JP2022006901A - Acid group-containing meth(acrylate) resin, curable resin composition, cured product, insulation material, resin material for solder resist and resist member - Google Patents

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Abstract

To provide an acid group-containing meth(acrylate) resin which enables formation of a cured product that has high photosensitivity, and excellent heat resistance, elasticity and adhesion.SOLUTION: An acid group-containing meth(acrylate) resin contains: a (meth)acrylic copolymer (A) containing phenylbenzyl (meth)acrylate (a1) and a compound (a2) having a reactive functional group and a polymerizable unsaturated group other than the phenylbenzyl (meth)acrylate (a1) as essential raw materials; a compound (B) having a functional group capable of reacting with a reactive functional group derived from the compound (a2) that the copolymer (A) has, and a polymerizable unsaturated group other than the phenylbenzyl (meth)acrylate (a1) and the compound (a2); and a polybasic acid anhydride (C), as essential raw materials.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な酸基含有(メタ)アクリレート樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、前記硬化性樹脂組成物の硬化物、絶縁材料、ソルダーレジスト用樹脂材料及びレジスト部材に関する。 The present invention relates to an acid group-containing (meth) acrylate resin having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion, a curable resin composition containing the same, and the curable resin. The present invention relates to a cured product of a composition, an insulating material, a resin material for solder resist, and a resist member.

近年、紫外線等の活性エネルギー線により硬化可能な活性エネルギー線硬化性組成物や、熱により硬化可能な熱硬化性組成物などの硬化性組成物は、インキ、塗料、コーティング剤、接着剤、光学部材等の分野において広く用いられている。なかでも、前記コーティング剤用途としては、一般に、各種基材表面へ意匠性を付与できるとともに、優れた硬化性を有しており、また、基材表面の劣化を防止可能な塗膜を形成できることが求められている。さらに、プリント配線板向けのソルダーレジスト用硬化性組成物として用いる場合、少ない露光量で硬化すること、硬化物における耐熱性等に優れることなども求められている。 In recent years, curable compositions such as active energy ray-curable compositions that can be cured by active energy rays such as ultraviolet rays and thermosetting compositions that can be cured by heat have been introduced into inks, paints, coating agents, adhesives, and optics. It is widely used in the field of materials and the like. In particular, as the coating agent, it is generally possible to impart designability to the surface of various base materials, have excellent curability, and form a coating film capable of preventing deterioration of the surface of the base material. Is required. Further, when used as a curable composition for a solder resist for a printed wiring board, it is also required to be cured with a small exposure amount and to have excellent heat resistance in the cured product.

従来のソルダーレジスト用硬化性組成物としては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂とアクリル酸と無水フタル酸とを反応させて得られる中間体に、更にテトラヒドロ無水フタル酸を反応させて得られる酸基含有エポキシアクリレート樹脂を含む感光性樹脂組成物が知られているが(例えば、特許文献1参照。)、硬化物における耐熱性や、弾性及び密着性においても十分ではない等の問題があった。 As a conventional curable composition for solder resist, an acid group-containing epoxy obtained by further reacting a tetrahydroan phthalic acid with an intermediate obtained by reacting a cresol novolac type epoxy resin with an acrylic acid and an anhydrous phthalic acid. Although a photosensitive resin composition containing an acrylate resin is known (see, for example, Patent Document 1), it has problems such as insufficient heat resistance, elasticity, and adhesion in a cured product.

そこで、高い光感度に加え、優れた耐熱性、弾性及び密着性を有する材料が求められていた。 Therefore, there has been a demand for a material having excellent heat resistance, elasticity and adhesion in addition to high light sensitivity.

特開平8-259663号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-259663

本発明が解決しようとする課題は、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な酸基含有(メタ)アクリレート樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、前記硬化性樹脂組成物の硬化物、絶縁材料、ソルダーレジスト用樹脂材料及びレジスト部材を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is an acid group-containing (meth) acrylate resin having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion, and a curable resin composition containing the acid group-containing (meth) acrylate resin. It is an object of the present invention to provide a product, a cured product of the curable resin composition, an insulating material, a resin material for solder resist, and a resist member.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)、及び前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)以外の反応性官能基及び重合性不飽和基を有する化合物(a2)を必須原料とする(メタ)アクリル共重合体(A)と、前記共重合体(A)が有する前記化合物(a2)由来の反応性官能基と反応し得る官能基を有する、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)及び前記化合物(a2)以外の重合性不飽和基を有する化合物(B)と、多塩基酸無水物(C)とを用いることによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have made reactive functional groups and non-polymerizable groups other than phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1). Functionality capable of reacting with the (meth) acrylic copolymer (A) using the compound (a2) having a saturated group as an essential raw material and the reactive functional group derived from the compound (a2) possessed by the copolymer (A). By using the compound (B) having a polymerizable unsaturated group other than the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the compound (a2) having a group, and the polybasic acid anhydride (C), the above-mentioned We have found that the problem can be solved and completed the present invention.

すなわち、本発明は、フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)、及び前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)以外の反応性官能基及び重合性不飽和を有する化合物(a2)を必須原料とする(メタ)アクリル共重合体(A)と、前記共重合体(A)が有する前記化合物(a2)由来の反応性官能基と反応し得る官能基を有する、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)及び前記化合物(a2)以外の重合性不飽和基を有する化合物(B)と、多塩基酸無水物(C)と、を必須原料とすることを特徴とする酸基含有(メタ)アクリレート樹脂、これを含有する硬化性樹脂組成物、前記硬化性樹脂組成物の硬化物、絶縁材料、ソルダーレジスト用樹脂材料及びレジスト部材に関するものである。 That is, the present invention uses a phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and a compound (a2) having a reactive functional group and polymerizable unsaturated group other than the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) as an essential raw material (a2). The phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) having a functional group capable of reacting with the (meth) acrylic copolymer (A) and the reactive functional group derived from the compound (a2) of the copolymer (A). An acid group-containing (meth) acrylate resin, which comprises a compound (B) having a polymerizable unsaturated group other than the compound (a2) and a polybasic acid anhydride (C) as essential raw materials. It relates to a curable resin composition containing this, a cured product of the curable resin composition, an insulating material, a resin material for solder resist, and a resist member.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂は、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成できることから、前記酸基含有(メタ)アクリレート樹脂と光重合開始剤とを含有した硬化性樹脂組成物は、コーティング剤や接着剤として用いることができ、前記コーティング剤としては、特にソルダーレジスト用途に好適に用いることができる。なお、本発明でいう「優れた弾性」とは、硬化物における弾性率が高いことを云う。 Since the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention has high photosensitivity and can form a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion, photopolymerization with the acid group-containing (meth) acrylate resin is started. The curable resin composition containing the agent can be used as a coating agent or an adhesive, and the coating agent can be particularly preferably used for solder resist applications. The "excellent elasticity" in the present invention means that the elastic modulus of the cured product is high.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂は、フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)、及び前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)以外の反応性官能基及び重合性不飽和基を有する化合物(a2)(以下、「化合物(a2)」と称することがある。)を必須原料とする(メタ)アクリル共重合体(A)と、前記共重合体(A)が有する前記化合物(a2)由来の反応性官能基と反応し得る官能基を有する、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)及び前記化合物(a2)以外の重合性不飽和基を有する化合物(B)(以下、「化合物(B)」と称することがある。)と、多塩基酸無水物(C)とを、必須原料とするものであることを特徴とする。 The acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention is a compound having a reactive functional group and a polymerizable unsaturated group other than phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) (a1). a2) Derived from the (meth) acrylic copolymer (A) containing (hereinafter, may be referred to as "compound (a2)") as an essential raw material and the compound (a2) possessed by the copolymer (A). Compound (B) having a polymerizable unsaturated group other than the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the compound (a2) having a functional group capable of reacting with the reactive functional group of (hereinafter, "Compound (B)". ) ”) And the polybasic acid anhydride (C) as essential raw materials.

なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。また、「(メタ)アクリロイル」とは、アクリロイル及び/又はメタクリロイルを意味する。さらに、「(メタ)アクリル」とは、アクリル及び/又はメタクリルを意味する。 In the present invention, "(meth) acrylate" means acrylate and / or methacrylate. Further, "(meth) acryloyl" means acryloyl and / or methacryloyl. Further, "(meth) acrylic" means acrylic and / or methacrylic.

前記(メタ)アクリル共重合体(A)としては、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)、及び前記重合性不飽和基を有する化合物(a2)を必須原料とするものである。 The (meth) acrylic copolymer (A) contains the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the compound (a2) having a polymerizable unsaturated group as essential raw materials.

前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)の含有量は、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な酸基含有(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、前記共重合体(A)の原料中に30質量%以下であることが好ましく、0.1~20質量%の範囲がより好ましい。 The content of the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) is such that an acid group-containing (meth) acrylate resin having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained. Therefore, it is preferably 30% by mass or less in the raw material of the copolymer (A), and more preferably 0.1 to 20% by mass.

前記化合物(a2)としては、反応性官能基及び重合性不飽和基を有するものを用いる。 As the compound (a2), a compound having a reactive functional group and a polymerizable unsaturated group is used.

前記反応性官能基としては、例えば、水酸基、エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基、アクリルアミド基等が挙げられる。これらの反応性官能基は、単独で有していてもよいし、2種以上を有していてもよい。 Examples of the reactive functional group include a hydroxyl group, an epoxy group, an isocyanate group, a carboxyl group, an acrylamide group and the like. These reactive functional groups may have alone or may have two or more kinds.

前記重合性不飽和基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、アリル基、イソプロペニル基、1-プロぺニル基、スチリル基、スチリルメチル基、マレイミド基、ビニルエーテル基等が挙げられる。 Examples of the polymerizable unsaturated group include (meth) acryloyl group, allyl group, isopropenyl group, 1-propenyl group, styryl group, styrylmethyl group, maleimide group, vinyl ether group and the like.

前記水酸基含有(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、前記各種の水酸基含有(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性体や、前記各種の水酸基含有(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性体等も用いることができる。これらの水酸基含有(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, trimethylolpropane (meth) acrylate, trimethylolpropanedi (meth) acrylate, and pentaerythritol (meth) acrylate. , Pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) Examples thereof include acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane (meth) acrylate, ditrimethylolpropane di (meth) acrylate, and ditrimethylolpropanetri (meth) acrylate. In addition, (poly) oxyalkylene chains such as (poly) oxyethylene chain, (poly) oxypropylene chain, and (poly) oxytetramethylene chain were introduced into the molecular structure of the various hydroxyl group-containing (meth) acrylate compounds (). Poly) oxyalkylene modified products, lactone modified products in which a (poly) lactone structure is introduced into the molecular structure of the various hydroxyl group-containing (meth) acrylate compounds, and the like can also be used. These hydroxyl group-containing (meth) acrylate compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル、エポキシシクロへキシルメチル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有(メタ)アクリレートモノマー;ジヒドロキシベンゼンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシナフタレンジグリシジルエーテル、ビフェノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールジグリシジルエーテル等のジグリシジルエーテル化合物のモノ(メタ)アクリレート化物等が挙げられる。これらのエポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of the epoxy group-containing (meth) acrylate compound include glycidyl group-containing (meth) acrylate monomers such as glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, and epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate. Examples thereof include mono (meth) acrylates of diglycidyl ether compounds such as dihydroxybenzene diglycidyl ether, dihydroxynaphthalenediglycidyl ether, biphenol diglycidyl ether, and bisphenol diglycidyl ether. These epoxy group-containing (meth) acrylate compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記イソシアネート基含有(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2-アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1-ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート等が挙げられる。これらのイソシアネート基含有(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of the isocyanate group-containing (meth) acrylate compound include 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and 1,1-bis (acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate. These isocyanate group-containing (meth) acrylate compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記カルボキシル基含有化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸、ω-カルボキシ-ポリカプロラクトンモノアクリレート等が挙げられる。これらのカルボキシル基含有化合物は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of the carboxyl group-containing compound include (meth) acrylic acid and ω-carboxy-polycaprolactone monoacrylate. These carboxyl group-containing compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記アクリルアミド基含有化合物としては、例えば、N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-メトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。前記アクリルアミド基含有化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the acrylamide group-containing compound include N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxyethyl (meth) acrylamide, and N-ethoxyethyl. Examples thereof include (meth) acrylamide and N-butoxyethyl (meth) acrylamide. The acrylamide group-containing compound may be used alone or in combination of two or more.

また、前記化合物(a2)としては、一分子中に反応性官能基及び重合性不飽和結合を有する化合物も用いることができる。なお、本発明において、「重合性不飽和結合」とは、ラジカル重合し得る不飽和結合を意味する。 Further, as the compound (a2), a compound having a reactive functional group and a polymerizable unsaturated bond in one molecule can also be used. In the present invention, the "polymerizable unsaturated bond" means an unsaturated bond capable of radical polymerization.

前記一分子中に反応性官能基及び重合性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、桂皮酸等の不飽和酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸等の分子中に不飽和結合を有する酸無水物、アリルアルコール等の反応性官能基を有するアリル化合物、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル等の反応性官能基を有するビニルエーテル化合物、N-(4-アミノフェニル)マレイミド等の反応性官能基を有するマレイミド化合物、4-ビニル安息香酸等の反応性官能基を有するスチリル化合物などが挙げられる。 Examples of the compound having a reactive functional group and a polymerizable unsaturated bond in one molecule include an unsaturated acid such as cinnamic acid, a tetrahydrophthalic anhydride, and an acid having an unsaturated bond in the molecule such as maleic anhydride. Allyl compounds having reactive functional groups such as anhydrides and allyl alcohols, vinyl ether compounds having reactive functional groups such as 2-hydroxyethyl vinyl ether, maleimides having reactive functional groups such as N- (4-aminophenyl) maleimide, etc. Examples thereof include compounds, styryl compounds having a reactive functional group such as 4-vinylbenzoic acid, and the like.

前記化合物(a2)の含有量は、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な酸基含有(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、前記共重合体(A)中に40~90質量%の範囲が好ましく、50~90質量%の範囲がより好ましい。 The content of the compound (a2) is the same weight because an acid group-containing (meth) acrylate resin having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained. The range of 40 to 90% by mass is preferable, and the range of 50 to 90% by mass is more preferable in the coalescence (A).

前記共重合体(A)としては、必要に応じて、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)及び前記化合物(a2)以外のその他の重合成分を含有することもできる。 The copolymer (A) may contain other polymerization components other than the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the compound (a2), if necessary.

前記その他の重合成分としては、例えば、(メタ)アクリレート化合物(a3)、前記(メタ)アクリレート化合物以外の重合性不飽和基を有する化合物(a4)等が挙げられる。 Examples of the other polymerization component include a (meth) acrylate compound (a3), a compound having a polymerizable unsaturated group other than the (meth) acrylate compound (a4), and the like.

前記化合物(a3)としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート等の脂肪族モノ(メタ)アクリレート化合物;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチルモノ(メタ)アクリレート等の脂環型モノ(メタ)アクリレート化合物;テトラヒドロフルフリルアクリレート等の複素環型モノ(メタ)アクリレート化合物;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシベンジル(メタ)アクリレート、フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート等の芳香族モノ(メタ)アクリレート化合物等のモノ(メタ)アクリレート化合物:前記各種のモノ(メタ)アクリレートモノマーの分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等のポリオキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性モノ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のモノ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性モノ(メタ)アクリレート化合物;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の脂肪族ジ(メタ)アクリレート化合物;1,4-シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート等の脂環型ジ(メタ)アクリレート化合物;ビフェノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート等の芳香族ジ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のジ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入したポリオキシアルキレン変性ジ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のジ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性ジ(メタ)アクリレート化合物;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等の脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性トリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性トリ(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した4官能以上の(ポリ)オキシアルキレン変性ポリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入した4官能以上のラクトン変性ポリ(メタ)アクリレート化合物などが挙げられる。これらの化合物(a3)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な酸基含有(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、メタクリレート化合物が好ましい。 Examples of the compound (a3) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (. An aliphatic mono (meth) acrylate compound such as meta) acrylate and octyl (meth) acrylate; an alicyclic mono (meth) acrylate compound such as cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and adamantyl mono (meth) acrylate; Heterocyclic mono (meth) acrylate compounds such as tetrahydrofurfuryl acrylate; benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenylbenzyl (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxy. Mono (meth) acrylate compounds such as aromatic mono (meth) acrylate compounds such as ethyl (meth) acrylate, phenoxybenzyl (meth) acrylate, and phenylphenoxyethyl (meth) acrylate: molecules of the various mono (meth) acrylate monomers. A (poly) oxyalkylene-modified mono (meth) acrylate compound in which a polyoxyalkylene chain such as a (poly) oxyethylene chain, a (poly) oxypropylene chain, or a (poly) oxytetramethylene chain is introduced into the structure; A lactone-modified mono (meth) acrylate compound in which a (poly) lactone structure is introduced into the molecular structure of the (meth) acrylate compound; ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, butane diol di (meth) acrylate. , Hexadiol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and other aliphatic di (meth) acrylate compounds; 1,4-cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, norbornandi (meth) acrylate, norbornandi. Alicyclic di (meth) acrylate compounds such as methanol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate; biphenol di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate. ) Aromatic di (meth) acrylate compounds such as acrylates; (poly) oxyethylene chains, (po) in the molecular structure of the various di (meth) acrylate compounds. (I) Polyoxyalkylene-modified di (meth) acrylate compounds introduced with (poly) oxyalkylene chains such as (d) oxypropylene chains and (poly) oxytetramethylene chains; A lactone-modified di (meth) acrylate compound introduced with a poly) lactone structure; an aliphatic tri (meth) acrylate compound such as trimetylol propantri (meth) acrylate and glycerin tri (meth) acrylate; A (poly) oxyalkylene-modified tri (meth) acrylate compound in which a (poly) oxyalkylene chain such as a (poly) oxyethylene chain, a (poly) oxypropylene chain, or a (poly) oxytetramethylene chain is introduced into the molecular structure of the compound. A lactone-modified tri (meth) acrylate compound in which a (poly) lactone structure is introduced into the molecular structure of the aliphatic tri (meth) acrylate compound; pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylol propanetetra (meth) acrylate, di A tetrafunctional or higher functional aliphatic poly (meth) acrylate compound such as pentaerythritol hexa (meth) acrylate; (poly) oxyethylene chain, (poly) oxypropylene chain, etc. in the molecular structure of the aliphatic poly (meth) acrylate compound. A tetrafunctional or higher functional (poly) oxyalkylene-modified poly (meth) acrylate compound introduced with a (poly) oxyalkylene chain such as a (poly) oxytetramethylene chain; Examples thereof include a tetrafunctional or higher functional lactone-modified poly (meth) acrylate compound having a poly) lactone structure introduced therein. These compounds (a3) can be used alone or in combination of two or more. Among these, a methacrylate compound is preferable because an acid group-containing (meth) acrylate resin having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained.

前記重合性不飽和基を有する化合物(a4)としては、分子中に1個以上の重合性不飽和基を有する化合物であれば、特に限定されない。 The compound (a4) having a polymerizable unsaturated group is not particularly limited as long as it is a compound having one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule.

前記重合性不飽和基としては、例えば、アリル基、イソプロペニル基、1-プロぺニル基、スチリル基、スチリルメチル基、マレイミド基、ビニルエーテル基等が挙げられる。 Examples of the polymerizable unsaturated group include an allyl group, an isopropenyl group, a 1-propenyl group, a styryl group, a styrylmethyl group, a maleimide group, a vinyl ether group and the like.

これらの化合物(a4)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 These compounds (a4) can be used alone or in combination of two or more.

