JP2022045154A - Silicone molded body, silicone composite body, and production method of silicone molded body - Google Patents

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Yosuke Hama
日佳梨 中野
Hikari Nakano
香 谷山
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Abstract

To provide a silicone molded body of small thickness change and excellent durability by reducing the content of cyclic siloxane of a low molecular weight derived from silicone.MEANS FOR ACHIEVING THE PURPOSE: A silicone molded body containing cyclic siloxane has a content of the cyclic siloxane of 4-20 units of 7,400 mass ppm or less in the silicone molded body.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、電気・電子製品に組み込まれるIC、受動部品、半導体等の、ディスプレイ・タッチパネル関連製品部材やLED照明製品部材、運動・生体機能測定部材などの成形に利用される各種離型材等として好適に使用できるシリコーン成形体、シリコーン複合体、及びシリコーン成形体の製造方法に関する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is used as various mold release materials used for molding display / touch panel related product members, LED lighting product members, motion / biological function measurement members, etc., such as ICs, passive components, semiconductors, etc. incorporated in electric / electronic products. The present invention relates to a silicone molded body, a silicone composite, and a method for producing a silicone molded body that can be suitably used.

従来からシリコーンゴムやシリコーンレジンに代表されるシリコーン、中でもミラブル型等のシリコーンゴムは、耐熱性や電気的性質に優れていることから、従来から離型材や滑り止め材(以下「シール材」という)等の用途に使用されてきた。 Silicone typified by silicone rubber and silicone resin, especially silicone rubber such as mirable type, have excellent heat resistance and electrical properties, so they have traditionally been referred to as mold release materials and non-slip materials (hereinafter referred to as "sealing materials"). ), Etc. have been used.

しかしながら、シリコーンゴム等のシリコーン単体からなるシートをそのままプレス成形の離型材等として使用しようとすると、ゴム製品であるがために変形を生じ、組み付け寸法精度が悪くなったり、しわが生じたりして、作業性に問題があった。
そこで、前記問題点を解消するためにシリコーンゴム単体とプラスチックフィルムを複合一体化することが検討されてきた。このことにより、しわや密着等の作業性のほか、長尺の複合体が得られやすくなり効率的なロールtoロールの製造にも使える。
However, if a sheet made of a single piece of silicone such as silicone rubber is to be used as it is as a mold release material for press molding, it will be deformed because it is a rubber product, and the assembly dimensional accuracy will deteriorate or wrinkles will occur. , There was a problem with workability.
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, it has been studied to compositely integrate the silicone rubber alone and the plastic film. As a result, in addition to workability such as wrinkles and adhesion, a long complex can be easily obtained, which can be used for efficient roll-to-roll production.

複合化の一つの方法として、あらかじめ架橋されたシリコーンゴム単体とプラスチックフィルムとを接着剤を介して複合化する方法、両面テープ貼り合わせや粘着剤塗布等の方法で、粘着層を介して複合化する方法がある。この場合、通常シリコーンゴム用の接着剤あるいは粘着剤が用いられるが、接着剤あるいは粘着剤を別に塗布する必要性があり、加工コストが高くなったり、長尺の複合体が得られにくい等の不都合があった。 As one method of compounding, a method of compounding a pre-crosslinked silicone rubber unit and a plastic film via an adhesive, a method of laminating double-sided tape or applying an adhesive, etc., is used to compound them via an adhesive layer. There is a way to do it. In this case, an adhesive or adhesive for silicone rubber is usually used, but it is necessary to apply the adhesive or adhesive separately, which increases the processing cost and makes it difficult to obtain a long composite. There was an inconvenience.

さらに、このような不都合を解決するためにプラスチックフィルムにシリコーン系プライマーを塗布し、シリコーン未架橋ゴムを貼り合わせ、しかる後、熱架橋させると同時にシリコーンゴムと一体化させることが検討されている。しかしながら、プラスチックフィルムがポリエステル樹脂を主成分とする場合には、シリコーン系プライマーと該プラスチックフィルムとの接着性に乏しく、得られる複合体に剥離等の問題が生じ易かった。 Further, in order to solve such inconvenience, it has been studied to apply a silicone-based primer to a plastic film, attach a silicone uncrosslinked rubber, and then heat-crosslink the plastic film and at the same time integrate it with the silicone rubber. However, when the plastic film contains a polyester resin as a main component, the adhesiveness between the silicone-based primer and the plastic film is poor, and problems such as peeling easily occur in the obtained composite.

また、該プラスチックフィルムが耐熱性の低いものである場合、シリコーンゴム架橋時に熱が加わるため、適用できない。さらに、該プラスチックフィルムとシリコーンゴムとの熱膨脹の差が大きいため、得られる複合体にカールが生じるという問題があった。
加えて、厚み精度が充分でないことから、該プラスチックフィルムを積載ないしロール状に集積したとき、その集積量が大きくなるにつれてしわや折れ曲がりを生じたりして元の形状に戻らず、離型材としての利用が困難になることがあった。
Further, when the plastic film has low heat resistance, heat is applied at the time of cross-linking the silicone rubber, so that it cannot be applied. Further, since the difference in thermal expansion between the plastic film and the silicone rubber is large, there is a problem that the obtained composite is curled.
In addition, since the thickness accuracy is not sufficient, when the plastic film is loaded or accumulated in a roll shape, wrinkles and bends occur as the accumulated amount increases, and the plastic film does not return to its original shape, so that it can be used as a mold release material. It was sometimes difficult to use.

前記の問題点を解消できるシリコーンゴム複合体として、特許文献1では、ポリエステル樹脂を主成分とするフィルムの少なくとも片面に、下塗り層と下塗り層に対して親和性が高く、かつシリコーン樹脂を含有する薄膜層を順に形成し、特定の硬度を有するシリコーンエラストマー樹脂からなるシリコーンゴム層を形成し、前記フィルムとシリコーンゴム層が一体化してなるシリコーンゴム複合体の提案がされている。 As a silicone rubber composite that can solve the above-mentioned problems, in Patent Document 1, at least one side of a film containing a polyester resin as a main component has a high affinity for an undercoat layer and an undercoat layer and contains a silicone resin. There has been proposed a silicone rubber composite in which thin film layers are formed in order, a silicone rubber layer made of a silicone elastomer resin having a specific hardness is formed, and the film and the silicone rubber layer are integrated.

特開平11-20082号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-20082

しかしながら、特許文献1のシリコーンゴム複合体を電気・電子製品部材に関わるプレス成形の離型材として繰り返し使用した際に、条件によっては、シリコーン複合体の厚みが変化し離型材としてのクッション性が充分に保たれなかったり、繰り返し使用する回数が制限されたりする場合があり、具体的な改善が望まれていた。
また、シリコーンゴム等のシリコーンには環状シロキサンが含まれるが、環状シロキサンの4~6量体(D4~6シロキサン)は、欧州REACH規則第19次SVHC(高懸念物質)リストに挙げられ、高懸念物質として指定されることとなり、低分子量の環状シロキサン含有量がより少ないシリコーンが望まれている。そして、電気・電子製品部材のプレス成形時に、環状シロキサンが電気・電子製品部材に付着することによって、導通部の接点を汚染して導通不良を引き起こすおそれもある。
さらに、D4~6シロキサンの含有量を低減させても、プレス成形等の高温・圧力下で繰り返し使用されると、分子量が比較的高い、具体的には7~20量体の環状シロキサン(D7~20シロキサン)がブリードすることによりプレス成形等の工程中に成形体に付着し、このような成形体は実製品としての使用に問題が発生するおそれがあることも、本発明者らの検討により明らかとなった。
However, when the silicone rubber composite of Patent Document 1 is repeatedly used as a release material for press molding related to electrical and electronic product members, the thickness of the silicone composite changes depending on the conditions, and the cushioning property as a release material is sufficient. In some cases, it may not be maintained or the number of times of repeated use may be limited, and concrete improvement has been desired.
In addition, silicones such as silicone rubber contain cyclic siloxanes, but the 4 to 6 merits of cyclic siloxanes (D4 to 6siloxanes) are listed in the 19th SVHC (Substances of Very High Concern) List of the European REACH Regulation and are high. Since it has been designated as a substance of very high concern, a silicone having a lower molecular weight cyclic siloxane content is desired. Then, during press molding of the electric / electronic product member, the cyclic siloxane may adhere to the electric / electronic product member, contaminating the contacts of the conductive portion and causing poor continuity.
Further, even if the content of D4 to 6siloxane is reduced, when it is repeatedly used under high temperature and pressure such as press molding, the molecular weight is relatively high, specifically, a 7 to 20-mer cyclic siloxane (D7). It is also studied by the present inventors that bleeding of ~ 20siloxane) may adhere to the molded product during a process such as press molding, and such a molded product may cause a problem in use as an actual product. Revealed by.

本発明は、このような状況下でなされたものであり、シリコーン由来の低分子量環状シロキサンの含有量を低減することができ、厚み変化の小さい、耐久性に優れるシリコーン成形体、シリコーン複合体、及びシリコーン成形体の製造方法の提供を目的とするものである。 The present invention has been made under such circumstances, and is a silicone molded body, a silicone composite, which can reduce the content of low molecular weight cyclic siloxane derived from silicone, has a small change in thickness, and has excellent durability. The purpose is to provide a method for producing a silicone molded product.

本発明者等は、鋭意検討した結果、低分子量環状シロキサンを低減することができ、このように環状シロキサンを低減することで、驚くべきことに、厚み変化を抑えて、耐久性に優れるシリコーン成形体、及びそれを用いたシリコーン複合体を得ることに成功し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies, the present inventors have been able to reduce low molecular weight cyclic siloxanes, and by reducing cyclic siloxanes in this way, surprisingly, thickness changes are suppressed and silicone molding with excellent durability is achieved. We have succeeded in obtaining a body and a silicone complex using the same body, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の[1]~[23]を提供するものである。
[1] 環状シロキサンを含有するシリコーン成形体において、当該シリコーン成形体中における環状シロキサンの4~20量体の含有量が7400質量ppm以下であるシリコーン成形体。
[2] 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの5量体の含有量が700質量ppm以下である、[1]記載のシリコーン成形体。
[3] 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの7~20量体の含有量が6400質量ppm以下である、[1]または[2]記載のシリコーン成形体。
[4] 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの10~20量体の含有量が5300質量ppm以下である、[1]~[3]のいずれかに記載のシリコーン成形体。
[5] 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの12~20量体の含有量が4600質量ppm以下である、[1]~[4]のいずれかに記載のシリコーン成形体。
[6] 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの15~20量体の含有量が3300質量ppm以下である、[1]~[5]のいずれかに記載のシリコーン成形体。
[7] 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの17~20量体の含有量が2100質量ppm以下である、[1]~[6]のいずれかに記載のシリコーン成形体。
[8] シリコーンエラストマー樹脂を含有する、[1]~[7]のいずれかに記載のシリコーン成形体。
[9] プレス成形、真空成形、圧空成形のいずれかに用いる、[1]~[8]のいずれかに記載のシリコーン成形体。
[10] 成形における離型材、緩衝材または滑り止め材として用いられる、[1]~[9]のいずれかに記載のシリコーン成形体。
[11] [1]~[10]のいずれかに記載のシリコーン成形体の少なくとも一方の面に、基材層を積層してなる、シリコーン複合体。
[12] 環状シロキサンを含有するシリコーン成形体の少なくとも一方の面に基材層を有するシリコーン複合体であって、当該シリコーン複合体中における環状シロキサンの15~20量体の含有量が2330質量ppm以下である、シリコーン複合体。
[13] 前記シリコーン複合体中における環状シロキサンの17~20量体の含有量が1530質量ppm以下である、[12]記載のシリコーン複合体。
[14] 前記基材層がポリエステル樹脂を含有する、[11]~[13]のいずれかに記載のシリコーン複合体。
[15] 前記シリコーン成形体がシリコーンエラストマー樹脂を含有する、[12]~[14]のいずれかに記載のシリコーン複合体。
[16] プレス成形、真空成形、圧空成形のいずれかに用いる、[11]~[15]のいずれかに記載のシリコーン複合体。
[17] 成形における離型材、緩衝材または滑り止め材として用いられる、[11]~[16]のいずれかに記載のシリコーン複合体。
[18] [1]~[10]のいずれかに記載のシリコーン成形体または[11]~[17]のいずれかに記載のシリコーン複合体を含む、キャリアフィルム。
[19] [1]~[10]のいずれかに記載のシリコーン成形体または[11]~[17]のいずれかに記載のシリコーン複合体を含む、保護フィルム。
[20] 未架橋状態のシリコーンに加熱処理を施す工程と、架橋処理を施す工程とを備える、シリコーン成形体の製造方法。
[21] 未架橋状態のシリコーンを板状に成形し板状成形体とする工程と、該板状成形体に加熱処理を施す工程と、加熱処理後の該板状成形体を可塑化させた後フィルム状またはシート状に押し出す工程と、得られた該フィルム状またはシート状物に架橋処理を施す工程とを備える、[20]記載のシリコーン成形体の製造方法。
[22] 前記板状成形体の厚みが10mm以下である、[21]記載のシリコーン成形体の製造方法。
[23] 前記加熱処理を施す工程における加熱処理の温度が100~280℃である、[20]~[22]のいずれかに記載のシリコーン成形体の製造方法。
That is, the present invention provides the following [1] to [23].
[1] In a silicone molded product containing a cyclic siloxane, the content of 4 to 20 mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 7400 mass ppm or less.
[2] The silicone molded product according to [1], wherein the content of the pentamer of cyclic siloxane in the silicone molded product is 700 mass ppm or less.
[3] The silicone molded product according to [1] or [2], wherein the content of the 7 to 20-mer of cyclic siloxane in the silicone molded product is 6400 mass ppm or less.
[4] The silicone molded product according to any one of [1] to [3], wherein the content of the 10 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 5300 mass ppm or less.
[5] The silicone molded product according to any one of [1] to [4], wherein the content of the 12 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 4600 mass ppm or less.
[6] The silicone molded product according to any one of [1] to [5], wherein the content of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 3300 mass ppm or less.
[7] The silicone molded product according to any one of [1] to [6], wherein the content of 17 to 20-mer of cyclic siloxane in the silicone molded product is 2100 mass ppm or less.
[8] The silicone molded product according to any one of [1] to [7], which contains a silicone elastomer resin.
[9] The silicone molded product according to any one of [1] to [8], which is used for any of press molding, vacuum forming, and compressed air molding.
[10] The silicone molded product according to any one of [1] to [9], which is used as a mold release material, a cushioning material or a non-slip material in molding.
[11] A silicone composite obtained by laminating a base material layer on at least one surface of the silicone molded product according to any one of [1] to [10].
[12] A silicone complex having a base material layer on at least one surface of a silicone molded body containing a cyclic siloxane, wherein the content of 15 to 20 mer of the cyclic siloxane in the silicone complex is 2330 mass ppm. The following is a silicone complex.
[13] The silicone complex according to [12], wherein the content of the 17 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone complex is 1530 mass ppm or less.
[14] The silicone composite according to any one of [11] to [13], wherein the base material layer contains a polyester resin.
[15] The silicone composite according to any one of [12] to [14], wherein the silicone molded product contains a silicone elastomer resin.
[16] The silicone composite according to any one of [11] to [15], which is used for any of press molding, vacuum forming, and compressed air molding.
[17] The silicone composite according to any one of [11] to [16], which is used as a mold release material, a cushioning material or a non-slip material in molding.
[18] A carrier film containing the silicone molded product according to any one of [1] to [10] or the silicone composite according to any one of [11] to [17].
[19] A protective film containing the silicone molded product according to any one of [1] to [10] or the silicone composite according to any one of [11] to [17].
[20] A method for producing a silicone molded product, comprising a step of applying a heat treatment to uncrosslinked silicone and a step of subjecting the crosslinked silicone.
[21] A step of molding uncrosslinked silicone into a plate shape to form a plate-shaped molded product, a step of heat-treating the plate-shaped molded product, and plasticizing the plate-shaped molded product after the heat treatment. The method for producing a silicone molded article according to [20], comprising a step of extruding into a post-film or sheet shape and a step of subjecting the obtained film or sheet to a cross-linking treatment.
[22] The method for producing a silicone molded product according to [21], wherein the plate-shaped molded product has a thickness of 10 mm or less.
[23] The method for producing a silicone molded product according to any one of [20] to [22], wherein the temperature of the heat treatment in the step of performing the heat treatment is 100 to 280 ° C.

