JP2022043196A - Laser peeling device, laser peeling method, and manufacturing method of organic EL display - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser peeling device which can uniformly separate a peeling layer from a substrate.
SOLUTION: According to one embodiment, a laser peeling device 1 radiates laser light 16 to an interface between a substrate 11 and a peeling layer 12 in a workpiece 10, which includes at least the substrate 11 and the peeling layer 12 formed on the substrate 11, from the substrate 11 side to peel the peeling layer 12 from the substrate 11. The laser peeling device 1 includes: an injection unit 22 which blows a gas 35 onto the workpiece 10 to blow off dust existing on a surface of the workpiece 10; and a duct collection unit 23 which has an opening 52 at a position corresponding to a laser light 16 radiation position and suctions the blown dust from the opening 52 to collect the dust.
SELECTED DRAWING: Figure 7
COPYRIGHT: (C)2022,JPO&INPIT

Description

本発明はレーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機ELディスプレイの製造方法に関し、例えばレーザ光を用いて基板から剥離層を分離するレーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機ELディスプレイの製造方法に関する。 The present invention relates to a laser peeling device, a laser peeling method, and a method for manufacturing an organic EL display, for example, a laser peeling device for separating a peeling layer from a substrate using laser light, a laser peeling method, and a method for manufacturing an organic EL display.

基板上に形成された剥離層に、基板側からレーザ光を照射して剥離層を基板から剥離するレーザ剥離装置が知られている。特許文献1には、基板から薄膜を分離するレーザ剥離工程に使われるレーザ加工装置が開示されている。 A laser peeling device is known in which a peeling layer formed on a substrate is irradiated with laser light from the substrate side to peel the peeling layer from the substrate. Patent Document 1 discloses a laser processing apparatus used in a laser peeling step of separating a thin film from a substrate.

特許第5220133号公報Japanese Patent No. 5221333

背景技術で説明したように、レーザ剥離装置は、基板上に形成された剥離層に基板側からレーザ光を照射して剥離層を基板から剥離する。このとき、基板上に粉塵(パーティクル)が付着している場合は、この粉塵が付着している部分においてレーザ光が剥離層に届かないため、この部分では基板と剥離層とが分離されない。このため、基板と剥離層とを均一に分離することができないという問題がある。 As described in the background art, the laser peeling device irradiates the peeling layer formed on the substrate with laser light from the substrate side to peel the peeling layer from the substrate. At this time, if dust (particles) is attached to the substrate, the laser beam does not reach the release layer at the portion where the dust is attached, so that the substrate and the release layer are not separated at this portion. Therefore, there is a problem that the substrate and the release layer cannot be uniformly separated.

一実施の形態にかかるレーザ剥離装置は、ワーク上に気体を吹き付ける噴射ユニットと、開口部から吸引して粉塵を集塵する集塵ユニットと、を備える。 The laser peeling device according to one embodiment includes an injection unit that blows gas onto the work and a dust collection unit that sucks dust from an opening to collect dust.

一実施の形態にかかるレーザ剥離装置は、レーザ光が通過する光路空間と、光路空間の外側に配置された排気空間と、を備える集塵ユニットを有する。光路空間は、開口部の周囲に配置された側壁を有し、側壁には光路空間に気体を供給するための給気孔が形成されている。給気孔から光路空間に供給された気体は、側壁に沿ってワーク側に流れた後、側壁の下端とワークとの間を通過して排気空間に流れるように構成されている。 The laser peeling device according to one embodiment has a dust collecting unit including an optical path space through which a laser beam passes and an exhaust space arranged outside the optical path space. The optical path space has a side wall arranged around the opening, and an air supply hole for supplying gas to the optical path space is formed in the side wall. The gas supplied from the air supply hole to the optical path space is configured to flow to the work side along the side wall, then pass between the lower end of the side wall and the work, and flow to the exhaust space.

一実施の形態にかかるレーザ剥離方法は、レーザ光を照射しながらワークを搬送する際、ワーク上に気体を吹き付け、吹き付けられた気体を吸引して粉塵を集塵する。 In the laser peeling method according to one embodiment, when the work is conveyed while irradiating with laser light, gas is blown onto the work, and the blown gas is sucked to collect dust.

一実施の形態にかかる有機ELディスプレイの製造方法は、基板と剥離層とを分離する工程を含み、前記分離工程においてレーザ光を照射しながらワークを搬送する際、ワーク上に気体を吹き付け、吹き付けられた気体を吸引して粉塵を集塵する。 The method for manufacturing an organic EL display according to an embodiment includes a step of separating a substrate and a release layer, and when the work is conveyed while irradiating a laser beam in the separation step, gas is sprayed onto the work and sprayed. It sucks the collected gas and collects dust.

前記一実施の形態によれば、基板から剥離層を均一に分離することができるレーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機ELディスプレイの製造方法を提供することができる。 According to the above embodiment, it is possible to provide a laser peeling device capable of uniformly separating a peeling layer from a substrate, a laser peeling method, and a method for manufacturing an organic EL display.

有機ELディスプレイの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of an organic EL display. 有機ELディスプレイの製造工程の概要を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the outline of the manufacturing process of an organic EL display. レーザ剥離装置を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the laser peeling apparatus. レーザ剥離工程を説明するための平面図および側面図である。It is a top view and a side view for demonstrating a laser peeling process. レーザ剥離工程を説明するための平面図および側面図である。It is a top view and a side view for demonstrating a laser peeling process. レーザ剥離工程を説明するための平面図および側面図である。It is a top view and a side view for demonstrating a laser peeling process. レーザ剥離工程を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the laser peeling process. 実施の形態1にかかるレーザ剥離装置を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1にかかるレーザ剥離装置を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施の形態1にかかるレーザ剥離装置を説明するための下面図である。It is a bottom view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. 集塵ユニットのワーク近傍の拡大断面図である。It is an enlarged sectional view of the vicinity of a work of a dust collecting unit. 実施の形態2にかかるレーザ剥離装置を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 2. 実施の形態2にかかるレーザ剥離装置が備える集塵ユニットの詳細を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the detail of the dust collecting unit provided in the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施の形態2にかかるレーザ剥離装置が備える集塵ユニットの詳細を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the detail of the dust collecting unit provided in the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施の形態3にかかるレーザ剥離装置を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施の形態3にかかるレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施の形態3にかかるレーザ剥離装置の他の構成例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating another configuration example of the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 3. FIG. 実施の形態4にかかるレーザ剥離装置を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施の形態4にかかるレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 5. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 5. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 5. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置を説明するための側面図である。It is a side view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 5. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置において、チャンバの内部におけるワークの移動を例示した図である。FIG. 5 is a diagram illustrating the movement of a work inside a chamber in the laser peeling device according to the fifth embodiment. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置において、前面壁及び後面壁におけるフィルタの有無と、チャンバの内部の前面壁側及びステージ上への空気の到達との関係を例示した図である。FIG. 5 is a diagram illustrating the relationship between the presence / absence of filters on the front wall and the rear wall and the arrival of air on the front wall side and the stage inside the chamber in the laser peeling device according to the fifth embodiment. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置において、チャンバの前面壁に、給気ファンを設置し、後面壁に排気ダクト用排気口を設置した場合のチャンバの内部の空気の流れを例示した図であり、(a)は、斜視図を示し、(b)は上面図を示す。FIG. 5 is a diagram illustrating an air flow inside the chamber when an air supply fan is installed on the front wall of the chamber and an exhaust port for an exhaust duct is installed on the rear wall of the laser peeling device according to the fifth embodiment. , (A) show a perspective view, and (b) shows a top view. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置において、チャンバの前面壁に、給気ファンを設置し、後面壁に排気ダクト用排気口及びフィルタを設置した場合のチャンバの内部の空気の流れを例示した図であり、(a)は、斜視図を示し、(b)は上面図を示す。FIG. 5 is an example of an air flow inside the chamber when an air supply fan is installed on the front wall of the chamber and an exhaust port for an exhaust duct and a filter are installed on the rear wall in the laser peeling device according to the fifth embodiment. (A) shows a perspective view, and (b) shows a top view. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置において、チャンバの前面壁に、給気ファン及びフィルタを設置し、後面壁に排気ダクト用排気口及びフィルタを設置した場合のチャンバの内部の空気の流れを例示した図であり、(a)は、斜視図を示し、(b)は上面図を示す。In the laser peeling device according to the fifth embodiment, the air flow inside the chamber when the air supply fan and the filter are installed on the front wall of the chamber and the exhaust port for the exhaust duct and the filter are installed on the rear wall is exemplified. (A) shows a perspective view, and (b) shows a top view. チャンバの内部の圧力が、外部の圧力よりも大きくなったときのチャンバを例示した断面図である。It is sectional drawing which illustrates the chamber when the pressure inside the chamber becomes larger than the pressure outside. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置において、集塵ユニットにおける給気量に対する排気量の比と、パーティクル濃度を例示したグラフである。It is a graph which exemplifies the ratio of the displacement with respect to the supply air amount in the dust collecting unit, and the particle density | concentration in the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 5. 実施の形態5にかかるFFUの作動及び集塵ユニットにおける排気量/給気量の比と、パーティクル濃度の関係を例示したグラフである。It is a graph which exemplifies the relationship between the operation of FFU and the ratio of the exhaust amount / air supply amount in the dust collection unit which concerns on Embodiment 5, and the particle density. 実施の形態5にかかるFFUの作動、並びに、集塵ユニットの給気及び排気の制御方法を例示したブロック図である。It is a block diagram which illustrates the operation of FFU which concerns on Embodiment 5, and the control method of air supply and exhaust of a dust collection unit. 実施の形態5にかかるレーザ剥離装置のコントローラの制御を例示した図である。It is a figure exemplifying the control of the controller of the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 5. FIG. 実施の形態6に係るレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 6. 実施の形態6にかかるレーザ剥離装置において、チャンバの内部におけるワークの移動を例示した図であり、(a)は、上面壁に投影した図であり、(b)は、底面壁に投影した図である。In the laser peeling apparatus according to the sixth embodiment, it is a figure exemplifying the movement of the work in the chamber, (a) is the figure projected on the upper surface wall, (b) is the figure projected on the bottom wall. Is. 実施の形態6にかかるレーザ剥離装置において、チャンバの内部の空気の流れを例示した図である。It is a figure which illustrates the flow of the air inside the chamber in the laser peeling apparatus which concerns on Embodiment 6. (a)及び(b)は、実施の形態6に係るレーザ剥離装置において、チャンバの空気の流れを例示した図であり、(a)は、給気量を排気量よりも大きくした場合を示し、(b)は、給気量を排気量よりも小さくした場合を示す。(A) and (b) are diagrams illustrating the flow of air in the chamber in the laser exfoliation device according to the sixth embodiment, and (a) shows a case where the supply air amount is larger than the exhaust amount. , (B) show the case where the supply air amount is smaller than the exhaust amount.

<有機ELディスプレイ>
まず、図1Aを用いて有機EL(Electroluminescence)ディスプレイの構造について説明する。図1Aは、有機ELディスプレイの一例を示す断面図である。図1Aに示す有機ELディスプレイ300は、各画素PXにTFTが配置されたアクティブマトリクス型の表示装置である。
<Organic EL display>
First, the structure of an organic EL (Electroluminescence) display will be described with reference to FIG. 1A. FIG. 1A is a cross-sectional view showing an example of an organic EL display. The organic EL display 300 shown in FIG. 1A is an active matrix type display device in which a TFT is arranged in each pixel PX.

有機ELディスプレイ300は、基板218、剥離層212、TFT(Thin Film Transistor)層311、有機層312、カラーフィルタ層313、及び保護層214を備えている。図1Aでは、保護層214側が視認側となるトップエミッション方式の有機ELディスプレイを示している。なお、以下の説明は、有機ELディスプレイの一構成例を示すものであり、本実施の形態は、以下に説明される構成に限られるものではない。例えば、本実施の形態では、ボトムエミッション方式の有機ELディスプレイに用いられてもよい。 The organic EL display 300 includes a substrate 218, a release layer 212, a TFT (Thin Film Transistor) layer 311, an organic layer 312, a color filter layer 313, and a protective layer 214. FIG. 1A shows a top-emission organic EL display in which the protective layer 214 side is the visual recognition side. The following description shows an example of the configuration of the organic EL display, and the present embodiment is not limited to the configuration described below. For example, in the present embodiment, it may be used for a bottom emission type organic EL display.

基板218は、プラスチックフィルムであり、応力を加えることにより曲げることができるフィルムである。基板218の上には、剥離層212、TFT層311が設けられている。TFT層311は、各画素PXに配置されたTFT311aを有している。さらに、TFT層311は、TFT311aに接続される配線(不図示)等を有している。TFT311a、及び配線等が画素回路を構成する。 The substrate 218 is a plastic film, which can be bent by applying stress. A release layer 212 and a TFT layer 311 are provided on the substrate 218. The TFT layer 311 has a TFT 311a arranged in each pixel PX. Further, the TFT layer 311 has wiring (not shown) connected to the TFT 311a. The TFT 311a, wiring, and the like constitute a pixel circuit.

TFT層311の上には、有機層312が設けられている。有機層312は、画素PXごとに配置された有機EL発光素子312aを有している。有機EL発光素子312aは、例えば、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、及び陰極が積層された積層構造を有している。トップエミッション方式の場合、陽極は金属電極であり、陰極はITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜である。さらに、有機層312には、画素PX間において、有機EL発光素子312aを分離するための隔壁312bが設けられている。 An organic layer 312 is provided on the TFT layer 311. The organic layer 312 has an organic EL light emitting element 312a arranged for each pixel PX. The organic EL light emitting device 312a has, for example, a laminated structure in which an anode, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode are laminated. In the case of the top emission method, the anode is a metal electrode and the cathode is a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide). Further, the organic layer 312 is provided with a partition wall 312b for separating the organic EL light emitting element 312a between the pixels PX.

有機層312の上には、カラーフィルタ層313が設けられている。カラーフィルタ層313は、カラー表示を行うためのカラーフィルタ313aが設けられている。すなわち、各画素PXには、R(赤色)、G(緑色)、又はB(青色)に着色された樹脂層がカラーフィルタ313aとして設けられている。有機層312から放出された白色光は、カラーフィルタ313aを通過すると、RGBの色の光に変換される。なお、有機層312に、RGBの各色を発光する有機EL発光素子が設けられている3色方式の場合、カラーフィルタ層313を省略してもよい。 A color filter layer 313 is provided on the organic layer 312. The color filter layer 313 is provided with a color filter 313a for performing color display. That is, each pixel PX is provided with a resin layer colored in R (red), G (green), or B (blue) as a color filter 313a. When the white light emitted from the organic layer 312 passes through the color filter 313a, it is converted into RGB color light. In the case of a three-color system in which the organic layer 312 is provided with an organic EL light emitting element that emits each color of RGB, the color filter layer 313 may be omitted.

カラーフィルタ層313の上には、保護層214が設けられている。保護層214は、樹脂材料で構成されており、有機層312の有機EL発光素子の劣化を防ぐために設けられている。 A protective layer 214 is provided on the color filter layer 313. The protective layer 214 is made of a resin material and is provided to prevent deterioration of the organic EL light emitting element of the organic layer 312.

有機層312の有機EL発光素子312aに流れる電流は、画素回路に供給される表示信号によって変化する。よって、表示画像に応じた表示信号を各画素PXに供給することで、各画素PXでの発光量を制御することができる。これにより、所望の画像を表示することができる。 The current flowing through the organic EL light emitting element 312a of the organic layer 312 changes depending on the display signal supplied to the pixel circuit. Therefore, by supplying a display signal corresponding to the display image to each pixel PX, it is possible to control the amount of light emitted by each pixel PX. This makes it possible to display a desired image.

<有機ELディスプレイの製造工程>
次に、図1Bを用いて上記で説明した有機ELディスプレイの製造工程について説明する。有機ELディスプレイを製造する際は、まず基板211を準備する(工程A)。例えば、基板211にはレーザ光を透過するガラス基板を用いる。次に、基板211の上に剥離層212を形成する(工程B)。剥離層212には、例えばポリイミドを用いることができる。その後、剥離層212の上に回路素子213を形成する(工程C)。ここで、回路素子213は、図1Aに示すTFT層311、有機層312、カラーフィルタ層313を含む。回路素子213は、フォトリソグラフィ技術や成膜技術を用いて形成することができる。その後、回路素子213の上に、回路素子213を保護するための保護層214を形成する(工程D)。
<Manufacturing process of organic EL display>
Next, the manufacturing process of the organic EL display described above will be described with reference to FIG. 1B. When manufacturing an organic EL display, first, the substrate 211 is prepared (step A). For example, a glass substrate that transmits laser light is used for the substrate 211. Next, the release layer 212 is formed on the substrate 211 (step B). For the release layer 212, for example, polyimide can be used. After that, the circuit element 213 is formed on the release layer 212 (step C). Here, the circuit element 213 includes the TFT layer 311 shown in FIG. 1A, the organic layer 312, and the color filter layer 313. The circuit element 213 can be formed by using a photolithography technique or a film forming technique. After that, a protective layer 214 for protecting the circuit element 213 is formed on the circuit element 213 (step D).

次に、基板211が上になるように基板211を反転させ(工程E)、基板211側から剥離層212にレーザ光216を照射する(工程F)。レーザ光216にはラインビームを用いることができる。図1Bに示す場合は、基板211をx方向に搬送しているので、基板211の右側から左側に向かってレーザ光216が照射される。その後、基板211と剥離層212とを分離する(工程G)。最後にフィルム218を剥離層212に積層する。例えば、フィルム218はプラスチックフィルムであり、応力を加えることにより曲げることができるフィルムである。このような製造工程を用いることで、折り曲げ可能な有機ELディスプレイ300を作製することができる。 Next, the substrate 211 is inverted so that the substrate 211 is on top (step E), and the release layer 212 is irradiated with the laser beam 216 from the substrate 211 side (step F). A line beam can be used for the laser beam 216. In the case shown in FIG. 1B, since the substrate 211 is conveyed in the x direction, the laser beam 216 is irradiated from the right side to the left side of the substrate 211. After that, the substrate 211 and the release layer 212 are separated (step G). Finally, the film 218 is laminated on the release layer 212. For example, the film 218 is a plastic film, which can be bent by applying stress. By using such a manufacturing process, a bendable organic EL display 300 can be manufactured.

<レーザ剥離装置(比較例)>
次に、工程Fで用いられるレーザ剥離装置(比較例)について具体的に説明する。図2は、レーザ剥離装置(レーザリフトオフ装置)を説明するための断面図である。図2に示すように、レーザ剥離装置201は、光学系220とステージ221とを備える。光学系220には、レーザ光源(不図示)からレーザ光が供給される。レーザ光源には、例えばエキシマレーザや紫外(UV)レーザを発生させるレーザ発生装置を用いることができる。光学系220は複数のレンズを用いて構成されている。光学系220は、レーザ光源から供給されたレーザ光の形状をライン状、具体的には焦点がy軸方向に伸びるレーザ光216とする。
<Laser peeling device (comparative example)>
Next, the laser peeling device (comparative example) used in the step F will be specifically described. FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining a laser peeling device (laser lift-off device). As shown in FIG. 2, the laser peeling device 201 includes an optical system 220 and a stage 221. Laser light is supplied to the optical system 220 from a laser light source (not shown). As the laser light source, for example, an excimer laser or a laser generator that generates an ultraviolet (UV) laser can be used. The optical system 220 is configured by using a plurality of lenses. In the optical system 220, the shape of the laser beam supplied from the laser light source is a line shape, specifically, the laser beam 216 whose focal point extends in the y-axis direction.

