JP2022051291A - Vacuum lamination apparatus and method for manufacturing laminate - Google Patents

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Tomoyo Sawada
隆博 森
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Abstract

To provide a vacuum lamination apparatus capable of reducing components necessary for taking vacuum measures to perform alignment and lamination, and a method for manufacturing a laminate.SOLUTION: A vacuum lamination apparatus 100 includes: a conveyance plate 1 for holding a work piece W; alignment means 30 for positioning the work piece W held on the conveyance plate 1 while fixing and supporting the conveyance plate 1; lamination means 50 for laminating the positioned work piece W in a vacuum; and conveyance means 40 for conveying the work piece W from the alignment means 30 to the lamination means 50 while fixing and supporting the conveyance plate 1 in the state of holding the work piece W on the conveyance plate 1. The conveyance plate 1 is attachable to/detachable from the alignment means 30 and the conveyance means 40; the work piece W is electrostatically fixed on one side thereof; the conveyance means 40 is magnetically fixed on the other side; and thereby, components necessary for taking vacuum measures are reduced to perform alignment and lamination.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、特に、着脱可能な搬送板を備える真空積層装置及び積層体の製造方法に関する。 The present invention particularly relates to a vacuum laminating apparatus provided with a removable transport plate and a method for manufacturing a laminated body.

真空積層装置は、電子部品を構成する複数枚のワークを積層するものであり、アライメント手段と、積層手段とを備える。このアライメント手段は、積層手段によってワークが積層される前に、各ワークの位置合わせを行うことより、形成される積層体の各ワーク同士のずれを抑制している。また、積層手段は、ワークの積層動作を行う際、真空下において積層することにより、ワークの層間への空気の混入を防止している。このような真空下において、ワークを吸着固定させるために、例えば、帯電固定などの負圧吸引以外の手段が採用されている。 The vacuum laminating device stacks a plurality of workpieces constituting an electronic component, and includes an alignment means and a laminating means. This alignment means aligns the works before the works are laminated by the laminating means, thereby suppressing the displacement between the works of the formed laminated body. Further, the laminating means prevents air from being mixed between the layers of the work by laminating under vacuum when laminating the work. In order to adsorb and fix the work under such a vacuum, a means other than negative pressure suction such as charge fixing is adopted.

ここで、特許文献1には、真空積層装置であって、真空チャンバー内に、帯電手段と、アライメント手段と、を備え、一方のワークを帯電手段に帯電固定させるとともに、他方のワークをアライメント手段に載置し、真空下とした真空チャンバー内において、アライメント動作や積層動作を行うものが記載されている。 Here, Patent Document 1 is a vacuum stacking device, which comprises a charging means and an alignment means in a vacuum chamber, one work is charged and fixed to the charging means, and the other work is aligned. It is described that the alignment operation and the laminating operation are performed in the vacuum chamber placed in the vacuum chamber under vacuum.

特開2013-167712号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-167712

しかしながら、特許文献1において、多数の部品から構成される帯電手段及びアライメント手段に対して、シール性や摺動性などを維持する真空対策を施すことにより、コストの増加が引き起こされるおそれがあった。 However, in Patent Document 1, there is a possibility that an increase in cost may be caused by taking a vacuum measure for maintaining sealing property, slidability, etc. for the charging means and the alignment means composed of a large number of parts. ..

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、真空対策を施す必要がある部品を少なくし、アライメント動作及び積層動作を行うことができる真空積層装置及び積層体の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and provides a vacuum laminating apparatus and a method for manufacturing a laminated body capable of performing an alignment operation and a laminating operation by reducing the number of parts requiring vacuum countermeasures. The purpose is to do.

上記課題を解決するために、本発明の複数のワークを順次積層する真空積層装置であって、前記ワークを保持する搬送板と、前記搬送板を固定支持しつつ、前記搬送板に保持された前記ワークの位置合わせを行うアライメント手段と、真空下において、位置合せされた前記ワークを積層ステージ上に積層する積層手段と、前記アライメント手段と前記積層手段との間を移動し、前記ワークが前記搬送板に保持された状態において、前記搬送板を固定支持しつつ、前記アライメント手段から前記積層手段へと前記ワークを搬送する搬送手段と、を備え、前記搬送板は、前記アライメント手段及び前記搬送手段のそれぞれと着脱可能であり、一側に前記ワークを帯電固定し、他側が前記搬送手段と磁気固定されるものである。 In order to solve the above problems, it is a vacuum laminating device for sequentially laminating a plurality of workpieces of the present invention, and is held by the transport plate while fixing and supporting the transport plate that holds the work and the transport plate. The work is moved between the alignment means for aligning the work, the laminating means for laminating the aligned work on the laminating stage under vacuum, and the alignment means and the laminating means, and the work is said. In a state of being held by the transport plate, the transport plate is provided with a transport means for transporting the work from the alignment means to the stacking means while fixedly supporting the transport plate, and the transport plate includes the alignment means and the transport. It is removable from each of the means, and the work is charged and fixed on one side, and the other side is magnetically fixed to the transport means.

また、上記真空積層装置であって、前記搬送板は、磁性体で構成されるとともに、前記搬送板の一側には、絶縁体が設けられているものとしてもよい。 Further, in the vacuum laminating device, the transport plate may be made of a magnetic material and an insulator may be provided on one side of the transport plate.

また、上記真空積層装置であって、前記搬送板は、粘着性を有する前記ワークの第1面とは反対側にする非粘着性の第2面を帯電固定するものとしてもよい。 Further, in the vacuum laminating device, the transport plate may be charged and fixed on a non-adhesive second surface which is opposite to the first surface of the work having adhesiveness.

また、上記真空積層装置であって、前記アライメント手段は、アライメントステージと、前記アライメントステージ上に設置ブロックとを備え、前記搬送板は、前記ワークと前記アライメントステージとが非接触状態となるように、前記設置ブロックに載置されるものとしてもよい。 Further, in the vacuum laminating device, the alignment means includes an alignment stage and an installation block on the alignment stage, and the transport plate is such that the work and the alignment stage are in a non-contact state. , May be placed on the installation block.

また、上記真空積層装置であって、前記搬送手段を前記積層手段に当接させて、密閉空間を形成するとともに、真空下とした前記密閉空間内において、前記搬送手段により、前記搬送板を移動させて、前記ワークを積層するものとしてもよい。 Further, in the vacuum stacking device, the transport means is brought into contact with the stacking means to form a closed space, and the transport plate is moved by the transport means in the closed space under vacuum. The work may be laminated.

また、上記真空積層装置であって、搬送板回収手段をさらに備え、前記搬送板回収手段は、前記搬送板に対して除電を行って前記ワークから前記搬送板を剥離可能とし、前記搬送板を回収するものとしてもよい。 Further, the vacuum laminating device is further provided with a transport plate collecting means, and the transport plate collecting means can remove static electricity from the transport plate so that the transport plate can be peeled off from the work, and the transport plate can be removed. It may be collected.

上記課題を解決するために、本発明の複数のワークを順次積層する積層体の製造方法であって、搬送板の一側に前記ワークを帯電固定するステップと、前記搬送板をアライメントステージに固定支持した状態で、前記搬送板に帯電固定された前記ワークの位置合わせを行うステップと、前記搬送板の一側に前記ワークを帯電固定した状態で、前記搬送板の他側を磁気固定し、前記アライメントステージから積層ステージへと、位置合せされた前記ワークを搬送するステップと、真空下において、前記積層ステージ上に位置合せされた前記ワークを積層するステップと、を備えるものである。 In order to solve the above problems, it is a method of manufacturing a laminated body in which a plurality of works of the present invention are sequentially laminated, in which a step of charging and fixing the work on one side of a transport plate and fixing the transport plate to an alignment stage. In the supported state, the step of aligning the work charged and fixed to the transport plate, and with the work charged and fixed to one side of the transport plate, the other side of the transport plate is magnetically fixed. It includes a step of transporting the aligned work from the alignment stage to the laminating stage, and a step of laminating the aligned work on the laminating stage under vacuum.

また、上記積層体の製造方法であって、前記ワークを搬送するステップは、上壁及び側壁を有する真空チャンバー内に、前記搬送板を磁気固定させるものであり、前記真空チャンバーを前記積層ステージに当接させることにより、密閉空間を形成するものとしてもよい。 Further, in the method for manufacturing the laminated body, the step of transporting the work is to magnetically fix the transport plate in a vacuum chamber having an upper wall and a side wall, and the vacuum chamber is transferred to the laminated stage. By abutting them, a closed space may be formed.

本発明によれば、真空対策を施す必要がある部品を少なくし、アライメント動作及び積層動作を行うことができる真空積層装置及び積層体の製造方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a vacuum laminating apparatus and a method for manufacturing a laminated body capable of performing an alignment operation and a laminating operation by reducing the number of parts requiring vacuum countermeasures.