前記共重合体(A)の製造方法としては、特に制限されず、どのような方法にて製造してもよい。例えば、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)と、前記化合物(a2)とを含有する重合成分の全てを一括で、50~200℃で重合させて得られる方法等が挙げられる。 The method for producing the copolymer (A) is not particularly limited, and any method may be used for producing the copolymer (A). For example, a method obtained by polymerizing all of the polymerization components containing the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the compound (a2) at 50 to 200 ° C. can be mentioned.

前記重合においては、必要に応じて、重合開始剤を用いることができる。 In the polymerization, a polymerization initiator can be used, if necessary.

前記重合開始剤としては、例えば、過硫酸塩、有機過酸化物、過酸化水素等のラジカル重合開始剤や、4,4’-アゾビス(4-シアノ吉草酸)、2,2’-アゾビス(2-アミジノプロパン)二塩酸塩等のアゾ開始剤などが挙げられる。また、前記ラジカル重合開始剤は、例えば、アスコルビン酸等の還元剤と併用しレドックス重合開始剤として使用してもよい。これらの重合開始剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators such as persulfates, organic peroxides, and hydrogen peroxide, 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), and 2,2'-azobis (. 2-Amidinopropane) An azo initiator such as dihydrochloride can be mentioned. Further, the radical polymerization initiator may be used as a redox polymerization initiator in combination with a reducing agent such as ascorbic acid, for example. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

前記過硫酸塩としては、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等が挙げられる。これらの過硫酸塩は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the persulfate include potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate and the like. These persulfates can be used alone or in combination of two or more.

前記有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ラウロイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、t-ブチルパーオキシラウレート、t-ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル、クメンハイドロパーオキサイド、パラメンタンハイドロパーオキサイド、t-ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイドなどが挙げられる。これらの有機過酸化物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な酸基含有(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、パーオキシエステルが好ましい。 Examples of the organic peroxide include diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide and decanoyle peroxide, dialkyl peroxides such as t-butylcumyl peroxide and dicumyl peroxide, and t-butyl peroxide. Peroxyesters such as -2-ethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, and t-butylperoxybenzoate, hydroperoxides such as cumenehydroperoxide, paramentanhydroperoxide, and t-butylhydroperoxide. And so on. These organic peroxides can be used alone or in combination of two or more. Among these, a peroxy ester is preferable because an acid group-containing (meth) acrylate resin having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained.

前記重合開始剤の使用量は、重合が円滑に進行する量を使用すれば良いが、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)と、前記化合物(a2)とを含有する重合成分の合計100質量部に対して、0.1~20質量部の範囲が好ましく、0.5~10質量部の範囲がより好ましい。 The amount of the polymerization initiator used may be an amount that allows the polymerization to proceed smoothly, but the total mass of the polymerization component containing the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the compound (a2) is 100% by mass. The range of 0.1 to 20 parts by mass is preferable, and the range of 0.5 to 10 parts by mass is more preferable.

前記化合物(B)としては、前記共重合体(A)が有する前記化合物(a2)由来の反応性官能基と反応し得る官能基を有するものである。 The compound (B) has a functional group capable of reacting with the reactive functional group derived from the compound (a2) of the copolymer (A).

前記化合物(B)としては、例えば、上述の前記化合物(a2)として例示したものと同様のものが挙げられるが、化合物(a2)として水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を用いた場合には、化合物(B)としてイソシアネート基含有(メタ)アクリレート化合物及び/又はアクリルアミド基含有化合物を用いることが好ましく、化合物(a2)としてエポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物を用いた場合には、化合物(B)としてカルボキシル基含有化合物を用いることが好ましく、化合物(a2)としてイソシアネート基含有(メタ)アクリレート化合物を用いた場合には、化合物(B)として水酸基含有(メタ)アクリレートを用いることが好ましく、化合物(a2)としてカルボキシル基含有化合物を用いた場合には、化合物(B)としてエポキシ基含有(メタ)アクリレートを用いることが好ましく、化合物(a2)としてアクリルアミド基含有化合物を用いた場合には、化合物(B)として水酸基含有(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。これらの化合物(B)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な酸基含有(メタ)アクリレート樹脂が得られることから、前記化合物(a2)としてエポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物を用い、前記化合物(B)としてカルボキシル基含有化合物を用いることが好ましい。 Examples of the compound (B) include the same compounds as those exemplified as the above-mentioned compound (a2), but when a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound is used as the compound (a2), the compound is used. It is preferable to use an isocyanate group-containing (meth) acrylate compound and / or an acrylamide group-containing compound as (B), and when an epoxy group-containing (meth) acrylate compound is used as compound (a2), the compound (B) is used. It is preferable to use a carboxyl group-containing compound, and when an isocyanate group-containing (meth) acrylate compound is used as the compound (a2), a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is preferably used as the compound (B), and the compound (a2) is preferable. ), It is preferable to use an epoxy group-containing (meth) acrylate as the compound (B), and when a acrylamide group-containing compound is used as the compound (a2), the compound (B) is used. ), It is preferable to use a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. These compounds (B) can be used alone or in combination of two or more. Further, among these, since an acid group-containing (meth) acrylate resin having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained, an epoxy is used as the compound (a2). It is preferable to use a group-containing (meth) acrylate compound and a carboxyl group-containing compound as the compound (B).

前記多塩基酸無水物(C)としては、例えば、飽和多塩基酸無水物、不飽和多塩基酸無水物等が挙げられる。なお、本発明において、飽和多塩基酸無水物とは、炭素―炭素二重結合を有しない多塩基酸無水物を意味し、不飽和多塩基酸無水物とは、炭素―炭素二重結合を有する多塩基酸無水物を意味する。 Examples of the polybasic acid anhydride (C) include saturated polybasic acid anhydride and unsaturated polybasic acid anhydride. In the present invention, the saturated polybasic acid anhydride means a polybasic acid anhydride having no carbon-carbon double bond, and the unsaturated polybasic acid anhydride means a carbon-carbon double bond. It means a polybasic acid anhydride having.

前記飽和多塩基酸無水物としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸等の酸無水物が挙げられる。 Examples of the saturated polybasic acid anhydride include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelli acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid. Acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic acid, methylbicyclo [2.2.1] heptane- Examples thereof include acid anhydrides such as 2,3-dicarboxylic acid.

前記不飽和多塩基酸無水物としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、テトラヒドロフタル酸、フタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレントリカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸等の酸無水物が挙げられる。 Examples of the unsaturated polybasic acid anhydride include maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, tetrahydrophthalic acid, phthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid and naphthalenetricarboxylic acid. , Naphthalenetetracarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, biphenyltricarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, 4- (2,5-dioxotetracarboxylic acid) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene Examples thereof include acid anhydrides such as -1,2-dicarboxylic acid.

これらの多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 These polybasic acid anhydrides can be used alone or in combination of two or more.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂としては、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能なことから、前記共重合体(A)、前記化合物(B)及び前記多塩基酸無水物(C)の合計の含有量が、前記酸基含有(メタ)アクリレート樹脂中に90質量%以上が好ましく、95質量%以上がより好ましい。 The acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention has high photosensitivity and can form a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion. Therefore, the copolymer (A) and the compound thereof. The total content of (B) and the polybasic acid anhydride (C) is preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more in the acid group-containing (meth) acrylate resin.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂は、その原料として、必要に応じて、さらに、フェノール性水酸基及びtert-ブチル基を有する化合物(D)を含有することもできる。 The acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention may further contain a compound (D) having a phenolic hydroxyl group and a tert-butyl group as a raw material thereof, if necessary.

前記化合物(D)としては、例えば、tert-ブチルカテコール、tert-ブチルヒドロキノン、tert-ブチルレゾルシン、2,5-ジ-tert-アミルハイドロキノン、tert-ブチル-p-ベンゾキノン、2,6-ジ-tert-ブチル-p-クレゾール、2-tert-ブチル-p-クレゾール、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール(ジブチルヒドロキシトルエン)、2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチルフェノール、2,2’-メチレンビス(4エチル-6-tert-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4メチル-6-tert-ブチルフェノール)、4,4’-ブチリデンビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、4,4’-チオビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、2,5-ジ-tert-ブチルハイドロキノン、2,2’-メチレンビス(6-tert-ブチル-4-エチルフェノール)、N,N’-ビス{2-[2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)エチルカルボニルオキシ]エチル}オキサミド、オクチル-3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロ肉桂酸、3,6-ジオキサオクタメチレン=ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオナート]、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン、2,2’-ジメチル-2,2’-(2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン-3,9-ジイル)ジプロパン-1,1’-ジイル=ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロパノアート]、3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリル、ビス[3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオン酸][エチレンビス(オキシエチレン)]トリエチレングリコール-ビス-[3-(3-tert-ブチル-5-メチル-4ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6-ヘキサンジオール-ビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,4-ビス-(n-オクチルチオ)-6-(4-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、ペンタエリスリチル-テトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2-チオ-ジエチレンビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’-ヘキサメチレンビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナマミド)、3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-ベンジルホスホネート-ジエチルエステル、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル)カルシウム、1,3,5-トリス(3’,5’-ジ-tert-ブチル-4’-ヒドロキシベンジル)イソシアヌル酸、N,N’-ビス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト、2-(3,5-ジ-tert-ブチル-2-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3-tert-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(3,5-ジ-tert-ブチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(3,5-ジ-tert-アミル-2-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-2-n-ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)、2,4-ジ-tert-ブチルフェニル-3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート、ペンタエリトリトール=テトラキス[3-(3’,5’-ジ-tert-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオナ-ト]、2,4.6-トリ-tert-ブチルニトロンベンゼン、3,9-ビス(2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、2,4,8,10-テトラ-tert-ブチル-6-[(2-エチルヘキサン-1-イル)オキシ]-12H-ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能なことから、2,6-ジ-tert-ブチル-p-クレゾール、ペンタエリトリトール=テトラキス[3-(3’,5’-ジ-tert-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオナ-ト]が好ましい。 Examples of the compound (D) include tert-butylcatechol, tert-butylhydroquinone, tert-butylresorcin, 2,5-di-tert-amylhydroquinone, tert-butyl-p-benzoquinone, 2,6-di-. tert-butyl-p-cresol, 2-tert-butyl-p-cresol, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (dibutylhydroxytoluene), 2,6-di-tert-butyl-4- Ethylphenol, 2,2'-methylenebis (4ethyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6- tert-butylphenol), 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,5-di-tert-butylhydroquinone, 2,2'-methylenebis (6-tert-butyl-4-ethyl) Phenol), N, N'-bis {2- [2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) ethylcarbonyloxy] ethyl} oxamide, octyl-3,5-di-tert-butyl -4-Hydroxy-hydrocarcinate, 3,6-dioxaoctamethylene = bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate], 1,1,3-tris (2) -Methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 2,2'-dimethyl-2,2'-(2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane-3,9 -Diyl) Dipropane-1,1'-Diyl-bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propanoart], 3- (3,5-di-tert-butyl-4- Stearyl (hydroxyphenyl) propionate, bis [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionic acid] [ethylene bis (oxyethylene)] triethylene glycol-bis- [3- (3- (3- (3-) tert-Butyl-5-methyl-4hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis -(N-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert-butylanilino) -1,3,5-triazine, pentaerythrityl-tetraki Su [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) Propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocin) Namamide), 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-benzylphosphonate-diethyl ester, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl- 4-Hydroxybenzyl) benzene, bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate ethyl) calcium, 1,3,5-tris (3', 5'-di-tert-butyl-4) '-Hydroxybenzyl) isocyanuric acid, N, N'-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) Phosphite, 2- (3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (3-tert-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 -(3,5-Di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (3,5-di-tert-amyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (3,3) 5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), 2,4-di-tert-butylphenyl -3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, pentaerythritol-tetrakis [3- (3', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate], 2,4 .6-Tri-tert-butylnitronbenzene, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5] .5] Undecane, 2,4,8,10-tetra-tert-butyl-6-[(2-ethylhexane-1-yl) oxy] -12H-dibenzo [d, g] [1,3,2] Dioxaphosphosin, etc. may be mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more. Among these, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol and pentaerythritol-tetrakis can be formed because they have high photosensitivity and can form a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion. [3- (3', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] is preferable.

前記化合物(D)の含有量は、前記酸基含有(メタ)アクリレート樹脂中に0.01~10質量%の範囲が好ましく、0.01~5質量%の範囲がより好ましい。 The content of the compound (D) is preferably in the range of 0.01 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.01 to 5% by mass in the acid group-containing (meth) acrylate resin.

また、本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂の二重結合当量は、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能なことから、500以下が好ましく、450以下がより好ましい。 Further, the double bond equivalent of the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention is preferably 500 or less because it has high photosensitivity and can form a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion. , 450 or less is more preferable.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂の製造方法としては、特に制限されず、どのような方法にて製造してもよい。例えば、前記共重合体(A)と、前記化合物(B)と、前記多塩基酸無水物(C)とを含有する原料の全てを一括で反応させる方法<方法1>で製造してもよいし、原料を順次反応させる方法<方法2>で製造してもよい。 The method for producing the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention is not particularly limited, and any method may be used for producing the acid group-containing (meth) acrylate resin. For example, it may be produced by a method <method 1> in which all of the raw materials containing the copolymer (A), the compound (B), and the polybasic acid anhydride (C) are reacted at once. Then, it may be produced by the method <method 2> in which the raw materials are sequentially reacted.

前記方法1としては、例えば、前記共重合体(A)と、前記化合物(B)と、前記多塩基酸無水物(C)とを含む反応原料を、塩基性触媒又は酸性触媒の存在下、50~150℃で反応させて得られる方法等が挙げられる。 As the method 1, for example, a reaction raw material containing the copolymer (A), the compound (B), and the polybasic acid anhydride (C) is used in the presence of a basic catalyst or an acidic catalyst. Examples thereof include a method obtained by reacting at 50 to 150 ° C.

前記塩基性触媒としては、例えば、N-メチルモルフォリン、ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、トリ-n-ブチルアミンもしくはジメチルベンジルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、イミダゾール、1-メチルイミダゾール、2,4-ジメチルイミダゾール、1,4-ジエチルイミダゾール、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(N-フェニル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアミン化合物;トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等の四級アンモニウム塩;トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物;テトラメチルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホニウムクロライド、テトラプロピルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、トリメチル(2-ヒドロキシルプロピル)ホスホニウムクロライド、トリフェニルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩;ジブチル錫ジラウレート、オクチル錫トリラウレート、オクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジネオデカノエート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸錫、1,1,3,3-テトラブチル-1,3-ドデカノイルジスタノキサン等の有機錫化合物;オクチル酸亜鉛、オクチル酸ビスマス等の有機金属化合物;オクタン酸錫等の無機錫化合物;無機金属化合物などが挙げられる。これらの塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the basic catalyst include N-methylmorpholine, pyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonen-. 5 (DBN), 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), tri-n-butylamine or dimethylbenzylamine, butylamine, octylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, imidazole, 1 -Methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 1,4-diethylimidazole, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3- (N-phenyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3-( Amine compounds such as 2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, and tetramethylammonium hydroxide; quaternary such as trioctylmethylammonium chloride and trioctylmethylammonium acetate. Ammonium salt; phosphinic compounds such as trimethylphosphine, tributylphosphine, triphenylphosphine; tetramethylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium chloride, tetrapropylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, trimethyl (2-hydroxylpropyl) phosphonium chloride , Triphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, phosphonium salts such as benzylphosphonium chloride; dibutyltin dilaurate, octyltin trilaurate, octyltin diacetate, dioctyltin diacetate, dioctyltin dineodecanoate, Organic tin compounds such as dibutyltin diacetate, tin octylate, 1,1,3,3-tetrabutyl-1,3-dodecanoyl distanoxane; organic metal compounds such as zinc octylate and bismuth octylate; tin octanate Inorganic tin compounds such as; Inorganic metal compounds and the like. These basic catalysts can be used alone or in combination of two or more.

前記酸性触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸、三フッ化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸などが挙げられる。これらの酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the acidic catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and oxalic acid, and Lewis acids such as boron trifluoride, anhydrous aluminum chloride and zinc chloride. And so on. These acidic catalysts can be used alone or in combination of two or more.

前記方法1における前記塩基性触媒又は酸性触媒の使用量は、前記共重合体(A)と、前記化合物(B)と、前記多塩基酸無水物(C)との合計質量100質量部に対して、0.01~5質量部の範囲が好ましい。 The amount of the basic catalyst or the acidic catalyst used in the method 1 is 100 parts by mass in total of the polymer (A), the compound (B), and the polybasic acid anhydride (C). The range of 0.01 to 5 parts by mass is preferable.

前記方法2としては、例えば、予め前記共重合体(A)及び前記化合物(B)を塩基性触媒又は酸性触媒の存在下、70~140℃で反応させて反応生成物(I)を得、次いで、前記反応生成物(I)と、前記多塩基酸無水物(C)とを塩基性触媒又は酸性触媒の存在下、70~140℃で反応させて得られる方法等が挙げられる。 As the method 2, for example, the copolymer (A) and the compound (B) are reacted in advance at 70 to 140 ° C. in the presence of a basic catalyst or an acidic catalyst to obtain a reaction product (I). Next, a method obtained by reacting the reaction product (I) with the polybasic acid anhydride (C) at 70 to 140 ° C. in the presence of a basic catalyst or an acidic catalyst can be mentioned.

前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができる。これらの塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the basic catalyst, the same catalysts as those exemplified as the above-mentioned basic catalyst can be used. These basic catalysts can be used alone or in combination of two or more.

前記酸性触媒としては、上述の酸性触媒として例示したものと同様のものを用いることができる。これらの酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the acidic catalyst, the same ones as those exemplified as the above-mentioned acidic catalyst can be used. These acidic catalysts can be used alone or in combination of two or more.

前記方法2の前記共重合体(A)及び前記化合物(B)の反応における前記塩基性触媒又は酸性触媒の使用量は、前記共重合体(A)及び前記化合物(B)の合計質量100質量部に対して、0.01~5質量部の範囲が好ましい。また、前記反応生成物(I)及び前記多塩基酸無水物(C)の反応における前記塩基性触媒又は酸性触媒の使用量は、前記反応生成物(I)及び前記多塩基酸無水物(C)の合計質量100質量部に対して、0.01~5質量部の範囲が好ましい。 The amount of the basic catalyst or the acidic catalyst used in the reaction of the copolymer (A) and the compound (B) of the method 2 is 100 mass by mass of the total mass of the copolymer (A) and the compound (B). The range of 0.01 to 5 parts by mass is preferable with respect to the part. The amount of the basic catalyst or the acidic catalyst used in the reaction of the reaction product (I) and the polybasic acid anhydride (C) is the reaction product (I) and the polybasic acid anhydride (C). ) Is preferably in the range of 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass.

前記方法1及び2において、前記共重合体(A)が化合物(a2)由来のエポキシ基を有するものであり、前記化合物(B)がカルボキシル基を有するものである場合、又は、前記共重合体(A)が化合物(a2)由来のカルボキシル基を有するものであり、前記化合物(B)がエポキシ基を有するものである場合、反応に用いる触媒としては、ホスフィン化合物、ホスホニウム塩等のリン系触媒が好ましく、ホスフィン化合物がより好ましい。 In the above methods 1 and 2, when the copolymer (A) has an epoxy group derived from the compound (a2) and the compound (B) has a carboxyl group, or the copolymer. When (A) has a carboxyl group derived from the compound (a2) and the compound (B) has an epoxy group, the catalyst used for the reaction is a phosphorus-based catalyst such as a phosphine compound or a phosphonium salt. Is preferable, and a phosphine compound is more preferable.

