JP2022053623A - Optical member and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

To provide an optical member which presents an excellent light shieling property in a desired region and has a small reflectance and a high productivity, and a method for manufacturing the optical member.SOLUTION: The optical member according to the present invention includes a member body 2 and an optical film 3 on the member body 2. The optical film 3 has a light shielding film 5 made of an oxynitride, MxOyNz, and a first reflection prevention film 6 on the light shielding film 5. The light shielding film 5 is located closer to the member body 2 than a first reflection prevention film 6 is, and y>z is established for the light shielding film 5.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、光学部材及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical member and a method for manufacturing the same.

従来、光デバイスには、プリズムや光学フィルタ等の様々な光学部材が用いられている。光デバイス内においては、筐体内の意図しない光の反射に起因する迷光が生じることがある。迷光が光学部材に入射することを防止するため、光学部材に遮光膜が設けられる場合がある。 Conventionally, various optical members such as prisms and optical filters have been used in optical devices. In an optical device, stray light may occur due to unintended reflection of light in the housing. In order to prevent stray light from entering the optical member, a light-shielding film may be provided on the optical member.

特許文献1には、遮光膜を有する光学フィルタ部材の一例が開示されている。この光学フィルタ部材においては、基体の上面における周囲領域に遮光膜が形成されている。遮光膜には、金属及び金属酸化物が用いられている。基体の上面及び遮光膜は、光学多層膜により覆われている。 Patent Document 1 discloses an example of an optical filter member having a light-shielding film. In this optical filter member, a light-shielding film is formed in a peripheral region on the upper surface of the substrate. Metals and metal oxides are used for the light-shielding film. The upper surface of the substrate and the light-shielding film are covered with an optical multilayer film.

特開2014-170182号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-170182

しかしながら、特許文献1に記載されたような光学フィルタ部材においては、遮光膜の遮光性が高いだけでなく、遮光膜の反射率も高いという問題がある。そのため、遮光膜が入射光を反射し、さらに光デバイスの筐体内において光が反射されることによって、迷光が生じるおそれがある。近年は光デバイスの小型化が進められており、光学部材同士が接近しているため、迷光の問題はより顕著になっている。 However, in the optical filter member as described in Patent Document 1, there is a problem that not only the light-shielding property of the light-shielding film is high, but also the reflectance of the light-shielding film is high. Therefore, the light-shielding film reflects the incident light, and the light is further reflected in the housing of the optical device, which may cause stray light. In recent years, the miniaturization of optical devices has been promoted, and the problem of stray light has become more prominent because the optical members are close to each other.

他方、遮光性に優れる樹脂が遮光膜に用いられることもある。しかしながら、樹脂を塗布する場合には、スパッタリング法やフォトリソグラフィ法等を用いて金属膜や金属酸化物膜を形成する場合と比較して、位置の精度を十分に高めることは困難である。よって、生産性を十分に高めることは困難である。 On the other hand, a resin having excellent light-shielding properties may be used for the light-shielding film. However, when the resin is applied, it is difficult to sufficiently improve the position accuracy as compared with the case where the metal film or the metal oxide film is formed by using a sputtering method, a photolithography method, or the like. Therefore, it is difficult to sufficiently increase productivity.

本発明の目的は、所望の領域において遮光性に優れ、かつ反射率が低く、さらに生産性が高い、光学部材及びその製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an optical member having excellent light-shielding property, low reflectance, and high productivity in a desired region, and a method for manufacturing the same.

本発明に係る光学部材は、部材本体と、部材本体上に設けられている光学膜と、
を備え、光学膜が、酸窒化物であるMからなる遮光膜と、遮光膜に積層されている反射防止膜とを有し、反射防止膜よりも、遮光膜が部材本体側に位置し、遮光膜において、y>zであることを特徴としている。
The optical member according to the present invention includes a member main body, an optical film provided on the member main body, and the like.
The optical film has a light-shielding film made of M x Oy Nz , which is an oxynitride, and an antireflection film laminated on the light-shielding film, and the light-shielding film is a member main body rather than the antireflection film. It is located on the side and is characterized in that y> z in the light-shielding film.

遮光膜におけるMのMが、Ti、Cr、Ta、Zr、Si及びAlのうちいずれかの元素であることが好ましい。 It is preferable that M of M x O y N z in the light-shielding film is any element of Ti, Cr, Ta, Zr, Si and Al.

遮光膜におけるMのxを1としたとき、yが0.5以上、1.5以下であり、zが0.05以上、0.3以下であることが好ましい。 When x of M x O y N z in the light-shielding film is 1, it is preferable that y is 0.5 or more and 1.5 or less, and z is 0.05 or more and 0.3 or less.

反射防止膜が第1の反射防止膜であり、遮光膜と部材本体との間に位置している第2の反射防止膜をさらに備えることが好ましい。 It is preferable that the antireflection film is the first antireflection film, and further includes a second antireflection film located between the light shielding film and the member main body.

上記光学部材を製造する方法であって、部材本体上に、直接的または間接的に酸化物膜を積層する工程と、酸化物膜を窒化することにより、酸窒化物であるMからなる遮光膜を形成する工程と、遮光膜上に反射防止膜を積層する工程と、を備えることを特徴としている。 In the method for manufacturing the above optical member, a step of directly or indirectly laminating an oxide film on the member body and a step of nitriding the oxide film, MxOyN which is an oxynitride . It is characterized by including a step of forming a light-shielding film made of z and a step of laminating an antireflection film on the light-shielding film.

酸化物膜が、酸化チタン、酸化クロム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムのうちいずれかの酸化物からなることが好ましい。 The oxide film is preferably made of any oxide of titanium oxide, chromium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, silicon oxide and aluminum oxide.

反射防止膜が第1の反射防止膜であり、部材本体上に第2の反射防止膜を積層する工程をさらに備え、酸化物膜を積層する工程において、第2の反射防止膜上に酸化物膜を積層することが好ましい。 The antireflection film is a first antireflection film, further comprising a step of laminating a second antireflection film on the main body of the member, and an oxide on the second antireflection film in the step of laminating the oxide film. It is preferable to stack the films.