ステージ221は、ステージ221上に配置されたワーク210を搬送方向(x軸方向)に搬送可能に構成されている。ここで、ワーク210は少なくとも基板211と剥離層212とを備える。なお、剥離層212の上に形成されている回路素子等は図示を省略している。ワーク210は、基板211側から基板211と剥離層212との界面にレーザ光216が照射されるように、基板211が上側になるようにステージ221上に配置されている。また、ステージ221は、レーザ光216の焦点が基板211と剥離層212との界面に合うように上下方向(z軸に沿った方向)に移動可能に構成されている。 The stage 221 is configured to be able to transport the work 210 arranged on the stage 221 in the transport direction (x-axis direction). Here, the work 210 includes at least a substrate 211 and a release layer 212. The circuit elements and the like formed on the release layer 212 are not shown. The work 210 is arranged on the stage 221 so that the substrate 211 is on the upper side so that the laser beam 216 is irradiated from the substrate 211 side to the interface between the substrate 211 and the release layer 212. Further, the stage 221 is configured to be movable in the vertical direction (direction along the z-axis) so that the focal point of the laser beam 216 is aligned with the interface between the substrate 211 and the release layer 212.

図2に示すように、レーザ光216を照射しながら、ステージ221を搬送方向(x軸方向)に移動させてワーク210を搬送方向に搬送することで、ワーク210上においてレーザ光216を走査することができる。このとき、レーザ光216が照射されることで、基板211と剥離層212との界面付近において原子・分子の結合が分解するため、図3に示すように、基板211と剥離層212との界面から煤状の煙219が発生する。この煤状の煙219は、ワーク210の端面217から大気中に放出される。この煤状の煙219は剥離層212の分解生成物である。この煤状の煙219は、図4に示すように基板211の表面に堆積して粉塵(パーティクル)231となる。 As shown in FIG. 2, while irradiating the laser beam 216, the stage 221 is moved in the transport direction (x-axis direction) to transport the work 210 in the transport direction, whereby the laser beam 216 is scanned on the work 210. be able to. At this time, when the laser beam 216 is irradiated, the bonds of atoms and molecules are decomposed in the vicinity of the interface between the substrate 211 and the release layer 212. Therefore, as shown in FIG. 3, the interface between the substrate 211 and the release layer 212 is formed. Soot-like smoke 219 is generated from. The soot-like smoke 219 is released into the atmosphere from the end face 217 of the work 210. This soot-like smoke 219 is a decomposition product of the release layer 212. As shown in FIG. 4, the soot-shaped smoke 219 is deposited on the surface of the substrate 211 to become dust (particles) 231.

そして、この粉塵231が基板211の表面に堆積した状態でレーザ光216を走査すると、図5に示すように、レーザ光216が粉塵231によって遮られ、剥離層212にレーザ光216が届かない部分であるダークスポット(ダークムラ)232が発生する。このレーザ光216が届かないダークスポット232では、基板211と剥離層212とが付着した状態となっている。このため、図6に示すように、基板211と剥離層212とを剥離する際、ダークスポット232と対応する部分において、基板211と剥離層212とが分離されない部分が発生する。この状態で基板211と剥離層212とを無理に分離すると、剥離層212の表面が凹凸状になり、剥離層212の表面の平滑性にムラが生じる。換言すると剥離層212の厚さにムラが生じる。よって、基板211と剥離層212とを均一に分離することができないという問題があった。特に有機ELディスプレイの製造工程においてレーザ剥離装置を用いた場合、基板211と剥離層212とが均一に分離されないと、有機ELディスプレイの表示画面にムラが生じる。 Then, when the laser light 216 is scanned with the dust 231 deposited on the surface of the substrate 211, as shown in FIG. 5, the laser light 216 is blocked by the dust 231 and the laser light 216 does not reach the release layer 212. Dark spot (dark unevenness) 232 is generated. In the dark spot 232, which the laser beam 216 does not reach, the substrate 211 and the release layer 212 are in a state of being adhered to each other. Therefore, as shown in FIG. 6, when the substrate 211 and the peeling layer 212 are peeled off, a portion where the substrate 211 and the peeling layer 212 are not separated is generated in the portion corresponding to the dark spot 232. If the substrate 211 and the release layer 212 are forcibly separated in this state, the surface of the release layer 212 becomes uneven, and the smoothness of the surface of the release layer 212 becomes uneven. In other words, the thickness of the release layer 212 becomes uneven. Therefore, there is a problem that the substrate 211 and the release layer 212 cannot be uniformly separated. In particular, when a laser peeling device is used in the manufacturing process of an organic EL display, if the substrate 211 and the peeling layer 212 are not uniformly separated, the display screen of the organic EL display becomes uneven.

このような問題を解決するために、以下で説明する実施の形態1乃至4にかかるレーザ剥離装置は、基板上の粉塵を除去するための機構を備える。以下、具体的に説明する。 In order to solve such a problem, the laser peeling apparatus according to the first to fourth embodiments described below includes a mechanism for removing dust on the substrate. Hereinafter, a specific description will be given.

<実施の形態1>
以下、図面を参照して実施の形態1について説明する。図7~図9はそれぞれ、実施の形態1にかかるレーザ剥離装置を説明するための断面図、平面図、及び下面図である。図7に示すようにレーザ剥離装置1は、光学系20、ステージ21、噴射ユニット22、及び集塵ユニット23を備える。本実施の形態にかかるレーザ剥離装置1は、基板11と当該基板11上に形成された剥離層12とを少なくとも備えるワーク10に対して、ワーク10を搬送しながら、基板11側から基板11と剥離層12との界面にレーザ光16を照射して剥離層12を基板11から剥離する装置である。レーザ剥離装置1は、レーザ光を照射しながらワーク10を搬送する際、ワーク10上に気体を吹き付け、吹き付けられた気体を吸引して粉塵を集塵する。
<Embodiment 1>
Hereinafter, the first embodiment will be described with reference to the drawings. 7 to 9 are a cross-sectional view, a plan view, and a bottom view for explaining the laser peeling apparatus according to the first embodiment, respectively. As shown in FIG. 7, the laser peeling device 1 includes an optical system 20, a stage 21, an injection unit 22, and a dust collecting unit 23. The laser peeling device 1 according to the present embodiment transfers the work 10 to the work 10 including at least the substrate 11 and the peeling layer 12 formed on the substrate 11, and from the substrate 11 side to the substrate 11. It is a device that irradiates the interface with the peeling layer 12 with a laser beam 16 to peel the peeling layer 12 from the substrate 11. When the work 10 is conveyed while irradiating the work 10 with the laser beam, the laser peeling device 1 blows a gas onto the work 10 and sucks the blown gas to collect dust.

光学系20には、レーザ光源(不図示)からレーザ光が供給される。レーザ光源には、例えばエキシマレーザや紫外(UV)レーザを発生させるレーザ発生装置を用いることができる。光学系20は複数のレンズを用いて構成されている。光学系20は、レーザ光源から供給されたレーザ光の形状をライン状、具体的には焦点がy軸方向に伸びるレーザ光16(図8参照)とする。 Laser light is supplied to the optical system 20 from a laser light source (not shown). As the laser light source, for example, an excimer laser or a laser generator that generates an ultraviolet (UV) laser can be used. The optical system 20 is configured by using a plurality of lenses. In the optical system 20, the shape of the laser beam supplied from the laser light source is a line shape, specifically, the laser beam 16 (see FIG. 8) whose focal point extends in the y-axis direction.

ステージ21は、ステージ21上に配置されたワーク10を搬送方向(x軸方向)に搬送可能に構成されている。ここで、ワーク10は少なくとも基板11と剥離層12とを備える。なお、剥離層12の上に形成されている回路素子等は図示を省略している(以下、同様)。ワーク10は、基板11側から基板11と剥離層12との界面にレーザ光16が照射されるように、基板11が上側になるようにステージ21上に配置されている。また、ステージ21は、レーザ光16の焦点が基板11と剥離層12との界面に合うように上下方向(z軸に沿った方向)に移動可能に構成されている。 The stage 21 is configured to be able to transport the work 10 arranged on the stage 21 in the transport direction (x-axis direction). Here, the work 10 includes at least a substrate 11 and a release layer 12. The circuit elements and the like formed on the release layer 12 are not shown (the same applies hereinafter). The work 10 is arranged on the stage 21 so that the substrate 11 is on the upper side so that the laser beam 16 is irradiated from the substrate 11 side to the interface between the substrate 11 and the release layer 12. Further, the stage 21 is configured to be movable in the vertical direction (direction along the z-axis) so that the focal point of the laser beam 16 is aligned with the interface between the substrate 11 and the peeling layer 12.

噴射ユニット22は、ワーク10上に気体を吹き付け、ワーク10の表面に存在する粉塵(パーティクル)を吹き飛ばす。図7に示すように、噴射ユニット22は集塵ユニット23に対してワーク10の搬送方向下流側(x軸プラス側)に配置されている。噴射ユニット22は、本体部31、ノズル32、及び給気用配管33を備える。図8、図9に示すように、本体部31およびノズル32は、y軸方向(換言すると、ワーク10の表面と平行であってワーク10の搬送方向と垂直な方向)に伸びるように配置されている。 The injection unit 22 blows gas onto the work 10 to blow off dust (particles) existing on the surface of the work 10. As shown in FIG. 7, the injection unit 22 is arranged on the downstream side (x-axis plus side) of the work 10 with respect to the dust collection unit 23. The injection unit 22 includes a main body 31, a nozzle 32, and an air supply pipe 33. As shown in FIGS. 8 and 9, the main body 31 and the nozzle 32 are arranged so as to extend in the y-axis direction (in other words, parallel to the surface of the work 10 and perpendicular to the transport direction of the work 10). ing.

噴射ユニット22の本体部31には、給気用配管33から気体(圧縮気体)が供給される。そして、本体部31に供給された気体は、ノズル32の先端からワーク10の表面に向けて噴射される(矢印35で示す)。図7に示すように、ノイズ32の流路は狭くなっているのでノズル32は絞りとしての機能を果たす。このため、本体部31の内部の圧力が高くなり、ノズル32の先端から気体が勢いよく吹き出す。このとき、噴射ユニット22は、ワーク10の搬送方向と逆方向(x軸マイナス側)に気体を吹き付けて、ワーク10表面にワーク10の搬送方向と逆方向の層流を形成する。噴射ユニット22は、例えばステンレスなどの金属材料や樹脂材料を用いて形成することができる。また、給気用配管33から供給する気体には、圧縮された不活性ガス(窒素など)や圧縮空気等を用いることができる。 Gas (compressed gas) is supplied to the main body 31 of the injection unit 22 from the air supply pipe 33. Then, the gas supplied to the main body 31 is ejected from the tip of the nozzle 32 toward the surface of the work 10 (indicated by the arrow 35). As shown in FIG. 7, since the flow path of the noise 32 is narrow, the nozzle 32 functions as a diaphragm. Therefore, the pressure inside the main body 31 becomes high, and the gas is vigorously blown out from the tip of the nozzle 32. At this time, the injection unit 22 blows gas in the direction opposite to the transport direction of the work 10 (on the minus side of the x-axis) to form a laminar flow on the surface of the work 10 in the direction opposite to the transport direction of the work 10. The injection unit 22 can be formed by using a metal material such as stainless steel or a resin material. Further, as the gas supplied from the air supply pipe 33, compressed inert gas (nitrogen or the like), compressed air or the like can be used.

図7に示すように、集塵ユニット23は、噴射ユニット22に対してワーク10の搬送方向上流側(x軸マイナス側)に配置されており、噴射ユニット22から吹き付けられた気体35によって吹き飛ばされた粉塵を、開口部52から吸引して集塵する。集塵ユニット23は、側壁41と、側壁41の上部に設けられた上板42(図8参照)と、側壁41の下部に設けられた板状部材44、45(図9参照)と、を用いて構成されている。図8に示すように、上板42には、y軸方向に伸びる上部開口部51が形成されており、この上部開口部51は蓋体48によって蓋がされている。 As shown in FIG. 7, the dust collecting unit 23 is arranged on the upstream side (x-axis minus side) of the work 10 with respect to the injection unit 22, and is blown off by the gas 35 sprayed from the injection unit 22. The dust is sucked from the opening 52 and collected. The dust collecting unit 23 includes a side wall 41, an upper plate 42 provided on the upper part of the side wall 41 (see FIG. 8), and plate-shaped members 44 and 45 (see FIG. 9) provided on the lower part of the side wall 41. It is configured using. As shown in FIG. 8, the upper plate 42 is formed with an upper opening 51 extending in the y-axis direction, and the upper opening 51 is covered with a lid 48.

図7に示すように、板状部材44と板状部材45との間には開口部52が形成されている。具体的には、図9に示すように、開口部52は、開口部52に対して搬送方向上流側に設けられたy軸方向に伸びる板状部材44と、開口部52に対して搬送方向下流側に設けられたy軸方向に伸びる板状部材45とを用いて形成されている。 As shown in FIG. 7, an opening 52 is formed between the plate-shaped member 44 and the plate-shaped member 45. Specifically, as shown in FIG. 9, the opening 52 has a plate-shaped member 44 extending in the y-axis direction provided on the upstream side of the opening 52 in the transport direction, and the opening 52 in the transport direction with respect to the opening 52. It is formed by using a plate-shaped member 45 extending in the y-axis direction provided on the downstream side.

図7に示すように、側壁41には排気用配管46(46a、46b)が取りけられており、排気用配管46(46a、46b)を用いて排気することで、側壁41、上板42、板状部材44、45、及び蓋体48で囲まれた空間は減圧される。これにより、開口部52から粉塵を吸引することができる。 As shown in FIG. 7, an exhaust pipe 46 (46a, 46b) is attached to the side wall 41, and the side wall 41 and the upper plate 42 are exhausted by using the exhaust pipe 46 (46a, 46b). , The space surrounded by the plate-shaped members 44, 45, and the lid 48 is depressurized. As a result, dust can be sucked from the opening 52.

このとき、図9に示すように、開口部52のy軸方向における長さL1が、噴射ユニット22のノズル32のy軸方向における長さL2よりも長くなるようにしてもよい。このような構成とすることで、ノズル32から吹き付けられた気体35によって吹き飛ばされた粉塵を、開口部52から確実に吸引することができる。 At this time, as shown in FIG. 9, the length L1 of the opening 52 in the y-axis direction may be longer than the length L2 of the nozzle 32 of the injection unit 22 in the y-axis direction. With such a configuration, the dust blown off by the gas 35 blown from the nozzle 32 can be reliably sucked from the opening 52.

開口部52は、レーザ光16の照射位置と対応する位置に配置されている(図7、9参照)。また、上部開口部51はレーザ光が通過する光路と対応する位置に設けられている。また、上部開口部51はレーザ光を透過する材料で形成された蓋体48を用いて蓋がされている。例えば、蓋体48はガラスやサファイアを用いて形成することができる。図8、図9に示すように、上部開口部51および開口部52は、y軸方向に伸びるように形成されている。よって、図7に示すように、ライン状のレーザ光16は、集塵ユニット23の上部開口部51を通過した後、開口部52を通過して基板11と剥離層12との界面に到達する。集塵ユニット23の側壁41、上板42、板状部材44、45は、例えばステンレスなどの金属材料や樹脂材料を用いて形成することができる。 The opening 52 is arranged at a position corresponding to the irradiation position of the laser beam 16 (see FIGS. 7 and 9). Further, the upper opening 51 is provided at a position corresponding to an optical path through which the laser beam passes. Further, the upper opening 51 is covered with a lid 48 made of a material that transmits laser light. For example, the lid 48 can be formed using glass or sapphire. As shown in FIGS. 8 and 9, the upper opening 51 and the opening 52 are formed so as to extend in the y-axis direction. Therefore, as shown in FIG. 7, the line-shaped laser beam 16 passes through the upper opening 51 of the dust collecting unit 23, then passes through the opening 52, and reaches the interface between the substrate 11 and the release layer 12. .. The side wall 41, the upper plate 42, and the plate-shaped members 44, 45 of the dust collecting unit 23 can be formed by using a metal material such as stainless steel or a resin material.

図10は、集塵ユニット23のワーク10近傍の拡大断面図である。図10に示すように、板状部材44、45は、板状部材45とワーク10との隙間d2が板状部材44とワーク10との隙間d1よりも広くなるように配置されている。板状部材44、45をこのような配置とすることで、板状部材45とワーク10との隙間d2における空気抵抗を低減させることができる。これにより、板状部材45とワーク10との隙間d2において気体35が流れやすくなり、集塵ユニット23の開口部52に気体35が流れやすくなる。 FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the work 10 of the dust collecting unit 23. As shown in FIG. 10, the plate-shaped members 44 and 45 are arranged so that the gap d2 between the plate-shaped member 45 and the work 10 is wider than the gap d1 between the plate-shaped member 44 and the work 10. By arranging the plate-shaped members 44 and 45 in this way, it is possible to reduce the air resistance in the gap d2 between the plate-shaped member 45 and the work 10. As a result, the gas 35 easily flows in the gap d2 between the plate-shaped member 45 and the work 10, and the gas 35 easily flows in the opening 52 of the dust collecting unit 23.

また、図10に示すように、板状部材44の開口部52における断面形状を、板状部材44の下面との成す角度が鋭角となるような傾斜面55を含む形状としてもよい。また、板状部材45の開口部52における断面形状を、板状部材45の上面との成す角度が鋭角となるような傾斜面56を含む形状としてもよい。板状部材44、45をこのような形状とすることで、集塵ユニット23の開口部52における空気抵抗を低減させることができ、気体35が開口部52を流れやすくなる。 Further, as shown in FIG. 10, the cross-sectional shape of the opening 52 of the plate-shaped member 44 may be a shape including an inclined surface 55 such that the angle formed with the lower surface of the plate-shaped member 44 is an acute angle. Further, the cross-sectional shape of the opening 52 of the plate-shaped member 45 may be a shape including an inclined surface 56 such that the angle formed with the upper surface of the plate-shaped member 45 is an acute angle. By forming the plate-shaped members 44 and 45 in such a shape, the air resistance in the opening 52 of the dust collecting unit 23 can be reduced, and the gas 35 can easily flow through the opening 52.

上記で説明したように、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置1は、ワーク10上に気体35を吹き付け、ワーク10の表面に存在する粉塵を吹き飛ばす噴射ユニット22と、レーザ光16の照射位置と対応する位置に開口部52を有し、吹き飛ばされた粉塵を開口部52から吸引して集塵する集塵ユニット23と、を備える。よって、レーザ剥離装置1を用いてワーク10を搬送しながらワーク10にレーザ光16を照射する際、ワーク10の表面に存在する粉塵を吹き飛ばして除去することができる。 As described above, the laser peeling device 1 according to the present embodiment has a jet unit 22 that blows gas 35 onto the work 10 to blow off dust existing on the surface of the work 10, and an irradiation position of the laser beam 16. It has an opening 52 at a corresponding position, and includes a dust collecting unit 23 that sucks and collects the blown dust from the opening 52. Therefore, when the work 10 is irradiated with the laser beam 16 while being conveyed by the laser peeling device 1, the dust existing on the surface of the work 10 can be blown off and removed.

これにより、レーザ光16が粉塵によって遮られて、剥離層12にレーザ光16が届かない部分であるダークスポットが発生することを抑制することができる。したがって、基板11と剥離層12とが分離されない部分の発生を抑制することができるので、基板11と剥離層12とを均一に分離することができる。つまり、基板11と剥離層12と分離した際に、剥離層12の表面が凹凸状になることを抑制でき、剥離層12の表面を平滑な状態にすることができる。換言すると剥離層12の厚さにムラが生じることを抑制することができる。 As a result, it is possible to prevent the laser beam 16 from being blocked by dust and the generation of dark spots, which are portions where the laser beam 16 does not reach the release layer 12, from being generated. Therefore, it is possible to suppress the generation of a portion where the substrate 11 and the peeling layer 12 are not separated, so that the substrate 11 and the peeling layer 12 can be uniformly separated. That is, when the substrate 11 and the release layer 12 are separated, the surface of the release layer 12 can be prevented from becoming uneven, and the surface of the release layer 12 can be made smooth. In other words, it is possible to suppress the occurrence of unevenness in the thickness of the release layer 12.

