JP2021507881A - 多核錯体およびそれらの調製 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、参照により本明細書に組み込まれる、2017年12月21日に出願された南アフリカ仮特許出願第2017/08729号の優先権を主張する。
遷移金属と、
遷移金属と同じ配位数の放射性同位体と、
遷移金属および放射性同位体に配位して、遷移金属および放射性同位体を連結している架橋配位子と、
遷移金属および放射性同位体のそれぞれに配位しているペンデント配位子と
を含む、多核錯体が提供される。
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
μ2−Lは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、窒素原子、炭素原子およびリン原子からなる群から独立して選択される少なくとも2個の配位原子を有する二座架橋配位子であり、ここで、二座配位子の配位原子の1つは、架橋配位原子として99mTcおよびMの両方に配位し、同じ二座配位子の他の配位原子は、99mTcまたはMの一方に配位する]
によって表される二核錯体である多核錯体を提供する。
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Ra、RbおよびRcは、それぞれ独立して、水素、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、Ra、RbおよびRcは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、RaおよびRbは、一緒になって、任意選択により置換されている環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている環式もしくは多環式炭化水素または任意選択により置換されている複素環もしくは多複素環であるか、
あるいは、Ra、RbおよびRcは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
を有する、二核錯体を提供する。
[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、R1は、m−トルエン基、シクロペンタン基、エチルベンゼン基、あるいは生物活性もしくは標的化部分または特異的受容体に対して公知の親和性の生物学的活性官能性基であり、R2は、水素、メチル基、あるいは生物活性もしくは標的化部分または特異的受容体に対して公知の親和性の生物学的活性官能性基である]
を有する、二核錯体を提供する。
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Aは、酸素、硫黄またはセレンであり、
Ra、RbおよびRcは、それぞれ独立して、水素、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、Ra、RbおよびRcは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、RaおよびRbは、一緒になって、任意選択により置換されている環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている環式もしくは多環式炭化水素または任意選択により置換されている複素環もしくは多複素環であるか、
あるいは、Ra、RbおよびRcは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
を有する、二核錯体を提供する。
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Aは、酸素、硫黄またはセレンであり、
R2a〜R7aは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、アミン、カルボキシレート、アルデヒド、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、R2a〜R7aは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、R2a〜R7aは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
の二核錯体である、多核錯体を提供する。
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
μ−Lは、オキシド(O2−)またはスルフィド(S2−)から選択される架橋配位子であり、
LLは、99mTcおよびMのそれぞれに別個に配位し、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、窒素原子、炭素原子およびリン原子からなる群から独立して選択される少なくとも2個の配位原子を有する、二座ペンダント配位子である]