本発明によれば、所望の領域において遮光性に優れ、かつ反射率が低く、さらに生産性が高い、光学部材及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical member having excellent light-shielding property, low reflectance, and high productivity in a desired region, and a method for manufacturing the same.

本発明の第1の実施形態に係る光学部材の模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view of the optical member which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る光学部材の、光学膜付近を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the vicinity of an optical film of the optical member which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態における光学膜の透過率及び反射率と、波長との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the transmittance and the reflectance of an optical film in 1st Embodiment of this invention, and a wavelength. 本発明の第1の実施形態における光学膜のヒートサイクル試験の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of the heat cycle test of the optical film in 1st Embodiment of this invention. (a)~(d)は、本発明の第2の実施形態に係る光学部材の製造方法を説明するための模式的断面図である。(A)-(d) are schematic cross-sectional views for explaining the manufacturing method of the optical member which concerns on 2nd Embodiment of this invention. (a)~(c)は、本発明の第2の実施形態に係る光学部材の製造方法における、光学膜を形成する工程の一例を説明するための模式的断面図である。(A) to (c) are schematic cross-sectional views for explaining an example of the steps of forming an optical film in the method for manufacturing an optical member according to the second embodiment of the present invention. (a)は、本発明の第1の実施形態における遮光膜のXPSの分析結果においての、Ti元素のピーク付近を示す図であり、(b)は、O元素のピーク付近を示す図であり、(c)は、N元素のピーク付近を示す図である。(A) is a diagram showing the vicinity of the peak of the Ti element in the XPS analysis result of the light-shielding film according to the first embodiment of the present invention, and (b) is a diagram showing the vicinity of the peak of the O element. , (C) is a diagram showing the vicinity of the peak of the N element.

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。 Hereinafter, preferred embodiments will be described. However, the following embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to the following embodiments. Further, in each drawing, members having substantially the same function may be referred to by the same reference numeral.

(光学部材)
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る光学部材の模式的断面図である。光学部材1はビームスプリッタである。なお、ビームスプリッタは一例であって、本発明の光学部材はビームスプリッタ以外の部材であってもよい。
(Optical member)
(First Embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical member according to a first embodiment of the present invention. The optical member 1 is a beam splitter. The beam splitter is an example, and the optical member of the present invention may be a member other than the beam splitter.

図1に示すように、光学部材1は、部材本体2と光学膜3とを備える。部材本体2は、第1のプリズム4Aと、第2のプリズム4Bと、透光部材4Cとを含む。第1のプリズム4A及び第2のプリズム4Bが、透光部材4Cに接合されている。部材本体2は略直方体状の形状を有する。部材本体2は、上面と、底面と、複数の側面とを有する。複数の側面は、上面及び側面に接続されている。複数の側面は、第1の側面2a、第2の側面2b、第3の側面2c及び第4の側面2dを含む。第1の側面2aと第3の側面2cとが対向し合っている。第2の側面2bと第4の側面2dとが対向し合っている。 As shown in FIG. 1, the optical member 1 includes a member body 2 and an optical film 3. The member main body 2 includes a first prism 4A, a second prism 4B, and a translucent member 4C. The first prism 4A and the second prism 4B are joined to the translucent member 4C. The member main body 2 has a substantially rectangular parallelepiped shape. The member main body 2 has an upper surface, a lower surface, and a plurality of side surfaces. The plurality of sides are connected to the top surface and the side surface. The plurality of side surfaces include a first side surface 2a, a second side surface 2b, a third side surface 2c and a fourth side surface 2d. The first side surface 2a and the third side surface 2c face each other. The second side surface 2b and the fourth side surface 2d face each other.

図2は、本発明の第1の実施形態に係る光学部材の、光学膜付近を示す模式的断面図である。部材本体2の第1の側面2a上には、上記光学膜3が設けられている。光学膜3は、遮光膜5と、第1の反射防止膜6とを有する。部材本体2上に第2の反射防止膜8が積層されており、部材本体2上に、第2の反射防止膜8を介して遮光膜5が積層されている。遮光膜5上に第1の反射防止膜6が積層されている。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the vicinity of an optical film of the optical member according to the first embodiment of the present invention. The optical film 3 is provided on the first side surface 2a of the member main body 2. The optical film 3 has a light-shielding film 5 and a first antireflection film 6. The second antireflection film 8 is laminated on the member main body 2, and the light shielding film 5 is laminated on the member main body 2 via the second antireflection film 8. The first antireflection film 6 is laminated on the light-shielding film 5.

本実施形態では、遮光膜5は酸窒化チタンからなる。なお、遮光膜5の材料は上記に限定されず、酸窒化物であるMからなり、かつy>zであればよい。なお、遮光膜5の材料は金属酸窒化物からなることが好ましい。MにおけるMは、Ti、Cr、Ta、Zr、Si及びAlのうちいずれかの元素であることが好ましい。 In the present embodiment, the light-shielding film 5 is made of titanium oxynitride. The material of the light-shielding film 5 is not limited to the above, and may be M x O y N z , which is an oxynitride, and y> z. The material of the light-shielding film 5 is preferably made of metal oxynitride. It is preferable that M in M x O y N z is any element of Ti, Cr, Ta, Zr, Si and Al.

第1の反射防止膜6は、積層膜からなる。具体的には、第1の反射防止膜6では、高屈折率膜6a、低屈折率膜6b及び高屈折率膜6cがこの順序において積層されている。なお、第1の反射防止膜6における高屈折率膜の層数及び低屈折率膜の層数は、特に限定されない。 The first antireflection film 6 is made of a laminated film. Specifically, in the first antireflection film 6, the high refractive index film 6a, the low refractive index film 6b, and the high refractive index film 6c are laminated in this order. The number of layers of the high-refractive index film and the number of layers of the low-refractive index film in the first antireflection film 6 are not particularly limited.

