JP2022061365A - 吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置 - Google Patents

吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2022061365A
JP2022061365A JP2020169329A JP2020169329A JP2022061365A JP 2022061365 A JP2022061365 A JP 2022061365A JP 2020169329 A JP2020169329 A JP 2020169329A JP 2020169329 A JP2020169329 A JP 2020169329A JP 2022061365 A JP2022061365 A JP 2022061365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
discharge port
filler
head
port surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020169329A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2022061365A5 (ja
Inventor
真弘 九里
Masahiro Kuri
敬恭 長谷川
Takayasu Hasegawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2020169329A priority Critical patent/JP2022061365A/ja
Publication of JP2022061365A publication Critical patent/JP2022061365A/ja
Publication of JP2022061365A5 publication Critical patent/JP2022061365A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】装置の汚染を抑制することができる吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置を提供すること。【解決手段】吐出ヘッド1の側端面7および吐出口面9の端部を含む外周部に充填剤6を塗布して、吐出ヘッド1の側端面7および吐出口面9の外周部を充填剤6で覆う。【選択図】図3

Description

本発明は、吐出材を吐出する吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置に関する。
インプリント装置では、レジスト等の吐出材を吐出装置の吐出ヘッドから吐出するものがある。インプリント装置に使用されている吐出ヘッドは、複数の基板を貼り合わせることで製作されることがある。このような吐出ヘッドでは、吐出材を吐出する吐出口の開口部近傍への異物や液滴の付着があったり、もしくは吐出材中に気泡が存在したりすることで、吐出の乱れが生じることがある。このような吐出の乱れを解決する技術として、吐出材を加圧吐出させて、異物や気泡を吐出材と共に吐出口の外へ排出することが行われている。
ところで、特許文献1には、インプリント材を吐出する吐出ヘッドではないが、底板の側面に凹凸を形成し、接着面積を増やすことで、底板とモールド剤との接着力を向上させた液体噴射ヘッドが記載されている。
特開2017-121760号公報
本発明者らの検討によれば、吐出材の加圧吐出が行われると、吐出ヘッドに数十kPaの圧力がかかることがあり、貼り合わせた基板が剥離することがあった。貼り合わせた基板が剥離すると、吐出装置内に収容されているレジストが外に漏れ出し、インプリント装置を汚染させてしまう虞がある。一般的に吐出ヘッドの側端面の面積は小さく、基板の剥離が生じるとその小さな側端面に対して、剥離方向の力は剪断的に作用する。そのため、貼り合わせた基板の剥離防止として特許文献1の技術を適用し、吐出ヘッドの側端面に凹凸を設けることで接着面積を増やして接着力を向上させても、基板の剥離を抑制する程の接着力は期待できず、基板の剥離を抑制することは難しい。その結果、レジストが吐出ヘッドから外に漏れ出し、インプリント装置を汚染してしまう虞がある。
よって本発明は、装置の汚染を抑制することができる吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置を提供することを目的とする。
