JP2022019449A - Inspection method for array substrate, display device, and inspection jig - Google Patents

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義典 青木
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Abstract

To provide an inspection method for an array substrate by which the characteristics of an array substrate on which a light-emitting element is not mounted yet can be inspected properly, a display device, and an inspection jig.SOLUTION: An inspection method for an array substrate includes the steps of: preparing an array substrate on which a plurality of light-emitting elements are not mounted yet; by using an inspection jig including a first connection terminal, a second connection terminal, and an inspection capacitor provided between the first connection terminal and the second connection terminal, connecting the first connection terminal on a mount electrode and connecting the second connection terminal to a pixel cathode electrode; and supplying an inspection signal to the transistor on the basis of a control signal from an inspection control circuit that controls the inspection of the array substrate and detecting an output signal output from the transistor in accordance with the inspection signal.SELECTED DRAWING: Figure 11

Description

本発明は、アレイ基板の検査方法、表示装置及び検査治具に関する。 The present invention relates to an array substrate inspection method, a display device, and an inspection jig.

表示素子として微小サイズの発光ダイオード(マイクロLED(micro LED))を用いた表示装置が注目されている(例えば、特許文献1、2参照)。発光ダイオードを用いた表示装置は、発光ダイオードのサイズが小さいなどの理由により、発光ダイオードの基板への搭載など、製造が難しく、発光ダイオードの不良を招き易い。特許文献1には、サファイア基板に形成された複数のLEDの検査方法について記載されている。また、特許文献2には、画素の閾値電圧をリアルタイムで検出する検査方法について記載されている。 A display device using a minute-sized light emitting diode (micro LED) as a display element is attracting attention (see, for example, Patent Documents 1 and 2). A display device using a light emitting diode is difficult to manufacture due to the small size of the light emitting diode, such as mounting the light emitting diode on a substrate, and tends to cause a defect of the light emitting diode. Patent Document 1 describes a method for inspecting a plurality of LEDs formed on a sapphire substrate. Further, Patent Document 2 describes an inspection method for detecting the threshold voltage of a pixel in real time.

特開2019-78685号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-78685 米国特許出願公開第2017/0103702号明細書U.S. Patent Application Publication No. 2017/0103702

複数の発光素子をアレイ基板に実装した後に検査を行う場合、アレイ基板の回路や配線に不具合が発見されると、すでに実装済みの多数の発光素子も廃棄される場合がある。特許文献1、2には、発光素子が未実装のアレイ基板の電気特性の検査方法について記載されていない。 When inspecting after mounting a plurality of light emitting elements on an array board, if a defect is found in the circuit or wiring of the array board, a large number of already mounted light emitting elements may be discarded. Patent Documents 1 and 2 do not describe a method for inspecting the electrical characteristics of an array substrate on which a light emitting element is not mounted.

本発明は、発光素子が未実装のアレイ基板の電気特性を良好に検査することができるアレイ基板の検査方法、表示装置及び検査治具を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an array substrate inspection method, a display device, and an inspection jig capable of satisfactorily inspecting the electrical characteristics of an array substrate on which a light emitting element is not mounted.

本発明の一態様のアレイ基板の検査方法は、複数の発光素子が実装されるアレイ基板の検査方法であって、前記アレイ基板は、複数の画素に対応して設けられた複数のトランジスタと、前記トランジスタに電気的に接続され、前記発光素子が実装される複数の実装電極と、複数の前記実装電極と隣り合って設けられ、基準電位に電気的に接続される画素カソード電極と、を有し、複数の前記発光素子が未実装の前記アレイ基板を用意するステップと、第1接続端子と、第2接続端子と、前記第1接続端子と前記第2接続端子との間に設けられた検査用容量とを含む検査治具を用い、前記第1接続端子を前記実装電極に接続し、前記第2接続端子を前記画素カソード電極に接続するステップと、前記アレイ基板の検査を制御する検査用制御回路からの制御信号に基づいて、前記トランジスタに検査信号が供給され、前記検査信号に応じて前記トランジスタから出力された出力信号を検出するステップと、を有する。 The method for inspecting an array substrate according to one aspect of the present invention is a method for inspecting an array substrate on which a plurality of light emitting elements are mounted, wherein the array substrate includes a plurality of transistors provided corresponding to a plurality of pixels and a plurality of transistors. It has a plurality of mounting electrodes electrically connected to the transistor and on which the light emitting element is mounted, and a pixel cathode electrode provided adjacent to the plurality of mounting electrodes and electrically connected to a reference potential. A step of preparing the array substrate on which the plurality of light emitting elements are not mounted is provided between the first connection terminal, the second connection terminal, the first connection terminal, and the second connection terminal. An inspection that controls the inspection of the array substrate and the step of connecting the first connection terminal to the mounting electrode and the second connection terminal to the pixel cathode electrode using an inspection jig including an inspection capacitance. A step of supplying an inspection signal to the transistor based on a control signal from the control circuit and detecting an output signal output from the transistor in response to the inspection signal.

本発明の一態様の表示装置は、アレイ基板と、前記アレイ基板に実装された複数の発光素子と、前記アレイ基板に実装され、複数の発光素子に映像信号を供給する駆動ICと、を有し、前記駆動ICは、複数の前記発光素子が未実装の前記アレイ基板から取得された画素ごとの補正データを有し、外部から供給された前記映像信号に、前記補正データに基づく補正映像信号を加えた信号を、前記発光素子に供給する。 The display device of one aspect of the present invention includes an array board, a plurality of light emitting elements mounted on the array board, and a drive IC mounted on the array board and supplying a video signal to the plurality of light emitting elements. The drive IC has correction data for each pixel acquired from the array substrate on which the plurality of light emitting elements are not mounted, and the corrected video signal based on the correction data is added to the video signal supplied from the outside. Is supplied to the light emitting element.

本発明の一態様の検査治具は、発光素子が未実装であるアレイ基板に対して検査を行うための検査治具であって、第1接続端子と、第2接続端子と、前記第1接続端子に接する第1電極と、前記第2接続端子に接する第2電極と、を備え、前記第1電極と前記第2電極は、誘電体層を挟んで向かい合っており、前記誘電体層は、前記第1電極と重ならない位置において開口部を有し、前記開口部において前記第2電極と前記第2接続端子が接触する。 The inspection jig according to one aspect of the present invention is an inspection jig for inspecting an array substrate on which a light emitting element is not mounted, and includes a first connection terminal, a second connection terminal, and the first connection terminal. A first electrode in contact with the connection terminal and a second electrode in contact with the second connection terminal are provided, and the first electrode and the second electrode face each other with a dielectric layer interposed therebetween. It has an opening at a position where it does not overlap with the first electrode, and the second electrode and the second connection terminal come into contact with each other at the opening.

図1は、実施形態に係る表示装置を模式的に示す平面図である。FIG. 1 is a plan view schematically showing a display device according to an embodiment. 図2は、複数の画素を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a plurality of pixels. 図3は、画素回路を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a pixel circuit. 図4は、図2のIV-IV’線に沿う断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV'of FIG. 図5は、複数の画素カソード電極の接続構成の一例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an example of a connection configuration of a plurality of pixel cathode electrodes. 図6は、図5のVI-VI’線に沿う断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI'of FIG. 図7は、実施形態に係る表示装置の検査システムの構成例を示すブロック図である。FIG. 7 is a block diagram showing a configuration example of an inspection system for a display device according to an embodiment. 図8は、検査治具を模式的に示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the inspection jig. 図9は、検査治具を模式的に示す平面図である。FIG. 9 is a plan view schematically showing the inspection jig. 図10は、アレイ基板の検査方法を説明するための回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram for explaining an inspection method of an array substrate. 図11は、実施形態に係るアレイ基板の検査方法を説明するためのフローチャートである。FIG. 11 is a flowchart for explaining an inspection method of an array substrate according to an embodiment. 図12は、画素に適合する発光素子の選択方法の一例を説明する説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating an example of a method of selecting a light emitting element suitable for a pixel. 図13は、発光素子の点灯検査を説明するためのブロック図である。FIG. 13 is a block diagram for explaining a lighting inspection of the light emitting element.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本開示が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、本開示の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本開示の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本開示と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 An embodiment (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The disclosure is not limited by the content described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the components described below can be combined as appropriate. It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate changes while maintaining the gist of the present disclosure are naturally included in the scope of the present disclosure. In addition, in order to clarify the explanation, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the actual embodiment, but this is just an example, and the interpretation of the present disclosure is used. It is not limited. Further, in the present disclosure and each figure, the same elements as those described above with respect to the above-mentioned figures may be designated by the same reference numerals, and detailed description thereof may be omitted as appropriate.

本明細書及び特許請求の範囲において、ある構造体の上に他の構造体を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある構造体に接するように、直上に他の構造体を配置する場合と、ある構造体の上方に、さらに別の構造体を介して他の構造体を配置する場合との両方を含むものとする。 In the present specification and the scope of patent claims, when expressing an aspect of arranging another structure on one structure, when the term "above" is simply used, the structure shall be used unless otherwise specified. It includes both the case where another structure is placed directly above the structure so as to be in contact with each other and the case where another structure is placed above one structure via another structure.

図1は、実施形態に係る表示装置を模式的に示す平面図である。図1に示すように、表示装置1は、アレイ基板2と、画素Pixと、駆動回路12と、駆動IC(Integrated Circuit)210と、カソード配線60と、を含む。アレイ基板2は、各画素Pixを駆動するための駆動回路基板であり、バックプレーン又はアクティブマトリクス基板とも呼ばれる。アレイ基板2は、基板21、複数のトランジスタ、複数の容量及び各種配線等を有する。 FIG. 1 is a plan view schematically showing a display device according to an embodiment. As shown in FIG. 1, the display device 1 includes an array substrate 2, a pixel Pix, a drive circuit 12, a drive IC (Integrated Circuit) 210, and a cathode wiring 60. The array board 2 is a drive circuit board for driving each pixel Pix, and is also called a backplane or an active matrix board. The array substrate 2 has a substrate 21, a plurality of transistors, a plurality of capacitances, various wirings, and the like.

図1に示すように、表示装置1は、表示領域AAと、周辺領域GAとを有する。表示領域AAは、複数の画素Pixと重なって配置され、画像を表示する領域である。周辺領域GAは、複数の画素Pixと重ならない領域であり、表示領域AAの外側に配置される。 As shown in FIG. 1, the display device 1 has a display area AA and a peripheral area GA. The display area AA is an area that is arranged so as to overlap with the plurality of pixels Pix and displays an image. The peripheral region GA is an region that does not overlap with the plurality of pixels Pix, and is arranged outside the display region AA.

複数の画素Pixは、基板21の表示領域AAにおいて、第1方向Dx及び第2方向Dyに配列される。なお、第1方向Dx及び第2方向Dyは、基板21の表面に対して平行な方向である。第1方向Dxは、第2方向Dyと直交する。ただし、第1方向Dxは、第2方向Dyと直交しないで交差してもよい。第3方向Dzは、第1方向Dx及び第2方向Dyと直交する方向である。第3方向Dzは、例えば、基板21の法線方向に対応する。なお、以下、平面視とは、第3方向Dzから見た場合の位置関係を示す。 The plurality of pixels Pix are arranged in the first direction Dx and the second direction Dy in the display area AA of the substrate 21. The first direction Dx and the second direction Dy are directions parallel to the surface of the substrate 21. The first direction Dx is orthogonal to the second direction Dy. However, the first direction Dx may intersect with the second direction Dy without being orthogonal to each other. The third direction Dz is a direction orthogonal to the first direction Dx and the second direction Dy. The third direction Dz corresponds to, for example, the normal direction of the substrate 21. In the following, the plan view indicates the positional relationship when viewed from the third direction Dz.

駆動回路12は、駆動IC210からの各種制御信号に基づいて複数のゲート線(例えば、リセット制御信号線L5、出力制御信号線L6、画素制御信号線L7、初期化制御信号線L8(図3参照))を駆動する回路である。駆動回路12は、複数のゲート線を順次又は同時に選択し、選択されたゲート線にゲート駆動信号を供給する。これにより、駆動回路12は、ゲート線に接続された複数の画素Pixを選択する。 The drive circuit 12 has a plurality of gate lines (for example, a reset control signal line L5, an output control signal line L6, a pixel control signal line L7, and an initialization control signal line L8 (see FIG. 3) based on various control signals from the drive IC 210. )) Is a circuit that drives. The drive circuit 12 sequentially or simultaneously selects a plurality of gate lines and supplies a gate drive signal to the selected gate lines. As a result, the drive circuit 12 selects a plurality of pixels Pix connected to the gate line.

駆動IC210は、表示装置1の表示を制御する回路である。駆動IC210は、基板21の周辺領域GAにCOG(Chip On Glass)として実装される。これに限定されず、駆動IC210は、基板21の周辺領域GAに接続されたフレキシブルプリント基板やリジット基板の上にCOF(Chip On Film)として実装されてもよい。 The drive IC 210 is a circuit that controls the display of the display device 1. The drive IC 210 is mounted as a COG (Chip On Glass) in the peripheral region GA of the substrate 21. Not limited to this, the drive IC 210 may be mounted as a COF (Chip On Film) on a flexible printed circuit board or a rigid board connected to the peripheral region GA of the board 21.

