JP2022018524A - Quantum dot light-emitting element and display device - Google Patents

Quantum dot light-emitting element and display device Download PDF

Info

Publication number
JP2022018524A
JP2022018524A JP2020121681A JP2020121681A JP2022018524A JP 2022018524 A JP2022018524 A JP 2022018524A JP 2020121681 A JP2020121681 A JP 2020121681A JP 2020121681 A JP2020121681 A JP 2020121681A JP 2022018524 A JP2022018524 A JP 2022018524A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
quantum dot
dot light
layer
emitting layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020121681A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
玄一 本村
Genichi Motomura
有希子 岩崎
Yukiko Iwasaki
渓 小倉
Kei Ogura
俊満 都築
Toshimitsu Tsuzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Broadcasting Corp
Original Assignee
Nippon Hoso Kyokai NHK
Japan Broadcasting Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Hoso Kyokai NHK, Japan Broadcasting Corp filed Critical Nippon Hoso Kyokai NHK
Priority to JP2020121681A priority Critical patent/JP2022018524A/en
Publication of JP2022018524A publication Critical patent/JP2022018524A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

To provide a quantum dot light-emitting element which is excellent in element characteristics while suppressing a decrease in color purity due to color mixture of light-emitting components other than quantum dots.SOLUTION: A quantum dot light-emitting element 10 includes a cathode 30, a light-emitting layer 50, and an anode 80, the light-emitting layer 50 being positioned between the cathode 30 and the anode 80. The light-emitting layer 50 contains quantum dots and an electron transport material. The electron transport material comprises a compound containing a phosphine oxide group.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、量子ドット発光素子及び表示装置に関するものである。 The present invention relates to a quantum dot light emitting device and a display device.

表示装置に求められる重要な特性の一つとして、色再現性がある。特に、2018年に放送サービスが始まった4K8Kスーパーハイビジョンの表色系は、自然界に実在するほぼ全ての物体色及び既存表色システムの色域を包含することを目指しており、4K8Kスーパーハイビジョンを表示する表示装置には、広い色域の色再現性が求められる。ここで、自発光型の表示装置の場合、青、緑、赤の各色の発光材料の色純度を高くする必要がある。 Color reproducibility is one of the important characteristics required for display devices. In particular, the color system of 4K8K Super Hi-Vision, whose broadcasting service started in 2018, aims to include almost all object colors existing in nature and the color gamut of existing color systems, and displays 4K8K Super Hi-Vision. The display device is required to have color reproducibility in a wide color gamut. Here, in the case of a self-luminous display device, it is necessary to increase the color purity of each of the blue, green, and red light emitting materials.

近年、下記特許文献1や非特許文献1に開示されているように、半導体ナノ結晶からなる量子ドットを発光材料として用いた電界発光素子(量子ドット発光素子)が提案されている。量子ドットは、結晶粒径を変えることにより発光色を制御することができ、粒径分布を均一にすることにより発光スペクトルの半値幅を小さくすることができる。この発光スペクトルの半値幅が小さい利点を生かして、量子ドットは、表示色域の広い表示装置用の発光材料として利用できる可能性がある。また、量子ドットを用いた電界発光素子の中には、半値幅30nm以下、外部量子効率で約20%を実現した例も存在する(非特許文献2)。 In recent years, as disclosed in Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 below, an electroluminescent element (quantum dot light emitting element) using quantum dots made of semiconductor nanocrystals as a light emitting material has been proposed. The emission color of the quantum dots can be controlled by changing the crystal grain size, and the half width of the emission spectrum can be reduced by making the particle size distribution uniform. Taking advantage of the small half width of the emission spectrum, the quantum dots may be used as a emission material for a display device having a wide display color gamut. Further, among the electroluminescent devices using quantum dots, there is an example in which a half-value width of 30 nm or less and an external quantum efficiency of about 20% are realized (Non-Patent Document 2).

上記の量子ドットを用いた電界発光素子の発光性能を高めるために、量子ドットを電荷の輸送や注入を行うための各種材料と適切に組み合わせて素子化することが検討されている(特許文献2)。 In order to improve the light emitting performance of the electroluminescent device using the above-mentioned quantum dots, it has been studied to appropriately combine the quantum dots with various materials for transporting and injecting electric charges into a device (Patent Document 2). ).

特許第4948747号公報Japanese Patent No. 4948747 特開2019-33005号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-33005

シラサキら(Y.Shirasaki et.al),ネイチャー・フォトニクス(Nature Photonics),7,13(2013)Shirasaki et al. (Y. Shirasaki et. Al), Nature Photonics, 7, 13 (2013) X.ダイら(X.Dai et al.),ネイチャー(Nature),515,96(2014)X. Dai et al. (X. Dai et al.), Nature, 515,96 (2014)

上記量子ドット発光素子の素子化にあたっては、量子ドットを含む発光層に対して、電荷を注入し易い材料を用いることが基本であるが、注入された電荷が対向電極に流れ出て発光に寄与できないような漏れ電流が増加してしまうと、発光効率の低下や不安定な動作につながる。これに対して、本発明者らは、量子ドット発光素子の発光層に量子ドットと共に電子輸送性の材料を含ませることで、電圧印加時の漏れ電流を低減できることを見出した。 In making the quantum dot light emitting device into an element, it is basic to use a material that can easily inject an electric charge into the light emitting layer containing the quantum dots, but the injected electric charge flows out to the counter electrode and cannot contribute to light emission. If such a leakage current increases, it leads to a decrease in luminous efficiency and unstable operation. On the other hand, the present inventors have found that the leakage current when a voltage is applied can be reduced by including the electron transporting material together with the quantum dots in the light emitting layer of the quantum dot light emitting element.

しかしながら、本発明者らが、上記のような発光層に電子輸送材料を含ませた量子ドット発光素子に関する検討を更に進めたところ、電界発光(EL)スペクトルにおいて、量子ドットに由来する発光の他に電子輸送材料に由来する発光成分が僅かに生じていることが分かった。このような発光成分の混色は、量子ドット発光素子の色純度を低下させることにつながる。 However, when the present inventors further studied a quantum dot light emitting device in which an electron transport material is contained in the light emitting layer as described above, in addition to light emission derived from quantum dots in the electroluminescence (EL) spectrum. It was found that a small amount of luminescent components derived from the electron transport material were generated. Such a mixing of light emitting components leads to a decrease in the color purity of the quantum dot light emitting device.

本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、量子ドット以外の発光成分の混色による色純度の低下を抑制しつつも、素子特性に優れた量子ドット発光素子を提供することを課題とする。
また、本発明は、かかる量子ドット発光素子を具え、広色域表示が可能な表示装置を提供することを更なる課題とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a quantum dot light emitting device having excellent element characteristics while suppressing a decrease in color purity due to color mixing of light emitting components other than quantum dots. do.
Further, it is a further object of the present invention to provide a display device capable of displaying a wide color gamut, which is provided with such a quantum dot light emitting element.

本発明者らは、量子ドット発光素子の発光層に量子ドットと共に含ませる電子輸送性の材料について鋭意検討したところ、発光層に含ませる電子輸送材料として、ホスフィンオキシド基を含む化合物を用いることによって、電子輸送材料の発光成分による混色を抑制できることを見出し、本発明に到達したものである。
上記課題を解決する本発明の要旨構成は、以下の通りである。
The present inventors have diligently studied an electron-transporting material to be contained in the light-emitting layer of the quantum dot light-emitting element together with the quantum dots. The present invention has been reached by finding that color mixing due to a light emitting component of an electron transporting material can be suppressed.
The gist structure of the present invention for solving the above problems is as follows.

本発明の量子ドット発光素子は、陰極と、発光層と、陽極と、を具え、前記発光層が、前記陰極と前記陽極との間に位置する量子ドット発光素子であって、
前記発光層が、量子ドットと、電子輸送材料と、を含み、
前記電子輸送材料が、ホスフィンオキシド基を含む化合物からなることを特徴とする。
かかる本発明の量子ドット発光素子は、素子特性に優れ、色純度の高い光を発することが可能である。
The quantum dot light emitting element of the present invention includes a cathode, a light emitting layer, and an anode, and the light emitting layer is a quantum dot light emitting element located between the cathode and the anode.
The light emitting layer contains quantum dots and an electron transporting material.
The electron transport material is characterized by being composed of a compound containing a phosphine oxide group.
The quantum dot light emitting device of the present invention has excellent device characteristics and can emit light with high color purity.

本発明の量子ドット発光素子の好適例においては、前記ホスフィンオキシド基を含む化合物が、含窒素複素環を有する。この場合、素子特性が更に向上する。 In a preferred example of the quantum dot light emitting device of the present invention, the compound containing a phosphine oxide group has a nitrogen-containing heterocycle. In this case, the element characteristics are further improved.

