JP2022075319A - Semiconductor device, die pad, and manufacturing method for semiconductor device - Google Patents

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Abstract

To provide a semiconductor device in which void can be suppressed in a solder between a semiconductor chip and a die pad, and a die pad and a manufacturing method for a semiconductor device.SOLUTION: A semiconductor device according to the present disclosure includes a die pad having a first surface and a second surface on the opposite side of the first surface and including a first concave part on the first surface, and a semiconductor chip. An inner surface of the die pad that forms the first concave part includes a first part for receiving the supply of a solder, a second part where the semiconductor chip is bonded with the solder and a distance from the second surface is smaller in a direction perpendicular to the second surface than the first part, and a coupling part connecting between the first part and the second part, in which the distance from the second surface in the direction perpendicular to the second surface is larger than the first part and smaller than the first surface.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本開示は、半導体装置、ダイパッドおよび半導体装置の製造方法に関する。 The present disclosure relates to semiconductor devices, die pads and methods for manufacturing semiconductor devices.

特許文献1には、はんだにより半導体チップを接合するダイパッドを備えたリードフレームが開示されている。このリードフレームにおいて、ダイパッドの平坦な上面のうち半導体チップの配置領域には、上面から窪んではんだを収容する凹部が形成される。はんだは凹部内に収容されているため、濡れ広がることが無い。したがって、半導体チップをダイパッドに接合した状態においては、ダイパッドと半導体チップとの間に介在するはんだの厚みを十分に確保することができる。 Patent Document 1 discloses a lead frame including a die pad for joining semiconductor chips by soldering. In this lead frame, a recess is formed in the flat upper surface of the die pad where the semiconductor chip is arranged, which is recessed from the upper surface to accommodate the solder. Since the solder is contained in the recess, it does not get wet and spread. Therefore, when the semiconductor chip is joined to the die pad, the thickness of the solder interposed between the die pad and the semiconductor chip can be sufficiently secured.

特開2012-104709号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-104709

特許文献1では、半導体チップとダイパッドのチップ搭載領域との間のはんだ内に、ボイドが発生するおそれがある。 In Patent Document 1, voids may occur in the solder between the semiconductor chip and the chip mounting area of the die pad.

本開示は、上述の課題を解決するためになされたもので、半導体チップとダイパッドとの間のはんだ内においてボイドを抑制できる半導体装置、ダイパッドおよび半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。 The present disclosure has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to obtain a semiconductor device, a die pad, and a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing voids in the solder between the semiconductor chip and the die pad.

第1の開示に係る半導体装置は、第1面と該第1面と反対側の面である第2面とを有し、該第1面に第1凹部が形成されたダイパッドと、半導体チップと、を備え、該ダイパッドのうち該第1凹部を形成する内面は、はんだの供給を受けるための第1部分と、該半導体チップが該はんだで接合され、該第1部分よりも該第2面と垂直な方向での該第2面からの距離が小さい第2部分と、該第1部分と該第2部分を繋ぎ、該第2面と垂直な方向での該第2面からの距離が該第1部分よりも大きく該第1面よりも小さい連結部と、を有する。 The semiconductor device according to the first disclosure has a first surface and a second surface which is a surface opposite to the first surface, and a die pad having a first recess formed on the first surface and a semiconductor chip. The inner surface of the die pad forming the first recess is the first portion for receiving the supply of solder and the semiconductor chip is joined with the solder, and the second portion is more than the first portion. A second part having a small distance from the second surface in a direction perpendicular to the surface, and a distance from the second surface in a direction perpendicular to the second surface by connecting the first part and the second part. Has a connecting portion that is larger than the first portion and smaller than the first surface.

第2の開示に係るダイパッドは、第1面と該第1面と反対側の面である第2面とを有し、該第1面に凹部が形成されたダイパッドであって、該ダイパッドのうち該凹部を形成する内面は、はんだの供給を受けるための第1部分と、半導体チップが該はんだで接合され、該第1部分よりも該第2面と垂直な方向での該第2面からの距離が小さい第2部分と、該第1部分と該第2部分を繋ぎ、該第2面と垂直な方向での該第2面からの距離が該第1部分よりも大きく該第1面よりも小さい連結部と、を有する。 The die pad according to the second disclosure is a die pad having a first surface and a second surface which is a surface opposite to the first surface, and a recess is formed in the first surface of the die pad. Of these, the inner surface forming the recess is the first portion for receiving the supply of solder and the second surface in a direction perpendicular to the second surface from the first portion where the semiconductor chip is bonded with the solder. The first part, which connects the first part and the second part with a small distance from the second part, and the distance from the second surface in the direction perpendicular to the second surface is larger than that of the first part. It has a connecting portion that is smaller than the surface.

第3の開示に係る半導体装置の製造方法は、第1面と該第1面と反対側の面である第2面とを有し、該第1面に凹部が形成されたダイパッドを加熱した状態で、該ダイパッドのうち該凹部を形成する内面の第1部分にはんだを供給し、該凹部を形成する内面のうち該第1部分よりも該第2面と垂直な方向での該第2面からの距離が小さい第2部分に連結部を介して溶融した該はんだを流動させ、該第2部分に流動した該はんだの上に半導体チップを搭載し、該ダイパッドを冷却して該半導体チップを該第2部分に該はんだで接合し、該連結部は、該凹部を形成する内面のうち、該第1部分と該第2部分を繋ぎ、該第2面と垂直な方向での該第2面からの距離が該第1部分よりも大きく該第1面よりも小さい部分である。 The method for manufacturing a semiconductor device according to the third disclosure has a first surface and a second surface which is a surface opposite to the first surface, and heats a die pad having a recess formed in the first surface. In this state, solder is supplied to the first portion of the inner surface of the die pad forming the recess, and the second portion of the inner surface forming the recess is perpendicular to the second surface of the first portion. The molten solder is flowed through a connecting portion to a second portion having a small distance from the surface, a semiconductor chip is mounted on the solder that has flowed to the second portion, and the die pad is cooled to cool the semiconductor chip. Is joined to the second portion with the solder, and the connecting portion connects the first portion and the second portion of the inner surface forming the recess, and the second portion in a direction perpendicular to the second surface. The portion where the distance from the two surfaces is larger than the first surface and smaller than the first surface.

