JP2022036979A - 耐衝撃性を有する予め破砕されたガラス複合体及び積層体、並びにその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】耐衝撃性を備えた、予め破砕されたガラス複合体及び積層体を含めたガラス材料、並びにそれらを製造する方法を提供する。【解決手段】厚さ、一対の対向する主面１２、１４、圧縮応力領域５０、中央張力（ＣＴ）領域６０、及び複数の亀裂７２を含むガラス基板１０；複数の亀裂７２内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相７０；バッキング層１２０ａ；並びに、基板の主面の一方１４とバッキング層１２０ａとの間に配置された中間膜１１０を含む、予め破砕されたガラス積層体。圧縮応力領域５０は、主面の各々から基板内の第１の選択された深まで延びる。さらには、複数の亀裂７２はＣＴ領域６０に位置している。【選択図】図２Ａ

Description

関連出願の相互参照

本出願は、２０１７年１０月６日出願の米国仮出願第６２／５６８，９０４号の米国特許法１１９条に基づく優先権の利益を主張して２０１８年１０月５日に出願された国際出願の日本国へ国内移行された特願２０２０－５１９７６２を親出願とする分割出願である。

本開示は、概してガラス材料に関し、特に、耐衝撃性を有する、予め破砕されたガラス複合体及び積層体、並びにそれらの製造方法に関する。

ガラス材料は、その多くがさまざまな強度向上機能を伴って構成又は他の方法で処理されており、多くの消費者向け電子製品のさまざまなディスプレイ及びディスプレイデバイスに普及している。例えば、化学強化ガラスは、携帯電話、音楽プレーヤー、電子書籍リーダー、ノートパッド、タブレット、ラップトップコンピュータ、現金自動預払機、及び他の同様のデバイスを含む多くのタッチスクリーン製品に好まれている。これらのガラス材料の多くは、デスクトップコンピュータ、ラップトップコンピュータ、エレベーターの画面、機器のディスプレイなどを含む、タッチスクリーン機能は備えていないが機械的接触傾向のある消費者向け電子製品のディスプレイ及びディスプレイデバイスにも採用されている。

場合によっては強度を高める機能を有するように処理されたガラス材料は、ディスプレイ関連及び／又は光学関連の機能を必要とし、かつ、機械的特性の考慮を要求する、さまざまな用途においても普及している。例えば、これらの材料は、時計、スマートフォン、小売用スキャナー、眼鏡、眼鏡ベースのディスプレイ、屋外ディスプレイ、自動車用ディスプレイ、及び他の関連用途のためのカバーレンズ、基板、及び筐体として使用することができる。これらの材料は、車両のフロントガラス、車両の窓、車両のムーンルーフ、サンルーフ、及びパノラミックルーフの要素、建築用ガラス、住宅用及び商業用の窓、並びに他の同様の用途にも使用することができる。

これらのディスプレイ及び関連用途で使用される場合、耐摩耗性を高め、さもなければ早期の故障につながりうる機械的に誘発される欠陥の発生を防ぐために、これらのガラス材料は、コーティングを伴って構成されていることが多い。これらのガラス材料の多くは、圧縮応力層をもたらす強化プロセス（例えば、焼戻し、イオン交換など）にも供される。これらの強化ガラス材料では、圧縮応力領域がガラス材料の強度を高め、亀裂の伝播を防ぐ働きをする。

これらのガラス材料は、これらのプロセス及び／又はコーティングの結果として、強度及び耐摩耗性の向上を示しうるが、それらの多くは依然として低い損傷抵抗の影響を受けやすい。例えば、強化ガラス材料の圧縮応力領域を伝播する亀裂は、残留引張応力を有する材料内の領域に遭遇する可能性がある。残留引張応力を有する領域に達すると、亀裂は急速に伝播し、ガラス材料の部分的又は最終的な破損につながりうる。さらには、これらの亀裂は分岐して複数の亀裂となり、場合によっては、鋭いガラスの破片によって示される危険な破損機構を生じることがある。加えて、ガラス材料の圧縮応力領域の厚さは、通常、ガラス材料の全体の厚さの約２０～２５％に制限され（すなわち、イオン交換プロセスで形成される場合）、これらの制限に近づくと、処理及び製造のコストが高くなる可能性がある。さらには、これらの圧縮応力領域の厚さの制限を考慮すれば、残留引張応力の領域に伝播する亀裂を促進させないことを確実にするために、ガラス材料内の傷及び欠陥は、（例えば、ガラス成形プロセス、研磨などによって）圧縮応力領域のサイズよりも小さいサイズに制御する必要がありうる。

これらの考慮事項に鑑みて、耐衝撃性を備えた、予め破砕されたガラス複合体及び積層体を含めたガラス材料、並びにそれらを製造する方法が必要とされている。

本開示の一態様は、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含むガラス基板；並びに、該複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相を備えた、予め破砕されたガラス複合体に関する。圧縮応力領域は、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びる。さらには、複数の亀裂は、ＣＴ領域に位置している。

本開示のさらなる態様は、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含むガラス基板；該複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；バッキング層；並びに、基板の主面の一方とバッキング層との間に配置された中間膜を備えた、予め破砕されたガラス積層体に関する。圧縮応力領域は、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びる。さらには、複数の亀裂は、ＣＴ領域に位置している。

本開示の追加的な態様は、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第１のガラス基板；厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第２のガラス基板；複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；並びに、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に配置された中間膜を備えた、予め破砕されたガラス積層体に関する。圧縮応力領域は、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びる。さらには、複数の亀裂は、ＣＴ領域に位置している。

前述の積層体及び複合体の実施形態では、複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない。幾つかの実施形態では、複数の亀裂は、ガラス基板の厚さの５倍未満、若しくは、場合によっては、ガラス基板の厚さの１．５倍未満の平均断片サイズをさらに含む。幾つかの実装形態によれば、複数の亀裂が複数の断片を画成し、該複数の断片は、２０以下、１０以下、４以下の平均アスペクト比、若しくは、場合によっては２以下の平均アスペクト比を含む。

前述の積層体及び複合体の実施形態では、ポリマー又は硬化した樹脂は、ガラス基板の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする。

これらの態様の追加的な実装形態では、前面、背面、及び側面を含む筐体；少なくとも部分的に筐体の内側にある電気部品；並びに、筐体の前面にあるか又はそれに隣接しているディスプレイを備えた、消費者向け電子製品が提供される。さらには、前述の予め破砕されたガラス複合体又は積層体の１つは、ディスプレイ上に配置されたもの、及び筐体の一部として配置されたもののうちの少なくとも一方である。

前述の積層体及び複合体の幾つかの実施形態によれば、複合体又は積層体は、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒の平均衝撃速度を特徴とする。

前述の積層体及び複合体の実施形態では、圧縮応力領域及び第１の選択された深さは、イオン交換又は熱焼戻しプロセスによって画成される。

前述の複合体の幾つかの実施形態によれば、中間膜は、ポリマー又は硬化した樹脂のものと同じ組成を有する材料を含みうる。これらの複合体の他の実施形態では、バッキング層は、中間膜の弾性率より少なくとも２５％大きい弾性率によって特徴づけることができる。さらには、バッキング層は、ポリマー、ガラス、ガラスセラミック、又はセラミック材料を含みうる。

これらの態様のさらなる実装形態では、前面、背面、及び側面を含む筐体；少なくとも部分的に筐体の内側にある電気部品；並びに、筐体の前面にあるか又はそれに隣接しているディスプレイを備えた、車両用ディスプレイシステムが提供される。さらには、前述の予め破砕されたガラス複合体又は積層体の１つは、ディスプレイ上に配置されたもの、及び筐体の一部として配置されたもののうちの少なくとも一方である。

これらの態様の追加的な実装形態では、車両に連結されたフレーム；及び、該フレーム内に位置づけられた積層体を備えた、車両用窓パネルが提供される。積層体は、各基板が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む、第１、第２、及び第３のガラス基板；該第１、第２、及び第３のガラス基板の複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に配置された第１の中間膜；並びに、第２のガラス基板と第３のガラス基板との間に配置された第２の中間膜を備えている。さらには、圧縮応力領域は、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びる。加えて、複数の亀裂は、基板の各々のＣＴ領域に位置している。

別の態様によれば、予め破砕されたガラス積層体の製造方法が提供され、該方法は、基板とバッキング層との間に中間膜を配置するとともにガラス基板をバッキング層に積層する工程であって、該ガラス基板が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域及び中央張力（ＣＴ）領域を含む、工程；積層された基板、バッキング層、及び中間膜を硬化性樹脂又はポリマーの浴に浸漬する工程；ガラス基板のＣＴ領域内に複数の亀裂を生成する工程；ガラス基板のＣＴ領域内の複数の亀裂内に硬化性樹脂又はポリマーを浸透させる工程；並びに、複数の亀裂内の硬化性樹脂又はポリマーを硬化させて、予め破砕されたガラス積層体を形成する工程を含む。

追加の特徴及び利点は、以下の詳細な説明に記載され、その説明から当業者に容易に明らかとなり、あるいは、以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付の図面を含めた本明細書に記載される実施形態を実施することによって認識されよう。

前述の概要及び後述する詳細な説明はいずれも、単なる例示であり、本開示及び添付の特許請求の範囲の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することが意図されていることが理解されるべきである。

添付の図面は、本開示の原理のさらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれて、その一部を構成する。図面は、１つ以上の実施形態を例証しており、その説明とともに、例として、本開示の形態の原理及び動作を説明する役割を担う。また、本明細書及び図面に開示される本開示のさまざまな特徴は、ありとあらゆる組合せで用いることができることも理解されるべきである。非限定的な例として、本開示のさまざまな特徴は、以下の実施形態に従って互いに組み合わせることができる。

本開示のこれら及び他の特徴、態様、及び利点は、本開示の以下の詳細な説明を添付の図面を参照して読む場合によりよく理解される。

本開示の態様に従う、複数の亀裂を有するガラス基板と、該複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相とを含む、予め破砕されたガラス複合体の断面の概略図 本開示のさらなる態様に従う、複数の亀裂を有するガラス基板、複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相、バッキング層、及び基板とバッキング層との間の中間膜を含む、予め破砕されたガラス積層体の断面の概略図 本開示の別の態様に従う、複数の亀裂を有するガラス基板、複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相、バッキング層、及び基板とバッキング層との間の中間膜を含む、予め破砕されたガラス積層体の断面の概略図 本開示の態様に従う、複数の亀裂を有する第１のガラス基板、複数の亀裂を有する第２のガラス基板、第１及び第２の基板の複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相、及び基板間の中間膜を含む、予め破砕されたガラス積層体の断面の概略図 本開示の別の態様に従う、複数の亀裂を有する第１及び第２のガラス基板、該基板の複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相、バッキング層、及び基板の各々とバッキング層と間の中間膜を含む、予め破砕されたガラス積層体の断面の概略図 本明細書に開示される複合体又は積層体のいずれかを組み込む例示的な電子機器の平面図 図５Ａの例示的な電子機器の斜視図 本明細書に開示される複合体又は積層体のいずれかを組み込む車両内部システムを伴った車両内部の斜視図 本開示の実施形態による、予め破砕されたイオン交換されたガラス基板、樹脂中間膜、イオン交換されたガラスのバッキング層、及び予め破砕された基板内の複数の亀裂内の漸進的な量の樹脂を含む、予め破砕された積層体の一連の写真 開示の実施形態による、予め破砕されたイオン交換されたガラス基板、樹脂中間膜、イオン交換されたガラスのバッキング層、及び予め破砕された基板内の複数の亀裂内の漸進的な量の樹脂を含む、予め破砕された積層体の一連の写真 開示の実施形態による、予め破砕されたイオン交換されたガラス基板、樹脂中間膜、イオン交換されたガラスのバッキング層、及び予め破砕された基板内の複数の亀裂内の漸進的な量の樹脂を含む、予め破砕された積層体の一連の写真 本開示の実施形態による、空気中で亀裂させた、２つのイオン交換されたガラス基板を樹脂中間膜とともに含む積層体の一連の写真 本開示の実施形態による、空気中で亀裂させ、次に樹脂を浸透させた、２つのイオン交換されたガラス基板を樹脂中間膜とともに含む積層体の一連の写真 本開示の実施形態による、樹脂に沈積しつつ亀裂させ、硬化前に３０分間浸透させた、２つのイオン交換されたガラス基板を樹脂中間膜とともに含む積層体の一連の写真 本開示の実施形態による、樹脂に沈積しつつ亀裂させ、硬化前に３日間浸透させた、２つのイオン交換されたガラス基板を樹脂中間膜とともに含む積層体の一連の写真 本開示の実施形態に従う、予め破砕された複合体及び積層体を試験するように構成された、動的衝撃試験装置の概略図 図９Ａに示される動的衝撃試験装置の断面の概略図 本開示の実施形態に従う、４６０℃の１００％ＫＮＯ_３浴中で６０時間イオン交換したときのイオン交換されたガラスの応力プロファイルを示す図 本開示の態様に従う、１１０°ダイヤモンド動的衝撃試験で試験した、比較対照のイオン交換ガラス基板と予め破砕されたガラス積層体についての破損前の衝撃速度のプロットを示す図 本開示の態様に従う、セラミックの破壊靭性を決定するための米国材料試験協会（ＡＳＴＭ）のダブルトーション法に準拠して試験した、比較対照のイオン交換ガラス基板と、３層の予め破砕されたガラス積層体についての亀裂伸展に対する荷重のプロットを示す図