本発明の吐出装置は、吐出材を収容する収容部と、複数の基板を積層して形成され、前記収容部に収容された吐出材を吐出口から吐出する吐出ヘッドと、を備えた吐出装置であって、前記吐出ヘッドの、前記吐出口が形成された吐出口面と交わる面であって、前記複数の基板が積層されて形成された側端面と、および前記吐出口面の端部を含む前記吐出口面の周囲とが、充填剤で覆われていることを特徴とする。
本発明によれば、装置の汚染を抑制することができる吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置を提供することができる。
インプリント装置の構成を示す概略図。 吐出ユニットを示した図。 吐出ユニットにおける吐出ヘッドの断面を示した図。
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。尚、同一の構成については、同じ符号を付して説明する。また、実施形態に記載されている構成要素の相対配置、形状などは、あくまで例示である。
図1は、本実施形態に適用可能なインプリント装置101の構成を示す概略図である。インプリント装置101は、半導体デバイスなどの各種のデバイスの製造に使用される。インプリント装置101は、吐出装置10を備える。吐出装置10は、吐出材114をウェハ基板111上に吐出する。吐出材114としては、樹脂で形成されたレジストが挙げられる。また、インプリント装置に用いる場合には、あとでインプリントされるインプリント材であってもよい。吐出材114は、紫外線108を受光することにより硬化する性質を有する光硬化性の樹脂である。吐出材114は、半導体デバイス製造工程などの各種条件により適宜選択される。光硬化性の吐出材の他に例えば熱硬化性の吐出材を用いてもよく、インプリント装置は、熱でレジストを硬化させてインプリント処理を行う装置でもよい。
インプリント装置101は、次の一連の処理を含むインプリント処理を行う。即ち、インプリント装置101は、吐出装置10に吐出材114をウェハ基板111上に吐出させる。そして、ウェハ基板111上に吐出された吐出材114に、成型用のパターンを有するモールド107を押し付け、その状態において、光(紫外線)の照射によって吐出材114を硬化させる。その後、硬化後の吐出材114からモールド107を引き離すことによって、モールド107のパターンをウェハ基板111上の吐出材114に転写する。尚、成型用パターンとしては平らなパターンでもよく、吐出材114の表面をモールド107によって平坦化するような装置であっても、インプリント装置と称する。
インプリント装置101は、光照射部102と、モールド保持機構103と、基板ステージ104と、吐出装置10と、制御部106と、計測部122と、筺体123と、を有する。
制御部106は、インプリント装置101の各構成要素の動作などを制御する。制御部は、例えば、CPU、ROM、およびRAMを有するコンピュータで構成される。制御部106は、インプリント装置101の各構成要素に回線を介して接続され、CPUは、ROMに記憶された制御プログラムに従って各構成要素の制御をする。
光照射部102は、光源109と、光源109から照射された紫外線108を補正するための光学素子110と、を有する。光源109は、例えばi線またはg線を発生するハロゲンランプである。紫外線108は、モールド(型)107を介して吐出材114に照射される。紫外線108の波長は、硬化させる吐出材114に応じた波長である。尚、レジストとして熱硬化性レジストを用いるインプリント装置の場合は、光照射部102に代えて、熱硬化性レジストを硬化させるための熱源部が設置される。
吐出装置10は、吐出ユニット100と、吐出ユニット100の収容部内の圧力を制御する圧力制御ユニット(圧力制御部)150とを有する。吐出ユニット100は、吐出材114を収容する収容部2(図2参照)と、収容部2に装着される吐出ヘッド1(図2参照)と、を備える。
図2は、吐出ユニット100を示した図である。図2(a)は、図2(b)のIIa-IIaにおける断面図であり、図2(b)は、吐出ユニット100のZ方向矢視図である。吐出ユニット100は、収容部2と吐出ヘッド1と保護部15とを備えている。吐出ヘッド1と保護部15との間には、溝状の充填部3が設けられている。収容部2には、吐出材114であるレジストが収容されており、収容部2の鉛直方向(Z方向)下方に吐出ヘッド1が設けられている。収容部2が備えた不図示の吐出制御部は、吐出ヘッド1から意図したタイミングでレジストを吐出するように、吐出ヘッド1の不図示の電気的接続部に吐出信号を送る。収容部2に収容されているレジストは、電気接続部で受信した信号に基づいて吐出ヘッド1の吐出口5から吐出される。