を持つ、三核錯体を提供する。
[式中、
M1、M2またはM3のうちの少なくとも1つは、99mTcであり、M1、M2またはM3の残りの金属中心は、Mn、ReもしくはTcまたはそれらの任意の組合せであり、
Aは、酸素、硫黄またはセレン原子であり、
R2a〜R7aは、上記で定義した通りである]
を有する、三核錯体を提供する。
[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、Lは、酸素原子、硫黄原子およびセレン原子からなる群から選択される配位原子を有する単座架橋配位子である]
を有する、四核錯体を提供する。
を有する、四核錯体を提供する。
遷移金属の多核または単核前駆体錯体を、遷移金属と同じ配位数の放射性同位体を含む単核錯体と、選択された溶媒または溶媒系中で混合する工程
を含む、方法が提供される。
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Ra、RbおよびRcは、それぞれ独立して、水素、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、ナフタレン、ビフェニル、アントラセンおよびフェナントレン等の任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、Ra、RbおよびRcは、酸素、窒素、硫黄、セレン、またはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素等のハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、RaおよびRbは、一緒になって、任意選択により置換されている環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている芳香族複素環、ナフタレン、ビフェニル、アントラセンおよびフェナントレン等の任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている環式もしくは多環式炭化水素または任意選択により置換されている複素環もしくは多複素環であるか、
あるいは、Ra、RbおよびRcは、一緒になって、ナフタレン、ビフェニル、アントラセンおよびフェナントレン等の任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
を有してよい。
[式中、R1もしくはR2またはR1およびR2の両方は、生物活性または標的化部分、好ましくは選択された生物学的受容体に対して公知の親和性を持つ生物学的に活性な官能性基である]
のものであってよい。
[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、R1およびR2は、一般式(Ia)を参照して定義された通りである]
を有してよい。
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Aは、酸素、硫黄またはセレンであり、
Ra、RbおよびRcは、それぞれ独立して、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、ナフタレン、ビフェニル、アントラセンおよびフェナントレン等の任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、Ra、RbおよびRcは、酸素、窒素、硫黄、セレン、またはフッ素、塩素、臭素およびヨウ素等のハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、RaおよびRbは、一緒になって、任意選択により置換されている環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている芳香族複素環、ナフタレン、ビフェニル、アントラセンおよびフェナントレン等の任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている環式もしくは多環式炭化水素または任意選択により置換されている複素環もしくは多複素環であるか、
あるいは、Ra、RbおよびRcは、一緒になって、ナフタレン、ビフェニル、アントラセンおよびフェナントレン等の任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
のいずれかを有してよい。
[式中、
Aは、酸素、硫黄またはセレンであり、
R2a〜R7aは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、アミン、カルボキシレート、アルデヒド、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、R2a〜R7aは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、R2a〜R7aは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