以下の詳細な説明では、限定ではなく説明の目的で、本開示のさまざま原理の完全な理解を提供するために、特定の詳細を開示する例示的な実施形態が記載される。しかしながら、本開示が本明細書に開示される特定の詳細から逸脱する他の実施形態で実施されうることは、本開示の恩恵を受けた当業者には明らかであろう。さらには、本開示のさまざまな原理の説明を不明瞭にしないように、よく知られているデバイス、方法、及び材料の説明は省略される場合がある。最後に、該当する場合は常に、同様の参照番号は同様の要素を指す。

本明細書では、範囲は、「約」１つの特定の値から、及び／又は「約」別の特定の値までとして表現することができる。本明細書で用いられる場合、用語「約」とは、量、サイズ、配合、パラメータ、及び他の量及び特性が正確ではなく、かつ、正確である必要はなく、許容誤差、変換係数、四捨五入、測定誤差など、及び当業者に知られている他の要因を反映して、必要に応じて近似及び／又はより大きく又はより小さくてもよいことを意味する。範囲の値又は端点を説明する際に「約」という用語が使用される場合、本開示は、言及される特定の値又は端点を含むと理解されるべきである。明細書の範囲の数値又は端点が「約」を記載しているかどうかにかかわらず、範囲の数値又は端点は、「約」によって修飾されたものと、修飾されていないものの２つの実施形態を含むことが意図されている。さらには、範囲の各々の端点は、他の端点に関連して、及び他の端点とは独立してのいずれにおいても重要であることが理解されよう。

本明細書で使用される用語「実質的な」、「実質的に」、及びそれらの変形は、記載された特徴が値又は説明に等しい又はほぼ等しいことを示すことが意図されている。例えば、「実質的に平坦な」表面は、平坦な又はほぼ平坦な表面を示すことが意図されている。さらには、「実質的に」は、２つの値が等しいかほぼ等しいことを示すことが意図されている。幾つかの実施形態では、「実質的に」は、互いの約１０％以内、例えば、互いの約５％以内、又は互いの約２％以内などの値を意味しうる。

本明細書で使用される方向用語（例えば、上、下、右、左、前、後、上部、底部）は、描かれた図を参照してのみ作られており、絶対的な方向を意味することは意図していない。

特に明記しない限り、本明細書に記載の任意の方法は、その工程が特定の順序で実行されることを必要とすると解釈されることは、決して意図されていない。したがって、方法クレームがその工程が従うべき順序を実際に列挙していないか、又は工程が特定の順序に限定されるべきであることが特許請求の範囲又は明細書に明記されていない場合には、いかなる点においても、順序が推測されることは決して意図されていない。これには、次のような解釈のためのあらゆる非明示的根拠が当てはまる：工程の配置又は動作フローに関する論理的事項；文法上の編成又は句読点から派生した平明な意味；明細書に記載される実施形態の数又はタイプ。

本明細書で用いられる場合、単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、文脈上明らかに別段の指示がない限り、複数の指示対象を含む。よって、例えば、ある１つの（ａ）「構成要素」への言及は、文脈がそうでないことを明確に示さない限り、そのような構成要素を２つ以上有する態様を含む。

本明細書で用いられる場合、「予め破砕された」という用語は、ガラスが基板に破砕を生じさせる意図的な事象に供されており、そのような破砕が、例えば、設計された亀裂が基板に付与されているなど、意図的な事象によって生じた亀裂内に樹脂が浸透する前にガラスに与えられていたことを意味する。言い換えれば、ガラスがデバイスに意図したように取り付けられた後に発生する破損及びデバイスの使用中の事象によって発生する破損とは対照的に、破砕事象は、電子機器又は他のデバイスでその意図した目的に使用される前に生じていた。

本開示の態様は、概して、圧縮応力領域、中央張力領域、及び複数の亀裂を有するガラス基板；及び、該複数の亀裂内の樹脂を含む第２の相を備えた、予め破砕されたガラス複合体及び積層体に関する。予め破砕されたガラス積層体はまた、バッキング層及び基板とバッキング層との間に配置された中間膜も含むことができる。より一般的には、これらの予め破砕された複合体及び積層体は、他の光学的及び機械的特性（例えば、強度、透過率など）に加えて、耐衝撃性を特徴とする。さらには、これらの予め破砕された複合体及び積層体は、応力の適用によってこれらの内部に形成された亀裂を阻止するように構成された、予め破砕されたガラス基板を含む。さらには、これらの複合体及び積層体は、（例えば、それらがすでに制御された、予め破砕された状態にある、すなわち、ガラスが、その意図された用途で使用する前に破砕されているため）、破損時に生成するガラスの破片が鋭くならないように構成されており、これは、結果として生じる断片に接触する生物に対し、さらなる安全性を提供する。加えて、これらの予め破砕された積層体及び複合体は、「設計された」亀裂が屈折率整合樹脂で満たされているため、ベアガラス基板の光学特性を保持している。最後に、本開示は、これらの複合体及び積層体の製造方法の概要を示しており、該方法は、ガラス基板（すなわち、圧縮応力領域と中央張力領域で構成される）を樹脂に浸し、基板に複数の亀裂を導入し、樹脂を一定期間、亀裂に浸透させ、次いで亀裂内の樹脂を硬化させる工程を含む。

図１を参照すると、ガラス組成物を含む基板１０を備えた、予め破砕されたガラス複合体１００が示されている。換言すれば、基板１０は、その中に１つ以上のガラス材料を含みうる。基板１０はまた、一対の対向する主面１２、１４も含む。基板１０は、圧縮応力領域５０、中央張力（ＣＴ）領域６０、及び複数の亀裂７２をさらに含む。実施形態では、複数の亀裂７２は、厚さ６２にわたるＣＴ領域６０内に位置している。図１にも示されているように、複合体１００は、複数の亀裂７２内にポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相７０をさらに備えている。

予め破砕されたガラス複合体１００の幾つかの実施形態では、図１に示されるように、ガラス基板１０は、その表面積を画定する、選択された長さと幅、又は直径を含む。基板１０は、その長さと幅、又は直径によって画定される基板１０の主面１２、１４の間に少なくとも１つの縁部を有しうる。

ガラス基板１０は、アモルファス基板、結晶基板、又はそれらの組合せ（例えば、ガラスセラミック基板）を含みうる。ガラス基板１０は、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸塩ガラス、アルカリアルミノリンケイ酸塩ガラス、又はアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスを含みうる。１つ以上の実施形態では、（本明細書に記載されるように化学的に強化される前の）ガラス基板１０は、約４０～約８０の範囲のＳｉＯ_２、約１０～約３０の範囲のＡｌ_２Ｏ_３、約０～約１０の範囲のＢ_２Ｏ_３、約０～約２０の範囲のＲ_２Ｏ、及び約０～約１５の範囲のＲＯを含む、モルパーセント（モル％）単位の組成を有するガラスを含みうる。幾つかの事例では、組成物は、約０モル％～約５モル％の範囲のＺｒＯ_２及び約０～約１５モル％の範囲のＰ_２Ｏ_５のうちの一方又は両方を含みうる。ＴｉＯ_２は約０モル％～約２モル％で存在しうる。

幾つかの実施形態では、ガラス基板１０の組成物は、ＳｉＯ_２を、モル％で、約４５～約８０、約４５～約７５、約４５～約７０、約４５～約６５、約４５～約６０、約４５～約６５、約４５～約６５、約５０～約７０、約５５～約７０、約６０～約７０、約７０～約７５、又は約５０～約６５の範囲の量で含みうる。

幾つかの実施形態では、ガラス基板１０の組成物は、Ａｌ_２Ｏ_３を、モル％で、約５～約２８、約５～約２６、約５～約２５、約５～約２４、約５～約２２、約５～約２０、約６～約３０、約８～約３０、約１０～約３０、約１２～約３０、約１４～約３０、約１６～約３０、約１８～約３０、又は約１８～約２８の範囲の量で含みうる。

１つ以上の実施形態では、ガラス基板１０の組成物は、Ｂ_２Ｏ_３を、モル％で、約０～約８、約０～約６、約０～約４、約０．１～約８、約０．１～約６、約０．１～約４、約１～約１０、約２～約１０、約４～約１０、約２～約８、約０．１～約５、又は約１～約３の範囲の量で含みうる。幾つかの事例では、ガラス組成物は、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含まないことがある。本明細書で用いられる場合、組成物の成分に関して語句「実質的に含まない」とは、その成分が、最初のバッチ処理中に組成物に積極的に又は意図的には添加されないが、不純物として約０．００１モル％未満の量で存在しうることを意味する。

幾つかの実施形態では、ガラス基板１０の組成物は、ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＺｎＯなど、１つ以上のアルカリ土類金属酸化物を含みうる。幾つかの実施形態では、１つ以上のアルカリ土類金属酸化物の総量は、最大約１５モル％までのゼロではない量でありうる。１つ以上の特定の実施形態では、アルカリ土類金属酸化物の総量は、最大約１４モル％、最大約１２モル％、最大約１０モル％、最大約８モル％、最大約６モル％、最大約４モル％、最大約２モル％、又は最大約１．５モル％までのゼロではない量でありうる。幾つかの実施形態では、１つ以上のアルカリ土類金属酸化物のモル％での総量は、約０．１～１０、約０．１～８、約０．１～６、約０．１～５、約１～１０、約２～１０、又は約２．５～８の範囲でありうる。ＭｇＯの量は、約０モル％～約５モル％（例えば、約２モル％～約４モル％）の範囲でありうる。ＺｎＯの量は約０～約２モル％の範囲でありうる。ＣａＯの量は約０モル％～約２モル％でありうる。１つ以上の実施形態では、ガラス組成物はＭｇＯを含んでよく、ＣａＯ及びＺｎＯは実質的に含まなくてよい。一変形形態では、ガラス組成物は、ＣａＯ又はＺｎＯを含んでよく、ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＺｎＯのうちの他のものは実質的に含まなくてよい。１つ以上の特定の実施形態では、ガラス組成物は、ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＺｎＯのアルカリ土類金属酸化物のうちの２つのみを含んでもよく、土類金属酸化物のうちの３つ目は実質的に含まなくてよい。

ガラス組成物中のアルカリ金属酸化物Ｒ_２Ｏのモル％での総量は、約５～約２０、約５～約１８、約５～約１６、約５～約１５、約５～約１４、約５～約１２、約５～約１０、約５～約８、約５～約２０、約６～約２０、約７～約２０、約８～約２０、約９～約２０、約１０～約２０、約６～約１３、又は約８～約１２の範囲でありうる。

１つ以上の実施形態では、ガラス基板１０の組成物は、Ｎａ_２Ｏを、約０モル％～約１８モル％、約０モル％～約１６モル％又は約０モル％～約１４モル％、約０モル％～約１０モル％、約０モル％～約５モル％、約０モル％～約２モル％、約０．１モル％～約６モル％、約０．１モル％～約５モル％、約１モル％～約５モル％、約２モル％～約５モル％、又は約１０モル％～約２０モル％の範囲の量で含む。

幾つかの実施形態では、Ｌｉ_２Ｏ及びＮａ_２Ｏの量は、成形性とイオン交換能のバランスをとるために特定の量又は比率に制御される。例えば、Ｌｉ_２Ｏの量が増えると、液相線粘度が低下し、したがって一部の成形方法が使用できなくなる場合がある；しかしながら、このようなガラス組成物は、本明細書に記載されるように、より深いＤＯＣレベルまでイオン交換される。Ｎａ_２Ｏの量によって液相線粘度を修正することができるが、より深いＤＯＣレベルへのイオン交換を阻害する可能性がある。

１つ以上の実施形態では、ガラス基板１０の組成物は、Ｋ_２Ｏを、約５モル％未満、約４モル％未満、約３モル％未満、約２モル％未満、又は約１モル％未満の量で含みうる。１つ以上の代替的な実施形態では、ガラス組成物は、本明細書で規定されるように、Ｋ_２Ｏを実質的に含まない場合がある。

１つ以上の実施形態では、ガラス基板１０の組成物は、Ｌｉ_２Ｏを、約０モル％～約１８モル％、約０モル％～約１５モル％又は約０モル％～約１０モル％、約０モル％～約８モル％、約０モル％～約６モル％、約０モル％～約４モル％又は約０モル％～約２モル％の量で含みうる。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、Ｌｉ_２Ｏを、約２モル％～約１０モル％、約４モル％～約１０モル％、約６モル％～約１０モル％、又は約５モル％～約８モル％の量で含みうる。１つ以上の代替的な実施形態では、ガラス組成物は、本明細書で規定されるように、Ｌｉ_２Ｏを実質的に含まない場合がある。

１つ以上の実施形態では、ガラス組成物はＦｅ_２Ｏ_３を含みうる。このような実施形態では、Ｆｅ_２Ｏ_３は、約１モル％未満、約０．９モル％未満、約０．８モル％未満、約０．７モル％未満、約０．６モル％未満、約０．５モル％未満、約０．４モル％未満、約０．３モル％未満、約０．２モル％未満、約０．１モル％未満の量、並びにそれらの間のすべての範囲及び部分範囲の量で存在しうる。１つ以上の代替的な実施形態では、ガラス組成物は、本明細書で規定されるように、Ｆｅ_２Ｏ_３を実質的に含まない場合がある。

