the base material B are separated from each other up to the distance d max that can be most separated in the chamber 63. The distance d max may be defined according to the size of the chamber 63 and the like. Further, the drying device 60 is provided with a separation mechanism (not shown) capable of controlling the distance between the drying suppressing plate F and the base material B in the chamber 63. At this time, the distance d may be adjusted by moving at least one of the drying suppressing plate F and the support base 61.

そして、真空ポンプ62により、チャンバ63内の気体(蒸気)が排出され、減圧されることとなる。これにより、基材B上のインク液滴Kの乾燥が進み、一定時間の後、乾燥工程が終了することとなる。なお、乾燥時間は特に限定するものではなく、基材Bのサイズやインクの組成などに応じて規定されてよい。 Then, the gas (steam) in the chamber 63 is discharged by the vacuum pump 62, and the pressure is reduced. As a result, the ink droplets K on the base material B are dried, and after a certain period of time, the drying step is completed. The drying time is not particularly limited, and may be specified according to the size of the base material B, the composition of the ink, and the like.

図20は、図19の構成に対応した乾燥工程を示すフローチャートである。本処理フローは、図13の構成の場合に、図18のS1803の工程にて行われる。なお、説明を簡単化するために、以下の動作フローは制御装置50が包括的に制御するものとして説明する。 FIG. 20 is a flowchart showing a drying process corresponding to the configuration of FIG. This processing flow is performed in the process of S1803 of FIG. 18 in the case of the configuration of FIG. For the sake of simplicity, the following operation flow will be described as being comprehensively controlled by the control device 50.

S2001にて、制御装置50は、インクが塗布された基材Bと乾燥抑制板Fとを所定の距離dにて対向した状態で乾燥装置60内に搬入させる。これは、図13に示した通りである。 In S2001, the control device 50 carries the ink-coated base material B and the drying suppression plate F into the drying device 60 in a state of facing each other at a predetermined distance d. This is as shown in FIG.

S2002にて、制御装置50は、乾燥装置60の真空ポンプ62を動作させ、チャンバ63内の減圧を開始させる。ここでの減圧のスピードは特に限定するものではなく、任意の設定が用いられてよい。制御装置50は、減圧の開始に伴って、時間の計測を開始させる。 In S2002, the control device 50 operates the vacuum pump 62 of the drying device 60 to start depressurization in the chamber 63. The speed of depressurization here is not particularly limited, and any setting may be used. The control device 50 starts measuring the time with the start of depressurization.

S2003にて、制御装置50は、チャンバ63内の気圧が所定の気圧P1に到達したか否かを判定する。ここでの所定の気圧P1は特に限定するものでは無いが、本実施形態では、P1は、101325Pa(大気圧)~10000Paの範囲内で設定される。図21は、本実施形態に係る乾燥装置60による乾燥動作の際の気圧の変化と経過時間の関係を示す図である。図21(a)において、縦軸は圧力[Pa]を示し、横軸は時間[sec]を示す。乾燥動作開始当初は大気圧(標準気圧)である101325Paであり、時間の経過とともに減圧される。図21(b)は、図21(a)にて示すグラフのうち、一部の値を取り出して示したものである。チャンバ63内の気圧が上記範囲内の中から設定された所定の気圧P1に到達した場合(S2003にてYES)、制御装置50の処理はS2004へ進む。一方、チャンバ63内の気圧が所定の気圧P1に到達していない場合(S2003にてNO)、制御装置50は減圧動作を継続させ、所定の気圧P1に到達するまで待機する。 In S2003, the control device 50 determines whether or not the atmospheric pressure in the chamber 63 has reached the predetermined atmospheric pressure P1. The predetermined pressure P1 here is not particularly limited, but in the present embodiment, P1 is set in the range of 101325 Pa (atmospheric pressure) to 10000 Pa. FIG. 21 is a diagram showing the relationship between the change in atmospheric pressure and the elapsed time during the drying operation by the drying device 60 according to the present embodiment. In FIG. 21A, the vertical axis represents pressure [Pa] and the horizontal axis represents time [sec]. At the beginning of the drying operation, the pressure is 101325 Pa, which is the atmospheric pressure (standard pressure), and the pressure is reduced with the passage of time. FIG. 21B is a graph showing some values taken out from the graph shown in FIG. 21A. When the atmospheric pressure in the chamber 63 reaches a predetermined atmospheric pressure P1 set from within the above range (YES in S2003), the process of the control device 50 proceeds to S2004. On the other hand, when the atmospheric pressure in the chamber 63 has not reached the predetermined atmospheric pressure P1 (NO in S2003), the control device 50 continues the depressurizing operation and waits until the predetermined atmospheric pressure P1 is reached.