本実施形態においては、第1の反射防止膜6における高屈折率膜6a及び高屈折率膜6cはTiOからなる。第1の反射防止膜6における低屈折率膜6bはSiOからなる。もっとも、高屈折率膜及び低屈折率膜の材料は上記に限定されない。低屈折率膜としては、例えば、MgF等を用いてもよい。高屈折率膜としては、例えば、Ta、ZrOまたはHfO等を用いてもよい。 In the present embodiment, the high refractive index film 6a and the high refractive index film 6c in the first antireflection film 6 are made of TiO 2 . The low refractive index film 6b in the first antireflection film 6 is made of SiO 2 . However, the materials for the high-refractive index film and the low-refractive index film are not limited to the above. As the low refractive index film, for example, MgF 2 or the like may be used. As the high refractive index film, for example, Ta 2 O 5 , ZrO 2 or HfO 2 may be used.

図1に戻り、第1のプリズム4A及び第2のプリズム4Bは三角柱状の形状を有する。他方、透光部材4Cは、四角柱状の形状を有する。第1のプリズム4A、第2のプリズム4B及び透光部材4Cは、それぞれ、上面と、底面と、複数の側面とを有する。第1のプリズム4A及び第2のプリズム4Bの上面及び底面は、略直角二等辺三角形状の形状を有する。透光部材4Cの上面及び底面は、略平行四辺形状の形状を有する。 Returning to FIG. 1, the first prism 4A and the second prism 4B have a triangular columnar shape. On the other hand, the translucent member 4C has a square columnar shape. The first prism 4A, the second prism 4B, and the translucent member 4C each have a top surface, a bottom surface, and a plurality of side surfaces. The upper and lower surfaces of the first prism 4A and the second prism 4B have a substantially right-angled isosceles triangle shape. The upper surface and the lower surface of the translucent member 4C have a substantially parallel quadrilateral shape.

部材本体2の第1の側面2aは、第2のプリズム4Bの側面及び透光部材4Cの側面により構成されている。第2の側面2bは、第1のプリズム4Aの側面により構成されている。第3の側面2cは、第1のプリズム4Aの側面及び透光部材4Cの側面により構成されている。第4の側面2dは、第2のプリズム4Bの側面により構成されている。第1の側面2a、第2の側面2b、第3の側面2c及び第4の側面2dには、第2の反射防止膜8が設けられている。上記光学膜3は、部材本体2上に、第2の反射防止膜8を介して間接的に設けられている。もっとも、第2の反射防止膜8は必ずしも設けられていなくともよい。 The first side surface 2a of the member main body 2 is composed of a side surface of the second prism 4B and a side surface of the translucent member 4C. The second side surface 2b is composed of the side surface of the first prism 4A. The third side surface 2c is composed of a side surface of the first prism 4A and a side surface of the translucent member 4C. The fourth side surface 2d is composed of the side surface of the second prism 4B. A second antireflection film 8 is provided on the first side surface 2a, the second side surface 2b, the third side surface 2c, and the fourth side surface 2d. The optical film 3 is indirectly provided on the member main body 2 via a second antireflection film 8. However, the second antireflection film 8 does not necessarily have to be provided.

なお、第2の反射防止膜8は、積層膜からなる。具体的には、第2の反射防止膜8においては、高屈折率膜8a、低屈折率膜8b、高屈折率膜8c及び低屈折率膜8dがこの順序で積層されている。第2の反射防止膜8における高屈折率膜の層数及び低屈折率膜の層数は、特に限定されない。 The second antireflection film 8 is made of a laminated film. Specifically, in the second antireflection film 8, the high refractive index film 8a, the low refractive index film 8b, the high refractive index film 8c, and the low refractive index film 8d are laminated in this order. The number of layers of the high-refractive index film and the number of layers of the low-refractive index film in the second antireflection film 8 are not particularly limited.

本実施形態においては、第2の反射防止膜8における高屈折率膜8a及び高屈折率膜8cはTiOからなる。第2の反射防止膜8における低屈折率膜8b及び低屈折率膜8dはSiOからなる。もっとも、高屈折率膜及び低屈折率膜の材料は上記に限定されない。低屈折率膜としては、例えば、MgF等を用いてもよい。高屈折率膜としては、例えば、Ta、ZrOまたはHfO等を用いてもよい。 In the present embodiment, the high refractive index film 8a and the high refractive index film 8c in the second antireflection film 8 are made of TiO 2 . The low refractive index film 8b and the low refractive index film 8d in the second antireflection film 8 are made of SiO 2 . However, the materials for the high-refractive index film and the low-refractive index film are not limited to the above. As the low refractive index film, for example, MgF 2 or the like may be used. As the high refractive index film, for example, Ta 2 O 5 , ZrO 2 or HfO 2 may be used.

第1のプリズム4Aと透光部材4Cとの間には、第1の透過率調整膜9Aが設けられている。同様に、第2のプリズム4Bと透光部材4Cとの間には、第2の透過率調整膜9Bが設けられている。第1の透過率調整膜9A及び第2の透過率調整膜9Bは一部の光を透過させ、他の光を反射させる。本実施形態では、第1の透過率調整膜9A及び第2の透過率調整膜9Bは、光半透過膜であり透過率は50%である。もっとも、第1の透過率調整膜9A及び第2の透過率調整膜9Bの透過率は50%に限定されない。 A first transmittance adjusting film 9A is provided between the first prism 4A and the translucent member 4C. Similarly, a second transmittance adjusting film 9B is provided between the second prism 4B and the translucent member 4C. The first transmittance adjusting film 9A and the second transmittance adjusting film 9B transmit a part of light and reflect another light. In the present embodiment, the first transmittance adjusting film 9A and the second transmittance adjusting film 9B are light transmissive films and have a transmittance of 50%. However, the transmittance of the first transmittance adjusting film 9A and the second transmittance adjusting film 9B is not limited to 50%.

本実施形態の光学部材1はビームスプリッタである。光学部材1は、入射部1aと、第1の出射部1b、第2の出射部1c及び第3の出射部1dとを有する。入射部1aは、第1の側面2aに位置する。具体的には、入射部1aは、第1の側面2aにおける透光部材4Cの部分に位置する。第1の出射部1b及び第2の出射部1cは、第3の側面2cに位置する。具体的には、第1の出射部1bは、第3の側面2cにおける第1のプリズム4Aの部分に位置する。第2の出射部1cは、第3の側面2cにおける透光部材4Cの部分に位置する。第3の出射部1dは、第4の側面2dに位置する。 The optical member 1 of this embodiment is a beam splitter. The optical member 1 has an incident portion 1a, a first emitting portion 1b, a second emitting portion 1c, and a third emitting portion 1d. The incident portion 1a is located on the first side surface 2a. Specifically, the incident portion 1a is located at the portion of the translucent member 4C on the first side surface 2a. The first emission unit 1b and the second emission unit 1c are located on the third side surface 2c. Specifically, the first emitting portion 1b is located at the portion of the first prism 4A on the third side surface 2c. The second emission portion 1c is located at the portion of the translucent member 4C on the third side surface 2c. The third emission unit 1d is located on the fourth side surface 2d.