前記ホスフィン化合物としては、上述のホスフィン化合物として例示したものと同様のものを用いることができる。また、これらのホスフィン化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the phosphine compound, the same compounds as those exemplified as the above-mentioned phosphine compound can be used. Further, these phosphine compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記ホスホニウム塩としては、上述のホスホニウム塩として例示したものと同様のものを用いることができる。また、これらのホスホニウム塩は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the phosphonium salt, the same ones as those exemplified as the above-mentioned phosphonium salt can be used. In addition, these phosphonium salts can be used alone or in combination of two or more.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂の製造において、前記共重合体(A)と、前記化合物(B)との使用割合は、前記共重合体(A)が有する反応性官能基1モルに対して、前記化合物(B)が0.9~1.1モルの範囲であることが好ましく、0.95~1.05の範囲がより好ましい。 In the production of the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention, the ratio of the copolymer (A) to the compound (B) to be used is 1 mol of the reactive functional group of the copolymer (A). On the other hand, the compound (B) is preferably in the range of 0.9 to 1.1 mol, more preferably in the range of 0.95 to 1.05.

また、本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂の製造において、前記共重合体(A)と、前記重多塩基酸無水物(C)との使用割合は、前記共重合体(A)が有する反応性官能基1モルに対して、前記多塩基酸無水物(C)が0.25~0.95モルの範囲であることが好ましく、0.3~0.9の範囲がより好ましい。 Further, in the production of the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention, the ratio of the copolymer (A) to the heavy polybasic acid anhydride (C) is determined by the copolymer (A). The polybasic acid anhydride (C) is preferably in the range of 0.25 to 0.95 mol, more preferably in the range of 0.3 to 0.9 with respect to 1 mol of the reactive functional group having.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂の製造において、必要に応じて、前記化合物(D)以外に重合禁止剤、酸化防止剤等を用いることもできる。 In the production of the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention, a polymerization inhibitor, an antioxidant or the like can be used in addition to the compound (D), if necessary.

前記重合禁止剤としては、例えば、p-メトキシフェノール、p-メトキシクレゾール、4-メトキシ-1-ナフトール、4,4’-ジアルコキシ-2,2’-ビ-1-ナフトール、3-(N-サリチロイル)アミノ-1,2,4-トリアゾール、N’1,N’12-ビス(2-ヒドロキシベンゾイル)ドデカンジヒドラジド、スチレン化フェノール、N-イソプロピル-N’-フェニルベンゼン-1,4-ジアミン、6-エトキシ-2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン等のフェノール化合物、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、p-ベンゾキノン、メチル-p-ベンゾキノン、2,5-ジフェニルベンゾキノン、2-ヒドロキシ-1,4-ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン等のキノン化合物、メラミン、p-フェニレンジアミン、4-アミノジフェニルアミン、N.N’-ジフェニル-p-フェニレンジアミン、N-i-プロピル-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、N-(1.3-ジメチルブチル)-N’-フェニル-p-フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、4,4’-ジクミル-ジフェニルアミン、4,4’-ジオクチル-ジフェニルアミン、ポリ(2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリン)、スチレン化ジフェニルアミン、スチレン化ジフェニルアミンと2,4,4-トリメチルペンテンの反応生成物、ジフェニルアミンと2,4,4-トリメチルペンテンの反応生成物等のアミン化合物、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート、2,2-ビス({[3-(ドデシルチオ)プロピオニル]オキシ}メチル)-1,3-プロパンジイル=ビス[3-(ドデシルチオ)プロピオナート]、ジトリデカン-1-イル=3,3’-スルファンジイルジプロパノアート等のチオエーテル化合物、N-ニトロソジフェニルアミン、N-ニトロソフェニルナフチルアミン、p-ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、p-ニトロソジフェニルアミン、α-ニトロソ-β-ナフトール等、N、N-ジメチルp-ニトロソアニリン、p-ニトロソジフェニルアミン、p-ニトロンジメチルアミン、p-ニトロン-N、N-ジエチルアミン、N-ニトロソエタノールアミン、N-ニトロソジ-n-ブチルアミン、N-ニトロソ-N-n-ブチル-4-ブタノールアミン、N-ニトロソ-ジイソプロパノールアミン、N-ニトロソ-N-エチル-4-ブタノールアミン、5-ニトロソ-8-ヒドロキシキノリン、N-ニトロソモルホリン、N-二トロソーN-フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、N-ニトロソ-N-メチル-p-トルエンスルホンアミド、N-ニトロソ-N-エチルウレタン、N-ニトロソ-N-n-プロピルウレタン、1-ニトロソ-2-ナフトール、2-ニトロソ-1-ナフトール、1-ニトロソ-2-ナフトール-3,6-スルホン酸ナトリウム、2-ニトロソ-1-ナフトール-4-スルホン酸ナトリウム、2-ニトロソ-5-メチルアミノフェノール塩酸塩、2-ニトロソ-5-メチルアミノフェノール塩酸塩等のニトロソ化合物、リン酸とオクタデカン-1-オールのエステル、トリフェニルホスファイト、3,9-ジオクタデカン-1-イル-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9-ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、トリスノニルフェニルホスフィト、亜リン酸-(1-メチルエチリデン)-ジ-4,1-フェニレンテトラ-C12-15-アルキルエステル、2-エチルヘキシル=ジフェニル=ホスフィット、ジフェニルイソデシルフォスファイト、トリイソデシル=ホスフィット、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト等のホスファイト化合物、ビス(ジメチルジチオカルバマト-κ(2)S,S’)亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチル・ジチオカルバミン酸亜鉛等の亜鉛化合物、ビス(N,N-ジブチルカルバモジチオアト-S,S’)ニッケル等のニッケル化合物、1,3-ジヒドロ-2H-ベンゾイミダゾール-2-チオン、4,6-ビス(オクチルチオメチル)-o-クレゾール、2-メチル-4,6-ビス[(オクタン-1-イルスルファニル)メチル]フェノール、ジラウリルチオジプロピオン酸エステル、3,3’-チオジプロピオン酸ジステアリル等の硫黄化合物などが挙げられる。これらの重合禁止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polymerization inhibitor include p-methoxyphenol, p-methoxycresol, 4-methoxy-1-naphthol, 4,4'-dialkoxy-2,2'-bi-1-naphthol, 3- (N). -Salicyloyl) amino-1,2,4-triazole, N'1, N'12-bis (2-hydroxybenzoyl) dodecanedihydrazide, styrenated phenol, N-isopropyl-N'-phenylbenzene-1,4-diamine , 6-ethoxy-2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinone and other phenolic compounds, hydroquinone, methylhydroquinone, p-benzoquinone, methyl-p-benzoquinone, 2,5-diphenylbenzoquinone, 2-hydroxy- Quinone compounds such as 1,4-naphthoquinone, anthraquinone and diphenoquinone, melamine, p-phenylenediamine, 4-aminodiphenylamine, N.I. N'-diphenyl-p-phenylenediamine, N-i-propyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine, N- (1.3-dimethylbutyl) -N'-phenyl-p-phenylenediamine, diphenylamine, 4 , 4'-dicumyl-diphenylamine, 4,4'-dioctyl-diphenylamine, poly (2,2,4-trimethyl-1,2-dihydroquinoline), sylated diphenylamine, sylated diphenylamine and 2,4,4-trimethyl Penten reaction products, amine compounds such as diphenylamine and 2,4,4-trimethylpenten reaction products, phenothiazine, distearylthiodipropionate, 2,2-bis ({[3- (dodecylthio) propionyl] oxy } Methyl) -1,3-propanediyl = bis [3- (dodecylthio) propionate], ditridecane-1-yl = 3,3'-thioether compounds such as sulfandyl dipropanoate, N-nitrosodiphenylamine, N- Nitrosophenylnaphthylamine, p-nitrosophenol, nitrosobenzene, p-nitrosodiphenylamine, α-nitroso-β-naphthol, etc., N, N-dimethylp-nitrosoaniline, p-nitrosodiphenylamine, p-nitrosodimethylamine, p-nitron -N, N-diethylamine, N-nitrosoethanolamine, N-nitrosodi-n-butylamine, N-nitroso-Nn-butyl-4-butanolamine, N-nitroso-diisopropanolamine, N-nitroso-N- Ethyl-4-butanolamine, 5-nitroso-8-hydroxyquinoline, N-nitrosomorpholin, N-nitroso N-phenylhydroxylamine ammonium salt, ditrosobenzene, N-nitroso-N-methyl-p-toluenesulfonamide , N-nitroso-N-ethylurethane, N-nitroso-Nn-propyl urethane, 1-nitroso-2-naphthol, 2-nitroso-1-naphthol, 1-nitroso-2-naphthol-3,6-sulfone Nitroso compounds such as sodium acid, 2-nitroso-1-naphthol-4-sulfonate sodium, 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride, 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride, phosphoric acid and octadecane- 1-ol ester, triphenylphosphite, 3,9-dioctadecane-1-yl-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosph Aspiro [5.5] undecane, trisnonylphenylphosphite, phosphite- (1-methylethylidene) -di-4,1-phenylenetetra-C12-15-alkyl ester, 2-ethylhexyl-diphenyl-phosfit, Phosphite compounds such as diphenylisodecylphosphite, triisodecyl-phosfit, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, bis (dimethyldithiocarbamato-κ (2) S, S') zinc, Zinc compounds such as zinc diethyldithiocarbamate, zinc dibutyl / dithiocarbamate, nickel compounds such as bis (N, N-dibutylcarbamodithioato-S, S') nickel, 1,3-dihydro-2H-benzoimidazole-2 -Thion, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, 2-methyl-4,6-bis [(octane-1-ylsulfanyl) methyl] phenol, dilaurylthiodipropionic acid ester, 3, Examples thereof include sulfur compounds such as distearyl thiodipropionate. These polymerization inhibitors may be used alone or in combination of two or more.

前記酸化防止剤としては、前記重合禁止剤で例示した化合物と同様のものを用いることができ、前記酸化防止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the antioxidant, the same compounds as those exemplified for the polymerization inhibitor can be used, and the antioxidant may be used alone or in combination of two or more.

また、前記重合禁止剤、及び前記酸化防止剤の市販品としては、例えば、和光純薬工業株式会社製「Q-1300」、「Q-1301」、住友化学株式会社製「スミライザーBBM-S」、「スミライザーGA-80が」等が挙げられる。 Examples of commercially available products of the polymerization inhibitor and the antioxidant include "Q-1300" and "Q-1301" manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. and "Smilizer BBM-S" manufactured by Sumitomo Chemical Industries, Ltd. , "Smilizer GA-80 is" and the like.

本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂は、光重合開始剤を添加することにより硬化性樹脂組成物として用いることができる。 The acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention can be used as a curable resin composition by adding a photopolymerization initiator.

前記光重合開始剤としては、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、2,2’-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ジフェニル(2,4,6-トリメトキシベンゾイル)ホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン等の光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-. Hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, thioxanthone and thioxanthone derivatives, 2,2'-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphenyl Oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphenyl oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphenyl oxide, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1- Examples thereof include photoradical polymerization initiators such as on, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone.

前記その他の光重合開始剤の市販品としては、例えば、「Omnirad 1173」、「Omnirad 184」、「Omnirad 127」、「Omnirad 2959」、「Omnirad 369」、「Omnirad 379」、「Omnirad 907」、「Omnirad 4265」、「Omnirad 1000」、「Omnirad 651」、「Omnirad TPO」、「Omnirad 819」、「Omnirad 2022」、「Omnirad 2100」、「Omnirad 754」、「Omnirad 784」、「Omnirad 500」、「Omnirad 81」(IGM Resins社製);「KAYACURE DETX」、「KAYACURE MBP」、「KAYACURE DMBI」、「KAYACURE EPA」、「KAYACURE OA」(日本化薬株式会社製);「Vicure 10」、「Vicure 55」(Stoffa Chemical社製);「Trigonal P1」(Akzo Nobel社製)、「SANDORAY 1000」(SANDOZ社製);「DEAP」(Upjohn Chemical社製)、「Quantacure PDO」、「Quantacure ITX」、「Quantacure EPD」(Ward Blenkinsop社製);「Runtecure 1104」(Runtec社製)等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。 Examples of commercially available products of the other photopolymerization initiators include "Omnirad 1173", "Omnirad 184", "Omnirad 127", "Omnirad 2959", "Omnirad 369", "Omnirad 379", "Omnirad 90". "Omnirad 4265", "Omnirad 1000", "Omnirad 651", "Omnirad TPO", "Omnirad 819", "Omnirad 2022", "Omnirad 2100", "Omnirad 2100", "Omnirad 754", "Omnirad" "Omnirad 81" (manufactured by IGM Resins); "KAYACURE DETX", "KAYACURE MBP", "KAYACURE DMBI", "KAYACURE EPA", "KAYACURE OA" (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); "Vicure 10" "Vicure 55" (manufactured by Stoffa Chemical); "Trigonal P1" (manufactured by Akzo Nobel), "SANDORAY 1000" (manufactured by SANDOZ); "DEAP" (manufactured by Upjohn Chemistry), "QuantuQua", "Quantacure PDO" , "Chemistry EPD" (manufactured by Ward Brenkinsop); "Runtecure 1104" (manufactured by Runtec) and the like. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

前記光重合開始剤の添加量は、例えば、前記硬化性樹脂組成物中に、0.5~20質量%の範囲で用いることが好ましい。 The amount of the photopolymerization initiator added is preferably in the range of 0.5 to 20% by mass in the curable resin composition, for example.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前述した酸基含有(メタ)アクリレート樹脂以外の樹脂成分(以下、「その他の樹脂成分」と称することがある。)を含有しても良い。前記その他の樹脂成分としては、酸基及び重合性不飽和結合を有する樹脂、各種の(メタ)アクリレートモノマー等が挙げられる。 The curable resin composition of the present invention may contain a resin component (hereinafter, may be referred to as “other resin component”) other than the acid group-containing (meth) acrylate resin described above. Examples of the other resin components include resins having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, various (meth) acrylate monomers, and the like.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有する樹脂としては、樹脂中に酸基及び重合性不飽和結合を有するものであれば何れでもよく、例えば、酸基及び重合性不飽和結合を有するエポキシ樹脂、酸基及び重合性不飽和結合を有するウレタン樹脂、酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリル樹脂、酸基及び重合性不飽和結合を有するアミドイミド樹脂、酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリルアミド樹脂、酸基及び重合性不飽和結合を有するエステル樹脂等が挙げられる。 The resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond may be any resin as long as it has an acid group and a polymerizable unsaturated bond in the resin. For example, an epoxy resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond. , Urethane resin with acid groups and polymerizable unsaturated bonds, acrylic resin with acid groups and polymerizable unsaturated bonds, amidoimide resin with acid groups and polymerizable unsaturated bonds, acid groups and polymerizable unsaturated bonds Examples thereof include an acrylamide resin, an acid group and an ester resin having a polymerizable unsaturated bond.

前記酸基としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基等が挙げられる。 Examples of the acid group include a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するエポキシ樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、不飽和一塩基酸、及び多塩基酸無水物を必須原料とする酸基含有エポキシ(メタ)アクリレート樹脂や、エポキシ樹脂、不飽和一塩基酸、多塩基酸無水物、ポリイソシアネート化合物、及び水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応原料とする酸基及びウレタン基含有エポキシ(メタ)アクリレート樹脂などが挙げられる。 Examples of the epoxy resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond include an acid group-containing epoxy (meth) acrylate resin containing an epoxy resin, an unsaturated monobasic acid, and a polybasic acid anhydride as essential raw materials, and an epoxy. Examples thereof include resins, unsaturated monobasic acids, polybasic acid anhydrides, polyisocyanate compounds, and acid group-containing and urethane group-containing epoxy (meth) acrylate resins using a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound as a reaction raw material.

前記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、フェニレンエーテル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン-フェノール付加反応型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、キサンテン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂、トリヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂、オキサゾリドン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the epoxy resin include bisphenol type epoxy resin, phenylene ether type epoxy resin, naphthylene ether type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and cresol novolac type epoxy resin. Bisphenol novolak type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol-phenol co-shrink novolak type epoxy resin, naphthol-cresol co-shrink novolak type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition Examples thereof include reaction type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, xanthene type epoxy resin, dihydroxybenzene type epoxy resin, trihydroxybenzene type epoxy resin, oxazolidone type epoxy resin and the like. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

前記ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAP型エポキシ樹脂、ビスフェノールB型エポキシ樹脂、ビスフェノールBP型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol AP type epoxy resin, bisphenol B type epoxy resin, bisphenol BP type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy. Examples include resin.

前記水添ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールB型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールE型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールS型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the hydrogenated bisphenol type epoxy resin include hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol B type epoxy resin, hydrogenated bisphenol E type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, and hydrogenated bisphenol S type epoxy. Examples include resin.

前記ビフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂、2,2’-ビフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチル-4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂、テトラメチル-2,2’-ビフェノール型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the biphenol type epoxy resin include 4,4'-biphenol type epoxy resin, 2,2'-biphenol type epoxy resin, tetramethyl-4,4'-biphenol type epoxy resin, and tetramethyl-2,2'. -Biphenol type epoxy resin and the like can be mentioned.

前記水添ビフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、水添4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂、水添2,2’-ビフェノール型エポキシ樹脂、水添テトラメチル-4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂、水添テトラメチル-2,2’-ビフェノール型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the hydrogenated biphenol type epoxy resin include hydrogenated 4,4'-biphenol type epoxy resin, hydrogenated 2,2'-biphenol type epoxy resin, and hydrogenated tetramethyl-4,4'-biphenol type epoxy resin. , Hydrophobic tetramethyl-2,2'-biphenol type epoxy resin and the like.

前記不飽和一塩基酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、α-シアノ桂皮酸、β-スチリルアクリル酸、β-フルフリルアクリル酸等が挙げられる。また、前記不飽和一塩基酸のエステル化物、酸ハロゲン化物、酸無水物等も用いることができる。さらに、下記構造式(1)で表される化合物等も用いることができる。 Examples of the unsaturated monobasic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, α-cyanocinnamic acid, β-styrylacrylic acid, β-flufurylacrylic acid and the like. Further, the esterified product of the unsaturated monobasic acid, the acid halide, the acid anhydride and the like can also be used. Further, a compound represented by the following structural formula (1) can also be used.

Figure 2022006901000001
[式(1)中、Xは、炭素数1~10のアルキレン鎖、ポリオキシアルキレン鎖、(ポリ)エステル鎖、芳香族炭化水素鎖、又は(ポリ)カーボネート鎖を表し、構造中にハロゲン原子やアルコキシ基等を有していても良い。Yは、水素原子又はメチル基である。]
Figure 2022006901000001
[In the formula (1), X represents an alkylene chain having 1 to 10 carbon atoms, a polyoxyalkylene chain, a (poly) ester chain, an aromatic hydrocarbon chain, or a (poly) carbonate chain, and is a halogen atom in the structure. Or an alkoxy group or the like. Y is a hydrogen atom or a methyl group. ]

前記ポリオキシアルキレン鎖としては、例えば、ポリオキシエチレン鎖、ポリオキシプロピレン鎖等が挙げられる。 Examples of the polyoxyalkylene chain include a polyoxyethylene chain and a polyoxypropylene chain.

前記(ポリ)エステル鎖としては、例えば、下記構造式(X-1)で表される(ポリ)エステル鎖が挙げられる。 Examples of the (poly) ester chain include a (poly) ester chain represented by the following structural formula (X-1).

