JP2022052939A - Flux and solder paste - Google Patents

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Abstract

To prevent residual cracking in flux residues.SOLUTION: The present invention discloses a flux composition comprising one or more first rosin compounds selected from the group consisting of imidized maleic acid-modified rosin and its hydrogenated product. The present invention discloses a flux for soldering a solder alloy, comprising the flux composition. The present invention discloses a solder paste comprising the flux and a solder alloy.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、フラックス用組成物、フラックスおよびはんだペーストに関する。 The present invention relates to a flux composition, a flux and a solder paste.

プリント基板への電子部品の実装など、電子機器における電子部品の固定と電気的接続は、コスト面及び信頼性の面で有利なはんだ付けにより一般に行われている。
はんだ付けに一般に採用されている方法としては、(i)溶融はんだにプリント基板及び電子部品を接触させてはんだ付けを行うフローソルダリング法や、(ii)ソルダペースト、ソルダプリフォーム又はソルダボールの形態のはんだをリフロー炉で再溶融してはんだ付けを行うリフローソルダリング法などがある。
Fixing and electrical connection of electronic components in electronic devices, such as mounting electronic components on printed circuit boards, is generally performed by soldering, which is advantageous in terms of cost and reliability.
Commonly used methods for soldering include (i) a flow soldering method in which a printed circuit board and electronic components are brought into contact with molten solder for soldering, and (ii) solder paste, solder preform, or solder balls. There is a reflow soldering method in which the solder of the form is remelted in a reflow furnace and soldered.

はんだ付けにおいては、プリント基板や電子部品にはんだが付着しやすくなるようにする補助剤であるフラックスが使用されることがある。フラックスは、はんだ付けにおいて例えば以下のような有用な作用を果たす。
(1)金属表面清浄作用:プリント基板及び電子部品の金属表面の酸化膜を化学的に除去して、はんだ付けが可能となるように表面を清浄化する作用
(2)再酸化防止作用:清浄になった金属表面をはんだ付け中に覆って酸素との接触を遮断し、加熱により金属表面が再酸化されるのを防止する作用
(3)界面張力低下作用:溶融したはんだの表面張力を小さくして、金属表面のはんだによる濡れ性を高める作用
In soldering, flux, which is an auxiliary agent that makes it easier for solder to adhere to printed circuit boards and electronic components, may be used. The flux has a useful effect in soldering, for example, as follows.
(1) Metal surface cleaning action: Chemically removes the oxide film on the metal surface of printed boards and electronic parts to clean the surface so that soldering is possible (2) Anti-oxidation action: Cleaning The action of covering the metal surface that has become formed during soldering to block contact with oxygen and preventing the metal surface from being reoxidized by heating (3) The action of lowering the interfacial tension: The surface tension of the molten solder is reduced. And the action of improving the wettability of the metal surface by soldering

フラックスとしては、ロジン誘導体を用いたものが知られている。例えば、特許文献1には、ロジン系カルボキシル基含有樹脂とダイマー酸誘導体柔軟性アルコール化合物とを脱水縮合したロジン誘導体化合物を、はんだ付け用のフラックスとして用いることが記載されている。 As the flux, a flux using a rosin derivative is known. For example, Patent Document 1 describes that a rosin derivative compound obtained by dehydrating and condensing a rosin-based carboxyl group-containing resin and a dimer acid derivative flexible alcohol compound is used as a flux for soldering.

特開2014-185298号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-185298

上述のように、フラックスは、はんだ付けにおいて有用な作用を果たす。しかし、フラックスの使用に問題が無いわけではなかった。
例えば、従来のフラックスにおいては、はんだ付け後のフラックス残渣に「残渣割れ」が発生することがあった。このような割れは、プリント基板や電子部品の信頼性の点で問題となりうる。
As mentioned above, the flux has a useful effect in soldering. However, the use of flux was not without problems.
For example, in the conventional flux, "residue cracking" may occur in the flux residue after soldering. Such cracks can be problematic in terms of reliability of printed circuit boards and electronic components.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものである。本発明は、フラックス残渣の残渣割れを抑制することを目的の1つとする。 The present invention has been made in view of such circumstances. One of the objects of the present invention is to suppress the cracking of the flux residue.

本発明者らは、以下に提供される発明を完成させ、上記課題を解決した。 The present inventors have completed the inventions provided below and solved the above problems.

本発明によれば、
イミド化されたマレイン酸変性ロジン、および、その水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第1ロジン化合物を含むフラックス用組成物
が提供される。
According to the present invention
A flux composition comprising an imidized maleic acid-modified rosin and one or more first rosin compounds selected from the group consisting of hydrogenated products thereof is provided.

また、本発明によれば、
上記のフラックス用組成物を含む、はんだ合金をはんだ付けするためのフラックス
が提供される。
Further, according to the present invention,
A flux for soldering a solder alloy, which comprises the above flux composition, is provided.

また、本発明によれば、
上記のフラックスと、はんだ合金と、を含むはんだペースト
が提供される。
Further, according to the present invention,
A solder paste containing the above flux and a solder alloy is provided.

本発明によれば、フラックス残渣の残渣割れを抑制することができる。 According to the present invention, it is possible to suppress the residual cracking of the flux residue.

以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。
本明細書中、数値範囲の説明における「X~Y」との表記は、特に断らない限り、X以上Y以下のことを表す。例えば、「1~5質量%」とは「1質量%以上5質量%以下」を意味する。
本明細書中の化学式において、波線で表されている結合は、結合の立体配置を指定しないことを表す。換言すると、後掲の各一般式で表される各化合物は、ラセミ体であってもよいし、特定の立体配置を有する1のみの化合物であってもよい。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換か無置換かを記していない表記は、置換基を有しないものと置換基を有するものの両方を包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有しないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書における「(メタ)アクリル」との表記は、アクリルとメタクリルの両方を包含する概念を表す。「(メタ)アクリレート」等の類似の表記についても同様である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
In the present specification, the notation "XY" in the description of the numerical range indicates X or more and Y or less unless otherwise specified. For example, "1 to 5% by mass" means "1% by mass or more and 5% by mass or less".
In the chemical formula in the present specification, the bond represented by the wavy line indicates that the configuration of the bond is not specified. In other words, each compound represented by each of the general formulas described below may be a racemate or a single compound having a specific configuration.
In the notation of a group (atomic group) in the present specification, the notation that does not indicate whether it is substituted or unsubstituted includes both those having no substituent and those having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
The notation "(meth) acrylic" herein represents a concept that includes both acrylic and methacrylic. The same applies to similar notations such as "(meth) acrylate".

<フラックス用組成物>
本実施形態のフラックス用組成物は、イミド化されたマレイン酸変性ロジンおよびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第1ロジン化合物を含む。
本発明者らの知見によれば、フラックスが第1ロジン化合物を含むことにより、はんだ付け後のフラックス残渣が適度に軟らかくなるため、残渣割れが抑制される。
<Composition for flux>
The composition for flux of the present embodiment contains one or more first rosin compounds selected from the group consisting of imidized maleic acid-modified rosin and hydrogenated products thereof.
According to the findings of the present inventors, when the flux contains the first rosin compound, the flux residue after soldering becomes moderately soft, so that cracking of the residue is suppressed.

第1ロジン化合物は、具体的には、以下一般式(1-1)または(1-2)で表される部分構造を有する化合物、および、この化合物の水添物(一般式中の炭素-炭素二重結合に水素が付加した化合物)からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含む。 Specifically, the first rosin compound is a compound having a partial structure represented by the following general formula (1-1) or (1-2), and a hydrogenated product of this compound (carbon-in the general formula). It contains one or more compounds selected from the group consisting of (compounds with hydrogen added to carbon double bonds).