本発明の実施形態に係る真空積層装置を示す平面模式図である。It is a plane schematic diagram which shows the vacuum stacking apparatus which concerns on embodiment of this invention. 図1に示される真空積層装置をXZ平面において切断した断面模式図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the vacuum laminating apparatus shown in FIG. 1 cut in an XZ plane. ワークの積層工程における帯電動作からアライメント動作までを説明する断面模式図であり、(a)帯電動作、(b)保護層の剥離及び反転ユニットによる反転動作、(c)反転ユニットによる搬送動作、(d)アライメント動作、をそれぞれ表す。It is sectional drawing which explains from the charging operation to the alignment operation in the work laminating process. d) Alignment operation, respectively. ワークの積層工程における搬送ユニットによる搬送動作を説明する断面模式図であり、(a)搬送準備状態、(b)搬送板の磁気固定状態、(c)アライメントステージからの離間状態、(d)積層ステージへの当接状態、をそれぞれ表す。It is sectional drawing which explains the transport operation by the transport unit in the work laminating process, (a) transport preparation state, (b) magnetic fixation state of a transport plate, (c) separation state from an alignment stage, (d) stacking. Each represents the state of contact with the stage. ワークの積層工程における真空下の積層動作を説明する断面模式図であり、(a)真空引き状態、(b)積層状態、(c)引き剥がしピストンの伸張状態、(d)搬送板の磁気固定解除状態、(e)引き剥がしピストンの縮めた状態、をそれぞれ表す。It is sectional drawing which explains the laminating operation under vacuum in the laminating process of a work, (a) a vacuum drawing state, (b) a laminating state, (c) an extension state of a peeling piston, (d) magnetic fixing of a transport plate. It represents the released state and (e) the retracted state of the peeling piston. ワークの積層工程における搬送板の回収動作を説明する断面模式図(a)-(c),(e)、及び、平面模式図(d)であり、(a)大気開放状態、(b)搬送ユニットの積層ステージから離間状態、(c),(d)搬送板の回収動作、(e)搬送板の回収動作終了状態、をそれぞれ表す。FIG. 2A is a schematic cross-sectional view (a)-(c), (e) and a schematic plan view (d) for explaining the recovery operation of the transport plate in the work laminating process, (a) open to the atmosphere, and (b) transport. The state of being separated from the stacking stage of the unit, (c) and (d) the recovery operation of the transport plate, and (e) the recovery operation of the transport plate are completed.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下に説明する実施形態は、本発明を具体的に実現した形態を例示するものである。よって、本発明が適用される装置の構成や各種条件によって、以下に説明される実施形態の構成は適宜修正又は変更されるべきものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The embodiments described below exemplify embodiments in which the present invention is specifically realized. Therefore, the configuration of the embodiments described below should be appropriately modified or changed depending on the configuration of the apparatus to which the present invention is applied and various conditions, and the present invention is not limited to the following embodiments. do not have.

<用語について>
本明細書および特許請求の範囲の記載において、各用語を以下のように定義する。「積層」とは、複数枚(2枚も含む)の貼り合わせを示す。「積層体」とは、複数枚(2枚も含む)のワークWを貼り合わせたものを示す。「XYθ軸への移動」とは、X軸方向及びY軸方向への移動とθ方向への回動を示す。
<Terminology>
In the description of the present specification and claims, each term is defined as follows. "Laminating" refers to laminating a plurality of sheets (including two sheets). The “laminated body” refers to a structure in which a plurality of (including two) work Ws are bonded together. “Movement in the XYθ axis” means movement in the X-axis direction and the Y-axis direction and rotation in the θ direction.

図1は、本発明の実施形態に係る真空積層装置100を示す平面模式図であり、図2は、図1に示される真空積層装置100をXZ平面において切断した断面模式図である。ここで、X軸方向は、ワークWに対する各処理工程が実施される際にワークWが移動する方向を示すものであり、Y軸方向は、X軸方向と直交する方向を示すものである。また、Z軸方向は、X軸方向及びY軸方向と直交し、かつ、ワークWに対する各処理工程が実施される際にワークWが面する方向を示すものである。 FIG. 1 is a schematic plan view showing a vacuum stacking device 100 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the vacuum stacking device 100 shown in FIG. 1 cut in an XZ plane. Here, the X-axis direction indicates the direction in which the work W moves when each processing step for the work W is performed, and the Y-axis direction indicates a direction orthogonal to the X-axis direction. Further, the Z-axis direction is orthogonal to the X-axis direction and the Y-axis direction, and indicates the direction in which the work W faces when each processing step for the work W is performed.

<真空積層装置について>
真空積層装置100は、電子部品の薄化された各種基板である複数のワークWを高精度かつ高速に積層するものである。この真空積層装置100は、搬送板1と、反転ユニット(反転手段)10と、帯電ユニット(帯電手段)20と、アライメントユニット(アライメント手段)30と、搬送ユニット(搬送手段)40と、積層ユニット(積層手段)50と、搬送板回収ユニット(搬送板回収手段)60と、を備える。以下、それらを順に説明する。なお、真空積層装置100は、反転ユニット10、帯電ユニット20、アライメントユニット30、搬送ユニット40、積層ユニット50、及び、搬送板回収ユニット60の駆動などを制御する制御手段(不図示)をさらに備える。
<Vacuum laminating device>
The vacuum laminating device 100 stacks a plurality of work Ws, which are various thinned substrates of electronic components, with high accuracy and high speed. The vacuum laminating device 100 includes a transport plate 1, a reversing unit (reversing means) 10, a charging unit (charging means) 20, an alignment unit (alignment means) 30, a transport unit (conveying means) 40, and a laminating unit. (Laminating means) 50 and a transport plate recovery unit (transport plate recovery means) 60 are provided. Hereinafter, they will be described in order. The vacuum stacking device 100 further includes control means (not shown) for controlling driving of the reversing unit 10, the charging unit 20, the alignment unit 30, the transport unit 40, the stacking unit 50, and the transport plate recovery unit 60. ..

本実施形態において、ワークWは、図3(a)に示すように、片面側(第1面)に粘着層a及びこの粘着層aに埃等が付着することを防ぐ保護層pを設けるものを用いている。しかしながら、これに限らず、例えば、両面側に粘着層a及び保護層pを設けるものや、いずれの面にも粘着層a及び保護層pを設けないものなど、様々な様態のワークWを用いることができる。 In the present embodiment, as shown in FIG. 3A, the work W is provided with an adhesive layer a on one side (first surface) and a protective layer p for preventing dust or the like from adhering to the adhesive layer a. Is used. However, the work W is not limited to this, and various modes of work W are used, such as those provided with the adhesive layer a and the protective layer p on both sides, and those not provided with the adhesive layer a and the protective layer p on any surface. be able to.

<搬送板について>
搬送板1は、Z軸方向から見て、ワークWがはみ出さないように載置可能とするように設定された略矩形形状を有し、鉄系及びSUS440などの磁性体から構成される。また、搬送板1の表面である一側1a(図3(a)参照)における、少なくともワークWが載置される領域には、絶縁体(不図示)、例えば、シリコンゴム等のシリコン系材料が設けられる。この絶縁体を介して、搬送板1の一側1aには、ワークWが帯電固定される。一方、一側1aとは反対側に位置する搬送板1の裏面である他側1b(図3(a)参照)は、搬送板チャック42(図4(b)参照)によって磁気固定される。
<About the transport plate>
The transport plate 1 has a substantially rectangular shape set so that the work W can be placed so as not to protrude when viewed from the Z-axis direction, and is composed of an iron-based material and a magnetic material such as SUS440. Further, on one side 1a (see FIG. 3A), which is the surface of the transport plate 1, at least the region where the work W is placed is an insulator (not shown), for example, a silicon-based material such as silicon rubber. Is provided. The work W is charged and fixed to one side 1a of the transport plate 1 via this insulator. On the other hand, the other side 1b (see FIG. 3A), which is the back surface of the transport plate 1 located on the side opposite to the one side 1a, is magnetically fixed by the transport plate chuck 42 (see FIG. 4B).

本実施形態の搬送板1は、磁性体から構成され、一側1aに、絶縁体が設けられることにより、同一の搬送板1に対して、異なる固定手段(搬送板1の一側1aに帯電固定、及び、搬送板1の他側1bに磁気固定)を適用することができる。また、本実施形態において、搬送板1を、各ユニット(反転ユニット10、アライメントユニット30、搬送ユニット40)に対して着脱可能とすることにより、ワークWが、搬送板1を介して、各ユニットへと移動することができる。このように、各ユニットを物理的に分けることができるため、特許文献1のように、真空チャンバー内に、帯電ユニット及びアライメントユニットを配置するのではなく、ワークWが帯電固定される搬送板1のみを配置することができる。これにより、真空対策を施す必要がある部材を少なくし、アライメント動作及び積層動作を行うことができる。 The transport plate 1 of the present embodiment is made of a magnetic material, and by providing an insulator on one side 1a, different fixing means (one side 1a of the transport plate 1 are charged) with respect to the same transport plate 1. Fixing and magnetic fixing to the other side 1b of the transport plate 1) can be applied. Further, in the present embodiment, by making the transport plate 1 removable from each unit (reversing unit 10, alignment unit 30, transport unit 40), the work W can be attached to each unit via the transport plate 1. You can move to. Since each unit can be physically separated in this way, the transfer plate 1 in which the work W is charged and fixed, instead of arranging the charging unit and the alignment unit in the vacuum chamber as in Patent Document 1. Can only be placed. As a result, the number of members that need to take measures against vacuum can be reduced, and the alignment operation and the laminating operation can be performed.

<反転ユニットについて>
反転ユニット10は、反転ステージ11と、反転ユニット10のX軸方向(矢印III方向:帯電・反転位置A、アライメントステージ位置B)の移動、Z軸方向(矢印IV方向)への移動、及び、Y軸周り(矢印II方向)への回転を行う反転ユニット駆動機構(不図示)と、を備える。反転ステージ11は、反転ステージ11上に搬送板1を載置した状態で固定する搬送板固定機構(不図示)を備える。この搬送板固定機構は、反転ステージ11上に設ける複数の吸着ポートによる真空吸着、メカチャック及び磁力など、又は、これらの組み合わせから構成してもよい。なお、搬送板固定機構による保持力は、搬送板1を固定した反転ステージ11が反転した際に、反転ステージ11から搬送板1が落下しないような値に予め設定されている。
<About the reversing unit>
The reversing unit 10 moves the reversing stage 11 and the reversing unit 10 in the X-axis direction (arrow III direction: charging / reversing position A, alignment stage position B), moves in the Z-axis direction (arrow IV direction), and A reversing unit drive mechanism (not shown) that rotates around the Y axis (direction of arrow II) is provided. The reversing stage 11 includes a transport plate fixing mechanism (not shown) for fixing the transport plate 1 in a state of being placed on the reversing stage 11. This transport plate fixing mechanism may be configured by vacuum suction by a plurality of suction ports provided on the reversing stage 11, a mechanical chuck, a magnetic force, or a combination thereof. The holding force by the transport plate fixing mechanism is set in advance to a value such that the transport plate 1 does not fall from the reverse stage 11 when the reversing stage 11 fixing the transport plate 1 is inverted.