第1の開示に係る半導体装置によれば、ダイパッドの第1部分に供給されたはんだを、連結部を介して第2部分に流動させることができる。これにより、第2部分にボイドが流入することを抑制できる。従って、半導体チップとダイパッドとの間のはんだ内においてボイドを抑制できる。 According to the semiconductor device according to the first disclosure, the solder supplied to the first portion of the die pad can be flowed to the second portion via the connecting portion. As a result, it is possible to suppress the inflow of voids into the second portion. Therefore, voids can be suppressed in the solder between the semiconductor chip and the die pad.

第2の開示に係るダイパッドでは、第1部分で供給を受けたはんだを、連結部を介して第2部分に流動させることができる。これにより、第2部分にボイドが流入することを抑制できる。従って、半導体チップとダイパッドとの間のはんだ内においてボイドを抑制できる。 In the die pad according to the second disclosure, the solder supplied in the first portion can be flowed to the second portion via the connecting portion. As a result, it is possible to suppress the inflow of voids into the second portion. Therefore, voids can be suppressed in the solder between the semiconductor chip and the die pad.

第3の開示に係る半導体装置の製造方法では、ダイパッドの第1部分に供給されたはんだを、連結部を介して第2部分に流動させることができる。これにより、第2部分にボイドが流入することを抑制できる。従って、半導体チップとダイパッドとの間のはんだ内においてボイドを抑制できる。 In the method for manufacturing a semiconductor device according to the third disclosure, the solder supplied to the first portion of the die pad can be flowed to the second portion via the connecting portion. As a result, it is possible to suppress the inflow of voids into the second portion. Therefore, voids can be suppressed in the solder between the semiconductor chip and the die pad.

実施の形態1に係る半導体装置の平面図である。It is a top view of the semiconductor device which concerns on Embodiment 1. FIG. 図1をA-B直線で切断することで得られる断面図である。It is sectional drawing obtained by cutting FIG. 1 by the AB straight line. 実施の形態1に係る半導体装置の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the semiconductor device which concerns on Embodiment 1. FIG. 第2凹部がはんだで満たされた状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the 2nd recess is filled with solder. 半導体チップを搭載する工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of mounting a semiconductor chip. 第1の比較例に係るダイパッドの構造を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the die pad which concerns on the 1st comparative example. 第2の比較例に係るダイパッドの構造を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the die pad which concerns on the 2nd comparative example. 実施の形態1に係るダイパッドの構造を説明する図である。It is a figure explaining the structure of the die pad which concerns on Embodiment 1. FIG. 半導体装置を冷却する工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of cooling a semiconductor device. 実施の形態2に係るダイパッドの平面図である。It is a top view of the die pad which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係る半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施の形態3に係る半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施の形態3に係る半導体装置の平面図である。It is a top view of the semiconductor device which concerns on Embodiment 3. FIG.

各本実施の形態に係る半導体装置、ダイパッドおよび半導体装置の製造方法について図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。 A method for manufacturing a semiconductor device, a die pad, and a semiconductor device according to each embodiment will be described with reference to the drawings. The same or corresponding components may be designated by the same reference numerals and the description may be omitted.

実施の形態1.
図1は、実施の形態1に係る半導体装置100の平面図である。図2は、図1をA-B直線で切断することで得られる断面図である。半導体装置100は、例えばパワー半導体モジュールである。半導体装置100は、ダイパッド10と、半導体チップ45を備える。半導体チップ45は、例えばパワー半導体チップである。
Embodiment 1.
FIG. 1 is a plan view of the semiconductor device 100 according to the first embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view obtained by cutting FIG. 1 along an AB straight line. The semiconductor device 100 is, for example, a power semiconductor module. The semiconductor device 100 includes a die pad 10 and a semiconductor chip 45. The semiconductor chip 45 is, for example, a power semiconductor chip.

ダイパッド10は、平面13と斜面15とを有する第1面16と、第1面16と反対側の面である第2面11とを有する。ダイパッド10の第1面16には、凹部50が形成される。凹部50は、第1凹部20と第2凹部30から形成される。ダイパッド10は、平坦部12と傾斜部14を有する。傾斜部14には第1凹部20が形成される。平坦部12には第2凹部30が形成される。 The die pad 10 has a first surface 16 having a plane 13 and a slope 15, and a second surface 11 which is a surface opposite to the first surface 16. A recess 50 is formed on the first surface 16 of the die pad 10. The recess 50 is formed from a first recess 20 and a second recess 30. The die pad 10 has a flat portion 12 and an inclined portion 14. A first recess 20 is formed in the inclined portion 14. A second recess 30 is formed in the flat portion 12.

