JP2022036685A - Quantum dot light emitting element and display - Google Patents

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有希子 岩崎
Yukiko Iwasaki
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俊満 都築
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Abstract

To provide a quantum dot light emitting element with excellent element characteristics by suppressing leakage current caused by the electron injection layer in the quantum dot light emitting element using high color purity quantum dot materials.SOLUTION: A quantum dot light emitting element 10 includes an anode 30, a light emitting layer 50, an electron injection layer 60, and a cathode 70, in that order. The light emitting layer 50 contains quantum dots. The electron injection layer 60 contains nanoparticles and an electron transport material. It is preferred that the nanoparticles comprise nanoparticles containing zinc oxide.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、量子ドット発光素子及び表示装置に関するものである。 The present invention relates to a quantum dot light emitting device and a display device.

表示装置に求められる重要な特性の一つとして、色再現性がある。特に、2018年に放送サービスが始まった4K8Kスーパーハイビジョンの表色系は、自然界に実在するほぼ全ての物体色及び既存表色システムの色域を包含することを目指しており、4K8Kスーパーハイビジョンを表示する表示装置には、広い色域の色再現性が求められる。ここで、自発光型の表示装置の場合、青、緑、赤の各色の発光材料の色純度を高くする必要がある。 Color reproducibility is one of the important characteristics required for display devices. In particular, the color system of 4K8K Super Hi-Vision, whose broadcasting service started in 2018, aims to include almost all object colors existing in nature and the color gamut of existing color systems, and displays 4K8K Super Hi-Vision. The display device is required to have color reproducibility in a wide color gamut. Here, in the case of a self-luminous display device, it is necessary to increase the color purity of each of the blue, green, and red light emitting materials.

近年、下記特許文献1や非特許文献1に開示されているように、半導体ナノ結晶からなる量子ドットを発光材料として用いた電界発光素子(量子ドット発光素子)が提案されている。量子ドットは、結晶粒径を変えることにより発光色を制御することができ、粒径分布を均一にすることにより発光スペクトルの半値幅を小さくすることができる。この発光スペクトルの半値幅が小さい利点を生かして、量子ドットは、表示色域の広い表示装置用の発光材料として利用できる可能性がある。また、量子ドットを用いた電界発光素子の中には、半値幅30nm以下、外部量子効率で約20%を実現した例も存在する(非特許文献2)。 In recent years, as disclosed in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 below, an electric field light emitting device (quantum dot light emitting device) using quantum dots made of semiconductor nanocrystals as a light emitting material has been proposed. The emission color of the quantum dots can be controlled by changing the crystal grain size, and the half width of the emission spectrum can be reduced by making the particle size distribution uniform. Taking advantage of the small half width of the emission spectrum, the quantum dots may be used as a emission material for a display device having a wide display color gamut. Further, among the electroluminescent devices using quantum dots, there is an example in which a half-value width of 30 nm or less and an external quantum efficiency of about 20% are realized (Non-Patent Document 2).

上記の量子ドットを用いた電界発光素子の発光性能を高めるために、量子ドットを電荷の輸送や注入を行うための各種材料と適切に組み合わせて素子化することが検討されている(特許文献2)。特に、酸化亜鉛ナノ粒子を量子ドットと組み合わせることで、高い電子注入性を実現している(非特許文献2及び3)。 In order to improve the light emitting performance of the electroluminescent device using the above-mentioned quantum dots, it has been studied to appropriately combine the quantum dots with various materials for transporting and injecting electric charges into a device (Patent Document 2). ). In particular, by combining zinc oxide nanoparticles with quantum dots, high electron injection properties are realized (Non-Patent Documents 2 and 3).

特許第4948747号公報Japanese Patent No. 4948747 特開2019-33005号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-33005

シラサキら(Y.Shirasaki et.al),ネイチャー・フォトニクス(Nature Photonics),7,13(2013)Shirasaki et al. (Y. Shirasaki et. Al), Nature Photonics, 7, 13 (2013) X.ダイら(D.Dai et al.),ネイチャー(Nature),515,96(2014)X. D. Dai et al., Nature, 515,96 (2014) L.キアンら(L.Qian et al.),ネイチャー・フォトニクス(Nature Photonics),5,543(2011)L. Kian et al. (L. Qian et al.), Nature Photonics, 5,543 (2011).

しかしながら、本発明者らが、上記のような量子ドットからなる発光層と、該発光層の陰極側に酸化亜鉛ナノ粒子からなる電子注入層を形成した量子ドット発光素子に関する検討を進めたところ、電子注入層から注入される電子の多くが、発光層の陽極側に位置する正孔注入層に至ってしまい、発光に寄与できない漏れ電流になってしまうことが分かった。そして、発光に寄与できない漏れ電流が増加してしまうと、発光効率の低下や不安定な動作につながる。 However, the present inventors have proceeded with a study on a quantum dot light emitting device in which a light emitting layer made of quantum dots as described above and an electron injection layer made of zinc oxide nanoparticles are formed on the cathode side of the light emitting layer. It was found that most of the electrons injected from the electron injection layer reach the hole injection layer located on the anode side of the light emitting layer, resulting in a leakage current that cannot contribute to light emission. If the leakage current that cannot contribute to light emission increases, the light emission efficiency will decrease and unstable operation will occur.

本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、電子注入層を原因とする漏れ電流を抑えることで、素子特性に優れた量子ドット発光素子を提供することを課題とする。
また、本発明は、かかる量子ドット発光素子を具え、広色域表示が可能で、発光特性に優れた表示装置を提供することを更なる課題とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a quantum dot light emitting device having excellent device characteristics by suppressing a leakage current caused by an electron injection layer.
Further, it is a further object of the present invention to provide a display device provided with such a quantum dot light emitting element, capable of displaying a wide color gamut, and having excellent light emitting characteristics.

本発明者らは、量子ドット発光素子の漏れ電流を低減するために鋭意検討したところ、量子ドット発光素子の電子注入層にナノ粒子と共に電子輸送性の材料を混合することで、電圧印加時の漏れ電流を低減できることを見出し、本発明に到達したものである。
上記課題を解決する本発明の要旨構成は、以下の通りである。
The present inventors have diligently studied to reduce the leakage current of the quantum dot light emitting element, and found that by mixing an electron transporting material together with nanoparticles in the electron injection layer of the quantum dot light emitting element, when a voltage is applied. We have found that the leakage current can be reduced and have reached the present invention.
The gist structure of the present invention for solving the above problems is as follows.

本発明の量子ドット発光素子は、陽極と、発光層と、電子注入層と、陰極と、をこの順に具え、
前記発光層が、量子ドットを含み、
前記電子注入層が、ナノ粒子と、電子輸送材料と、を含むことを特徴とする。
かかる本発明の量子ドット発光素子は、漏れ電流を低減し、素子特性を向上することが可能である。
The quantum dot light emitting device of the present invention includes an anode, a light emitting layer, an electron injection layer, and a cathode in this order.
The light emitting layer contains quantum dots.
The electron injecting layer is characterized by containing nanoparticles and an electron transporting material.
The quantum dot light emitting device of the present invention can reduce leakage current and improve device characteristics.

本発明の量子ドット発光素子の好適例においては、前記ナノ粒子が、酸化亜鉛を含むナノ粒子からなる。この場合、陰極からの電子注入性が向上する。 In a preferred example of the quantum dot light emitting device of the present invention, the nanoparticles are made of nanoparticles containing zinc oxide. In this case, the electron injection property from the cathode is improved.

本発明の量子ドット発光素子の他の好適例においては、前記電子輸送材料が、含窒素複素環を有する。この場合、電子注入層の電子輸送性を損なうことなく漏れ電流を低減できる。 In another preferred example of the quantum dot light emitting device of the present invention, the electron transport material has a nitrogen-containing heterocycle. In this case, the leakage current can be reduced without impairing the electron transportability of the electron injection layer.