のものであってよい。
[式中、M、AおよびR2a〜R7aは、キノリンベースのキレート剤の一般式(IIIa)を参照して上記で定義した通りである]
を有してよい。
[式中、M1、M2またはM3のうちの少なくとも1つは、99mTcであり、M1、M2またはM3の残りの金属中心は、Mn、ReもしくはTcまたはそれらの任意の組合せであり;Aは、酸素、硫黄またはセレン原子であり;R2a〜R7aは、キノリンベースの配位子(IIIa)の一般式を参照して上記で定義した通りである]
を有してよい。
のキュバン構造を形成する、単座配位子(L)を有してよい。
を有してよい。
A)最終、多核錯体の不完全なフラグメントの調製、続いて、第2の工程における放射性同位体錯体(放射性標識)の導入(事前集合戦略、図1における経路A);または
B)1工程で多核錯体を調製するための成分のすべての組合せ(自己集合戦略、図1における経路B)。
四核錯体は、例えば、放射性同位体を含む錯体の配位に利用可能な頂点を有するアニオン性三核錯体等、経路Aに従う多核前駆体錯体の事前集合によって調製することができる。三核錯体は、アニオン性であり、一般分子式[M3(μ2−L)3(μ3−L)(CO)9]−[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、μ2−Lは、2つの金属中心に配位している単座配位子であり、μ3−Lは、3つの金属中心に配位している単座配位子である]を有してよい。単座配位子、μ2−Lおよびμ3−Lは、ヒドロキシド(OH−)、チオール(SH−)、任意選択により官能基化されたC1〜C10アルコキシド、任意選択により官能基化されたC1〜C10チオレートおよび任意選択により官能基化されたC1〜C10セレノレートであってよく、これらは、三核錯体が段階的に構築される、前駆体単核錯体(フラグメント)中に存在する。
四核錯体は、一般分子式fac−[M(Z)3(CO)3]+[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、Zは、プロトン化された単座架橋配位子(H−L)である]の単核前駆体錯体を、一般分子式fac−[99mTc(Z)3(CO)3]+[式中、Zは、単核前駆体錯体中のものと同じであるか、または、好ましくは極性溶媒中の配位溶媒分子である]の単核錯体の溶液に添加し、得られた溶液を混合することにより、1工程で形成することもできる。錯体fac−[M(Z)3(CO)3]+を、ナノモル濃度範囲でのみ利用可能な過剰の放射性標識錯体fac−[99mTc(Z)3(CO)3]+中に添加する。錯体fac−[M(Z)3(CO)3]+を、典型的には、約0.01〜0.03mol/dm3の量で溶液に添加する。
二核錯体は、シッフ塩基およびキノリンベースのキレート剤をアンカー配位子として用いて調製した。
以下のスキーム1に示す、シッフ塩基、(E)−2−((m−トリルイミノ)メチル)フェノール(以後、Hsal−m−tolと称する)、(E)−2−((シクロペンチルイミノ)メチル)フェノール(以後、H(5−Me)sal−cpentと称する)および(E)−5−メチル−2−((フェネチルイミノ)メチルフェノール(以後、H(5−Me)sal−EtPhsal−hexと称する)を、fac−[99TcCl3(CO)3]2−と、アセトニトリル中、高温で反応させると、二核錯体[99Tc2(μ2−O^N−R1)2(CO)6](R1=m−トルエン1、=シクロペンタン2、=エチルフェニル3;R2=H1、またはメチル2,3)の迅速かつ実質的に定量的な形成があった。
1〜3(Hsal−m−tolに適応される)の合成:
[NEt4]2[99Tc(CO)3Cl3](25mg、0.05mmol)をアセトニトリル(3ml)に溶解した。アセトニトリル(2ml)中のHsal−m−tol(16mg、0.07mmol)を溶液に添加した。過剰のEt3N(0.1ml)を添加した。80℃で3時間にわたって撹拌した後、溶液を濾過し、溶媒を真空下で除去した。[Et4N]Clを、THFによる抽出によって除去した。黄色生成物1を、CH2Cl2溶液から結晶化させた(収率:70%)。
ラジオHPLCは、化合物1〜3の合成後に1つの単一ピーク、および微量の副生成物を示した。化合物を単離し、X線構造解析によって特徴付けた。錯体1〜3のORTEP図を図2に示す。
上記の99Tc二量体を形成するために使用したのと同じ反応を、アセトニトリル中、fac−[99mTc(OH2)3(CO)3]+の存在下で行った。
二核99mTc99Tc錯体(Hsal−m−tolに適応される)の調製:
10−8mol/dm3の典型的な濃度を持つfac−[99mTc(OH2)3(CO)3]+(0.5ml)の溶液を、窒素流下で乾燥させ、アセトニトリル(1ml)に溶かし、アセトニトリル(3ml)中の[NEt4]2[99Tc(CO)3Cl3](40.1mg、0.073mmol)の溶液に添加した。アセトニトリル(2ml)中のHsal−m−tol(17mg、0.080mmol)および過剰のNEt3(0.1ml滴)を添加し、溶液を80℃で3時間にわたって撹拌した。