１つ以上の実施形態では、ガラス組成物はＺｒＯ_２を含みうる。このような実施形態では、ＺｒＯ_２は、約１モル％未満、約０．９モル％未満、約０．８モル％未満、約０．７モル％未満、約０．６モル％未満、約０．５モル％未満、約０．４モル％未満、約０．３モル％未満、約０．２モル％未満、約０．１モル％未満の量、並びにそれらの間のすべての範囲及び部分範囲の量で存在しうる。１つ以上の代替的な実施形態では、ガラス組成物は、本明細書で規定されるように、ＺｒＯ_２を実質的に含まない場合がある。

１つ以上の実施形態では、ガラス組成物は、Ｐ_２Ｏ_５を、約０モル％～約１０モル％、約０モル％～約８モル％、約０モル％～約６モル％、約０モル％～約４モル％、約０．１モル％～約１０モル％、約０．１モル％～約８モル％、約４モル％～約８モル％、又は約５モル％～約８モル％の範囲で含みうる。幾つかの事例では、ガラス組成物はＰ_２Ｏ_５を実質的に含まないことがある。

１つ以上の実施形態では、ガラス組成物はＴｉＯ_２を含みうる。このような実施形態では、ＴｉＯ_２は、約６モル％未満、約４モル％未満、約２モル％未満、又は約１モル％未満の量で存在しうる。１つ以上の代替的な実施形態では、ガラス組成物は、本明細書で規定されるように、ＴｉＯ_２を実質的に含まない場合がある。幾つかの実施形態では、ＴｉＯ_２は、約０．１モル％～約６モル％、又は約０．１モル％～約４モル％の範囲の量で存在する。幾つかの実施形態では、ガラスは、ＴｉＯ_２を実質的に含まないことがある。

幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、さまざまな組成関係を含みうる。例えば、ガラス組成物は、約０．５～約１の範囲のＬｉ_２Ｏの量（モル％）のＲ_２Ｏの総量（モル％）に対する比を含みうる。幾つかの実施形態では、ガラス組成物は、約－５～約０の範囲のＲ_２Ｏの総量（モル％）のＡｌ_２Ｏ_３の量（モル％）に対する差を含みうる。幾つかの事例では、ガラス組成物は、約０～約３の範囲のＲ_ｘＯの総量（モル％）とＡｌ_２Ｏ_３の量との差を含みうる。１つ以上の実施形態のガラス組成物は、約０～約２の範囲のＭｇＯの量（モル％）のＲＯの総量（モル％）に対する比を示しうる。

幾つかの実施形態では、ガラス基板１０に用いられる組成物は、Ｎａ_２ＳＯ_４、ＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＢｒ、Ｋ_２ＳＯ_４、ＫＣｌ、ＫＦ、ＫＢｒ、及びＳｎＯ_２を含む群から選択される、０～２モル％の少なくとも１つの清澄剤でバッチ化されていてもよい。１つ以上の実施形態によるガラス組成物はさらに、約０～約２、約０～約１、約０．１～約２、約０．１～約１、又は約１～約２の範囲のＳｎＯ_２を含みうる。本明細書に開示されるガラス組成物は、Ａｓ_２Ｏ_３及び／又はＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含まないことがある。

１つ以上の実施形態では、組成物は、具体的には、６２モル％～７５モル％のＳｉＯ_２；１０．５モル％～約１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３；５モル％～約１３モル％のＬｉ_２Ｏ；０モル％～約４モル％のＺｎＯ；０モル％～約８モル％のＭｇＯ；２モル％～約５モル％のＴｉＯ_２；０モル％～約４モル％のＢ_２Ｏ_３；０モル％～約５モル％のＮａ_２Ｏ；０モル％～約４モル％のＫ_２Ｏ；０モル％～約２モル％のＺｒＯ_２；０モル％～約７モル％のＰ_２Ｏ_５；０モル％～約０．３モル％のＦｅ_２Ｏ_３；０モル％～約２モル％のＭｎＯｘ；及び、０．０５モル％～約０．２モル％のＳｎＯ_２を含みうる。

１つ以上の実施形態では、組成物は、６７モル％～約７４モル％のＳｉＯ_２；１１モル％～約１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３；５．５モル％～約９モル％のＬｉ_２Ｏ；０．５モル％～約２モル％のＺｎＯ；２モル％～約４．５モル％のＭｇＯ；３モル％～約４．５モル％のＴｉＯ_２；０モル％～約２．２モル％のＢ_２Ｏ_３；０モル％～約１モル％のＮａ_２Ｏ；０モル％～約１モル％のＫ_２Ｏ；０モル％～約１モル％のＺｒＯ_２；０モル％～約４モル％のＰ_２Ｏ_５；０モル％～約０．１モル％のＦｅ_２Ｏ_３；０モル％～約１．５モル％のＭｎＯｘ；及び、０．０８モル％～約０．１６モル％ＳｎＯ_２を含みうる。

１つ以上の実施形態では、組成物は、７０モル％～７５モル％のＳｉＯ_２；１０モル％～約１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３；５モル％～約１３モル％のＬｉ_２Ｏ；０モル％～約４モル％のＺｎＯ；０．１モル％～約８モル％のＭｇＯ；０モル％～約５モル％のＴｉＯ_２；０．１モル％～約４モル％のＢ_２Ｏ_３；０．１モル％～約５モル％のＮａ_２Ｏ；０モル％～約４モル％のＫ_２Ｏ；０モル％～約２モル％のＺｒＯ_２；０モル％～約７モル％のＰ_２Ｏ_５；０モル％～約０．３モル％のＦｅ_２Ｏ_３；０モル％～約２モル％のＭｎＯｘ；及び、０．０５モル％～約０．２モル％のＳｎＯ_２を含みうる。

１つ以上の実施形態では、組成物は、５２モル％～約６３モル％のＳｉＯ_２；１１モル％～約１５モル％のＡｌ_２Ｏ_３；５．５モル％～約９モル％のＬｉ_２Ｏ；０．５モル％～約２モル％のＺｎＯ；２モル％～約４．５モル％のＭｇＯ；３モル％～約４．５モル％のＴｉＯ_２；０モル％～約２．２モル％のＢ_２Ｏ_３；０モル％～約１モル％のＮａ_２Ｏ；０モル％～約１モル％のＫ_２Ｏ；０モル％～約１モル％のＺｒＯ_２；０モル％～約４モル％のＰ_２Ｏ_５；０モル％～約０．１モル％のＦｅ_２Ｏ_３；０モル％～約１．５モル％のＭｎＯｘ；及び、０．０８モル％～約０．１６モル％のＳｎＯ_２を含みうる。

幾つかの実施形態では、組成物は、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｋ_２Ｏ、及びＺｒＯ_２のいずれか１つ以上を実質的に含まないことがある。

１つ以上の実施形態では、組成物は、少なくとも０．５モル％のＰ_２Ｏ_５、Ｎａ_２Ｏ、及び、任意選択的にＬｉ_２Ｏを含んでよく、ここで、Ｌｉ_２Ｏ（モル％）／Ｎａ_２Ｏ（モル％）＜１である。加えて、これらの組成物は、Ｂ_２Ｏ_３及びＫ_２Ｏを実質的に含まないことがある。幾つかの実施形態では、組成物は、ＺｎＯ、ＭｇＯ、及びＳｎＯ_２を含みうる。

幾つかの実施形態では、組成物は、約５８モル％～約６５モル％のＳｉＯ_２；約１１モル％～約１９モル％のＡｌ_２Ｏ_３；約０．５モル％～約３モル％のＰ_２Ｏ_５；約６モル％～約１８モル％のＮａ_２Ｏ；０モル％～約６モル％のＭｇＯ；及び、０モル％～約６モル％のＺｎＯを含みうる。ある特定の実施形態では、組成物は、約６３モル％～約６５モル％のＳｉＯ_２；約１１モル％～約１７モル％のＡｌ_２Ｏ_３；約１モル％～約３モル％のＰ_２Ｏ_５；約９モル％～約２０モル％のＮａ_２Ｏ；０モル％～約６モル％のＭｇＯ；及び、０モル％～約６モル％のＺｎＯを含みうる。

幾つかの実施形態では、組成物は次の組成関係を含みうる：Ｒ_２Ｏ（モル％）／Ａｌ_２Ｏ_３（モル％）＜２、ここで、Ｒ_２Ｏ＝Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏである。幾つかの実施形態では、６５モル％＜ＳｉＯ_２（モル％）＋Ｐ_２Ｏ_５（モル％）＜６７モル％である。ある特定の実施形態では、Ｒ_２Ｏ（モル％）＋Ｒ’Ｏ（モル％）－Ａｌ_２Ｏ_３（モル％）＋Ｐ_２Ｏ_５（モル％）＞－３モル％であり、ここで、Ｒ_２Ｏ＝Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏであり、Ｒ’Ｏは組成物中に存在する二価金属酸化物の総量である。

実施形態によれば、ガラス基板１０の組成は、下記表１に概説されるいずれかの組成（Ａ、Ｂ、及びＣ）によって与えられうる。

再び図１を参照すると、ガラス基板１０は、選択された厚さｔも有しうる。幾つかの実施形態では、基板は、約０．０３ｍｍ～約２ｍｍ、約０．１ｍｍ～約１ｍｍ、又は約０．１ｍｍ～約０．８ｍｍの厚さｔを有する。他の実施形態では、基板は、約０．１ｍｍ～約１．５ｍｍ、約０．１ｍｍ～約１．３ｍｍ、又は約０．１ｍｍ～約１．０ｍｍの厚さｔを有する。１つ以上の実施形態では、ガラス基板１０の厚さｔは、約２ｍｍ以下、約１．５ｍｍ以下、約１．１ｍｍ以下、又は１ｍｍ以下でありうる（例えば、約０．０３ｍｍ～約１．５ｍｍ、約０．１ｍｍ～約１．５ｍｍ、約０．２ｍｍ～約１．５ｍｍ、約０．３ｍｍ～約１．５ｍｍ、約０．４ｍｍ～約１．５ｍｍ、約０．０１ｍｍ～約１．１ｍｍの範囲、約０．１ｍｍ～約１．１ｍｍ、約０．２ｍｍ～約１．１ｍｍ、約０．３ｍｍ～約１．１ｍｍ、約０．４ｍｍ～約１．１ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約１．４ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約１．２ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約０．１ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約１ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約０．９ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約０．８ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約０．７ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約０．６ｍｍ、約０．０３ｍｍ～約０．５ｍｍ、約０．１ｍｍ～約０．５ｍｍ、又は約０．３ｍｍ～約０．５ｍｍの範囲）。

再び図１を参照すると、予め破砕されたガラス複合体１００の実施形態では、ガラス基板１０の圧縮応力領域５０は、主面１２、１４の一方又は両方から選択された深さ５２まで延びうる。このように、圧縮応力領域５０は、縁部の近くを含めて、基板１０内の１つ以上の場所に存在しうる。図１に例示的な形態で示されるように、圧縮応力領域５０は、基板１０の主面１２、１４の各々から第１の選択された深さ５２まで延びうる。

予め破砕されたガラス複合体１００の幾つかの実装形態では、圧縮応力領域５０及び選択された深さ５２は、イオン交換又は熱焼戻しプロセスによって画成される。本明細書で用いられる場合、「選択された深さ」（例えば、選択された深さ５２）、「層の深さ」、及び「ＤＯＣ」は、イオン交換又は熱焼戻しによって強化されたガラス基板の応力が圧縮から引張に変化する深さを規定するために、交換可能に用いられる。ＤＯＣは、イオン交換又は熱焼戻し処理に応じて、ＦＳＭ－６０００又は散乱光偏光器（ＳＣＡＬＰ）などの表面応力計によって測定することができる。予め破砕されたガラス複合体１００（又は、図２Ａ～図４に示される積層体２００ａ～４００）の応力が熱焼戻しプロセスによって又はカリウムイオンをガラス基板１０内へと交換することによって生成される場合には、表面応力計を使用してＤＯＣを測定することができる。応力がナトリウムイオンをガラス物品内へと交換することによって生成される場合には、ＳＣＡＬＰを使用してＤＯＣを測定することができる。複合体１００（又は、図２Ａ～図４に示される積層体２００ａ～４００）の応力がカリウムイオンとナトリウムイオンの両方をガラス内へと交換することによって生成される場合には、ナトリウムの交換深さはＤＯＣを示し、カリウムイオンの交換深さは、圧縮応力の規模の変化（ただし、圧縮から引張への応力変化ではない）を示すと考えられていることから、ＤＯＣはＳＣＡＬＰによって測定される；このようなガラス物品中のカリウムイオンの交換深さは、表面応力計によって測定される。また、本明細書で使用される「最大圧縮応力」は、基板１０の圧縮応力領域５０内の最大圧縮応力として定義される。幾つかの実施形態では、最大圧縮応力（ＣＳ）は、圧縮応力領域５０を画成する１つ以上の主面１２、１４又はその近くで得られる。他の実施形態では、最大ＣＳは、１つ以上の主面１２、１４と圧縮応力領域５０の選択された深さ５２との間で得られる。当技術分野で通常使用される慣例によれば、圧縮は負（＜０）の応力として表され、張力は正（＞０）の応力として表される。しかしながら、本明細書全体を通して、ＣＳは正の値又は絶対値として表される（すなわち、本明細書に記載されているように、ＣＳ＝｜ＣＳ｜である）。

