JP2022001911A - Display device - Google Patents

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雅延 池田
Masanobu Ikeda
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Abstract

To provide a display device that can suppress increasing of pixel size and easily perform repairing of a defective pixel.SOLUTION: A display device comprises: a substrate; a plurality of pixels that are provided on the substrate; and a plurality of light-emitting elements that are provided on each of the plurality of pixels. And, at least one pixel comprises: a plurality of first mounting electrodes electrically connected to an anode electrode; a face-up type plurality of first light-emitting elements mounted on each of the plurality of first mounting electrodes; a second mounting electrode that are provided by being adjacent to the plurality of first mounting electrodes and electrically connected to a cathode electrode; and a flip-chip type second light-emitting element mounted on the first mounting electrode and the second mounting electrode.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、表示装置に関する。 The present invention relates to a display device.

表示素子として微小サイズの発光ダイオード(マイクロLED(micro LED))を用いた表示装置が注目されている(例えば、特許文献1、2参照)。発光ダイオードを用いた表示装置は、発光ダイオードのサイズが小さいなどの理由により、発光ダイオードの基板への搭載など、製造が難しく、発光ダイオードの不良を招き易い。特許文献1から特許文献3には、冗長性を有する画素構造や、欠陥画素のリペア方法について記載されている。 A display device using a minute-sized light emitting diode (micro LED) as a display element is attracting attention (see, for example, Patent Documents 1 and 2). A display device using a light emitting diode is difficult to manufacture due to the small size of the light emitting diode, such as mounting the light emitting diode on a substrate, and tends to cause a defect of the light emitting diode. Patent Documents 1 to 3 describe a pixel structure having redundancy and a method of repairing defective pixels.

米国特許出願公開第2017/0061842号明細書U.S. Patent Application Publication No. 2017/0061842 特開2018−010309号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-010309 米国特許出願公開第2017/0346011号明細書U.S. Patent Application Publication No. 2017/0346011

このような表示装置では、冗長性を確保するために多数の発光素子や回路を設ける必要があり、画素サイズが増大する可能性がある。また、不良品の発光ダイオードを検出して、リペア用の発光ダイオードを実装する場合には、不良品の発光ダイオードを取り除く工程が必要であり、容易に欠陥画素のリペアを行うことが困難となる場合がある。 In such a display device, it is necessary to provide a large number of light emitting elements and circuits in order to ensure redundancy, and the pixel size may increase. Further, when a defective light emitting diode is detected and a light emitting diode for repair is mounted, a step of removing the defective light emitting diode is required, which makes it difficult to easily repair the defective pixel. In some cases.

本発明は、画素サイズの増大を抑制するとともに容易に欠陥画素のリペアを行うことが可能な表示装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a display device capable of suppressing an increase in pixel size and easily repairing defective pixels.

本発明の一態様の表示装置は、基板と、前記基板に設けられた複数の画素と、複数の前記画素の各々に設けられる複数の発光素子と、を有し、少なくとも1つの前記画素は、アノード電極に電気的に接続される複数の第1実装電極と、複数の前記第1実装電極のそれぞれに実装されるフェイスアップ型の複数の第1発光素子と、複数の前記第1実装電極と隣り合って設けられ、カソード電極と電気的に接続される第2実装電極と、前記第1実装電極及び前記第2実装電極に実装されるフリップチップ型の第2発光素子と、を有する。 The display device of one aspect of the present invention includes a substrate, a plurality of pixels provided on the substrate, and a plurality of light emitting elements provided in each of the plurality of the pixels, and at least one of the pixels is a display device. A plurality of first mounting electrodes electrically connected to the anode electrode, a plurality of face-up type first light emitting elements mounted on each of the plurality of first mounting electrodes, and a plurality of the first mounting electrodes. It has a second mounting electrode provided adjacent to each other and electrically connected to the cathode electrode, and a flip-tip type second light emitting element mounted on the first mounting electrode and the second mounting electrode.

図1は、実施形態に係る表示装置を模式的に示す平面図である。FIG. 1 is a plan view schematically showing a display device according to an embodiment. 図2は、複数の画素を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a plurality of pixels. 図3は、画素回路を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a pixel circuit. 図4は、図2のIV−IV’線に沿う断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV'of FIG. 図5は、リペア用の第2発光素子が実装された画素を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a pixel on which a second light emitting element for repair is mounted. 図6は、図5のVI−VI’断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line VI-VI'of FIG. 図7は、実施形態に係る表示装置のリペア方法を説明するための説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a repair method of the display device according to the embodiment. 図8は、実施形態に係る表示装置のリペアシステムの構成例を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing a configuration example of the repair system of the display device according to the embodiment. 図9は、第1変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the first modification. 図10は、第2変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the second modification. 図11は、第3変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the third modification. 図12は、第4変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the fourth modification. 図13は、第5変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the fifth modification.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 An embodiment (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the components described below can be combined as appropriate. It should be noted that the disclosure is merely an example, and those skilled in the art can easily conceive of appropriate changes while maintaining the gist of the invention, which are naturally included in the scope of the present invention. Further, in order to clarify the explanation, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part as compared with the actual embodiment, but this is just an example, and the interpretation of the present invention is used. It is not limited. Further, in the present specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the above-mentioned figures may be designated by the same reference numerals, and detailed description thereof may be omitted as appropriate.

本明細書及び特許請求の範囲において、ある構造体の上に他の構造体を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある構造体に接するように、直上に他の構造体を配置する場合と、ある構造体の上方に、さらに別の構造体を介して他の構造体を配置する場合との両方を含むものとする。 In the present specification and the scope of patent claims, when expressing an aspect of arranging another structure on one structure, when the term "above" is simply used, the structure shall be used unless otherwise specified. It includes both the case where another structure is placed directly above the structure so as to be in contact with each other and the case where another structure is placed above one structure via another structure.

(実施形態)
図1は、実施形態に係る表示装置を模式的に示す平面図である。図1に示すように、表示装置1は、アレイ基板2と、画素Pixと、駆動回路12と、駆動IC(Integrated Circuit)210と、カソード配線60と、を含む。アレイ基板2は、各画素Pixを駆動するための駆動回路基板であり、バックプレーン又はアクティブマトリクス基板とも呼ばれる。アレイ基板2は、基板21、複数のトランジスタ、複数の容量及び各種配線等を有する。
(Embodiment)
FIG. 1 is a plan view schematically showing a display device according to an embodiment. As shown in FIG. 1, the display device 1 includes an array substrate 2, a pixel Pix, a drive circuit 12, a drive IC (Integrated Circuit) 210, and a cathode wiring 60. The array board 2 is a drive circuit board for driving each pixel Pix, and is also called a backplane or an active matrix board. The array substrate 2 has a substrate 21, a plurality of transistors, a plurality of capacitances, various wirings, and the like.

図1に示すように、表示装置1は、表示領域AAと、周辺領域GAとを有する。表示領域AAは、複数の画素Pixと重なって配置され、画像を表示する領域である。周辺領域GAは、複数の画素Pixと重ならない領域であり、表示領域AAの外側に配置される。 As shown in FIG. 1, the display device 1 has a display area AA and a peripheral area GA. The display area AA is an area that is arranged so as to overlap with the plurality of pixels Pix and displays an image. The peripheral region GA is an region that does not overlap with the plurality of pixels Pix, and is arranged outside the display region AA.

複数の画素Pixは、基板21の表示領域AAにおいて、第1方向Dx及び第2方向Dyに配列される。なお、第1方向Dx及び第2方向Dyは、基板21の表面に対して平行な方向である。第1方向Dxは、第2方向Dyと直交する。ただし、第1方向Dxは、第2方向Dyと直交しないで交差してもよい。第3方向Dzは、第1方向Dx及び第2方向Dyと直交する方向である。第3方向Dzは、例えば、基板21の法線方向に対応する。なお、以下、平面視とは、第3方向Dzから見た場合の位置関係を示す。 The plurality of pixels Pix are arranged in the first direction Dx and the second direction Dy in the display area AA of the substrate 21. The first direction Dx and the second direction Dy are directions parallel to the surface of the substrate 21. The first direction Dx is orthogonal to the second direction Dy. However, the first direction Dx may intersect with the second direction Dy without being orthogonal to each other. The third direction Dz is a direction orthogonal to the first direction Dx and the second direction Dy. The third direction Dz corresponds to, for example, the normal direction of the substrate 21. In the following, the plan view indicates the positional relationship when viewed from the third direction Dz.

駆動回路12は、駆動IC210からの各種制御信号に基づいて複数のゲート線(例えば、リセット制御信号線L5、出力制御信号線L6、画素制御信号線L7、初期化制御信号線L8(図3参照))を駆動する回路である。駆動回路12は、複数のゲート線を順次又は同時に選択し、選択されたゲート線にゲート駆動信号を供給する。これにより、駆動回路12は、ゲート線に接続された複数の画素Pixを選択する。 The drive circuit 12 has a plurality of gate lines (for example, a reset control signal line L5, an output control signal line L6, a pixel control signal line L7, and an initialization control signal line L8 (see FIG. 3) based on various control signals from the drive IC 210. )) Is a circuit that drives. The drive circuit 12 sequentially or simultaneously selects a plurality of gate lines and supplies a gate drive signal to the selected gate lines. As a result, the drive circuit 12 selects a plurality of pixels Pix connected to the gate line.

駆動IC210は、表示装置1の表示を制御する回路である。駆動IC210は、基板21の周辺領域GAにCOG(Chip On Glass)として実装される。これに限定されず、駆動IC210は、基板21の周辺領域GAに接続されたフレキシブルプリント基板やリジット基板の上にCOF(Chip On Film)として実装されてもよい。 The drive IC 210 is a circuit that controls the display of the display device 1. The drive IC 210 is mounted as a COG (Chip On Glass) in the peripheral region GA of the substrate 21. Not limited to this, the drive IC 210 may be mounted as a COF (Chip On Film) on a flexible printed circuit board or a rigid board connected to the peripheral region GA of the board 21.

カソード配線60は、基板21の周辺領域GAに設けられる。カソード配線60は、表示領域AAの複数の画素Pix及び周辺領域GAの駆動回路12を囲んで設けられる。複数の第1発光素子3のカソードは、共通のカソード配線60に接続され、固定電位(例えば、グランド電位)が供給される。より具体的には、第1発光素子3のカソード端子32(図4参照)は、カソード電極22を介して、カソード配線60に接続される。 The cathode wiring 60 is provided in the peripheral region GA of the substrate 21. The cathode wiring 60 is provided so as to surround the plurality of pixels Pix in the display area AA and the drive circuit 12 in the peripheral area GA. The cathodes of the plurality of first light emitting elements 3 are connected to a common cathode wiring 60, and a fixed potential (for example, a ground potential) is supplied. More specifically, the cathode terminal 32 (see FIG. 4) of the first light emitting element 3 is connected to the cathode wiring 60 via the cathode electrode 22.

図2は、複数の画素を示す平面図である。図2に示すように、1つの画素Pixは、複数の画素49を含む。例えば、画素Pixは、画素49Rと、画素49Gと、画素49Bとを有する。画素49Rは、第1色としての原色の赤色を表示する。画素49Gは、第2色としての原色の緑色を表示する。画素49Bは、第3色としての原色の青色を表示する。図2に示すように、1つの画素Pixにおいて、画素49Rと画素49Gは第2方向Dyで並ぶ。また、画素49Rと画素49Bは第1方向Dxで並ぶ。なお、第1色、第2色、第3色は、それぞれ赤色、緑色、青色に限られず、補色などの任意の色を選択することができる。以下において、画素49Rと、画素49Gと、画素49Bとをそれぞれ区別する必要がない場合、単に画素49という。 FIG. 2 is a plan view showing a plurality of pixels. As shown in FIG. 2, one pixel Pix includes a plurality of pixels 49. For example, the pixel Pix has a pixel 49R, a pixel 49G, and a pixel 49B. The pixel 49R displays the primary color red as the first color. The pixel 49G displays the primary color green as the second color. Pixel 49B displays the primary color blue as the third color. As shown in FIG. 2, in one pixel Pix, the pixels 49R and the pixels 49G are arranged in the second direction Dy. Further, the pixels 49R and the pixels 49B are arranged in the first direction Dx. The first color, the second color, and the third color are not limited to red, green, and blue, respectively, and any color such as a complementary color can be selected. In the following, when it is not necessary to distinguish between the pixel 49R, the pixel 49G, and the pixel 49B, it is simply referred to as the pixel 49.

画素49は、それぞれ第1発光素子3と、第1実装電極24とを有する。表示装置1は、画素49R、画素49G及び画素49Bにおいて、第1発光素子3R、3G、3Bごとに異なる光を出射することで画像を表示する。第1発光素子3は、平面視で、3μm以上、300μm以下程度の大きさを有する無機発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)チップであり、マイクロLED(micro LED)と呼ばれる。各画素にマイクロLEDを備える表示装置1は、マイクロLED表示装置とも呼ばれる。なお、マイクロLEDのマイクロは、第1発光素子3の大きさを限定するものではない。 The pixel 49 has a first light emitting element 3 and a first mounting electrode 24, respectively. The display device 1 displays an image by emitting different light for each of the first light emitting elements 3R, 3G, and 3B in the pixels 49R, the pixels 49G, and the pixels 49B. The first light emitting element 3 is an inorganic light emitting diode (LED) chip having a size of about 3 μm or more and about 300 μm or less in a plan view, and is called a micro LED. The display device 1 provided with a micro LED in each pixel is also referred to as a micro LED display device. The micro of the micro LED does not limit the size of the first light emitting element 3.

