JP2022068330A - 金属基板およびこれを用いた蒸着用マスク - Google Patents

金属基板およびこれを用いた蒸着用マスク Download PDF

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Abstract

【課題】有機発光素子などの蒸着工程に適用可能な金属基板およびこれを用いたマスク構造に関し、特に隣接する蒸着用単位ホームの間の均一度を調節して蒸着後ＯＬＥＤパネルなどのむら防止およびモアレ（Ｍｏｒｉｅ）を防止できる構造の蒸着用マスクを提供する。【解決手段】金属板の前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備し、前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴１１０および第２面穴を有する単位ホールを多数含み、互いに隣り合う単位ホールの間の第１面穴または第２面穴の大きさ偏差が任意の単位ホール間の大きさ偏差を基準として２％～１０％であり、前記第１面穴の中心と前記第２面穴の中心が前記第１面の表面を基準として相互に一致しない位置に配置される単位ホールを少なくとも一つ以上含む蒸着用マスクとする。【選択図】図２

Description

本発明の実施例は、有機発光素子などの蒸着工程に適用可能な金属基板およびこれを用
いたマスク構造に関するものである。
有機ＥＬ発光素子から成る有機ＥＬカラーディスプレーなどの製造工程においては、有
機材料から成る有機層が真空蒸着によって形成され、このとき、有機層のパターンに合わ
せて材料を透過させるための複数の透過穴が設けられた蒸着用マスクが使用されている。
一般に、蒸着用マスクを構成する透過穴の場合、金属薄膜にフォトレジスト膜を使用して
パターン露光した後エッチングを行うフォトエッチング法や、ガラス円板に所望のパター
ンで電気めっきを実施した後剥離する電気鋳造法によって形成することができる。
従来の蒸着マスクは通常メタルマスク（Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ）として具現され、これ
は蒸着のための透過穴（Ｏｐｅｎ Ａｒｅａ）だけを正確に具現することに集中している
。しかしこのような方式では蒸着の効率と蒸着が行われない領域（Ｄｅａｄ Ｓｐａｃｅ
）を減らす部分では大きな効用を示すことができない。
本発明の実施例は、前述した問題を解決するために案出されたものであって、特に隣接
する蒸着用単位ホームの間の均一度を調節して蒸着後ＯＬＥＤパネルなどのむら防止およ
びモアレ（Ｍｏｒｉｅ）を防止できる構造の蒸着用マスクを提供できるようにする。
また、本発明の他の実施例によると、蒸着用単位ホームを構成する１面穴と２面穴の中
心の位置を外れるように配置して蒸着効率を増大することができ、蒸着時蒸着が行われな
い部分（ｄｅａｄ ｓｐａｃｅ）を最小化することができるようにし、大面積の蒸着対象
物の場合にも蒸着の均一度を高めることができる蒸着用マスクを提供できるようにする。
特に蒸着用マスクとして製造するために金属基板をエッチングする場合、発生するねじ
れ現象を最小化できる金属基板を提供できるようにする。さらに、このような金属基板を
基に多数の蒸着用単位ホールを具備する蒸着用マスクを具現することができるようにする
。また、蒸着用マスクの単位ホールのラフネスを制御して蒸着効率を上げられるようにす
る。
前述した課題を解決するための手段として、本発明の実施例においては厚さを有する金
属板；前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を
具備し、前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を
有する単位ホールを多数含んで、互いに隣り合う単位ホールの間の第１面穴または第２面
穴の大きさ偏差が任意の単位ホール間の大きさの偏差を基準として１０％以内である蒸着
用マスクを提供できるようにする。
また、本発明の他の実施例においては厚さ（ｔ）を有する金属板；前記金属板は前記厚
さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備し、前記第１面および
第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する単位ホールを多数含
み、前記第１面穴の中心と前記第２面穴の中心が前記第１面の表面を基準として相互に一
致しない位置に配置される蒸着マスクを提供できるようにする。
また、本発明のまた他の実施例においては、厚さを有するベース金属板；前記ベース金
属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備し、前記
ベース金属板の任意の地点に３０ｍｍ＊１８０ｍｍ（横＊縦）で採取したサンプル基板の
、両側末端から内側に１０ｍｍを残してその内部に対して前記厚さの２／３～１／２厚さ
にエッチングしたエッチング領域を具現し、前記サンプル基板を水平対象面に据え置きす
る場合、前記サンプル基板のねじれ指数（Ｈｒ）が次の関係を充足する金属基板を提供で
きるようにする。
［数１］
ＨＲ＝｛（Ｈ１－Ｈａ）２＋（Ｈ２－Ｈａ）２＋（Ｈ３－Ｈａ）２＋（Ｈ４－Ｈａ
）２｝１／２
［数２］
Ｈａ＝（Ｈ１＋Ｈ２＋Ｈ３＋Ｈ４）／４
Ｈａは、前記サンプル基板の４隅が水平対象面から離隔する距離（Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３、
Ｈ４）の平均隔離距離と定義する。また、前述したねじれ指数（Ｈｒ）を満足する金属基
板を用いて多数の蒸着用単位ホールを具備する蒸着マスクを提供できるようにする。
本発明の実施例によると、隣接する蒸着用単位ホームの間の均一度を調節して蒸着後Ｏ
ＬＥＤパネルなどのむら防止およびモアレ（Ｍｏｒｉｅ）を防止できる効果がある。
さらに、本発明の他の実施例によると、蒸着用単位ホームを構成する１面穴と２面穴の
中心の位置を外れるように配置して蒸着効率を増大することができ、蒸着時に蒸着が行わ
れない部分（ｄｅａｄ ｓｐａｃｅ）を最小化することができるようにし、大面積の蒸着
対象物の場合にも蒸着の均一度を高めることができる長所も具現される。
また、本発明の実施例によると、蒸着用マスクで製造するために金属基板をエッチング
した場合、発生するねじれ現象を最小化できる金属基板を提供できる効果がある。
特に、前述した本発明の実施例による金属基板を用いて多数の蒸着用単位ホールを具備
する蒸着用マスクを具現する場合、蒸着用マスク自体のねじれ現象を顕著に減らすことが
でき、蒸着の均一度および蒸着効率を最大化できる効果もある。
さらに、本発明の他の実施例によると、前述した本発明の実施例による金属基板を用い
て多数の蒸着用単位ホールを具備する蒸着用マスクを具現する場合、単位ホールの内周面
の表面粗度を制御して蒸着の効率性および均一度（ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）を高めること
ができる効果もある。