折原製作所（日本所在）製造のＦＳＭ－６０００などの表面応力計によって表面ＣＳを測定する場合、このような測定は、ガラスの複屈折に関連する応力光学係数（ＳＯＣ）の正確な測定に依拠している。ＳＯＣは、その内容全体がここに参照することによって本明細書に組み込まれる、「ガラス応力－光学係数の測定のための標準試験方法（Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient）」と題されたＡＳＴＭ規格Ｃ７７０－１６に記載される手順Ｃ（ガラスディスク法）に準拠して測定される。

熱焼戻ししたガラス基板１０に関しては、基板１０に存在する傷の伝播を防止するために熱焼戻しプロセスを使用することができる。幾つかの実施形態では、熱焼戻ししたガラス基板１０の圧縮応力領域５０の選択された深さ５２は、最大で、基板の厚さ全体の約２１％まででありうる。幾つかの実施形態では、熱焼戻しプロセスによって形成された圧縮応力領域５０を含むガラス基板１０は、少なくともある特定の厚さ（例えば、約３ｍｍ以上の厚さ）を有することが必要とされる。この最小厚さは、基板１０のコアとその主面１２、１４との間の十分な熱勾配の発生を通じて所望の残留応力を達成するために必要でありうる。

予め破砕されたガラス複合体１００の幾つかの実装形態では、図１に例示的な形態で示されるように、ガラス基板１０は、化学的に強化されたアルミノケイ酸塩ガラスから選択される。他の実施形態では、基板１０は、１５０ＭＰａを超える最大圧縮応力で、１０μｍを超える第１の選択された深さ５２まで延びる圧縮応力領域５０を有する化学強化されたアルミノケイ酸塩ガラスから選択される。さらなる実施形態では、基板１０は、４００ＭＰａを超える最大圧縮応力で、２５μｍを超える第１の選択された深さ５２まで延びる圧縮応力領域５０を有する化学強化されたアルミノケイ酸塩ガラスから選択される。

前述のとおり、予め破砕されたガラス複合体１００のガラス基板１０はまた、１つ以上の主面１２、１４から（一又は複数の）選択された深さ５２まで延びる１つ以上の圧縮応力領域５０を含みうる。幾つかの態様では、圧縮応力領域５０は、約１５０ＭＰａ超、２００ＭＰａ超、２５０ＭＰａ超、３００ＭＰａ超、３５０ＭＰａ、４００ＭＰａ超、４５０ＭＰａ超、５００ＭＰａ超、５５０ＭＰａ超、６００ＭＰａ超、６５０ＭＰａ超、７００ＭＰａ超、７５０ＭＰａ超、８００ＭＰａ超、８５０ＭＰａ超、９００ＭＰａ超、９５０ＭＰａ超、１０００ＭＰａ超の最大圧縮応力、並びに最大で約１２００ＭＰａまでのこれらの値の間のすべての最大圧縮応力レベルを有する。加えて、圧縮深さ（ＤＯＣ）又は第１の選択された深さ５２は、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上、２５μｍ以上、３０μｍ以上、３５μｍ以上、及びさらに大きい深さに設定することができ、基板１０の厚さ及び圧縮応力領域５０の生成に関連する処理条件に応じて決まる。幾つかの実施形態によれば、図１に示される予め破砕されたガラス複合体１００のガラス基板１０は、約２ｍｍ未満（例えば、約１．５ｍｍ以下、約１ｍｍ以下、又は約０．８ｍｍ以下～約０．０３ｍｍ）の厚さｔを示すことができ、圧縮応力領域５０は、１つ以上の主面１２、１４から選択された深さ５２（又はＤＯＣ）まで、約０．１ｔ以上延びる。

実施形態では、ＣＴ領域６０は、ガラス基板１０内に主面１２、１４からある程度の距離をおいて配置される。図１に例示的な形態で示されるように、ＣＴ領域６０は、圧縮応力領域５０に隣接する（すなわち、両方の主面１２、１４から延びる）基板の中央部分に位置している。本明細書でも使用されるように、「中央張力」又は「ＣＴ」は、基板１０の中央張力領域６０内の中央張力（すなわち引張応力）の最大の大きさとして定義される。ＣＴ値は、ＳＣＡＬＰ（例えば、エストニア国タリン所在のＧｌａｓｓｔｒｅｓｓ Ｌｔｄ．からモデル番号ＳＣＡＬＰ－０４で供給される）及び当該技術分野で既知の技術を使用することによって測定される。ＣＴ領域６０に関連したＣＴ値は、約２５ＭＰａ以上、約５０ＭＰａ以上、約７５ＭＰａ以上、約８５ＭＰａ以上、約１００ＭＰａ以上、約１５０ＭＰａ以上、約２００ＭＰａ以上、約２５０ＭＰａ以上、又は約３００ＭＰａ以上でありうる。幾つかの実施形態では、ＣＴ領域６０に関連したＣＴ値は、約５０ＭＰａ～約４００ＭＰａ、（例えば、約７５ＭＰａ～約４００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約４００ＭＰａ、約１５０ＭＰａ～約４００ＭＰａ、約５０ＭＰａ～約３５０ＭＰａ、約５０ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約５０ＭＰａ～約２５０ＭＰａ、約５０ＭＰａ～約２００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約４００ＭＰａ、約１００ＭＰａ～約３００ＭＰａ、約１５０ＭＰａ～約２５０ＭＰａ）の範囲でありうる。本明細書で用いられる場合、ＣＴはガラス物品の中央張力の最大の大きさである。

前述のとおり、本明細書に記載される予め破砕されたガラス複合体１００は、イオン交換プロセスによって化学的に強化されてもよい。このプロセスでは、ガラス基板１０の表面（例えば、主面１２、１４）又はその近くのイオンは、同じ原子価又は酸化状態を有する、より大きなイオンで置き換えられるか、又はそれらと交換される。ガラス基板１０がアルカリアルミノケイ酸塩ガラスを含む実施形態では、ガラスの表面層内のイオン及びより大きいイオンは、Ｌｉ^＋（ガラス物品中に存在する場合）、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｒｂ^＋、及びＣｓ^＋などの一価のアルカリ金属カチオンである。あるいは、表面層内の一価のカチオンを、アルカリ金属カチオン以外の一価のカチオン、例えばＡｇ^＋などで置き換えてもよい。

イオン交換プロセスは、典型的には、ガラス基板１０中のより小さいイオンと交換される、より大きいイオンを含有する１つの溶融塩浴（若しくは２つ以上の溶融塩浴）中に、予め破砕されたガラス複合体１００のガラス基板１０を浸漬することによって行われる。水性塩浴も利用することができることに留意すべきである。加えて、浴の組成は、２種類以上のより大きいイオン（例えば、Ｎａ^＋及びＫ^＋）又は単一のより大きいイオンを含みうる。浴組成及び温度、浸漬時間、（一又は複数の）塩浴へのガラス物品の浸漬回数、複数の塩浴の使用、アニーリング、洗浄などの追加の工程などを含むが、それらに限定されない、イオン交換プロセスのためのパラメータは、一般に、ガラス基板１０の組成（ガラス基板１０の構造及び存在する任意の結晶相を含む）、並びに強化作業によって得られるガラス基板１０の所望のＤＯＣ及びＣＳによって決定されることが当業者にとって認識されるであろう。例として、ガラス基板１０のイオン交換は、ガラス基板１０を、限定はしないが、より大きいアルカリ金属イオンの硝酸塩、硫酸塩、及び塩化物などの塩を含む、少なくとも１つの溶融浴に浸漬することによって達成することができる。典型的な硝酸塩には、ＫＮＯ_３、ＮａＮＯ_３、ＬｉＮＯ_３、ＮａＳＯ_４、及びそれらの組合せが含まれる。溶融塩浴の温度は、典型的には、約３８０℃から最高で約４５０℃の範囲であり、一方、浸漬時間は、ガラスの厚さ、浴温、及びガラスの拡散性に応じて、約１５分間から最長約１００時間の範囲である。しかしながら、上述のものとは異なる温度及び浸漬時間も使用することができる。

１つ以上の実施形態では、予め破砕されたガラス複合体１００のガラス基板１０は、約３７０℃～約４８０℃の温度を有する１００％ＮａＮＯ_３の溶融塩浴中に浸漬されうる。幾つかの実施形態では、ガラス基板１０は、約５％～約９０％のＫＮＯ_３及び約１０％～約９５％のＮａＮＯ_３を含む溶融混合塩浴中に浸漬されうる。幾つかの実施形態では、ガラス基板１０は、Ｎａ_２ＳＯ_４及びＮａＮＯ_３を含む溶融混合塩浴中に浸漬されてよく、より広い温度範囲を有する（例えば、最高約５００℃まで）。１つ以上の実施形態では、ガラス基板１０は、第１の浴に浸漬させた後に、第２の浴に浸漬させてもよい。第２の浴への浸漬は、１００％ＫＮＯ_３を含む溶融塩浴中に１５分間～８時間浸漬させることを含みうる。

イオン交換条件は、ガラス基板１０のガラス組成及び厚さに基づいて修正することができる。例えば、特定の組成及び０．４ｍｍの厚さを有するガラス基板１０は、約４６０℃の温度を有する８０～１００％のＫＮＯ_３（残りはＮａＮＯ_３）の溶融塩浴中に約１０時間～約２０時間の間、浸漬されうる。約０．５５ｍｍの厚さを有する同じ基板は、約４６０℃の温度を有する７０～１００％のＫＮＯ_３（残りはＮａＮＯ_３）の溶融塩浴中に約２０時間～約４０時間の間、浸漬されうる。約０．８ｍｍの厚さを有する同じ基板は、約４６０℃の温度を有する６０～１００％のＫＮＯ_３（残りはＮａＮＯ_３）の溶融塩浴中に約４０時間～約８０時間の間、浸漬されてもよい。１つ以上の実施形態では、ガラス基板１０は、約４２０℃未満（例えば、約４００℃又は約３８０℃）の温度を有する、ＮａＮＯ_３及びＫＮＯ_３（例えば、４９％／５１％、５０％／５０％、５１％／４９％）を含む溶融混合塩浴に、約５時間未満、さらには約４時間以下の時間、浸漬することができる。

イオン交換条件は、「スパイク」を提供するように、又は得られるガラス基板１０の表面（例えば、主面１２、１４）又はその近くの応力プロファイルの勾配を増加させるように、調整することができる。このスパイクは、本明細書に記載のガラスをベースとした物品に用いられるガラス組成物の独特の性質に起因して、単一組成又は混合組成を有する、単一の浴若しくは複数の浴によって達成することができる。

図１の例示的な形態に示される予め破砕されたガラス複合体１００を再び参照すると、複数の亀裂７２は、厚さ６２にわたる、ガラス基板１０のＣＴ領域６０内に位置している。ガラス複合体１００の幾つかの実施形態では、ＣＴ領域６０の複数の亀裂７２に加えて、追加的な亀裂は、ＣＴ領域６０とガラス基板１０の主面１２、１４の各々との間に存在しうる。したがって、ガラス基板１０の亀裂全体の過半数（＞５０％）は、ＣＴ領域６０に位置し、主面１２、１４には延びていない複数の亀裂７２として分類することができる。幾つかの実装形態では、ガラス基板１０は、シャワーパネル又は自動車用窓パネルに用いられる完全に熱焼戻ししたガラスに類似したダイシング効果を伴う、密な破砕パターンを示す複数の亀裂７２を含む。幾つかの実施形態では、複数の亀裂７２は、（例えば、それらが基板１０及びそれらの内部に樹脂を含む第２の相７０から分離したと仮定して）人間を傷つけることが少ないであろう断片を画成する。例えば、「ダイシング」効果で断片を画成する複数の亀裂７２を有するガラス基板１０の実施形態では、「ダイシング」された断片はアスペクト比が小さく、破砕生成表面と形成されたままの表面はより大きい角度を形成し（すなわち、刃状又はナイフ状の角度が少ない）、断片は破片よりも立方体に似ている。

ガラス基板１０の幾つかの実施形態では、複数の亀裂７２によって形成されたダイシングされた断片は、ガラス物品の主平面の任意の方向において２ミリメートル（ｍｍ）以下の最大又は最長寸法に制限される。幾つかの事例では、破砕時又はガラス物品が破砕されて予め破砕されたガラス基板になった後に、ガラス基板１０は、約３０以下、約２０以下、約１５以下、約１０以下、又は約５以下（例えば、約４．５以下、約４以下、約３．５以下、約３以下、約２．５以下、約２以下）の平均アスペクト比を有する複数の断片を画成する複数の亀裂７２を含む。幾つかの実施形態では、複数の亀裂７２によって形成される複数の断片の平均アスペクト比は、約１～約２の範囲である。幾つかの事例では、複数の亀裂７２によって画成される複数の断片の約９０％以上、又は約８０％以上が、本明細書に記載される平均アスペクト比を示す。また、他の実施形態では、複数の亀裂７２は、ガラス基板１０の厚さの１０倍未満の平均断片サイズを含む。他の実施形態では、複数の亀裂７２は、ガラス基板１０の厚さの９倍未満、８倍未満、７倍未満、６倍未満、５倍未満、４倍未満、３倍未満、２倍未満、１．５倍未満、又は１倍未満の平均断片サイズを含む。本明細書で用いられる場合、複数の亀裂７２に関連した「平均アスペクト比」という用語は、断片の試料サイズの最短又は最小寸法に対する一の断片の最長又は最大寸法の比の平均を指し、各断片は複数の亀裂７２によって画成されるか又は他の方法で複数の亀裂７２によって形成される。「寸法」という用語は、長さ、幅、対角線、又は厚さを含みうる。さらには、本明細書で用いられる場合、複数の亀裂７２に関連した「平均断片サイズ」という用語は、断片の試料サイズのうちの一の断片の最長又は最大寸法の平均を指し、各断片は複数の亀裂７２によって画成されるか又は他の方法で複数の亀裂７２によって形成される。