なお、複数の第1発光素子3は、4色以上の異なる光を出射してもよい。また、複数の画素49の配置は、図2に示す構成に限定されない。例えば、画素49Rは画素49Bと第2方向Dyに隣り合っていてもよい。また、画素49R、画素49G及び画素49Bが、この順で第1方向Dxに繰り返し配列されてもよい。 The plurality of first light emitting elements 3 may emit four or more different colors of light. Further, the arrangement of the plurality of pixels 49 is not limited to the configuration shown in FIG. For example, the pixel 49R may be adjacent to the pixel 49B in the second direction Dy. Further, the pixels 49R, the pixels 49G and the pixels 49B may be repeatedly arranged in the first direction Dx in this order.

画素Pixは、さらに第2実装電極24Sを有する。第2実装電極24Sは、リペア用の第2発光素子5(図5参照)を実装するための電極であり、複数の第1実装電極24と隣り合って設けられる。第2実装電極24Sは、画素49Gの第1実装電極24Gと第1方向Dxで並ぶ。第2実装電極24Sは、画素49Bの第1実装電極24Bと第2方向Dyで並ぶ。第2実装電極24Sは、画素49Rの第1実装電極24Rと、第1方向Dx及び第2方向Dyと交差する斜め方向で並ぶ。また、第2実装電極24Sは、カソード電極22(図4参照)と電気的に接続される。なお、図2に示す第1画素Pix−1は、複数の画素Pixのうち複数の第1発光素子3の不良の発生していない画素Pixであり、複数の第1発光素子3が実装され、第2発光素子5が実装されない画素Pixである。 The pixel Pix further has a second mounting electrode 24S. The second mounting electrode 24S is an electrode for mounting a second light emitting element 5 (see FIG. 5) for repair, and is provided adjacent to the plurality of first mounting electrodes 24. The second mounting electrode 24S is aligned with the first mounting electrode 24G of the pixel 49G in the first direction Dx. The second mounting electrode 24S is aligned with the first mounting electrode 24B of the pixel 49B in the second direction Dy. The second mounting electrode 24S is arranged in an oblique direction intersecting the first mounting electrode 24R of the pixel 49R with the first direction Dx and the second direction Dy. Further, the second mounting electrode 24S is electrically connected to the cathode electrode 22 (see FIG. 4). The first pixel Pix-1 shown in FIG. 2 is a pixel Pix in which a plurality of first light emitting elements 3 are not defective among the plurality of pixel Pix, and a plurality of first light emitting elements 3 are mounted. It is a pixel Pix to which the second light emitting element 5 is not mounted.

図3は、画素回路を示す回路図である。図3は、1つの画素49に設けられた画素回路PICAを示しており、画素回路PICAは複数の画素49のそれぞれに設けられている。図3に示すように、画素回路PICAは、第1発光素子3と、5つのトランジスタと、2つの容量とを含む。具体的には、画素回路PICAは、駆動トランジスタDRT、出力トランジスタBCT、初期化トランジスタIST、画素選択トランジスタSST及びリセットトランジスタRSTを含む。駆動トランジスタDRT、出力トランジスタBCT、初期化トランジスタIST、画素選択トランジスタSST及びリセットトランジスタRSTは、それぞれn型TFT(Thin Film Transistor)で構成される。また、画素回路PICAは、第1容量Cs1及び第2容量Cs2を含む。 FIG. 3 is a circuit diagram showing a pixel circuit. FIG. 3 shows a pixel circuit PICA provided in one pixel 49, and the pixel circuit PICA is provided in each of a plurality of pixels 49. As shown in FIG. 3, the pixel circuit PICA includes a first light emitting element 3, five transistors, and two capacitances. Specifically, the pixel circuit PICA includes a drive transistor DRT, an output transistor BCT, an initialization transistor IST, a pixel selection transistor SST, and a reset transistor RST. The drive transistor DRT, output transistor BCT, initialization transistor IST, pixel selection transistor SST, and reset transistor RST are each composed of an n-type TFT (Thin Film Transistor). Further, the pixel circuit PICA includes a first capacitance Cs1 and a second capacitance Cs2.

第1発光素子3のカソード(カソード端子32)は、カソード電源線L10に接続される。また、第1発光素子3のアノード(アノード端子33)は、駆動トランジスタDRT及び出力トランジスタBCTを介してアノード電源線L1に接続される。アノード電源線L1には、アノード電源電位PVDDが供給される。カソード電源線L10には、カソード配線60及びカソード電極22を介してカソード電源電位PVSSが供給される。アノード電源電位PVDDは、カソード電源電位PVSSよりも高い電位である。 The cathode (cathode terminal 32) of the first light emitting element 3 is connected to the cathode power supply line L10. Further, the anode (anode terminal 33) of the first light emitting element 3 is connected to the anode power supply line L1 via the drive transistor DRT and the output transistor BCT. The anode power supply potential P VDD is supplied to the anode power supply line L1. The cathode power supply potential PVSS is supplied to the cathode power supply line L10 via the cathode wiring 60 and the cathode electrode 22. The anode power supply potential Pldap has a higher potential than the cathode power supply potential PVSS.

アノード電源線L1は、画素49に、駆動電位であるアノード電源電位PVDDを供給する。具体的には、第1発光素子3は、理想的にはアノード電源電位PVDDとカソード電源電位PVSSとの電位差(PVDD−PVSS)により順方向電流(駆動電流)が供給され発光する。つまり、アノード電源電位PVDDは、カソード電源電位PVSSに対し、第1発光素子3を発光させる電位差を有している。第1発光素子3のアノード端子33は、アノード電極23に電気的に接続され、アノード電極23とアノード電源線L1との間に等価回路として、第2容量Cs2が接続される。 The anode power supply line L1 supplies the pixel 49 with the anode power supply potential P VDD, which is a driving potential. Specifically, the first light emitting element 3 is ideally supplied with a forward current (driving current) by a potential difference (P VDD-PVSS) between the anode power supply potential P whether and the cathode power supply potential PVSS to emit light. That is, the anode power supply potential P VDD has a potential difference that causes the first light emitting element 3 to emit light with respect to the cathode power supply potential PVSS. The anode terminal 33 of the first light emitting element 3 is electrically connected to the anode electrode 23, and the second capacitance Cs2 is connected as an equivalent circuit between the anode electrode 23 and the anode power supply line L1.

駆動トランジスタDRTのソース電極は、アノード電極23を介して第1発光素子3のアノード端子33に接続され、ドレイン電極は、出力トランジスタBCTのソース電極に接続される。駆動トランジスタDRTのゲート電極は、第1容量Cs1、画素選択トランジスタSSTのドレイン電極及び初期化トランジスタISTのドレイン電極に接続される。 The source electrode of the drive transistor DRT is connected to the anode terminal 33 of the first light emitting element 3 via the anode electrode 23, and the drain electrode is connected to the source electrode of the output transistor BCT. The gate electrode of the drive transistor DRT is connected to the first capacitance Cs1, the drain electrode of the pixel selection transistor SST, and the drain electrode of the initialization transistor IST.

出力トランジスタBCTのゲート電極は、出力制御信号線L6に接続される。出力制御信号線L6には、出力制御信号BGが供給される。出力トランジスタBCTのドレイン電極は、アノード電源線L1に接続される。 The gate electrode of the output transistor BCT is connected to the output control signal line L6. The output control signal BG is supplied to the output control signal line L6. The drain electrode of the output transistor BCT is connected to the anode power supply line L1.

初期化トランジスタISTのソース電極は、初期化電源線L4に接続される。初期化電源線L4には、初期化電位Viniが供給される。初期化トランジスタISTのゲート電極は、初期化制御信号線L8に接続される。初期化制御信号線L8には、初期化制御信号IGが供給される。すなわち、駆動トランジスタDRTのゲート電極には、初期化トランジスタISTを介して初期化電源線L4が接続される。 The source electrode of the initialization transistor IST is connected to the initialization power line L4. The initialization potential Vini is supplied to the initialization power line L4. The gate electrode of the initialization transistor IST is connected to the initialization control signal line L8. The initialization control signal IG is supplied to the initialization control signal line L8. That is, the initialization power line L4 is connected to the gate electrode of the drive transistor DRT via the initialization transistor IST.

画素選択トランジスタSSTのソース電極は、映像信号線L2に接続される。映像信号線L2には、映像信号Vsigが供給される。画素選択トランジスタSSTのゲート電極には、画素制御信号線L7が接続されている。画素制御信号線L7には、画素制御信号SGが供給される。 The source electrode of the pixel selection transistor SST is connected to the video signal line L2. The video signal Vsig is supplied to the video signal line L2. A pixel control signal line L7 is connected to the gate electrode of the pixel selection transistor SST. The pixel control signal SG is supplied to the pixel control signal line L7.

リセットトランジスタRSTのソース電極は、リセット電源線L3に接続される。リセット電源線L3には、リセット電源電位Vrstが供給される。リセットトランジスタRSTのゲート電極は、リセット制御信号線L5に接続される。リセット制御信号線L5には、リセット制御信号RGが供給される。リセットトランジスタRSTのドレイン電極は、アノード電極23(第1発光素子3のアノード端子33)及び駆動トランジスタDRTのソース電極に接続される。リセットトランジスタRSTのリセット動作により、第1容量Cs1及び第2容量Cs2に保持された電圧がリセットされる。 The source electrode of the reset transistor RST is connected to the reset power line L3. The reset power supply potential Vrst is supplied to the reset power supply line L3. The gate electrode of the reset transistor RST is connected to the reset control signal line L5. A reset control signal RG is supplied to the reset control signal line L5. The drain electrode of the reset transistor RST is connected to the anode electrode 23 (anode terminal 33 of the first light emitting element 3) and the source electrode of the drive transistor DRT. By the reset operation of the reset transistor RST, the voltage held in the first capacitance Cs1 and the second capacitance Cs2 is reset.

リセットトランジスタRSTのドレイン電極と、駆動トランジスタDRTのゲート電極との間に、等価回路として、第1容量Cs1が設けられる。画素回路PICAは、第1容量Cs1及び第2容量Cs2により、駆動トランジスタDRTの寄生容量とリーク電流とによるゲート電圧の変動を抑制することができる。 A first capacitance Cs1 is provided as an equivalent circuit between the drain electrode of the reset transistor RST and the gate electrode of the drive transistor DRT. The pixel circuit PICA can suppress the fluctuation of the gate voltage due to the parasitic capacitance of the drive transistor DRT and the leakage current by the first capacitance Cs1 and the second capacitance Cs2.

なお、以下の説明において、アノード電源線L1及びカソード電源線L10を単に電源線と表す場合がある。映像信号線L2、リセット電源線L3及び初期化電源線L4を信号線と表す場合がある。リセット制御信号線L5、出力制御信号線L6、画素制御信号線L7及び初期化制御信号線L8をゲート線と表す場合がある。 In the following description, the anode power line L1 and the cathode power line L10 may be simply referred to as power lines. The video signal line L2, the reset power line L3, and the initialization power line L4 may be referred to as signal lines. The reset control signal line L5, the output control signal line L6, the pixel control signal line L7, and the initialization control signal line L8 may be referred to as a gate line.

駆動トランジスタDRTのゲート電極には、映像信号Vsig(または、階調信号)に応じた電位が供給される。つまり、駆動トランジスタDRTは、出力トランジスタBCTを介して供給されたアノード電源電位PVDDに基づいて、映像信号Vsigに応じた電流を第1発光素子3に供給する。このように、アノード電源線L1に供給されたアノード電源電位PVDDは、駆動トランジスタDRT及び出力トランジスタBCTによって降下するため、第1発光素子3のアノード端子33には、アノード電源電位PVDDよりも低い電位が供給される。 A potential corresponding to the video signal Vsig (or gradation signal) is supplied to the gate electrode of the drive transistor DRT. That is, the drive transistor DRT supplies the current corresponding to the video signal Vsig to the first light emitting element 3 based on the anode power supply potential P VDD supplied via the output transistor BCT. In this way, the anode power supply potential P VDD supplied to the anode power supply line L1 is lowered by the drive transistor DRT and the output transistor BCT, so that the anode terminal 33 of the first light emitting element 3 has a potential lower than the anode power supply potential P VDD. Is supplied.

第2容量Cs2の一方の電極には、アノード電源線L1を介してアノード電源電位PVDDが供給され、第2容量Cs2の他方の電極には、アノード電源電位PVDDよりも低い電位が供給される。つまり、第2容量Cs2の一方の電極には、第2容量Cs2の他方の電極よりも高い電位が供給される。第2容量Cs2の一方の電極は、例えば、図4に示すアノード電源線L1に接続された対向電極26であり、第2容量Cs2の他方の電極は、図4に示す駆動トランジスタDRTのソースに接続されたアノード電極23である。 The anode power supply potential P VDD is supplied to one electrode of the second capacitance Cs2 via the anode power supply line L1, and a potential lower than the anode power supply potential P VDD is supplied to the other electrode of the second capacitance Cs2. That is, one electrode of the second capacitance Cs2 is supplied with a higher potential than the other electrode of the second capacitance Cs2. One electrode of the second capacitance Cs2 is, for example, the counter electrode 26 connected to the anode power supply line L1 shown in FIG. 4, and the other electrode of the second capacitance Cs2 is the source of the drive transistor DRT shown in FIG. The connected anode electrode 23.