なお、上記のように、光学膜3は部材本体2の第1の側面2aに設けられている。具体的には、光学膜3は、第1の側面2aにおける、第2のプリズム4Bの部分及び透光部材4Cの部分に連続して設けられている。光学膜3は、入射光Aを阻害しないように設けられている。 As described above, the optical film 3 is provided on the first side surface 2a of the member main body 2. Specifically, the optical film 3 is continuously provided on the portion of the second prism 4B and the portion of the translucent member 4C on the first side surface 2a. The optical film 3 is provided so as not to obstruct the incident light A.

入射部1aから入射した入射光Aの一部は第1の透過率調整膜9Aを透過し、第1の出射部1bから出射光C1として出射する。入射光Aの他の一部は第1の透過率調整膜9Aにより反射され、反射光Bとなる。反射光Bの一部は第2の透過率調整膜9Bにより反射され、第2の出射部1cから出射光C2として出射する。反射光Bの他の一部は第2の透過率調整膜9Bを透過し、第3の出射部1dから出射光C3として出射する。 A part of the incident light A incident from the incident portion 1a passes through the first transmittance adjusting film 9A and is emitted as the emitted light C1 from the first emitting portion 1b. The other part of the incident light A is reflected by the first transmittance adjusting film 9A to become the reflected light B. A part of the reflected light B is reflected by the second transmittance adjusting film 9B, and is emitted as the emitted light C2 from the second emitting portion 1c. The other part of the reflected light B passes through the second transmittance adjusting film 9B and is emitted as the emitted light C3 from the third emitting portion 1d.

本実施形態の特徴は、光学膜3が遮光膜5と、第1の反射防止膜6とを有し、遮光膜5がMからなり、かつy>zであること、及び第1の反射防止膜6よりも、遮光膜5が部材本体2側に位置していることにある。光学膜3が遮光膜5を有するため、光学膜3が設けられている部分においては、遮光性に優れる。さらに、遮光膜5が酸窒化物からなるため、遮光膜5が金属酸化物等の酸化物または金属等からなる場合よりも、反射率を大幅に低くすることができる。加えて、第1の反射防止膜6よりも遮光膜5が部材本体2側に位置するため、光学膜3全体としての反射率をより一層低くすることができる。よって、迷光が生じることを抑制することができる。なお、遮光膜5が金属からなる場合、入射光が遮光膜5において反射する。また、遮光膜5が金属酸化物からなる場合、第1の反射防止膜6において反射率を低くする効果を得にくくなる。 The features of this embodiment are that the optical film 3 has a light-shielding film 5 and a first antireflection film 6, the light-shielding film 5 is composed of M x O y N z , and y> z. The light-shielding film 5 is located closer to the member body 2 than the first antireflection film 6. Since the optical film 3 has the light-shielding film 5, the light-shielding property is excellent in the portion where the optical film 3 is provided. Further, since the light-shielding film 5 is made of an oxynitride, the reflectance can be significantly lowered as compared with the case where the light-shielding film 5 is made of an oxide such as a metal oxide or a metal. In addition, since the light-shielding film 5 is located closer to the member body 2 than the first antireflection film 6, the reflectance of the optical film 3 as a whole can be further lowered. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of stray light. When the light-shielding film 5 is made of metal, the incident light is reflected by the light-shielding film 5. Further, when the light-shielding film 5 is made of a metal oxide, it is difficult to obtain the effect of lowering the reflectance in the first antireflection film 6.

本実施形態においては、スパッタリング法または蒸着法等を用いて、光学膜3を形成することができる。そのため、樹脂からなる遮光膜を形成する場合よりも、形成する位置の精度を容易に高めることができる。よって、位置の精度に起因する不良率を容易に低くすることができる。従って、生産性を高めることができる。 In the present embodiment, the optical film 3 can be formed by using a sputtering method, a vapor deposition method, or the like. Therefore, the accuracy of the forming position can be easily improved as compared with the case of forming the light-shielding film made of resin. Therefore, the defect rate due to the accuracy of the position can be easily reduced. Therefore, productivity can be increased.

以下、本実施形態における光学膜3の光学特性の詳細を示す。具体的には、光学膜3の透過率及び反射率を示す。なお、反射率は、入射角が12°の場合及び入射角が30°の場合の例を示す。さらに、ヒートサイクル試験の結果も併せて示す。ヒートサイクル試験においては、-55°に冷却し、125°に加熱するという温度の昇降を1サイクルとして、500サイクル行った。この温度の昇降を行う前と、温度の昇降を500サイクル行った後とにおいて光学特性を測定し、比較した。 Hereinafter, the details of the optical characteristics of the optical film 3 in the present embodiment will be shown. Specifically, the transmittance and the reflectance of the optical film 3 are shown. The reflectance shows an example when the incident angle is 12 ° and when the incident angle is 30 °. In addition, the results of the heat cycle test are also shown. In the heat cycle test, 500 cycles were performed with the temperature increase / decrease of cooling to −55 ° and heating to 125 ° as one cycle. The optical characteristics were measured and compared before the temperature was raised and lowered and after the temperature was raised and lowered for 500 cycles.

図3は、第1の実施形態における光学膜の透過率及び反射率と、波長との関係を示す図である。図4は、第1の実施形態における光学膜のヒートサイクル試験の結果を示す図である。なお、図3及び図4においては、1500nm以上、1650nm以下程度の光に対して用いる光学膜3の例を示す。 FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the transmittance and reflectance of the optical film and the wavelength in the first embodiment. FIG. 4 is a diagram showing the results of a heat cycle test of an optical film according to the first embodiment. In addition, in FIG. 3 and FIG. 4, an example of an optical film 3 used for light of about 1500 nm or more and 1650 nm or less is shown.