図１に例示的な形態で示される予め破砕されたガラス複合体１００を再度参照すると、複合体はまた、複数の亀裂７２内、通常は亀裂７２によって（例えば、１つ以上の亀裂間の空間内に）生成されたボイド内に存在する、ポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相７０も含む。したがって、断片を形成又は他の方法で画成するという意味で前に説明したガラス基板１０内の複数の亀裂７２は、緩んだり、他の方法で複合体１００から容易に分離されたりするような断片を形成しない。すなわち、第２の相７０は、複数の亀裂７２内に位置し、したがって、亀裂７２によって形成された断片は、第２の相７０によって所定の位置に保持される。幾つかの実施形態では、複数の亀裂７２のかなりの部分にはエアポケットがなく、ポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相７０で満たされている。

予め破砕されたガラス複合体１００の幾つかの実装形態によれば、第２の相７０は、本開示の分野の当業者によって理解されるプロセス（例えば、熱エネルギー、紫外光など）を通じて硬化された硬化性樹脂に由来する、硬化した樹脂を含む。硬化した樹脂は、熱硬化性ポリマー、エポキシ、ポリエステル樹脂、及びビニルエステル材料のうちの１つ以上を含みうる。幾つかの実施形態では、第２の相７０は、熱可塑性材料を含む。別の実施形態によれば、第２の相７０は、Ｕｌｔｒａ Ｂｏｎｄ，Ｉｎｃ．社から得られる２０ｃｐｓ～２４００ｃｐｓの粘度を有するフロントガラス修理用樹脂などの硬化性樹脂を含む。好ましい実施形態では、第２の相７０は、Ｕｌｔｒａ Ｂｏｎｄ，Ｉｎｃ．社から得られる２０ｃｐｓの粘度を有するフロントガラス修理用樹脂などの硬化性樹脂を含む。さらには、第２の相７０は、幾つかの実装形態では、硬化した樹脂に加えて、又はその代替として、ポリマー、例えば熱可塑性及び／又は熱硬化性ポリマー材料を含むことができる。

予め破砕されたガラス複合体１００の幾つかの実装形態では、第２の相７０は、充填エポキシ又は未充填エポキシを含む。充填エポキシの例としては、７０．６９質量％のＮａｎｏｐｏｘ Ｃ６２０コロイダルシリカゾル（脂環式エポキシ樹脂中、４０％のシリカナノ粒子）、２３．５６質量％のＮａｎｏｐｏｘ Ｃ６８０（３－エチル－３－ヒドロキシメチル－オキセタン中、５０質量％のシリカナノ粒子）、３質量％のＣｏａｔｏｓｉｌ ＭＰ－２００エポキシ官能性シラン（接着促進剤）、２．５質量％のＣｙｒａｃｒｉｌ ＵＶＩ－６９７６（カチオン性光開始剤、炭酸プロピレン中、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩を含む）、０．２５質量％のＴｉｎｕｖｉｎｅ２９２アミン安定剤（セバシン酸ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジニル）及びデカン二酸１－（メチル）－８－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジニル））の重合生成物から得られるＵＶ誘発性の触媒エポキシが挙げられる。未充填エポキシ材料の例は、４８質量％のＳｙｎａｓｉａ Ｓ０６Ｅ脂環式エポキシ、４８質量％のＳｙｎａｓｉａ Ｓ－１０１（３－エチル－３－オキセタンメタノール）、１質量％のＵＶＩ－６９７６（カチオン性光開始剤）、及び３質量％のＳｉｌｑｕｅｓｔ Ａ－１８６（エポキシ官能化シラン）を含む。

予め破砕されたガラス複合体１００の幾つかの実施形態では、第２の相７０は、ガラス基板１０の屈折率に一致するように選択された組成を有するポリマー及び／又は硬化した樹脂である。幾つかの実施形態によれば、第２の相７０のポリマー及び／又は硬化した樹脂は、ガラス基板１０の屈折率の約２０％以内、約１５％以内、約１０％以内、又は約５％以内の屈折率を特徴とする。

再び図１を参照すると、予め破砕されたガラス複合体１００は耐衝撃性のために構成される。実施形態では、複合体１００は、１１０°ダイヤモンド動的衝撃試験で破損する前に（すなわち、少なくとも１０個の試料の一連の試験から判断して（Ｎ≧１０））、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度によって特徴づけることができる。他の実装形態では、複合体１００は、１１０°ダイヤモンド動的衝撃試験で破損する前に（すなわち、少なくとも１０個の試料の一連の試験から判断して（Ｎ≧１０））、４５０ｍｍ／秒超、５００ｍｍ／秒超、５５０ｍｍ／秒超、６００ｍｍ／秒超、６５０ｍｍ／秒超、さらには７００ｍｍ／秒超の平均衝撃速度によって特徴づけることができる。

次に図２Ａを参照すると、ガラス組成物を含む基板１０を備えた、予め破砕されたガラス積層体２００ａが示されている。換言すれば、基板１０は、その中に１つ以上のガラス材料を含みうる。基板１０はまた、一対の対向する主面１２、１４も含む。基板１０は、圧縮応力領域５０、中央張力（ＣＴ）領域６０、及び複数の亀裂７２をさらに含む。実施形態では、複数の亀裂７２は、厚さ６２にわたるＣＴ領域６０内に位置している（図１参照）。図２Ａにも示されているように、積層体２００ａは、複数の亀裂７２内に硬化した樹脂を含む第２の相７０をさらに含む。図２Ａ及び前述からも明らかなように、積層体２００ａは、図１に示され、本明細書において前に概説されたように、予め破砕されたガラス複合体１００を含む。複合体１００は、図１で先に示したものと同じであり、同様の参照番号の要素は、同じ又は実質的に同様の構造及び機能を有することが理解されるべきである。

再び図２Ａを参照すると、予め破砕されたガラス積層体２００ａはまた、バッキング層１２０ａ及び中間膜１１０も備えている。さらには、中間膜１１０が、ガラス基板１０（すなわち、予め破砕されたガラス複合体１００）の主面１２、１４の一方とバッキング層１２０ａとの間に配置される。図２Ａに例示的な形態で示されるように、バッキング層１２０ａは、ガラス基板１０の厚さと実質的に等しい厚さを有する。

図２Ａに示される予め破砕されたガラス積層体２００ａの実施形態によれば、バッキング層１２０ａは、ポリマー、焼戻しガラス、非焼戻しガラス、ディスプレイユニット又はアセンブリなどを含むがこれらに限定されない、１つ以上の比較的硬い材料を含む。幾つかの実装形態では、バッキング層１２０ａは、ポリマー、ガラス、ガラスセラミック、又はセラミック材料を含みうる。幾つかの実施形態では、バッキング層１２０ａは、中間膜１１０の弾性率よりも少なくとも５％、少なくとも１０％、少なくとも１５％、少なくとも２０％、少なくとも２５％、又は少なくとも３０％大きい弾性率によって特徴付けることができる。好ましい実施形態では、予め破砕されたガラス積層体２００ａのバッキング層１２０ａは、ガラス基板１０のものと同じ又は同様の組成を有しているが、複数の亀裂７２及び第２の相７０は有していない。

図２Ａをさらに参照すると、予め破砕されたガラス積層体２００ａの中間膜１１０は、例えば硬化した樹脂又はポリマーなど、第２の相７０と同じ又は実質的に同様の組成を含みうる。他の実装形態では、中間膜１１０は、（例えば、第２の相７０に関連して先に概説したような）充填エポキシ、（例えば、第２の相７０に関連して先に概説したような）未充填エポキシ、充填ウレタン、又は未充填ウレタンのうちの１つ以上を含みうる。中間膜１１０の幾つかの実施形態では、中間膜は、低弾性率のウレタンアクリレートを含みうる。幾つかの実施形態では、この材料は、シリカ充填物を含みうる。低弾性率ウレタンアクリレートの例は、３１．５質量％のＤｏｕｂｌｅｍｅｒ５５４（脂肪族ウレタンジアクリレート樹脂）、１．５質量％のＧｅｎｏｍｅｒ ４１８８／Ｍ２２（単官能ウレタンアクリレート）、２０質量％のＮＫ Ｅｓｔｅｒ Ａ－ＳＡ（β－アクリロイルオキシエチル＝水素＝スクシナート）、１０質量％のＳａｒｔｏｍｅｒ ＳＲ３３９ ２（フェノキシエチルアクリレート）、４質量％のＩｒｇａｃｕｒｅ ２０２２（光開始剤、アシルホスフィンオキシド／アルファヒドロキシケトン）、３質量％の接着促進剤（例えば、Ｓｉｌｑｕｅｓｔ Ａ－１８９、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン）を含む。充填ウレタンを形成するために、４質量％のシリカ粉末（Ｈｉ Ｓｉｌ ２３３など）を追加してもよい。

次に図２Ｂを参照すると、図２Ａに示される予め破砕されたガラス積層体２００ａと実質的に同様の、予め破砕されたガラス積層体２００ｂが示されている。主な違いは、予め破砕されたガラス積層体２００ｂが、ガラス基板１０の厚さとは異なる厚さのバッキング層１２０ｂを使用していることである。このように、予め破砕されたガラス積層体２００ｂは、図２Ａに示される予め破砕されたガラス積層体２００ａの構成と比較して「非対称」の構成を表す。他のすべての点で、積層体２００ａ及び２００ｂは同等であり、同じ又は実質的に同様の構造及び機能を有する要素には同様の参照番号が付されている。好ましい実施形態では、予め破砕されたガラス積層体２００ｂのバッキング層１２０ｂは、そのガラス基板１０のものと同じ又は同様の組成を有しているが、複数の亀裂７２及び第２の相７０は有していない。

次に図３を参照すると、図２Ａに示される予め破砕されたガラス積層体２００ａと実質的に同様の、予め破砕されたガラス積層体３００が示されている。主な違いは、図３の予め破砕されたガラス積層体３００がバッキング層（例えば、バッキング層１２０ａ）のない２層構成のものであり、図２Ａの予め破砕されたガラス積層体２００ａは単層構造のものであることである。本質的に、予め破砕されたガラス積層体３００は、積層体２００ａのバッキング層１２０ａ（図２Ａ参照）を第２の予め破砕されたガラス複合体１００及び中間膜１１０で置き換えて構成されている。したがって、予め破砕されたガラス積層体３００は、厚さ、一対の対向する主面１２ａ、１４ａ、圧縮応力領域５０、中央張力（ＣＴ）領域６０、及び複数の亀裂７０を含む第１のガラス基板１０ａ；厚さ、一対の対向する主面１２ｂ、１４ｂ、圧縮応力領域５０、中央張力（ＣＴ）領域６０、及び複数の亀裂７０を含む第２のガラス基板１０ｂ；複数の亀裂７０内にポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相７２；並びに、第１のガラス基板１０ａと第２のガラス基板１０ｂとの間に配置された中間膜１１０を備えている。図３に例示的な形態で示されるように、圧縮応力領域５０は、主面１２ａ、１２ｂ、１４ａ、１４ｂの各々から基板１０ａ、１０ｂの第１の選択された深さ５２（図示せず）まで延びる。さらには、複数の亀裂７２は、基板１０ａ、１０ｂの各々のＣＴ領域６０に位置している。

再び図３に示される予め破砕されたガラス積層体３００を参照すると、該予め破砕されたガラス積層体３００は、予め破砕された複合体１００の耐衝撃性の態様がその主面のそれぞれに配置されるように構成されている。このように、予め破砕されたガラス積層体３００は、例えば車両の助手席窓、住宅窓などのように、その側面のいずれかに衝撃が発生すると予想される用途に使用することができる。さらには、積層体３００の幾つかの実装形態によれば、予め破砕された複合体１００と中間膜１１０との３つ以上の交互の層がともに積層体３００に積層された、多層構造を採用することができる。このような構成は、弾道及び装甲防護を必要とする軍用車両の窓など、特に高い耐衝撃性を必要とする用途で使用することができる。

予め破砕されたガラス積層体３００（概して図３参照）の好ましい実装形態では、表１の組成Ａと一致する組成を有するガラス基板は、表１の組成Ｂと一致する組成を有する２つのガラス基板の間に（各基板間の中間膜１１０と共に）挟まれている。さらには、この実施形態の各基板の複数の亀裂７２は、２０以下かつ４以上の平均アスペクト比を含む複数の断片を画成する。この構成では、断片は、衝撃エネルギーを吸収し、各基板内の亀裂のたわみを促進するように特にサイズ設定されているため、特に高い耐衝撃性を実現することができる。加えて、事前破砕法（例えば、本開示に後で概説される方法に従って硬化性樹脂に浸漬された基板）は、対称的に配置された基板（例えば、対の最も外側の基板）で同時に実行することができ、このような処理が残りの基板（例えば、最も内側の基板）で実行される前に浸透させることができるため、３つ以上の層を有する予め破砕されたガラス積層体３００は、反りなしで処理するのがより簡単でありうる。