図１は本発明の実施例による蒸着用マスクの作用状態を図示した概念図である。 図２は本発明の実施例による蒸着用マスクの凹部を図示した断面概念図である。 図２の構造において、本発明の実施例による蒸着用マスクの第２面の平面図である。 図２の構造において、蒸着用マスクの第１面の平面図を図示したものである。 図４の構造において、第２面から見た第１面穴と第２面穴の平面図である。 本発明の実施例による第１面穴と第２面穴の中心軸の配置方式の実施例を説明するための概念図である。 図６での第１面穴の中心を定める方法を説明するための概念図である。 図２で前述した単位ホールを多数含んで構成される本発明の第３実施例による蒸着用マスクの断面構造を図示した概念図である。 本発明の他の実施例による蒸着用マスクの断面構造を図示した概念図である。 図９で第１面穴と第２面穴が連通する単位ホールを概念的に図示したものである。 図１０の第１面穴が具現される第１面の部分のイメージである。 図１２は算術平均粗度（Ｒａ）を説明するためのイメージである。 図１３は１０点平均粗度（Ｒｚ）を説明するためのイメージである。 本発明の直進度の測定および定義を説明するためのイメージである。 本発明の直進度の測定および定義を説明するためのイメージである。 本発明の直進度の測定および定義を説明するためのイメージである。 本発明の実施例による金属基板の特徴を説明するための概念図である。 本発明の実施例による金属基板の特徴を説明するための概念図である。
以下においては添付した図面を参照して本発明による構成および作用を具体的に説明す
る。添付図面を参照して説明することにおいて、図面符号に関係なく同一の構成要素は同
一の参照符号を付与し、これに対する重複説明は省略することにする。第１、第２等の用
語は多様な構成要素を説明することに使用され得るが、前記構成要素は前記用語によって
限定されてはならない。前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的にだ
け使用される。
１．第１実施例
図１は本発明の実施例による蒸着用マスクの作用状態を図示した概念図であり、図２は
本発明の実施例による蒸着用マスクの凹部を図示した断面概念図である。
図１および図２を参照すると、本発明の実施例による蒸着用マスクは、ＯＬＥＤの有機
層の形成を具現するマクス構造物であって、蒸着物質を提供する蒸着ソース（Ｓ；Ｓｕｏ
ｒｃｅ）グラスのような基材（Ｇ）上に蒸着ターゲット（Ｔ）を具現することができるよ
うにする。この場合、前記蒸着用マスク（Ｍ；１００）は多数の単位ホールを具備する構
造に具現され、前記単位ホームは互いに異なる幅を有する第１面穴（１１０）と第２面穴
（１３０）が相互に連通する構造に具現され得る。
具体的に、本発明の実施例による蒸着用マスク（１００）は、図２に図示された構造の
ように、厚さを有して前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面
を具備する金属板を備え、前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴
（１１０）および第２面穴（１３０）を有する単位ホールを多数含んで構成される。この
場合、第１面穴（１１０）および第２面穴（１３０）は相互連通する部分である境界部（
１２０）を共有して連通する。このような単位ホールは多数個が設けられる構造で具現さ
れ得、特に本発明の実施例においては、互いに隣り合う単位ホール間の第１面穴または第
２面穴の大きさ偏差が任意の単位ホール間の偏差を基準として１０％以内で具現されるよ
うにする。すなわち、任意の地点で一つの単位ホールの第１面穴または第２面穴を基準と
して、隣接する単位ホールの第１面穴または第２面穴の大きさの偏差が１％～１０％以内
でより大きかったりさらに小さく具現されるようにすることができる。このような隣接ホ
ールの大きさの偏差はさらに望ましくは２％～８％の範囲で具現されるようにすることが
できる。
この場合、互いに隣り合う単位ホール間の大きさ偏差は、前記第１面穴の間、そして前
記第２面穴の間に相互に隣り合うものなどとの直径の差を基準として比較することができ
る。
すなわち、図３は図２の構造において本発明の実施例による蒸着用マスクの第２面の平
面図であり、図４は図２の構造において蒸着用マスクの第１面の平面図を図示したもので
ある。
図３を参照すると、第２面に多数具現される単位ホールの第２面穴の任意の個体（以下
、‘基準ホール’という。）の垂直方向の直径（Ｃｙ）と水平方向の直径（Ｃｘ）を測定
する場合、前記基準ホールに隣接するホール（図示された図面では合計６個）間のそれぞ
れの垂直方向の直径（Ｃｙ）の間の偏差が１０％以内で具現されるようにする。
また、前記基準ホールと他の隣接ホールの水平方向の直径（Ｃｘ）の偏差もやはり１０
％以内で具現されるようにする。すなわち、一つの基準ホールの隣接ホール間の大きさ偏
差を１０％以内の範囲で具現する場合には蒸着の均一度を確保することができるようにす
る長所が具現される。このような蒸着均一度を向上することができる基準ホールと隣接ホ
ール間の大きさ偏差の範囲は１０％以内の範疇で、基準ホールと他の隣接ホールの垂直方
向の直径（Ｃｘ）や水平方向の直径（Ｃｘ）の偏差が望ましくは１％～１０％以内、また
は、２％～８％以内で具現する場合、蒸着の均一度はより高まるようになる。反対に、す
べてのホールの大きさが同一に具現される場合には蒸着後ＯＬＥＤパネルでモアレ（Ｍｏ
ｒｉｅ）の発生率が高まるようになり、相互に隣接するホール間の大きさ偏差が基準ホー
ルを基準として１０％を超過する程度に具現される場合には蒸着後のＯＬＥＤパネルで色
むらの発生率が高まるようになる。
これは図４の金属板の第１面に具現される第１面穴の場合にも同一に適用される基準で
あって、任意の基準となる第１面穴の垂直方向の直径（Ｂｙ）と水平方向の直径（Ｂｘ）
と隣り合う隣接ホール間の直径対比の偏差率が１０％以内で具現されるようにする。さら
に、特に望ましくは、前記の大きさの偏差が１％～１０％以内でより大きかったりさらに
小さく具現されるようにすることができる。このような隣接ホールの大きさの偏差はさら
に望ましくは２％～８％の範囲で具現されるようにすることができる。
また、本発明の実施例においては、前記基準ホールと隣り合うホール間の大きさ偏差を
±３μｍ以内で具現することができるようにする。
一例として、図３で基準ホールの垂直方向直径（Ｃｙ）が３６μｍであり、隣り合うホ
ールの直径が３３μｍまたは、３９μｍで偏差が±３μｍである場合、基準ホール対比直
径の偏差率は８．３％であって、基準ホールを基準として隣接ホールと基準ホールの大き
さ偏差が１０％以内で具現されるため、蒸着効率が高まるようになる。
その他の例として、図３で基準ホールの水平方向直径（Ｃｘ）が１２５μｍである場合
、隣り合うホールの直径が１２２μｍまたは、１２８μｍである場合、基準ホール対比直
径の偏差率は２．４％であって、基準ホールを基準として隣接ホールと基準ホールの大き
さ偏差が１０％以内で具現されるため、蒸着効率が高まるようになる。
図５は図４の構造において、第２面から見た第１面穴（１１０）と第２面穴（１３０）
の平面図であり、前述したホール間の大きさ偏差を算定する場合、ホールの外周面の任意
の突起を考慮する場合、第２面穴の外周面で中心方向に突出する突起の幅（Ｙ１）または
、高さ（Ｘ１）の最大値が２０μｍ以下で具現されるようにすることが望ましい。このよ