99mTcを含む錯体は、γ−トレースで観察され、β−トレースで観察される99Tcのみを含む錯体の保持時間と等しい保持時間を有していた。99Tc2および99Tc99mTc化合物の同一性を明白に決定するために、これらをHPLCに同時注入し、保持時間を図4に示す通りに比較した。等しい保持時間は、[99Tc99mTc(μ2−O^N−R1)2(CO)6]の形成を裏付けるものであった。
二核錯体1〜3と同族であるが、1つの99mTc金属中心および1つのRe金属中心を大量のRe2同族体と一緒に含む、錯体を調製した。
二核99mTcRe錯体(5)の調製:
10−8mol/dm3の典型的な濃度を持つfac−[99mTc(OH2)3(CO)3]+(0.5ml)の溶液を、窒素流下で乾燥させ、アセトニトリル(1ml)に溶かし、アセトニトリル(1ml)中の[NEt4]2[ReBr3(CO)3](20mg、0.026mmol)の溶液に添加した。アセトニトリル(1ml)中のHsal−m−tol(6mg、0.028mmol)および過剰のNEt3(8滴)を添加し、溶液を80℃で3時間にわたって撹拌した。
Hsal−m−tolとの反応により、定量的収率の単核レニウム錯体(4)、および混合金属二核錯体[99mTcRe(μ2−O^N−m−tol)2(CO)6](5)を得た。99mTc前駆体錯体はナノモル範囲内の非常に低い濃度で存在するため、1の99mTc類似体を産出するための二量化は、速度論上の理由から予期されていない。単核Re錯体4が最も安定な形態であれば、99mTcフラグメントおよび追加の配位子による二量化も予期されない。したがって、二核錯体5は、混合元素二核錯体の形成を可能にする単量体4よりも熱力学的に有利である。粗反応混合物のHPLCトレースを図4に示す。
前駆体遷移金属錯体として単核Re錯体を用いて、図1の概念的な経路AおよびBの両方のためのモデル反応を行って、99mTcで標識された多核錯体を調製する実現可能性をさらに実証した。
a)三核前駆体錯体を介する四核99mTc−Re錯体の調製(経路A)
経路Aに従う錯体フラグメントの不完全な多核クラスターへの導入は、前駆体の最終生成物への順次構築を必要とする。例えば、キュバン様構造を持つ四核錯体[Re4(μ3−OH)4(CO)12]の段階的構築を行った。不完全なアニオン性三核錯体は、以下のスキーム4に示す通りの弱塩基性条件下、前駆体fac−[Re(OH2)3(CO)3]+(6)から[Re2(μ2−OH)3(CO)6]−(7)および[Re3(μ2−OH)3(μ3−OH)(CO)9]−(8)を介して段階的に形成する。6、7および8の99Tc同族体も調製した。アルコラートまたはチオラート架橋を持つ、同様の多核錯体も調製した。
8からの四核99mTcRe3クラスター9の調製(経路A):
10−8mol/dm3の典型的な濃度を持つfac−[99mTc(OH2)3(CO)3]+−水溶液(0.9ml)のpHを、HClおよび酢酸緩衝液(0.2M、0.2ml)で5に調整した。この溶液(0.5ml)を、8(3.0mg、2.97μmol)を含有するN2パージしたマイクロ波バイアルに移し、マイクロ波中、100℃で10分間にわたって加熱した。HPLC分析は、9の94%収率を証拠立てる。HPLC:21.2分。
三核錯体[Re3(μ2−OH)3(μ3−OH)(CO)9]−(8)をfac−[99mTc(OH2)3(CO)3]+と反応させると、混合金属四核クラスター[99mTcRe3(μ3−OH)4(CO)12](9)が定量的収率で形成される。同族体[99mTcRe3(μ3−OH)4(CO)12](9)および[Re4(μ3−OH)4(CO)12](10)のHPLC同時注入ならびにUV/visおよびガンマトレース保持時間を比較することにより、2つの化合物の同一性が裏付けられ、9および10のこれらのHPLCトレースを図6に示す。
6およびfac−[99mTc(OH2)3(CO)3]+のわずかに酸性の混合物から四核99mTcRe−錯体9を形成するための1工程、ワンポット反応を伴う自己集合戦略を行い、反応を以下のスキーム5に示す。
スキーム5。単核前駆体6とその99mTc同族体との間の弱酸性条件下での自己集合反応により、四核キュバン型クラスター9および10を産出する。9および10における「Re」は、fac−[Re(CO)3]+フラグメントを表す(明瞭にするためにCO配位子は示されていない)。
6からの四核99mTcRe3クラスター9の調製(スキーム4、経路B):
10−8mol/dm3の典型的な濃度を持つfac−[99mTc(OH2)3(CO)3]+(0.5ml)の水溶液のpHを、前述した通りに5に調整し、[NEt4]2[ReBr3(CO)3](3.1mg、4.02μmol)を含有するN2パージしたマイクロ波バイアルに移した。20℃で10分間にわたる撹拌およびその後のマイクロ波オーブン内100℃で10分間にわたる加熱により、HPLC分析によれば90%収率の9を生じさせた。