次に図４を参照すると、図２Ａに示される予め破砕されたガラス積層体２００ａと実質的に同様の、予め破砕されたガラス積層体４００が示されている。主な違いは、図４の予め破砕されたガラス積層体４００は、その予め破砕されたガラス複合体１００の間に共通のバッキング層１２０を有する２層構成のものであり、図２Ａの予め破砕されたガラス積層体２００ａは、１つの複合体１００と１つのバッキング層１２０ａとを有する単層構造のものであることである。したがって、予め破砕されたガラス積層体４００は、厚さ、一対の対向する主面１２ａ、１４ａ、圧縮応力領域５０、中央張力（ＣＴ）領域６０、及び複数の亀裂７０を含む第１のガラス基板１０ａ；厚さ、一対の対向する主面１２ｂ、１４ｂ、圧縮応力領域５０、中央張力（ＣＴ）領域６０、及び複数の亀裂７０を含む第２のガラス基板１０ｂ；複数の亀裂７０内にポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相７２；第１の基板１０ａとバッキング層１２０との間に配置された中間膜１１０；並びに、第２の基板１０ｂとバッキング層１２０との間に配置された中間膜１１０を含む。図４に例示的な形態で示されるように、圧縮応力領域５０は、主面１２ａ、１２ｂ、１４ａ、１４ｂの各々から基板１０ａ、１０ｂの第１の選択された深さ５２（図示せず）まで延びる。さらには、複数の亀裂７２は、基板１０ａ、１０ｂの各々のＣＴ領域６０に位置している。

再び図４に示される予め破砕されたガラス積層体４００を参照すると、該予め破砕されたガラス積層体３００は、予め破砕された複合体１００の耐衝撃性の態様がその主面のそれぞれに配置されるように構成されている。このように、予め破砕されたガラス積層体４００は、側面のいずれかで衝撃が発生することが予想され、かつ、例えば、携帯電話で使用される両面ディスプレイ装置、車両の助手席窓内に一体化されたディスプレイ装置などのアセンブリにバッキング層を組み込むことができる用途に使用することができる。さらには、積層体４００の幾つかの実装形態によれば、予め破砕された複合体１００、中間膜１１０、及びバッキング層１２０との３つ以上の交互の層が積層体４００にともに積層された、多層構造を採用することができる。

本明細書に記載される予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００（図１～４参照）は、消費者向け電子製品又はデバイス（例えば、携帯用電子機器及びタッチ可能なディスプレイ用のカバーガラス）などのさまざまな製品及び物品に組み込むことができる。これらの複合体及び積層体はまた、ディスプレイ（又はディスプレイ物品として）（例えば、看板、ＰＯＳシステム、コンピュータ、ナビゲーションシステムなど）、建築用品（壁、固定具、パネル、窓など）、輸送用品（例えば、自動車用途、列車、航空機、船舶など）、電化製品（例えば、洗濯機、乾燥機、食器洗い機、冷蔵庫など）、包装（例えば、医薬品用の包装又は容器）、若しくはある程度の破砕及び／又は耐衝撃性を必要とする物品にも使用することができる。

本明細書に開示される予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００（図１～４参照）はまた、ディスプレイを備えた（一又は複数の）機器用品（例えば、携帯電話、タブレット、コンピュータ、ナビゲーションシステム、ウェアラブルデバイス（例えば、時計）などを含む消費者向け電化製品、）、建築機器用品、輸送機器用品（例えば、自動車、列車、航空機、船舶など）、家電機器用品、又は透明度、耐スクラッチ性、耐摩耗性、又はそれらの組合せから恩恵を受ける機器用品などの機器用品に組み込むこともできる。本明細書に開示される物品のいずれかを組み込む例示的な機器用品（例えば、図１～４に示される複合体１００及び積層体２００ａ～４００と一致するもの）が図５Ａ及び５Ｂに示されている。具体的には、図５Ａ及び５Ｂは、前面５０４、背面５０６、及び側面５０８を有する筐体５０２；筐体内部に少なくとも部分的に、又は筐体内に全体的にあり、少なくともコントローラと、メモリと、筐体の前面にあるか又はそれに隣接するディスプレイ５１０とを含む電気部品（図示せず）；並びに、ディスプレイの上方になるように筐体の前面又はその上にあるカバー基板５１２を含む、消費者向け電子機器５００を示している。幾つかの実施形態では、カバー基板５１２は、本明細書に開示される予め破砕された複合体又は積層体のいずれかを含みうる。幾つかの実施形態では、筐体の一部又はカバーガラスのうちの少なくとも一方は、本明細書に開示される予め破砕された複合体又は積層体を含む。

別の実装形態によれば、予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００は、図６に示されるように、車両内部システムを備えた車両内部に組み込むことができる。より具体的には、複合体１００及び積層体２００ａ～４００（図１～４参照）は、さまざまな車両内部システムと組み合わせて使用することができる。車両内部システム６４４、６４８、６５２の３つの異なる例を含む、車両内部６４０が示されている。車両内部システム６４４は、ディスプレイ６６４を含む表面６６０を備えたセンターコンソールベース６５６を含む。車両内部システム６４８は、ディスプレイ６７６を含む表面６７２を備えたダッシュボードベース６６８を含む。ダッシュボードベース６６８は通常、ディスプレイも含みうる計器パネル６８０を含む。車両内部システム６５２は、表面６８８及びディスプレイ６９２を備えたダッシュボードステアリングホイールベース６８４を含む。１つ以上の例では、車両内部システムは、アームレスト、ピラー、背もたれ、床板、ヘッドレスト、ドアパネル、又は表面を含む車両内部の任意の部分であるベースを備えることができる。本明細書に記載される予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００は、車両内部システム６４４、６４８、及び６５２のそれぞれにおいて互換的に使用することができることが理解されよう。

再び図６を参照すると、ディスプレイ６６４、６７６及び６９２はそれぞれ、前面、背面、及び側面を有する筐体を含みうる。少なくとも１つの電気部品は、少なくとも部分的に筐体内にある。ディスプレイ要素は、筐体の前面又はその近くにある。予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００（図１～４参照）のうちの１つがディスプレイ要素の上に配置される。予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００は、アームレスト、ピラー、背もたれ、床板、ヘッドレスト、ドアパネル、又は先に説明した表面を含む車両の内部の任意の部分上で、又はそれらと共に使用することができることが理解されよう。さまざまな例によれば、ディスプレイ６６４、６７６、及び６９２は、車両視覚ディスプレイシステム又は車両インフォテインメントシステムでありうる。予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００は、自律型車両のさまざまなディスプレイ及び構造要素に組み込むことができ、従来の車両に関連して本明細書に提供される説明は限定的ではないことが理解されよう。

本開示の追加の実装形態では、車両に連結されたフレーム；並びに、フレーム内に位置づけられた、又はフレームによって保持された、予め破砕された積層体（例えば、図２Ａ～図４に示される積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００のいずれか１つ）又は予め破砕された複合体（例えば、図１に示される複合体１００）を含む、車両用窓パネルが提供される（図示せず）。実施形態では、予め破砕された積層体３００（図３参照）は、各基板が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域（例えば、圧縮応力領域５０）、中央張力（ＣＴ）領域（例えば、ＣＴ領域６０）、及び複数の亀裂（例えば、複数の亀裂７２）を含む、第１、第２、及び第３のガラス基板（例えば、基板１０ａ、１０ｂなど）；第１、第２、及び第３のガラス基板の複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相（例えば、第２の相７０）；第１及び第２のガラス基板（例えば、基板１０ａ、１０ｂ）間に配置された第１の中間膜（例えば、中間膜１１０）；並びに、第２及び第３のガラス基板（例えば、基板１０ａ又は１０ｂと図３には示されていない追加の基板）間に配置された第２の中間膜（例えば、中間膜１１０に匹敵する）を備えている。さらには、圧縮応力領域は、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びる。加えて、複数の亀裂は、基板の各々のＣＴ領域に位置している。

１つ以上の実施形態では、予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００（図１～図４参照）のいずれか１つが湾曲した形態で提供されうる。曲率は、熱プロセス又は冷間成形プロセスによって付与されうる。予め破砕された複合体１００及び／又は積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００のいずれか１つが冷間成形プロセスによって湾曲される場合、このような複合体又は積層体は、ガラス軟化温度より低い温度で湾曲し、湾曲した複合体又は積層体は、機械的機構、接着剤などによって湾曲した形状に保持される。

冷間成形された複合体又は積層体の特徴は、主面１２、１４の間の非対称の表面圧縮である。冷間成形前は、主面１２、１４のそれぞれの圧縮応力は実質的に等しい。１つ以上の実施形態では、冷間成形後は、曲げ加工後の凹形を有する主面の圧縮応力は増加する。言い換えれば、凹形表面の圧縮応力は、冷間成形前よりも冷間成形後の方が大きい。理論に縛られるわけではないが、冷間成形プロセスは、曲げ及び／又は成形動作中に付与される引張応力を補償するために、成形されている複合体又は積層体の圧縮応力を増加させる。１つ以上の実施形態では、冷間成形プロセスにより、凹面に圧縮応力を生じさせる一方、冷間成形後に凸形状を形成する表面には引張応力が発生する。冷間成形後に凸面に発生する引張応力は、表面圧縮応力の正味の減少をもたらし、その結果、冷間成形後の複合体又は積層体の凸面の圧縮応力は、複合体又は積層体が平坦なときの同じ表面の圧縮応力よりも小さくなる。この非対称性は、１つの主面１２、１４から測定された、他方の主面とは異なるＤＯＣ値として現れる。

次に図９Ａ及び９Ｂを参照すると、動的衝撃試験装置９００が概略的な形で示されている。装置９００は、予め破砕された複合体及び積層体（例えば、図１～図４に示される複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００）を試験中に適所に保持するように構成された、固定具９０２（例えば、アルミニウム合金から製造）及び４つのネジ９０４（例えば、ポリマー材料から製造）を含む。固定具９０２は、試験中の試料の裏側からの衝撃事象を記録するために高速カメラ又は同様の機器を保持するように機能する孔又はオリフィス９０６を含む。さらには、装置９００は、典型的には１１０度のピラミッド形状を有するダイヤモンドチップで構成された圧子９１２を含む。

本明細書で用いられる場合、「動的衝撃試験」は、図９Ａ及び９Ｂに示される動的衝撃試験装置９００等の装置によって適所に保持された状態で、予め破砕された複合体又は積層体（例えば、図１～図４に示される複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００）の露出した表面に１１０度のピラミッド形状の圧子を打ち込むことによって行われる。さらには、各衝撃は、圧子が、試料の表面に直交する方向で、予め破砕された複合体又は積層体に打ち込まれるように行われる。試料の１つのグループに由来する各試料は、所定の衝撃速度に晒される；また、そのグループに由来する各連続した試料は、グループ内の試料に障害が観察されるまで、衝撃速度を増加させて試験される。したがって、グループの各試料は１回だけ試験される。これらの衝撃速度は、最低５０ｍｍ／秒から最高７００ｍｍ／秒の範囲である。さらには、試験中の圧子の動きは、所定の速度（例えば、５０ｍｍ／秒から７００ｍｍ／秒）で、モータで（例えば、ベルトによって）駆動され、次いで試料との衝突の前にモータが圧子から解放されるように行われる。したがって、圧子は、衝撃事象の間、実質的に摩擦のない空気軸受スライド上を所定の速度で進行する。さらには、圧子の後ろに圧電センサが取り付けられ、衝撃事象に関連する荷重曲線を記録する。各試験からの荷重曲線及び（例えば、装置９００のオリフィス９０６に取り付けられた）高速カメラからのデータを分析して、特定のグループ内の試料の特定のガラス破損モードを決定する。さらには、動的衝撃試験は、破損した試料のフラクトグラフィ分析も含めることができ、破損モード関連情報をさらに提供することもできる。

本開示の予め破砕された複合体１００及び積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００（図１～図４参照）の製造にさまざまな方法使用することができる。実施形態によれば、本方法（図には示されていない）は、中間膜１１０を有するバッキング層１２０にガラス基板１０（すなわち、圧縮応力領域５０及びＣＴ領域６０を含む）を積層する工程を含みうる。中間膜１１０は、前述のとおり、本開示の分野の当業者によって一般に理解されている方法によって（例えば、熱エネルギー、紫外線放射などによって）硬化される硬化性樹脂でありうる。

ガラス基板１０は、中間膜１１０によってバッキング層１２０に結合又は他の方法で接着された後、次に、硬化性樹脂又はポリマー（例えば、溶融した熱可塑性物質、熱硬化性ポリマーの粘性前駆体など）を含む容器又は液槽に沈積される。幾つかの実施形態では、この工程で用いられる硬化性樹脂又はポリマーは、中間膜１２０のものと同じ組成を有する。他の実施形態では、この工程で用いられる硬化性樹脂又はポリマーは、中間膜１２０とは異なる組成のものである。