カソード配線60は、基板21の周辺領域GAに設けられる。カソード配線60は、表示領域AAの複数の画素Pix及び周辺領域GAの駆動回路12を囲んで設けられる。複数の発光素子3のカソードは、共通のカソード配線60に接続され、基準電位(例えば、グランド電位)が供給される。より具体的には、発光素子3のカソード端子32(図4参照)は、カソード電極22を介して、カソード配線60に接続される。 The cathode wiring 60 is provided in the peripheral region GA of the substrate 21. The cathode wiring 60 is provided so as to surround the plurality of pixels Pix in the display area AA and the drive circuit 12 in the peripheral area GA. The cathodes of the plurality of light emitting elements 3 are connected to a common cathode wiring 60, and a reference potential (for example, a ground potential) is supplied. More specifically, the cathode terminal 32 (see FIG. 4) of the light emitting element 3 is connected to the cathode wiring 60 via the cathode electrode 22.

図2は、複数の画素を示す平面図である。図2に示すように、1つの画素Pixは、複数の画素49を含む。例えば、画素Pixは、画素49Rと、画素49Gと、画素49Bとを有する。画素49Rは、第1色としての原色の赤色を表示する。画素49Gは、第2色としての原色の緑色を表示する。画素49Bは、第3色としての原色の青色を表示する。図2に示すように、1つの画素Pixにおいて、画素49Rと画素49Gは第2方向Dyで並ぶ。また、画素49Rと画素49Bは第1方向Dxで並ぶ。なお、第1色、第2色、第3色は、それぞれ赤色、緑色、青色に限られず、補色などの任意の色を選択することができる。以下において、画素49Rと、画素49Gと、画素49Bとをそれぞれ区別する必要がない場合、単に画素49という。 FIG. 2 is a plan view showing a plurality of pixels. As shown in FIG. 2, one pixel Pix includes a plurality of pixels 49. For example, the pixel Pix has a pixel 49R, a pixel 49G, and a pixel 49B. The pixel 49R displays the primary color red as the first color. The pixel 49G displays the primary color green as the second color. Pixel 49B displays the primary color blue as the third color. As shown in FIG. 2, in one pixel Pix, the pixels 49R and the pixels 49G are arranged in the second direction Dy. Further, the pixels 49R and the pixels 49B are arranged in the first direction Dx. The first color, the second color, and the third color are not limited to red, green, and blue, respectively, and any color such as a complementary color can be selected. In the following, when it is not necessary to distinguish between the pixel 49R, the pixel 49G, and the pixel 49B, it is simply referred to as the pixel 49.

画素49は、それぞれ発光素子3と、実装電極24とを有する。表示装置1は、画素49R、画素49G及び画素49Bにおいて、発光素子3R、3G、3Bごとに異なる光を出射することで画像を表示する。発光素子3は、平面視で、3μm以上、300μm以下程度の大きさを有する無機発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)チップであり、マイクロLED(micro LED)と呼ばれる。各画素にマイクロLEDを備える表示装置1は、マイクロLED表示装置とも呼ばれる。なお、マイクロLEDのマイクロは、発光素子3の大きさを限定するものではない。 Each of the pixels 49 has a light emitting element 3 and a mounting electrode 24. The display device 1 displays an image by emitting different light for each of the light emitting elements 3R, 3G, and 3B in the pixels 49R, the pixels 49G, and the pixels 49B. The light emitting element 3 is an inorganic light emitting diode (LED) chip having a size of about 3 μm or more and about 300 μm or less in a plan view, and is called a micro LED. The display device 1 provided with a micro LED in each pixel is also referred to as a micro LED display device. The micro of the micro LED does not limit the size of the light emitting element 3.

なお、複数の発光素子3は、4色以上の異なる光を出射してもよい。また、複数の画素49の配置は、図2に示す構成に限定されない。例えば、画素49Rは画素49Bと第2方向Dyに隣り合っていてもよい。また、画素49R、画素49G及び画素49Bが、この順で第1方向Dxに繰り返し配列されてもよい。 The plurality of light emitting elements 3 may emit four or more different colors of light. Further, the arrangement of the plurality of pixels 49 is not limited to the configuration shown in FIG. For example, the pixel 49R may be adjacent to the pixel 49B in the second direction Dy. Further, the pixels 49R, the pixels 49G and the pixels 49B may be repeatedly arranged in the first direction Dx in this order.

画素Pixは、さらに画素カソード電極24Sを有する。画素カソード電極24Sは、複数の実装電極24と隣り合って設けられ画素Pixごとに設けられる。画素カソード電極24Sは、基準電位(例えば、グランド電位)に接続される。より具体的には、画素カソード電極24Sは、カソード電極22(図4参照)を介して発光素子3のカソード端子32(図4参照)と電気的に接続される。画素カソード電極24Sは、画素49Gの実装電極24Gと第1方向Dxで並ぶ。画素カソード電極24Sは、画素49Bの実装電極24Bと第2方向Dyで並ぶ。画素カソード電極24Sは、画素49Rの実装電極24Rと、第1方向Dx及び第2方向Dyと交差する斜め方向で並ぶ。 The pixel Pix further includes a pixel cathode electrode 24S. The pixel cathode electrode 24S is provided adjacent to the plurality of mounting electrodes 24 and is provided for each pixel Pix. The pixel cathode electrode 24S is connected to a reference potential (for example, a ground potential). More specifically, the pixel cathode electrode 24S is electrically connected to the cathode terminal 32 (see FIG. 4) of the light emitting element 3 via the cathode electrode 22 (see FIG. 4). The pixel cathode electrode 24S is aligned with the mounting electrode 24G of the pixel 49G in the first direction Dx. The pixel cathode electrode 24S is aligned with the mounting electrode 24B of the pixel 49B in the second direction Dy. The pixel cathode electrode 24S is aligned with the mounting electrode 24R of the pixel 49R in an oblique direction intersecting the first direction Dx and the second direction Dy.

図3は、画素回路を示す回路図である。図3は、1つの画素49に設けられた画素回路PICAを示しており、画素回路PICAは複数の画素49のそれぞれに設けられている。図3に示すように、画素回路PICAは、発光素子3と、5つのトランジスタと、2つの容量とを含む。具体的には、画素回路PICAは、駆動トランジスタDRT、出力トランジスタBCT、初期化トランジスタIST、画素選択トランジスタSST及びリセットトランジスタRSTを含む。駆動トランジスタDRT、出力トランジスタBCT、初期化トランジスタIST、画素選択トランジスタSST及びリセットトランジスタRSTは、それぞれn型TFT(Thin Film Transistor)で構成される。また、画素回路PICAは、第1容量Cs1及び第2容量Cs2を含む。 FIG. 3 is a circuit diagram showing a pixel circuit. FIG. 3 shows a pixel circuit PICA provided in one pixel 49, and the pixel circuit PICA is provided in each of a plurality of pixels 49. As shown in FIG. 3, the pixel circuit PICA includes a light emitting element 3, five transistors, and two capacitances. Specifically, the pixel circuit PICA includes a drive transistor DRT, an output transistor BCT, an initialization transistor IST, a pixel selection transistor SST, and a reset transistor RST. The drive transistor DRT, output transistor BCT, initialization transistor IST, pixel selection transistor SST, and reset transistor RST are each composed of an n-type TFT (Thin Film Transistor). Further, the pixel circuit PICA includes a first capacitance Cs1 and a second capacitance Cs2.

発光素子3のカソード(カソード端子32)は、カソード電源線L10に接続される。また、発光素子3のアノード(アノード端子33)は、駆動トランジスタDRT及び出力トランジスタBCTを介してアノード電源線L1に接続される。アノード電源線L1には、アノード電源電位PVDDが供給される。カソード電源線L10には、カソード配線60及びカソード電極22を介してカソード電源電位PVSSが供給される。アノード電源電位PVDDは、カソード電源電位PVSSよりも高い電位である。 The cathode (cathode terminal 32) of the light emitting element 3 is connected to the cathode power supply line L10. Further, the anode (anode terminal 33) of the light emitting element 3 is connected to the anode power supply line L1 via the drive transistor DRT and the output transistor BCT. The anode power supply potential P VDD is supplied to the anode power supply line L1. The cathode power supply potential PVSS is supplied to the cathode power supply line L10 via the cathode wiring 60 and the cathode electrode 22. The anode power supply potential Pldap has a higher potential than the cathode power supply potential PVSS.

アノード電源線L1は、画素49に、駆動電位であるアノード電源電位PVDDを供給する。具体的には、発光素子3は、理想的にはアノード電源電位PVDDとカソード電源電位PVSSとの電位差(PVDD-PVSS)により順方向電流(駆動電流)が供給され発光する。つまり、アノード電源電位PVDDは、カソード電源電位PVSSに対し、発光素子3を発光させる電位差を有している。発光素子3のアノード端子33は、アノード電極23に電気的に接続され、アノード電極23とアノード電源線L1との間に等価回路として、第2容量Cs2が接続される。 The anode power supply line L1 supplies the pixel 49 with the anode power supply potential P VDD, which is a driving potential. Specifically, the light emitting element 3 is ideally supplied with a forward current (driving current) by a potential difference (P VDD-PVSS) between the anode power supply potential P whether and the cathode power supply potential PVSS to emit light. That is, the anode power supply potential P VDD has a potential difference that causes the light emitting element 3 to emit light with respect to the cathode power supply potential PVSS. The anode terminal 33 of the light emitting element 3 is electrically connected to the anode electrode 23, and the second capacitance Cs2 is connected as an equivalent circuit between the anode electrode 23 and the anode power supply line L1.

駆動トランジスタDRTのソース電極は、アノード電極23を介して発光素子3のアノード端子33に接続され、ドレイン電極は、出力トランジスタBCTのソース電極に接続される。駆動トランジスタDRTのゲート電極は、第1容量Cs1、画素選択トランジスタSSTのドレイン電極及び初期化トランジスタISTのドレイン電極に接続される。駆動トランジスタDRTは、電位差(PVDD-PVSS)に基づいた順方向電流(駆動電流)を発光素子3に供給する。 The source electrode of the drive transistor DRT is connected to the anode terminal 33 of the light emitting element 3 via the anode electrode 23, and the drain electrode is connected to the source electrode of the output transistor BCT. The gate electrode of the drive transistor DRT is connected to the first capacitance Cs1, the drain electrode of the pixel selection transistor SST, and the drain electrode of the initialization transistor IST. The drive transistor DRT supplies a forward current (drive current) based on the potential difference (P VDD-PVSS) to the light emitting element 3.

出力トランジスタBCTのゲート電極は、出力制御信号線L6に接続される。出力制御信号線L6には、出力制御信号BGが供給される。出力トランジスタBCTのドレイン電極は、アノード電源線L1に接続される。 The gate electrode of the output transistor BCT is connected to the output control signal line L6. The output control signal BG is supplied to the output control signal line L6. The drain electrode of the output transistor BCT is connected to the anode power supply line L1.

初期化トランジスタISTのソース電極は、初期化電源線L4に接続される。初期化電源線L4には、初期化電位Viniが供給される。初期化トランジスタISTのゲート電極は、初期化制御信号線L8に接続される。初期化制御信号線L8には、初期化制御信号IGが供給される。すなわち、駆動トランジスタDRTのゲート電極には、初期化トランジスタISTを介して初期化電源線L4が接続される。 The source electrode of the initialization transistor IST is connected to the initialization power line L4. The initialization potential Vini is supplied to the initialization power line L4. The gate electrode of the initialization transistor IST is connected to the initialization control signal line L8. The initialization control signal IG is supplied to the initialization control signal line L8. That is, the initialization power supply line L4 is connected to the gate electrode of the drive transistor DRT via the initialization transistor IST.

画素選択トランジスタSSTのソース電極は、映像信号線L2に接続される。映像信号線L2には、映像信号Vsigが供給される。画素選択トランジスタSSTのゲート電極には、画素制御信号線L7が接続されている。画素制御信号線L7には、画素制御信号SGが供給される。 The source electrode of the pixel selection transistor SST is connected to the video signal line L2. The video signal Vsig is supplied to the video signal line L2. A pixel control signal line L7 is connected to the gate electrode of the pixel selection transistor SST. The pixel control signal SG is supplied to the pixel control signal line L7.

リセットトランジスタRSTのソース電極は、リセット電源線L3に接続される。リセット電源線L3には、リセット電源電位Vrstが供給される。リセットトランジスタRSTのゲート電極は、リセット制御信号線L5に接続される。リセット制御信号線L5には、リセット制御信号RGが供給される。リセットトランジスタRSTのドレイン電極は、アノード電極23(発光素子3のアノード端子33)及び駆動トランジスタDRTのソース電極に接続される。リセットトランジスタRSTのリセット動作により、第1容量Cs1及び第2容量Cs2に保持された電圧がリセットされる。言い換えると、リセットトランジスタRSTは、リセット電源電位Vrstを発光素子3に供給する。 The source electrode of the reset transistor RST is connected to the reset power line L3. The reset power supply potential Vrst is supplied to the reset power supply line L3. The gate electrode of the reset transistor RST is connected to the reset control signal line L5. A reset control signal RG is supplied to the reset control signal line L5. The drain electrode of the reset transistor RST is connected to the anode electrode 23 (anode terminal 33 of the light emitting element 3) and the source electrode of the drive transistor DRT. By the reset operation of the reset transistor RST, the voltage held in the first capacitance Cs1 and the second capacitance Cs2 is reset. In other words, the reset transistor RST supplies the reset power supply potential Vrst to the light emitting element 3.