本発明によれば、低分子量環状シロキサンを低減し、厚み変化の小さい、耐久性に優れるシリコーン成形体、及びそれを用いたシリコーン複合体を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a silicone molded article having a small thickness change and excellent durability by reducing the low molecular weight cyclic siloxane, and a silicone complex using the same.

以下、本発明の実施形態の例について説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, examples of embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the embodiments described below as long as the gist thereof is not exceeded.

本発明において「主成分」と表現した場合、特に記載しない限り、当該主成分の機能を妨げない範囲で他の成分を含有することを許容する意を包含する。
この際、当該主成分の含有割合を特定するものではないが、主成分(2成分以上が同じ含有割合である場合には、これらの合計量)は組成物中の50質量%以上、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上、特に好ましくは90質量%以上(100質量%含む)を占めるものである。
The term "main component" in the present invention includes the meaning of allowing other components to be contained within a range that does not interfere with the function of the main component, unless otherwise specified.
At this time, the content ratio of the main component is not specified, but the main component (when two or more components have the same content ratio, the total amount thereof) is 50% by mass or more, preferably 50% by mass or more in the composition. It occupies 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more (including 100% by mass).

本発明において「環状シロキサン」とは、シロキサンン結合による環状分子構造骨格を持つ化合物をいう。一般的には、珪素原子上に2つのメチル基を有する珪素原子が酸素原子と結合したジメチルシロキサン単位を有する環状ジメチル型をいうが、これに限定されず、メチル基以外の水素原子やエチル基等の基を有する珪素原子が酸素原子と結合したものも含むものである。 In the present invention, the "cyclic siloxane" refers to a compound having a cyclic molecular structure skeleton due to a siloxane bond. Generally, it refers to a cyclic dimethyl type having a dimethylsiloxane unit in which a silicon atom having two methyl groups on a silicon atom is bonded to an oxygen atom, but the present invention is not limited to this, and a hydrogen atom other than the methyl group or an ethyl group is used. It also includes those in which a silicon atom having such a group is bonded to an oxygen atom.

また、本発明において、「X~Y」(X,Yは任意の数字)と表現した場合、特にことわらない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」及び「好ましくはYより小さい」の意を包含する。
また、本発明において、「X以上」(Xは任意の数字)と表現した場合、特にことわらない限り「好ましくはXより大きい」の意を包含し、「Y以下」(Yは任意の数字)と表現した場合、特にことわらない限り「好ましくはYより小さい」の意を包含する。
Further, in the present invention, when expressed as "X to Y" (X and Y are arbitrary numbers), unless otherwise specified, it means "X or more and Y or less", and "preferably larger than X" and "preferably larger than X". Is smaller than Y ".
Further, in the present invention, when expressed as "X or more" (X is an arbitrary number), it includes the meaning of "preferably larger than X" unless otherwise specified, and "Y or less" (Y is an arbitrary number). ) Includes the meaning of "preferably smaller than Y" unless otherwise specified.

さらに、一般的に「シート」とは、JISにおける定義上、薄く、その厚みが長さと幅のわりには小さく平らな製品をいい、一般的に「フィルム」とは、長さ及び幅に比べて厚みが極めて小さく、最大厚みが任意に限定されている薄い平らな製品で、通常、ロールの形で供給されるものをいう(JIS K6900:1994)。しかし、「シート」と「フィルム」の境界は定かではなく、本発明において文言上両者を区別する必要がないため、本発明においては、「フィルム」と称する場合でも「シート」を含むものとし、「シート」と称する場合でも「フィルム」を含むものとする。 Furthermore, "sheet" generally refers to a product that is thin by definition in JIS and whose thickness is small and flat for length and width, and "film" generally refers to a product that is smaller in length and width. A thin, flat product having an extremely small thickness and an arbitrarily limited maximum thickness, which is usually supplied in the form of a roll (JIS K6900: 1994). However, the boundary between "sheet" and "film" is not clear, and it is not necessary to distinguish between the two in the present invention. Therefore, in the present invention, even when the term "film" is used, "sheet" is included and "sheet" is included. Even when referred to as a "sheet", it shall include a "film".

なお、本発明において「質量ppm」を単に「ppm」と略すことがある。 In the present invention, "mass ppm" may be simply abbreviated as "ppm".

<シリコーン成形体>
本発明の1つの実施形態としてのシリコーン成形体(以下、「本成形体」とも称することがある)を説明する。
<Silicone molded body>
A silicone molded product (hereinafter, also referred to as “main molded product”) as one embodiment of the present invention will be described.

シリコーン成形体の原材料成分は、シリコーンを含有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、下記式(1)で示されるシロキサン骨格を有するシリコーンを含有することが好ましい。下記式(1)において、式中のRの全てがメチル基であるポリジメチルシロキサンの他に、メチル基の一部が他のアルキル基、ビニル基、フェニル基、フルオロアルキル基等の1種又は2種以上で置換された各種ポリジメチルシロキサンを適宜選択することもできる。また、式中のnは1以上の正数であり、好ましくは3~5000である。 The raw material component of the silicone molded product is not particularly limited as long as it contains silicone, but for example, it is preferable to contain silicone having a siloxane skeleton represented by the following formula (1). In the following formula (1), in addition to polydimethylsiloxane in which all Rs in the formula are methyl groups, a part of the methyl group is one of other alkyl groups, vinyl groups, phenyl groups, fluoroalkyl groups, etc. Various polydimethylsiloxanes substituted with two or more kinds can be appropriately selected. Further, n in the formula is a positive number of 1 or more, preferably 3 to 5000.

Figure 2022045154000001
Figure 2022045154000001

上記シリコーンの中でも、好ましくはシリコーンエラストマー樹脂であり、シリコーン成形体の原材料成分としては、シリコーンエラストマー樹脂を主成分として含有することがさらに好ましい。
前記シリコーンエラストマー樹脂の例としては、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーンエラストマー樹脂が好ましく挙げられる。
Among the above silicones, a silicone elastomer resin is preferable, and it is more preferable that the silicone elastomer resin is contained as a main component as a raw material component of the silicone molded product.
As an example of the silicone elastomer resin, a silicone elastomer resin containing polydimethylsiloxane as a main component is preferably mentioned.

また、圧縮永久歪みの調整の観点から、前記ポリジメチルシロキサンがビニル基を含有することも、好ましい。
ビニル基を含有する場合、ポリジメチルシロキサン全量に対するビニル基の含有量が、0.05~5モル%であることが好ましく、0.5~4モル%であることがより好ましく、1~3モル%であることがさらに好ましい。ビニル基の含有量が前記下限値以上であれば、シリコーンエラストマー樹脂の架橋密度を調整しやすくなり、所望の圧縮永久歪みを有するシリコーンエラストマー樹脂を得やすい傾向がある。一方、前記上限値以下であれば、シリコーンエラストマー樹脂が過度に硬化することがないため好ましい。
また、所望の圧縮永久歪みを得るための別の手段として、架橋点を調整するという観点から、ビニル基を含有せず、メチル基を主体とするポリジメチルシロキサンを選択することもまた好適である。
It is also preferable that the polydimethylsiloxane contains a vinyl group from the viewpoint of adjusting the compression set.
When the vinyl group is contained, the content of the vinyl group with respect to the total amount of polydimethylsiloxane is preferably 0.05 to 5 mol%, more preferably 0.5 to 4 mol%, and 1 to 3 mol. % Is more preferable. When the content of the vinyl group is at least the above lower limit value, it becomes easy to adjust the crosslink density of the silicone elastomer resin, and it tends to be easy to obtain a silicone elastomer resin having a desired compression set. On the other hand, when it is at least the above upper limit value, it is preferable because the silicone elastomer resin is not excessively cured.
Further, as another means for obtaining the desired compression set, it is also preferable to select polydimethylsiloxane which does not contain a vinyl group and is mainly composed of a methyl group from the viewpoint of adjusting the cross-linking point. ..

前記圧縮永久歪みは、75%以下であることが好ましく、60%以下であることがより好ましく、50%以下であることがさらに好ましく、40%以下であることが特に好ましく、30%以下であることが最も好ましい。圧縮永久歪を前記上限値以下とすることにより、プレス成形時等で繰り返し使用されてもシリコーン成形体の厚みが変化しにくい傾向となり、充分なクッション性が維持され耐久性に優れる傾向となり好ましい。
なお、圧縮永久歪みは、JIS K6249:2003に準拠し、180℃×22時間処理後、30分間室温(23℃)で静置した後に測定される圧縮永久歪をいう。
The compression set is preferably 75% or less, more preferably 60% or less, further preferably 50% or less, particularly preferably 40% or less, and 30% or less. Is most preferable. By setting the compression set to the upper limit or less, the thickness of the silicone molded product tends to be less likely to change even after repeated use during press molding, and sufficient cushioning property is maintained and durability is excellent, which is preferable.
The compression set is based on JIS K6249: 2003, and refers to a compression set measured after being treated at 180 ° C. for 22 hours and then allowed to stand at room temperature (23 ° C.) for 30 minutes.

シリコーン成形体の原材料成分は、タイプAデュロメータ硬さが20以上であることが好ましく、30以上であることがより好ましく、40以上であることがさらに好ましく、50以上であることが特に好ましく、60以上であることが最も好ましい。また、タイプAデュロメータ硬さは90以下であることが好ましく、85以下であることより好ましい。タイプAデュロメータ硬さを前記下限値以上とすることにより、プレス成形時等で繰り返し使用されてもシリコーン成形体の厚みが変化しにくい傾向となり充分なクッション性が維持され耐久性に優れ、また、シリコーン成形体表面のタック性が抑制され取扱い性が向上しやすい傾向となる。一方、タイプAデュロメータ硬さを前記上限値以下とすることにより、プレス成形時等のプレス製品への追従性、密着性が向上しやすい傾向となる。
なお、タイプAデュロメータ硬さは、JIS K6253-3:2012に準拠して測定することができる。
The raw material component of the silicone molded product preferably has a type A durometer hardness of 20 or more, more preferably 30 or more, further preferably 40 or more, particularly preferably 50 or more, and 60 or more. The above is the most preferable. Further, the type A durometer hardness is preferably 90 or less, and more preferably 85 or less. By setting the hardness of the Type A durometer to the above lower limit or higher, the thickness of the silicone molded product tends to be less likely to change even after repeated use during press molding, etc., and sufficient cushioning properties are maintained and durability is excellent. The tackiness of the surface of the silicone molded product is suppressed, and the handleability tends to be improved. On the other hand, by setting the hardness of the type A durometer to the upper limit value or less, the followability and adhesion to the pressed product at the time of press forming or the like tend to be easily improved.
The hardness of the type A durometer can be measured according to JIS K6253-3: 2012.

タイプAデュロメータ硬さを調整する方法としては、例えば、原料のシリコーンに補強材として配合するシリカ等のフィラーの充填量を調整する方法、原料のシリコーンの種類を適宜選択する方法、具体的には、フェニル基を有する樹脂を採用しフェニル基の含有量を調整する方法等が好ましく挙げられる。 As a method for adjusting the hardness of the type A durometer, for example, a method for adjusting the filling amount of a filler such as silica to be blended with the raw material silicone as a reinforcing material, a method for appropriately selecting the type of the raw material silicone, specifically, a method for appropriately selecting the type of the raw material silicone. , A method of adjusting the content of the phenyl group by adopting a resin having a phenyl group and the like is preferably mentioned.

このようなシリコーンエラストマー樹脂として、市販品を使用することもできる。市販品としては、信越化学工業社製ミラブル型シリコーンコンパウンドやモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製ミラブル型シリコーンゴムが挙げられる。 Commercially available products can also be used as such silicone elastomer resins. Examples of commercially available products include mirable silicone compounds manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and mirable silicone rubber manufactured by Momentive Performance Materials.

ここで、シリコーン成形体の原材料成分としては、フュームドシリカ、沈殿シリカ、ケイソウ土、石英粉等の補強性充填剤や各種加工助剤、耐熱性向上剤等の他、エラストマーとしての機能性を持たせる各種添加剤を含有してもよい。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。
前記添加剤としては、例えば、難燃性付与剤、放熱性フィラー、導電性フィラー等が挙げられる。
Here, as the raw material components of the silicone molded body, in addition to reinforcing fillers such as fumed silica, precipitated silica, silica soil, and quartz powder, various processing aids, heat resistance improvers, etc., functionality as an elastomer is used. It may contain various additives to be possessed. These can be used alone or in combination of two or more.
Examples of the additive include a flame retardant-imparting agent, a heat-dissipating filler, a conductive filler and the like.

本発明のシリコーン成形体では、シリコーン成形体中における環状シロキサンの4~20量体の含有量が7400ppm以下であり、7000ppm以下であることが好ましく、6800ppm以下であることがより好ましく、6000ppm以下であることがさらに好ましく、5000ppm以下であることが特に好ましい。
いわゆる低分子量環状シロキサンといわれる4~20量体の含有量を低減することで、プレス成形時等の製品製造時等にシリコーン由来の低分子量環状シロキサンが析出して、成形機や得られる成形物等に付着・汚染するのを防ぐことができる。また、低分子量環状シロキサンを低減することで、シリコーン成形体自体が硬くなり、繰り返し使用しても、厚み変化が小さく、離型材としてのクッション性を充分に維持することができ、耐久性に優れたものとなる。
なお、下限は、成形性、加工性の観点から、100ppmであることが好ましく、300ppmであることがより好ましく、500ppmであることがさらに好ましい。
In the silicone molded product of the present invention, the content of the 4 to 20-mer of cyclic siloxane in the silicone molded product is 7400 ppm or less, preferably 7000 ppm or less, more preferably 6800 ppm or less, and 6000 ppm or less. It is more preferably present, and particularly preferably 5000 ppm or less.
By reducing the content of 4 to 20-mer, so-called low molecular weight cyclic siloxane, low molecular weight cyclic siloxane derived from silicone is precipitated during product manufacturing such as press molding, and the molding machine and the obtained molded product. It is possible to prevent it from adhering to and contaminating such as. In addition, by reducing the low molecular weight cyclic siloxane, the silicone molded product itself becomes hard, the thickness change is small even after repeated use, the cushioning property as a mold release material can be sufficiently maintained, and the durability is excellent. It becomes a thing.
The lower limit is preferably 100 ppm, more preferably 300 ppm, and even more preferably 500 ppm from the viewpoint of moldability and processability.