<帯電ユニットについて>
帯電ユニット20は、荷電粒子cを照射する荷電粒子照射部21と、帯電ユニット20のX軸方向(矢印I方向)への移動を行う帯電ユニット駆動機構(不図示)と、を備え、反転ユニット10のZ軸方向の上方に配置されている。荷電粒子照射部21は、荷電粒子cを鉛直方向下側に照射するものであり、例えば、陰イオンや陽イオンを照射するイオナイザであってもよい。この荷電粒子照射部21は、図1に示すように、Y軸方向において、反転ステージ11を覆うように延在する。
<About the charging unit>
The charging unit 20 includes a charged particle irradiating unit 21 that irradiates the charged particles c, and a charging unit driving mechanism (not shown) that moves the charging unit 20 in the X-axis direction (arrow I direction), and is an inversion unit. It is arranged above the 10 in the Z-axis direction. The charged particle irradiating unit 21 irradiates the charged particles c downward in the vertical direction, and may be, for example, an ionizer that irradiates anions or cations. As shown in FIG. 1, the charged particle irradiation unit 21 extends so as to cover the inversion stage 11 in the Y-axis direction.

<アライメントユニットについて>
アライメントユニット30は、アライメントステージ31と、アライメントステージ31上に設けられる設置ブロック32と、アライメントステージ31のXYθ軸への移動を行うXYθ軸電動アクチュエータ33と、を備える。さらに、アライメントユニット30は、ワークWの位置合わせ参照用のマークであるアライメントマークを下方より撮像するアライメント撮像ユニット34を備える。以下、それらを順に説明する。
<About the alignment unit>
The alignment unit 30 includes an alignment stage 31, an installation block 32 provided on the alignment stage 31, and an XYθ-axis electric actuator 33 for moving the alignment stage 31 to the XYθ-axis. Further, the alignment unit 30 includes an alignment imaging unit 34 that captures an alignment mark, which is a mark for alignment reference of the work W, from below. Hereinafter, they will be described in order.

アライメントステージ31は、アライメントステージ31の各角部から中心部に向かって延在し、透明な部材からなる複数の窓部(不図示)と、を備える。 The alignment stage 31 includes a plurality of windows (not shown) extending from each corner of the alignment stage 31 toward the center and made of a transparent member.

設置ブロック32は、Z軸方向からみて、アライメントステージ31の中心に対して、点対称となるように、アライメントステージ31上の外周縁に沿って、複数配置されている。また、設置ブロック32は、上面に、搬送板1を真空吸着させる複数の吸着ポート(不図示)を備える。本実施形態における設置ブロック32は、アライメントステージ31の中心に対して、点対称となるように複数配置されるものであるが、これに限らず、アライメントステージ31上の外周縁を全て囲むように設けてもよい。 A plurality of installation blocks 32 are arranged along the outer peripheral edge on the alignment stage 31 so as to be point-symmetrical with respect to the center of the alignment stage 31 when viewed from the Z-axis direction. Further, the installation block 32 is provided with a plurality of suction ports (not shown) on the upper surface for vacuum suctioning the transport plate 1. A plurality of installation blocks 32 in the present embodiment are arranged so as to be point-symmetrical with respect to the center of the alignment stage 31, but the present invention is not limited to this, and all the outer peripheral edges on the alignment stage 31 are surrounded. It may be provided.

XYθ軸電動アクチュエータ33は、ワークWを基準位置へと位置合わせするために、XYθ軸への移動、つまり、XY平面内における移動及び回動を行うことができる。 The XYθ axis electric actuator 33 can move to the XYθ axis, that is, move and rotate in the XY plane in order to align the work W with the reference position.

アライメント撮像ユニット34は、アライメント用カメラ(不図示)及びアライメント用照明(不図示)を備えるものであり、複数の窓部を介して、アライメントステージ31の下方からワークWのアライメントマークを撮像する。 The alignment image pickup unit 34 includes an alignment camera (not shown) and an alignment illumination (not shown), and images the alignment mark of the work W from below the alignment stage 31 through a plurality of windows.

<搬送ユニットについて>
搬送ユニット40は、真空チャンバー41と、搬送板チャック42と、搬送ユニット40のX軸方向(矢印V方向:アライメントステージ位置B、待機位置C,積層ステージ位置D)及びZ軸方向(矢印IV及びVI方向)への移動を行う搬送ユニット駆動機構(不図示)と、を備える。以下、それらを順に説明する。
<About the transport unit>
The transfer unit 40 includes a vacuum chamber 41, a transfer plate chuck 42, an X-axis direction (arrow V direction: alignment stage position B, standby position C, stacking stage position D) and a Z-axis direction (arrow IV and arrow IV) of the transfer unit 40. A transport unit drive mechanism (not shown) for moving in the VI direction) is provided. Hereinafter, they will be described in order.

真空チャンバー41は、略矩形形状の上壁41tと、上壁41tの各外周縁を連続的に囲むように垂下する周壁41sと、を備える。 The vacuum chamber 41 includes a substantially rectangular upper wall 41t and a peripheral wall 41s that hangs down so as to continuously surround each outer peripheral edge of the upper wall 41t.

真空チャンバー41の上壁41tには、昇降ピストン43と、一対のガイドシャフト部44と、一対の引き剥がしピストン45とから構成され、真空チャンバー41内における駆動をになう駆動機構が設けられる。まず、昇降ピストン43は、下端が搬送板チャック42に固定されており、Z軸方向に縮んだ待機状態と、Z軸方向(矢印VII方向)に伸張した伸張状態との間を伸縮することにより、搬送板チャック42をZ軸方向(矢印VII方向)に移動させる。また、一対のガイドシャフト部44は、下端が搬送板チャック42にそれぞれ固定されており、昇降ピストン43がZ軸方向に伸縮する際に、搬送板チャック42の水平度を維持するために、昇降ピストン43に同期して伸縮する。さらに、一対の引き剥がしピストン45は、Z軸方向に縮んだ待機状態と、搬送板チャック42の貫通孔42hを介して、Z軸方向(矢印VIII方向)に伸張した移動規制状態との間を伸縮する。なお、この一対の引き剥がしピストン45が、Z軸方向(矢印VIII方向)に伸張した移動規制状態においては、引き剥がしピストン45の下端が、搬送板チャック42の下面と面一となるように設定されている(図5(c)参照)。 The upper wall 41t of the vacuum chamber 41 is composed of an elevating piston 43, a pair of guide shaft portions 44, and a pair of peeling pistons 45, and is provided with a drive mechanism for driving in the vacuum chamber 41. First, the lower end of the elevating piston 43 is fixed to the transport plate chuck 42, and the elevating piston 43 expands and contracts between a standby state contracted in the Z-axis direction and an extended state extended in the Z-axis direction (arrow VII direction). , The transport plate chuck 42 is moved in the Z-axis direction (arrow VII direction). Further, the lower ends of the pair of guide shaft portions 44 are fixed to the transport plate chuck 42, respectively, and when the elevating piston 43 expands and contracts in the Z-axis direction, the pair of guide shaft portions 44 elevates and lowers in order to maintain the levelness of the transport plate chuck 42. It expands and contracts in synchronization with the piston 43. Further, the pair of peeling pistons 45 are between a standby state contracted in the Z-axis direction and a movement restricted state extended in the Z-axis direction (arrow VIII direction) through the through hole 42h of the transport plate chuck 42. It expands and contracts. In the movement restricted state in which the pair of peeling pistons 45 are extended in the Z-axis direction (arrow VIII direction), the lower end of the peeling piston 45 is set to be flush with the lower surface of the transport plate chuck 42. (See FIG. 5 (c)).

本実施形態において、昇降ピストン43及び一対の引き剥がしピストン45は、例えば、エアシリンダや油圧シリンダなどにより伸縮自在に構成される。また、本実施形態の真空チャンバー41内の駆動機構は、シール部材を介在させるガイドブロック構造を採用するものであり、これにより、真空チャンバー41の内部空間と外部空間とが、駆動機構を介して流体連通することを防止している。なお、本実施形態における真空チャンバー41内の駆動機構の配置や個数は、単なる例示にすぎず、最適な配置や個数を適宜選択することができる。 In the present embodiment, the elevating piston 43 and the pair of peeling pistons 45 are configured to be expandable and contractible by, for example, an air cylinder or a hydraulic cylinder. Further, the drive mechanism in the vacuum chamber 41 of the present embodiment adopts a guide block structure in which a seal member is interposed, whereby the internal space and the external space of the vacuum chamber 41 are connected via the drive mechanism. Prevents fluid communication. The arrangement and number of drive mechanisms in the vacuum chamber 41 in the present embodiment are merely examples, and the optimum arrangement and number can be appropriately selected.

真空チャンバー41の周壁41sの下端には、Z軸方向の下方から見て、閉じた領域を形成するようにシール部材(不図示)が連続して設けられる。この真空チャンバー41のシール部材を、積層ステージ51上に当接及び密着させることにより、真空チャンバー41の内部空間を密閉状態に維持することができる(図4(d)参照)。 A sealing member (not shown) is continuously provided at the lower end of the peripheral wall 41s of the vacuum chamber 41 so as to form a closed region when viewed from below in the Z-axis direction. By abutting and bringing the seal member of the vacuum chamber 41 into contact with and in close contact with the laminated stage 51, the internal space of the vacuum chamber 41 can be maintained in a sealed state (see FIG. 4D).