ダイパッド10のうち凹部50を形成する内面は、第1部分22、第2部分32および連結部25を有する。第1部分22は、ダイパッド10の凹部50を形成する内面のうち、第1凹部20を形成する部分である。第1部分22は、後述するように、はんだ40の供給を受けるための部分である。第2部分32は、ダイパッド10の凹部50を形成する内面のうち、第2凹部30を形成する部分である。第2部分32には、半導体チップ45がはんだ40で接合される。また、第2部分32は、第1部分22よりも第2面11と垂直な方向での第2面11からの距離が小さい。 The inner surface of the die pad 10 forming the recess 50 has a first portion 22, a second portion 32 and a connecting portion 25. The first portion 22 is a portion of the inner surface forming the recess 50 of the die pad 10 that forms the first recess 20. The first portion 22 is a portion for receiving the supply of the solder 40, as will be described later. The second portion 32 is a portion of the inner surface forming the recess 50 of the die pad 10 that forms the second recess 30. A semiconductor chip 45 is joined to the second portion 32 with solder 40. Further, the second portion 32 has a smaller distance from the second surface 11 in the direction perpendicular to the second surface 11 than the first portion 22.

連結部25は、ダイパッド10の凹部50を形成する内面のうち、第1部分22と第2部分32を繋ぐ部分である。連結部25は、第2面11と垂直な方向での第2面11からの距離が第1部分22よりも大きい。つまり、連結部25は、第1部分22の底部よりも高い位置で、第1部分22と第2部分32を繋いている。また、連結部25は、第2面11と垂直な方向での第2面11からの距離が平面13よりも小さい。 The connecting portion 25 is a portion of the inner surface forming the recess 50 of the die pad 10 that connects the first portion 22 and the second portion 32. The distance of the connecting portion 25 from the second surface 11 in the direction perpendicular to the second surface 11 is larger than that of the first portion 22. That is, the connecting portion 25 connects the first portion 22 and the second portion 32 at a position higher than the bottom of the first portion 22. Further, the distance of the connecting portion 25 from the second surface 11 in the direction perpendicular to the second surface 11 is smaller than that of the plane 13.

第1面16のうち第1部分22が設けられた部分である斜面15は、第1面16のうち第2部分32が設けられた部分である平面13に近づくほど、第2面11と垂直な方向での第2面11との距離が小さくなるように傾斜している。 The slope 15 which is the portion of the first surface 16 where the first portion 22 is provided is perpendicular to the second surface 11 as it approaches the plane 13 which is the portion of the first surface 16 where the second portion 32 is provided. It is inclined so that the distance from the second surface 11 in the above direction becomes small.

第2部分32のうち第2面11と垂直な方向から見て半導体チップ45よりも外側に設けられる部分は、ダイパッド10の外側に向けて凸となるように湾曲している。具体的には、第2部分32のうち半導体チップ45の直下の平坦部33の周囲の側面34は湾曲している。 The portion of the second portion 32 provided outside the semiconductor chip 45 when viewed from the direction perpendicular to the second surface 11 is curved so as to be convex toward the outside of the die pad 10. Specifically, of the second portion 32, the side surface 34 around the flat portion 33 directly below the semiconductor chip 45 is curved.

半導体装置100では、はんだ40を介して半導体チップ45がダイパッド10と接合されている。ダイパッド10は例えば金属から形成される。また、第1部分22と第2部分32にはメッキが施されても良い。 In the semiconductor device 100, the semiconductor chip 45 is bonded to the die pad 10 via the solder 40. The die pad 10 is formed of, for example, metal. Further, the first portion 22 and the second portion 32 may be plated.

次に、半導体装置100の製造方法について説明する。図3は、実施の形態1に係る半導体装置100の製造方法を説明する図である。まず、ダイパッド10を高温プレート70の上に搭載する。なお、ダイパッド10は、図示しない還元状態の炉内に配置されている。このようにダイパッド10を加熱した状態で、第1部分22にはんだ40を供給する。これにより、第2部分32に連結部25を介して溶融したはんだ40を流動させる。 Next, a method for manufacturing the semiconductor device 100 will be described. FIG. 3 is a diagram illustrating a method of manufacturing the semiconductor device 100 according to the first embodiment. First, the die pad 10 is mounted on the high temperature plate 70. The die pad 10 is arranged in a furnace in a reduced state (not shown). With the die pad 10 heated in this way, the solder 40 is supplied to the first portion 22. As a result, the molten solder 40 is flowed through the connecting portion 25 in the second portion 32.

本実施の形態では、傾斜部14に第1部分22が設けられることで、第2部分32に効率よくはんだ40を流動させることができる。また、連結部25は平面13よりも低い位置にある。このため、第2凹部30の外側にはんだ40が乗り上げることを抑制できる。 In the present embodiment, by providing the first portion 22 on the inclined portion 14, the solder 40 can be efficiently flowed on the second portion 32. Further, the connecting portion 25 is located at a position lower than the plane 13. Therefore, it is possible to prevent the solder 40 from riding on the outside of the second recess 30.

はんだ40は、糸はんだ42から供給される。このとき、糸はんだ42の表面酸化膜によりボイド60が発生することがある。これに対し本実施の形態では、第1部分22と第2部分32は連結部25で隔てられる。このため、ボイド60が第2部分32に流動することを抑制できる。従って、品質の良いはんだ40をチップ搭載部に送ることができ、半導体チップ45とダイパッド10との間のはんだ40内においてボイド60を抑制できる。 The solder 40 is supplied from the thread solder 42. At this time, the void 60 may be generated by the surface oxide film of the solder thread 42. On the other hand, in the present embodiment, the first portion 22 and the second portion 32 are separated by the connecting portion 25. Therefore, it is possible to prevent the void 60 from flowing to the second portion 32. Therefore, the high-quality solder 40 can be sent to the chip mounting portion, and the void 60 can be suppressed in the solder 40 between the semiconductor chip 45 and the die pad 10.