Figure 2022052939000001
Figure 2022052939000001

上記一般式中、*は、他の化学構造との結合手を表す。 In the above general formula, * represents a bond with another chemical structure.

好ましくは、第1ロジン化合物は、以下一般式(1a-1)または(1a-2)で表される化合物およびその水添物(一般式中の炭素-炭素二重結合に水素が付加した化合物)からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含む。 Preferably, the first rosin compound is a compound represented by the following general formula (1a-1) or (1a-2) and a hydrogenated product thereof (a compound in which hydrogen is added to a carbon-carbon double bond in the general formula). ) Contains one or more compounds selected from the group consisting of.

Figure 2022052939000002
Figure 2022052939000002

上記一般式中、Rは各々独立して、直鎖または分岐のアルキル基、アルキレングリコール基、もしくは、末端変性ポリアルキレンオキシド基を表す。Rがこれらの基のいずれかであることにより、はんだ付け後のフラックス残渣が十二分に軟らかくなる傾向がある。
Rの各基においては、水素原子が任意の置換基で置換されていてもよい。
In the above general formula, R independently represents a linear or branched alkyl group, an alkylene glycol group, or a terminally modified polyalkylene oxide group. When R is any of these groups, the flux residue after soldering tends to be sufficiently soft.
In each group of R, the hydrogen atom may be substituted with an arbitrary substituent.

Rのアルキレングリコール基は、好ましくは以下の式(i)で表される1価の基である。式(i)中、Rは各々独立に炭素数1~4の直鎖または分岐のアルキレン基であり、nは1~500の整数である。
H-(OR- (i)
The alkylene glycol group of R is preferably a monovalent group represented by the following formula (i). In formula (i), R 1 is an independently linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 500.
H- (OR 1 ) n- (i)

Rの末端変性ポリアルキレンオキシド基は、好ましくは以下の式(ii)で表される1価の基である。式(ii)中、Rは各々独立に炭素数1~4の直鎖または分岐のアルキレン基であり、Xはアミノ基、炭素数1~40の直鎖もしくは分岐のアルキルエステル基、または炭素数1~40の直鎖もしくは分岐のアルキルエーテル基であり、nは0~500の整数である。
X-R-(OR- (ii)
The terminal-modified polyalkylene oxide group of R is preferably a monovalent group represented by the following formula (ii). In formula (ii), R 1 is an independently linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and X is an amino group, a linear or branched alkyl ester group having 1 to 40 carbon atoms, or carbon. It is a linear or branched alkyl ether group of the number 1 to 40, and n is an integer of 0 to 500.
X-R 1- (OR 1 ) n- (ii)

Rで示されるアルキル基の炭素数は特に限定されないが、好ましくは1~54、より好ましくは4~24、さらに好ましくは8~22、特に好ましくは12~22である。
Rで示されるアルキレングリコール基および末端変性ポリアルキレンオキシド基の炭素数は特に限定されないが、好ましくは1~500、より好ましくは4~24、さらに好ましくは8~22、特に好ましくは12~22である。
式(i)及び式(ii)中、Xのアルキル部の炭素数は好ましくは1~24であり、Rの炭素数は好ましくは1~3である。また、式(i)及び式(ii)中、nは好ましくは1~500であり、より好ましくは1~100であり、更に好ましくは1~10である。
The number of carbon atoms of the alkyl group represented by R is not particularly limited, but is preferably 1 to 54, more preferably 4 to 24, still more preferably 8 to 22, and particularly preferably 12 to 22.
The carbon number of the alkylene glycol group and the terminal-modified polyalkylene oxide group represented by R is not particularly limited, but is preferably 1 to 500, more preferably 4 to 24, still more preferably 8 to 22, and particularly preferably 12 to 22. be.
In the formula (i) and the formula (ii), the carbon number of the alkyl portion of X is preferably 1 to 24, and the carbon number of R1 is preferably 1 to 3. Further, in the formula (i) and the formula (ii), n is preferably 1 to 500, more preferably 1 to 100, and further preferably 1 to 10.

末端変性ポリアルキレンオキシド基としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、及びエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体等のポリアルキレングリコールの水酸基末端に、セチルアルコール、ステアリルアルコール、及びベへニルアルコールのような炭素数1~40のアルコール、又は、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸のような炭素数1~40のカルボン酸が付加した基;及び、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合体等のポリアルキレングリコールの水酸基末端がアミノ基に変性された基などが挙げられる。 Terminal-modified polyalkylene oxide groups include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and the hydroxyl end of polyalkylene glycol such as a copolymer of ethylene oxide and propylene oxide, such as cetyl alcohol, stearyl alcohol, and behenyl alcohol. A group to which an alcohol having 1 to 40 carbon atoms or a carboxylic acid having 1 to 40 carbon atoms such as palmitic acid, stearic acid, and behenic acid is added; and a polyalkylene such as a copolymer of ethylene oxide and propylene oxide. Examples thereof include a group in which the hydroxyl end of glycol is modified to an amino group.

第1ロジン化合物の分子量は、例えば1000以下、好ましくは850以下、より好ましくは700以下である。分子量が大きくなりすぎないことで、フラックスが硬くなりにくくなり、残渣割れが一層抑制される。 The molecular weight of the first rosin compound is, for example, 1000 or less, preferably 850 or less, and more preferably 700 or less. By not increasing the molecular weight too much, the flux is less likely to become hard, and residual cracking is further suppressed.

本実施形態のフラックス用組成物は、さらに、マレイン酸変性ロジンアミドおよびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第2ロジン化合物を含むことが好ましい。これにより残渣割れが一層抑制される。詳細は不明であるが、おそらくは、本実施形態のフラックス用組成物が、第1ロジン化合物と第2ロジン化合物との混合物であることにより、はんだ付け後のフラックス残渣が十二分に軟化するものと考えられる。 The composition for flux of the present embodiment further preferably contains one or more second rosin compounds selected from the group consisting of maleic acid-modified rosin amides and hydrogenated products thereof. As a result, residual cracking is further suppressed. Although the details are unknown, probably, the flux composition of the present embodiment is a mixture of the first rosin compound and the second rosin compound, so that the flux residue after soldering is sufficiently softened. it is conceivable that.

第2ロジン化合物は、具体的には、以下一般式(2-1)、(2-2)、(3-1)または(3-2)で表される部分構造を有する化合物およびその水添物(一般式中の炭素-炭素二重結合に水素が付加した化合物)からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含む。 Specifically, the second rosin compound is a compound having a partial structure represented by the following general formulas (2-1), (2-2), (3-1) or (3-2) and a hydrogenation thereof. It contains one or more compounds selected from the group consisting of compounds (compounds in which hydrogen is added to a carbon-carbon double bond in the general formula).

Figure 2022052939000003
Figure 2022052939000003

上記一般式中、*は、他の化学構造との結合手を表す。 In the above general formula, * represents a bond with another chemical structure.

好ましくは、第2ロジン化合物は、以下一般式(2a-1)、(2a-2)、(3a-1)または(3a-2)で表される化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上を含む。 Preferably, the second rosin compound is selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (2a-1), (2a-2), (3a-1) or (3a-2) and hydrogenated products thereof. Includes 1 or 2 or more.