搬送板チャック42は、Z軸方向から見て、搬送板1がはみ出さないように保持可能とするように設定された略矩形形状を有し、一対の貫通孔42hと、複数の磁力部42mと、を備える。この一対の貫通孔42hは、引き剥がしピストン45と対応する位置に配置され、引き剥がしピストン45が非接触状態で挿通し得るように、貫通孔42hの直径が、引き剥がしピストン45の直径より大きく設定されている。また、複数の磁力部42mは、搬送板1を搬送板チャック42に磁気固定するためのものであり、永久磁石からなる。 The transport plate chuck 42 has a substantially rectangular shape set so that the transport plate 1 can be held so as not to protrude when viewed from the Z-axis direction, and has a pair of through holes 42h and a plurality of magnetic force portions 42m. And. The pair of through holes 42h are arranged at positions corresponding to the peeling piston 45, and the diameter of the through holes 42h is larger than the diameter of the peeling piston 45 so that the peeling piston 45 can be inserted in a non-contact state. It is set. Further, the plurality of magnetic force portions 42m are for magnetically fixing the transport plate 1 to the transport plate chuck 42, and are composed of permanent magnets.

本実施形態の搬送板チャック42は、引き剥がしピストン45のZ軸方向の伸縮を許容するように、貫通孔42hを有するものであるが、これに限らず、例えば、搬送板チャック42の外周縁に連続する切り欠き部を設けてもよい。また、本実施形態の磁力部42mは、永久磁石からなるが、これに限らず、例えば、制御手段からの指示により、ON・OFF制御を行う電磁石を用いても良い。なお、本実施形態の搬送板チャック42における貫通孔42h及び磁力部42mの配置や個数は、単なる例示にすぎず、最適な配置や個数を適宜選択することができる。 The transport plate chuck 42 of the present embodiment has a through hole 42h so as to allow expansion and contraction of the peeling piston 45 in the Z-axis direction, but the present invention is not limited to this, and for example, the outer peripheral edge of the transport plate chuck 42. May be provided with a continuous notch. Further, the magnetic force portion 42m of the present embodiment is made of a permanent magnet, but the present invention is not limited to this, and for example, an electromagnet that performs ON / OFF control according to an instruction from the control means may be used. The arrangement and number of the through holes 42h and the magnetic force portion 42m in the transport plate chuck 42 of the present embodiment are merely examples, and the optimum arrangement and number can be appropriately selected.

搬送ユニット駆動機構は、搬送ユニット40を、X軸方向(矢印V方向:アライメントステージ位置B、待機位置C,積層ステージ位置D)及びZ軸方向(矢印IV及びVI方向)へと移動させることができる。特に、搬送ユニット駆動機構が、搬送ユニット40を、Z軸方向(矢印IV及びVI方向)へと移動させることにより、搬送板1の回収(図4(b)及び図4(c)参照)や、真空引きに用いられる密閉空間の形成(図4(d)参照)などを行うことができるが、詳細は後述する。 The transport unit drive mechanism may move the transport unit 40 in the X-axis direction (arrow V direction: alignment stage position B, standby position C, stacking stage position D) and in the Z-axis direction (arrow IV and VI directions). can. In particular, the transport unit drive mechanism moves the transport unit 40 in the Z-axis direction (arrows IV and VI directions) to recover the transport plate 1 (see FIGS. 4 (b) and 4 (c)). , The formation of a closed space used for evacuation (see FIG. 4D) can be performed, but the details will be described later.

<積層ユニットについて>
積層ユニット50は、ワークWが積層される積層ステージ51を備える。この積層ステージ51は、Z軸方向から見て、搬送ユニット40の真空チャンバー41がはみ出さないように設置可能とするように設定された略矩形形状を有し、真空チャンバー41の周壁41sが積層ステージ51上に着座することにより、密閉空間が形成される。また、積層ステージ51は、真空チャンバー41及び積層ステージ51により形成される密閉空間を、真空引き及び大気開放するための排気ポート(不図示)及び開放ポート(不図示)を備える。さらに、積層ステージ51は、積層ステージ51上にワークWを載置した状態で固定するワーク固定機構(不図示)を備える。
<About the laminated unit>
The laminating unit 50 includes a laminating stage 51 on which the work W is laminated. The laminated stage 51 has a substantially rectangular shape set so that the vacuum chamber 41 of the transport unit 40 can be installed so as not to protrude when viewed from the Z-axis direction, and the peripheral walls 41s of the vacuum chamber 41 are laminated. By sitting on the stage 51, a closed space is formed. Further, the laminated stage 51 includes an exhaust port (not shown) and an open port (not shown) for evacuating and opening the closed space formed by the vacuum chamber 41 and the laminated stage 51 to the atmosphere. Further, the laminated stage 51 includes a work fixing mechanism (not shown) for fixing the work W in a state of being placed on the laminated stage 51.

本実施形態における排気ポート及び開放ポートは、積層ステージ51に設けられるものであるが、これに限らず、例えば、真空チャンバー41に設けられても良い。また、本実施形態におけるワーク固定機構は、ワークWが積層ステージ51上に固定されていれば、どのような形態であってもよく、例えば、真空吸着や接着剤による貼り付け等を採用することができる。ここで、ワーク固定機構が真空吸着である場合には、ワークWの真空吸着における真空度を、真空チャンバー41内に形成される密閉空間の真空度に比べ、大きく設定する。 The exhaust port and the open port in the present embodiment are provided in the stacking stage 51, but are not limited to this, and may be provided in, for example, the vacuum chamber 41. Further, the work fixing mechanism in the present embodiment may have any form as long as the work W is fixed on the laminated stage 51, and for example, vacuum suction, sticking with an adhesive, or the like is adopted. Can be done. Here, when the work fixing mechanism is vacuum suction, the degree of vacuum in the vacuum suction of the work W is set larger than the degree of vacuum in the closed space formed in the vacuum chamber 41.

<搬送板回収ユニットについて>
搬送板回収ユニット60は、把持手段61と、除電手段62と、搬送板回収ユニット60のX軸方向(矢印IX方向)への移動を行う搬送板回収ユニット駆動機構(不図示)と、を備える。以下、それらを順に説明する。
<About the transport plate recovery unit>
The transport plate recovery unit 60 includes a gripping means 61, a static elimination means 62, and a transport plate recovery unit drive mechanism (not shown) that moves the transport plate recovery unit 60 in the X-axis direction (arrow IX direction). .. Hereinafter, they will be described in order.

把持手段61は、搬送板1を上下方向より把持するともに、搬送板1を、XY平面内(XY軸方向及びθ方向)(図6(d)参照)へと移動させることができる。この把持手段61は、搬送板1を把持できれば、どのような形態であってもよく、例えば、電動アクチュエータやエアアクチュエータなどにより駆動されるメカハンドやプッシャーなどを採用してもよい。 The gripping means 61 can grip the transport plate 1 from the vertical direction and move the transport plate 1 into the XY plane (XY axis direction and θ direction) (see FIG. 6D). The gripping means 61 may have any form as long as it can grip the transport plate 1, and for example, a mechanical hand or a pusher driven by an electric actuator, an air actuator, or the like may be adopted.

除電手段62は、電荷中和に必要な電荷を生成し、この電荷を除電エアiとして、帯電物体(搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体)へと供給するイオナイザからなる。この除電手段62が、図6(c)に示すように、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体に対して、除電エアiを流し込むことにより、搬送板1と積層体Lの最上部との静電吸着力を積極的に低下させる。 The static elimination means 62 comprises an ionizer that generates charges necessary for charge neutralization and supplies the charges as static elimination air i to a charged object (insulator provided on one side 1a of the transport plate 1). As shown in FIG. 6 (c), the static eliminator means 62 flows the static eliminator air i into the insulator provided on one side 1a of the transport plate 1 to allow the transport plate 1 and the uppermost portion of the laminated body L to flow. Positively reduces the electrostatic adsorption force with.

本実施形態における除電手段62は、イオナイザを採用するものであるが、これに加え、例えば、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体を、ワークWが載置される領域より広く形成し、この絶縁体の外周縁を導電性がある把持手段61で直接把持するものを採用してもよい。これにより、絶縁体の外周縁及び把持手段61を介して、絶縁体における電荷中和が行われるため、搬送板1と積層体Lの最上部との静電吸着力をより積極的に低下させることができる。 The static elimination means 62 in the present embodiment employs an ionizer, but in addition to this, for example, an insulator provided on one side 1a of the transport plate 1 is formed wider than the area on which the work W is placed. , The one that directly grips the outer peripheral edge of this insulator with the conductive gripping means 61 may be adopted. As a result, charge neutralization is performed in the insulator via the outer peripheral edge of the insulator and the gripping means 61, so that the electrostatic adsorption force between the transport plate 1 and the uppermost portion of the laminated body L is more positively reduced. be able to.

搬送板回収ユニット駆動機構は、把持手段61を、搬送板1に近接させるとともに、除電手段62を、積層ステージ51に近接させるように、それぞれをX軸方向(矢印IX方向)へと移動させることができる。 The transport plate recovery unit drive mechanism moves the gripping means 61 close to the transport plate 1 and the static elimination means 62 in the X-axis direction (arrow IX direction) so as to be close to the laminated stage 51. Can be done.

<ワークの積層工程について>
図3乃至図6を用いて、具体的な真空積層装置100におけるワークWの積層工程を順に説明する。なお、各ユニット(反転ユニット10、帯電ユニット20、アライメントユニット30、搬送ユニット40、積層ユニット50、及び、搬送板回収ユニット60)の駆動は、制御手段を主体とし、制御手段からの指示により実行される。ここで、このワークの積層工程において、搬送板1は、常に、各ユニットの何れかに、固定されているため、ワークWの位置合わせや搬送などを安定した状態で行うことができる。
<About the work laminating process>
The laminating process of the work W in the specific vacuum laminating apparatus 100 will be described in order with reference to FIGS. 3 to 6. The driving of each unit (reversing unit 10, charging unit 20, alignment unit 30, transfer unit 40, stacking unit 50, and transfer plate recovery unit 60) is mainly performed by the control means, and is executed by instructions from the control means. Will be done. Here, in the work laminating process, since the transport plate 1 is always fixed to any of the units, the work W can be aligned and transported in a stable state.