図4は、第2凹部30がはんだ40で満たされた状態を示す図である。この状態での第2凹部30におけるはんだ40の厚さは、チップサイズが小さい場合は、30um以上が望ましい。ここでは、はんだ40として一般的な鉛フリー接合材を想定している。第1凹部20の底部と第2凹部30の底部との高低差80は、はんだ40の厚さ以上であることが望ましい。 FIG. 4 is a diagram showing a state in which the second recess 30 is filled with the solder 40. The thickness of the solder 40 in the second recess 30 in this state is preferably 30 um or more when the chip size is small. Here, a general lead-free joining material is assumed as the solder 40. It is desirable that the height difference 80 between the bottom of the first recess 20 and the bottom of the second recess 30 is equal to or larger than the thickness of the solder 40.

次に、第2部分32に流動したはんだ40の上に半導体チップ45を搭載する。図5は、半導体チップ45を搭載する工程を説明する図である。このとき、矢印81に示されるように、はんだ40の上に、半導体チップ45を第2部分32に向かって押し込みながら搭載する。これにより、矢印82に示されるように、はんだ82が半導体チップ45の直下から外側に排出される。これに伴い、ボイド60をはんだ40と共に半導体チップ45の直下から外側に排出できる。その後、第2凹部30内のはんだ40は、張力により半導体チップ45の直下に戻る。 Next, the semiconductor chip 45 is mounted on the solder 40 that has flowed to the second portion 32. FIG. 5 is a diagram illustrating a process of mounting the semiconductor chip 45. At this time, as shown by the arrow 81, the semiconductor chip 45 is mounted on the solder 40 while being pushed toward the second portion 32. As a result, as shown by the arrow 82, the solder 82 is discharged from directly below the semiconductor chip 45 to the outside. Along with this, the void 60 can be discharged together with the solder 40 from directly below the semiconductor chip 45 to the outside. After that, the solder 40 in the second recess 30 returns to just below the semiconductor chip 45 due to tension.

図6は、第1の比較例に係るダイパッド10aの構造を説明する図である。ダイパッド10aの第2部分32aの側面34aは、平坦な斜面である。このとき、第2凹部の半導体チップ45の外側部分の容積が小さい。このため、矢印83のように半導体チップ45を押し込んだとき、はんだ40が半導体チップ45上に這い上がり易い。また、矢印84のように張力ではんだ40が戻る際の戻り量は大きくなる。 FIG. 6 is a diagram illustrating the structure of the die pad 10a according to the first comparative example. The side surface 34a of the second portion 32a of the die pad 10a is a flat slope. At this time, the volume of the outer portion of the semiconductor chip 45 in the second recess is small. Therefore, when the semiconductor chip 45 is pushed in as shown by the arrow 83, the solder 40 tends to crawl up on the semiconductor chip 45. Further, as shown by the arrow 84, the amount of return when the solder 40 returns due to tension becomes large.

図7は、第2の比較例に係るダイパッド10bの構造を説明する図である。ダイパッド10bの第2部分32bの側面34bは、平坦部33と垂直な平面である。このとき、第2凹部の半導体チップ45の外側部分の容積が大きい。このため、矢印83のように半導体チップ45を押し込んだとき、はんだ45が半導体チップ45上に這い上がりにくい。しかし、矢印84のように張力ではんだ40が戻る際の戻り量は少なくなる。このため、はんだ40の厚さが確保できないおそれがある。 FIG. 7 is a diagram illustrating the structure of the die pad 10b according to the second comparative example. The side surface 34b of the second portion 32b of the die pad 10b is a flat surface perpendicular to the flat portion 33. At this time, the volume of the outer portion of the semiconductor chip 45 in the second recess is large. Therefore, when the semiconductor chip 45 is pushed in as shown by the arrow 83, the solder 45 is unlikely to crawl up on the semiconductor chip 45. However, as shown by the arrow 84, the amount of return when the solder 40 returns due to tension is small. Therefore, the thickness of the solder 40 may not be secured.

図8は、実施の形態1に係るダイパッド10の構造を説明する図である。本実施の形態では、第2部分32の側面34は、外側に張り出した湾曲形状である。このような第2凹部30により、はんだ45が半導体チップ45上に這い上がることを抑制し、かつ、はんだ40の戻り量を確保してはんだ40の厚さを確保できる。なお、側面34は、曲面であっても良く、複数の平面を繋げて構成されていても良い。 FIG. 8 is a diagram illustrating the structure of the die pad 10 according to the first embodiment. In the present embodiment, the side surface 34 of the second portion 32 has a curved shape protruding outward. With such a second recess 30, it is possible to prevent the solder 45 from creeping up on the semiconductor chip 45, and to secure the return amount of the solder 40 to secure the thickness of the solder 40. The side surface 34 may be a curved surface or may be configured by connecting a plurality of planes.

図9は、半導体装置100を冷却する工程を説明する図である。この工程では、ダイパッド10を冷却して半導体チップ45を第2部分32にはんだ40で接合する。冷却は例えばダイパッド10を放熱板72の上に搭載することで行う。はんだ40は、放熱板72までの距離85が小さい部分から順に冷却される。このため、第2凹部30に設けられたはんだ40の方が第1凹部20に設けられたはんだ40よりも早く固化する。これにより、第2凹部30でのはんだ40の厚さを確保できる。 FIG. 9 is a diagram illustrating a process of cooling the semiconductor device 100. In this step, the die pad 10 is cooled and the semiconductor chip 45 is bonded to the second portion 32 with solder 40. Cooling is performed, for example, by mounting the die pad 10 on the heat radiating plate 72. The solder 40 is cooled in order from the portion where the distance 85 to the heat sink 72 is smaller. Therefore, the solder 40 provided in the second recess 30 solidifies faster than the solder 40 provided in the first recess 20. As a result, the thickness of the solder 40 in the second recess 30 can be secured.