図3に示すように、光学膜3の透過率は、1500nm~1650nmにおいて1%未満であることがわかる。入射角が12°である場合及び入射角が30°である場合のいずれも、光学膜3の反射率は、1500nm~1650nmにおいて1%未満であることがわかる。このように、光学膜3は遮光性に優れ、かつ光学膜3の反射率が低いことがわかる。よって、第1の実施形態の光学部材1は、所望の領域、すなわち光学膜3を設けた領域において遮光性に優れ、かつ反射率が低い。 As shown in FIG. 3, it can be seen that the transmittance of the optical film 3 is less than 1% at 1500 nm to 1650 nm. It can be seen that the reflectance of the optical film 3 is less than 1% at 1500 nm to 1650 nm in both the case where the incident angle is 12 ° and the case where the incident angle is 30 °. As described above, it can be seen that the optical film 3 is excellent in light-shielding property and the reflectance of the optical film 3 is low. Therefore, the optical member 1 of the first embodiment has excellent light-shielding property and low reflectance in a desired region, that is, a region provided with the optical film 3.

図4に示すように、温度の昇降を繰り返す前後において、光学膜3の透過率及び反射率にはほぼ変化がないことがわかる。このように、本実施形態においては、光学膜3の信頼性をも高めることができる。 As shown in FIG. 4, it can be seen that there is almost no change in the transmittance and the reflectance of the optical film 3 before and after the temperature is repeatedly raised and lowered. As described above, in the present embodiment, the reliability of the optical film 3 can also be improved.

第1の反射防止膜6の層数は、1層以上であることが好ましく、3層以上であることがより好ましい。この場合には、光学膜3の反射率を好適に低くすることができる。第1の反射防止膜6の層数は、9層以下であることが好ましく、5層以下であることがより好ましい。この場合には、第1の反射防止膜6の膜応力を好適に低くすることができ、第1の反射防止膜6が剥離し難い。 The number of layers of the first antireflection film 6 is preferably one or more, and more preferably three or more. In this case, the reflectance of the optical film 3 can be suitably lowered. The number of layers of the first antireflection film 6 is preferably 9 layers or less, and more preferably 5 layers or less. In this case, the film stress of the first antireflection film 6 can be suitably lowered, and the first antireflection film 6 is difficult to peel off.

第1の反射防止膜6の最も遮光膜5側の膜は、高屈折率膜であることが好ましい。この場合には、遮光膜5と第1の反射防止膜6との界面において、屈折率の差を小さくすることができる。それによって、光学膜3に入射した光が、第1の反射防止膜6及び遮光膜5の界面において反射し難い。また、第2の反射防止膜8の最も遮光膜5側の膜は、低屈折率膜であることが好ましい。この場合には、遮光膜5と第2の反射防止膜8との界面において、屈折率の差が大きくなり、遮光膜5及び第2の反射防止膜8の界面において光が反射しやすくなる。これにより、遮光膜5が設けられている部分において、部材本体2に光がより一層入射し難い。さらに、遮光膜5の透過率は低いため、遮光膜5及び第2の反射防止膜8の界面において反射した光は遮光膜5においてほぼ遮光される。 The film on the light-shielding film 5 side of the first antireflection film 6 is preferably a high-refractive index film. In this case, the difference in refractive index can be reduced at the interface between the light-shielding film 5 and the first antireflection film 6. As a result, the light incident on the optical film 3 is difficult to be reflected at the interface between the first antireflection film 6 and the light shielding film 5. Further, the film on the light-shielding film 5 side of the second antireflection film 8 is preferably a low refractive index film. In this case, the difference in refractive index becomes large at the interface between the light-shielding film 5 and the second antireflection film 8, and light is easily reflected at the interface between the light-shielding film 5 and the second antireflection film 8. As a result, it is more difficult for light to enter the member main body 2 in the portion where the light-shielding film 5 is provided. Further, since the transmittance of the light-shielding film 5 is low, the light reflected at the interface between the light-shielding film 5 and the second antireflection film 8 is substantially shielded by the light-shielding film 5.

光デバイスの小型化を進めると、部材同士が近接するため、迷光の問題はより顕著となる。本実施形態の光学部材1においては、迷光が生じることを抑制できるため、小型の光デバイスに用いられる場合に特に好適である。 As the miniaturization of optical devices progresses, the problem of stray light becomes more prominent because the members are close to each other. The optical member 1 of the present embodiment is particularly suitable when used in a small optical device because it can suppress the generation of stray light.

本発明に係る光学部材は、ビームスプリッタに限定されず、例えば、プリズムまたはレンズ等であってもよい。光学部材における部材本体は、例えば、プリズム、レンズまたはガラス基板等であってもよい。 The optical member according to the present invention is not limited to a beam splitter, and may be, for example, a prism or a lens. The member body in the optical member may be, for example, a prism, a lens, a glass substrate, or the like.

(製造方法)
(第2の実施形態)
以下、本発明の第2の実施形態としての、光学部材の製造方法を説明する。なお、第2の実施形態は、上記光学部材1を製造する方法の一例である。
(Production method)
(Second embodiment)
Hereinafter, a method for manufacturing an optical member as a second embodiment of the present invention will be described. The second embodiment is an example of a method for manufacturing the optical member 1.

図5(a)~図5(d)は、本発明の第2の実施形態に係る光学部材の製造方法を説明するための模式的断面図である。図6(a)~図6(c)は、本発明の第2の実施形態に係る光学部材の製造方法における、光学膜を形成する工程の一例を説明するための模式的断面図である。 5 (a) to 5 (d) are schematic cross-sectional views for explaining a method for manufacturing an optical member according to a second embodiment of the present invention. 6 (a) to 6 (c) are schematic cross-sectional views for explaining an example of a step of forming an optical film in the method for manufacturing an optical member according to a second embodiment of the present invention.