スキーム4に示す1工程反応では、反応において使用した過剰の6による大量の10の他に、定量的収率の9を得た。10との同時注入のない粗反応混合物のHPLCトレースを図7に示す。これは、10のUV−トレースおよび四核99mTcRe錯体(9)のγ−トレースを示すものである。
Claims (36)
- 遷移金属と、
前記遷移金属と同じ配位数を有する放射性同位体と、
前記遷移金属および前記放射性同位体に配位して、前記遷移金属および前記放射性同位体を連結している架橋配位子と、
前記遷移金属および前記放射性同位体のそれぞれに配位しているペンデント配位子と
を含む、多核錯体。 - 前記放射性同位体が、遷移金属の同位体または周期表において前記遷移金属と同じ族の元素の同位体である、請求項1に記載の多核錯体。
- 前記放射性同位体が、テクネチウム−99m(99mTc)、レニウム−186(186Re)またはレニウム−188(188Re)である、請求項1または請求項2に記載の多核錯体。
- 前記遷移金属が、マンガン(Mn)、テクネチウム(Tc)およびレニウム(Re)からなる群から選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の多核錯体。
- 前記遷移金属がレニウムである場合、レニウムは、レニウム−186(186Re)またはレニウム−188(188Re)から選択されるレニウムのβ−放射線放出同位体であり、前記遷移金属がテクネチウムである場合、テクネチウムは、テクネチウム−99(99Tc)同位体である、請求項4に記載の多核錯体。
- 一般式[99mTcM(μ2−L)2(CO)6]
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
μ2−Lは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、窒素原子、炭素原子およびリン原子からなる群から独立して選択される少なくとも2個の配位原子を有する二座架橋配位子であり、ここで、前記二座配位子の配位原子の1つは、架橋配位原子として99mTcおよびMの両方に配位し、同じ二座配位子の他の配位原子は、99mTcまたはMの一方に配位する]
を有する、請求項1から5のいずれか一項に記載の多核錯体。 - 前記二座配位子(μ2−L)が、シッフ塩基キレート剤である、請求項6に記載の多核錯体。
- 一般式(I):
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Ra、RbおよびRcは、それぞれ独立して、水素、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、Ra、RbおよびRcは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、RaおよびRbは、一緒になって、任意選択により置換されている環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている環式もしくは多環式炭化水素または任意選択により置換されている複素環もしくは多複素環であるか、
あるいは、Ra、RbおよびRcは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
を有する、請求項6または請求項7に記載の多核錯体。 - 一般式(III):
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Aは、酸素、硫黄またはセレンであり、
Ra、RbおよびRcは、それぞれ独立して、水素、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、Ra、RbおよびRcは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、RaおよびRbは、一緒になって、任意選択により置換されている環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている環式もしくは多環式炭化水素または任意選択により置換されている複素環もしくは多複素環であるか、
あるいは、Ra、RbおよびRcは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
を有する、請求項1から6のいずれか一項に記載の多核錯体。 - 前記ハロゲンが、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素からなる群から選択される、請求項8または請求項9に記載の多核錯体。
- 前記多環式芳香族炭化水素が、ナフタレン、ビフェニル、アントラセンおよびフェナントレンからなる群から選択される、請求項8から10のいずれか一項に記載の多核錯体。