本実施形態では、乾燥装置60に基材Bを搬入した直後に距離dを制御するのではなく、気圧がP1に到達したタイミングにて距離dを制御している。距離dを調整した際には、チャンバ63内の気流の変動が生じ、層の形成に影響を与えてしまうことが想定される。そこで、本実施形態では、インクに対して一定の乾燥が行われ、層の形状がある程度安定した際に距離dを制御している。これにより、層の形成の品質を向上させることができる。 In the present embodiment, the distance d is not controlled immediately after the base material B is carried into the drying device 60, but the distance d is controlled at the timing when the atmospheric pressure reaches P1. When the distance d is adjusted, it is assumed that the airflow in the chamber 63 fluctuates, which affects the formation of the layer. Therefore, in the present embodiment, the distance d is controlled when the ink is dried to a certain degree and the shape of the layer is stabilized to some extent. This can improve the quality of layer formation.

S2004にて、制御装置50は、チャンバ63内において、離間機構(不図示)を用いて基材Bと乾燥抑制板Fの離間動作を行う。ここでは図19(b)に示したように、基材Bと乾燥抑制板Fの間の距離をdmaxまで広げる。 In S2004, the control device 50 performs a separation operation between the base material B and the drying suppressing plate F in the chamber 63 by using a separation mechanism (not shown). Here, as shown in FIG. 19B, the distance between the base material B and the drying suppression plate F is increased to d max .

S2005にて、制御装置50は、S2002の減圧開始から所定の時間が経過したか否かを判定する。ここでの所定の時間は、インクの組成や基材Bのサイズなどに応じて予め規定されているものとする。所定の時間が経過した場合(S2005にてYES)、制御装置50の処理はS2006へ進む。一方、所定の時間が経過していない場合(S2005にてNO)、制御装置50は減圧動作を継続させ、所定の時間が経過するまで待機する。 In S2005, the control device 50 determines whether or not a predetermined time has elapsed from the start of depressurization in S2002. It is assumed that the predetermined time here is predetermined according to the composition of the ink, the size of the base material B, and the like. When the predetermined time has elapsed (YES in S2005), the process of the control device 50 proceeds to S2006. On the other hand, when the predetermined time has not elapsed (NO in S2005), the control device 50 continues the depressurizing operation and waits until the predetermined time elapses.

S2006にて、制御装置50は、真空ポンプ62による減圧動作を停止させ、チャンバ63内の気圧を大気圧へと戻す。ここでの気圧の戻しは、一定の時間をかけて徐々に戻すような構成であってもよいし、気体を一気に流入させて戻すような構成であってもよい。 In S2006, the control device 50 stops the decompression operation by the vacuum pump 62 and returns the pressure in the chamber 63 to the atmospheric pressure. The return of the atmospheric pressure here may be configured to gradually return over a certain period of time, or may be configured to allow gas to flow in at once and return.

S2007にて、制御装置50は、基材Bを乾燥装置60から搬出させる。ここでの搬出は、別途設けられる搬出装置(不図示)を用いて行われてもよい。また、乾燥抑制板Fは、基材Bと併せて乾燥装置60から搬出されてもよいし、別のタイミングにて搬出されるような構成であってもよい。そして、本処理フローを終了する。 In S2007, the control device 50 carries out the base material B from the drying device 60. The carry-out here may be carried out using a carry-out device (not shown) provided separately. Further, the drying suppression plate F may be carried out from the drying device 60 together with the base material B, or may be configured to be carried out at another timing. Then, this processing flow is terminated.

なお、図19や図20の例では、チャンバ63内の圧力が所定の気圧P1に到達した際に、乾燥抑制板Fと基材Bとの距離dを一気に距離dmaxまで広げるように制御している。しかし、この制御に限定するものではなく、例えば、圧力の変化に応じて段階的に距離が広がるように行われてもよい。または、圧力の変化や経過時間、乾燥条件の変化などに応じて、距離dを所定の距離に調整(離す、または、近づける)するような構成であってもよい。 In the examples of FIGS. 19 and 20, when the pressure in the chamber 63 reaches a predetermined atmospheric pressure P1, the distance d between the drying suppression plate F and the base material B is controlled to be expanded to the distance d max at once. ing. However, the control is not limited to this, and for example, the distance may be gradually increased according to a change in pressure. Alternatively, the distance d may be adjusted (separated or brought closer) to a predetermined distance according to a change in pressure, an elapsed time, a change in drying conditions, or the like.