表示装置1において、駆動回路12(図1参照)は、複数の画素行を、先頭行(例えば、図1中の表示領域AAにおいて、最上部に位置する画素行)から順番に選択する。駆動IC210は、選択された画素行の画素49に映像信号Vsig(映像書き込み電位)を書き込み、第1発光素子3を発光させる。駆動IC210は、1水平走査期間ごとに、映像信号線L2に映像信号Vsigを供給し、リセット電源線L3にリセット電源電位Vrstを供給し、初期化電源線L4に初期化電位Viniを供給する。表示装置1は、これらの動作が1フレームの画像ごとに繰り返される。 In the display device 1, the drive circuit 12 (see FIG. 1) selects a plurality of pixel rows in order from the first row (for example, the pixel row located at the top in the display area AA in FIG. 1). The drive IC 210 writes a video signal Vsig (video writing potential) to the pixels 49 of the selected pixel row, and causes the first light emitting element 3 to emit light. The drive IC 210 supplies the video signal Vsig to the video signal line L2, supplies the reset power potential Vrst to the reset power line L3, and supplies the initialization potential Vini to the initialization power line L4 every one horizontal scanning period. The display device 1 repeats these operations for each frame of the image.

次に、表示装置1の断面構成について説明する。図4は、図2のIV−IV’線に沿う断面図である。図4に示すように、第1発光素子3は、アレイ基板2の上に設けられる。アレイ基板2は、基板21、各種トランジスタ、各種配線及び各種絶縁膜を有する。基板21は絶縁基板であり、例えば、ガラス基板、樹脂基板又は樹脂フィルム等が用いられる。 Next, the cross-sectional configuration of the display device 1 will be described. FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV'of FIG. As shown in FIG. 4, the first light emitting element 3 is provided on the array substrate 2. The array substrate 2 has a substrate 21, various transistors, various wirings, and various insulating films. The substrate 21 is an insulating substrate, and for example, a glass substrate, a resin substrate, a resin film, or the like is used.

本明細書において、基板21の表面に垂直な方向において、基板21から第1発光素子3に向かう方向を「上側」又は単に「上」とする。また、第1発光素子3から基板21に向かう方向を「下側」又は単に「下」とする。 In the present specification, the direction from the substrate 21 toward the first light emitting element 3 in the direction perpendicular to the surface of the substrate 21 is referred to as “upper” or simply “upper”. Further, the direction from the first light emitting element 3 toward the substrate 21 is defined as "lower side" or simply "lower side".

駆動トランジスタDRT、出力トランジスタBCTは、基板21の一方の面側に設けられる。半導体層61、65は、基板21の上に設けられる。なお、半導体層61、65と基板21との間にアンダーコート膜が設けられていてもよい。絶縁膜91は、半導体層61、65を覆って基板21の上に設けられる。絶縁膜91は、例えばシリコン酸化膜である。 The drive transistor DRT and the output transistor BCT are provided on one surface side of the substrate 21. The semiconductor layers 61 and 65 are provided on the substrate 21. An undercoat film may be provided between the semiconductor layers 61 and 65 and the substrate 21. The insulating film 91 is provided on the substrate 21 so as to cover the semiconductor layers 61 and 65. The insulating film 91 is, for example, a silicon oxide film.

ゲート電極64、66は、絶縁膜91の上に設けられる。図4に示す例では、各トランジスタは、いわゆるトップゲート構造である。ただし、各トランジスタは、半導体層の下側にゲート電極が設けられたボトムゲート構造でもよく、半導体層の上側及び下側の両方にゲート電極が設けられたデュアルゲート構造でもよい。 The gate electrodes 64 and 66 are provided on the insulating film 91. In the example shown in FIG. 4, each transistor has a so-called top gate structure. However, each transistor may have a bottom gate structure in which a gate electrode is provided on the lower side of the semiconductor layer, or a dual gate structure in which gate electrodes are provided on both the upper side and the lower side of the semiconductor layer.

絶縁膜92は、ゲート電極64、66を覆って絶縁膜91の上に設けられる。絶縁膜92は、例えば、シリコン窒化膜とシリコン酸化膜との積層構造を有する。ソース電極62、ドレイン電極67及びアノード電源線L1は、絶縁膜92の上に設けられる。ソース電極62は絶縁膜91、92を貫通するコンタクトホールを介して半導体層61と電気的に接続される。また、ドレイン電極67は絶縁膜91、92に設けられたコンタクトホールを介して半導体層65と電気的に接続される。 The insulating film 92 is provided on the insulating film 91 so as to cover the gate electrodes 64 and 66. The insulating film 92 has, for example, a laminated structure of a silicon nitride film and a silicon oxide film. The source electrode 62, the drain electrode 67, and the anode power supply line L1 are provided on the insulating film 92. The source electrode 62 is electrically connected to the semiconductor layer 61 via a contact hole penetrating the insulating films 91 and 92. Further, the drain electrode 67 is electrically connected to the semiconductor layer 65 via the contact holes provided in the insulating films 91 and 92.

複数の絶縁膜(第1有機絶縁膜93、絶縁膜94、絶縁膜95及び第2有機絶縁膜96)は、各トランジスタを覆って設けられる。第1有機絶縁膜93及び第2有機絶縁膜96としては感光性アクリル等の有機材料が用いられる。感光性アクリル等の有機材料は、CVD等により形成される無機絶縁材料に比べ、配線段差のカバレッジ性や、表面の平坦性に優れる。絶縁膜94、絶縁膜95は、無機絶縁膜であり、上述した絶縁膜91、92と同様の材料、例えば、シリコン窒化膜あるいはシリコン酸化膜を用いることができる。 A plurality of insulating films (first organic insulating film 93, insulating film 94, insulating film 95, and second organic insulating film 96) are provided so as to cover each transistor. As the first organic insulating film 93 and the second organic insulating film 96, an organic material such as photosensitive acrylic is used. Organic materials such as photosensitive acrylic are superior in coverage of wiring steps and surface flatness as compared with inorganic insulating materials formed by CVD or the like. The insulating film 94 and the insulating film 95 are inorganic insulating films, and the same materials as the above-mentioned insulating films 91 and 92, for example, a silicon nitride film or a silicon oxide film, can be used.

具体的には、第1有機絶縁膜93は、ソース電極62、ドレイン電極67及びアノード電源線L1を覆って、絶縁膜92の上に設けられる。第1有機絶縁膜93の上に、対向電極26、絶縁膜94、アノード電極23の順に積層される。対向電極26は、例えばITO(Indium Tin Oxide)等の透光性を有する導電性材料で構成される。対向電極26は、第1有機絶縁膜93に設けられたコンタクトホールCH1の底部でアノード電源線L1と接続される。 Specifically, the first organic insulating film 93 is provided on the insulating film 92 so as to cover the source electrode 62, the drain electrode 67, and the anode power supply line L1. The counter electrode 26, the insulating film 94, and the anode electrode 23 are laminated in this order on the first organic insulating film 93. The counter electrode 26 is made of a translucent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). The counter electrode 26 is connected to the anode power line L1 at the bottom of the contact hole CH1 provided in the first organic insulating film 93.

絶縁膜94は、対向電極26を覆って設けられる。アノード電極23は、絶縁膜94を介して対向電極26と対向する。第1有機絶縁膜93及び絶縁膜94には、ソース電極62を底面とするコンタクトホールCH2、CH3が設けられる。アノード電極23は、コンタクトホールCH2、CH3を介してソース電極62と電気的に接続される。これにより、アノード電極23は、駆動トランジスタDRTと電気的に接続される。 The insulating film 94 is provided so as to cover the counter electrode 26. The anode electrode 23 faces the counter electrode 26 via the insulating film 94. The first organic insulating film 93 and the insulating film 94 are provided with contact holes CH2 and CH3 having a source electrode 62 as a bottom surface. The anode electrode 23 is electrically connected to the source electrode 62 via the contact holes CH2 and CH3. As a result, the anode electrode 23 is electrically connected to the drive transistor DRT.

アノード電極23は、例えば、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)の積層構造としている。ただし、これに限定されず、アノード電極23は、モリブデン、チタン、アルミニウムの金属のいずれか1つ以上を含む材料であってもよい。又は、アノード電極23は、モリブデン、チタンのいずれか1つ以上を含む合金、又は透光性導電材料であってもよい。また、絶縁膜94を介して対向するアノード電極23と対向電極26との間に第2容量Cs2が形成される。 The anode electrode 23 has, for example, a laminated structure of titanium (Ti) and aluminum (Al). However, the present invention is not limited to this, and the anode electrode 23 may be a material containing any one or more of molybdenum, titanium, and aluminum. Alternatively, the anode electrode 23 may be an alloy containing any one or more of molybdenum and titanium, or a translucent conductive material. Further, the second capacitance Cs2 is formed between the anode electrode 23 and the facing electrode 26 facing each other via the insulating film 94.

絶縁膜95は、アノード電極23を覆って絶縁膜94の上に設けられる。第2有機絶縁膜96は、絶縁膜95の上に設けられる。すなわち、第1有機絶縁膜93は、駆動トランジスタDRTの上に設けられ、第2有機絶縁膜96は、第1有機絶縁膜93の上側に積層される。絶縁膜95は、第1有機絶縁膜93と第2有機絶縁膜96との間に設けられる。第2有機絶縁膜96には、コンタクトホールCH4が設けられる。絶縁膜95には、コンタクトホールCH4と重なってコンタクトホールCH5が設けられる。コンタクトホールCH4、CH5の底部には、アノード電極23が設けられる。また、アノード電極23は、第1実装電極24の少なくとも一部と対向して設けられる。 The insulating film 95 is provided on the insulating film 94 so as to cover the anode electrode 23. The second organic insulating film 96 is provided on the insulating film 95. That is, the first organic insulating film 93 is provided on the drive transistor DRT, and the second organic insulating film 96 is laminated on the upper side of the first organic insulating film 93. The insulating film 95 is provided between the first organic insulating film 93 and the second organic insulating film 96. The second organic insulating film 96 is provided with a contact hole CH4. The insulating film 95 is provided with the contact hole CH5 so as to overlap with the contact hole CH4. An anode electrode 23 is provided at the bottom of the contact holes CH4 and CH5. Further, the anode electrode 23 is provided so as to face at least a part of the first mounting electrode 24.

第1実装電極24は、第2有機絶縁膜96の上に設けられ、コンタクトホールCH4、CH5を介してアノード電極23と電気的に接続される。第1実装電極24は、アノード電極23と同様にチタン、アルミニウムの積層構造としている。ただし、第1実装電極24は、アノード電極23と異なる導電材料が用いられてもよい。また、第2有機絶縁膜96は、第1有機絶縁膜93と異なる有機材料が用いられてもよい。 The first mounting electrode 24 is provided on the second organic insulating film 96 and is electrically connected to the anode electrode 23 via the contact holes CH4 and CH5. Like the anode electrode 23, the first mounting electrode 24 has a laminated structure of titanium and aluminum. However, the first mounting electrode 24 may use a conductive material different from that of the anode electrode 23. Further, as the second organic insulating film 96, an organic material different from that of the first organic insulating film 93 may be used.

第1発光素子3R、3G、3Bは、それぞれに対応する第1実装電極24R、24G、24Bに実装される。各第1発光素子3は、アノード端子33が第1実装電極24に接するように実装される。各第1発光素子3のアノード端子33と第1実装電極24との間の接合部材25は、両者の間で良好な導通が確保でき、かつアレイ基板2上の形成物を破損しないものであれば特に限定しない。接合部材25は、例えば、はんだや導電ペーストである。アノード端子33と第1実装電極24との接合として、例えば低温溶融のはんだ材料を用いたリフロー工程や、導電ペーストを介して第1発光素子3をアレイ基板2上に載せた後に焼成結合する手法が挙げられる。 The first light emitting elements 3R, 3G, and 3B are mounted on the corresponding first mounting electrodes 24R, 24G, and 24B, respectively. Each first light emitting element 3 is mounted so that the anode terminal 33 is in contact with the first mounting electrode 24. The bonding member 25 between the anode terminal 33 of each first light emitting element 3 and the first mounting electrode 24 is such that good conduction can be ensured between them and the formation on the array substrate 2 is not damaged. There is no particular limitation. The joining member 25 is, for example, solder or a conductive paste. As a bonding between the anode terminal 33 and the first mounting electrode 24, for example, a reflow process using a solder material melted at a low temperature, or a method of mounting the first light emitting element 3 on the array substrate 2 via a conductive paste and then firing and bonding. Can be mentioned.

ここで、アレイ基板2に第2有機絶縁膜96及び第1実装電極24を設けずに、アノード電極23上に第1発光素子3を直接実装することも可能である。ただし、第2有機絶縁膜96及び第1実装電極24を設けることにより、第1発光素子3の実装時に加えられる力によって絶縁膜94が破損することを抑制できる。つまり、第2容量Cs2を形成するアノード電極23と対向電極26との間の絶縁破壊が生ずることを抑制できる。 Here, it is also possible to mount the first light emitting element 3 directly on the anode electrode 23 without providing the second organic insulating film 96 and the first mounting electrode 24 on the array substrate 2. However, by providing the second organic insulating film 96 and the first mounting electrode 24, it is possible to prevent the insulating film 94 from being damaged by the force applied when the first light emitting element 3 is mounted. That is, it is possible to suppress the occurrence of dielectric breakdown between the anode electrode 23 forming the second capacitance Cs2 and the counter electrode 26.