本発明の量子ドット発光素子の他の好適例においては、前記ホスフィンオキシド基を含む化合物が、ジフェニルホスフィンオキシド基を有する。この場合、ELスペクトルに現れる混色を更に抑制でき、色純度の更に高い光を発することができる。 In another preferred example of the quantum dot light emitting device of the present invention, the compound containing a phosphine oxide group has a diphenylphosphine oxide group. In this case, the color mixing appearing in the EL spectrum can be further suppressed, and light having a higher color purity can be emitted.

本発明の量子ドット発光素子の他の好適例においては、前記ホスフィンオキシド基を含む化合物が、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)である。この場合、素子特性が更に向上し、また、ELスペクトルに現れる混色を更に抑制でき、色純度の更に高い光を発することができる。 In another preferred example of the quantum dot light emitting device of the present invention, the compound containing the phosphine oxide group is 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine. (PO-T2T). In this case, the element characteristics are further improved, the color mixing appearing in the EL spectrum can be further suppressed, and light having a higher color purity can be emitted.

また、本発明の表示装置は、上記の量子ドット発光素子を具えることを特徴とする。かかる本発明の表示装置は、広い色域の色再現性を有する。 Further, the display device of the present invention is characterized by including the above-mentioned quantum dot light emitting element. The display device of the present invention has color reproducibility in a wide color gamut.

本発明によれば、素子特性に優れ、色純度の高いEL発光が可能な量子ドット発光素子を提供することができる。
また、本発明によれば、かかる量子ドット発光素子を具え、広色域表示が可能な表示装置を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a quantum dot light emitting device having excellent device characteristics and capable of EL light emission with high color purity.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a display device capable of displaying a wide color gamut, including such a quantum dot light emitting element.

本発明の量子ドット発光素子の構造の一例を示した概略図である。It is a schematic diagram which showed an example of the structure of the quantum dot light emitting device of this invention. 量子ドットの構造の一例を示した模式図である。It is a schematic diagram which showed an example of the structure of a quantum dot. 実施例1及び比較例1、2の量子ドット発光素子の電圧-輝度特性を示すグラフである。It is a graph which shows the voltage-luminance characteristic of the quantum dot light emitting element of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2. 実施例1及び比較例1、2の量子ドット発光素子のELスペクトルである。5 is an EL spectrum of the quantum dot light emitting device of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2.

以下に、本発明の量子ドット発光素子及び表示装置を、その実施形態に基づき、詳細に例示説明する。 Hereinafter, the quantum dot light emitting device and the display device of the present invention will be illustrated and described in detail based on the embodiment thereof.

<<量子ドット発光素子>>
本発明の量子ドット発光素子は、陰極と、発光層と、陽極と、を具え、前記発光層が、前記陰極と前記陽極との間に位置する量子ドット発光素子であって、前記発光層が、量子ドットと、電子輸送材料と、を含み、前記電子輸送材料が、ホスフィンオキシド基を含む化合物からなることを特徴とする。
<< Quantum dot light emitting device >>
The quantum dot light emitting element of the present invention includes a cathode, a light emitting layer, and an anode, and the light emitting layer is a quantum dot light emitting element located between the cathode and the anode, and the light emitting layer is , Quantum dots, and an electron transporting material, wherein the electron transporting material comprises a compound containing a phosphine oxide group.

本発明の量子ドット発光素子においては、発光層が、発光材料として、量子ドットを含むと共に、更に、電子輸送材料を含む。該電子輸送材料は、陰極側から発光層に注入される電子の流れを妨げず、且つ、陽極側から発光層に注入される正孔を陰極側へと通過させない作用(即ち、発光層から流れ出る正孔電流をブロックする作用)を有する。そのため、本発明の量子ドット発光素子は、漏れ電流が抑制されており、素子特性に優れる。
更に、ホスフィンオキシド基を含む電子輸送材料を発光層に含む量子ドット発光素子は、青色から紫外の波長域に主に存在する電子輸送材料に由来する発光が出にくい。従って、本発明の量子ドット発光素子は、電子輸送材料の発光成分による混色を抑制でき、色純度の高い光を発することが可能である。
In the quantum dot light emitting element of the present invention, the light emitting layer includes quantum dots as a light emitting material and further contains an electron transporting material. The electron transport material has an action of not obstructing the flow of electrons injected into the light emitting layer from the cathode side and preventing holes injected into the light emitting layer from the anode side from passing through to the cathode side (that is, flowing out of the light emitting layer). It has the action of blocking the hole current). Therefore, the quantum dot light emitting device of the present invention has excellent element characteristics because the leakage current is suppressed.
Further, the quantum dot light emitting element containing an electron transporting material containing a phosphine oxide group in the light emitting layer is unlikely to emit light derived from the electron transporting material mainly present in the wavelength range from blue to ultraviolet. Therefore, the quantum dot light emitting device of the present invention can suppress color mixing due to the light emitting component of the electron transport material, and can emit light having high color purity.

次に、本発明の量子ドット発光素子の一態様を、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明の量子ドット発光素子の構造の一例を示した概略図である。図1に示す量子ドット発光素子10は、基板20上に、陰極30、電子注入層40、発光層50、正孔輸送層60、正孔注入層70及び陽極80を、この順に積層した構成を有する。なお、図1に示す量子ドット発光素子10は、下部に配置した陰極30側より電子を注入し、上部に配置した陽極80より正孔を注入する構成となっているが、本発明の量子ドット発光素子は、これに限定されるものではなく、上下を逆転した構造であってもよい。また、本発明の量子ドット発光素子においては、電子注入層40と、発光層50との間に、電子輸送層(図示せず)が更に存在していてもよい。
Next, one aspect of the quantum dot light emitting device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view showing an example of the structure of the quantum dot light emitting device of the present invention. The quantum dot light emitting device 10 shown in FIG. 1 has a structure in which a cathode 30, an electron injection layer 40, a light emitting layer 50, a hole transport layer 60, a hole injection layer 70, and an anode 80 are laminated in this order on a substrate 20. Have. The quantum dot light emitting device 10 shown in FIG. 1 is configured to inject electrons from the cathode 30 side arranged at the lower part and holes from the anode 80 arranged at the upper part. The light emitting element is not limited to this, and may have a structure that is upside down. Further, in the quantum dot light emitting device of the present invention, an electron transport layer (not shown) may be further present between the electron injection layer 40 and the light emitting layer 50.

<基板>
前記基板20は、当該基板20側より光を取り出すボトムエミッション型素子の場合は、透明な材料からなることが好ましい。かかる透明な材料としては、ガラス、石英、プラスチックフィルム等を例示することができる。ここで、プラスチックフィルムの材質としては、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等が挙げられる。
一方、上部電極側から光を取り出すトップエミッション型素子の場合には、基板20の材料は、必ずしも透明な材料である必要はない。基板20として、不透明基板を用いる場合、該不透明基板としては、例えば、着色したプラスチックフィルム基板、アルミナのようなセラミックス材料からなる基板、ステンレス鋼のような金属板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成した基板等が挙げられる。
また、基板20として、例えば、プラスチックフィルム等の可撓性基板を用い、その上に量子ドット発光素子を形成した場合には、画像表示部を容易に変形することのできるフレキシブル量子ドット発光素子とすることができる。
前記基板20の平均厚さは、特に限定されるものではないが、0.001~30mmが好ましく、0.01~1mmがより好ましい。
<Board>
In the case of a bottom emission type element that extracts light from the substrate 20 side, the substrate 20 is preferably made of a transparent material. Examples of such transparent materials include glass, quartz, and plastic films. Here, examples of the material of the plastic film include polyimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyether sulfone, polymethylmethacrylate, polycarbonate, polyarylate and the like.
On the other hand, in the case of a top emission type element that extracts light from the upper electrode side, the material of the substrate 20 does not necessarily have to be a transparent material. When an opaque substrate is used as the substrate 20, the opaque substrate may be, for example, a colored plastic film substrate, a substrate made of a ceramic material such as alumina, or an oxide film (insulating film) on the surface of a metal plate such as stainless steel. Examples thereof include a substrate on which the above is formed.
Further, when a flexible substrate such as a plastic film is used as the substrate 20 and a quantum dot light emitting element is formed on the flexible substrate, the flexible quantum dot light emitting element capable of easily deforming the image display unit is used. can do.
The average thickness of the substrate 20 is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 30 mm, more preferably 0.01 to 1 mm.