ガラス基板１０の沈積、浸漬、又は他の方法によって硬化性樹脂及び／又はポリマーで覆った後、機械的圧痕（例えば、基板に対する切断、曲げ、割断、又は他の同等の作用）によって、好ましくは、基板１０の縁部又は基板１０の主面１２、１４の一方の一部に複数の亀裂７２が生成される。複数の亀裂７２を生成するための他の適切な方法には、熱衝撃又はレーザエネルギーの印加が含まれるが、これらに限定されない。このような方法によって１つ以上の亀裂が発生すると、亀裂は、基板１０のＣＴ領域６０内を伝播して、複数の亀裂７２を形成する。ガラス基板１０が硬化性樹脂及び／又はポリマー内に沈積されると、樹脂及び／又はポリマーは、亀裂７２（及び、それらの間又はそれらの内部）に浸透し、気泡又はポケット（若しくは、最小量の気泡又はポケット）はそれらの内部に形成されない。さらには、硬化性樹脂及び／又はポリマーの粘度は、硬化性樹脂が複数の亀裂７２に完全に浸透するのに必要な時間を短縮するように選択することができる。硬化性樹脂及び／又はポリマーの複数の亀裂７２への浸透が完了した後、硬化性樹脂及び／又はポリマーを含む容器から基板１０を取り出し、過剰の樹脂及びポリマーを基板の主面１２、１４から洗浄することができる。この時点で、亀裂７２内の硬化性樹脂及び／又はポリマーは、選択された特定の樹脂及び／又はポリマーを硬化するのに適したいずれかの手法（例えば、熱エネルギー、紫外線など）によって硬化して、基板１０の複数の亀裂７２内に存在する第２の相７０を形成することができる。該方法のこの時点で、予め破砕されたガラス複合体１００（図１参照）が形成されており、これを、層及び材料（例えば、バッキング層１２０、１２０ａ、１２０ｂ；及び、中間膜１１０）を一又は複数の複合体１００に積層するための従来の手順を使用して、積層体２００ａ、２００ｂ、３００、４００（図２Ａ～図４参照）、及びこれらの構造と一致する他の積層体の生成及び発達に使用することができる。

本開示の予め破砕されたガラス複合体１００（図１参照）を製造する別の方法によれば、予め破砕されたガラス積層体２００ａ（図２Ａ参照）は前述のように製造される；しかしながら、中間膜１１０は、ガラス基板１０の複数の亀裂７２内の第２の相７０の硬化性樹脂とは異なる組成で選択される。幾つかの実装形態では、中間膜１１０の組成は、例えば水性媒体などの基板１０を損傷しない媒体に容易に溶解できるように選択される。中間膜１１０及びバッキング層１２０ａとの積層を含む予め破砕されたガラス積層体２００ａが前述のプロセスに従って形成された後、中間膜１１０は、該中間膜１１０が溶解しやすい適切な媒体（例えば、水性媒体）に溶解される。この時点で、バッキング層１２０ａを除去して、予め破砕されたガラス複合体１００を残すことができる（図１参照）。

本開示による予め破砕されたガラス複合体及び積層体のさまざまな非限定的な実施形態は、以下の実施例によってさらに明確にされる。

実施例１
次に図７Ａ～７Ｃを参照すると、イオン交換されたガラス、予め破砕されたイオン交換されたガラス基板、樹脂中間膜、及び予め破砕されたガラス基板の段階的な量の樹脂を含む５枚のシートを備えた、予め破砕された積層体の一連の写真が提供されている。図７Ａ～７Ｃに示される積層体内の各ガラス基板は、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラス基板（５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．８ｍｍ）を、基板を４６０℃の純粋なＫＮＯ_３浴中に６０時間浸漬することを包含するイオン交換プロセスに供し、ＣＴ領域内のＣＴ値を最大化することによって作られた。基板に結果的に生じた応力状態が図１０に示されている。このような５枚のイオン交換されたガラス基板を、１滴のＵｌｔｒａＢｏｎｄ ２０ｃｐｓのフロントガラス修理用樹脂で接着した。次に、樹脂を硬化させ、３６５ｎｍの紫外（ＵＶ）光に２分間曝露することによって硬化させた。硬化させた樹脂は、中間膜１１０として機能する（図１～４参照）。次に、結合された積層体ガラスを同じＵｌｔｒａＢｏｎｄ ２０ｃｐｓのフロントガラス樹脂の浴に浸漬し、次いで、鋭い圧子を使用して、イオン交換されたガラス基板の１つを手動で破砕し、ＣＴ領域内に複数の亀裂を生成した。積層体を放置し、少なくとも２４時間、樹脂を亀裂内に浸透させた。取り出した後、積層体を洗浄し、同じＵＶ光硬化に２分間供し、亀裂内の樹脂を硬化させた。図７Ａ、７Ｂ及び７Ｃを左から右に見ると、亀裂が樹脂で徐々に満たされたときの最大２４時間までの浸透時間の各段階（図７Ａ＝５分間、図７Ｂ＝１時間、図７Ｃ＝２４時間）におけるガラスの状態が示されている。

実施例２
次に図８Ａ～８Ｄを参照すると、２つのイオン交換されたガラス基板を樹脂中間膜とともに備えた積層体の写真が提供されている。これらの写真に示されている各積層体は、厚さ０．８ｍｍのイオン交換された２つのＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラス基板から製造した。これらの基板のＣＴ領域で高いＣＴ値を生成するために使用されるイオン交換条件には、４６０℃の１００％ＫＮＯ_３溶融塩浴に６０時間浸漬して、各基板内に２９５ＭＰａの中央張力を生成することが含まれる。さらには、これらの積層体の各々は、紫外線ランプでて約２０分間硬化されるように、本開示で先に概説したものと一致する硬化性樹脂を使用して、これらの基板を積層することによって生成した。図８Ａの写真は、上部基板を空気中で粉砕した後の積層体の１つを示している。図８Ｂの写真は、上部基板を空気中で粉砕した後に、エポキシ樹脂に浸漬した積層体の１つを示している。図８Ａから明らかなように、樹脂の浸透時には亀裂内に空気が存在する。図８Ｃの積層体は、図８Ｂに示される試料で用いられたのと同じエポキシ樹脂に浸漬された。浸漬した積層体の基板の１つに亀裂を生じさせ、硬化工程の完了前に、樹脂を亀裂内に３０分間浸透させた。次に、得られた試料を図８Ｃに示しているが、この試料は、樹脂がほとんどの亀裂に浸透し、その屈折率が基板の屈折率と実質的に一致しているため、亀裂の証拠がほとんどない。図８Ｄでは、積層体試料は、硬化工程の前に樹脂を３日間亀裂に浸透させたことを除き、図８Ｃで処理されたように示されている。次に、得られた試料を図８Ｃに示しているが、この試料は、樹脂が実質的にすべての亀裂に浸透し、その屈折率が基板の屈折率と実質的に一致しているため、亀裂の目に見える証拠はない。

実施例３
次に図１１を参照すると、本開示の態様に従って、動的衝撃試験装置を用いて１１０°ダイヤモンド動的衝撃試験で試験した、従来のガラス基板及び予め破砕されたガラス積層体についての破損前の衝撃速度のプロットが提供されている。従来のガラス基板は、それぞれ、「比較例１１Ａ」及び「比較例１１Ｂ」、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラス３及び４として図１１に特定されている。プロットから明らかなように、比較例１１Ａの試料グループは１００ｍｍ／秒以上の衝撃速度で破損を経験している。これもプロットから明らかなように、比較例１１Ｂの試料グループは、１００ｍｍ／秒の衝撃速度で破損を経験している。対照的に、本開示の原理に従って準備した予め破砕されたガラス積層体「実施例１１」は、７００ｍｍ／秒の衝撃速度を持ちこたえた。

実施例４
次に図１２を参照すると、セラミックの破壊靭性を決定するためのダブルトーション法に準拠して試験した、比較用のイオン交換ガラス基板対照（「比較例１２－１」から「比較例１２－４」）及び３層の予め破砕されたガラス積層体（「実施例１２－１」及び「実施例１２－２」）についての亀裂伸展（ｍｍ）に対する荷重（Ｎ）のプロットが示されている。本明細書で用いられる場合、「ダブルトーション法」は、その全体がここに参照することによって本開示内に組み込まれる、“The double-torsion testing technique for determination of fracture toughness and slow crack growth behavior of materials: A review,” A. Shyam and E. Lara-Curzio, J. Mater. Sci. 41 (2006) 4093-4104に記載されているプロトコルに従って実施される。さらには、比較例１２－１から比較例１２－４の試料のガラス基板を、前述のとおり、表１の組成Ｃから製造した。これらの試料は、約１ｍｍの厚さ及び２０．０３ｍｍの幅を有していた；また、イオン交換されていなかった。同様に、実施例１２－１及び実施例１２－２の試料のガラス基板を、前述のとおり、表１の組成Ｃから製造した。さらには、これらの試料は、３つの層に積層されているため、合計の厚さは約０．９９ｍｍ、幅は２０．０３ｍｍである；また、本開示において先に概説されたものと一致するように、以下の条件に従ってイオン交換され、積層された。特に、ガラス組成Ｃの各０．３ｍｍ厚のシートを、１００％ＫＮＯ_３中、４６０℃で４時間イオン交換し、室温まで冷却した。次に、塩を水中で洗い流し、ＵｌｔｒａＢｏｎｄ ２０（「ＵＢ２０」）及びＵＶ光を使用して試料を積層し、ＵＢ２０を硬化させた。外側の層は中央の層から横方向にずれており、したがって、組成Ｃの中央の層を破壊することなく、ワイヤカッター又はペンチを使用してそれらを容易に破砕することができた。スタックをＵＢ２０に沈積し、外側の２層を破砕した。次に、ＵＢ２０を亀裂に４８時間浸透させた。部品を液体から取り出し、ＵＶ光で数分間硬化させた。次に、部品をＵＢ２０に再び沈積し、中央の層をカッターで破砕して、浸透させた。部品をＵＢ２０から取り出し、ＵＶ光で再び硬化させた。図１２から明らかなように、本発明に係る試料（実施例１２－１及び実施例１２－２）の破損荷重及び亀裂伸展は、比較試料（比較例１２－１から１２－４）のそれぞれの破損荷重よりも約３倍高かった。さらには、これらの曲線からのデータを用い、本発明に係る試料（実施例１２－１及び実施例１２－２）及び比較試料（比較例１２－１から１２－４）についてダブルトーション法を使用して、それぞれ、１．９４ＭＰａ√ｍ及び０．６２ＭＰａ√ｍの破壊靭性（Ｋ_ＩＣ）値を計算した。

本開示の精神及びさまざまな原理から実質的に逸脱することなく、本開示の上記の実施形態に対して多くの変形及び修正を行うことができる。このようなすべての修正及び変更は、本開示の範囲内に含まれ、以下の特許請求の範囲によって保護されることが意図されている。例えば、以下の実施形態に従い、さまざまな原理を組み合わせることができる。

実施態様１．
予め破砕されたガラス複合体であって、
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含むガラス基板；並びに
前記複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相
を備えており、
圧縮応力領域が、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、複数の亀裂がＣＴ領域に位置している、
複合体。

実施態様２．
複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない、実施態様１に記載の複合体。

実施態様３．
ポリマー又は硬化した樹脂が、ガラス基板の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする、実施態様１又は２に記載の複合体。

実施態様４．
複合体が、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度を特徴とする、実施態様１～３のいずれかに記載の複合体。

実施態様５．
複数の亀裂が、ガラス基板の厚さの５倍未満の平均断片サイズをさらに含む、実施態様１～４のいずれかに記載の複合体。

実施態様６．
複数の亀裂が複数の断片を画成し、さらには、該複数の断片が４以下の平均アスペクト比を含む、実施態様１～５のいずれかに記載の複合体。

実施態様７．
圧縮応力領域及び第１の選択された深さが、イオン交換又は熱焼戻しプロセスによって画成される、実施態様１～６のいずれかに記載の複合体。

実施態様８．
予め破砕されたガラス積層体であって、
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含むガラス基板；
複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；
バッキング層；並びに、
基板の主面の一方とバッキング層との間に配置された中間膜
を備えており、
圧縮応力領域が、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、複数の亀裂がＣＴ領域に位置している、
積層体。

実施態様９．
中間膜がポリマー又は硬化した樹脂を含む、実施態様８に記載の積層体。

実施態様１０．
バッキング層が、中間膜の弾性率より少なくとも２５％大きい弾性率を特徴とする、実施態様８又は９に記載の積層体。

実施態様１１．
バッキング層が、ポリマー、ガラス、ガラスセラミック、又はセラミック材料を含む、実施態様８～１０のいずれかに記載の積層体。

実施態様１２．
複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない、実施態様８～１１のいずれかに記載の積層体。

実施態様１３．
ポリマー又は硬化した樹脂が、ガラス基板の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする、実施態様８～１２のいずれかに記載の積層体。

実施態様１４．
積層体が、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度を特徴とする、実施態様８～１３のいずれかに記載の積層体。

実施態様１５．
複数の亀裂が、ガラス基板の厚さの５倍未満の平均断片サイズをさらに含む、実施態様８～１４のいずれかに記載の積層体。

実施態様１６．
複数の亀裂が複数の断片を画成し、さらには、複数の断片が４以下の平均アスペクト比を含む、実施態様８～１５のいずれかに記載の積層体。

実施態様１７．
圧縮応力領域及び第１の選択された深さが、イオン交換プロセス又は熱焼戻しプロセスによって画成される、実施態様８～１６のいずれかに記載の積層体。

実施態様１８．
予め破砕されたガラス積層体であって、
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第１のガラス基板；
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第２のガラス基板；
第１及び第２のガラス基板の複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；並びに
第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に配置された中間膜
を備えており、
圧縮応力領域が、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、複数の亀裂がＣＴ領域に位置している、
積層体。