図5(a)~図5(c)に示すように、第1のプリズム用母材14A、第2のプリズム用母材14B及び透光部材用母材14Cを用意する。図5(a)に示すように、第1のプリズム用母材14Aは貼り合わせ面16aを有する。貼り合わせ面16aは、第1のプリズム用母材14Aにおける、透光部材用母材14Cと貼り合わせる面である。第1のプリズム用母材14Aの貼り合わせ面16aに、第1の透過率調整膜9Aを形成する。さらに、第1のプリズム用母材14Aにおける、貼り合わせ面16a以外の面に、第2の反射防止膜8を形成する。 As shown in FIGS. 5A to 5C, a first prism base material 14A, a second prism base material 14B, and a translucent member base material 14C are prepared. As shown in FIG. 5A, the first prism base material 14A has a bonded surface 16a. The bonding surface 16a is a surface of the first prism base material 14A that is bonded to the light-transmitting member base material 14C. The first transmittance adjusting film 9A is formed on the bonded surface 16a of the first prism base material 14A. Further, the second antireflection film 8 is formed on the surface of the first prism base material 14A other than the bonded surface 16a.

第1の透過率調整膜9Aは、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等を用いて、適宜の金属膜または誘電体膜を積層することにより形成することができる。第2の反射防止膜8は、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等を用いて、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することにより形成することができる。なお、第1の透過率調整膜9A及び第2の反射防止膜8を形成する順序は特に限定されない。 The first transmittance adjusting film 9A can be formed by laminating an appropriate metal film or dielectric film by using, for example, a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, or the like. The second antireflection film 8 can be formed by alternately laminating low refractive index films and high refractive index films by using, for example, a sputtering method or a vacuum vapor deposition method. The order in which the first transmittance adjusting film 9A and the second antireflection film 8 are formed is not particularly limited.

同様に、図5(b)に示すように、第2のプリズム用母材14Bは貼り合わせ面16bを有する。第2のプリズム用母材14Bの貼り合わせ面16bに、第2の透過率調整膜9Bを形成する。さらに、第2のプリズム用母材14Bにおける、貼り合わせ面16b以外の面に、第2の反射防止膜8を形成する。なお、本実施形態では、第2のプリズム用母材14B、第2の透過率調整膜9B及び第2の反射防止膜8は、図5(a)に示す第1のプリズム用母材14A、第1の透過率調整膜9A及び第2の反射防止膜8と同様に構成されている。この場合には、第1の透過率調整膜9A及び第2の反射防止膜8が形成された第1のプリズム用母材14Aを分割することにより、第2の透過率調整膜9B及び第2の反射防止膜8が形成された第2のプリズム用母材14Bを得てもよい。 Similarly, as shown in FIG. 5B, the second prism base material 14B has a bonded surface 16b. A second transmittance adjusting film 9B is formed on the bonded surface 16b of the second prism base material 14B. Further, the second antireflection film 8 is formed on the surface of the second prism base material 14B other than the bonded surface 16b. In the present embodiment, the second prism base material 14B, the second transmittance adjusting film 9B, and the second antireflection film 8 are the first prism base material 14A shown in FIG. 5A. It is configured in the same manner as the first transmittance adjusting film 9A and the second antireflection film 8. In this case, by dividing the first prism base material 14A on which the first transmittance adjusting film 9A and the second antireflection film 8 are formed, the second transmittance adjusting film 9B and the second A second prism base material 14B on which the antireflection film 8 is formed may be obtained.

図5(c)に示すように、透光部材用母材14Cは貼り合わせ面16c及び貼り合わせ面16dを有する。貼り合わせ面16cは、透光部材用母材14Cにおける、第1のプリズム用母材14Aと貼り合わせる面である。貼り合わせ面16dは、透光部材用母材14Cにおける、第2のプリズム用母材14Bと貼り合わせる面である。透光部材用母材14Cにおける、貼り合わせ面16c及び貼り合わせ面16d以外の面に、第2の反射防止膜8を形成する。なお、上記第1の透過率調整膜9Aは、透光部材用母材14Cの貼り合わせ面16cに設けてもよい。上記第2の透過率調整膜9Bは、透光部材用母材14Cの貼り合わせ面16dに設けてもよい。 As shown in FIG. 5C, the base material 14C for a translucent member has a bonded surface 16c and a bonded surface 16d. The bonding surface 16c is a surface of the light-transmitting member base material 14C to be bonded to the first prism base material 14A. The bonding surface 16d is a surface of the light-transmitting member base material 14C to be bonded to the second prism base material 14B. The second antireflection film 8 is formed on the surfaces other than the bonded surface 16c and the bonded surface 16d in the base material 14C for the translucent member. The first transmittance adjusting film 9A may be provided on the bonded surface 16c of the base material 14C for a translucent member. The second transmittance adjusting film 9B may be provided on the bonded surface 16d of the base material 14C for a translucent member.

次に、図5(d)に示すように、第1のプリズム用母材14Aの貼り合わせ面16aと透光部材用母材14Cの貼り合わせ面16cとを貼り合わせる。第2のプリズム用母材14Bの貼り合わせ面16bと透光部材用母材14Cの貼り合わせ面16dとを貼り合わせる。これにより、本体用母材12を得る。第1のプリズム用母材14A及び第2のプリズム用母材14Bと、透光部材用母材14Cとの接合には、適宜の接着剤等を用いてもよい。なお、第2の反射防止膜8は、第1のプリズム用母材14A及び第2のプリズム用母材14Bと、透光部材用母材14Cとを接合した後に形成してもよい。もっとも、第2の反射防止膜8は、必ずしも形成しなくともよい。 Next, as shown in FIG. 5D, the bonding surface 16a of the first prism base material 14A and the bonding surface 16c of the translucent member base material 14C are bonded together. The bonding surface 16b of the second prism base material 14B and the bonding surface 16d of the translucent member base material 14C are bonded together. As a result, the base material 12 for the main body is obtained. An appropriate adhesive or the like may be used for joining the first prism base material 14A and the second prism base material 14B to the translucent member base material 14C. The second antireflection film 8 may be formed after joining the first prism base material 14A and the second prism base material 14B and the translucent member base material 14C. However, the second antireflection film 8 does not necessarily have to be formed.