Figure 2022006901000002
[式(X-1)中、Rは、炭素原子数1~10のアルキレン基であり、nは1~5の整数である。]
Figure 2022006901000002
[In the formula (X-1), R 1 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 5. ]

前記芳香族炭化水素鎖としては、例えば、フェニレン鎖、ナフチレン鎖、ビフェニレン鎖、フェニルナフチレン鎖、ビナフチレン鎖等が挙げられる。また、部分構造として、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等の芳香環を有する炭化水素鎖も用いることができる。 Examples of the aromatic hydrocarbon chain include a phenylene chain, a naphthylene chain, a biphenylene chain, a phenylnaphthylene chain, a binaphthylene chain and the like. Further, as a partial structure, a hydrocarbon chain having an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, or a phenanthrene ring can also be used.

前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物(C)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid anhydride, the same ones as those exemplified as the above-mentioned polybasic acid anhydride (C) can be used, and the polybasic acid anhydride may be used alone or in combination of two or more. It can also be used together.

前記ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ブタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;ノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート化合物;トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5-ナフタレンジイソシアネート、4,4’-ジイソシアナト-3,3’-ジメチルビフェニル、o-トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;下記構造式(2)で表される繰り返し構造を有するポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート;これらのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体等が挙げられる。また、これらのポリイソシアネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polyisocyanate compound include aliphatic diisocyanate compounds such as butane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate; norbornan diisocyanate and isophorone diisocyanate. Alicyclic diisocyanate compounds such as hydrogenated xylylene diisocyanate and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate; tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalenedi isocyanate, 4,4'-diisocyanato-3 , 3'-Aromatic diisocyanate compounds such as dimethylbiphenyl and o-trizine diisocyanate; polymethylene polyphenyl polyisocyanate having a repeating structure represented by the following structural formula (2); these isocyanurate modified products, biuret modified products, Examples thereof include allophanate modified products. Further, these polyisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2022006901000003
[式中、Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1~6の炭化水素基の何れかである。Rはそれぞれ独立に炭素原子数1~4のアルキル基、又は構造式(2)で表される構造部位と*印が付されたメチレン基を介して連結する結合点の何れかである。lは0又は1~3の整数であり、mは1~15の整数である。]
Figure 2022006901000003
[In the formula, R 1 is either a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, respectively. R 2 is either an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms independently, or a bond point linked to a structural site represented by the structural formula (2) via a methylene group marked with *. l is an integer of 0 or 1 to 3, and m is an integer of 1 to 15. ]

前記水酸基含有(メタ)アクリレート化合物としては、上述の水酸基含有(メタ)アクリレート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記水酸基含有(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, the same compounds as those exemplified for the above-mentioned hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound can be used, and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound may be used alone. It is also possible to use more than seeds together.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するエポキシ樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記酸基及び重合性不飽和結合を有するエポキシ樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the epoxy resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond is not particularly limited, and any method may be used for producing the epoxy resin. In the production of the epoxy resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, it may be carried out in an organic solvent if necessary, or a basic catalyst may be used if necessary.

前記有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキソラン等の環状エーテル溶剤;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤;トルエン、キシレン、ソルベントナフサ等の芳香族溶剤;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族溶剤;カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤;アルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等のグリコールエーテル溶剤;メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、前記有機溶剤の使用量は、反応効率が良好となることから、反応原料の合計質量に対し0.1~5倍量程度の範囲で用いることが好ましい。 Examples of the organic solvent include ketone solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide and methyl isobutyl ketone; cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxolan; ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; toluene, xylene and solvent. Aromatic solvents such as naphtha; alicyclic solvents such as cyclohexane and methylcyclohexane; alcohol solvents such as carbitol, cellosolve, methanol, isopropanol, butanol and propylene glycol monomethyl ether; alkylene glycol monoalkyl ethers and dialkylene glycol monoalkyl ethers. , Glycol ether solvent such as dialkylene glycol monoalkyl ether acetate; methoxypropanol, cyclohexanone, methyl cellosolve, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Further, the amount of the organic solvent used is preferably in the range of about 0.1 to 5 times the total mass of the reaction raw materials because the reaction efficiency is good.

前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the basic catalyst, the same catalysts as those exemplified as the above-mentioned basic catalyst can be used, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するウレタン樹脂としては、例えば、ポリイソシアネート化合物、水酸基含有(メタ)アクリレート化合物、カルボキシル基含有ポリオール化合物、及び必要に応じて多塩基酸無水物、前記カルボキシル基含有ポリオール化合物以外のポリオール化合物とを反応させて得られたものや、ポリイソシアネート化合物、水酸基含有(メタ)アクリレート化合物、多塩基酸無水物、及びカルボキシル基含有ポリオール化合物以外のポリオール化合物とを反応させて得られたもの等が挙げられる。 Examples of the urethane resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond include a polyisocyanate compound, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, a carboxyl group-containing polyol compound, and if necessary, a polybasic acid anhydride and the carboxyl group. It is reacted with a polyol compound other than the contained polyol compound, a polyisocyanate compound, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, a polybasic acid anhydride, and a polyol compound other than the carboxyl group-containing polyol compound. The ones obtained from the above are mentioned.

前記ポリイソシアネート化合物としては、上述のポリイソシアネート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記ポリイソシアネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polyisocyanate compound, the same compound as those exemplified as the above-mentioned polyisocyanate compound can be used, and the polyisocyanate compound may be used alone or in combination of two or more.

前記水酸基含有(メタ)アクリレート化合物としては、上述の水酸基含有(メタ)アクリレート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記水酸基含有(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, the same compounds as those exemplified for the above-mentioned hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound can be used, and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound may be used alone. It is also possible to use more than seeds together.

前記カルボキシル基含有ポリオール化合物としては、例えば、2,2-ジメチロールプロピオン酸、2,2-ジメチロールブタン酸、2,2-ジメチロール吉草酸等が挙げられる。前記カルボキシル基含有ポリオール化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the carboxyl group-containing polyol compound include 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, and 2,2-dimethylolpropane valeric acid. The carboxyl group-containing polyol compound may be used alone or in combination of two or more.

前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物(C)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid anhydride, the same ones as those exemplified as the above-mentioned polybasic acid anhydride (C) can be used, and the polybasic acid anhydride may be used alone or in combination of two or more. It can also be used together.

前記カルボキシル基含有ポリオール化合物以外のポリオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の脂肪族ポリオール化合物;ビフェノール、ビスフェノール等の芳香族ポリオール化合物;前記各種のポリオール化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性体;前記各種のポリオール化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性体等が挙げられる。前記カルボキシル基含有ポリオール化合物以外のポリオール化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polyol compound other than the carboxyl group-containing polyol compound include aliphatic polyol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, glycerin, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol; Aromatic polyol compounds such as biphenols and bisphenols; (poly) oxyalkylene chains such as (poly) oxyethylene chains, (poly) oxypropylene chains, and (poly) oxytetramethylene chains are contained in the molecular structures of the various polyol compounds. Introduced (poly) oxyalkylene modified product; a lactone modified product in which a (poly) lactone structure is introduced into the molecular structure of the various polyol compounds can be mentioned. The polyol compound other than the carboxyl group-containing polyol compound may be used alone or in combination of two or more.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するウレタン樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記酸基及び重合性不飽和結合を有するウレタン樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the urethane resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond is not particularly limited, and any method may be used for producing the urethane resin. In the production of the urethane resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, it may be carried out in an organic solvent if necessary, or a basic catalyst may be used if necessary.

前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the organic solvent, the same ones as those exemplified as the above-mentioned organic solvent can be used, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the basic catalyst, the same catalysts as those exemplified as the above-mentioned basic catalyst can be used, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリル樹脂としては、例えば、水酸基やカルボキシル基、イソシアネート基、グリシジル基等の反応性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(α)を必須の成分として重合させて得られるアクリル樹脂中間体に、これらの官能基と反応し得る反応性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(β)をさらに反応させることにより(メタ)アクリロイル基を導入して得られる反応生成物や、前記反応生成物中の水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるもの等が挙げられる。 As the acrylic resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, for example, a (meth) acrylate compound (α) having a reactive functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group or a glycidyl group is polymerized as an essential component. The reaction obtained by introducing a (meth) acryloyl group by further reacting the (meth) acrylate compound (β) having a reactive functional group capable of reacting with these functional groups with the acrylic resin intermediate obtained by the above treatment. Examples thereof include products obtained by reacting a hydroxyl group in the reaction product with a polybasic acid anhydride.

前記アクリル樹脂中間体は、前記(メタ)アクリレート化合物(α)の他、必要に応じてその他の重合性不飽和基含有化合物を共重合させたものであってもよい。前記その他の重合性不飽和基含有化合物は、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の脂環式構造含有(メタ)アクリレート;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレート等の芳香環含有(メタ)アクリレート;3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシリル基含有(メタ)アクリレート;スチレン、α-メチルスチレン、クロロスチレン等のスチレン誘導体等が挙げられる。これらは単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The acrylic resin intermediate may be a copolymer of the (meth) acrylate compound (α) and other polymerizable unsaturated group-containing compounds, if necessary. The other polymerizable unsaturated group-containing compound is (meth) such as, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like. Acrylic acid alkyl ester; alicyclic structure-containing (meth) acrylate such as cyclohexyl (meth) acrylate, isoboronyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate; phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxy Aromatic ring-containing (meth) acrylates such as ethyl acrylate; silyl group-containing (meth) acrylates such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; styrene derivatives such as styrene, α-methylstyrene and chlorostyrene can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

前記(メタ)アクリレート化合物(β)は、前記(メタ)アクリレート化合物(α)が有する反応性官能基と反応し得るものであれば特に限定されないが、反応性の観点から以下の組み合わせであることが好ましい。即ち、前記(メタ)アクリレート化合物(α)として水酸基含有(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)としてイソシアネート基含有(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(α)としてカルボキシル基含有(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)としてグリシジル基含有(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(α)としてイソシアネート基含有(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)として水酸基含有(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(α)としてグリシジル基含有(メタ)アクリレートを用いた場合には、(メタ)アクリレート化合物(β)としてカルボキシル基含有(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。前記(メタ)アクリレート化合物(β)は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The (meth) acrylate compound (β) is not particularly limited as long as it can react with the reactive functional group of the (meth) acrylate compound (α), but the combination is as follows from the viewpoint of reactivity. Is preferable. That is, when a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is used as the (meth) acrylate compound (α), it is preferable to use an isocyanate group-containing (meth) acrylate as the (meth) acrylate compound (β). When a carboxyl group-containing (meth) acrylate is used as the (meth) acrylate compound (α), it is preferable to use a glycidyl group-containing (meth) acrylate as the (meth) acrylate compound (β). When an isocyanate group-containing (meth) acrylate is used as the (meth) acrylate compound (α), it is preferable to use a hydroxyl group-containing (meth) acrylate as the (meth) acrylate compound (β). When a glycidyl group-containing (meth) acrylate is used as the (meth) acrylate compound (α), it is preferable to use a carboxyl group-containing (meth) acrylate as the (meth) acrylate compound (β). The (meth) acrylate compound (β) can be used alone or in combination of two or more.

前記多塩基酸無水物は、上述の多塩基酸無水物(C)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid anhydride, the same ones as those exemplified as the above-mentioned polybasic acid anhydride (C) can be used, and the polybasic acid anhydride may be used alone or in combination of two or more. You can also do it.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリル樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリル樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the acrylic resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond is not particularly limited, and any method may be used for producing the acrylic resin. In the production of the acrylic resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, it may be carried out in an organic solvent if necessary, or a basic catalyst may be used if necessary.

前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the organic solvent, the same ones as those exemplified as the above-mentioned organic solvent can be used, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the basic catalyst, the same catalysts as those exemplified as the above-mentioned basic catalyst can be used, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアミドイミド樹脂としては、例えば、酸基及び/又は酸無水物基を有するアミドイミド樹脂と、水酸基含有(メタ)アクリレート化合物及び/又はエポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物と、必要に応じて、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、グリシジル基、及び酸無水物基からなる群より選ばれる1種以上の反応性官能基を有する化合物を反応させて得られるものが挙げられる。なお、前記反応性官能基を有する化合物は、(メタ)アクリロイル基を有していてもよいし、有していなくてもよい。 Examples of the amideimide resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond include an amideimide resin having an acid group and / or an acid anhydride group, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound and / or an epoxy group-containing (meth) acrylate. Examples thereof include those obtained by reacting a compound with a compound having one or more reactive functional groups selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, a glycidyl group, and an acid anhydride group, if necessary. Be done. The compound having a reactive functional group may or may not have a (meth) acryloyl group.

前記アミドイミド樹脂としては、酸基又は酸無水物基のどちらか一方のみを有するものであってもよいし、両方を有するものであってもよい。水酸基含有(メタ)アクリレート化合物や(メタ)アクリロイル基含有エポキシ化合物との反応性や反応制御の観点から、酸無水物基を有するものであることが好ましく、酸基と酸無水物基との両方を有するものであることがより好ましい。前記アミドイミド樹脂の固形分酸価は、中性条件下、即ち、酸無水物基を開環させない条件での測定値が60~350mgKOH/gの範囲であることが好ましい。他方、水の存在下等、酸無水物基を開環させた条件での測定値が61~360mgKOH/gの範囲であることが好ましい。 The amideimide resin may have only one of an acid group and an acid anhydride group, or may have both. From the viewpoint of reactivity with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound and a (meth) acryloyl group-containing epoxy compound and reaction control, it is preferable that the compound has an acid anhydride group, and both the acid group and the acid anhydride group are used. It is more preferable to have. The solid acid value of the amideimide resin is preferably in the range of 60 to 350 mgKOH / g under neutral conditions, that is, under conditions where the acid anhydride group is not opened. On the other hand, the measured value under the condition that the acid anhydride group is opened, such as in the presence of water, is preferably in the range of 61 to 360 mgKOH / g.

前記アミドイミド樹脂としては、例えば、ポリイソシアネート化合物と、多塩基酸無水物とを反応原料として得られるものが挙げられる。 Examples of the amidoimide resin include those obtained by using a polyisocyanate compound and a polybasic acid anhydride as reaction raw materials.

前記ポリイソシアネート化合物としては、上述のポリイソシアネート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記ポリイソシアネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polyisocyanate compound, the same compound as those exemplified as the above-mentioned polyisocyanate compound can be used, and the polyisocyanate compound may be used alone or in combination of two or more.

前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物(C)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid anhydride, the same ones as those exemplified as the above-mentioned polybasic acid anhydride (C) can be used, and the polybasic acid anhydride may be used alone or in combination of two or more. It can also be used together.

また、前記アミドイミド樹脂は、必要に応じて、前記ポリイソシアネート化合物及び多塩基酸無水物以外に、多塩基酸を反応原料として併用することもできる。 In addition to the polyisocyanate compound and the polybasic acid anhydride, the amidimide resin can also use a polybasic acid as a reaction raw material, if necessary.

前記多塩基酸としては、一分子中にカルボキシル基を2つ以上有する化合物であれば何れのものも用いることができる。例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレントリカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等が挙げられる。また、前記多塩基酸としては、例えば、共役ジエン系ビニルモノマーとアクリロニトリルとの共重合体であって、その分子中にカルボキシル基を有する重合体も用いることができる。これらの多塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid, any compound having two or more carboxyl groups in one molecule can be used. For example, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydro. Phthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, bicyclo [2.2.1] heptane- 2,3-Dicarboxylic acid, methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic acid, 4- (2,5-dioxotetratetra-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydro Naphthalene-1,2-dicarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, naphthalenetricarboxylic acid, naphthalenetetracarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, biphenyltricarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, benzophenonetetracarboxylic acid and the like can be mentioned. Will be. Further, as the polybasic acid, for example, a copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile, which has a carboxyl group in its molecule, can also be used. These polybasic acids can be used alone or in combination of two or more.

前記水酸基含有(メタ)アクリレート化合物としては、上述の水酸基含有(メタ)アクリレート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記水酸基含有(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, the same compounds as those exemplified for the above-mentioned hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound can be used, and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound may be used alone. It is also possible to use more than seeds together.

前記エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物としては、上述したエポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記エポキシ基含有(メタ)アクリレート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the epoxy group-containing (meth) acrylate compound, the same ones as those exemplified as the above-mentioned epoxy group-containing (meth) acrylate compound can be used, and the epoxy group-containing (meth) acrylate compound is used alone. It is also possible to use two or more types together.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアミドイミド樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアミドイミド樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒を用いてもよい。 The method for producing the amidoimide resin having the acid group and the polymerizable unsaturated bond is not particularly limited, and any method may be used for producing the amidimide resin. In the production of the amidoimide resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, it may be carried out in an organic solvent if necessary, or a basic catalyst may be used if necessary.

前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the organic solvent, the same ones as those exemplified as the above-mentioned organic solvent can be used, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the basic catalyst, the same catalysts as those exemplified as the above-mentioned basic catalyst can be used, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリルアミド樹脂としては、例えば、フェノール性水酸基含有化合物と、アルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートと、N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物と、多塩基酸無水物と、必要に応じて不飽和一塩基酸とを反応させて得られたものが挙げられる。 Examples of the acrylamide resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond include a phenolic hydroxyl group-containing compound, an alkylene oxide or an alkylene carbonate, an N-alkoxyalkyl (meth) acrylamide compound, and a polybasic acid anhydride. Examples thereof include those obtained by reacting with an unsaturated monobasic acid, if necessary.

前記フェノール性水酸基含有化合物としては、分子内にフェノール性水酸基を少なくとも2つ有する化合物をいう。前記分子内にフェノール性水酸基を少なくとも2つ有する化合物としては、例えば、下記構造式(3-1)~(3-4)で表される化合物が挙げられる。 The phenolic hydroxyl group-containing compound refers to a compound having at least two phenolic hydroxyl groups in the molecule. Examples of the compound having at least two phenolic hydroxyl groups in the molecule include compounds represented by the following structural formulas (3-1) to (3-4).

Figure 2022006901000004
Figure 2022006901000004

上記構造式(3-1)~(3-4)において、Rは、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子の何れかであり、Rは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。また、pは、0又は1以上の整数であり、好ましくは0又は1~3の整数であり、より好ましくは0又は1であり、さらに好ましくは0である。qは、2以上の整数であり、好ましくは、2又は3である。なお、上記構造式における芳香環上の置換基の位置については、任意であり、例えば、構造式(3-2)のナフタレン環においてはいずれの環上に置換していてもよく、構造式(3-3)では、1分子中に存在するベンゼン環のいずれの環上に置換していてもよく、構造式(3-4)では、1分子中に存在するベンゼン環のいずれかの環上に置換していてもよいことを示し、1分子中における置換基の個数がp及びqであることを示している。 In the structural formulas (3-1) to (3-4), R 1 is any one of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and a halogen atom. , R 2 are independently hydrogen atoms or methyl groups. Further, p is an integer of 0 or 1 or more, preferably an integer of 0 or 1 to 3, more preferably 0 or 1, and further preferably 0. q is an integer of 2 or more, preferably 2 or 3. The position of the substituent on the aromatic ring in the above structural formula is arbitrary, and for example, in the naphthalene ring of the structural formula (3-2), it may be substituted on any ring, and the structural formula ( In 3-3), it may be substituted on any ring of the benzene ring present in one molecule, and in the structural formula (3-4), it may be substituted on any ring of the benzene ring present in one molecule. It is shown that it may be substituted with, and it is shown that the number of substituents in one molecule is p and q.