吐出ヘッド1には、複数の吐出口5および吐出口5に対応した吐出機構が設けられている。吐出機構は、例えばピエゾ素子により構成され、吐出材114に圧力または振動などのエネルギーを加えることで、吐出口5から吐出材114を吐出する。吐出機構は、吐出材114を微細液滴、例えば1pLの液滴として吐出可能なエネルギーを発生することができるものであることが好ましい。
また、保護部15は、吐出ユニット100をウェハ基板111等との衝突による衝撃から保護する部材であり、吐出ヘッド1の周囲に設けられている。吐出ヘッド1と保護部15との間の充填部3には、充填剤6が充填されている。充填部3に充填剤6を充填することで、吐出ヘッド1の周囲および吐出ヘッド1の電気的接続部が充填剤6で封止される。充填剤6は、電気的接続部を封止することで電気的接続部を保護する役割も担っている。
図3は、図2のIII-IIIにおける断面を示した図である。吐出ヘッド1には、レジストを吐出する複数の吐出口5が配置されており、複数の吐出口5の他に、複数の圧力室80と供給口16と、各圧力室に配置される吐出機構であるエネルギー発生素子17が設けられている。エネルギー発生素子17はレジストを吐出させるエネルギーを発生させる素子であり、圧電素子や発熱抵抗体が挙げられる。本実施形態では、エネルギー発生素子17として圧電素子を用いている。エネルギー発生素子17を制御部で制御することで、エネルギー発生素子17と吐出口5との間の圧力室80のレジストが、吐出口5から吐出される。さらに、吐出ヘッド1の厚さは1mm程度あるいはそれ以下の厚さを備えており、その1mm程度の厚さの間に吐出口5、圧力室80、供給口16、流路14のような微小な構造が半導体技術を利用して形成されている。
吐出ヘッド1は、第1の基板20と、第2の基板21と、第3の基板22と、第1の基板20と第2の基板21を接着する第1の接着層23と、第2の基板21と第3の基板22を接着する第2の接着層24とを積層することで形成されている。また、本実施形態では吐出ヘッド1は、3枚の基板(第1の基板20、第2の基板21、第3の基板22)を貼り合わせた構成を説明するが、少なくとも2枚以上の基板を貼り合わせた構成であればよい。また、第1の基板20、第2の基板21、第3の基板22の接合には、接着剤を使用せず、直接接合(超音波接合等)されていてもよい。
収容部2は、圧力制御ユニット150と接続されており、圧力制御ユニット150で収容部2内の圧力を制御することで、収容部2内のレジストが吐出口5から漏れ出さないように、微小の負圧で吐出口5におけるメニスカスを維持している。また、不図示の吐出制御部から電気的接続部を介してエネルギー発生素子17へ吐出信号を送ることで、意図した吐出が可能であり、吐出口面9の真下に位置するウェハ基板111に、吐出口5から吐出材114が吐出される。ウェハ基板111と吐出口面9との距離(矢印α)(図2参照)は数百μmであり、この距離を短くすることで、吐出された吐出材114の着弾位置精度を向上することができる。
吐出ユニット100では、吐出材114を加圧しながら吐出させて、吐出口5に付着した異物や気泡を外へ排出することが行われる。その際に、吐出ヘッド1には数十kPaの圧力がかかり、第1の接着層23あるいは第2の接着層24の接着力が弱い場合、基板間において剥離が生じることがある。吐出ヘッド1の基板間で剥離が生じると、吐出ユニット100内に収容されている吐出材114が外に漏れ出し、漏れ出た吐出材114によってインプリント装置101を汚染させることがある。
そこで、本実施形態では、吐出ヘッド1の吐出口5が形成された吐出口面9と交差する面である側端面7、および、吐出口面9の端部を含む外周部に充填剤6を塗布して、吐出ヘッド1の側端面7および吐出口面の外周部を充填剤6で覆っている。側端面7は、上述の複数の基板(第1の基板20、第2の基板21、第3の基板22)が積層されて形成された面である。吐出ヘッド1の側端面7へ塗布した充填剤6と、吐出口面9の端部を含む外周部に塗布した充填剤6とは、接続される(接触する)ようにする。側端面7は、溝状の充填部3の一部を成しており、側端面7への充填剤6の塗布は、充填部3へ充填剤6を充填することによって行われる。つまり、充填部3へ充填剤6を充填することによって、充填剤6の表面張力によって吐出ヘッド1の側端面7が充填剤6で覆われる。図2(b)のように、矩形である吐出口面9の4辺における外周部が充填剤6で覆われる。つまり、吐出口面9の周囲が充填剤6で覆われている。
