JP2022046029A - Optical laminate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical laminate.
偏光板は、液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置を構成する光学部品の一つとして用いられている。偏光板は通常、直線偏光層の片面又は両面に保護層を積層した積層構造を有し、この積層構造で表示装置に組み込まれる。また、スマートフォンやタブレット等の携帯型情報端末等を中心に用いられているタッチパネル方式の表示装置では、偏光板と画像表示素子との間に、タッチセンサを構成するための導電層を設けることが知られている(例えば、特許文献1~3等)。
The polarizing plate is used as one of the optical components constituting a display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device. The polarizing plate usually has a laminated structure in which a protective layer is laminated on one side or both sides of a linear polarizing layer, and is incorporated in a display device with this laminated structure. Further, in a touch panel type display device mainly used for portable information terminals such as smartphones and tablets, a conductive layer for forming a touch sensor may be provided between the polarizing plate and the image display element. It is known (for example,
近年、表示装置のデザイン性を高めるために、表示装置全体を薄くすることが求められている。また、フレキシブルディスプレイのように表示装置を折り畳んだり巻回したりする場合、表示装置の厚みが小さいほど折り畳みや巻回しに伴って発生する応力を小さくして不具合の発生を抑制することができる。そのため、表示装置に使用する各種部材の薄膜化、及び、機能統合により使用する部材点数の削減が求められている。 In recent years, in order to improve the design of a display device, it has been required to make the entire display device thinner. Further, when the display device is folded or wound like a flexible display, the smaller the thickness of the display device, the smaller the stress generated by the folding or winding, and the occurrence of defects can be suppressed. Therefore, it is required to reduce the number of members used by thinning various members used in the display device and integrating the functions.
タッチセンサを構成するための導電層として金属層を用いた場合に、表示装置の薄型化に伴って直線偏光層と金属層との距離が近づくと、高温高湿環境下において金属層に腐食が発生しやすくなることが見出された。 When a metal layer is used as the conductive layer for constituting the touch sensor, the metal layer is corroded in a high temperature and high humidity environment when the distance between the linear polarizing layer and the metal layer is reduced due to the thinning of the display device. It was found to be more likely to occur.
本発明は、表示装置に使用する各種部材の薄膜化及び/又は削減により表示装置を薄型化した場合であっても、高温高湿環境下における金属層の腐食を抑制することができる光学積層体の提供を目的とする。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is an optical laminate capable of suppressing corrosion of a metal layer in a high temperature and high humidity environment even when the display device is made thinner by thinning and / or reducing various members used in the display device. The purpose is to provide.
本発明は、以下の光学積層体を提供する。
〔1〕 直線偏光層、位相差層、バリア層、及び粘着剤層をこの順に含む光学積層体であって、
前記直線偏光層は、ヨウ素が吸着配向しているポリビニルアルコール系樹脂フィルムであり、
前記位相差層は、重合性液晶化合物が重合硬化した硬化物層を少なくとも1層含み、
前記バリア層は、前記粘着剤層に直接接して設けられており、
前記バリア層の温度40℃、相対湿度90%RHにおける透湿度は、1g/m2/24hr以上2000g/m2/24hr以下であり、
前記直線偏光層の前記位相差層側の表面から、前記粘着剤層の前記バリア層側とは反対側の表面までの距離は、55μm以下である、光学積層体。
〔2〕 前記光学積層体を温度85℃、相対湿度85%RHの条件下で240時間保管した後の前記粘着剤層におけるヨウ素量は、250ppm以下である、〔1〕に記載の光学積層体。
〔3〕 前記バリア層は、樹脂フィルムである、〔1〕又は〔2〕に記載の光学積層体。
〔4〕 前記位相差層は、
前記硬化物層を2層含み、
さらに、前記2層の硬化物層を互いに貼合するための貼合層(X)を含む、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔5〕 前記貼合層は、接着剤層である、〔4〕に記載の光学積層体。
〔6〕 さらに、前記直線偏光層を含む偏光板、及び、前記偏光板と前記位相差層とを貼合するための貼合層(Y)を含み、
前記偏光板は、前記直線偏光層の片面又は両面に保護層が設けられている、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔7〕 さらに、前記位相差層と前記バリア層とを貼合するための貼合層(Z)を含む、〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔8〕 前記貼合層(Z)は、接着剤層である、〔7〕に記載の光学積層体。
〔9〕 さらに、前記粘着剤層の前記バリア層側とは反対側に金属層を含む、〔1〕~〔8〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔10〕 前記金属層は、前記粘着剤層に直接接して設けられている、〔7〕に記載の光学積層体。
The present invention provides the following optical laminates.
[1] An optical laminate including a linear polarizing layer, a retardation layer, a barrier layer, and an adhesive layer in this order.
The linear polarizing layer is a polyvinyl alcohol-based resin film in which iodine is adsorbed and oriented.
The retardation layer contains at least one cured product layer obtained by polymerizing and curing the polymerizable liquid crystal compound.
The barrier layer is provided in direct contact with the pressure-sensitive adhesive layer.
The moisture permeability of the barrier layer at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% RH is 1 g / m 2/24 hr or more and 2000 g / m 2/24 hr or less.
An optical laminate having a distance from the surface of the linear polarizing layer on the retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer on the side opposite to the barrier layer side of 55 μm or less.
[2] The optical laminate according to [1], wherein the amount of iodine in the pressure-sensitive adhesive layer after the optical laminate is stored at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% RH for 240 hours is 250 ppm or less. ..
[3] The optical laminate according to [1] or [2], wherein the barrier layer is a resin film.
[4] The retardation layer is
It contains two layers of the cured product and contains two layers.
The optical laminate according to any one of [1] to [3], further comprising a bonding layer (X) for bonding the two cured product layers to each other.
[5] The optical laminate according to [4], wherein the bonding layer is an adhesive layer.
[6] Further, a polarizing plate including the linear polarizing layer and a bonding layer (Y) for bonding the polarizing plate and the retardation layer are included.
The optical laminate according to any one of [1] to [5], wherein the polarizing plate is provided with a protective layer on one side or both sides of the linear polarizing layer.
[7] The optical laminate according to any one of [1] to [6], further comprising a bonding layer (Z) for bonding the retardation layer and the barrier layer.
[8] The optical laminate according to [7], wherein the bonded layer (Z) is an adhesive layer.
[9] The optical laminate according to any one of [1] to [8], further comprising a metal layer on the side of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the barrier layer side.
[10] The optical laminate according to [7], wherein the metal layer is provided in direct contact with the pressure-sensitive adhesive layer.
本発明の光学積層体は、表示装置に使用する各種部材の薄膜化及び/又は削減により表示装置を薄型化した場合であっても、高温高湿環境下における金属層の腐食を抑制することができる。 The optical laminate of the present invention can suppress corrosion of the metal layer in a high temperature and high humidity environment even when the display device is made thinner by thinning and / or reducing the thickness of various members used in the display device. can.
以下、図面を参照して、本発明の光学積層体及び剥離方法の好ましい実施形態について説明する。以下のすべての図面は、本発明の理解を助けるために示すものであり、図面に示される各構成要素のサイズや形状は、実際の構成要素のサイズや形状とは必ずしも一致しない。 Hereinafter, preferred embodiments of the optical laminate and the peeling method of the present invention will be described with reference to the drawings. All of the following drawings are provided to aid understanding of the present invention, and the size and shape of each component shown in the drawings may not necessarily match the size and shape of the actual component.
(光学積層体)
図1~図6は、本実施形態の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。本実施形態の光学積層体1a~1f(以下、これらをまとめて「光学積層体1」ということがある。)は、直線偏光層31、位相差層10、バリア層4、及び粘着剤層5をこの順に含む。直線偏光層31は、ヨウ素が吸着配向しているポリビニルアルコール系樹脂フィルム(以下、「PVA系フィルム」ということがある。)である。位相差層10は、重合性液晶化合物が重合硬化した硬化物層(後述する第1硬化物層11、第2硬化物層12等)を少なくとも1層含む。バリア層4は、粘着剤層5に直接接して設けられている。バリア層4の温度40℃、相対湿度90%RHにおける透湿度は、1g/m2/24hr以上2000g/m2/24hr以下である。光学積層体1は、直線偏光層31の位相差層10側の表面から、粘着剤層5のバリア層4側とは反対側の表面までの距離Dが55μm以下である。
(Optical laminate)
1 to 6 are schematic cross-sectional views schematically showing an example of the optical laminate of the present embodiment. The
光学積層体1は、さらに、図5及び図6に示す光学積層体1e,1fのように、粘着剤層5のバリア層4側とは反対側に金属層6を含んでいてもよい。金属層6は、粘着剤層5に直接接して設けられていることが好ましい。
The
上記の層構造を有する光学積層体1では、粘着剤層5を介して光学積層体1a~1dを金属層6に積層した場合や、光学積層体1e,1fにおいて、金属層6に発生する腐食、特に金属層6に発生する孔食を抑制することができる。光学積層体1により金属層6の腐食を抑制することができる理由は、次のように推測される。直線偏光層としてヨウ素が吸着配向しているPVA系フィルムは、高温高湿環境下においてPVA系フィルムから微量のヨウ素が染み出すことがある。直線偏光層及び金属層を含む積層体では、直線偏光層から染み出したヨウ素が金属層に到達すると、金属層を腐食すると考えられる。そこで、光学積層体1では、金属層6に貼合するための粘着剤層5に接するように、透湿度が上記範囲にあるバリア層4を設けている。これにより、距離Dが55μm以下という薄型の光学積層体1であっても、直線偏光層31から染み出したヨウ素が金属層6に到達することを抑制することができ、金属層6の腐食を抑制することができると考えられる。
In the
光学積層体1は、図1~図6に示すように、直線偏光層31の片面又は両面に保護層32,33(以下、それぞれを「第1保護層32」及び「第2保護層33」ということがある。)を有する偏光板30を含んでいてもよい。光学積層体1の薄型化の観点からは、偏光板30は、直線偏光層31の片面のみに第1保護層32又は第2保護層33を有することが好ましい。直線偏光層31の片面のみに保護層を有する場合、直線偏光層31の保護の観点から、図1及び図2に示すように直線偏光層31の位相差層10側とは反対側の第1保護層32を有することが好ましい。光学積層体1はバリア層4を有しているため、第1保護層32が設けられ、第2保護層33が設けられない場合であっても、金属層6の腐食を効果的に抑制することができる。第1保護層32及び/又は第2保護層33は、例えば図1~図6に示すように、第1貼合層21及び/又は第2貼合層22を介して直線偏光層31上に設けてもよい。第1貼合層21及び第2貼合層22は、接着剤層又は粘着剤層である。
As shown in FIGS. 1 to 6, the
光学積層体1は、さらに、直線偏光層31又は偏光板30と位相差層10とを貼合するための貼合層(Y)23を含んでいてもよい。この場合、位相差層10は、例えば図1~図6に示すように、貼合層(Y)23を介して直線偏光層31又は偏光板30上に設けられる。貼合層(Y)23は、接着剤層又は粘着剤層である。あるいは、位相差層10は、直線偏光層31又は偏光板30に直接接するように設けてもよい。
The
光学積層体1は、さらに、位相差層10とバリア層4とを貼合するための貼合層(Z)24を含んでいてもよい。この場合、バリア層4は、例えば図1~図6に示すように、貼合層(Z)24を介して位相差層10上に設けられる。貼合層(Z)24は、接着剤層又は粘着剤層である。あるいは、バリア層4は、位相差層10に直接接するように設けてもよい。光学積層体1が貼合層(Z)24を含む場合、貼合層(Z)24は接着剤層であることが好ましい。これにより、例えば光学積層体1を切断刃により裁断した場合に、裁断面において位相差層10が変形することを抑制することができる。
The
光学積層体1において、上記距離Dは55μm以下であり、48μm以下であってもよく、45μm以下であってもよく、40μm以下であってもよく、35μm以下であってもよく、30μm以下であってもよく、25μm以下であってもよい。距離Dは、通常、10μm以上であり、15μm以上であってもよく、20μm以上であってもよい。