また、前記フェノール性水酸基含有化合物としては、例えば、分子内にフェノール性水酸基を1つ有する化合物と下記構造式(x-1)~(x-5)の何れかで表される化合物とを必須の反応原料とする反応生成物や、分子内にフェノール性水酸基を少なくとも2つ有する化合物と下記構造式(x-1)~(x-5)の何れかで表される化合物とを必須の反応原料とする反応生成物なども用いることができる。また、分子内にフェノール性水酸基を1つ有する化合物の1種又は2種以上を反応原料とするノボラック型フェノール樹脂、分子内にフェノール性水酸基を少なくとも2つ有する化合物の1種又は2種以上を反応原料とするノボラック型フェノール樹脂なども用いることができる。 Further, as the phenolic hydroxyl group-containing compound, for example, a compound having one phenolic hydroxyl group in the molecule and a compound represented by any of the following structural formulas (x-1) to (x-5) are indispensable. An essential reaction between the reaction product used as the reaction raw material of the above, a compound having at least two phenolic hydroxyl groups in the molecule, and a compound represented by any of the following structural formulas (x-1) to (x-5). Reaction products used as raw materials can also be used. Further, a novolak-type phenol resin using one or more compounds having one phenolic hydroxyl group in the molecule as a reaction raw material, and one or more compounds having at least two phenolic hydroxyl compounds in the molecule. A novolak type phenol resin used as a reaction raw material can also be used.

Figure 2022006901000005
Figure 2022006901000005

[式(x-1)中、hは0又は1である。式(x-2)~(x-5)中、Rは、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子の何れかであり、iは、0又は1~4の整数である。式(x-2)、(x-3)及び(x-5)中、Zは、ビニル基、ハロメチル基、ヒドロキシメチル基、アルキルオキシメチル基の何れかである。式(x-5)中、Yは、炭素原子数1~4のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基の何れかであり、jは1~4の整数である。] [In equation (x-1), h is 0 or 1. In the formulas (x-2) to (x-5), R 3 is any one of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and a halogen atom, and i. Is 0 or an integer from 1 to 4. In the formulas (x-2), (x-3) and (x-5), Z is any one of a vinyl group, a halomethyl group, a hydroxymethyl group and an alkyloxymethyl group. In the formula (x-5), Y is any of an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an oxygen atom, a sulfur atom, and a carbonyl group, and j is an integer of 1 to 4. ]

前記分子内にフェノール性水酸基を1つ有する化合物としては、例えば、下記構造式(4-1)~(4-4)で表される化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having one phenolic hydroxyl group in the molecule include compounds represented by the following structural formulas (4-1) to (4-4).

Figure 2022006901000006
Figure 2022006901000006

上記構造式(4-1)~(4-4)において、Rは、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子の何れかであり、Rは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。また、pは、0又は1以上の整数であり、好ましくは0又は1~3の整数であり、より好ましくは0又は1であり、さらに好ましくは0である。なお、上記構造式における芳香環上の置換基の位置については、任意であり、例えば、構造式(4-2)のナフタレン環においてはいずれの環上に置換していてもよく、構造式(4-3)では、1分子中に存在するベンゼン環のいずれの環上に置換していてもよく、構造式(4-4)では、1分子中に存在するベンゼン環のいずれかの環上に置換していてもよいことを示している。 In the structural formulas (4-1) to (4-4), R 4 is any one of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and a halogen atom. , R5 are independent hydrogen atoms or methyl groups, respectively. Further, p is an integer of 0 or 1 or more, preferably an integer of 0 or 1 to 3, more preferably 0 or 1, and further preferably 0. The position of the substituent on the aromatic ring in the above structural formula is arbitrary, and for example, in the naphthalene ring of the structural formula (4-2), it may be substituted on any ring, and the structural formula ( In 4-3), it may be substituted on any ring of the benzene ring present in one molecule, and in the structural formula (4-4), it may be substituted on any ring of the benzene ring present in one molecule. Indicates that it may be replaced with.

前記分子内にフェノール性水酸基を少なくとも2つ有する化合物としては、上述の構造式(3-1)~(3-4)で表される化合物を用いることができる。 As the compound having at least two phenolic hydroxyl groups in the molecule, the compounds represented by the above-mentioned structural formulas (3-1) to (3-4) can be used.

これらのフェノール性水酸基含有化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 These phenolic hydroxyl group-containing compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記アルキレンオキサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、ペンチレンオキサイド等が挙げられる。これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが好ましい。前記アルキレンオキサイドは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, and pentylene oxide. Among these, ethylene oxide or propylene oxide is preferable because a curable resin composition having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained. The alkylene oxide can be used alone or in combination of two or more.

前記アルキレンカーボネートとしては、例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ペンチレンカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンカーボネート又はプロピレンカーボネートが好ましい。前記アルキレンカーボネートは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the alkylene carbonate include ethylene carbonate, propylene carbonate, butylene carbonate, pentylene carbonate and the like. Among these, ethylene carbonate or propylene carbonate is preferable because a curable resin composition having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained. The alkylene carbonate can be used alone or in combination of two or more.

前記N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物としては、例えば、N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-メトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。前記N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the N-alkoxyalkyl (meth) acrylamide compound include N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, and N-methoxyethyl (meth) acrylamide. , N-ethoxyethyl (meth) acrylamide, N-butoxyethyl (meth) acrylamide and the like. The N-alkoxyalkyl (meth) acrylamide compound may be used alone or in combination of two or more.

前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物(C)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid anhydride, the same ones as those exemplified as the above-mentioned polybasic acid anhydride (C) can be used, and the polybasic acid anhydride may be used alone or in combination of two or more. It can also be used together.

前記不飽和一塩基酸としては、上述の不飽和一塩基酸として例示したものと同様を用いることができ、前記不飽和一塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the unsaturated monobasic acid, the same as those exemplified as the above-mentioned unsaturated monobasic acid can be used, and the unsaturated monobasic acid can be used alone or in combination of two or more. ..

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリルアミド樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記酸基及び重合性不飽和結合を有するアクリルアミド樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒及び酸性触媒を用いてもよい。 The method for producing the acrylamide resin having the acid group and the polymerizable unsaturated bond is not particularly limited, and any method may be used for producing the acrylamide resin. In the production of the acrylamide resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, it may be carried out in an organic solvent if necessary, or a basic catalyst and an acidic catalyst may be used if necessary.

前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the organic solvent, the same ones as those exemplified as the above-mentioned organic solvent can be used, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the basic catalyst, the same catalysts as those exemplified as the above-mentioned basic catalyst can be used, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸性触媒としては、上述の酸性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the acidic catalyst, the same ones as those exemplified as the above-mentioned acidic catalyst can be used, and the acidic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するエステル樹脂としては、例えば、フェノール性水酸基含有化合物と、アルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートと、不飽和一塩基酸と、多塩基酸無水物とを反応させて得られたものが挙げられる。 The ester resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond is obtained by reacting, for example, a phenolic hydroxyl group-containing compound, an alkylene oxide or an alkylene carbonate, an unsaturated monobasic acid, and a polybasic acid anhydride. The ones that have been given are mentioned.

前記フェノール性水酸基含有化合物としては、上述のフェノール性水酸基含有化合物として例示したものと同様のものを用いることができ、前記フェノール性水酸基含有化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the phenolic hydroxyl group-containing compound, the same compounds as those exemplified for the above-mentioned phenolic hydroxyl group-containing compound can be used, and the phenolic hydroxyl group-containing compound may be used alone or in combination of two or more. You can also.

前記アルキレンオキサイドとしては、上述のアルキレンオキサイドとして例示したものと同様のものを用いることができる。これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが好ましい。前記アルキレンオキサイドは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the alkylene oxide, the same ones as those exemplified as the above-mentioned alkylene oxide can be used. Among these, ethylene oxide or propylene oxide is preferable because a curable resin composition having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained. The alkylene oxide can be used alone or in combination of two or more.

前記アルキレンカーボネートとしては、上述のアルキレンカーボネートとして例示したものと同様のものを用いることができる。これらの中でも、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性に優れた硬化物を形成可能な硬化性樹脂組成物が得られることから、エチレンカーボネート又はプロピレンカーボネートが好ましい。前記アルキレンカーボネートは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the alkylene carbonate, the same ones as those exemplified as the above-mentioned alkylene carbonate can be used. Among these, ethylene carbonate or propylene carbonate is preferable because a curable resin composition having high photosensitivity and capable of forming a cured product having excellent heat resistance, elasticity and adhesion can be obtained. The alkylene carbonate can be used alone or in combination of two or more.

前記不飽和一塩基酸としては、上述の不飽和一塩基酸として例示したものと同様を用いることができ、前記不飽和一塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the unsaturated monobasic acid, the same as those exemplified as the above-mentioned unsaturated monobasic acid can be used, and the unsaturated monobasic acid can be used alone or in combination of two or more. ..

前記多塩基酸無水物としては、上述の多塩基酸無水物(C)として例示したものと同様のものを用いることができ、前記多塩基酸無水物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the polybasic acid anhydride, the same ones as those exemplified as the above-mentioned polybasic acid anhydride (C) can be used, and the polybasic acid anhydride may be used alone or in combination of two or more. It can also be used together.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有するエステル樹脂の製造方法としては、特に限定されず、どのような方法で製造してもよい。前記酸基及び重合性不飽和結合を有するエステル樹脂の製造においては、必要に応じて有機溶剤中で行ってもよく、また、必要に応じて塩基性触媒及び酸性触媒を用いてもよい。 The method for producing the ester resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond is not particularly limited, and any method may be used for producing the ester resin. In the production of the ester resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond, it may be carried out in an organic solvent if necessary, or a basic catalyst and an acidic catalyst may be used if necessary.

前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the organic solvent, the same ones as those exemplified as the above-mentioned organic solvent can be used, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

前記塩基性触媒としては、上述の塩基性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記塩基性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the basic catalyst, the same catalysts as those exemplified as the above-mentioned basic catalyst can be used, and the basic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸性触媒としては、上述の酸性触媒として例示したものと同様のものを用いることができ、前記酸性触媒は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the acidic catalyst, the same ones as those exemplified as the above-mentioned acidic catalyst can be used, and the acidic catalyst may be used alone or in combination of two or more.

前記酸基及び重合性不飽和結合を有する樹脂の使用量は、本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂100質量部に対して、10~900質量部の範囲が好ましい。 The amount of the resin having an acid group and a polymerizable unsaturated bond is preferably in the range of 10 to 900 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention.

前記各種の(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート等の脂肪族モノ(メタ)アクリレート化合物;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチルモノ(メタ)アクリレート等の脂環型モノ(メタ)アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等の複素環型モノ(メタ)アクリレート化合物;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、フェノキシベンジル(メタ)アクリレート、フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート等の芳香族モノ(メタ)アクリレート化合物等のモノ(メタ)アクリレート化合物:前記各種のモノ(メタ)アクリレートモノマーの分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等のポリオキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性モノ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のモノ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性モノ(メタ)アクリレート化合物;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の脂肪族ジ(メタ)アクリレート化合物;1,4-シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジ(メタ)アクリレート、ノルボルナンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート等の脂環型ジ(メタ)アクリレート化合物;ビフェノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート等の芳香族ジ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のジ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入したポリオキシアルキレン変性ジ(メタ)アクリレート化合物;前記各種のジ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性ジ(メタ)アクリレート化合物;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等の脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した(ポリ)オキシアルキレン変性トリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族トリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入したラクトン変性トリ(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、(ポリ)オキシテトラメチレン鎖等の(ポリ)オキシアルキレン鎖を導入した4官能以上の(ポリ)オキシアルキレン変性ポリ(メタ)アクリレート化合物;前記脂肪族ポリ(メタ)アクリレート化合物の分子構造中に(ポリ)ラクトン構造を導入した4官能以上のラクトン変性ポリ(メタ)アクリレート化合物などが挙げられる。 Examples of the various (meth) acrylate monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, and hexyl (meth) acrylate, 2. -Alipid mono (meth) acrylate compounds such as ethylhexyl (meth) acrylate and octyl (meth) acrylate; alicyclic mono (meth) such as cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and adamantyl mono (meth) acrylate. Acrylate compounds; heterocyclic mono (meth) acrylate compounds such as glycidyl (meth) acrylate and tetrahydrofurfuryl acrylate; benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenylbenzyl (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, Aromatic mono (meth) such as phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, phenoxybenzyl (meth) acrylate, and phenylphenoxyethyl (meth) acrylate. Mono (meth) acrylate compounds such as acrylate compounds: Polyoxy such as (poly) oxyethylene chain, (poly) oxypropylene chain, and (poly) oxytetramethylene chain in the molecular structure of the various mono (meth) acrylate monomers. A (poly) oxyalkylene-modified mono (meth) acrylate compound having an alkylene chain introduced; a lactone-modified mono (meth) acrylate compound having a (poly) lactone structure introduced into the molecular structure of the various mono (meth) acrylate compounds; ethylene. An aliphatic di (meth) acrylate compound such as glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol di (meth) acrylate; 1,4-Cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, norbornandi (meth) acrylate, norbornan dimethanol di (meth) acrylate, dicyclopentanyldi (meth) acrylate, tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate, etc. Acrylate-type di (meth) acrylate compound; aromatics such as biphenol di (meth) acrylate and bisphenol di (meth) acrylate Di (meth) acrylate compounds; (poly) oxyalkylene chains such as (poly) oxyethylene chains, (poly) oxypropylene chains, and (poly) oxytetramethylene chains in the molecular structure of the various di (meth) acrylate compounds. Polyoxyalkylene-modified di (meth) acrylate compound introduced with; a lactone-modified di (meth) acrylate compound having a (poly) lactone structure introduced into the molecular structure of the various di (meth) acrylate compounds; An aliphatic tri (meth) acrylate compound such as a meta) acrylate and a glycerin tri (meth) acrylate; a (poly) oxyethylene chain, a (poly) oxypropylene chain, (poly) oxypropylene chain in the molecular structure of the aliphatic tri (meth) acrylate compound. A (poly) oxyalkylene-modified tri (meth) acrylate compound introduced with a (poly) oxyalkylene chain such as a poly) oxytetramethylene chain; a (poly) lactone structure in the molecular structure of the aliphatic tri (meth) acrylate compound. Introduced lactone-modified tri (meth) acrylate compound; tetrafunctional or higher functional aliphatic poly (meth) acrylate compound such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. 4 functional or higher in which (poly) oxyalkylene chains such as (poly) oxyethylene chain, (poly) oxypropylene chain, and (poly) oxytetramethylene chain are introduced into the molecular structure of the aliphatic poly (meth) acrylate compound. (Poly) oxyalkylene-modified poly (meth) acrylate compound; a tetrafunctional or higher functional lactone-modified poly (meth) acrylate compound having a (poly) lactone structure introduced into the molecular structure of the aliphatic poly (meth) acrylate compound. Can be mentioned.

また、前記その他の(メタ)アクリレートモノマーとしては、上述したものの他に、フェノール化合物と、環状カーボネート化合物又は環状エーテル化合物と、不飽和モノカルボン酸とを必須の反応原料とする(メタ)アクリレートモノマーを用いることができる。 Further, as the other (meth) acrylate monomer, in addition to the above-mentioned one, a (meth) acrylate monomer containing a phenol compound, a cyclic carbonate compound or a cyclic ether compound, and an unsaturated monocarboxylic acid as essential reaction raw materials. Can be used.

前記フェノール化合物としては、例えば、クレゾール、キシレノール、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン、3-メチルカテコール、4-メチルカテコール、4-アリルピロカテコール、1,2,3-トリヒドロキシベンゼン、1,2,4-トリヒドロキシベンゼン、1-ナフトール、2-ナフトール、1,3-ナフタレンジオール、1,5-ナフタレンジオール、2,6-ナフタレンジオール、2,7-ナフタレンジオール、水添ビスフェノール、水添ビフェノール、ポリフェニレンエーテル型ジオール、ポリナフチレンエーテル型ジオール、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラック型樹脂、ナフトールノボラック型樹脂、フェノールアラルキル型樹脂、ナフトールアラルキル型樹脂、シクロ環構造含有フェノール樹脂等が挙げられる。 Examples of the phenol compound include cresol, xylenol, catechol, resorcinol, hydroquinone, 3-methylcatechol, 4-methylcatechol, 4-allylpyrocatechol, 1,2,3-trihydroxybenzene, 1,2,4-. Trihydroxybenzene, 1-naphthol, 2-naphthol, 1,3-naphthalenediol, 1,5-naphthalenediol, 2,6-naphthalenediol, 2,7-naphthalenediol, hydrogenated bisphenol, hydrogenated biphenol, polyphenylene ether Examples thereof include type diols, polynaphthylene ether type diols, phenol novolac resins, cresol novolak resins, bisphenol novolak type resins, naphthol novolak type resins, phenol aralkyl type resins, naphthol aralkyl type resins, cycloring structure-containing phenol resins and the like.

前記環状カーボネート化合物としては、例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ペンチレンカーボネート等が挙げられる。これらの環状カーボネート化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the cyclic carbonate compound include ethylene carbonate, propylene carbonate, butylene carbonate, and pentylene carbonate. These cyclic carbonate compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記環状エーテル化合物としては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、テトラヒドロフラン等が挙げられる。これらの環状エーテル化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the cyclic ether compound include ethylene oxide, propylene oxide, and tetrahydrofuran. These cyclic ether compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記不飽和モノカルボン酸としては、上述の不飽和一塩基酸として例示したものと同様のものを用いることができる。 As the unsaturated monocarboxylic acid, the same ones as exemplified as the above-mentioned unsaturated monocarboxylic acid can be used.

前記その他の(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物中に90質量%以下が好ましい。 The content of the other (meth) acrylate monomer is preferably 90% by mass or less in the curable resin composition of the present invention.

また、本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、硬化剤、硬化促進剤、紫外線吸収剤、有機溶剤、無機質充填材やポリマー微粒子、顔料、消泡剤、粘度調整剤、レベリング剤、難燃剤、保存安定化剤等の各種添加剤を含有することもできる。 Further, the curable resin composition of the present invention contains, if necessary, a curing agent, a curing accelerator, an ultraviolet absorber, an organic solvent, an inorganic filler, polymer fine particles, a pigment, a defoaming agent, a viscosity modifier, and leveling. It can also contain various additives such as an agent, a flame retardant, and a storage stabilizer.

前記硬化剤としては、例えば、多塩基酸、不飽和一塩基酸、アミン化合物、アミド化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ポリオール化合物、エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the curing agent include polybasic acids, unsaturated monobasic acids, amine compounds, amide compounds, azo compounds, organic peroxides, polyol compounds, epoxy resins and the like.

前記多塩基酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-ジカルボン酸、4-(2,5-ジオキソテトラヒドロフラン-3-イル)-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-1,2-ジカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、ナフタレントリカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等が挙げられる。また、前記多塩基酸としては、例えば、共役ジエン系ビニルモノマーとアクリロニトリルとの共重合体であって、その分子中にカルボキシル基を有する重合体も用いることができる。これらの多塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polybasic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, and terephthalic acid. , Tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, bicyclo [2 .2.1] Heptane-2,3-dicarboxylic acid, methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic acid, 4- (2,5-dioxotetraxoxy-3-yl) -1, 2,3,4-Tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, naphthalenetricarboxylic acid, naphthalenetetracarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, biphenyltricarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, Examples thereof include benzophenone tetracarboxylic acid. Further, as the polybasic acid, for example, a copolymer of a conjugated diene vinyl monomer and acrylonitrile, which has a carboxyl group in its molecule, can also be used. These polybasic acids can be used alone or in combination of two or more.

前記不飽和一塩基酸としては、上述の不飽和一塩基酸として例示したものと同様のものを用いることができ、前記不飽和一塩基酸は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the unsaturated monobasic acid, the same ones as those exemplified as the above-mentioned unsaturated monobasic acid can be used, and the unsaturated monobasic acid may be used alone or in combination of two or more. You can also.

前記アミン化合物としては、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ-ル、BF3-アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられる。これらのアミン化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the amine compound include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, BF3-amine complex, and guanidine derivative. These amine compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記アミド系化合物としては、例えば、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられる。これらのアミド化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the amide compound include a polyamide resin synthesized from a dimer of dicyandiamide and linolenic acid and ethylenediamine. These amide compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記アゾ化合物としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。 Examples of the azo compound include azobisisobutyronitrile.