このように、充填剤6で吐出ヘッド1の側端面7、および、吐出口面9の端部を含む外周部を覆う。第1の接着層23或いは第2の接着層24で剥離が生じようとする際には、剥離方向に力が発生する。この剥離方向の力に抗する力が、充填剤6によって、基板(第1の基板20、第2の基板21、第3の基板22)に作用する。これによって、吐出ヘッド1の基板の剥離の発生を抑制することができる。仮に第1の接着層23あるいは第2の接着層24で剥離が生じても、吐出ヘッド1の側端面7から吐出口面9の外周部までが充填剤6で覆われて封止されていることから、レジストが外部に漏れ出すことを抑制することができる。
吐出口面9の端部を含む外周部を充填剤6で覆うことにより、充填剤6は吐出口面9から突出した状態となる。前述したように、吐出ヘッド1と対向する位置にはウェハ基板111があり、吐出ヘッド1の吐出口面9とウェハ基板111との間は数百μmである。そのため、塗布された充填剤6が吐出口面9から大きく突出すると、充填剤6とウェハ基板111とが接触する虞がある。そこで、充填剤6を塗布する際は、充填剤6の吐出口面9からの高さ(充填剤6の厚さ)は、100μm以下であることが好ましく、より好ましくは70μm以下、さらに好ましくは50μm以下となるように充填剤6の量や粘性等を調整することが好ましい。本実施形態では、充填剤6の粘度を5cP以下とすることで、充填剤6が吐出口面9から突出しないようにしている。また、充填剤6の突出量が小さすぎると、基板剥離抑制の効果が低減する。この観点から、充填剤6の吐出口面9からの高さ(充填剤6の厚さ)は、30μm以上であることが好ましい。
なお、吐出口面9には複数の吐出口5が設けられており、吐出口面9の外周部に充填剤6を塗布すると、外周部の近傍に配置された吐出口5を充填剤6で塞いでしまう虞がある。そのため、充填剤6を吐出口面9の外周部に塗布する際には、吐出口5を塞がないように塗布することが求められる。この点から、充填剤6を正確な位置に塗布することができるジェット方式(例えばピエゾ方式)のディスペンサを用いることが好ましい。
また、充填部3への充填剤6の充填では、充填剤6の硬化収縮による吐出ヘッド1の割れの発生を抑制する必要がある。そのために、充填部3の矢印Z方向を15と同じ位置になるまで充填剤6で完全に満たすのではなく、図3のように、充填部3には少ない体積の充填剤6を充填し、充填部3を充填剤6で塞がないようにするとよい。ただし、充填剤6の充填量は、(例えば充填剤6の表面張力によって)吐出ヘッド1の側端面7が覆われる(吐出口面9の端部にまで到達する)量であることが求められる。
また、図3のように、充填部3の内部において、充填剤6が一旦へこんでおり(凹部を形成している)、そこから両側に、特に側端面7に向かって高くなっている形状であることが好ましい。このような形状であれば、吐出ヘッド1の基板の剥離の発生をより抑制することができる。
本実施形態の吐出ユニット100では、前述の通り、エネルギー発生素子17として圧電素子を用いており、この圧電素子を用いることで、吐出ヘッド1における基板の剥離検知を行っている。吐出ヘッド1の接着層において基板の剥離が生じると、吐出口5における圧力が異常となり正常な吐出ができなくなる。そこで、本実施形態では、吐出ヘッド1に組み込まれた圧電素子の逆起電力信号の検出し、吐出口5における圧力異常を確認することで、基板の剥離を検知することができる。なお、基板の剥離検知は、吐出ユニット100の待機時に行う。
吐出ユニット100の製造では、まず、3枚のシリコンウェハを貼り合わせ、エッチングなどの加工によって流路となる穴や吐出口5を設ける。その後、ダイシングによって貼り合わせたシリコンウェハをチップサイズに切り出し、その後、ダイボンディングを行って収容部2に、切り出したチップ(吐出ヘッド1)を接着する。そして、ワイヤボンディングを行い、フレキケーブルを繋いで吐出ヘッド1との電気的な接続を行う。その後、充填部3に充填剤6を充填する。その際、吐出ヘッド1の側端面7および吐出口5が形成された吐出口面9の端部を含む外周部に充填剤6を塗布して、吐出ヘッド1の側端面7および吐出口面9の外周部を充填剤6で覆う。
なお、充填剤6は、脱ガスが基準値を下回り、レジスト耐性がある材質である必要がある。脱ガスの基準値として有機総量が30μg/m3未満であること、シロキサンが0.10μg/m3であることが好ましい。レジスト耐性のある材質として、エポキシ樹脂を成分とする熱硬化性の充填剤が好ましい。
ここで、レジストは、少なくとも重合性化合物である成分Sを有する化合物である。本実施形態に係るレジストである硬化性組成物は、さらに光重合開始剤である成分T、増感剤等の非重合性化合物である成分U、溶剤である成分Vを含有してもよい。
ここで、本明細書において重合性化合物とは、光重合開始剤(成分T)から発生した重合因子(ラジカル等)と反応し、連鎖反応(重合反応)によって高分子化合物からなる膜を形成する化合物である。このような重合性化合物(成分S)としては、例えば、ラジカル重合性化合物が挙げられる。