[実施形態例]
以下、本実施形態に係る手法を用いた実施形態例として、形成される膜厚による評価について説明する。ここでは、本実施形態の図12に対応する構成の実施形態例1、本実施形態の図13に対応する構成の実施形態例2、および、従来の構成に対応する比較形態例を用いて説明する。また、ここでは、表示パネルDにおける正孔注入層をインクジェット法により形成する場合を例に挙げる。
[Example of Embodiment]
Hereinafter, evaluation based on the film thickness formed will be described as an example of an embodiment using the method according to the present embodiment. Here, the first embodiment of the configuration corresponding to FIG. 12 of the present embodiment, the second embodiment of the configuration corresponding to FIG. 13 of the present embodiment, and the comparative embodiment example corresponding to the conventional configuration will be described. do. Further, here, a case where the hole injection layer in the display panel D is formed by an inkjet method will be taken as an example.

本実施形態例においては、いずれの場合も同じインクを用いる。インクを構成する機能性材料である電荷輸送性材料として、下記の化学式Mの繰り返し構造を有する機能性高分子化合物と、電子受容性化合物として4-イソプロピル-4’-メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラートとを5:1の割合で混合したものを用いることができる。また、インクを構成する有機溶媒として、シクロヘキシルベンゼン:アニソール=2:8の割合で混合させた有機溶媒を用いる。そして、これらの機能性材料(溶質)を有機溶媒に溶解し、有機溶媒がインク全体に対して2.0重量%になるように調製する。 In this embodiment, the same ink is used in each case. As a charge transporting material which is a functional material constituting an ink, a functional polymer compound having a repeating structure of the following chemical formula M and a 4-isopropyl-4'-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluoro) as an electron accepting compound. A mixture of phenyl) borate and 5: 1 can be used. Further, as the organic solvent constituting the ink, an organic solvent mixed at a ratio of cyclohexylbenzene: anisole = 2: 8 is used. Then, these functional materials (solutes) are dissolved in an organic solvent, and the organic solvent is prepared so as to be 2.0% by weight with respect to the entire ink.

Figure 2022090638000002
Figure 2022090638000002

基材Bの所定の塗布領域内に上記インクを塗布して、減圧乾燥してから正孔注入層120を生成し、その膜厚の分布を測定する。図22は、本実施形態例において、基材B2上において膜厚を測定する位置を示す概略図である。本実施形態例では、図22の矢印にて示すように、基材Bのインクの塗布領域(図15の自己発光領域100aに対応)内のX方向の中心位置において、Y軸に沿って端部から端部までの膜厚を測定する。ここでの端部から端部までの測定長さは、例えば270mmである。更に、膜厚の狙い値は60nmである。また、実施形態例1、実施形態例2、および比較形態例の層形成時の構成例は以下の通りである。 The ink is applied in a predetermined coating region of the base material B, dried under reduced pressure, and then the hole injection layer 120 is generated, and the distribution of the film thickness thereof is measured. FIG. 22 is a schematic view showing a position where the film thickness is measured on the base material B2 in the present embodiment. In the present embodiment, as shown by the arrow in FIG. 22, the end along the Y axis at the center position in the X direction in the ink application region (corresponding to the self-luminous region 100a in FIG. 15) of the base material B. Measure the film thickness from the part to the end. The measured length from one end to the other here is, for example, 270 mm. Further, the target value of the film thickness is 60 nm. Further, the configuration examples of the first embodiment, the second embodiment, and the comparative embodiment at the time of layer formation are as follows.

(実施形態例1)
実施形態例1は、図12の構成に対応する。乾燥抑制板Fの下面と基材Bの上面との距離dを5mmに固定する。インク塗布後の基材Bを乾燥装置60に搬入する直前に、乾燥抑制板Fとの対向を解除し、基材Bのみを乾燥装置60内に搬入させて、減圧乾燥を行う。
(Embodiment Example 1)
The first embodiment corresponds to the configuration of FIG. The distance d between the lower surface of the drying suppression plate F and the upper surface of the base material B is fixed at 5 mm. Immediately before the base material B after the ink is applied is carried into the drying device 60, the opposition to the drying suppressing plate F is released, and only the base material B is carried into the drying device 60 to perform vacuum drying.