前記有機過酸化物としては、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネート、アルキルパーオキシカーボネート等が挙げられる。これらの有機過酸化物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic peroxide include ketone peroxides, peroxyketals, hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxyesters, peroxydicarbonates, alkylperoxycarbonates and the like. These organic peroxides can be used alone or in combination of two or more.

前記ポリオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、3-メチル-1,3-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6-ヘキサンジオール、グリセリン、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールメタンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート等のポリオールモノマー;前記ポリオールモノマーと、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸等のジカルボン酸との共縮合によって得られるポリエステルポリオール;前記ポリオールモノマーと、ε-カプロラクトン、δ-バレロラクトン、3-メチル-δ-バレロラクトン等の種々のラクトンとの重縮合反応によって得られるラクトン型ポリエステルポリオール;前記ポリオールモノマーと、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラン、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル等の環状エーテル化合物との開環重合によって得られるポリエーテルポリオールなどが挙げられる。これらのポリオール化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the polyol compound include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 3-methyl-1,3-butanediol, 1, 5-Pentanediol, neopentylglycol, 1,6-hexanediol, glycerin, glycerin mono (meth) acrylate, trimethylolethane, trimethylolmethane mono (meth) acrylate, trimethylolpropane, trimethylolpropane mono (meth) acrylate , Pentaerythritol mono (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate and other polyol monomers; , Hexahydrophthalic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, polyester polyol obtained by cocondensation with dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid; , Δ-Valerolactone, 3-methyl-δ-Valerolactone and other lactone-type polyester polyols obtained by polycondensation reaction with various lactones; Examples thereof include a polyether polyol obtained by ring-opening polymerization with a cyclic ether compound such as ether. These polyol compounds may be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ樹脂としては、上述のエポキシ樹脂として例示したものと同様のものを用いることができ、前記エポキシ樹脂は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the epoxy resin, the same ones as those exemplified as the above-mentioned epoxy resin can be used, and the epoxy resin may be used alone or in combination of two or more.

前記硬化促進剤としては、硬化反応を促進するものであり、例えば、リン系化合物、アミン系化合物、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、前記硬化促進剤の添加量は、例えば、前記硬化性樹脂組成物の固形分中に0.01~10質量%の範囲で用いることが好ましい。 Examples of the curing accelerator include phosphorus-based compounds, amine-based compounds, imidazoles, organic acid metal salts, Lewis acids, amine complex salts, and the like, which promote the curing reaction. These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. The amount of the curing accelerator added is preferably in the range of 0.01 to 10% by mass in the solid content of the curable resin composition, for example.

前記紫外線吸収剤としては、例えば、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン等のトリアジン誘導体、2-(2’-キサンテンカルボキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-o-ニトロベンジロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-キサンテンカルボキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン、2-o-ニトロベンジロキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the ultraviolet absorber include 2- [4-{(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy} -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1. , 3,5-Triazine, 2- [4-{(2-Hydroxy-3-tridecyloxypropyl) oxy} -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1, Triazine derivatives such as 3,5-triazine, 2- (2'-xanthencarboxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-o-nitrobenzyloxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2 -Xanthenecarboxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2-o-nitrobenzyloxy-4-dodecyloxybenzophenone and the like can be mentioned. These UV absorbers can be used alone or in combination of two or more.

前記有機溶剤としては、上述の有機溶剤として例示したものと同様のものを用いることができ、前記有機溶剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 As the organic solvent, the same ones as those exemplified as the above-mentioned organic solvent can be used, and the organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

前記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。 Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide and the like.

前記顔料としては、公知慣用の無機顔料や有機顔料を使用することができる。 As the pigment, a known and commonly used inorganic pigment or organic pigment can be used.

前記無機顔料としては、例えば、白色顔料、アンチモンレッド、ベンガラ、カドミウムレッド、カドミウムイエロー、コバルトブルー、紺青、群青、カーボンブラック、黒鉛等が挙げられる。これらの無機顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the inorganic pigment include white pigment, antimony red, red iron oxide, cadmium red, cadmium yellow, cobalt blue, prussian blue, ultramarine, carbon black, graphite and the like. These inorganic pigments can be used alone or in combination of two or more.

前記白色顔料としては、例えば、酸化チタン,酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、硫化亜鉛等が挙げられる。 Examples of the white pigment include titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, barium sulfate, silica, talc, mica, aluminum hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, hollow resin particles, and zinc sulfide. And so on.

前記有機顔料としては、例えば、キナクリドン顔料、キナクリドンキノン顔料、ジオキサジン顔料、フタロシアニン顔料、アントラピリミジン顔料、アンサンスロン顔料、インダンスロン顔料、フラバンスロン顔料、ペリレン顔料、ジケトピロロピロール顔料、ペリノン顔料、キノフタロン顔料、アントラキノン顔料、チオインジゴ顔料、ベンツイミダゾロン顔料、アゾ顔料等が挙げられる。これらの有機顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic pigment include quinacridone pigments, quinacridone quinone pigments, dioxazine pigments, phthalocyanine pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indanslon pigments, flavanthron pigments, perylene pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, and perinone pigments. Examples thereof include quinophthalone pigments, anthraquinone pigments, thioindigo pigments, benzimidazolone pigments, and azo pigments. These organic pigments can be used alone or in combination of two or more.

前記難燃剤としては、例えば、赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム、リン酸アミド等の無機リン化合物;リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,5―ジヒドロオキシフェニル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド、10-(2,7-ジヒドロオキシナフチル)-10H-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキシド等の環状有機リン化合物、及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等の有機リン化合物;トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等の窒素系難燃剤;シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等のシリコーン系難燃剤;金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等の無機難燃剤などが挙げられる。これらの難燃剤は、単独でも用いることも2種以上を併用することもできる。また、これら難燃剤を用いる場合は、全樹脂組成物中0.1~20質量%の範囲であることが好ましい。 Examples of the flame retardant include red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, ammonium phosphate such as ammonium polyphosphate, and inorganic phosphorus compounds such as phosphate amide; phosphoric acid ester compounds and phosphoruses. Acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphin oxide compounds, phosphoran compounds, organonitrous phosphorus compounds, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,5-dihydrooxy) Cyclic organics such as phenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (2,7-dihydrooxynaphthyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide Organophosphorus compounds such as phosphorus compounds and derivatives obtained by reacting them with compounds such as epoxy resins and phenol resins; nitrogen-based flame retardants such as triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds and phenothiazine; silicone oils, silicone rubbers, Silicone-based flame retardants such as silicone resins; examples thereof include metal hydroxides, metal oxides, metal carbonate compounds, metal powders, boron compounds, and inorganic flame retardants such as low melting point glass. These flame retardants may be used alone or in combination of two or more. When these flame retardants are used, it is preferably in the range of 0.1 to 20% by mass in the total resin composition.

本発明の硬化物は、前記硬化性樹脂組成物に、活性エネルギー線を照射することで得ることができる。前記活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線が挙げられる。また、前記活性エネルギー線として、紫外線を用いる場合、紫外線による硬化反応を効率よく行う上で、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で照射してもよく、空気雰囲気下で照射してもよい。 The cured product of the present invention can be obtained by irradiating the curable resin composition with active energy rays. Examples of the active energy ray include ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. When ultraviolet rays are used as the active energy rays, they may be irradiated in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or in an air atmosphere in order to efficiently carry out the curing reaction by the ultraviolet rays.

紫外線発生源としては、実用性、経済性の面から紫外線ランプが一般的に用いられている。具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ガリウムランプ、メタルハライドランプ、太陽光、LED等が挙げられる。 As an ultraviolet ray generation source, an ultraviolet lamp is generally used from the viewpoint of practicality and economy. Specific examples thereof include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, gallium lamps, metal halide lamps, sunlight, and LEDs.

前記活性エネルギー線の積算光量は、特に制限されないが、10~5,000mJ/cmであることが好ましく、50~1,000mJ/cmであることがより好ましい。積算光量が上記範囲であると、未硬化部分の発生の防止又は抑制ができることから好ましい。 The integrated light amount of the active energy rays is not particularly limited, but is preferably 10 to 5,000 mJ / cm 2 , and more preferably 50 to 1,000 mJ / cm 2 . When the integrated light amount is in the above range, it is preferable because the generation of the uncured portion can be prevented or suppressed.

なお、前記活性エネルギー線の照射は、一段階で行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。 The irradiation of the active energy rays may be performed in one step or may be divided into two or more steps.

また、本発明の硬化物は、高い光感度を有し、優れた耐熱性、弾性及び密着性を有することから、例えば、半導体デバイス用途における、ソルダーレジスト、層間絶縁材料、パッケージ材、アンダーフィル材、回路素子等のパッケージ接着層や、集積回路素子と回路基板の接着層として好適に用いることができる。また、LCD、OELDに代表される薄型ディスプレイ用途における、薄膜トランジスタ保護膜、液晶カラーフィルタ保護膜、カラーフィルタ用顔料レジスト、ブラックマトリックス用レジスト、スペーサー等に好適に用いることができる。これらの中でも、特にソルダーレジスト用途に好適に用いることができる。 Further, since the cured product of the present invention has high photosensitivity and excellent heat resistance, elasticity and adhesion, for example, a solder resist, an interlayer insulating material, a package material and an underfill material in semiconductor device applications. , It can be suitably used as a package adhesive layer for circuit elements and the like, and as an adhesive layer between an integrated circuit element and a circuit board. Further, it can be suitably used as a thin film transistor protective film, a liquid crystal color filter protective film, a pigment resist for a color filter, a resist for a black matrix, a spacer and the like in thin display applications typified by LCDs and OELDs. Among these, it can be particularly preferably used for solder resist applications.

本発明のソルダーレジスト用樹脂材料は、前記硬化性樹脂組成物からなるものである。 The resin material for solder resist of the present invention comprises the curable resin composition.

本発明のレジスト部材は、例えば、前記ソルダーレジスト用樹脂材料を基材上に塗布し、60~100℃程度の温度範囲で有機溶媒を揮発乾燥させた後、所望のパターンが形成されたフォトマスクを通して活性エネルギー線にて露光させ、アルカリ水溶液にて未露光部を現像し、更に140~200℃程度の温度範囲で加熱硬化させて得ることができる。 The resist member of the present invention is, for example, a photomask in which the resin material for solder resist is applied onto a substrate, an organic solvent is volatilized and dried in a temperature range of about 60 to 100 ° C., and then a desired pattern is formed. It can be obtained by exposing the unexposed portion with an alkaline aqueous solution, developing the unexposed portion with an alkaline aqueous solution, and further heating and curing the unexposed portion in a temperature range of about 140 to 200 ° C.

前記基材としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔等の金属箔などが挙げられる。 Examples of the base material include metal foils such as copper foil and aluminum foil.

以下、実施例と比較例とにより、本発明を具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

なお、本実施例において、重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミッションクロマトグラフ(GPC)を用い、下記の条件により測定した値である。 In this example, the weight average molecular weight (Mw) is a value measured under the following conditions using a gel permission chromatograph (GPC).

測定装置 ; 東ソー株式会社製 HLC-8220
カラム ; 東ソー株式会社製ガードカラムHXL-H
+東ソー株式会社製 TSKgel G5000HXL
+東ソー株式会社製 TSKgel G4000HXL
+東ソー株式会社製 TSKgel G3000HXL
+東ソー株式会社製 TSKgel G2000HXL
検出器 ; RI(示差屈折計)
データ処理:東ソー株式会社製 SC-8010
測定条件: カラム温度 40℃
溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準 ;ポリスチレン
試料 ;樹脂固形分換算で0.4質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(100μl)
Measuring device; HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation
Column; Guard column H XL -H manufactured by Tosoh Corporation
+ TSKgel G5000HXL manufactured by Tosoh Corporation
+ TSKgel G4000HXL manufactured by Tosoh Corporation
+ TSKgel G3000HXL manufactured by Tosoh Corporation
+ TSKgel G2000HXL manufactured by Tosoh Corporation
Detector; RI (differential refractometer)
Data processing: SC-8010 manufactured by Tosoh Corporation
Measurement conditions: Column temperature 40 ° C
Solvent tetrahydrofuran
Flow velocity 1.0 ml / min Standard; Polystyrene sample; 0.4% by mass in terms of resin solid content Tetrahydrofuran solution filtered through a microfilter (100 μl)

(合成例1:フェニルベンジルアクリレート組成物(1)の製造)
攪拌機、冷却管、温度計、塩化水素ガス導入装置を備えたフラスコに、ジフェニル709質量部、パラホルムアルデヒド276質量部、酢酸1381質量部、濃塩酸958質量部を仕込み、80℃まで昇温した。仕込み溶液が80℃であることを確認後、木下式ガラスボールフィルターを使って塩化水素ガスを20g/hr速度で仕込み溶液に導入した。仕込み溶液への塩化水素ガスの溶解が飽和であることを確認後、リン酸1061質量部を1時間かけて滴下し、更に、30時間反応を行った。反応終了後、直ちに反応溶液から下層を取り除き、有機層にトルエン2300質量部を添加し、有機層を400質量部の12.5%水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、蒸留水で洗浄した。有機層を留去後、クロロ中間体(1)を得た。次いで、反応溶媒であるジメチルホルムアミド1603質量部に溶解し、炭酸カリウム372質量部およびメトキノンを全量に対して300ppmになるように添加した。中間体溶液を40℃に昇温後、アクリル酸323質量部を1.5時間で中間体溶液に滴下した。滴下終了後、2時間かけて80℃まで昇温し、80℃にて3時間加熱撹拌した。得られた溶液に水3400質量部およびトルエン1800質量部を添加し抽出を行った後、有機層を水層が中性になるまで洗浄した。有機層を濃縮して液状のフェニルベンジルアクリレート組成物(1)を得た。
(Synthesis Example 1: Production of Phenylbenzyl Acrylate Composition (1))
A flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a thermometer, and a hydrogen chloride gas introduction device was charged with 709 parts by mass of diphenyl, 276 parts by mass of paraformaldehyde, 1381 parts by mass of acetic acid, and 958 parts by mass of concentrated hydrochloric acid, and the temperature was raised to 80 ° C. After confirming that the charged solution was at 80 ° C., hydrogen chloride gas was introduced into the charged solution at a rate of 20 g / hr using a Kinoshita type glass ball filter. After confirming that the dissolution of hydrogen chloride gas in the charging solution was saturated, 1061 parts by mass of phosphoric acid was added dropwise over 1 hour, and the reaction was further carried out for 30 hours. Immediately after the reaction was completed, the lower layer was removed from the reaction solution, 2300 parts by mass of toluene was added to the organic layer, and the organic layer was washed with 400 parts by mass of 12.5% sodium hydroxide aqueous solution, saturated sodium hydrogen carbonate aqueous solution, and distilled water. .. After distilling off the organic layer, a chloro intermediate (1) was obtained. Then, it was dissolved in 1603 parts by mass of dimethylformamide as a reaction solvent, and 372 parts by mass of potassium carbonate and methquinone were added so as to be 300 ppm with respect to the total amount. After raising the temperature of the intermediate solution to 40 ° C., 323 parts by mass of acrylic acid was added dropwise to the intermediate solution in 1.5 hours. After completion of the dropping, the temperature was raised to 80 ° C. over 2 hours, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. 3400 parts by mass of water and 1800 parts by mass of toluene were added to the obtained solution for extraction, and then the organic layer was washed until the aqueous layer became neutral. The organic layer was concentrated to obtain a liquid phenylbenzyl acrylate composition (1).

(合成例2:フェニルベンジルメタクリレート組成物(1)の製造)
攪拌機、冷却管、温度計、塩化水素ガス導入装置を備えたフラスコに、合成例1中で得たクロロ中間体(1)908質量部を反応溶媒であるジメチルホルムアミド1603質量部に溶解し、炭酸カリウム372質量部およびメトキノンを全量に対して300ppmになるように添加した。中間体溶液を40℃に昇温後、メタクリル酸386質量部を1.5時間で中間体溶液に滴下した。滴下終了後、2時間かけて80℃まで昇温し、80℃にて3時間加熱撹拌した。得られた溶液に水3400質量部およびトルエン1800質量部を添加し抽出を行った後、有機層を水層が中性になるまで洗浄した。有機層を濃縮して液状のフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)を得た。
(Synthesis Example 2: Production of Phenylbenzylmethacrylate Composition (1))
In a flask equipped with a stirrer, a cooling tube, a thermometer, and a hydrogen chloride gas introduction device, 908 parts by mass of the chloro intermediate (1) obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in 1603 parts by mass of dimethylformamide as a reaction solvent, and carbon dioxide was added. 372 parts by mass of potassium and methquinone were added so as to be 300 ppm with respect to the total amount. After raising the temperature of the intermediate solution to 40 ° C., 386 parts by mass of methacrylic acid was added dropwise to the intermediate solution in 1.5 hours. After completion of the dropping, the temperature was raised to 80 ° C. over 2 hours, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. 3400 parts by mass of water and 1800 parts by mass of toluene were added to the obtained solution for extraction, and then the organic layer was washed until the aqueous layer became neutral. The organic layer was concentrated to obtain a liquid phenylbenzyl methacrylate composition (1).

(合成例3:酸基含有エポキシアクリレート樹脂(1)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート101質量部を入れ、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON N-680」、エポキシ当量:214)428質量部を溶解し、酸化防止剤としてジブチルヒドロキシトルエン4質量部、熱重合禁止剤としてメトキノン0.4質量部加えた後、アクリル酸144質量部、トリフェニルホスフィン1.6質量部を添加し、空気を吹き込みながら120℃で10時間エステル化反応を行なった。その後、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート311質量部、テトラヒドロ無水フタル酸160質量部を加え110℃で2.5時間反応し、目的の酸基含有エポキシアクリレート樹脂(1)を得た。この酸基含有エポキシアクリレート樹脂(1)の固形分酸価は85mgKOH/gであった。
(Synthesis Example 3: Production of Acid Group-Containing Epoxy Acrylate Resin (1))
Put 101 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate in a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux cooler, and orthocresol novolac type epoxy resin (“EPICLON N-680” manufactured by DIC Co., Ltd., epoxy equivalent: 214) 428. After dissolving 4 parts by mass of dibutyl hydroxytoluene as an antioxidant and 0.4 parts by mass of methquinone as a thermal polymerization inhibitor, 144 parts by mass of acrylic acid and 1.6 parts by mass of triphenylphosphine were added. The esterification reaction was carried out at 120 ° C. for 10 hours while blowing air. Then, 311 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate and 160 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride were added and reacted at 110 ° C. for 2.5 hours to obtain the desired acid group-containing epoxy acrylate resin (1). The solid acid value of the acid group-containing epoxy acrylate resin (1) was 85 mgKOH / g.