本発明の量子ドット発光素子の他の好適例においては、前記電子輸送材料が、ホスフィンオキシド基を有する。この場合、電子輸送材料の有機溶媒(特には、アルコール溶媒)への溶解性が向上し、電子注入層の形成が容易になる。 In another preferred example of the quantum dot light emitting device of the present invention, the electron transport material has a phosphine oxide group. In this case, the solubility of the electron transport material in an organic solvent (particularly, an alcohol solvent) is improved, and the formation of the electron injection layer becomes easy.

本発明の量子ドット発光素子の他の好適例においては、前記電子輸送材料が、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)である。この場合、電子注入層の電子輸送性を損なうことなく漏れ電流を低減でき、また、電子輸送材料の有機溶媒(特には、アルコール溶媒)への溶解性が向上し、電子注入層の形成が容易になる。 In another preferred example of the quantum dot light emitting device of the present invention, the electron transport material is 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO-). T2T). In this case, the leakage current can be reduced without impairing the electron transportability of the electron injection layer, the solubility of the electron transport material in an organic solvent (particularly, an alcohol solvent) is improved, and the electron injection layer can be easily formed. become.

また、本発明の表示装置は、上記の量子ドット発光素子を具えることを特徴とする。かかる本発明の表示装置は、広色域表示が可能で、発光特性に優れる。 Further, the display device of the present invention is characterized by including the above-mentioned quantum dot light emitting element. The display device of the present invention is capable of displaying a wide color gamut and has excellent light emission characteristics.

本発明によれば、漏れ電流が小さく、素子特性に優れたEL発光が可能な量子ドット発光素子を提供することができる。
また、本発明によれば、かかる量子ドット発光素子を具え、広色域表示が可能で、発光特性に優れた表示装置を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a quantum dot light emitting device capable of EL light emission having a small leakage current and excellent device characteristics.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a display device having such a quantum dot light emitting element, capable of displaying a wide color gamut, and having excellent light emitting characteristics.

本発明の量子ドット発光素子の構造の一例を示した概略図である。It is a schematic diagram which showed an example of the structure of the quantum dot light emitting device of this invention. 量子ドットの構造の一例を示した模式図である。It is a schematic diagram which showed an example of the structure of a quantum dot. 実施例1、2及び比較例1、2の量子ドット発光素子の電圧-電流密度特性を示すグラフである。It is a graph which shows the voltage-current density characteristic of the quantum dot light emitting element of Examples 1 and 2 and the comparative example 1 and 2. 実施例1、2及び比較例1、2の量子ドット発光素子の電圧-輝度特性を示すグラフである。It is a graph which shows the voltage-luminance characteristic of the quantum dot light emitting element of Examples 1 and 2 and the comparative example 1 and 2.

以下に、本発明の量子ドット発光素子及び表示装置を、その実施形態に基づき、詳細に例示説明する。 Hereinafter, the quantum dot light emitting device and the display device of the present invention will be illustrated and described in detail based on the embodiment thereof.

<<量子ドット発光素子>>
本発明の量子ドット発光素子は、陽極と、発光層と、電子注入層と、陰極と、をこの順に具え、前記発光層が、量子ドットを含み、前記電子注入層が、ナノ粒子と、電子輸送材料と、を含むことを特徴とする。
<< Quantum dot light emitting device >>
The quantum dot light emitting element of the present invention includes an anode, a light emitting layer, an electron injection layer, and a cathode in this order, the light emitting layer contains quantum dots, and the electron injection layer includes nanoparticles and electrons. It is characterized by including, with and from transport material.

本発明の量子ドット発光素子においては、電子注入層が、電子注入性に優れたナノ粒子を含むと共に、更に、電子輸送材料を含む。該電子輸送材料は、陰極側から発光層に注入される電子の流れを妨げず、且つ、陽極側から発光層に注入される正孔を陰極側へと通過させない作用(即ち、発光層から流れ出る正孔電流をブロックする作用)を有する。また、該電子輸送材料は、ナノ粒子が、発光層の量子ドットの隙間に浸入し、該発光層よりも陽極側の層(例えば、正孔注入層、陽極)に接触することを抑制する。そのため、本発明の量子ドット発光素子は、漏れ電流が抑制されており、素子特性にも優れる。 In the quantum dot light emitting device of the present invention, the electron injection layer contains nanoparticles having excellent electron injection properties and further contains an electron transport material. The electron transport material has an action of not obstructing the flow of electrons injected into the light emitting layer from the cathode side and preventing holes injected into the light emitting layer from the anode side from passing through to the cathode side (that is, flowing out of the light emitting layer). It has the action of blocking the hole current). Further, the electron transport material prevents nanoparticles from infiltrating into the gaps between the quantum dots of the light emitting layer and coming into contact with a layer on the anode side of the light emitting layer (for example, a hole injection layer or an anode). Therefore, the quantum dot light emitting device of the present invention has suppressed leakage current and is excellent in device characteristics.

次に、本発明の量子ドット発光素子の一態様を、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明の量子ドット発光素子の構造の一例を示した概略図である。図1に示す量子ドット発光素子10は、基板20上に、陽極30、正孔注入層40、発光層50、電子注入層60、及び陰極70を、この順に積層した構成を有する。なお、図1に示す量子ドット発光素子10は、下部に配置した陽極30側より正孔を注入し、上部に配置した陰極70より電子を注入する構成となっているが、本発明の量子ドット発光素子は、これに限定されるものではなく、上下を逆転した構造であってもよい。また、本発明の量子ドット発光素子においては、正孔注入層40と、発光層50との間に、正孔輸送層(図示せず)が更に存在していてもよいし、発光層50と、電子注入層60との間に、電子輸送層(図示せず)が更に存在していてもよい。
Next, one aspect of the quantum dot light emitting device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view showing an example of the structure of the quantum dot light emitting device of the present invention. The quantum dot light emitting device 10 shown in FIG. 1 has a configuration in which an anode 30, a hole injection layer 40, a light emitting layer 50, an electron injection layer 60, and a cathode 70 are laminated in this order on a substrate 20. The quantum dot light emitting device 10 shown in FIG. 1 is configured to inject holes from the anode 30 side arranged at the lower part and electrons from the cathode 70 arranged at the upper part. The light emitting element is not limited to this, and may have a structure that is upside down. Further, in the quantum dot light emitting device of the present invention, a hole transport layer (not shown) may be further present between the hole injection layer 40 and the light emitting layer 50, or the light emitting layer 50 and the hole transport layer 50. , An electron transport layer (not shown) may be further present between the electron injection layer 60 and the electron transport layer 60.

<基板>
前記基板20は、当該基板20側より光を取り出すボトムエミッション型素子の場合は、透明な材料からなることが好ましい。かかる透明な材料としては、ガラス、石英、プラスチックフィルム等を例示することができる。ここで、プラスチックフィルムの材質としては、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等が挙げられる。
一方、上部電極側から光を取り出すトップエミッション型素子の場合には、基板20の材料は、必ずしも透明な材料である必要はない。基板20として、不透明基板を用いる場合、該不透明基板としては、例えば、着色したプラスチックフィルム基板、アルミナのようなセラミックス材料からなる基板、ステンレス鋼のような金属板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成した基板等が挙げられる。
また、基板20として、例えば、プラスチックフィルム等の可撓性基板を用い、その上に量子ドット発光素子を形成した場合には、画像表示部を容易に変形することのできるフレキシブル量子ドット発光素子とすることができる。
前記基板20の平均厚さは、特に限定されるものではないが、0.001~30mmが好ましく、0.01~1mmがより好ましい。
<Board>
In the case of a bottom emission type element that extracts light from the substrate 20 side, the substrate 20 is preferably made of a transparent material. Examples of such transparent materials include glass, quartz, and plastic films. Here, examples of the material of the plastic film include polyimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyether sulfone, polymethylmethacrylate, polycarbonate, polyarylate and the like.
On the other hand, in the case of a top emission type element that extracts light from the upper electrode side, the material of the substrate 20 does not necessarily have to be a transparent material. When an opaque substrate is used as the substrate 20, the opaque substrate may be, for example, a colored plastic film substrate, a substrate made of a ceramic material such as alumina, or an oxide film (insulating film) on the surface of a metal plate such as stainless steel. Examples thereof include a substrate on which the above is formed.
Further, when a flexible substrate such as a plastic film is used as the substrate 20 and a quantum dot light emitting element is formed on the flexible substrate, the flexible quantum dot light emitting element capable of easily deforming the image display unit is used. can do.
The average thickness of the substrate 20 is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 30 mm, more preferably 0.01 to 1 mm.