(実施形態例2)
実施形態例2は、図13の構成に対応する。乾燥抑制板Fの下面と基材Bの上面との距離dを5mmに固定する。インク塗布後の基材Bと乾燥抑制板Fとの距離dを維持した状態で、乾燥装置60内に搬入して、減圧乾燥を開始させる。その後、減圧動作の最中にチャンバ63内の圧力が所定の気圧P1に到達した時点で、乾燥抑制板Fを50mmまで上昇させて、減圧乾燥を行う。すなわち、距離dmaxを50mmとする。実施形態例2では、所定の気圧P1を、図21(a)にて示した101325Pa(大気圧)~10000Paの範囲内である3×10Paに設定する。
(Embodiment Example 2)
The second embodiment corresponds to the configuration of FIG. The distance d between the lower surface of the drying suppression plate F and the upper surface of the base material B is fixed at 5 mm. While maintaining the distance d between the base material B and the drying suppression plate F after the ink is applied, the ink is carried into the drying apparatus 60 to start vacuum drying. After that, when the pressure in the chamber 63 reaches a predetermined atmospheric pressure P1 during the depressurization operation, the drying suppression plate F is raised to 50 mm to perform decompression drying. That is, the distance d max is 50 mm. In the second embodiment, the predetermined pressure P1 is set to 3 × 10 4 Pa, which is in the range of 101325 Pa (atmospheric pressure) to 10000 Pa shown in FIG. 21 (a).

(比較形態例)
比較形態例は、本実施形態に係る乾燥抑制板Fを備えていない構成に対応する。乾燥抑制板Fがない状態で基材B上に層の形成を行い、乾燥装置60へ搬送、搬入した後、減圧乾燥を行う。
(Example of comparative form)
The comparative embodiment corresponds to the configuration without the drying suppression plate F according to the present embodiment. A layer is formed on the base material B without the drying suppression plate F, and the layer is transported to and carried into the drying apparatus 60, and then dried under reduced pressure.

(効果)
図23は、上記の実施形態例1、実施形態例2、及び比較形態例において推測される乾燥後の膜厚分布の模式図を示す。図23において、縦軸は形成される層の膜厚[nm]を示し、横軸は基材Bにおける測定位置[mm]を示す。
(effect)
FIG. 23 shows a schematic diagram of the film thickness distribution after drying estimated in the above-mentioned first embodiment, second embodiment, and comparative example. In FIG. 23, the vertical axis indicates the film thickness [nm] of the formed layer, and the horizontal axis indicates the measurement position [mm] on the base material B.

図23を参照すると、本実施形態に係る乾燥抑制板Fを備えていない比較形態例(点線)では、両端部(0mm周辺および270mm周辺)において、狙い値である60nmに対して大幅に膜厚減少すると考えられる。また、そのほかの位置でも、膜厚の狙い値の60nmに対して膜厚が安定せず、凹凸がある大きなうねりが生じると考えられる。 Referring to FIG. 23, in the comparative embodiment (dotted line) not provided with the drying suppression plate F according to the present embodiment, the film thickness is significantly larger than the target value of 60 nm at both ends (around 0 mm and around 270 mm). It is expected to decrease. Further, it is considered that the film thickness is not stable with respect to the target value of 60 nm of the film thickness at other positions, and large waviness with unevenness occurs.

一方、本実施形態に係る構成に対応する実施形態例1(実線)では、乾燥抑制板Fとの対向を解除した直後から溶剤の揮発による乾燥が始まり、減圧乾燥が開始されるまでの間に溶剤がある程度揮発する。このとき、両端部は、基材B外から基材B上に流入する空気と揮発した溶剤とが混合し、溶剤蒸気が希釈されて溶剤揮発が早く進み、かつ、気流も乱れると考えられ、液面形状が安定しないと考えられる。そのため、両端部(0mm周辺および270mm周辺)において、狙い値に対してわずかに膜厚が減少すると考えられるが、比較形態例と比較して膜厚が狙い値に近い値となると考えられる。また、そのほかの位置でも、膜厚の狙い値に近い値となると考えられる。すなわち、実施形態例1は、比較形態例と比較して改善されると考えられる。 On the other hand, in the first embodiment (solid line) corresponding to the configuration according to the present embodiment, the drying by the volatilization of the solvent starts immediately after the opposition to the drying suppressing plate F is released, and the drying under reduced pressure is started. The solvent volatilizes to some extent. At this time, it is considered that the air flowing into the base material B from the outside of the base material B and the volatile solvent are mixed at both ends, the solvent vapor is diluted, the solvent volatilizes quickly, and the airflow is disturbed. It is considered that the liquid level shape is not stable. Therefore, it is considered that the film thickness is slightly reduced with respect to the target value at both ends (around 0 mm and around 270 mm), but the film thickness is considered to be closer to the target value as compared with the comparative form example. In addition, it is considered that the value close to the target value of the film thickness is also obtained at other positions. That is, it is considered that the first embodiment is improved as compared with the comparative embodiment.