Figure 2022052939000004
Figure 2022052939000004

上記一般式中、Rは各々独立して、置換されていてもよい、直鎖若しくは分岐のアルキル基、アルキレングリコール基、又は末端変性ポリアルキレンオキシド基を表す。これら基の具体例や好ましい態様については、一般式(1a-1)および(1a―2)と同様である。 In the above general formula, R represents a linear or branched alkyl group, an alkylene glycol group, or a terminally modified polyalkylene oxide group, which may be substituted independently of each other. Specific examples and preferred embodiments of these groups are the same as those of the general formulas (1a-1) and (1a-2).

本実施形態のフラックス用組成物が、第1ロジン化合物として一般式(1a-1)または(1a―2)で表される化合物を含み、かつ、第2ロジン化合物として一般式(2a-1)、(2a-2)、(3a-1)または(3a-2)で表される化合物を含む場合、の両方を含む場合、一般式(1a-1)または(1a―2)におけるRと、一般式(2a-1)、(2a-2)、(3a-1)または(3a-2)におけるRは共通することが好ましい。これは、合成の容易性などのためである。 The flux composition of the present embodiment contains the compound represented by the general formula (1a-1) or (1a-2) as the first rosin compound, and the general formula (2a-1) as the second rosin compound. , (2a-2), (3a-1) or (3a-2), if both are included, R in the general formula (1a-1) or (1a-2), and It is preferable that R in the general formula (2a-1), (2a-2), (3a-1) or (3a-2) is common. This is because of the ease of synthesis and the like.

第2ロジン化合物の分子量は、例えば1000以下、好ましくは850以下、より好ましくは700以下である。分子量が大きくなりすぎないことで、フラックスが硬くなりにくくなり、残渣割れが一層抑制される。 The molecular weight of the second rosin compound is, for example, 1000 or less, preferably 850 or less, and more preferably 700 or less. By not increasing the molecular weight too much, the flux is less likely to become hard, and residual cracking is further suppressed.

本実施形態のフラックス用組成物が第1ロジン化合物と第2ロジン化合物の両方を含む場合、これら「両方を含む」ことの効果を十分に得る観点から、第1ロジン化合物と第2ロジン化合物の質量比は、例えば第1ロジン化合物:第2ロジン化合物=1:99~99:1、具体的には5:95~95:5である。
第1ロジン化合物と第2ロジン化合物の質量比は、例えば、質量分析スペクトルを手掛かりとして知ることができる。
When the composition for flux of the present embodiment contains both the first rosin compound and the second rosin compound, the first rosin compound and the second rosin compound are used from the viewpoint of sufficiently obtaining the effect of "containing both". The mass ratio is, for example, 1st rosin compound: 2nd rosin compound = 1: 99 to 99: 1, specifically 5: 95 to 95: 5.
The mass ratio of the first rosin compound to the second rosin compound can be known, for example, by using the mass spectrometric spectrum as a clue.

第1ロジン化合物や第2ロジン化合物の原料であるマレイン酸変性ロジンの原料としては、ガムロジン、トール油ロジン、ウッドロジン、これらの精製物(精製ロジン)等が挙げられる。また、原料ロジンとしては「D.F.Zinkel,J.Russell編、長谷川吉弘訳(1993),松の化学 生産・化学・用途,361-362」に記載されているような生松ヤニや市販ガムロジンを用いてもよい。これら原料と、適当なアミン化合物とを反応させることで、第1ロジン化合物や第2ロジン化合物を得ることができる(反応条件を適切に選択することにより、第1ロジン化合物と第2ロジン化合物の混合物を得ることもできる)。 Examples of the raw material of the maleic acid-modified rosin, which is the raw material of the first rosin compound and the second rosin compound, include gum rosin, tall oil rosin, wood rosin, and purified products (purified rosin) thereof. In addition, as raw material rosin, raw pine tar and commercial products as described in "DF Zinkel, J. Russell ed., Translated by Yoshihiro Hasegawa (1993), Chemistry Production / Chemistry / Applications of Pine, 361-362". Gumrosin may be used. The first rosin compound and the second rosin compound can be obtained by reacting these raw materials with an appropriate amine compound (by appropriately selecting the reaction conditions, the first rosin compound and the second rosin compound can be obtained. You can also get a mixture).

<フラックス>
本実施形態のフラックスは、上記のフラックス用組成物を含み、はんだ合金をはんだ付けするために用いられる。
<Flux>
The flux of the present embodiment contains the above-mentioned flux composition and is used for soldering a solder alloy.

フラックス中の第1ロジン化合物および第2ロジン化合物の合計量(比率)は、フラックス全体に対して、好ましくは0質量%超60質量%以下である。下限については、より好ましくは5質量%以上、更に好ましくは10質量%以上、更により好ましくは20質量%以上、特に好ましくは30質量%以上である。上限については、より好ましくは50質量%以下、更に好ましくは40質量%以下である。第1ロジン化合物や第2ロジン化合物の含有量が多いほど、フラックス残渣の残渣割れの抑制効果がより顕著となる傾向がある。 The total amount (ratio) of the first rosin compound and the second rosin compound in the flux is preferably more than 0% by mass and 60% by mass or less with respect to the entire flux. The lower limit is more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, still more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more. The upper limit is more preferably 50% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less. The larger the content of the first rosin compound or the second rosin compound, the more remarkable the effect of suppressing the residual cracking of the flux residue tends to be.

本実施形態のフラックスは、上述したフラックス用組成物が含む第1ロジン化合物および第2ロジン化合物以外の成分(樹脂など)を含んでいてもよい。
樹脂としては、従来はんだ付け用フラックスに使用されている各種樹脂を使用することができる。このような樹脂としては、例えば、ロジン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、スチレン-マレイン酸共重合体、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、及び、これらの混合物が挙げられる。これらの中でも、ロジン系樹脂が一般的によく用いられている。ロジン系樹脂としては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン等の天然ロジンや、その誘導体(重合ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、酸変性ロジン、ロジンエステル等)が挙げられる。
念のため述べておくと、ここでのロジン系樹脂は、第1ロジン化合物および第2ロジン化合物とは異なる成分である。
The flux of the present embodiment may contain a component (resin or the like) other than the first rosin compound and the second rosin compound contained in the above-mentioned flux composition.
As the resin, various resins conventionally used for soldering flux can be used. Examples of such resins include rosin resins, (meth) acrylic resins, polyesters, polyethylenes, polypropylenes, polyamides, styrene-maleic acid copolymers, epoxy resins, phenol resins, phenoxy resins, terpene resins, and terpenephenols. Examples include resins and mixtures thereof. Among these, rosin-based resins are generally often used. Examples of the rosin-based resin include natural rosins such as gum rosin and wood rosin, and derivatives thereof (polymerized rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, acid-modified rosin, rosin ester and the like).
As a reminder, the rosin-based resin here is a component different from the first rosin compound and the second rosin compound.

フラックス中の樹脂の含有量に限定はない。リフロー用はんだ付けのフラックスとして用いる場合、例えば10~80質量%の範囲内とすることができ、20~70質量%の範囲内としてもよいし、30~60質量%の範囲内としてもよい。フロー用はんだ付けのフラックスとして用いる場合は、例えば、3~18質量%の範囲内とすることができ、6~15質量%の範囲内としてもよいし、9~12質量%の範囲内としてもよい。 The content of the resin in the flux is not limited. When used as a flux for reflow soldering, for example, it may be in the range of 10 to 80% by mass, may be in the range of 20 to 70% by mass, or may be in the range of 30 to 60% by mass. When used as a flux for flow soldering, for example, it may be in the range of 3 to 18% by mass, may be in the range of 6 to 15% by mass, or may be in the range of 9 to 12% by mass. good.