うな突出突起は蒸着時に必然的に発生する不良構造に該当し、本発明の実施例においては
、このような突出突起を２０μｍ以下の範囲で具現して蒸着の均一度を確保することがで
きるようにする。特に本発明の実施例においては前述した突出突起を１１μｍ以下、さら
に６μｍ以下で具現することができるようにする。
２．第２実施例
以下においては、図１ないし図５で前述した本発明の他の実施例による蒸着用マスクの
構造を説明する。
図６は本発明の実施例による第１面穴と第２面穴の中心軸の配置方式の実施例を説明す
るための概念図である。
本第２実施例の構造は、前述した第１実施例の特徴を同時に具備することもできること
はもちろんである。ただし、以下の説明においては、第２実施例の特徴的な構造が独立的
に具現されることを例にして説明する。
本第２実施例による蒸着用マスクは、図２および図６に図示されたように、厚さを有す
る金属板を具備し、この金属板に第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面
穴および第２面穴を有する単位ホールを多数含む構造である点においては、第１実施例の
構造と同一である。
ただし、前記第１面穴（１１０）の中心（Ｆ）と前記第２面穴（１３０）の中心（Ｅ）
が前記第１面の表面を基準として相互に一致しない位置に配置される点で特徴がある。す
なわち、第１面穴と第２面穴の中心が相互に一致しないようにずれて配置されるようにす
る。
本発明の第２実施例のように第１面穴と第２面穴の中心が相互に一致しないようにずれ
て配置される場合、高い蒸着の均一度を確保することができるようになる点で優れた長所
が具現される。
これは図６に図示されたように、多数の単位ホールを具備する蒸着用マスクと離隔する
蒸着ソース源（Ｓ）から放出される放射角度を考慮すると、蒸着ソース源と単位ホールが
対応する位置がすべて異なるようになるので、均一な蒸着物質の伝達が難しくなるように
なる。よって本発明においては、蒸着の均一度を向上するために、各ホールごとに第２面
穴と第１面穴の中心軸を相互にずれるように具現されることを含めて、大面積の基板全面
にわたる蒸着過程でも蒸着物質の均一な伝達を具現することができるようにして蒸着の均
一度を高められるようにする。さらに、蒸着の厚さを厚くする必要がある場合にも、この
ような構造は蒸着対象の局部的な領域や全面積に効率的に蒸着厚さを調節することができ
るようにする。
このような第１面穴の中心と前記第２面穴の中心とが相互に一致しない配置構造は、前
記金属板の第１面または第２面の表面と直交する仮想の垂直線を前記第１面穴の中心上に
立てたり、前記第２面穴の中心上に立てる場合、この垂直線が二つの中心のうちいずれか
一つだけを過ぎる構造を意味する。別の意味では第１面穴または第２面穴の中心軸が相互
にずれて配置される。
また、本発明の第２実施例で定義する第１面穴の中心と前記第２面穴の中心は、第１面
穴および第２面穴の外周面が円（ｃｉｒｃｌｅ）または楕円の場合にはその中心を、多角
形の場合、重心を意味する。
または、図６に図示された構造のように、隅の部分にラウンド処理された曲率構造を有
する場合の面穴にもその重心を定めることができる場合にはその重心を中心とする。
さらに、面穴の外角の部分に曲率処理された隅（本発明の実施例においては、添付があ
る場合にはその添付を隅として、曲率を有するエッジ部の場合には‘曲率’を連結される
周辺の曲率より曲率が小さくなる場合を隅と定義する。）が具現される場合の中心は、曲
率を有する隅がｎ個の場合、ｎが偶数なら向き合う隅と直線を引き、この引いた直線の個
数を“Ｋ”とすると、直線の個数（Ｋ）が３個であれば、３個の直線が接する点、Ｋが２
個なら２個の直線が接する点を中心に円を描いてこの円の中心を面穴の中心とする。
または、隅の個数ｎが奇数なら、隅と向き合う辺に直線を描き、この直線の個数を"ｋ"
とすると、直線の個数（ｋ）が３個または、２個になるときまでそして、これを通じて各
直線が接する地点を面穴の中心とする。
例えば、図７は図６での第１面穴（１１０）の中心（Ｆ）を定める方法を説明するため
の例示図であって、ラウンディングした隅の部分が合計４個（偶数）であるので、曲率の
ある中央点で向き合う方向に位置する他の隅の中央点で直線（ｂ１、ｂ２）をそれぞれ引
くと直線の個数（Ｋ）は２個でこの２個の直線が接する点が第１面穴の中心（Ｆ）とする
。
さらに、第２面穴（１３０）の中心（Ｅ）も同一の方式で定め、このそれぞれの中心（
Ｅ、Ｆ）が相互にずれるように配置されるように単位ホームを具現する。特に、図６の図
面のように、前記第１面穴の中心（Ｆ）と前記第２面穴の中心（Ｅ）の間の距離（ｄ）は
、前記第２面穴の直径の長さ（Ａ）の９０％以下、すなわち、０．９Ａ以下で具現するこ
とができる。
さらに、前記第１面穴の中心（Ｆ）と前記第２面穴の中心（Ｅ）の間の距離（ｄ）はこ
の範囲内で望ましくは、前記第２面穴の直径の長さ（Ａ）の５０％以下、さらに望ましく
は０．１％～１０％以下、０．２～８％以下、または、０．２～５％以下で具現すること
ができる。このような中心軸間の距離がずれる程度が前記第２面穴の直径の長さ（Ａ）の
９０％以下の範囲で具現されるようにする場合、蒸着効率の均一度をさらに高められるよ
うにする。
例えば、前記第２面穴の直径の長さ（Ａ）が１２５μｍである場合、前記第１面穴の中
心（Ｆ）と前記第２面穴の中心（Ｅ）の間の距離（ｄ）は１１２．５μｍ以下で具現する
ことができる。
前述したように、蒸着マスクを適用する蒸着作業においては、蒸着源（Ｓｏｕｒｃｅ）
とマスクのすべての単位ホールがそれぞれ垂直方向下部に配置され得ないため、ＯＬＥＤ
に対する蒸着均一度（Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）向上のために単位ホールごとに一定以上の
角度、背面高さなどが必要になる。
この場合、本発明の実施例による蒸着用マスクを適用する場合、第１面穴および第２面
穴の配置位置をずれるように（Ｍｉｓｓ Ｍａｔｃｈ）具現して蒸着効率を増大できるよ
うにすることができる。さらにこのような配置構造によって蒸着時にデッドスペース（Ｄ
ｅａｄ Ｓｐａｃｅ）を減らすことができ、蒸着厚さを厚くしたり厚い材料を適用して蒸
着時にも高い活用度で適用が可能である。なぜなら、ＯＬＥＤ蒸着用装備で大面積の蒸着
時に引張力が高まることになる問題が発生することになるが、この場合、本発明の第２実
施例による第１面穴および第２面穴の配置位置をずれるように（Ｍｉｓｓ Ｍａｔｃｈ）
具現される単位ホールのパターンを用いる場合、このような引張力を均一に分散すること
ができるようにするので、ＯＬＥＤ蒸着均一度（Ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）を確保すること
ができるようにする。
３．第３実施例
以下においては前述した本発明のまた別の実施例の構造を説明することにする。
本第３実施例には前述した第１実施例および第３実施例で前述した蒸着用マスクの特徴
部をすべて適用できることはもちろんである。ただし、以下の説明においては、第３実施
例の特徴的な構造が独立的に具現されることを例にして説明することにする。
図８は図２で前述した単位ホールを多数含んで構成される本発明の第３実施例による蒸