<陽極>
前記陽極30は、基板20側より光を取り出すボトムエミッション型素子の場合は、透明で導電性の高い材料からなることが好ましい。この場合、陽極30としては、例えば、インジウム-錫-酸化物(ITO)、インジウム-亜鉛-酸化物(IZO)等の導電性透明酸化物を用いることができる。
一方、上部電極側から光を取り出すトップエミッション型素子の場合には、陽極30の材料は、必ずしも透明な材料である必要はないため、陽極30として、金属電極を用いてもよい。ここで、陽極30の材料としては、仕事関数が比較的大きい金属が好ましい。仕事関数の大きい金属を用いることにより、陽極30から有機層への正孔注入障壁を低くすることができ、正孔を注入させ易くすることができる。陽極30に用いる金属としては、例えば、Al、Au、Ag、Pt、Ni、W、Cr、Mo、Fe、Co、Cu等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前記陽極30の平均厚さは、特に限定されるものではないが、10~500nmが好ましく、50~200nmが更に好ましい。
<Anode>
In the case of a bottom emission type element that extracts light from the substrate 20 side, the anode 30 is preferably made of a transparent and highly conductive material. In this case, as the anode 30, for example, a conductive transparent oxide such as indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) can be used.
On the other hand, in the case of a top emission type element that extracts light from the upper electrode side, the material of the anode 30 does not necessarily have to be a transparent material, so that a metal electrode may be used as the anode 30. Here, as the material of the anode 30, a metal having a relatively large work function is preferable. By using a metal having a large work function, the hole injection barrier from the anode 30 to the organic layer can be lowered, and holes can be easily injected. Examples of the metal used for the anode 30 include, but are not limited to, Al, Au, Ag, Pt, Ni, W, Cr, Mo, Fe, Co, Cu and the like.
The average thickness of the anode 30 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 50 to 200 nm.

<正孔注入層>
前記正孔注入層40は、陽極30からの正孔注入を容易にするために形成する。正孔注入層40の材料としては、無機材料、有機材料のいずれも用いることができる。無機材料としては、酸化モリブデン(MoO3)、酸化バナジウム(V25)、酸化ルテニウム(RuO2)、酸化レニウム、酸化タングステン、酸化マンガン等が挙げられる。また、有機材料としては、低分子材料、高分子材料のいずれも用いることができるが、高分子材料の例としては、PEDOT:PSS等が挙げられる。なお、PEDOTは、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)を示し、PSSは、ポリ(スチレンスルホン酸)を示す。正孔注入層40には、これらの1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、正孔注入層40に用いる材料としては、正孔注入性の観点から、PEDOT:PSS又は酸化モリブデンが好ましい。
前記正孔注入層40の平均厚さは、特に限定されるものではないが、1~500nmが好ましく、3~50nmが更に好ましい。
<Hole injection layer>
The hole injection layer 40 is formed to facilitate hole injection from the anode 30. As the material of the hole injection layer 40, either an inorganic material or an organic material can be used. Examples of the inorganic material include molybdenum oxide (MoO 3 ), vanadium oxide (V 2 O 5 ), ruthenium oxide (RuO 2 ), rhenium oxide, tungsten oxide, manganese oxide and the like. Further, as the organic material, either a low molecular weight material or a high molecular weight material can be used, and examples of the high molecular weight material include PEDOT: PSS and the like. PEDOT indicates poly (3,4-ethylenedioxythiophene), and PSS indicates poly (styrene sulfonic acid). One or more of these can be used for the hole injection layer 40. Among these, PEDOT: PSS or molybdenum oxide is preferable as the material used for the hole injection layer 40 from the viewpoint of hole injection property.
The average thickness of the hole injection layer 40 is not particularly limited, but is preferably 1 to 500 nm, more preferably 3 to 50 nm.

<発光層>
前記発光層50は、量子ドットを含む。該発光層50では、陽極30から注入された正孔と陰極70から注入された電子とが再結合して、量子ドットが励起状態となり、基底状態に戻るときに放出されるエネルギーにより発光が得られる。
発光層50の発光色は、発光層50に含まれる量子ドットの結晶粒径や種類(材質)によって変化させることができる。ここで、量子ドットの結晶粒径は、所望の発光色に応じて選択でき、例えば、1~20nmが好ましく、2~10nmが更に好ましい。該量子ドットは、半導体微粒子からなるコアと呼ばれる中心部分と、コアの表面(又は後述するシェルの表面)を覆う配位子と呼ばれる表面修飾剤と、からなることが好ましい。
<Light emitting layer>
The light emitting layer 50 includes quantum dots. In the light emitting layer 50, the holes injected from the anode 30 and the electrons injected from the cathode 70 are recombined to bring the quantum dots into an excited state, and light emission is obtained by the energy emitted when the quantum dots return to the ground state. Be done.
The emission color of the light emitting layer 50 can be changed depending on the crystal grain size and the type (material) of the quantum dots contained in the light emitting layer 50. Here, the crystal grain size of the quantum dots can be selected according to the desired emission color, and is preferably 1 to 20 nm, more preferably 2 to 10 nm, for example. The quantum dots are preferably composed of a central portion called a core made of semiconductor fine particles and a surface modifier called a ligand that covers the surface of the core (or the surface of the shell described later).

図2に、本発明の量子ドット発光素子に好適に用いることができる量子ドットの構造の一例を示す。図2に示す量子ドット1は、コア2と、コア2の周りを取り囲むシェル3と、シェル3の表面を覆うリガンド(表面修飾剤)4と、を具える。該量子ドットは、化学的安定性が高く、凝集が生じ難い。また、該量子ドット1は、溶液として調製し易く、スピンコート法等によって成膜し易いという利点がある。 FIG. 2 shows an example of a quantum dot structure that can be suitably used for the quantum dot light emitting device of the present invention. The quantum dot 1 shown in FIG. 2 includes a core 2, a shell 3 surrounding the core 2, and a ligand (surface modifier) 4 covering the surface of the shell 3. The quantum dots have high chemical stability and are less likely to aggregate. Further, the quantum dot 1 has an advantage that it is easy to prepare as a solution and it is easy to form a film by a spin coating method or the like.

--量子ドットのコア--
前記量子ドットのコア部分を構成する半導体の例としては、II-VI族の化合物、II-V族の化合物、III-VI族の化合物、III-V族の化合物、IV-VI族の化合物、I-III-VI族の化合物、II-IV-VI族の化合物、及びII-IV-V族の化合物、例えば、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、InN、InP、InAs、InSb、CuInS、AgInS等が挙げられる。また、不純物の混入等に起因して、構成する元素の一部が他の金属元素により置換されていてもよい。これらの中でも、量子ドットのコアとしては、合成の容易さ、所望の波長の発光を得るための粒径及び/又は粒径分布の制御のし易さ、発光の量子効率の観点から、CdSe、InPが好ましい。前記コアは、例えば、10nm以下の平均粒径を有してよい。
--Quantum dot core --
Examples of semiconductors constituting the core portion of the quantum dots include II-VI group compounds, II-V group compounds, III-VI group compounds, III-V group compounds, and IV-VI group compounds. I-III-VI group compounds, II-IV-VI group compounds, and II-IV-V group compounds, such as ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, InN, InP, InAs, InSb, Examples thereof include CuInS and AgInS. In addition, some of the constituent elements may be replaced with other metal elements due to the inclusion of impurities or the like. Among these, as the core of the quantum dot, CdSe, from the viewpoint of ease of synthesis, ease of controlling the particle size and / or particle size distribution for obtaining light emission of a desired wavelength, and quantum efficiency of light emission, InP is preferred. The core may have, for example, an average particle size of 10 nm or less.