また、本実施形態に係る構成に対応する実施形態例2(破線)では、両端部を含め全体にわたって、膜厚の狙い値に近い値で均一になると考えられる。すなわち、実施形態例2では、実施形態例1よりも更に膜形成の精度が向上すると考えられる。 Further, in the second embodiment (broken line) corresponding to the configuration according to the present embodiment, it is considered that the film thickness becomes uniform at a value close to the target value over the entire area including both ends. That is, it is considered that the accuracy of film formation is further improved in the second embodiment as compared with the first embodiment.

比較形態例では、インクの塗布工程~乾燥装置への搬送において、インクの乾燥が進み、膜厚減少が引き起こされると考えられる。一方、本実施形態に係る構成に対応する実施形態例1、および実施形態例2では、乾燥抑制板Fを基材Bに対向させて配置することで、乾燥抑制板Fと基材Bの間の空間内の蒸気圧が増加してインクの溶媒の蒸発が抑制される。そのため、基材B上に形成されたインクが均一な状態での膜厚にて乾燥装置内にて乾燥され、乾燥後の層の膜厚の均一性が向上する。 In the comparative form example, it is considered that the ink is dried and the film thickness is reduced in the process of applying the ink to the transfer to the drying device. On the other hand, in the first embodiment and the second embodiment corresponding to the configuration according to the present embodiment, the drying suppressing plate F is arranged so as to face the base material B between the drying suppressing plate F and the base material B. The vapor pressure in the space of the ink increases and the evaporation of the ink solvent is suppressed. Therefore, the ink formed on the base material B is dried in the drying apparatus with a uniform film thickness, and the uniformity of the film thickness of the dried layer is improved.

以上、本実施形態により、有機EL表示パネルの製造の際に、意図しないインクの乾燥を抑制し、基材上の場所によらず膜厚の均一性を向上させることが可能となる。また、複数のインク液滴にて基材上の層を形成する場合でも、各インク液滴の吐出タイミングの差に起因する乾燥の進行の差を抑制し、基材上の位置によらず膜層の均一化を図ることができる。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to suppress unintended drying of ink and improve the uniformity of the film thickness regardless of the location on the substrate when manufacturing the organic EL display panel. Further, even when a layer on the substrate is formed by a plurality of ink droplets, the difference in the progress of drying due to the difference in the ejection timing of each ink droplet is suppressed, and the film is formed regardless of the position on the substrate. The layers can be made uniform.

<その他の実施形態>
第1の実施形態では、図12や図13に示したように、インクの塗布後、基材B(ステージ40)の移動に伴って乾燥抑制板Fが連動して移動する構成を示した。乾燥抑制板Fの構成は上記に限定するものではなく、他の構成であってもよい。以下、本願発明に係る別の実施形態として別構成の例を説明する。
<Other embodiments>
In the first embodiment, as shown in FIGS. 12 and 13, after the ink is applied, the drying suppressing plate F moves in conjunction with the movement of the base material B (stage 40). The configuration of the drying suppression plate F is not limited to the above, and may be another configuration. Hereinafter, an example of another configuration will be described as another embodiment of the present invention.

図24は、乾燥抑制板Fの別の構成の例を示す図である。図12および図13では、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側では、基材Bの移動に伴って、乾燥抑制板Fも連動して移動する構成の例を示した。一方、図24は、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側において、基材Bの搬送経路に沿って、インク吐出ヘッド23の吐出面に隣接した位置から乾燥装置60への搬入位置直前まで乾燥抑制板Fが設置されている例を示している。そして、乾燥抑制板Fの端部の位置まで基材Bが搬送された後、搬入装置(不図示)により、基材Bは、乾燥装置60内へ搬入される。乾燥装置60に搬入された状態は、図12と同様であってよい。 FIG. 24 is a diagram showing an example of another configuration of the drying suppression plate F. 12 and 13 show an example of a configuration in which the drying suppression plate F moves in conjunction with the movement of the base material B on the downstream side in the transport direction (X-axis direction) from the ink ejection head 23. .. On the other hand, FIG. 24 shows the drying device 60 from a position adjacent to the ejection surface of the ink ejection head 23 along the conveying path of the base material B on the downstream side in the conveying direction (X-axis direction) from the ink ejection head 23. An example is shown in which the drying suppression plate F is installed until just before the carry-in position. Then, after the base material B is conveyed to the position of the end portion of the drying suppression plate F, the base material B is carried into the drying device 60 by the carry-in device (not shown). The state of being carried into the drying device 60 may be the same as in FIG.