In the
光学積層体1を温度85℃、相対湿度85%RHの条件下で240時間保管した後の前記粘着剤層におけるヨウ素量は、250ppm以下であることが好ましく、200ppm以下であることがより好ましく、150ppm以下であることがさらに好ましく、100ppm以下であることがよりさらに好ましく、50ppm以下であってもよく、30ppm以下であってもよく、10ppm以下であってもよい。上記ヨウ素量が上記の範囲内であることにより、光学積層体1を高温高湿環境下に曝した場合の金属層6の腐食が抑制されやすい。上記ヨウ素量は、例えば、バリア層4の上記透湿度を調整する、直線偏光層31に第1保護層32及び/又は第2保護層33を設ける、第1保護層32及び/又は第2保護層33の種類や厚みを調整する等によって調整することができる。上記ヨウ素量は、後述する実施例に記載の方法によって測定することができる。
The amount of iodine in the pressure-sensitive adhesive layer after the
図1~図4に示す光学積層体1a~1dは、粘着剤層5の位相差層10側とは反対側に剥離フィルムを有していてもよい。剥離フィルムは、粘着剤層5を被覆保護する、又は、粘着剤層5を支持するものであって、粘着剤層5に対して剥離可能なセパレータとしての機能を有する。剥離フィルムとしては、基材フィルムの粘着剤層側の表面にシリコーン処理等の離型処理が施されたフィルムを挙げることができる。基材フィルムをなす樹脂材料としては、後述する保護層をなす樹脂材料を挙げることができる。樹脂フィルムは1層構造であってもよく、2層以上の多層構造の多層樹脂フィルムであってもよい。
The
図1~図4に示す光学積層体1a~1dは、円偏光板を構成することができ、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置等における反射防止フィルムとして用いることができる。光学積層体1a~1dが円偏光板である場合、位相差層10に含まれる硬化物層の少なくとも1層は、λ/4波長位相差特性を有する層であることが好ましい。図2、図4、及び図6に示すように、位相差層10が第1硬化物層11及び第2硬化物層12を含む場合、第1硬化物層11及び第2硬化物層12はそれぞれ、[i]1/2波長位相差層及び1/4波長位相差層、[ii]1/4波長位相差層及びポジティブCプレート、又は、[iii]ポジティブCプレート及び1/4波長位相差層であってもよい。λ/4波長位相差層は、逆波長分散性を有するものであってもよい。
The
光学積層体1は、スマートフォンやタブレット等の表示装置に用いることができ、特にタッチパネル方式の表示装置に好適に用いることができる。表示装置としては、有機EL表示装置、液晶表示装置等が挙げられる。表示装置はフレキシブルディスプレイであってもよい。
The
以下、光学積層体1で用いた各部材の詳細について説明する。
(直線偏光層)
直線偏光層は、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する。直線偏光層は、ヨウ素が吸着配向しているPVA系フィルムである。
Hereinafter, details of each member used in the
(Linear polarizing layer)
The linearly polarized light layer has a property of transmitting linearly polarized light having a vibration plane orthogonal to the absorption axis when unpolarized light is incident. The linear polarizing layer is a PVA-based film in which iodine is adsorbed and oriented.
直線偏光層は、例えば、ポリビニルアルコールフィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコールフィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等のPVA系フィルムに、ヨウ素による染色処理、及び延伸処理が施されたもの等が挙げられる。必要に応じて、染色処理によりヨウ素が吸着配向したPVA系フィルムをホウ酸水溶液で処理し、その後に、ホウ酸水溶液を洗い落とす洗浄工程を行ってもよい。各工程には公知の方法を採用できる。 The linear polarizing layer is, for example, a PVA-based film such as a polyvinyl alcohol film, a partially formalized polyvinyl alcohol film, an ethylene-vinyl acetate copolymer partially saponified film, which has been dyed with iodine and stretched. Can be mentioned. If necessary, a PVA-based film in which iodine is adsorbed and oriented by a dyeing treatment may be treated with a boric acid aqueous solution, and then a washing step of washing off the boric acid aqueous solution may be performed. A known method can be adopted for each step.
ポリビニルアルコール系樹脂(以下、「PVA系樹脂」ということがある。)は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより製造できる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体との共重合体であることもできる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。 The polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter, may be referred to as “PVA-based resin”) can be produced by saponifying the polyvinyl acetate-based resin. The polyvinyl acetate-based resin may be a copolymer of vinyl acetate and another monomer copolymerizable with vinyl acetate, in addition to polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and acrylamides having an ammonium group.
PVA系樹脂のケン化度は、通常85~100モル%程度であり、好ましくは98モル%以上である。PVA系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も使用可能である。PVA系樹脂の平均重合度は、通常1,000~10,000程度であり、好ましくは1,500~5,000程度である。PVA系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726(1994)に準拠して求めることができる。平均重合度が1000未満では好ましい偏光性能を得ることが困難であり、10000超ではフィルム加工性に劣ることがある。 The degree of saponification of the PVA-based resin is usually about 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more. The PVA-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The average degree of polymerization of the PVA-based resin is usually about 1,000 to 10,000, preferably about 1,500 to 5,000. The average degree of polymerization of the PVA-based resin can be determined in accordance with JIS K 6726 (1994). If the average degree of polymerization is less than 1000, it is difficult to obtain preferable polarization performance, and if it exceeds 10,000, the film processability may be inferior.
PVA系フィルムを含む直線偏光層の製造方法は、基材フィルムを用意し、基材フィルム上にPVA系樹脂等の樹脂の溶液を塗布し、溶媒を除去する乾燥等を行って基材フィルム上に樹脂層を形成する工程を含むものであってもよい。なお、基材フィルムの樹脂層が形成される面には、予めプライマー層を形成することができる。基材フィルムとしては、PET等の樹脂フィルムや、後述する保護層に用いることができる熱可塑性樹脂を用いたフィルムを使用できる。プライマー層の材料としては、直線偏光層に用いられる親水性樹脂を架橋した樹脂等を挙げることができる。 The method for producing a linear polarizing layer containing a PVA-based film is to prepare a base film, apply a resin solution such as PVA-based resin on the base film, and dry the base film to remove the solvent. May include a step of forming a resin layer. A primer layer can be formed in advance on the surface of the base film on which the resin layer is formed. As the base film, a resin film such as PET or a film using a thermoplastic resin that can be used for the protective layer described later can be used. Examples of the material of the primer layer include a resin obtained by cross-linking a hydrophilic resin used for the linear polarizing layer.
次いで、必要に応じて樹脂層の水分等の溶媒量を調整し、その後、基材フィルム及び樹脂層を一軸延伸し、続いて、樹脂層をヨウ素で染色してヨウ素を樹脂層に吸着配向させる。次に、必要に応じてヨウ素が吸着配向した樹脂層をホウ酸水溶液で処理し、その後に、ホウ酸水溶液を洗い落とす洗浄工程を行う。これにより、ヨウ素が吸着配向された樹脂層、すなわち、直線偏光層のフィルムが製造される。各工程には公知の方法を採用できる。 Then, if necessary, the amount of solvent such as water content of the resin layer is adjusted, then the base film and the resin layer are uniaxially stretched, and then the resin layer is dyed with iodine to adsorb and orient the iodine on the resin layer. .. Next, if necessary, the resin layer in which iodine is adsorbed and oriented is treated with a boric acid aqueous solution, and then a washing step of washing off the boric acid aqueous solution is performed. As a result, a film of a resin layer in which iodine is adsorbed and oriented, that is, a linear polarizing layer is produced. A known method can be adopted for each step.
ヨウ素が吸着配向したPVA系フィルム又は樹脂層を処理するホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の量は、通常、水100重量部あたり、2~15重量部程度であり、5~12重量部が好ましい。二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、このホウ酸含有水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるヨウ化カリウムの量は、通常、水100重量部あたり、0.1~15重量部程度であり、5~12重量部程度が好ましい。ホウ酸含有水溶液への浸漬時間は、通常、60~1,200秒程度であり、150~600秒程度が好ましく、200~400秒程度がより好ましい。ホウ酸含有水溶液の温度は、通常、50℃以上であり、50~85℃が好ましく、60~80℃がより好ましい。 The amount of boric acid in the boric acid-containing aqueous solution for treating the PVA-based film or resin layer in which iodine is adsorbed and oriented is usually about 2 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of water, preferably 5 to 12 parts by weight. When iodine is used as the dichroic dye, the boric acid-containing aqueous solution preferably contains potassium iodide. The amount of potassium iodide in the boric acid-containing aqueous solution is usually about 0.1 to 15 parts by weight, preferably about 5 to 12 parts by weight, per 100 parts by weight of water. The immersion time in the boric acid-containing aqueous solution is usually about 60 to 1,200 seconds, preferably about 150 to 600 seconds, and more preferably about 200 to 400 seconds. The temperature of the boric acid-containing aqueous solution is usually 50 ° C. or higher, preferably 50 to 85 ° C., more preferably 60 to 80 ° C.
PVA系フィルム、並びに、基材フィルム及び樹脂層の一軸延伸は、染色の前に行ってもよいし、染色中に行ってもよいし、染色後のホウ酸処理中に行ってもよく、これら複数の段階においてそれぞれ一軸延伸を行ってもよい。PVA系フィルム、並びに、基材フィルム及び樹脂層は、MD方向(フィルム搬送方向)に一軸延伸してもよく、この場合、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、PVA系フィルム、並びに、基材フィルム及び樹脂層は、TD方向(フィルム搬送方向に垂直な方向)に一軸延伸してもよく、この場合、いわゆるテンター法を使用することができる。また、上記延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤にてPVA系フィルム又は樹脂層を膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。直線偏光層の性能を発現するためには延伸倍率は4倍以上であり、5倍以上であることが好ましく、特に5.5倍以上が好ましい。延伸倍率の上限は特にないが、破断等を抑制する観点から8倍以下が好ましい。 The PVA-based film and the uniaxial stretching of the base film and the resin layer may be performed before dyeing, during dyeing, or during boric acid treatment after dyeing, and these may be performed. Uniaxial stretching may be performed at each of a plurality of stages. The PVA-based film, the base film, and the resin layer may be uniaxially stretched in the MD direction (film transport direction), and in this case, may be uniaxially stretched between rolls having different peripheral speeds, or a thermal roll. May be uniaxially stretched using. Further, the PVA-based film, the base film and the resin layer may be uniaxially stretched in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction), and in this case, the so-called tenter method can be used. Further, the stretching may be a dry stretching in which stretching is performed in the atmosphere, or a wet stretching in which the PVA-based film or the resin layer is swollen with a solvent. In order to exhibit the performance of the linear polarizing layer, the draw ratio is 4 times or more, preferably 5 times or more, and particularly preferably 5.5 times or more. There is no particular upper limit to the draw ratio, but it is preferably 8 times or less from the viewpoint of suppressing breakage and the like.