また、有機ELディスプレイの製造工程において本実施の形態にかかるレーザ剥離装置1を用いることで、基板11と剥離層12とを均一に分離することができ、有機ELディスプレイの表示画面でのムラの発生を抑制することができる。 Further, by using the laser peeling device 1 according to the present embodiment in the manufacturing process of the organic EL display, the substrate 11 and the peeling layer 12 can be uniformly separated, and unevenness on the display screen of the organic EL display can be caused. The occurrence can be suppressed.

また、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置1では、レーザ光16の照射位置と対応する位置に開口部52を設け、この開口部52から粉塵を吸引しているので、レーザ光16の照射位置近傍の粉塵を除去することができる。特に、このような構成により、レーザ光16の光軸上に気体を流すことができるので、剥離層12にレーザ光16を照射することによって発生した煤状の煙(図3参照)を開口部52から吸引して除去することができる。よって、ワーク10上に粉塵が付着することを抑制することができる。 Further, in the laser peeling device 1 according to the present embodiment, an opening 52 is provided at a position corresponding to the irradiation position of the laser light 16, and dust is sucked from the opening 52. Therefore, the irradiation position of the laser light 16 Dust in the vicinity can be removed. In particular, since the gas can flow on the optical axis of the laser beam 16 with such a configuration, the soot-like smoke (see FIG. 3) generated by irradiating the release layer 12 with the laser beam 16 is opened. It can be removed by suction from 52. Therefore, it is possible to prevent dust from adhering to the work 10.

更に本実施の形態にかかるレーザ剥離装置1では、集塵ユニット23(開口部52)に対してワーク10の搬送方向下流側に噴射ユニット22を配置し、噴射ユニット22からワーク10の搬送方向と逆方向に気体35を吹き付けて、ワーク10表面にワーク10の搬送方向と逆方向の層流35を形成している。よって、レーザ光16がワーク10に照射される前に、ワーク10表面に存在する粉塵を除去することができる。 Further, in the laser peeling device 1 according to the present embodiment, the injection unit 22 is arranged on the downstream side in the transport direction of the work 10 with respect to the dust collection unit 23 (opening 52), and the injection unit 22 is connected to the transport direction of the work 10. The gas 35 is sprayed in the opposite direction to form a laminar flow 35 on the surface of the work 10 in the direction opposite to the transport direction of the work 10. Therefore, it is possible to remove the dust existing on the surface of the work 10 before the laser beam 16 irradiates the work 10.

以上で説明した本実施の形態により、基板から剥離層を均一に分離することができるレーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機ELディスプレイの製造方法を提供することができる。 According to the present embodiment described above, it is possible to provide a laser peeling device capable of uniformly separating the peeling layer from the substrate, a laser peeling method, and a method for manufacturing an organic EL display.

<実施の形態2>
次に、実施の形態2について説明する。図11は、実施の形態2にかかるレーザ剥離装置を説明するための断面図である。図11に示すようにレーザ剥離装置2は、光学系20、ステージ21、及び集塵ユニット60を備える。本実施の形態にかかるレーザ剥離装置2は、基板11と当該基板11上に形成された剥離層12とを少なくとも備えるワーク10に対して、ワーク10を搬送しながら、基板11側から基板11と剥離層12との界面にレーザ光16を照射して剥離層12を基板11から剥離する装置である。
<Embodiment 2>
Next, the second embodiment will be described. FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining the laser peeling apparatus according to the second embodiment. As shown in FIG. 11, the laser peeling device 2 includes an optical system 20, a stage 21, and a dust collecting unit 60. The laser peeling device 2 according to the present embodiment transfers the work 10 to the work 10 including at least the substrate 11 and the peeling layer 12 formed on the substrate 11, and from the substrate 11 side to the substrate 11. It is a device that irradiates the interface with the peeling layer 12 with a laser beam 16 to peel the peeling layer 12 from the substrate 11.

光学系20には、レーザ光源(不図示)からレーザ光が供給される。レーザ光源には、例えばエキシマレーザや紫外(UV)レーザを発生させるレーザ発生装置を用いることができる。光学系20は複数のレンズを用いて構成されている。光学系20は、レーザ光源から供給されたレーザ光の形状をライン状、具体的には焦点がy軸方向に伸びるレーザ光16とする。 Laser light is supplied to the optical system 20 from a laser light source (not shown). As the laser light source, for example, an excimer laser or a laser generator that generates an ultraviolet (UV) laser can be used. The optical system 20 is configured by using a plurality of lenses. In the optical system 20, the shape of the laser beam supplied from the laser light source is a line shape, specifically, the laser beam 16 whose focal point extends in the y-axis direction.

ステージ21は、ステージ21上に配置されたワーク10を搬送方向(x軸方向)に搬送可能に構成されている。ここで、ワーク10は少なくとも基板11と剥離層12とを備える。なお、剥離層12の上に形成されている回路素子等は図示を省略している。ワーク10は、基板11側から基板11と剥離層12との界面にレーザ光16が照射されるように、基板11が上側になるようにステージ21上に配置されている。また、ステージ21は、レーザ光16の焦点を基板11と剥離層12との界面に合わせるために、上下方向(z軸に沿った方向)に移動可能に構成されている。 The stage 21 is configured to be capable of transporting the work 10 arranged on the stage 21 in the transport direction (x-axis direction). Here, the work 10 includes at least a substrate 11 and a release layer 12. The circuit elements and the like formed on the release layer 12 are not shown. The work 10 is arranged on the stage 21 so that the substrate 11 is on the upper side so that the laser beam 16 is irradiated from the substrate 11 side to the interface between the substrate 11 and the release layer 12. Further, the stage 21 is configured to be movable in the vertical direction (direction along the z-axis) in order to focus the laser beam 16 on the interface between the substrate 11 and the release layer 12.

次に、集塵ユニット60の構成について詳細に説明する。図12、図13は、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置2が備える集塵ユニット60の詳細を説明するための斜視図である。なお、図13では、集塵ユニット60の一部をxz平面で切断した断面形状も示している。 Next, the configuration of the dust collecting unit 60 will be described in detail. 12 and 13 are perspective views for explaining the details of the dust collecting unit 60 included in the laser peeling device 2 according to the present embodiment. Note that FIG. 13 also shows a cross-sectional shape obtained by cutting a part of the dust collecting unit 60 in the xz plane.

図11~図13に示すように、集塵ユニット60は、光路空間70、給気空間71、72、及び排気空間73、74を備える。 As shown in FIGS. 11 to 13, the dust collecting unit 60 includes an optical path space 70, an air supply space 71, 72, and an exhaust space 73, 74.

光路空間70は、レーザ光16が通過する空間であり、レーザ光16の照射位置と対応する位置に開口部78を有する。光路空間70は、光路空間70の周囲に配置された側壁61、62、81、82(図12参照)と、側壁61、62の上部を覆うように配置された蓋体68(図11参照)とを用いて構成されている。ここで、側壁61は、光路空間70に対してワーク10の搬送方向上流側(x軸マイナス側)に配置された板状部材である。側壁62は、光路空間70に対してワーク10の搬送方向下流側(x軸プラス側)に配置された板状部材である。 The optical path space 70 is a space through which the laser beam 16 passes, and has an opening 78 at a position corresponding to the irradiation position of the laser beam 16. The optical path space 70 includes side walls 61, 62, 81, 82 (see FIG. 12) arranged around the optical path space 70, and a lid 68 (see FIG. 11) arranged so as to cover the upper portions of the side walls 61, 62. It is configured using and. Here, the side wall 61 is a plate-shaped member arranged on the upstream side (x-axis minus side) of the work 10 with respect to the optical path space 70. The side wall 62 is a plate-shaped member arranged on the downstream side (x-axis plus side) of the work 10 with respect to the optical path space 70.

図12に示すように、側壁61および側壁62は、y軸方向に伸びるように配置されている。また、側壁61および側壁62のy軸方向の両端には、側壁81、82がそれぞれ配置されている。図13に示すように、開口部78はy軸方向に伸びるように配置されている。側壁61および側壁62は互いに対向するように配置されており、また、側壁81および側壁82は互いに対向するように配置されている。光路空間70は、側壁61、62、81、82で囲まれた空間である。 As shown in FIG. 12, the side wall 61 and the side wall 62 are arranged so as to extend in the y-axis direction. Further, side walls 81 and 82 are arranged at both ends of the side wall 61 and the side wall 62 in the y-axis direction, respectively. As shown in FIG. 13, the opening 78 is arranged so as to extend in the y-axis direction. The side wall 61 and the side wall 62 are arranged so as to face each other, and the side wall 81 and the side wall 82 are arranged so as to face each other. The optical path space 70 is a space surrounded by side walls 61, 62, 81, and 82.

なお、図11に示すように、本実施の形態では、側壁61、62が光路を妨害しないように、側壁61、62が鉛直方向(z軸方向)に対して斜めになるように配置しているが、側壁61、62が光路を妨害しないようであれば側壁61、62を鉛直方向と平行になるように配置してもよい。 As shown in FIG. 11, in the present embodiment, the side walls 61 and 62 are arranged so as to be oblique with respect to the vertical direction (z-axis direction) so that the side walls 61 and 62 do not obstruct the optical path. However, if the side walls 61 and 62 do not obstruct the optical path, the side walls 61 and 62 may be arranged so as to be parallel to the vertical direction.

図11に示すように、蓋体68は上板65の上に配置されている。つまり、蓋体68を用いて光路空間70に蓋がされている。蓋体68はレーザ光を透過する材料で形成されており、例えばガラスやサファイアを用いて形成することができる。なお、図12では上板65および蓋体68の図示を省略している。また、図13では蓋体68の図示を省略している。図12に示すように、光路空間70はy軸方向に伸びるように形成されているので、y軸方向に伸びるライン状のレーザ光16を通過させることができる。よって、図11に示すように、ライン状のレーザ光16は、集塵ユニット23の光路空間70を通過した後、開口部78を通過して基板11と剥離層12との界面に到達する。 As shown in FIG. 11, the lid 68 is arranged on the upper plate 65. That is, the optical path space 70 is covered with the lid body 68. The lid 68 is made of a material that transmits laser light, and can be formed by using, for example, glass or sapphire. In FIG. 12, the upper plate 65 and the lid 68 are not shown. Further, in FIG. 13, the illustration of the lid body 68 is omitted. As shown in FIG. 12, since the optical path space 70 is formed so as to extend in the y-axis direction, a line-shaped laser beam 16 extending in the y-axis direction can be passed through. Therefore, as shown in FIG. 11, the line-shaped laser beam 16 passes through the optical path space 70 of the dust collecting unit 23, then passes through the opening 78, and reaches the interface between the substrate 11 and the release layer 12.

図11に示すように、側壁61、62にはそれぞれ、光路空間70に気体を供給するための給気孔75、76が形成されている。つまり、光路空間70と給気空間71は給気孔75を介して繋がっており、光路空間70には給気空間71から給気孔75を介して気体が供給される。また、光路空間70と給気空間72は給気孔76介して繋がっており、光路空間70には給気空間72から給気孔76を介して気体が供給される。図12、図13に示すように、例えば給気孔75、76はy軸方向に沿って並ぶように形成されている。 As shown in FIG. 11, the side walls 61 and 62 are formed with air supply holes 75 and 76 for supplying gas to the optical path space 70, respectively. That is, the optical path space 70 and the air supply space 71 are connected to each other via the air supply hole 75, and gas is supplied to the optical path space 70 from the air supply space 71 through the air supply hole 75. Further, the optical path space 70 and the air supply space 72 are connected to each other through the air supply hole 76, and gas is supplied to the optical path space 70 from the air supply space 72 through the air supply hole 76. As shown in FIGS. 12 and 13, for example, the air supply holes 75 and 76 are formed so as to be arranged along the y-axis direction.

給気空間71、72は、光路空間70の外側に配置されている。具体的には、給気空間71は、光路空間70に対してワーク10の搬送方向上流側(x軸マイナス側)で、且つ排気空間73の上部に配置されている。また、給気空間72は、光路空間70に対してワーク10の搬送方向下流側(x軸プラス側)で、且つ排気空間74の上部に配置されている。図12に示すように、給気空間71、72は、集塵ユニット60のy軸方向の両端側において空間的に繋がっている。つまり、給気空間71、72は、光路空間70の外側を取り囲むように配置されている。 The air supply spaces 71 and 72 are arranged outside the optical path space 70. Specifically, the air supply space 71 is arranged on the upstream side (x-axis minus side) of the work 10 in the transport direction with respect to the optical path space 70, and is arranged above the exhaust space 73. Further, the air supply space 72 is arranged on the downstream side (x-axis plus side) of the work 10 in the transport direction with respect to the optical path space 70, and above the exhaust space 74. As shown in FIG. 12, the air supply spaces 71 and 72 are spatially connected at both ends of the dust collecting unit 60 in the y-axis direction. That is, the air supply spaces 71 and 72 are arranged so as to surround the outside of the optical path space 70.

図12に示すように、給気空間71、72は、板状部材63、64、板状部材83、84、側壁61、62、側壁81、82、仕切り板66、67、及び上板65(図13参照)で囲まれた空間である。図12に示すように、集塵ユニット60のy軸方向のマイナス側の端部、つまり板状部材84には給気空間71、72に気体を供給するための給気ポート85が形成されている。給気ポート85には、圧縮された不活性ガス(窒素など)や圧縮空気等の正圧の気体が供給される。 As shown in FIG. 12, the air supply spaces 71 and 72 include the plate-shaped members 63 and 64, the plate-shaped members 83 and 84, the side walls 61 and 62, the side walls 81 and 82, the partition plates 66 and 67, and the upper plate 65 ( It is a space surrounded by (see FIG. 13). As shown in FIG. 12, the end of the dust collecting unit 60 on the negative side in the y-axis direction, that is, the plate-shaped member 84 is formed with an air supply port 85 for supplying gas to the air supply spaces 71 and 72. There is. A positive pressure gas such as compressed inert gas (nitrogen or the like) or compressed air is supplied to the air supply port 85.

図11、図13に示すように、排気空間73、74は、光路空間70の外側に配置されている。具体的には、排気空間73は、光路空間70に対してワーク10の搬送方向上流側(x軸マイナス側)で、且つ給気空間71の下部に配置されている。また、排気空間74は、光路空間70に対してワーク10の搬送方向下流側(x軸プラス側)で、且つ給気空間72の下部に配置されている。給気空間71、72の場合と同様に、排気空間73、74は集塵ユニット60のy軸方向の両端側において空間的に繋がっている。 As shown in FIGS. 11 and 13, the exhaust spaces 73 and 74 are arranged outside the optical path space 70. Specifically, the exhaust space 73 is arranged on the upstream side (x-axis minus side) of the work 10 with respect to the optical path space 70 and below the air supply space 71. Further, the exhaust space 74 is arranged on the downstream side (x-axis plus side) of the work 10 in the transport direction with respect to the optical path space 70, and below the air supply space 72. As in the case of the supply air spaces 71 and 72, the exhaust spaces 73 and 74 are spatially connected at both ends of the dust collecting unit 60 in the y-axis direction.

図11~図13に示すように、排気空間73、74は、板状部材63、64、板状部材83、84、側壁61、62、側壁81、82、及び仕切り板66、67で囲まれた空間である。排気空間73、74のワーク10側は開口している。集塵ユニット60の板状部材64には、排気ポート77(77a、77b)が取り付けられており、排気ポート77(77a、77b)の先に取り付けられたファンやポンプ等を用いて排気することで、排気空間73、74の圧力が負圧となる。 As shown in FIGS. 11 to 13, the exhaust spaces 73 and 74 are surrounded by the plate-shaped members 63 and 64, the plate-shaped members 83 and 84, the side walls 61 and 62, the side walls 81 and 82, and the partition plates 66 and 67. It is a space. The work 10 side of the exhaust spaces 73 and 74 is open. An exhaust port 77 (77a, 77b) is attached to the plate-shaped member 64 of the dust collecting unit 60, and exhaust is performed by using a fan, a pump, or the like attached to the tip of the exhaust port 77 (77a, 77b). Then, the pressures in the exhaust spaces 73 and 74 become negative pressures.

集塵ユニット60が備える側壁61、62、81、82、板状部材63、64、83、84、上板65、仕切り板66、67、及び排気ポート77a、77bは、例えばステンレスなどの金属材料を用いて形成することができる。 The side walls 61, 62, 81, 82, the plate-shaped members 63, 64, 83, 84, the upper plate 65, the partition plates 66, 67, and the exhaust ports 77a, 77b included in the dust collecting unit 60 are made of a metal material such as stainless steel. Can be formed using.

次に、集塵ユニット60の動作について説明する。集塵ユニット60を動作させる際は、図12に示す給気ポート85から給気空間71、72に正圧の気体を供給する。また、図13に示す排気ポート77a、77bを介して排気空間73、74を排気して、排気空間73、74の圧力を負圧とする。 Next, the operation of the dust collecting unit 60 will be described. When operating the dust collecting unit 60, positive pressure gas is supplied to the air supply spaces 71 and 72 from the air supply port 85 shown in FIG. Further, the exhaust spaces 73 and 74 are exhausted through the exhaust ports 77a and 77b shown in FIG. 13, and the pressure in the exhaust spaces 73 and 74 is set as a negative pressure.

図11に示すように、給気空間71、72が正圧になると、給気空間71、72から光路空間70に給気孔75、76を通して気体が流れる。このとき、給気孔75、76の直径は十分に小さいため、給気空間71、72内の圧力は給気空間71、72の全域で均一な圧力となる。よって、各々の給気孔75、76から流れ出る気体の流量は略同一となる。なお、気体の流れは図11において破線の矢印で示している。図14、図16、図17においても同様である。 As shown in FIG. 11, when the air supply spaces 71 and 72 become positive pressure, gas flows from the air supply spaces 71 and 72 to the optical path space 70 through the air supply holes 75 and 76. At this time, since the diameters of the air supply holes 75 and 76 are sufficiently small, the pressure in the air supply spaces 71 and 72 becomes uniform over the entire area of the air supply spaces 71 and 72. Therefore, the flow rates of the gases flowing out from the air supply holes 75 and 76 are substantially the same. The gas flow is indicated by a broken line arrow in FIG. The same applies to FIGS. 14, 16 and 17.

給気孔75、76から光路空間70に供給された気体は、側壁61、62に沿ってワーク10側に流れた後、側壁61、62の下端とワーク10との間を通過して排気空間73、74に流れる。つまり、給気孔75、76から供給された気体はダウンフローを形成し、ワーク10に衝突した後、ワーク10の搬送方向上流側と下流側とに分岐される。ワーク10の搬送方向上流側に分岐された気体は排気空間73に流れる。また、ワーク10の搬送方向下流側に分岐された気体は排気空間74に流れる。そして、排気空間73、74に流れた気体は、その後、排気ポート77(77a、77b)から排気される。 The gas supplied from the air supply holes 75 and 76 to the optical path space 70 flows toward the work 10 along the side walls 61 and 62, and then passes between the lower ends of the side walls 61 and 62 and the work 10 to pass through the exhaust space 73. , 74 flows. That is, the gas supplied from the air supply holes 75 and 76 forms a downflow, collides with the work 10, and then branches into the upstream side and the downstream side in the transport direction of the work 10. The gas branched upstream in the transport direction of the work 10 flows into the exhaust space 73. Further, the gas branched to the downstream side in the transport direction of the work 10 flows into the exhaust space 74. Then, the gas flowing into the exhaust spaces 73 and 74 is subsequently exhausted from the exhaust ports 77 (77a and 77b).