--量子ドットのシェル--
前記量子ドットは、コアの周りを取り囲むようにシェルと呼ばれる一層または複数層の半導体層を有してもよい。ここで、シェル部分を構成する半導体も、コア部分を構成する半導体と同様の組成の半導体を用いることができる。量子ドットのシェルは、被覆するコアに用いられる半導体に応じて選択することが好ましく、シェルとしては、コアよりも大きなバンドギャップを有する半導体を用いることが好ましい。この場合、コアの励起エネルギーが、シェルによって効率よくコア内に閉じ込められる。具体的には、例えば、コアがCdSe、InPからなる場合、シェルには、より大きなバンドギャップを有するZnSを用いることが好ましい。シェルの厚さは、0.1nm~50nmの範囲内、特には0.2nm~10nmの範囲内にあってよい。
--Quantum dot shell ---
The quantum dots may have one or more semiconductor layers called shells so as to surround the core. Here, as the semiconductor constituting the shell portion, a semiconductor having the same composition as the semiconductor constituting the core portion can be used. The shell of the quantum dots is preferably selected according to the semiconductor used for the core to be coated, and the shell preferably uses a semiconductor having a band gap larger than that of the core. In this case, the excitation energy of the core is efficiently confined in the core by the shell. Specifically, for example, when the core is composed of CdSe and InP, it is preferable to use ZnS having a larger band gap for the shell. The thickness of the shell may be in the range of 0.1 nm to 50 nm, particularly in the range of 0.2 nm to 10 nm.

また、前記シェルは、その化合物半導体の晶系がコアの化合物半導体の晶系となじみのあるものであってよく、また、その格子定数が、コアの化合物半導体の格子定数と同じ又は近いものであってよい。晶系になじみがあり、格子定数が近い化合物半導体からなるシェルは、コアの周囲を良好に被覆することがある。あるいは、シェルは、アモルファス(非晶質)であってもよい。 Further, the shell may have a crystal system of the compound semiconductor familiar with the crystal system of the core compound semiconductor, and the lattice constant thereof is the same as or close to the lattice constant of the core compound semiconductor. It may be there. A shell made of a compound semiconductor that is familiar to the crystal system and has a close lattice constant may cover the circumference of the core well. Alternatively, the shell may be amorphous.

前記シェルは、その表面が任意の化合物で修飾されていてよい。シェルの表面がコアシェル構造の半導体ナノ粒子の露出表面である場合には、当該表面をリガンド(表面修飾剤)で修飾することによって、ナノ粒子を安定化させて半導体ナノ粒子の凝集または成長を防止することができ、並びに/或いは、半導体ナノ粒子の溶媒中での分散性を向上させることができる。
前記表面の修飾に用いるリガンド(表面修飾剤)としては、例えば、炭素数4~20の炭化水素基を有する含窒素化合物、含硫黄化合物、含酸素化合物等が挙げられる。炭素数4~20の炭化水素基としては、n-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等の飽和脂肪族炭化水素基;オレイル基等の不飽和脂肪族炭化水素基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の脂環式炭化水素基;フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、ナフチルメチル基等の芳香族炭化水素基、等が挙げられ、このうち飽和脂肪族炭化水素基や不飽和脂肪族炭化水素基が好ましい。含窒素化合物としては、アミン類やアミド類が挙げられ、含硫黄化合物としては、チオール類が挙げられ、含酸素化合物としては、脂肪酸類等が挙げられる。
含窒素化合物の表面修飾剤は、例えば、n-ブチルアミン、イソブチルアミン、n-ペンチルアミン、n-ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン等のアルキルアミンや、オレイルアミン等のアルケニルアミンである。
含硫黄化合物の表面修飾剤は、例えば、n-ブタンチオール、イソブタンチオール、n-ペンタンチオール、n-ヘキサンチオール、オクタンチオール、デカンチオール、ドデカンチオール、ヘキサデカンチオール、オクタデカンチオール等である。
含酸素化合物の表面修飾剤は、例えば、オレイン酸、ステアリン酸、ラウリン酸等である。
The surface of the shell may be modified with any compound. When the surface of the shell is an exposed surface of semiconductor nanoparticles having a core-shell structure, the surface is modified with a ligand (surface modifier) to stabilize the nanoparticles and prevent the aggregation or growth of the semiconductor nanoparticles. And / or the dispersibility of the semiconductor nanoparticles in the solvent can be improved.
Examples of the ligand (surface modifying agent) used for modifying the surface include a nitrogen-containing compound having a hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a sulfur-containing compound, an oxygen-containing compound, and the like. Hydrocarbon groups having 4 to 20 carbon atoms include saturated aliphatic hydrocarbons such as n-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group and octadecyl group. Hydrogen group; unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as oleyl group; alicyclic hydrocarbon group such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; aromatic hydrocarbon group such as phenyl group, benzyl group, naphthyl group and naphthylmethyl group, etc. Of these, saturated aliphatic hydrocarbon groups and unsaturated aliphatic hydrocarbon groups are preferable. Examples of the nitrogen-containing compound include amines and amides, examples of the sulfur-containing compound include thiols, and examples of the oxygen-containing compound include fatty acids.
Examples of the surface modifier of the nitrogen-containing compound include alkylamines such as n-butylamine, isobutylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, octylamine, decylamine, dodecylamine, hexadecylamine and octadecylamine, and oleylamine and the like. Alkenylamine.
The surface modifier of the sulfur-containing compound is, for example, n-butanethiol, isobutanethiol, n-pentanethiol, n-hexanethiol, octanethiol, decanethiol, dodecanethiol, hexadecanethiol, octadecanethiol and the like.
The surface modifier of the oxygen-containing compound is, for example, oleic acid, stearic acid, lauric acid and the like.

合成された量子ドットは、通常は、未反応原料を始めとする不純物を含んでいる。発光層に余分な原料成分を含むと電荷輸送を阻害することから、精製処理を施して余分な原料成分を除去することが好ましい。このときの精製方法としては、沈殿・再分散を利用した方法が挙げられる。これは量子ドット分散液に量子ドットを分散させない溶媒(貧溶媒)を加えて、量子ドットを沈殿させて回収し、目的の溶媒に再分散させる方法である。極性の小さい有機溶媒に分散している量子ドットに対しては、一般的に貧溶媒として極性の大きいアルコール等の溶媒を加えて沈殿を得る。 The synthesized quantum dots usually contain impurities such as unreacted raw materials. If the light emitting layer contains an excess raw material component, charge transport is hindered. Therefore, it is preferable to perform a purification treatment to remove the excess raw material component. Examples of the purification method at this time include a method using precipitation / redispersion. This is a method in which a solvent (poor solvent) that does not disperse quantum dots is added to the quantum dot dispersion liquid to precipitate and recover the quantum dots, and the quantum dots are redispersed in the target solvent. For quantum dots dispersed in an organic solvent having a small polarity, a solvent such as alcohol having a large polarity is generally added as a poor solvent to obtain a precipitate.

前記発光層50は、上述の量子ドットと共に、電荷輸送材料を含んでいてもよい。発光層50が電荷輸送材料を含むことで、電子又は正孔の輸送性を制御できるため、量子ドット発光素子の発光特性の向上が期待できる。前記電荷輸送材料は、例えば、前記量子ドットと混合され、発光層50において、量子ドットの隙間を埋める形で存在する。該電荷輸送材料は、量子ドットと混合して使用する場合は、量子ドットの分散液に溶解する材料であることが好ましい。該電荷輸送材料としては、有機溶媒への溶解性を有し、且つ正孔輸送性又は電子輸送性を有する有機材料であり、量子ドット発光素子のEL発光に混色を起こさない材料を好適に用いることが望ましい。ここで、正孔輸送性を有する有機材料としては、ポリ(N-ビニルカルバゾール)(PVK)等が挙げられ、また、電子輸送性を有する有機材料としては、後述する電子注入層60に用いる電子輸送材料等が挙げられる。
前記電荷輸送材料の添加量は、前記量子ドットに対して質量比で0.01~10の範囲が好ましく、0.1~2の範囲が更に好ましい。量子ドットと電荷輸送材料との質量比が上記の範囲内であれば、量子ドット発光素子の発光特性を向上させる効果が大きくなる。
The light emitting layer 50 may include a charge transport material together with the above-mentioned quantum dots. Since the light emitting layer 50 contains the charge transport material, the transportability of electrons or holes can be controlled, so that the light emission characteristics of the quantum dot light emitting device can be expected to be improved. The charge transport material is, for example, mixed with the quantum dots and exists in the light emitting layer 50 in a form of filling the gaps between the quantum dots. When the charge transport material is used in combination with quantum dots, it is preferable that the charge transport material is a material that dissolves in the dispersion liquid of the quantum dots. As the charge transport material, an organic material having solubility in an organic solvent and having hole transport property or electron transport property, which does not cause color mixing in the EL light emission of the quantum dot light emitting element, is preferably used. Is desirable. Here, examples of the organic material having hole transportability include poly (N-vinylcarbazole) (PVK), and examples of the organic material having electron transportability include electrons used in the electron injection layer 60 described later. Examples include transportation materials.
The amount of the charge transport material added is preferably in the range of 0.01 to 10 in terms of mass ratio with respect to the quantum dots, and more preferably in the range of 0.1 to 2. When the mass ratio of the quantum dots and the charge transport material is within the above range, the effect of improving the light emitting characteristics of the quantum dot light emitting element becomes large.