基材フィルムを用いる製造方法で作製した直線偏光層は、後述する保護層を積層した後に基材フィルムを剥離することで得ることができる。この方法によれば、直線偏光層の更なる薄膜化が可能となる。 The linear polarizing layer produced by the manufacturing method using the base film can be obtained by laminating the protective layer described later and then peeling off the base film. According to this method, the linear polarizing layer can be further thinned.
直線偏光層の厚みは、1μm以上であることが好ましく、2μm以上であってもよく、5μm以上であってもよく、また、30μm以下であることが好ましく、15μm以下であることがより好ましく、10μm以下であることがさらに好ましく、8μm以下であってもよい。直線偏光層の厚みが小さいほど高温高湿環境下でのヨウ素が染み出しやすい。そのため、直線偏光層の厚みが小さい場合、本実施形態の光学積層体1のようにすることにより、金属層6に発生する腐食を効果的に抑制することができる。
The thickness of the linear polarizing layer is preferably 1 μm or more, preferably 2 μm or more, 5 μm or more, preferably 30 μm or less, and more preferably 15 μm or less. It is more preferably 10 μm or less, and may be 8 μm or less. The smaller the thickness of the linear polarizing layer, the easier it is for iodine to seep out in a high temperature and high humidity environment. Therefore, when the thickness of the linear polarizing layer is small, the corrosion generated in the
ヨウ素が吸着配向したPVA系フィルム又は樹脂層をホウ酸水溶液で処理し、その後にホウ酸水溶液を洗い落とす洗浄工程において、ホウ酸水溶液中のホウ酸濃度が低いほど、高温高湿環境下でのヨウ素が染み出しやすい。そのため、直線偏光層の製造工程で用いた上記のホウ酸水溶液中のホウ酸濃度が低い場合、本実施形態の光学積層体1のようにすることにより、金属層6に発生する腐食を効果的に抑制することができる。
In the washing step of treating a PVA-based film or resin layer in which iodine is adsorbed and oriented with a boric acid aqueous solution and then washing off the boric acid aqueous solution, the lower the boric acid concentration in the boric acid aqueous solution, the higher the iodine in a high temperature and high humidity environment. Is easy to seep out. Therefore, when the boric acid concentration in the above-mentioned boric acid aqueous solution used in the manufacturing process of the linear polarizing layer is low, the corrosion generated in the
(偏光板)
直線偏光層31は、図1~図6に示すように、その片面又は両面に保護層(第1保護層32及び/又は第2保護層33)を積層して偏光板30とすることができる。この偏光板30はいわゆる直線偏光板である。直線偏光層31の片面又は両面に積層することができる第1保護層32及び/又は第2保護層33としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂から形成されたフィルムが用いられる。熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂;ポリエーテルスルホン樹脂;ポリスルホン樹脂;ポリカーボネート樹脂;ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂;ポリイミド樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂;シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂ともいう);(メタ)アクリル樹脂;ポリアリレート樹脂;ポリスチレン樹脂;ポリビニルアルコール樹脂、並びにこれらの混合物を挙げることができる。第1保護層32及び第2保護層33の樹脂組成は同一であってもよいし、異なっていてもよい。なお、本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリル又はメタクリルのいずれでもよいことを意味する。(メタ)アクリレート等の「(メタ)」も同様の意味である。
(Polarizer)
As shown in FIGS. 1 to 6, the linear
第1保護層32及び第2保護層33の温度40℃、相対湿度90%RHにおける透湿度は特に限定されない。本実施形態の光学積層体1では、第1保護層32の上記透湿度が300g/m2/24hr以下である場合に効果的に、また、第1保護層32の上記透湿度が100g/m2/24hr以下である場合により一層効果的に、金属層の腐食を抑制することができる。第1保護層32の上記透湿度が小さくなると、光学積層体1において直線偏光層31中のヨウ素が第1保護層32側に移動しにくくなり、粘着剤層5側に移動しやすくなる。光学積層体1ではバリア層4を有するため、上記のように粘着剤層5側にヨウ素が移動しやすくなっても、粘着剤層5のバリア層4側とは反対側に設けられた金属層6が腐食することを抑制することができる。第1保護層32及び第2保護層33の上記透湿度は、透湿度試験法(カップ法、JIS Z 0208)によって測定することができる。
The moisture permeability of the first
第1保護層32及び第2保護層33は、位相差特性を有するものであってもよく、ハードコート層や反射防止層等の機能特性を有する光学機能層であってもよい。第1保護層32及び第2保護層33の厚みは、それぞれ独立して、3μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましく、また、50μm以下であることが好ましく、30μm以下であることがより好ましい。
The first
第1保護層32及び第2保護層33と直線偏光層とは、それぞれ第1貼合層21及び第2貼合層22によって貼合されていることが好ましい(図1~図6)。第1貼合層21及び第2貼合層22は、接着剤層又は粘着剤層である。接着剤層及び粘着剤層としては、後述するものを用いることができる。第1貼合層21及び第2貼合層22としては、後述する水系接着剤を用いて形成された接着剤層であることが好ましい。
It is preferable that the first
(位相差層)
位相差層10は位相差特性を有する層を含む。位相差特性を有する層としては、重合性液晶化合物が重合硬化した硬化物層が挙げられる。位相差層10は、少なくとも1層の硬化物層を含み、2層以上の硬化物層を含んでいてもよい。2層以上の硬化物層を含む場合、位相差層10は、硬化物層を互いに貼合するための貼合層(例えば、図2、図4、及び図6に示す貼合層(X)25)を含んでいてもよい。硬化物層は、1/2波長位相差層、1/4波長位相差層、又はポジティブCプレートであることができる。1/4波長位相差層は逆波長分散性であってもよい。位相差層が2以上の硬化物層を含む場合、硬化物層は互いに同じで位相差特性を有していてもよく、互いに異なる位相差特性を有していてもよい。
(Phase difference layer)
The
重合性液晶化合物としては、棒状の重合性液晶化合物及び円盤状の重合性液晶化合物が挙げられ、これらのうちの一方を用いてもよく、これらの両方を含む混合物を用いてもよい。棒状の重合性液晶化合物が基材層に対して水平配向又は垂直配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶化合物が配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の円盤面に対して直交する方向に存在する。棒状の重合性液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報(請求項1等)に記載のものを好適に用いることができる。円盤状の重合性液晶化合物としては、特開2007-108732号公報(段落[0020]~[0067]等)、特開2010-244038号公報(段落[0013]~[0108]等)に記載のものを好適に用いることができる。
Examples of the polymerizable liquid crystal compound include a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound and a disk-shaped polymerizable liquid crystal compound, and one of them may be used, or a mixture containing both of them may be used. When the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound is horizontally or vertically oriented with respect to the substrate layer, the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound coincides with the long axis direction of the polymerizable liquid crystal compound. When the disk-shaped polymerizable liquid crystal compound is oriented, the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound exists in a direction orthogonal to the disk surface of the polymerizable liquid crystal compound. As the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound, for example, those described in JP-A No. 11-513019 (
重合性液晶化合物を重合することによって形成される硬化物層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶化合物を適した方向に配向させればよい。重合性液晶化合物が棒状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材層平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶化合物が円盤状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材層平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶化合物の配向状態は、配向層と重合性液晶化合物との組み合わせによって調整することができる。 In order for the cured product layer formed by polymerizing the polymerizable liquid crystal compound to exhibit an in-plane retardation, the polymerizable liquid crystal compound may be oriented in an appropriate direction. When the polymerizable liquid crystal compound is rod-shaped, an in-plane phase difference is developed by orienting the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound horizontally with respect to the plane of the substrate layer. It matches the direction. When the polymerizable liquid crystal compound is disk-shaped, an in-plane phase difference is developed by orienting the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound horizontally with respect to the plane of the substrate layer. In this case, the optical axis and the slow axis Is orthogonal to. The orientation state of the polymerizable liquid crystal compound can be adjusted by the combination of the alignment layer and the polymerizable liquid crystal compound.
重合性液晶化合物は、少なくとも1つの重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性液晶化合物を2種類以上を併用する場合、少なくとも1種類が分子内に2以上の重合性基を有することが好ましい。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。 The polymerizable liquid crystal compound is a compound having at least one polymerizable group and having liquid crystallinity. When two or more kinds of polymerizable liquid crystal compounds are used in combination, it is preferable that at least one kind has two or more polymerizable groups in the molecule. The polymerizable group means a group involved in the polymerization reaction, and is preferably a photopolymerizable group. Here, the photopolymerizable group refers to a group that can participate in the polymerization reaction by an active radical, an acid, or the like generated from a photopolymerization initiator described later. Examples of the polymerizable group include a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxylanyl group, an oxetanyl group, a styryl group, an allyl group and the like. Be done. Of these, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxylanyl group and an oxetanyl group are preferable, and an acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystal property of the polymerizable liquid crystal compound may be a thermotropic liquid crystal or a lyotropic liquid crystal, and when the thermotropic liquid crystal is classified by order, it may be a nematic liquid crystal or a smectic liquid crystal.
位相差層10が重合性液晶化合物の硬化物層を含む場合、位相差層10は配向層を含んでいてもよい。配向層は、重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有する。配向層は、重合性液晶化合物の分子軸を基材層に対して垂直配向した垂直配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を基材層に対して水平配向した水平配向層であってもよく、重合性液晶化合物の分子軸を基材層に対して傾斜配向させる傾斜配向層であってもよい。位相差層が2以上の配向層を含む場合、配向層は互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
When the
配向層としては、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物の塗工等により溶解しない溶媒耐性を有し、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理に対する耐熱性を有するものが好ましい。配向層としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ(溝)を有するグルブ配向層を挙げることができる。 The alignment layer has solvent resistance that does not dissolve due to coating of a liquid crystal layer forming composition containing a polymerizable liquid crystal compound, and has heat resistance to heat treatment for removing the solvent and orienting the polymerizable liquid crystal compound. The one is preferable. Examples of the oriented layer include an oriented polymer layer formed of an oriented polymer, a photo-oriented polymer layer formed of a photo-aligned polymer, and a grub-aligned layer having an uneven pattern or a plurality of grubs (grooves) on the layer surface. Can be done.