はんだ40は固化する際に収縮する。このとき、後に固化した部分には、先に固化した部分に引き寄せられることで、空洞が発生することがある。この空洞はひけすとも呼ばれ、ボイドの一因となる。本実施の形態では、半導体チップ45の直下のはんだ40は、他の部分よりも放熱板72に近い。このため、半導体チップ45の直下のはんだ40は、他の部分よりも早く固化する。従って、半導体チップ45の直下でボイドを抑制できる。 The solder 40 shrinks as it solidifies. At this time, a cavity may be generated in the portion solidified later by being attracted to the portion solidified earlier. This cavity, also known as Hikesu, contributes to the void. In the present embodiment, the solder 40 directly under the semiconductor chip 45 is closer to the heat sink 72 than the other parts. Therefore, the solder 40 directly under the semiconductor chip 45 solidifies faster than the other parts. Therefore, the void can be suppressed directly under the semiconductor chip 45.

はんだ付け等の接合部に求められる性能として熱抵抗が低いことが挙げられる。特にパワー半導体モジュールでは、性能向上の観点から半導体チップが薄厚化する傾向にある。例えば100um以下の薄厚チップを搭載した半導体装置が、スイッチング素子としてインバータなどに組み込まれることがある。このとき、半導体チップの直下またはワイヤ接合部の直下にボイドがあると、局所的な熱集中により半導体装置が短寿命化するおそれがある。このため、パワー半導体モジュールにおいて効率よく放熱するためには、半導体チップの直下のはんだにボイドが無いことが望ましい。 Low thermal resistance is one of the performance required for joints such as soldering. Especially in power semiconductor modules, semiconductor chips tend to be thinner from the viewpoint of improving performance. For example, a semiconductor device equipped with a thin chip of 100 um or less may be incorporated in an inverter or the like as a switching element. At this time, if there is a void directly under the semiconductor chip or directly under the wire bonding portion, the life of the semiconductor device may be shortened due to local heat concentration. Therefore, in order to efficiently dissipate heat in the power semiconductor module, it is desirable that the solder directly under the semiconductor chip has no voids.

本実施の形態では、図3に示されるはんだ供給時、図5に示されるチップ搭載時、および、図9に示される冷却時において、半導体チップ45とダイパッド10との間のはんだ40内においてボイド60を抑制できる。従って、半導体装置100を長寿命化できる。また、はんだ40の固化順を制御することで、半導体チップ45直下のはんだ40の厚さを確保できる。これにより、厚さばらつきにより薄すぎるはんだ部が発生することによる短寿命化を抑制することができる。 In this embodiment, voids are formed in the solder 40 between the semiconductor chip 45 and the die pad 10 during the solder supply shown in FIG. 3, the chip mounting shown in FIG. 5, and the cooling shown in FIG. 60 can be suppressed. Therefore, the life of the semiconductor device 100 can be extended. Further, by controlling the solidification order of the solder 40, the thickness of the solder 40 directly under the semiconductor chip 45 can be secured. As a result, it is possible to suppress shortening of the life due to the generation of a solder portion that is too thin due to the variation in thickness.

本実施の形態のダイパッド10には傾斜部14が設けられた。この変形例として、はんだ40を第1凹部20から第2凹部30に流動させることができれば、傾斜部14は設けられなくても良い。また、第1凹部20と第2凹部30の形状は図1、2に示されるものに限らない。 The die pad 10 of the present embodiment is provided with an inclined portion 14. As an example of this modification, if the solder 40 can be flowed from the first recess 20 to the second recess 30, the inclined portion 14 may not be provided. Further, the shapes of the first recess 20 and the second recess 30 are not limited to those shown in FIGS. 1 and 2.

また、半導体チップ45はワイドバンドギャップ半導体によって形成されていても良い。ワイドバンドギャップ半導体は、例えば炭化珪素、窒化ガリウム系材料またはダイヤモンドである。ワイドバンドギャップ半導体によって形成された半導体チップ45は、特に高温で動作することが考えられる。この場合にも、本実施の形態によればボイド60を抑制して接合部の熱抵抗を低減させることで、半導体装置100の信頼性を向上できる。 Further, the semiconductor chip 45 may be formed of a wide bandgap semiconductor. Wide bandgap semiconductors are, for example, silicon carbide, gallium nitride based materials or diamond. It is conceivable that the semiconductor chip 45 formed of the wide bandgap semiconductor operates at a particularly high temperature. Also in this case, according to the present embodiment, the reliability of the semiconductor device 100 can be improved by suppressing the void 60 and reducing the thermal resistance of the joint portion.

これらの変形は、以下の実施の形態に係る半導体装置、ダイパッドおよび半導体装置の製造方法について適宜応用することができる。なお、以下の実施の形態に係る半導体装置、ダイパッドおよび半導体装置の製造方法については実施の形態1との共通点が多いので、実施の形態1との相違点を中心に説明する。 These modifications can be appropriately applied to the semiconductor device, the die pad, and the method for manufacturing the semiconductor device according to the following embodiments. Since the semiconductor device, the die pad, and the method for manufacturing the semiconductor device according to the following embodiments have much in common with the first embodiment, the differences from the first embodiment will be mainly described.