(実施例1:酸基含有アクリレート樹脂(1)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A1)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(1)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(1)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、82mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、23,800であり、二重結合当量は、344であった。なお、本発明において、二重結合当量は、原料の仕込み量より算出した計算値である。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A1)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A1)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 1: Production of acid group-containing acrylate resin (1))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A1). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (1). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (1) is 58.5% by mass, the solid acid value is 82 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 23,800, and the double. The binding equivalent was 344. In the present invention, the double bond equivalent is a calculated value calculated from the charged amount of the raw material. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A1) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A1) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例2:酸基含有アクリレート樹脂(2)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル8質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)20質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A2)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(2)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(2)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、83mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、23,950であり、二重結合当量は、344であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A2)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A2)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 2: Production of acid group-containing acrylate resin (2))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 8 parts by mass of methyl methacrylate, 20 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A2). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (2). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (2) is 58.5% by mass, the solid acid value is 83 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 23,950, and the double. The binding equivalent was 344. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A2) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A2) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例3:酸基含有アクリレート樹脂(3)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート69質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)31質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A3)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸35質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸36.2質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(3)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(3)の不揮発分は、58.1質量%であり、固形分酸価は、80mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、24,130であり、二重結合当量は、352であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A3)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A3)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 3: Production of acid group-containing acrylate resin (3))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 69 parts by mass of glycidyl methacrylate, 31 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate (Japan). 5 parts by mass of "Perbutyl O" manufactured by Yushi Co., Ltd.) was mixed in advance and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A3). Next, 0.5 part by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 part by mass of methylhydroquinone, 35 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 part by mass of triphenylphosphine were charged, and the reaction was carried out at 120 ° C. for 10 hours while blowing air and stirring. I let you. Then, 36.2 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (3). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (3) is 58.1% by mass, the solid acid value is 80 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 24,130, and the double. The binding equivalent was 352. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A3) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A3) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例4:酸基含有アクリレート樹脂(4)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル2質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)26質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A4)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(4)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(4)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、81mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、24,050であり、二重結合当量は、344であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A4)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A4)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 4: Production of acid group-containing acrylate resin (4))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 2 parts by mass of methyl methacrylate, 26 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A4). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (4). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (4) is 58.5% by mass, the solid acid value is 81 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 24,050, and the double. The binding equivalent was 344. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A4) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A4) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例5:酸基含有アクリレート樹脂(5)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル25質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)3質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A5)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(5)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(5)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、82mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、23,510であり、二重結合当量は、344であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A5)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A5)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 5: Production of acid group-containing acrylate resin (5))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 25 parts by mass of methyl methacrylate, 3 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A5). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (5). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (5) is 58.5% by mass, the solid acid value is 82 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 23,510, and the double. The binding equivalent was 344. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A5) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A5) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例6:酸基含有アクリレート樹脂(6)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、アゾビスイソブチロニトリル5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A6)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(6)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(6)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、83mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、24,080であり、二重結合当量は、344であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A6)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A6)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 6: Production of acid group-containing acrylate resin (6))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and 5 parts of azobisisobutyronitrile. The parts by mass were mixed in advance and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A6). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (6). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (6) is 58.5% by mass, the solid acid value is 83 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 24,080, and the double. The binding equivalent was 344. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A6) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A6) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例7:酸基含有アクリレート樹脂(7)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A7)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、テトラブチルホスホニウムクロライド0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で16時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(7)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(7)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、84mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、76,060であり、二重結合当量は、344であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A7)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A7)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 7: Production of acid group-containing acrylate resin (7))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A7). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of tetrabutylphosphonium chloride were charged, and air was blown into the mixture at 120 ° C. with stirring. The reaction was carried out for 16 hours. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (7). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (7) is 58.5% by mass, the solid acid value is 84 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 76,060, and the double. The binding equivalent was 344. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A7) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A7) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例8:酸基含有アクリレート樹脂(8)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A8)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリエチルアミン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で12時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(8)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(8)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、82mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、22,580であり、二重結合当量は、344であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A8)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A8)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 8: Production of acid group-containing acrylate resin (8))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A8). Next, 0.5 part by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 part by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 part by mass of triethylamine were charged, and the reaction was carried out at 120 ° C. for 12 hours while blowing air and stirring. I let you. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (8). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (8) is 58.5% by mass, the solid acid value is 82 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 22,580, and the double. The binding equivalent was 344. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A8) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A8) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例9:酸基含有アクリレート樹脂(9)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A9)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、ヘキサヒドロイソベンゾフラン-1,3-ジオン38.3質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(9)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(9)の不揮発分は、58.6質量%であり、固形分酸価は、81mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、22,940であり、二重結合当量は、345であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A9)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A9)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するヘキサヒドロイソベンゾフラン-1,3-ジオンのモル数は0.49モルであった。
(Example 9: Production of acid group-containing acrylate resin (9))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A9). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Next, 38.3 parts by mass of hexahydroisobenzofuran-1,3-dione was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (9). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (9) is 58.6% by mass, the solid acid value is 81 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 22,940, and the double. The binding equivalent was 345. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A9) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A9) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of hexahydroisobenzofuran-1,3-dione was 0.49 mol.

(実施例10:酸基含有アクリレート樹脂(10)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A10)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、無水コハク酸22.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(10)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(10)の不揮発分は、56.4質量%であり、固形分酸価は、85mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、22,150であり、二重結合当量は、345であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A10)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A10)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当する無水コハク酸のモル数は0.45モルであった。
(Example 10: Production of acid group-containing acrylate resin (10))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A10). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Next, 22.8 parts by mass of succinic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (10). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (10) is 56.4% by mass, the solid acid value is 85 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 22,150, and the double. The binding equivalent was 345. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A10) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A10) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of succinic anhydride was 0.45 mol.

(実施例11:酸基含有アクリレート樹脂(11)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート80質量部、メタクリル酸メチル10質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A11)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸40.6質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で11時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸38.5質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート18.5質量部を仕込み、撹拌した後、目的の酸基含有アクリレート樹脂(11)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(11)の不揮発分は、55.8質量%であり、固形分酸価は、83mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、23,820であり、二重結合当量は、318であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A11)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A11)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.45モルであった。
(Example 11: Production of acid group-containing acrylate resin (11))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 80 parts by mass of glycidyl methacrylate, 10 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A11). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 40.6 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 11 parts. Reacted for time. Next, 38.5 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours, 18.5 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was charged, and after stirring, the desired acid group-containing acrylate resin (11) was added. Obtained. The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (11) is 55.8% by mass, the solid acid value is 83 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 23,820, and the double. The binding equivalent was 318. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A11) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A11) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.45 mol.

(実施例12:酸基含有アクリレート樹脂(12)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート90質量部、メタクリル酸メチル5質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)5質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A12)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.6質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸45.6質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で12時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸39.5質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート29.7質量部を仕込み、撹拌した後、目的の酸基含有アクリレート樹脂(12)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(12)の不揮発分は、54.8質量%であり、固形分酸価は、82mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、24,220であり、二重結合当量は、292であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A12)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A12)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.41モルであった。
(Example 12: Production of acid group-containing acrylate resin (12))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 90 parts by mass of glycidyl methacrylate, 5 parts by mass of methyl methacrylate, 5 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. Hold at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A12). Next, 0.6 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 45.6 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. to 12 parts. Reacted for time. Next, 39.5 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours, 29.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was charged, and after stirring, the desired acid group-containing acrylate resin (12) was added. Obtained. The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (12) is 54.8% by mass, the solid acid value is 82 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 24,220, and the double. The binding equivalent was 292. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A12) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A12) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.41 mol.

(実施例13:酸基含有アクリレート樹脂(13)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A13)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸32.1質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で7時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート16.8質量部を仕込み、撹拌した後、目的の酸基含有アクリレート樹脂(13)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(13)の不揮発分は、54.8質量%であり、固形分酸価は、73mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、33,590であり、二重結合当量は、381であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A13)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、0.88であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A13)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 13: Production of acid group-containing acrylate resin (13))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A13). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 32.1 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 7 parts. Reacted for time. Next, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added, reacted at 110 ° C. for 5 hours, 16.8 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was charged, and the mixture was stirred, and then the desired acid group-containing acrylate resin (13) was added. Obtained. The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (13) is 54.8% by mass, the solid acid value is 73 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 33,590, and the double. The binding equivalent was 381. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A13) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 0.88. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A13) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例14:酸基含有アクリレート樹脂(14)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A14)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸40.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で8時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(14)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(14)の不揮発分は、59.1質量%であり、固形分酸価は、90mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、20,930であり、二重結合当量は、317であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A14)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.11であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A14)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 14: Production of acid group-containing acrylate resin (14))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A14). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 40.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. at 8%. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (14). The non-volatile content of this acid group-containing acrylate resin (14) is 59.1% by mass, the solid content acid value is 90 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 20,930, and the double. The binding equivalent was 317. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A14) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.11. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A14) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例15:酸基含有アクリレート樹脂(15)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート46質量部、メタクリル酸メチル44質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A15)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸23.3質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で8時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸34.5質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(15)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(15)の不揮発分は、56.1質量%であり、固形分酸価は、84mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、19,390であり、二重結合当量は、487であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A15)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A15)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.70モルであった。
(Example 15: Production of acid group-containing acrylate resin (15))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 46 parts by mass of glycidyl methacrylate, 44 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A15). Next, 0.5 part by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 part by mass of methylhydroquinone, 23.3 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 part by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. at 8%. Reacted for time. Then, 34.5 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (15). The non-volatile content of this acid group-containing acrylate resin (15) is 56.1% by mass, the solid content acid value is 84 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 19,390, and the double. The binding equivalent was 487. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A15) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A15) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.70 mol.

(実施例16:酸基含有アクリレート樹脂(16)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート44質量部、メタクリル酸メチル46質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A16)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸22.3質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で8時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸34.4質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(16)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(16)の不揮発分は、56質量%であり、固形分酸価は、85mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、17,630であり、二重結合当量は、506であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A16)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A16)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.73モルであった。
(Example 16: Production of acid group-containing acrylate resin (16))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 44 parts by mass of glycidyl methacrylate, 46 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A16). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 22.3 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. at 8%. Reacted for time. Then, 34.4 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (16). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (16) is 56% by mass, the solid acid value is 85 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 17,630, and the double bond equivalent. Was 506. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A16) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A16) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.73 mol.

(実施例17:酸基含有アクリレート樹脂(17)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A17)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸23.9質量部を添加し、110℃で4時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(17)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(17)の不揮発分は、56.5質量%であり、固形分酸価は、57mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、20,390であり、二重結合当量は、316であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A17)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A17)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.31モルであった。
(Example 17: Production of acid group-containing acrylate resin (17))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A17). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 23.9 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 4 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (17). The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (17) is 56.5% by mass, the solid acid value is 57 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 20,390, and the double. The binding equivalent was 316. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A17) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A17) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.31 mol.

(実施例18:酸基含有アクリレート樹脂(18)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A18)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.6質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で9時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸69.4質量部を添加し、110℃で6時間反応させ、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート46.2質量部を仕込み、撹拌した後、目的の酸基含有アクリレート樹脂(18)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(18)の不揮発分は、54.8質量%であり、固形分酸価は、128mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、23,820であり、二重結合当量は、406であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A18)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A18)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.90モルであった。
(Example 18: Production of acid group-containing acrylate resin (18))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. Hold at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A18). Next, 0.6 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 9 parts. Reacted for time. Next, 69.4 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 6 hours, 46.2 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was charged, and after stirring, the desired acid group-containing acrylate resin (18) was added. Obtained. The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (18) is 54.8% by mass, the solid acid value is 128 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 23,820, and the double. The binding equivalent was 406. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A18) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A18) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.90 mol.

(実施例19:酸基含有アクリレート樹脂(19)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A19)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.5質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で12時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸18.5質量部を添加し、110℃で4時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(19)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(19)の不揮発分は、55.7質量%であり、固形分酸価は、47mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、19,160であり、二重結合当量は、306であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A19)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A19)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.24モルであった。
(Example 19: Production of acid group-containing acrylate resin (19))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. Hold at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A19). Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.5 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. to 12 parts. Reacted for time. Then, 18.5 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 4 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (19). The non-volatile content of this acid group-containing acrylate resin (19) is 55.7% by mass, the solid acid value is 47 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 19,160, and the double. The binding equivalent was 306. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A19) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A19) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.24 mol.

(実施例20:酸基含有アクリレート樹脂(20)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A20)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.6質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.7質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で9時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸74質量部を添加し、110℃で6時間反応させ、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート50質量部を仕込み、撹拌した後、目的の酸基含有アクリレート樹脂(20)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(20)の不揮発分は、54.8質量%であり、固形分酸価は、134mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、23,510であり、二重結合当量は、415であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A20)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A20)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.96モルであった。
(Example 20: Production of acid group-containing acrylate resin (20))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A20). Next, 0.6 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.7 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 9 parts. Reacted for time. Next, 74 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 6 hours to charge 50 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and after stirring, the desired acid group-containing acrylate resin (20) was obtained. The non-volatile content of the acid group-containing acrylate resin (20) is 54.8% by mass, the solid acid value is 134 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 23,510, and the double. The binding equivalent was 415. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A20) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention can be used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A20) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.96 mol.

(実施例21:酸基含有アクリレート樹脂(21)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例1で得たフェニルベンジルアクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、アクリル共重合体(A21)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(21)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(21)の不揮発分は、58.5質量%であり、固形分酸価は、83mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、22,970であり、二重結合当量は、344であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するアクリル共重合体(A21)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するアクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するアクリル共重合体(A21)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 21: Production of acid group-containing acrylate resin (21))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl acrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 1, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. The acrylic copolymer (A21) was obtained by holding at 120 ° C. for 4 hours. Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (21). The non-volatile content of this acid group-containing acrylate resin (21) is 58.5% by mass, the solid content acid value is 83 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 22,970, and the double. The binding equivalent was 344. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the acrylic copolymer (A21) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, the acrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the acrylic copolymer (A21) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(実施例22:酸基含有メタクリレート樹脂(1)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、シクロヘキサノン66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、メタクリル酸60質量部、メタクリル酸メチル30質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、シクロヘキサノン55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A22)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.6質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、グリシジルメタクリレート69.3質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸18.6質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、シクロヘキサノン31.5質量部を仕込み、撹拌した後、目的の酸基含有メタクリレート樹脂(1)を得た。この酸基含有メタクリレート樹脂(1)の不揮発分は、54.8質量%であり、固形分酸価は、102mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、47,930であり、二重結合当量は、385であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A22)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するグリシジルメタクリレートのモル数は、0.7であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A22)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.25モルであった。
(Example 22: Production of acid group-containing methacrylate resin (1))
66.7 parts by mass of cyclohexanone was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 60 parts by mass of methacrylic acid, 30 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of cyclohexanone, and t-butylperoxy-2-ethylhexa. 5 parts by mass of Noate (“Perbutyl O” manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) was mixed in advance and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A22). Next, 0.6 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 69.3 parts by mass of glycidylmethacrylate, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Next, 18.6 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added, and the mixture was reacted at 110 ° C. for 5 hours to charge 31.5 parts by mass of cyclohexanone, and after stirring, the desired acid group-containing methacrylate resin (1) was obtained. The non-volatile content of the acid group-containing methacrylate resin (1) is 54.8% by mass, the solid acid value is 102 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 47,930, and the double. The binding equivalent was 385. Further, for 1 mol of the epoxy group of the methacrylic copolymer (A22) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, the glycidyl methacrylate corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 0.7. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A22) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.25 mol.

(実施例23:酸基含有メタクリレート樹脂(2)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル18質量部、合成例2で得たフェニルベンジルメタクリレート組成物(1)10質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、メタクリル共重合体(A23)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.6質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、メタクリル酸43.6質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で12時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸39.3質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有メタクリレート樹脂(2)を得た。この酸基含有メタクリレート樹脂(2)の不揮発分は、59.8質量%であり、固形分酸価は、83mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、21,970であり、二重結合当量は、361であった。また、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A23)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する化合物(B)に相当するメタクリル酸のモル数は、1.0であった。さらに、本発明にて規定する共重合体(A)に相当するメタクリル共重合体(A23)が有するエポキシ基1モルに対して、本発明にて規定する多塩基酸無水物(C)に相当するテトラヒドロ無水フタル酸のモル数は0.49モルであった。
(Example 23: Production of acid group-containing methacrylate resin (2))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 18 parts by mass of methyl methacrylate, 10 parts by mass of the phenylbenzyl methacrylate composition (1) obtained in Synthesis Example 2, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and t-butylperoxy-2. -Ethylhexanoate ("Perbutyl O" manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd.) was mixed in advance by 5 parts by mass and added dropwise over 3 hours. It was held at 120 ° C. for 4 hours to obtain a methacrylic copolymer (A23). Next, 0.6 part by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 part by mass of methylhydroquinone, 43.6 parts by mass of methacrylic acid, and 0.6 part by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. to 12 parts. Reacted for time. Then, 39.3 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing methacrylate resin (2). The non-volatile content of the acid group-containing methacrylate resin (2) is 59.8% by mass, the solid acid value is 83 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 21,970, and the double. The binding equivalent was 361. Further, for 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A23) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention, methacrylic acid corresponding to the compound (B) specified in the present invention is used. The number of moles was 1.0. Further, it corresponds to the polybasic acid anhydride (C) specified in the present invention with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the methacrylic copolymer (A23) corresponding to the copolymer (A) specified in the present invention. The number of moles of tetrahydrophthalic anhydride was 0.49 mol.

(比較例1:酸基含有アクリレート樹脂(R1)の製造)
温度計、攪拌器、及び還流冷却器を備えたフラスコに、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート66.7質量部を添加し、窒素雰囲気下で120℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート72質量部、メタクリル酸メチル28質量部、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート55.6質量部、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート(日本油脂株式会社製「パーブチルO」)5質量部を予め混合させ、3時間かけて滴下した。120℃で4時間ホールドし、アクリル共重合体(AR1)を得た。次いで、ジブチルヒドロキシトルエン0.5質量部、メチルハイドロキノン0.1質量部、アクリル酸36.5質量部、トリフェニルホスフィン0.6質量部を仕込み、空気を吹き込み、撹拌しながら、120℃で10時間反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸37.8質量部を添加し、110℃で5時間反応させ、目的の酸基含有アクリレート樹脂(R1)を得た。この酸基含有アクリレート樹脂(R1)の不揮発分は、58.6質量%であり、固形分酸価は、82mgKOH/gであり、重量平均分子量(Mw)は、21,210であり、二重結合当量は、345であった。
(Comparative Example 1: Production of Acid Group-Containing Acrylate Resin (R1))
66.7 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate was added to a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, and the temperature was raised to 120 ° C. under a nitrogen atmosphere. Next, 72 parts by mass of glycidyl methacrylate, 28 parts by mass of methyl methacrylate, 55.6 parts by mass of diethylene glycol monomethyl ether acetate, and 5 parts by mass of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate (“Perbutyl O” manufactured by NOF CORPORATION). The portions were mixed in advance and added dropwise over 3 hours. The acrylic copolymer (AR1) was obtained by holding at 120 ° C. for 4 hours. Next, 0.5 parts by mass of dibutylhydroxytoluene, 0.1 parts by mass of methylhydroquinone, 36.5 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of triphenylphosphine were charged, and air was blown into the mixture, and the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 parts. Reacted for time. Then, 37.8 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was added and reacted at 110 ° C. for 5 hours to obtain the desired acid group-containing acrylate resin (R1). The non-volatile content of this acid group-containing acrylate resin (R1) is 58.6% by mass, the solid acid value is 82 mgKOH / g, the weight average molecular weight (Mw) is 21,210, and the double. The binding equivalent was 345.

(実施例24:硬化性樹脂組成物(1)の調製)
実施例1で得た不揮発分58.5質量%の酸基含有アクリレート樹脂(1)100質量部と、硬化剤としてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON N-680」、エポキシ当量:214)22質量部と、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート11.8質量部と、光重合性開始剤(IGM Resins社製「Omnirad 907」)2.9質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.9質量部と、2-エチル-4-メチル-イミダゾール0.4質量部と、酸化チタン(石原産業株式会社製「R-820」)0.6質量部とを混合し、硬化性樹脂組成物(1)を得た。
(Example 24: Preparation of curable resin composition (1))
100 parts by mass of the acid group-containing acrylate resin (1) having a non-volatile content of 58.5% by mass obtained in Example 1 and an orthocresol novolak type epoxy resin (“EPICLON N-680” manufactured by DIC Co., Ltd., epoxy equivalent) as a curing agent. : 214) 22 parts by mass, 11.8 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate, 2.9 parts by mass of photopolymerizable initiator (“Omnirad 907” manufactured by IGM Resins), and 5.9 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate. A curable resin composition (curable resin composition) was prepared by mixing 0.4 parts by mass of 2-ethyl-4-methyl-imidazole and 0.6 parts by mass of titanium oxide (“R-820” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) by mass. 1) was obtained.