硬化物層の厚みは、0.1μm以上であってもよく、0.5μm以上であってもよく、1μm以上であってもよく、2μm以上であってもよく、また、10μm以下であることが好ましく、8μm以下であってもよく、5μm以下であってもよい。 The thickness of the cured product layer may be 0.1 μm or more, 0.5 μm or more, 1 μm or more, 2 μm or more, and 10 μm or less. Is preferable, and it may be 8 μm or less, or 5 μm or less.
重合性液晶化合物の硬化物層は、基材層上に、重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布、乾燥し、重合性液晶化合物を重合させることによって形成することができる。液晶層形成用組成物は、基材層上に形成された配向層上に塗布してもよい。 The cured product layer of the polymerizable liquid crystal compound can be formed by applying a liquid crystal layer forming composition containing the polymerizable liquid crystal compound on the base material layer, drying the composition, and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound. The liquid crystal layer forming composition may be applied on the alignment layer formed on the base material layer.
基材層としては、樹脂材料で形成されたフィルムを用いることができ、例えば上記した保護層を形成するために用いる熱可塑性樹脂として説明した樹脂材料を用いたフィルムを挙げることができる。基材層の厚みは特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の点から1~300μm以下であることが好ましく、20~200μmであることがより好ましく、30~120μmであることがさらに好ましい。基材層は、重合性液晶化合物の硬化物層とともに光学積層体に組み込まれていてもよく、基材層を剥離して、重合性液晶化合物の硬化物層のみ、又は、当該硬化物層及び配向層が光学積層体に組み込まれていてもよい。基材層が重合性液晶化合物の硬化物層とともに光学積層体1に組み込まれている場合、基材層の厚みは30μm未満であってもよく、例えば25μm以下であってもよい。
As the base material layer, a film formed of a resin material can be used, and examples thereof include a film using the resin material described as the thermoplastic resin used for forming the protective layer described above. The thickness of the base material layer is not particularly limited, but is generally preferably 1 to 300 μm or less, more preferably 20 to 200 μm, and 30 to 120 μm from the viewpoint of workability such as strength and handleability. Is even more preferable. The base material layer may be incorporated into the optical laminate together with the cured product layer of the polymerizable liquid crystal compound, and the base material layer may be peeled off so that only the cured product layer of the polymerizable liquid crystal compound or the cured product layer and the base material layer can be incorporated. The alignment layer may be incorporated in the optical laminate. When the base material layer is incorporated into the
位相差層10は、図1、図3、及び図5に示すように第1硬化物層11であってもよく、図2、図4、及び図6に示すように、第1硬化物層11及び第2硬化物層12を含むものであってもよく、第1硬化物層11及び第2硬化物層12に加えて、これらを貼合するための貼合層(X)25を含むものであってもよい。
The
貼合層(X)25のように2層以上の硬化物層を貼合するための貼合層は、粘着剤層又は接着剤層である。貼合層は、接着剤層であることが好ましく、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化した接着剤層であることがより好ましく、紫外線硬化型接着剤を硬化した接着剤層であることがさらに好ましい。貼合層(X)25を接着剤層とすることにより、光学積層体1の折り曲げ、折り畳み、又は巻回し等を行ったときに硬化物層にシワが発生することを抑制することができるため、好ましい。
The bonding layer for bonding two or more cured product layers such as the bonding layer (X) 25 is a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer. The bonding layer is preferably an adhesive layer, more preferably an adhesive layer obtained by curing an active energy ray-curable adhesive, and further preferably an adhesive layer obtained by curing an ultraviolet curable adhesive. preferable. By using the bonded layer (X) 25 as an adhesive layer, it is possible to prevent wrinkles from being generated in the cured product layer when the
貼合層の厚みは特に限定されない。貼合層が粘着剤層である場合の厚みは、3μm以上であることが好ましく、10μm以上であってもよく、15μm以上であってもよく、また、30μm以下であることが好ましく、25μm以下であってもよく、20μm以下であってもよい。貼合層が接着剤層である場合の厚みは、0.1μm以上であることが好ましく、0.5μm以上であってもよく、また10μm以下であることが好ましく、5μm以下であってもよい。 The thickness of the bonded layer is not particularly limited. When the bonding layer is an adhesive layer, the thickness is preferably 3 μm or more, preferably 10 μm or more, 15 μm or more, and preferably 30 μm or less, and 25 μm or less. It may be 20 μm or less. When the bonded layer is an adhesive layer, the thickness is preferably 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and preferably 10 μm or less, and may be 5 μm or less. ..
位相差層10の厚みは、位相差層10に含まれる硬化物層の総数にもよるが、通常、0.5μm以上であり、1μm以上であってもよく、2μm以上であってもよく、5μm以上であってもよく、また、50μm以下であることが好ましく、30μm以下であってもよく、15μm以下であってもよく、10μm以下であってもよい。
The thickness of the
(バリア層)
バリア層4は、光学積層体1において直線偏光層31中のヨウ素が粘着剤層5に移動することを抑制するために設けることができる。バリア層4の温度40℃、相対湿度90%RHにおける透湿度は、1g/m2/24hr以上であり、30g/m2/24hr以上であってもよく、100g/m2/24hr以上であってもよく、200g/m2/24hr以上であってもよく、500g/m2/24hr以上であってもよい。バリア層の上記透湿度は、2000g/m2/24hr以下であり、1500g/m2/24hr以下であってもよく、1200g/m2/24hr以下であってもよく、1000g/m2/24hr以下であってもよい。バリア層4の上記透湿度が1g/m2/24hr未満になると、高温高湿環境下において直線偏光層31の光学劣化が顕著になりやすい傾向にあり、2000g/m2/24hrを超えると、金属層6の腐食が抑制されにくくなる傾向にある。上記透湿度は、後述する実施例に記載のように、透湿度試験法(カップ法、JIS Z 0208)によって測定することができる。
(Barrier layer)
The
バリア層4は、上記透湿度を有するものであれば特に限定されない。バリア層4は、樹脂フィルムであってもよく、無機層であってもよく、活性エネルギー線硬化性樹脂が硬化した樹脂硬化層であってもよい。
The
バリア層4が樹脂フィルムである場合、樹脂フィルムは単層構造であってもよく多層構造であってもよい。樹脂フィルムとしては、例えば上記した保護層を形成するために用いる熱可塑性樹脂として説明した樹脂材料を用いたフィルムを挙げることができる。樹脂フィルムは、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂フィルム;シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂ともいう)フィルム;(メタ)アクリル樹脂フィルムが好ましい。
When the
樹脂フィルムは、λ/4位相差特性等の位相差特性を有していてもよいが、位相差特性を有していない(ゼロ位相差特性である)ことが好ましい。樹脂フィルムが位相差特性を有していないことにより、光学積層体1の光学特性に影響を及ぼすことを抑制することができる。
The resin film may have a phase difference characteristic such as a λ / 4 phase difference characteristic, but preferably does not have a phase difference characteristic (zero phase difference characteristic). Since the resin film does not have the phase difference characteristic, it is possible to suppress the influence on the optical characteristic of the
樹脂フィルムの厚みは、樹脂フィルムを構成する樹脂材料の種類によって選定すればよい。樹脂フィルムの厚みは、例えば1μm以上であることが好ましく、4μm以上であることがより好ましく、8μm以上であってもよく、また、25μm以下であることが好ましく、15μm以下であることがより好ましい。樹脂フィルムの厚みが大きくなりすぎると、光学積層体1を折曲げた際に、光学特性が低下する等の影響が生じる恐れがある。
The thickness of the resin film may be selected according to the type of resin material constituting the resin film. The thickness of the resin film is, for example, preferably 1 μm or more, more preferably 4 μm or more, may be 8 μm or more, and is preferably 25 μm or less, more preferably 15 μm or less. .. If the thickness of the resin film is too large, there is a possibility that the optical characteristics may be deteriorated when the
バリア層4が樹脂フィルムである場合、位相差層10とバリア層4とは、貼合層(Z)24によって貼合されることが好ましい。上記したように貼合層(Z)24は、接着剤層又は粘着剤層である。貼合層(Z)24が接着剤層であると、貼合層(Z)24を粘着剤層とする場合に比べて、厚みが小さくても十分な接着力で位相差層10とバリア層4とを貼合することができ、距離Dを小さくできることから、好ましい。
When the
バリア層4が無機層である場合、無機層は単層構造であってもよく多層構造であってもよい。無機層を構成する無機材料としては、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、及び、これらのうちの2種以上を含む混合物が挙げられる。無機材料に含まれる金属原子としては、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、カリウム(K)、ナトリウム(Na)、ホウ素(B)、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)、及びこれら原子のうちの2種以上が挙げられる。無機材料は、水素原子(H)、リン原子(P)、硫黄原子(S)、フッ素原子(F)、塩素原子(Cl)、及びこれら原子のうちの2種以上をさらに含んでいてもよい。
When the
無機層は、公知の化学気相成長法(CVD法)又は物理気相成長法(PVD法)等によって形成することができる。化学気相成長法としては、グロー放電プラズマ等を用いたプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等が挙げられる。物理気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はイオンクラスタービーム法等が挙げられる。 The inorganic layer can be formed by a known chemical vapor deposition method (CVD method), physical vapor deposition method (PVD method), or the like. Examples of the chemical vapor deposition method include a plasma chemical vapor deposition method using glow discharge plasma, a thermochemical vapor deposition method, a photochemical vapor deposition method, and the like. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, an ion cluster beam method, and the like.
無機層に厚みは特に限定されず、例えば1nm以上であってもよく、10nm以上であってもよく、30nm以上であってもよく、また、1000nm以下であってもよく、300nm以下であってもよく、200nm以下であってもよい。 The thickness of the inorganic layer is not particularly limited, and may be, for example, 1 nm or more, 10 nm or more, 30 nm or more, 1000 nm or less, or 300 nm or less. It may be 200 nm or less.
光学積層体1において、無機層は位相差層10の表面に直接形成されていてもよく、基材フィルム上に無機層を形成し、これを位相差層10に貼合してもよい。基材フィルムは、上記した保護層に用いることができる熱可塑性樹脂を用いたフィルムを使用できる。
In the
バリア層4が樹脂硬化層である場合、樹脂硬化層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化することによって形成することができる。樹脂硬化層は、位相差層10の表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂を塗布して硬化したオーバーコート層であってもよい。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、公知の活性エネルギー線硬化性樹脂であれば特に限定されず、例えば、後述する接着剤層を形成するために用いる活性エネルギー線硬化型接着剤を挙げることができる。
When the
樹脂硬化層の厚みは特に限定されず、例えば0.5μm以上であってもよく、1μm以上であってもよく、また、10μm以下であってもよく、5μm以下であってもよく、3μm以下であってもよい。 The thickness of the cured resin layer is not particularly limited, and may be, for example, 0.5 μm or more, 1 μm or more, 10 μm or less, 5 μm or less, or 3 μm or less. It may be.