- 前記多環式芳香族炭化水素の芳香族構造上のペンデント官能基が、酸素、窒素、硫黄、セレンおよびリンからなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子を含む、請求項8から11のいずれか一項に記載の多核錯体。
- 1個または複数のRa、RbおよびRcが、単独でまたは一緒になって、選択された受容体に対して公知の親和性の生物学的に活性な官能性基で官能基化されている、請求項8または請求項9に記載の多核錯体。
- 一般式(II):
[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、R1は、m−トルエン基、シクロペンタン基またはエチルベンゼン基であり、R2は、水素またはメチル基である]
を有する、請求項1から8のいずれか一項に記載の多核錯体。 - 前記二座配位子(μ2−L)が、キノリンベースのキレート剤である、請求項6に記載の多核錯体。
- 一般式(IV)
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
Aは、酸素、硫黄またはセレンであり、
R2a〜R7aは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、アミン、カルボキシレート、アルデヒド、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、R2a〜R7aは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、R2a〜R7aは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
を有する、請求項15に記載の多核錯体。 - 一般式[99mTcM2O2(μ−L)2(LL)6]
[式中、
Mは、Mn、ReまたはTcであり、
μ−Lは、オキシド(O2−)またはスルフィド(S2−)から選択される架橋配位子であり、
LLは、99mTcおよびMのそれぞれに別個に配位し、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、窒素原子、炭素原子およびリン原子からなる群から独立して選択される少なくとも2個の配位原子を有する、二座ペンデント配位子である]
を有する、請求項1から5のいずれか一項に記載の多核錯体。 - 一般式(V):
[式中、
M1、M2またはM3のうちの少なくとも1つは、99mTcであり、M1、M2またはM3の残りの金属中心は、Mn、ReもしくはTcまたはそれらの任意の組合せであり、
Aは、酸素、硫黄またはセレン原子であり、
R2a〜R7aは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ニトロ、ニトリル、アミン、カルボキシレート、アルデヒド、任意選択により置換されているC1〜C10直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル、任意選択により置換されているアリール、任意選択により置換されているヘテロアリール、任意選択により置換されているポリ(アリール)、任意選択により置換されているポリ(ヘテロアリール)、任意選択により置換されているC5〜C10カルボシクリルまたは任意選択により置換されているヘテロシクリル基であり、ここで、R2a〜R7aは、酸素、窒素、硫黄、セレンまたはハロゲン原子からなる群から選択される1個または複数のヘテロ原子をそれぞれ任意選択により含むか、
あるいは、R2a〜R7aは、一緒になって、任意選択により置換されている多環式芳香族炭化水素、任意選択により置換されている多環式芳香族複素環、任意選択により置換されている多環式炭化水素または任意選択により置換されている多複素環である]
を有する、請求項17に記載の多核錯体。 - R2a〜R7aのうちの1つまたは複数が、別個にまたは一緒になって、選択された受容体に対して公知の親和性の生物学的に活性な官能性基である、請求項16または請求項18に記載の多核錯体。
- R2aが、アミノ基(−NH2)であり、R3a〜R7aが、水素であるか;または、R2a〜R4aおよびR6aが、水素であり、R5aおよびR7aが、塩素であるか;または、R2a〜R6aが、水素であり、R7aが、チオール(−SH)である、請求項16または請求項18に記載の多核錯体。
- 一般式:[99mTcM3(L)4(CO)12][式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、Lは、酸素原子、硫黄原子およびセレン原子からなる群から選択される配位原子を有する架橋配位子である]を有する、請求項1から5のいずれか一項に記載の多核錯体。
- キュバン構造および一般式(VI):
[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、Lは、酸素原子、硫黄原子およびセレン原子からなる群から選択される配位原子を有する単座架橋配位子である]