着用マスクの断面構造を図示した概念図である。
図２および図８を参照すると、本発明の第３実施例による蒸着用マスクは、厚さを有す
る金属板を具備し、前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面お
よび第２面を具備し、この場合前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連結される境
界部（１２０）を通じて連通する第１面穴（１１０）および第２面穴（１３０）を有する
単位ホールを多数含んで構成される。
特に前記単位ホールは、前記第１面穴の前記金属板の厚さ方向の深さと前記第２面穴の
前記金属板の厚さ方向の深さが互いに異なるように具現され得る。この場合、第１面穴（
１１０）および第２面穴（１３０）は相互に連通される部分である境界部（１２０）の最
外角突出地点（Ａ１～Ａ２１）を基準として、蒸着が具現される第２面穴（１３０）が配
置される領域は有効領域（ＡＣ）とし、その他蒸着に関与しない領域として第１面穴（１
１０）および第２面穴（１３０）は相互連通される部分である境界部（１２０）の最外角
突出地点（Ａ１、Ａ２１）の外側領域に含まれる第２面穴が配置されない領域は非有効領
域（ＮＣ）と定義する。
すなわち、図８を基準として、図２を参照すると、図示された構造で前記有効領域（Ａ
Ｃ）内の単位ホールの場合、第１面穴（１１０）の境界部（１２０）までの深さ（ｂ）が
前記第２面穴（１３０）の境界部までの深さ（ａ）より大きく具現され得る。また、全体
的に前記第２面穴の深さ（ａ）が前記金属板の全体厚さ（ｃ）との関係の比率が１:（３
～３０）を充足する範囲を有するように具現され得る。
本発明の実施例のように、互いに幅と深さが異なる構造の単位ホールを具現する場合、
前記第２面穴（１３０）の深さ（ａ）が蒸着の厚さを調節できる重要な要因として作用す
ることになるが、前記第２面穴（１３０）の深さ（ａ）が深過ぎるようになり、全体基材
の厚さ（ｃ）との関係で前述した厚さの比率範囲を超過する場合には有機物の厚さの変化
が大きくなり、これによって蒸着されない領域（ｄｅａｄ ｓｐａｃｅ；以下、‘未蒸着
領域’という。）が発生するようになる致命的な問題が発生するようになり、このような
未蒸着領域は全体ＯＬＥＤで有機物の面積を減少させるようになって寿命を減少させる原
因として作用するようになる。
したがって、本発明の第３実施例による蒸着用マスクは前記第２面穴（１３０）の深さ
（ａ）と前記金属板の厚さ（ｃ）の比率は前述した範囲内で１:（３．５～１２．５）を
充足することができる。さらに望ましくは１:（４．５～１０．５）の比率を充足するよ
うに具現することができる。本発明の実施例においてはこのような比率範囲を満足する前
記金属板の厚さ（ｃ）を１０μｍ～５０μｍで具現することができる。前記金属板の厚さ
が１０μｍ未満で具現される場合には基材のねじれ程度が大きくなって工程コントロール
が難しく、基材の厚さが５０μｍを超過する場合には後に蒸着時に未蒸着領域（ｄｅａｄ
ｓｐａｃｅ）の発生が大きくなってＯＬＥＤの微細パターン（ｆｉｎｅ ｐａｔｔｅｒ
ｎ）を具現できなくなる。特にこの範囲で前述した基材の厚さ（ｃ）は１５μｍ～４０μ
ｍの厚さを充足するように具現することができる。さらに、より望ましくは２０μｍ～３
０μｍで具現することができる。
併せて、前記金属板の厚さ（ｃ）に対応する前記第２面穴の深さ（ａ）は０．１μｍ～
７μｍの範囲を充足するように具現することが望ましい。これは前記第２面穴の深さ（ａ
）が０．１μｍ未満で具現する場合には溝の具現が難しく、前記第２面穴の深さ（ａ）が
７μｍを超過時には後に蒸着した場合、未蒸着領域（Ｄｅａｄ Ｓｐａｃｅ）によってＯ
ＬＥＤ微細（Ｆｉｎｅ）パターンの形成が難しく、有機物面積が減少してＯＬＥＤ寿命を
減少させる原因となる。特に、前記第２面穴の深さ（ａ）は上の範囲内の深さの範囲で１
μｍ～６μｍで具現することができ、さらに望ましくは２μｍ～４．５μｍで具現するこ
とができる。
ここで蒸着の効率をさらに高めるために考慮できる要因としては蒸着物質が流入する第
１面穴（１１０）の内部面が有する傾斜角を考慮することができる。
これは図２に図示されたように、前記境界部（１２０）の最外側の任意の点（Ａ１）と
前記第１面の第１面穴（１１０）の最外角の任意の地点（Ｂ１）を連結する傾斜角（θ）
が２０度～７０度の範囲を充足するように具現することができる。これは有機物の蒸着時
に蒸着装備の特性上、蒸着ソースがポイントソースを使用するため、上の傾斜角（ｓｌｏ
ｐｅ ａｎｇｌｅ）が上の範囲を充足して蒸着の均一度を確保することができるようにな
る。上の傾斜角の範囲を超過したり外れるようになれば、未蒸着領域の発生率が高まって
均一な蒸着信頼度を確保することが難しくなる。本発明の実施例で前記傾斜角（θ）の範
囲内で具現可能な望ましい実施例として、前記傾斜角（θ）は３０度～６０度の範囲、さ
らに望ましくは３２度～３８度または、５２度～５８度の範囲を充足するように具現する
ことができる。
本発明の実施例による第２面穴と境界面を共有して連通する構造の第１面穴の構造は、
金属板の中心部方向にそれぞれの溝部の幅が狭くなる構成を有することが蒸着の効率面で
有利であり、特に望ましくは、前記第２面穴または、前記第１面穴の内表面が曲率を有す
る構造で具現され得る。このような曲率構造は蒸着物質の投入密度を調節し、単純なスロ
ープの構造に比べて蒸着の均一度を向上させることができるようになる長所がある。
また、本発明の実施例による前記第２面穴の前記一面上の開口部の幅（Ｃ）と前記境界
部の幅（Ａ）、前記第１面穴の前記他面上の開口部の幅（Ｂ）はＢ＞Ｃ＞Ａの比率を具備
するようにでき、これは前述した曲率構造の効用性のように、蒸着物質の投入密度を調節
し、蒸着の均一度を向上することができる。また、前記第２面穴の前記一面上の開口部の
幅（Ｃ）と前記境界部の幅（Ａ）の長さの差（ｄ＝Ｃ－Ａ）は０．２μｍ～１４μｍの範
囲を充足するように具現することができるようにする。
すなわち、第２面穴の前記一面上の最外角の任意の地点（Ｃ１）で前記境界部の最外角
の任意の地点（Ａ１）までの垂直距離（ｄ１）は０．１μｍ～７μｍを充足することがで
きるようにする。前記垂直距離（ｄ１）が０．１μｍ未満である場合、溝の具現が難しく
、７μｍ超過時に今後蒸着工程時に未蒸着領域（Ｄｅａｄ Ｓｐａｃｅ）によってＯＬＥ
Ｄ微細（Ｆｉｎｅ）パターンの形成が難しく、有機物面積が減少してＯＬＥＤ寿命を減少
させる原因として作用するようになる。また、前記垂直距離（ｄ１）の数値範囲で具現可
能な望ましい実施例としては、前記垂直距離（ｄ１）が１μｍ～６μｍで具現したり、さ
らに望ましくは２μｍ～４．５μｍの範囲で具現することができる。
また、本発明の実施例による前記第２面穴（ｏｒ第１面穴）の前記一面上の開口部の隅
部が曲率を有する構造で具現することができるようにする。
図５や図６に図示されたように、前記第２面穴（１１０）の上部平面、すなわち、基材
の一面に露出される開口領域の水平断面形状を考慮すると、長方形または、正四角形構造
で具現され、この場合それぞれの隅の部分には一定の曲率を有するようにラウンディング
した構造で具現されることが望ましい。
特に、前記隅部のラウンディングされた部分の曲率を延長して形成される仮想の円の直