このように、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置2では、集塵ユニット60の内部において上記で説明した気体の流れを作ることで、レーザ光を照射することによって発生した粉塵(図3、図4参照)を、気体の流れに沿って排気ポート77(77a、77b)から排気することができる。このとき、給気孔75、76から供給された気体はダウンフローとなってワーク10に衝突するので、ワーク10の表面に存在する粉塵を吹き飛ばすことができる。そして、この吹き飛ばされた粉塵を気体の流れに沿って排気ポート77(77a、77b)から排気することができる。 As described above, in the laser peeling device 2 according to the present embodiment, the dust generated by irradiating the laser beam by creating the gas flow described above inside the dust collecting unit 60 (FIGS. 3 and 3). 4) can be exhausted from the exhaust ports 77 (77a, 77b) along the flow of gas. At this time, the gas supplied from the air supply holes 75 and 76 becomes a downflow and collides with the work 10, so that dust existing on the surface of the work 10 can be blown off. Then, the blown dust can be exhausted from the exhaust ports 77 (77a, 77b) along the flow of gas.

またこのとき、給気ポート85から給気空間71、72に供給する気体の量よりも、排気ポート77(77a、77b)から排気する気体の量を多くすることで、排気空間73、74における圧力を更に低くすることができる。このように、排気空間73、74における圧力を更に低くすることで、集塵ユニット60の外側から、板状部材63、64、83、84(図12参照)の下端とワーク10との間を通過して気体が流れ込むようにすることができる。よって、集塵ユニット60の内部で粉塵が浮遊しても、集塵ユニット60の外部に粉塵が出ることを抑制することができる。 At this time, the amount of gas exhausted from the exhaust ports 77 (77a, 77b) is larger than the amount of gas supplied from the supply air port 85 to the supply air spaces 71 and 72, so that the exhaust spaces 73 and 74 have. The pressure can be further reduced. By further reducing the pressure in the exhaust spaces 73 and 74 in this way, from the outside of the dust collecting unit 60, between the lower ends of the plate-shaped members 63, 64, 83, 84 (see FIG. 12) and the work 10. It can be allowed to pass through and allow gas to flow in. Therefore, even if the dust floats inside the dust collecting unit 60, it is possible to prevent the dust from coming out to the outside of the dust collecting unit 60.

上記で説明したように、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置2は、レーザ光16の照射位置と対応する位置に開口部78を有し、レーザ光16が通過する光路空間70と、光路空間70の外側に配置された排気空間73、74と、を備える集塵ユニット60を有する。光路空間70の側壁61、62には、光路空間70に気体を供給するための給気孔75、76が形成されている。そして、給気孔75、76から光路空間70に供給された気体は、側壁61、62に沿ってワーク10側に流れた後、側壁61、62の下端とワーク10との間を通過して排気空間73、74に流れる。このように、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置2では、集塵ユニット60を用いて、上記で説明したような気体の流れを作ることで、レーザ光16を照射することによって発生した粉塵(図3、図4参照)を、気体の流れに沿って排気することができる。 As described above, the laser peeling device 2 according to the present embodiment has an opening 78 at a position corresponding to the irradiation position of the laser beam 16, and has an optical path space 70 through which the laser beam 16 passes and an optical path space. It has a dust collecting unit 60 including exhaust spaces 73, 74 arranged outside the 70. Air supply holes 75 and 76 for supplying gas to the optical path space 70 are formed on the side walls 61 and 62 of the optical path space 70. Then, the gas supplied from the air supply holes 75 and 76 to the optical path space 70 flows to the work 10 side along the side walls 61 and 62, and then passes between the lower ends of the side walls 61 and 62 and the work 10 and is exhausted. It flows into spaces 73 and 74. As described above, in the laser peeling device 2 according to the present embodiment, the dust collecting unit 60 is used to create a gas flow as described above, and the dust generated by irradiating the laser beam 16 (dust (). (See FIGS. 3 and 4) can be exhausted along the flow of gas.

これにより、レーザ光16が粉塵によって遮られて、剥離層12にレーザ光16が届かない部分であるダークスポットが発生することを抑制することができる。したがって、基板11と剥離層12とが分離されない部分の発生を抑制することができるので、基板11と剥離層12とを均一に分離することができる。つまり、基板11と剥離層12と分離した際に、剥離層12の表面が凹凸状になることを抑制でき、剥離層12の表面を平滑な状態にすることができる。換言すると剥離層12の厚さにムラが生じることを抑制することができる。 As a result, it is possible to prevent the laser beam 16 from being blocked by dust and the generation of dark spots, which are portions where the laser beam 16 does not reach the release layer 12, from being generated. Therefore, it is possible to suppress the generation of a portion where the substrate 11 and the peeling layer 12 are not separated, so that the substrate 11 and the peeling layer 12 can be uniformly separated. That is, when the substrate 11 and the release layer 12 are separated, the surface of the release layer 12 can be prevented from becoming uneven, and the surface of the release layer 12 can be made smooth. In other words, it is possible to suppress the occurrence of unevenness in the thickness of the release layer 12.

また、給気孔75、76から供給された気体は、レーザ光16の光軸上においてダウンフローとなって側壁61、62に沿って流れるので、レーザ光を照射することによって発生した煤状の煙や粉塵(図3、図4参照)が側壁61、62や蓋体の下面に付着することを抑制することができる。 Further, since the gas supplied from the air supply holes 75 and 76 flows down along the side walls 61 and 62 on the optical axis of the laser beam 16, soot-like smoke generated by irradiating the laser beam is generated. And dust (see FIGS. 3 and 4) can be prevented from adhering to the side walls 61 and 62 and the lower surface of the lid.

また、有機ELディスプレイの製造工程において本実施の形態にかかるレーザ剥離装置2を用いることで、基板11と剥離層12とを均一に分離することができ、有機ELディスプレイの表示画面でのムラの発生を抑制することができる。 Further, by using the laser peeling device 2 according to the present embodiment in the manufacturing process of the organic EL display, the substrate 11 and the peeling layer 12 can be uniformly separated, and unevenness on the display screen of the organic EL display can be caused. The occurrence can be suppressed.

以上で説明した本実施の形態により、基板から剥離層を均一に分離することができるレーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機ELディスプレイの製造方法を提供することができる。 According to the present embodiment described above, it is possible to provide a laser peeling device capable of uniformly separating the peeling layer from the substrate, a laser peeling method, and a method for manufacturing an organic EL display.

<実施の形態3>
次に、実施の形態3について説明する。図14は、実施の形態3にかかるレーザ剥離装置を説明するための断面図である。本実施の形態にかかるレーザ剥離装置3は、実施の形態2で説明したレーザ剥離装置2と比べて集塵ユニット90の底部に底板部材91~94を備える点が異なる。これ以外は実施の形態2で説明したレーザ剥離装置2と同様であるので、同一の構成要素には同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
<Embodiment 3>
Next, the third embodiment will be described. FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining the laser peeling apparatus according to the third embodiment. The laser peeling device 3 according to the present embodiment is different from the laser peeling device 2 described in the second embodiment in that the bottom plate members 91 to 94 are provided at the bottom of the dust collecting unit 90. Other than this, since it is the same as the laser peeling device 2 described in the second embodiment, the same components are designated by the same reference numerals, and duplicated description will be omitted.

図14、図15に示すように、集塵ユニット90が備える排気空間73の下部には吸気口95が形成されている。吸気口95は、y軸方向に伸びる底板部材91および底板部材92を対向させて配置することで形成することができる。底板部材91は側壁61の下部に取り付けられており、底板部材92は板状部材63の下部に取り付けられている。吸気口95は、ワーク10の表面と排気空間73との間の流路が狭くなるように形成されている。 As shown in FIGS. 14 and 15, an intake port 95 is formed in the lower part of the exhaust space 73 included in the dust collecting unit 90. The intake port 95 can be formed by arranging the bottom plate member 91 extending in the y-axis direction and the bottom plate member 92 so as to face each other. The bottom plate member 91 is attached to the lower part of the side wall 61, and the bottom plate member 92 is attached to the lower part of the plate-shaped member 63. The intake port 95 is formed so that the flow path between the surface of the work 10 and the exhaust space 73 is narrowed.

同様に、集塵ユニット90が備える排気空間74の下部には吸気口96が形成されている。吸気口96は、y軸方向に伸びる底板部材93および底板部材94を対向させて配置することで形成することができる。底板部材93は側壁62の下部に取り付けられており、底板部材94は板状部材64の下部に取り付けられている。吸気口96は、ワーク10の表面と排気空間74との間の流路が狭くなるように形成されている。 Similarly, an intake port 96 is formed in the lower part of the exhaust space 74 included in the dust collecting unit 90. The intake port 96 can be formed by arranging the bottom plate member 93 extending in the y-axis direction and the bottom plate member 94 facing each other. The bottom plate member 93 is attached to the lower part of the side wall 62, and the bottom plate member 94 is attached to the lower part of the plate-shaped member 64. The intake port 96 is formed so that the flow path between the surface of the work 10 and the exhaust space 74 is narrowed.

このように、吸気口95、96を設けることで、ワーク10の表面と排気空間73、74との間の流路を狭くすることができる。これにより、排気空間73、74には圧力損失が発生する。排気空間の内部の圧力を排気空間全体において均一にすることができる。よって、ワーク10の表面から排気空間73、74の内部に気体を効率よく回収することができる。換言すると、吸気口95、96における吸引力を強くすることができるので、ワーク10の表面における気体の流速を速くすることができる。よって、粉塵を確実に吸引することができる。 By providing the intake ports 95 and 96 in this way, the flow path between the surface of the work 10 and the exhaust spaces 73 and 74 can be narrowed. As a result, pressure loss occurs in the exhaust spaces 73 and 74. The pressure inside the exhaust space can be made uniform throughout the exhaust space. Therefore, the gas can be efficiently recovered from the surface of the work 10 into the exhaust spaces 73 and 74. In other words, since the suction force at the intake ports 95 and 96 can be increased, the flow velocity of the gas on the surface of the work 10 can be increased. Therefore, the dust can be reliably sucked.

このとき、底板部材91の吸気口95における断面形状を、底板部材91の上面との成す角度が鋭角となるような傾斜面97を含む形状としてもよい。また、底板部材93の吸気口96における断面形状を、底板部材93の上面との成す角度が鋭角となるような傾斜面98を含む形状としてもよい。このように傾斜面97、98を設けることで、開口部78側から吸気口95、96に向かって気体が流れやすくなる。 At this time, the cross-sectional shape of the intake port 95 of the bottom plate member 91 may be a shape including an inclined surface 97 such that the angle formed with the upper surface of the bottom plate member 91 is an acute angle. Further, the cross-sectional shape of the bottom plate member 93 at the intake port 96 may be a shape including an inclined surface 98 such that the angle formed with the upper surface of the bottom plate member 93 is an acute angle. By providing the inclined surfaces 97 and 98 in this way, gas can easily flow from the opening 78 side toward the intake ports 95 and 96.

図16は、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置の他の構成例を示す断面図である。本実施の形態では、図16に示すレーザ剥離装置4のように、集塵ユニット100の底部に設けた底板部材101、102にそれぞれ傾斜面103、104を形成してもよい。つまり、底板部材103の吸気口95における断面形状を、底板部材101の上面との成す角度が鋭角となるような傾斜面103を含む形状としてもよい。また、底板部材102の吸気口96における断面形状を、底板部材102の上面との成す角度が鋭角となるような傾斜面104を含む形状としてもよい。このように傾斜面103、104を設けることで、集塵ユニット100の外側から吸気口95、96に向かって気体が流れやすくなる。 FIG. 16 is a cross-sectional view showing another configuration example of the laser peeling device according to the present embodiment. In the present embodiment, as in the laser peeling device 4 shown in FIG. 16, inclined surfaces 103 and 104 may be formed on the bottom plate members 101 and 102 provided at the bottom of the dust collecting unit 100, respectively. That is, the cross-sectional shape of the bottom plate member 103 at the intake port 95 may be a shape including an inclined surface 103 such that the angle formed with the upper surface of the bottom plate member 101 is an acute angle. Further, the cross-sectional shape of the bottom plate member 102 at the intake port 96 may be a shape including an inclined surface 104 such that the angle formed with the upper surface of the bottom plate member 102 is an acute angle. By providing the inclined surfaces 103 and 104 in this way, gas can easily flow from the outside of the dust collecting unit 100 toward the intake ports 95 and 96.

以上で説明した本実施の形態においても、基板から剥離層を均一に分離することができるレーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機ELディスプレイの製造方法を提供することができる。 Also in the present embodiment described above, it is possible to provide a laser peeling device capable of uniformly separating the peeling layer from the substrate, a laser peeling method, and a method for manufacturing an organic EL display.

<実施の形態4>
次に、実施の形態4について説明する。図17は、実施の形態4にかかるレーザ剥離装置5を説明するための断面図である。本実施の形態にかかるレーザ剥離装置5は、実施の形態3で説明したレーザ剥離装置3(図14参照)と比べて集塵ユニット110が給気空間71、72を備えない点が異なる。これ以外は実施の形態3で説明したレーザ剥離装置3と同様であるので、同一の構成要素には同一の符号を付し、重複した説明は省略する。
<Embodiment 4>
Next, the fourth embodiment will be described. FIG. 17 is a cross-sectional view for explaining the laser peeling device 5 according to the fourth embodiment. The laser peeling device 5 according to the present embodiment is different from the laser peeling device 3 (see FIG. 14) described in the third embodiment in that the dust collecting unit 110 does not have the air supply spaces 71 and 72. Other than this, since it is the same as the laser peeling device 3 described in the third embodiment, the same components are designated by the same reference numerals, and duplicated description will be omitted.

図17、図18に示すように、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置5が備える集塵ユニット110は、光路空間70および排気空間73、74を備える。光路空間70および排気空間73、74については、実施の形態2、3で説明した場合と同様であるので説明を省略する。 As shown in FIGS. 17 and 18, the dust collecting unit 110 included in the laser peeling device 5 according to the present embodiment includes an optical path space 70 and exhaust spaces 73 and 74. Since the optical path space 70 and the exhaust spaces 73 and 74 are the same as those described in the second and third embodiments, the description thereof will be omitted.

本実施の形態では、集塵ユニット110の側壁61、62がそれぞれ備える給気孔75、76に配管113、114が接続されており、この配管113、114から給気孔75、76を経由して光路空間70に正圧の気体が供給される。つまり、本実施の形態では、実施の形態3で説明したレーザ剥離装置4と比べて、板状部材111、112のz軸方向における長さを短くし、且つ上板65(図14参照)を設けない構成として、給気空間71、72を省略している。また、本実施の形態では上板65を設けていないので、蓋体68を側壁61、62の上部に設けている。 In the present embodiment, the pipes 113 and 114 are connected to the air supply holes 75 and 76 provided in the side walls 61 and 62 of the dust collecting unit 110, respectively, and the optical path from the pipes 113 and 114 via the air supply holes 75 and 76. A positive pressure gas is supplied to the space 70. That is, in the present embodiment, the lengths of the plate-shaped members 111 and 112 in the z-axis direction are shortened as compared with the laser peeling device 4 described in the third embodiment, and the upper plate 65 (see FIG. 14) is used. The air supply spaces 71 and 72 are omitted as a configuration that is not provided. Further, since the upper plate 65 is not provided in the present embodiment, the lid 68 is provided above the side walls 61 and 62.

このように、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置5では、給気孔75、76に配管113、114を接続し、この配管113、114から光路空間70に正圧の気体を供給している。よって、給気空間71、72(図14参照)を省略することができるので、装置構成を簡略化することができる。 As described above, in the laser peeling device 5 according to the present embodiment, the pipes 113 and 114 are connected to the air supply holes 75 and 76, and positive pressure gas is supplied from the pipes 113 and 114 to the optical path space 70. Therefore, since the air supply spaces 71 and 72 (see FIG. 14) can be omitted, the device configuration can be simplified.

なお、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置5の構成、つまり給気空間71、72を省略する構成は、実施の形態2で説明したレーザ剥離装置2にも適用することができる。換言すると、図17に示す本実施の形態にかかるレーザ剥離装置5において、底板部材91~94を省略してもよい。また、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置5の構成は、図16に示した実施の形態3の他の構成例にかかるレーザ剥離装置4に適用してもよい。 The configuration of the laser peeling device 5 according to the present embodiment, that is, the configuration omitting the air supply spaces 71 and 72, can also be applied to the laser peeling device 2 described in the second embodiment. In other words, in the laser peeling device 5 according to the present embodiment shown in FIG. 17, the bottom plate members 91 to 94 may be omitted. Further, the configuration of the laser peeling device 5 according to the present embodiment may be applied to the laser peeling device 4 according to another configuration example of the third embodiment shown in FIG.

<実施の形態5>(サイドフローのチャンバ装備)
次に、実施の形態5について説明する。まず、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置の構成を説明する。図19~21は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。図22は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置を説明するための側面図である。図19~図22では、内部の構造を説明するために、適宜、構成する部材を省略している。
<Embodiment 5> (equipped with a side flow chamber)
Next, the fifth embodiment will be described. First, the configuration of the laser peeling device according to the fifth embodiment will be described. 19 to 21 are perspective views for explaining the laser peeling apparatus according to the fifth embodiment. FIG. 22 is a side view for explaining the laser peeling device according to the fifth embodiment. In FIGS. 19 to 22, in order to explain the internal structure, the constituent members are appropriately omitted.

図19~図22に示すように、本実施の形態にかかるレーザ剥離装置500は、実施の形態1~4で説明したレーザ剥離装置と比べて、チャンバ510を備えている点が異なっている。チャンバ510の内部に、実施の形態1~4で説明した集塵ユニット23、60、90、100及び110のいずれかが配置されている。また、ステージ21上に配置されたワーク10もチャンバ510の内部に配置されている。 As shown in FIGS. 19 to 22, the laser peeling device 500 according to the present embodiment is different from the laser peeling device described in the first to fourth embodiments in that it includes a chamber 510. Inside the chamber 510, any one of the dust collecting units 23, 60, 90, 100 and 110 described in the first to fourth embodiments is arranged. Further, the work 10 arranged on the stage 21 is also arranged inside the chamber 510.

本実施の形態では、実施形態1~4の集塵ユニットのうち、集塵ユニット60がチャンバ510の内部に配置されているとして説明する。なお、集塵ユニット60の代わりに他の集塵ユニットを用いてもよい。レーザ剥離装置500を説明するために、集塵ユニット60に適用したXYZ直交座標系を導入する。よって、ワーク10の搬送方向は、X軸方向となっている。 In the present embodiment, among the dust collecting units of the first to fourth embodiments, the dust collecting unit 60 will be described as being arranged inside the chamber 510. In addition, another dust collecting unit may be used instead of the dust collecting unit 60. In order to explain the laser peeling device 500, an XYZ Cartesian coordinate system applied to the dust collecting unit 60 is introduced. Therefore, the transport direction of the work 10 is the X-axis direction.

<チャンバの構成>
チャンバ510は、例えば、外形が直方体状であり、チャンバ壁によって囲まれた内部に空間を有している。チャンバ510は、下方から支持台530で支持されている。支持台530は、土台531及び複数の支柱532を有している。土台531は、床面上に平らに設置された平板状の部材であり、チャンバ510の重みを支えている。土台531から上方に延びるように設けられた複数の支柱532によって、チャンバ510は支持されている。
<Chamber configuration>
The chamber 510 has, for example, a rectangular parallelepiped outer shape and has a space inside surrounded by the chamber wall. The chamber 510 is supported by a support base 530 from below. The support base 530 has a base 531 and a plurality of columns 532. The base 531 is a flat plate-like member installed flat on the floor surface and supports the weight of the chamber 510. The chamber 510 is supported by a plurality of columns 532 provided so as to extend upward from the base 531.