発光層50の成膜方法としては、特に限定されないが、量子ドットを有機溶媒や水に溶解させた溶液を調製し、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等によって成膜することができる。このとき、赤、緑、青に発光する材料を微細に塗分けすることで、カラー表示が可能な表示装置の画素とすることができる。
前記発光層50の平均厚さは、特に限定されるものではないが、5~200nmが好ましく、10~50nmが更に好ましい。
The film forming method of the light emitting layer 50 is not particularly limited, but a solution in which quantum dots are dissolved in an organic solvent or water can be prepared and formed by a spin coating method, an inkjet method, a printing method or the like. At this time, by finely painting the materials that emit light in red, green, and blue, the pixels of the display device capable of color display can be obtained.
The average thickness of the light emitting layer 50 is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 50 nm.

<電子注入層>
前記電子注入層60は、陰極70からの電子注入を容易にする目的で用いる。該電子注入層60は、ナノ粒子と、電子輸送材料と、を含み、発光層50と陰極70との間に位置する。電子注入層60の材料としては、電子注入性を有する金属酸化物のナノ粒子と、電子輸送性を有する有機材料を組み合わせて用いることができる。
<Electron injection layer>
The electron injection layer 60 is used for the purpose of facilitating electron injection from the cathode 70. The electron injecting layer 60 contains nanoparticles and an electron transporting material and is located between the light emitting layer 50 and the cathode 70. As the material of the electron injection layer 60, nanoparticles of a metal oxide having an electron injecting property and an organic material having an electron transporting property can be used in combination.

前記ナノ粒子の材料としては、金属酸化物が好ましく、具体的には、酸化亜鉛(ZnO)、酸化リチウム(Li2O)、酸化チタン(TiO2)、酸化ケイ素(SiO2)、酸化スズ(SnO2)、酸化タングステン(WO3)、酸化タンタル(Ta23)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化ハフニウム(HfO2)、酸化アルミニウム(Al23)等が挙げられる。これらの中でも、電子注入性の観点から、酸化亜鉛が特に好ましい。また、該酸化亜鉛には、Mg、Al、Li等の金属元素を添加して用いることもできる。 As the material of the nanoparticles, a metal oxide is preferable, and specifically, zinc oxide (ZnO), lithium oxide (Li 2 O), titanium oxide (TIO 2 ), silicon oxide (SiO 2 ), tin oxide (SiO 2). SnO 2 ), tungsten oxide (WO 3 ), tantalum oxide (Ta 2 O 3 ), zinc oxide (ZrO 2 ), hafnium oxide (HfO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) and the like can be mentioned. Among these, zinc oxide is particularly preferable from the viewpoint of electron injectability. Further, a metal element such as Mg, Al, or Li can be added to the zinc oxide for use.

本明細書において、前記ナノ粒子とは、粒径が1μm未満の粒子を指す。該ナノ粒子の粒径は、TEMや、光散乱法で測定することができる。該ナノ粒子の粒径は、1nm~100nmが好ましく、1nm~10nmが更に好ましい。また、該ナノ粒子の粒径は、電子注入層60の厚さ以下であることが好ましい。 As used herein, the nanoparticles refer to particles having a particle size of less than 1 μm. The particle size of the nanoparticles can be measured by TEM or a light scattering method. The particle size of the nanoparticles is preferably 1 nm to 100 nm, more preferably 1 nm to 10 nm. Further, the particle size of the nanoparticles is preferably equal to or less than the thickness of the electron injection layer 60.

前記電子注入層60は、上述のナノ粒子と共に、電子輸送材料を含むことで、量子ドット発光素子の漏れ電流を抑制できる。該電子輸送材料は、ナノ粒子と混合して使用する場合は、ナノ粒子の分散液に溶解する材料であることが好ましい。該電子輸送材料としては、有機溶媒への溶解性を有し、且つ電子輸送性を有する有機材料であり、量子ドット発光素子のEL発光に混色を起こさない材料を好適に用いることができる。ナノ粒子の分散液の調製に使用する有機溶媒としては、アルコール溶媒が好ましく、該アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。 By including the electron transport material together with the above-mentioned nanoparticles, the electron injection layer 60 can suppress the leakage current of the quantum dot light emitting element. When the electron transport material is used by mixing with nanoparticles, it is preferable that the electron transport material is a material that dissolves in a dispersion of nanoparticles. As the electron transporting material, a material which is soluble in an organic solvent and has electron transporting property and which does not cause color mixing in the EL light emission of the quantum dot light emitting element can be preferably used. The organic solvent used for preparing the dispersion of nanoparticles is preferably an alcohol solvent, and examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol and the like.

前記電子輸送材料は、電子輸送性の有機材料であることが好ましく、電子輸送性の有機材料としては、含窒素複素環を含む低分子材料あるいは高分子材料が好ましく、下記一般式(1):

Figure 2022036685000002
に示すような含窒素複素環を含む低分子材料あるいは高分子材料が更に好ましい。前記電子輸送材料が、含窒素複素環を有する場合、電子注入層60の電子輸送性を損なうことなく漏れ電流を低減できる。 The electron-transporting material is preferably an electron-transporting organic material, and the electron-transporting organic material is preferably a small molecule material or a polymer material containing a nitrogen-containing heterocycle, and the following general formula (1):
Figure 2022036685000002
A small molecule material or a polymer material containing a nitrogen-containing heterocycle as shown in the above is more preferable. When the electron transport material has a nitrogen-containing heterocycle, the leakage current can be reduced without impairing the electron transport property of the electron injection layer 60.

上記一般式(1)において、円弧の部分は、C及びNと共に環構造を形成していることを示す。ここで、一般式(1)で示される含窒素複素環としては、トリアジン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピリダジン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、トリアゾール環、フェナントロリン環等が挙げられる。 In the above general formula (1), it is shown that the arc portion forms a ring structure together with C and N. Here, the nitrogen-containing heterocycle represented by the general formula (1) includes a triazine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a pyridazine ring, an oxazole ring, an oxadiazole ring, a benzoxazole ring, an imidazole ring, and a benzimidazole. Examples thereof include a ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a quinoxaline ring, a triazole ring, and a phenanthroline ring.