成分Sである重合性化合物は、一種類の重合性化合物のみから構成されていてもよく、複数種類の重合性化合物で構成されていてもよい。ラジカル重合性化合物が、例えば、アクリロイル基又はメタクリロイル基を1つ以上有する複数種類の化合物で構成される場合には、重合性化合物は、単官能(メタ)アクリルモノマーと多官能(メタ)アクリルモノマーを含むものを用いることができる。溶剤(成分V)としては、成分S、成分T、成分Uが溶解する溶剤であれば特に限定はされず、常圧における沸点が80℃以上200℃以下の溶剤であることが好ましい。
このように、吐出ヘッド1の側端面7および吐出口面9の端部を含む外周部に充填剤6を塗布して、吐出ヘッド1の側端面7および吐出口面9の外周部を充填剤6で覆う。これによって、装置の汚染を抑制することができるインプリント装置を提供することができる。
1 吐出ヘッド
2 収容部
3 充填部
5 吐出口
6 充填剤
9 吐出口面
10 吐出装置
100 吐出ユニット
101 インプリント装置
111 ウェハ基板
114 吐出材(レジスト)

Claims (12)

  1. 吐出材を収容する収容部と、
    複数の基板を積層して形成され、前記収容部に収容された吐出材を吐出口から吐出する吐出ヘッドと、を備えた吐出装置であって、
    前記吐出ヘッドの、前記吐出口が形成された吐出口面と交わる面であって、前記複数の基板が積層されて形成された側端面と、および前記吐出口面の端部を含む前記吐出口面の周囲とが、充填剤で覆われていることを特徴とする吐出装置。
  2. 前記吐出口面は矩形であり、前記吐出口面の前記端部である4辺の外周部が充填剤で覆われている請求項1に記載の吐出装置。
  3. 前記吐出口面の外周部を覆う前記充填剤は、前記吐出口面からの高さが100μm以下である請求項1または2に記載の吐出装置。
  4. 前記充填剤の粘度は、5cP以下である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の吐出装置。
  5. 前記吐出ヘッドは、3枚の前記基板が積層して形成されている請求項1ないし4のいずれか1項に記載の吐出装置。
  6. 前記充填剤は、エポキシ樹脂を成分とする熱硬化性の充填剤である請求項1ないし5のいずれか1項に記載の吐出装置。
  7. 前記側端面は、前記充填剤を充填する溝状の充填部の一部を成し、前記充填部は、前記充填剤で塞がれていない請求項1ないし6のいずれか1項に記載の吐出装置。
  8. 前記吐出材はレジストである請求項1ないし7のいずれか1項に記載の吐出装置。
  9. 前記吐出材はインプリント材である請求項1ないし7のいずれか1項に記載の吐出装置。
  10. 吐出材を収容する収容部と、
    前記収容部と接続され、前記収容部内の圧力を制御する圧力制御部と、
    複数の基板を積層して形成され、前記収容部に収容された吐出材を吐出口から吐出する吐出ヘッドと、を備えた吐出装置の製造方法であって、
    前記吐出ヘッドにおける、前記吐出口が形成された吐出口面と交わる面であって、前記複数の基板が積層されて形成された側端面、および前記吐出口面の端部を含む前記吐出口面の周囲を充填剤で覆う充填工程を備えていることを特徴とする吐出装置の製造方法。
  11. 吐出ヘッドの吐出口から吐出材を吐出する吐出手段と、
    前記吐出口からの吐出材の吐出を制御する制御手段と、
    前記吐出手段によって吐出された吐出材にパターンを形成するモールドと、
    前記モールドを保持する保持手段と、を備えたインプリント装置であって、
    前記吐出ヘッドは、前記吐出口が形成された吐出口面と交わる面であって、前記複数の基板が積層されて形成された側端面、および前記吐出口面の端部を含む前記吐出口面の周囲が充填剤で覆われていることを特徴とするインプリント装置。
  12. 前記吐出ヘッドの基板の剥離を検出する検知手段を備えている請求項11に記載のインプリント装置。
JP2020169329A 2020-10-06 2020-10-06 吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置 Pending JP2022061365A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020169329A JP2022061365A (ja) 2020-10-06 2020-10-06 吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020169329A JP2022061365A (ja) 2020-10-06 2020-10-06 吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022061365A true JP2022061365A (ja) 2022-04-18