本実施形態のフラックスは、溶剤を含んでもよい。
溶剤としては、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。
アルコール系溶剤としては、イソプロピルアルコール、1,2-ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2,5-ジメチル-2,5-ヘキサンジオール、2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオール、2,3-ジメチル-2,3-ブタンジオール、1,1,1-トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2-エチル-2-ヒドロキシメチル-1,3-プロパンジオール、2,2'-オキシビス(メチレン)ビス(2-エチル-1,3-プロパンジオール)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1,3-プロパンジオール、1,2,6-トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2-トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1-エチニル-1-シクロヘキサノール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6-ジメチル-4-オクチン-3,6-ジオール、2,4,7,9-テトラメチル-5-デシン-4,7-ジオール等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤としては、ヘキシルジグリコール、ジエチレングリコールモノ-2-エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、2-メチルペンタン-2,4-ジオール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
The flux of this embodiment may contain a solvent.
Examples of the solvent include water, alcohol-based solvents, glycol ether-based solvents, terpineols and the like.
Examples of the alcohol solvent include isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2, 5-Dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexine-2,5-diol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) ) Ether, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2'-oxybis (methylene) bis (2-ethyl-1,3-propanediol), 2,2-bis (hydroxymethyl) )-1,3-Propanediol, 1,2,6-trihydroxyhexane, bis [2,2,2-tris (hydroxymethyl) ethyl] ether, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4-cyclohexane Diol, 1,4-cyclohexanedimethanol, erythritol, tretol, guayacol glycerol ether, 3,6-dimethyl-4-octin-3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decine- Examples thereof include 4,7-diol.
Glycol ether-based solvents include hexyl diglycol, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, 2-methylpentane-2,4-diol, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and triethylene glycol monobutyl ether. , Tetraethylene glycol monomethyl ether and the like.

本実施の形態のフラックスは、さらに、有機酸、アミン、ハロゲン(有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩)を含んでもよいし、含まなくても(含有量0%でも)よい。これらは、活性剤(はんだ付け性向上)に寄与しうる。 The flux of the present embodiment may or may not further contain an organic acid, an amine, and a halogen (organic halogen compound, an amine hydrohalide) (content may be 0%). These can contribute to the activator (improvement of solderability).

本実施の形態のフラックスは、リフロー用はんだ付けのフラックスとして用いる場合、有機酸を0質量%超10質量%以下含むことが好ましい。本実施の形態のフラックスは、リフロー用はんだ付けのフラックスとして用いる場合、アミンを0質量%超20質量%以下含むことが好ましく、より好ましくは、アミンを0質量%超5質量%以下含む。本実施の形態のフラックスは、リフロー用はんだ付けのフラックスとして用いる場合、ハロゲンとして有機ハロゲン化合物を0質量%超5質量%以下含むことが好ましく、アミンハロゲン化水素酸塩を0質量%超2質量%以下含むことが好ましい。
本実施の形態のフラックスは、フロー用はんだ付けのフラックスとして用いる場合、活性剤を0.1質量%以上12.0質量%以下含むことが好ましく、より好ましくは0.3質量%以上8.0質量%以下、さらに好ましくは0.5質量%以上4.0質量%以下含む。
When the flux of the present embodiment is used as a flux for reflow soldering, it preferably contains an organic acid in an amount of more than 0% by mass and 10% by mass or less. When used as a flux for reflow soldering, the flux of the present embodiment preferably contains amine in an amount of more than 0% by mass and 20% by mass or less, and more preferably contains an amine in an amount of more than 0% by mass and 5% by mass or less. When the flux of the present embodiment is used as a flux for soldering for reflow, it is preferable that the halogen contains an organic halogen compound in an amount of more than 0% by mass and 5% by mass or less, and an amine halide hydrohalide is contained in an amount of more than 0% by mass and 2% by mass. % Or less is preferable.
When the flux of the present embodiment is used as a flux for soldering for flow, it preferably contains an activator in an amount of 0.1% by mass or more and 12.0% by mass or less, more preferably 0.3% by mass or more and 8.0. It contains mass% or less, more preferably 0.5% by mass or more and 4.0% by mass or less.

有機酸としては、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、フェニルコハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2-カルボキシエチル)、グリシン、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,3-ジヒドロキシ安息香酸、2,4-ジエチルグルタル酸、2-キノリンカルボン酸、3-ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p-アニス酸、ステアリン酸、12-ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。 Organic acids include glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosandioic acid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutylaniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, and thioglycol. Acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, parahydroxyphenylacetic acid, phenylsuccinic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, tris isocyanurate (2-carboxyethyl), glycine, 1,3-Cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethylglutaric acid, 2- Examples thereof include quinoline carboxylic acid, 3-hydroxybenzoic acid, malic acid, p-anisic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid.

また、有機酸としては、ダイマー酸、トリマー酸、ダイマー酸に水素を添加した水添物である水添ダイマー酸、トリマー酸に水素を添加した水添物である水添トリマー酸なども挙げられる。
例えば、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸の反応物であるトリマー酸、リノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノレン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、上述した各ダイマー酸の水添物である水添ダイマー酸、上述した各トリマー酸の水添物である水添トリマー酸等が挙げられる。
Examples of the organic acid include dimer acid, trimer acid, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenated product of dimer acid and hydrogenated dimer acid, and hydrogenated trimeric acid which is a hydrogenated product of trimer acid and hydrogen added. ..
For example, dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid, and methacrylic acid. Dimer acid which is a reaction product of, trimer acid which is a reaction product of methacrylic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and methacrylic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and methacrylic acid, and a reaction product of oleic acid. A certain dimer acid, trimer acid which is a reaction product of oleic acid, dimer acid which is a reaction product of linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of linolenic acid, and a reaction product of linolenic acid. A certain trimer acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linoleic acid, reaction of acrylic acid and linoleic acid. Trimmer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, dimer acid which is a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, methacrylic acid and oleic acid. Trimmer acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, dimer acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, trimeric acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, dimer acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, and methacrylic acid. Trimmer acid, which is a reaction product of linolenic acid, dimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linolenic acid, trimeric acid, which is a reaction product of oleic acid and linolenic acid, dimer acid, which is a reaction product of linoleic acid and linolenic acid, linole. Examples thereof include trimeric acid which is a reaction product of acid and linolenic acid, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenated product of each of the above-mentioned dimer acids, and hydrogenated trimeric acid which is a hydrogenated product of each of the above-mentioned trimer acids.