図25は、乾燥抑制板Fの別の構成の例を示す図である。図12および図13では、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側では、基材Bの移動に伴って、乾燥抑制板Fも連動して移動する構成の例を示した。一方、図25は、インク吐出ヘッド23よりも搬送方向(X軸方向)の下流側において、インク吐出ヘッド23の吐出面に隣接した位置から基材Bの搬送経路に沿って、乾燥抑制板Fが設置されている例を示している。更に、乾燥装置60への搬入位置直前の位置において、乾燥装置60へ搬入用の乾燥抑制板Faが設置されている。乾燥装置60への搬入位置直前の位置まで基材Bが搬送された後、搬入装置(不図示)により、基材Bは、乾燥抑制板Faと対向した状態で乾燥装置60内へ搬入される。このとき、乾燥抑制板Faと基材Bとの間の距離dは、乾燥抑制板Fと基材Bとの間の距離dと同様であるとする。乾燥装置60に搬入された状態は、図13と同様であってよく、この場合は、図19や図20にて説明したような構成にて乾燥動作が行われてよい。なお、乾燥抑制板Fと乾燥抑制板Faそれぞれの材質は同じであってもよいし、異なっていてもよい。 FIG. 25 is a diagram showing an example of another configuration of the drying suppression plate F. 12 and 13 show an example of a configuration in which the drying suppression plate F moves in conjunction with the movement of the base material B on the downstream side in the transport direction (X-axis direction) from the ink ejection head 23. .. On the other hand, FIG. 25 shows a drying suppressing plate F from a position adjacent to the ejection surface of the ink ejection head 23 along the conveying path of the base material B on the downstream side in the conveying direction (X-axis direction) from the ink ejection head 23. Is installed. Further, a drying suppression plate Fa for carrying into the drying device 60 is installed at a position immediately before the carrying-in position to the drying device 60. After the base material B is transported to a position immediately before the carry-in position to the drying device 60, the base material B is carried into the drying device 60 in a state of facing the drying suppression plate Fa by the carry-in device (not shown). .. At this time, it is assumed that the distance d between the drying suppressing plate Fa and the base material B is the same as the distance d between the drying suppressing plate F and the base material B. The state of being carried into the drying device 60 may be the same as that of FIG. 13, and in this case, the drying operation may be performed with the configuration as described with reference to FIGS. 19 and 20. The materials of the drying suppression plate F and the drying suppression plate Fa may be the same or different.

なお、図25では、乾燥抑制板Fと乾燥抑制板Faは、ステージ40による基材Bの搬送中の移動には連動していない構成を示した。この構成に限らず、乾燥抑制板Fの一部(例えば、乾燥抑制板Fa)が図12などと同様に、基材Bの移動に連動してX軸方向に沿って移動するような構成であってもよい。または、基材Bの搬送方向(X軸方向)に沿って複数の部位から構成される乾燥抑制板Fを設置し、基材Bの移動に伴って乾燥抑制板Fを構成する各部位がリレー方式で順に切り替わりながら基材Bに対向するように連動してもよい。 Note that FIG. 25 shows a configuration in which the drying suppression plate F and the drying suppression plate Fa are not linked to the movement of the base material B during transportation by the stage 40. Not limited to this configuration, a part of the drying suppression plate F (for example, the drying suppression plate Fa) is configured to move along the X-axis direction in conjunction with the movement of the base material B as in FIG. There may be. Alternatively, a drying suppression plate F composed of a plurality of parts is installed along the transport direction (X-axis direction) of the base material B, and each part constituting the drying suppression plate F relays as the base material B moves. It may be interlocked so as to face the base material B while switching in order according to the method.

また、本願発明において、上述した1以上の実施形態の機能を実現するためのプログラムやアプリケーションを、ネットワーク又は記憶媒体等を用いてシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。 Further, in the present invention, one or more programs or applications for realizing the functions of the above-mentioned one or more embodiments are supplied to the system or device using a network or a storage medium, and the system or device is used in a computer. It can also be realized by the process of reading and executing the program by the processor of.

また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)やFPGA(Field Programmable Gate Array))によって実現してもよい。 Further, it may be realized by a circuit (for example, ASIC (Application Specific Integrated Circuit) or FPGA (Field Programmable Gate Array)) that realizes one or more functions.

このように、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本発明の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。 As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified or applied by those skilled in the art based on the mutual combination of the configurations of the embodiments, the description of the specification, and the well-known technique. It is also a matter of the present invention to do so, and it is included in the scope of seeking protection.