チャンバ510は、底面壁511及び上面壁512、前面壁513及び後面壁514、並びに、側面壁515及び516によって、例えば、直方体状に構成されている。底面壁511及び上面壁512は、Z軸方向、すなわち、上下方向で対向している。前面壁513及び後面壁514は、X軸方向、すなわち、ワーク10の搬送方向で対向している。側面壁515及び516は、Y軸方向で対向している。なお、チャンバ510の形状は、直方体状に限らない。 The chamber 510 is configured, for example, in a rectangular parallelepiped shape by the bottom wall 511 and the top wall 512, the front wall 513 and the rear wall 514, and the side walls 515 and 516. The bottom wall 511 and the top wall 512 face each other in the Z-axis direction, that is, in the vertical direction. The front wall 513 and the rear wall 514 face each other in the X-axis direction, that is, in the transport direction of the work 10. The side walls 515 and 516 face each other in the Y-axis direction. The shape of the chamber 510 is not limited to the rectangular parallelepiped shape.

底面壁511は、上方から見て、例えば、長辺がX軸方向に沿い、短辺がY軸方向に沿った長方形の平板状となっている。底面壁511は、上面壁512の-Z軸方向側に配置されている。底面壁511は、板面を水平にして、複数の支柱532で支持されている。 When viewed from above, the bottom wall 511 has, for example, a rectangular flat plate having a long side along the X-axis direction and a short side along the Y-axis direction. The bottom wall 511 is arranged on the −Z axis direction side of the top wall 512. The bottom wall 511 is supported by a plurality of columns 532 with the plate surface horizontal.

前面壁513は、X軸方向から見て、例えば、長辺がY軸方向に沿い、短辺がZ軸方向に沿った長方形の平板状となっている。前面壁513は、後面壁514の-X軸方向側に配置され、後面壁514と対向している。したがって、前面壁513を一方の壁とすれば、後面壁514は、一方の壁に対向する他方の壁となる。また、前面壁513は、搬送方向に直交している。前面壁513には、給気ファン541及びフィルタ542が設けられている。よって、前面壁513は、給気ファン541及びフィルタ542が組み込まれたFFU(Fan Filter Unit)を構成している。 When viewed from the X-axis direction, the front wall 513 has, for example, a rectangular flat plate having a long side along the Y-axis direction and a short side along the Z-axis direction. The front wall 513 is arranged on the −X-axis direction side of the rear wall 514 and faces the rear wall 514. Therefore, if the front wall 513 is one wall, the rear wall 514 is the other wall facing one wall. Further, the front wall 513 is orthogonal to the transport direction. The front wall 513 is provided with an air supply fan 541 and a filter 542. Therefore, the front wall 513 constitutes an FFU (Fan Filter Unit) in which an air supply fan 541 and a filter 542 are incorporated.

給気ファン541は、例えば、前面壁513のY軸方向における中央部に配置されている。給気ファン541は、チャンバ510の外部から、チャンバ510の内部に気体を給気する。気体は、例えば、空気である。なお、チャンバ510の外部から内部に給気される気体(給気気体ともいう。)は、空気に限らず、窒素等の不活性ガス等でもよい。以下の説明では、チャンバ510の内部へ取り込む気体を空気として説明する。給気ファン541は、チャンバ510の内部へ取り込んだ空気を+X軸方向に送風する。例えば、給気ファン541は、1個当たり、500~1500L/minの流量の空気を給気する。 The air supply fan 541 is arranged at the center of the front wall 513 in the Y-axis direction, for example. The air supply fan 541 supplies gas from the outside of the chamber 510 to the inside of the chamber 510. The gas is, for example, air. The gas supplied from the outside to the inside of the chamber 510 (also referred to as an air supply gas) is not limited to air, and may be an inert gas such as nitrogen. In the following description, the gas taken into the inside of the chamber 510 will be described as air. The air supply fan 541 blows the air taken into the inside of the chamber 510 in the + X axis direction. For example, the air supply fan 541 supplies air at a flow rate of 500 to 1500 L / min per fan.

フィルタ542は、例えば、前面壁513に、1個または複数個設けられている。例えば、フィルタ542は、前面壁513におけるY軸方向において、給気ファン541の両側に一つずつ、給気ファン541を挟むように合計2つ設けられている。よって、Y軸方向に離して配置されたフィルタ542の間に給気ファン541が配置されている。 One or more filters 542 are provided on the front wall 513, for example. For example, two filters 542 are provided on both sides of the air supply fan 541 in the Y-axis direction of the front wall 513 so as to sandwich the air supply fan 541. Therefore, the air supply fan 541 is arranged between the filters 542 arranged apart from each other in the Y-axis direction.

後面壁514は、X軸方向から見て、例えば、長辺がY軸方向に沿い、短辺がZ軸方向に沿った長方形の平板状となっている。後面壁514には、排気ダクト用排気口543及びフィルタ542が設けられている。 When viewed from the X-axis direction, the rear wall 514 has, for example, a rectangular flat plate having a long side along the Y-axis direction and a short side along the Z-axis direction. The rear wall 514 is provided with an exhaust port 543 for an exhaust duct and a filter 542.

排気ダクト用排気口543は、例えば、後面壁514のY軸方向における中央部に配置されている。排気ダクト用排気口543は、チャンバ510の内部からチャンバ510の外部に空気を排気する。排気ダクト用排気口543には、チャンバ510の外部から排気ダクト544が接続されている。給気ファン541によって、チャンバ510の内部に取り込まれた空気は、排気ダクト用排気口543を通って、排気ダクト544へ排気される。よって、排気ダクト用排気口543は、給気ファン541とともに配置されることにより、チャンバ510の内部に+X軸方向に沿った空気の流れを形成する。排気ダクト用排気口543に排気ファン548が設けられていてもよい。 The exhaust port 543 for the exhaust duct is arranged, for example, at the center of the rear wall 514 in the Y-axis direction. The exhaust port 543 for the exhaust duct exhausts air from the inside of the chamber 510 to the outside of the chamber 510. An exhaust duct 544 is connected to the exhaust port 543 for the exhaust duct from the outside of the chamber 510. The air taken into the inside of the chamber 510 by the air supply fan 541 is exhausted to the exhaust duct 544 through the exhaust port 543 for the exhaust duct. Therefore, the exhaust port 543 for the exhaust duct is arranged together with the air supply fan 541 to form an air flow along the + X axis direction inside the chamber 510. An exhaust fan 548 may be provided in the exhaust port 543 for the exhaust duct.

フィルタ542は、例えば、後面壁514に、1個または複数個設けられている。例えば、フィルタ542は、後面壁514におけるY軸方向において、排気ダクト用排気口543の両側に、排気ダクト用排気口543を挟むように、一つずつ合計2つ設けられている。よって、Y軸方向に離して配置されたフィルタ542の間に排気ダクト用排気口543が配置されている。なお、フィルタ542の配置個数及び配置場所は、適宜、変更してもよく、例えば、後面壁514の形状等により、後面壁514に設けるフィルタ542の数を変更してもよい。 One or more filters 542 are provided on the rear wall 514, for example. For example, two filters 542 are provided on both sides of the exhaust duct exhaust port 543 in the Y-axis direction of the rear wall 514 so as to sandwich the exhaust duct exhaust port 543. Therefore, the exhaust port 543 for the exhaust duct is arranged between the filters 542 arranged apart from each other in the Y-axis direction. The number and location of the filters 542 may be appropriately changed, and for example, the number of filters 542 provided on the rear wall 514 may be changed depending on the shape of the rear wall 514 and the like.

側面壁515及び516は、Y軸方向から見て、例えば、長辺がX軸方向に沿い、短辺がZ軸方向に沿った長方形の平板状となっている。側面壁515は、側面壁516の-Y軸方向側に配置されている。側面壁515には、ワーク10を出し入れすることができるワーク出入口515aが形成されている。ワーク出入口515aは、レーザ照射時は密閉されている。 The side walls 515 and 516 are rectangular flat plates having, for example, a long side along the X-axis direction and a short side along the Z-axis direction when viewed from the Y-axis direction. The side wall 515 is arranged on the −Y axis direction side of the side wall 516. A work entrance / exit 515a through which the work 10 can be taken in and out is formed on the side wall 515. The work entrance / exit 515a is sealed during laser irradiation.

上面壁512は、上方から見て、例えば、長辺がX軸方向に沿い、短辺がY軸方向に沿った長方形の平板状となっている。上面壁512には、開口部545が設けられている。開口部545は、集塵ユニット60の光路空間70につながっている。上面壁512上に光学系20を配置したときに、開口部545から集塵ユニット60の内部にレーザ光16を入射する(図11参照)。これにより、レーザ光16は、光路空間70を通ってワーク10を照射する。 When viewed from above, the upper surface wall 512 has, for example, a rectangular flat plate having a long side along the X-axis direction and a short side along the Y-axis direction. The upper wall 512 is provided with an opening 545. The opening 545 is connected to the optical path space 70 of the dust collecting unit 60. When the optical system 20 is arranged on the upper surface wall 512, the laser beam 16 is incident on the inside of the dust collecting unit 60 from the opening 545 (see FIG. 11). As a result, the laser beam 16 irradiates the work 10 through the optical path space 70.

<チャンバの内部の部材>
チャンバ510の内部には、ステージ21及び集塵ユニット60が配置される。ステージ21は、底面壁511上に配置された走査装置551上に配置される。ステージ21上にワーク10を配置する。ステージ21に配置されたワーク10は、走査装置551上に配置されることにより、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能である。
<Members inside the chamber>
A stage 21 and a dust collecting unit 60 are arranged inside the chamber 510. The stage 21 is arranged on the scanning device 551 arranged on the bottom wall 511. The work 10 is placed on the stage 21. The work 10 arranged on the stage 21 can move in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction by being arranged on the scanning device 551.

図23は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500において、チャンバ510の内部におけるワーク10の移動を例示した図である。図23に示すように、ステージ21上に配置されたワーク10は、例えば、ワーク出入口515aの近傍から、搬送方向となるX軸に沿って移動する。このときに、ワーク10はレーザ照射される。ワーク10を搬送方向に移動させながらレーザ照射することをスキャンともいう。ワーク10は、一度スキャンされた後で、+Y軸方向にずらしてスキャン開始位置に戻り、再びスキャンされてもよい。 FIG. 23 is a diagram illustrating the movement of the work 10 inside the chamber 510 in the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment. As shown in FIG. 23, the work 10 arranged on the stage 21 moves, for example, from the vicinity of the work entrance / exit 515a along the X axis in the transport direction. At this time, the work 10 is irradiated with a laser. Irradiating a laser while moving the work 10 in the transport direction is also referred to as scanning. The work 10 may be scanned once, then shifted in the + Y-axis direction to return to the scan start position, and then scanned again.

図20~22に示すように、集塵ユニット60は、例えば、上面壁512の下方に配置される。集塵ユニット60の光路空間70が上面壁512の開口部545の直下に配置されるように、集塵ユニット60を配置する。集塵ユニット60には、給気ポート85が設けられている。例えば、給気ポート85は、集塵ユニット60の-Y軸方向側に設けられている。給気ポート85には、給気配管521が接続されている。給気配管521は、給気ポート85から-Y軸方向に延びて屈曲し、+X軸方向へ延びている。給気配管521は、後面壁514の手前まで+X軸方向に延び、後面壁514の手前で下方に屈曲する。そして、給気配管521は、後面壁514の下部で、チャンバ510の外部へ突き抜けている。給気配管521は、チャンバ510の外部で、チャンバ510の下方に配置された集塵ユニット用給排気ファン520に接続している。 As shown in FIGS. 20 to 22, the dust collecting unit 60 is arranged, for example, below the upper surface wall 512. The dust collecting unit 60 is arranged so that the optical path space 70 of the dust collecting unit 60 is arranged directly below the opening 545 of the upper surface wall 512. The dust collecting unit 60 is provided with an air supply port 85. For example, the air supply port 85 is provided on the −Y axis direction side of the dust collecting unit 60. An air supply pipe 521 is connected to the air supply port 85. The air supply pipe 521 extends from the air supply port 85 in the −Y axis direction, bends, and extends in the + X axis direction. The air supply pipe 521 extends in the + X-axis direction to the front of the rear wall 514 and bends downward in front of the rear wall 514. Then, the air supply pipe 521 penetrates to the outside of the chamber 510 at the lower part of the rear wall 514. The air supply pipe 521 is connected to an air supply / exhaust fan 520 for a dust collecting unit arranged below the chamber 510 outside the chamber 510.

集塵ユニット60には、排気ポート77a及び77bが設けられている。例えば、排気ポート77a及び77bは、集塵ユニット60の+X軸方向側に2つ設けられている。排気ポート77a及び77bには、排気配管522a及び522bが接続している。排気配管522a及び522bはそれぞれ、排気ポート77a及び77bから+X軸方向に延びて、後面壁514の手前で合体し、後面壁514からチャンバ510の外部へ突き抜けている。排気配管77は、チャンバ510の外部で、集塵ユニット用給排気ファン520に接続している。 The dust collecting unit 60 is provided with exhaust ports 77a and 77b. For example, two exhaust ports 77a and 77b are provided on the + X axis direction side of the dust collecting unit 60. Exhaust pipes 522a and 522b are connected to the exhaust ports 77a and 77b. The exhaust pipes 522a and 522b extend from the exhaust ports 77a and 77b in the + X-axis direction, coalesce in front of the rear wall 514, and penetrate from the rear wall 514 to the outside of the chamber 510. The exhaust pipe 77 is connected to the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit outside the chamber 510.

集塵ユニット用給排気ファン520は、チャンバ510の下方に配置されている。集塵ユニット用給排気ファン520には、給気配管521が接続されている。集塵ユニット用給排気ファン520は、給気配管521を介して、集塵ユニット60の給気空間71及び72から光路空間70に気体を給気する。また、集塵ユニット用給排気ファン520には、排気配管522が接続している。集塵ユニット用給排気ファン520は、排気配管522を介して、集塵ユニット60の排気空間73及び74を排気する。これにより、集塵ユニット60が吸引した気体をチャンバ510の外部へ排気する。例えば、集塵ユニット用給排気ファン520は、500L/min~1500L/minの流量の空気を給排気する。 The air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit is arranged below the chamber 510. An air supply pipe 521 is connected to the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit. The air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit supplies gas from the air supply spaces 71 and 72 of the dust collection unit 60 to the optical path space 70 via the air supply pipe 521. Further, an exhaust pipe 522 is connected to the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit. The air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit exhausts the exhaust spaces 73 and 74 of the dust collection unit 60 via the exhaust pipe 522. As a result, the gas sucked by the dust collecting unit 60 is exhausted to the outside of the chamber 510. For example, the air supply / exhaust fan 520 for the dust collecting unit supplies and exhausts air having a flow rate of 500 L / min to 1500 L / min.

<チャンバの内部の空気の流れ>
次に、チャンバ510の内部の空気の流れを説明する。
図24は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500において、前面壁513及び後面壁におけるフィルタ542の有無と、チャンバ510の内部の前面壁513側及びステージ21上への空気の到達との関係を例示した図である。
<Air flow inside the chamber>
Next, the air flow inside the chamber 510 will be described.
FIG. 24 shows the relationship between the presence / absence of the filter 542 on the front wall 513 and the rear wall and the arrival of air on the front wall 513 side and the stage 21 inside the chamber 510 in the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment. It is a figure exemplifying.

図25は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500において、チャンバ510の前面壁513に、給気ファン541を設置し、後面壁514に排気ダクト用排気口543を設置した場合のチャンバ510の内部の空気の流れを例示した図であり、(a)は、斜視図を示し、(b)は上面図を示す。 FIG. 25 shows the chamber 510 in the case where the air supply fan 541 is installed on the front wall 513 of the chamber 510 and the exhaust port 543 for the exhaust duct is installed on the rear wall 514 in the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment. It is a figure exemplifying the flow of the air inside, (a) shows the perspective view, (b) shows the top view.

図24におけるAの欄が、図25に示すチャンバ510の場合を示している。図24及び図25(a)及び(b)に示すように、チャンバ510の前面壁513に、給気ファン541を設置し、後面壁514に排気ダクト用排気口543を設置した場合には、給気ファン541からチャンバ510の内部に取り込まれた空気は、+X軸方向に流れ、後面壁514に近づくと、Y軸方向及びZ軸方向に拡がっている。 The column A in FIG. 24 shows the case of the chamber 510 shown in FIG. 25. As shown in FIGS. 24 and 25 (a) and 25 (b), when the air supply fan 541 is installed on the front wall 513 of the chamber 510 and the exhaust port 543 for the exhaust duct is installed on the rear wall 514, The air taken into the chamber 510 from the air supply fan 541 flows in the + X-axis direction, and when approaching the rear wall 514, spreads in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

一方、チャンバ510の内部における前面壁513側には空気が到達していない部分がある。例えば、前面壁513側の+Y軸方向側及び-Y軸方向側の端部546には、空気が到達していない。特に、チャンバ510の内部に取り込まれた直後の、いわば、フレッシュな空気が到達していない。このように、チャンバ510の内部に空気が到達しない部分があると、パーティクル等が堆積して吹き溜まりとなり、チャンバ510の内部をクリーンに保つことができない。ステージ21へのフレッシュな空気が到達する到達時間は10秒である。 On the other hand, there is a portion where air does not reach the front wall 513 side inside the chamber 510. For example, air does not reach the ends 546 on the + Y-axis direction side and the −Y-axis direction side on the front wall 513 side. In particular, so to speak, fresh air has not arrived immediately after being taken into the chamber 510. As described above, if there is a portion inside the chamber 510 where air does not reach, particles and the like are accumulated and become a snowdrift, and the inside of the chamber 510 cannot be kept clean. The arrival time of fresh air to stage 21 is 10 seconds.

図26は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500において、チャンバ510の前面壁513に、給気ファン541を設置し、後面壁514に排気ダクト用排気口543及びフィルタ542を設置した場合のチャンバ510の内部の空気の流れを例示した図であり、(a)は、斜視図を示し、(b)は上面図を示す。 FIG. 26 shows a case where the air supply fan 541 is installed on the front wall 513 of the chamber 510 and the exhaust port 543 for the exhaust duct and the filter 542 are installed on the rear wall 514 in the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment. It is a figure exemplifying the flow of the air inside a chamber 510, (a) shows the perspective view, (b) shows the top view.

図24におけるBの欄が、図25に示すチャンバ510の場合を示している。図24及び図26(a)及び(b)に示すように、チャンバ510の前面壁513に、給気ファン541を設置し、後面壁514に排気ダクト用排気口543及びフィルタ542を設置した場合には、給気ファン541からチャンバ510の内部に取り込まれた空気は、+X軸方向に流れ、後面壁514に近づくと、Y軸方向及びZ軸方向に拡がっている。 The column B in FIG. 24 shows the case of the chamber 510 shown in FIG. 25. As shown in FIGS. 24 and 26 (a) and 26 (b), when the air supply fan 541 is installed on the front wall 513 of the chamber 510 and the exhaust port 543 and the filter 542 for the exhaust duct are installed on the rear wall 514. The air taken into the chamber 510 from the air supply fan 541 flows in the + X-axis direction, and when approaching the rear wall 514, spreads in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

また、チャンバ510の内部における前面壁513側にも空気が到達している。例えば、前面壁513側の+Y軸方向側及び-Y軸方向側の端部546には、後面壁514ほどでなないものの空気は到達している。よって、チャンバ510の内部をクリーンに保つことができる。ステージ21へのフレッシュな空気が到達する到達時間は50秒である。 Air also reaches the front wall 513 side inside the chamber 510. For example, air reaches the end portions 546 on the + Y-axis direction side and the −Y-axis direction side on the front wall 513 side, though not as much as the rear wall 514. Therefore, the inside of the chamber 510 can be kept clean. The arrival time of fresh air to stage 21 is 50 seconds.