第1発光素子3は、フェイスアップ型の発光素子であり、第1発光素子3の下部がアノード電極23に接続され、第1発光素子3の上部がカソード電極22に接続される。第1発光素子3は、半導体層31、カソード端子32及びアノード端子33を有する。半導体層31は、n型クラッド層37、活性層36及びp型クラッド層35(図6参照)が積層された構成を採用することができる。半導体層31は、例えば、窒化ガリウム(GaN)、アルミニウムインジウム燐(AlInP)、窒化インジウムガリウム(InGaN)等の化合物半導体が用いられる。半導体層31は、第1発光素子3R、3G、3Bごとに異なる材料が用いられてもよい。また、活性層として、高効率化のために数原子層からなる井戸層と障壁層とを周期的に積層させた多重量子井戸構造(MQW構造)が採用されてもよい。また、第1発光素子3として、半導体基板上に半導体層31が形成された構成でもよい。 The first light emitting element 3 is a face-up type light emitting element, and the lower part of the first light emitting element 3 is connected to the anode electrode 23, and the upper part of the first light emitting element 3 is connected to the cathode electrode 22. The first light emitting device 3 has a semiconductor layer 31, a cathode terminal 32, and an anode terminal 33. As the semiconductor layer 31, a configuration in which an n-type clad layer 37, an active layer 36, and a p-type clad layer 35 (see FIG. 6) are laminated can be adopted. As the semiconductor layer 31, for example, a compound semiconductor such as gallium nitride (GaN), aluminum indium phosphide (AlInP), or indium gallium nitride (InGaN) is used. For the semiconductor layer 31, different materials may be used for each of the first light emitting elements 3R, 3G, and 3B. Further, as the active layer, a multiple quantum well structure (MQW structure) in which a well layer composed of several atomic layers and a barrier layer are periodically laminated may be adopted for high efficiency. Further, as the first light emitting element 3, the semiconductor layer 31 may be formed on the semiconductor substrate.

複数の第1発光素子3の間に素子絶縁膜97が設けられる。素子絶縁膜97は樹脂材料で形成される。素子絶縁膜97は、第1発光素子3の側面を覆っており、第1発光素子3のカソード端子32は、素子絶縁膜97から露出する。素子絶縁膜97の上面と、カソード端子32の上面とが同一面を形成するように、素子絶縁膜97は平坦に形成される。ただし、素子絶縁膜97の上面の位置は、カソード端子32の上面の位置と異なっていてもよい。また、第1発光素子3の側壁は、例えばシリコン酸化膜(SiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)などのパッシベーション膜98(図6参照)で覆われていてもよい。この場合、例えば第1発光素子3を素子絶縁膜97で覆う前に、発光素子3の側壁及びカソード端子32をパッシベーション膜98で覆い、その後カソード端子32を露出するようにパッシベーション膜98のパターニングを行い、素子絶縁膜97を形成する工程となる。また、後述するように、パッシベーション膜98は特定の第1発光素子3、特には不良が発生しリペアを要する第1発光素子3のみを覆うように形成されるものであってもよい。 The element insulating film 97 is provided between the plurality of first light emitting elements 3. The element insulating film 97 is made of a resin material. The element insulating film 97 covers the side surface of the first light emitting element 3, and the cathode terminal 32 of the first light emitting element 3 is exposed from the element insulating film 97. The element insulating film 97 is formed flat so that the upper surface of the element insulating film 97 and the upper surface of the cathode terminal 32 form the same surface. However, the position of the upper surface of the element insulating film 97 may be different from the position of the upper surface of the cathode terminal 32. Further, the side wall of the first light emitting element 3 may be covered with a passivation film 98 (see FIG. 6) such as a silicon oxide film (SiO2) and aluminum oxide (Al2O3). In this case, for example, before covering the first light emitting element 3 with the element insulating film 97, the side wall of the light emitting element 3 and the cathode terminal 32 are covered with the passivation film 98, and then the passivation film 98 is patterned so as to expose the cathode terminal 32. This is the step of forming the element insulating film 97. Further, as will be described later, the passivation film 98 may be formed so as to cover only a specific first light emitting element 3, particularly the first light emitting element 3 in which a defect occurs and repair is required.

カソード電極22は、複数の第1発光素子3及び素子絶縁膜97を覆って、複数の第1発光素子3に電気的に接続される。カソード電極22は、例えばITO等の透光性を有する導電性材料が用いられる。これにより、第1発光素子3からの出射光を効率よく外部に取り出すことができる。カソード電極22は、表示領域AAに実装された複数の第1発光素子3のカソード端子32と電気的に接続される。カソード電極22は、表示領域AAの外側に設けられたコンタクト部で、アレイ基板2側に設けられたカソード配線60と接続される。 The cathode electrode 22 covers the plurality of first light emitting elements 3 and the element insulating film 97, and is electrically connected to the plurality of first light emitting elements 3. For the cathode electrode 22, a conductive material having translucency such as ITO is used. As a result, the light emitted from the first light emitting element 3 can be efficiently taken out to the outside. The cathode electrode 22 is electrically connected to the cathode terminals 32 of the plurality of first light emitting elements 3 mounted on the display region AA. The cathode electrode 22 is a contact portion provided outside the display area AA and is connected to the cathode wiring 60 provided on the array substrate 2 side.

以上のように、表示素子として第1発光素子3を用いた表示装置1が構成される。なお、表示装置1は、必要に応じてカソード電極22の上に、オーバーコート層やカバー基板が積層されてもよい。さらに、表示装置1は、カソード電極22の上側に、円偏光板やタッチパネル等を設けてもよい。 As described above, the display device 1 using the first light emitting element 3 as the display element is configured. The display device 1 may have an overcoat layer or a cover substrate laminated on the cathode electrode 22 as needed. Further, the display device 1 may be provided with a circularly polarizing plate, a touch panel, or the like on the upper side of the cathode electrode 22.

次に、表示装置1のリペア方法について説明する。図5は、リペア用の第2発光素子が実装された画素を示す平面図である。以下の説明では、一例として、第1発光素子3Rに不良が発生した画素Pix(第2画素Pix−2)の構成について説明する。 Next, a repair method of the display device 1 will be described. FIG. 5 is a plan view showing a pixel on which a second light emitting element for repair is mounted. In the following description, as an example, a configuration of a pixel Pix (second pixel Pix-2) in which a defect has occurred in the first light emitting element 3R will be described.

図5に示すように第2画素Pix−2は、複数の第1発光素子3に加え、第2発光素子5Rを有する。第2画素Pix−2では、不良が発生した第1発光素子3Rは滅点化処理されており、赤色の光を出射しない。第2発光素子5Rは、リペア用の発光素子であり、不良が発生した第1発光素子3Rに換えて、赤色の光を出射する。すなわち、画素49Rは、第2発光素子5Rと、第1実装電極24Rと、第2実装電極24Sと、を有する。第2発光素子5Rは、フリップチップ型の発光素子であり、第1実装電極24R及び第2実装電極24Sに実装される。具体的には、第2発光素子5Rの一端側のp型電極54(図6参照)は第1実装電極24Rに電気的に接続され、第2発光素子5Rの他端側のn型電極51(図6参照)は第2実装電極24Sに電気的に接続される。 As shown in FIG. 5, the second pixel Pix-2 has a second light emitting element 5R in addition to the plurality of first light emitting elements 3. In the second pixel Pix-2, the first light emitting element 3R in which the defect has occurred is subjected to the blinding process and does not emit red light. The second light emitting element 5R is a light emitting element for repair, and emits red light in place of the first light emitting element 3R in which a defect has occurred. That is, the pixel 49R has a second light emitting element 5R, a first mounting electrode 24R, and a second mounting electrode 24S. The second light emitting element 5R is a flip-chip type light emitting element, and is mounted on the first mounting electrode 24R and the second mounting electrode 24S. Specifically, the p-type electrode 54 (see FIG. 6) on one end side of the second light emitting element 5R is electrically connected to the first mounting electrode 24R, and the n-type electrode 51 on the other end side of the second light emitting element 5R. (See FIG. 6) is electrically connected to the second mounting electrode 24S.

第2発光素子5Rは、平面視で長方形であり、第2発光素子5Rの長辺は、第1方向Dx及び第2方向Dyに傾斜する斜め方向に沿って設けられる。第2発光素子5Rの長辺の長さは、第1発光素子3の一辺の長さよりも長い。 The second light emitting element 5R is rectangular in a plan view, and the long side of the second light emitting element 5R is provided along an oblique direction inclined in the first direction Dx and the second direction Dy. The length of the long side of the second light emitting element 5R is longer than the length of one side of the first light emitting element 3.

また、第1実装電極24にはそれぞれ、リペア用の接続部24aが設けられている。接続部24aは、第1発光素子3と重畳しない位置に設けられ、第1実装電極24の1辺から突出して形成される。複数の接続部24aは、それぞれ、第2実装電極24Sに近い位置に向けられる。 Further, each of the first mounting electrodes 24 is provided with a connection portion 24a for repair. The connection portion 24a is provided at a position where it does not overlap with the first light emitting element 3, and is formed so as to project from one side of the first mounting electrode 24. Each of the plurality of connecting portions 24a is directed to a position close to the second mounting electrode 24S.

このような構成により、第2画素Pix−2では、不良が発生した第1発光素子3Rが第1実装電極24Rに実装された状態で滅点化処理が施され、第2発光素子5Rが、第1実装電極24R及び第2実装電極24Sに実装される。言い換えると、第1発光素子3R及び第2発光素子5Rは、共通の第1実装電極24Rに実装される。 With such a configuration, in the second pixel Pix-2, the first light emitting element 3R in which the defect has occurred is mounted on the first mounting electrode 24R, and the spotting process is performed. It is mounted on the first mounting electrode 24R and the second mounting electrode 24S. In other words, the first light emitting element 3R and the second light emitting element 5R are mounted on the common first mounting electrode 24R.

図6は、図5のVI−VI’断面図である。図6に示すように、第1発光素子3Rは、第1実装電極24R及び接合部材25の上に、p型電極34、p型クラッド層35、活性層36、n型クラッド層37の順に積層される。さらに、第1発光素子3Rは、n型クラッド層37の上に積層された第1高抵抗層38を有する。第1高抵抗層38は、例えば、不純物がドープされていない窒化ガリウム(GaN)で形成される。第1高抵抗層38のシート抵抗値は、n型クラッド層37のシート抵抗値よりも大きい。 FIG. 6 is a sectional view taken along the line VI-VI'of FIG. As shown in FIG. 6, the first light emitting element 3R is laminated on the first mounting electrode 24R and the bonding member 25 in the order of the p-type electrode 34, the p-type clad layer 35, the active layer 36, and the n-type clad layer 37. Will be done. Further, the first light emitting element 3R has a first high resistance layer 38 laminated on the n-type clad layer 37. The first high resistance layer 38 is formed of, for example, gallium nitride (GaN) which is not doped with impurities. The sheet resistance value of the first high resistance layer 38 is larger than the sheet resistance value of the n-type clad layer 37.

第1高抵抗層38は、平面視でn型クラッド層37よりも小さい面積を有しており、n型クラッド層37の周縁部には、第1高抵抗層38は積層されていない。カソード電極22は、第1高抵抗層38及びn型クラッド層37を覆って設けられる。n型クラッド層37上面の周縁部で、n型クラッド層37とカソード電極22とが接続される。言い換えると、n型クラッド層37上面の周縁部が、カソード端子32(図4参照)として機能する。また、p型クラッド層35、活性層36、n型クラッド層37は、半導体層31(図4参照)に対応し、p型電極34は、アノード端子33(図4参照)に対応する。 The first high resistance layer 38 has an area smaller than that of the n-type clad layer 37 in a plan view, and the first high resistance layer 38 is not laminated on the peripheral edge of the n-type clad layer 37. The cathode electrode 22 is provided so as to cover the first high resistance layer 38 and the n-type clad layer 37. The n-type clad layer 37 and the cathode electrode 22 are connected to each other at the peripheral edge of the upper surface of the n-type clad layer 37. In other words, the peripheral edge of the upper surface of the n-type clad layer 37 functions as the cathode terminal 32 (see FIG. 4). Further, the p-type clad layer 35, the active layer 36, and the n-type clad layer 37 correspond to the semiconductor layer 31 (see FIG. 4), and the p-type electrode 34 corresponds to the anode terminal 33 (see FIG. 4).

なお、図6は、カソード電極22と第1発光素子3Rとの接続構成を説明するために模式的に示した図である。第2画素Pix−2の第1発光素子3Rは上述したように不良が発生した発光素子であり、意図しない発光を抑制するために滅点化処理が施されている。すなわち、図3に示す画素回路PICAが駆動された場合であっても、第1発光素子3Rには、電流が流れず、常時非点灯の状態となっている。滅点化処理は、第1発光素子3Rが、アノード電極23及びカソード電極22の一方と非接続であればよく、どのような構成を採用してもよい。 Note that FIG. 6 is a diagram schematically shown for explaining the connection configuration between the cathode electrode 22 and the first light emitting element 3R. As described above, the first light emitting element 3R of the second pixel Pix-2 is a light emitting element in which a defect has occurred, and is subjected to a spotting process in order to suppress unintended light emission. That is, even when the pixel circuit PICA shown in FIG. 3 is driven, no current flows through the first light emitting element 3R, and the light emitting element 3R is always in a non-lighting state. In the destructive treatment, any configuration may be adopted as long as the first light emitting element 3R is not connected to one of the anode electrode 23 and the cathode electrode 22.