<帯電動作について>
まず、図3(a)に示すように、帯電・反転位置Aに配置された反転ステージ11上に、搬送板供給ユニット(不図示)により、搬送板1の他側1bが接触するように載置されるとともに、搬送板1が、搬送板固定機構により、反転ステージ11に固定される。次に、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体上に、ワーク供給ユニット(不図示)により、粘着層a及び保護層pが設けられていないワークWの面(第2面)が接触するように載置される。さらに、反転ステージ11の上方を横切るように、帯電ユニット駆動機構により、帯電ユニット20が、X軸方向(矢印I(1)方向)に移動される。この際、荷電粒子cが、荷電粒子照射部21から下方に向けて照射されることにより、搬送板1の一側1aに設けられる絶縁体が、面的に帯電され、この絶縁体を介して、ワークWが搬送板1の一側1aに帯電固定される。ここで、図1に示すように、ワークWが載置された搬送板1の一側1aを、Z軸方向から見ると、ワークWが載置されていない領域がワークWを囲むように、形成されている。
<About charging operation>
First, as shown in FIG. 3A, the transfer plate supply unit (not shown) is placed on the reversing stage 11 arranged at the charging / reversing position A so that the other side 1b of the transport plate 1 is in contact with the reversing stage 11. At the same time, the transport plate 1 is fixed to the reversing stage 11 by the transport plate fixing mechanism. Next, the surface (second surface) of the work W not provided with the adhesive layer a and the protective layer p comes into contact with the insulator provided on one side 1a of the transport plate 1 by a work supply unit (not shown). It is placed so that it does. Further, the charging unit 20 is moved in the X-axis direction (arrow I (1) direction) by the charging unit driving mechanism so as to cross above the inversion stage 11. At this time, the charged particles c are irradiated downward from the charged particle irradiation unit 21, so that the insulator provided on one side 1a of the transport plate 1 is surface-charged and is charged through the insulator. , The work W is charged and fixed to one side 1a of the transport plate 1. Here, as shown in FIG. 1, when one side 1a of the transport plate 1 on which the work W is mounted is viewed from the Z-axis direction, the region on which the work W is not mounted surrounds the work W. It is formed.

本実施形態における帯電動作は、反転ステージ11に固定された搬送板1上にワークWを載置した後に、帯電ユニット20により、ワークWを絶縁体に帯電固定させるものとしたが、これに限らない。例えば、反転ステージ11に固定された搬送板1上にワークWを載置する前に、帯電ユニット20により、搬送板1の絶縁体を帯電させて、その後、ワークWを絶縁体に帯電固定させてもよい。なお、本実施形態の帯電動作のように、反転ステージ11に固定された搬送板1上にワークWを載置した後に、ワークWを絶縁体に帯電固定させることにより、搬送板1におけるワークWの位置ずれや、シワの発生などを抑制できるとともに、絶縁体からの放電の危険性や、絶縁体にコンタミメーションが発生することなどを抑制することができる。 In the charging operation in the present embodiment, after the work W is placed on the transport plate 1 fixed to the inversion stage 11, the work W is charged and fixed to the insulator by the charging unit 20, but the present invention is limited to this. do not have. For example, before the work W is placed on the transport plate 1 fixed to the reversing stage 11, the insulator of the transport plate 1 is charged by the charging unit 20, and then the work W is charged and fixed to the insulator. You may. In addition, as in the charging operation of the present embodiment, after the work W is placed on the transport plate 1 fixed to the inversion stage 11, the work W is charged and fixed to the insulator to charge and fix the work W in the transport plate 1. It is possible to suppress misalignment and wrinkles, as well as the danger of discharge from the insulator and the occurrence of contamination in the insulator.

<反転ユニットによる反転及び搬送動作について>
まず、図3(b)に示すように、搬送板1に帯電固定されたワークWに設けられる保護層pが、剥離ユニット(不図示)により、剥離される。これにより、搬送板1上に帯電固定されたワークWは、粘着性を有する粘着層aを片面側のみに設けたワークW(以下、「粘着剤付きワークWa」という)となる。その後、反転ユニット10が、反転ユニット駆動機構により、Y軸周り(矢印II(2)方向)に180°回転されるとともに、粘着剤付きワークWaの粘着層aが、下方を向くように配置される。ここで、搬送板固定機構による反転ステージ11に対する搬送板1の他側1bの固定保持力、及び、帯電固定による搬送板1の一側1aに対する粘着剤付きワークWaの静電吸着力は、反転ステージ11が反転した際に、搬送板1及び粘着剤付きワークWaが反転ステージ11から落下しないような値に、予め設定されている。
<About reversing and transport operation by reversing unit>
First, as shown in FIG. 3B, the protective layer p provided on the work W charged and fixed to the transport plate 1 is peeled off by a peeling unit (not shown). As a result, the work W charged and fixed on the transport plate 1 becomes a work W (hereinafter referred to as “work Wa with adhesive”) in which the adhesive layer a having adhesiveness is provided only on one side. After that, the reversing unit 10 is rotated by 180 ° around the Y axis (direction of arrow II (2)) by the reversing unit drive mechanism, and the adhesive layer a of the work Wa with adhesive is arranged so as to face downward. To. Here, the fixed holding force of the other side 1b of the transport plate 1 with respect to the reversing stage 11 by the transport plate fixing mechanism and the electrostatic adsorption force of the work Wa with the adhesive to the one side 1a of the transport plate 1 by charge fixing are reversed. The values are set in advance so that the transport plate 1 and the work Wa with the adhesive do not fall from the inverted stage 11 when the stage 11 is inverted.

本実施形態においては、搬送板1上に帯電固定されるワークWとして、粘着層a及び保護層pを片面側のみに設けるワークWを採用するものであるが、これに限らず、例えば、粘着層a及び保護層pを両面側に設けるワークWや、粘着層a及び保護層pを両面側に設けないワークWを採用してもよい。なお、搬送板1上に帯電固定されるワークWとして、粘着層a及び保護層pを両面側に設けるワークWを採用する場合には、ワークWの何れかの面の保護層pが、搬送板1の一側1aの絶縁体上に直接載置される。 In the present embodiment, as the work W charged and fixed on the transport plate 1, the work W in which the adhesive layer a and the protective layer p are provided on only one side is adopted, but the present invention is not limited to this, and for example, adhesive. A work W in which the layer a and the protective layer p are provided on both sides, or a work W in which the adhesive layer a and the protective layer p are not provided on both sides may be adopted. When a work W having an adhesive layer a and a protective layer p on both sides is adopted as the work W charged and fixed on the transport plate 1, the protective layer p on any surface of the work W is transported. It is placed directly on the insulator of 1a on one side of the plate 1.

次に、図3(c)に示すように、反転ユニット10が、反転ユニット駆動機構により、帯電・反転位置Aからアライメントステージ位置Bへと、X軸方向(矢印III(3)方向)に移動された後、Z軸方向の下方(矢印IV(4)方向)へと移動される。これにより、搬送板1の一側1aのワークWaが載置されていない領域を、アライメントユニット30の設置ブロック32の上面に当接させる。そして、搬送板1を設置ブロック32の上面に吸着固定させた後、搬送板固定機構による反転ステージ11に対する搬送板1の他側1bへの固定を解除する。その後、図3(d)に示すように、反転ユニット10が、反転ユニット駆動機構により、Z軸方向の上方(矢印IV(5)方向)に移動された後、アライメントステージ位置Bから帯電・反転位置Aへと、X軸方向(矢印III(6)方向)に移動される。 Next, as shown in FIG. 3C, the reversing unit 10 moves from the charging / reversing position A to the alignment stage position B in the X-axis direction (arrow III (3) direction) by the reversing unit drive mechanism. After that, it is moved downward in the Z-axis direction (arrow IV (4) direction). As a result, the region on which the work Wa on one side 1a of the transport plate 1 is not placed is brought into contact with the upper surface of the installation block 32 of the alignment unit 30. Then, after the transport plate 1 is adsorbed and fixed to the upper surface of the installation block 32, the transport plate 1 is released from being fixed to the other side 1b with respect to the reversing stage 11 by the transport plate fixing mechanism. After that, as shown in FIG. 3D, the reversing unit 10 is moved upward in the Z-axis direction (in the direction of arrow IV (5)) by the reversing unit drive mechanism, and then charged / reversed from the alignment stage position B. It is moved to the position A in the X-axis direction (arrow III (6) direction).

<アライメント動作について>
図3(d)に示すように、アライメント撮像ユニット34が、粘着剤付きワークWaに設けられた一対のアライメントマークを下方より撮像する。この撮像された画像は、画像処理装置(不図示)に送信され、画像処理により、一対のアライメントマークのそれぞれの位置が算出されるとともに、この算出された一対のアライメントマークの位置と予め定められた基準位置との誤差が算出される。ここで、この誤差が所定範囲内であれば、粘着剤付きワークWaの位置合わせが適切に行われたものと判断され、粘着剤付きワークWaの位置合わせ動作を終了にする。一方、この誤差が所定範囲外であれば、粘着剤付きワークWaの位置合わせが適切に行われなかったものと判断される。この際、XYθ軸電動アクチュエータ33が、誤差が最小となるように、アライメントステージ31、設置ブロック32及び搬送板1を介して、粘着剤付きワークWaのXYθ軸への移動を行う。この予め定められた基準位置への位置合わせは、誤差が所定範囲内となるまで続けられる。
<Alignment operation>
As shown in FIG. 3D, the alignment imaging unit 34 images a pair of alignment marks provided on the work Wa with an adhesive from below. This captured image is transmitted to an image processing device (not shown), and the positions of the pair of alignment marks are calculated by the image processing, and the positions of the calculated pair of alignment marks are predetermined. The error from the reference position is calculated. Here, if this error is within a predetermined range, it is determined that the alignment of the work Wa with adhesive has been properly performed, and the alignment operation of the work Wa with adhesive is terminated. On the other hand, if this error is out of the predetermined range, it is determined that the work Wa with the adhesive is not properly aligned. At this time, the XYθ-axis electric actuator 33 moves the work Wa with the adhesive to the XYθ-axis via the alignment stage 31, the installation block 32, and the transport plate 1 so that the error is minimized. This alignment to the predetermined reference position is continued until the error is within the predetermined range.