<陰極>
前記陰極30は、基板20側より光を取り出すボトムエミッション型素子の場合は、透明で導電性の高い材料からなることが好ましい。この場合、陰極30としては、例えば、インジウム-錫-酸化物(ITO)、インジウム-亜鉛-酸化物(IZO)等の導電性透明酸化物を用いることができる。
一方、上部電極側から光を取り出すトップエミッション型素子の場合には、陰極30の材料は、必ずしも透明な材料である必要はないため、陰極30として、金属電極を用いてもよい。ここで、陰極30の材料としては、仕事関数が比較的小さい金属が好ましい。仕事関数の小さい金属を用いることにより、陰極30から有機層への電子注入障壁を低くすることができ、電子を注入させ易くすることができる。陰極30に用いる金属としては、例えば、Al、Mg、Ca、Ba、Li、Na等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
前記陰極30の平均厚さは、特に限定されるものではないが、10~500nmが好ましく、50~200nmが更に好ましい。
<Cathode>
In the case of a bottom emission type element that extracts light from the substrate 20 side, the cathode 30 is preferably made of a transparent and highly conductive material. In this case, as the cathode 30, for example, a conductive transparent oxide such as indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) can be used.
On the other hand, in the case of a top emission type element that extracts light from the upper electrode side, the material of the cathode 30 does not necessarily have to be a transparent material, so that a metal electrode may be used as the cathode 30. Here, as the material of the cathode 30, a metal having a relatively small work function is preferable. By using a metal having a small work function, the barrier for electron injection from the cathode 30 to the organic layer can be lowered, and electrons can be easily injected. Examples of the metal used for the cathode 30 include, but are not limited to, Al, Mg, Ca, Ba, Li, Na and the like.
The average thickness of the cathode 30 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 50 to 200 nm.

<電子注入層>
前記電子注入層40は、陰極30からの電子注入を容易にするために形成する。該電子注入層40の材料としては、有機材料、無機材料のいずれも用いることができる。電子注入層40の材料として、より具体的には、酸化亜鉛(ZnO)、フッ化リチウム(LiF)、酸化リチウム(Li2O)、酸化チタン(TiO2)、酸化ケイ素(SiO2)、酸化スズ(SnO2)、酸化タングステン(WO3)、酸化タンタル(Ta23)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化ハフニウム(HfO2)、酸化アルミニウム(Al23)等が挙げられる。これらの中でも、電子注入性の観点から、酸化亜鉛が特に好ましい。
<Electron injection layer>
The electron injection layer 40 is formed to facilitate electron injection from the cathode 30. As the material of the electron injection layer 40, either an organic material or an inorganic material can be used. More specifically, as the material of the electron injection layer 40, zinc oxide (ZnO), lithium fluoride (LiF), lithium oxide (Li 2 O), titanium oxide (TIO 2 ), silicon oxide (SiO 2 ), and oxidation Examples thereof include tin (SnO 2 ), tungsten oxide (WO 3 ), tantalum oxide (Ta 2 O 3 ), zinc oxide (ZrO 2 ), hafnium oxide (HfO 2 ), and aluminum oxide (Al 2 O 3 ). Among these, zinc oxide is particularly preferable from the viewpoint of electron injectability.

電子注入層40の形成には、ナノ粒子を用いることが好ましい。該ナノ粒子の粒径は、1nm~100nmが好ましく、1nm~10nmが更に好ましい。好ましくは、酸化亜鉛ナノ粒子等の金属酸化物のナノ粒子をスピンコート法によって成膜した薄膜を、電子注入層40として用いることができる。
前記電子注入層40の平均厚さは、特に限定されるものではないが、5~200nmが好ましく、10~100nmが更に好ましい。
It is preferable to use nanoparticles for forming the electron injection layer 40. The particle size of the nanoparticles is preferably 1 nm to 100 nm, more preferably 1 nm to 10 nm. Preferably, a thin film formed by forming metal oxide nanoparticles such as zinc oxide nanoparticles by a spin coating method can be used as the electron injection layer 40.
The average thickness of the electron injection layer 40 is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm.

<電子輸送層>
上述の通り、電子注入層40と、発光層50との間には、電子輸送層が存在していてもよい。該電子輸送層は、陰極30から注入した電子を発光層50まで輸送するために用いる。該電子輸送層は、独立した層として形成される場合もあれば、発光層50と一体となって形成される場合もある。また、発光層50に混合される電子輸送材料と同じ材料を用いる場合もある。電子輸送層を構成する材料として、下記一般式(1):

Figure 2022018524000002
に示すような含窒素複素環を含む低分子材料あるいは高分子材料を用いると、陰極30から注入された電子が効率よく電子輸送層中を移動し、発光層50の量子ドットに電子が効率よく注入されるため、高効率の発光素子を得ることができる。 <Electron transport layer>
As described above, an electron transport layer may exist between the electron injection layer 40 and the light emitting layer 50. The electron transport layer is used to transport the electrons injected from the cathode 30 to the light emitting layer 50. The electron transport layer may be formed as an independent layer, or may be integrally formed with the light emitting layer 50. Further, the same material as the electron transport material mixed in the light emitting layer 50 may be used. As a material constituting the electron transport layer, the following general formula (1):
Figure 2022018524000002
When a small molecule material or a polymer material containing a nitrogen-containing heterocycle as shown in is used, the electrons injected from the cathode 30 efficiently move in the electron transport layer, and the electrons efficiently move to the quantum dots of the light emitting layer 50. Since it is injected, a highly efficient light emitting element can be obtained.

上記一般式(1)において、円弧の部分は、C及びNと共に環構造を形成していることを示す。ここで、一般式(1)で示される含窒素複素環としては、トリアジン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピリダジン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、トリアゾール環、フェナントロリン環等が挙げられる。 In the above general formula (1), it is shown that the arc portion forms a ring structure together with C and N. Here, the nitrogen-containing heterocycle represented by the general formula (1) includes a triazine ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a pyridazine ring, an oxazole ring, an oxadiazole ring, a benzoxazole ring, an imidazole ring, and a benzimidazole. Examples thereof include a ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a quinoxaline ring, a triazole ring, and a phenanthroline ring.

前記電子輸送層を構成する材料として、例えば、トリアジン誘導体、ピリジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体等の含窒素複素環式化合物が挙げられる。ここで、トリアジン誘導体としては、2,4,6-トリス(ビフェニル-3-イル)-1,3,5-トリアジン(T2T)、2,4,6-トリス(3’-(ピリジン-3-イル)ビフェニル-3-イル)-1,3,5-トリアジン(TmPPPyTz)等が挙げられ、ピリジン誘導体としては、トリス(2,4,6-トリメチル-3-(ピリジン-3-イル)フェニル)ボラン(3TPYMB)等が挙げられ、オキサジアゾール誘導体としては、2-(4-ビフェニリル)-5-(4-tert-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール、1,3-ビス[5-(p-tert-ブチルフェニル)-1,3,4-オキサジアゾール-2-イル]ベンゼン等が挙げられ、トリアゾール誘導体としては、3-(4-tert-ブチルフェニル)-4-フェニル-5-(4-ビフェニリル)-1,2,4-トリアゾール、3-(4-tert-ブチルフェニル)-4-(4-エチルフェニル)-5-(4-ビフェニリル)-1,2,4-トリアゾール等が挙げられ、フェナントロリン誘導体としては、4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン(Bphen)、2,9-ジメチル-4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン(BCP)等が挙げられる。 Examples of the material constituting the electron transport layer include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as a triazine derivative, a pyridine derivative, an oxadiazole derivative, a triazole derivative, and a phenanthroline derivative. Here, examples of the triazine derivative include 2,4,6-tris (biphenyl-3-yl) -1,3,5-triazine (T2T) and 2,4,6-tris (3'-(pyridine-3-3-yl)). Il) Biphenyl-3-yl) -1,3,5-triazine (TmPPPyTz) and the like, and examples of the pyridine derivative include tris (2,4,6-trimethyl-3- (pyridine-3-yl) phenyl). Examples thereof include borane (3TPYMB), and examples of the oxadiazole derivative include 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole and 1,3-bis. [5- (p-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole-2-yl] benzene and the like can be mentioned, and examples of the triazole derivative include 3- (4-tert-butylphenyl) -4-. Phenyl-5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole, 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2, Examples of the phenanthroline derivative include 4-triazole and the like, and examples of the phenanthroline derivative include 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (Bphenyl), 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP) and the like. Can be mentioned.

<発光層>
前記発光層50は、量子ドットと、電子輸送材料と、を含む。該発光層50では、陽極80から注入された正孔と陰極30から注入された電子とが再結合して、量子ドットが励起状態となり、基底状態に戻るときに放出されるエネルギーにより発光が得られる。
発光層50の発光色は、発光層50に含まれる量子ドットの結晶粒径や種類(材質)によって変化させることができる。ここで、量子ドットの結晶粒径は、所望の発光色に応じて選択でき、例えば、1~20nmが好ましく、2~10nmが更に好ましい。該量子ドットは、半導体微粒子からなるコアと呼ばれる中心部分と、コアの表面(又は後述するシェルの表面)を覆うリガンドと呼ばれる有機物と、からなることが好ましい。
<Light emitting layer>
The light emitting layer 50 includes quantum dots and an electron transporting material. In the light emitting layer 50, the holes injected from the anode 80 and the electrons injected from the cathode 30 are recombinated, the quantum dots are in an excited state, and light emission is obtained by the energy emitted when the quantum dots return to the ground state. Be done.
The emission color of the light emitting layer 50 can be changed depending on the crystal grain size and the type (material) of the quantum dots contained in the light emitting layer 50. Here, the crystal grain size of the quantum dots can be selected according to the desired emission color, and is preferably 1 to 20 nm, more preferably 2 to 10 nm, for example. The quantum dots are preferably composed of a central portion called a core made of semiconductor fine particles and an organic substance called a ligand that covers the surface of the core (or the surface of the shell described later).