バリア層4は、樹脂フィルムであることが好ましい。樹脂フィルムは、無機層に比較すると、光学積層体1を所望のサイズに裁断したり、光学積層体1の端面加工を施したりする等の加工時に、クラックが入ることを抑制できると考えられる。また、樹脂硬化層では、上記透湿度を実現するために活性エネルギー線硬化性樹脂を厚く塗布する必要が生じる場合があるが、この場合、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化により発生する硬化熱により光学積層体1にシワが発生したり、光学積層体1に反りが発生することが懸念される。これに対し、樹脂フィルムは、樹脂硬化層に比較すると、上記シワ及び反りの発生を抑制できると考えられる。
The
(粘着剤層)
粘着剤層5は、粘着剤を用いて形成された層である。粘着剤は、それ自体を金属層等の被着体に張り付けることで接着性を発現するものであり、いわゆる感圧型接着剤と称されるものである。また、後述する活性エネルギー線硬化型粘着剤は、エネルギー線を照射することにより、架橋度や接着力を調整することができる。
(Adhesive layer)
The pressure-
粘着剤層5の厚みは、金属層6等の被着体に貼合する観点から、好ましくは5μm以上30μm以下であり、より好ましくは10μm以上20μm以下である。金属層6に近い位置に配置される粘着剤層5の厚みが小さい場合、バリア層4を備えていない積層体に比較すると、粘着剤層5のヨウ素濃度が大きくなりやすい。そのため、本実施形態の光学積層体1のようにすることにより、金属層6に発生する腐食を効果的に抑制することができる。
The thickness of the pressure-
粘着剤としては、従来公知の光学的な透明性に優れる粘着剤を特に制限なく用いることができ、例えば、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系等のベースポリマーを有する粘着剤を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等であってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性(以下、リワーク性ともいう。)、耐候性、耐熱性等に優れるアクリル系樹脂をベースポリマーとした粘着剤が好適である。粘着剤層は、(メタ)アクリル系樹脂、架橋剤、シラン化合物を含む粘着剤の反応生成物から構成されることが好ましく、その他の成分を含んでいてもよい。 As the pressure-sensitive adhesive, a conventionally known pressure-sensitive adhesive having excellent optical transparency can be used without particular limitation, and for example, a pressure-sensitive adhesive having a base polymer such as an acrylic type, a urethane type, a silicone type, or a polyvinyl ether type is used. be able to. Further, it may be an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, a thermosetting pressure-sensitive adhesive or the like. Among these, a pressure-sensitive adhesive using an acrylic resin as a base polymer, which is excellent in transparency, adhesive strength, removability (hereinafter, also referred to as reworkability), weather resistance, heat resistance, etc., is preferable. The pressure-sensitive adhesive layer is preferably composed of a reaction product of a pressure-sensitive adhesive containing a (meth) acrylic resin, a cross-linking agent, and a silane compound, and may contain other components.
粘着剤層5は、活性エネルギー線硬化型粘着剤を用いて形成してもよい。活性エネルギー線硬化型粘着剤は、上記した粘着剤に、多官能性アクリレート等の紫外線硬化性化合物を配合し、粘着剤層を形成した後に紫外線を照射して硬化させることにより、より硬い粘着剤層を形成することができる。活性エネルギー線硬化型粘着剤は、紫外線や電子線等のエネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有している。活性エネルギー線硬化型粘着剤は、エネルギー線照射前においても粘着性を有しているため、金属層等の被着体に密着し、エネルギー線の照射により硬化して密着力を調整することができる性質を有する粘着剤である。
The pressure-
活性エネルギー線硬化型粘着剤は、一般にはアクリル系粘着剤と、エネルギー線重合性化合物とを主成分として含む。通常はさらに架橋剤が配合されており、また必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を配合することもできる。 The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive generally contains an acrylic pressure-sensitive adhesive and an energy ray-polymerizable compound as main components. Usually, a cross-linking agent is further blended, and if necessary, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, or the like can also be blended.
粘着剤層5の貯蔵弾性率は、例えば50,000Pa以下とすることができ、49,000Pa以下であってもよく、40,000Pa以下であってもよく、10,000Pa以上であることが好ましい。粘着剤層5の貯蔵弾性率が上記範囲にあると、例えば金属層6との密着力を向上することができる。粘着剤層5の貯蔵弾性率が50,000Pa以下であると、高温乾燥下や高温高湿下で金属層6との間に浮きが発生することを抑制することができる。本明細書において「粘着剤層の貯蔵弾性率」は、JIS K7244-6に準拠して、温度25℃で測定した値であり、市販の粘弾性測定装置により測定することができる。粘弾性測定装置としては、例えば後述する実施例に示すように、Physica社製、MCR300を用いることができる。
The storage elastic modulus of the pressure-
(金属層)
金属層6は、タッチパネルのタッチセンサを構成するための導電層として用いることができる。金属層6は、1種以上の金属によって形成された層である。金属層6は、その表面に不動態被膜(酸化被膜)が形成されていてもよいものとする。金属層6は単層構造であってもよく多層構造であってもよい。なお、不動態被膜は1つの層としては数えないものとする。
(Metal layer)
The
金属層6を構成する金属としては、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、金(Au)、銀(Ag)、チタン(Ti)、パラジウム(Pd)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、白金(Pt)、鉄(Fe)、インジウム(In)、錫(Sn)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)、ネオジウム(Nd)、モリブデン(Mo)、又はこれらの金属を2種以上含む合金が挙げられる。これらのうち、金属層6は、主成分がアルミニウム又は銅であることが好ましく、添加剤としてチタンを含んでいてもよい。ここで、主成分とは、金属層6を構成する金属のうち、50質量%以上を占める金属をいう。
Examples of the metal constituting the
金属層6は、例えば透光性基材に形成することができ、透光性基材の表面全面にわたって形成された連続膜であってもよく、透光性基材の表面に形成された金属配線層であってもよい。金属配線層は、メタルメッシュであってもよい。透光性基材は、透光性を有するものであればよく、例えば上記した保護層を形成するために用いる熱可塑性樹脂として説明した樹脂材料を用いたフィルム、ガラスフィルム、ガラス基板等が挙げられる。
The
金属層6の形成方法は特に限定されず、透光性基材の表面に、例えば、上記した化学気相成長法、物理気相成長法、インクジェット印刷法、グラビア印刷法、電解メッキ、無電解メッキ等によって形成すればよい。金属層6は、スパッタリング法によって形成されることが好ましい。
The method for forming the
金属層6の厚みは、通常0.01μm以上であり、0.05μm以上であってもよく、また、薄型化の観点から、3μm以下であることが好ましく、1μm以下であることがより好ましく、0.8μm以下であることがさらに好ましい。
The thickness of the
金属層6が金属配線層である場合、その線幅は、通常10μm以下であり、5μm以下であってもよく、3μm以下であってもよく、通常0.5μm以上である。
When the
(第1貼合層、第2貼合層、貼合層(X)、貼合層(Y)、貼合層(Z)、貼合層)
第1及び第2貼合層、貼合層(X)~(Z)、並びに貼合層としては、粘着剤層又は接着剤層が挙げられる。
(1st bonding layer, 2nd bonding layer, bonding layer (X), bonding layer (Y), bonding layer (Z), bonding layer)
Examples of the first and second bonding layers, bonding layers (X) to (Z), and bonding layers include an adhesive layer or an adhesive layer.
上記した各貼合層が粘着剤層である場合、上記した粘着剤層で説明した粘着剤を用いて形成することができる。各貼合層が粘着剤層である場合、当該粘着剤層の貯蔵弾性率は、50,000Pa以上であることが好ましく、100,000Pa以上であることがより好ましく、150,000Pa以上であることがさらに好ましい。貼合したときの気泡の発生を抑制する観点から、上記粘着剤層の貯蔵弾性率は、200,000Pa以下であることが好ましい。粘着剤層の貯蔵弾性率が上記の範囲内であることにより、光学積層体1の折り曲げ、折り畳み、巻回し等を行ったときに硬化物層にシワが発生することを抑制することができるため、好ましい。貯蔵弾性率の測定方法については上記のとおりである。各貼合層が粘着剤層である場合、粘着剤層の厚みは、好ましくは2μm以上20μm以下であり、より好ましくは4μm以上17μm以下である。
When each of the above-mentioned bonding layers is a pressure-sensitive adhesive layer, it can be formed by using the pressure-sensitive adhesive described in the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer. When each bonded layer is a pressure-sensitive adhesive layer, the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 50,000 Pa or more, more preferably 100,000 Pa or more, and 150,000 Pa or more. Is even more preferable. From the viewpoint of suppressing the generation of bubbles when bonded, the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 200,000 Pa or less. Since the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is within the above range, it is possible to prevent wrinkles from being generated in the cured product layer when the
上記した各貼合層が接着剤層である場合、これらが粘着剤層である場合に比較すると、金属層6の腐食を抑制しやすいと考えられる。上記した各貼合層が接着剤層である場合、接着剤層は、接着剤中の硬化性成分を硬化させることによって形成することができる。接着剤層を形成するための接着剤としては、感圧型接着剤(粘着剤)以外の接着剤であって、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。
When each of the above-mentioned bonded layers is an adhesive layer, it is considered that it is easier to suppress the corrosion of the
水系接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を水に溶解、又は分散させた接着剤が挙げられる。水系接着剤を用いた場合の乾燥方法については特に限定されるものではないが、例えば、熱風乾燥機や赤外線乾燥機を用いて乾燥する方法が採用できる。 Examples of the water-based adhesive include an adhesive in which a polyvinyl alcohol-based resin is dissolved or dispersed in water. The drying method when a water-based adhesive is used is not particularly limited, but for example, a method of drying using a hot air dryer or an infrared dryer can be adopted.
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線の照射によって硬化する硬化性化合物を含む無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。無溶剤型の活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることにより、層間の密着性を向上させることができる。 Examples of the active energy ray-curable adhesive include solvent-free active energy ray-curable adhesives containing curable compounds that are cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays. Can be mentioned. By using a solvent-free active energy ray-curable adhesive, the adhesion between layers can be improved.
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、良好な接着性を示すことから、カチオン重合性の硬化性化合物、ラジカル重合性の硬化性化合物のいずれか一方又は両方を含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるための光カチオン重合開始剤等のカチオン重合開始剤、又はラジカル重合開始剤をさらに含むことができる。 The active energy ray-curable adhesive preferably contains one or both of a cationically polymerizable curable compound and a radically polymerizable curable compound because it exhibits good adhesiveness. The active energy ray-curable adhesive may further contain a cationic polymerization initiator such as a photocationic polymerization initiator for initiating the curing reaction of the curable compound, or a radical polymerization initiator.
カチオン重合性の硬化性化合物としては、例えば、脂環式環に結合したエポキシ基を有する脂環式エポキシ化合物、2個以上のエポキシ基を有し芳香環を有さない多官能脂肪族エポキシ化合物、エポキシ基を1つ有する単官能エポキシ基(但し、脂環式エポキシ化合物に含まれるものを除く)、2個以上のエポキシ基を有し芳香環を有する多官能芳香族エポキシ化合物等のエポキシ系化合物;分子内に1個又は2個以上のオキセタン環を有するオキセタン化合物;これらの組み合わせを挙げることができる。 Examples of the cationically polymerizable curable compound include an alicyclic epoxy compound having an epoxy group bonded to an alicyclic ring, and a polyfunctional aliphatic epoxy compound having two or more epoxy groups and having no aromatic ring. , Monofunctional epoxy group having one epoxy group (excluding those contained in alicyclic epoxy compounds), Epoxide type such as polyfunctional aromatic epoxy compound having two or more epoxy groups and aromatic ring Compounds; oxetane compounds having one or more oxetane rings in the molecule; combinations thereof.