本体用母材12は側面12aを有する。側面12aは、図1に示す部材本体2の第1の側面2aに相当する。図6(a)に示すように、側面12a上に、第2の反射防止膜8を形成する。第2の反射防止膜8は、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等を用いて、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することにより形成することができる。 The base material 12 for the main body has a side surface 12a. The side surface 12a corresponds to the first side surface 2a of the member main body 2 shown in FIG. As shown in FIG. 6A, a second antireflection film 8 is formed on the side surface 12a. The second antireflection film 8 can be formed by alternately laminating low refractive index films and high refractive index films by using, for example, a sputtering method or a vacuum vapor deposition method.

次に、第2の反射防止膜8上に、本発明における酸化物膜としての、金属酸化物膜15を形成する。本実施形態においては、金属酸化物膜15は酸化チタンからなる。もっとも、本発明における酸化物膜の材料は上記に限定されない。酸化物膜は、例えば、酸化クロム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムのうちいずれかの酸化物からなっていてもよい。金属酸化物膜15は、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等を用いて形成することができる。酸化物膜を酸化ケイ素等により形成する場合も同様である。 Next, the metal oxide film 15 as the oxide film in the present invention is formed on the second antireflection film 8. In the present embodiment, the metal oxide film 15 is made of titanium oxide. However, the material of the oxide film in the present invention is not limited to the above. The oxide film may be made of, for example, an oxide of chromium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, silicon oxide or aluminum oxide. The metal oxide film 15 can be formed by, for example, a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, or the like. The same applies when the oxide film is formed of silicon oxide or the like.

次に、金属酸化物膜15を窒化する。これにより、図6(b)に示すように、遮光膜5を得る。本実施形態では、遮光膜5は酸窒化チタンからなる。もっとも、上記のように、遮光膜5は、酸窒化チタン以外の酸窒化物からなっていてもよい。次に、図6(c)に示すように、遮光膜5上に第1の反射防止膜6を積層する。第1の反射防止膜6は、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等を用いて、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することにより形成することができる。次に、本体用母材12を切断することにより、複数の光学部材1を得る。 Next, the metal oxide film 15 is nitrided. As a result, as shown in FIG. 6B, a light-shielding film 5 is obtained. In the present embodiment, the light-shielding film 5 is made of titanium oxynitride. However, as described above, the light-shielding film 5 may be made of an oxynitride other than titanium oxynitride. Next, as shown in FIG. 6C, the first antireflection film 6 is laminated on the light shielding film 5. The first antireflection film 6 can be formed by alternately laminating low refractive index films and high refractive index films by using, for example, a sputtering method or a vacuum vapor deposition method. Next, a plurality of optical members 1 are obtained by cutting the main body base material 12.

ここで、本発明者は、金属等の酸化及び窒化を同時に行った場合には、遮光膜の光学特性が安定しないという問題を見出した。これは、遮光膜における窒素元素の割合のばらつきによって、光学特性が大きく変化することによる。さらに、本発明者は、金属等の酸化及び窒化を同時に行うと、酸窒化物としてのMにおいて、安定してy>zとすることができないことを見出した。これにより、遮光膜における光学特性のばらつきが大きくなりがちになる。そのため、遮光膜の反射率を十分に低くすることができないことがあり、結果として、迷光を抑制することが困難となる。さらに、光学膜全体として反射率を低くするためには、遮光膜の屈折率等の光学特性を測定し、その光学特性に合致した第1の反射防止膜を用意する必要がある。このように、生産性を高めることは困難となる。 Here, the present inventor has found a problem that the optical characteristics of the light-shielding film are not stable when the metal or the like is oxidized and nitrided at the same time. This is because the optical characteristics change greatly due to the variation in the ratio of nitrogen elements in the light-shielding film. Furthermore, the present inventor has found that when oxidation and nitriding of a metal or the like are carried out at the same time, y> z cannot be stably obtained in M x O y N z as an oxynitride. As a result, the variation in the optical characteristics of the light-shielding film tends to be large. Therefore, it may not be possible to sufficiently reduce the reflectance of the light-shielding film, and as a result, it becomes difficult to suppress stray light. Further, in order to reduce the reflectance of the entire optical film, it is necessary to measure the optical characteristics such as the refractive index of the light-shielding film and prepare a first antireflection film that matches the optical characteristics. In this way, it becomes difficult to increase productivity.

これに対して、本実施形態においては、金属酸化物膜15を形成した後に、金属酸化物膜15を窒化している。それによって、酸窒化物としてのMにおいて、安定してy>zとすることができる。この場合、酸窒化物における窒素元素の割合にばらつきが生じたとしても、光学特性の変化が小さくなる。よって、遮光膜5の反射率を安定して低くすることができる。さらに、遮光膜5の光学特性のばらつきが小さいため、遮光膜5の光学特性のばらつきに応じた第1の反射防止膜6の構成の変更を行う必要はない。よって、生産性を効果的に高めることができる。 On the other hand, in the present embodiment, the metal oxide film 15 is nitrided after the metal oxide film 15 is formed. Thereby, in M x O y N z as the oxynitride, y> z can be stably obtained. In this case, even if the ratio of the nitrogen element in the oxynitride varies, the change in the optical characteristics becomes small. Therefore, the reflectance of the light-shielding film 5 can be stably lowered. Further, since the variation in the optical characteristics of the light-shielding film 5 is small, it is not necessary to change the configuration of the first antireflection film 6 according to the variation in the optical characteristics of the light-shielding film 5. Therefore, productivity can be effectively increased.

以下、第2の実施形態の方法により作製した、第1の実施形態の光学膜3における遮光膜5の、XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy)による分析の結果を示す。 Hereinafter, the results of analysis by XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) of the light-shielding film 5 in the optical film 3 of the first embodiment produced by the method of the second embodiment are shown.

図7(a)は、第1の実施形態における遮光膜のXPSの分析結果においての、Ti元素のピーク付近を示す図であり、図7(b)は、O元素のピーク付近を示す図であり、図7(c)は、N元素のピーク付近を示す図である。図7(a)~図7(c)に示すように、チタン元素(Ti元素)のピーク及び酸素元素(O元素)のピークよりも、窒素元素(N元素)のピークが低いことがわかる。よって、Tiにおいて、y>zであることがわかる。 FIG. 7A is a diagram showing the vicinity of the peak of the Ti element in the XPS analysis result of the light-shielding film in the first embodiment, and FIG. 7B is a diagram showing the vicinity of the peak of the O element. Yes, FIG. 7 (c) is a diagram showing the vicinity of the peak of the N element. As shown in FIGS. 7 (a) to 7 (c), it can be seen that the peak of the nitrogen element (N element) is lower than the peak of the titanium element (Ti element) and the oxygen element (O element). Therefore, it can be seen that y> z in Ti x O y N z .

