JP2022067719A - マススペクトル処理装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
M=Mr×n+Me+Mc ・・・(1)
KM=M×Mri/Mr ・・・(2)
KM=(Mr×n+Me+Mc)×Mri/Mr ・・・(3-1)
=Mri×n+(Me+Mc)×Mri/Mr ・・・(3-2)
=Mri×n+(B+b) ・・・(3-3)
NKM=Mri×n+B+1 (b≧0.5) ・・・(4-1)
=Mri×n+B (b<0.5) ・・・(4-2)
KMD=NKM-KM ・・・(5-1)
=1-b (b≧0.5) ・・・(5-2)
=-b (b<0.5) ・・・(5-3)
RKM=KM/Mri-Floor(KM/Mri) ・・・(6)
RKM={n+(Me+Mc)/Mr}-Floor{n+(Me+Mc)/Mr} ・・・(7)
RKM=(Me+Mc)/Mr-Floor{(Me+Mc)/Mr} ・・・(8)
実施形態に係るマススペクトル処理装置は、演算部、及び、生成部を含む。演算部は、第1ポリマー試料の第1マススペクトルから得られた第1ピーク列及び第2ポリマー試料の第2マススペクトルから得られた第2ピーク列に基づいて、第1ピーク列と第2ピーク列の間の相違を表した数値列を演算する。生成部は、分子それ全体の質量から算出される整数質量を表す第1軸と分子中の主鎖以外の部分の質量から算出される小数質量を表す第2軸とで定義される座標系に対して数値列に対応する要素群を配置することにより相違プロットを生成する。
図1には、実施形態に係る質量分析システムが示されている。質量分析システムは、質量分析装置10及びマススペクトル処理装置12により構成される。質量分析の対象は、実施形態においてポリマー試料である。より具体的には、第1ポリマー試料及び第2ポリマー試料である。それらが順次、質量分析される。第1ポリマー試料及び第2ポリマー試料には、それぞれ、複数種類のポリマーが含まれ得る。以下、場合により、第1ポリマー試料及び第2ポリマー試料の2つをまとめて、単に試料と表現する。
Claims (9)
- 第1ポリマー試料の第1マススペクトルから得られた第1ピーク列及び第2ポリマー試料の第2マススペクトルから得られた第2ピーク列に基づいて、前記第1ピーク列と前記第2ピーク列の間の相違を表した数値列を演算する演算部と、
分子それ全体の質量から算出される整数質量を表す第1軸と分子中の主鎖以外の部分の質量から算出される小数質量を表す第2軸とで定義される座標系に対して前記数値列に対応する要素群を配置することにより相違プロットを生成する生成部と、
を含むことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1記載のマススペクトル処理装置において、
前記整数質量はノミナルケンドリックマスであり、
前記小数質量はケンドリックマスディフェクト又はリメインダーオブケンドリックマスである、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1記載のマススペクトル処理装置において、
前記生成部は、前記数値列を構成する各数値に応じて前記要素群を構成する各要素の態様を変化させる、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1記載のマススペクトル処理装置において、
前記演算部は、前記第1ピーク列と前記第2ピーク列の間においてピーク単位で差分を演算することにより前記数値列を演算する、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1記載のマススペクトル処理装置において、
前記演算部は、前記第1ピーク列と前記第2ピーク列の間においてピーク単位で比率を演算することにより前記数値列を演算する、
ことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項5記載のマススペクトル処理装置において、
前記演算部は、
前記第1ピーク列と前記第2ピーク列の相互の突合せにより特定される値不足箇所に対して所定値を超える数値を補充する前処理を実行する手段と、
前記前処理の後に前記比率を計算する手段と、
を含むことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 請求項1記載のマススペクトル処理装置において、
前記第1ポリマー試料の複数の第1マススペクトルから得られた複数の第1ピーク列及び前記第2ポリマー試料の複数の第2マススペクトルから得られた複数の第2ピーク列に基づいて、ボルケーノプロットを生成する手段と、
前記相違プロットの中の要素全体の中から、前記ボルケーノプロット中に定められた抽出エリアに属する複数の有意要素に対応する複数の要素を抽出し、これによりフィルタリングされた相違プロットを生成する手段と、
を含むことを特徴とするマススペクトル処理装置。 - 第1ポリマー試料の第1マススペクトルから得られた第1ピーク列及び第2ポリマー試料の第2マススペクトルから得られた第2ピーク列に基づいて、前記第1ピーク列と前記第2ピーク列の間の相違を表した数値列を演算する工程と、
ノミナルケンドリックマスを表す第1軸とケンドリックマスディフェクト又はリメインダーオブケンドリックマスを表す第2軸とで定義される座標系に対して、前記数値列に対応する要素群を配置することにより相違プロットを生成する工程と、
を含むことを特徴とするマススペクトル処理方法。 - 情報処理装置において実行されるプログラムであって、
第1ポリマー試料の第1マススペクトルから得られた第1ピーク列及び第2ポリマー試料の第2マススペクトルから得られた第2ピーク列に基づいて、前記第1ピーク列と前記第2ピーク列の間の相違を表した数値列を演算する機能と、
ノミナルケンドリックマスを表す第1軸とケンドリックマスディフェクト又はリメインダーオブケンドリックマスを表す第2軸とで定義される座標系に対して、前記数値列に対応する要素群を配置することにより相違プロットを生成する機能と、
を含むことを特徴とするプログラム。
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