アミンとしては、モノエタノールアミン、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、エチルアミン、トリエチルアミン、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2-メチルイミダゾール、2-ウンデシルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4-ジアミノ-6-[2'-メチルイミダゾリル-(1')]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2'-ウンデシルイミダゾリル-(1')]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2'-エチル-4'-メチルイミダゾリル-(1')]-エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-[2'-メチルイミダゾリル-(1')]-エチル-s-トリアジンイソシアヌル酸付加物、2-フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3-ジヒドロ-1H-ピロロ[1,2-a]ベンズイミダゾール、1-ドデシル-2-メチル-3-ベンジルイミダゾリウムクロライド、2-メチルイミダゾリン、2-フェニルイミダゾリン、2,4-ジアミノ-6-ビニル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-ビニル-s-トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4-ジアミノ-6-メタクリロイルオキシエチル-s-トリアジン、エポキシ-イミダゾールアダクト、2-メチルベンゾイミダゾール、2-オクチルベンゾイミダゾール、2-ペンチルベンゾイミダゾール、2-(1-エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2-ノニルベンゾイミダゾール、2-(4-チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-tert-ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'-ジ-tert-アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-tert-オクチルフェノール]、6-(2-ベンゾトリアゾリル)-4-tert-オクチル-6'-tert-ブチル-4'-メチル-2,2'-メチレンビスフェノール、1,2,3-ベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2'-[[(メチル-1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1-(1',2'-ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1-(2,3-ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1-[(2-エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6-ビス[(1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]-4-メチルフェノール、5-メチルベンゾトリアゾール、5-フェニルテトラゾール等が挙げられる。 Examples of amines include monoethanolamine, diphenylguanidine, ditrilguanidine, ethylamine, triethylamine, cyclohexylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethyl. Imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methyl Imidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1- Cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'- Undecylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2, 4-Diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2- Methylimidazoline, 2-phenylimidazolin, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxy Ethyl-s-triazine, epoxy-imidazole admazole, 2-methylbenzoimidazole, 2-octylbenzoimidazole, 2-pentylbenzoimidazole, 2- (1-ethylpentyl) benzoimidazole, 2-nonylbenzoimidazole, 2- (4) -Thiazolyl) benzoimidazole, benzoimidazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole , 2- (2'-Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-tert-amylphenyl) Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [6- (2H-benzotriazole-2-yl) -4-tert-octylphenol], 6 -(2-Benzotriazolyl) -4-tert-octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole, carboxybenzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methylbenzotriazole, 2,2'-[[(methyl-1H- Benzotriazole-1-yl) methyl] imino] bisethanol, 1- (1', 2'-dicarboxyethyl) benzotriazole, 1- (2,3-dicarboxypropyl) benzotriazole, 1-[(2-2-) Ethylhexylamino) methyl] benzotriazole, 2,6-bis [(1H-benzotriazole-1-yl) methyl] -4-methylphenol, 5-methylbenzotriazole, 5-phenyltetrazole and the like can be mentioned.

有機ハロゲン化合物としては、trans-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1-ブロモ-2-ブタノール、1-ブロモ-2-プロパノール、3-ブロモ-1-プロパノール、3-ブロモ-1,2-プロパンジオール、1,4-ジブロモ-2-ブタノール、1,3-ジブロモ-2-プロパノール、2,3-ジブロモ-1-プロパノール、2,3-ジブロモ-1,4-ブタンジオール、2,3-ジブロモ-1,4-ブタンジオール、2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール、イソシアヌル酸トリス(2,3-ジブロモプロピル)、無水クロレンド酸等が挙げられる。 Examples of the organic halogen compound include trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, triallyl isocyanurate 6 bromide, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol and 3-bromo. -1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3- Dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, tris isocyanurate (2,3-dibromopropyl), Examples thereof include chlorendic anhydride.

アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素を反応させた化合物である。
アミンハロゲン化水素酸塩のアミンとしては、上述したアミンを用いることができ、エチルアミン、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール等が挙げられる。ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の水素化物(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素)が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩に代えて、あるいはアミンハロゲン化水素酸塩と合わせてホウフッ化物を含んでもよく、ホウフッ化物としてホウフッ化水素酸等が挙げられる。
アミンハロゲン化水素酸塩としては、アニリン塩化水素、シクロヘキシルアミン塩化水素、アニリン臭化水素、ジフェニルグアニジン臭化水素、ジトリルグアニジン臭化水素、エチルアミン臭化水素等が挙げられる。
Amine halide hydrohydrate is a compound obtained by reacting an amine with hydrogen halide.
As the amine of the amine hydrohalide, the above-mentioned amine can be used, and examples thereof include ethylamine, cyclohexylamine, ethylenediamine, triethylamine, diphenylguanidine, ditrilguanidine, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and the like. Will be. Examples of hydrogen halide include hydrides of chlorine, bromine, iodine and fluorine (hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hydrogen fluoride). Further, borofluoride may be contained instead of or in combination with the amine hydrohalide hydrochloride, and examples of the borofluoride include borohydric acid and the like.
Examples of the amine halide hydride include aniline hydrogen chloride, cyclohexylamine hydrogen chloride, aniline bromide hydrogen, diphenylguanidine hydrogen bromide, ditrilguanidine hydrogen bromide, ethylamine bromide hydrogen and the like.

本実施形態のフラックスは、更に、酸化防止剤を含んでもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられ、リフロー用はんだ付けフラックスとして用いる場合、酸化防止剤を0質量%超5質量%以下含むことが好ましく、フロー用はんだ付けフラックスとして用いる場合、酸化防止剤を0質量%超5質量%以下含むことが好ましく、より好ましくは0質量%超2質量%以下である。 The flux of the present embodiment may further contain an antioxidant. Examples of the antioxidant include a hindered phenolic antioxidant, and when used as a reflow soldering flux, it is preferable that the antioxidant is contained in an amount of more than 0% by mass and 5% by mass or less, as the flow soldering flux. When used, the antioxidant is preferably contained in an amount of more than 0% by mass and 5% by mass or less, more preferably more than 0% by mass and 2% by mass or less.

本実施形態のフラックスは、チキソトロピック剤を含んでいてもよい。チキソトロピック剤の作用により、フラックスをはんだ合金と混合してはんだペーストとした後の分離を抑えることができる。
チキソトロピック剤としては、ワックス系チキソトロピック剤、アマイド系チキソトロピック剤、ソルビトール系チキソトロピック剤等が挙げられる。ワックス系チキソトロピック剤としては例えばヒマシ硬化油等が挙げられる。アマイド系チキソトロピック剤としては、モノアマイド系チキソトロピック剤、ビスアマイド系チキソトロピック剤、ポリアマイド系チキソトロピック剤が挙げられ、具体的には、ラウリン酸アマイド、パルミチン酸アマイド、ステアリン酸アマイド、ベヘン酸アマイド、ヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸アマイド、オレイン酸アマイド、エルカ酸アマイド、不飽和脂肪酸アマイド、p-トルエンメタンアマイド、芳香族アマイド、メチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスラウリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸ビスアマイド、メチレンビスオレイン酸アマイド、不飽和脂肪酸ビスアマイド、m-キシリレンビスステアリン酸アマイド、芳香族ビスアマイド、飽和脂肪酸ポリアマイド、不飽和脂肪酸ポリアマイド、芳香族ポリアマイド、置換アマイド、メチロールステアリン酸アマイド、メチロールアマイド、脂肪酸エステルアマイド等が挙げられる。ソルビトール系チキソトロピック剤としては、ジベンジリデン-D-ソルビトール、ビス(4-メチルベンジリデン)-D-ソルビトール等が挙げられる。
The flux of the present embodiment may contain a thixotropic agent. Due to the action of the thixotropic agent, it is possible to suppress separation after the flux is mixed with the solder alloy to form a solder paste.
Examples of the thixotropic agent include a wax-based thixotropic agent, an amide-based thixotropic agent, a sorbitol-based thixotropic agent, and the like. Examples of the wax-based thixotropic agent include castor oil and the like. Examples of the amide-based thixotropic agent include monoamide-based thixotropic agents, bis-amide-based thixotropic agents, and polyamide-based thixotropic agents. Hydroxyl stearic acid amide, saturated fatty acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, unsaturated fatty acid amide, p-toluenemethane amide, aromatic amide, methylene bisstearate amide, ethylene bislauric acid amide, ethylene bishydroxystearate amide , Saturated fatty acid bisamide, methylene bisoleic acid amide, unsaturated fatty acid bisamide, m-xylylene bisstearic acid amide, aromatic bisamide, saturated fatty acid polyamide, unsaturated fatty acid polyamide, aromatic polyamide, substituted amaide, methylolstearic acid amide, Examples thereof include methylol amide and fatty acid ester amide. Examples of the sorbitol-based thixotropic agent include dibenzylidene-D-sorbitol, bis (4-methylbenzylidene) -D-sorbitol and the like.