実施の形態2.
図10は、実施の形態2に係るダイパッド210の平面図である。図11は、実施の形態2に係る半導体装置200の断面図である。図11は、図10に示されるC-D直線に該当する部分の断面図である。本実施の形態では、ダイパッド210の第1面16に凹部250が形成される。凹部250は、第1凹部20と第2凹部230から形成される。第2部分232は、ダイパッド210の凹部250を形成する内面のうち第2凹部230を形成する部分である。第2部分232にはスリット234が形成される。これ以外の構成は、実施の形態1の構成と同様である。
Embodiment 2.
FIG. 10 is a plan view of the die pad 210 according to the second embodiment. FIG. 11 is a cross-sectional view of the semiconductor device 200 according to the second embodiment. FIG. 11 is a cross-sectional view of a portion corresponding to the CD straight line shown in FIG. In the present embodiment, the recess 250 is formed on the first surface 16 of the die pad 210. The recess 250 is formed from a first recess 20 and a second recess 230. The second portion 232 is a portion of the inner surface of the die pad 210 that forms the recess 250 that forms the second recess 230. A slit 234 is formed in the second portion 232. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

複数のスリット234は、第2凹部230の短手方向に並び、第2凹部230の長手方向に沿って延びる。スリット234は、断面形状がV字型である。スリット234は、第2面11と垂直な方向に対してダイパッド210の外側に広がる。また、複数のスリット234は、半導体チップ45の中央部の直下を避けて形成される。 The plurality of slits 234 are arranged in the lateral direction of the second recess 230 and extend along the longitudinal direction of the second recess 230. The slit 234 has a V-shaped cross section. The slit 234 extends outside the die pad 210 in a direction perpendicular to the second surface 11. Further, the plurality of slits 234 are formed so as to avoid directly below the central portion of the semiconductor chip 45.

本実施の形態では、半導体チップ45を搭載する際に空気の巻き込み等により発生するボイド60を、スリット234に留めることができる。特に、図5で示される半導体チップ45を押し込む動作を行う際に、ボイド60をスリット234で捕捉できる。このため、高温となり易い半導体チップ45の中央部の直下でボイド60を抑制でき、熱抵抗の増加を抑えることができる。また、スリット234が外側に広がる形状であることで、半導体チップ45の搭載時のボイド60の動きに対して、有効にボイド60を捕捉できる。 In the present embodiment, the void 60 generated by the entrainment of air or the like when the semiconductor chip 45 is mounted can be fastened to the slit 234. In particular, the void 60 can be captured by the slit 234 when the semiconductor chip 45 shown in FIG. 5 is pushed in. Therefore, the void 60 can be suppressed directly under the central portion of the semiconductor chip 45, which tends to have a high temperature, and the increase in thermal resistance can be suppressed. Further, since the slit 234 has a shape that spreads outward, the void 60 can be effectively captured against the movement of the void 60 when the semiconductor chip 45 is mounted.

スリット234の幅86を抑制したいボイド60の径以下に設定しても良い。スリット234にボイド60が捕捉されることで、気泡のサイズが幅86以下に小さくなる。従って本実施の形態では、ボイド60を例えば半導体装置100の特性上問題となるサイズ以下にすることができる。 The width 86 of the slit 234 may be set to be equal to or smaller than the diameter of the void 60 to be suppressed. By capturing the void 60 in the slit 234, the size of the bubble is reduced to a width of 86 or less. Therefore, in the present embodiment, the void 60 can be made smaller than the size which is a problem in the characteristics of the semiconductor device 100, for example.

スリット234の数、形状、大きさは図10、11に示されるものに限らない。例えば、スリット234は断面形状がU字型等でも良い。また、スリット234は、発熱部である図示しないワイヤの直下を避けて形成されても良い。この場合も、熱抵抗の増加を抑えることができる。 The number, shape, and size of the slits 234 are not limited to those shown in FIGS. 10 and 11. For example, the slit 234 may have a U-shaped cross section. Further, the slit 234 may be formed so as to avoid directly under a wire (not shown) which is a heat generating portion. In this case as well, the increase in thermal resistance can be suppressed.

実施の形態3.
図12は、実施の形態3に係る半導体装置300の断面図である。図13は、実施の形態3に係る半導体装置300の平面図である。本実施の形態では、ダイパッド310の第1面316に凹部350が形成される。凹部350は、第1凹部320と2つの第2凹部330から形成される。第2凹部330は、第1凹部320の両側に配置される。
Embodiment 3.
FIG. 12 is a cross-sectional view of the semiconductor device 300 according to the third embodiment. FIG. 13 is a plan view of the semiconductor device 300 according to the third embodiment. In the present embodiment, the recess 350 is formed on the first surface 316 of the die pad 310. The recess 350 is formed from a first recess 320 and two second recesses 330. The second recess 330 is arranged on both sides of the first recess 320.

ダイパッド310のうち凹部350を形成する内面は、第1部分322、第2部分332および連結部325を有する。第1部分322は、ダイパッド310の凹部350を形成する内面のうち、第1凹部320を形成する部分である。第2部分332は、ダイパッド310の凹部350を形成する内面のうち、第2凹部330を形成する部分である。各々の第2部分332には、半導体チップ45がはんだ40で接合される。第2部分332は、第1部分322よりも第2面11と垂直な方向での第2面11からの距離が小さい。本実施の形態では、1つの第1部分322に対して複数の第2部分332が設けられる。 The inner surface of the die pad 310 forming the recess 350 has a first portion 322, a second portion 332 and a connecting portion 325. The first portion 322 is a portion of the inner surface of the die pad 310 that forms the recess 350 that forms the first recess 320. The second portion 332 is a portion of the inner surface of the die pad 310 that forms the recess 350 that forms the second recess 330. A semiconductor chip 45 is bonded to each second portion 332 with solder 40. The second portion 332 has a smaller distance from the second surface 11 in the direction perpendicular to the second surface 11 than the first portion 322. In the present embodiment, a plurality of second portions 332 are provided for one first portion 322.