次に、滅点化処理について説明する。図6に示すように、不良が発生した第1発光素子3Rは、上述のパッシベーション膜98により第1発光素子3Rとカソード電極22とが絶縁されている。すなわち、不良の発生していない、正常に機能する第1発光素子3についてはパッシベーション膜98にパターニングを行い第1発光素子3のカソード端子32を露出するように開口を形成する。また、不良の発生した第1発光素子3については、パッシベーション膜98のカソード端子32と重畳する部分に開口部を設けず、カソード端子32がカソード電極22と接続されないように、カソード端子32を覆うようにパッシベーション膜98を残すといったパターニングを行う。 Next, the defeating process will be described. As shown in FIG. 6, in the first light emitting element 3R in which a defect has occurred, the first light emitting element 3R and the cathode electrode 22 are insulated by the above-mentioned passivation film 98. That is, the passivation film 98 is patterned for the first light emitting element 3 that does not have any defects and functions normally, and an opening is formed so as to expose the cathode terminal 32 of the first light emitting element 3. Further, for the first light emitting element 3 in which a defect has occurred, an opening is not provided in the portion of the passivation film 98 that overlaps with the cathode terminal 32, and the cathode terminal 32 is covered so that the cathode terminal 32 is not connected to the cathode electrode 22. Patterning is performed such that the passivation film 98 is left.

また滅点化処理としては、パッシベーション膜98を用いてカソード電極22と絶縁させる方法以外に、レーザで不良が発生した第1発光素子3を破壊することも考えられる。レーザで不良が発生した第1発光素子3を破壊する場合であっても、第1発光素子3の側壁及びカソード端子32を含めその全体をパッシベーション膜98で覆うことが好ましい。ただし第1発光素子3を破壊することで発生した破片などが基板に残ることを考えると、第1発光素子3の破壊を行わず、パッシベーション膜98を用いてカソード電極22と第1発光素子3とを絶縁させる方が歩留まりとしては向上し、生産効率も向上する。 Further, as the passivation treatment, in addition to the method of insulating the cathode electrode 22 by using the passivation film 98, it is also conceivable to destroy the first light emitting element 3 in which a defect has occurred in the laser. Even when the first light emitting element 3 in which a defect is generated by the laser is destroyed, it is preferable to cover the entire wall including the side wall of the first light emitting element 3 and the cathode terminal 32 with the passivation film 98. However, considering that debris generated by destroying the first light emitting element 3 remains on the substrate, the cathode electrode 22 and the first light emitting element 3 are used by using the passion film 98 without destroying the first light emitting element 3. It is better to insulate and to improve the yield and the production efficiency.

さらに、パッシベーション膜98はリペア用の第2発光素子52Rが実装される位置の第1実装電極24及び第2実装電極24Sに開口98a、98bを形成し、その開口98a、98bに第2発光素子5Rを実装させることになる。 Further, the passivation film 98 forms openings 98a and 98b in the first mounting electrode 24 and the second mounting electrode 24S at the position where the second light emitting element 52R for repair is mounted, and the second light emitting element is formed in the openings 98a and 98b. 5R will be implemented.

また、パッシベーション膜98は、不良が発生した第1発光素子3Rのみを覆うように形成されるものであってもよい。特定の発光素子、特に不良が発生した第1発光素子3Rのみを覆うように形成される場合、パッシベーション膜98の形成方法はパターニング以外にも、例えばインクジェットなどで特定の箇所に形成されるようにするものであってもよい。 Further, the passivation film 98 may be formed so as to cover only the first light emitting element 3R in which the defect has occurred. When the passivation film 98 is formed so as to cover only a specific light emitting element, particularly the first light emitting element 3R in which a defect has occurred, the passivation film 98 may be formed at a specific location by, for example, inkjet, in addition to patterning. It may be something to do.

第2発光素子5Rは、アレイ基板2と電気的に接続されるn型電極51及びp型電極54を有する。n型電極51及びp型電極54は、第2発光素子5Rの下面側に配置され、アレイ基板2と対向して設けられる。n型電極51は、接続部52及び接合部材25Sを介して第2実装電極24Sと電気的に接続される。p型電極54は、接合部材25を介して第1実装電極24Rと電気的に接続される。 The second light emitting element 5R has an n-type electrode 51 and a p-type electrode 54 that are electrically connected to the array substrate 2. The n-type electrode 51 and the p-type electrode 54 are arranged on the lower surface side of the second light emitting element 5R and are provided so as to face the array substrate 2. The n-type electrode 51 is electrically connected to the second mounting electrode 24S via the connecting portion 52 and the joining member 25S. The p-type electrode 54 is electrically connected to the first mounting electrode 24R via the joining member 25.

より具体的には、第2発光素子5Rは、第1実装電極24R及び第2実装電極24Sに跨がって配置される。第2発光素子5Rは、第1実装電極24R及び接合部材25の上に、p型電極54、p型クラッド層55、活性層56、n型クラッド層57の順に積層される。n型クラッド層57は、第2実装電極24Sと重畳する位置まで延在し、n型クラッド層57のアレイ基板2と対向する面にn型電極51が設けられる。n型電極51は、接続部52を介して、第2実装電極24S上に設けられた接合部材25Sに接続される。 More specifically, the second light emitting element 5R is arranged so as to straddle the first mounting electrode 24R and the second mounting electrode 24S. The second light emitting element 5R is laminated on the first mounting electrode 24R and the bonding member 25 in the order of the p-type electrode 54, the p-type clad layer 55, the active layer 56, and the n-type clad layer 57. The n-type clad layer 57 extends to a position where it overlaps with the second mounting electrode 24S, and the n-type electrode 51 is provided on the surface of the n-type clad layer 57 facing the array substrate 2. The n-type electrode 51 is connected to the joining member 25S provided on the second mounting electrode 24S via the connecting portion 52.

さらに、第2発光素子5Rは、n型クラッド層57の上に積層された第2高抵抗層58を有する。第2高抵抗層58は、n型クラッド層57の上面全体を覆って設けられる。第2高抵抗層58は、例えば、不純物がドープされていない窒化ガリウム(GaN)で形成される。第2高抵抗層58のシート抵抗値は、n型クラッド層57のシート抵抗値よりも大きい。 Further, the second light emitting element 5R has a second high resistance layer 58 laminated on the n-type clad layer 57. The second high resistance layer 58 is provided so as to cover the entire upper surface of the n-type clad layer 57. The second high resistance layer 58 is formed of, for example, gallium nitride (GaN) which is not doped with impurities. The sheet resistance value of the second high resistance layer 58 is larger than the sheet resistance value of the n-type clad layer 57.

素子絶縁膜97は、隣り合う第1発光素子3と第2発光素子5Rとの間に設けられる。また、素子絶縁膜97は、第2発光素子5Rのn型電極51及び接続部52と、p型電極54との間にも設けられる。さらに、素子絶縁膜97は、第1実装電極24Rと第2実装電極24Sとの間にも設けられる。これにより、第2発光素子5Rのアノード−カソード間の絶縁が確保される。第1実装電極24Rと第2実装電極24Sとの間には、素子絶縁膜97に替えて、例えば空気層などの絶縁物が設けられていてもよい。 The element insulating film 97 is provided between the adjacent first light emitting element 3 and the second light emitting element 5R. Further, the element insulating film 97 is also provided between the n-type electrode 51 and the connection portion 52 of the second light emitting element 5R and the p-type electrode 54. Further, the element insulating film 97 is also provided between the first mounting electrode 24R and the second mounting electrode 24S. As a result, the insulation between the anode and the cathode of the second light emitting element 5R is ensured. An insulating material such as an air layer may be provided between the first mounting electrode 24R and the second mounting electrode 24S instead of the element insulating film 97.

カソード電極22は、素子絶縁膜97、第1高抵抗層38及び第2高抵抗層58を覆って設けられる。第2高抵抗層58は、n型クラッド層57の上面全体を覆って設けられており、カソード電極22とn型クラッド層57との間に積層される。 The cathode electrode 22 is provided so as to cover the element insulating film 97, the first high resistance layer 38, and the second high resistance layer 58. The second high resistance layer 58 is provided so as to cover the entire upper surface of the n-type clad layer 57, and is laminated between the cathode electrode 22 and the n-type clad layer 57.

素子絶縁膜97には、第2実装電極24Sと重畳する領域にコンタクトホールCH6が設けられる。カソード電極22は、コンタクトホールCH6の底部で、接合部材25Sを介して第2実装電極24Sと電気的に接続される。また、パッシベーション膜98が接合部材25S及び第2実装電極24Sを覆って設けられる場合には、素子絶縁膜97のコンタクトホールCH6と重畳する位置で、パッシベーション膜98に開口98cが形成される。 The element insulating film 97 is provided with a contact hole CH 6 in a region overlapping with the second mounting electrode 24S. The cathode electrode 22 is electrically connected to the second mounting electrode 24S at the bottom of the contact hole CH6 via the joining member 25S. When the passivation film 98 is provided so as to cover the joining member 25S and the second mounting electrode 24S, an opening 98c is formed in the passivation film 98 at a position where it overlaps with the contact hole CH 6 of the element insulating film 97.

このような構成により、フリップチップ型の第2発光素子5Rが、第1実装電極24R及び第2実装電極24Sに電気的に接続される。本実施形態では、第2画素Pix−2は、第1発光素子3R、3G、3Bとリペア用の第2発光素子5Rとを有する。すなわち、不良が発生した第1発光素子3Rも、滅点化処理されて第1実装電極24Rに実装されている。このため、不良が発生した第1発光素子3Rを取り除く工程を省くことができる。 With such a configuration, the flip-chip type second light emitting element 5R is electrically connected to the first mounting electrode 24R and the second mounting electrode 24S. In the present embodiment, the second pixel Pix-2 has a first light emitting element 3R, 3G, 3B and a second light emitting element 5R for repair. That is, the first light emitting element 3R in which the defect has occurred is also subjected to the blinding treatment and mounted on the first mounting electrode 24R. Therefore, the step of removing the first light emitting element 3R in which the defect has occurred can be omitted.

また、フリップチップ型の第2発光素子5Rは、第1発光素子3Rと共通の第1実装電極24Rに実装される。このため、第1発光素子3Rの画素回路PICAにより、リペア用の第2発光素子5Rを駆動することができる。このためリペア用の第2発光素子5Rのための画素回路PICAを個別に設ける必要がなく、表示装置1は、回路規模を抑制できる。 Further, the flip-chip type second light emitting element 5R is mounted on the first mounting electrode 24R common to the first light emitting element 3R. Therefore, the second light emitting element 5R for repair can be driven by the pixel circuit PICA of the first light emitting element 3R. Therefore, it is not necessary to separately provide the pixel circuit PICA for the second light emitting element 5R for repair, and the display device 1 can suppress the circuit scale.

図7は、実施形態に係る表示装置のリペア方法を説明するための説明図である。図7では、理解を容易にするために、隣り合う第1画素Pix−1及び第2画素Pix−2について模式的に示している。また、理解を容易にするため図6で示したパッシベーション膜98を含んだ滅点化処理については省略している。ただし、実際には、表示領域AAに含まれる多数の画素Pixについて、実装、点灯検査、リペアの各工程が実行される。 FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a repair method of the display device according to the embodiment. In FIG. 7, for ease of understanding, the adjacent first pixel Pix-1 and the second pixel Pix-2 are schematically shown. Further, in order to facilitate understanding, the passivation film 98 including the passivation film 98 shown in FIG. 6 is omitted. However, in reality, each step of mounting, lighting inspection, and repair is executed for a large number of pixels Pix included in the display area AA.

図7に示すように、支持基板200の第1面200aに半導体層31を形成する(ステップST1)。具体的には、製造装置は、支持基板200の第1面200aにn型クラッド層37、活性層36、p型クラッド層35の順に成膜する。支持基板200は、例えば、サファイア基板である。 As shown in FIG. 7, the semiconductor layer 31 is formed on the first surface 200a of the support substrate 200 (step ST1). Specifically, the manufacturing apparatus forms a film on the first surface 200a of the support substrate 200 in the order of the n-type clad layer 37, the active layer 36, and the p-type clad layer 35. The support substrate 200 is, for example, a sapphire substrate.

次に、製造装置は、支持基板200の第1面200aをアレイ基板2と対向させて配置する。アレイ基板2の表面には、第1実装電極24、接合部材25、p型電極34の順に積層されている。なお、図7では、接合部材25及びp型電極34の図示を省略している。製造装置は、半導体層31のp型クラッド層35を第1実装電極24に接触させる。そして、レーザ装置は、半導体層31にレーザ光LI1を照射する(ステップST2)。 Next, the manufacturing apparatus arranges the first surface 200a of the support substrate 200 so as to face the array substrate 2. The first mounting electrode 24, the joining member 25, and the p-type electrode 34 are laminated in this order on the surface of the array substrate 2. In FIG. 7, the joining member 25 and the p-type electrode 34 are not shown. The manufacturing apparatus brings the p-type clad layer 35 of the semiconductor layer 31 into contact with the first mounting electrode 24. Then, the laser apparatus irradiates the semiconductor layer 31 with the laser beam LI1 (step ST2).