ラジカル重合性の硬化性化合物としては、例えば、(メタ)アクリル系化合物(分子内に1個又は2個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物)、ラジカル重合性の二重結合を有するその他のビニル系化合物、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。 Examples of the radically polymerizable curable compound include (meth) acrylic compounds (compounds having one or more (meth) acryloyloxy groups in the molecule), radically polymerizable double bonds, and others. Vinyl-based compounds of the above, or combinations thereof can be mentioned.
活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて、光増感助剤等の増感剤を含有することができる。増感剤を使用することにより、反応性が向上し、接着剤層の機械強度や接着強度をさらに向上させることができる。増感剤としては、公知のものを適宜適用することができる。増感剤を配合する場合、その配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量100質量部に対し、0.1~20質量部の範囲とすることが好ましい。 The active energy ray-curable adhesive may contain a sensitizer such as a photosensitizer, if necessary. By using the sensitizer, the reactivity can be improved, and the mechanical strength and the adhesive strength of the adhesive layer can be further improved. As the sensitizer, known ones can be appropriately applied. When the sensitizer is blended, the blending amount is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the active energy ray-curable adhesive.
活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、溶媒等の添加剤を含有することができる。 Active energy ray-curable adhesives include ion trapping agents, antioxidants, chain transfer agents, tackifiers, thermoplastic resins, fillers, flow regulators, plasticizers, defoamers, and antistatic agents, as needed. It can contain additives such as agents, leveling agents, and solvents.
活性エネルギー線硬化型接着剤を用いた場合は、紫外線、可視光、電子線、X線のような活性エネルギー線を照射し、接着剤の塗布層を硬化させて接着剤層を形成することができる。活性エネルギー線としては、紫外線が好ましく、この場合の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等を用いることができる。 When an active energy ray-curable adhesive is used, it is possible to irradiate active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays to cure the coating layer of the adhesive to form an adhesive layer. can. As the active energy ray, ultraviolet rays are preferable, and as a light source in this case, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave-excited mercury lamp, a metal halide lamp, or the like may be used. can.
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。以下、配合量又は含有量を表す部及び%は、特に断りのない限り質量基準である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these examples. Hereinafter, the parts and% representing the blending amount or content are based on mass unless otherwise specified.
(1)測定方法及び評価方法
[透湿度の測定]
実施例及び比較例で用いた保護層及びバリア層について、恒温恒湿槽を用い、温度40℃、相対湿度90%RH、測定時間24時間の測定条件で、透湿度試験方法(カップ法、JIS Z 0208に準じる)により水蒸気透過率を測定し、これを透湿度とした。
(1) Measurement method and evaluation method [Measurement of moisture permeability]
For the protective layer and barrier layer used in Examples and Comparative Examples, a humidity permeation test method (cup method, JIS) using a constant temperature and humidity chamber under the measurement conditions of a temperature of 40 ° C., a relative humidity of 90% RH, and a measurement time of 24 hours. The water vapor permeability was measured by (according to Z 0208), and this was taken as the moisture permeability.
[粘着剤層におけるヨウ素量の測定]
実施例及び比較例で得た光学積層体を25mm×50mmの大きさに裁断し、保護層(HC付COPフィルム)上に粘着剤を用いて無アルカリガラスを貼合し、粘着剤層(a)上に剥離フィルムを貼合した試験片(1)を作製した。試験片(1)を、温度85℃、相対湿度85%RHのオーブン中で240時間保管した後、剥離フィルムを剥がし、粘着剤層(a)の粘着剤を掻き取った。下記の条件で行った酸化燃焼イオンクロマトグラフ法により、掻き取った粘着剤に含まれるヨウ素量[ppm]を測定した。
<試料燃焼>
・装置:株式会社三菱化学アナリテック製 AQF-2100H
・燃焼条件:燃焼温度を1100℃とし、ガス流量は、アルゴン流量を200mL/分、酸素流量を400mL/分、加湿空気流量を100mL/分とした。
<イオンクロオマトグラフ>
・装置:サーモフィッシャーサイエンティフィック社製 Integrion
・カラム:サーモフィッシャーサイエンティフィック社製 IonPac AS19
・測定条件:溶離液をKOH水溶液グラジエント、流速を1.0mL/分、注入量を100μL、測定モードをサプレッサ式、検出器を電気伝導度検出器とした。
[Measurement of iodine content in the adhesive layer]
The optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 25 mm × 50 mm, and non-alkali glass was bonded onto a protective layer (COP film with HC) using an adhesive to form an adhesive layer (a). ) Was attached to the release film to prepare a test piece (1). The test piece (1) was stored in an oven at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% RH for 240 hours, then the release film was peeled off and the pressure-sensitive adhesive of the pressure-sensitive adhesive layer (a) was scraped off. The amount of iodine [ppm] contained in the scraped adhesive was measured by an oxidative combustion ion chromatograph method performed under the following conditions.
<Sample combustion>
・ Equipment: AQF-2100H manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.
-Combustion conditions: The combustion temperature was 1100 ° C., the gas flow rate was 200 mL / min for the argon flow rate, 400 mL / min for the oxygen flow rate, and 100 mL / min for the humidified air flow rate.
<Aeon Chroomatograph>
・ Equipment: Integration manufactured by Thermo Fisher Scientific Co., Ltd.
-Column: IonPac AS19 manufactured by Thermo Fisher Scientific
-Measurement conditions: The eluent was a KOH aqueous solution gradient, the flow rate was 1.0 mL / min, the injection amount was 100 μL, the measurement mode was a suppressor type, and the detector was an electrical conductivity detector.
[粘着剤層の貯蔵弾性率の測定]
実施例及び比較例で用いた粘着剤層の貯蔵弾性率は、次の方法により測定した。粘着剤層の厚みが0.2mmになるように複数枚積層した。積層した粘着剤層を、直径8mmの円柱体となるように打ち抜き、これを貯蔵弾性率の測定用サンプルとした。測定用サンプルについて、JIS K7244-6に準拠し、粘弾性測定装置(Physica社製、MCR300)を用いてねじりせん断法により、以下の条件で貯蔵弾性率[Pa]を測定した。
<測定条件>
・ノーマルフォースFN:1N
・歪みγ:1%
・周波数:1Hz
・温度:25℃
[Measurement of storage elastic modulus of adhesive layer]
The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer used in Examples and Comparative Examples was measured by the following method. A plurality of sheets were laminated so that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 0.2 mm. The laminated pressure-sensitive adhesive layer was punched out so as to form a cylinder having a diameter of 8 mm, and this was used as a sample for measuring the storage elastic modulus. The storage elastic modulus [Pa] of the measurement sample was measured under the following conditions by a torsional shear method using a viscoelasticity measuring device (MCR300, manufactured by Physica) in accordance with JIS K7244-6.
<Measurement conditions>
・ Normal force FN: 1N
・ Distortion γ: 1%
・ Frequency: 1Hz
・ Temperature: 25 ℃
[金属層の腐食性の評価]
無アルカリガラス表面にスパッタリングによって厚み約500nmの金属アルミニウム層を形成した金属層付ガラス基板(ジオマテック社製)を準備した。次に、実施例及び比較例で得た光学積層体を50mm×60mmの大きさに裁断し、粘着剤層(a)上に金属層付ガラス基板の金属アルミニウム層側を貼着し、保護層(HC付COPフィルム)上に粘着剤を用いて無アルカリガラスを貼合した試験片(2)を作製した。試験片(2)を、温度85℃、相対湿度85%RHのオーブン中で240時間保管した後、試験片(2)の金属層の状態(光学積層体の裁断片が貼着された部分)を、金属層付ガラス基板の背面から光を当てて、保護層側の無アルカリガラスの表面から拡大鏡を通して観察した。観察した金属層において、孔食(直径0.1mm以上であり、光を透過することが可能な孔)の数を数えて以下の基準で評価した。
A:孔食の数が4個以下である、
B:孔食の数が5個以上20個以下である、
C:20個超の孔食が発生している。
[Evaluation of corrosiveness of metal layer]
A glass substrate with a metal layer (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) having a metal-aluminum layer having a thickness of about 500 nm formed on the surface of non-alkali glass by sputtering was prepared. Next, the optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 50 mm × 60 mm, and the metal-aluminum layer side of the glass substrate with a metal layer was attached onto the pressure-sensitive adhesive layer (a) to form a protective layer. A test piece (2) was prepared by laminating non-alkali glass on (COP film with HC) using an adhesive. After storing the test piece (2) in an oven at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% RH for 240 hours, the state of the metal layer of the test piece (2) (the part to which the cut piece of the optical laminate is attached). Was observed through a magnifying glass from the surface of the non-alkali glass on the protective layer side by shining light from the back surface of the glass substrate with a metal layer. In the observed metal layer, the number of pitting corrosion (pores having a diameter of 0.1 mm or more and capable of transmitting light) was counted and evaluated according to the following criteria.
A: The number of pitting corrosion is 4 or less,
B: The number of pitting corrosion is 5 or more and 20 or less.
C: More than 20 pitting corrosions have occurred.
(2)光学積層体を構成する各層の準備
[活性エネルギー線硬化型接着剤の調製]
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤を調製した。
<カチオン重合性化合物>
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル (商品名:EX-211L、ナガセケムテックス(株)製) 30部
・3-エチル-3{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン(商品名:OXT-221、東亞合成(株)製) 13部
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:EP-4100E、(株)ADEKA、粘度13Pa・s(温度25℃)) 12部
・芳香族含有オキセタン化合物(商品名:TCM-104、TRONLY製) 45部
<光カチオン重合開始剤>
・CPI-100P、サンアプロ(株)製、50%プロピレンカーボネート溶液 2.25部(固形分量)
<光増感助剤>
・1,4-ジエトキシナフタレン 1部
(2) Preparation of each layer constituting the optical laminate [Preparation of active energy ray-curable adhesive]
The following components were mixed and mixed, and then defoamed to prepare an active energy ray-curable adhesive.