また、シリコーン成形体に、低分子量環状シロキサンが多量に含まれていると、例えば、電気・電子製品部材として用いる際、低分子量環状シロキサンがシリコーン成形体の表面に出てくるため、その後の配線加工等において導通部の接点を汚染して導通不良を引き起こすおそれがある。具体的には、導通部の接点の開閉時にアークと呼ばれるプラズマが発生する際、シリコーン成形体に多量の低分子量環状シロキサンが含まれていると、アーク発生時に生じる熱によって、ガス化された低分子量環状シロキサンが接点に付着する。これによって、接点表面にシリコーンが析出されるために、導通不良が発生するおそれがある。加えて、保護フィルムやキャリアフィルムとして使用する場合は、使用環境下の加温、加圧等により低分子量環状シロキサンが析出することによって、製品に付着し汚染するおそれもある。
本発明のシリコーン成形体は、環状シロキサンの4~20量体の含有量が前記上限値以下であるため、このような接点汚染や導通不良、製品の汚染等の問題が生じにくくなると推定される。
Further, if the silicone molded product contains a large amount of low molecular weight cyclic siloxane, for example, when used as an electric / electronic product member, the low molecular weight cyclic siloxane appears on the surface of the silicone molded product, so that subsequent wiring is performed. In processing, etc., there is a risk of contaminating the contacts of the conductive part and causing poor continuity. Specifically, when plasma called an arc is generated when the contacts of the conductive portion are opened and closed, if the silicone molded product contains a large amount of low molecular weight cyclic siloxane, it is gasified by the heat generated when the arc is generated. Molecular weight cyclic siloxane adheres to the contacts. As a result, silicone is deposited on the contact surface, which may cause conduction failure. In addition, when used as a protective film or carrier film, low molecular weight cyclic siloxane may precipitate due to heating, pressurization, etc. under the usage environment, which may adhere to the product and contaminate it.
In the silicone molded product of the present invention, since the content of the 4 to 20 dimer of the cyclic siloxane is not more than the above upper limit value, it is presumed that such problems such as contact contamination, poor continuity, and product contamination are less likely to occur. ..

前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの5量体の含有量が700ppm以下であることが好ましく、550ppm以下であることがより好ましく、400ppm以下であることがさらに好ましく、300ppm以下であることが特に好ましく、200ppm以下であることが殊に好ましい。低分子量環状シロキサンの中でも、5量体は低分子量であるため特に揮発またはブリードしやすいことから、これを低減することによって、低分子量環状シロキサンが揮発またはブリードすることによる前記のような不具合を抑えられる傾向がある。 The content of the pentamer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is preferably 700 ppm or less, more preferably 550 ppm or less, further preferably 400 ppm or less, and particularly preferably 300 ppm or less. , 200 ppm or less is particularly preferable. Among the low molecular weight cyclic siloxanes, the pentamer has a low molecular weight and is particularly liable to volatilize or bleed. Therefore, by reducing this, the above-mentioned problems caused by the volatilization or bleeding of the low molecular weight cyclic siloxane are suppressed. Tend to be.

前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの7~20量体の含有量が6400ppm以下であることが好ましく、さらに、環状シロキサンの10~20量体の含有量が5300ppm以下であることがより好ましく、環状シロキサンの12~20量体の含有量が4600ppm以下であることがさらに好ましく、環状シロキサンの15~20量体の含有量が3300ppm以下であることが特に好ましく、環状シロキサンの17~20量体の含有量が2100ppm以下であることが殊に好ましい。低分子量環状シロキサンの中でも、環状シロキサンのサブユニット数が多いものは、揮発またはブリードアウトしにくい傾向があるが、長時間の使用や繰り返しの使用によってブリードしてくる傾向があり、この場合のブリードアウトを抑えることができる傾向がある。これによって、長時間使用や繰り返し使用しても、ブリードによる機能低下や、成形機や成形品等への汚染が抑えられる傾向がある。 The content of the 7 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is preferably 6400 ppm or less, and the content of the 10 to 20-mer of the cyclic siloxane is more preferably 5300 ppm or less, more preferably the cyclic. The content of the 12 to 20-mer of the siloxane is more preferably 4600 ppm or less, the content of the 15 to 20-mer of the cyclic siloxane is particularly preferably 3300 ppm or less, and the content of the 17 to 20-mer of the cyclic siloxane is particularly preferable. It is particularly preferable that the content is 2100 ppm or less. Among low molecular weight cyclic siloxanes, those having a large number of subunits of cyclic siloxane tend to be difficult to volatilize or bleed out, but tend to bleed after long-term use or repeated use. In this case, bleeding tends to occur. There is a tendency to suppress outs. As a result, even if it is used for a long time or repeatedly used, there is a tendency that functional deterioration due to bleeding and contamination of a molding machine, a molded product, or the like can be suppressed.

さらに、前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの7~20量体の含有量は6000ppm以下であることがより好ましく、5300ppm以下であることがさらに好ましく、4700ppm以下であることが特に好ましく、4300ppm以下であることが殊に好ましい。
前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの10~20量体の含有量は5000ppm以下であることがより好ましく、4500ppm以下であることがさらに好ましく、4300ppm以下であることが特に好ましく、4000ppm以下であることが殊に好ましい。
前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの12~20量体の含有量は4300ppm以下であることがより好ましく、4100ppm以下であることがさらに好ましく、4000ppm以下であることが特に好ましく、3900ppm以下であることが殊に好ましい。
前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの15~20量体の含有量は3200ppm以下であることがより好ましく、3100ppm以下であることがさらに好ましい。
Further, the content of the 7 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is more preferably 6000 ppm or less, further preferably 5300 ppm or less, particularly preferably 4700 ppm or less, and 4300 ppm or less. It is especially preferable to have.
The content of the 10 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is more preferably 5000 ppm or less, further preferably 4500 ppm or less, particularly preferably 4300 ppm or less, and 4000 ppm or less. Is particularly preferred.
The content of the 12 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is more preferably 4300 ppm or less, further preferably 4100 ppm or less, particularly preferably 4000 ppm or less, and 3900 ppm or less. Is particularly preferred.
The content of the 15 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is more preferably 3200 ppm or less, further preferably 3100 ppm or less.

シリコーン成形体中における低分子量環状シロキサンの含有量は、低分子量環状シロキサンの含有量が小さいシリコーン原材料を適宜選択したり、シリコーン成形体の製造の過程で加熱処理を行い低分子量環状シロキサンを揮発させたり、アセトン等の溶媒で低分子量環状シロキサンを抽出したり、減圧・真空下で、ロール練り、トリミックス練り、プラネタリー練りすること等によって、低減させることができる。 As for the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the silicone molded body, a silicone raw material having a small content of the low molecular weight cyclic siloxane is appropriately selected, or heat treatment is performed in the process of manufacturing the silicone molded body to volatilize the low molecular weight cyclic siloxane. It can be reduced by extracting a low molecular weight cyclic siloxane with a solvent such as acetone, or by rolling kneading, trimix kneading, planetary kneading, etc. under reduced pressure / vacuum.

シリコーン成形体の厚みは、用途により適宜選択すればよいが、3mm以下であることが好ましく、1mm以下であることがより好ましく、800μm以下であることがさらに好ましく、600μm以下であることが特に好ましく、400μm以下であることが殊に好ましい。また、適度な弾性、長時間の使用や繰り返し使用の点から、下限は、10μmであることが好ましく、30μmであることがより好ましく、50μmであることがさらに好ましく、80μmであることが特に好ましい。 The thickness of the silicone molded product may be appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 3 mm or less, more preferably 1 mm or less, further preferably 800 μm or less, and particularly preferably 600 μm or less. , 400 μm or less is particularly preferable. Further, from the viewpoint of appropriate elasticity, long-term use and repeated use, the lower limit is preferably 10 μm, more preferably 30 μm, further preferably 50 μm, and particularly preferably 80 μm. ..

シリコーン成形体に含まれている1HのT2Hは、56ms以下であることが好ましく、55.5ms以下であることがより好ましく、55ms以下であることがさらに好ましく、54.5ms以下であることが特に好ましく、54ms以下であることが殊に好ましい。また、下限は、50msであることが好ましい。T2Hは比較的大きな分子運動に対して評価することができ、分子の架橋や樹脂の軟らかさを示す標準指標として用いることができる。時間が長い方が、分子運動が高く軟らかいことを示す。本成形体のT2H時間は短いことから、硬いことを示し、結果として厚み変化が小さく耐久性に優れる傾向が分かる。
前記T2Hは、固体NMRを用いて、スピンエコー法にてT2H1Hスピン-スピン緩和時間)を測定することにより得られる。
The T 2H of 1H contained in the silicone molded product is preferably 56 ms or less, more preferably 55.5 ms or less, further preferably 55 ms or less, and 54.5 ms or less. Is particularly preferable, and 54 ms or less is particularly preferable. The lower limit is preferably 50 ms. T 2H can be evaluated for relatively large molecular motion and can be used as a standard index for cross-linking of molecules and softness of resin. The longer the time, the higher the molecular motion and the softer it is. Since the T 2H time of this molded product is short, it indicates that it is hard, and as a result, it can be seen that the thickness change is small and the durability tends to be excellent.
The T 2H is obtained by measuring T 2H ( 1 H spin-spin relaxation time) by the spin echo method using solid-state NMR.

<シリコーン成形体の製造方法>
シリコーン成形体の製造方法としては、特に限定されないが、架橋性のシリコーン原材料を用いる場合は、未架橋状態のシリコーンに加熱処理を施す工程(以下、「加熱処理工程」という)と、架橋処理を施す工程(以下、「架橋処理工程」という)を備えることが好ましい。未架橋状態のシリコーン原材料の段階で一度に加熱処理を行うことができ工程を短縮できる点から、加熱処理工程の後に架橋処理工程を経由することがより好ましい。さらに、未架橋状態のシリコーン原材料をシリコーン成形体に成形する工程(以下、「成形工程」という)は、加熱処理工程の前でも後でもよいが、低分子量環状シロキサンの低減効果が大きい点から、加熱処理工程の後、成形工程を経由した後に架橋処理を行うことがより好ましい。かかる工程について、具体的に以下説明する。
<Manufacturing method of silicone molded product>
The method for producing the silicone molded product is not particularly limited, but when a crosslinkable silicone raw material is used, a step of heat-treating the uncrosslinked silicone (hereinafter referred to as “heat treatment step”) and a cross-linking treatment are performed. It is preferable to include a step of applying (hereinafter, referred to as “crosslinking treatment step”). It is more preferable to go through the cross-linking treatment step after the heat treatment step because the heat treatment can be performed at one time at the stage of the uncrosslinked silicone raw material and the step can be shortened. Further, the step of molding the uncrosslinked silicone raw material into a silicone molded product (hereinafter referred to as “molding step”) may be performed before or after the heat treatment step, but the effect of reducing low molecular weight cyclic siloxane is large. It is more preferable to carry out the cross-linking treatment after passing through the molding step after the heat treatment step. The process will be specifically described below.

本発明では、前記加熱処理工程を有することが好ましい。前記加熱処理を行うことによって低分子量環状シロキサンが揮発するため、得られるシリコーン成形体中の低分子量環状シロキサンの含有量が低減される。 In the present invention, it is preferable to have the heat treatment step. Since the low molecular weight cyclic siloxane is volatilized by the heat treatment, the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the obtained silicone molded product is reduced.

前記加熱処理を行う段階は特に限定されない。未架橋状態のシリコーンに予め加熱処理を行ってから、シリコーン成形体を成形してもよいし、先に未架橋状態のシリコーン成形体を成形した後に加熱処理を行ってもよいが、低分子量環状シロキサンの低減効果の点から、未架橋状態のシリコーンに予め加熱処理を行ってから、シリコーン成形体を成形することが好ましい。 The stage of performing the heat treatment is not particularly limited. The uncrosslinked silicone may be heat-treated in advance and then the silicone molded product may be molded, or the uncrosslinked silicone molded product may be first molded and then heat-treated. From the viewpoint of the effect of reducing siloxane, it is preferable to heat-treat the uncrosslinked silicone in advance and then mold the silicone molded product.

前記加熱処理工程では、未架橋状態のシリコーン原材料にそのまま加熱処理を施してもよいが、板状等の形状に一旦成形した後に、該板状等成形体に加熱処理を施すことが、低分子量環状シロキサンの低減効果の点から好ましい。未架橋状態の該板状等成形体(加熱処理前)の厚みは、10mm以下であることが好ましく、6mm以下であることがより好ましく、5mm以下であることがさらに好ましく、4mm以下であることが特に好ましく、3.5mm以下であることが殊に好ましい。前記厚みであれば、低分子量環状シロキサンが揮発され、得られるシリコーン成形体中の低分子量環状シロキサンの含有量がより低減されやすい傾向となる。また、取扱性、処理量の点から、下限は、0.5mmであることが好ましく、1mmであることがより好ましい。 In the heat treatment step, the uncrosslinked silicone raw material may be heat-treated as it is, but it is possible to heat-treat the plate-shaped or the like after once molding it into a plate-like shape or the like. It is preferable from the viewpoint of reducing the cyclic siloxane. The thickness of the uncrosslinked plate-like molded product (before heat treatment) is preferably 10 mm or less, more preferably 6 mm or less, further preferably 5 mm or less, and 4 mm or less. Is particularly preferable, and 3.5 mm or less is particularly preferable. With the above thickness, the low molecular weight cyclic siloxane is volatilized, and the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the obtained silicone molded product tends to be more easily reduced. Further, from the viewpoint of handleability and processing amount, the lower limit is preferably 0.5 mm, more preferably 1 mm.

前記加熱処理工程における加熱温度は100~280℃であることが好ましく、130~250℃であることがより好ましく、160~230℃であることがさらに好ましい。前記範囲であることでよって、シリコーンが劣化しにくく、シリコーン成形体中の低分子量環状シロキサンの含有量がより低減する傾向となる。 The heating temperature in the heat treatment step is preferably 100 to 280 ° C, more preferably 130 to 250 ° C, and even more preferably 160 to 230 ° C. Within the above range, the silicone is less likely to deteriorate, and the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the silicone molded product tends to be further reduced.