--量子ドットのコア--
前記量子ドットのコア部分を構成する半導体の例としては、II-VI族の化合物、II-V族の化合物、III-VI族の化合物、III-V族の化合物、IV-VI族の化合物、I-III-VI族の化合物、II-IV-VI族の化合物、及びII-IV-V族の化合物、例えば、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、InN、InP、InAs、InSb、CuInS、AgInS等が挙げられる。また、不純物の混入等に起因して、構成する元素の一部が他の金属元素により置換されていてもよい。これらの中でも、量子ドットのコアとしては、合成の容易さ、所望の波長の発光を得るための粒径及び/又は粒径分布の制御のし易さ、発光の量子効率の観点から、CdSe、InPが好ましい。前記コアは、例えば、10nm以下の平均粒径を有してよい。
--Quantum dot core --
Examples of semiconductors constituting the core portion of the quantum dots include II-VI group compounds, II-V group compounds, III-VI group compounds, III-V group compounds, and IV-VI group compounds. I-III-VI group compounds, II-IV-VI group compounds, and II-IV-V group compounds, such as ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, InN, InP, InAs, InSb, Examples thereof include CuInS and AgInS. In addition, some of the constituent elements may be replaced with other metal elements due to the inclusion of impurities or the like. Among these, as the core of the quantum dot, CdSe, from the viewpoint of ease of synthesis, ease of controlling the particle size and / or particle size distribution for obtaining light emission of a desired wavelength, and quantum efficiency of light emission, InP is preferred. The core may have, for example, an average particle size of 10 nm or less.

--量子ドットのシェル--
前記量子ドットは、コアの周りを取り囲むようにシェルと呼ばれる一層または複数層の半導体層を有してもよい。ここで、シェル部分を構成する半導体も、コア部分を構成する半導体と同様の組成の半導体を用いることができる。量子ドットのシェルは、被覆するコアに用いられる半導体に応じて選択することが好ましく、シェルとしては、コアよりも大きなバンドギャップを有する半導体を用いることが好ましい。この場合、コアの励起エネルギーが、シェルによって効率よくコア内に閉じ込められる。具体的には、例えば、コアがCdSe、InPからなる場合、シェルには、より大きなバンドギャップを有するZnSを用いることが好ましい。シェルの厚さは、0.1nm~50nmの範囲内、特には0.2nm~10nmの範囲内にあってよい。
--Quantum dot shell ---
The quantum dots may have one or more semiconductor layers called shells so as to surround the core. Here, as the semiconductor constituting the shell portion, a semiconductor having the same composition as the semiconductor constituting the core portion can be used. The shell of the quantum dots is preferably selected according to the semiconductor used for the core to be coated, and the shell preferably uses a semiconductor having a band gap larger than that of the core. In this case, the excitation energy of the core is efficiently confined in the core by the shell. Specifically, for example, when the core is composed of CdSe and InP, it is preferable to use ZnS having a larger band gap for the shell. The thickness of the shell may be in the range of 0.1 nm to 50 nm, particularly in the range of 0.2 nm to 10 nm.

また、前記シェルは、その化合物半導体の晶系がコアの化合物半導体の晶系となじみのあるものであってよく、また、その格子定数が、コアの化合物半導体の格子定数と同じ又は近いものであってよい。晶系になじみがあり、格子定数が近い化合物半導体からなるシェルは、コアの周囲を良好に被覆することがある。あるいは、シェルは、アモルファス(非晶質)であってもよい。 Further, the shell may have a crystal system of the compound semiconductor familiar with the crystal system of the core compound semiconductor, and the lattice constant thereof is the same as or close to the lattice constant of the core compound semiconductor. It may be there. A shell made of a compound semiconductor that is familiar to the crystal system and has a close lattice constant may cover the circumference of the core well. Alternatively, the shell may be amorphous.

前記シェルは、その表面が任意の化合物で修飾されていてよい。シェルの表面がコアシェル構造の半導体ナノ粒子の露出表面である場合には、当該表面をリガンド(表面修飾剤)で修飾することによって、ナノ粒子を安定化させて半導体ナノ粒子の凝集または成長を防止することができ、並びに/或いは、半導体ナノ粒子の溶媒中での分散性を向上させることができる。
前記表面の修飾に用いるリガンド(表面修飾剤)としては、例えば、炭素数4~20の炭化水素基を有する含窒素化合物、含硫黄化合物、含酸素化合物等が挙げられる。炭素数4~20の炭化水素基としては、n-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等の飽和脂肪族炭化水素基;オレイル基等の不飽和脂肪族炭化水素基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の脂環式炭化水素基;フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、ナフチルメチル基等の芳香族炭化水素基、等が挙げられ、このうち飽和脂肪族炭化水素基や不飽和脂肪族炭化水素基が好ましい。含窒素化合物としては、アミン類やアミド類が挙げられ、含硫黄化合物としては、チオール類が挙げられ、含酸素化合物としては脂肪酸類などが挙げられる。
含窒素化合物の表面修飾剤は、例えば、n-ブチルアミン、イソブチルアミン、n-ペンチルアミン、n-ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン等のアルキルアミンや、オレイルアミン等のアルケニルアミンである。
含硫黄化合物の表面修飾剤は、例えば、n-ブタンチオール、イソブタンチオール、n-ペンタンチオール、n-ヘキサンチオール、オクタンチオール、デカンチオール、ドデカンチオール、ヘキサデカンチオール、オクタデカンチオール等である。
含酸素化合物の表面修飾剤は、例えば、オレイン酸、ステアリン酸、ラウリン酸等である。
The surface of the shell may be modified with any compound. When the surface of the shell is an exposed surface of semiconductor nanoparticles having a core-shell structure, the surface is modified with a ligand (surface modifier) to stabilize the nanoparticles and prevent the aggregation or growth of the semiconductor nanoparticles. And / or the dispersibility of the semiconductor nanoparticles in the solvent can be improved.
Examples of the ligand (surface modifying agent) used for modifying the surface include a nitrogen-containing compound having a hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, a sulfur-containing compound, an oxygen-containing compound, and the like. Hydrocarbon groups having 4 to 20 carbon atoms include saturated aliphatic hydrocarbons such as n-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group and octadecyl group. Hydrogen group; unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as oleyl group; alicyclic hydrocarbon group such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; aromatic hydrocarbon group such as phenyl group, benzyl group, naphthyl group and naphthylmethyl group, etc. Of these, saturated aliphatic hydrocarbon groups and unsaturated aliphatic hydrocarbon groups are preferable. Examples of the nitrogen-containing compound include amines and amides, examples of the sulfur-containing compound include thiols, and examples of the oxygen-containing compound include fatty acids.
Examples of the surface modifier of the nitrogen-containing compound include alkylamines such as n-butylamine, isobutylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, octylamine, decylamine, dodecylamine, hexadecylamine and octadecylamine, and oleylamine and the like. Alkenylamine.
The surface modifier of the sulfur-containing compound is, for example, n-butanethiol, isobutanethiol, n-pentanethiol, n-hexanethiol, octanethiol, decanethiol, dodecanethiol, hexadecanethiol, octadecanethiol and the like.
The surface modifier of the oxygen-containing compound is, for example, oleic acid, stearic acid, lauric acid and the like.

合成された量子ドットは、通常は、未反応原料を始めとする不純物を含んでいる。発光層に余分な原料成分を含むと電荷輸送を阻害することから、精製処理を施して余分な原料成分を除去することが好ましい。このときの精製方法としては、沈殿・再分散を利用した方法が挙げられる。これは量子ドット分散液に量子ドットを分散させない溶媒(貧溶媒)を加えて、量子ドットを沈殿させて回収し、目的の溶媒に再分散させる方法である。極性の小さい有機溶媒に分散している量子ドットに対しては、一般的に貧溶媒として極性の大きいアルコール等の溶媒を加えて沈殿を得る。 The synthesized quantum dots usually contain impurities such as unreacted raw materials. If the light emitting layer contains an extra raw material component, charge transport is hindered. Therefore, it is preferable to perform a purification treatment to remove the excess raw material component. Examples of the purification method at this time include a method using precipitation / redispersion. This is a method in which a solvent (poor solvent) that does not disperse quantum dots is added to the quantum dot dispersion liquid to precipitate and recover the quantum dots, and the quantum dots are redispersed in the target solvent. For quantum dots dispersed in an organic solvent having a small polarity, a solvent such as alcohol having a large polarity is generally added as a poor solvent to obtain a precipitate.