<Cation-polymerizable compound>
・ Neopentyl glycol diglycidyl ether (trade name: EX-211L, manufactured by Nagase ChemteX Corporation) 30 parts ・ 3-ethyl-3 {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl} oxetane (product) Name: OXT-221, manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd. 13 parts, bisphenol A type epoxy resin (trade name: EP-4100E, ADEKA Co., Ltd., viscosity 13 Pa · s (
-CPI-100P, manufactured by San-Apro Co., Ltd., 50% propylene carbonate solution 2.25 parts (solid content)
<Photosensitizer>
・ 1,4-
[偏光板の作製]
厚み20μm、重合度2,400、ケン化度99.9%以上のポリビニルアルコールフィルムを、125℃に加熱したロール上で延伸倍率4.5倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、28℃の水に30秒間浸漬した後、水100部あたりヨウ素0.05部及びヨウ化カリウム5部を含有する28℃の染色浴に30秒間浸漬した。次いで、水100部あたりホウ酸5.5部及びヨウ化カリウム15部を含有する64℃のホウ酸水溶液に、110秒間浸漬した。続いて、水100部あたりホウ酸2.35部及びヨウ化カリウム15部を含有する67℃のホウ酸水溶液に、30秒間浸漬した。その後、10℃の純水を用いて水洗し、80℃で乾燥して、直線偏光層を得た。得られた直線偏光層の厚みは8μmであった。さらに、得られた直線偏光層の片面に水系接着剤を介して保護層を貼合し、90℃で乾燥して、直線偏光層の片面に保護層を有する偏光板を得た。保護層としては、厚み27μmのハードコート層付シクロオレフィンフィルム(以下、「HC付COPフィルム」ということがある。)を用い、HC付COPフィルムのシクロオレフィンフィルム側を直線偏光層に貼合した。得られた偏光板は、HC付COPフィルム(保護層)、接着剤層(第1貼合層)、及び直線偏光層がこの順に積層されたものであった。HC付COPフィルムの透湿度は8g/m2/24hrであった。
[Preparation of polarizing plate]
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 20 μm, a degree of polymerization of 2,400, and a saponification degree of 99.9% or more was uniaxially stretched on a roll heated to 125 ° C. at a draw ratio of 4.5 times, and 28 while maintaining a tense state. After soaking in water at ° C. for 30 seconds, it was immersed in a dyeing bath at 28 ° C. containing 0.05 part of iodine and 5 parts of potassium iodide per 100 parts of water for 30 seconds. Then, it was immersed in a boric acid aqueous solution at 64 ° C. containing 5.5 parts of boric acid and 15 parts of potassium iodide per 100 parts of water for 110 seconds. Subsequently, it was immersed in a boric acid aqueous solution at 67 ° C. containing 2.35 parts of boric acid and 15 parts of potassium iodide per 100 parts of water for 30 seconds. Then, it was washed with pure water at 10 ° C. and dried at 80 ° C. to obtain a linear polarizing layer. The thickness of the obtained linear polarizing layer was 8 μm. Further, a protective layer was attached to one side of the obtained linear polarizing layer via an aqueous adhesive and dried at 90 ° C. to obtain a polarizing plate having a protective layer on one side of the linear polarizing layer. As the protective layer, a cycloolefin film with a hard coat layer having a thickness of 27 μm (hereinafter, may be referred to as “COP film with HC”) was used, and the cycloolefin film side of the COP film with HC was bonded to the linear polarizing layer. .. The obtained polarizing plate was a COP film with HC (protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), and a linear polarizing layer laminated in this order. The moisture permeability of the COP film with HC was 8 g / m 2/24 hr.
[位相差層の作製]
(1/2波長位相差層の作製)
透明樹脂で形成された基材層上に、配向層形成用組成物を塗布し乾燥することにより、λ/2配向処理をした。次いで、配向層上に、ディスコチック重合性液晶化合物を含む液晶層形成用組成物を塗布し、加熱及びUV照射をして重合性液晶化合物の配向を固定化することにより、基材層の配向層上に、厚み2μmの硬化物層としての1/2波長位相差層を形成した。
[Preparation of retardation layer]
(Preparation of 1/2 wavelength retardation layer)
A composition for forming an alignment layer was applied onto a substrate layer formed of a transparent resin and dried to perform a λ / 2 alignment treatment. Next, a composition for forming a liquid crystal layer containing a discotic polymerizable liquid crystal compound is applied onto the alignment layer, and the orientation of the substrate layer is fixed by heating and UV irradiation to fix the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. A 1/2 wavelength retardation layer as a cured product layer having a thickness of 2 μm was formed on the layer.
(λ/4波長位相差層の作製)
透明樹脂で形成された基材層上のラビング処理された配向層に、棒状のネマチック重合性液晶化合物(液晶モノマー)を含む液晶層形成用組成物を塗布し、屈折率異方性を保持した状態で固化することにより、基材層の配向層上に、厚み1μmの硬化物層としての1/4波長位相差層を形成した。
(Preparation of λ / 4 wavelength retardation layer)
A liquid crystal layer forming composition containing a rod-shaped nematically polymerizable liquid crystal compound (liquid crystal monomer) was applied to the rubbing-treated alignment layer on the base material layer formed of the transparent resin to maintain the refractive anisotropy. By solidifying in the state, a 1/4 wavelength retardation layer as a cured product layer having a thickness of 1 μm was formed on the oriented layer of the base material layer.
(基材層付き位相差層の作製)
基材層上の1/2波長位相差層の表面、及び、基材層上の1/4波長位相差層の表面のそれぞれにコロナ処理を施した。これら2つの位相差層の遅相軸のなす角度が60°となるように、それぞれのコロナ処理面どうしを、上記で調製した活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて貼合した。その後、1/4波長位相差層側から、紫外線照射装置〔フュージョンUVシステムズ(株)製〕を用い、積算光量400mJ/cm2(UV-B)で紫外線照射を行って活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させ、貼合層(貼合層(X))としての接着剤層を形成した。貼合は、ラミネータを用いて行い、活性エネルギー線硬化型接着剤は、硬化後の接着剤層の厚みが3μmとなるように塗布した。これにより、基材層、配向層、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、配向層、及び基材層がこの順に積層された基材層付き位相差層を得た。なお、基材層付き位相差層のうち、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、及び1/4波長位相差層(第2硬化物層)が、実施例及び比較例の光学積層体における位相差層を構成し、この位相差層の厚みは6μmであった。
(Preparation of retardation layer with base material layer)
Corona treatment was applied to the surface of the 1/2 wavelength retardation layer on the base material layer and the surface of the 1/4 wavelength retardation layer on the base material layer. The corona-treated surfaces were bonded to each other using the active energy ray-curable adhesive prepared above so that the angle formed by the slow axes of these two retardation layers was 60 °. After that, from the 1/4 wavelength retardation layer side, using an ultraviolet irradiation device [manufactured by Fusion UV Systems Co., Ltd.], ultraviolet irradiation is performed with an integrated light amount of 400 mJ / cm 2 (UV-B) to perform active energy ray curing type adhesion. The agent was cured to form an adhesive layer as a bonding layer (bonding layer (X)). The bonding was performed using a laminator, and the active energy ray-curable adhesive was applied so that the thickness of the adhesive layer after curing was 3 μm. As a result, the base material layer, the alignment layer, the 1/2 wavelength retardation layer (first cured product layer), the adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), and the 1/4 wavelength retardation layer (first). A retardation layer with a base material layer was obtained in which the 2 cured product layer), the alignment layer, and the base material layer were laminated in this order. Of the retardation layers with a substrate layer, a 1/2 wavelength retardation layer (first cured product layer), an adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), and a 1/4 wavelength retardation layer. The layer (second cured product layer) formed a retardation layer in the optical laminates of Examples and Comparative Examples, and the thickness of this retardation layer was 6 μm.
(3) 光学積層体の作製
〔実施例1〕
上記で作製した基材層付き位相差層の1/2波長位相差層側の基材層及び配向層を剥離して露出した1/2波長位相差層と、上記で作製した偏光板の直線偏光層側とを、厚み5μmのアクリル系粘着剤層(貯蔵弾性率:125,000Pa)を用いて貼合した。1/2波長位相差層と偏光板との貼合は、1/2波長位相差層の遅相軸と直線偏光層の透過軸とのなす角度が15°となるように行った。次いで、1/4波長位相差層側の配向層及び基材層を剥離して露出した1/4波長位相差層に、厚み5μmのアクリル系粘着剤層(貯蔵弾性率:125,000Pa)を介して、アクリル系粘着剤層と接する面にコロナ処理を施したバリア層としての厚み13μmのシクロオレフィンフィルム(1)(以下、「COPフィルム(1)」ということがある。)を貼合し、COPフィルムの表面に、厚み15μmの粘着剤層(貯蔵弾性率:25,500Pa)(以下、「粘着剤層(a)」ということがある。)を形成して光学積層体(1)を得た。
(3) Preparation of Optical Laminate [Example 1]
The 1/2 wavelength retardation layer exposed by peeling off the base material layer and the alignment layer on the 1/2 wavelength retardation layer side of the retardation layer with the base material layer prepared above, and the straight line of the polarizing plate prepared above. The polarizing layer side was bonded to each other using an acrylic pressure-sensitive adhesive layer (storage elastic modulus: 125,000 Pa) having a thickness of 5 μm. The bonding of the 1/2 wavelength retardation layer and the polarizing plate was performed so that the angle formed by the slow axis of the 1/2 wavelength retardation layer and the transmission axis of the linear polarizing layer was 15 °. Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer (storage elastic modulus: 125,000 Pa) having a thickness of 5 μm was applied to the 1/4 wavelength retardation layer exposed by peeling off the alignment layer on the 1/4 wavelength retardation layer side and the base material layer. A cycloolefin film (1) having a thickness of 13 μm (hereinafter, may be referred to as “COP film (1)”) as a barrier layer in which the surface in contact with the acrylic pressure-sensitive adhesive layer is subjected to corona treatment is laminated. , An adhesive layer (storage elastic modulus: 25,500 Pa) (hereinafter, may be referred to as “adhesive layer (a)”) having a thickness of 15 μm is formed on the surface of the COP film to form an optical laminate (1). Obtained.
光学積層体(1)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、粘着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、粘着剤層(貼合層(Z))、COPフィルム(1)(バリア層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(粘着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、44μmであった。 The optical laminate (1) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), adhesive layer (bonding layer) The laminated layer (Z)), the COP film (1) (barrier layer), and the pressure-sensitive adhesive layer (a) were laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 44 μm.
光学積層体(1)に用いたCOPフィルム(1)の透湿度の測定、光学積層体(1)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The moisture permeability of the COP film (1) used for the optical laminate (1) was measured, the iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (1) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. rice field. The results are shown in Table 1.
〔実施例2〕
バリア層として、COPフィルム(1)に代えて、厚み23μmのシクロオレフィンフィルム(2)(以下、「COPフィルム(2)」ということがある。)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体(2)を得た。
[Example 2]
Same as Example 1 except that a cycloolefin film (2) having a thickness of 23 μm (hereinafter, may be referred to as “COP film (2)”) is used as the barrier layer instead of the COP film (1). The optical laminate (2) was obtained.
光学積層体(2)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、粘着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、粘着剤層(貼合層(Z))、COPフィルム(2)(バリア層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(粘着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、54μmであった。 The optical laminate (2) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), adhesive layer (bonding layer) The laminated layer (Z)), the COP film (2) (barrier layer), and the pressure-sensitive adhesive layer (a) were laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 54 μm.
光学積層体(2)に用いたCOPフィルム(2)の透湿度の測定、光学積層体(2)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The moisture permeability of the COP film (2) used for the optical laminate (2) was measured, the iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (2) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. rice field. The results are shown in Table 1.