前記加熱処理工程における加熱時間は、0.1~30時間であることが好ましく、0.3~20時間がより好ましく、0.5~10時間がさらに好ましく、1~9時間が特に好ましく、1.5~8時間が最も好ましい。前記範囲であることによって、シリコーンが劣化しにくく、シリコーン成形体中の低分子量環状シロキサンの含有量が効果的に低減する傾向となる。 The heating time in the heat treatment step is preferably 0.1 to 30 hours, more preferably 0.3 to 20 hours, further preferably 0.5 to 10 hours, and particularly preferably 1 to 9 hours. .5-8 hours is most preferred. Within the above range, the silicone is less likely to deteriorate, and the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the silicone molded product tends to be effectively reduced.

前記成形工程においては、未架橋状態のシリコーン原材料を、押出成形、射出成形、カレンダー成形、プレス成形等によって未架橋状態のシリコーン成形体が成形される。前記加熱処理工程において、シリコーン原材料を板状等の形状に一旦成形し加熱する場合は、加熱処理後の該板状等成形体をロール練り、トリミックス練り、プラネタリー練り等の方法で可塑化させた後、再度、シリコーン成形体を成形することが好ましい。また、かかる成形体の形状は特に限定されるものではないが、生産性、後述のシリコーン複合体とする際等の加工性の点から、フィルム状またはシート状に成形することが好ましい。 In the molding step, the uncrosslinked silicone raw material is molded into an uncrosslinked silicone molded product by extrusion molding, injection molding, calendar molding, press molding or the like. In the heat treatment step, when the silicone raw material is once molded into a plate-like shape and heated, the plate-like molded product after the heat treatment is plasticized by roll kneading, trimix kneading, planetary kneading, or the like. After that, it is preferable to mold the silicone molded product again. The shape of the molded body is not particularly limited, but it is preferably molded into a film or sheet from the viewpoint of productivity and processability such as when forming a silicone composite described later.

次いで、前記架橋処理工程においては、前記未架橋状態のシリコーン原材料を架橋させることで、本発明のシリコーン成形体を得ることができる。シリコーンを架橋する手段としては、用いるシリコーン原材料に硬化触媒、硬化剤、架橋剤等を予め添加しておき、熱や紫外線等の光、空気中の水分等により硬化する方法、放射線照射により架橋する方法等が挙げられる。 Next, in the cross-linking treatment step, the silicone molded product of the present invention can be obtained by cross-linking the uncross-linked silicone raw material. As a means for cross-linking silicone, a curing catalyst, a curing agent, a cross-linking agent, etc. are added in advance to the silicone raw material to be used, and the material is cured by light such as heat or ultraviolet rays, moisture in the air, etc., or cross-linked by irradiation. The method and the like can be mentioned.

なかでも、シリコーン成形体は、放射線照射によって硬化させた放射線硬化物であることが好ましい。放射線照射による硬化は、触媒や架橋剤の残渣等による耐熱性、耐光信頼性を損なう懸念がないため好ましい。 Among them, the silicone molded product is preferably a radiation-cured product cured by irradiation. Curing by irradiation is preferable because there is no concern that the heat resistance and light resistance will be impaired by the residue of the catalyst or the cross-linking agent.

放射線としては、例えば、電子線、X線、γ線等が挙げられる。これらの放射線は工業的にも広く利用されているものであり、容易に利用可能であり、エネルギー効率の良い方法である。なかでも、吸収損失がほとんどなく、透過性が高いという観点から、γ線を利用することが好ましい。 Examples of radiation include electron beams, X-rays, γ-rays, and the like. These radiations are also widely used industrially, are readily available and are energy efficient methods. Among them, it is preferable to use γ-rays from the viewpoint of almost no absorption loss and high transparency.

γ線の照射線量は、樹脂種や架橋基の量、そして線源の種類により、適宜選択して決定することができる。本成形体において、例えば、γ線の照射線量は、20~150kGyであることが好ましく、30~120kGyであることがより好ましく、40~110kGyであることがさらに好ましく、50~100kGyであることが特に好ましい。照射線量が前記下限値以上であれば、シリコーン成形体を充分に架橋させることができ、結果として所望の圧縮永久歪みやデュロメータ硬さを得やすい傾向がある。一方、照射線量が前記上限値以下であれば、分解反応による低分子量環状シロキサン成分の増加を抑制できる傾向がある。 The irradiation dose of γ-rays can be appropriately selected and determined depending on the type of resin, the amount of cross-linking groups, and the type of radiation source. In the present molded product, for example, the irradiation dose of γ-rays is preferably 20 to 150 kGy, more preferably 30 to 120 kGy, further preferably 40 to 110 kGy, and more preferably 50 to 100 kGy. Especially preferable. When the irradiation dose is at least the above lower limit value, the silicone molded product can be sufficiently crosslinked, and as a result, the desired compression set and durometer hardness tend to be easily obtained. On the other hand, when the irradiation dose is not more than the upper limit value, there is a tendency that the increase of the low molecular weight cyclic siloxane component due to the decomposition reaction can be suppressed.

本発明においては、低分子量環状シロキサンの低減効果と生産性との両立の観点から、未架橋状態のシリコーン原材料を板状に成形し板状成形体とする工程と、該板状成形体に加熱処理を施す工程と、加熱処理後の該板状成形体を可塑化させた後フィルム状またはシート状に押し出す工程と、得られた該フィルム状物またはシート状物に架橋処理を施す工程とをこの順で備えることが特に好ましい。 In the present invention, from the viewpoint of achieving both the effect of reducing low molecular weight cyclic siloxane and productivity, a step of molding an uncrosslinked silicone raw material into a plate shape to form a plate-shaped molded body and heating the plate-shaped molded body. The step of applying the treatment, the step of plasticizing the plate-shaped molded product after the heat treatment and then extruding it into a film or sheet, and the step of subjecting the obtained film or sheet to a crosslinking treatment are performed. It is particularly preferable to prepare in this order.

<シリコーン複合体>
つぎに、本発明の他の実施形態として、前記シリコーン成形体を用いたシリコーン複合体(以下、「本複合体」とも称する)について説明する。
<Silicone complex>
Next, as another embodiment of the present invention, a silicone complex using the silicone molded product (hereinafter, also referred to as “the present complex”) will be described.

本複合体は、シリコーン成形体の少なくとも一方の面に、基材層を積層しているため、しわや折れ曲がりが生じにくく、例えば、プレス成形、真空成形、圧空成形等の離型材として使用した際の成形品の生産性が向上する。 Since this composite has a base material layer laminated on at least one surface of the silicone molded body, wrinkles and bending are unlikely to occur, and when used as a mold release material for, for example, press molding, vacuum forming, pressure molding, etc. Productivity of articles is improved.

当該シリコーン複合体中における環状シロキサンの15~20量体の含有量は、2330ppm以下であり、2300ppm以下であることが好ましく、2270ppm以下であることがより好ましく、2250ppm以下であることがさらに好ましく、2230ppm以下であることが特に好ましい。また、環状シロキサンの17~20量体の含有量は、1530ppm以下であることが好ましく、1510ppm以下であることがより好ましい。
低分子量環状シロキサンの中でも、環状シロキサンのサブユニット数が多いものは、揮発またはブリードアウトしにくい傾向があるが、長時間の使用や繰り返しの使用によってブリードしてくる傾向があり、この場合のブリードアウトを抑えることができる。これによって、例えば、プレス成形の緩衝材として繰り返し使用しても、ブリードによる機能低下や成形品の汚染が抑えられる。
なお、下限は、成形性、加工性の観点から、100ppmであることが好ましく、300ppmであることがより好ましく、500ppmであることがさらに好ましい。
The content of the 15 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone complex is 2330 ppm or less, preferably 2300 ppm or less, more preferably 2270 ppm or less, still more preferably 2250 ppm or less. It is particularly preferably 2230 ppm or less. The content of the 17 to 20-mer of the cyclic siloxane is preferably 1530 ppm or less, more preferably 1510 ppm or less.
Among low molecular weight cyclic siloxanes, those having a large number of subunits of cyclic siloxane tend to be difficult to volatilize or bleed out, but tend to bleed after long-term use or repeated use. In this case, bleeding tends to occur. Out can be suppressed. As a result, for example, even if it is repeatedly used as a cushioning material for press molding, functional deterioration due to bleeding and contamination of the molded product can be suppressed.
The lower limit is preferably 100 ppm, more preferably 300 ppm, and even more preferably 500 ppm from the viewpoint of moldability and processability.

シリコーン複合体中における低分子量環状シロキサンの含有量は、低分子量環状シロキサンの含有量が小さいシリコーン原材料を適宜選択したり、シリコーン成形体またはシリコーン複合体の製造の過程で加熱処理を行い、低分子量環状シロキサンを揮発させたり、アセトン等の溶媒で低分子量環状シロキサンを抽出したり、減圧・真空下で、ロール練り、トリミックス練り、プラネタリー練りすること等によって、低減させることができる。 For the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the silicone composite, a silicone raw material having a small content of the low molecular weight cyclic siloxane is appropriately selected, or heat treatment is performed in the process of producing the silicone molded product or the silicone composite to reduce the molecular weight. It can be reduced by volatilizing the cyclic siloxane, extracting the low molecular weight cyclic siloxane with a solvent such as acetone, or performing roll kneading, trimix kneading, planetary kneading, etc. under reduced pressure / vacuum.

シリコーン複合体の厚みは、用途により適宜選択すればよいが、5mm以下であることが好ましく、3mm以下であることがより好ましく、1.5mm以下であることがさらに好ましく、1mm以下であることが特に好ましく、800μm以下であることが殊に好ましい。また適度な弾性が得られやすく、ハンドリング性も良好な点から、下限は、30μmであることが好ましく、50μmであることがより好ましく、100μmであることがさらに好ましく、150μmであることが特に好ましい。 The thickness of the silicone complex may be appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 5 mm or less, more preferably 3 mm or less, further preferably 1.5 mm or less, and preferably 1 mm or less. It is particularly preferable, and it is particularly preferable that it is 800 μm or less. Further, from the viewpoint that appropriate elasticity can be easily obtained and the handleability is good, the lower limit is preferably 30 μm, more preferably 50 μm, further preferably 100 μm, and particularly preferably 150 μm. ..

下記測定方法によるプレスによるシリコーン複合体の厚み変化については、耐久性の点から、4.4μm以下であることが好ましく、4.1μm以下であることがより好ましく、3.8μm以下であることがさらに好ましく、3.6μm以下であることが特に好ましい。 Regarding the change in the thickness of the silicone complex by pressing by the following measuring method, it is preferably 4.4 μm or less, more preferably 4.1 μm or less, and 3.8 μm or less from the viewpoint of durability. It is more preferably 3.6 μm or less, and particularly preferably 3.6 μm or less.

厚み変化の測定方法としては、プレス機(井元製作所社製、商品名BIGHEART)を用いて、室温(23℃)、プレス圧500kg/cm2の条件で、プレス前の厚み、3回プレス後の厚みをそれぞれ測定し、下記式にしたがって、厚み変化を算出する方法が挙げられる。なお、サンプル数は2以上であり、その平均値を厚み変化の値として算出する。
[式]|T3-T0
0:プレス前の厚み
3:3回プレス後の厚み
As a method for measuring the thickness change, a press machine (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd., trade name BIGHEART) is used under the conditions of room temperature (23 ° C.) and a press pressure of 500 kg / cm 2 , and the thickness before pressing and after pressing three times. A method of measuring each thickness and calculating the thickness change according to the following formula can be mentioned. The number of samples is 2 or more, and the average value thereof is calculated as the value of the thickness change.
[Equation] | T 3 -T 0 |
T 0 : Thickness before pressing T 3 : Thickness after pressing 3 times

シリコーン複合体のシリコーン成形体に含まれている1HのT2Hは、56ms以下であることが好ましく、55.5ms以下であることがより好ましく、55ms以下であることがさらに好ましく、54.5ms以下であることが特に好ましく、54ms以下であることが殊に好ましい。また、下限は、50msであることが好ましい。T2Hは比較的大きな分子運動に対して評価することができ、分子の架橋や樹脂の軟らかさを示す標準指標として用いることができる。時間が長い方が、分子運動が高く軟らかいことを示す。本複合体のT2H時間は短いことから、硬いことを示し、結果として厚み変化が小さく耐久性に優れる傾向が分かる。
前記T2Hは、固体NMRを用いて、スピンエコー法にてT2H1Hスピン-スピン緩和時間)を測定することにより得られる。
The 1H T 2H contained in the silicone molded product of the silicone complex is preferably 56 ms or less, more preferably 55.5 ms or less, still more preferably 55 ms or less, and 54.5 ms. The following is particularly preferable, and 54 ms or less is particularly preferable. The lower limit is preferably 50 ms. T 2H can be evaluated for relatively large molecular motion and can be used as a standard index for cross-linking of molecules and softness of resin. The longer the time, the higher the molecular motion and the softer it is. Since the T 2H time of this complex is short, it indicates that it is hard, and as a result, it can be seen that the thickness change is small and the durability tends to be excellent.
The T 2H is obtained by measuring T 2H ( 1 H spin-spin relaxation time) by the spin echo method using solid-state NMR.

[シリコーン成形体(シリコーン層)]
本複合体は、シリコーン成形体(シリコーン層)と、基材層とを含有してなり、かかるシリコーン成形体(シリコーン層)の原材料としては、前記で説明した、本発明のシリコーン成形体と同様のものが用いられる。
[Silicone molded body (silicone layer)]
The present composite contains a silicone molded body (silicone layer) and a base material layer, and the raw material of the silicone molded body (silicone layer) is the same as the silicone molded body of the present invention described above. Is used.

[基材層]
前記基材層の材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアリールエーテルケトン系樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。耐熱性や機械的強度の観点から、ポリエステル樹脂を含有することが好ましく、ポリエステル樹脂を主成分として含有することがより好ましい。
[Base layer]
The material of the base material layer is not particularly limited, but for example, an olefin resin, a styrene resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyetherimide resin, a polyphenylene sulfide resin, and a polyphenylene ether. Examples thereof include resins, polyaryl ether ketone resins, liquid crystal polymer resins, and polyimide resins. From the viewpoint of heat resistance and mechanical strength, it is preferable to contain a polyester resin, and it is more preferable to contain the polyester resin as a main component.

ポリエステル樹脂の中でも、結晶性ポリエステル樹脂を用いることが好ましく、結晶性ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。なかでも、耐熱性、フィルムのこし、平滑性、商業的入手のしやすさ等に加え、シリコーン層との接着性の観点から、ポリエチレンテレフタレートであることが好ましい。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。 Among the polyester resins, it is preferable to use a crystalline polyester resin, and examples of the crystalline polyester resin include polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. Of these, polyethylene terephthalate is preferable from the viewpoint of heat resistance, film strain, smoothness, availability for commercial use, and adhesion to the silicone layer. These can be used alone or in combination of two or more.

また、基材層は、本発明の効果を損なわない範囲で、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、可塑剤、核剤、滑剤、顔料、染料等の添加剤を含んでいてもよい。機械的強度の観点から、少なくとも1軸に延伸されていることが好ましく、2軸に延伸されていることがより好ましい。 Further, the base material layer may contain additives such as ultraviolet absorbers, light stabilizers, antioxidants, plasticizers, nucleating agents, lubricants, pigments and dyes as long as the effects of the present invention are not impaired. .. From the viewpoint of mechanical strength, it is preferably stretched to at least one axis, and more preferably to two axes.