連結部325は、ダイパッド310の凹部50を形成する内面のうち、第1部分322と第2部分332を繋ぐ部分である。連結部325は、第2面11と垂直な方向での第2面11からの距離が第1部分322よりも大きい。また、連結部325は、高低差87に示されるように、第2面11と垂直な方向での第2面11からの距離が第1面316よりも小さい。 The connecting portion 325 is a portion of the inner surface forming the recess 50 of the die pad 310 that connects the first portion 322 and the second portion 332. The distance of the connecting portion 325 from the second surface 11 in the direction perpendicular to the second surface 11 is larger than that of the first portion 322. Further, as shown in the height difference 87, the connecting portion 325 has a smaller distance from the second surface 11 in the direction perpendicular to the second surface 11 than the first surface 316.

第1部分322の直下において、第2面11には凹部352が形成される。つまり、ダイパッド310は、第1部分322の直下で搭載面に対して浮いている。 Immediately below the first portion 322, a recess 352 is formed on the second surface 11. That is, the die pad 310 floats on the mounting surface directly below the first portion 322.

本実施の形態では、例えばダイパッド310を折り曲げることで、第1部分322と連結部325を形成する。つまり、フレームの曲げ加工によりダイパッド310は形成される。これにより材料の体積を減らし、コストを抑制できる。 In the present embodiment, for example, the die pad 310 is bent to form the first portion 322 and the connecting portion 325. That is, the die pad 310 is formed by bending the frame. As a result, the volume of the material can be reduced and the cost can be suppressed.

また、第1部分322の直下では、放熱板72とダイパッド310が接触していない。このため、第1凹部320に設けられたはんだ40は、第2凹部330に設けられたはんだ40よりも、放熱板72との距離88が大きくなる。よって、第2凹部330に設けられたはんだ40の方が第1凹部320に設けられたはんだ40よりも早く固化する。従って、半導体チップ45の直下でのボイドの抑制およびはんだ40の厚さの確保が可能となる。 Further, immediately below the first portion 322, the heat sink 72 and the die pad 310 are not in contact with each other. Therefore, the solder 40 provided in the first recess 320 has a larger distance 88 from the heat radiating plate 72 than the solder 40 provided in the second recess 330. Therefore, the solder 40 provided in the second recess 330 solidifies faster than the solder 40 provided in the first recess 320. Therefore, it is possible to suppress voids directly under the semiconductor chip 45 and secure the thickness of the solder 40.

また、本実施の形態では、1つの第1凹部320に対して複数の半導体チップ45を設けることができる。このため、実施の形態1と比較して実装面積を低減できる。本実施の形態の変形例として、1つの第1凹部320に対して、第2凹部330は3つ以上設けられても良い。また、第1凹部320と第2凹部330の形状、配置は図12、13に示されるものに限らない。また、ダイパッド310に凹部352は形成されなくても良い。 Further, in the present embodiment, a plurality of semiconductor chips 45 can be provided in one first recess 320. Therefore, the mounting area can be reduced as compared with the first embodiment. As a modification of the present embodiment, three or more second recesses 330 may be provided for one first recess 320. Further, the shapes and arrangements of the first recess 320 and the second recess 330 are not limited to those shown in FIGS. 12 and 13. Further, the recess 352 does not have to be formed in the die pad 310.

なお、各実施の形態で説明した技術的特徴は適宜に組み合わせて用いてもよい。 The technical features described in each embodiment may be used in combination as appropriate.

10、10a、10b ダイパッド、11 第2面、12 平坦部、13 平面、14 傾斜部、15 斜面、16 第1面、20 第1凹部、22 第1部分、25 連結部、30 第2凹部、32、32a、32b 第2部分、33 平坦部、34、34a、34b 側面、45 半導体チップ、50 凹部、60 ボイド、70 高温プレート、72 放熱板、100、200 半導体装置、210 ダイパッド、230 第2凹部、232 第2部分、234 スリット、250 凹部、300 半導体装置、310 ダイパッド、316 第1面、320 第1凹部、322 第1部分、325 連結部、330 第2凹部、332 第2部分、350、352 凹部 10, 10a, 10b Die pad, 11 2nd surface, 12 flat part, 13 flat surface, 14 inclined part, 15 inclined surface, 16 1st surface, 20 1st concave part, 22 1st part, 25 connecting part, 30 2nd concave part, 32, 32a, 32b 2nd part, 33 flat part, 34, 34a, 34b side surface, 45 semiconductor chip, 50 recess, 60 void, 70 high temperature plate, 72 heat dissipation plate, 100, 200 semiconductor device, 210 die pad, 230 second Concave part, 232 second part, 234 slit, 250 recess, 300 semiconductor device, 310 die pad, 316 first surface, 320 first recess, 322 first part, 325 connecting part, 330 second recess, 332 second part, 350 , 352 Concave

Claims (14)