また、本実施の形態のフラックスは、チキソトロピック剤としてエステル化合物を含んでいてもよい。エステル化合物としては、例えば、ヒマシ硬化油等が挙げられる。 Further, the flux of the present embodiment may contain an ester compound as a thixotropic agent. Examples of the ester compound include castor oil and the like.

フラックスに含まれるチキソトロピック剤の合計量は、リフロー用はんだ付けフラックスとして用いる場合、0質量%超15質量%以下であることが好ましく、0質量%超10質量%以下であることがより好ましい。また、アマイド系チキソトロピック剤の含有量は、リフロー用はんだ付けフラックスとして用いる場合、好ましくは0質量%超12質量%以下であり、エステル化合物の含有量は好ましくは、リフロー用はんだ付けフラックスとして用いる場合、0質量%超8.0質量%以下、より好ましくは0質量%以上4.0質量%以下である。
フラックスに含まれるチキソトロピック剤の合計量は、フロー用はんだ付けフラックスとして用いる場合、0質量%超3質量%以下であることが好ましく、0質量%超1質量%以下であることがより好ましい。
When used as a reflow soldering flux, the total amount of the thixotropic agent contained in the flux is preferably more than 0% by mass and 15% by mass or less, and more preferably more than 0% by mass and 10% by mass or less. The content of the amide-based thixotropic agent is preferably more than 0% by mass and 12% by mass or less when used as a reflow soldering flux, and the content of the ester compound is preferably used as a reflow soldering flux. In the case, it is more than 0% by mass and 8.0% by mass or less, more preferably 0% by mass or more and 4.0% by mass or less.
When used as a flow soldering flux, the total amount of thixotropic agent contained in the flux is preferably more than 0% by mass and 3% by mass or less, and more preferably more than 0% by mass and 1% by mass or less.

<はんだペースト>
本実施形態のはんだペーストは、上述のフラックスと、はんだ合金とを含む。
本実施形態のはんだペーストは、フローはんだ付け、リフローはんだ付けのいずれにも用いることができる。残渣割れ抑制という効果の観点では、リフローはんだ付けに用いることが好ましい。
<Solder paste>
The solder paste of the present embodiment contains the above-mentioned flux and a solder alloy.
The solder paste of this embodiment can be used for both flow soldering and reflow soldering. From the viewpoint of the effect of suppressing residual cracking, it is preferable to use it for reflow soldering.

はんだ合金の種類(合金組成など)は特に限定されない。具体的には、Sn-Ag合金、Sn-Cu合金、Sn-Ag-Cu合金、Sn-In合金、Sn-Pb合金、Sn-Bi合金、Sn-Ag-Cu-Bi合金、および上記合金組成にAg、Cu、In、Ni、Co、Sb、Ge、P、Fe、Zn、およびGa等を更に添加した合金などが挙げられる。 The type of solder alloy (alloy composition, etc.) is not particularly limited. Specifically, Sn-Ag alloy, Sn-Cu alloy, Sn-Ag-Cu alloy, Sn-In alloy, Sn-Pb alloy, Sn-Bi alloy, Sn-Ag-Cu-Bi alloy, and the above alloy composition. Examples thereof include alloys to which Ag, Cu, In, Ni, Co, Sb, Ge, P, Fe, Zn, Ga and the like are further added.

本実施形態のはんだペーストは、通常、上述のフラックスと、はんだ合金の粉(金属粉)とを混合することで製造することができる。フラックスと金属粉の混合比率は特に限定されず、最終的に得られるはんだペーストが実用上問題ない程度の粘度を有すればよい。フラックスと金属粉の混合比率は、質量比で、典型的には、フラックス:金属粉=1:99~30:70、好ましくは、フラックス:金属粉=3:97~20:80、より好ましくは、フラックス:金属粉=5:95~15:85である。 The solder paste of the present embodiment can usually be produced by mixing the above-mentioned flux with solder alloy powder (metal powder). The mixing ratio of the flux and the metal powder is not particularly limited, and the solder paste finally obtained may have a viscosity sufficient for practical use. The mixing ratio of the flux and the metal powder is a mass ratio, typically flux: metal powder = 1: 99 to 30:70, preferably flux: metal powder = 3: 97 to 20:80, more preferably. , Flux: metal powder = 5:95 to 15:85.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, and the like to the extent that the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.

本発明の実施態様を、実施例および比較例に基づき詳細に説明する。念のため述べておくと、本発明は実施例のみに限定されない。 Embodiments of the present invention will be described in detail based on Examples and Comparative Examples. As a reminder, the invention is not limited to examples.

<フラックス用組成物の製造>
原料ロジン(無水マレイン酸変性ロジンおよび/または無水マレイン酸変性水添ロジンを含む)と、モノアミン化合物とを、等モルとなるようにステンレスビーカーに入れた。そして、大気下にて、150℃で10分間加熱した。このようにして原料ロジンをイミド化し、フラックス用組成物を得た。
モノアミン化合物を変えることで、後掲の表の「イミド化されたマレイン酸変性ロジンまたはその水添物」に記載の成分を含むフラックス用組成物を得た。例えば、N-(2-エチル)ヘキシルコハク酸イミド化マレイン酸変性ロジンについては、原料ロジンとN-(2-エチル)ヘキシルアミンとを反応させることで得た。
<Manufacturing of flux composition>
The raw material rosin (including maleic anhydride-modified rosin and / or maleic anhydride-modified hydrogenated rosin) and the monoamine compound were placed in an equimolar amount in a stainless steel beaker. Then, it was heated at 150 ° C. for 10 minutes in the atmosphere. In this way, the raw material rosin was imidized to obtain a flux composition.
By changing the monoamine compound, a composition for flux containing the components described in "Immidized maleic acid-modified rosin or hydrogenated product thereof" in the table below was obtained. For example, the N- (2-ethyl) hexyl succinimided maleic acid-modified rosin was obtained by reacting the raw material rosin with N- (2-ethyl) hexylamine.

得られたフラックス用組成物について、飛行時間型質量分析装置(ESI-TOF-MS)による質量スペクトルを得た。具体的には、陽イオンのスペクトルと陰イオンのスペクトルの両方について、ソフトウェア処理によりノイズカットされたスペクトルを得た。
陰イオンのスペクトルにおいて、主たる反応物であるイミド化されたマレイン酸変性ロジン(第1化合物)のピークよりも、質量数(m/z)が18だけ大きいピークが確認された。水分子の質量数が18であることなどを踏まえ、上記で得られた反応物は、第1化合物中のイミド環が開環した構造であるマレイン酸変性ロジンアミド(第2化合物)も一定量含むことを確認した。
A mass spectrum of the obtained flux composition was obtained by a time-of-flight mass spectrometer (ESI-TOF-MS). Specifically, noise-cut spectra were obtained by software processing for both the cation spectrum and the anion spectrum.
In the spectrum of anions, a peak having a mass number (m / z) 18 larger than that of the imidized maleic acid-modified rosin (first compound), which is the main reactant, was confirmed. Based on the fact that the mass number of the water molecule is 18, the reaction product obtained above also contains a certain amount of maleic acid-modified rosinamide (second compound) having a structure in which the imide ring in the first compound is opened. It was confirmed.