図27は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500において、チャンバ510の前面壁513に、給気ファン541及びフィルタ542を設置し、後面壁514に排気ダクト用排気口543及びフィルタ542を設置した場合のチャンバ510の内部の空気の流れを例示した図であり、(a)は、斜視図を示し、(b)は上面図を示す。 FIG. 27 shows that in the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment, the air supply fan 541 and the filter 542 are installed on the front wall 513 of the chamber 510, and the exhaust port 543 and the filter 542 for the exhaust duct are installed on the rear wall 514. It is a figure exemplifying the flow of the air inside the chamber 510 in the case where (a) shows the perspective view, and (b) shows the top view.

図24におけるCの欄が、図27に示すチャンバ510の場合を示している。図24及び図27(a)及び(b)に示すように、チャンバ510の前面壁513に、給気ファン541及びフィルタ542を設置し、後面壁514に排気ダクト用排気口543及びフィルタ542を設置した場合には、給気ファン541からチャンバ510の内部に取り込まれた空気は、+X軸方向に流れ、後面壁514に近づくと、Y軸方向及びZ軸方向に拡がっている。 The column C in FIG. 24 shows the case of the chamber 510 shown in FIG. 27. As shown in FIGS. 24 and 27 (a) and 27 (b), an air supply fan 541 and a filter 542 are installed on the front wall 513 of the chamber 510, and an exhaust duct exhaust port 543 and a filter 542 are installed on the rear wall 514. When installed, the air taken into the chamber 510 from the air supply fan 541 flows in the + X-axis direction, and when approaching the rear wall 514, spreads in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

また、チャンバ510の内部における前面壁513側にも空気が到達している。例えば、前面壁513側の+Y軸方向側及び-Y軸方向側の端部546には、図26の場合よりも多くの空気が到達している。よって、チャンバ510の内部を十分にクリーンに保つことができる。ステージ21へのフレッシュな空気が到達する到達時間は36秒である。したがって、図26の場合よりもフレッシュな空気がステージ21に到達している。 Air also reaches the front wall 513 side inside the chamber 510. For example, more air reaches the + Y-axis direction side and the −Y-axis direction end portion 546 on the front wall 513 side than in the case of FIG. 26. Therefore, the inside of the chamber 510 can be kept sufficiently clean. The arrival time of fresh air to stage 21 is 36 seconds. Therefore, fresher air has reached the stage 21 than in the case of FIG. 26.

このように、本実施形態では、チャンバ510の内部の空間に層流を形成することにより、チャンバ510の内部から発生する粉塵が、レーザ光16の照射領域に達するのを抑制することができる。また、後面壁514に、フィルタ542を設けることにより、チャンバ510の内部の前面壁513側に吹き溜まりを形成しないようにすることができる。さらに、前面壁513にもフィルタ542を設けることにより、チャンバ510の内部の前面壁513側に吹き溜まりを形成しないようにすることができるとともに、ステージ21へのフレッシュな空気の到達時間を短縮することができる。よって、ワーク10の表面に存在する粉塵を吹き飛ばし、基板から剥離層を均一に分離することができる。 As described above, in the present embodiment, by forming a laminar flow in the space inside the chamber 510, it is possible to suppress the dust generated from the inside of the chamber 510 from reaching the irradiation region of the laser beam 16. Further, by providing the filter 542 on the rear wall 514, it is possible to prevent the formation of a snowdrift on the front wall 513 side inside the chamber 510. Further, by providing the filter 542 on the front wall 513 as well, it is possible to prevent the formation of a snowdrift on the front wall 513 side inside the chamber 510, and to shorten the time for the fresh air to reach the stage 21. Can be done. Therefore, the dust existing on the surface of the work 10 can be blown off, and the release layer can be uniformly separated from the substrate.

フィルタ542は、空気を通過させる。フィルタ542は、チャンバ510の外部から内部へ空気を通過させてもよいし、チャンバ510の内部から外部へ空気を通過させてもよい。例えば、チャンバ510の内部におけるフィルタ542の近傍が減圧されると、フィルタ542は、チャンバ510の外部から内部へ空気を通過させる。逆に、チャンバ510の内部におけるフィルタ542の近傍の空気の圧力が増加すると、フィルタ542は、チャンバ510の内部から外部へ空気を通過させる。このように、フィルタ542は、チャンバ510の内部の圧力と、チャンバ510の外部の圧力とのバランスをとっている。チャンバ510の外部が大気圧の場合には、フィルタ542は、チャンバ510の内部の圧力と、チャンバ510の外部の大気圧とのバランスをとる。 The filter 542 allows air to pass through. The filter 542 may allow air to pass from the outside of the chamber 510 to the inside, or may allow air to pass from the inside of the chamber 510 to the outside. For example, when the pressure in the vicinity of the filter 542 inside the chamber 510 is reduced, the filter 542 allows air to pass from the outside to the inside of the chamber 510. Conversely, as the pressure of air in the vicinity of the filter 542 inside the chamber 510 increases, the filter 542 allows air to pass from the inside of the chamber 510 to the outside. In this way, the filter 542 balances the pressure inside the chamber 510 with the pressure outside the chamber 510. If the outside of the chamber 510 is atmospheric pressure, the filter 542 balances the pressure inside the chamber 510 with the atmospheric pressure outside the chamber 510.

図28は、チャンバ510の内部の圧力が、外部の圧力よりも大きくなったときのチャンバ510を例示した断面図である。図28に示すように、チャンバ510の内部の圧力が、チャンバ510の外部の圧力よりも大きくなると、チャンバ510のチャンバ壁は、外側に膨張する。そうすると、例えば、走査装置551の底面が配置された底面壁511の中央部は下方に凹む。これにより、レーザ光16を、集塵ユニット60を介して、ワーク10に照射したとき、レーザ光16の焦点がデフォーカス547することになる。よって、レーザ光16をワーク10上で焦点を合わせることができなくなる。逆に、チャンバ510の内部が減圧した時も、チャンバ壁の変形により、レーザ光16の焦点がデフォーカス547することになる。 FIG. 28 is a cross-sectional view illustrating the chamber 510 when the pressure inside the chamber 510 becomes higher than the pressure outside. As shown in FIG. 28, when the pressure inside the chamber 510 is greater than the pressure outside the chamber 510, the chamber wall of the chamber 510 expands outward. Then, for example, the central portion of the bottom wall 511 on which the bottom surface of the scanning device 551 is arranged is recessed downward. As a result, when the laser beam 16 is applied to the work 10 via the dust collecting unit 60, the focus of the laser beam 16 is defocused 547. Therefore, the laser beam 16 cannot be focused on the work 10. On the contrary, even when the inside of the chamber 510 is depressurized, the focal point of the laser beam 16 is defocused 547 due to the deformation of the chamber wall.

これに対して、本実施の形態では、チャンバ510には、フィルタ542が設けられている。フィルタ542は、チャンバ510の内部の圧力が高くなると、チャンバ510の内部の空気を外部に通過させる。チャンバ510の内部の圧力が低くなると、チャンバ510の外部の空気を内部に通過させる。このようにして、フィルタ542は、チャンバ510の外部の圧力とのバランスをとることができる。 On the other hand, in the present embodiment, the chamber 510 is provided with a filter 542. The filter 542 allows the air inside the chamber 510 to pass to the outside when the pressure inside the chamber 510 becomes high. When the pressure inside the chamber 510 becomes low, the air outside the chamber 510 is allowed to pass inside. In this way, the filter 542 can be balanced with the pressure outside the chamber 510.

本実施形態のようなレーザ剥離装置500においては、チャンバ510に給気する給気量は、500~1500L/minとなっている。類似の装置として挙げられるエキシマレーザアニーリング装置(ELA)における流量が、50cc/min~5L/minであるのと比較すると、大きい流量となっている。本実施形態では、フィルタ542を設けているので、大きな流量の空気を給気しても内部の圧力が高くなるのを防止することができ、レーザ剥離装置500の性能を維持することができる。 In the laser peeling device 500 as in the present embodiment, the amount of air supplied to the chamber 510 is 500 to 1500 L / min. The flow rate in the excimer laser annealing device (ELA), which is mentioned as a similar device, is large as compared with the flow rate of 50 cc / min to 5 L / min. In the present embodiment, since the filter 542 is provided, it is possible to prevent the internal pressure from increasing even if a large flow rate of air is supplied, and the performance of the laser peeling device 500 can be maintained.

<集塵ユニットの給排気量>
次に、集塵ユニット60への給気量及び集塵ユニット60からの排気量について説明する。図29は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500において、給気量に対する排気量の比と、排気配管522内のパーティクル濃度を例示したグラフである。パーティクル濃度は、粒径が0.3~1.0μm(グラフ中に丸印で示す。)のパーティクル(以下、小パーティクルという。)濃度、粒径が1.0~10μm(グラフ中に四角印で示す。)のパーティクル(以下、中パーティクルという。)濃度及び粒径が10μm以上(グラフ中に三角印で示す)のパーティクル(以下、大パーティクルという。)濃度を示している。
<Displacement of dust collection unit>
Next, the amount of air supplied to the dust collecting unit 60 and the amount of exhausted air from the dust collecting unit 60 will be described. FIG. 29 is a graph illustrating the ratio of the exhaust amount to the supply air amount and the particle concentration in the exhaust pipe 522 in the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment. The particle density is a particle density (hereinafter referred to as small particle) having a particle size of 0.3 to 1.0 μm (indicated by a circle in the graph) and a particle size of 1.0 to 10 μm (square mark in the graph). The concentration of particles (hereinafter referred to as medium particles) and the concentration of particles having a particle size of 10 μm or more (indicated by a triangular mark in the graph) (hereinafter referred to as large particles) are shown.

パーティクル濃度は、レーザ照射時に一定間隔で排気配管522a及び522b内の各パーティクルをパーティクルカウンターで測定したものである。パーティクル濃度が大きいほど、排気配管522a及び522b内に取り込まれるパーティクルが多いことを示し、したがって、ワーク10上に残存するパーティクル濃度が小さいことを示している。 The particle density is measured by a particle counter for each particle in the exhaust pipes 522a and 522b at regular intervals during laser irradiation. The higher the particle density, the more particles are taken into the exhaust pipes 522a and 522b, and therefore the smaller the particle density remaining on the work 10.

図29に示すように、集塵ユニット60の給気量に対して、排気量の割合の排気量/給気量の比が1.4の場合には、排気配管722a及び722b内の小パーティクルの濃度は、100、000個/ft3程度を示し、中パーティクルの濃度は、7、000個/ft3程度を示し、大パーティクルの濃度は、30~100個/ft3程度を示している。排気量/給気量の比が1.8の場合には、排気配管722a及び722b内の小パーティクルの濃度は、100、000個/ft3程度を示し、中パーティクルの濃度は、7、000個/ft3程度を示し、大パーティクルの濃度は、100個/ft3程度を示している。このように、排気量/給気量の比が、1.4~1.8では、排気配管722a及び722b内のパーティクル濃度はほとんど変化しない。 As shown in FIG. 29, when the ratio of the exhaust amount to the air supply amount of the dust collecting unit 60 is 1.4, the small particles in the exhaust pipes 722a and 722b. The concentration of is about 100,000 particles / ft 3 , the concentration of medium particles is about 7,000 particles / ft 3 , and the concentration of large particles is about 30 to 100 particles / ft 3 . .. When the displacement / supply air ratio is 1.8, the concentration of small particles in the exhaust pipes 722a and 722b is about 100,000 / ft 3 , and the concentration of medium particles is 7,000. It shows about 100 pieces / ft 3 and the concentration of large particles shows about 100 pieces / ft 3 . As described above, when the ratio of the exhaust amount / the supply air amount is 1.4 to 1.8, the particle concentration in the exhaust pipes 722a and 722b hardly changes.

一方、集塵ユニット60の排気量/給気量の比が3.0の場合には、排気配管722a及び722b内の小パーティクルの濃度は、300、000個/ft3程度を示し、中パーティクルの濃度は、20、000個/ft3程度を示し、大パーティクルの濃度は、100個/ft3程度を示している。このように、排気量/給気量の比が3.0の場合には、排気配管722a及び722b内のパーティクル濃度は増加している。このことは、排気量/給気量の比を3倍以上とすることにより、排気空間73、74における圧力を更に低くすることができ、気体とともに、流れ込む粉塵の量が大きくなったことを示している。 On the other hand, when the ratio of the exhaust amount / the supply air amount of the dust collecting unit 60 is 3.0, the concentration of the small particles in the exhaust pipes 722a and 722b is about 300,000 / ft 3 , and the medium particles. The concentration of large particles is about 20,000 / ft 3 , and the concentration of large particles is about 100 / ft 3 . As described above, when the ratio of the exhaust amount / the supply air amount is 3.0, the particle concentration in the exhaust pipes 722a and 722b is increased. This indicates that the pressure in the exhaust spaces 73 and 74 can be further reduced by increasing the ratio of the exhaust amount / supply air amount to 3 times or more, and the amount of dust flowing in together with the gas is increased. ing.

このように、光路空間に供給される気体の給気量に対して、排出空間から排出される気体の排出量の割合を、3以上とすることにより、集塵ユニット60の外部に粉塵が出ることを抑制することができ、基板から剥離層を均一に分離することができる。なお、図には示していないが、排気量/給気量の比が3より大きい場合では、パーティクル数は、3と同程度か3よりも大きくなっている。 In this way, by setting the ratio of the amount of gas discharged from the discharge space to the amount of gas supplied to the optical path space to 3 or more, dust is generated outside the dust collection unit 60. This can be suppressed, and the release layer can be uniformly separated from the substrate. Although not shown in the figure, when the ratio of displacement / supply air is larger than 3, the number of particles is about the same as 3 or larger than 3.

<集塵ユニットの給排気量及びチャンバの空気の流れと、パーティクルとの関係>
本実施形態では、チャンバ510の内部の空気の流れと、集塵ユニット60における給気及び排気の経路とは、別経路となっている。本実施形態では、チャンバ510の内部の空気の流れを、給気ファン541及びフィルタ542(FFU)で制御し、集塵ユニット60における給気量及び排気量を集塵ユニット用給排気ファン520で制御している。
<Relationship between the air supply / exhaust volume of the dust collection unit, the air flow in the chamber, and the particles>
In the present embodiment, the air flow inside the chamber 510 and the air supply and exhaust paths in the dust collecting unit 60 are separate paths. In the present embodiment, the air flow inside the chamber 510 is controlled by the air supply fan 541 and the filter 542 (FFU), and the air supply amount and the exhaust amount in the dust collection unit 60 are controlled by the dust collection unit supply / exhaust fan 520. I'm in control.

図30は、実施の形態5にかかるFFUの作動及び集塵ユニット60における排気量/給気量の比と、パーティクル濃度の関係を例示したグラフである。パーティクル濃度は、ダクトコレクタ近傍のパーティクル濃度をパーティクルカウンターで測定した値である。 FIG. 30 is a graph illustrating the relationship between the operation of the FFU and the ratio of the exhaust amount / the air supply amount in the dust collecting unit 60 and the particle concentration according to the fifth embodiment. The particle density is a value obtained by measuring the particle density in the vicinity of the duct collector with a particle counter.

図30に示すように、チャンバ510におけるFFUを作動させ、集塵ユニット60における排気量/給気量の比を3:1とした場合(以下、ON・ON状態という。)には、大パーティクルの濃度は、測定限界以下であり、中パーティクルの濃度は、40個/ft3程度を示し、小パーティクルの濃度は、100個/ft3程度を示している。チャンバ510におけるFFUを作動させ、集塵ユニット60に給気も排気もさせない場合(以下、ON・OFF状態という。)には、大パーティクルの濃度は、測定限界以下であり、中パーティクルの濃度は、70個/ft3程度を示し、小パーティクルの濃度は、300個/ft3程度を示している。チャンバ510におけるFFUを停止させ、集塵ユニット60における排気量/給気量の比を3:1とした場合(以下、OFF・ON状態という。)には、大パーティクルの濃度は、測定限界以下であり、中パーティクルの濃度は、400個/ft3程度を示し、小パーティクルの濃度は、2000個/ft3程度を示している。 As shown in FIG. 30, when the FFU in the chamber 510 is operated and the ratio of the exhaust amount / the air supply amount in the dust collecting unit 60 is 3: 1 (hereinafter referred to as ON / ON state), large particles are used. The concentration of is below the measurement limit, the concentration of medium particles is about 40 particles / ft 3 , and the concentration of small particles is about 100 particles / ft 3 . When the FFU in the chamber 510 is operated and the dust collecting unit 60 is neither supplied nor exhausted (hereinafter referred to as ON / OFF state), the concentration of large particles is below the measurement limit, and the concentration of medium particles is. , 70 particles / ft 3 is shown, and the concentration of small particles is about 300 particles / ft 3 . When the FFU in the chamber 510 is stopped and the ratio of the exhaust amount / the air supply amount in the dust collecting unit 60 is 3: 1 (hereinafter referred to as OFF / ON state), the concentration of large particles is below the measurement limit. The density of the medium particles is about 400 particles / ft 3 , and the concentration of the small particles is about 2000 particles / ft 3 .

このように、ON・ON状態とすることにより、パーティクルを抑制することができる。これに対して、OFF・ON状態であると、パーティクル濃度が、格段に大きくなる。なお、ON・OFF状態でも、OFF・ON状態よりは、パーティクル濃度を抑制することができるが、ON・ON状態に比べれば、パーティクル濃度は大きくなる。 In this way, the particles can be suppressed by turning them on and off. On the other hand, in the OFF / ON state, the particle density becomes remarkably high. Even in the ON / OFF state, the particle density can be suppressed as compared with the OFF / ON state, but the particle density is higher than in the ON / ON state.

<チャンバ及び集塵ユニットの制御>
次に、チャンバ510のFFUの作動、並びに、集塵ユニット60の給気及び排気の制御について説明する。図31は、実施の形態5にかかるFFUの作動、並びに、集塵ユニット60の給気及び排気の制御方法を例示したブロック図である。
<Control of chamber and dust collection unit>
Next, the operation of the FFU of the chamber 510 and the control of the air supply and the exhaust of the dust collecting unit 60 will be described. FIG. 31 is a block diagram illustrating the operation of the FFU according to the fifth embodiment and the control method of air supply and exhaust of the dust collecting unit 60.

図31に示すように、本実施の形態のレーザ剥離装置500は、FFUの作動、並びに、集塵ユニット60の給気及び排気を制御するコントローラ552を備えている。コントローラ552は、給気ファン541、排気ファン548、ワーク出入口515b、光学系20及び集塵ユニット用給排気ファン520と、信号線または無線等の情報伝達手段によって接続されている。なお、排気ダクト用排気口543に排気ファン548を設けたものとしている。 As shown in FIG. 31, the laser peeling device 500 of the present embodiment includes a controller 552 that controls the operation of the FFU and the supply and exhaust of the dust collecting unit 60. The controller 552 is connected to the air supply fan 541, the exhaust fan 548, the work inlet / outlet 515b, the optical system 20, and the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit by an information transmission means such as a signal line or wireless. It is assumed that the exhaust fan 548 is provided in the exhaust port 543 for the exhaust duct.

コントローラ552は、給気ファン541の作動、停止及び空気517の給気量を制御する。コントローラ552は、排気ファン548の作動、停止及び空気517の排気量を制御する。コントローラ552は、集塵ユニット用給排気ファン520の作動、停止及び空気517の給排気量を制御する。 The controller 552 controls the operation and stop of the air supply fan 541 and the air supply amount of the air 517. The controller 552 controls the operation and stop of the exhaust fan 548 and the displacement of the air 517. The controller 552 controls the operation and stop of the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit and the supply / exhaust amount of the air 517.

また、コントローラ552は、ワーク出入口515bから、ワーク10の出し入れについての情報を取得する。コントローラ552は、光学系20から、レーザ照射の情報を取得する。 Further, the controller 552 acquires information about putting in and taking out the work 10 from the work entrance / exit 515b. The controller 552 acquires laser irradiation information from the optical system 20.