基材層の厚みは、10~350μmが好ましく、15~300μmがより好ましく、20~250μmがさらに好ましい。前記厚みを前記下限値以上とすることで、表面にシリコーン層やその他の層を積層させる際、しわ等の発生が充分抑制される傾向がある。一方、前記上限値以下とすることで、基材層が硬くなりすぎないため、後述する下塗り層等を塗工しやすくなる傾向がある。 The thickness of the base material layer is preferably 10 to 350 μm, more preferably 15 to 300 μm, still more preferably 20 to 250 μm. By setting the thickness to the lower limit or more, the generation of wrinkles and the like tends to be sufficiently suppressed when the silicone layer or other layers are laminated on the surface. On the other hand, when the value is not more than the upper limit, the base material layer does not become too hard, so that it tends to be easy to apply the undercoat layer or the like described later.

また、本複合体では、基材層とシリコーン成形体との間に、下塗り層及び/または薄膜層を設けることが好ましく、かかるシリコーン複合体の層構造は、基材層/下塗り層/薄膜層/シリコーン成形体(シリコーン層)の順に積層され、一体化してなる。便宜上、以下、基材層をA層、下塗り層をB層、薄膜層をC層、シリコーン成形体(シリコーン層)をD層として説明する。 Further, in the present composite, it is preferable to provide an undercoat layer and / or a thin film layer between the base material layer and the silicone molded body, and the layer structure of the silicone composite is such that the base material layer / undercoat layer / thin film layer is provided. / Silicone molded body (silicone layer) is laminated in this order and integrated. For convenience, the base material layer will be described below as the A layer, the undercoat layer as the B layer, the thin film layer as the C layer, and the silicone molded product (silicone layer) as the D layer.

[下塗り層(B層)]
下塗り層(B層)は、好ましくは非晶性ポリマーを含有し、より好ましくは非晶性ポリマーを主成分として含有し、基材層(A層)の片面に設けられる。下塗り層(B層)を用いることで、薄膜層(C層)を均一に形成しやすい傾向となる。
[Undercoat layer (B layer)]
The undercoat layer (B layer) preferably contains an amorphous polymer, more preferably contains an amorphous polymer as a main component, and is provided on one side of the base material layer (A layer). By using the undercoat layer (B layer), the thin film layer (C layer) tends to be formed uniformly.

前記非晶性ポリマーとしては、前記基材層(A層)に均一に塗布できるものであれば特に限定されるものではなく、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、非晶性ポリエステル樹脂等の、実質的に結晶性の無いポリマーから適宜選択すればよい。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。
具体例としては、ポリエステル樹脂及び/またはポリエーテル樹脂をウレタン結合等で直鎖状に高分子量化したポリウレタン樹脂、アクリル酸及び/またはメタクリル酸エステルの共重合体からなるアクリル樹脂、酸成分あるいはグリコール成分が2種類以上の単量体よりなる共重合ポリエステル樹脂が挙げられる。これら非晶性ポリマーは、薄膜になるよう塗工されるため、通常有機溶剤で希釈した状態、あるいは水中に乳化または可溶化させて適度な濃度に調整したものが使用される。
The amorphous polymer is not particularly limited as long as it can be uniformly applied to the base material layer (A layer), and is substantially limited to polyurethane resin, acrylic resin, amorphous polyester resin and the like. It may be appropriately selected from non-crystalline polymers. These can be used alone or in combination of two or more.
Specific examples include a polyurethane resin obtained by linearly polymerizing a polyester resin and / or a polyether resin by a urethane bond or the like, an acrylic resin composed of a copolymer of acrylic acid and / or a methacrylate ester, an acid component, or glycol. Examples thereof include a copolymerized polyester resin having two or more kinds of monomers. Since these amorphous polymers are coated to form a thin film, they are usually diluted with an organic solvent or emulsified or solubilized in water to adjust the concentration to an appropriate level.

下塗り層(B層)は、耐熱性、耐溶剤性を向上させる目的で、架橋構造を持つものであってもよく、この場合、前記非晶性ポリマーは、主鎖あるいは側鎖にカルボキシ基、水酸基、アミノ基等の架橋性官能基を持つものであり、架橋剤としては、ポリイソシアネート、メラミン、多官能エポキシ樹脂、金属化合物等から適時選択される。また、塗工液には、前記架橋剤のほか、界面活性剤等からなるレベリング剤、シリカ等のブロッキング防止剤、増粘剤等が添加されていてもよい。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。 The undercoat layer (B layer) may have a crosslinked structure for the purpose of improving heat resistance and solvent resistance. In this case, the amorphous polymer has a carboxy group in the main chain or side chain. It has a crosslinkable functional group such as a hydroxyl group and an amino group, and the crosslinking agent is timely selected from polyisocyanate, melamine, polyfunctional epoxy resin, metal compound and the like. Further, in addition to the cross-linking agent, a leveling agent made of a surfactant or the like, a blocking inhibitor such as silica, a thickener or the like may be added to the coating liquid. These can be used alone or in combination of two or more.

下塗り層(B層)の厚みは、0.01~5μmであることが好ましく、0.05~4μmであることがより好ましく、0.1~3μmであることがさらに好ましい。
下塗り層(B層)の厚みが前記下限値以上であれば、厚みの調整が容易であり、また、後述する薄膜層(C層)との接着性も良好となりやすく好ましい。また、厚みが前記上限値以下であれば、下塗り層(B層)の塗工がより容易となるため好ましい。
The thickness of the undercoat layer (B layer) is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.05 to 4 μm, and even more preferably 0.1 to 3 μm.
When the thickness of the undercoat layer (B layer) is at least the above lower limit value, the thickness can be easily adjusted, and the adhesiveness with the thin film layer (C layer) described later is likely to be good, which is preferable. Further, when the thickness is not more than the upper limit value, the undercoat layer (B layer) can be easily coated, which is preferable.

[薄膜層(C層)]
薄膜層(C層)は、下塗り層(B層)の上にさらに設けられる。薄膜層(C層)にはシリコーン樹脂が含まれることが好ましく、シリコーン樹脂を主成分として含むことがより好ましく、なかでも、下塗り層(B層)に対して親和性が高く、塗布後、加熱あるいはUV照射等で架橋被膜を形成するものや、シリコーン層(D層)の架橋と同時に架橋被膜を形成するものが特に好ましい。
[Thin film layer (C layer)]
The thin film layer (C layer) is further provided on the undercoat layer (B layer). The thin film layer (C layer) preferably contains a silicone resin, and more preferably contains a silicone resin as a main component. Among them, it has a high affinity for the undercoat layer (B layer) and is heated after coating. Alternatively, those that form a crosslinked film by UV irradiation or the like, or those that form a crosslinked film at the same time as crosslinking the silicone layer (D layer) are particularly preferable.

薄膜層(C層)に使用可能なシリコーン樹脂の例として、例えば、付加型シリコーン樹脂、縮合型シリコーン樹脂、UV硬化型シリコーン樹脂等が挙げられ、なかでも、縮合型シリコーン樹脂が本発明の効果が効果的に得られる点から好ましい。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。 Examples of the silicone resin that can be used for the thin film layer (C layer) include an addition type silicone resin, a condensation type silicone resin, a UV curable silicone resin, and the like, and among them, the condensation type silicone resin is the effect of the present invention. Is preferable because it can be effectively obtained. These can be used alone or in combination of two or more.

付加型シリコーン樹脂としては、ビニル基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとし、架橋剤としてポリメチルハイドロジェンシロキサンを配合し、白金触媒の存在下で反応硬化させて得られるものが挙げられる。
縮合型シリコーン樹脂としては、末端にシラノール基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとし、架橋剤としてポリメチルハイドロジェンシロキサンを配合し、有機スズ触媒存在下で加熱硬化して得られるものが挙げられる。
UV硬化型シリコーン樹脂としては、アクリロイル基あるいはメタクリロイル基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとするもの、メルカプト基とビニル基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとするもの、前述の付加型シリコーン樹脂、あるいはカチオン硬化機構で硬化するエポキシ基を含有するポリジメチルシロキサンをベースポリマーとするもの等に光重合開始剤を配合し、UV光を照射することによって硬化させるものが挙げられる。
Examples of the addition type silicone resin include those obtained by using polydimethylsiloxane containing a vinyl group as a base polymer, blending polymethylhydrogensiloxane as a cross-linking agent, and reaction-curing in the presence of a platinum catalyst.
Examples of the condensed silicone resin include those obtained by using polydimethylsiloxane containing a silanol group at the terminal as a base polymer, blending polymethylhydrogensiloxane as a cross-linking agent, and heat-curing in the presence of an organotin catalyst. ..
The UV curable silicone resin includes a polydimethylsiloxane containing an acryloyl group or a methacryloyl group as a base polymer, a polydimethylsiloxane containing a mercapto group and a vinyl group as a base polymer, and the above-mentioned addition type silicone resin. Alternatively, a photopolymerization initiator may be added to a polydimethylsiloxane-based polymer containing an epoxy group that is cured by a cationic curing mechanism, and the polymer may be cured by irradiating with UV light.

また、薄膜層(C層)には、下塗り層(B層)との親和性を上げる目的で、シランカップリング剤等の添加剤が含まれることが好ましい。この目的を満たすシランカップリング剤は、一般式YRSiX3で表される化合物で、Yはビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基等の有機官能基、Rはメチレン、エチレン、プロピレン等のアルキレン基、Xはメトキシ基、エトキシ基等の加水分解性官能基あるいはアルキル基である。 Further, the thin film layer (C layer) preferably contains an additive such as a silane coupling agent for the purpose of increasing the affinity with the undercoat layer (B layer). The silane coupling agent satisfying this purpose is a compound represented by the general formula YRSiX 3 , where Y is an organic functional group such as a vinyl group, an epoxy group, an amino group and a mercapto group, and R is an alkylene such as methylene, ethylene and propylene. Group and X are hydrolyzable functional groups such as methoxy group and ethoxy group or alkyl groups.

シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ-グリシジルプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシジルプロピルトリエトキシシラン、N-β(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いることができる。 Examples of the silane coupling agent include vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-glycidylpropyltrimethoxysilane, γ-glycidylpropyltriethoxysilane, and N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane. , N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

薄膜層(C層)の厚みは、溶剤乾燥後で0.01~1μmであることが好ましく、0.03~0.7μmがより好ましく、0.05~0.5μmがさらに好ましい。厚みが前記下限値以上であれば、均一な厚みの硬化被膜が得られ、かつ、シリコーン層(D層)との接着力も充分に得られる傾向がある。また、前記薄膜層(C層)組成のシリコーン樹脂は一般に膜強度がそれほど強くないため、本複合体の剥離力を評価する際、前記薄膜層(C層)で凝集破壊が起こる傾向にあるが、その厚みが前記上限値以下であれば、前記薄膜層(C層)の凝集破壊を抑制し、シリコーン複合体として充分な強度を得やすい傾向がある。 The thickness of the thin film layer (C layer) is preferably 0.01 to 1 μm, more preferably 0.03 to 0.7 μm, still more preferably 0.05 to 0.5 μm after solvent drying. When the thickness is at least the above lower limit value, a cured film having a uniform thickness can be obtained, and a sufficient adhesive force with the silicone layer (D layer) tends to be obtained. Further, since the silicone resin having the thin film layer (C layer) composition is generally not so strong in film strength, cohesive fracture tends to occur in the thin film layer (C layer) when evaluating the peeling force of the composite. When the thickness is not more than the upper limit value, the thin film layer (C layer) tends to be suppressed from coagulation and fracture, and sufficient strength as a silicone composite tends to be easily obtained.

[積層構成]
本発明のシリコーン複合体の積層構成は、A層とD層を必須の構成とするが、前記のように、A層/B層/C層/D層の順に積層され、一体化してなることが好ましい。また、A層とD層の間に、B層やC層以外の他の層が存在していてもよい。必要に応じて、シリコーン層(D層)の表面に保護層等の他の層を積層させてもよい。
さらに、帯電防止性能が必要な場合は、本複合体の最表面に帯電防止層が積層されていてもよい。該帯電防止層は、A層のD層が積層されている側と反対の面に積層されていることが好ましい。
[Laminated structure]
In the laminated structure of the silicone complex of the present invention, the A layer and the D layer are indispensable, but as described above, the A layer / B layer / C layer / D layer are laminated in this order and integrated. Is preferable. Further, a layer other than the B layer and the C layer may exist between the A layer and the D layer. If necessary, another layer such as a protective layer may be laminated on the surface of the silicone layer (D layer).
Further, if antistatic performance is required, an antistatic layer may be laminated on the outermost surface of the complex. The antistatic layer is preferably laminated on the surface opposite to the side on which the D layer of the A layer is laminated.

<シリコーン複合体の製造方法>
本発明のシリコーン複合体の製造方法としては、シリコーン成形体(D層)の少なくとも一方の面に、基材層(A層)を積層できる方法であれば特に限定はなく、その積層方法は公知の方法を用いることができる。
<Manufacturing method of silicone complex>
The method for producing the silicone composite of the present invention is not particularly limited as long as the base material layer (A layer) can be laminated on at least one surface of the silicone molded product (D layer), and the laminating method is known. Method can be used.

例えば、基材層(A層)を作製し、これとは別にシリコーン層(D層)を作製し、これらを積層してもよく、基材層(A層)を作製し、この基材層(A層)上にシリコーン層(D層)を作製すると共に積層一体化してもよく、逆にシリコーン層(D層)を作製し、このシリコーン層(D層)上に基材層(A層)を作製すると共に積層一体化してもよく、基材層(A層)とシリコーン層(D層)を作製しつつこれらを積層一体化してもよい。 For example, a base material layer (A layer) may be prepared, a silicone layer (D layer) may be prepared separately from the base material layer (A layer), and these may be laminated, or a base material layer (A layer) may be prepared and the base material layer may be prepared. A silicone layer (D layer) may be formed on the (A layer) and laminated and integrated. On the contrary, a silicone layer (D layer) may be formed, and a base material layer (A layer) may be formed on the silicone layer (D layer). ), And may be laminated and integrated, or the base material layer (A layer) and the silicone layer (D layer) may be laminated and integrated.

基材層(A層)、シリコーン層(D層)を作製する工程としては、原料樹脂を溶融混練して、単軸又は二軸押出機により押出す方法が挙げられる。
基材層(A層)とシリコーン層(D層)は、共押出、押出ラミネート、熱ラミネート、ドライラミネート等により積層することができる。具体的には、フィードブロック方式又はマルチマニホールド方式等により基材層(A層)とシリコーン層(D層)を同時に混練・共押出して積層一体化してもよいし、基材層(A層)とシリコーン層(D層)の作製をそれぞれ別々に行い基材層(A層)とシリコーン層(D層)とを得た後、それらをラミネートして積層する方法であってもよい。
Examples of the step of producing the base material layer (A layer) and the silicone layer (D layer) include a method of melt-kneading a raw material resin and extruding it with a single-screw or twin-screw extruder.
The base material layer (A layer) and the silicone layer (D layer) can be laminated by coextrusion, extrusion laminating, thermal laminating, dry laminating or the like. Specifically, the base material layer (A layer) and the silicone layer (D layer) may be kneaded and co-extruded at the same time by a feed block method, a multi-manifold method, or the like to be laminated and integrated, or the base material layer (A layer). And the silicone layer (D layer) may be separately produced to obtain a base material layer (A layer) and a silicone layer (D layer), and then laminated and laminated.