<フラックスの調製>
まず、後掲の表に示す組成のフラックスを調製した。後掲の表における各成分の組成比率は、フラックスの全量を100質量部とした場合の量である。
<Preparation of flux>
First, a flux having the composition shown in the table below was prepared. The composition ratio of each component in the table below is the amount when the total amount of flux is 100 parts by mass.

調製したフラックスと、金属粉を、フラックス11質量%:金属粉89質量%の比率で混合してはんだペーストを得た。金属粉としては、Agが3.0質量%、Cuが0.5質量%、残部がSnであるSn-Ag-Cu系のはんだ合金(金属粉の粒径の平均はφ20μm)を用いた。 The prepared flux and the metal powder were mixed at a ratio of 11% by mass of the flux: 89% by mass of the metal powder to obtain a solder paste. As the metal powder, a Sn—Ag—Cu-based solder alloy having an Ag of 3.0% by mass, Cu of 0.5% by mass, and a balance of Sn (the average particle size of the metal powder is φ20 μm) was used.

<残渣割れ抑制の評価>
まず、1.5×0.25mmの大きさの電極パッドが0.4mmピッチで64列並んだ基板に、0.15mmの厚さのメタルマスクを使ってペーストを印刷した。
次に、リフロー炉を使用してはんだ付けをした(リフローピーク温度は240℃)。
リフロー後、24時間以上常温環境で放置した。その後、パッド間に存在するフラックス残渣の中にあるクラックの数をカウントし、以下に従って評価した。
〇(良い):残渣割れが15個以下
×(悪い):残渣割れが15個超
<Evaluation of residual crack suppression>
First, the paste was printed on a substrate in which 64 rows of electrode pads having a size of 1.5 × 0.25 mm were lined up at a pitch of 0.4 mm using a metal mask having a thickness of 0.15 mm.
Next, soldering was performed using a reflow oven (reflow peak temperature is 240 ° C.).
After reflow, it was left in a normal temperature environment for 24 hours or more. Then, the number of cracks in the flux residue existing between the pads was counted and evaluated according to the following.
〇 (Good): 15 or less residual cracks × (Bad): Over 15 residual cracks

各種情報をまとめて下表に示す。
ちなみに、前述のように、「イミド化されたマレイン酸変性ロジンまたはその水添物」は、対応するマレイン酸変性ロジンアミドも含む。
Various information is summarized in the table below.
Incidentally, as described above, the "imidized maleic acid-modified rosin or its hydrogenated product" also includes the corresponding maleic acid-modified rosin amide.

Figure 2022052939000005
Figure 2022052939000005

Figure 2022052939000006
Figure 2022052939000006

Figure 2022052939000007
Figure 2022052939000007

上表に示されるとおり、イミド化されたマレイン酸変性ロジンまたはその水添物を含むフラックスを用いてはんだ付けを行うことで、残渣割れを抑制することができた。 As shown in the above table, by soldering with a flux containing imidized maleic acid-modified rosin or its hydrogenated product, residual cracking could be suppressed.

<参考:液状フラックス>
上記では、イミド化されたマレイン酸変性ロジンまたはその水添物を含むフラックスを用いて「はんだペースト」を作製し、そのはんだペーストを用いてはんだ付けを行った。
一方、イミド化されたマレイン酸変性ロジンまたはその水添物を含むフラックスについては、フローはんだ付け用の液状フラックスとして用いることもできる。つまり、フラックスを基板にスプレー塗布し、溶融はんだを噴流により当てて接合するような用途において、本実施形態のフラックスを用いることも可能である。
下表は、このような「液状フラックス」の組成例である。
<Reference: Liquid flux>
In the above, a "solder paste" was prepared using a flux containing imidized maleic acid-modified rosin or a hydrogenated product thereof, and soldering was performed using the solder paste.
On the other hand, a flux containing imidized maleic acid-modified rosin or a hydrogenated product thereof can also be used as a liquid flux for flow soldering. That is, it is also possible to use the flux of the present embodiment in an application in which the flux is spray-applied to the substrate and the molten solder is applied by a jet to join them.
The table below is an example of the composition of such a "liquid flux".

Figure 2022052939000008
Figure 2022052939000008

Figure 2022052939000009
Figure 2022052939000009

Figure 2022052939000010
Figure 2022052939000010

本発明によれば、
イミド化されたマレイン酸変性ロジン、および、その水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第1ロジン化合物と、
マレイン酸変性ロジンアミドおよびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第2ロジン化合物と、
を含むフラックス用組成物を含む、はんだ合金をはんだ付けするためのフラックスであって、
前記第1ロジン化合物および前記第2ロジン化合物の合計量が、フラックス全体に対して、10質量%以上60質量%以下であるフラックス
が提供される。
According to the present invention
An imidized maleic acid-modified rosin and one or more first rosin compounds selected from the group consisting of hydrogenated products thereof .
One or more second rosin compounds selected from the group consisting of maleic acid-modified rosin amide and hydrogenated products thereof, and
A flux for soldering a solder alloy, which comprises a flux composition comprising.
The total amount of the first rosin compound and the second rosin compound is 10% by mass or more and 60% by mass or less with respect to the entire flux.
Is provided.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
以下、参考形態の例を付記する。
1. イミド化されたマレイン酸変性ロジン、および、その水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第1ロジン化合物を含むフラックス用組成物。
2. 1.に記載のフラックス用組成物であって、
前記第1ロジン化合物は、前掲の一般式(1-1)または(1-2)で表される部分構造を有する化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含むフラックス用組成物。
上記一般式中、*は、他の化学構造との結合手を表す。
3. 1.または2.に記載のフラックス用組成物であって、
前記第1ロジン化合物は、前掲の一般式(1a-1)または(1a-2)で表される化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含むフラックス用組成物。
上記一般式中、Rは各々独立して、直鎖または分岐のアルキル基、アルキレングリコール基、もしくは、末端変性ポリアルキレンオキシド基を表す。
4. 1.~3.のいずれか1つに記載のフラックス用組成物であって、
さらに、マレイン酸変性ロジンアミドおよびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第2ロジン化合物を含むフラックス用組成物。
5. 4.に記載のフラックス用組成物であって、
前記第2ロジン化合物は、前掲の一般式(2-1)、(2-2)、(3-1)または(3-2)で表される部分構造を有する化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含むフラックス用組成物。
上記一般式中、*は、他の化学構造との結合手を表す。
6. 4.または5.に記載のフラックス用組成物であって、
前記第2ロジン化合物は、前掲の一般式(2a-1)、(2a-2)、(3a-1)または(3a-2)で表される化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上を含むフラックス用組成物。
上記一般式中、Rは各々独立して、置換されていてもよい、直鎖若しくは分岐のアルキル基、アルキレングリコール基、又は末端変性ポリアルキレンオキシド基を表す。
7. 1.~6.のいずれか1つに記載のフラックス用組成物を含む、はんだ合金をはんだ付けするためのフラックス。
8. 7.に記載のフラックスであって、
さらにチキソトロピック剤を含むフラックス。
9. 7.または8.に記載のフラックスであって、
さらに、アミン、有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩、酸化防止剤および樹脂からなる群より選ばれる1または2以上を含むフラックス。
10. 7.~9.のいずれか1つに記載のフラックスと、はんだ合金と、を含むはんだペースト。
Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, and the like to the extent that the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.
Hereinafter, an example of the reference form will be added.
1. 1. A composition for a flux containing one or more first rosin compounds selected from the group consisting of imidized maleic acid-modified rosin and hydrogenated products thereof.
2. 2. 1. 1. The flux composition according to the above.
The first rosin compound contains one or more compounds selected from the group consisting of compounds having a partial structure represented by the above-mentioned general formula (1-1) or (1-2) and hydrogenated products thereof. Composition for flux.
In the above general formula, * represents a bond with another chemical structure.
3. 3. 1. 1. Or 2. The flux composition according to the above.
The first rosin compound is a flux composition containing one or more compounds selected from the group consisting of the compounds represented by the above-mentioned general formula (1a-1) or (1a-2) and hydrogenated products thereof. ..
In the above general formula, R independently represents a linear or branched alkyl group, an alkylene glycol group, or a terminally modified polyalkylene oxide group.
4. 1. 1. ~ 3. The flux composition according to any one of the above.
Further, a composition for a flux containing one or more second rosin compounds selected from the group consisting of maleic acid-modified rosin amide and hydrogenated products thereof.
5. 4. The flux composition according to the above.
The second rosin compound comprises a compound having a partial structure represented by the above-mentioned general formulas (2-1), (2-2), (3-1) or (3-2) and a hydrogenated product thereof. A composition for a flux containing one or more compounds selected from the group.
In the above general formula, * represents a bond with another chemical structure.
6. 4. Or 5. The flux composition according to the above.
The second rosin compound is selected from the group consisting of the compounds represented by the above-mentioned general formulas (2a-1), (2a-2), (3a-1) or (3a-2) and hydrogenated products thereof. A flux composition containing 1 or 2 or more.
In the above general formula, R represents a linear or branched alkyl group, an alkylene glycol group, or a terminally modified polyalkylene oxide group, which may be substituted independently of each other.
7. 1. 1. ~ 6. A flux for soldering a solder alloy, which comprises the flux composition according to any one of the above.
8. 7. The flux described in
Flux containing thixotropic agent.
9. 7. Or 8. The flux described in
Further, a flux containing one or more selected from the group consisting of amines, organic halogen compounds, amine hydrohalates, antioxidants and resins.
10. 7. ~ 9. A solder paste comprising the flux according to any one of the above and a solder alloy.