図32は、実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500のコントローラ552の制御を例示した図である。図31及び図32に示すように、コントローラ552は、ワーク出入口515bから、ワーク10の出し入れについての情報を取得した場合には、集塵ユニット用給排気ファン520を停止させ、チャンバ510の給気ファン541を停止させる。また、コントローラ552は、チャンバ510の排気ファン548の回転数を低下させ、排気ファン548の排気量を低下させる。 FIG. 32 is a diagram illustrating the control of the controller 552 of the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment. As shown in FIGS. 31 and 32, when the controller 552 acquires information about the loading and unloading of the work 10 from the work inlet / outlet 515b, the controller 552 stops the dust collecting unit air supply / exhaust fan 520 and supplies air to the chamber 510. Stop the fan 541. Further, the controller 552 reduces the rotation speed of the exhaust fan 548 of the chamber 510, and lowers the displacement of the exhaust fan 548.

また、コントローラ552は、光学系20から、レーザ光16の照射の情報を取得した場合には、集塵ユニット用給排気ファン520を作動させ、チャンバ510の給気ファン541及び排気ファン548を作動させる。 When the controller 552 acquires the irradiation information of the laser beam 16 from the optical system 20, the controller 552 operates the air supply / exhaust fan 520 for the dust collecting unit, and operates the air supply fan 541 and the exhaust fan 548 of the chamber 510. Let me.

さらに、コントローラ552は、ワーク出し入れ及びレーザ光16の照射以外の、例えば、アイドリング時等は、集塵ユニット用給排気ファン520の回転数を低下させ、チャンバ510の給気ファン541及び排気ファン548の回転数を低下させ、空気517の給気量及び排気量を低下させる。 Further, the controller 552 lowers the rotation speed of the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit when the work is taken in / out and the laser beam 16 is irradiated, for example, when idling, and the air supply fan 541 and the exhaust fan 548 of the chamber 510 are used. The rotation speed of the air 517 is lowered, and the supply air amount and the exhaust amount of the air 517 are lowered.

このように、コントローラ552は、給気ファン541による給気気体の供給量、並びに、集塵ユニット用給排気ファン520の給気量及び排出量を、ワーク10のチャンバ510への出し入れ及びレーザ光16の照射に基づいて制御する。 As described above, the controller 552 transfers the supply amount of the supply air gas by the supply air fan 541 and the supply amount and the discharge amount of the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit to the chamber 510 of the work 10 and the laser beam. Control based on 16 irradiations.

次に、本実施の形態5にかかるレーザ剥離装置500の動作を説明する。
図22に示すように、チャンバ510の内部に配置されたステージ21上にワーク10を配置する。例えば、側面壁515に設けられたワーク出入口515aよりチャンバ510の内部にワーク10を挿入し、ステージ21上に配置する。
Next, the operation of the laser peeling device 500 according to the fifth embodiment will be described.
As shown in FIG. 22, the work 10 is arranged on the stage 21 arranged inside the chamber 510. For example, the work 10 is inserted into the chamber 510 from the work entrance / exit 515a provided on the side wall 515 and arranged on the stage 21.

次に、チャンバ510の前面壁513に設けられた給気ファン541を作動させる。これにより、チャンバ510内に、+X軸方向に向かう空気の流れが形成される。また、集塵ユニット用給排気ファン520を作動させる。給気ファン541及び集塵ユニット用給排気ファン520をコントローラ552により制御させる。 Next, the air supply fan 541 provided on the front wall 513 of the chamber 510 is operated. As a result, an air flow in the + X axis direction is formed in the chamber 510. In addition, the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit is operated. The air supply fan 541 and the air supply / exhaust fan 520 for the dust collection unit are controlled by the controller 552.

次に、ステージ21上のワーク10をスキャンさせて、ワーク10にレーザ光を照射する。このようにして、レーザ剥離装置500により、ワーク10の基板から剥離層を剥離する。 Next, the work 10 on the stage 21 is scanned, and the work 10 is irradiated with a laser beam. In this way, the laser peeling device 500 peels the peeling layer from the substrate of the work 10.

次に、本実施形態の効果を説明する。
本実施形態によれば、チャンバ510の内部の空間に層流を形成することにより、チャンバ510の内部から発生する粉塵が、レーザ光16の照射領域に達するのを抑制することができる。特に、チャンバ510の内部に配置されたステージ21の走行レール、レールに組み込まれたベアリング、ケーブル、ケーブルを支持するケーブルベア(登録商標)、配線配管等から発生する粉塵をワーク10の近傍から除去することができる。
Next, the effect of this embodiment will be described.
According to the present embodiment, by forming a laminar flow in the space inside the chamber 510, it is possible to suppress the dust generated from the inside of the chamber 510 from reaching the irradiation region of the laser beam 16. In particular, dust generated from the traveling rail of the stage 21 arranged inside the chamber 510, the bearings incorporated in the rail, the cable, the cable bear (registered trademark) supporting the cable, the wiring pipe, etc. is removed from the vicinity of the work 10. can do.

また、チャンバ510に、フィルタ542を設けることにより、チャンバ510の内部の前面壁513側に吹き溜まりを形成しないようにすることができる。また、ステージ21へのフレッシュな空気の到達時間を短縮することができる。よって、ワーク10の表面に存在する粉塵を吹き飛ばし、基板から剥離層を均一に分離することができる。さらに、フィルタ542を設けることにより、チャンバ510の外部の圧力とのバランスをとることができ、チャンバ510の変形によるレーザ光16のデフォーカスを抑制することができる。 Further, by providing the filter 542 in the chamber 510, it is possible to prevent the formation of a snowdrift on the front wall 513 side inside the chamber 510. In addition, the time for the fresh air to reach the stage 21 can be shortened. Therefore, the dust existing on the surface of the work 10 can be blown off, and the release layer can be uniformly separated from the substrate. Further, by providing the filter 542, it is possible to balance the pressure with the outside of the chamber 510 and suppress the defocus of the laser beam 16 due to the deformation of the chamber 510.

集塵ユニット60への排気量を、給気量よりも大きくし、排気空間73、74を負圧にすることにより、集塵ユニット60の内部で粉塵が浮遊しても、集塵ユニット60の外部に粉塵が出ることを抑制することができる。さらに、給気量に対する排気量の割合を3以上とすることにより、この効果を顕著にすることができる。 By making the amount of exhaust air to the dust collection unit 60 larger than the amount of air supply and making the exhaust spaces 73 and 74 negative pressure, even if dust floats inside the dust collection unit 60, the dust collection unit 60 It is possible to suppress the generation of dust to the outside. Further, this effect can be made remarkable by setting the ratio of the exhaust amount to the supply air amount to 3 or more.

チャンバ510の内部にワーク10を配置することにより、ワーク10を外気にさらすことがないので、ワーク10の表面をクリーンに保つことができる。その他の効果は、実施の形態1~4と同様であるので説明を省略する。 By arranging the work 10 inside the chamber 510, the work 10 is not exposed to the outside air, so that the surface of the work 10 can be kept clean. Since other effects are the same as those of the first to fourth embodiments, the description thereof will be omitted.

<実施の形態6>(ダウンフローのチャンバ装備)
次に、実施の形態6を説明する。まず、実施の形態6にかかるレーザ剥離装置を説明する。図33は、実施の形態6に係るレーザ剥離装置を説明するための斜視図である。
<Embodiment 6> (equipped with a downflow chamber)
Next, the sixth embodiment will be described. First, the laser peeling device according to the sixth embodiment will be described. FIG. 33 is a perspective view for explaining the laser peeling device according to the sixth embodiment.

図33に示すように、本実施の形態6にかかるレーザ剥離装置600は、実施の形態5で説明したレーザ剥離装置500のチャンバ510と比べて、チャンバ610における給気ファン641、排気ファン648及びフィルタ642が設けられた位置が異なっている。本実施形態でも、チャンバ610の内部に集塵ユニット60が設けられているものとし、集塵ユニット60に適用したXYZ直交座標系を導入する。よって、ワーク10の搬送方向は、X軸方向となっている。 As shown in FIG. 33, the laser peeling device 600 according to the sixth embodiment has an air supply fan 641 and an exhaust fan 648 in the chamber 610 as compared with the chamber 510 of the laser peeling device 500 described in the fifth embodiment. The position where the filter 642 is provided is different. Also in this embodiment, it is assumed that the dust collecting unit 60 is provided inside the chamber 610, and the XYZ Cartesian coordinate system applied to the dust collecting unit 60 is introduced. Therefore, the transport direction of the work 10 is the X-axis direction.

<チャンバの構成>
チャンバ610は、例えば、外形が直方体状であり、チャンバ壁によって囲まれた内部に空間を有している。チャンバ610は、例えば、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向の長さが5.5m程度、4.5m程度及び2m程度となっている。なお、実施の形態5のチャンバ510は、チャンバ610よりも例えば、小さいものとなっている。チャンバ610は、下方から、複数の支柱632によって、支持されている。
<Chamber configuration>
The chamber 610 has, for example, a rectangular parallelepiped outer shape and has a space inside surrounded by a chamber wall. The chamber 610 has, for example, lengths of about 5.5 m, about 4.5 m, and about 2 m in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the Z-axis direction. The chamber 510 of the fifth embodiment is, for example, smaller than the chamber 610. The chamber 610 is supported from below by a plurality of stanchions 632.

チャンバ610は、底面壁611及び上面壁612の他、前面壁613及び後面壁614、並びに、側面壁615及び616(前面壁613及び後面壁614、側面壁615及び616は、図35参照。)によって、例えば、直方体状に構成されている。図では、前面壁613及び後面壁614、並びに、側面壁615及び616を省略している。底面壁611及び上面壁612は、Z軸方向、すなわち、上下方向で対向している。前面壁613及び後面壁614は、X軸方向、すなわち、ワーク10の搬送方向において対向し、側面壁615及び616は、Y軸方向において対向している。なお、チャンバ510の形状は、直方体状に限らない。 In addition to the bottom wall 611 and the top wall 612, the chamber 610 includes the front wall 613 and the rear wall 614, and the side walls 615 and 616 (see FIG. 35 for the front wall 613 and the rear wall 614, and the side walls 615 and 616). For example, it is configured in a rectangular parallelepiped shape. In the figure, the front wall 613 and the rear wall 614, and the side walls 615 and 616 are omitted. The bottom wall 611 and the top wall 612 face each other in the Z-axis direction, that is, in the vertical direction. The front wall 613 and the rear wall 614 face each other in the X-axis direction, that is, in the transport direction of the work 10, and the side walls 615 and 616 face each other in the Y-axis direction. The shape of the chamber 510 is not limited to the rectangular parallelepiped shape.

上面壁512は、上方から見て、例えば、長辺がX軸方向に沿い、短辺がY軸方向に沿った長方形の平板状となっている。上面壁612は、底面壁611の+Z軸方向側に配置され、底面壁611と対向している。したがって、上面壁612を一方の壁とすれば、底面壁611は一方の壁に対向する他方の壁となる。上面壁512及び底面壁511は、X軸方向及びY軸方向に平行となっている。 When viewed from above, the upper surface wall 512 has, for example, a rectangular flat plate having a long side along the X-axis direction and a short side along the Y-axis direction. The upper surface wall 612 is arranged on the + Z axis direction side of the bottom surface wall 611 and faces the bottom surface wall 611. Therefore, if the top wall 612 is one wall, the bottom wall 611 is the other wall facing one wall. The upper surface wall 512 and the bottom surface wall 511 are parallel to each other in the X-axis direction and the Y-axis direction.

上面壁612には、複数の給気ファン641及び複数のフィルタ642が設けられている。よって、上面壁612は、給気ファン641及びフィルタ642が組み込まれたFFUを構成している。 The upper wall 612 is provided with a plurality of air supply fans 641 and a plurality of filters 642. Therefore, the upper surface wall 612 constitutes an FFU in which the air supply fan 641 and the filter 642 are incorporated.

ここで、上面壁612における複数の給気ファン641及び複数のフィルタ642の配置された位置を説明する。図34は、実施の形態6にかかるレーザ剥離装置600において、チャンバ610の内部におけるワーク10の移動を例示した図であり、(a)は、上面壁612に投影した図であり、(b)は、底面壁611に投影した図である。 Here, the positions where the plurality of air supply fans 641 and the plurality of filters 642 are arranged on the upper surface wall 612 will be described. FIG. 34 is a diagram illustrating the movement of the work 10 inside the chamber 610 in the laser peeling device 600 according to the sixth embodiment, (a) is a diagram projected onto the upper surface wall 612, and (b) is a diagram. Is a diagram projected onto the bottom wall 611.

図34(a)に示すように、上面壁612を上方から透視するように見たとき、ワーク10の搬送によって、ワーク10が可動する可動領域649は、上面壁612の中央部に重なっている。しかしながら、上面壁612の辺縁部は、可動領域649に重ならない。例えば、上面壁612におけるX軸方向の両端部の辺縁部612a及び612b、並びに、Y軸方向の両端部の辺縁部612c及び612dは、可動領域649に重なっていない。そこで、給気ファン641を、上面壁612におけるY軸方向の両端側の辺縁部612c及び612dに配置させる。例えば、辺縁部612cにX軸方向に沿って並ぶように2つの給気ファン641を配置させ、辺縁部612dにX軸方向に沿って並ぶように2つの給気ファン641を配置させる。 As shown in FIG. 34 (a), when the upper surface wall 612 is viewed from above, the movable region 649 in which the work 10 can move due to the transport of the work 10 overlaps the central portion of the upper surface wall 612. .. However, the edge portion of the upper surface wall 612 does not overlap the movable region 649. For example, the edge portions 612a and 612b at both ends in the X-axis direction of the upper surface wall 612 and the edge portions 612c and 612d at both ends in the Y-axis direction do not overlap the movable region 649. Therefore, the air supply fan 641 is arranged at the edge portions 612c and 612d on both ends of the upper surface wall 612 in the Y-axis direction. For example, two air supply fans 641 are arranged on the edge portion 612c so as to be arranged along the X-axis direction, and two air supply fans 641 are arranged on the edge portion 612d so as to be arranged along the X-axis direction.

給気ファン641は、チャンバ610の外部から、チャンバ610の内部に気体を給気する。実施の形態5と同様に、以下の説明では、チャンバ610の内部へ取り込む気体を空気として説明する。給気ファン641は、チャンバ610の内部へ取り込んだ空気を-Z軸方向に送風する。 The air supply fan 641 supplies gas from the outside of the chamber 610 to the inside of the chamber 610. Similar to the fifth embodiment, in the following description, the gas taken into the inside of the chamber 610 will be described as air. The air supply fan 641 blows the air taken into the inside of the chamber 610 in the −Z axis direction.

フィルタ642は、例えば、上面壁612に、複数個設けられている。例えば、フィルタ642は、辺縁部612cにおいて、複数の給気ファン641を挟むように、上面壁612の角部に設けられている。また、フィルタ642は、辺縁部612dにおいて、複数の給気ファン641を挟むように、上面壁612の角部に設けられている。よって、辺縁部612c及び612dにおいて、X軸方向に離して配置されたフィルタ642の間に給気ファン641が配置されている。 A plurality of filters 642 are provided, for example, on the upper surface wall 612. For example, the filter 642 is provided at the corner of the upper surface wall 612 so as to sandwich the plurality of air supply fans 641 at the edge portion 612c. Further, the filter 642 is provided at the corner of the upper surface wall 612 so as to sandwich the plurality of air supply fans 641 at the edge portion 612d. Therefore, in the edge portions 612c and 612d, the air supply fan 641 is arranged between the filters 642 arranged apart from each other in the X-axis direction.

図33に示すように、上面壁612には、開口部645が設けられている。開口部645は、集塵ユニット60の光路空間70につながっている。開口部645は、Y軸方向に延びている。上面壁612上に光学系20を配置したときに、開口部645から集塵ユニット60の内部にレーザ光16を入射する(図11参照)。これにより、レーザ光16は、光路空間70を通ってワーク10を照射する。 As shown in FIG. 33, the upper surface wall 612 is provided with an opening 645. The opening 645 is connected to the optical path space 70 of the dust collecting unit 60. The opening 645 extends in the Y-axis direction. When the optical system 20 is arranged on the upper surface wall 612, the laser beam 16 is incident on the inside of the dust collecting unit 60 from the opening 645 (see FIG. 11). As a result, the laser beam 16 irradiates the work 10 through the optical path space 70.

図33に示すように、底面壁611は、上方から見て、例えば、長辺がX軸方向に沿い、短辺がY軸方向に沿った長方形の平板状となっている。底面壁611は、上面壁612の-Z軸方向側に配置され、上面壁612と対向している。底面壁611には、複数の排気ファン648が設けられている。 As shown in FIG. 33, the bottom wall 611 has a rectangular flat plate shape in which the long side is along the X-axis direction and the short side is along the Y-axis direction when viewed from above. The bottom wall 611 is arranged on the −Z axis direction side of the top wall 612 and faces the top wall 612. A plurality of exhaust fans 648 are provided on the bottom wall 611.

図33及び図34(b)に示すように、底面壁611を上方から透視するように見たとき、可動領域649は、底面壁611の中央部に重なっている。しかしながら、底面壁611の辺縁部は、可動領域649に重ならない。例えば、底面壁611におけるX軸方向の両端部の辺縁部611a及び611b、並びに、Y軸方向の両端部の辺縁部611c及び611dは、可動領域649に重なっていない。そこで、複数の排気ファン648を、底面壁611におけるX軸方向の両端側の辺縁部611a及び611bに配置させる。例えば、辺縁部611aにY軸方向に沿って並びように4つの排気ファン648を配置させ、辺縁部611bにY軸方向に沿って並ぶように4つの排気ファン648を配置させる。排気ファン648は、チャンバ610の内部から、チャンバ610の外部に空気を-Z軸方向に排気する。 As shown in FIGS. 33 and 34 (b), the movable region 649 overlaps the central portion of the bottom wall 611 when the bottom wall 611 is viewed from above. However, the edge portion of the bottom wall 611 does not overlap the movable region 649. For example, the edge portions 611a and 611b at both ends in the X-axis direction of the bottom wall 611, and the edge portions 611c and 611d at both ends in the Y-axis direction do not overlap the movable region 649. Therefore, a plurality of exhaust fans 648 are arranged on the edge portions 611a and 611b on both ends of the bottom wall 611 in the X-axis direction. For example, four exhaust fans 648 are arranged on the edge portion 611a so as to be arranged along the Y-axis direction, and four exhaust fans 648 are arranged on the edge portion 611b so as to be arranged along the Y-axis direction. The exhaust fan 648 exhausts air from the inside of the chamber 610 to the outside of the chamber 610 in the −Z axis direction.

<チャンバの内部の空気の流れ>
次に、チャンバ610の内部の空気の流れを説明する。
図35は、実施の形態6にかかるレーザ剥離装置600において、チャンバ610の内部の空気の流れを例示した図である。図35に示すように、チャンバ610の内部において、上面壁612から底面壁611に向かうダウンフローが形成されている。特に、チャンバ610の内部におけるY軸方向の両端部には、ダウンフローが形成されている。粉塵等のパーティクルは、基本的に底面壁611上に堆積する。よって、ダウンフローにすることにより、底面壁611上に堆積したパーティクルがステージ21上に巻き上がることを抑制することができる。
<Air flow inside the chamber>
Next, the air flow inside the chamber 610 will be described.
FIG. 35 is a diagram illustrating the flow of air inside the chamber 610 in the laser peeling device 600 according to the sixth embodiment. As shown in FIG. 35, a downflow from the top wall 612 to the bottom wall 611 is formed inside the chamber 610. In particular, downflows are formed at both ends in the Y-axis direction inside the chamber 610. Particles such as dust are basically deposited on the bottom wall 611. Therefore, by making the down flow, it is possible to prevent the particles deposited on the bottom wall 611 from rolling up on the stage 21.