第1面と前記第1面と反対側の面である第2面とを有し、前記第1面に第1凹部が形成されたダイパッドと、
半導体チップと、
を備え、
前記ダイパッドのうち前記第1凹部を形成する内面は、
はんだの供給を受けるための第1部分と、
前記半導体チップが前記はんだで接合され、前記第1部分よりも前記第2面と垂直な方向での前記第2面からの距離が小さい第2部分と、
前記第1部分と前記第2部分を繋ぎ、前記第2面と垂直な方向での前記第2面からの距離が前記第1部分よりも大きく前記第1面よりも小さい連結部と、
を有することを特徴とする半導体装置。
A die pad having a first surface and a second surface opposite to the first surface and having a first recess formed on the first surface, and a die pad.
With semiconductor chips
Equipped with
The inner surface of the die pad forming the first recess is
The first part to receive the solder supply and
A second portion in which the semiconductor chip is joined by the solder and the distance from the second surface is smaller in a direction perpendicular to the second surface than the first portion.
A connecting portion that connects the first portion and the second portion and has a distance from the second surface in a direction perpendicular to the second surface that is larger than that of the first portion and smaller than that of the first surface.
A semiconductor device characterized by having.
前記第1面のうち前記第1部分が設けられた部分は、前記第1面のうち前記第2部分が設けられた部分に近づくほど前記第2面と垂直な方向での前記第2面との距離が小さくなるように傾斜していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 The portion of the first surface provided with the first portion becomes closer to the portion of the first surface provided with the second portion with the second surface in a direction perpendicular to the second surface. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is inclined so that the distance between the two is small. 1つの前記第1部分に対して複数の前記第2部分が設けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of the second portions are provided for one first portion. 前記第1部分の直下で、前記第2面には第2凹部が形成されることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 3, wherein a second recess is formed on the second surface immediately below the first portion. 前記第2部分のうち前記第2面と垂直な方向から見て前記半導体チップよりも外側に設けられる部分は、前記ダイパッドの外側に向けて凸となるように湾曲していることを特徴とする請求項1から4の何れか1項に記載の半導体装置。 A portion of the second portion provided outside the semiconductor chip when viewed from a direction perpendicular to the second surface is characterized in that it is curved so as to be convex toward the outside of the die pad. The semiconductor device according to any one of claims 1 to 4. 前記第2部分にはスリットが形成されることを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to any one of claims 1 to 5, wherein a slit is formed in the second portion. 前記スリットは、前記半導体チップの中央部の直下を避けて形成されることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 6, wherein the slit is formed so as to avoid directly below the central portion of the semiconductor chip. 前記スリットは、断面形状がV字型であり、前記第2面と垂直な方向に対して前記ダイパッドの外側に広がることを特徴とする請求項6または7に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 6 or 7, wherein the slit has a V-shaped cross section and extends outside the die pad in a direction perpendicular to the second surface. 前記半導体チップはワイドバンドギャップ半導体によって形成されていることを特徴とする請求項1から8の何れか1項に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to any one of claims 1 to 8, wherein the semiconductor chip is formed of a wide bandgap semiconductor. 前記ワイドバンドギャップ半導体は、炭化珪素、窒化ガリウム系材料またはダイヤモンドであることを特徴とする請求項9に記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 9, wherein the wide bandgap semiconductor is silicon carbide, a gallium nitride-based material, or diamond. 第1面と前記第1面と反対側の面である第2面とを有し、前記第1面に凹部が形成されたダイパッドであって、
前記ダイパッドのうち前記凹部を形成する内面は、
はんだの供給を受けるための第1部分と、
半導体チップが前記はんだで接合され、前記第1部分よりも前記第2面と垂直な方向での前記第2面からの距離が小さい第2部分と、
前記第1部分と前記第2部分を繋ぎ、前記第2面と垂直な方向での前記第2面からの距離が前記第1部分よりも大きく前記第1面よりも小さい連結部と、
を有することを特徴とするダイパッド。
A die pad having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and a recess formed in the first surface.
The inner surface of the die pad forming the recess is
The first part to receive the solder supply and
A second portion in which the semiconductor chip is joined by the solder and the distance from the second surface is smaller in the direction perpendicular to the second surface than the first portion.
A connecting portion that connects the first portion and the second portion and has a distance from the second surface in a direction perpendicular to the second surface that is larger than that of the first portion and smaller than that of the first surface.
A die pad characterized by having.
第1面と前記第1面と反対側の面である第2面とを有し、前記第1面に凹部が形成されたダイパッドを加熱した状態で、前記ダイパッドのうち前記凹部を形成する内面の第1部分にはんだを供給し、前記凹部を形成する内面のうち前記第1部分よりも前記第2面と垂直な方向での前記第2面からの距離が小さい第2部分に連結部を介して溶融した前記はんだを流動させ、
前記第2部分に流動した前記はんだの上に半導体チップを搭載し、
前記ダイパッドを冷却して前記半導体チップを前記第2部分に前記はんだで接合し、
前記連結部は、前記凹部を形成する内面のうち、前記第1部分と前記第2部分を繋ぎ、前記第2面と垂直な方向での前記第2面からの距離が前記第1部分よりも大きく前記第1面よりも小さい部分であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
An inner surface of the die pad forming the recess in a state where the die pad having a first surface and a second surface opposite to the first surface and having a recess formed on the first surface is heated. Solder is supplied to the first portion of the above, and the connecting portion is connected to the second portion of the inner surface forming the recess, which is smaller in distance from the second surface in the direction perpendicular to the second surface than the first portion. The molten solder is allowed to flow through the solder.
A semiconductor chip is mounted on the solder that has flowed to the second part, and the semiconductor chip is mounted.
The die pad is cooled and the semiconductor chip is bonded to the second portion with the solder.
The connecting portion connects the first portion and the second portion of the inner surface forming the recess, and the distance from the second surface in the direction perpendicular to the second surface is larger than that of the first portion. A method for manufacturing a semiconductor device, characterized in that the portion is large and smaller than the first surface.
前記ダイパッドを折り曲げることで、前記第1部分と前記連結部を形成することを特徴とする請求項12に記載の半導体装置の製造方法。 The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 12, wherein the first portion and the connecting portion are formed by bending the die pad. 前記第2部分に流動した前記はんだの上に、前記半導体チップを前記第2部分に向かって押し込みながら搭載することを特徴とする請求項12または13に記載の半導体装置の製造方法。 The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 12, wherein the semiconductor chip is mounted on the solder flowing in the second portion while being pushed toward the second portion.
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