前記電子輸送材料としては、例えば、トリアジン誘導体、ピリジン誘導体、フェナントロリン誘導体、イミダゾール誘導体、トリアゾール誘導体等の含窒素複素環式化合物が挙げられる。ここで、トリアジン誘導体としては、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)、2,4,6-トリス(ビフェニル-3-イル)-1,3,5-トリアジン(T2T)、2,4,6-トリス(3’-(ピリジン-3-イル)ビフェニル-3-イル)-1,3,5-トリアジン(TmPPPyTz)等が挙げられ、ピリジン誘導体としては、トリス(2,4,6-トリメチル-3-(ピリジン-3-イル)フェニル)ボラン(3TPYMB)等が挙げられ、フェナントロリン誘導体としては、4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン(Bphen)、2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン(BCP)等が挙げられ、イミダゾール誘導体としては、1,3,5-トリス(N-フェニルベンズイミダゾール-2-イル)ベンゼン(TPBI)、トリアゾール誘導体としては、3-(4-tert-ブチルフェニル)-4-フェニル-5-(4-ビフェニリル)-1,2,4-トリアゾール、3-(4-tert-ブチルフェニル)-4-(4-エチルフェニル)-5-(4-ビフェニリル)-1,2,4-トリアゾール等が挙げられる。 Examples of the electron transporting material include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as triazine derivatives, pyridine derivatives, phenanthroline derivatives, imidazole derivatives, and triazole derivatives. Here, examples of the triazine derivative include 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO-T2T) and 2,4,6-tris (biphenyl-). 3-yl) -1,3,5-triazine (T2T), 2,4,6-tris (3'-(pyridine-3-yl) biphenyl-3-yl) -1,3,5-triazine (TmPPPyTz) ) Etc., examples of the pyridine derivative include tris (2,4,6-trimethyl-3- (pyridine-3-yl) phenyl) borane (3TPYMB), and examples of the phenanthroline derivative include 4,7-. Examples thereof include diphenyl-1,10-phenanthroline (Bphenyl), 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP), and examples of the imidazole derivative include 1,3,5-tris (N). -Phenylbenzimidazole-2-yl) benzene (TPBI), as a triazole derivative, 3- (4-tert-butylphenyl) -4-phenyl-5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole, Examples thereof include 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole.

前記電子輸送材料は、ホスフィンオキシド基(P=O)を有することも好ましい。電子輸送材料がホスフィンオキシド基を有する場合、有機溶媒(特には、アルコール溶媒)への溶解性が向上し、電子注入層60の形成が容易になる。 It is also preferable that the electron transport material has a phosphine oxide group (P = O). When the electron transport material has a phosphine oxide group, the solubility in an organic solvent (particularly an alcohol solvent) is improved, and the formation of the electron injection layer 60 is facilitated.

また、前記電子輸送材料としては、含窒素複素環と、ホスフィンオキシド基と、を有する化合物が好ましい。この場合、電子注入層60の電子輸送性が向上すると共に、電子注入層60の形成が容易になる。含窒素複素環と、ホスフィンオキシド基と、を有する化合物として、具体的には、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)、{5-[9’H-(9,3’:6’、9”-テルカルバゾール)-9’-イル]ピリジン-3-イル}ジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]ピリジン、3,5-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]ピリジン、2,5-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,4-オキサジアゾール、3,5-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,2,4-トリアゾール、4,7-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,10-フェナントロリン等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。 Further, as the electron transport material, a compound having a nitrogen-containing heterocycle and a phosphine oxide group is preferable. In this case, the electron transportability of the electron injection layer 60 is improved, and the formation of the electron injection layer 60 becomes easy. Specific examples of the compound having a nitrogen-containing heterocycle and a phosphine oxide group include 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO-). T2T), {5- [9'H- (9,3': 6', 9 "-telcarbazole) -9'-yl] pyridine-3-yl} diphenylphosphine oxide, 2,4,6-tris [ 3- (Diphenylphosphinyl) phenyl] pyridine, 3,5-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] pyridine, 2,5-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3 , 4-Oxaziazole, 3,5-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,2,4-triazole, 4,7-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1 , 10-Phenyltroline and the like, and one or more of these can be used.

上記の中でも、電子注入層60に用いる電子輸送材料としては、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)が特に好ましい。2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)は、電子輸送性に優れ、また、有機溶媒(特には、アルコール溶媒)への溶解性に優れるため、電子注入層60の製造上の利点も有する。 Among the above, 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO-T2T) is particularly preferable as the electron transport material used for the electron injection layer 60. .. 2,4,6-Tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO-T2T) has excellent electron transport properties and is an organic solvent (particularly an alcohol solvent). Since it is excellent in solubility in, it also has an advantage in manufacturing the electron injection layer 60.

また、前記電子輸送材料の添加量は、前記ナノ粒子に対して質量比で0.01~10の範囲が好ましく、0.1~2の範囲が更に好ましい。ナノ粒子と電子輸送材料との質量比が上記の範囲内であれば、量子ドット発光素子の漏れ電流を抑制する効果、及び素子特性を向上させる効果が大きくなる。 The amount of the electron transport material added is preferably in the range of 0.01 to 10 in terms of mass ratio with respect to the nanoparticles, and more preferably in the range of 0.1 to 2. When the mass ratio of the nanoparticles to the electron transport material is within the above range, the effect of suppressing the leakage current of the quantum dot light emitting element and the effect of improving the element characteristics become large.

前記電子注入層60の平均厚さは、特に限定されるものではないが、1~500nmが好ましく、10~100nmが更に好ましい。
電子注入層60の成膜方法としては、特に限定されないが、ナノ粒子と電子輸送材料を有機溶媒やアルコールに溶解させた溶液を調製し、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等によって成膜することができる。
The average thickness of the electron injection layer 60 is not particularly limited, but is preferably 1 to 500 nm, more preferably 10 to 100 nm.
The film forming method of the electron injection layer 60 is not particularly limited, but a solution in which nanoparticles and an electron transporting material are dissolved in an organic solvent or alcohol is prepared, and the film is formed by a spin coating method, an inkjet method, a printing method or the like. be able to.

<陰極>
前記陰極70は、前記基板20側より光を取り出すボトムエミッション型素子の場合は、金属の薄膜を用いることができる。ここで、陰極70の材料としては、仕事関数が比較的小さい金属が好ましい。仕事関数の小さい金属を用いることにより、陰極70から有機層への電子注入障壁を低くすることができ、電子を注入させ易くすることができる。陰極70に用いる金属材料としては、特に限定されないが、Al、Mg、Ca、Ba、Li、Na等が挙げられ、Alを用いることが好ましい。
前記基板20や下部の陽極30が透明でない場合には、上部電極となる陰極70は、透明電極とする。ここで、該透明電極の材料としては、特に限定されないが、例えば、インジウム-錫-酸化物(ITO)、インジウム-亜鉛-酸化物(IZO)等の導電性透明酸化物を用いることができる。
前記陰極70の平均厚さは、特に限定されるものではないが、10~500nmが好ましく、30~150nmが更に好ましい。
<Cathode>
For the cathode 70, a metal thin film can be used in the case of a bottom emission type element that extracts light from the substrate 20 side. Here, as the material of the cathode 70, a metal having a relatively small work function is preferable. By using a metal having a small work function, the barrier for electron injection from the cathode 70 to the organic layer can be lowered, and electrons can be easily injected. The metal material used for the cathode 70 is not particularly limited, and examples thereof include Al, Mg, Ca, Ba, Li, and Na, and it is preferable to use Al.
When the substrate 20 and the lower anode 30 are not transparent, the cathode 70 as the upper electrode is a transparent electrode. Here, the material of the transparent electrode is not particularly limited, but for example, a conductive transparent oxide such as indium-tin-oxide (ITO) and indium-zinc-oxide (IZO) can be used.
The average thickness of the cathode 70 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 30 to 150 nm.

上述した正孔注入層40は、省略することも可能であり、また、それぞれの層が複数の役割を受け持つ構造となっていてもよい。例えば、一つの層で、正孔注入層と発光層を兼用したりすることも可能である。 The hole injection layer 40 described above may be omitted, and each layer may have a structure in which it has a plurality of roles. For example, one layer can be used as both a hole injection layer and a light emitting layer.

<各層の形成方法>
前記陽極30、正孔注入層40、発光層50、電子注入層60、陰極70の形成方法は、特に限定されるものではなく、真空蒸着法、電子ビーム法、スパッタリング法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等の方法を用いることができる。また、これらの方法を用いて、陽極30、正孔注入層40、発光層50、電子注入層60、陰極70の厚さを、目的に応じて適宜調整することができる。また、これらの方法は、各層の材料の特性に応じて選択するのが好ましく、層ごとに作製方法が異なっていてもよい。
<Method of forming each layer>
The method for forming the anode 30, the hole injection layer 40, the light emitting layer 50, the electron injection layer 60, and the cathode 70 is not particularly limited, and is not particularly limited, and is a vacuum vapor deposition method, an electron beam method, a sputtering method, a spin coating method, and an inkjet. A method such as a method or a printing method can be used. Further, by using these methods, the thicknesses of the anode 30, the hole injection layer 40, the light emitting layer 50, the electron injection layer 60, and the cathode 70 can be appropriately adjusted according to the purpose. Further, these methods are preferably selected according to the characteristics of the material of each layer, and the production method may be different for each layer.