レーザ光LI1は、支持基板200の第2面200b側から照射され、半導体層31に到達する。半導体層31は、レーザ光LI1が照射されることで、光を吸収し、支持基板200から分離(剥離)され、アレイ基板2の表面上に積層される(ステップST3)。すなわち、製造装置は、レーザリフトオフにより、半導体層31を支持基板200から剥離させる。 The laser beam LI1 is irradiated from the second surface 200b side of the support substrate 200 and reaches the semiconductor layer 31. When the semiconductor layer 31 is irradiated with the laser beam LI1, it absorbs the light, is separated (peeled) from the support substrate 200, and is laminated on the surface of the array substrate 2 (step ST3). That is, the manufacturing apparatus peels the semiconductor layer 31 from the support substrate 200 by laser lift-off.

なお、レーザ光LI1は、支持基板200を透過しつつ半導体層31のn型クラッド層37で光を吸収する波長帯に設定されることが好ましい。例えば、レーザ光LI1は、サファイアを透過するが窒化ガリウムを透過しない波長帯に対応する、3.5eV(electron Volt)以上9.9eV以下のエネルギーを有することが好ましい。また、レーザ光Lは、波長が310nm以下に設定されていることが好ましい。 The laser light LI1 is preferably set to a wavelength band in which the n-type clad layer 37 of the semiconductor layer 31 absorbs light while transmitting through the support substrate 200. For example, the laser beam LI1 preferably has an energy of 3.5 eV (electron volt) or more and 9.9 eV or less, which corresponds to a wavelength band that transmits sapphire but does not transmit gallium nitride. Further, it is preferable that the wavelength of the laser beam L is set to 310 nm or less.

アレイ基板2に半導体層31を転写した後であって、カソード電極22を成膜する前に、第1発光素子3の点灯検査を行う(ステップST4)。複数の第1発光素子3に、点灯検査装置7が接続される。点灯検査装置7は、検査用基板71と、検査用電極72とを有する。検査用基板71は、アレイ基板2と対向する。検査用電極72は、検査用基板71の、アレイ基板2と対向する面に設けられる。検査用電極72は、半導体層31のn型クラッド層37と接する。 After the semiconductor layer 31 is transferred to the array substrate 2 and before the cathode electrode 22 is formed, the lighting inspection of the first light emitting element 3 is performed (step ST4). The lighting inspection device 7 is connected to the plurality of first light emitting elements 3. The lighting inspection device 7 has an inspection substrate 71 and an inspection electrode 72. The inspection board 71 faces the array board 2. The inspection electrode 72 is provided on the surface of the inspection substrate 71 facing the array substrate 2. The inspection electrode 72 is in contact with the n-type clad layer 37 of the semiconductor layer 31.

ここで、第1発光素子3の点灯検査方法の一例について説明する。図8は、実施形態に係る表示装置のリペアシステムの構成例を示すブロック図である。図8に示すリペアシステム100は、アレイ基板2と、アレイ基板2に配列された複数の第1発光素子3とを有する表示装置1の点灯検査を行う。リペアシステム100は、必要に応じて第1発光素子3のリペアも行ってもよい。図8に示すように、リペアシステム100は、点灯検査装置7と、検査用制御回路101と、光検出装置102と、画像処理回路103と、検査用駆動回路104と、プレス装置220と、レーザ装置230と、ヒータ電源240とを含む。 Here, an example of a lighting inspection method for the first light emitting element 3 will be described. FIG. 8 is a block diagram showing a configuration example of the repair system of the display device according to the embodiment. The repair system 100 shown in FIG. 8 performs a lighting inspection of a display device 1 having an array substrate 2 and a plurality of first light emitting elements 3 arranged on the array substrate 2. The repair system 100 may also repair the first light emitting element 3 if necessary. As shown in FIG. 8, the repair system 100 includes a lighting inspection device 7, an inspection control circuit 101, a light detection device 102, an image processing circuit 103, an inspection drive circuit 104, a press device 220, and a laser. The device 230 and the heater power supply 240 are included.

検査用制御回路101は、複数の第1発光素子3の点灯検査を制御する回路である。また、検査用制御回路101は、複数の第1発光素子3の点灯状態の情報に基づいて、複数の第1発光素子3のリペアを制御する回路である。 The inspection control circuit 101 is a circuit that controls the lighting inspection of the plurality of first light emitting elements 3. Further, the inspection control circuit 101 is a circuit that controls the repair of the plurality of first light emitting elements 3 based on the information of the lighting state of the plurality of first light emitting elements 3.

点灯検査装置7は、複数の第1発光素子3の点灯検査を行うための検査基板である。点灯検査装置7の検査用電極72は、複数の第1発光素子3のカソード(n型クラッド層37)に接続される。検査用電極72は、点灯検査の際に第1発光素子3のカソード電極22として機能する。 The lighting inspection device 7 is an inspection board for performing a lighting inspection of a plurality of first light emitting elements 3. The inspection electrode 72 of the lighting inspection device 7 is connected to the cathodes (n-type clad layer 37) of the plurality of first light emitting elements 3. The inspection electrode 72 functions as the cathode electrode 22 of the first light emitting element 3 during the lighting inspection.

検査用駆動回路104は、検査用制御回路101からの制御信号に基づいて、アレイ基板2にアノード電源電位PVDDを供給し、点灯検査装置7にカソード電源電位PVSSを供給する。各第1発光素子3には、アノード電源電位PVDDとカソード電源電位PVSSとの電位差に応じた電流が流れ、発光する。なお、検査用駆動回路104は、検査用駆動信号として第1発光素子3が点灯する電位を供給すればよく、表示装置1の表示におけるアノード電源電位PVDD及びカソード電源電位PVSSと異なる電位を供給してもよい。 The inspection drive circuit 104 supplies the anode power supply potential P VDD to the array substrate 2 and supplies the cathode power supply potential PVSS to the lighting inspection device 7 based on the control signal from the inspection control circuit 101. A current corresponding to the potential difference between the anode power supply potential P whether and the cathode power supply potential PVSS flows through each first light emitting element 3 to emit light. The inspection drive circuit 104 may supply a potential for lighting the first light emitting element 3 as an inspection drive signal, and supplies a potential different from the anode power supply potential P whether and the cathode power supply potential PVSS in the display of the display device 1. You may.

光検出装置102は、複数の第1発光素子3からそれぞれ出射された光を検出する。光検出装置102は、例えば、CCD等の撮像素子を有する画像センサである。画像処理回路103は、光検出装置102からの検出信号(画像データ)を受け取って、画像処理を行うことで、複数の第1発光素子3のそれぞれの点灯状態(例えば輝度)を解析する。画像処理回路103は、複数の第1発光素子3の点灯状態に関する情報を検査用制御回路101に出力する。 The photodetector 102 detects the light emitted from each of the plurality of first light emitting elements 3. The photodetector 102 is an image sensor having an image pickup device such as a CCD. The image processing circuit 103 receives a detection signal (image data) from the light detection device 102 and performs image processing to analyze the lighting state (for example, brightness) of each of the plurality of first light emitting elements 3. The image processing circuit 103 outputs information regarding the lighting state of the plurality of first light emitting elements 3 to the inspection control circuit 101.

検査用制御回路101は、画像処理回路103からの情報に基づいて、複数の第1発光素子3のそれぞれの点灯状態を判断する。例えば、第1発光素子3から出射された光の輝度が、所定の範囲内であれば、検査用制御回路101は、第1発光素子3の点灯状態が良好であると判断する。検査用制御回路101は、第1発光素子3から出射された光の輝度が、基準値よりも小さい場合に、第1発光素子3が非点灯状態であると判断する。また、検査用制御回路101は、全ての第1発光素子3の個数に対する、非点灯状態の第1発光素子3の個数の割合を接続不良率として演算する。また、検査用制御回路101は、点灯状態の第1発光素子3と非点灯状態の第1発光素子3のそれぞれの位置を演算する。 The inspection control circuit 101 determines the lighting state of each of the plurality of first light emitting elements 3 based on the information from the image processing circuit 103. For example, if the brightness of the light emitted from the first light emitting element 3 is within a predetermined range, the inspection control circuit 101 determines that the lighting state of the first light emitting element 3 is good. The inspection control circuit 101 determines that the first light emitting element 3 is in a non-lighting state when the brightness of the light emitted from the first light emitting element 3 is smaller than the reference value. Further, the inspection control circuit 101 calculates the ratio of the number of the first light emitting elements 3 in the non-lighting state to the number of all the first light emitting elements 3 as the connection failure rate. Further, the inspection control circuit 101 calculates the positions of the first light emitting element 3 in the lit state and the first light emitting element 3 in the non-lighted state.

検査用制御回路101は、接続不良率が所定の基準値よりも大きい場合、すなわち、非点灯状態の第1発光素子3が所定数存在する場合に、プレス装置220、レーザ装置230及びヒータ電源240の少なくとも一つ以上に制御信号を出力して、第1発光素子3のリペアを行う。プレス装置220は、不良が発生した複数の第1発光素子3をアレイ基板2側に加圧して、複数の第1発光素子3と第1実装電極24とを接続させる。また、レーザ装置230及びヒータ電源240は、プレス装置220により複数の第1発光素子3を加圧した状態で、複数の第1発光素子3及びアレイ基板2を加熱することで、複数の第1発光素子3と第1実装電極24とを接続させる。 The inspection control circuit 101 includes a press device 220, a laser device 230, and a heater power supply 240 when the connection failure rate is larger than a predetermined reference value, that is, when a predetermined number of first light emitting elements 3 in a non-lighting state are present. A control signal is output to at least one of the light emitting elements 3 to repair the first light emitting element 3. The press device 220 pressurizes the plurality of first light emitting elements 3 in which defects have occurred toward the array substrate 2, and connects the plurality of first light emitting elements 3 and the first mounting electrode 24. Further, the laser device 230 and the heater power supply 240 heat the plurality of first light emitting elements 3 and the array substrate 2 in a state where the plurality of first light emitting elements 3 are pressurized by the press device 220, whereby the plurality of first light emitting elements 3 are heated. The light emitting element 3 and the first mounting electrode 24 are connected to each other.

なお、リペアシステム100は、図8に示すプレス装置220、レーザ装置230及びヒータ電源240を有していなくてもよく、複数の第1発光素子3の点灯検査のみを行ってもよい。 The repair system 100 may not have the press device 220, the laser device 230, and the heater power supply 240 shown in FIG. 8, and may only inspect the lighting of the plurality of first light emitting elements 3.

図7に戻って、ステップST4の点灯検査で、点灯不良と判断された第1発光素子3の滅点化処理を行う。図7では、点灯不良と判断され滅点化処理が施された第1発光素子3に斜線を付けて示している。そして、リペアシステム100は、転写基板201に形成された第2発光素子5をアレイ基板2に転写する(ステップST5)。ここで、転写基板201には、不良の発生した第2画素Pix−2に対応する位置で、第2発光素子5が形成され、不良の発生しない第1画素Pix−1には第2発光素子5は形成されない。 Returning to FIG. 7, the first light emitting element 3 determined to be defective in lighting in the lighting inspection in step ST4 is subjected to the destructive processing. In FIG. 7, the first light emitting element 3 which has been determined to be defective in lighting and has been subjected to the blinding treatment is shown with diagonal lines. Then, the repair system 100 transfers the second light emitting element 5 formed on the transfer substrate 201 to the array substrate 2 (step ST5). Here, the transfer substrate 201 is formed with the second light emitting element 5 at a position corresponding to the second pixel Pix-2 in which the defect has occurred, and the second light emitting element is formed in the first pixel Pix-1 in which the defect does not occur. 5 is not formed.

リペアシステム100は、第2画素Pix−2で、第2発光素子5のp型電極54(図6参照)を第1実装電極24に接触させ、n型電極51及び接続部52(図6参照)を第2実装電極24Sに接触させて加圧し、レーザ光LI2を照射する。レーザ光LI2として赤外レーザが照射され、第2発光素子5はアレイ基板2に接続される。また、リペアシステム100は、レーザ光LI3としてUVレーザを照射する。これにより、第2発光素子5は、転写基板201から分離される。このように、リペアシステム100は、レーザ光LI2、LI3による転写と加圧による転写(スタンプ転写)とを行い、転写基板201からアレイ基板2に第2発光素子5を転写させる。 In the repair system 100, the p-type electrode 54 (see FIG. 6) of the second light emitting element 5 is brought into contact with the first mounting electrode 24 at the second pixel Pix-2, and the n-type electrode 51 and the connection portion 52 (see FIG. 6) are brought into contact with each other. ) Is brought into contact with the second mounting electrode 24S to pressurize and irradiate the laser beam LI2. An infrared laser is irradiated as the laser beam LI2, and the second light emitting element 5 is connected to the array substrate 2. Further, the repair system 100 irradiates a UV laser as a laser beam LI3. As a result, the second light emitting element 5 is separated from the transfer substrate 201. In this way, the repair system 100 performs transfer by laser beams LI2 and LI3 and transfer by pressurization (stamp transfer), and transfers the second light emitting element 5 from the transfer substrate 201 to the array substrate 2.

これにより、第2画素Pix−2には、第1発光素子3及び第2発光素子5が実装され、第1画素Pix−1には、第1発光素子3が実装され、第2発光素子5は実装されない。なお、図7では、転写基板201から1つの第2発光素子5を転写させる例を示したが、不良の発生した画素Pix(第2画素Pix−2)が複数発見された場合には、ステップST5で、同時に複数の第2発光素子5を転写させてもよい。 As a result, the first light emitting element 3 and the second light emitting element 5 are mounted on the second pixel Pix-2, the first light emitting element 3 is mounted on the first pixel Pix-1, and the second light emitting element 5 is mounted. Is not implemented. Note that FIG. 7 shows an example in which one second light emitting element 5 is transferred from the transfer substrate 201, but when a plurality of defective pixels Pix (second pixel Pix-2) are found, a step is taken. A plurality of second light emitting elements 5 may be transferred at the same time in ST5.