径（Ｒ）が５μｍ～２０μｍ範囲で具現される場合に蒸着面積をより広げることができる
ようになる。添付が形成される隅を有するホーム部の形状は蒸着を円滑に具現しにくく、
未蒸着領域が必然的に発生するようになり、ラウンディングした構造で蒸着効率が高まり
、特に上の数値範囲内に曲率で蒸着率が最も高くて均一に具現され得るようになる。直径
が５μｍ未満では曲率処理をしなかったものと大きな差がなくなり、２０μｍを超過する
場合にはかえって蒸着率が落ちるようになる。特に、上で前述した直径（Ｒ）の範囲内で
の望ましい実施例としては直径（Ｒ）が７μｍ～１５μｍ、さらに望ましくは８μｍ～１
２μｍ範囲で具現することができる。
特に、本発明の実施例においては前記基材の前記一面または前記他面の表面粗さ（Ｒａ
）は２μｍ以下で具現されることが好ましく、これは有機物の蒸着品質を高めることがで
きる一つの要因として作用することができるためである。表面粗さが大きくなれば、装着
物質が溝部に沿って移動することで抵抗が発生するようになり、上の粗さ以上で具現され
る場合、円滑な蒸着が難しくて未蒸着領域が発生する比率が高まるようになる。
４．第４実施例
以下においては、本発明の他の実施例による蒸着用マスクを提案する。前述した第１実
施例ないし第３実施例の技術的な特徴は本第４実施例に適用され得ることはもちろんであ
る。ただし、本説明においては第４実施例の特徴部が独立的に具現される構造を例にあげ
て説明する。
本第４実施例においても、蒸着用マスクの構成が前記厚さ方向に対して直交し、互いに
対向する第１面および第２面を具備する金属板を具備し、前記第１面および第２面を貫通
し、相互間に連通する第１面穴（１１０）および第２面穴（１３０）を有する単位ホール
を多数含んで構成される点においては同一である。
ただし、図９を参照すると、図９は前述した図８での第３実施例の構造との差異点は単
位ホールが配置される有効領域（ＡＣ）と有効領域外角の非有効領域（ＮＣ）を含む蒸着
用マスクの構造において、有効領域内の金属板の厚さが前記非有効領域（ＮＣ）の金属板
の厚さと異なるように具現され得るようにする点で差がある。
特に、図９を参照すると、第４実施例においては、前記単位ホールが配置される有効領
域の金属板の最大厚さ（ｈ１）と前記有効領域外角の非有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ
２）を考慮するとき、前記有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ１）が前記非有効領域の金属
板の最大厚さ（ｈ２）より小さく具現され得るようにする。この場合、‘有効領域の金属
板の最大厚さ（ｈ１）’とは、第２面穴の具現される第２面の表面において、金属板の厚
さ方向に突出する金属板の最大突出部分（以下、‘突出部’という。；ｇ１）の厚さのう
ち最大値と定義する。
この場合、前記非有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ２）は、前記有効領域の金属板の最
大厚さ（ｈ１）との関係において０．２ｈ１＜ｈ2＜１．０ｈ１を充足するようにするこ
とができる。さらに、この範囲内で０．２ｈ１＜ｈ２＜０．９ｈ１を充足するように具現
することができる。
前記非有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ２）対比前記有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ
１）が２０～１００％の厚さを有するように具現することができ、この範囲内で最大厚さ
（ｈ２）の２５～８５％、さらに３０～６０％の厚さを有するように形成することができ
る。一例として非有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ２）を３０μｍにする場合、有効領域
の金属板の最大厚さ（ｈ１）は６μｍ～２７μｍに、または、７．５μｍ～２５．５μｍ
、または、９μｍ～１８μｍの範囲で具現することができるようにする。
以上のように数値範囲は第１面穴のスロープ（傾斜角）を調節して蒸着効率を高めるこ
とができ、有効領域の高さを低くする場合、蒸着角度を容易に確保および制御できるよう
になって高解像度の蒸着用マスクに具現が可能である。
図１０は図９で第１面穴と第２面穴が連通する単位ホールを概念的に図示したものであ
る。前述したように、特にこのような蒸着角度を確保する側面において、図９および図１
０を参照すると、第１面穴または第２面穴の金属板表面上の開口部の一地点を基準とし、
境界部までの任意の地点を連結する傾斜角を考慮するとき、前記開口部の長軸方向の一地
点から境界部まで具現されるスロープと短軸方向の一地点から境界部までのスロープが互
いに異なるように具現され得るようにする。
具体的には、前記金属板の表面に露出される前記第１面穴（１１０）または前記第２面
穴（１３０）の開口部の長軸方向の一地点から、前記第１面穴および前記第２面穴の境界
部（１２０）の任意の一地点までの第１傾斜角（θ１）と、前記金属板の表面に露出する
前記第１面穴または前記第２面穴の開口部の短軸方向の一地点から、前記第１面穴および
前記第２面穴の境界部（１２０）の一地点までの第２傾斜角（θ２）が互いに異なるよう
に具現されるようになる。すなわち、同一の第１面穴や第２面穴内部面のスロープがそれ
ぞれ異なるように具現されるようにすることができる。本実施例においては、特に第１傾
斜角（θ１）が前記第２傾斜角（θ２）より小さく具現されるようにし、この場合前記第
１傾斜角（θ１）は２０°～８０°の範囲で具現され得るようにする。このように同一の
第２面穴（または、第１面穴）内部でもスロープの角度を異なるように具現する場合、蒸
着物の均一度を向上することができるようになる長所が具現されるようになる。
また、本第４実施例の構造においては、図９の図面で前述した有効領域の添付に対抗す
る前記突出部（ｇ１）地点に曲率が具現される構造で形成することができるようにする。
このように、有効領域の添付に対抗する前記突出部（ｇ１）地点に曲率が具現されるよう
になれば、蒸着時に蒸着物質が第１面穴を通じて流入する蒸着物質が隣接する他の領域で
効率的に分散して流入され得るので、蒸着効率および蒸着均一度を高めることができる。
このためには、突出部（ｇ１）地点に形成される曲率は、その曲率半径（Ｒ）が０．５μ
ｍ以上で具現されるようにする。曲率半径（Ｒ）が０．５μｍ未満で具現される場合には
前述した分散効率が劣るようになる。
また、本第４実施例の構造においては、図９の図面で提示される非有効領域（ＮＣ）部
分に前記金属板の厚さ方向に蝕刻される引張力調節パターン（ＨＦ）が具現され得るよう
にする。前記引張力調節パターン（ＨＦ）は金属板を貫通しない構造で具現される溝パタ
ーン構造（以下、‘ハーフエッチング領域’と定義する。）で具現され得る。
前記ハーフエッチング領域は金属板の厚さ（ｈ１）より薄い厚さを有するように具現さ
れ得る。これはＯＬＥＤ蒸着時に装備で蒸着用マスク自体に引張力を加えるようになるが
、この場合引張力が有効領域（Ａｃｔｉｖｅ領域）に集中する現象を分散させて蒸着を効
率的に行うことができ、蒸着物質が均一性を有するようにする機能を遂行する。