図2に、本発明の量子ドット発光素子に好適に用いることができる量子ドットの構造の一例を示す。図2に示す量子ドット1は、コア2と、コア2の周りを取り囲むシェル3と、シェル3の表面を覆うリガンド4と、を具える。該量子ドット1は、化学的安定性が高く、凝集が生じ難い。また、該量子ドット1は、溶液として調製し易く、スピンコート法等によって成膜し易いという利点がある。 FIG. 2 shows an example of a quantum dot structure that can be suitably used for the quantum dot light emitting device of the present invention. The quantum dot 1 shown in FIG. 2 includes a core 2, a shell 3 surrounding the core 2, and a ligand 4 covering the surface of the shell 3. The quantum dots 1 have high chemical stability and are less likely to aggregate. Further, the quantum dot 1 has an advantage that it is easy to prepare as a solution and it is easy to form a film by a spin coating method or the like.

前記発光層50は、上述の量子ドットと共に、電子輸送材料を含み、発光層50が電子輸送材料を含むことで、量子ドット発光素子の発光特性を向上させることができる。前記電子輸送材料は、例えば、前記量子ドットと混合され、発光層50において、量子ドットの隙間を埋める形で存在する。該電子輸送材料は、量子ドットと混合して使用する場合は、量子ドットの分散液に溶解する材料であることが好ましい。該電子輸送材料としては、有機溶媒への溶解性を有し、且つ電子輸送性を有する有機材料であり、量子ドット発光素子のEL発光に混色を起こさない材料を好適に用いることができる。 The light emitting layer 50 contains an electron transporting material together with the above-mentioned quantum dots, and the light emitting layer 50 contains an electron transporting material, so that the light emitting characteristics of the quantum dot light emitting element can be improved. The electron transport material is, for example, mixed with the quantum dots and exists in the light emitting layer 50 in a form of filling the gaps between the quantum dots. When the electron transport material is used in combination with quantum dots, it is preferable that the electron transport material is a material that dissolves in the dispersion liquid of the quantum dots. As the electron transporting material, a material which is soluble in an organic solvent and has electron transporting property and which does not cause color mixing in the EL light emission of the quantum dot light emitting element can be preferably used.

前記発光層50に含まれる電子輸送材料は、ホスフィンオキシド基(P=O)を含む化合物からなり、好ましくはホスフィンオキシド基を含む電子輸送性の有機材料である。電子輸送性の有機材料としては、例えば、トリアジン誘導体、ピリジン誘導体、フェナントロリン誘導体、イミダゾール誘導体、トリアゾール誘導体等が挙げられる。 The electron transporting material contained in the light emitting layer 50 is composed of a compound containing a phosphine oxide group (P = O), and is preferably an electron transporting organic material containing a phosphine oxide group. Examples of the electron-transporting organic material include triazine derivatives, pyridine derivatives, phenanthroline derivatives, imidazole derivatives, triazole derivatives and the like.

また、該電子輸送材料としては、上記の「電子輸送層」の項で説明したような、含窒素複素環を含む低分子材料あるいは高分子材料が好ましく、上記一般式(1)に示すような含窒素複素環を含む低分子材料あるいは高分子材料が更に好ましい。即ち、前記発光層50に用いる電子輸送材料としては、ホスフィンオキシド基と、含窒素複素環と、を有する化合物が好ましい。この場合、量子ドット発光素子の素子特性が更に向上する。 Further, as the electron transporting material, a small molecule material or a polymer material containing a nitrogen-containing heterocycle as described in the section of the above-mentioned "electron transporting layer" is preferable, and as shown in the above general formula (1). A small molecule material or a polymer material containing a nitrogen-containing heterocycle is more preferable. That is, as the electron transport material used for the light emitting layer 50, a compound having a phosphine oxide group and a nitrogen-containing heterocycle is preferable. In this case, the element characteristics of the quantum dot light emitting device are further improved.

また、前記発光層50に用いる電子輸送材料(ホスフィンオキシド基を含む化合物)としては、ジフェニルホスフィンオキシド基[-P(Ph)2(=O)、ここで、「Ph」はフェニル基を示す。]を有する化合物が好ましい。この場合、ELスペクトルに現れる混色を更に抑制でき、色純度の更に高い光を発することができる。 Further, as the electron transport material (compound containing a phosphine oxide group) used for the light emitting layer 50, a diphenylphosphine oxide group [−P (Ph) 2 (= O), where “Ph” indicates a phenyl group. ] Is preferred. In this case, the color mixing appearing in the EL spectrum can be further suppressed, and light having a higher color purity can be emitted.

前記発光層50に電子輸送材料として用いるホスフィンオキシド基を含む化合物として、具体的には、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)、[4’-(9H-カルバゾール-9-イル)-2,2’-ジメチル-(1,1’-ビフェニル)-4-イル]ジフェニルホスフィンオキシド、{5-[9’H-(9,3’:6’、9”-テルカルバゾール)-9’-イル]ピリジン-3-イル}ジフェニルホスフィンオキシド、2-(ジフェニルホスフィニル)-スピロ[9H-フロオレン-9,9’-キノ[3,2,1-kl]フェノキサジン]、2,7-ビス(ジフェニルホスホリル)-9-フェニル-9H-カルバゾール、ビス[4-(N-カルバゾリル)フェニル]フェニルホスフィンオキシド、2,7-ビス(ジフェニルホスホリル)-9,9’-スピロビフルオレン、3-(ジフェニルホスホリル)-9-[4-(ジフェニルホスホリル)フェニル]-9H-カルバゾール、2,7-ビス(ジフェニルホスホリル)-9-(4-ジフェニルアミノ)フェニル-9’-フェニル-フルオレン、9-[3,5-ビス(ジフェニルホスホリル)フェニル]-9H-カルバゾール、9-[3-(9H-カルバゾール-9-イル)フェニル]-3-(ジフェニルホスホリル)-9H-カルバゾール、9-[8-(ジフェニルホスホリル)ジベンゾ[b,d]フラン-2-イル]-9H-カルバゾール、3,3’,3”-ホスフィニリジントリス(9-フェニル-9H-カルバゾール)、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]ピリジン、3,5-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]ピリジン、2,5-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,4-オキサジアゾール、3,5-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,2,4-トリアゾール、4,7-ビス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,10-フェナントロリン等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、量子ドット発光素子のELスペクトルに現れる混色を抑制する効果、及び素子特性の観点から、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)が好ましい。 Specific examples of the compound containing a phosphinoxide group used as an electron transport material in the light emitting layer 50 include 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine ( PO-T2T), [4'-(9H-carbazole-9-yl) -2,2'-dimethyl- (1,1'-biphenyl) -4-yl] diphenylphosphine oxide, {5- [9'H -(9,3': 6', 9 "-telcarbazole) -9'-yl] pyridine-3-yl} diphenylphosphinoxide, 2- (diphenylphosphinyl) -spiro [9H-fluorolen-9,9" '-Kino [3,2,1-kl] phenoxazine], 2,7-bis (diphenylphosphoryl) -9-phenyl-9H-carbazole, bis [4- (N-carbazolyl) phenyl] phenylphosphine oxide, 2 , 7-Bis (diphenylphosphoryl) -9,9'-spirobifluorene, 3- (diphenylphosphoryl) -9- [4- (diphenylphosphoryl) phenyl] -9H-carbazole, 2,7-bis (diphenylphosphoryl) -9- (4-diphenylamino) phenyl-9'-phenyl-fluorene, 9- [3,5-bis (diphenylphosphoryl) phenyl] -9H-carbazole, 9- [3- (9H-carbazole-9-yl) ) Phenyl] -3- (diphenylphosphoryl) -9H-carbazole, 9- [8- (diphenylphosphoryl) dibenzo [b, d] furan-2-yl] -9H-carbazole, 3,3', 3 "-phos Finilidinetris (9-phenyl-9H-carbazole), 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] pyridine, 3,5-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] pyridine , 2,5-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,4-oxadiazole, 3,5-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,2,4 -Triazole, 4,7-bis [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,10-phenanthroline and the like can be mentioned, and one or more of these can be used. Among these, 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5 from the viewpoint of the effect of suppressing color mixing appearing in the EL spectrum of the quantum dot light emitting element and the element characteristics. -Triazine (PO-T2T) is preferred.

また、前記電子輸送材料の添加量は、前記量子ドットに対して質量比で0.01~10の範囲が好ましく、0.1~2の範囲が更に好ましい。量子ドットと電子輸送材料との質量比が上記の範囲内であれば、電子輸送材料による混色を抑制しつつ、量子ドット発光素子の漏れ電流を抑制する効果、及び素子特性を向上させる効果が向上する。 The amount of the electron transporting material added is preferably in the range of 0.01 to 10 in terms of mass ratio with respect to the quantum dots, and more preferably in the range of 0.1 to 2. When the mass ratio of the quantum dot and the electron transport material is within the above range, the effect of suppressing the leakage current of the quantum dot light emitting element and the effect of improving the element characteristics are improved while suppressing the color mixing due to the electron transport material. do.