本実施形態におけるアライメント動作は、粘着剤付きワークWaとアライメントステージ31とが非接触状態において行われるため、粘着層aに埃等が付着することなく、円滑に行うことができる。 Since the alignment operation in the present embodiment is performed in a non-contact state between the work Wa with the adhesive and the alignment stage 31, it can be smoothly performed without dust or the like adhering to the adhesive layer a.

<搬送ユニットによる搬送動作について>
搬送ユニットによる搬送動作について、図4(a)乃至図4(d)を用いて、搬送板の磁気固定状態及び搬送状態の2つの状態に分けてそれぞれ説明する。
<Transfer operation by transport unit>
The transport operation by the transport unit will be described separately in two states, a magnetically fixed state and a transport state, of the transport plate, using FIGS. 4 (a) to 4 (d).

(搬送板の磁気固定状態)
搬送ユニット40は、昇降ピストン43及び引き剥がしピストン45を縮めた待機状態で、待機位置Cに停止している。まず、アライメントユニット30において、粘着剤付きワークWaの位置合わせが適切に行われたと判断されると、図4(a)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、待機位置Cからアライメントステージ位置Bへと、X軸方向(矢印V(7)方向)に移動される。その後、図4(b)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、Z軸方向の下方(矢印IV(8)方向)に移動され、搬送板チャック42が、搬送板1の他側1bに当接される。この際、磁性体からなる搬送板1が、永久磁石からなる複数の磁力部42mにより、搬送板チャック42に磁気固定される。ここで、搬送板1において、Z軸方向の下方に作用する設置ブロック32への吸着保持力が、Z軸方向の上方に作用する磁力部42mへの磁力より大きく設定されている。これにより、搬送板1が、設置ブロック32から浮上することなく、設置ブロック32に吸着固定された状態で、搬送板チャック42に磁気固定されるため、搬送板1上に帯電固定された粘着剤付きワークWaの位置がずれることを防止できる。
(Magnetic fixing state of the transport plate)
The transport unit 40 is stopped at the standby position C in a standby state in which the elevating piston 43 and the peeling piston 45 are contracted. First, when it is determined that the alignment of the work Wa with the adhesive is properly performed in the alignment unit 30, the transfer unit 40 is placed in the standby position C by the transfer unit drive mechanism, as shown in FIG. 4A. Is moved to the alignment stage position B in the X-axis direction (arrow V (7) direction). After that, as shown in FIG. 4B, the transport unit 40 is moved downward in the Z-axis direction (in the direction of arrow IV (8)) by the transport unit drive mechanism, and the transport plate chuck 42 is moved to the transport plate 1 by the transfer unit drive mechanism. It is in contact with the other side 1b. At this time, the transport plate 1 made of a magnetic material is magnetically fixed to the transport plate chuck 42 by a plurality of magnetic force portions 42 m made of permanent magnets. Here, in the transport plate 1, the suction holding force on the installation block 32 acting downward in the Z-axis direction is set to be larger than the magnetic force on the magnetic force portion 42m acting upward in the Z-axis direction. As a result, the transport plate 1 is magnetically fixed to the transport plate chuck 42 in a state of being adsorbed and fixed to the installation block 32 without floating from the installation block 32, so that the adhesive is charged and fixed on the transport plate 1. It is possible to prevent the position of the attached work Wa from shifting.

本実施形態において、磁力部42mは、永久磁石を採用するものであるが、これに代えて、ON・OFF制御を行う電磁石を採用する場合には、搬送板チャック42が、搬送板1の他側1bに当接する前後のタイミングで、OFF制御からON制御へと切り換えて、磁力を発生させてもよい。 In the present embodiment, the magnetic force portion 42m employs a permanent magnet, but when an electromagnet that performs ON / OFF control is adopted instead, the transport plate chuck 42 is other than the transport plate 1. The magnetic force may be generated by switching from the OFF control to the ON control at the timing before and after the contact with the side 1b.

(搬送状態)
まず、設置ブロック32の上面に対する搬送板1の一側1aの吸着固定を解除した後、図4(c)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、Z軸方向の上方(矢印IV(9)方向)に移動される。その後、図4(d)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、アライメントステージ位置Bから積層ステージ位置Dへと、X軸方向(矢印V(10)方向)に移動された後、Z軸方向の下方(矢印VI(11)方向)に移動される。これにより、真空チャンバー41の周壁41sの下端に設けられるシール部材が、積層ステージ51に当接及び密着することにより、真空チャンバー41内に密閉空間(内部圧力は大気圧Pa)が形成される。この際、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWa、及び、積層ステージ51に積層されている積層体Lは、非接触状態で上下方向に対向配置される。
(Transport state)
First, after releasing the suction fixing of one side 1a of the transport plate 1 to the upper surface of the installation block 32, the transport unit 40 is moved upward in the Z-axis direction by the transport unit drive mechanism as shown in FIG. 4 (c). It is moved in the direction of arrow IV (9). After that, as shown in FIG. 4D, the transfer unit 40 was moved from the alignment stage position B to the stacking stage position D in the X-axis direction (arrow V (10) direction) by the transfer unit drive mechanism. After that, it is moved downward in the Z-axis direction (arrow VI (11) direction). As a result, the sealing member provided at the lower end of the peripheral wall 41s of the vacuum chamber 41 abuts and adheres to the laminated stage 51, so that a closed space (internal pressure is atmospheric pressure Pa) is formed in the vacuum chamber 41. At this time, the work Wa with an adhesive charged and fixed to the transport plate 1 and the laminated body L laminated on the laminated stage 51 are arranged so as to face each other in the vertical direction in a non-contact state.

ここで、積層ステージ51に積層されている積層体Lにおいて、最下部のワークWのみが、粘着層aを設けないワークWであり、ワーク固定機構により、積層ステージ51に固定されており、その他のワークWは、粘着剤付きワークWaからなり、互いの接着力により固定されている。本実施形態において、搬送ユニット駆動機構により、積層ステージ51に対する真空チャンバー41の押圧力が、所望の値となるように調整することにより、真空チャンバー41内に形成される密閉空間の気密度を高めている。 Here, in the laminated body L laminated on the laminated stage 51, only the lowermost work W is the work W without the adhesive layer a, and is fixed to the laminated stage 51 by the work fixing mechanism. The work W is made of a work Wa with an adhesive, and is fixed by the adhesive force between the two. In the present embodiment, the transfer unit drive mechanism adjusts the pressing force of the vacuum chamber 41 with respect to the stacking stage 51 to a desired value, thereby increasing the air density of the closed space formed in the vacuum chamber 41. ing.

<積層動作について>
ここから、積層動作について、図5(a)乃至図5(e)を用いて、真空引き状態、積層状態及び搬送板の磁気固定解除状態の3つの状態に分けてそれぞれ説明する。なお、図5(b)乃至図5(e)において、昇降ピストン43又は一対の引き剥がしピストン45の動作を把握し易くするために、動作状態にある部材を灰色で示している。
<About stacking operation>
From here, the laminating operation will be described separately in three states, a vacuum drawing state, a laminating state, and a magnetic fixing release state of the transport plate, using FIGS. 5 (a) to 5 (e). In addition, in FIGS. 5 (b) to 5 (e), in order to make it easy to grasp the operation of the elevating piston 43 or the pair of peeling pistons 45, the members in the operating state are shown in gray.

(真空引き状態)
まず、図5(a)に示すように、真空チャンバー41内に形成された密閉空間内の気体が、積層ステージ51に設けられる排気ポートを介して、排気されることにより、真空引きが行われる(図中のドット領域参照)。この密閉空間内における真空圧Pvは、例えば、-100(kpa)程度に設定されている。ここで、粘着剤付きワークWaは、搬送板1に帯電固定されるとともに、搬送板1は、搬送板チャック42に磁気固定されるため、真空下においても、粘着剤付きワークWaや搬送板1が搬送板チャック42から落下することはない。
(Vacuum state)
First, as shown in FIG. 5A, the gas in the closed space formed in the vacuum chamber 41 is exhausted through the exhaust port provided in the laminated stage 51, so that evacuation is performed. (See the dot area in the figure). The vacuum pressure Pv in this enclosed space is set to, for example, about -100 (kpa). Here, the work Wa with adhesive is charged and fixed to the transport plate 1, and the transport plate 1 is magnetically fixed to the transport plate chuck 42. Therefore, even under vacuum, the work Wa with adhesive and the transport plate 1 are fixed. Does not fall from the transport plate chuck 42.