<用途>
本発明の量子ドット発光素子は、後述する表示装置を始め、照明機器、バックライト、電子写真、照明光源、露出光源、標識、看板、インテリア等にも利用できる。
<Use>
The quantum dot light emitting element of the present invention can be used not only for a display device described later, but also for a lighting device, a backlight, an electrophotographic, a lighting light source, an exposure light source, a signboard, a signboard, an interior, and the like.

<<表示装置>>
本発明の表示装置は、上述の量子ドット発光素子を具えることを特徴とする。本発明の表示装置は、漏れ電流を抑制できることで素子特性に優れ、色純度の高い光を発することが可能な量子ドット発光素子を具えるため、広色域表示が可能である。本発明の表示装置は、上述した量子ドット発光素子の他に、表示装置に一般に用いられる他の部品を具えることができる。
<< Display device >>
The display device of the present invention is characterized by including the above-mentioned quantum dot light emitting device. Since the display device of the present invention includes a quantum dot light emitting device capable of emitting light having high color purity and excellent element characteristics by suppressing leakage current, it is possible to display a wide color gamut. In addition to the quantum dot light emitting element described above, the display device of the present invention can include other components generally used in the display device.

以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
<量子ドットの合成>
J.カクら(J.Kwak et al.),ナノ・レターズ(Nano Letters),12,2362-2366(2012)に開示されている方法に従って、緑色発光を示す量子ドットCdSe/ZnS(コア/シェル型の量子ドット)を合成した。具体的な合成方法を以下に示す。
0.257gの酸化カドミウム、7.34gの酢酸亜鉛、30.13gのオレイン酸、150mlのオクタデセンをフラスコに投入した。減圧下、150℃で30分加熱後、アルゴンにてリークし、アルゴンフロー下で280℃まで昇温した(溶液1)。0.079gのセレン、1.122gの硫黄を20mlのトリオクチルホスフィンに溶解させた溶液を用意し、溶液1に投入した。280℃で10分間混合した後、室温まで冷やした(溶液2)。この溶液2にエタノールを加えて、析出物を遠心分離で回収した。回収物をトルエンに分散させて、濃度を10mg/mlとなるように調整した。
(Example 1)
<Synthesis of quantum dots>
J.League. Quantum dots CdSe / ZnS (core / shell type) exhibiting green emission according to the method disclosed in J. Kwak et al., Nano Letters, 12, 2362-2366 (2012). Quantum dots) were synthesized. The specific synthesis method is shown below.
0.257 g of cadmium oxide, 7.34 g of zinc acetate, 30.13 g of oleic acid and 150 ml of octadecene were added to the flask. After heating at 150 ° C. for 30 minutes under reduced pressure, a leak occurred with argon, and the temperature was raised to 280 ° C. under an argon flow (solution 1). A solution prepared by dissolving 0.079 g of selenium and 1.122 g of sulfur in 20 ml of trioctylphosphine was prepared and added to solution 1. After mixing at 280 ° C. for 10 minutes, the mixture was cooled to room temperature (solution 2). Ethanol was added to this solution 2, and the precipitate was recovered by centrifugation. The recovered material was dispersed in toluene to adjust the concentration to 10 mg / ml.

<酸化亜鉛ナノ粒子の合成>
J.カクら(J.Kwak et al.),ナノ・レターズ(Nano Letters),12,2362-2366(2012)に開示されている方法に従って、酸化亜鉛ナノ粒子を合成した。具体的な方法を以下に示す。
6.7mmolの酢酸亜鉛を55mlのメタノールに溶解させ、0.12mol/lの溶液を得た。8.6mmolの水酸化カリウムを25mlのメタノールに溶解させ、0.34mol/lの溶液を得た。窒素雰囲気下で、酢酸亜鉛メタノール溶液を60℃に加熱し、撹拌しながら水酸化カリウムメタノール溶液を滴下し、2時間反応させると液は白濁状態となった。得られた白濁液から遠心分離により回収した酢酸亜鉛をメタノールで洗い、最終的に1-ブタノールに再分散させて、20mg/mlの酸化亜鉛ナノ粒子分散液を得た。なお、TEMで確認される酸化亜鉛ナノ粒子の粒径は、5nm~20nmである。
<Synthesis of zinc oxide nanoparticles>
J.League. Zinc oxide nanoparticles were synthesized according to the method disclosed in J. Kwak et al., Nano Letters, 12, 2362-2366 (2012). The specific method is shown below.
6.7 mmol of zinc acetate was dissolved in 55 ml of methanol to give a 0.12 mol / l solution. 8.6 mmol of potassium hydroxide was dissolved in 25 ml of methanol to give a 0.34 mol / l solution. The zinc acetate-methanol solution was heated to 60 ° C. under a nitrogen atmosphere, and the potassium hydroxide-methanol solution was added dropwise with stirring, and the reaction was carried out for 2 hours. The solution became cloudy. Zinc acetate recovered by centrifugation from the obtained cloudy liquid was washed with methanol and finally redispersed in 1-butanol to obtain a 20 mg / ml zinc oxide nanoparticle dispersion. The particle size of the zinc oxide nanoparticles confirmed by TEM is 5 nm to 20 nm.

<量子ドット発光素子の作製>
図1に示す構造の本発明に従う量子ドット発光素子を次のようにして作製した。
まず、ガラス基板20にITOからなる陽極30(厚さ:100nm)を形成し、これを複数のライン状にパターニングした。
次に、正孔注入層40として、PEDOT:PSS(ヘレウス社製、CLEVIOSPVP AI4083)をスピンコート法によって成膜し(厚さ:30nm)、180℃にて60分間加熱した。
次に、前項にて合成した量子ドットからなる発光層50をスピンコートにより成膜し(厚さ:20-30nm)、130℃にて30分間加熱した。
次に、下記式(2):

Figure 2022036685000003
で示される構造式を有する、ホスフィンオキシド基及び含窒素複素環を含む電子輸送材料{2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)、Lumtec社製}と、前項にて合成した酸化亜鉛ナノ粒子との混合1-ブタノール溶液をスピンコートすることにより、電子注入層60(厚さ:40-50nm)を形成した。この際、PO-T2Tの添加量を酸化亜鉛ナノ粒子に対する質量比で0.5に調整した。形成された電子注入層60は、窒素雰囲気下、130℃にて30分間加熱した。
次に、基板を真空蒸着装置に入れ、真空蒸着法により、陰極70としてAlを60nm成膜した。
なお、図1には示していないが、量子ドット発光素子は、窒素ガスで満たされたグローブボックス中で、封止用ガラスの周縁部に紫外線硬化樹脂を塗布した後、量子ドット発光素子を形成した前記基板の周縁部に貼り合せて、封止を行った。 <Manufacturing of quantum dot light emitting device>
A quantum dot light emitting device according to the present invention having the structure shown in FIG. 1 was manufactured as follows.
First, an anode 30 (thickness: 100 nm) made of ITO was formed on the glass substrate 20, and this was patterned into a plurality of lines.
Next, as the hole injection layer 40, PEDOT: PSS (CLEVIOSPVP AI4083 manufactured by Heraeus) was formed into a film by a spin coating method (thickness: 30 nm) and heated at 180 ° C. for 60 minutes.
Next, the light emitting layer 50 composed of the quantum dots synthesized in the previous section was formed into a film by spin coating (thickness: 20-30 nm) and heated at 130 ° C. for 30 minutes.
Next, the following formula (2):
Figure 2022036685000003
An electron transport material containing a phosphine oxide group and a nitrogen-containing heterocycle having a structural formula represented by {2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO). -T2T), manufactured by Lumtec} and a mixed 1-butanol solution of zinc oxide nanoparticles synthesized in the previous section were spin-coated to form an electron injection layer 60 (thickness: 40-50 nm). At this time, the amount of PO-T2T added was adjusted to 0.5 by mass ratio with respect to the zinc oxide nanoparticles. The formed electron injection layer 60 was heated at 130 ° C. for 30 minutes under a nitrogen atmosphere.
Next, the substrate was placed in a vacuum vapor deposition apparatus, and Al was formed into a 60 nm film as a cathode 70 by a vacuum vapor deposition method.
Although not shown in FIG. 1, the quantum dot light emitting element forms a quantum dot light emitting element after applying an ultraviolet curable resin to the peripheral edge of the sealing glass in a glove box filled with nitrogen gas. It was bonded to the peripheral portion of the substrate and sealed.