を有する、請求項21に記載の多核錯体。 - 前記架橋配位子(L)が、ヒドロキシド(OH−)、チオール(SH−)、任意選択により官能基化されたC1〜C10アルコキシド、任意選択により官能基化されたC1〜C10チオレートおよび任意選択により官能基化されたC1〜C10セレノレートからなる群から選択される、請求項21または請求項22に記載の多核錯体。
- 前記C1〜C10アルコキシド、C1〜C10チオレートおよびC1〜C10セレノレートが、生物活性または標的化部分で官能基化されている、請求項23に記載の多核錯体。
- 分子式[99mTcRe3(μ3−OH)4(CO)12]および構造式(VII):
を有する、請求項22から24のいずれか一項に記載の多核錯体。 - 溶液中での自己集合によって多核錯体を調製する方法であって、
遷移金属の多核または単核前駆体錯体を、前記遷移金属と同じ配位数の放射性同位体を含む単核錯体と、選択された溶媒中で混合する工程
を含む、方法。 - 溶液中で、遷移金属の前記多核または単核前駆体錯体が、アニオン性であり、前記放射性同位体を含む単核錯体が、カチオン性であり、前記前駆体錯体および前記放射性同位体を含む錯体の両方が、八面体配位幾何構造を有する、請求項26に記載の方法。
- 前記放射性同位体が、テクネチウム−99m(99mTc)であり、前記遷移金属が、マンガン、テクネチウムおよびレニウムからなる群から選択される、請求項26または請求項27に記載の多核錯体。
- 前記単核前駆体錯体が、溶液中で一般分子式fac−[M(X)3(CO)3]2−[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、MがReである場合、Xは、Brであり、MがTcである場合、Xは、Clである]を有し、放射性同位体を含む前記単核錯体が、溶液中で一般分子式[99mTc(Y)3(CO)3]+[式中、Yは、水(OH2)または溶媒分子から選択される中性配位子である]を有する、請求項26から28のいずれか一項に記載の方法。
- 前記溶媒が、水、アルコール、アセトニトリル、アセトンまたはジメチルスルホキシドである、請求項26から29のいずれか一項に記載の方法。
- 前記混合する工程を、二座配位子の存在下で、好ましくは、過剰塩基の存在下、60℃〜90℃の間の高温で行って、請求項6から20のいずれか一項に記載の多核錯体を形成する、請求項26から30のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項21から25のいずれか一項に記載の多核錯体が、一般分子式fac−[M(Z)3(CO)3]+[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、Zは、プロトン化された単座架橋配位子(H−L)である]の単核前駆体錯体を、一般分子式fac−[99mTc(Z)3(CO)3]+[式中、Zは、プロトン化された単座架橋配位子(H−L)である]の単核錯体の溶液に添加し、結果として生じた溶液を混合することにより、1工程で形成される、請求項26から30のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項21から25のいずれか一項に記載の多核錯体が、前記放射性同位体を含む錯体の配位のための頂点を残す、一般分子式[M3(μ2−L)3(μ3−L)(CO)9]−[式中、Mは、Mn、ReまたはTcであり、μ2−Lは、2つの金属中心に配位している、ヒドロキシド(OH−)、チオール(SH−)、任意選択により官能基化されたC1〜C10アルコキシド、任意選択により官能基化されたC1〜C10チオレートおよび任意選択により官能基化されたC1〜C10セレノレートからなる群から選択される単座配位子であり、μ3−Lは、3つの金属中心に配位している、ヒドロキシド(OH−)、チオール(SH−)、任意選択により官能基化されたC1〜C10アルコキシド、任意選択により官能基化されたC1〜C10チオレートおよび任意選択により官能基化されたC1〜C10セレノレートからなる群から選択される単座配位子である]を有するアニオン性三核錯体の形態の多核前駆体錯体を事前に集合させ、前記アニオン性三核錯体を、一般分子式fac−[99mTc(Z)3(CO)3]+[式中、Zは、四核錯体のプロトン化された単座架橋配位子(H−L)である]の単核錯体の溶液に添加することおよび結果として生じた溶液が混合されることによって形成される、請求項26から30のいずれか一項に記載の方法。
- 一般分子式fac−[99mTc(Z)3(CO)3]+の単核錯体の溶液のpHが、混合する前に約5に調整される、請求項32または請求項33に記載の方法。
- Zが、OH2であり、前記溶液が、水溶液である、請求項32から34のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1から25のいずれか一項に記載の多核錯体と、希釈剤、賦形剤または担体とを含む、医薬組成物。
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