リセットトランジスタRSTのドレイン電極と、駆動トランジスタDRTのゲート電極との間に、等価回路として、第1容量Cs1が設けられる。画素回路PICAは、第1容量Cs1及び第2容量Cs2により、駆動トランジスタDRTの寄生容量とリーク電流とによるゲート電圧の変動を抑制することができる。 A first capacitance Cs1 is provided as an equivalent circuit between the drain electrode of the reset transistor RST and the gate electrode of the drive transistor DRT. The pixel circuit PICA can suppress the fluctuation of the gate voltage due to the parasitic capacitance of the drive transistor DRT and the leakage current by the first capacitance Cs1 and the second capacitance Cs2.

なお、以下の説明において、アノード電源線L1及びカソード電源線L10を単に電源線と表す場合がある。映像信号線L2、リセット電源線L3及び初期化電源線L4を信号線と表す場合がある。リセット制御信号線L5、出力制御信号線L6、画素制御信号線L7及び初期化制御信号線L8をゲート線と表す場合がある。 In the following description, the anode power supply line L1 and the cathode power supply line L10 may be simply referred to as power supply lines. The video signal line L2, the reset power line L3, and the initialization power line L4 may be referred to as signal lines. The reset control signal line L5, the output control signal line L6, the pixel control signal line L7, and the initialization control signal line L8 may be referred to as a gate line.

駆動トランジスタDRTのゲート電極には、映像信号Vsig(または、階調信号)に応じた電位が供給される。つまり、駆動トランジスタDRTは、出力トランジスタBCTを介して供給されたアノード電源電位PVDDに基づいて、映像信号Vsigに応じた電流を発光素子3に供給する。このように、アノード電源線L1に供給されたアノード電源電位PVDDは、駆動トランジスタDRT及び出力トランジスタBCTによって降下するため、発光素子3のアノード端子33には、アノード電源電位PVDDよりも低い電位が供給される。 A potential corresponding to the video signal Vsig (or gradation signal) is supplied to the gate electrode of the drive transistor DRT. That is, the drive transistor DRT supplies a current corresponding to the video signal Vsig to the light emitting element 3 based on the anode power supply potential P VDD supplied via the output transistor BCT. In this way, the anode power supply potential P VDD supplied to the anode power supply line L1 drops by the drive transistor DRT and the output transistor BCT, so that a potential lower than the anode power supply potential P VDD is supplied to the anode terminal 33 of the light emitting element 3. Will be done.

第2容量Cs2の一方の電極には、アノード電源線L1を介してアノード電源電位PVDDが供給され、第2容量Cs2の他方の電極には、アノード電源電位PVDDよりも低い電位が供給される。つまり、第2容量Cs2の一方の電極には、第2容量Cs2の他方の電極よりも高い電位が供給される。第2容量Cs2の一方の電極は、例えば、図4に示すアノード電源線L1に接続された対向電極26であり、第2容量Cs2の他方の電極は、図4に示す駆動トランジスタDRTのソースに接続されたアノード電極23である。 The anode power supply potential P VDD is supplied to one electrode of the second capacitance Cs2 via the anode power supply line L1, and a potential lower than the anode power supply potential P VDD is supplied to the other electrode of the second capacitance Cs2. That is, one electrode of the second capacitance Cs2 is supplied with a higher potential than the other electrode of the second capacitance Cs2. One electrode of the second capacitance Cs2 is, for example, the counter electrode 26 connected to the anode power supply line L1 shown in FIG. 4, and the other electrode of the second capacitance Cs2 is the source of the drive transistor DRT shown in FIG. The connected anode electrode 23.

表示装置1において、駆動回路12(図1参照)は、複数の画素行を、先頭行(例えば、図1中の表示領域AAにおいて、最上部に位置する画素行)から順番に選択する。駆動IC210は、選択された画素行の画素49に映像信号Vsig(映像書き込み電位)を書き込み、発光素子3を発光させる。駆動IC210は、1水平走査期間ごとに、映像信号線L2に映像信号Vsigを供給し、リセット電源線L3にリセット電源電位Vrstを供給し、初期化電源線L4に初期化電位Viniを供給する。表示装置1は、これらの動作が1フレームの画像ごとに繰り返される。 In the display device 1, the drive circuit 12 (see FIG. 1) selects a plurality of pixel rows in order from the first row (for example, the pixel row located at the top in the display area AA in FIG. 1). The drive IC 210 writes a video signal Vsig (video writing potential) to the pixels 49 of the selected pixel row, and causes the light emitting element 3 to emit light. The drive IC 210 supplies the video signal Vsig to the video signal line L2, supplies the reset power supply potential Vrst to the reset power supply line L3, and supplies the initialization potential Vini to the initialization power supply line L4 every one horizontal scanning period. The display device 1 repeats these operations for each frame of the image.

次に、表示装置1の断面構成について説明する。図4は、図2のIV-IV’線に沿う断面図である。図4に示すように、発光素子3は、アレイ基板2の上に設けられる。アレイ基板2は、基板21、各種トランジスタ、各種配線及び各種絶縁膜を有する。基板21は絶縁基板であり、例えば、ガラス基板、樹脂基板又は樹脂フィルム等が用いられる。 Next, the cross-sectional configuration of the display device 1 will be described. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV'of FIG. As shown in FIG. 4, the light emitting element 3 is provided on the array substrate 2. The array substrate 2 has a substrate 21, various transistors, various wirings, and various insulating films. The substrate 21 is an insulating substrate, and for example, a glass substrate, a resin substrate, a resin film, or the like is used.

本明細書において、基板21の表面に垂直な方向において、基板21から発光素子3に向かう方向を「上側」又は単に「上」とする。また、発光素子3から基板21に向かう方向を「下側」又は単に「下」とする。 In the present specification, the direction from the substrate 21 toward the light emitting element 3 in the direction perpendicular to the surface of the substrate 21 is referred to as "upper side" or simply "upper side". Further, the direction from the light emitting element 3 toward the substrate 21 is defined as "lower side" or simply "lower side".

駆動トランジスタDRT、出力トランジスタBCTは、基板21の一方の面側に設けられる。半導体層61、65は、基板21の上に設けられる。なお、半導体層61、65と基板21との間にアンダーコート膜が設けられていてもよい。絶縁膜91は、半導体層61、65を覆って基板21の上に設けられる。絶縁膜91は、例えばシリコン酸化膜である。 The drive transistor DRT and the output transistor BCT are provided on one surface side of the substrate 21. The semiconductor layers 61 and 65 are provided on the substrate 21. An undercoat film may be provided between the semiconductor layers 61 and 65 and the substrate 21. The insulating film 91 is provided on the substrate 21 so as to cover the semiconductor layers 61 and 65. The insulating film 91 is, for example, a silicon oxide film.

ゲート電極64、66は、絶縁膜91の上に設けられる。図4に示す例では、各トランジスタは、いわゆるトップゲート構造である。ただし、各トランジスタは、半導体層の下側にゲート電極が設けられたボトムゲート構造でもよく、半導体層の上側及び下側の両方にゲート電極が設けられたデュアルゲート構造でもよい。 The gate electrodes 64 and 66 are provided on the insulating film 91. In the example shown in FIG. 4, each transistor has a so-called top gate structure. However, each transistor may have a bottom gate structure in which a gate electrode is provided on the lower side of the semiconductor layer, or a dual gate structure in which gate electrodes are provided on both the upper side and the lower side of the semiconductor layer.

絶縁膜92は、ゲート電極64、66を覆って絶縁膜91の上に設けられる。絶縁膜92は、例えば、シリコン窒化膜とシリコン酸化膜との積層構造を有する。ソース電極62、ドレイン電極67及びアノード電源線L1は、絶縁膜92の上に設けられる。ソース電極62は絶縁膜91、92を貫通するコンタクトホールを介して半導体層61と電気的に接続される。また、ドレイン電極67は絶縁膜91、92に設けられたコンタクトホールを介して半導体層65と電気的に接続される。 The insulating film 92 is provided on the insulating film 91 so as to cover the gate electrodes 64 and 66. The insulating film 92 has, for example, a laminated structure of a silicon nitride film and a silicon oxide film. The source electrode 62, the drain electrode 67, and the anode power supply line L1 are provided on the insulating film 92. The source electrode 62 is electrically connected to the semiconductor layer 61 via a contact hole penetrating the insulating films 91 and 92. Further, the drain electrode 67 is electrically connected to the semiconductor layer 65 via the contact holes provided in the insulating films 91 and 92.

複数の絶縁膜(第1有機絶縁膜93、絶縁膜94、絶縁膜95及び第2有機絶縁膜96)は、各トランジスタを覆って設けられる。第1有機絶縁膜93及び第2有機絶縁膜96としては感光性アクリル等の有機材料が用いられる。感光性アクリル等の有機材料は、CVD等により形成される無機絶縁材料に比べ、配線段差のカバレッジ性や、表面の平坦性に優れる。絶縁膜94、絶縁膜95は、無機絶縁膜であり、上述した絶縁膜91、92と同様の材料、例えば、シリコン窒化膜を用いることができる。 A plurality of insulating films (first organic insulating film 93, insulating film 94, insulating film 95, and second organic insulating film 96) are provided so as to cover each transistor. As the first organic insulating film 93 and the second organic insulating film 96, an organic material such as photosensitive acrylic is used. Organic materials such as photosensitive acrylic are superior in coverage of wiring steps and surface flatness as compared with inorganic insulating materials formed by CVD or the like. The insulating film 94 and the insulating film 95 are inorganic insulating films, and the same materials as the above-mentioned insulating films 91 and 92, for example, a silicon nitride film, can be used.

具体的には、第1有機絶縁膜93は、ソース電極62、ドレイン電極67及びアノード電源線L1を覆って、絶縁膜92の上に設けられる。第1有機絶縁膜93の上に、対向電極26、絶縁膜94、アノード電極23の順に積層される。対向電極26は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透光性を有する導電性材料で構成される。対向電極26は、第1有機絶縁膜93に設けられたコンタクトホールCH1の底部でアノード電源線L1と接続される。 Specifically, the first organic insulating film 93 is provided on the insulating film 92 so as to cover the source electrode 62, the drain electrode 67, and the anode power supply line L1. The counter electrode 26, the insulating film 94, and the anode electrode 23 are laminated in this order on the first organic insulating film 93. The counter electrode 26 is made of a translucent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). The counter electrode 26 is connected to the anode power supply line L1 at the bottom of the contact hole CH1 provided in the first organic insulating film 93.

絶縁膜94は、対向電極26を覆って設けられる。アノード電極23は、絶縁膜94を介して対向電極26と対向する。第1有機絶縁膜93及び絶縁膜94には、ソース電極62を底面とするコンタクトホールCH2、CH3が設けられる。アノード電極23は、コンタクトホールCH2、CH3を介してソース電極62と電気的に接続される。これにより、アノード電極23は、駆動トランジスタDRTと電気的に接続される。 The insulating film 94 is provided so as to cover the counter electrode 26. The anode electrode 23 faces the counter electrode 26 via the insulating film 94. The first organic insulating film 93 and the insulating film 94 are provided with contact holes CH2 and CH3 having a source electrode 62 as a bottom surface. The anode electrode 23 is electrically connected to the source electrode 62 via the contact holes CH2 and CH3. As a result, the anode electrode 23 is electrically connected to the drive transistor DRT.

アノード電極23は、例えば、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)の積層構造としている。ただし、これに限定されず、アノード電極23は、モリブデン、チタンの金属のいずれか1つ以上を含む材料であってもよい。又は、アノード電極23は、モリブデン、チタンのいずれか1つ以上を含む合金、又は透光性導電材料であってもよい。また、絶縁膜94を介して対向するアノード電極23と対向電極26との間に第2容量Cs2が形成される。 The anode electrode 23 has, for example, a laminated structure of titanium (Ti) and aluminum (Al). However, the present invention is not limited to this, and the anode electrode 23 may be a material containing any one or more of molybdenum and titanium metals. Alternatively, the anode electrode 23 may be an alloy containing any one or more of molybdenum and titanium, or a translucent conductive material. Further, the second capacitance Cs2 is formed between the anode electrode 23 and the facing electrode 26 facing each other via the insulating film 94.

絶縁膜95は、アノード電極23を覆って絶縁膜94の上に設けられる。第2有機絶縁膜96は、絶縁膜95の上に設けられる。すなわち、第1有機絶縁膜93は、駆動トランジスタDRTの上に設けられ、第2有機絶縁膜96は、第1有機絶縁膜93の上側に積層される。絶縁膜95は、第1有機絶縁膜93と第2有機絶縁膜96との間に設けられる。第2有機絶縁膜96には、コンタクトホールCH4が設けられる。絶縁膜95には、コンタクトホールCH4と重なってコンタクトホールCH5が設けられる。コンタクトホールCH4、CH5の底部には、アノード電極23が設けられる。また、アノード電極23は、実装電極24の少なくとも一部と対向して設けられる。 The insulating film 95 is provided on the insulating film 94 so as to cover the anode electrode 23. The second organic insulating film 96 is provided on the insulating film 95. That is, the first organic insulating film 93 is provided on the drive transistor DRT, and the second organic insulating film 96 is laminated on the upper side of the first organic insulating film 93. The insulating film 95 is provided between the first organic insulating film 93 and the second organic insulating film 96. The second organic insulating film 96 is provided with a contact hole CH4. The insulating film 95 is provided with the contact hole CH5 so as to overlap with the contact hole CH4. An anode electrode 23 is provided at the bottom of the contact holes CH4 and CH5. Further, the anode electrode 23 is provided so as to face at least a part of the mounting electrode 24.