(積層状態)
真空チャンバー41内の真空圧Pvが所望の値に達した後、図5(b)に示すように、昇降ピストン43は、伸張状態へと移行し、搬送板チャック42が、Z軸方向の下方(矢印VII(12)方向)に移動される。そして、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWaが、積層ステージ51に積層されている積層体Lの最上部に当接される。さらに、この状態から、昇降ピストン43は、粘着剤付きワークWaに用いられている粘着剤の種類により、予め設定されている押し込み量だけ、搬送板チャック42を、Z軸方向の下方(矢印VII(12)方向)へと移動させる。これにより、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWaは、接着力により積層体Lと一体的に積層される。
(Laminated state)
After the vacuum pressure Pv in the vacuum chamber 41 reaches a desired value, as shown in FIG. 5B, the elevating piston 43 shifts to the extended state, and the transport plate chuck 42 moves downward in the Z-axis direction. It is moved in the direction of arrow VII (12). Then, the work Wa with an adhesive charged and fixed to the transport plate 1 is brought into contact with the uppermost portion of the laminated body L laminated on the laminated stage 51. Further, from this state, the elevating piston 43 moves the transport plate chuck 42 downward in the Z-axis direction (arrow VII) by a preset pushing amount depending on the type of the adhesive used for the work Wa with the adhesive. Move in the (12) direction). As a result, the work Wa with an adhesive charged and fixed to the transport plate 1 is integrally laminated with the laminated body L by the adhesive force.

本実施形態において、搬送板1に帯電固定された粘着剤付きワークWaと、積層ステージ51に積層されている積層体Lとの間の空間を真空引きした後に、粘着剤付きワークWaが、積層体Lへと一体的に積層されることにより、積層体Lの層間への空気の混入が防止される。また、本実施形態において、搬送ユニット40は、単に、搬送板1の搬送を行うのみならず、密閉空間の形成や、ワークWの積層などを行うことができるため、真空積層装置100を構成する各ユニットの簡略化や、コストの削減を行うことができる。なお、本実施形態の積層動作において、積層体Lの積層精度をさらに向上させるために、例えば、ピンガイド積層方式、つまり、積層ステージ51及び搬送板チャック42に設けたピン及びガイド穴を互いに係合させて、積層を行う方法を採用してもよい。 In the present embodiment, after the space between the work Wa with an adhesive charged and fixed to the transport plate 1 and the laminated body L laminated on the laminating stage 51 is evacuated, the work Wa with an adhesive is laminated. By being integrally laminated on the body L, air is prevented from being mixed into the layers of the laminated body L. Further, in the present embodiment, the transport unit 40 can not only transport the transport plate 1 but also form a closed space, stack the work W, and the like, and thus constitutes the vacuum stacking device 100. Each unit can be simplified and the cost can be reduced. In the laminating operation of the present embodiment, in order to further improve the laminating accuracy of the laminated body L, for example, a pin guide laminating method, that is, pins and guide holes provided in the laminating stage 51 and the transport plate chuck 42 are engaged with each other. A method of combining and laminating may be adopted.

(搬送板の磁気固定解除状態)
まず、図5(c)に示すように、一対の引き剥がしピストン45が、Z軸方向の下方(矢印VIII(13)方向)へと伸張されるとともに、搬送板チャック42に設けられる貫通孔42hを非接触状態で挿通される。そして、引き剥がしピストン45の下端が、搬送板チャック42の下面と面一となる位置、つまり、搬送板1の他側1bに当接する位置に達した状態で、引き剥がしピストン45の伸張が停止される。ここで、引き剥がしピストン45は、下端が搬送板1に当接するとともに、堅固に固定された移動規制状態となっているため、搬送板1のZ軸方向の上方への移動が規制される。
(Magnetic fixing release state of the transport plate)
First, as shown in FIG. 5 (c), the pair of peeling pistons 45 are extended downward in the Z-axis direction (arrow VIII (13) direction), and the through hole 42h provided in the transport plate chuck 42 is provided. Is inserted in a non-contact state. Then, the extension of the peeling piston 45 is stopped when the lower end of the peeling piston 45 reaches a position where it is flush with the lower surface of the transport plate chuck 42, that is, a position where it abuts on the other side 1b of the transport plate 1. Will be done. Here, since the lower end of the peeling piston 45 is in contact with the transport plate 1 and is firmly fixed in a movement restricted state, the movement of the transport plate 1 upward in the Z-axis direction is restricted.

次に、図5(d)に示すように、昇降ピストン43により、搬送板チャック42は、Z軸方向の上方(矢印VII(14)方向)に移動されるとともに、縮んだ待機状態に置かれる。この際、搬送板1に作用する磁力部42mの磁力より大きい力が、昇降ピストン43により、搬送板チャック42に負荷されて、搬送板チャック42と搬送板1との磁気固定が解除される。また、引き剥がしピストン45により、搬送板1のZ軸方向の上方への移動が規制されているため、積層体Lの層間には、引き剥がされるような外力が負荷されず、積層体Lの積層精度を維持することができる。そして、図5(e)に示すように、一対の引き剥がしピストン45は、Z軸方向の上方(矢印VIII(15)方向)に移動され、縮んだ待機状態に置かれる。 Next, as shown in FIG. 5D, the transport plate chuck 42 is moved upward in the Z-axis direction (in the direction of arrow VII (14)) by the elevating piston 43, and is placed in a contracted standby state. .. At this time, a force larger than the magnetic force of the magnetic force portion 42m acting on the transport plate 1 is applied to the transport plate chuck 42 by the elevating piston 43, and the magnetic fixing between the transport plate chuck 42 and the transport plate 1 is released. Further, since the peeling piston 45 restricts the upward movement of the transport plate 1 in the Z-axis direction, no external force such as peeling is applied between the layers of the laminated body L, and the laminated body L is not loaded. The stacking accuracy can be maintained. Then, as shown in FIG. 5 (e), the pair of peeling pistons 45 are moved upward in the Z-axis direction (direction of arrow VIII (15)) and placed in a contracted standby state.

本実施形態において、磁力部42mは、永久磁石を採用するものであるが、これに代えて、ON・OFF制御を行う電磁石を採用する場合には、引き剥がしピストン45の下端が、搬送板1の他側1bに当接する前後のタイミングで、ON制御からOFF制御へと切り換えて、磁力を消失させてもよい。 In the present embodiment, the magnetic force portion 42m employs a permanent magnet, but when an electromagnet that controls ON / OFF is adopted instead, the lower end of the peeling piston 45 is the transport plate 1. The magnetic force may be extinguished by switching from the ON control to the OFF control at the timing before and after the contact with the other side 1b.

<搬送板の回収動作について>
搬送板の回収動作について、図6(a)乃至図6(e)を用いて、回収準備状態及び回収状態の2つの状態に分けてそれぞれ説明する。なお、図6(a)乃至図6(c)、図6(e)は、搬送板1の回収動作を説明する断面模式図であり、図6(d)は、図6(c)における搬送板1及び積層体Lのみを示す平面模式図である。
<About the collection operation of the transport plate>
The recovery operation of the transport plate will be described separately in two states, a recovery preparation state and a recovery state, using FIGS. 6 (a) to 6 (e). 6 (a) to 6 (c) and 6 (e) are schematic cross-sectional views illustrating the recovery operation of the transport plate 1, and FIG. 6 (d) is the transport in FIG. 6 (c). It is a plane schematic diagram which shows only a plate 1 and a laminated body L.

(回収準備状態)
まず、図6(a)に示すように、真空チャンバー41内に形成される密閉空間内へと、積層ステージ51に設けられる開放ポートを介して、気体を供給し、内部圧力が大気圧Paとなるように大気開放が行われる。そして、図6(b)に示すように、搬送ユニット40が、搬送ユニット駆動機構により、Z軸方向の上方(矢印VI(16)方向)に移動された後、積層ステージ位置Dから待機位置Cへと、X軸方向(矢印V(17)方向)に移動される。
(Preparation for collection)
First, as shown in FIG. 6A, gas is supplied into the closed space formed in the vacuum chamber 41 through the open port provided in the stacking stage 51, and the internal pressure becomes atmospheric pressure Pa. It is open to the atmosphere so that it becomes. Then, as shown in FIG. 6B, after the transport unit 40 is moved upward in the Z-axis direction (arrow VI (16) direction) by the transport unit drive mechanism, the stacking stage position D to the standby position C Is moved in the X-axis direction (arrow V (17) direction).

(回収状態)
図6(c)に示すように、搬送板回収ユニット60が、搬送板回収ユニット駆動機構により、X軸方向(矢印IX方向)に移動されることにより、把持手段61が、搬送板1に近接されるとともに、除電手段62が、積層ステージ51に近接される。そして、把持手段61により、把持位置Gにおいて搬送板1が、上下方向から把持された後、図6(d)に示すように、搬送板1がXY平面内(XY軸方向及びθ方向)に移動される。加えて、除電手段62により、搬送板1と積層体Lとの間には、除電エアiが流し込まれる。
(Recovery status)
As shown in FIG. 6C, the transport plate recovery unit 60 is moved in the X-axis direction (arrow IX direction) by the transport plate recovery unit drive mechanism, so that the gripping means 61 is close to the transport plate 1. At the same time, the static elimination means 62 is brought close to the stacking stage 51. Then, after the transport plate 1 is gripped from the vertical direction by the gripping means 61 at the gripping position G, the transport plate 1 is moved in the XY plane (XY axis direction and θ direction) as shown in FIG. 6 (d). Will be moved. In addition, the static elimination means 62 causes the static elimination air i to flow between the transport plate 1 and the laminated body L.