共押出の場合、基材層(A層)とシリコーン層(D層)とを、複数台の押出機を用いてフィードブロックやマルチマニホールドダイを通じ樹脂を合流させ、積層体を作製することができる。 In the case of coextrusion, the base material layer (A layer) and the silicone layer (D layer) can be combined with the resin through a feed block or a multi-manifold die using a plurality of extruders to prepare a laminated body. ..

押出ラミネートの場合、シリコーン層(D層)の原材料を単軸或いは二軸押出機を用いてTダイ、Iダイ等から押出を行った後、ロール法、テンター法、チューブラー法等を用いてシリコーン層(D層)となる単層体を得る。続いて、基材層(A層)の原材料を、単軸或いは二軸押出機を用いてTダイ、Iダイ等から押出す際、キャスティングと同時に前記シリコーン層(D層)にラミネートすることで本複合体を得ることができる。 In the case of extrusion laminating, the raw material of the silicone layer (D layer) is extruded from a T-die, I-die, etc. using a single-screw or twin-screw extruder, and then a roll method, a tenter method, a tubular method, etc. are used. A single layer body to be a silicone layer (D layer) is obtained. Subsequently, when the raw material of the base material layer (A layer) is extruded from a T-die, an I-die, etc. using a single-screw or twin-screw extruder, it is laminated on the silicone layer (D layer) at the same time as casting. This complex can be obtained.

熱ラミネート、ドライラミネートの場合、シリコーン層(D層)の原材料を、単軸又は二軸押出機を用いてTダイ、Iダイ等から押出し、シリコーン層(D層)となる単層体を得る。また、同様の方法を用いて基材層(A層)を作製する。続いて、基材層(A)及びシリコーン層(D層)を、加熱下または層間に接着層等を配置することでラミネートを行い、本複合体を得ることができる。 In the case of thermal laminating and dry laminating, the raw material of the silicone layer (D layer) is extruded from a T-die, I-die, etc. using a single-screw or twin-screw extruder to obtain a single-layer body to be the silicone layer (D layer). .. Further, a base material layer (layer A) is prepared by using the same method. Subsequently, the base material layer (A) and the silicone layer (D layer) can be laminated by arranging an adhesive layer or the like under heating or between layers to obtain the present complex.

なかでも、シリコーン複合体の製造方法の好適な一例である、基材層(A層)/下塗り層(B層)/薄膜層(C層)/シリコーン成形体(シリコーン層)(D層)からなるシリコーン複合体の製造方法について、以下説明する。 Among them, from a base material layer (A layer) / undercoat layer (B layer) / thin film layer (C layer) / silicone molded body (silicone layer) (D layer), which is a preferable example of a method for producing a silicone composite. The method for producing the silicone composite will be described below.

まず、前述の基材層(A層)の少なくとも片面に、下塗り層(B層)としての塗工液を塗工し、次いで乾燥、さらに必要に応じて熱架橋させることにより、下塗り層(B層)を形成させる。塗工方法としては、塗工液に適した公知の方法が適用でき、別工程で延伸した基材層(A層)に塗工してもよいし、基材層(A層)の未延伸シートに直接塗工液を塗工した後に延伸して、下塗り層(B層)を形成させたものであってもよい。また、塗工液のレベリング性や密着性を上げる目的で基材層(A層)の塗工面にあらかじめコロナ処理等の表面処理を施すこともできる。 First, at least one surface of the above-mentioned base material layer (A layer) is coated with a coating liquid as an undercoat layer (B layer), then dried, and further heat-crosslinked as necessary to cause an undercoat layer (B). Layer) is formed. As the coating method, a known method suitable for the coating liquid can be applied, and the substrate layer (A layer) stretched in another step may be coated, or the substrate layer (A layer) may not be stretched. The sheet may be directly coated with a coating liquid and then stretched to form an undercoat layer (B layer). Further, the coated surface of the base material layer (layer A) may be subjected to surface treatment such as corona treatment in advance for the purpose of improving the leveling property and adhesion of the coating liquid.

次に、下塗り層(B層)の上に、薄膜層(C層)を塗工する。塗工方法としては、前記の下塗り層(B層)と同様に、薄膜が精度良く得られる方法であれば特に限定されるものではないが、精度の点から、バーコーターを用いることが好ましい。 Next, a thin film layer (C layer) is applied on the undercoat layer (B layer). The coating method is not particularly limited as long as it is a method for obtaining a thin film with high accuracy, as in the case of the undercoat layer (B layer), but it is preferable to use a bar coater from the viewpoint of accuracy.

さらに、シリコーン層(D層)は、以下の方法により積層することが好ましい。まず、薄膜層(C層)の上に、未架橋状態のシリコーン原材料を積層させる。積層方法としては、未架橋状態のシリコーン原材料(例えば、シリコーンエラストマー樹脂)を押出成形、射出成形、カレンダー成形、プレス成形等によってフィルム状またはシート状に成形した後に、薄膜層(C層)の上に積層させることが好ましいが、なかでも、前記したような押出ラミネート、熱ラミネート、ドライラミネート等の方法を採用することが、生産性の点からより好ましい。また、公知のコーティング方法によって、薄膜層(C層)の上に直接製膜するという方法であってもよい。 Further, the silicone layer (D layer) is preferably laminated by the following method. First, the uncrosslinked silicone raw material is laminated on the thin film layer (C layer). As a laminating method, an uncrosslinked silicone raw material (for example, a silicone elastomer resin) is molded into a film or sheet by extrusion molding, injection molding, calendar molding, press molding, etc., and then on the thin film layer (C layer). However, it is more preferable from the viewpoint of productivity to adopt the above-mentioned methods such as extrusion laminating, thermal laminating, and dry laminating. Further, a method of directly forming a film on the thin film layer (C layer) by a known coating method may be used.

本発明では、架橋性のシリコーン原材料を用いる場合は、未架橋状態のシリコーン原材料に加熱処理を行うことが好ましい。未架橋状態のシリコーン原材料に加熱処理を行うことによって、シリコーンに含まれる低分子量環状シロキサンが揮発されるため、得られるシリコーン複合体中の低分子量環状シロキサンの含有量が低減されやすい傾向となる。 In the present invention, when a crosslinkable silicone raw material is used, it is preferable to heat-treat the uncrosslinked silicone raw material. By heat-treating the uncrosslinked silicone raw material, the low molecular weight cyclic siloxane contained in the silicone is volatilized, so that the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the obtained silicone complex tends to be easily reduced.

シリコーン原材料の加熱処理を行う段階は特に限定されない。シリコーン原材料に予め加熱処理を行ってから薄膜層(C層)の上にシリコーン層(D層)を形成してもよいし、シリコーン原材料からフィルム状またはシート状に成形された未架橋状態のシリコーンフィルムまたはシートに加熱処理を行ってから、薄膜層(C層)の上に積層させてもよいし、薄膜層(C層)の上にシリコーン層(D層)を積層してシリコーン複合体を作製した後に加熱処理を行ってもよい。なかでも、低分子量環状シロキサンの低減効果が大きい点から、未架橋状態のシリコーン原材料に加熱処理を行ってから、薄膜層(C層)の上に積層し複合体とすることが好ましい。 The stage of heat-treating the silicone raw material is not particularly limited. The silicone raw material may be heat-treated in advance to form a silicone layer (D layer) on the thin film layer (C layer), or uncrosslinked silicone formed from the silicone raw material into a film or sheet. The film or sheet may be heat-treated and then laminated on the thin film layer (C layer), or the silicone layer (D layer) may be laminated on the thin film layer (C layer) to form a silicone composite. After the production, heat treatment may be performed. Among them, it is preferable to heat-treat the uncrosslinked silicone raw material and then laminate it on the thin film layer (C layer) to form a complex because the effect of reducing the low molecular weight cyclic siloxane is large.

前記加熱処理は、未架橋状態のシリコーン原材料にそのまま加熱処理を施してもよいが、板状等の形状に一旦成形した後に、該板状等成形体に加熱処理を施すことが、低分子量環状シロキサンの低減効果の点から好ましい。未架橋状態の該板状等成形体(加熱処理前)の厚みは、10mm以下であることが好ましく、6mm以下であることがより好ましく、5mm以下であることがさらに好ましく、4mm以下であることが特に好ましく、3.5mm以下であることが殊に好ましい。前記厚みであれば、低分子量環状シロキサンが揮発され、得られるシリコーン複合体中の低分子量環状シロキサンの含有量がより低減されやすい傾向となる。また、取扱性、処理量の点から、下限は、0.5mmであることが好ましく、1mmであることがより好ましい。 In the heat treatment, the uncrosslinked silicone raw material may be heat-treated as it is, but it is possible to heat-treat the plate-shaped or the like after once forming it into a plate-like shape or the like. It is preferable from the viewpoint of reducing siloxane. The thickness of the uncrosslinked plate-like molded product (before heat treatment) is preferably 10 mm or less, more preferably 6 mm or less, further preferably 5 mm or less, and 4 mm or less. Is particularly preferable, and 3.5 mm or less is particularly preferable. With the above thickness, the low molecular weight cyclic siloxane is volatilized, and the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the obtained silicone complex tends to be more easily reduced. Further, from the viewpoint of handleability and processing amount, the lower limit is preferably 0.5 mm, more preferably 1 mm.

前記加熱処理において、加熱温度は100~280℃であることが好ましく、150~250℃であることがより好ましく、160~230℃であることがさらに好ましい。前記範囲であることでよって、シリコーンが劣化しにくく、シリコーン複合体中の低分子量環状シロキサンの含有量がより低減する傾向となる。 In the heat treatment, the heating temperature is preferably 100 to 280 ° C, more preferably 150 to 250 ° C, and even more preferably 160 to 230 ° C. Within the above range, the silicone is less likely to deteriorate, and the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the silicone complex tends to be further reduced.

前記加熱処理において、加熱時間は、0.1~30時間であることが好ましく、0.3~20時間がより好ましく、0.5~10時間がさらに好ましく、1~9時間が特に好ましく、1.5~8時間が最も好ましい。前記範囲であることによって、シリコーンが劣化しにくく、シリコーン複合体中の低分子量環状シロキサンの含有量が効果的に低減する傾向となる。 In the heat treatment, the heating time is preferably 0.1 to 30 hours, more preferably 0.3 to 20 hours, further preferably 0.5 to 10 hours, and particularly preferably 1 to 9 hours. .5-8 hours is most preferred. Within the above range, the silicone is less likely to deteriorate, and the content of the low molecular weight cyclic siloxane in the silicone complex tends to be effectively reduced.

次いで、前記未架橋状態のシリコーン原材料を用い、前記の方法により積層成形することでシリコーン複合体を製造し、さらに、シリコーンを架橋・硬化させることで、本発明のシリコーン複合体を得ることができる。前記加熱処理において、シリコーン原材料を板状等の形状に一旦成形し加熱する場合は、加熱処理後の該板状等成形体をロール練り、トリミックス練り、プラネタリー練り等の方法で可塑化させた後、シリコーン複合体を成形することが好ましい。シリコーンを架橋・硬化する手段としては、用いるシリコーン原材料に硬化触媒、硬化剤、架橋剤等を予め添加しておき、熱や紫外線等の光、空気中の水分等により硬化する方法、放射線照射により架橋する方法等が挙げられる。 Next, using the uncrosslinked silicone raw material, a silicone composite is produced by laminating and molding by the above method, and further, the silicone is crosslinked and cured to obtain the silicone composite of the present invention. .. In the heat treatment, when the silicone raw material is once molded into a plate-like shape and heated, the plate-like molded product after the heat treatment is plasticized by a method such as roll kneading, trimix kneading, or planetary kneading. After that, it is preferable to mold the silicone composite. As a means for cross-linking / curing silicone, a curing catalyst, a curing agent, a cross-linking agent, etc. are added in advance to the silicone raw material to be used, and the silicone is cured by light such as heat or ultraviolet rays, moisture in the air, etc., or by irradiation. Examples include a method of cross-linking.

なかでも、本複合体におけるシリコーン層(D層)は、放射線照射によって硬化させた放射線硬化物であることが好ましい。放射線照射による硬化は、触媒や架橋剤の残渣等による耐熱性、耐光信頼性を損なう懸念がないため好ましい。また、薄膜層(C層)とシリコーン層(D層)との密着性を充分に有するため、層間剥離の不具合が抑えられるため好ましい。 Above all, the silicone layer (D layer) in this complex is preferably a radiation-cured product cured by irradiation. Curing by irradiation is preferable because there is no concern that the heat resistance and light resistance will be impaired by the residue of the catalyst or the cross-linking agent. Further, since the thin film layer (C layer) and the silicone layer (D layer) have sufficient adhesion, the defect of delamination can be suppressed, which is preferable.

放射線としては、例えば、電子線、X線、γ線等が挙げられる。これらの放射線は工業的にも広く利用されているものであり、容易に利用可能であり、エネルギー効率の良い方法である。なかでも、吸収損失がほとんどなく、透過性が高いという観点から、γ線を利用することが好ましい。 Examples of radiation include electron beams, X-rays, γ-rays, and the like. These radiations are also widely used industrially, are readily available and are energy efficient methods. Among them, it is preferable to use γ-rays from the viewpoint of almost no absorption loss and high transparency.

γ線の照射線量は、樹脂種や架橋基の量、そして線源の種類により、適宜選択して決定することができる。本複合体において、例えば、γ線の照射線量は、20~150kGyであることが好ましく、30~120kGyであることがより好ましく、40~110kGyであることがさらに好ましく、50~100kGyであることが特に好ましい。照射線量が前記下限値以上であれば、シリコーン層(D層)を充分に硬化させることができ、結果として所望の圧縮永久歪みやデュロメータ硬さを得やすい傾向がある。一方、照射線量が前記上限値以下であれば、分解反応による低分子量環状シロキサン成分の増加を抑制できる傾向がある。 The irradiation dose of γ-rays can be appropriately selected and determined depending on the type of resin, the amount of cross-linking groups, and the type of radiation source. In the present complex, for example, the irradiation dose of γ-rays is preferably 20 to 150 kGy, more preferably 30 to 120 kGy, further preferably 40 to 110 kGy, and more preferably 50 to 100 kGy. Especially preferable. When the irradiation dose is at least the above lower limit value, the silicone layer (D layer) can be sufficiently cured, and as a result, the desired compression set and durometer hardness tend to be easily obtained. On the other hand, when the irradiation dose is not more than the upper limit value, there is a tendency that the increase of the low molecular weight cyclic siloxane component due to the decomposition reaction can be suppressed.