実装電極24は、第2有機絶縁膜96の上に設けられ、コンタクトホールCH4、CH5を介してアノード電極23と電気的に接続される。すなわち、実装電極24は、アノード電極23を介して駆動トランジスタDRTと電気的に接続され、発光素子3が実装される電極である。実装電極24は、アノード電極23と同様にチタン、アルミニウムの積層構造としている。ただし、実装電極24は、アノード電極23と異なる導電材料が用いられてもよい。また、第2有機絶縁膜96は、第1有機絶縁膜93と異なる有機材料が用いられてもよい。 The mounting electrode 24 is provided on the second organic insulating film 96 and is electrically connected to the anode electrode 23 via the contact holes CH4 and CH5. That is, the mounting electrode 24 is an electrode that is electrically connected to the drive transistor DRT via the anode electrode 23 and on which the light emitting element 3 is mounted. Like the anode electrode 23, the mounting electrode 24 has a laminated structure of titanium and aluminum. However, the mounting electrode 24 may use a conductive material different from that of the anode electrode 23. Further, as the second organic insulating film 96, an organic material different from that of the first organic insulating film 93 may be used.

発光素子3R、3G、3Bは、それぞれに対応する実装電極24R、24G、24Bに実装される。各発光素子3は、アノード端子33が実装電極24に接するように実装される。各発光素子3のアノード端子33と実装電極24との間の接合部材25は、両者の間で良好な導通が確保でき、かつアレイ基板2上の形成物を破損しないものであれば特に限定しない。接合部材25は、例えば、はんだや導電ペーストである。アノード端子33と実装電極24との接合として、例えば低温溶融のはんだ材料を用いたリフロー工程や、導電ペーストを介して発光素子3をアレイ基板2上に載せた後に焼成結合する手法が挙げられる。 The light emitting elements 3R, 3G, and 3B are mounted on the corresponding mounting electrodes 24R, 24G, and 24B, respectively. Each light emitting element 3 is mounted so that the anode terminal 33 is in contact with the mounting electrode 24. The bonding member 25 between the anode terminal 33 and the mounting electrode 24 of each light emitting element 3 is not particularly limited as long as good conduction can be ensured between them and the formation on the array substrate 2 is not damaged. .. The joining member 25 is, for example, solder or a conductive paste. Examples of the bonding between the anode terminal 33 and the mounting electrode 24 include a reflow process using a solder material that is melted at a low temperature, and a method in which the light emitting element 3 is placed on the array substrate 2 via a conductive paste and then fired and bonded.

ここで、アレイ基板2に第2有機絶縁膜96及び実装電極24を設けずに、アノード電極23上に発光素子3を直接実装することも可能である。ただし、第2有機絶縁膜96及び実装電極24を設けることにより、発光素子3の実装時に加えられる力によって絶縁膜94が破損することを抑制できる。つまり、第2容量Cs2を形成するアノード電極23と対向電極26との間の絶縁破壊が生ずることを抑制できる。 Here, it is also possible to mount the light emitting element 3 directly on the anode electrode 23 without providing the second organic insulating film 96 and the mounting electrode 24 on the array substrate 2. However, by providing the second organic insulating film 96 and the mounting electrode 24, it is possible to prevent the insulating film 94 from being damaged by the force applied when the light emitting element 3 is mounted. That is, it is possible to suppress the occurrence of dielectric breakdown between the anode electrode 23 forming the second capacitance Cs2 and the counter electrode 26.

発光素子3は、フェイスアップ型の発光素子であり、発光素子3の下部がアノード電極23に接続され、発光素子3の上部がカソード電極22に接続される。発光素子3は、半導体層31、カソード端子32及びアノード端子33を有する。半導体層31は、n型クラッド層37、活性層36及びp型クラッド層35(図6参照)が積層された構成を採用することができる。半導体層31は、例えば、窒化ガリウム(GaN)、アルミニウムインジウム燐(AlInP)、窒化インジウムガリウム(InGaN)等の化合物半導体が用いられる。半導体層31は、発光素子3R、3G、3Bごとに異なる材料が用いられてもよい。また、活性層として、高効率化のために数原子層からなる井戸層と障壁層とを周期的に積層させた多重量子井戸構造(MQW構造)が採用されてもよい。また、発光素子3として、半導体基板上に半導体層31が形成された構成でもよい。 The light emitting element 3 is a face-up type light emitting element, and the lower part of the light emitting element 3 is connected to the anode electrode 23, and the upper part of the light emitting element 3 is connected to the cathode electrode 22. The light emitting device 3 has a semiconductor layer 31, a cathode terminal 32, and an anode terminal 33. As the semiconductor layer 31, a configuration in which an n-type clad layer 37, an active layer 36, and a p-type clad layer 35 (see FIG. 6) are laminated can be adopted. As the semiconductor layer 31, for example, a compound semiconductor such as gallium nitride (GaN), aluminum indium phosphide (AlInP), or indium gallium nitride (InGaN) is used. For the semiconductor layer 31, different materials may be used for each of the light emitting elements 3R, 3G, and 3B. Further, as the active layer, a multiple quantum well structure (MQW structure) in which a well layer composed of several atomic layers and a barrier layer are periodically laminated may be adopted for high efficiency. Further, the light emitting element 3 may have a configuration in which the semiconductor layer 31 is formed on the semiconductor substrate.

複数の発光素子3の間に素子絶縁膜97が設けられる。素子絶縁膜97は樹脂材料で形成される。素子絶縁膜97は、発光素子3の側面を覆っており、発光素子3のカソード端子32は、素子絶縁膜97から露出する。素子絶縁膜97の上面と、カソード端子32の上面とが同一面を形成するように、素子絶縁膜97は平坦に形成される。ただし、素子絶縁膜97の上面の位置は、カソード端子32の上面の位置と異なっていてもよい。 An element insulating film 97 is provided between the plurality of light emitting elements 3. The element insulating film 97 is made of a resin material. The element insulating film 97 covers the side surface of the light emitting element 3, and the cathode terminal 32 of the light emitting element 3 is exposed from the element insulating film 97. The element insulating film 97 is formed flat so that the upper surface of the element insulating film 97 and the upper surface of the cathode terminal 32 form the same surface. However, the position of the upper surface of the element insulating film 97 may be different from the position of the upper surface of the cathode terminal 32.

カソード電極22は、複数の発光素子3及び素子絶縁膜97を覆って、複数の発光素子3に電気的に接続される。カソード電極22は、例えばITO等の透光性を有する導電性材料が用いられる。これにより、発光素子3からの出射光を効率よく外部に取り出すことができる。カソード電極22は、表示領域AAに実装された複数の発光素子3のカソード端子32と電気的に接続される。カソード電極22は、表示領域AAの外側に設けられたコンタクト部で、アレイ基板2側に設けられたカソード配線60と接続される。 The cathode electrode 22 covers the plurality of light emitting elements 3 and the element insulating film 97, and is electrically connected to the plurality of light emitting elements 3. For the cathode electrode 22, a conductive material having translucency such as ITO is used. As a result, the light emitted from the light emitting element 3 can be efficiently taken out to the outside. The cathode electrode 22 is electrically connected to the cathode terminals 32 of the plurality of light emitting elements 3 mounted in the display region AA. The cathode electrode 22 is a contact portion provided outside the display area AA and is connected to the cathode wiring 60 provided on the array substrate 2 side.

以上のように、表示素子として発光素子3を用いた表示装置1が構成される。なお、表示装置1は、必要に応じてカソード電極22の上に、オーバーコート層やカバー基板が積層されてもよい。さらに、表示装置1は、カソード電極22の上側に、保護用絶縁膜、円偏光板やタッチパネル等を設けてもよい。 As described above, the display device 1 using the light emitting element 3 as the display element is configured. The display device 1 may have an overcoat layer or a cover substrate laminated on the cathode electrode 22 as needed. Further, the display device 1 may be provided with a protective insulating film, a circular polarizing plate, a touch panel, or the like on the upper side of the cathode electrode 22.

次に、発光素子3のカソード端子32と、各画素Pixに設けられた画素カソード電極24Sとの接続構成について説明する。図5は、複数の画素カソード電極の接続構成の一例を示す平面図である。 Next, a connection configuration between the cathode terminal 32 of the light emitting element 3 and the pixel cathode electrode 24S provided on each pixel Pix will be described. FIG. 5 is a plan view showing an example of a connection configuration of a plurality of pixel cathode electrodes.

図5に示すように、アレイ基板2には、画素カソード配線LVSSが設けられる。画素カソード配線LVSSは第1方向Dxに延在し、第1方向Dxに配列された複数の画素Pixに亘って設けられる。ここで、第1方向Dxに配列された複数の画素Pixを含む1行の画素群を、画素行PixLとする。複数の画素行PixLは、第2方向Dyに配列される。画素カソード配線LVSSは、画素行PixLごとに設けられ、第2方向Dyに配列される。 As shown in FIG. 5, the array substrate 2 is provided with a pixel cathode wiring LVSS. The pixel cathode wiring LVSS extends in the first direction Dx and is provided over a plurality of pixel Pix arranged in the first direction Dx. Here, a pixel group in one row including a plurality of pixel Pix arranged in the first direction Dx is referred to as a pixel row PixL. The plurality of pixel rows PixL are arranged in the second direction Dy. The pixel cathode wiring LVSS is provided for each pixel row PixL and is arranged in the second direction Dy.

複数の画素カソード配線LVSSは、それぞれ、画素行PixLに属する複数の画素カソード電極24Sと電気的に接続される。複数の画素カソード配線LVSSは、それぞれ、周辺領域GAに設けられたカソード配線60に接続され、カソード電源電位PVSSが供給される。また、複数の画素カソード配線LVSSは、画素Pixごとに設けられたコンタクトホールCH6を介してカソード電極22と接続される。 Each of the plurality of pixel cathode wiring LVSS is electrically connected to the plurality of pixel cathode electrodes 24S belonging to the pixel row PixL. Each of the plurality of pixel cathode wiring LVSS is connected to the cathode wiring 60 provided in the peripheral region GA, and the cathode power supply potential PVSS is supplied. Further, the plurality of pixel cathode wiring LVSSs are connected to the cathode electrode 22 via the contact hole CH6 provided for each pixel Pix.

図6は、図5のVI-VI’線に沿う断面図である。なお、図6は、カソード電極22と、発光素子3(発光素子3R)と、画素カソード電極24Sとの接続構成を説明するために模式的に示した図である。 FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI'of FIG. Note that FIG. 6 is a diagram schematically shown for explaining the connection configuration of the cathode electrode 22, the light emitting element 3 (light emitting element 3R), and the pixel cathode electrode 24S.

図6に示すように、発光素子3Rは、実装電極24R及び接合部材25の上に、p型電極34、p型クラッド層35、活性層36、n型クラッド層37の順に積層される。さらに、発光素子3Rは、n型クラッド層37の上に積層された高抵抗層38を有する。高抵抗層38は、例えば、不純物がドープされていない窒化ガリウム(GaN)で形成される。高抵抗層38のシート抵抗値は、n型クラッド層37のシート抵抗値よりも大きい。 As shown in FIG. 6, the light emitting element 3R is laminated on the mounting electrode 24R and the bonding member 25 in the order of the p-type electrode 34, the p-type clad layer 35, the active layer 36, and the n-type clad layer 37. Further, the light emitting element 3R has a high resistance layer 38 laminated on the n-type clad layer 37. The high resistance layer 38 is formed of, for example, gallium nitride (GaN) which is not doped with impurities. The sheet resistance value of the high resistance layer 38 is larger than the sheet resistance value of the n-type clad layer 37.

高抵抗層38は、平面視でn型クラッド層37よりも小さい面積を有しており、n型クラッド層37の周縁部には、高抵抗層38は積層されていない。カソード電極22は、高抵抗層38及びn型クラッド層37を覆って設けられる。n型クラッド層37上面の周縁部で、n型クラッド層37とカソード電極22とが接続される。言い換えると、n型クラッド層37上面の周縁部が、カソード端子32(図4参照)として機能する。また、p型クラッド層35、活性層36、n型クラッド層37は、半導体層31(図4参照)に対応し、p型電極34は、アノード端子33(図4参照)に対応する。 The high resistance layer 38 has an area smaller than that of the n-type clad layer 37 in a plan view, and the high resistance layer 38 is not laminated on the peripheral edge of the n-type clad layer 37. The cathode electrode 22 is provided so as to cover the high resistance layer 38 and the n-type clad layer 37. The n-type clad layer 37 and the cathode electrode 22 are connected to each other at the peripheral edge of the upper surface of the n-type clad layer 37. In other words, the peripheral edge of the upper surface of the n-type clad layer 37 functions as the cathode terminal 32 (see FIG. 4). Further, the p-type clad layer 35, the active layer 36, and the n-type clad layer 37 correspond to the semiconductor layer 31 (see FIG. 4), and the p-type electrode 34 corresponds to the anode terminal 33 (see FIG. 4).

画素カソード電極24Sは、実装電極24と同層に、第2有機絶縁膜96の上に設けられる。また、接合部材25Sは、画素カソード電極24Sの上に設けられる。素子絶縁膜97には、画素カソード電極24Sと重畳する領域にコンタクトホールCH6が設けられる。カソード電極22は、コンタクトホールCH6の底部で、接合部材25Sを介して画素カソード電極24Sと電気的に接続される。 The pixel cathode electrode 24S is provided on the second organic insulating film 96 in the same layer as the mounting electrode 24. Further, the joining member 25S is provided on the pixel cathode electrode 24S. The element insulating film 97 is provided with a contact hole CH 6 in a region overlapping with the pixel cathode electrode 24S. The cathode electrode 22 is electrically connected to the pixel cathode electrode 24S via the joining member 25S at the bottom of the contact hole CH6.