JP2022061365A5 JP2022061365A5 (ja) 2023-10-16

Family

ID=81206673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020169329A Pending JP2022061365A (ja) 2020-10-06 2020-10-06 吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2022061365A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5902114B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
US11267252B2 (en) Ejection apparatus and imprint apparatus
US11426906B2 (en) Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method
KR102445132B1 (ko) 토출재 토출 장치 및 임프린트 장치
US10279589B2 (en) Method for manufacturing structure
JP2022061365A (ja) 吐出装置、吐出装置の製造方法およびインプリント装置
US6537423B1 (en) Optical disk production device
US11163231B2 (en) Planarization apparatus, planarization method, and article manufacturing method
US20220111634A1 (en) Liquid discharge device and imprint apparatus
KR102640545B1 (ko) 토출재 토출 장치 및 임프린트 장치
KR102459132B1 (ko) 임프린트 방법 및 제조 방법
US8220901B2 (en) Liquid discharge head and manufacturing method thereof
CN112783364A (zh) 层压系统
JP6679411B2 (ja) 構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法
US20210074555A1 (en) Substrate processing device
US11415882B2 (en) Template for imprint and imprint method using template
US20220396042A1 (en) Molding apparatus, molding method, and product manufacturing method
US20230112924A1 (en) Substrate conveyance method, substrate conveyance apparatus, molding method, and article manufacturing method
JP6942487B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法
US20190317396A1 (en) Imprint device, imprint method, and method for manufacturing article
JP2021068766A (ja) 液体吐出装置、成形装置、及び物品の製造方法
JP2020145354A (ja) 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法
KR20200099478A (ko) 임프린트 방법, 임프린트 장치, 및 물품의 제조 방법
KR20190118959A (ko) 토출재 충전 방법, 토출재 토출 장치, 및 임프린트 장치
JP2019202470A (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231005

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20231005