発光層50の成膜方法としては、特に限定されないが、量子ドットを有機溶媒や水に溶解させた溶液を調製し、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等によって成膜することができる。このとき、赤、緑、青に発光する材料を微細に塗分けすることで、カラー表示が可能な表示装置の画素とすることができる。
前記発光層50の平均厚さは、特に限定されるものではないが、5~200nmが好ましく、10~50nmが更に好ましい。
The film forming method of the light emitting layer 50 is not particularly limited, but a solution in which quantum dots are dissolved in an organic solvent or water can be prepared and formed by a spin coating method, an inkjet method, a printing method or the like. At this time, by finely painting the materials that emit light in red, green, and blue, the pixels of the display device capable of color display can be obtained.
The average thickness of the light emitting layer 50 is not particularly limited, but is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 50 nm.

<正孔輸送層>
前記正孔輸送層60は、陽極80から注入した正孔を発光層50まで輸送するために用いる。正孔輸送層60を構成する材料としては、正孔輸送性の無機材料あるいは有機材料を用いることができる。正孔輸送層60を構成する材料は、好ましくは正孔輸送性の有機材料である。正孔輸送性の有機材料としては、低分子材料、高分子材料のいずれも用いることができる。正孔輸送層60を構成する材料としては、例えば、4,4’,4”-トリス(カルバゾール-9-イル)トリフェニルアミン(TCTA)、2,2’-ビス(N-カルバゾール)-9,9’-スピロビフルオレン(CFL)、4,4’-ビス(カルバゾール-9-イル)ビフェニル(CBP)、4,4’,4”-トリメチルトリフェニルアミン、N,N,N’,N’-テトラフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD1)、N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス(4-メトキシフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD2)、N,N,N’,N’-テトラキス(4-メトキシフェニル)-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(TPD3)、N,N’-ジ(1-ナフチル)-N,N’-ジフェニル-1,1’-ビフェニル-4,4’-ジアミン(α-NPD)、4,4’,4”-トリス(N-3-メチルフェニル-N-フェニルアミノ)トリフェニルアミン(m-MTDATA)等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、正孔輸送性の観点から、2,2’-ビス(N-カルバゾール)-9,9’-スピロビフルオレン(CFL)が好ましい。
前記正孔輸送層60の平均厚さは、特に限定されるものではないが、10~500nmであることが好ましく、20~100nmが更に好ましい。
<Hole transport layer>
The hole transport layer 60 is used to transport the holes injected from the anode 80 to the light emitting layer 50. As the material constituting the hole transport layer 60, a hole transporting inorganic material or an organic material can be used. The material constituting the hole transport layer 60 is preferably a hole transport organic material. As the hole-transporting organic material, either a small molecule material or a polymer material can be used. Examples of the material constituting the hole transport layer 60 include 4,4', 4 "-tris (carbazole-9-yl) triphenylamine (TCTA) and 2,2'-bis (N-carbazole) -9. , 9'-spirobifluorene (CFL), 4,4'-bis (carbazole-9-yl) biphenyl (CBP), 4,4', 4 "-trimethyltriphenylamine, N, N, N', N '-Tetraphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4' -Diamine (TPD1), N, N'-diphenyl-N, N'-bis (4-methoxyphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD2), N, N, N', N'-tetrakis (4-methoxyphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (TPD3), N, N'-di (1-naphthyl) -N, N'-diphenyl-1,1 '-Biphenyl-4,4'-diamine (α-NPD), 4,4', 4 "-tris (N-3-methylphenyl-N-phenylamino) triphenylamine (m-MTDATA) and the like can be mentioned. , One or more of these can be used. Among these, 2,2'-bis (N-carbazole) -9,9'-spirobifluorene (CFL) from the viewpoint of hole transportability. Is preferable.
The average thickness of the hole transport layer 60 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 to 100 nm.

<正孔注入層>
前記正孔注入層70は、陽極80からの正孔注入を容易にする目的で用いる。正孔注入層70の材料としては、無機材料、有機材料のいずれも用いることができる。無機材料としては、酸化モリブデン(MoO3)、酸化バナジウム(V25)、酸化ルテニウム(RuO2)、酸化レニウム、酸化タングステン、酸化マンガン等が挙げられる。また、有機材料としては、低分子材料、高分子材料のいずれも用いることができるが、高分子材料の例としては、PEDOT:PSS等が挙げられる。なお、PEDOTは、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)を示し、PSSは、ポリ(スチレンスルホン酸)を示す。正孔注入層70には、これらの1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、正孔注入層70に用いる材料としては、正孔注入性の観点から、酸化モリブデンが好ましい。
前記正孔注入層70の平均厚さは、特に限定されるものではないが、1~500nmが好ましく、3~50nmが更に好ましい。
<Hole injection layer>
The hole injection layer 70 is used for the purpose of facilitating hole injection from the anode 80. As the material of the hole injection layer 70, either an inorganic material or an organic material can be used. Examples of the inorganic material include molybdenum oxide (MoO 3 ), vanadium oxide (V 2 O 5 ), ruthenium oxide (RuO 2 ), rhenium oxide, tungsten oxide, manganese oxide and the like. Further, as the organic material, either a low molecular weight material or a high molecular weight material can be used, and examples of the high molecular weight material include PEDOT: PSS and the like. PEDOT indicates poly (3,4-ethylenedioxythiophene), and PSS indicates poly (styrene sulfonic acid). One or more of these can be used for the hole injection layer 70. Among these, molybdenum oxide is preferable as the material used for the hole injection layer 70 from the viewpoint of hole injection property.
The average thickness of the hole injection layer 70 is not particularly limited, but is preferably 1 to 500 nm, more preferably 3 to 50 nm.

<陽極>
前記陽極80は、前記基板20側より光を取り出すボトムエミッション型素子の場合は、金属の薄膜を用いることができる。ここで、陽極80の材料としては、仕事関数が比較的大きい金属が好ましい。仕事関数の大きい金属を用いることにより、陽極80から有機層への正孔注入障壁を低くすることができ、正孔を注入させ易くすることができる。陽極80に用いる金属材料としては、特に限定されないが、Al、Au、Pt、Ni、W、Cr、Mo、Fe、Co、Cu等が挙げられ、Alを用いることが好ましい。
前記基板20や下部の陰極30が透明でない場合には、上部電極となる陽極80は、透明電極とする。ここで、該透明電極の材料としては、特に限定されないが、例えば、インジウム-錫-酸化物(ITO)、インジウム-亜鉛-酸化物(IZO)等の導電性透明酸化物を用いることができる。
前記陽極80の平均厚さは、特に限定されるものではないが、10~500nmが好ましく、30~150nmが更に好ましい。
<Anode>
As the anode 80, a metal thin film can be used in the case of a bottom emission type element that extracts light from the substrate 20 side. Here, as the material of the anode 80, a metal having a relatively large work function is preferable. By using a metal having a large work function, the hole injection barrier from the anode 80 to the organic layer can be lowered, and holes can be easily injected. The metal material used for the anode 80 is not particularly limited, and examples thereof include Al, Au, Pt, Ni, W, Cr, Mo, Fe, Co, and Cu, and it is preferable to use Al.
When the substrate 20 and the lower cathode 30 are not transparent, the anode 80 to be the upper electrode is a transparent electrode. Here, the material of the transparent electrode is not particularly limited, but for example, a conductive transparent oxide such as indium-tin-oxide (ITO) and indium-zinc-oxide (IZO) can be used.
The average thickness of the anode 80 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 30 to 150 nm.

上述した電子注入層40、正孔輸送層60、正孔注入層70は、省略することも可能であり、また、それぞれの層が複数の役割を受け持つ構造となっていてもよい。例えば、一つの層で、正孔注入層と正孔輸送層を兼用したりすることも可能である。 The electron injection layer 40, the hole transport layer 60, and the hole injection layer 70 described above may be omitted, and each layer may have a structure in which it has a plurality of roles. For example, one layer can be used as both a hole injection layer and a hole transport layer.