以上のように複数の発光素子3は画素Pixごとに設けられた画素カソード電極24Sに電気的に接続される。そして、複数の画素カソード電極24Sは、画素行PixLに共通して設けられた画素カソード配線LVSSに接続される。これにより、複数の発光素子3には、画素Pixごとに画素カソード電極24Sを介してカソード電源電位PVSS(基準電位)が供給されるので、各画素Pixに供給されるカソード電源電位PVSSのばらつきを抑制することができる。 As described above, the plurality of light emitting elements 3 are electrically connected to the pixel cathode electrodes 24S provided for each pixel Pix. Then, the plurality of pixel cathode electrodes 24S are connected to the pixel cathode wiring LVSS commonly provided in the pixel row PixL. As a result, the cathode power supply potential PVSS (reference potential) is supplied to the plurality of light emitting elements 3 via the pixel cathode electrode 24S for each pixel Pix, so that the variation in the cathode power supply potential PVSS supplied to each pixel Pix can be varied. It can be suppressed.

次に、アレイ基板2の検査方法について説明する。図7は、実施形態に係る表示装置の検査システムの構成例を示すブロック図である。図7に示すように、本実施形態の検査システム100は、発光素子3が未実装のアレイ基板2と、検査治具7と、検査用制御回路101と、検査用駆動回路104と、検出回路105と、演算回路102と、記憶回路103と、を有する。 Next, an inspection method for the array substrate 2 will be described. FIG. 7 is a block diagram showing a configuration example of an inspection system for a display device according to an embodiment. As shown in FIG. 7, the inspection system 100 of the present embodiment includes an array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted, an inspection jig 7, an inspection control circuit 101, an inspection drive circuit 104, and a detection circuit. It has 105, an arithmetic circuit 102, and a storage circuit 103.

検査システム100の検査対象となるアレイ基板2は、発光素子3が未実装のアレイ基板2、すなわち、発光素子3が実装される前のアレイ基板2が使用される。発光素子3が未実装のアレイ基板2では、実装電極24及び画素カソード電極24Sが最表面に設けられる。 As the array substrate 2 to be inspected by the inspection system 100, the array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted, that is, the array substrate 2 before the light emitting element 3 is mounted is used. In the array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted, the mounting electrode 24 and the pixel cathode electrode 24S are provided on the outermost surface.

検査用制御回路101は、アレイ基板2の各種検査を制御する回路である。検査用制御回路101は、駆動IC210(図1参照)に含まれていてもよいし、駆動IC210とは別の検査用のICとして個別に設けられていてもよい。検査用駆動回路104は、検査用制御回路101からの制御信号に基づいて、映像信号線L2を介して、アレイ基板2の各画素Pixに検査信号VTGを供給する回路である。検査信号VTGは、表示の際に映像信号線L2に供給される映像信号Vsigに対応する電圧信号である。 The inspection control circuit 101 is a circuit that controls various inspections of the array board 2. The inspection control circuit 101 may be included in the drive IC 210 (see FIG. 1), or may be individually provided as an inspection IC separate from the drive IC 210. The inspection drive circuit 104 is a circuit that supplies an inspection signal VTG to each pixel Pix of the array substrate 2 via the video signal line L2 based on the control signal from the inspection control circuit 101. The inspection signal VTG is a voltage signal corresponding to the video signal Vsig supplied to the video signal line L2 at the time of display.

検出回路105は、アレイ基板2から出力された出力信号Voを検出する回路である。検出回路105は、出力信号Voに基づいて、各画素Pixの電気特性を検出する。電気特性は、例えば、駆動トランジスタDRTに流れる電流Idsの電流値等である。検査用制御回路101は、検出回路105からの出力信号Voに基づいて、発光素子3が未実装の状態で、各画素Pixの特性を取得する。 The detection circuit 105 is a circuit for detecting the output signal Vo output from the array board 2. The detection circuit 105 detects the electrical characteristics of each pixel Pix based on the output signal Vo. The electrical characteristics are, for example, the current value of the current Ids flowing through the drive transistor DRT. The inspection control circuit 101 acquires the characteristics of each pixel Pix based on the output signal Vo from the detection circuit 105 in a state where the light emitting element 3 is not mounted.

記憶回路103は、検出回路105で検出された出力信号Voに基づいて、各画素Pixの電気特性を記憶する回路である。演算回路102は、各画素Pixの電気特性に基づいて、各画素Pixの補正値を演算する回路である。また、演算回路102は、各画素Pixの電気特性と、発光素子検査装置200から取得した発光素子3の特性とを比較して、各画素Pixに適合する発光素子3を選択することができる。 The storage circuit 103 is a circuit that stores the electrical characteristics of each pixel Pix based on the output signal Vo detected by the detection circuit 105. The calculation circuit 102 is a circuit that calculates the correction value of each pixel Pix based on the electrical characteristics of each pixel Pix. Further, the arithmetic circuit 102 can compare the electrical characteristics of each pixel Pix with the characteristics of the light emitting element 3 acquired from the light emitting element inspection device 200, and select a light emitting element 3 suitable for each pixel Pix.

検査治具7は、画素Pixの特性を検査するための治具である。より具体的には、図8は、検査治具を模式的に示す断面図である。図9は、検査治具を模式的に示す平面図である。図8に示すように、検査治具7は、検査用基板71と、第1接続端子72と、第2接続端子73と、第1電極74と、第2電極75と、誘電体層76と、を含む。検査用基板71は、絶縁基板であり、アレイ基板2と対向して配置される。検査用基板71のアレイ基板2と対向する面に、第2電極75、誘電体層76、第1電極74の順に積層される。第1電極74と、第2電極75とは、誘電体層76を挟んで対向して設けられ、第1電極74と、第2電極75との間に検査用容量Canが形成される。誘電体層76は、第1電極74に重ならない位置で第2電極75を露出する開口部76aを有し、開口部76aにおいて第2電極75と第2接続端子73が接触して繋がっている。 The inspection jig 7 is a jig for inspecting the characteristics of the pixel Pix. More specifically, FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing an inspection jig. FIG. 9 is a plan view schematically showing the inspection jig. As shown in FIG. 8, the inspection jig 7 includes an inspection substrate 71, a first connection terminal 72, a second connection terminal 73, a first electrode 74, a second electrode 75, and a dielectric layer 76. ,including. The inspection board 71 is an insulating board and is arranged so as to face the array board 2. The second electrode 75, the dielectric layer 76, and the first electrode 74 are laminated in this order on the surface of the inspection board 71 facing the array board 2. The first electrode 74 and the second electrode 75 are provided so as to face each other with the dielectric layer 76 interposed therebetween, and an inspection capacitance Can is formed between the first electrode 74 and the second electrode 75. The dielectric layer 76 has an opening 76a that exposes the second electrode 75 at a position that does not overlap the first electrode 74, and the second electrode 75 and the second connection terminal 73 are in contact with each other at the opening 76a. ..

第1接続端子72及び第2接続端子73は、それぞれ、検査用基板71のアレイ基板2と対向する面に垂直な方向に突出する柱状に形成される。第1接続端子72は、第1電極74に接続される。第2接続端子73は、第2電極75に接続される。このような構成により、第1接続端子72と第2接続端子73との間に検査用容量Canが形成される。検査システム100は、第1接続端子72をアレイ基板2の実装電極24に電気的に接続し、第2接続端子73を画素カソード電極24Sに電気的に接続する。 The first connection terminal 72 and the second connection terminal 73 are each formed in a columnar shape protruding in a direction perpendicular to the surface of the inspection board 71 facing the array board 2. The first connection terminal 72 is connected to the first electrode 74. The second connection terminal 73 is connected to the second electrode 75. With such a configuration, an inspection capacitance Can is formed between the first connection terminal 72 and the second connection terminal 73. The inspection system 100 electrically connects the first connection terminal 72 to the mounting electrode 24 of the array substrate 2, and electrically connects the second connection terminal 73 to the pixel cathode electrode 24S.

また、図8において実装電極24と第1接続端子72の間に接合部材25が設けられており、画素カソード電極24Sと第2接続端子73の間に接合部材25Sが設けられているが、この例に限らず、接合部材25、25Sが実装電極24及び画素カソード電極24S上に形成される前に、アレイ基板2に検査用基板71を当てるものであってもよい。その場合、第1接続端子72は実装電極24に直接接触し、第2接続端子73は画素カソード電極24Sに直接接触することになる。そして、検査治具7による検査後に、実装電極24及び画素カソード電極24S上に接合部材25、25Sが塗布形成され、各発光素子3が実装される。 Further, in FIG. 8, a joining member 25 is provided between the mounting electrode 24 and the first connection terminal 72, and a joining member 25S is provided between the pixel cathode electrode 24S and the second connection terminal 73. Not limited to the example, the inspection substrate 71 may be applied to the array substrate 2 before the joining members 25 and 25S are formed on the mounting electrode 24 and the pixel cathode electrode 24S. In that case, the first connection terminal 72 comes into direct contact with the mounting electrode 24, and the second connection terminal 73 comes into direct contact with the pixel cathode electrode 24S. Then, after the inspection by the inspection jig 7, the joining members 25 and 25S are coated and formed on the mounting electrode 24 and the pixel cathode electrode 24S, and each light emitting element 3 is mounted.

図9に示すように、検査治具7がアレイ基板2に接続された場合に、第1電極74は、複数の実装電極24と対向して設けられる。例えば、第1電極74は、複数の実装電極24R、24G、24Bと重畳するようにL字状に形成され、画素カソード電極24Sとは非重畳に設けられる。1つの第1電極74は、複数の実装電極24R、24G、24Bと電気的に接続される。 As shown in FIG. 9, when the inspection jig 7 is connected to the array substrate 2, the first electrode 74 is provided so as to face the plurality of mounting electrodes 24. For example, the first electrode 74 is formed in an L shape so as to overlap with the plurality of mounting electrodes 24R, 24G, and 24B, and is provided so as not to overlap with the pixel cathode electrode 24S. One first electrode 74 is electrically connected to a plurality of mounting electrodes 24R, 24G, 24B.

また、実装電極24にはそれぞれ、検査用の接続部24aが設けられている。接続部24aは、発光素子3と重畳しない位置に設けられ、実装電極24の1辺から突出して形成される。複数の接続部24aが設けられているので、検査治具7とアレイ基板2との位置ずれが生じた場合であっても、実装電極24と第1接続端子72との接続を確保することができる。 Further, each of the mounting electrodes 24 is provided with a connecting portion 24a for inspection. The connection portion 24a is provided at a position where it does not overlap with the light emitting element 3, and is formed so as to project from one side of the mounting electrode 24. Since a plurality of connection portions 24a are provided, it is possible to secure the connection between the mounting electrode 24 and the first connection terminal 72 even when the inspection jig 7 and the array substrate 2 are misaligned. can.

第2電極75は、複数の実装電極24及び画素カソード電極24Sと対向して配置される。第2電極75は、第1電極74と重畳し、かつ、第1電極74よりも大きい面積を有する。このような構成により、検査治具7は、検査用容量Canの容量値を、画素回路PICAの第1容量Cs1及び第2容量Cs2よりも大きくすることができる。また、検査治具7は、実装電極24及び画素カソード電極24Sの形状が異なる場合であっても、検査治具7を用いてアレイ基板2の検査を行うことができる。 The second electrode 75 is arranged so as to face the plurality of mounting electrodes 24 and the pixel cathode electrode 24S. The second electrode 75 overlaps with the first electrode 74 and has a larger area than the first electrode 74. With such a configuration, the inspection jig 7 can make the capacity value of the inspection capacity Can larger than the first capacity Cs1 and the second capacity Cs2 of the pixel circuit PICA. Further, the inspection jig 7 can inspect the array substrate 2 by using the inspection jig 7 even when the shapes of the mounting electrode 24 and the pixel cathode electrode 24S are different.

また、図8及び図9では、検査治具7は、1つの画素Pixに接続されている。ただし、これに限定されず、検査治具7は、複数の画素Pixに接続されていてもよい。すなわち、検査用基板71が複数の画素Pixを覆って大きい面積を有して設けられ、第1接続端子72、第2接続端子73、第1電極74、第2電極75及び誘電体層76が、画素Pixごとに分離して検査用基板71に配列されていてもよい。この場合であっても、検査システム100は、画素回路PICAを画素Pixごとに駆動することで、画素Pixごとの特性を取得することができる。 Further, in FIGS. 8 and 9, the inspection jig 7 is connected to one pixel Pix. However, the present invention is not limited to this, and the inspection jig 7 may be connected to a plurality of pixels Pix. That is, the inspection board 71 is provided so as to cover the plurality of pixels Pix with a large area, and the first connection terminal 72, the second connection terminal 73, the first electrode 74, the second electrode 75, and the dielectric layer 76 are provided. , Pixels may be separated and arranged on the inspection substrate 71. Even in this case, the inspection system 100 can acquire the characteristics of each pixel Pix by driving the pixel circuit PICA for each pixel Pix.