特に、前記ハーフエッチング領域の場合、金属板の厚さ（ｈ１）対比１０％～１００％
の厚さを有するように具現され得る。すなわち、前記ハーフエッチング領域の厚さ（ｈ３
）は、前記非有効領域の金属板の厚さ（ｈ１）との関係において、０．１ｈ１＜ｈ３＜１
．０ｈ１の関係を充足するように具現され得る。金属板の厚さ（ｈ１）対比１０％～１０
０％の厚さ範疇では前記ハーフエッチング領域の厚さは２０％～８０％、または、３０％
～７０％で具現することができる。
一例として、３０μｍ厚さの金属板の場合、ハーフエッチング領域の厚さは３μｍ～２
７μｍの厚さ（金属板の厚さ（ｈ１）対比１０％～９０％の厚さ範疇）を有することがで
きる。さらに、よりスリムな構造に具現して引張力分散効果を具現するためには、金属板
厚さの２０％～８０％である６μｍ～２４μｍ、または、金属板厚さの３０％～７０％で
ある９μｍ～２１μｍの 範疇で具現することができる。
図１１は図１０の第１面穴が具現される第１面の部分のイメージである。図１１および
図１０を参照すると、本第４実施例の構造で前述した有効領域の添付に対抗する前記突出
部（ｇ１）に対向する反対面である前記第１面の部分は多数個が具現されるようになり、
このような第１面の部分の高さを互いに異なるように具現して蒸着工程時に蒸着のピッチ
を減らせるように具現することができる。すなわち、図１１の構造において、Ｚ１、Ｚ２
、Ｚ３地点の高さをそれぞれ異なるように具現することができるようにする。
５．第５実施例
以下においては、本発明の他の実施例による蒸着用マスクの構造を説明することにする
。本第５実施例の構造は、前述した第１実施例ないし第４実施例の特徴を同時に具備する
こともできることはもちろんである。ただし、以下の説明においては、第５実施例の特徴
的な構造が独立的に具現されることを例にして説明する。
図２で前述した本発明の実施例による蒸着用マスクの凹部断面図を用いて第５実施例の
特徴を説明すると次のとおりである。
本実施例による蒸着用マスクは図４に図示された構造のように、厚さを有して前記厚さ
方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備する金属板を具備し、前
記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴（１１０）および第２面穴（
１３０）を有する単位ホールを多数含んで構成される。この場合、第１面穴（１１０）お
よび第２面穴（１３０）は相互に連通する部分である境界部（１２０）を共有して連通す
る。このような単位ホールは多数個が設けられる構造で具現され得る。
特に、この場合前記蒸着用マスクに具現される前記単位ホールは、前記第１面（１１２
）の表面粗度である第３粗度（Ｒａ３）が有する粗度値以下の粗度値を有するようにする
ことができる。すなわち、第３粗度（Ｒａ３）を基準とし、前記第１内側面の第１粗度（
Ｒａ１）や前記第２面穴の内側面である第２内側面（１３１）の第２粗度（Ｒａ２）値が
さらに小さく形成され得るようにする[Ｒａ３≧（Ｒａ２ ｏｒ Ｒａ１）]。
さらに、前記第２面穴の内側面である第２内側面（１３１）の第２粗度（Ｒａ２）が前
記第１面穴（１１０）の内側面である第１内側面（１１１）の第１粗度（Ｒａ１）以上の
値を有するように形成することができる[Ｒａ２≧Ｒａ１]。
これは、金属材質（Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ）で具現される本蒸着用マスクの表面に粗度
が一定量以上であれば蒸着マスク製作時に蒸着のためのホールである単位ホールの直進度
（図７のラインラフネス）に影響を与えるため有機物蒸着が好ましくなく、ＯＬＥＤなど
有機物蒸着後の洗浄時に洗浄力が低下して蒸着マスクの寿命が短縮するようになる。
本実施例においては、前記第１内側面の算術平均粗度（Ｒａ１）および前記第２内側面
の算術平均粗度（Ｒａ２）が１．０μｍ以下で具現され得るようにする。または、この範
囲内で前記第１内側面、前記第２内側面、前記第１面の算術平均粗度（Ｒａ）は０．０８
～０．５μｍ以下、０．１５～０．３μｍ以下で具現される場合、さらに信頼性のある蒸
着効率を具現することができるようになる。
この場合、算術平均粗度（Ｒａ）は図１２に図示されたように、中心線表面粗さ（Ｒｏ
ｕｇｈｎｅｓｓ Ａｖｅｒａｇｅ、Ｒａ）、ＣＬＡ（Ｃｅｎｔｅｒ Ｌｉｎｅ Ａｖｅｒ
ａｇｅ）、ＡＡ（Ａｒｉｔｈ Ｍｅｔｉｃ Ａｖｅｒａｇｅ）とも表現し、ある基準の長
さ内の表面の山と谷の高さと深さを基準線を中心に平均して得られる値と定義する。すな
わち、図５のグラフのように、粗さを測定する表面の基準となる基準線（中心線）を基準
として粗さの程度を表示し、これを算術平均で具現したものである。
さらに、本発明の実施例での他の側面においては、蒸着用マスクでの前記第１内側面、
前記第２内側面、前記第１面の中少なくとも一つの１０点平均粗度（Ｒz）値が３．０μ
ｍ以下で具現され得るようにする。さらに、この範囲内での前記第１内側面、前記第２内
側面、前記第１面のうち少なくとも一つの１０点平均粗度（Ｒz）値は２．５以下、１．
５～２．５以下で具現してさらに信頼性のある蒸着効率を具現することができる。
この場合、‘１０点平均粗度（Ｒz）’は図１３に図示されたように、粗さの測定対象
になる表面の基準表面の基準線を基準として、１０個の地点の表面粗さ（Ｔｅｎ Ｐｏｉ
ｎｔ Ｈｅｉｇｈｔ ｏｆ Ｉｒｒｅｇｕｌａｒｉｔｉｅｓ、Ｒz）を意味する。
さらに、本発明の実施例による蒸着用マスクは、図２で前述した単位ホールの外径のラ
インラフネス（Ｌｉｎｅ Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）、いわゆる‘単位ホールの直進度’が１
．５μｍで具現され得るようにする。単位ホールの外径のラインラフネス（Ｌｉｎｅ Ｒ
ｏｕｇｈｎｅｓｓ）、すなわち、直進度とは測定するホールの外径の中心点から直線を引
いて基準線（中心線）とし、この中心線を基準としていずれか一方方向に外れた尺度で、
中心線から最も遠く外れた距離を直進度と表現する。
本発明の実施例において、この直進度を測定したことを図１４ないし図１６を挙げて説
明する。図１４および図１５は図２の第１面穴の様子の実際のイメージを図示したもので
あって、これを参照すると、第１面穴の開口部の短軸と長軸をそれぞれ、ｘ、ｙとして、
長軸であるｙ軸に限って測定されるｙ軸の全長を１／２に区分し、その中心をｙ２とした
場合、ｙ２から左右１．５μｍ、合計３μｍ範囲で開口部の外径ラインのラフネスを測定
する。この場合測定する範囲は３μｍを越えないようにして、３μｍの範囲内で直進度が
本発明の実施例による蒸着用マスクは１．５μｍ以下に具現され得るようにする。すなわ
ち、測定範囲３μｍで直進度を１．５μｍ以下に具現することができるようにする。
６．第６実施例
以下においては、前述した第１実施例ないし第５実施例による蒸着用マスクを製造する
ことに利用される金属基板の実施例を説明する。
図１７および図１８は本発明の実施例による金属基板の特徴を説明するための概念図で
ある。
図１７および図１８を参照すると、本発明の実施例による金属基板は厚さを有するベー
ス金属板をエッチング加工して蒸着用マスクを製作する厚さの金属基板を具現することが