また、この照射線量の選定には、シリコーンエラストマー樹脂の架橋密度の他、基材層(A層)として使用するプラスチックフィルムの耐放射線性も考慮に入れる必要がある。この点、一般に放射線に対する耐性に優れ、本発明の目的に極めて適合した基材層(A層)の材料として、結晶性ポリエステル樹脂が挙げられる。 Further, in selecting the irradiation dose, it is necessary to consider not only the crosslink density of the silicone elastomer resin but also the radiation resistance of the plastic film used as the base material layer (layer A). In this respect, a crystalline polyester resin can be mentioned as a material of the base material layer (layer A) which is generally excellent in resistance to radiation and which is extremely suitable for the object of the present invention.

<用途>
本発明のシリコーン成形体(単層)またはシリコーン複合体は、シリコーン由来の低分子量環状シロキサンの含有量を低減し、厚み変化の低減に優れることから、シリコーン、特にシリコーンゴムの場合はその特性(部品への適度な密着性と追従性等)を活かして、様々な用途に使用することができる。例えば、各種製造工程、特にプレス成形、真空成形、圧空成形等の離型材、緩衝材、滑り止め材(シール材)、ワークの搬送や保護のためのキャリアフィルムや保護フィルム、液晶ディスプレイやフレームの固定材、液晶パネルと保護パネルとの層間充填材、タッチパネル用貼り合わせ材等に使用できる。
なかでも、水圧・油圧プレス成形等のプレス成形、真空成形、圧空成形等の離型材、キャリアフィルム、保護フィルムとして好適に使用することができる。例えば、電気・電子製品に組み込まれるIC、半導体、受動部品等のディスプレー・タッチパネル関連製品部材やLED照明製品部材等の成形品成形の際の離型材、緩衝材、滑り止め材として好適に用いることができる。
なかでもプレス成形においては、繰り返し使用されても変形しにくいことから、より好適に使用される。
<Use>
The silicone molded body (single layer) or silicone composite of the present invention reduces the content of low molecular weight cyclic siloxane derived from silicone and is excellent in reducing the change in thickness. Therefore, in the case of silicone, particularly silicone rubber, its characteristics ( It can be used for various purposes by taking advantage of its appropriate adhesion to parts and followability). For example, various manufacturing processes, especially mold release materials such as press molding, vacuum forming, and pressure forming, cushioning materials, non-slip materials (sealing materials), carrier films and protective films for transporting and protecting workpieces, liquid crystal displays and frames. It can be used as a fixing material, an interlayer filling material between a liquid crystal panel and a protective panel, a bonding material for a touch panel, and the like.
Among them, it can be suitably used as a press molding such as hydraulic / hydraulic press molding, a mold release material such as vacuum forming and pressure forming, a carrier film, and a protective film. For example, it is suitably used as a mold release material, a cushioning material, and a non-slip material when molding a molded product such as a display / touch panel related product member such as an IC, a semiconductor, or a passive component incorporated in an electric / electronic product, or an LED lighting product member. Can be done.
In particular, in press molding, it is more preferably used because it is not easily deformed even if it is used repeatedly.

以下、実施例について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 Hereinafter, examples will be described, but the present invention is not limited thereto.

<実施例1>
1.シリコーン原材料の加熱処理
ミラブル型シリコーンエラストマー樹脂(信越化学工業社製、KE-581-U、タイプAデュロメータ硬さ80)を、ロールミル(井上製作所社製、ミキシングロールミル)にて、ロール練りを施しながらプレート状に引き取り、厚みが3mmの未架橋状態のシリコーンエラストマー樹脂の板状成形体を作製した。
かかる板状成形体を、オーブン(温度設備研究所社製、恒温・冷熱装置 ОNDО)を用いて、200℃で5時間(2.5時間を2回(表裏面))の加熱処理を行い、これにより低分子量環状シロキサンを揮発させ、脱環状シロキサンのシリコーンエラストマー樹脂成形体を得た。
次に、この脱環状シロキサンのシリコーンエラストマー樹脂成形体を、前記と同じ条件で再度ロール練りを施すことにより可塑化した。
<Example 1>
1. 1. Heat treatment of silicone raw materials While rolling kneading a miraculous silicone elastomer resin (KE-581-U, Type A Durometer Hardness 80, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with a roll mill (Mixing Roll Mill, manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.). It was taken into a plate shape to prepare a plate-shaped molded body of an uncrosslinked silicone elastomer resin having a thickness of 3 mm.
The plate-shaped molded product was heat-treated at 200 ° C. for 5 hours (2.5 hours twice (front and back)) using an oven (constant temperature / cooling device ONDO) manufactured by Temperature Equipment Research Institute). As a result, the low molecular weight cyclic siloxane was volatilized to obtain a silicone elastomer resin molded product of the decyclic siloxane.
Next, the silicone elastomer resin molded product of the decyclic siloxane was plasticized by subjecting it to roll kneading again under the same conditions as described above.

2.シリコーン複合体の製造
下記に示す方法で、基材層、下塗り層、薄膜層、及び未架橋状態のシリコーン成形体(シリコーン層)の積層体を作製し、架橋させることによりシリコーン複合体を得た。
2. 2. Production of Silicone Composite By the method shown below, a laminate of a base material layer, an undercoat layer, a thin film layer, and an uncrosslinked silicone molded body (silicone layer) was prepared and crosslinked to obtain a silicone composite. ..

[基材層]
基材層として、厚み100μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱ケミカル社製、ダイアホイルT-100、比重1.4)を準備し、コロナ処理を施した。
[Base layer]
A biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Diafoil T-100, specific gravity 1.4) having a thickness of 100 μm was prepared as a base material layer and subjected to corona treatment.

[下塗り層]
非晶性ポリエステル樹脂(東洋紡社製、バイロン240)15質量部、ポリイソシアネート(日本ポリウレタン社製、コロネートL)2質量部を溶剤(メチルエチルケトン/トルエン=1/4(質量比))85質量部に希釈し、塗工液とした。これを前記基材層のコロナ処理が施された面に乾燥後の厚みが1.0μmになるようにバーコーターで塗工し、オーブン中で、100℃で10分間乾燥及び架橋を行い下塗り層を形成した。
[Undercoat layer]
15 parts by mass of amorphous polyester resin (Byron 240, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and 2 parts by mass of polyisocyanate (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) in 85 parts by mass of solvent (methyl ethyl ketone / toluene = 1/4 (mass ratio)). It was diluted to make a coating liquid. This is applied to the corona-treated surface of the base material layer with a bar coater so that the thickness after drying becomes 1.0 μm, and the undercoat layer is dried and crosslinked at 100 ° C. for 10 minutes in an oven. Formed.

[薄膜層]
縮合型シリコーン樹脂組成物(東レ・ダウコーニングシリコーン社製、SRX290)20質量部及び硬化剤(東レ・ダウコーニングシリコーン社製、SRX242C)1.2質量部を溶剤(トルエン)78.8質量部に希釈して塗工液を得た。これを下塗り層の表面に乾燥後の厚みが0.1μmになるようにバーコーターで塗工し、オーブン中で、100℃で10分間乾燥及び架橋を行い薄膜層を形成した。
[Thin film layer]
20 parts by mass of the condensed silicone resin composition (SRX290, manufactured by Toray Dow Corning Silicone) and 1.2 parts by mass of the curing agent (SRX242C, manufactured by Toray Dow Corning Silicone) in 78.8 parts by mass of the solvent (toluene). Diluted to obtain a coating solution. This was applied to the surface of the undercoat layer with a bar coater so that the thickness after drying was 0.1 μm, and dried and crosslinked at 100 ° C. for 10 minutes in an oven to form a thin film layer.

直径100mmの2本カレンダーに沿って供給された前記作製された基材層・下塗り層・薄膜層からなる積層体の薄膜層上と、カバーシートとして2軸延伸PETフィルム(三菱ケミカル社製、ダイアホイルT-100、比重1.4)との間に、前記の加熱処理を施したシリコーン原材料を供給し、ロール温度80℃の条件でロールにバンクを形成させ、基材層・下塗り層・薄膜層からなる積層体(100μm)/シリコーン層(300μm)/カバーシート(100μm)となるように複合体を作製した。
得られた複合体に、吸収線量が50kGyとなるようにγ線を照射し、シリコーンエラストマー樹脂を架橋させることにより基材層・下塗り層・薄膜層からなる積層体とシリコーンエラストマー樹脂層とが一体化された複合体(基材層(A層)/下塗り層(B層)/薄膜層(C層)/シリコーン層(D)/カバーシート)を得た。
この複合体からカバーシートを剥離し、評価用の基材層(A層)/下塗り層(B層)/薄膜層(C層)/シリコーン層(D)のシリコーン複合体とした。得られたシリコーン複合体の厚みは、410.9μmであった。
A biaxially stretched PET film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Dia) on the thin film layer of the laminated body composed of the prepared base material layer, undercoat layer, and thin film layer supplied along the two calendars having a diameter of 100 mm and as a cover sheet. The above-mentioned heat-treated silicone raw material is supplied between the foil T-100 and the specific gravity 1.4), and a bank is formed on the roll under the condition of a roll temperature of 80 ° C., and a base material layer, an undercoat layer, and a thin film are formed. A composite was prepared so as to be a laminated body (100 μm) composed of layers / a silicone layer (300 μm) / a cover sheet (100 μm).
The obtained composite is irradiated with γ-rays so that the absorbed dose is 50 kGy, and the silicone elastomer resin is crosslinked to integrate the laminate composed of the base material layer, the undercoat layer, and the thin film layer with the silicone elastomer resin layer. A modified composite (base material layer (A layer) / undercoat layer (B layer) / thin film layer (C layer) / silicone layer (D) / cover sheet) was obtained.
The cover sheet was peeled off from this composite to obtain a silicone composite of a base material layer (A layer) / undercoat layer (B layer) / thin film layer (C layer) / silicone layer (D) for evaluation. The thickness of the obtained silicone complex was 410.9 μm.

<実施例2>
前記シリコーン原材料の加熱処理工程において、加熱処理に用いる板状成形体の厚みを5mmに代えた以外は、実施例1と同様の方法によりシリコーン複合体を得た。かかるシリコーン複合体の厚みは409.6μmであった。
<Example 2>
In the heat treatment step of the silicone raw material, a silicone complex was obtained by the same method as in Example 1 except that the thickness of the plate-shaped molded product used for the heat treatment was changed to 5 mm. The thickness of the silicone complex was 409.6 μm.

<比較例1>
前記シリコーン原材料の加熱処理を行わなかった以外は、実施例1と同様にしてシリコーン複合体を得た。かかるシリコーン複合体の厚みは388.6μmであった。
<Comparative Example 1>
A silicone complex was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicone raw material was not heat-treated. The thickness of the silicone complex was 388.6 μm.

実施例及び比較例における各種物性の測定は、以下の方法にしたがって実施した。その結果を表1に示す。 Measurement of various physical properties in Examples and Comparative Examples was carried out according to the following method. The results are shown in Table 1.

(1)低分子量環状シロキサンの含有量
内部標準溶液として、デカメチルシクロペンタシロキサン(環状シロキサン5量体(D5シロキサン))5mgを精秤し、100mLのメスフラスコに入れてアセトンでメスアップしたものを用いた。
サンプル瓶にシリコーン複合体2gを精秤し、そこへ内部標準溶液10mLを秤り入れた。サンプル瓶に蓋をした後パラフィルムをまいて、23℃の温度条件で16時間浸漬して抽出処理を行った。その後、サンプル瓶内のアセトン溶液について、ガスクロマトグラフィー(GC)で以下の測定条件にて、低分子量環状シロキサンの含有量を測定した。なお、カラム温度は70℃で1分間保持したのち、25℃/分の速度で昇温して320℃まで上げ5分間保持した後に測定を行った。
(1) Content of low molecular weight cyclic siloxane As an internal standard solution, 5 mg of decamethylcyclopentasiloxane (cyclic siloxane pentamer (D5siloxane)) was precisely weighed, placed in a 100 mL volumetric flask, and messed up with acetone. Was used.
2 g of the silicone complex was precisely weighed into a sample bottle, and 10 mL of the internal standard solution was weighed into the sample bottle. After covering the sample bottle with a lid, a parafilm was sprinkled on the sample bottle, and the sample bottle was immersed at a temperature of 23 ° C. for 16 hours for extraction. Then, the content of the low molecular weight cyclic siloxane was measured by gas chromatography (GC) in the acetone solution in the sample bottle under the following measurement conditions. The column temperature was maintained at 70 ° C. for 1 minute, then raised at a rate of 25 ° C./min to 320 ° C. and held for 5 minutes before measurement.

(測定条件)
・測定装置:GC-2010Plus(島津製作所社製)
・カラム:Ultra ALLOY Capillary Column-UA1(MS/HT)(100%ジメチルポリシロキサン、長さ30m、内径0.25mm、膜厚0.1μm)
・キャリアガス:ヘリウム
・流速:1mL/分
・検出器:FID
(Measurement condition)
-Measuring device: GC-2010Plus (manufactured by Shimadzu Corporation)
-Column: Ultra ALLOY Capillary Color-UA1 (MS / HT) (100% dimethylpolysiloxane, length 30 m, inner diameter 0.25 mm, film thickness 0.1 μm)
・ Carrier gas: helium ・ Flow rate: 1 mL / min ・ Detector: FID

(含有量の計算方法)
内部標準のD5シロキサン量とGCピーク面積を基準とし、各環状シロキサンDn(DnはD4~D20シロキサンで、ジメチルシロキサン単位を有する環状シロキサン)由来のピーク面積から、各環状シロキサンDnの定量を行った。D5シロキサンについては、内部標準のD5シロキサン分を減算して定量を行った。
なお、測定はシリコーン複合体に対して行ったため、シリコーン層(D層:シリコーン成形体)中の各環状シロキサンの含有量は、複合体の基材層(A層)とシリコーン層(D層)の厚み比とそれぞれの層の比重を用いて、算出した。
(Calculation method of content)
Based on the internal standard amount of D5siloxane and GC peak area, each cyclic siloxane Dn was quantified from the peak area derived from each cyclic siloxane Dn (Dn is D4 to D20siloxane and has a dimethylsiloxane unit). .. For D5siloxane, the internal standard D5siloxane content was subtracted for quantification.
Since the measurement was performed on the silicone complex, the content of each cyclic siloxane in the silicone layer (D layer: silicone molded body) was the base material layer (A layer) and the silicone layer (D layer) of the composite. It was calculated using the thickness ratio of each layer and the specific gravity of each layer.