本願発明に係る有機ELパネルの製造装置、および有機ELパネルの製造方法は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの装置、表示パネルを有する様々な電子機器における表示パネル等の製造に広く利用することができる。また、インク塗布工程を用いて機能層を形成する工程を含む電子デバイスの製造等に広く活用することができる。 The organic EL panel manufacturing apparatus and the organic EL panel manufacturing method according to the present invention are widely used for manufacturing devices such as television sets, personal computers, mobile phones, and display panels in various electronic devices having display panels. can do. Further, it can be widely used for manufacturing electronic devices including a step of forming a functional layer by using an ink coating step.

1…インクジェット装置
10…X軸テーブル
11…Y軸テーブル
12…X軸ガイドレール
13…Y軸ガイドレール
20…キャリッジユニット
21…キャリッジ支持部
22…キャリッジ
23…インク吐出ヘッド
40…ステージ
41…ステージ回動機構
42…X軸スライダ
50…制御装置
60…乾燥装置
61…支持台
62…真空ポンプ
63…チャンバ
100…基板
119…画素電極
120…正孔注入層
121…正孔輸送層
122…バンク
123…発光層
124…電子輸送層
125…対向電極
126…封止層
127…接合層
128…カラーフィルタ層
130…上部基板
131…カラーフィルタ基板
201…ノズル孔
202…インク液滴
B…基材
F…乾燥抑制板
K…インク液滴
1 ... Ink device 10 ... X-axis table 11 ... Y-axis table 12 ... X-axis guide rail 13 ... Y-axis guide rail 20 ... Carriage unit 21 ... Carriage support 22 ... Carriage 23 ... Ink ejection head 40 ... Stage 41 ... Stage times Dynamic mechanism 42 ... X-axis slider 50 ... Control device 60 ... Drying device 61 ... Support stand 62 ... Vacuum pump 63 ... Chamber 100 ... Substrate 119 ... Pixel electrode 120 ... Hole injection layer 121 ... Hole transport layer 122 ... Bank 123 ... Light emitting layer 124 ... Electron transport layer 125 ... Opposite electrode 126 ... Sealing layer 127 ... Bonding layer 128 ... Color filter layer 130 ... Upper substrate 131 ... Color filter substrate 201 ... Nozzle hole 202 ... Ink droplet B ... Base material F ... Drying Suppressor plate K ... Ink droplets

Claims (19)