〔実施例3〕
バリア層として、COPフィルム(1)に代えて、厚み20μmのアクリルフィルム(以下、「PMMAフィルム」ということがある。)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体(3)を得た。
[Example 3]
The optical laminate (3) is the same as in Example 1 except that an acrylic film having a thickness of 20 μm (hereinafter, may be referred to as “PMMA film”) is used as the barrier layer instead of the COP film (1). ) Was obtained.
光学積層体(3)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、粘着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、粘着剤層(貼合層(Z))、PMMAフィルム(バリア層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(粘着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、51μmであった。 The optical laminate (3) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), adhesive layer (bonding layer) The laminated layer (Z)), the PMMA film (barrier layer), and the pressure-sensitive adhesive layer (a) were laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 51 μm.
光学積層体(3)に用いたPMMAフィルムの透湿度の測定、光学積層体(3)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The moisture permeability of the PMMA film used for the optical laminate (3) was measured, the iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (3) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. The results are shown in Table 1.
〔実施例4〕
1/4波長位相差層側の配向層及び基材層を剥離して露出した1/4波長位相差層に、上記で調製した活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて、バリア層としてのCOPフィルム(1)を貼合し、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させて厚み2μmの接着剤層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体(4)を得た。
[Example 4]
The COP as a barrier layer is applied to the 1/4 wavelength retardation layer exposed by peeling off the alignment layer and the base material layer on the 1/4 wavelength retardation layer side by using the active energy ray-curable adhesive prepared above. An optical laminate (4) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the film (1) was bonded and the active energy ray-curable adhesive was cured to form an adhesive layer having a thickness of 2 μm.
光学積層体(4)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、粘着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、接着剤層(貼合層(Z))、COPフィルム(1)(バリア層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(粘着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、41μmであった。 The optical laminate (4) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), adhesive layer (bonding layer) The laminated layer (Z)), the COP film (1) (barrier layer), and the pressure-sensitive adhesive layer (a) were laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 41 μm.
光学積層体(4)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (4) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. The results are shown in Table 1.
〔比較例1〕
1/4波長位相差層側の配向層及び基材層を剥離して露出した1/4波長位相差層に、アクリル系粘着剤層及びバリア層を設けず、粘着剤層(a)を直接形成したこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体(5)を得た。
[Comparative Example 1]
The pressure-sensitive adhesive layer (a) is directly applied to the 1/4 wavelength retardation layer exposed by peeling off the alignment layer and the base material layer on the 1/4 wavelength retardation layer side without providing the acrylic pressure-sensitive adhesive layer and the barrier layer. An optical laminate (5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was formed.
光学積層体(5)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、粘着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(粘着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、26μmであった。 The optical laminate (5) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), and adhesive layer ( a) was laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 26 μm.
光学積層体(5)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (5) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. The results are shown in Table 1.
〔実施例5〕
1/2波長位相差層側の基材層及び配向層を剥離して露出した1/2波長位相差層と、偏光板の直線偏光層側とを、上記で調製した活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて貼合し、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させて厚み2μmの接着剤層を形成したこと以外は、実施例1と同様にして光学積層体(6)を得た。
[Example 5]
The 1/2 wavelength retardation layer exposed by peeling off the base material layer and the alignment layer on the 1/2 wavelength retardation layer side and the linear polarizing layer side of the polarizing plate are bonded to the active energy ray-curable adhesive prepared above. An optical laminate (6) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive was bonded using an agent and the active energy ray-curable adhesive was cured to form an adhesive layer having a thickness of 2 μm.
光学積層体(6)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、接着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、粘着剤層(貼合層(Z))、COPフィルム(1)(バリア層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(接着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、41μmであった。 The optical laminate (6) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), adhesive layer (bonding layer) The laminated layer (Z)), the COP film (1) (barrier layer), and the pressure-sensitive adhesive layer (a) were laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 41 μm.
光学積層体(6)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (6) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. The results are shown in Table 1.
〔実施例6〕
1/4波長位相差層側の配向層及び基材層を剥離して露出した1/4波長位相差層に、上記で調製した活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて、バリア層としてのCOPフィルム(1)を貼合し、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させて厚み2μmの接着剤層を形成したこと以外は、実施例5と同様にして光学積層体(7)を得た。
[Example 6]
The COP as a barrier layer is applied to the 1/4 wavelength retardation layer exposed by peeling off the alignment layer and the base material layer on the 1/4 wavelength retardation layer side by using the active energy ray-curable adhesive prepared above. An optical laminate (7) was obtained in the same manner as in Example 5 except that the film (1) was bonded and the active energy ray-curable adhesive was cured to form an adhesive layer having a thickness of 2 μm.
光学積層体(7)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、接着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、接着剤層(貼合層(Z))、COPフィルム(1)(バリア層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(接着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、38μmであった。 The optical laminate (7) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), adhesive layer (bonding layer) The laminated layer (Z)), the COP film (1) (barrier layer), and the pressure-sensitive adhesive layer (a) were laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 38 μm.
光学積層体(7)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (7) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. The results are shown in Table 1.
〔実施例7〕
バリア層として、厚み20μmのトリアセチルセルロースフィルム(以下、「TACフィルム」ということがある。)を用いたこと以外は、実施例6と同様にして光学積層体(8)を得た。
[Example 7]
An optical laminate (8) was obtained in the same manner as in Example 6 except that a triacetyl cellulose film having a thickness of 20 μm (hereinafter, may be referred to as “TAC film”) was used as the barrier layer.
光学積層体(8)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、接着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、接着剤層(貼合層(Z))、TACフィルム(バリア層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(接着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、45μmであった。 The optical laminate (8) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), adhesive layer (bonding layer) The laminated layer (Z)), the TAC film (barrier layer), and the pressure-sensitive adhesive layer (a) were laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 45 μm.
光学積層体(8)に用いたTACフィルムの透湿度の測定、光学積層体(8)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The moisture permeability of the TAC film used in the optical laminate (8) was measured, the iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (8) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. The results are shown in Table 1.
〔比較例2〕
1/4波長位相差層側の配向層及び基材層を剥離して露出した1/4波長位相差層に、アクリル系粘着剤層及びバリア層を設けず、粘着剤層(a)を直接形成したこと以外は、実施例5と同様にして光学積層体(9)を得た。
[Comparative Example 2]
The pressure-sensitive adhesive layer (a) is directly applied to the 1/4 wavelength retardation layer exposed by peeling off the alignment layer and the base material layer on the 1/4 wavelength retardation layer side without providing the acrylic pressure-sensitive adhesive layer and the barrier layer. An optical laminate (9) was obtained in the same manner as in Example 5 except that it was formed.
光学積層体(9)は、HC付COPフィルム(保護層、第1保護層)、接着剤層(第1貼合層)、直線偏光層、接着剤層(貼合層(Y))、1/2波長位相差層(第1硬化物層)、接着剤層(貼合層、貼合層(X))、1/4波長位相差層(第2硬化物層)、及び粘着剤層(a)がこの順に積層されたものであった。直線偏光層の1/2波長位相差層側の表面から、粘着剤層(a)のCOPフィルム側とは反対側の表面までの距離D(接着剤層(貼合層(Y))~粘着剤層(a)の厚み)は、23μmであった。 The optical laminate (9) includes a COP film with HC (protective layer, first protective layer), an adhesive layer (first bonded layer), a linear polarizing layer, an adhesive layer (bonded layer (Y)), and 1 / 2 wavelength retardation layer (first cured product layer), adhesive layer (bonding layer, bonding layer (X)), 1/4 wavelength retardation layer (second cured product layer), and adhesive layer ( a) was laminated in this order. Distance D from the surface of the linear polarizing layer on the 1/2 wavelength retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (a) on the side opposite to the COP film side (adhesive layer (bonded layer (Y)) to adhesive The thickness of the agent layer (a)) was 23 μm.
光学積層体(9)における粘着剤層(a)のヨウ素量の測定、及び、金属層の腐食性の評価を行った。結果を表1に示す。 The iodine content of the pressure-sensitive adhesive layer (a) in the optical laminate (9) was measured, and the corrosiveness of the metal layer was evaluated. The results are shown in Table 1.
1,1a,1b,1c,1d,1e,1f 光学積層体、4 バリア層、5 粘着剤層、6 金属層、10 位相差層、11 第1硬化物層(硬化物層)、12 第2硬化物層(硬化物層)、21 第1貼合層、22 第2貼合層、23 貼合層(Y)、24 貼合層(Z)、25 貼合層(X)、30 偏光板、31 直線偏光層、32 第1保護層(保護層)、33 第2保護層(保護層)。 1,1a, 1b, 1c, 1d, 1e, 1f Optical laminate, 4 barrier layer, 5 adhesive layer, 6 metal layer, 10 retardation layer, 11 first cured product layer (cured product layer), 12 second Hardened material layer (cured material layer), 21 1st bonded layer, 22 2nd bonded layer, 23 bonded layer (Y), 24 bonded layer (Z), 25 bonded layer (X), 30 polarizing plate , 31 Linearly polarizing layer, 32 First protective layer (protective layer), 33 Second protective layer (protective layer).
Claims (10)
前記直線偏光層は、ヨウ素が吸着配向しているポリビニルアルコール系樹脂フィルムであり、
前記位相差層は、重合性液晶化合物が重合硬化した硬化物層を少なくとも1層含み、
前記バリア層は、前記粘着剤層に直接接して設けられており、
前記バリア層の温度40℃、相対湿度90%RHにおける透湿度は、1g/m2/24hr以上2000g/m2/24hr以下であり、
前記直線偏光層の前記位相差層側の表面から、前記粘着剤層の前記バリア層側とは反対側の表面までの距離は、55μm以下である、光学積層体。 An optical laminate including a linearly polarized light layer, a retardation layer, a barrier layer, and an adhesive layer in this order.
The linear polarizing layer is a polyvinyl alcohol-based resin film in which iodine is adsorbed and oriented.
The retardation layer contains at least one cured product layer obtained by polymerizing and curing the polymerizable liquid crystal compound.
The barrier layer is provided in direct contact with the pressure-sensitive adhesive layer.
The moisture permeability of the barrier layer at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% RH is 1 g / m 2/24 hr or more and 2000 g / m 2/24 hr or less.
An optical laminate having a distance from the surface of the linear polarizing layer on the retardation layer side to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer on the side opposite to the barrier layer side of 55 μm or less.
前記硬化物層を2層含み、
さらに、前記2層の硬化物層を互いに貼合するための貼合層(X)を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の光学積層体。 The retardation layer is
It contains two layers of the cured product and contains two layers.
The optical laminate according to any one of claims 1 to 3, further comprising a bonding layer (X) for bonding the two cured product layers to each other.
前記偏光板は、前記直線偏光層の片面又は両面に保護層が設けられている、請求項1~5のいずれか1項に記載の光学積層体。 Further, the polarizing plate including the linear polarizing layer and the bonding layer (Y) for bonding the polarizing plate and the retardation layer are included.
The optical laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the polarizing plate is provided with a protective layer on one side or both sides of the linear polarizing layer.
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