<各層の形成方法>
前記陰極30、電子注入層40、電子輸送層、発光層50、正孔輸送層60、正孔注入層70、陽極80の形成方法は、特に限定されるものではなく、真空蒸着法、電子ビーム法、スパッタリング法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等の方法を用いることができる。また、これらの方法を用いて、陰極30、電子注入層40、電子輸送層、発光層50、正孔輸送層60、正孔注入層70、陽極80の厚さを、目的に応じて適宜調整することができる。また、これらの方法は、各層の材料の特性に応じて選択するのが好ましく、層ごとに作製方法が異なっていてもよい。
<Method of forming each layer>
The method for forming the cathode 30, the electron injection layer 40, the electron transport layer, the light emitting layer 50, the hole transport layer 60, the hole injection layer 70, and the anode 80 is not particularly limited, and the vacuum vapor deposition method and the electron beam are used. A method such as a method, a sputtering method, a spin coating method, an inkjet method, or a printing method can be used. Further, using these methods, the thicknesses of the cathode 30, the electron injection layer 40, the electron transport layer, the light emitting layer 50, the hole transport layer 60, the hole injection layer 70, and the anode 80 are appropriately adjusted according to the purpose. can do. Further, these methods are preferably selected according to the characteristics of the material of each layer, and the production method may be different for each layer.

<用途>
本発明の量子ドット発光素子は、後述する表示装置を始め、照明機器、バックライト、電子写真、照明光源、露出光源、標識、看板、インテリア等にも利用できる。
<Use>
The quantum dot light emitting element of the present invention can be used not only for a display device described later, but also for a lighting device, a backlight, an electrophotographic, a lighting light source, an exposure light source, a signboard, a signboard, an interior, and the like.

<<表示装置>>
本発明の表示装置は、上述の量子ドット発光素子を具えることを特徴とする。本発明の表示装置は、色純度の高い光を発することが可能な量子ドット発光素子を具えるため、広色域表示が可能である。本発明の表示装置は、上述した量子ドット発光素子の他に、表示装置に一般に用いられる他の部品を具えることができる。
<< Display device >>
The display device of the present invention is characterized by including the above-mentioned quantum dot light emitting device. Since the display device of the present invention includes a quantum dot light emitting element capable of emitting light having high color purity, it is possible to display a wide color gamut. In addition to the quantum dot light emitting element described above, the display device of the present invention can include other components generally used in the display device.

以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
<量子ドットの合成>
J.カクら(J.Kwak et al.),ナノ・レターズ(Nano Letters),12,2362-2366(2012)に開示されている方法に従って、緑色発光を示す量子ドットCdSe/ZnS(コア/シェル型の量子ドット)を合成した。具体的な合成方法を以下に示す。
0.257gの酸化カドミウム、7.34gの酢酸亜鉛、30.13gのオレイン酸、150mlのオクタデセンをフラスコに投入した。減圧下、150℃で30分加熱後、アルゴンにてリークし、アルゴンフロー下で280℃まで昇温した(溶液1)。0.079gのセレン、1.122gの硫黄を20mlのトリオクチルホスフィンに溶解させた溶液を用意し、溶液1に投入した。280℃で10分間混合した後、室温まで冷やした(溶液2)。この溶液2にエタノールを加えて、析出物を遠心分離で回収した。回収物をトルエンに分散させて、濃度を10mg/mlとなるように調整した。
(Example 1)
<Synthesis of quantum dots>
J. Quantum dots CdSe / ZnS (core / shell type) exhibiting green emission according to the method disclosed in J. Kwak et al., Nano Letters, 12, 2362-2366 (2012). Quantum dots) were synthesized. The specific synthesis method is shown below.
0.257 g of cadmium oxide, 7.34 g of zinc acetate, 30.13 g of oleic acid and 150 ml of octadecene were added to the flask. After heating at 150 ° C. for 30 minutes under reduced pressure, a leak occurred with argon, and the temperature was raised to 280 ° C. under an argon flow (solution 1). A solution prepared by dissolving 0.079 g of selenium and 1.122 g of sulfur in 20 ml of trioctylphosphine was prepared and added to solution 1. After mixing at 280 ° C. for 10 minutes, the mixture was cooled to room temperature (solution 2). Ethanol was added to this solution 2, and the precipitate was recovered by centrifugation. The recovered material was dispersed in toluene to adjust the concentration to 10 mg / ml.

<量子ドット発光素子の作製>
図1に示す構造の本発明に従う量子ドット発光素子を次のようにして作製した。
まず、ガラス基板20にITOからなる陰極30(厚さ:100nm)を形成し、これを複数のライン状にパターニングした。
次に、電子注入層40として、酸化亜鉛(ZnO)ナノ粒子をスピンコートにより成膜した(厚さ:30nm)。
次に、下記式(2):

Figure 2022018524000003
で示される構造式を有する、ホスフィンオキシド基及び含窒素複素環を含む電子輸送材料{2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)、Lumtec社製}と、上記で合成した量子ドットとの混合クロロホルム溶液をスピンコートすることにより、電子輸送材料と量子ドットとからなる発光層50(厚さ:20-30nm)を形成した。この際、電子輸送材料の添加量を量子ドットに対する質量比で0.2に調整した。形成された発光層は、窒素雰囲気下、100℃にて30分間加熱した。
次に、基板を真空蒸着装置に入れ、真空蒸着法により、正孔輸送層60として、下記式(3):
Figure 2022018524000004
で示される構造式を有する材料[2,2’-ビス(N-カルバゾール)-9,9’-スピロビフルオレン(CFL)]を40nm、正孔注入層70として酸化モリブデン(MoO3)を10nm、陽極80としてAlを80nm、順次成膜した。
なお、図1には示していないが、量子ドット発光素子は、窒素ガスで満たされたグローブボックス中で、封止用ガラスの周縁部に紫外線硬化樹脂を塗布した後、量子ドット発光素子を形成した前記基板の周縁部に貼り合せて、封止を行った。 <Manufacturing of quantum dot light emitting device>
A quantum dot light emitting device having the structure shown in FIG. 1 according to the present invention was manufactured as follows.
First, a cathode 30 (thickness: 100 nm) made of ITO was formed on the glass substrate 20, and this was patterned into a plurality of lines.
Next, as the electron injection layer 40, zinc oxide (ZnO) nanoparticles were formed into a film by spin coating (thickness: 30 nm).
Next, the following formula (2):
Figure 2022018524000003
An electron transport material containing a phosphine oxide group and a nitrogen-containing heterocycle having a structural formula represented by {2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO). -T2T), manufactured by Lumtec} and the mixed chloroform solution of the quantum dots synthesized above are spin-coated to form a light emitting layer 50 (thickness: 20-30 nm) composed of an electron transport material and quantum dots. did. At this time, the amount of the electron transporting material added was adjusted to 0.2 by mass ratio with respect to the quantum dots. The formed light emitting layer was heated at 100 ° C. for 30 minutes under a nitrogen atmosphere.
Next, the substrate is placed in a vacuum vapor deposition apparatus, and the hole transport layer 60 is formed by the vacuum vapor deposition method according to the following formula (3):
Figure 2022018524000004
Material having the structural formula represented by (2,2'-bis (N-carbazole) -9,9'-spirobifluorene (CFL)] is 40 nm, and molybdenum oxide (MoO 3 ) is 10 nm as the hole injection layer 70. As the anode 80, Al was sequentially formed at 80 nm.
Although not shown in FIG. 1, the quantum dot light emitting element forms a quantum dot light emitting element after applying an ultraviolet curable resin to the peripheral edge of the sealing glass in a glove box filled with nitrogen gas. It was bonded to the peripheral portion of the substrate and sealed.

(比較例1)
実施例1で合成した量子ドットCdSe/ZnSを用いて、発光層50に電子輸送材料を含んでいないこと以外は、実施例1と同様にして、量子ドット発光素子を作製した(電子輸送材料添加量:0)。
(Comparative Example 1)
Using the quantum dot CdSe / ZnS synthesized in Example 1, a quantum dot light emitting element was produced in the same manner as in Example 1 except that the light emitting layer 50 did not contain an electron transport material (addition of electron transport material). Amount: 0).

(比較例2)
実施例1で合成した量子ドットCdSe/ZnSを用いて、発光層50に含まれる電子輸送材料として、下記式(4):

Figure 2022018524000005
で示される構造式を有する材料[トリス(2,4,6-トリメチル-3-(ピリジン-3-イル)フェニル)ボラン(3TPYMB)]を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、量子ドット発光素子を作製した(電子輸送材料添加量(量子ドットに対する質量比):0.2)。 (Comparative Example 2)
Using the quantum dots CdSe / ZnS synthesized in Example 1, the following formula (4): is used as the electron transport material contained in the light emitting layer 50.
Figure 2022018524000005
In the same manner as in Example 1, except that a material having the structural formula shown in (2,4,6-trimethyl-3- (pyridin-3-yl) phenyl) borane (3TPYMB)] was used. A quantum dot light emitting device was manufactured (electron transport material addition amount (mass ratio to quantum dots): 0.2).