(実施例2)
実施例1と同様に、量子ドットおよび酸化亜鉛ナノ粒子を合成した。量子ドット発光素子の作製において、発光層50を形成する際に、下記式(3):

Figure 2022036685000004
で示される構造式を有する、ポリ(N-ビニルカルバゾール)(PVK)と量子ドットからなる発光層50をスピンコートにより成膜し(厚さ:30-40nm)、130℃にて30分間加熱した。この際、PVKの添加量を量子ドットに対する質量比で0.5に調整した。それ以外は、実施例1と同様にして、量子ドット発光素子を作製した。 (Example 2)
Quantum dots and zinc oxide nanoparticles were synthesized in the same manner as in Example 1. In the production of the quantum dot light emitting device, when the light emitting layer 50 is formed, the following equation (3):
Figure 2022036685000004
A light emitting layer 50 composed of poly (N-vinylcarbazole) (PVK) and quantum dots having the structural formula shown by is formed into a film by spin coating (thickness: 30-40 nm) and heated at 130 ° C. for 30 minutes. .. At this time, the amount of PVK added was adjusted to 0.5 in terms of the mass ratio to the quantum dots. Other than that, a quantum dot light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1.

(比較例1)
実施例1で合成した酸化亜鉛ナノ粒子のみを用いて、電子注入層60を成膜したこと以外は、実施例1と同様にして、量子ドット発光素子を作製した。
(Comparative Example 1)
A quantum dot light emitting device was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron injection layer 60 was formed using only the zinc oxide nanoparticles synthesized in Example 1.

(比較例2)
実施例1で合成した酸化亜鉛ナノ粒子のみを用いて、電子注入層60を成膜したこと以外は、実施例2と同様にして、量子ドット発光素子を作製した。
(Comparative Example 2)
A quantum dot light emitting device was produced in the same manner as in Example 2 except that the electron injection layer 60 was formed using only the zinc oxide nanoparticles synthesized in Example 1.

<量子ドット発光素子の特性評価>
上記の実施例1、実施例2、比較例1、比較例2の各量子ドット発光素子のITO陽極30側に正、Al陰極70側に負となるように電圧を印加して、電圧-電流密度特性及び電圧-輝度特性を測定した。電圧-電流密度特性を図3に、電圧-輝度特性を図4に示す。
<Characteristic evaluation of quantum dot light emitting device>
Voltage-current is applied to the ITO anode 30 side of each of the quantum dot light emitting elements of Example 1, Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 so as to be positive and negative on the Al cathode 70 side. Density characteristics and voltage-luminance characteristics were measured. The voltage-current density characteristic is shown in FIG. 3, and the voltage-luminance characteristic is shown in FIG.

実施例1及び2の素子は、比較例1及び2の素子と比較して、発光開始電圧以下の低電圧領域での電流密度が小さく抑えられており、かつ、到達輝度は大きく上回っている。
発光開始電圧以下の低電圧領域での電流が漏れる現象は、発光層50の隙間に、塗布形成された酸化亜鉛ナノ粒子からなる電子注入層60が浸入し、下層の正孔注入層40に接触することで生じる。電子輸送材料(PO-T2T)を酸化亜鉛ナノ粒子に混合したことで、電子輸送性を妨げることなく、酸化亜鉛ナノ粒子が正孔注入層40に接触することを抑制できたと判断できる。電流の漏れを抑えたことで、電流を効果的に発光に変換することができるようになり、到達輝度を高めることができた。
以上の実施例1、実施例2、比較例1、及び比較例2の素子特性を表1にまとめる。
In the elements of Examples 1 and 2, the current density in the low voltage region below the emission start voltage is suppressed to be small as compared with the elements of Comparative Examples 1 and 2, and the ultimate brightness is greatly exceeded.
In the phenomenon that the current leaks in the low voltage region below the emission start voltage, the electron injection layer 60 made of zinc oxide nanoparticles coated and formed penetrates into the gap of the light emission layer 50 and comes into contact with the hole injection layer 40 in the lower layer. It is caused by doing. It can be determined that by mixing the electron transport material (PO-T2T) with the zinc oxide nanoparticles, it was possible to suppress the zinc oxide nanoparticles from coming into contact with the hole injection layer 40 without interfering with the electron transport property. By suppressing the leakage of current, it became possible to effectively convert the current into light emission, and it was possible to increase the ultimate brightness.
Table 1 summarizes the element characteristics of Example 1, Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 as described above.

Figure 2022036685000005
Figure 2022036685000005

上記の実施例の結果から、本発明に従う量子ドット発光素子において、電子注入層に、ナノ粒子と共に電子輸送性の材料を含ませることで、EL発光時の漏れ電流が抑制され、それにより発光特性が改善できることが示された。 From the results of the above examples, in the quantum dot light emitting device according to the present invention, by including the electron transporting material together with the nanoparticles in the electron injection layer, the leakage current at the time of EL light emission is suppressed, and thereby the light emission characteristics. Was shown to be able to improve.

本発明の量子ドット発光素子は、高色純度な発光を必要とする様々なデバイス、製品に応用することが可能であり、表示装置、照明機器、バックライト、電子写真、照明光源、露出光源、標識、看板、インテリア等に好適に使用できる。 The quantum dot light emitting element of the present invention can be applied to various devices and products that require high color purity light emission, and can be applied to display devices, lighting devices, backlights, electrographs, lighting light sources, exposed light sources, and the like. It can be suitably used for signs, signboards, interiors, etc.

1:量子ドット
2:コア
3:シェル
4:リガンド
10:量子ドット発光素子
20:基板
30:陽極
40:正孔注入層
50:発光層
60:電子注入層
70:陰極
1: Quantum dot 2: Core 3: Shell 4: Ligand 10: Quantum dot light emitting element 20: Substrate 30: Anode 40: Hole injection layer 50: Light emitting layer 60: Electron injection layer 70: Cathode

Claims (6)

陽極と、発光層と、電子注入層と、陰極と、をこの順に具え、
前記発光層が、量子ドットを含み、
前記電子注入層が、ナノ粒子と、電子輸送材料と、を含むことを特徴とする、量子ドット発光素子。
An anode, a light emitting layer, an electron injection layer, and a cathode are provided in this order.
The light emitting layer contains quantum dots.
A quantum dot light emitting device, wherein the electron injection layer contains nanoparticles and an electron transporting material.
前記ナノ粒子が、酸化亜鉛を含むナノ粒子からなる、請求項1に記載の量子ドット発光素子。 The quantum dot light emitting device according to claim 1, wherein the nanoparticles are made of nanoparticles containing zinc oxide. 前記電子輸送材料が、含窒素複素環を有する、請求項1又は2に記載の量子ドット発光素子。 The quantum dot light emitting device according to claim 1 or 2, wherein the electron transport material has a nitrogen-containing heterocycle. 前記電子輸送材料が、ホスフィンオキシド基を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の量子ドット発光素子。 The quantum dot light emitting device according to any one of claims 1 to 3, wherein the electron transport material has a phosphine oxide group. 前記電子輸送材料が、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)である、請求項1~4のいずれか1項に記載の量子ドット発光素子。 Any one of claims 1 to 4, wherein the electron transport material is 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO-T2T). The quantum dot light emitting device described in 1. 請求項1~5のいずれか1項に記載の量子ドット発光素子を具えることを特徴とする、表示装置。 A display device comprising the quantum dot light emitting device according to any one of claims 1 to 5.
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