ここで、把持手段61及び除電手段62を用いた除電メカニズムについて説明する。まず、積層体Lの最上部に積層された粘着剤付きワークWaと搬送板1との間の帯電固定は、Z軸方向への引張力に対しては、強固であるが、XY平面に平行なせん断力に対しては、比較的容易に横ずれを生じる。このため、図6(d)に示すように、積層体Lの位置は、固定されたままで、把持手段61により、搬送板1が、積層体Lに対して、XY平面内へとスライドされる。この際、搬送板1と積層体Lとの間には、除電手段62により、除電エアiが流し込まれるため、積層体Lの最上部に積層された粘着剤付きワークWaと搬送板1との静電吸着力は、絶縁体の外側から内側に向かって順に弱まっていく。このスライド及び除電エアiの流し込みが繰り返されることにより、搬送板1が積層体Lから分離され、回収される。その結果、図6(e)に示すように、積層ステージ51上には、粘着剤付きワークWaが、積層体Lの最上部に一体的に積層される。 Here, a static elimination mechanism using the gripping means 61 and the static elimination means 62 will be described. First, the charge fixing between the work Wa with the adhesive laminated on the uppermost portion of the laminated body L and the transport plate 1 is strong against the tensile force in the Z-axis direction, but is parallel to the XY plane. Lateral slippage occurs relatively easily with respect to a large shear force. Therefore, as shown in FIG. 6D, the position of the laminated body L remains fixed, and the transport plate 1 is slid into the XY plane with respect to the laminated body L by the gripping means 61. .. At this time, since the static eliminating air i is poured between the transport plate 1 and the laminated body L by the static eliminating means 62, the work Wa with the adhesive laminated on the uppermost portion of the laminated body L and the transport plate 1 The electrostatic adsorption force gradually weakens from the outside to the inside of the insulator. By repeating this slide and the pouring of the static elimination air i, the transport plate 1 is separated from the laminated body L and recovered. As a result, as shown in FIG. 6E, the work Wa with the adhesive is integrally laminated on the uppermost portion of the laminated body L on the laminated stage 51.

本実施形態において、搬送板1を積層体Lから分離し回収する際に、積層体Lの層間には、引き剥がされるような外力が負荷されないため、層間に空気が混入することを防止できる。また、本実施形態におけるワークWは、粘着剤付きワークWaを用いて説明したが、これに代えて、粘着層a及び保護層pを両面側に設けるワークWを用いる場合には、ワークWが積層体Lに積層された後に、ワークWの上面側に位置する保護層pが剥離されてもよい。さらに、本実施形態において、積層体Lにおける層間の粘着剤の接着力が、積層体Lと搬送板1との静電吸着力より比較的大きい場合には、搬送板1は、把持手段61により、XY平面内に移動されるのに加え、Z軸方向へと移動されてもよい。これは、把持手段61により、積層体Lに対してZ軸方向の外力が負荷されても、積層体Lの層間が引き剥がされないため、層間への空気の混入を防止することや、積層精度を維持することができるためである。 In the present embodiment, when the transport plate 1 is separated from the laminated body L and recovered, an external force such as peeling is not applied between the layers of the laminated body L, so that it is possible to prevent air from being mixed between the layers. Further, the work W in the present embodiment has been described using the work Wa with an adhesive, but instead of this, when the work W provided with the adhesive layer a and the protective layer p on both sides is used, the work W is used. After being laminated on the laminated body L, the protective layer p located on the upper surface side of the work W may be peeled off. Further, in the present embodiment, when the adhesive force between the layers of the laminated body L is relatively larger than the electrostatic adsorption force between the laminated body L and the transport plate 1, the transport plate 1 is gripped by the gripping means 61. , In addition to being moved in the XY plane, it may be moved in the Z-axis direction. This is because even if an external force in the Z-axis direction is applied to the laminated body L by the gripping means 61, the layers of the laminated body L are not peeled off, so that it is possible to prevent air from entering the layers and the stacking accuracy. This is because it can be maintained.

以上のように、一枚のワークWを積層体Lに積層する積層工程について説明したが、さらなるワークWを積層体Lに積層する必要がある場合には、積層工程(図3乃至6)を必要枚数分さらに繰り返すことにより、所望の積層体Lを形成することができる。 As described above, the laminating step of laminating one work W on the laminated body L has been described, but when it is necessary to further laminate the work W on the laminated body L, the laminating step (FIGS. 3 to 6) is performed. By repeating the process for the required number of sheets, the desired laminated body L can be formed.

100 真空積層装置
1 搬送板
10 反転ユニット(反転手段)
11 反転ステージ
20 帯電ユニット(帯電手段)
30 アライメントユニット(アライメント手段)
31 アライメントステージ
32 設置ブロック
40 搬送ユニット(搬送手段)
41 真空チャンバー
42 搬送板チャック
43 昇降ピストン
44 ガイドシャフト部
45 引き剥がしピストン
50 積層ユニット(積層手段)
51 積層ステージ
60 搬送板回収ユニット(搬送板回収手段)
61 把持手段
62 除電手段
A 帯電・反転位置
B アライメントステージ位置
C 待機位置
D 積層ステージ位置
L 積層体
W ワーク
Wa 粘着剤付きワーク
100 Vacuum stacking device 1 Conveyor plate 10 Inversion unit (inversion means)
11 Inversion stage 20 Charging unit (charging means)
30 Alignment unit (alignment means)
31 Alignment stage 32 Installation block 40 Transport unit (transport means)
41 Vacuum chamber 42 Conveyor plate chuck 43 Elevating piston 44 Guide shaft part 45 Peeling piston 50 Laminating unit (laminating means)
51 Laminating stage 60 Conveyor plate recovery unit (conveyor plate recovery means)
61 Gripping means 62 Static elimination means A Charging / reversing position B Alignment stage position C Standby position D Laminated stage position L Laminated body W Work Wa Work with adhesive

Claims (8)

複数のワークを順次積層する真空積層装置であって、
前記ワークを保持する搬送板と、
前記搬送板を固定支持しつつ、前記搬送板に保持された前記ワークの位置合わせを行うアライメント手段と、
真空下において、位置合せされた前記ワークを積層ステージ上に積層する積層手段と、
前記アライメント手段と前記積層手段との間を移動し、前記ワークが前記搬送板に保持された状態において、前記搬送板を固定支持しつつ、前記アライメント手段から前記積層手段へと前記ワークを搬送する搬送手段と、を備え、
前記搬送板は、前記アライメント手段及び前記搬送手段のそれぞれと着脱可能であり、一側に前記ワークを帯電固定し、他側が前記搬送手段と磁気固定されることを特徴とする真空積層装置。
A vacuum stacking device that sequentially stacks multiple workpieces.
A transport plate that holds the work and
An alignment means for aligning the work held by the transport plate while fixing and supporting the transport plate.
Laminating means for laminating the aligned workpieces on the laminating stage under vacuum.
The work is transported from the alignment means to the stacking means while moving between the alignment means and the laminating means, and while the work is held by the transport plate, the transport plate is fixedly supported. Equipped with a means of transportation,
The transport plate is detachable from each of the alignment means and the transport means, and is characterized in that the work is charged and fixed on one side and magnetically fixed on the other side with the transport means.
前記搬送板は、磁性体で構成されるとともに、前記搬送板の一側には、絶縁体が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の真空積層装置。 The vacuum laminating device according to claim 1, wherein the transport plate is made of a magnetic material and an insulator is provided on one side of the transport plate. 前記搬送板は、粘着性を有する前記ワークの第1面とは反対側にする非粘着性の第2面を帯電固定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空積層装置。 The vacuum laminating device according to claim 1 or 2, wherein the transport plate is charged and fixed on a non-adhesive second surface which is opposite to the first surface of the work having adhesiveness. .. 前記アライメント手段は、アライメントステージと、前記アライメントステージ上に設置ブロックとを備え、
前記搬送板は、前記ワークと前記アライメントステージとが非接触状態となるように、前記設置ブロックに載置されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の真空積層装置。
The alignment means includes an alignment stage and an installation block on the alignment stage.
The vacuum laminating device according to any one of claims 1 to 3, wherein the transport plate is placed on the installation block so that the work and the alignment stage are in a non-contact state. ..
前記搬送手段を前記積層手段に当接させて、密閉空間を形成するとともに、真空下とした前記密閉空間内において、前記搬送手段により、前記搬送板を移動させて、前記ワークを積層することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の真空積層装置。 The transport means is brought into contact with the stacking means to form a closed space, and the transport plate is moved by the transport means in the closed space under vacuum to stack the workpieces. The vacuum laminating apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the vacuum laminating apparatus is characterized. 搬送板回収手段をさらに備え、
前記搬送板回収手段は、前記搬送板に対して除電を行って前記ワークから前記搬送板を剥離可能とし、前記搬送板を回収することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の真空積層装置。
Further equipped with a transport plate collection means,
The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the transport plate collecting means collects the transport plate by removing static electricity from the transport plate so that the transport plate can be peeled off from the work. The vacuum stacking device described.
複数のワークを順次積層する積層体の製造方法であって、
搬送板の一側に前記ワークを帯電固定するステップと、
前記搬送板をアライメントステージに固定支持した状態で、前記搬送板に帯電固定された前記ワークの位置合わせを行うステップと、
前記搬送板の一側に前記ワークを帯電固定した状態で、前記搬送板の他側を磁気固定し、前記アライメントステージから積層ステージへと、位置合せされた前記ワークを搬送するステップと、
真空下において、前記積層ステージ上に位置合せされた前記ワークを積層するステップと、
を備えることを特徴とする積層体の製造方法。
It is a method of manufacturing a laminated body in which a plurality of workpieces are sequentially laminated.
A step of charging and fixing the work on one side of the transport plate,
A step of aligning the work charged and fixed to the transport plate while the transport plate is fixedly supported by the alignment stage, and
With the work charged and fixed to one side of the transport plate, the other side of the transport plate is magnetically fixed, and the aligned work is transported from the alignment stage to the laminated stage.
A step of laminating the work aligned on the laminating stage under vacuum, and a step of laminating the work.
A method for manufacturing a laminated body, which comprises the above.
前記ワークを搬送するステップは、上壁及び側壁を有する真空チャンバー内に、前記搬送板を磁気固定させるものであり、前記真空チャンバーを前記積層ステージに当接させることにより、密閉空間を形成することを特徴とする請求項7に記載の積層体の製造方法。 The step of transporting the work is to magnetically fix the transport plate in a vacuum chamber having an upper wall and a side wall, and to form a closed space by bringing the vacuum chamber into contact with the laminated stage. The method for manufacturing a laminated body according to claim 7.
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