本発明によれば、
イミド化されたマレイン酸変性ロジン、および、その水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第1ロジン化合物と、
マレイン酸変性ロジンアミドおよびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第2ロジン化合物と、
を含むフラックス用組成物を含む、はんだ合金をはんだ付けするためのフラックスであって、
前記第1ロジン化合物および前記第2ロジン化合物の合計量が、フラックス全体に対して、10質量%以上60質量%以下であり、
前記第1ロジン化合物の分子量は700以下であり、前記第2ロジン化合物の分子量は700以下であるフラックス
が提供される。
According to the present invention
An imidized maleic acid-modified rosin and one or more first rosin compounds selected from the group consisting of hydrogenated products thereof.
One or more second rosin compounds selected from the group consisting of maleic acid-modified rosin amide and hydrogenated products thereof, and
A flux for soldering a solder alloy, which comprises a flux composition comprising.
The total amount of the first rosin compound and the second rosin compound is 10% by mass or more and 60% by mass or less with respect to the entire flux .
A flux is provided in which the first rosin compound has a molecular weight of 700 or less and the second rosin compound has a molecular weight of 700 or less .

Claims (10)

イミド化されたマレイン酸変性ロジン、および、その水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第1ロジン化合物を含むフラックス用組成物。 A composition for a flux containing one or more first rosin compounds selected from the group consisting of imidized maleic acid-modified rosin and hydrogenated products thereof. 請求項1に記載のフラックス用組成物であって、
前記第1ロジン化合物は、以下一般式(1-1)または(1-2)で表される部分構造を有する化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含むフラックス用組成物。
Figure 2022052939000011
上記一般式中、*は、他の化学構造との結合手を表す。
The flux composition according to claim 1.
The first rosin compound is a flux containing one or more compounds selected from the group consisting of compounds having a partial structure represented by the following general formula (1-1) or (1-2) and hydrogenated products thereof. Composition for.
Figure 2022052939000011
In the above general formula, * represents a bond with another chemical structure.
請求項1または2に記載のフラックス用組成物であって、
前記第1ロジン化合物は、以下一般式(1a-1)または(1a-2)で表される化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含むフラックス用組成物。
Figure 2022052939000012
上記一般式中、Rは各々独立して、直鎖または分岐のアルキル基、アルキレングリコール基、もしくは、末端変性ポリアルキレンオキシド基を表す。
The flux composition according to claim 1 or 2.
The first rosin compound is a flux composition containing one or more compounds selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (1a-1) or (1a-2) and hydrogenated products thereof.
Figure 2022052939000012
In the above general formula, R independently represents a linear or branched alkyl group, an alkylene glycol group, or a terminally modified polyalkylene oxide group.
請求項1~3のいずれか1項に記載のフラックス用組成物であって、
さらに、マレイン酸変性ロジンアミドおよびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の第2ロジン化合物を含むフラックス用組成物。
The flux composition according to any one of claims 1 to 3.
Further, a composition for a flux containing one or more second rosin compounds selected from the group consisting of maleic acid-modified rosin amide and hydrogenated products thereof.
請求項4に記載のフラックス用組成物であって、
前記第2ロジン化合物は、以下一般式(2-1)、(2-2)、(3-1)または(3-2)で表される部分構造を有する化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上の化合物を含むフラックス用組成物。
Figure 2022052939000013
上記一般式中、*は、他の化学構造との結合手を表す。
The flux composition according to claim 4.
The second rosin compound is a group consisting of a compound having a partial structure represented by the following general formulas (2-1), (2-2), (3-1) or (3-2) and a hydrogenated product thereof. A composition for a flux containing one or more compounds selected from the above.
Figure 2022052939000013
In the above general formula, * represents a bond with another chemical structure.
請求項4または5に記載のフラックス用組成物であって、
前記第2ロジン化合物は、以下一般式(2a-1)、(2a-2)、(3a-1)または(3a-2)で表される化合物およびその水添物からなる群より選ばれる1または2以上を含むフラックス用組成物。
Figure 2022052939000014
上記一般式中、Rは各々独立して、置換されていてもよい、直鎖若しくは分岐のアルキル基、アルキレングリコール基、又は末端変性ポリアルキレンオキシド基を表す。
The flux composition according to claim 4 or 5.
The second rosin compound is selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (2a-1), (2a-2), (3a-1) or (3a-2) and hydrogenated products thereof1 Or a composition for flux containing 2 or more.
Figure 2022052939000014
In the above general formula, R represents a linear or branched alkyl group, an alkylene glycol group, or a terminally modified polyalkylene oxide group, which may be substituted independently of each other.
請求項1~6のいずれか1項に記載のフラックス用組成物を含む、はんだ合金をはんだ付けするためのフラックス。 A flux for soldering a solder alloy, which comprises the flux composition according to any one of claims 1 to 6. 請求項7に記載のフラックスであって、
さらにチキソトロピック剤を含むフラックス。
The flux according to claim 7.
Flux containing thixotropic agent.
請求項7または8に記載のフラックスであって、
さらに、アミン、有機ハロゲン化合物、アミンハロゲン化水素酸塩、酸化防止剤および樹脂からなる群より選ばれる1または2以上を含むフラックス。
The flux according to claim 7 or 8.
Further, a flux containing one or more selected from the group consisting of amines, organic halogen compounds, amine hydrohalogenates, antioxidants and resins.
請求項7~9のいずれか1項に記載のフラックスと、はんだ合金と、を含むはんだペースト。 A solder paste containing the flux according to any one of claims 7 to 9 and a solder alloy.
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