また、転写基板201には凸部201aが設けられ、第2発光素子5は、凸部201aの上に設けられる。また、転写基板201は、第1発光素子3及び第2発光素子5よりも変形しやすい柔軟な材料で形成される。これにより、第2発光素子5を加圧する際に、他の第1発光素子3の損傷の発生や、他の第1発光素子3での接続不良の発生を抑制することができる。 Further, the transfer substrate 201 is provided with a convex portion 201a, and the second light emitting element 5 is provided on the convex portion 201a. Further, the transfer substrate 201 is made of a flexible material that is more easily deformed than the first light emitting element 3 and the second light emitting element 5. As a result, when the second light emitting element 5 is pressurized, it is possible to suppress the occurrence of damage to the other first light emitting element 3 and the occurrence of poor connection in the other first light emitting element 3.

次に、製造装置は、第1発光素子3及び第2発光素子5の間に素子絶縁膜97を形成し、第1発光素子3、第2発光素子5及び素子絶縁膜97を覆ってカソード電極22を成膜する(ステップST6)。以上のような方法で、表示装置1のリペアを行うことができる。 Next, the manufacturing apparatus forms an element insulating film 97 between the first light emitting element 3 and the second light emitting element 5, and covers the first light emitting element 3, the second light emitting element 5, and the element insulating film 97 to cover the cathode electrode. 22 is formed (step ST6). The display device 1 can be repaired by the above method.

以上のように、本実施形態の表示装置1は、基板21と、基板21に設けられた複数の画素Pixと、複数の画素Pixの各々に設けられる複数の発光素子(第1発光素子3及び第2発光素子5)と、を有し、複数の画素Pixのうち少なくとも1つの画素(第2画素Pix−2)は、アノード電極23に電気的に接続される複数の第1実装電極24と、複数の第1実装電極24のそれぞれに実装されるフェイスアップ型の複数の第1発光素子3と、複数の第1実装電極24と隣り合って設けられ、カソード電極22と電気的に接続される第2実装電極24Sと、第1実装電極24及び第2実装電極24Sに実装されるフリップチップ型の第2発光素子5と、を有する。 As described above, the display device 1 of the present embodiment has the substrate 21, the plurality of pixel Pix provided on the substrate 21, and the plurality of light emitting elements (first light emitting element 3 and the plurality of light emitting elements) provided in each of the plurality of pixel Pix. It has a second light emitting element 5), and at least one pixel (second pixel Pix-2) among the plurality of pixel Pix has a plurality of first mounting electrodes 24 electrically connected to the anode electrode 23. , A plurality of face-up type first light emitting elements 3 mounted on each of the plurality of first mounted electrodes 24, and a plurality of first mounted electrodes 24 are provided adjacent to each other and electrically connected to the cathode electrode 22. It has a second mounting electrode 24S, and a flip-tip type second light emitting element 5 mounted on the first mounting electrode 24 and the second mounting electrode 24S.

これにより、不良の発生した第1発光素子3が第2画素Pix−2に実装されており、また、フリップチップ型の第2発光素子5Rは、第1発光素子3Rと共通の第1実装電極24Rに実装される。このため、第1発光素子3Rの画素回路PICAでリペア用の第2発光素子5Rを駆動することができる。このためリペア用の第2発光素子5Rのための画素回路PICAを追加して設ける必要がなく、表示装置1は、回路規模を抑制できる。また本実施形態では、多数の第1発光素子3から、不良の発生した第1発光素子3を選択し、取り除く工程を省略することができる。したがって、表示装置1は、リペアの工程を簡易にすることができる。以上のように、本実施形態では、画素サイズの増大を抑制するとともに、容易に欠陥画素(第2画素Pix−2)のリペアを行うことが可能である。 As a result, the defective first light emitting element 3 is mounted on the second pixel Pix-2, and the flip-chip type second light emitting element 5R is the first mounted electrode common to the first light emitting element 3R. It is mounted on the 24R. Therefore, the second light emitting element 5R for repair can be driven by the pixel circuit PICA of the first light emitting element 3R. Therefore, it is not necessary to additionally provide a pixel circuit PICA for the second light emitting element 5R for repair, and the display device 1 can suppress the circuit scale. Further, in the present embodiment, the step of selecting and removing the defective first light emitting element 3 from the large number of first light emitting elements 3 can be omitted. Therefore, the display device 1 can simplify the repair process. As described above, in the present embodiment, it is possible to suppress an increase in pixel size and easily repair defective pixels (second pixel Pix-2).

また、素子絶縁膜97及びカソード電極22が設けられる前に、第1発光素子3の点灯検査及び第2発光素子5の実装が行われるので、素子絶縁膜97及びカソード電極22を設けた後にリペアを行う場合に比べて、素子絶縁膜97及びカソード電極22の損傷を抑制することができ、容易にリペアを行うことができる。 Further, since the lighting inspection of the first light emitting element 3 and the mounting of the second light emitting element 5 are performed before the element insulating film 97 and the cathode electrode 22 are provided, repair is performed after the element insulating film 97 and the cathode electrode 22 are provided. Damage to the element insulating film 97 and the cathode electrode 22 can be suppressed, and repair can be easily performed.

(第1変形例)
図9は、第1変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。なお、以下の説明では、上述した実施形態で説明したものと同じ構成要素には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
(First modification)
FIG. 9 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the first modification. In the following description, the same components as those described in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.

上述した実施形態では、素子絶縁膜97及びカソード電極22を形成する前に、不良の発生した第1発光素子3の滅点化処理を行う場合について説明した。ただし、これに限定されず、カソード電極22を成膜した後に滅点化処理を行ってもよい。 In the above-described embodiment, the case where the defect-generated first light emitting element 3 is subjected to the destructive treatment before the element insulating film 97 and the cathode electrode 22 are formed has been described. However, the present invention is not limited to this, and the cathode electrode 22 may be subjected to the destructive treatment after forming a film.

図9では、カソード電極22が設けられた領域に斜線を付けて示している。図9に示すように、不良の発生しない第1画素Pix−1では、カソード電極22は、全ての第1発光素子3及び第2実装電極24Sと重畳して設けられる。一方、第2画素Pix−2では、カソード電極22の、不良の発生した第1発光素子3Rと重畳する領域に開口OPが設けられる。これにより、不良の発生した第1発光素子3Rは、カソード電極22と非接続となる。不良の発生した第1発光素子3Rには電流が流れず、第1発光素子3Rは非点灯状態となる。 In FIG. 9, the region where the cathode electrode 22 is provided is shown with diagonal lines. As shown in FIG. 9, in the first pixel Pix-1 in which defects do not occur, the cathode electrode 22 is provided so as to be superimposed on all the first light emitting elements 3 and the second mounting electrode 24S. On the other hand, in the second pixel Pix-2, an opening OP is provided in a region of the cathode electrode 22 that overlaps with the first light emitting element 3R in which a defect has occurred. As a result, the defective first light emitting element 3R is not connected to the cathode electrode 22. No current flows through the defective first light emitting element 3R, and the first light emitting element 3R is in a non-lighting state.

開口OPは、例えば、カソード電極22にレーザ光(UVレーザ)を照射して、第1発光素子3と重畳する部分のカソード電極22を除去することで形成することができる。また、開口OPを形成する構成に限定されず、不良の発生した第1発光素子3Rが、カソード電極22と非接続となる構成であればよい。たとえば、平面視で、第1発光素子3Rの周囲を囲むようにスリットを形成して、カソード電極22と第1発光素子3Rとを分離してもよい。 The opening OP can be formed, for example, by irradiating the cathode electrode 22 with a laser beam (UV laser) to remove the cathode electrode 22 at the portion overlapping with the first light emitting element 3. Further, the configuration is not limited to forming the opening OP, and any configuration may be used as long as the defective first light emitting element 3R is not connected to the cathode electrode 22. For example, in a plan view, a slit may be formed so as to surround the periphery of the first light emitting element 3R to separate the cathode electrode 22 and the first light emitting element 3R.

(第2変形例)
図10は、第2変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。上述した実施形態では、第1発光素子3Rに不良が発生した画素Pix(第2画素Pix−2)の構成について説明したが、これに限定されない。第2変形例では、第1発光素子3Gに不良が発生した場合について説明する。
(Second modification)
FIG. 10 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the second modification. In the above-described embodiment, the configuration of the pixel Pix (second pixel Pix-2) in which the first light emitting element 3R has a defect has been described, but the present invention is not limited thereto. In the second modification, a case where a defect occurs in the first light emitting element 3G will be described.

図10に示すように、第2画素Pix−2では、複数の第1発光素子3に加え、第2発光素子5Gを有する。第2発光素子5Gは、リペア用の発光素子であり、不良が発生した第1発光素子3Gに換えて、緑色の光を出射する。すなわち、画素49Gは、第2発光素子5Gと、第1実装電極24Gと、第2実装電極24Sと、を有する。第2発光素子5Gは、上述した第2発光素子5Rと同様のフリップチップ型であり、詳細な構成についての説明は省略する。 As shown in FIG. 10, the second pixel Pix-2 has a second light emitting element 5G in addition to the plurality of first light emitting elements 3. The second light emitting element 5G is a light emitting element for repair, and emits green light in place of the first light emitting element 3G in which a defect has occurred. That is, the pixel 49G has a second light emitting element 5G, a first mounting electrode 24G, and a second mounting electrode 24S. The second light emitting element 5G is a flip-chip type similar to the above-mentioned second light emitting element 5R, and a detailed description of the configuration will be omitted.

第2発光素子5Gは、第1方向Dxに沿って延在し、第1実装電極24G及び第2実装電極24Sに実装される。具体的には、第2発光素子5Gの一端側のp型電極54(図6参照)は第1実装電極24Gの接続部24aに電気的に接続され、第2発光素子5Gの他端側のn型電極51(図6参照)は第2実装電極24Sに電気的に接続される。 The second light emitting element 5G extends along the first direction Dx and is mounted on the first mounting electrode 24G and the second mounting electrode 24S. Specifically, the p-type electrode 54 (see FIG. 6) on one end side of the second light emitting element 5G is electrically connected to the connection portion 24a of the first mounting electrode 24G, and is on the other end side of the second light emitting element 5G. The n-type electrode 51 (see FIG. 6) is electrically connected to the second mounting electrode 24S.

このような構成により、第2画素Pix−2では、不良が発生した第1発光素子3Gが第1実装電極24Gに実装された状態で滅点化処理が施され、第2発光素子5Gが、第1実装電極24G及び第2実装電極24Sに実装される。言い換えると、第1発光素子3G及び第2発光素子5Gは、共通の第1実装電極24Gに実装される。 With such a configuration, in the second pixel Pix-2, the first light emitting element 3G in which a defect has occurred is mounted on the first mounting electrode 24G and subjected to a spotting process, and the second light emitting element 5G is subjected to a spotting process. It is mounted on the first mounting electrode 24G and the second mounting electrode 24S. In other words, the first light emitting element 3G and the second light emitting element 5G are mounted on the common first mounting electrode 24G.

(第3変形例)
図11は、第3変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。第3変形例では、第1発光素子3Bに不良が発生した場合について説明する。
(Third modification example)
FIG. 11 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the third modification. In the third modification, a case where a defect occurs in the first light emitting element 3B will be described.

図11に示すように、第2画素Pix−2では、複数の第1発光素子3に加え、第2発光素子5Bを有する。第2発光素子5Bは、リペア用の発光素子であり、不良が発生した第1発光素子3Bに換えて、青色の光を出射する。すなわち、画素49Bは、第2発光素子5Bと、第1実装電極24Bと、第2実装電極24Sと、を有する。第2発光素子5Bは、上述した第2発光素子5R、5Gと同様のフリップチップ型であり、詳細な構成についての説明は省略する。 As shown in FIG. 11, the second pixel Pix-2 has a second light emitting element 5B in addition to the plurality of first light emitting elements 3. The second light emitting element 5B is a light emitting element for repair, and emits blue light in place of the first light emitting element 3B in which a defect has occurred. That is, the pixel 49B has a second light emitting element 5B, a first mounting electrode 24B, and a second mounting electrode 24S. The second light emitting element 5B is a flip-chip type similar to the above-mentioned second light emitting elements 5R and 5G, and a detailed description of the configuration will be omitted.

第2発光素子5Bは、第2方向Dyに沿って延在し、第1実装電極24B及び第2実装電極24Sに実装される。具体的には、第2発光素子5Gの一端側のp型電極54(図6参照)は第1実装電極24Bの接続部24aに電気的に接続され、第2発光素子5Bの他端側のn型電極51(図6参照)は第2実装電極24Sに電気的に接続される。 The second light emitting element 5B extends along the second direction Dy and is mounted on the first mounting electrode 24B and the second mounting electrode 24S. Specifically, the p-type electrode 54 (see FIG. 6) on one end side of the second light emitting element 5G is electrically connected to the connection portion 24a of the first mounting electrode 24B, and is on the other end side of the second light emitting element 5B. The n-type electrode 51 (see FIG. 6) is electrically connected to the second mounting electrode 24S.