遮光膜5におけるMのxを1としたとき、yは、0.5以上、1.5以下であることが好ましく、0.8以上、1.3以下であることがより好ましい。zは、0.05以上、0.3以下であることが好ましく、0.1以上、0.15以下であることがより好ましい。特に、zが上記範囲内である場合には、遮光膜5の組成において窒素元素の割合にばらつきが生じた場合においても、光学膜3における光学特性のばらつきをより一層小さくすることができ、光学膜3の反射率をより一層確実に低くすることができる。 When x of M x O y N z in the light-shielding film 5 is 1, y is preferably 0.5 or more and 1.5 or less, and more preferably 0.8 or more and 1.3 or less. preferable. z is preferably 0.05 or more and 0.3 or less, and more preferably 0.1 or more and 0.15 or less. In particular, when z is within the above range, even when the proportion of nitrogen elements varies in the composition of the light-shielding film 5, the variation in the optical characteristics of the optical film 3 can be further reduced, and the optics can be further reduced. The reflectance of the film 3 can be lowered even more reliably.

1…光学部材
1a…入射部
1b~1d…第1~第3の出射部
2…部材本体
2a~2d…第1~第4の側面
3…光学膜
4A,4B…第1,第2のプリズム
4C…透光部材
5…遮光膜
6…第1の反射防止膜
6a…高屈折率膜
6b…低屈折率膜
6c…高屈折率膜
8…第2の反射防止膜
8a…高屈折率膜
8b…低屈折率膜
8c…高屈折率膜
8d…低屈折率膜
9A,9B…第1,第2の透過率調整膜
12…本体用母材
12a…側面
14A,14B…第1,第2のプリズム用母材
14C…透光部材用母材
15…金属酸化物膜
16a~16d…貼り合わせ面
1 ... Optical member 1a ... Incident portion 1b to 1d ... First to third emission portions 2 ... Member body 2a to 2d ... First to fourth side surfaces 3 ... Optical films 4A, 4B ... First and second prisms 4C ... Translucent member 5 ... Light-shielding film 6 ... First antireflection film 6a ... High refraction film 6b ... Low refraction film 6c ... High refraction film 8 ... Second antireflection film 8a ... High refraction film 8b ... Low refraction film 8c ... High refraction film 8d ... Low refraction film 9A, 9B ... First and second transmission rate adjusting films 12 ... Main body base material 12a ... Side surfaces 14A, 14B ... First and second Base material for prism 14C ... Base material for translucent member 15 ... Metal oxide film 16a to 16d ... Bonded surface

Claims (7)

部材本体と、
前記部材本体上に設けられている光学膜と、
を備え、
前記光学膜が、酸窒化物であるMからなる遮光膜と、前記遮光膜に積層されている反射防止膜とを有し、
前記反射防止膜よりも、前記遮光膜が前記部材本体側に位置し、
前記遮光膜において、y>zである、光学部材。
The main body of the member and
The optical film provided on the member body and
Equipped with
The optical film has a light-shielding film made of M x Oy Nz , which is an oxynitride, and an antireflection film laminated on the light-shielding film.
The light-shielding film is located closer to the member body than the antireflection film.
An optical member in which y> z in the light-shielding film.
前記遮光膜におけるMのMが、Ti、Cr、Ta、Zr、Si及びAlのうちいずれかの元素である、請求項1に記載の光学部材。 The optical member according to claim 1, wherein M of M x O y N z in the light-shielding film is any element of Ti, Cr, Ta, Zr, Si and Al. 前記遮光膜におけるMのxを1としたとき、yが0.5以上、1.5以下であり、zが0.05以上、0.3以下である、請求項1または2に記載の光学部材。 When x of M x O y N z in the light-shielding film is 1, y is 0.5 or more and 1.5 or less, and z is 0.05 or more and 0.3 or less, claim 1 or 2. The optical member according to 2. 前記反射防止膜が第1の反射防止膜であり、
前記遮光膜と前記部材本体との間に位置している第2の反射防止膜をさらに備える、請求項1~3のいずれか一項に記載の光学部材。
The antireflection film is the first antireflection film, and the antireflection film is a first antireflection film.
The optical member according to any one of claims 1 to 3, further comprising a second antireflection film located between the light-shielding film and the member main body.
請求項1~4のいずれか一項に記載の光学部材を製造する方法であって、
前記部材本体上に、直接的または間接的に酸化物膜を積層する工程と、
前記酸化物膜を窒化することにより、酸窒化物であるMからなる前記遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜上に前記反射防止膜を積層する工程と、
を備える、光学部材の製造方法。
The method for manufacturing the optical member according to any one of claims 1 to 4.
A step of directly or indirectly laminating an oxide film on the member body,
A step of forming the light-shielding film made of M x O y N z , which is an acid nitride, by nitriding the oxide film, and a step of forming the light-shielding film.
The step of laminating the antireflection film on the light-shielding film and
A method for manufacturing an optical member.
前記酸化物膜が、酸化チタン、酸化クロム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムのうちいずれかの酸化物からなる、請求項5に記載の光学部材の製造方法。 The method for producing an optical member according to claim 5, wherein the oxide film is made of an oxide of any one of titanium oxide, chromium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, silicon oxide and aluminum oxide. 前記反射防止膜が第1の反射防止膜であり、
前記部材本体上に第2の反射防止膜を積層する工程をさらに備え、
前記酸化物膜を積層する工程において、前記第2の反射防止膜上に前記酸化物膜を積層する、請求項5または6に記載の光学部材の製造方法。
The antireflection film is the first antireflection film, and the antireflection film is a first antireflection film.
Further provided with a step of laminating a second antireflection film on the member main body,
The method for manufacturing an optical member according to claim 5 or 6, wherein in the step of laminating the oxide film, the oxide film is laminated on the second antireflection film.
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