(2)プレス後の厚み変化
シリコーン複合体について、プレス機(井元製作所社製、BIGHEART)を用いて、室温(23℃)、プレス圧500kg/cm2の条件で、プレス前の厚み、3回プレス後の厚みをそれぞれ測定し、下記式にしたがって、厚み変化を算出した。なお、サンプル数は2であり、2点の平均値を厚み変化の値として算出した。
[式]|T3-T0
0:プレス前の厚み
3:3回プレス後の厚み
(2) Change in thickness after pressing For the silicone complex, use a press machine (BIGHEART manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd.) under the conditions of room temperature (23 ° C.) and press pressure of 500 kg / cm 2 , thickness before pressing, 3 times. The thickness after pressing was measured, and the thickness change was calculated according to the following formula. The number of samples was 2, and the average value of the two points was calculated as the value of the thickness change.
[Equation] | T 3 -T 0 |
T 0 : Thickness before pressing T 3 : Thickness after pressing 3 times

(3)T2H
シリコーン複合体に含まれている1HのT2H1Hスピン-スピン緩和時間)を、固体NMRを用いて、下記の測定条件で、スピンエコー法にて測定した。
(3) T 2H
The 1 H T 2H ( 1 H spin-spin relaxation time) contained in the silicone complex was measured by the spin echo method using solid-state NMR under the following measurement conditions.

(測定条件)
・測定装置:Bruker AVANCEIII 400WB
・プローブ:4mmΦ CPMAS
・測定温度:23℃
・試料管回転数:5000Hz
・観測核:1H(400.3MHz)
・パルスシーケンス:Spin Echo
1H90°パルス:4.2μs×1.6dB(54W/300W)
・遅延時間τ:1μs~100ms
・パルスディレイ:20s
・取込時間:0.819s
・積算回数:1
なお、緩和挙動は下記式で表されるため、カーブフィッティングにより算出した。

Figure 2022045154000002
(Measurement condition)
-Measuring device: Bruker AVANCEIII 400WB
・ Probe: 4mmΦ CPMAS
・ Measurement temperature: 23 ° C
-Sample tube rotation speed: 5000 Hz
・ Observation nucleus: 1 H (400.3 MHz)
-Pulse sequence: Spin Echo
1 H90 ° pulse: 4.2 μs × 1.6 dB (54 W / 300 W)
-Delay time τ: 1 μs to 100 ms
・ Pulse delay: 20s
・ Import time: 0.819s
・ Number of integrations: 1
Since the relaxation behavior is expressed by the following formula, it was calculated by curve fitting.
Figure 2022045154000002

(4)引張試験
各シリコーン複合体からダンベル状2号形の試験片を作製し、JIS K6251:2017に準拠し、引張試験機(島津製作所社製、AGS-H、ロードセル容量1kN)を用いて、測定温度23℃、つかみ具間距離30mm、ストローク速度500mm/分の条件で、フィルムの流れ方向(縦方向:MD方向)について引張試験を実施し、切断時伸びを測定した。
(4) Tensile test A dumbbell-shaped No. 2 test piece was prepared from each silicone composite, and a tensile tester (AGS-H manufactured by Shimadzu Corporation, load cell capacity 1 kN) was used in accordance with JIS K6251: 2017. A tensile test was carried out in the flow direction (longitudinal direction: MD direction) of the film under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C., a distance between gripping tools of 30 mm, and a stroke speed of 500 mm / min, and elongation during cutting was measured.

Figure 2022045154000003
Figure 2022045154000003

実施例のシリコーン層(シリコーン成形体)及びシリコーン複合体は、いずれも高懸念物質である低分子量環状シロキサンの含有量が少なく、またプレス成形による厚み変化が抑えられており、T2Hの時間も短く(硬く)、耐久性に優れるものであった。
従って、例えば、電気・電子製品の部材として使用される場合に、接点汚染や導通不良、製品の汚染等の問題が生じにくくなると推定される。また、プレス成形の緩衝材として繰り返し使用しても、厚み変化が小さく、緩衝材の機能が低下することを抑えられることも推定される。
The silicone layer (silicone molded product) and the silicone complex of the examples both have a low content of low molecular weight cyclic siloxane, which is a substance of very high concern, and the change in thickness due to press molding is suppressed, and the T 2H time is also long. It was short (hard) and had excellent durability.
Therefore, for example, when it is used as a member of an electric / electronic product, it is presumed that problems such as contact contamination, poor continuity, and product contamination are less likely to occur. It is also presumed that even if the cushioning material is repeatedly used for press molding, the change in thickness is small and the function of the cushioning material can be suppressed from deteriorating.

これに対し、比較例のシリコーン層(シリコーン成形体)及びシリコーン複合体では、低分子量環状シロキサン含有量が多く、また厚み変化が比較的大きいものであり、T2Hの時間も比較的長く(柔らかく)、耐久性に劣るものであった。 On the other hand, the silicone layer (silicone molded product) and the silicone complex of the comparative example have a large content of low molecular weight cyclic siloxane, a relatively large change in thickness, and a relatively long T 2H time (soft). ), It was inferior in durability.

また、環状シロキサンの5量体(D5)は、低分子量環状シロキサンの中でも、特に揮発またはブリードしやすく、低分子量環状シロキサン含有量測定の標準指標となるものであるが、実施例では、かかる環状シロキサンの5量体(D5)の含有量が特に抑えられていることが分かった。これにより、低分子量環状シロキサンが揮発することによる前記の不具合を抑えられることが推定される。 Further, the pentamer (D5) of the cyclic siloxane is particularly easy to volatilize or bleed among the low molecular weight cyclic siloxanes, and is a standard index for measuring the content of the low molecular weight cyclic siloxane. It was found that the content of the siloxane pentamer (D5) was particularly suppressed. It is presumed that this will suppress the above-mentioned problems caused by the volatilization of the low molecular weight cyclic siloxane.

さらに、環状シロキサンのサブユニット数が多いもの(極端な例では、D17~20)は、低分子量環状シロキサンの中でも、通常では揮発またはブリードしにくく、長時間の使用や繰り返しの使用によってブリードしてくるものと考えられるが、実施例では、かかる環状シロキサンのサブユニット数が多いものの含有量も抑えられていることが分かった。これにより、長時間使用や繰り返し使用しても、ブリードによる機能低下や、成形機や成形品等への汚染が抑えられるものであることが推定される。 Further, those having a large number of subunits of cyclic siloxane (D17 to 20 in an extreme example) are usually difficult to volatilize or bleed among low molecular weight cyclic siloxanes, and bleed due to long-term use or repeated use. However, in the examples, it was found that the content of the cyclic siloxane having a large number of subunits was also suppressed. It is presumed that this will prevent functional deterioration due to bleeding and contamination of the molding machine, molded product, etc. even after long-term use or repeated use.

また、実施例におけるシリコーン層(シリコーン成形体)及びシリコーン複合体は、低分子量環状シロキサンがブリードすることがなく、不要な伸縮が少ないため、プレス成形等の離型材、緩衝材等として、また、例えば半導体やフレキシブル回路基板、マイクロチップ等の電子用部品の搬送や保管のためのパレット等に使用するキャリアフィルムとして、さらに、ロボットアーム等の保護フィルムとしても有用なものと考えられる。 Further, in the silicone layer (silicone molded body) and the silicone composite in the examples, the low molecular weight cyclic siloxane does not bleed and unnecessary expansion and contraction is small, so that they can be used as a mold release material for press molding, a cushioning material, etc. For example, it is considered to be useful as a carrier film used for transporting and storing electronic parts such as semiconductors, flexible circuit boards, and microchips, and also as a protective film for robot arms and the like.

本発明のシリコーン成形体またはシリコーン複合体は、シリコーン由来の低分子量環状シロキサンの含有量を低減し、厚み変化の低減に優れることから、各種製造工程、特に水圧・油圧プレス成形等のプレス成形、真空成形、圧空成形等の離型材、緩衝材、滑り止め材(シール材)、電子部品搬送・保管用のパレット等のキャリアフィルム、ロボットアーム等の保護フィルム、液晶ディスプレイやフレームの固定材、液晶パネルと保護パネルとの層間充填材、タッチパネル用貼り合わせ材等に使用できる。なかでも、水圧・油圧プレス成形等のプレス成形、真空成形、圧空成形等の離型材、緩衝材として好適に使用することができる。特に、電気・電子製品に組み込まれるIC、半導体、受動部品等のディスプレー・タッチパネル関連製品部材やLED照明製品部材等の成形品成形の際の離型材、緩衝材、滑り止め材として好適に用いることができる。 Since the silicone molded body or silicone composite of the present invention reduces the content of low molecular weight cyclic siloxane derived from silicone and is excellent in reducing the thickness change, various manufacturing processes, especially press molding such as hydraulic / hydraulic press molding, Mold release materials such as vacuum forming and pressure forming, cushioning materials, non-slip materials (sealing materials), carrier films such as pallets for transporting and storing electronic parts, protective films such as robot arms, liquid crystal displays and frame fixing materials, liquid crystal It can be used as an interlayer filler between a panel and a protective panel, a bonding material for a touch panel, and the like. Among them, it can be suitably used as a press molding such as hydraulic / hydraulic press molding, a mold release material such as vacuum forming and pressure forming, and a cushioning material. In particular, it is suitably used as a mold release material, a cushioning material, and a non-slip material when molding a molded product such as a display / touch panel related product member such as an IC, a semiconductor, or a passive component incorporated in an electric / electronic product or an LED lighting product member. Can be done.

Claims (23)

環状シロキサンを含有するシリコーン成形体において、
当該シリコーン成形体中における環状シロキサンの4~20量体の含有量が7400質量ppm以下であるシリコーン成形体。
In a silicone molded product containing cyclic siloxane,
A silicone molded product in which the content of 4 to 20 mer of cyclic siloxane in the silicone molded product is 7400 mass ppm or less.
前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの5量体の含有量が700質量ppm以下である、請求項1記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to claim 1, wherein the content of the pentamer of cyclic siloxane in the silicone molded product is 700 mass ppm or less. 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの7~20量体の含有量が6400質量ppm以下である、請求項1または2記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to claim 1 or 2, wherein the content of the 7 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 6400 mass ppm or less. 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの10~20量体の含有量が5300質量ppm以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the 10 to 20 dimer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 5300 mass ppm or less. 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの12~20量体の含有量が4600質量ppm以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the 12 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 4600 mass ppm or less. 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの15~20量体の含有量が3300質量ppm以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the cyclic siloxane in the silicone molded product is 3300 mass ppm or less. 前記シリコーン成形体中における環状シロキサンの17~20量体の含有量が2100質量ppm以下である、請求項1~6のいずれか1項に記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to any one of claims 1 to 6, wherein the content of 17 to 20 mer of cyclic siloxane in the silicone molded product is 2100 mass ppm or less. シリコーンエラストマー樹脂を含有する、請求項1~7のいずれか1項に記載のシリコーン成形体。 The silicone molded article according to any one of claims 1 to 7, which contains a silicone elastomer resin. プレス成形、真空成形、圧空成形のいずれかに用いる、請求項1~8のいずれか1項に記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to any one of claims 1 to 8, which is used for any of press molding, vacuum forming, and compressed air molding. 成形における離型材、緩衝材または滑り止め材として用いられる、請求項1~9のいずれか1項に記載のシリコーン成形体。 The silicone molded product according to any one of claims 1 to 9, which is used as a mold release material, a cushioning material or a non-slip material in molding. 請求項1~10のいずれか1項に記載のシリコーン成形体の少なくとも一方の面に、基材層を積層してなる、シリコーン複合体。 A silicone complex obtained by laminating a base material layer on at least one surface of the silicone molded product according to any one of claims 1 to 10. 環状シロキサンを含有するシリコーン成形体の少なくとも一方の面に基材層を有するシリコーン複合体であって、当該シリコーン複合体中における環状シロキサンの15~20量体の含有量が2330質量ppm以下である、シリコーン複合体。 A silicone complex having a base material layer on at least one surface of a silicone molded body containing a cyclic siloxane, wherein the content of 15 to 20 mer of the cyclic siloxane in the silicone complex is 2330 mass ppm or less. , Silicone complex. 前記シリコーン複合体中における環状シロキサンの17~20量体の含有量が1530質量ppm以下である、請求項12記載のシリコーン複合体。 The silicone complex according to claim 12, wherein the content of the 17 to 20-mer of the cyclic siloxane in the silicone complex is 1530 mass ppm or less. 前記基材層がポリエステル樹脂を含有する、請求項11~13のいずれか1項に記載のシリコーン複合体。 The silicone composite according to any one of claims 11 to 13, wherein the base material layer contains a polyester resin. 前記シリコーン成形体がシリコーンエラストマー樹脂を含有する、請求項12~14のいずれか1項に記載のシリコーン複合体。 The silicone composite according to any one of claims 12 to 14, wherein the silicone molded product contains a silicone elastomer resin. プレス成形、真空成形、圧空成形のいずれかに用いる、請求項11~15のいずれか1項に記載のシリコーン複合体。 The silicone composite according to any one of claims 11 to 15, which is used for any of press molding, vacuum forming, and compressed air forming. 成形における離型材、緩衝材または滑り止め材として用いられる、請求項11~16のいずれか1項に記載のシリコーン複合体。 The silicone composite according to any one of claims 11 to 16, which is used as a mold release material, a cushioning material or a non-slip material in molding. 請求項1~10のいずれか1項に記載のシリコーン成形体または請求項11~17のいずれか1項に記載のシリコーン複合体を含む、キャリアフィルム。 A carrier film comprising the silicone molded product according to any one of claims 1 to 10 or the silicone composite according to any one of claims 11 to 17. 請求項1~10のいずれか1項に記載のシリコーン成形体または請求項11~17のいずれか1項に記載のシリコーン複合体を含む、保護フィルム。 A protective film comprising the silicone molded product according to any one of claims 1 to 10 or the silicone composite according to any one of claims 11 to 17. 未架橋状態のシリコーンに加熱処理を施す工程と、架橋処理を施す工程とを備える、シリコーン成形体の製造方法。 A method for producing a silicone molded product, comprising a step of applying a heat treatment to uncrosslinked silicone and a step of subjecting the crosslinked silicone. 未架橋状態のシリコーンを板状に成形し板状成形体とする工程と、該板状成形体に加熱処理を施す工程と、加熱処理後の該板状成形体を可塑化させた後フィルム状またはシート状に押し出す工程と、得られた該フィルム状またはシート状物に架橋処理を施す工程とを備える、請求項20記載のシリコーン成形体の製造方法。 A step of molding uncrosslinked silicone into a plate shape to form a plate-shaped molded product, a step of heat-treating the plate-shaped molded product, and a process of plasticizing the plate-shaped molded product after the heat treatment to form a film. The method for producing a silicone molded article according to claim 20, further comprising a step of extruding into a sheet and a step of subjecting the obtained film or sheet to a cross-linking treatment. 前記板状成形体の厚みが10mm以下である、請求項21記載のシリコーン成形体の製造方法。 The method for manufacturing a silicone molded product according to claim 21, wherein the thickness of the plate-shaped molded product is 10 mm or less. 前記加熱処理を施す工程における加熱処理の温度が100~280℃である、請求項20~22のいずれか1項に記載のシリコーン成形体の製造方法。 The method for producing a silicone molded product according to any one of claims 20 to 22, wherein the temperature of the heat treatment in the step of performing the heat treatment is 100 to 280 ° C.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2022150012A (en) * 2021-03-25 2022-10-07 株式会社リケン Radio wave absorption sheet, multi-layer radio wave absorption sheet, and method for producing radio wave absorption sheet

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