このような構成により、第2画素Pix−2では、不良が発生した第1発光素子3Bが第1実装電極24Bに実装された状態で滅点化処理が施され、第2発光素子5Bが、第1実装電極24B及び第2実装電極24Sに実装される。言い換えると、第1発光素子3B及び第2発光素子5Bは、共通の第1実装電極24Bに実装される。 With such a configuration, in the second pixel Pix-2, the first light emitting element 3B in which the defect has occurred is mounted on the first mounting electrode 24B, and the spotting process is performed. It is mounted on the first mounting electrode 24B and the second mounting electrode 24S. In other words, the first light emitting element 3B and the second light emitting element 5B are mounted on the common first mounting electrode 24B.

実施形態、第2変形例及び第3変形例に示したように、第1発光素子3R、3G、3Bのいずれかで不良が発生した場合でも、第2発光素子5は、不良が発生した第1発光素子3に対応する第1実装電極24と、第2実装電極24Sとにフリップチップ実装できる。すなわち、表示装置1は、第1発光素子3R、3G、3Bのそれぞれに対応して、個別にリペア用の電極や回路を設ける必要がない。このため、表示装置1は、画素Pixの回路規模や電極面積を抑制することができ、画素サイズを抑制することができる。 As shown in the embodiment, the second modification, and the third modification, even if a defect occurs in any of the first light emitting elements 3R, 3G, and 3B, the second light emitting element 5 has a defect. Flip-chip mounting can be performed on the first mounting electrode 24 corresponding to one light emitting element 3 and the second mounting electrode 24S. That is, the display device 1 does not need to individually provide repair electrodes or circuits corresponding to the first light emitting elements 3R, 3G, and 3B. Therefore, the display device 1 can suppress the circuit scale and the electrode area of the pixel Pix, and can suppress the pixel size.

(第4変形例)
図12は、第4変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。上述した例では、第1実装電極24及び第2実装電極24Sがマトリクス状に配置された構成を示したが、これに限定されない。
(Fourth modification)
FIG. 12 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the fourth modification. In the above-mentioned example, the configuration in which the first mounting electrode 24 and the second mounting electrode 24S are arranged in a matrix is shown, but the present invention is not limited to this.

図12に示すように、複数の画素49R、49G、49Bは、第1方向Dxに配列される。すなわち、画素Pixにおいて、第1実装電極24AR、24AG、24ABは第1方向に配列され、第1発光素子3R、3G、3Bは、第1実装電極24AR、24AG、24ABにそれぞれ実装される。 As shown in FIG. 12, the plurality of pixels 49R, 49G, 49B are arranged in the first direction Dx. That is, in the pixel Pix, the first mounting electrodes 24AR, 24AG, and 24AB are arranged in the first direction, and the first light emitting elements 3R, 3G, and 3B are mounted on the first mounting electrodes 24AR, 24AG, and 24AB, respectively.

第2実装電極24SAは、第1方向Dxに延在し、第1実装電極24AR、24AG、24ABと第2方向Dyに隣り合って配置される。例えば、第1発光素子3Bに不良が発生した場合には、第1発光素子3Bに滅点化処理が施され、リペア用の第2発光素子5Bは、第1実装電極24AB及び第2実装電極24SAに接続される。 The second mounting electrode 24SA extends in the first direction Dx and is arranged adjacent to the first mounting electrodes 24AR, 24AG, 24AB and the second direction Dy. For example, when a defect occurs in the first light emitting element 3B, the first light emitting element 3B is subjected to a destructive treatment, and the second light emitting element 5B for repair is the first mounting electrode 24AB and the second mounting electrode. Connected to 24SA.

本変形例でも、不良の発生した第1発光素子3Bと、リペア用の第2発光素子5Bとが同じ画素Pix(第2画素Pix−2)に実装され、第2発光素子5Bは、第1発光素子3Bの画素回路PICAを共用することができる。また、本実施形態では、第2実装電極24SAは第1方向Dxに延在して設けられるので、1つの画素Pix(第2画素Pix−2)に複数の第2発光素子5を実装することも可能である。 Also in this modification, the defective first light emitting element 3B and the second light emitting element 5B for repair are mounted on the same pixel Pix (second pixel Pix-2), and the second light emitting element 5B is the first. The pixel circuit PICA of the light emitting element 3B can be shared. Further, in the present embodiment, since the second mounting electrode 24SA is provided extending in the first direction Dx, a plurality of second light emitting elements 5 are mounted on one pixel Pix (second pixel Pix-2). Is also possible.

(第5変形例)
図13は、第5変形例に係る表示装置の複数の画素を示す平面図である。第5変形例では、上述した実施形態及び各変形例に比べて、アレイ基板2に画素カソード配線LVSSが設けられる構成が異なる。
(Fifth modification)
FIG. 13 is a plan view showing a plurality of pixels of the display device according to the fifth modification. In the fifth modification, the configuration in which the pixel cathode wiring LVSS is provided on the array substrate 2 is different from that of the above-described embodiment and each modification.

図13に示すように、画素カソード配線LVSSは第1方向Dxに延在し、第1方向Dxに配列された複数の画素Pixに亘って設けられる。ここで、第1方向Dxに配列された複数の画素Pixを含む1行の画素群を、画素行PixLとする。複数の画素行PixLは、第2方向Dyに配列される。画素カソード配線LVSSは、画素行PixLごとに設けられ、第2方向Dyに配列される。 As shown in FIG. 13, the pixel cathode wiring LVSS extends in the first direction Dx and is provided over a plurality of pixels Pix arranged in the first direction Dx. Here, a pixel group in one row including a plurality of pixel Pix arranged in the first direction Dx is referred to as a pixel row PixL. The plurality of pixel rows PixL are arranged in the second direction Dy. The pixel cathode wiring LVSS is provided for each pixel row PixL and is arranged in the second direction Dy.

複数の画素カソード配線LVSSは、それぞれ、画素行PixLに属する複数の第2実装電極24Sと電気的に接続される。複数の画素カソード配線LVSSは、それぞれ、周辺領域GAに設けられたカソード配線60に接続され、カソード電源電位PVSSが供給される。また、複数の画素カソード配線LVSSは、画素Pixごとに設けられたコンタクトホールCH6を介してカソード電極22と接続される。あるいは、これに限定されず、複数の画素カソード配線LVSSは、任意の箇所でカソード電極22と電気的に接続されてもよい。 Each of the plurality of pixel cathode wiring LVSSs is electrically connected to a plurality of second mounting electrodes 24S belonging to the pixel row PixL. Each of the plurality of pixel cathode wiring LVSS is connected to the cathode wiring 60 provided in the peripheral region GA, and the cathode power supply potential PVSS is supplied. Further, the plurality of pixel cathode wiring LVSSs are connected to the cathode electrode 22 via the contact hole CH6 provided for each pixel Pix. Alternatively, the present invention is not limited to this, and the plurality of pixel cathode wiring LVSS may be electrically connected to the cathode electrode 22 at any point.

本変形例では、画素Pixごとに画素カソード配線LVSSが設けられているので、複数の第2実装電極24Sとカソード電極22との接続の自由度を高めることができる。また、画素行PixLごとに画素カソード配線LVSSが設けられているので、各画素Pixに供給されるカソード電源電位PVSSのばらつきを抑制することができる。 In this modification, since the pixel cathode wiring LVSS is provided for each pixel Pix, the degree of freedom of connection between the plurality of second mounting electrodes 24S and the cathode electrode 22 can be increased. Further, since the pixel cathode wiring LVSS is provided for each pixel row PixL, it is possible to suppress variations in the cathode power supply potential PVSS supplied to each pixel Pix.

以上、本発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明はこのような実施の形態に限定されるものではない。実施の形態で開示された内容はあくまで一例にすぎず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で行われた適宜の変更についても、当然に本発明の技術的範囲に属する。上述した各実施形態及び各変形例の要旨を逸脱しない範囲で、構成要素の種々の省略、置換及び変更のうち少なくとも1つを行うことができる。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to such embodiments. The contents disclosed in the embodiments are merely examples, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention. Appropriate changes made without departing from the spirit of the present invention naturally belong to the technical scope of the present invention. At least one of the various omissions, substitutions and modifications of the components may be made without departing from the gist of each of the embodiments and modifications described above.

1 表示装置
2 アレイ基板
3、3R、3G、3B 第1発光素子
5、5R、5G、5B 第2発光素子
12 駆動回路
21 基板
22 カソード電極
23 アノード電極
24、24R、24G、24B、24AR、24AG、24AB 第1実装電極
24S、24SA 第2実装電極
25、25S 接合部材
26 対向電極
34、54 p型電極
35、55 p型クラッド層
36、56 活性層
37、57 n型クラッド層
38 第1高抵抗層
51 n型電極
58 第2高抵抗層
60 カソード配線
97 素子絶縁膜
100 リペアシステム
200 支持基板
201 転写基板
210 駆動IC
DRT 駆動トランジスタ
Pix、49 画素
Pix−1 第1画素
Pix−2 第2画素
PixL 画素行
LVSS 画素カソード配線
1 Display device 2 Array board 3, 3R, 3G, 3B 1st light emitting element 5, 5R, 5G, 5B 2nd light emitting element 12 Drive circuit 21 Board 22 Cathode electrode 23 Anodic electrode 24, 24R, 24G, 24B, 24AR, 24AG , 24AB 1st mounting electrode 24S, 24SA 2nd mounting electrode 25, 25S Joining member 26 Opposing electrode 34, 54 p-type electrode 35, 55 p-type clad layer 36, 56 Active layer 37, 57 n-type clad layer 38 First height Resistance layer 51 n-type electrode 58 Second high resistance layer 60 Cathode wiring 97 Element insulation film 100 Repair system 200 Support board 201 Transfer board 210 Drive IC
DRT drive transistor Pix, 49 pixels Pix-1 1st pixel Pix-2 2nd pixel PixL Pixel row LVSS Pixel cathode wiring

Claims (7)

基板と、
前記基板に設けられた複数の画素と、
複数の前記画素の各々に設けられる複数の発光素子と、を有し、
少なくとも1つの前記画素は、
アノード電極に電気的に接続される複数の第1実装電極と、
複数の前記第1実装電極のそれぞれに実装されるフェイスアップ型の複数の第1発光素子と、
複数の前記第1実装電極と隣り合って設けられ、カソード電極と電気的に接続される第2実装電極と、
前記第1実装電極及び前記第2実装電極に実装されるフリップチップ型の第2発光素子と、を有する
表示装置。
With the board
With a plurality of pixels provided on the substrate,
It has a plurality of light emitting elements provided in each of the plurality of pixels, and has a plurality of light emitting elements.
At least one of the pixels
A plurality of first mounting electrodes electrically connected to the anode electrode,
A plurality of face-up type first light emitting elements mounted on each of the plurality of first mounting electrodes, and
A second mounting electrode provided adjacent to the plurality of first mounting electrodes and electrically connected to the cathode electrode,
A display device comprising the first mounting electrode and a flip-chip type second light emitting element mounted on the second mounting electrode.
前記第2発光素子は、前記基板に垂直な方向からの平面視で、長方形である
請求項1に記載の表示装置。
The display device according to claim 1, wherein the second light emitting element is rectangular in a plan view from a direction perpendicular to the substrate.
前記基板に垂直な方向からの平面視で、前記第2発光素子の長辺の長さは、前記第1発光素子の一辺の長さよりも長い
請求項1又は請求項2に記載の表示装置。
The display device according to claim 1 or 2, wherein the length of the long side of the second light emitting element is longer than the length of one side of the first light emitting element in a plan view from a direction perpendicular to the substrate.
複数の前記第1発光素子は、p型クラッド層、活性層、n型クラッド層の順に積層され、前記n型クラッド層の上に積層された第1高抵抗層を有し、
前記第1高抵抗層のシート抵抗値は、前記n型クラッド層のシート抵抗値よりも大きい
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の表示装置。
The plurality of first light emitting elements are laminated in the order of a p-type clad layer, an active layer, and an n-type clad layer, and have a first high resistance layer laminated on the n-type clad layer.
The display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the sheet resistance value of the first high resistance layer is larger than the sheet resistance value of the n-type clad layer.
前記第2発光素子は、p型クラッド層、活性層、n型クラッド層の順に積層され、前記n型クラッド層の上に積層された第2高抵抗層を有し、
前記p型クラッド層に接続されたp型電極と、前記n型クラッド層に接続されたn型電極とが、前記基板と対向して設けられ、
前記第2高抵抗層のシート抵抗値は、前記n型クラッド層のシート抵抗値よりも大きい
請求項4に記載の表示装置。
The second light emitting device has a second high resistance layer laminated in the order of a p-type clad layer, an active layer, and an n-type clad layer, and is laminated on the n-type clad layer.
A p-type electrode connected to the p-type clad layer and an n-type electrode connected to the n-type clad layer are provided so as to face the substrate.
The display device according to claim 4, wherein the sheet resistance value of the second high resistance layer is larger than the sheet resistance value of the n-type clad layer.
前記カソード電極は、複数の前記第1発光素子に設けられた前記第1高抵抗層及び前記第2発光素子に設けられた前記第2高抵抗層を覆って設けられる
請求項5に記載の表示装置。
The display according to claim 5, wherein the cathode electrode is provided so as to cover the first high resistance layer provided on the plurality of first light emitting elements and the second high resistance layer provided on the second light emitting element. Device.
隣り合う前記第1実装電極と前記第2実装電極との間に、絶縁物が設けられる
請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 6, wherein an insulator is provided between the adjacent first mounting electrode and the second mounting electrode.
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