(実施例25~47:硬化性樹脂組成物(2)~(24)の調製)
実施例30で用いた酸基含有アクリレート樹脂(1)の代わりに、実施例2~23で得た酸基含有アクリレート樹脂(2)~(21)、酸基含有メタクリレート樹脂(1)及び(2)、並びに酸基含有エポキシアクリレート(1)を表1及び2に示した配合量で用いた以外は、実施例24と同様にして、硬化性樹脂組成物(2)~(24)を得た。
(Examples 25 to 47: Preparation of curable resin compositions (2) to (24))
Instead of the acid group-containing acrylate resin (1) used in Example 30, the acid group-containing acrylate resins (2) to (21) obtained in Examples 2 to 23, the acid group-containing methacrylate resin (1) and (2). ) And the acid group-containing epoxy acrylate (1) were used in the blending amounts shown in Tables 1 and 2, and curable resin compositions (2) to (24) were obtained in the same manner as in Example 24. ..

(比較例2:硬化性樹脂組成物(R1)の調製)
比較例1で得た不揮発分58.6質量%の酸基含有アクリレート樹脂(R1)100質量部と、硬化剤としてオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON N-680」、エポキシ当量:214)22質量部と、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート11.8質量部と、光重合性開始剤(IGM Resins社製「Omnirad 907」)2.9質量部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート5.9質量部と、2-エチル-4-メチル-イミダゾール0.4質量部と、「R-820」0.6質量部とを混合し、硬化性樹脂組成物(R1)を得た。
(Comparative Example 2: Preparation of Curable Resin Composition (R1))
100 parts by mass of an acid group-containing acrylate resin (R1) having a non-volatile content of 58.6% by mass obtained in Comparative Example 1, and an orthocresol novolac type epoxy resin (“EPICLON N-680” manufactured by DIC Co., Ltd., epoxy equivalent) as a curing agent. : 214) 22 parts by mass, 11.8 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate, 2.9 parts by mass of photopolymerizable initiator (“Omnirad 907” manufactured by IGM Resins), and 5.9 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate. By mass, 0.4 parts by mass of 2-ethyl-4-methyl-imidazole and 0.6 parts by mass of "R-820" were mixed to obtain a curable resin composition (R1).

上記の実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物(1)~(24)、及び(R1)を用いて、下記の評価を行った。 The following evaluations were carried out using the curable resin compositions (1) to (24) and (R1) obtained in the above Examples and Comparative Examples.

[光感度の評価方法]
各実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を、アプリケーターを用いてガラス基材上に膜厚50μmとなるように塗布した後、80℃でそれぞれ30分間乾燥させた。次いで、コダック社製のステップタブレットNo.2を介し、メタルハライドランプを用いて1000mJ/cmの紫外線を照射した。これを1質量%の炭酸ナトリウム水溶液で180秒現像し、残存した段数で評価した。なお、残存段数が多いほど光感度が高い。
[Evaluation method of light sensitivity]
The curable resin compositions obtained in each Example and Comparative Example were applied onto a glass substrate using an applicator so as to have a film thickness of 50 μm, and then dried at 80 ° C. for 30 minutes each. Next, Kodak's step tablet No. Ultraviolet rays of 1000 mJ / cm 2 were irradiated through 2 using a metal halide lamp. This was developed with a 1% by mass aqueous sodium carbonate solution for 180 seconds and evaluated by the number of remaining stages. The larger the number of remaining stages, the higher the light sensitivity.

実施例24~47で作製した硬化性樹脂組成物(1)~(24)、並びに比較例2で作製した硬化性樹脂組成物(R1)の組成及び評価結果を表1及び2に示す。 Tables 1 and 2 show the compositions and evaluation results of the curable resin compositions (1) to (24) prepared in Examples 24 to 47 and the curable resin composition (R1) prepared in Comparative Example 2.

Figure 2022006901000007
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Figure 2022006901000008
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(実施例48:硬化性樹脂組成物(25)の調製)
実施例1で得た不揮発分58.5質量%の酸基含有アクリレート樹脂(1)100質量部と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON 850S」、エポキシ当量:188g/当量)22.0質量部と、有機溶剤11.8質量部と、光重合性開始剤(IGM Resins社製「Omnirad 907」)2.9質量部とを混合し、硬化性樹脂組成物(25)を得た。
(Example 48: Preparation of curable resin composition (25))
100 parts by mass of the acid group-containing acrylate resin (1) having a non-volatile content of 58.5% by mass obtained in Example 1 and a bisphenol A type epoxy resin (“EPICLON 850S” manufactured by DIC Co., Ltd., epoxy equivalent: 188 g / equivalent) 22 A curable resin composition (25) was obtained by mixing 0.0 part by mass, 11.8 parts by mass of an organic solvent, and 2.9 parts by mass of a photopolymerizable initiator (“Omnirad 907” manufactured by IGM Resins). rice field.

(実施例49~71:硬化性樹脂組成物(26)~(48)の調製)
実施例48で用いた酸基含有アクリレート樹脂(1)の代わりに、実施例2~23で得た酸基含有アクリレート樹脂(2)~(23)を表3及び4に示した配合量で用いた以外は、実施例48と同様にして、硬化性樹脂組成物(26)~(48)を得た。
(Examples 49 to 71: Preparation of curable resin compositions (26) to (48))
Instead of the acid group-containing acrylate resin (1) used in Example 48, the acid group-containing acrylate resins (2) to (23) obtained in Examples 2 to 23 are used in the blending amounts shown in Tables 3 and 4. Curable resin compositions (26) to (48) were obtained in the same manner as in Example 48.

(比較例3:硬化性樹脂組成物(R2)の調製)
比較例1で得た不揮発分58.6質量%の酸基含有アクリレート樹脂(R1)100質量部と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON 850S」、エポキシ当量:188g/当量)22.0質量部と、有機溶剤11.8質量部と、光重合性開始剤(IGM Resins社製「Omnirad 907」)2.9質量部とを混合し、硬化性樹脂組成物(R2)を得た。
(Comparative Example 3: Preparation of Curable Resin Composition (R2))
100 parts by mass of an acid group-containing acrylate resin (R1) having a non-volatile content of 58.6% by mass obtained in Comparative Example 1 and a bisphenol A type epoxy resin (“EPICLON 850S” manufactured by DIC Co., Ltd., epoxy equivalent: 188 g / equivalent) 22 .0 parts by mass, 11.8 parts by mass of organic solvent, and 2.9 parts by mass of a photopolymerizable initiator (“Omnirad 907” manufactured by IGM Resins) are mixed to obtain a curable resin composition (R2). rice field.

上記の実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を用いて、下記の評価を行った。 The following evaluation was performed using the curable resin compositions obtained in the above Examples and Comparative Examples.

[耐熱性の評価方法]
各実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を、アプリケーターを用いて銅箔(古河産業株式会社製、電解銅箔「F2-WS」18μm)上に膜厚50μmとなるように塗布し、80℃で30分乾燥させた。次いで、メタルハライドランプを用いて1,000mJ/cmの紫外線を照射した後、160℃で1時間加熱して、硬化塗膜を得た。次いで、前記硬化塗膜を銅箔から剥離し、硬化物を得た。前記硬化物から6mm×35mmの試験片を切り出し、粘弾性測定装置(DMA:レオメトリック社製固体粘弾性測定装置「RSAII」、引張り法:周波数1Hz、昇温速度3℃/分)を用いて、弾性率変化が最大となる温度をガラス転移温度として評価した。なお、ガラス転移温度が高いほど耐熱性に優れていることを示す。
[Evaluation method of heat resistance]
The curable resin composition obtained in each Example and Comparative Example was applied onto a copper foil (manufactured by Furukawa Sangyo Co., Ltd., electrolytic copper foil "F2-WS" 18 μm) so as to have a film thickness of 50 μm using an applicator. Then, it was dried at 80 ° C. for 30 minutes. Then, after irradiating with an ultraviolet ray of 1,000 mJ / cm 2 using a metal halide lamp, the mixture was heated at 160 ° C. for 1 hour to obtain a cured coating film. Then, the cured coating film was peeled off from the copper foil to obtain a cured product. A 6 mm × 35 mm test piece was cut out from the cured product, and a viscoelasticity measuring device (DMA: solid viscoelasticity measuring device “RSAII” manufactured by Leometric Co., Ltd., tensile method: frequency 1 Hz, heating rate 3 ° C./min) was used. The temperature at which the change in viscoelasticity was maximized was evaluated as the glass transition temperature. The higher the glass transition temperature, the better the heat resistance.

[弾性の評価方法]
弾性の測定は、引張試験に基づいて行った。
[Evaluation method of elasticity]
The elasticity was measured based on the tensile test.

<試験片の作製>
電解銅箔「F2-WS」上に実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を50μmのアプリケーターで塗布し、80℃で30分間乾燥させた。メタルハライドランプを用いて1000mJ/cmの紫外線を照射した後、160℃で1時間加熱した。銅箔から硬化物を剥離し、試験片(硬化物)を得た。
<Preparation of test piece>
The curable resin compositions obtained in Examples and Comparative Examples were applied onto the electrolytic copper foil "F2-WS" with a 50 μm applicator and dried at 80 ° C. for 30 minutes. After irradiating with an ultraviolet ray of 1000 mJ / cm 2 using a metal halide lamp, the mixture was heated at 160 ° C. for 1 hour. The cured product was peeled off from the copper foil to obtain a test piece (cured product).

<引張試験>
前記試験片を10mm×80mmの大きさに切り出し、株式会社島津製作所製精密万能試験機オートグラフ「AG-IS」を用いて、下記の測定条件で試験片の引張試験を行った。試験片が破断するまでの弾性率(MPa)を測定した。
<Tensile test>
The test piece was cut into a size of 10 mm × 80 mm, and a tensile test was performed on the test piece under the following measurement conditions using a precision universal testing machine Autograph “AG-IS” manufactured by Shimadzu Corporation. The elastic modulus (MPa) until the test piece broke was measured.

測定条件:温度23℃、湿度50%、標線間距離20mm、支点間距離20mm、引張速度10mm/分 Measurement conditions: temperature 23 ° C, humidity 50%, distance between marked lines 20 mm, distance between fulcrums 20 mm, tensile speed 10 mm / min

[密着性の評価方法]
密着性の評価は、ピール強度の測定により行った。
<試験片2の作製>
銅箔(古河産業株式会社製、電解銅箔「F2-WS」18μm)上に実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を50μmのアプリケーターで塗布し、メタルハライドランプを用いて1000mJ/cm2の紫外線を照射した後、160℃で1時間加熱し、試験片2を得た。
[Adhesion evaluation method]
The adhesion was evaluated by measuring the peel strength.
<Preparation of test piece 2>
The curable resin composition obtained in Examples and Comparative Examples was applied onto a copper foil (manufactured by Furukawa Sangyo Co., Ltd., electrolytic copper foil "F2-WS" 18 μm) with a 50 μm applicator, and 1000 mJ / using a metal halide lamp. After irradiating with ultraviolet rays of cm2, it was heated at 160 ° C. for 1 hour to obtain a test piece 2.

<ピール強度の測定方法>
前記試験片2を幅1cm、長さ12cmの大きさに切り出し、剥離試験機(株式会社A&D製「A&Dテンシロン」、剥離速度50mm/分)を用いて90°ピール強度を測定した。
<Measuring method of peel strength>
The test piece 2 was cut into a size of 1 cm in width and 12 cm in length, and the 90 ° peel strength was measured using a peeling tester (“A & D Tencilon” manufactured by A & D Co., Ltd., peeling speed 50 mm / min).

実施例48~71で得られた硬化性樹脂組成物(25)~(48)、及び比較例3で得られた硬化性樹脂組成物(R2)の組成及び評価結果を表3及び4に示す。 Tables 3 and 4 show the compositions and evaluation results of the curable resin compositions (25) to (48) obtained in Examples 48 to 71 and the curable resin compositions (R2) obtained in Comparative Example 3. ..

Figure 2022006901000009
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Figure 2022006901000010
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なお、表1~4における酸基含有(メタ)アクリレート樹脂及び酸基含有エポキシアクリレート樹脂の質量部の記載は、固形分値である。 In addition, the description of the mass part of the acid group-containing (meth) acrylate resin and the acid group-containing epoxy acrylate resin in Tables 1 to 4 is a solid content value.

表1~4中の「硬化剤」は、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC株式会社製「EPICLON N-680」)を示す。 “Curing agent” in Tables 1 to 4 indicates an orthocresol novolak type epoxy resin (“EPICLON N-680” manufactured by DIC Corporation).

表1~4中の「有機溶剤」は、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートを示す。 “Organic solvent” in Tables 1 to 4 indicates diethylene glycol monomethyl ether acetate.

表1~4中の「光重合開始剤」は、IGM Resins社製「Omnirad 907」を示す。 “Photopolymerization initiator” in Tables 1 to 4 indicates “Omnirad 907” manufactured by IGM Resins.

表1~4に示した実施例24~71は、本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂を用いた例である。本発明の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂を含有した硬化性樹脂組成物の硬化物は、高い光感度を有し、耐熱性、弾性及び密着性をバランスよく兼備していることが確認できた。 Examples 24 to 71 shown in Tables 1 to 4 are examples using the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention. It was confirmed that the cured product of the curable resin composition containing the acid group-containing (meth) acrylate resin of the present invention has high photosensitivity and has a good balance of heat resistance, elasticity and adhesion. ..

一方、比較例2及び3は、本発明にて規定するフェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)を用いない例である。この硬化性樹脂組成物の硬化物は、耐熱性、弾性及び密着性を兼備していないことが確認できた。 On the other hand, Comparative Examples 2 and 3 are examples in which the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) specified in the present invention is not used. It was confirmed that the cured product of this curable resin composition did not have heat resistance, elasticity and adhesion.

Claims (17)

フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)、及び前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)以外の反応性官能基及び重合性不飽和基を有する化合物(a2)を必須原料とする(メタ)アクリル共重合体(A)と、
前記共重合体(A)が有する前記化合物(a2)由来の反応性官能基と反応し得る官能基を有する、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)及び前記化合物(a2)以外の重合性不飽和基を有する化合物(B)と、
多塩基酸無水物(C)と、
を必須原料とすることを特徴とする酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。
A (meth) acrylic co-weight using phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and a compound (a2) having a reactive functional group and a polymerizable unsaturated group other than the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) as essential raw materials. Combined (A) and
Non-polymerizable other than the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and the compound (a2) having a functional group capable of reacting with the reactive functional group derived from the compound (a2) of the copolymer (A). Compound (B) having a saturated group and
Polybasic acid anhydride (C) and
An acid group-containing (meth) acrylate resin, which is characterized by using the above as an essential raw material.
前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)の含有量が、前記共重合体(A)の原料中に30質量%以下である請求項1記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。 The acid group-containing (meth) acrylate resin according to claim 1, wherein the content of the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) is 30% by mass or less in the raw material of the copolymer (A). 前記化合物(a2)が有する反応性官能基が、水酸基、エポキシ基、イソシアネート基、カルボキシル基及びアクリルアミド基からなる群より選ばれる1種以上である請求項1又は2のいずれか1項記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。 The acid according to any one of claims 1 or 2, wherein the reactive functional group of the compound (a2) is at least one selected from the group consisting of a hydroxyl group, an epoxy group, an isocyanate group, a carboxyl group and an acrylamide group. Group-containing (meth) acrylate resin. 前記共重合体(A)が、さらに、前記フェニルベンジル(メタ)アクリレート(a1)及び前記化合物(a2)以外の(メタ)アクリレート化合物(a3)を含有するものである請求項1~3のいずれか1項記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。 Any of claims 1 to 3, wherein the copolymer (A) further contains the phenylbenzyl (meth) acrylate (a1) and a (meth) acrylate compound (a3) other than the compound (a2). The acid group-containing (meth) acrylate resin according to item 1. 前記化合物(a3)が、メタクリレート化合物である請求項4記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。 The acid group-containing (meth) acrylate resin according to claim 4, wherein the compound (a3) is a methacrylate compound. 前記酸基含有(メタ)アクリレート樹脂の二重結合当量が、500以下である請求項1~5のいずれか1項記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。 The acid group-containing (meth) acrylate resin according to any one of claims 1 to 5, wherein the acid group-containing (meth) acrylate resin has a double bond equivalent of 500 or less. 前記共重合体(A)と前記化合物(B)との使用割合が、前記共重合体(A)が有する反応性官能基1モルに対して、前記化合物(B)が0.9~1.1モルの範囲である請求項1~6のいずれか1項記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。 The ratio of the copolymer (A) to the compound (B) used is 0.9 to 1 for the compound (B) with respect to 1 mol of the reactive functional group of the copolymer (A). The acid group-containing (meth) acrylate resin according to any one of claims 1 to 6, which is in the range of 1 mol. 前記共重合体(A)と前記多塩基酸無水物(C)との使用割合が、前記共重合体(A)が有する反応性官能基1モルに対して、前記多塩基酸無水物(C)が0.25~0.95モルの範囲である請求項1~6のいずれか1項記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂。 The ratio of the copolymer (A) to the polybasic acid anhydride (C) used is the polybasic acid anhydride (C) with respect to 1 mol of the reactive functional group of the copolymer (A). The acid group-containing (meth) acrylate resin according to any one of claims 1 to 6, wherein) is in the range of 0.25 to 0.95 mol. 請求項1~8のいずれか1項記載の酸基含有(メタ)アクリレート樹脂と、光重合開始剤とを含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。 A curable resin composition comprising the acid group-containing (meth) acrylate resin according to any one of claims 1 to 8 and a photopolymerization initiator. 前記硬化性樹脂組成物が、さらに、前記酸基含有(メタ)アクリレート樹脂以外の酸基及び重合性不飽和基を有する樹脂を含有するものである請求項9記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 9, wherein the curable resin composition further contains a resin having an acid group other than the acid group-containing (meth) acrylate resin and a polymerizable unsaturated group. 前記硬化性樹脂組成物が、さらに、有機溶剤を含有するものである請求項9又は10記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 9 or 10, wherein the curable resin composition further contains an organic solvent. 前記硬化性樹脂組成物が、さらに、硬化剤を含有するものである請求項9~11のいずれか1項記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 9 to 11, wherein the curable resin composition further contains a curing agent. 前記硬化性樹脂組成物が、さらに、白色顔料を含有するものである請求項9~12のいずれか1項記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 9 to 12, wherein the curable resin composition further contains a white pigment. 請求項9~13のいずれか1項記載の硬化性樹脂組成物からなることを特徴とするソルダーレジスト用樹脂材料。 A resin material for a solder resist, which comprises the curable resin composition according to any one of claims 9 to 13. 請求項9~13のいずれか1項記載の硬化性樹脂組成物の硬化物。 The cured product of the curable resin composition according to any one of claims 9 to 13. 請求項15記載の硬化物からなることを特徴とする絶縁材料。 An insulating material comprising the cured product according to claim 15. 請求項15記載の硬化物からなることを特徴とするレジスト部材。 A resist member comprising the cured product according to claim 15.
JP2020109471A 2020-06-25 2020-06-25 Acid group-containing (meth)acrylate resin, curable resin composition, cured product, insulating material, solder resist resin material, and resist member Active JP7567229B2 (en)

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