また、第1電極74は1つの画素Pixが有する複数の実装電極24に電気的に接続されているが、これに限定されない。第1電極74は実装電極24ごとに分離して設けられていてもよく、検査システム100は、画素49(副画素)ごとに特性を検出することもできる。すなわち、以下の説明では、「画素Pixごと」を「画素49(副画素)ごと」と読み替えることもできる。 Further, the first electrode 74 is electrically connected to a plurality of mounting electrodes 24 included in one pixel Pix, but the present invention is not limited to this. The first electrode 74 may be provided separately for each mounting electrode 24, and the inspection system 100 can also detect the characteristics for each pixel 49 (sub-pixel). That is, in the following description, "for each pixel Pix" can be read as "for each pixel 49 (sub-pixel)".

図10は、アレイ基板の検査方法を説明するための回路図である。図10に示すように、アレイ基板2の検査において、発光素子3が未実装のアレイ基板2に検査治具7が接続される。すなわち、図3に示した画素回路PICAにおいて、発光素子3に換えて検査用容量Canが接続される。図10に示すように、検査用容量Canの一端側(第1接続端子72)は、アノード電極23を介して、駆動トランジスタDRT及びリセットトランジスタRST等に電気的に接続される。検査用容量Canの他端側(第2接続端子73)は、カソード電源線L10を介して、カソード電源電位PVSSに接続される。 FIG. 10 is a circuit diagram for explaining an inspection method of an array substrate. As shown in FIG. 10, in the inspection of the array substrate 2, the inspection jig 7 is connected to the array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted. That is, in the pixel circuit PICA shown in FIG. 3, the inspection capacitance Can is connected instead of the light emitting element 3. As shown in FIG. 10, one end side (first connection terminal 72) of the inspection capacitance Can is electrically connected to the drive transistor DRT, the reset transistor RST, and the like via the anode electrode 23. The other end side (second connection terminal 73) of the inspection capacitance Can is connected to the cathode power supply potential PVSS via the cathode power supply line L10.

発光素子3が未実装のアレイ基板2は、仮に検査治具7を接続しない状態では、アノード側(実装電極24)と、カソード側(画素カソード電極24S)との間がオープン(開放状態)にされる。このため、発光素子3が未実装のアレイ基板2では、画素Pixの特性(例えば、駆動トランジスタDRTの特性)を検出することが困難である。本実施形態では、発光素子3が未実装のアレイ基板2に検査治具7を接続することで、発光素子3が実装される実装電極24と、画素カソード電極24Sとの間が電気的に接続され、画素Pixの特性を検査することが可能になる。 In the array substrate 2 to which the light emitting element 3 is not mounted, if the inspection jig 7 is not connected, the space between the anode side (mounting electrode 24) and the cathode side (pixel cathode electrode 24S) is open (open state). Will be done. Therefore, it is difficult to detect the characteristics of the pixel Pix (for example, the characteristics of the drive transistor DRT) on the array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted. In the present embodiment, by connecting the inspection jig 7 to the array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted, the mounting electrode 24 on which the light emitting element 3 is mounted and the pixel cathode electrode 24S are electrically connected. It becomes possible to inspect the characteristics of the pixel Pix.

アレイ基板2の検査方法の一例として、検査用制御回路101(図7参照)は、アレイ基板2の駆動回路12を動作させて、駆動回路12から出力トランジスタBCT、初期化トランジスタIST、画素選択トランジスタSST及びリセットトランジスタRSTに駆動信号を供給する。これにより、検査用制御回路101は、画素Pixの各トランジスタのオン、オフを制御する。例えば、検査用制御回路101は、書き込み期間T1に、出力トランジスタBCT及び画素選択トランジスタSSTをオン(導通状態)とし、初期化トランジスタIST及びリセットトランジスタRSTをオフ(非導通状態)とする。 As an example of the inspection method of the array substrate 2, the inspection control circuit 101 (see FIG. 7) operates the drive circuit 12 of the array substrate 2, and the output transistor BCT, the initialization transistor IST, and the pixel selection transistor are operated from the drive circuit 12. A drive signal is supplied to the SST and the reset transistor RST. As a result, the inspection control circuit 101 controls turning on and off of each transistor of the pixel Pix. For example, the inspection control circuit 101 turns on the output transistor BCT and the pixel selection transistor SST (conducting state) and turns off the initialization transistor IST and the reset transistor RST (non-conducting state) during the writing period T1.

そして、検査用駆動回路104は、書き込み期間T1に、映像信号線L2に検査信号VTGを供給する。検査信号VTGは、画素選択トランジスタSSTを介して駆動トランジスタDRTのゲートに供給される。この際、出力トランジスタBCTはオンとなっているので、駆動トランジスタDRTには、検査信号VTGに応じた電流Idsが流れる。電流Idsは、アノード電極23を介して検査治具7の検査用容量Canに流れ、検査用容量Canに電荷が蓄積される。 Then, the inspection drive circuit 104 supplies the inspection signal VTG to the video signal line L2 during the writing period T1. The inspection signal VTG is supplied to the gate of the drive transistor DRT via the pixel selection transistor SST. At this time, since the output transistor BCT is turned on, the current Ids corresponding to the inspection signal VTG flows through the drive transistor DRT. The current Ids flows to the inspection capacity Can of the inspection jig 7 via the anode electrode 23, and the electric charge is accumulated in the inspection capacity Can.

次に、検査用制御回路101は、読み出し期間T2に、出力トランジスタBCT、初期化トランジスタIST及び画素選択トランジスタSSTをオフ(非導通状態)とし、リセットトランジスタRSTをオン(導通状態)とする。また、検出回路105は、リセット電源線L3に接続される。これにより、カソード電源線L10、検査用容量Can、アノード電極23、リセットトランジスタRST及びリセット電源線L3を経由する信号取り出し経路が形成される。書き込み期間T1で検査用容量Canに蓄積された電荷は、読み出し期間T2で、出力信号VoとしてリセットトランジスタRST及びリセット電源線L3を介して検出回路105に出力される。 Next, the inspection control circuit 101 turns off the output transistor BCT, the initialization transistor IST, and the pixel selection transistor SST (non-conducting state) and turns on the reset transistor RST (conducting state) during the read period T2. Further, the detection circuit 105 is connected to the reset power line L3. As a result, a signal extraction path is formed via the cathode power supply line L10, the inspection capacitance Can, the anode electrode 23, the reset transistor RST, and the reset power supply line L3. The electric charge accumulated in the inspection capacitance Can in the write period T1 is output to the detection circuit 105 as an output signal Vo via the reset transistor RST and the reset power supply line L3 in the read period T2.

以上のように、検査システム100は、アレイ基板2から出力された出力信号Voを検出することで、画素Pixごとの特性(例えば、駆動トランジスタDRTを流れる電流Idsに関する特性)を取得することができる。言い換えると、検査システム100は、発光素子3が未実装の状態で、アレイ基板2(画素回路PICA)のみに起因する画素Pixの特性のばらつきを取得することができる。あるいは、検査用駆動回路104は、異なる電圧の検査信号VTGを供給して、駆動トランジスタDRTの閾値電圧Vthや、検査信号VTGと電流Idsとの関係を取得してもよい。また、検査システム100は、出力信号Voに基づいて、アレイ基板2のアノード-カソード間のショートの有無(実装電極24と画素カソード電極24S間のショート)を検出することもできる。 As described above, the inspection system 100 can acquire the characteristics for each pixel Pix (for example, the characteristics related to the current Ids flowing through the drive transistor DRT) by detecting the output signal Vo output from the array substrate 2. .. In other words, the inspection system 100 can acquire variations in the characteristics of the pixel Pix caused only by the array substrate 2 (pixel circuit PICA) in a state where the light emitting element 3 is not mounted. Alternatively, the inspection drive circuit 104 may supply inspection signals VTGs having different voltages to acquire the threshold voltage Vth of the drive transistor DRT and the relationship between the inspection signal VTGs and the current Ids. Further, the inspection system 100 can also detect the presence or absence of a short circuit between the anode and the cathode of the array substrate 2 (short circuit between the mounting electrode 24 and the pixel cathode electrode 24S) based on the output signal Vo.

また、検査システム100は、アレイ基板2に検査治具7を接続して、画素Pixの表示に用いられる画素回路PICAを、検査用回路として共用することで、画素Pixごとの特性を取得することができる。したがって、検査治具7には検査用容量Canが形成されるのみであり、検査治具7に検査用のトランジスタ等の検査用素子を設ける場合に比べて、検査治具7の構成を簡易にすることができる。 Further, the inspection system 100 acquires the characteristics of each pixel Pix by connecting the inspection jig 7 to the array substrate 2 and sharing the pixel circuit PICA used for displaying the pixel Pix as an inspection circuit. Can be done. Therefore, only the inspection capacity Can is formed in the inspection jig 7, and the configuration of the inspection jig 7 is simplified as compared with the case where the inspection jig 7 is provided with an inspection element such as a transistor for inspection. can do.

図11は、実施形態に係るアレイ基板の検査方法を説明するためのフローチャートである。図11に示すように、検査システム100は、アレイ基板2の検査方法として、アレイ基板検査工程(ステップST11からステップST14)と、発光素子検査工程(ステップST15からステップST17)とを有する。 FIG. 11 is a flowchart for explaining an inspection method of an array substrate according to an embodiment. As shown in FIG. 11, the inspection system 100 includes an array substrate inspection step (steps ST11 to ST14) and a light emitting element inspection step (steps ST15 to ST17) as an inspection method for the array substrate 2.

アレイ基板検査工程では、検査システム100は、発光素子3が未実装のアレイ基板2を用意する(ステップST11)。 In the array substrate inspection step, the inspection system 100 prepares the array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted (step ST11).

次に、検査システム100は、アレイ基板2を検査する(ステップST12)。具体的には、検査システム100は、図8から図10に示したように、第1接続端子72と、第2接続端子73と、第1接続端子72と第2接続端子73との間に設けられた検査用容量Canとを含む検査治具7を用い、第1接続端子72を実装電極24に接続し、第2接続端子73を画素カソード電極24Sに接続する。このように、検査システム100は、発光素子3が未実装のアレイ基板2に検査治具7を接続し、検査用駆動回路104は、画素Pixごとに画素回路PICAを駆動する。検査用駆動回路104は、検査用制御回路101からの制御信号に基づいて、駆動トランジスタDRTに検査信号VTGを供給する。 Next, the inspection system 100 inspects the array substrate 2 (step ST12). Specifically, as shown in FIGS. 8 to 10, the inspection system 100 is located between the first connection terminal 72, the second connection terminal 73, and the first connection terminal 72 and the second connection terminal 73. The first connection terminal 72 is connected to the mounting electrode 24 and the second connection terminal 73 is connected to the pixel cathode electrode 24S by using the inspection jig 7 including the provided inspection capacity Can. In this way, the inspection system 100 connects the inspection jig 7 to the array substrate 2 on which the light emitting element 3 is not mounted, and the inspection drive circuit 104 drives the pixel circuit PICA for each pixel Pix. The inspection drive circuit 104 supplies the inspection signal VTG to the drive transistor DRT based on the control signal from the inspection control circuit 101.

検出回路105は、検査信号VTGに応じて駆動トランジスタDRTから出力された出力信号Voを、画素Pixごとに検出する。これにより、検査システム100は、出力信号Voに基づいて画素Pixごとの特性を取得する(ステップST13)。画素Pixごとの特性は、例えば図12に示すテーブルTAとして、記憶回路103に記憶される。 The detection circuit 105 detects the output signal Vo output from the drive transistor DRT according to the inspection signal VTG for each pixel Pix. As a result, the inspection system 100 acquires the characteristics of each pixel Pix based on the output signal Vo (step ST13). The characteristics of each pixel Pix are stored in the storage circuit 103, for example, as the table TA shown in FIG.

また、検査用制御回路101は、出力信号Voに基づいて、画素Pixごとの補正データを取得する(ステップST14)。画素Pixごとの補正データは、アレイ基板2に起因するばらつきを補正するデータである。画素Pixごとの補正データは、例えば、補正映像信号ΔVsig(図12のテーブルTA参照)として記憶回路に記憶される。演算回路102は、出力信号Voに基づいて画素Pixごとの補正映像信号ΔVsigを演算する。補正映像信号ΔVsigは、ホストICから供給される映像信号Vsigを補正する信号であり、出力信号Voに基づいて演算された駆動トランジスタDRTの特性ばらつきを補完するように、画素Pixごとに演算で求められた情報である。 Further, the inspection control circuit 101 acquires correction data for each pixel Pix based on the output signal Vo (step ST14). The correction data for each pixel Pix is data for correcting the variation caused by the array substrate 2. The correction data for each pixel Pix is stored in the storage circuit as, for example, a corrected video signal ΔVsig (see table TA in FIG. 12). The calculation circuit 102 calculates the corrected video signal ΔVsig for each pixel Pix based on the output signal Vo. The corrected video signal ΔVsig is a signal that corrects the video signal Vsig supplied from the host IC, and is calculated for each pixel Pix so as to supplement the characteristic variation of the drive transistor DRT calculated based on the output signal Vo. This is the information that was given.

検査システム100は、ステップST11からステップST14に示したアレイ基板検査工程に加え、発光素子検査工程を行ってもよい。発光素子検査工程では、まず、支持基板上に発光素子3を形成する(ステップST15)。支持基板は、例えばサファイア基板である。 The inspection system 100 may perform a light emitting element inspection step in addition to the array substrate inspection step shown in steps ST11 to ST14. In the light emitting element inspection step, first, the light emitting element 3 is formed on the support substrate (step ST15). The support substrate is, for example, a sapphire substrate.