実施態様１９．
中間膜がポリマー又は硬化した樹脂を含む、実施態様１８に記載の積層体。

実施態様２０．
複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない、実施態様１８又は１９に記載の積層体。

実施態様２１．
ポリマー又は硬化した樹脂が、ガラス基板の各々の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする、実施態様１８～２１のいずれかに記載の積層体。

実施態様２２．
積層体が、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度を特徴とする、実施態様１８～２１のいずれかに記載の積層体。

実施態様２３．
複数の亀裂が複数の断片を画成し、さらには、複数の断片が２０以下の平均アスペクト比を含む、実施態様１８～２２のいずれかに記載の積層体。

実施態様２４．
圧縮応力領域及び第１の選択された深さが、イオン交換プロセス又は熱焼戻しプロセスによって画成される、実施態様１８～２３のいずれかに記載の積層体。

実施態様２５．
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第３の基板；並びに
第２のガラス基板と第３のガラス基板との間に配置された第２の中間膜
をさらに備えており、
第２の相が、第３のガラス基板の複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂をさらに含む、
実施態様１８～２４のいずれかに記載の積層体。

実施態様２６．
消費者向け電子製品であって、
前面、背面、及び側面を含む筐体；
少なくとも部分的に筐体の内側にある電気部品；並びに
筐体の前面にあるか又はそれに隣接しているディスプレイ
を備えており、
実施態様１～７のいずれかに記載の複合体又は実施態様８～２５のいずれかに記載の積層体が、ディスプレイ上に配置されたもの、及び筐体の一部として配置されたもののうちの少なくとも一方である、
消費者向け電子製品。

実施態様２７．
車両用ディスプレイシステムであって、
前面、背面、及び側面を含む筐体；
少なくとも部分的に筐体の内側にある電気部品；並びに
筐体の前面にあるか又はそれに隣接しているディスプレイ
を備えており、
実施態様１～７のいずれかに記載の複合体又は実施態様８～２５のいずれかに記載の積層体が、ディスプレイ上に配置されたもの、及び筐体の一部として配置されたもののうちの少なくとも一方である、
車両用ディスプレイシステム。

実施態様２８．
車両用窓パネルにおいて、
車両に連結されたフレーム；及び
前記フレーム内に位置づけられた積層体であって、
各基板が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む、第１、第２、及び第３のガラス基板；
第１、第２、及び第３のガラス基板の複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；
第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に配置された第１の中間膜；並びに
第２のガラス基板と第３のガラス基板との間に配置された第２の中間膜
を備えており、
圧縮応力領域が、主面の各々から基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、複数の亀裂が、基板の各々のＣＴ領域に位置している、
車両用窓パネル。

実施態様２９．
予め破砕されたガラス積層体の製造方法において、
基板とバッキング層との間に中間膜を配置するとともにガラス基板をバッキング層に積層する工程であって、ガラス基板が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、及び中央張力（ＣＴ）領域を含む、工程；
積層された基板、バッキング層、及び中間膜を硬化性樹脂又はポリマーの浴に浸漬する工程；
ガラス基板のＣＴ領域内に複数の亀裂を生成する工程；
ガラス基板のＣＴ領域内の複数の亀裂内に硬化性樹脂又はポリマーを浸透させる工程；並びに
複数の亀裂内の硬化性樹脂又はポリマーを硬化させて、予め破砕されたガラス積層体を形成する工程
を含む、方法。

実施態様３０．
ガラス基板の圧縮応力領域が、積層する工程の前に行われるイオン交換プロセスによって形成される、実施態様２９に記載の方法。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
予め破砕されたガラス複合体であって、
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含むガラス基板；並びに
前記複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相
を備えており、
前記圧縮応力領域が前記主面の各々から前記基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、前記複数の亀裂が前記ＣＴ領域に位置している、
複合体。

実施形態２
前記複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない、実施形態１に記載の複合体。

実施形態３
前記ポリマー又は前記硬化した樹脂が、前記ガラス基板の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする、実施形態１又は２に記載の複合体。

実施形態４
前記複合体が、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度を特徴とする、実施形態１～３のいずれかに記載の複合体。

実施形態５
前記複数の亀裂が、前記ガラス基板の前記厚さの５倍未満の平均断片サイズをさらに含む、実施形態１～４のいずれかに記載の複合体。

実施形態６
前記複数の亀裂が複数の断片を画成し、さらには、該複数の断片が４以下の平均アスペクト比を含む、実施形態１～５のいずれかに記載の複合体。

実施形態７
前記圧縮応力領域及び前記第１の選択された深さが、イオン交換又は熱焼戻しプロセスによって画成される、実施形態１～６のいずれかに記載の複合体。

実施形態８
予め破砕されたガラス積層体であって、
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含むガラス基板；
前記複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；
バッキング層；並びに、
前記基板の前記主面の一方と前記バッキング層との間に配置された中間膜
を備えており、
前記圧縮応力領域が前記主面の各々から前記基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、前記複数の亀裂が前記ＣＴ領域に位置している、
積層体。

実施形態９
前記中間膜が前記ポリマー又は前記硬化した樹脂を含む、実施形態８に記載の積層体。

実施形態１０
前記バッキング層が、前記中間膜の弾性率より少なくとも２５％大きい弾性率を特徴とする、実施形態８又は９に記載の積層体。

実施形態１１
前記バッキング層が、ポリマー、ガラス、ガラスセラミック、又はセラミック材料を含む、実施形態８～１０のいずれかに記載の積層体。

実施形態１２
前記複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない、実施形態８～１１のいずれかに記載の積層体。

実施形態１３
前記ポリマー又は前記硬化した樹脂が、前記ガラス基板の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする、実施形態８～１２のいずれかに記載の積層体。

実施形態１４
前記積層体が、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度を特徴とする、実施形態８～１３のいずれかに記載の積層体。

実施形態１５
前記複数の亀裂が、前記ガラス基板の前記厚さの５倍未満の平均断片サイズをさらに含む、実施形態８～１４のいずれかに記載の積層体。

実施形態１６
前記複数の亀裂が複数の断片を画成し、さらには、該複数の断片が４以下の平均アスペクト比を含む、実施形態８～１５のいずれかに記載の積層体。

実施形態１７
前記圧縮応力領域及び前記第１の選択された深さが、イオン交換又は熱焼戻しプロセスによって画成される、実施形態８～１６のいずれかに記載の積層体。

実施形態１８
予め破砕されたガラス積層体であって、
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第１のガラス基板；
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第２のガラス基板；
前記第１及び第２のガラス基板の前記複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；並びに
前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間に配置された中間膜
を備えており、
前記圧縮応力領域が前記主面の各々から前記基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、前記複数の亀裂が前記ＣＴ領域に位置している、
積層体。

実施形態１９
前記中間膜が前記ポリマー又は前記硬化した樹脂を含む、実施形態１８に記載の積層体。

実施形態２０
前記複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない、実施形態１８又は１９に記載の積層体。

実施形態２１
前記ポリマー又は前記硬化した樹脂が、前記ガラス基板の各々の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする、実施形態１８～２０のいずれかに記載の積層体。

実施形態２２
前記積層体が、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度を特徴とする、実施形態１８～２１のいずれかに記載の積層体。

実施形態２３
前記複数の亀裂が複数の断片を画成し、さらには、該複数の断片が２０以下の平均アスペクト比を含む、実施形態１８～２２のいずれかに記載の積層体。

実施形態２４
前記圧縮応力領域及び前記第１の選択された深さが、イオン交換又は熱焼戻しプロセスによって画成される、実施形態１８～２３のいずれかに記載の積層体。

実施形態２５
厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む第３の基板；及び
前記第２のガラス基板と前記第３のガラス基板との間に配置された第２の中間膜
をさらに備えており、
前記第２の相が、前記第３のガラス基板の前記複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂をさらに含む、
実施形態１８～２４のいずれかに記載の積層体。

実施形態２６
消費者向け電子製品であって、
前面、背面、及び側面を含む筐体；
少なくとも部分的に前記筐体の内側にある電気部品；並びに
前記筐体の前記前面にあるか又はそれに隣接しているディスプレイ
を備えており、
実施形態１～７のいずれかに記載の複合体又は実施形態８～２５のいずれかに記載の積層体が、前記ディスプレイ上に配置されたもの、及び前記筐体の一部として配置されたもののうちの少なくとも一方である、
消費者向け電子製品。

実施形態２７
車両用ディスプレイシステムであって、
前面、背面、及び側面を含む筐体；
少なくとも部分的に前記筐体の内側にある電気部品；並びに
前記筐体の前記前面にあるか又はそれに隣接しているディスプレイ
を備えており、
実施形態１～７のいずれかに記載の複合体又は実施形態８～２５のいずれかに記載の積層体が、前記ディスプレイ上に配置されたもの、及び前記筐体の一部として配置されたもののうちの少なくとも一方である、
車両用ディスプレイシステム。

実施形態２８
車両用窓パネルにおいて、
前記車両に連結されたフレーム；及び
前記フレーム内に位置づけられた積層体であって、
各基板が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含む、第１、第２、及び第３のガラス基板；
前記第１、第２、及び第３のガラス基板の前記複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相；
前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間に配置された第１の中間膜；並びに
前記第２のガラス基板と前記第３のガラス基板との間に配置された第２の中間膜
を備えており、
前記圧縮応力領域が前記主面の各々から前記基板内の第１の選択された深さまで延びており、
さらには、前記複数の亀裂が前記基板の各々の前記ＣＴ領域に位置している、
積層体
を含む、車両用窓パネル。

実施形態２９
予め破砕されたガラス積層体の製造方法において、
基板とバッキング層との間に中間膜が配置されるとともに前記ガラス基板を前記バッキング層に積層する工程であって、前記ガラス基板が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、及び中央張力（ＣＴ）領域を含む、工程；
前記積層された基板、バッキング層、及び中間膜を硬化性樹脂又はポリマーの浴に浸漬する工程；
前記ガラス基板の前記ＣＴ領域内に複数の亀裂を生成する工程；
前記ガラス基板の前記ＣＴ領域内の前記複数の亀裂内に前記硬化性樹脂又は前記ポリマーを浸透させる工程；並びに
前記複数の亀裂内の前記硬化性樹脂又は前記ポリマーを硬化させて、予め破砕されたガラス積層体を形成する工程
を含む、方法。

実施形態３０
前記ガラス基板の前記圧縮応力領域が、前記積層する工程の前に行われるイオン交換プロセスによって形成される、実施形態２９に記載の方法。

１０ 基板
１２，１４ 主面
５０ 圧縮応力領域
５２ 深さ
６０ 中央張力（ＣＴ）領域
６２ 厚さ
７０ 第２の相
７２ 複数の亀裂
１００ ガラス複合体
１１０ 中間膜
１２０，１２０ａ，１２０ｂ バッキング層
２００ａ，２００ｂ，３００，４００ ガラス積層体
６４４，６４８，６５２ 車両内部システム
６５６ センターコンソールベース
６６４ ディスプレイ
６６８ ダッシュボードベース
６７６ ディスプレイ
６８０ 計器パネル
６８４ ダッシュボードステアリングホイールベース
９００ 動的衝撃試験装置
９０２ 固定具
９０４ ネジ
９０６ 孔／オリフィス
９１２ 圧子

Claims (8)

1. 車両内部システムであって、
   ディスプレイ及び予め破砕された複合体を備えるベースと、
   前記ディスプレイがディスプレイ要素を含み、前記予め破砕された複合体が前記ディスプレイ要素の上に配置されており、かつ
   複合体が、厚さ、一対の対向する主面、圧縮応力領域、中央張力（ＣＴ）領域、及び複数の亀裂を含むガラス基板；並びに
   前記複数の亀裂内にあるポリマー又は硬化した樹脂を含む第２の相を備えており、
   前記圧縮応力領域が前記主面の各々から前記基板内の第１の選択された深さまで延びており、
   前記複数の亀裂の過半数が、前記ＣＴ領域に位置し、前記ガラス基板の前記主面まで延びていない、車両内部システム。
2. 前記複数の亀裂の実質的な部分にはエアポケットが存在しない、請求項１に記載の車両内部システム。
3. 前記ポリマー又は前記硬化した樹脂が、前記ガラス基板の屈折率の１０％以内の屈折率を特徴とする、請求項１又は２に記載の車両内部システム。
4. 前記複合体が、１１０度ダイヤモンド動的衝撃試験で損傷する前に、４００ｍｍ／秒を超える平均衝撃速度を特徴とする、請求項１～３のいずれか一項に車両内部システム。
5. 前記複数の亀裂が、前記ガラス基板の前記厚さの５倍未満の平均断片サイズをさらに含む、請求項１～４のいずれか一項に記載の車両内部システム。
6. 前記複数の亀裂が複数の断片を画成し、さらには、該複数の断片が４以下の平均アスペクト比を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の車両内部システム。
7. 前記圧縮応力領域及び前記第１の選択された深さが、イオン交換又は熱焼戻しプロセスによって画成される、請求項１～６のいずれか一項に記載の車両内部システム。
8. 前記ベースは、センターコンソールベース、ダッシュボードベース、ダッシュボードステアリングホイールベース、アームレスト、ピラー、背もたれ、床板、ヘッドレスト、ドアパネルの１つを含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の車両内部システム。

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