JP2022046426A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022046426A5 JP2022046426A5 JP2021137253A JP2021137253A JP2022046426A5 JP 2022046426 A5 JP2022046426 A5 JP 2022046426A5 JP 2021137253 A JP2021137253 A JP 2021137253A JP 2021137253 A JP2021137253 A JP 2021137253A JP 2022046426 A5 JP2022046426 A5 JP 2022046426A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- water treatment
- treated
- treatment system
- ion exchanger
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- -1 halogen oxo acid Chemical class 0.000 claims description 17
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 8
- CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N hypobromous acid Chemical compound BrO CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 11
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims 3
- 230000003635 deoxygenating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
Description
（実施例５）
実施例１と同様の装置を用いて、尿素除去率と、被処理水のハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比（重量比）と、の関係を求めた。具体的には、実施例１－１と同様にしてカラムにイオン交換樹脂を１００ｍＬ充填し、被処理水を流量１２Ｌ／ｈ（ＳＶ１２０（／ｈ））で通水した。ハロゲンオキソ酸として次亜臭素酸を用い、尿素と次亜臭素酸を、尿素と次亜臭素酸の濃度の比率を変えて添加した。結果を表２に示す。表中の「次亜臭素酸/TOC比」がハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比であり、次亜臭素酸/TOC比が大きくなるほど尿素除去率が向上する。但し、尿素除去率が５０％でも要求水質によっては十分な効果となり得る。従って、被処理水のハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比は６重量倍以上であることが好ましく、３０重量倍以上がさらに好ましい。前述の通り、後段の設備への影響を抑制するため、ハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比は２００重量倍以下とすることが好ましい。なお、本実施例のＴＯＣは尿素の濃度をＴＯＣで換算した値である。
実施例１と同様の装置を用いて、尿素除去率と、被処理水のハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比（重量比）と、の関係を求めた。具体的には、実施例１－１と同様にしてカラムにイオン交換樹脂を１００ｍＬ充填し、被処理水を流量１２Ｌ／ｈ（ＳＶ１２０（／ｈ））で通水した。ハロゲンオキソ酸として次亜臭素酸を用い、尿素と次亜臭素酸を、尿素と次亜臭素酸の濃度の比率を変えて添加した。結果を表２に示す。表中の「次亜臭素酸/TOC比」がハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比であり、次亜臭素酸/TOC比が大きくなるほど尿素除去率が向上する。但し、尿素除去率が５０％でも要求水質によっては十分な効果となり得る。従って、被処理水のハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比は６重量倍以上であることが好ましく、３０重量倍以上がさらに好ましい。前述の通り、後段の設備への影響を抑制するため、ハロゲンオキソ酸濃度／ＴＯＣ比は２００重量倍以下とすることが好ましい。なお、本実施例のＴＯＣは尿素の濃度をＴＯＣで換算した値である。
Claims (17)
- 有機物を含む被処理水にハロゲンオキソ酸を添加するハロゲンオキソ酸添加手段と、
前記ハロゲンオキソ酸添加手段の下流に位置し、少なくともアニオン交換体が充填されたイオン交換体充填装置と、を有し、
前記イオン交換体充填装置に、前記ハロゲンオキソ酸が添加された被処理水が通水される、水処理システム。 - 前記ハロゲンオキソ酸添加手段と前記イオン交換体充填装置との間に、有機材料からなる接液部を有する水処理装置が設けられていない、請求項１に記載の水処理システム。
- 前記ハロゲンオキソ酸が添加された被処理水は１２００（／ｈ）以下の空間速度で前記イオン交換体充填装置に供給される、請求項１または２に記載の水処理システム。
- 前記イオン交換体充填装置は非再生式である、請求項１から３のいずれか１項に記載の水処理システム。
- 前記イオン交換体充填装置の下流に位置するハロゲンオキソ酸除去手段を有する、請求項１から４のいずれか１項に記載の水処理システム。
- 前記イオン交換体充填装置の入口における前記被処理水の溶存酸素濃度が１ｍｇ／Ｌ以下である、請求項１から５のいずれか１項に記載の水処理システム。
- 前記イオン交換体充填装置の上流に位置し、前記イオン交換体充填装置の前記入口における前記被処理水の前記溶存酸素濃度を１ｍｇ／Ｌ以下に調整する脱酸素装置を有する、請求項６に記載の水処理システム。
- 前記脱酸素装置の出口における前記被処理水の溶存酸素濃度を測定する溶存酸素計と、
前記溶存酸素計が測定した前記溶存酸素濃度に基づき、前記溶存酸素計で測定される前記溶存酸素濃度が０．１ｍｇ／Ｌ以上、１ｍｇ／Ｌ以下となるように前記脱酸素装置を制御する制御装置と、を有する、請求項７に記載の水処理システム。 - 前記イオン交換体充填装置の入口における前記被処理水の２価のアニオン濃度が０．４ｍｍｏｌ／Ｌ以下である、請求項１から８のいずれか１項に記載の水処理システム。
- 前記イオン交換体充填装置の入口において、前記被処理水の前記ハロゲンオキソ酸の濃度が、前記被処理水の全有機炭素の６重量倍以上である、請求項１から９のいずれか１項に記載の水処理システム。
- 前記被処理水には尿素が含まれており、前記被処理水の全有機炭素は、前記被処理水中の尿素濃度を全有機炭素で換算した値である、請求項１０に記載の水処理システム。
- 前記ハロゲンオキソ酸は次亜臭素酸である、請求項１から１１のいずれか1項に記載の水処理システム。