次に、発光素子検査装置200(図7参照)は、支持基板上の発光素子3の特性を検査する(ステップST16)。発光素子3の特性は、例えば、発光素子3の立ち上がり電圧Vfや主波長等である。 Next, the light emitting element inspection device 200 (see FIG. 7) inspects the characteristics of the light emitting element 3 on the support substrate (step ST16). The characteristics of the light emitting element 3 are, for example, the rising voltage Vf of the light emitting element 3, the main wavelength, and the like.

検査用制御回路101は、発光素子検査装置200から発光素子3ごとの特性を取得する(ステップST17)。発光素子3ごとの特性は、例えば図12に示すテーブルTBとして記憶回路103に記憶される。検査用制御回路101は、発光素子3の立ち上がり電圧Vfや、主波長等の情報を個別に記憶回路103に記憶させてもよいし、特性a、b、cのように、発光素子3の特性を所定の範囲でランク分けして記憶してもよい。 The inspection control circuit 101 acquires the characteristics of each light emitting element 3 from the light emitting element inspection device 200 (step ST17). The characteristics of each light emitting element 3 are stored in the storage circuit 103 as, for example, the table TB shown in FIG. The inspection control circuit 101 may individually store information such as the rising voltage Vf of the light emitting element 3 and the main wavelength in the storage circuit 103, or the characteristics of the light emitting element 3 such as the characteristics a, b, and c. May be stored by ranking in a predetermined range.

なお、検査システム100は、発光素子検査工程を行わず、あらかじめ取得された発光素子3の特性に関する情報をテーブルTBとして取得してもよい。また、発光素子3の特性を個別に取得する場合に限定されず、ひとまとまりの複数の発光素子3ごとに特性を取得してもよい。 The inspection system 100 may acquire the information regarding the characteristics of the light emitting element 3 acquired in advance as the table TB without performing the light emitting element inspection step. Further, the characteristic is not limited to the case where the characteristics of the light emitting element 3 are individually acquired, and the characteristics may be acquired for each of a plurality of light emitting elements 3 as a group.

次に、検査システム100は、画素Pixごとの特性と、発光素子3ごとの特性とに基づいて、画素Pixに適合する発光素子3を選択する(ステップST21)。図12は、画素に適合する発光素子の選択方法の一例を説明する説明図である。図12のテーブルTAに示すように、画素Pixは、特性(例えば、駆動トランジスタDRTに流れる電流Idsの電流値)に応じて、特性A、B、Cのようにランク分けされている。例えば、特性A、B、Cの順に電流Idsが小さくなるように、ランク分けされているとする。また、特性NGは、画素Pixの不良が発生しており、発光素子3が実装されない画素Pixである。 Next, the inspection system 100 selects a light emitting element 3 that matches the pixel Pix based on the characteristics of each pixel Pix and the characteristics of each light emitting element 3 (step ST21). FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating an example of a method of selecting a light emitting element suitable for a pixel. As shown in the table TA of FIG. 12, the pixels Pix are ranked as characteristics A, B, and C according to the characteristics (for example, the current value of the current Ids flowing through the drive transistor DRT). For example, it is assumed that the characteristics A, B, and C are ranked so that the current Ids becomes smaller in this order. Further, the characteristic NG is a pixel Pix in which a defect of the pixel Pix has occurred and the light emitting element 3 is not mounted.

図12のテーブルTBに示すように、発光素子3は、特性(例えば、立ち上がり電圧Vfの電圧値や主波長)に応じて、特性a、b、cのようにランク分けされている。例えば、図12に示す例では、特性a、b、cの順に立ち上がり電圧Vfが小さくなるように、ランク分けされているとする。 As shown in the table TB of FIG. 12, the light emitting element 3 is ranked as the characteristics a, b, and c according to the characteristics (for example, the voltage value of the rising voltage Vf and the main wavelength). For example, in the example shown in FIG. 12, it is assumed that the characteristics a, b, and c are ranked so that the rising voltage Vf becomes smaller in this order.

検査システム100は、画素Pixごとの表示画質のばらつきが小さくなるように、発光素子3を選択する。例えば、電流Idsが大きい特性Aを有する画素Pix(1、1)には、立ち上がり電圧Vfが大きい特性aの発光素子3-1を選択する。電流Idsが小さい特性Cを有する画素Pix(1、2)には、立ち上がり電圧Vfが小さい特性cの発光素子3-3を選択する。電流Idsが中程度の特性Bを有する画素Pix(m、n)には、立ち上がり電圧Vfが中程度の特性bの発光素子3-2を選択する。NGの画素Pix(2、1)には、発光素子3を非選択とする。 The inspection system 100 selects the light emitting element 3 so that the variation in the display image quality for each pixel Pix is small. For example, for the pixel Pix (1, 1) having the characteristic A having a large current Ids, the light emitting element 3-1 having the characteristic a having a large rising voltage Vf is selected. For the pixel Pix (1, 2) having the characteristic C having a small current Ids, the light emitting element 3-3 having the characteristic c having a small rising voltage Vf is selected. For the pixel Pix (m, n) having the characteristic B having a medium current Ids, the light emitting element 3-2 having the characteristic b having a medium rising voltage Vf is selected. The light emitting element 3 is not selected for the NG pixel Pix (2, 1).

次に、図11に戻って、製造装置は、検査システム100により選択された発光素子3をアレイ基板2に実装する(ステップST22)。これにより、画素Pixごとの特性のばらつきに起因する表示画質のばらつきを抑制することができる。また、NGの画素Pix(2、1)には、発光素子3を実装しないで、滅点処理を施す。これにより、表示装置1の製造コストを抑制することができる。 Next, returning to FIG. 11, the manufacturing apparatus mounts the light emitting element 3 selected by the inspection system 100 on the array substrate 2 (step ST22). As a result, it is possible to suppress variations in display image quality due to variations in characteristics for each pixel Pix. Further, the NG pixel Pix (2, 1) is subjected to a blinding point process without mounting the light emitting element 3. As a result, the manufacturing cost of the display device 1 can be suppressed.

次に、検査システム100は、発光素子3の点灯検査を行う(ステップST23)。ステップST23では、アレイ基板2に発光素子3が実装され、素子絶縁膜97及びカソード電極22(図4参照)が設けられていない状態で点灯検査が行われる。 Next, the inspection system 100 inspects the lighting of the light emitting element 3 (step ST23). In step ST23, the lighting inspection is performed in a state where the light emitting element 3 is mounted on the array substrate 2 and the element insulating film 97 and the cathode electrode 22 (see FIG. 4) are not provided.

図13は、発光素子の点灯検査を説明するためのブロック図である。検査システム100は、アレイ基板2に実装された発光素子3の点灯検査を行い、必要に応じて発光素子3のリペアも行ってもよい。図13に示すように、検査システム100は、さらに点灯検査装置7Aと、光検出装置106と、画像処理回路107と、プレス装置220と、レーザ装置230と、ヒータ電源240とを含む。 FIG. 13 is a block diagram for explaining a lighting inspection of the light emitting element. The inspection system 100 may perform a lighting inspection of the light emitting element 3 mounted on the array substrate 2, and may also repair the light emitting element 3 if necessary. As shown in FIG. 13, the inspection system 100 further includes a lighting inspection device 7A, a light detection device 106, an image processing circuit 107, a press device 220, a laser device 230, and a heater power supply 240.

点灯検査装置7Aは、複数の発光素子3の点灯検査を行うための検査基板である。点灯検査装置7Aは、検査用基板71Aと、検査用電極72Aとを有する。検査用基板71Aは、アレイ基板2と対向する。検査用電極72Aは、検査用基板71Aの、アレイ基板2と対向する面に設けられる。検査用電極72Aは、複数の発光素子3のカソード(n型クラッド層37(図6参照))に接続される。検査用電極72Aは、点灯検査の際に発光素子3のカソード電極22として機能する。 The lighting inspection device 7A is an inspection board for performing a lighting inspection of a plurality of light emitting elements 3. The lighting inspection device 7A has an inspection substrate 71A and an inspection electrode 72A. The inspection board 71A faces the array board 2. The inspection electrode 72A is provided on the surface of the inspection substrate 71A facing the array substrate 2. The inspection electrode 72A is connected to the cathodes (n-type clad layer 37 (see FIG. 6)) of the plurality of light emitting elements 3. The inspection electrode 72A functions as the cathode electrode 22 of the light emitting element 3 during the lighting inspection.

検査用駆動回路104は、検査用制御回路101からの制御信号に基づいて、アレイ基板2にアノード電源電位PVDDを供給し、点灯検査装置7Aにカソード電源電位PVSSを供給する。各発光素子3には、アノード電源電位PVDDとカソード電源電位PVSSとの電位差に応じた電流が流れ、発光する。なお、検査用駆動回路104は、検査用駆動信号として発光素子3が点灯する電位を供給すればよく、表示装置1の表示におけるアノード電源電位PVDD及びカソード電源電位PVSSと異なる電位を供給してもよい。 The inspection drive circuit 104 supplies the anode power supply potential P VDD to the array substrate 2 and supplies the cathode power supply potential PVSS to the lighting inspection device 7A based on the control signal from the inspection control circuit 101. A current corresponding to the potential difference between the anode power supply potential P whether and the cathode power supply potential PVSS flows through each light emitting element 3 to emit light. The inspection drive circuit 104 may supply a potential for lighting the light emitting element 3 as an inspection drive signal, and may supply a potential different from the anode power supply potential P whether and the cathode power supply potential PVSS in the display of the display device 1. good.

光検出装置106は、複数の発光素子3からそれぞれ出射された光を検出する。光検出装置106は、例えば、CCD等の撮像素子を有する画像センサである。画像処理回路107は、光検出装置106からの検出信号(画像データ)を受け取って、画像処理を行うことで、複数の発光素子3のそれぞれの点灯状態(例えば輝度)を解析する。画像処理回路107は、複数の発光素子3の点灯状態に関する情報を検査用制御回路101に出力する。 The photodetector 106 detects the light emitted from each of the plurality of light emitting elements 3. The photodetector 106 is an image sensor having an image pickup device such as a CCD. The image processing circuit 107 receives a detection signal (image data) from the light detection device 106 and performs image processing to analyze the lighting state (for example, brightness) of each of the plurality of light emitting elements 3. The image processing circuit 107 outputs information regarding the lighting state of the plurality of light emitting elements 3 to the inspection control circuit 101.

検査用制御回路101は、画像処理回路107からの情報に基づいて、複数の発光素子3のそれぞれの点灯状態を判断する。例えば、発光素子3から出射された光の輝度が、所定の範囲内であれば、検査用制御回路101は、発光素子3の点灯状態が良好であると判断する。検査用制御回路101は、発光素子3から出射された光の輝度が、基準値よりも小さい場合に、発光素子3が非点灯状態であると判断する。また、検査用制御回路101は、全ての発光素子3の個数に対する、非点灯状態の発光素子3の個数の割合を接続不良率として演算する。また、検査用制御回路101は、点灯状態の発光素子3と非点灯状態の発光素子3のそれぞれの位置を演算する。 The inspection control circuit 101 determines the lighting state of each of the plurality of light emitting elements 3 based on the information from the image processing circuit 107. For example, if the brightness of the light emitted from the light emitting element 3 is within a predetermined range, the inspection control circuit 101 determines that the lighting state of the light emitting element 3 is good. The inspection control circuit 101 determines that the light emitting element 3 is not lit when the brightness of the light emitted from the light emitting element 3 is smaller than the reference value. Further, the inspection control circuit 101 calculates the ratio of the number of non-lighting light emitting elements 3 to the total number of light emitting elements 3 as the connection failure rate. Further, the inspection control circuit 101 calculates the positions of the light emitting element 3 in the lit state and the light emitting element 3 in the non-lighted state.

検査用制御回路101は、接続不良率が所定の基準値よりも大きい場合、すなわち、非点灯状態の発光素子3が所定数存在する場合に、プレス装置220、レーザ装置230及びヒータ電源240の少なくとも一つ以上に制御信号を出力して、発光素子3のリペアを行う。プレス装置220は、不良が発生した複数の発光素子3をアレイ基板2側に加圧して、複数の発光素子3と実装電極24とを接続させる。また、レーザ装置230及びヒータ電源240は、プレス装置220により複数の発光素子3を加圧した状態で、複数の発光素子3及びアレイ基板2を加熱することで、複数の発光素子3と実装電極24とを接続させる。 The inspection control circuit 101 is at least the press device 220, the laser device 230, and the heater power supply 240 when the connection failure rate is larger than a predetermined reference value, that is, when a predetermined number of non-lighting light emitting elements 3 are present. A control signal is output to one or more to repair the light emitting element 3. The press device 220 pressurizes a plurality of light emitting elements 3 having a defect on the array substrate 2 side to connect the plurality of light emitting elements 3 and the mounting electrode 24. Further, the laser device 230 and the heater power supply 240 heat the plurality of light emitting elements 3 and the array substrate 2 in a state where the plurality of light emitting elements 3 are pressurized by the press device 220, thereby causing the plurality of light emitting elements 3 and the mounting electrodes. 24 is connected.

なお、検査システム100は、図13に示すプレス装置220、レーザ装置230及びヒータ電源240を有していなくてもよく、複数の発光素子3の点灯検査のみを行ってもよい。 The inspection system 100 may not have the press device 220, the laser device 230, and the heater power supply 240 shown in FIG. 13, and may only inspect the lighting of the plurality of light emitting elements 3.