チャンバ610の上面壁612の全面に給気ファン641を設け、底面壁611の全面に排気ファン648を設けることにより、チャンバ610の内部を完全なダウンフローにすることができるかもしれない。しかしながら、チャンバ610の内部には、ステージ21及び走査装置等の部材が配置されるため、チャンバ610内を完全なダウンフローにすることはできない。そこで、本実施形態では、チャンバ610の内部に、ダウンフローを妨げる部材が配置されていても、粉塵の影響を抑制することができる位置に給気ファン641、フィルタ642及び排気ファン648を配置した。図35に示すような配置とすることで、チャンバ610の内部にダウンフローを形成することができ、粉塵がレーザ光16の照射領域に達することを抑制することができる。 By providing the air supply fan 641 on the entire surface of the upper surface wall 612 of the chamber 610 and the exhaust fan 648 on the entire surface of the bottom wall 611, it may be possible to make the inside of the chamber 610 a complete downflow. However, since members such as the stage 21 and the scanning device are arranged inside the chamber 610, it is not possible to completely downflow the inside of the chamber 610. Therefore, in the present embodiment, the air supply fan 641, the filter 642, and the exhaust fan 648 are arranged at positions where the influence of dust can be suppressed even if a member that hinders the downflow is arranged inside the chamber 610. .. By arranging as shown in FIG. 35, a downflow can be formed inside the chamber 610, and it is possible to suppress the dust from reaching the irradiation region of the laser beam 16.

図36(a)及び(b)は、実施の形態6に係るレーザ剥離装置600において、チャンバ610の空気の流れを例示した図であり、(a)は、給気量を排気量よりも大きくした場合を示し、(b)は、給気量を排気量よりも小さくした場合を示す。 36 (a) and 36 (b) are views exemplifying the air flow of the chamber 610 in the laser peeling device 600 according to the sixth embodiment, and FIG. 36 (a) shows the supply air amount larger than the exhaust amount. (B) shows the case where the supply air amount is smaller than the exhaust amount.

図36(a)及び(b)に示すように、チャンバ610の内部をダウンフローとすることにより、チャンバ610の内部の全域にわたって、空気を到達させることができる。特に、図36(a)に示すように、給気量を排気量よりも大きくし、チャンバ610の内部を陽圧とすることにより、給気量を排気量よりも小さくして、チャンバ610の内部を陰圧とすることよりも、チャンバ610の内部に空気を行き渡らせることができる。 As shown in FIGS. 36 (a) and 36 (b), by making the inside of the chamber 610 a downflow, air can reach the entire inside of the chamber 610. In particular, as shown in FIG. 36 (a), the supply air amount is made larger than the exhaust amount and the inside of the chamber 610 is made a positive pressure so that the supply air amount is made smaller than the exhaust amount and the chamber 610 is used. Air can be distributed inside the chamber 610 rather than having a negative pressure inside.

本実施形態によれば、チャンバ610の内部の空間にダウンフローを形成することにより、チャンバ610の内部から発生する粉塵が、レーザ光16の照射領域に達するのを抑制することができる。 According to the present embodiment, by forming a downflow in the space inside the chamber 610, it is possible to suppress the dust generated from the inside of the chamber 610 from reaching the irradiation region of the laser beam 16.

また、ダウンフローにより、チャンバ610の内部に渡って隅々まで空気が到達している。よって、チャンバ610の内部に吹き溜まりの発生を抑制することができる。その他の動作及び効果は、実施の形態1~5と同様であるので説明を省略する。 Further, due to the downflow, air reaches every corner through the inside of the chamber 610. Therefore, it is possible to suppress the generation of snowdrifts inside the chamber 610. Since other operations and effects are the same as those of the first to fifth embodiments, the description thereof will be omitted.

以上、本発明者らによってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。 Although the invention made by the present inventors has been specifically described above based on the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say.

1、2、3、4、5 レーザ剥離装置
10 ワーク
11 基板
12 剥離層
16 レーザ光
20 光学系
21 ステージ
22 噴射ユニット
23 集塵ユニット
31 本体部
32 ノズル
33 給気用配管
41 側壁
42 上板
44、45 板状部材
48 蓋体
51 上部開口部
52 開口部
60 集塵ユニット
61、62 側壁
63、64 板状部材
65 上板
66、67 仕切り板
68 蓋体
70 光路空間
71、72 給気空間
73、74 排気空間
75、76 給気孔
77、77a、77b 排気ポート
78 開口部
81、82 側壁
83、84 板状部材
85 給気ポート
90 集塵ユニット
91、92、93、94 底板部材
95 吸気口
100 集塵ユニット
101、102 底板部材
110 集塵ユニット
111、112 板状部材
113、114 配管
500 レーザ剥離装置
510 チャンバ
511 底面壁
512 上面壁
513 前面壁
514 後面壁
515 側面壁
515a ワーク出入口
516 側面壁
517 空気
520 集塵ユニット用給排気ファン
521 給気配管
522、522a、522b 排気配管
530 支持台
531 土台
532 支柱
541 給気ファン
542 フィルタ
543 排気ダクト用排気口
544 排気ダクト
545 開口部
546 端部
547 デフォーカス
548 排気ファン
551 走査装置
552 コントローラ
600 レーザ剥離装置
610 チャンバ
611 底面壁
611c、611d 辺縁部
612 上面壁
612a、612b 辺縁部
613 前面壁
614 後面壁
615 側面壁
616 側面壁
648 排気ファン
649 可動領域
1, 2, 3, 4, 5 Laser peeling device 10 Work 11 Substrate 12 Peeling layer 16 Laser light 20 Optical system 21 Stage 22 Injection unit 23 Dust collecting unit 31 Main body 32 Nozzle 33 Air supply piping 41 Side wall 42 Top plate 44 , 45 Plate-shaped member 48 Cover 51 Upper opening 52 Opening 60 Dust collecting unit 61, 62 Side wall 63, 64 Plate-shaped member 65 Upper plate 66, 67 Partition plate 68 Lid 70 Optical path space 71, 72 Air supply space 73 , 74 Exhaust space 75, 76 Air supply holes 77, 77a, 77b Exhaust port 78 Opening 81, 82 Side wall 83, 84 Plate-shaped member 85 Air supply port 90 Dust collecting unit 91, 92, 93, 94 Bottom plate member 95 Intake port 100 Dust collection unit 101, 102 Bottom plate member 110 Dust collection unit 111, 112 Plate-shaped member 113, 114 Piping 500 Laser peeling device 510 Chamber 511 Bottom wall 512 Top wall 513 Front wall 514 Rear wall 515 Side wall 515a Work entrance 516 Side wall 517 Air 520 Air supply / exhaust fan 521 for dust collection unit 521 Air supply pipe 522, 522a, 522b Exhaust pipe 530 Support base 531 Base 532 Support 541 Air supply fan 542 Filter 543 Exhaust duct exhaust port 544 Exhaust duct 545 Opening 546 End 547 Focus 548 Exhaust fan 551 Scanning device 552 Controller 600 Laser peeling device 610 Chamber 611 Bottom wall 611c, 611d Edge part 612 Top wall 612a, 612b Edge part 613 Front wall 614 Rear wall 615 Side wall 616 Side wall 648 Exhaust fan 649 Movable region

Claims (9)

基板と前記基板上に形成された剥離層とを備えるワークにレーザ光を照射して前記剥離層を前記基板から剥離するレーザ剥離装置であって、
チャンバ壁によって囲まれた内部に空間を有し、ステージ及び前記ステージ上に配置された前記ワークが前記内部に配置されたチャンバを備え、
前記チャンバは、
前記チャンバの外部から前記内部に給気される給気気体を、前記内部に給気する給気ファンと、
前記内部から前記外部に前記給気気体を排気する排気ファンと、
を有する、
レーザ剥離装置。
A laser peeling device that irradiates a work provided with a substrate and a peeling layer formed on the substrate with a laser beam to peel the peeling layer from the substrate.
It has a space inside surrounded by a chamber wall, and includes a stage and a chamber in which the work placed on the stage is placed inside.
The chamber is
An air supply fan that supplies air to the inside of the chamber from the outside of the chamber to the inside of the chamber.
An exhaust fan that exhausts the supply air gas from the inside to the outside,
Have,
Laser peeling device.
前記チャンバ壁は、
前記ワークの表面に平行な平板状の第1の壁と、
前記第1の壁の下方に配置され、前記第1の壁に対向し前記ワークの表面に平行な平板状の第2の壁と、
を備え、
前記給気ファンは、前記第1の壁に設けられた、
請求項1に記載のレーザ剥離装置。
The chamber wall
A flat plate-shaped first wall parallel to the surface of the work,
A flat plate-shaped second wall arranged below the first wall, facing the first wall and parallel to the surface of the work,
Equipped with
The air supply fan is provided on the first wall.
The laser peeling device according to claim 1.
前記排気ファンは、前記第2の壁に設けられた、
請求項2に記載のレーザ剥離装置。
The exhaust fan is provided on the second wall.
The laser peeling device according to claim 2.
前記チャンバの内部の圧力が前記チャンバの外部の圧力よりも高くなると、前記チャンバの内部の前記給気気体を外部に通過させ、前記チャンバの内部の圧力が前記チャンバの外部の圧力よりも低くなると、前記チャンバの外部の前記給気気体を内部に通過させるフィルタをさらに備えた、
請求項3に記載のレーザ剥離装置。
When the pressure inside the chamber becomes higher than the pressure outside the chamber, the air supply gas inside the chamber is passed to the outside, and the pressure inside the chamber becomes lower than the pressure outside the chamber. Further provided with a filter that allows the air supply gas outside the chamber to pass inside.
The laser peeling device according to claim 3.
前記チャンバ壁は、
前記ワークの表面と平行な第1の方向であって、前記ワークの搬送方向と垂直な前記第1の方向に直交する平板状の第3の壁と、前記第3の壁に対向し前記第1の方向に直交する平板状の第4の壁と、
前記ワークの搬送方向に直交する平板状の第5の壁と、前記第5の壁に対向し前記搬送方向に直交する平板状の第6の壁と、
を含み、
前記フィルタは、前記第3の壁、前記第4の壁、前記第5の壁及び前記第6の壁の少なくともいずれかに設けられた、
請求項4に記載のレーザ剥離装置。
The chamber wall
A flat plate-shaped third wall that is parallel to the surface of the work and is orthogonal to the first direction that is perpendicular to the transport direction of the work, and the first wall that faces the third wall. A flat plate-shaped fourth wall orthogonal to the direction of 1 and
A flat plate-shaped fifth wall orthogonal to the transport direction of the work, and a flat plate-shaped sixth wall facing the fifth wall and orthogonal to the transport direction.
Including
The filter is provided on at least one of the third wall, the fourth wall, the fifth wall and the sixth wall.
The laser peeling device according to claim 4.
前記チャンバ壁は、
前記ワークの表面と平行な第1の方向であって、前記ワークの搬送方向と垂直な前記第1の方向に直交する平板状の第3の壁と、前記第3の壁に対向し前記第1の方向に直交する平板状の第4の壁と、
前記ワークの搬送方向に直交する平板状の第5の壁と、前記第5の壁に対向し前記搬送方向に直交する平板状の第6の壁と、
を含み、
前記排気ファンは、前記第3の壁、前記第4の壁、前記第5の壁及び前記第6の壁の少なくともいずれかに設けられた、
請求項2に記載のレーザ剥離装置。
The chamber wall
A flat plate-shaped third wall that is parallel to the surface of the work and is orthogonal to the first direction that is perpendicular to the transport direction of the work, and the first wall that faces the third wall. A flat plate-shaped fourth wall orthogonal to the direction of 1 and
A flat plate-shaped fifth wall orthogonal to the transport direction of the work, and a flat plate-shaped sixth wall facing the fifth wall and orthogonal to the transport direction.
Including
The exhaust fan is provided on at least one of the third wall, the fourth wall, the fifth wall, and the sixth wall.
The laser peeling device according to claim 2.
前記レーザ光の照射位置と対応する位置に開口部を有し、前記レーザ光が通過する光路空間と、前記光路空間の外側に配置された排気空間と、を有する集塵ユニットをさらに備え、
前記集塵ユニットは、前記チャンバの内部に配置され、
前記光路空間は、前記開口部の周囲に配置された側壁と、前記側壁の上部を覆うように配置された前記レーザ光を透過する蓋体と、を用いて構成されており、
前記側壁には前記光路空間に気体を供給するための給気孔が形成されており、
前記給気孔から前記光路空間に供給された気体は、前記側壁に沿って前記ワーク側に流れた後、前記側壁の下端と前記ワークとの間を通過して前記排気空間に流れ、
前記開口部は、前記ワークの表面と平行であって前記ワークの搬送方向と垂直な第1の方向に伸びるように配置されており、
前記側壁は、前記ワークの搬送方向上流側に配置された第1の板状部材と、前記ワークの搬送方向下流側に配置された第2の板状部材と、を備え、
前記排気空間は、前記光路空間に対して前記搬送方向上流側に配置された第1の排気空間と、前記光路空間に対して前記搬送方向下流側に配置された第2の排気空間と、を備え、
前記第1の板状部材に形成された給気孔から前記光路空間に供給された気体は、前記第1の板状部材の表面に沿って前記ワーク側に流れた後、前記第1の板状部材の下端と前記ワークとの間を通過して前記第1の排気空間に流れ、
前記第2の板状部材に形成された給気孔から前記光路空間に供給された気体は、前記第2の板状部材の表面に沿って前記ワーク側に流れた後、前記第2の板状部材の下端と前記ワークとの間を通過して前記第2の排気空間に流れ、
前記第1の排気空間の下部には、前記ワークの表面と前記第1の排気空間との間の流路が狭くなるように配置された第1の吸気口が形成されており、
前記第2の排気空間の下部には、前記ワークの表面と前記第2の排気空間との間の流路が狭くなるように配置された第2の吸気口が形成され、
前記第1の吸気口の前記搬送方向下流側には前記第1の方向に伸びる第1の底板部材が設けられており、前記第1の吸気口の前記搬送方向上流側には前記第1の方向に伸びる第2の底板部材が設けられており、
前記第1の底板部材の前記第1の吸気口における断面形状は、前記第1の底板部材の上面との成す角度が鋭角となるような傾斜面を含む形状であり、
前記第2の吸気口の前記搬送方向上流側には前記第1の方向に伸びる第3の底板部材が設けられており、前記第2の吸気口の前記搬送方向下流側には前記第1の方向に伸びる第4の底板部材が設けられており、
前記第3の底板部材の前記第2の吸気口における断面形状は、前記第3の底板部材の上面との成す角度が鋭角となるような傾斜面を含む形状である、
請求項1~6のいずれか1項に記載のレーザ剥離装置。
A dust collecting unit having an opening at a position corresponding to the irradiation position of the laser beam and having an optical path space through which the laser beam passes and an exhaust space arranged outside the optical path space is further provided.
The dust collecting unit is arranged inside the chamber.
The optical path space is configured by using a side wall arranged around the opening and a lid for transmitting the laser beam arranged so as to cover the upper part of the side wall.
An air supply hole for supplying gas to the optical path space is formed on the side wall.
The gas supplied from the air supply hole to the optical path space flows to the work side along the side wall, then passes between the lower end of the side wall and the work, and flows to the exhaust space.
The opening is arranged so as to extend in a first direction parallel to the surface of the work and perpendicular to the transport direction of the work.
The side wall includes a first plate-shaped member arranged on the upstream side in the transport direction of the work and a second plate-shaped member arranged on the downstream side in the transport direction of the work.
The exhaust space includes a first exhaust space arranged on the upstream side in the transport direction with respect to the optical path space, and a second exhaust space arranged on the downstream side in the transport direction with respect to the optical path space. Prepare,
The gas supplied to the optical path space from the air supply hole formed in the first plate-shaped member flows to the work side along the surface of the first plate-shaped member, and then the first plate-shaped member. Passing between the lower end of the member and the work, it flows into the first exhaust space,
The gas supplied to the optical path space from the air supply hole formed in the second plate-shaped member flows to the work side along the surface of the second plate-shaped member, and then the second plate-shaped member. Passing between the lower end of the member and the work, it flows into the second exhaust space,
At the lower part of the first exhaust space, a first intake port is formed so as to narrow the flow path between the surface of the work and the first exhaust space.
At the lower part of the second exhaust space, a second intake port is formed so as to narrow the flow path between the surface of the work and the second exhaust space.
A first bottom plate member extending in the first direction is provided on the downstream side of the first intake port in the transport direction, and the first one is provided on the upstream side of the first intake port in the transport direction. A second bottom plate member extending in the direction is provided,
The cross-sectional shape of the first bottom plate member at the first intake port is a shape including an inclined surface such that the angle formed with the upper surface of the first bottom plate member is an acute angle.
A third bottom plate member extending in the first direction is provided on the upstream side of the second intake port in the transport direction, and the first one is provided on the downstream side of the second intake port in the transport direction. A fourth bottom plate member extending in the direction is provided,
The cross-sectional shape of the third bottom plate member at the second intake port is a shape including an inclined surface such that the angle formed with the upper surface of the third bottom plate member is an acute angle.
The laser peeling apparatus according to any one of claims 1 to 6.
基板と前記基板上に形成された剥離層とを備えるワークにレーザ光を照射して前記剥離層を前記基板から剥離するレーザ剥離方法であって、
チャンバ壁によって囲まれた内部に空間を有し、ステージ及び前記ステージ上に配置された前記ワークが前記内部に配置されたチャンバを用いるレーザ剥離方法であって、
前記チャンバは、
前記チャンバの外部から前記内部に給気される給気気体を、前記内部に給気する給気ファンと、
前記内部から前記外部に前記給気気体を排気する排気ファンと、
を有する、
レーザ剥離方法。
A laser peeling method in which a work provided with a substrate and a peeling layer formed on the substrate is irradiated with laser light to peel the peeling layer from the substrate.
It is a laser exfoliation method using a chamber in which a stage and the work arranged on the stage have a space inside surrounded by a chamber wall and the work is arranged inside the stage.
The chamber is
An air supply fan that supplies air to the inside of the chamber from the outside of the chamber to the inside of the chamber.
An exhaust fan that exhausts the supply air gas from the inside to the outside,
Have,
Laser peeling method.
(A)基板上に剥離層を形成する工程と、
(B)前記剥離層上に駆動素子及び有機EL素子を形成する工程と、
(C)前記基板と前記剥離層とを分離する工程と、
(D)前記剥離層にフィルムを積層する工程と、を含む有機ELディスプレイの製造方法であって、
(C)前記基板と前記剥離層とを分離する工程は、前記基板と前記剥離層とを含むワークにレーザ光を照射して前記剥離層を前記基板から剥離する工程であり、
チャンバ壁によって囲まれた内部に空間を有し、ステージ及び前記ステージ上に配置された前記ワークが前記内部に配置されたチャンバを用いる有機ELディスプレイの製造方法であって、
前記チャンバは、
前記チャンバの外部から前記内部に給気される給気気体を、前記内部に給気する給気ファンと、
前記内部から前記外部に前記給気気体を排気する排気ファンと、
を有する、
有機ELディスプレイの製造方法。
(A) The process of forming a release layer on the substrate and
(B) A step of forming a driving element and an organic EL element on the peeling layer, and
(C) A step of separating the substrate and the release layer,
(D) A method for manufacturing an organic EL display, comprising a step of laminating a film on the release layer.
(C) The step of separating the substrate and the peeling layer is a step of irradiating a work including the substrate and the peeling layer with a laser beam to peel the peeling layer from the substrate.
A method for manufacturing an organic EL display, which has a space inside surrounded by a chamber wall, and uses a stage and a chamber in which the work placed on the stage is arranged inside.
The chamber is
An air supply fan that supplies air to the inside of the chamber from the outside of the chamber to the inside of the chamber.
An exhaust fan that exhausts the supply air gas from the inside to the outside,
Have,
A method for manufacturing an organic EL display.
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