できるようにし、特に金属基板が局部個所または、全体的にねじれ現象を最小化できる金
属基板を具現することができるようにする。
このために、本発明の第１実施例による金属基板は、図１７に図示されたことのように
、全体的に一定の厚さを有するベース金属板に対して、サンプル基板を抽出して、このサ
ンプル基板（２００）に対してエッチングが加えられるエッチング領域（２１０）と未エ
ッチング領域（２２０）で具現され得る。（以下においては、ベース金属板に対してエッ
チングのために採取した基板を‘サンプル基板’と、ベース基板で採取した基板のうちエ
ッチングを加えなかった基板を‘単位基板’と定義する。）
この場合、前記ベース金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面お
よび第２面を具備する。このようなベース金属板に対して、前記ベース金属板の任意の地
点に３０ｍｍ＊１８０ｍｍ（横＊縦）で採取したサンプル基板（２００）の、両側末端で
内側に１０ｍｍを残して（２２０部分）その内部に対して前記厚さの２／３～１／２厚さ
にエッチングしたエッチング領域（２１０）を具現し、以後、前記サンプル基板を水平対
象面に据置する場合、エッチングが行われたサンプル基板のねじれ指数（Ｈｒ）が次の関
係を充足する。
［数１］
ＨＲ＝｛（Ｈ１－Ｈａ）２＋（Ｈ２－Ｈａ）２＋（Ｈ３－Ｈａ）２＋（Ｈ４－Ｈａ
）２｝１／２
［数２］
Ｈａ＝（Ｈ１＋Ｈ２＋Ｈ３＋Ｈ４）／４
（Ｈａはエッチングされたサンプル基板の４個の隅が水平対象面から離隔される距離（
Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３、Ｈ４）の平均隔離距離と定義する。）
具体的に図１および図１７および図１８を参照して本発明の実施例による金属基板の特
性を説明すると次のとおりである。
一般に、図１のように、本発明の実施例による金属基板を用いて製作される蒸着用マス
クは、ＯＬＥＤの有機層の形成を具現するマクス構造物であって、蒸着物質を提供する蒸
着ソース（Ｓ；Ｓｕｏｒｃｅ）グラスのような基材（Ｇ）上に蒸着ターゲット（Ｔ）を具
現することができるようにする。この場合、前記蒸着用マスク（Ｍ；１００）は多数の単
位ホールを具備する構造で具現される。一般に、ＯＬＥＤ蒸着時における蒸着均一度の向
上のためには、蒸着用マスクが均一な状態で蒸着工程の間維持されなければならない。
しかし、基本的に蒸着用マスクを製作するために金属板をエッチングした場合、厚さが
非常に薄くなり、ここに多数の蒸着ホールを具現するようになれば、製作される蒸着用マ
スクは簡単にねじれるようになって、図１のような配置構造で蒸着の均一度を確保できな
くなる。
よって、本発明の実施例においては、金属板や金属板エッチング時に発生するねじれを
最小化できるようにする金属基板を提供できるようにする。本発明の金属基板の製造工程
は、ベース金属板を３０ｍｍＸ１８０ｍｍでサンプル基板を採取する。
以後、前記サンプル基板に対して１８０ｍｍ長軸の両側１０ｍｍ残して１／２～２／３
エッチングする。以後、エッチングが行われたサンプル基板を水平度が確保された平面、
例えば定盤のような対象の上に前記サンプル基板を配置する場合、定盤の水平対象面の基
準面で前記サンプル基板の四つの隅が離隔される高さであるＨ１、Ｈ２、Ｈ３、Ｈ４を測
定する。
この場合、前記サンプル基板の四つの隅が離隔される高さであるＨ１、Ｈ２、Ｈ３、Ｈ
４が‘０’以上の場合、この状態をサンプル基板が‘ねじれた（ｔｗｉｓｔ）’と定義し
て、このようなねじれの程度を前述した式１のような指数化したものをねじれ指数（Ｈｒ
）と定義する。
したがって、サンプル基板のねじれ指数（Ｈｒ）が大きくなるほど基板のねじれの程度
が激しくなり、本発明が実施例においては、ベース金属板の任意の地点での同一のサイズ
（３０ｍｍ×１８０ｍｍ）で抽出した未エッチングサンプル基板（以下、‘単位基板’と
いう。）と、エッチングを加えたサンプル基板のねじれ指数を比較する場合、エッチング
を加えたサンプル基板のねじれ指数が未エッチングサンプル基板のねじれ指数より大きく
形成されるようになる。
すなわち、前述した前記ベース金属板の任意の地点に対して３０ｍｍ×１８０ｍｍ（横
×縦）で採取した未エッチングサンプル基板（単位基板）を水平対象面に据置して、前記
基板（Ｔ１）の４個の隅地点に対して得られる前記［数１］および［数２］によるねじれ
指数（Ｈｒ（Ｔ１））が、前記ベース金属板で採取してエッチングを加えたサンプル基板
（Ｔ２）のねじれ指数（Ｈｒ（Ｔ２）以下で具現することができるようにし、これは下の
式で表現することができる。
［数３］
Ｈｒ（Ｔ１）≦Ｈｒ（Ｔ２）
特に、本発明の実施例においては、このような前記サンプル基板のねじれ指数が１０以
下で具現され得る。例えば、ベース基板の厚さが２０μｍである場合、サンプル基板を抽
出してエッチングを遂行し、エッチングを遂行したサンプル基板の４個の隅の部分が水平
面に対して１０μｍ以下を具現するようになる。
すなわち、エッチングが加えられた前記サンプル基板のねじれ指数が１０以下で具現さ
れ得、望ましくは０．２～７、または、０．５～５の範囲で具現され得る。このようなサ
ンプル基板のねじれ指数を１０以下で具現すると、最終蒸着用マスクの製造時ねじれ現象
を防止することができ、ＯＬＥＤ蒸着時に左右偏差が減って蒸着均一度を高めることがで
きるようになる。
本発明の実施例によるサンプル基板のねじれ指数を１０以下で具現するためには、母材
の状態で金属基板を具現する過程で冷却工程と圧延工程を遂行することを通じて形成でき
るようにする。一応、母材の状態で１０～２０℃の温度で冷却工程を進め、以後圧延を具
現する場合、所望の厚さの金属板を具現するために圧延工程を具現するようになり、この
場合圧延の程度が重要であり、この場合圧延率は母材の任意地点の単位体積（１ｍｍ３）
の２／３～１／５比率で具現され得るようにする。
図１８は前述した本発明の実施例によるベース金属板（２００）でサンプル基板を採取
してエッチングした場合のねじれ指数を説明するための図面であって、図示されたように
、前記サンプル基板は水平対象面（ＳＴ）に対して４個の隅部位が落ちるようになり、こ
のような隔離距離（Ｈ１～Ｈ４）は少なくとも一つは他の長さを有するようになる。すな
わち、サンプル基板の短軸方向で隣接するＨ１とＨ２、または、Ｈ３とＨ４が互いに異な
り得る。
前述した本発明の実施例による金属基板の場合、前記金属基板のエッチング領域の第１
面と第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する単位ホールを多
数含む蒸着用マスクで具現され得る。特に、このように具現される蒸着用マスクはマスク
のねじれが顕著に減少して蒸着の信頼性を具現することができるようになる。
前述したような本発明の詳細な説明においては、具体的な実施例に関して説明した。し
かし、本発明の範疇から外れない限度内では様々な変形が可能である。本発明の技術的思
想は本発明の前述した実施例に限定して決められてはならず、特許請求の範囲だけでなく
この特許請求の範囲と均等なものなどによって決められなければならない。

Claims (28)

  1. 厚さを有する金属板；
    前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備