次に、図11に戻って、製造装置は、素子絶縁膜97及びカソード電極22(図4参照)を形成する(ステップST24)。そして、製造装置は、駆動IC210(図1参照)をアレイ基板2に実装する(ステップST25)。 Next, returning to FIG. 11, the manufacturing apparatus forms the element insulating film 97 and the cathode electrode 22 (see FIG. 4) (step ST24). Then, the manufacturing apparatus mounts the drive IC 210 (see FIG. 1) on the array substrate 2 (step ST25).

検査システム100は、画素Pixごとの補正データを駆動IC210に書き込み、発光素子3の点灯検査を行う(ステップST26)。駆動IC210は、ホストICから供給された映像信号Vsigに、画素Pixごとの補正データに基づく補正映像信号ΔVsigを加えた信号を、画素回路PICAの各発光素子3に供給する。これにより、表示装置1は、アレイ基板2の画素Pixごとの特性ばらつきに起因する表示画質のばらつきを抑制することができる。 The inspection system 100 writes correction data for each pixel Pix to the drive IC 210 and inspects the lighting of the light emitting element 3 (step ST26). The drive IC 210 supplies a signal obtained by adding the corrected video signal ΔVsig based on the correction data for each pixel Pix to the video signal Vsig supplied from the host IC to each light emitting element 3 of the pixel circuit PICA. As a result, the display device 1 can suppress variations in display image quality due to variations in characteristics for each pixel Pix of the array substrate 2.

なお、図11に示した検査方法はあくまで一例であり、適宜変更することができる。例えば、検査システム100は、画素Pixごとに発光素子3を選択するステップST21と、補正データを書き込むステップST26のいずれか一方を省略してもよい。 The inspection method shown in FIG. 11 is merely an example and can be changed as appropriate. For example, the inspection system 100 may omit either step ST21 for selecting the light emitting element 3 for each pixel Pix or step ST26 for writing correction data.

以上説明したように、本実施形態のアレイ基板2の検査方法は、複数の発光素子3が実装されるアレイ基板2の検査方法であって、アレイ基板2は、複数の画素Pixに対応して設けられた複数のトランジスタ(駆動トランジスタDRT、リセットトランジスタRST等)と、トランジスタに電気的に接続され、発光素子3が実装される複数の実装電極24と、複数の実装電極24と隣り合って設けられ、基準電位(カソード電源電位PVSS)に電気的に接続される画素カソード電極24Sと、を有する。アレイ基板2の検査方法は、複数の発光素子3が未実装のアレイ基板2を用意するステップST11と、第1接続端子72と、第2接続端子73と、第1接続端子72と第2接続端子73との間に設けられた検査用容量Canとを含む検査治具7を用い、第1接続端子72を実装電極24に接続し、第2接続端子73を画素カソード電極24Sに接続するステップST12と、アレイ基板2の検査を制御する検査用制御回路101からの制御信号に基づいて、駆動トランジスタDRTに検査信号VTGが供給され、検査信号VTGに応じて駆動トランジスタDRTから出力された出力信号Voを検出するステップST13と、を有する。 As described above, the inspection method of the array substrate 2 of the present embodiment is the inspection method of the array substrate 2 on which a plurality of light emitting elements 3 are mounted, and the array substrate 2 corresponds to a plurality of pixels Pix. A plurality of provided transistors (drive transistor DRT, reset transistor RST, etc.), a plurality of mounting electrodes 24 electrically connected to the transistors and on which the light emitting element 3 is mounted, and a plurality of mounting electrodes 24 are provided adjacent to each other. It has a pixel cathode electrode 24S, which is electrically connected to a reference potential (cathode power supply potential PVSS). The inspection method of the array board 2 includes step ST11 for preparing the array board 2 in which a plurality of light emitting elements 3 are not mounted, the first connection terminal 72, the second connection terminal 73, the first connection terminal 72, and the second connection. A step of connecting the first connection terminal 72 to the mounting electrode 24 and connecting the second connection terminal 73 to the pixel cathode electrode 24S using an inspection jig 7 including an inspection capacitance Can provided between the terminal 73. The inspection signal VTG is supplied to the drive transistor DRT based on the control signal from ST12 and the inspection control circuit 101 that controls the inspection of the array substrate 2, and the output signal output from the drive transistor DRT according to the inspection signal VTG. It has a step ST13 for detecting Vo.

これによれば、アレイ基板2に検査治具7を接続することで、発光素子3が配置されていない状態でのアレイ基板2の特性(例えば駆動トランジスタDRTの特性)を検査することができる。したがって、アレイ基板2の画素Pixごとの特性に応じて発光素子3を選択し、あるいは、画素Pixごとの補正データも取得できるので、画素Pixの表示画質のばらつきを抑制することができる。結果として、パネルの歩留まり向上を図ることができる。また、不良の画素Pixには発光素子3を実装しないことで製造コストを低減することができる。したがって、本実施形態のアレイ基板2の検査方法によれば、発光素子3が未実装のアレイ基板2の特性を良好に検出することができる。 According to this, by connecting the inspection jig 7 to the array substrate 2, it is possible to inspect the characteristics of the array substrate 2 (for example, the characteristics of the drive transistor DRT) in a state where the light emitting element 3 is not arranged. Therefore, since the light emitting element 3 can be selected according to the characteristics of each pixel Pix of the array substrate 2 or the correction data for each pixel Pix can be acquired, it is possible to suppress the variation in the display image quality of the pixel Pix. As a result, the yield of the panel can be improved. Further, the manufacturing cost can be reduced by not mounting the light emitting element 3 on the defective pixel Pix. Therefore, according to the inspection method of the array substrate 2 of the present embodiment, the characteristics of the array substrate 2 in which the light emitting element 3 is not mounted can be satisfactorily detected.

以上、本発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明はこのような実施の形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本発明の技術的範囲に属する。上述した各実施形態及び各変形例の要旨を逸脱しない範囲で、構成要素の種々の省略、置換及び変更のうち少なくとも1つを行うことができる。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to such embodiments. The contents disclosed in the embodiments are merely examples, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention. Appropriate changes made without departing from the spirit of the present invention naturally belong to the technical scope of the present invention. At least one of the various omissions, substitutions and modifications of the components may be made without departing from the gist of each of the embodiments and modifications described above.

1 表示装置
2 アレイ基板
3、3R、3G、3B、3-1、3-2、3-3 発光素子
7 検査治具
12 駆動回路
21 基板
24、24R、24G、24B 実装電極
24S 画素カソード電極
25、25S 接合部材
60 カソード配線
71 検査用基板
72 第1接続端子
73 第2接続端子
74 第1電極
75 第2電極
76 誘電体層
100 検査システム
210 駆動IC
Can 検査用容量
DRT 駆動トランジスタ
RST リセットトランジスタ
1 Display device 2 Array board 3, 3R, 3G, 3B, 3-1, 3-2, 3-3 Light emitting element 7 Inspection jig 12 Drive circuit 21 Board 24, 24R, 24G, 24B Mounting electrode 24S Pixel cathode electrode 25 , 25S Joining member 60 Cathode wiring 71 Inspection board 72 1st connection terminal 73 2nd connection terminal 74 1st electrode 75 2nd electrode 76 Dielectric layer 100 Inspection system 210 Drive IC
Can inspection capacity DRT drive transistor RST reset transistor

Claims (7)

複数の発光素子が実装されるアレイ基板の検査方法であって、
前記アレイ基板は、
複数の画素に対応して設けられた複数のトランジスタと、
前記トランジスタに電気的に接続され、前記発光素子が実装される複数の実装電極と、
複数の前記実装電極と隣り合って設けられ、基準電位に電気的に接続される画素カソード電極と、を有し、
複数の前記発光素子が未実装の前記アレイ基板を用意するステップと、
第1接続端子と、第2接続端子と、前記第1接続端子と前記第2接続端子との間に設けられた検査用容量とを含む検査治具を用い、前記第1接続端子を前記実装電極に接続し、前記第2接続端子を前記画素カソード電極に接続するステップと、
前記アレイ基板の検査を制御する検査用制御回路からの制御信号に基づいて、前記トランジスタに検査信号が供給され、前記検査信号に応じて前記トランジスタから出力された出力信号を検出するステップと、を有する
アレイ基板の検査方法。
This is an inspection method for an array board on which multiple light emitting elements are mounted.
The array board is
Multiple transistors provided for multiple pixels and
A plurality of mounting electrodes electrically connected to the transistor and to which the light emitting element is mounted,
It has a pixel cathode electrode, which is provided adjacent to the plurality of mounting electrodes and is electrically connected to a reference potential.
A step of preparing the array board on which the plurality of light emitting elements are not mounted, and
The first connection terminal is mounted by using an inspection jig including a first connection terminal, a second connection terminal, and an inspection capacity provided between the first connection terminal and the second connection terminal. The step of connecting to the electrode and connecting the second connection terminal to the pixel cathode electrode,
A step of supplying an inspection signal to the transistor based on a control signal from an inspection control circuit that controls inspection of the array substrate and detecting an output signal output from the transistor according to the inspection signal. How to inspect the array substrate you have.
前記検査治具は、前記第1接続端子に接続された第1電極と、誘電体層を挟んで前記第1電極と対向し、前記第2接続端子に接続された第2電極と、を有し、
前記第1電極は、複数の前記実装電極と対向し、前記第2電極は、複数の前記実装電極及び前記画素カソード電極と対向して配置される
請求項1に記載のアレイ基板の検査方法。
The inspection jig has a first electrode connected to the first connection terminal and a second electrode facing the first electrode with a dielectric layer interposed therebetween and connected to the second connection terminal. death,
The method for inspecting an array substrate according to claim 1, wherein the first electrode faces the plurality of mounting electrodes, and the second electrode is arranged so as to face the plurality of mounting electrodes and the pixel cathode electrodes.
前記検査用制御回路は、前記出力信号に基づいて前記画素ごとの特性を取得し、複数の前記発光素子の特性と、前記画素ごとの特性とに基づいて、前記画素に適合した前記発光素子を選択する
請求項1又は請求項2に記載のアレイ基板の検査方法。
The inspection control circuit acquires the characteristics of each pixel based on the output signal, and based on the characteristics of the plurality of light emitting elements and the characteristics of each pixel, the light emitting element suitable for the pixel is obtained. The method for inspecting an array substrate according to claim 1 or claim 2 to be selected.
前記検査用制御回路は、前記出力信号に基づいて前記画素ごとの補正データを取得する
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のアレイ基板の検査方法。
The method for inspecting an array substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the inspection control circuit acquires correction data for each pixel based on the output signal.
複数の前記トランジスタは、前記発光素子に電流を供給する駆動トランジスタと、前記発光素子にリセット電位を供給するリセットトランジスタと、を含み、
前記検査信号は、前記駆動トランジスタのゲートに供給され、
前記出力信号は、前記リセットトランジスタを介して検出回路に出力される
請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のアレイ基板の検査方法。
The plurality of transistors include a drive transistor that supplies a current to the light emitting element and a reset transistor that supplies a reset potential to the light emitting element.
The inspection signal is supplied to the gate of the drive transistor and is supplied.
The method for inspecting an array substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the output signal is output to the detection circuit via the reset transistor.
アレイ基板と、
前記アレイ基板に実装された複数の発光素子と、
前記アレイ基板に実装され、複数の発光素子に映像信号を供給する駆動ICと、を有し、
前記駆動ICは、複数の前記発光素子が未実装の前記アレイ基板から取得された画素ごとの補正データを有し、外部から供給された前記映像信号に、前記補正データに基づく補正映像信号を加えた信号を、前記発光素子に供給する
表示装置。
With the array board
A plurality of light emitting elements mounted on the array substrate and
It has a drive IC mounted on the array substrate and supplying a video signal to a plurality of light emitting elements.
The drive IC has correction data for each pixel acquired from the array substrate on which the plurality of light emitting elements are not mounted, and adds a correction video signal based on the correction data to the video signal supplied from the outside. A display device that supplies the signal to the light emitting element.
発光素子が未実装であるアレイ基板に対して検査を行うための検査治具であって、
第1接続端子と、第2接続端子と、前記第1接続端子に接する第1電極と、前記第2接続端子に接する第2電極と、を備え、
前記第1電極と前記第2電極は、誘電体層を挟んで向かい合っており、
前記誘電体層は、前記第1電極と重ならない位置において開口部を有し、前記開口部において前記第2電極と前記第2接続端子が接触する
検査治具。
It is an inspection jig for inspecting an array board on which a light emitting element is not mounted.
A first connection terminal, a second connection terminal, a first electrode in contact with the first connection terminal, and a second electrode in contact with the second connection terminal are provided.
The first electrode and the second electrode face each other with a dielectric layer interposed therebetween.
An inspection jig in which the dielectric layer has an opening at a position where it does not overlap with the first electrode, and the second electrode and the second connection terminal come into contact with each other at the opening.
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JP2001237429A (en) * 2000-02-23 2001-08-31 Seiko Epson Corp Method of manufacturing transistor array substrate and method of manufacturing optoelectric device
CN1922500A (en) * 2004-02-27 2007-02-28 东芝松下显示技术有限公司 Method of inspecting array substrate and method of manufacturing array substrate
CN101903933B (en) * 2008-01-07 2013-03-27 松下电器产业株式会社 Display device, electronic device, and driving method
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