有機EL表示パネルの製造装置であって、
基板を移動させる搬送部と、
前記有機EL表示パネルの機能層を形成するためのインクを吐出するインク吐出ヘッドと、
前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置される乾燥抑制部材を備えることを特徴とする製造装置。
It is a manufacturing device for organic EL display panels.
A transport unit that moves the board,
An ink ejection head for ejecting ink for forming a functional layer of the organic EL display panel, and an ink ejection head.
A manufacturing apparatus comprising: a drying suppressing member arranged so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドの前記基板の移動方向側に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の製造装置。 The manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the drying suppressing member is provided on the moving direction side of the substrate of the ink ejection head. 前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドの前記基板の移動方向側に隣接して設けられたことを特徴とする請求項2に記載の製造装置。 The manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the drying suppressing member is provided adjacent to the ink ejection head on the moving direction side of the substrate. 前記乾燥抑制部材は、前記搬送部により前記基板の表面のインクが塗布された領域が移動する範囲に対向して配置されることを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の製造装置。 The invention according to any one of claims 1 to 3, wherein the drying suppressing member is arranged so as to face a range in which the ink-coated region on the surface of the substrate is moved by the transport portion. manufacturing device. 前記乾燥抑制部材は、板状にて構成されることを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の製造装置。 The manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the drying suppressing member is formed in a plate shape. 前記乾燥抑制部材は、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように配置されることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の製造装置。 The manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the drying suppressing member is arranged so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range. 前記乾燥抑制部材は、前記基板の移動に連動して、前記基板の表面に対向した状態で移動するように構成されることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の製造装置。 The production according to any one of claims 1 to 6, wherein the drying suppressing member is configured to move in a state of facing the surface of the substrate in conjunction with the movement of the substrate. Device. 請求項1~7のいずれか一項に記載の前記製造装置と、
前記インクが吐出された前記基板を乾燥させる乾燥装置と
を備え、
前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から前記搬送部により前記乾燥装置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように対向して配置されることを特徴とする製造システム。
The manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7.
A drying device for drying the substrate on which the ink is discharged is provided.
The drying suppressing member is arranged so as to face each other so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range while being transported from a position adjacent to the ink ejection head to the drying device by the transport unit. A manufacturing system characterized by that.
請求項1~7のいずれか一項に記載の前記製造装置と、
前記インクが吐出された前記基板を乾燥させる乾燥装置と
を備え、
前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から前記搬送部により前記乾燥装置内の乾燥位置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように対向して配置されることを特徴とする製造システム。
The manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 7.
A drying device for drying the substrate on which the ink is discharged is provided.
The drying suppressing member faces each other so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range while being transported from a position adjacent to the ink ejection head to a drying position in the drying device by the transport unit. A manufacturing system characterized by being placed in a row.
前記乾燥装置内において、前記乾燥抑制部材と、前記基板の表面との距離を調整する調整部を更に有することを特徴とする請求項9に記載の製造システム。 The manufacturing system according to claim 9, further comprising an adjusting portion for adjusting the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate in the drying device. 前記乾燥装置は、減圧乾燥機であり、
前記調整部は、乾燥時の気圧が所定の値にて、前記乾燥抑制部材と前記基板の表面との距離が所定の距離となるよう可動させて調整することを特徴とする請求項10に記載の製造システム。
The drying device is a vacuum dryer.
The tenth aspect of the present invention is characterized in that the adjusting unit is moved so that the air pressure at the time of drying is a predetermined value and the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate is a predetermined distance. Manufacturing system.
有機EL表示パネルの製造方法であって、
基板に、インク吐出ヘッドによりインクを吐出させて前記有機EL表示パネルの機能層を形成し、
乾燥抑制部材を前記インク吐出ヘッドによりインクが吐出された前記基板の表面に対向して配置させることを特徴とする製造方法。
It is a manufacturing method of an organic EL display panel.
Ink is ejected onto the substrate by the ink ejection head to form the functional layer of the organic EL display panel.
A manufacturing method comprising arranging a drying suppressing member so as to face the surface of the substrate on which ink is ejected by the ink ejection head.
前記乾燥抑制部材は、前記基板の表面に吐出されたインクの領域が移動する範囲に対向して配置されることを特徴とする請求項12に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 12, wherein the drying suppressing member is arranged so as to face a range in which a region of ink ejected on the surface of the substrate moves. 前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から、前記インクが吐出された前記基板を乾燥させる乾燥装置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように配置されることを特徴とする請求項12または請求項13に記載の製造方法。 The drying suppressing member is so that the distance from the surface of the substrate is within a predetermined range while being conveyed from the position adjacent to the ink ejection head to the drying apparatus for drying the substrate on which the ink is ejected. The manufacturing method according to claim 12 or 13, wherein the manufacturing method is arranged in. 前記乾燥抑制部材は、前記インク吐出ヘッドに隣接した位置から、前記インクが吐出された前記基板を乾燥させる乾燥装置内の乾燥位置まで搬送される間、前記基板の表面との距離が所定の範囲内となるように配置されることを特徴とする請求項12~14のいずれか一項に記載の製造方法。 The drying suppressing member has a predetermined range of distance from the surface of the substrate while being conveyed from a position adjacent to the ink ejection head to a drying position in a drying apparatus for drying the substrate on which the ink is ejected. The manufacturing method according to any one of claims 12 to 14, wherein the manufacturing method is arranged so as to be inside. 乾燥装置による乾燥工程を有し、
前記乾燥工程に用いる前記乾燥装置内において、前記乾燥抑制部材と、前記基板の表面との距離を調整することを特徴とする請求項14または請求項15に記載の製造方法。
Has a drying process with a drying device,
The manufacturing method according to claim 14 or 15, wherein the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate is adjusted in the drying apparatus used in the drying step.
前記乾燥装置は、減圧乾燥機であり、
前記乾燥装置による乾燥動作の際に気圧が所定の値にて、前記乾燥抑制部材と前記基板の表面との距離が所定の距離となるよう可動させて調整することを特徴とする請求項16に記載の製造方法。
The drying device is a vacuum dryer.
The 16th aspect of the present invention is characterized in that, during a drying operation by the drying device, the atmospheric pressure is moved to a predetermined value and the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate is adjusted to be a predetermined distance. The manufacturing method described.
前記乾燥装置による乾燥動作の際に所定の条件を満たした際に、前記乾燥抑制部材と前記基板の表面との距離を離すように調整することを特徴とする請求項17に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 17, wherein when a predetermined condition is satisfied during the drying operation by the drying device, the distance between the drying suppressing member and the surface of the substrate is adjusted. 請求項12~18のいずれか一項に記載の製造方法を用いて製造される有機EL表示パネル。 An organic EL display panel manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 12 to 18.
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