    し、
    前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する
    単位ホールを多数含み、
    互いに隣り合う単位ホールの間の第１面穴または第２面穴の大きさ偏差が任意の単位ホ
    ール間の大きさの偏差を基準として１０％以内である蒸着用マスク。
  2. 単位ホール間の大きさの偏差は、
    互いに隣り合う第１面穴または第２面穴の大きさ偏差が±３μｍ以内である、請求項１
    に記載の蒸着用マスク。
  3. 前記第１面穴または第２面穴の大きさ偏差は、
    第１面穴または第２面の第１方向の直径と前記第１方向に直交する第２方向の直径の間
    の直径の偏差である、請求項２に記載の蒸着用マスク。
  4. 前記第２面穴の外周面から中心方向に突出する突起の幅または高さの最大値が２０μｍ
    以下である、請求項１に記載の蒸着用マスク。
  5. 厚さを有する金属板；
    前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備
    し、
    前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する
    単位ホールを多数含み、
    前記第１面穴の中心と前記第２面穴の中心とが前記第１面の表面を基準として相互に一
    致しない位置に配置される単位ホールを少なくとも一つ以上含む蒸着用マスク。
  6. 前記相互に一致しない構造は、
    前記金属板の第１面または第２面の表面と直交する仮想の垂直線を前記第１面穴の中心
    と前記第２面穴の中心のうちいずれか一つで引くとき、前記第１面穴の中心と前記第２面
    穴の中心のうち他の中心を過ぎないようにずれて配置される構造である、請求項５に記載
    の蒸着用マスク。
  7. 前記第１面穴の中心と前記第２面穴の中心との間の距離（Ｂ）は、前記第２面穴の直径
    の長さ（Ａ）の０．９Ａ以下である、請求項５に記載の蒸着用マスク。
  8. 互いに隣り合う単位ホールの間の第１面穴または第２面穴の大きさ偏差が任意の単位ホ
    ール間の大きさの偏差を基準として１０％以内である、請求項５に記載の蒸着用マスク。
  9. 前記単位ホールは、
    前記第１面穴および第２面穴の相互に連通する地点である境界面まで前記金属板の厚さ
    方向に行くほど幅が狭くなる、請求項５に記載の蒸着用マスク。
  10. 前記第１面穴の第１面上に露出する開口幅が前記第２面穴の第２面上に露出する開口幅
    より大きい、請求項７に記載の蒸着用マスク。
  11. 厚さを有する金属板；
    前記金属板は前記厚さ方向に対して直交し、互いに対向する第１面および第２面を具備
    し、
    前記第１面および第２面を貫通し、相互間に連通する第１面穴および第２面穴を有する
    単位ホールを多数含み、
    前記単位ホールが配置される有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ１）と前記有効領域外角
    の非有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ２）が異なる蒸着用マスク。
  12. 前記有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ１）が前記非有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ２
    ）より小さい、請求項１１に記載の蒸着用マスク。
  13. 前記非有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ２）は、前記有効領域の金属板の最大厚さ（ｈ
    １）との関係において０．２ｈ１＜ｈ2＜１．０ｈ１を充足する、請求項１２に記載の蒸
    着用マスク。
  14. 前記非有効領域内に、前記金属板の厚さ方向に蝕刻される引張力調節パターンが設けら
    れる、請求項１２に記載の蒸着用マスク。
  15. 前記引張力調節パターンは、前記有効領域の金属板の厚さ（ｈ１）より薄い厚さを有す
    るハーフエッチング領域である、請求項１４に記載の蒸着用マスク。
  16. 前記ハーフエッチング領域の厚さ（ｈ３）は、前記非有効領域の金属板の厚さ（ｈ１）
    との関係において、０．１ｈ１＜ｈ３＜１．０ｈ１の関係を充足する、請求項１５に記載
    の蒸着用マスク。
  17. 前記金属板の表面に露出する前記第１面穴または前記第２面穴の開口部の長軸方向の一
    地点から、前記第１面穴および前記第２面穴の境界部の一地点までの第１傾斜角と、前記
    金属板の表面に露出する前記第１面穴または前記第２面穴の開口部の短軸方向の一地点か
    ら、前記第１面穴および前記第２面穴の境界部の一地点までの第２傾斜角が互いに異なる
    、請求項１１に記載の蒸着用マスク。
  18. 前記第１傾斜角が前記第２傾斜角より小さい、請求項１７に記載の蒸着用マスク。
  19. 前記第１傾斜角は２０°～８０°である、請求項１８に記載の蒸着用マスク。
  20. 前記有効領域内の金属板は、
    前記第１面から前記第２面方向に突出する突出部に曲率が具現される、請求項１７に記
    載の蒸着用マスク。
  21. 前記突出部において曲率は０．５μｍ以上である 、請求項２０に記載の蒸着用マスク
    。
  22. 前記突出部に対向する前記第１面の部分の高さが単位ホール別に異なるものが少なくと
    も１以上設けられる、請求項２０に記載の蒸着用マスク。
  23. エッチング領域と未エッチング領域を含む金属基板；
    前記エッチング領域の第１面から前記金属基板の深さ方向に形成される第１面穴；
    前記エッチング領域の第２面から前記金属基板の深さ方向に形成され、前記第１面穴と
    境界部を基準として連通する第２面穴；
    前記第１面穴と連通する前記第２面穴一組で具現される単位ホールを多数含む蒸着用マ
    スク。
  24. 前記単位ホールは、
    前記第１面の表面粗度である第３粗度（Ｒａ３）が前記第１面穴の第１内側面の表面粗
    度である第１粗度（Ｒａ１）および前記第２面穴の第２内側面の表面粗度である第２粗度
    （Ｒａ２）以上の値を有する、請求項２３に記載の蒸着用マスク。
    （ただし、Ｒａは対象表面の算術平均粗度を意味する）
  25. 前記第２粗度（Ｒａ２）が前記第１粗度（Ｒａ１）以上である、請求項２４に記載の蒸
    着用マスク。
  26. 前記第１内側面、前記第２内側面、前記第１面の算術平均粗度（Ｒａ）が１．０以下で
    ある、請求項２５に記載の蒸着用マスク。
  27. 前記第１内側面、前記第２内側面、前記第１面の１０点平均粗度（Ｒz）が３．０以下
    である、請求項２６に記載の蒸着用マスク。
  28. 前記単位ホールの第１面穴または第２面穴の開口部の直進度が１．５μｍ以下である、
    請求項２３に記載の蒸着用マスク。
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