- 酸化剤が含まれる被処理水が供給され、有機材料からなる接液部を有する水処理装置を有し、前記水処理装置の入口における前記被処理水の溶存酸素濃度が１ｍｇ／Ｌ以下である、水処理システム。
- 前記水処理装置の上流に位置し、前記水処理装置の入口における前記被処理水の溶存酸素濃度を１ｍｇ／Ｌ以下に調整する脱酸素装置を有する、請求項１３に記載の水処理システム。
- 前記水処理装置の上流に位置し、前記被処理水に酸化剤を添加する酸化剤添加手段を有する、請求項１３に記載の水処理システム。
- ハロゲンオキソ酸添加手段によって、有機物を含む被処理水にハロゲンオキソ酸を添加することと、
前記ハロゲンオキソ酸が添加された前記被処理水を、少なくともアニオン交換体が充填されたイオン交換体充填装置に通水することと、を有する、純水製造方法。 - 有機材料からなる接液部を有する水処理装置に、酸化剤を含む被処理水を供給することを有し、
前記水処理装置の入口における前記被処理水の溶存酸素濃度が１ｍｇ／Ｌ以下である、
水処理方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18/025,272 US20230322594A1 (en) | 2020-09-10 | 2021-08-31 | Water treatment system, pure water production method, and water treatment method |
| CN202180053366.3A CN116096680A (zh) | 2020-09-10 | 2021-08-31 | 水处理系统、纯水制造方法以及水处理方法 |
| PCT/JP2021/031987 WO2022054649A1 (ja) | 2020-09-10 | 2021-08-31 | 水処理システム、純水製造方法及び水処理方法 |
| TW110133122A TW202218997A (zh) | 2020-09-10 | 2021-09-07 | 水處理系統、純水製造方法及水處理方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020152091 | 2020-09-10 | ||
| JP2020152091 | 2020-09-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022046426A JP2022046426A (ja) | 2022-03-23 |
| JP2022046426A5 true JP2022046426A5 (ja) | 2022-08-05 |
Family
ID=80779907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021137253A Pending JP2022046426A (ja) | 2020-09-10 | 2021-08-25 | 水処理システム、純水製造方法及び水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2022046426A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023180885A1 (en) | 2022-03-23 | 2023-09-28 | Ricoh Company, Ltd. | Information processing system, autonomous traveling body, information processing apparatus, method for controlling autonomous traveling body and recording medium |
| JP2023183453A (ja) * | 2022-06-16 | 2023-12-28 | オルガノ株式会社 | 水処理方法、水処理装置、スライム抑制剤、および洗浄方法 |
-
2021
- 2021-08-25 JP JP2021137253A patent/JP2022046426A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2022046426A5 (ja) | ||
| JPS614591A (ja) | 逆浸透水精製方法 | |
| TW200946910A (en) | Method for minimizing corrosion, scale, and water consumption in cooling tower systems | |
| JP7137566B2 (ja) | 軟水化装置及び軟水化装置の操作方法 | |
| TWI740026B (zh) | 電去離子裝置之控制方法及設計方法 | |
| JP2009541032A5 (ja) | ||
| JP6659668B2 (ja) | 重水素低減水の製造方法、重水と軽水の分離方法、および重水素濃縮水の製造方法 | |
| JP2024037717A5 (ja) | 流体処理システム及び方法 | |
| JP2014168743A (ja) | 純水製造方法 | |
| JP2011189242A (ja) | 水処理システム | |
| TWI739540B (zh) | 水處理系統及超純水製造系統與水處理方法 | |
| EP3292084A1 (en) | Nitrate removal by ion exchange and bioregeneration | |
| JPS6336890A (ja) | 高純度水の製造装置 | |
| JPS62110795A (ja) | 高純度水の製造装置 | |
| JP5292136B2 (ja) | 溶存窒素濃度の測定方法及び溶存窒素濃度の測定装置 | |
| TW202108241A (zh) | 非再生型離子交換樹脂裝置的微粒子穿透時間的預測方法及非再生型離子交換樹脂裝置的管理方法 | |
| WO2019163174A1 (ja) | ホウ素の除去方法、及び純水又は超純水の製造方法 | |
| JP3614548B2 (ja) | 過酸化水素水の精製法 | |
| CA3049633C (en) | Method for producing deuterium-depleted water and method for producing deuterium-concentrated water | |
| EP2850034B1 (en) | Ion exchange process with plug flow conditions and short residence times | |
| JP7387568B2 (ja) | 冷却水浄化装置の運用方法 | |
| KR101892787B1 (ko) | 스케일링 물질을 부동태화시키기 위한 전기 투석 방법 및 장치 | |
| JPH02131189A (ja) | 混床式濾過脱塩装置による懸濁不純物の除去方法 | |
| JP2011147840A (ja) | 水処理システム | |
| JP6986884B2 (ja) | ヨウ素除去システムおよび汚染水のヨウ素除去方法 |