<量子ドット発光素子の特性評価>
上記の実施例1、比較例1、比較例2の各量子ドット発光素子のITO陰極30側に負、Al陽極80側に正となるように電圧を印加して、電圧-輝度特性を測定し、電界発光(EL)スペクトルを観測した。電圧-輝度特性を図3に、ELスペクトルを図4に示す。なお、図4においては、各量子ドット発光素子のELスペクトルを、ピーク強度で規格化している。
<Characteristic evaluation of quantum dot light emitting device>
The voltage-brightness characteristics were measured by applying a voltage so as to be negative on the ITO cathode 30 side and positive on the Al anode 80 side of each of the quantum dot light emitting elements of Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 described above. , Electroluminescence (EL) spectrum was observed. The voltage-luminance characteristics are shown in FIG. 3 and the EL spectrum is shown in FIG. In FIG. 4, the EL spectrum of each quantum dot light emitting device is standardized by the peak intensity.

実施例1の素子は、比較例1の電子輸送材料混合無しの素子と同様の電圧-輝度の立ち上がりを示しており、かつ、到達輝度は比較例1を大きく上回っている。これは、電子輸送材料(PO-T2T)を発光層に混合しても、電子輸送性を妨げることなく、素子特性を向上させることができていると判断できる。比較例2の電圧-輝度特性も、実施例1と同様に到達輝度を高める効果が確認されているが、実施例1の方がより電圧上昇を抑えられている。 The element of Example 1 shows the same voltage-luminance rise as the element of Comparative Example 1 without electron transport material mixing, and the reached luminance is much higher than that of Comparative Example 1. It can be determined that even if the electron transport material (PO-T2T) is mixed with the light emitting layer, the device characteristics can be improved without hindering the electron transport property. The voltage-luminance characteristic of Comparative Example 2 has also been confirmed to have the effect of increasing the ultimate luminance as in Example 1, but the voltage increase is further suppressed in Example 1.

次に、実施例1、比較例1、比較例2の各量子ドット発光素子のELスペクトルを比較する。460nmから700nmのELスペクトルは量子ドットに由来するものであり、一致している。一方、より短波長の400nm付近では、比較例2のみ高めの値を示し、電子輸送材料に由来する発光の混色が確認されたのに対し、実施例1では、電子輸送材料を含まない比較例1と同様の低いレベル(ノイズレベルと同程度)に抑えられた。 Next, the EL spectra of the quantum dot light emitting devices of Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 are compared. The EL spectra from 460 nm to 700 nm are derived from quantum dots and are in agreement. On the other hand, at a shorter wavelength of around 400 nm, only Comparative Example 2 showed a higher value, and a color mixture of light emission derived from the electron transport material was confirmed, whereas in Example 1, a comparative example containing no electron transport material was confirmed. It was suppressed to the same low level as No. 1 (similar to the noise level).

以上の実施例1、比較例1、及び比較例2の発光特性を表1にまとめる。なお、表1中「波長400nmのEL強度比」は、ELスペクトルのピークの発光強度に対する、波長400nmの発光強度の比を示す。 The emission characteristics of Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2 are summarized in Table 1. In Table 1, "EL intensity ratio at a wavelength of 400 nm" indicates the ratio of the emission intensity at a wavelength of 400 nm to the emission intensity at the peak of the EL spectrum.

Figure 2022018524000006
Figure 2022018524000006

上記の実施例1の結果から、本発明に従う量子ドット発光素子において、発光層に、量子ドットと共にホスフィンオキシド基を有する電子輸送性の材料を含ませることで、EL発光の色純度の向上と共に、発光特性を改善できることが示された。 From the results of Example 1 above, in the quantum dot light emitting device according to the present invention, by including the electron transporting material having a phosphine oxide group together with the quantum dots in the light emitting layer, the color purity of EL light emission is improved and the color purity is improved. It was shown that the emission characteristics can be improved.

本発明の量子ドット発光素子は、高色純度な発光を必要とする様々なデバイス、製品に応用することが可能であり、表示装置、照明機器、バックライト、電子写真、照明光源、露出光源、標識、看板、インテリア等に好適に使用できる。 The quantum dot light emitting element of the present invention can be applied to various devices and products that require high color purity light emission, and can be applied to display devices, lighting devices, backlights, electrographs, lighting light sources, exposed light sources, and the like. It can be suitably used for signs, signboards, interiors, etc.

1:量子ドット
2:コア
3:シェル
4:リガンド
10:量子ドット発光素子
20:基板
30:陰極
40:電子注入層
50:発光層
60:正孔輸送層
70:正孔注入層
80:陽極
1: Quantum dot 2: Core 3: Shell 4: Ligand 10: Quantum dot light emitting device 20: Substrate 30: Cathode 40: Electron injection layer 50: Light emitting layer 60: Hole transport layer 70: Hole injection layer 80: Anode

Claims (5)

陰極と、発光層と、陽極と、を具え、前記発光層が、前記陰極と前記陽極との間に位置する量子ドット発光素子であって、
前記発光層が、量子ドットと、電子輸送材料と、を含み、
前記電子輸送材料が、ホスフィンオキシド基を含む化合物からなることを特徴とする、量子ドット発光素子。
A quantum dot light emitting device comprising a cathode, a light emitting layer, and an anode, wherein the light emitting layer is located between the cathode and the anode.
The light emitting layer contains quantum dots and an electron transporting material.
A quantum dot light emitting device, wherein the electron transport material is made of a compound containing a phosphine oxide group.
前記ホスフィンオキシド基を含む化合物が、含窒素複素環を有する、請求項1に記載の量子ドット発光素子。 The quantum dot light emitting device according to claim 1, wherein the compound containing a phosphine oxide group has a nitrogen-containing heterocycle. 前記ホスフィンオキシド基を含む化合物が、ジフェニルホスフィンオキシド基を有する、請求項1又は2に記載の量子ドット発光素子。 The quantum dot light emitting device according to claim 1 or 2, wherein the compound containing a phosphine oxide group has a diphenylphosphine oxide group. 前記ホスフィンオキシド基を含む化合物が、2,4,6-トリス[3-(ジフェニルホスフィニル)フェニル]-1,3,5-トリアジン(PO-T2T)である、請求項1~3のいずれか1項に記載の量子ドット発光素子。 Any of claims 1 to 3, wherein the compound containing a phosphine oxide group is 2,4,6-tris [3- (diphenylphosphinyl) phenyl] -1,3,5-triazine (PO-T2T). The quantum dot light emitting element according to item 1. 請求項1~4のいずれか1項に記載の量子ドット発光素子を具えることを特徴とする、表示装置。 A display device comprising the quantum dot light emitting device according to any one of claims 1 to 4.
JP2020121681A 2020-07-15 2020-07-15 Quantum dot light-emitting element and display device Pending JP2022018524A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020121681A JP2022018524A (en) 2020-07-15 2020-07-15 Quantum dot light-emitting element and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020121681A JP2022018524A (en) 2020-07-15 2020-07-15 Quantum dot light-emitting element and display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022018524A true JP2022018524A (en) 2022-01-27

Family

ID=80203937

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020121681A Pending JP2022018524A (en) 2020-07-15 2020-07-15 Quantum dot light-emitting element and display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2022018524A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6710248B2 (en) Quantum dot light emitting diode and quantum dot light emitting device including the same
TWI669832B (en) Light emitting diode and light emitting display device including the same
TWI684635B (en) Luminous body, and light emitting film, light emitting diode, light emitting diode package, display device and light emitting device having luminous body
US10056523B2 (en) Device including quantum dots
JP5407241B2 (en) Electroluminescence element
US9093657B2 (en) White light emitting devices
US10741793B2 (en) Light emitting device including blue emitting quantum dots and method
US9505978B2 (en) Blue light emitting semiconductor nanocrystals and devices
JP2006066395A (en) White luminescence organic/inorganic hybrid electroluminescent element containing semiconductor nanocrystal
KR101965014B1 (en) Inorganic hosts in oleds
US20180130853A1 (en) Display component and manufacturing method therefor
JP7147408B2 (en) Semiconductor Fine Particle Composition, Coating Liquid Using the Composition, Ink Composition, Inkjet Ink, Coated Matter, Printed Matter, Wavelength Conversion Film, Color Filter, Light Emitting Device
US20140203259A1 (en) Host for organic light emitting devices
JP2022018524A (en) Quantum dot light-emitting element and display device
CN109671837B (en) Light-emitting body, and light-emitting film, light-emitting diode, and light-emitting device including same
JP2021027002A (en) Quantum dot light emitting element and display device
JP7469891B2 (en) Quantum dot light emitting device and display device
JP2020173937A (en) Quantum dot light-emitting element and display device
JP2023081108A (en) Quantum dot light-emitting device and display device
JP2022036685A (en) Quantum dot light emitting element and display
JP2022133114A (en) Quantum dot light-emitting element, manufacturing method of quantum dot light-emitting element, and display device
JP2023170674A (en) Quantum dot light emitting element and display device
JP2021093520A (en) Quantum-dot light-emitting element and display device
Beşkazak Colloidal perovskite nanocrystals and LED applications
JP2020126795A (en) Quantum dot light emitting element and display device